JP2016085988A - Insulative particle-adhered conductive particle and production method thereof, conductive material, and connection structure - Google Patents

Insulative particle-adhered conductive particle and production method thereof, conductive material, and connection structure Download PDF

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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To provide an insulative particle-adhered conductive particle that can increase the conduction reliability and insulation reliability after conductive connection.SOLUTION: The insulative particle-adhered conductive particle according to the present invention includes an insulative particle-adhered conductive particle body, and a coat coating the surface of the insulative particle-adhered conductive particle body, and in which: the insulative particle-adhered conductive particle body has a conductive particle having, at least on a surface thereof, a conductive portion, and a plurality of insulative particles disposed over the surface of the conductive particle; the conductive particle has a plurality of protrusions on the outer surface of the conductive portion; the average height of the protrusion is 0.05 μm or more and 0.5 μm or less; the coat has a first coat portion covering the conductive particle, and a second coat portion covering the surface of the insulative particle; and the ratio of the thickness at the first coat portion to the average particle size of the insulative particle is 2/3 or more and 3 or less.SELECTED DRAWING: Figure 1

Description

本発明は、導電性粒子の表面上に絶縁性粒子が配置されている絶縁性粒子付き導電性粒子及び絶縁性粒子付き導電性粒子の製造方法に関する。また、本発明は、上記絶縁性粒子付き導電性粒子を用いた導電材料及び接続構造体に関する。   The present invention relates to conductive particles with insulating particles in which insulating particles are arranged on the surface of conductive particles, and a method for producing conductive particles with insulating particles. Moreover, this invention relates to the electrically-conductive material and connection structure using the said electroconductive particle with an insulating particle.

異方性導電ペースト及び異方性導電フィルム等の異方性導電材料が広く知られている。これらの異方性導電材料では、バインダー樹脂中に導電性粒子が分散されている。   Anisotropic conductive materials such as anisotropic conductive pastes and anisotropic conductive films are widely known. In these anisotropic conductive materials, conductive particles are dispersed in a binder resin.

上記異方性導電材料は、ICチップとフレキシブルプリント回路基板との接続、及びICチップとITO電極を有する回路基板との接続等に使用されている。例えば、ICチップの電極と回路基板の電極との間に異方性導電材料を配置した後、加熱及び加圧することにより、これらの電極を電気的に接続できる。   The anisotropic conductive material is used for connection between an IC chip and a flexible printed circuit board, connection between an IC chip and a circuit board having an ITO electrode, and the like. For example, after disposing an anisotropic conductive material between the electrode of the IC chip and the electrode of the circuit board, these electrodes can be electrically connected by heating and pressing.

上記導電性粒子の一例として、下記の特許文献1には、導電層を表面に有する導電性粒子本体と、上記導電性粒子本体の表面を被覆している絶縁性の樹脂層と、上記導電性粒子本体の表面上に配置されている複数の絶縁性粒子とを備える導電性粒子が開示されている。上記樹脂層の平均厚みは、上記導電性粒子本体の平均粒子径の1/6以下である。上記絶縁性粒子の平均粒子径は、上記樹脂層の平均厚みの1.5〜3.5倍である。   As an example of the conductive particles, Patent Document 1 below discloses a conductive particle body having a conductive layer on its surface, an insulating resin layer covering the surface of the conductive particle body, and the conductive material. Conductive particles comprising a plurality of insulating particles disposed on the surface of the particle body are disclosed. The average thickness of the resin layer is 1/6 or less of the average particle diameter of the conductive particle body. The average particle diameter of the insulating particles is 1.5 to 3.5 times the average thickness of the resin layer.

下記の特許文献2には、導電性の表面を有する導電性核体の表面に絶縁層が形成され、この絶縁層に絶縁性微粒子が埋め込まれている導電性粒子が開示されている。特許文献2の実施例では、厚み1μmの絶縁層に、粒径0.5μmのSiO粒子が埋め込まれている。 Patent Document 2 below discloses conductive particles in which an insulating layer is formed on the surface of a conductive core having a conductive surface, and insulating fine particles are embedded in the insulating layer. In the example of Patent Document 2, SiO 2 particles having a particle diameter of 0.5 μm are embedded in an insulating layer having a thickness of 1 μm.

また、特許文献2では、請求項5に「核体表面に絶縁層が形成された導電性核体の絶縁層に、ハイブリダイゼーション処理によって絶縁性微粒子を埋め込む」旨が記載されており、段落[0033]に「絶縁性微粒子32の埋め込みは、公知のハイブリダイゼーション処理によって行うことができる。」旨が記載されている。   Further, in Patent Document 2, it is described in claim 5 that “insulating fine particles are embedded in the insulating layer of the conductive core having an insulating layer formed on the surface of the core by hybridization treatment”, paragraph [ [0033] describes that “the embedding of the insulating fine particles 32 can be performed by a known hybridization process”.

下記の特許文献3には、絶縁性粒子付き導電性粒子本体と、上記絶縁性粒子付き導電性粒子本体の表面を被覆している被膜とを備える導電性粒子が開示されている。上記絶縁性粒子付き導電性粒子本体は、導電部を少なくとも表面に有する導電性粒子と、上記導電性粒子の表面上に配置された複数の絶縁性粒子とを有する。上記被膜は、上記導電性粒子を覆っている第1の被膜部分と、前記絶縁性粒子の表面を覆っている第2の被膜部分とを有する。特許文献3では、請求項1において、上記第1の被膜部分における厚みが、上記絶縁性粒子の平均粒子径の1/2以下であることが規定されている。また、特許文献3では、比較例3として、上記第1の被膜部分における厚みが、上記絶縁性粒子の平均粒子径の2/3である導電性粒子が記載されている。   Patent Document 3 below discloses a conductive particle including a conductive particle body with insulating particles and a coating covering the surface of the conductive particle body with insulating particles. The conductive particle body with insulating particles includes conductive particles having a conductive portion on at least a surface, and a plurality of insulating particles arranged on the surface of the conductive particles. The coating has a first coating portion covering the conductive particles and a second coating portion covering the surfaces of the insulating particles. In patent document 3, in Claim 1, it is prescribed | regulated that the thickness in the said 1st film part is 1/2 or less of the average particle diameter of the said insulating particle. Patent Document 3 describes, as Comparative Example 3, conductive particles in which the thickness of the first coating portion is 2/3 of the average particle diameter of the insulating particles.

特開2011−187332号公報JP 2011-187332 A 特開2005−209491号公報JP 2005-209491 A 特開2013−175453号公報JP 2013-175453 A

特許文献1,2に記載の方法で得られた絶縁性粒子付き導電性粒子では、導電接続前に、絶縁性粒子が導電性粒子の表面から意図せずに脱離しやすい。また、特許文献1,2では、導電接続後に、接続抵抗が比較的高くなることがある。   In the conductive particles with insulating particles obtained by the methods described in Patent Documents 1 and 2, the insulating particles are easily detached from the surface of the conductive particles unintentionally before the conductive connection. In Patent Documents 1 and 2, the connection resistance may be relatively high after the conductive connection.

本発明者は、特許文献3に記載の導電性粒子では、例えば、低荷重で圧着されたりする場合に、導通信頼性及び絶縁信頼性が充分に高められないという課題があることを見出した。   The present inventor has found that the conductive particles described in Patent Document 3 have a problem that the conduction reliability and the insulation reliability are not sufficiently improved, for example, when the particles are pressed with a low load.

本発明の目的は、導電接続後に導通信頼性及び絶縁信頼性を高めることができる絶縁性粒子付き導電性粒子及び絶縁性粒子付き導電性粒子の製造方法を提供することである。また、本発明の目的は、上記絶縁性粒子付き導電性粒子を用いた導電材料及び接続構造体を提供することである。   The objective of this invention is providing the manufacturing method of the electroconductive particle with an insulating particle which can improve conduction | electrical_connection reliability and insulation reliability after electroconductive connection, and the electroconductive particle with an insulating particle. Another object of the present invention is to provide a conductive material and a connection structure using the conductive particles with insulating particles.

本発明の広い局面によれば、絶縁性粒子付き導電性粒子本体と、前記絶縁性粒子付き導電性粒子本体の表面を被覆している被膜とを備え、前記絶縁性粒子付き導電性粒子本体が、導電部を少なくとも表面に有する導電性粒子と、前記導電性粒子の表面上に配置された複数の絶縁性粒子とを有し、前記導電性粒子が、前記導電部の外表面に複数の突起を有し、前記突起の平均高さが、0.05μm以上、0.5μm以下であり、前記被膜が、前記導電性粒子を覆っている第1の被膜部分と、前記絶縁性粒子の表面を覆っている第2の被膜部分とを有し、前記第1の被膜部分における厚みの、前記絶縁性粒子の平均粒子径に対する比が、2/3以上、3以下である、絶縁性粒子付き導電性粒子が提供される。   According to a wide aspect of the present invention, a conductive particle body with insulating particles, and a coating covering a surface of the conductive particle body with insulating particles, the conductive particle body with insulating particles, A conductive particle having at least a conductive portion on the surface, and a plurality of insulating particles disposed on the surface of the conductive particle, wherein the conductive particle has a plurality of protrusions on the outer surface of the conductive portion. An average height of the protrusions is 0.05 μm or more and 0.5 μm or less, and the coating includes a first coating portion covering the conductive particles, and a surface of the insulating particles. A conductive film with insulating particles, wherein the ratio of the thickness of the first film portion to the average particle diameter of the insulating particles is 2/3 or more and 3 or less. Sex particles are provided.

本発明に係る絶縁性粒子付き導電性粒子のある特定の局面では、前記絶縁性粒子が、無機粒子を含むか、又は前記絶縁性粒子の外表面が、前記被膜のガラス転移温度よりも高いガラス転移温度を有する。   In a specific aspect of the conductive particles with insulating particles according to the present invention, the insulating particles include inorganic particles, or the outer surface of the insulating particles is higher than the glass transition temperature of the coating film. Has a transition temperature.

本発明に係る絶縁性粒子付き導電性粒子のある特定の局面では、前記絶縁性粒子の外表面が、前記被膜のガラス転移温度よりも高いガラス転移温度を有する。   On the specific situation with the electroconductive particle with an insulating particle which concerns on this invention, the outer surface of the said insulating particle has a glass transition temperature higher than the glass transition temperature of the said film.

本発明に係る絶縁性粒子付き導電性粒子のある特定の局面では、複数の前記絶縁性粒子の全個数の内の90%以上が、前記導電性粒子に接触している。   In a specific aspect of the conductive particles with insulating particles according to the present invention, 90% or more of the total number of the plurality of insulating particles is in contact with the conductive particles.

本発明に係る絶縁性粒子付き導電性粒子のある特定の局面では、複数の前記絶縁性粒子が、前記被膜により被覆されていることによって露出していない。   In a specific aspect of the conductive particles with insulating particles according to the present invention, a plurality of the insulating particles are not exposed by being covered with the coating film.

本発明に係る絶縁性粒子付き導電性粒子のある特定の局面では、前記導電部の外表面に、化学結合を介して、前記絶縁性粒子が付着している。   On the specific situation with the electroconductive particle with an insulating particle which concerns on this invention, the said insulating particle has adhered to the outer surface of the said electroconductive part through a chemical bond.

本発明に係る絶縁性粒子付き導電性粒子のある特定の局面では、前記被膜の材料が、炭素数6〜22のアルキル基を有する化合物及び反応性モノマーである。   On the specific situation with the electroconductive particle with the insulating particle which concerns on this invention, the material of the said film is a compound and reactive monomer which have a C6-C22 alkyl group.

本発明の広い局面によれば、上述した絶縁性粒子付き導電性粒子と、バインダー樹脂とを含む、導電材料が提供される。   According to a wide aspect of the present invention, there is provided a conductive material including the conductive particles with insulating particles described above and a binder resin.

本発明に係る導電材料のある特定の局面では、前記導電材料は、導電ペーストである。   In a specific aspect of the conductive material according to the present invention, the conductive material is a conductive paste.

本発明の広い局面によれば、第1の接続対象部材と、第2の接続対象部材と、前記第1の接続対象部材と前記第2の接続対象部材とを接続している接続部とを備え、前記接続部の材料が、上述した絶縁性粒子付き導電性粒子であるか、又は前記絶縁性粒子付き導電性粒子とバインダー樹脂とを含む導電材料である、接続構造体が提供される。   According to a wide aspect of the present invention, a first connection target member, a second connection target member, and a connection portion connecting the first connection target member and the second connection target member. A connection structure is provided in which the material of the connection portion is the above-described conductive particles with insulating particles or a conductive material including the conductive particles with insulating particles and a binder resin.

本発明の広い局面によれば、上述した絶縁性粒子付き導電性粒子の製造方法であって、導電部を少なくとも表面に有する導電性粒子、及び前記導電性粒子の表面上に配置された複数の絶縁性粒子を有する絶縁性粒子付き導電性粒子本体の表面を被覆して、被膜を形成する工程を備え、前記導電性粒子が、前記導電部の外表面に複数の突起を有し、前記突起の平均高さが、0.05μm以上、0.5μm以下であり、前記導電性粒子を覆っている第1の被膜部分と、前記絶縁性粒子の表面を覆っている第2の被膜部分とを有するように、前記第1の被膜部分における厚みの、前記絶縁性粒子の平均粒子径に対する比が、2/3以上、3以下であるように、前記被膜を形成する、絶縁性粒子付き導電性粒子の製造方法が提供される。   According to a wide aspect of the present invention, there is provided a method for producing the above-described conductive particles with insulating particles, the conductive particles having at least a conductive part on the surface, and a plurality of conductive particles arranged on the surface of the conductive particles. Covering the surface of the conductive particle body with insulating particles having insulating particles to form a film, wherein the conductive particles have a plurality of protrusions on the outer surface of the conductive portion; The first coating portion covering the conductive particles and the second coating portion covering the surface of the insulating particles are an average height of 0.05 μm or more and 0.5 μm or less. And having a conductive film with insulating particles that forms the coating such that the ratio of the thickness of the first coating portion to the average particle diameter of the insulating particles is 2/3 or more and 3 or less. A method for producing particles is provided.

本発明に係る絶縁性粒子付き導電性粒子の製造方法のある特定の局面では、前記絶縁性粒子付き導電性粒子の製造方法は、導電部を少なくとも表面に有する導電性粒子の表面上に、複数の絶縁性粒子を配置して、前記絶縁性粒子付き導電性粒子本体を得る工程を備える。   In a specific aspect of the method for producing conductive particles with insulating particles according to the present invention, a plurality of methods for producing the conductive particles with insulating particles are provided on the surface of the conductive particles having at least a conductive portion on the surface. A step of arranging the insulating particles to obtain the conductive particle body with insulating particles.

本発明に係る絶縁性粒子付き導電性粒子の製造方法のある特定の局面では、前記絶縁性粒子付き導電性粒子本体を得る工程において、前記絶縁性粒子を、前記導電性粒子の表面に、ハイブリダイゼーション法により付着させない。   In a specific aspect of the method for producing conductive particles with insulating particles according to the present invention, in the step of obtaining the conductive particle body with insulating particles, the insulating particles are placed on the surface of the conductive particles. Do not attach by hybridization method.

本発明に係る絶縁性粒子付き導電性粒子は、絶縁性粒子付き導電性粒子本体と、上記絶縁性粒子付き導電性粒子本体の表面を被覆している被膜とを備え、上記絶縁性粒子付き導電性粒子本体が、導電部を少なくとも表面に有する導電性粒子と、上記導電性粒子の表面上に配置された複数の絶縁性粒子とを有し、上記導電性粒子が、上記導電部の外表面に複数の突起を有し、上記突起の平均高さが、0.05μm以上、0.5μm以下であり、上記被膜が、上記導電性粒子を覆っている第1の被膜部分と、上記絶縁性粒子の表面を覆っている第2の被膜部分とを有し、上記第1の被膜部分における厚みの、上記絶縁性粒子の平均粒子径に対する比が、2/3以上、3以下であるので、導電接続を行った場合に、導通信頼性及び絶縁信頼性を高めることができる。   The conductive particle with insulating particles according to the present invention includes a conductive particle body with insulating particles and a coating covering the surface of the conductive particle body with insulating particles, and the conductive particle with insulating particles. The conductive particle main body has conductive particles having at least a conductive part on the surface, and a plurality of insulating particles arranged on the surface of the conductive particles, and the conductive particles are the outer surface of the conductive part. A plurality of protrusions, and an average height of the protrusions is 0.05 μm or more and 0.5 μm or less, and the coating film includes a first coating portion covering the conductive particles, and the insulating property. And the ratio of the thickness of the first coating portion to the average particle diameter of the insulating particles is 2/3 or more and 3 or less, Improve conduction reliability and insulation reliability when conducting conductive connection be able to.

本発明に係る絶縁性粒子付き導電性粒子の製造方法では、上記の構成を有する絶縁性粒子付き導電性粒子を得るので、得られる絶縁性粒子付き導電性粒子を用いて導電接続を行った場合に、導通信頼性及び絶縁信頼性を高めることができる。   In the method for producing conductive particles with insulating particles according to the present invention, conductive particles with insulating particles having the above-described configuration are obtained, and thus conductive connection is performed using the obtained conductive particles with insulating particles. Furthermore, conduction reliability and insulation reliability can be improved.

図1は、本発明の第1の実施形態に係る絶縁性粒子付き導電性粒子を示す断面図である。FIG. 1 is a cross-sectional view showing conductive particles with insulating particles according to the first embodiment of the present invention. 図2は、本発明の第2の実施形態に係る絶縁性粒子付き導電性粒子を示す断面図である。FIG. 2 is a cross-sectional view showing conductive particles with insulating particles according to the second embodiment of the present invention. 図3は、本発明の第3の実施形態に係る絶縁性粒子付き導電性粒子を示す断面図である。FIG. 3 is a cross-sectional view showing conductive particles with insulating particles according to the third embodiment of the present invention. 図4は、図1に示す絶縁性粒子付き導電性粒子を用いた接続構造体を模式的に示す正面断面図である。FIG. 4 is a front cross-sectional view schematically showing a connection structure using the conductive particles with insulating particles shown in FIG. 図5は、ハイブリダイゼーション法を用いた従来の絶縁性粒子付き導電性粒子を示す断面図である。FIG. 5 is a cross-sectional view showing a conventional conductive particle with insulating particles using a hybridization method.

以下、本発明の詳細を説明する。   Details of the present invention will be described below.

(絶縁性粒子付き導電性粒子)
以下、図面を参照しつつ、本発明の具体的な実施形態を説明する。
(Conductive particles with insulating particles)
Hereinafter, specific embodiments of the present invention will be described with reference to the drawings.

図1は、本発明の第1の実施形態に係る絶縁性粒子付き導電性粒子を示す断面図である。なお、各実施形態における異なる部分構成は、適宜置き換えて、組み合わせることが可能である。   FIG. 1 is a cross-sectional view showing conductive particles with insulating particles according to the first embodiment of the present invention. Note that different partial configurations in the respective embodiments can be appropriately replaced and combined.

図1に示す絶縁性粒子付き導電性粒子1は、絶縁性粒子付き導電性粒子本体2と、絶縁性粒子付き導電性粒子本体2の表面を被覆している被膜3とを備える。被膜3は、絶縁性粒子付き導電性粒子本体2の表面に付着している。被膜3は、絶縁性粒子付き導電性粒子本体2の表面全体を覆っている。   A conductive particle 1 with insulating particles shown in FIG. 1 includes a conductive particle body 2 with insulating particles and a coating 3 covering the surface of the conductive particle body 2 with insulating particles. The coating 3 is attached to the surface of the conductive particle body 2 with insulating particles. The coating 3 covers the entire surface of the conductive particle body 2 with insulating particles.

絶縁性粒子付き導電性粒子本体2は、導電性粒子11と、導電性粒子11の表面上に配置された複数の絶縁性粒子15とを備える。複数の絶縁性粒子15は、導電性粒子11の表面に付着している。絶縁性粒子15は、絶縁性を有する材料により形成されている。   The conductive particle body 2 with insulating particles includes conductive particles 11 and a plurality of insulating particles 15 arranged on the surface of the conductive particles 11. The plurality of insulating particles 15 are attached to the surface of the conductive particles 11. The insulating particles 15 are formed of an insulating material.

被膜3は、導電性粒子11の表面と、絶縁性粒子15の表面とを覆っている。被膜3は、導電性粒子11の表面を覆っている第1の被膜部分3aと、絶縁性粒子15の表面を覆っている第2の被膜部分3bとを有する。第1の被膜部分3aと第2の被膜部分3bとは、連なっている。第1の被膜部分3aは、導電性粒子11における絶縁性粒子15が接触していない部分において、導電性粒子11の表面を覆っている。第2の被膜部分3bは、絶縁性粒子15における導電性粒子11が接触していない部分において、絶縁性粒子15の表面を覆っている。被膜3は外表面に、全体として凹凸を有する。   The coating 3 covers the surface of the conductive particles 11 and the surface of the insulating particles 15. The coating 3 includes a first coating portion 3 a that covers the surface of the conductive particles 11 and a second coating portion 3 b that covers the surface of the insulating particles 15. The first coating portion 3a and the second coating portion 3b are continuous. The first coating portion 3a covers the surface of the conductive particles 11 in the portion of the conductive particles 11 where the insulating particles 15 are not in contact. The second coating portion 3 b covers the surface of the insulating particles 15 in the portion of the insulating particles 15 where the conductive particles 11 are not in contact. The coating 3 has unevenness as a whole on the outer surface.

導電性粒子11は、基材粒子12と、基材粒子12の表面上に設けられた導電層13とを有する。導電層13は、導電部である。導電層13は、基材粒子12の表面を覆っている。導電層13は、基材粒子12に接している。導電性粒子11は、基材粒子12の表面が導電層13により被覆された被覆粒子である。導電性粒子11は表面に導電層13を有する。   The conductive particles 11 have base material particles 12 and a conductive layer 13 provided on the surface of the base material particles 12. The conductive layer 13 is a conductive part. The conductive layer 13 covers the surface of the base particle 12. The conductive layer 13 is in contact with the base particle 12. The conductive particles 11 are coated particles in which the surface of the base particle 12 is coated with the conductive layer 13. The conductive particles 11 have a conductive layer 13 on the surface.

導電性粒子11は導電層13の外表面に、複数の突起11aを有する。導電層13は外表面に、複数の突起13aを有する。複数の芯物質14が、基材粒子12の表面上に配置されている。芯物質14は、基材粒子12の表面と接触している。複数の芯物質14は導電層13内に埋め込まれている。導電層13は、基材粒子12と芯物質14とを被覆している。芯物質14は、突起11a,13aの内側に配置されている。導電層13は、複数の芯物質14を被覆している。複数の芯物質14により導電層13の外表面が隆起されており、突起11a,13aが形成されている。   The conductive particles 11 have a plurality of protrusions 11 a on the outer surface of the conductive layer 13. The conductive layer 13 has a plurality of protrusions 13a on the outer surface. A plurality of core substances 14 are arranged on the surface of the base particle 12. The core substance 14 is in contact with the surface of the base particle 12. A plurality of core materials 14 are embedded in the conductive layer 13. The conductive layer 13 covers the base particles 12 and the core substance 14. The core substance 14 is disposed inside the protrusions 11a and 13a. The conductive layer 13 covers a plurality of core materials 14. The outer surface of the conductive layer 13 is raised by the plurality of core materials 14, and protrusions 11 a and 13 a are formed.

図2は、本発明の第2の実施形態に係る絶縁性粒子付き導電性粒子を示す断面図である。   FIG. 2 is a cross-sectional view showing conductive particles with insulating particles according to the second embodiment of the present invention.

図2に示す絶縁性粒子付き導電性粒子21は、絶縁性粒子付き導電性粒子本体22と、絶縁性粒子付き導電性粒子本体22の表面を被覆している被膜3とを備える。   A conductive particle 21 with insulating particles shown in FIG. 2 includes a conductive particle body 22 with insulating particles and a coating 3 covering the surface of the conductive particle body 22 with insulating particles.

絶縁性粒子付き導電性粒子本体22は、導電性粒子31と、導電性粒子31の表面上に配置された複数の絶縁性粒子35とを備える。絶縁性粒子35は、導電性粒子31の表面に付着している。絶縁性粒子が異なること、並びに芯物質が用いられていないことを除いては、絶縁性粒子付き導電性粒子21は絶縁性粒子付き導電性粒子1と同様に構成されており、絶縁性粒子付き導電性粒子本体22は絶縁性粒子付き導電性粒子本体2と同様に構成されている。   The conductive particle body 22 with insulating particles includes conductive particles 31 and a plurality of insulating particles 35 arranged on the surface of the conductive particles 31. The insulating particles 35 are attached to the surface of the conductive particles 31. Except that the insulating particles are different and the core substance is not used, the conductive particles 21 with insulating particles are configured in the same manner as the conductive particles 1 with insulating particles, and with insulating particles. The conductive particle body 22 is configured in the same manner as the conductive particle body 2 with insulating particles.

導電性粒子31は、基材粒子12と、基材粒子12の表面上に配置された導電部32とを有する。導電性粒子31は、芯物質を有さない。導電部32は、第1の部分と、該第1の部分よりも厚みが厚い第2の部分とを有する。導電性粒子31は導電部32の外表面に、複数の突起31aを有する。複数の突起31aを除く部分が、導電部32の上記第1の部分である。複数の突起31aは、導電部32の厚みが厚い上記第2の部分に位置している。導電部32は外表面に、複数の突起32aを有する。導電部の外表面上に突起を形成するために、芯物質を用いてもよく、芯物質を用いなくてもよい。   The conductive particle 31 includes the base particle 12 and a conductive portion 32 disposed on the surface of the base particle 12. The conductive particles 31 do not have a core substance. The conductive portion 32 has a first portion and a second portion that is thicker than the first portion. The conductive particles 31 have a plurality of protrusions 31 a on the outer surface of the conductive portion 32. A portion excluding the plurality of protrusions 31 a is the first portion of the conductive portion 32. The plurality of protrusions 31a are located in the second portion where the conductive portion 32 is thick. The conductive portion 32 has a plurality of protrusions 32a on the outer surface. In order to form protrusions on the outer surface of the conductive portion, a core material may be used or a core material may not be used.

絶縁性粒子35は、絶縁性粒子本体35aと、絶縁性粒子本体35aの表面を覆っており、かつ高分子化合物により形成されている層35bとを有する。層35bの材料は、高分子化合物であり、層35bは高分子化合物層である。層35bの存在により、導電性粒子31に対する絶縁性粒子35の密着性を適度に高めることができる。   The insulating particles 35 include an insulating particle body 35a and a layer 35b that covers the surface of the insulating particle body 35a and is formed of a polymer compound. The material of the layer 35b is a polymer compound, and the layer 35b is a polymer compound layer. Due to the presence of the layer 35b, the adhesion of the insulating particles 35 to the conductive particles 31 can be appropriately increased.

層35bは、絶縁性粒子本体35aの表面全体を被覆している。従って、導電性粒子31と絶縁性粒子本体35aとの間に層35bが配置されている。層35bは、絶縁性粒子本体35aの表面の少なくとも一部の領域を覆うように存在していればよく、絶縁性粒子本体35aの表面全体を覆っていなくてもよい。層35bは、導電性粒子31と絶縁性粒子本体35aとの間に配置されていることが好ましい。   The layer 35b covers the entire surface of the insulating particle main body 35a. Accordingly, the layer 35b is disposed between the conductive particles 31 and the insulating particle main body 35a. The layer 35b may be present so as to cover at least a part of the surface of the insulating particle main body 35a, and may not cover the entire surface of the insulating particle main body 35a. The layer 35b is preferably disposed between the conductive particles 31 and the insulating particle main body 35a.

図3は、本発明の第3の実施形態に係る絶縁性粒子付き導電性粒子を示す断面図である。   FIG. 3 is a cross-sectional view showing conductive particles with insulating particles according to the third embodiment of the present invention.

図3に示す絶縁性粒子付き導電性粒子41は、絶縁性粒子付き導電性粒子本体42と、絶縁性粒子付き導電性粒子本体42の表面を被覆している被膜43とを備える。被膜43は、絶縁性粒子付き導電性粒子本体42の表面に付着している。   A conductive particle 41 with insulating particles shown in FIG. 3 includes a conductive particle body 42 with insulating particles and a coating 43 covering the surface of the conductive particle body 42 with insulating particles. The coating 43 is attached to the surface of the conductive particle body 42 with insulating particles.

絶縁性粒子付き導電性粒子本体42は、導電性粒子51と、導電性粒子51の表面に付着している複数の絶縁性粒子15とを備える。   The conductive particle body 42 with insulating particles includes conductive particles 51 and a plurality of insulating particles 15 attached to the surface of the conductive particles 51.

被膜43は、導電性粒子51の表面と、絶縁性粒子15の表面とを覆っている。被膜43は、導電性粒子51の表面を覆っている第1の被膜部分43aと、絶縁性粒子15の表面を覆っている第2の被膜部分43bとを有する。第1の被膜部分43aと第2の被膜部分43bとは、連なっている。第1の被膜部分43aは、導電性粒子51における絶縁性粒子15が接触していない部分において、導電性粒子51の表面を覆っている。第2の被膜部分43bは、絶縁性粒子15における導電性粒子51が接触していない部分において、絶縁性粒子15の表面を覆っている。絶縁性粒子付き導電性粒子41の中心から外側に向かって線(図3に示す破線)を引いたときに、第2の被膜部分43bは、絶縁性粒子15を通る線上において、絶縁性粒子15の外側に位置している。被膜43は外表面に、全体として凹凸がなく、外径が球状である。   The coating 43 covers the surface of the conductive particles 51 and the surface of the insulating particles 15. The coating 43 has a first coating portion 43 a covering the surface of the conductive particles 51 and a second coating portion 43 b covering the surface of the insulating particles 15. The first coating portion 43a and the second coating portion 43b are continuous. The first coating portion 43 a covers the surface of the conductive particles 51 in the portion of the conductive particles 51 where the insulating particles 15 are not in contact. The second coating portion 43b covers the surface of the insulating particles 15 in the portion of the insulating particles 15 where the conductive particles 51 are not in contact. When a line (broken line shown in FIG. 3) is drawn from the center of the conductive particles 41 with insulating particles toward the outside, the second coating portion 43 b is on the line passing through the insulating particles 15. It is located outside. The coating 43 has no irregularities on the outer surface as a whole and has a spherical outer diameter.

導電性粒子51は、基材粒子12と、基材粒子12の表面上に設けられた導電層52とを有する。導電層52は、導電部である。導電層52は、基材粒子12の表面上に設けられた第1の導電層52Aと、第1の導電層52Aの外表面上に設けられた第2の導電層52Bとを有する。導電性粒子51は、第1の導電層52Aの外表面上に複数の芯物質14を有する。第2の導電層52Bは、第1の導電層52Aと芯物質14とを被覆している。基材粒子12と芯物質14とは間隔を隔てて配置されている。基材粒子12と芯物質14との間には、第1の導電層52Aが存在する。芯物質14を第2の導電層52Bが被覆していることにより、導電性粒子51は、導電層52の外表面に、複数の突起51aを有する。導電層52及び第2の導電層52Bは外表面に、複数の突起52aを有する。芯物質14は、突起51a,52aの内側に配置されている。芯物質14により導電層52及び第2の導電層52Bの外表面が隆起されており、複数の突起51a,52aが形成されている。   The conductive particles 51 include base material particles 12 and a conductive layer 52 provided on the surface of the base material particles 12. The conductive layer 52 is a conductive part. The conductive layer 52 has a first conductive layer 52A provided on the surface of the base particle 12 and a second conductive layer 52B provided on the outer surface of the first conductive layer 52A. The conductive particles 51 have a plurality of core materials 14 on the outer surface of the first conductive layer 52A. The second conductive layer 52B covers the first conductive layer 52A and the core substance 14. The base particles 12 and the core substance 14 are arranged with a space therebetween. A first conductive layer 52A exists between the base particle 12 and the core substance 14. By covering the core substance 14 with the second conductive layer 52 </ b> B, the conductive particles 51 have a plurality of protrusions 51 a on the outer surface of the conductive layer 52. The conductive layer 52 and the second conductive layer 52B have a plurality of protrusions 52a on the outer surface. The core substance 14 is disposed inside the protrusions 51a and 52a. The outer surfaces of the conductive layer 52 and the second conductive layer 52B are raised by the core substance 14, and a plurality of protrusions 51a and 52a are formed.

絶縁性粒子付き導電性粒子1,21,41ではいずれも、第1の被膜部分3a,43aにおける厚みの、絶縁性粒子15,35の平均粒子径に対する比は、2/3以上、3以下である。   In each of the conductive particles with insulating particles 1, 21, 41, the ratio of the thickness of the first coating portions 3a, 43a to the average particle diameter of the insulating particles 15, 35 is 2/3 or more and 3 or less. is there.

図1を参照しつつ、第1の被膜部分と第2の被膜部分との区別、並びに、第1の被膜部分と第2の被膜部分との厚みを具体的に説明する。   The distinction between the first coating portion and the second coating portion, and the thicknesses of the first coating portion and the second coating portion will be specifically described with reference to FIG.

絶縁性粒子付き導電性粒子1の中心から、1つの絶縁性粒子15に対して2つの接線を引く。1つの絶縁性粒子における1つの接線と、隣の絶縁性粒子における1つの接線との間の領域が第1の被膜部分3aである。第1の被膜部分3aは、図1の領域R1である。図1では、領域R1は、1つのみ示されているが、領域R1は複数存在する。領域R1には、絶縁性粒子15は存在しない。第1の被膜部分3aの領域R1において、絶縁性粒子付き導電性粒子1の中心と、絶縁性粒子付き導電性粒子1の表面とを結ぶ方向における第1の被膜部分3aの距離を、第1の被膜部分3aの厚みとする。第1の被膜部分3aの厚みは、領域R1全体での厚みの平均である。1つの絶縁性粒子における2つの接線の間の領域が第2の被膜部分3bである。第2の被膜部分3bは、図1の領域R2である。図1では、領域R2は、1つのみ示されているが、領域R2は複数存在する。第2の被膜部分3bの領域R2において、絶縁性粒子付き導電性粒子1の中心と、絶縁性粒子付き導電性粒子1の表面とを結ぶ方向における第2の被膜部分3bの距離を、第2の被膜部分3bの厚みとする。第2の被膜部分3bの厚みは、領域R2全体での厚みの平均である。   Two tangent lines are drawn for one insulating particle 15 from the center of the conductive particle 1 with insulating particles. A region between one tangent line in one insulating particle and one tangent line in the adjacent insulating particle is the first coating portion 3a. The first coating portion 3a is a region R1 in FIG. In FIG. 1, only one region R1 is shown, but there are a plurality of regions R1. Insulating particles 15 do not exist in region R1. In the region R1 of the first coating portion 3a, the distance of the first coating portion 3a in the direction connecting the center of the conductive particles 1 with insulating particles and the surface of the conductive particles 1 with insulating particles is defined as a first distance. The thickness of the coating portion 3a. The thickness of the 1st film part 3a is the average of the thickness in whole area | region R1. A region between two tangents in one insulating particle is the second coating portion 3b. The second coating portion 3b is a region R2 in FIG. In FIG. 1, only one region R2 is shown, but there are a plurality of regions R2. In the region R2 of the second coating portion 3b, the distance between the second coating portion 3b in the direction connecting the center of the conductive particles 1 with insulating particles and the surface of the conductive particles 1 with insulating particles is set to a second value. The thickness of the coating portion 3b. The thickness of the second coating portion 3b is an average of the thickness in the entire region R2.

被膜が、導電性粒子を覆っている第1の被膜部分と絶縁性粒子の表面を覆っている第2の被膜部分とを有し、更に第1の被膜部分における厚みが、絶縁性粒子の平均粒子径の2/3以上、3以下であることによって、導電接続後に導通信頼性及び絶縁信頼性を高めることができる。具体的には、絶縁性粒子付き導電性粒子を用いて上下の電極間を接続した場合に、接続されるべき上下の電極間が絶縁性粒子付き導電性粒子における導電性粒子によって電気的に接続され、上下の電極間の導通信頼性を高めることができる。さらに、絶縁性粒子付き導電性粒子を用いて上下の電極間を接続した場合に、接続されてはならない横方向に隣接する電極間が、複数の導電性粒子を介して接続され難く、横方向に隣接する電極間の絶縁信頼性を高めることができる。さらに、導電接続前に、導電性粒子の表面から絶縁性粒子を意図せずに脱離し難くし、かつ導電接続時に、導電性粒子の表面から絶縁性粒子が脱離しやすくすることができる。   The coating has a first coating portion covering the conductive particles and a second coating portion covering the surface of the insulating particles, and the thickness of the first coating portion is an average of the insulating particles. When the particle diameter is 2/3 or more and 3 or less, the conduction reliability and the insulation reliability can be improved after the conductive connection. Specifically, when the upper and lower electrodes are connected using conductive particles with insulating particles, the upper and lower electrodes to be connected are electrically connected by the conductive particles in the conductive particles with insulating particles. Thus, the conduction reliability between the upper and lower electrodes can be improved. Furthermore, when the upper and lower electrodes are connected using conductive particles with insulating particles, the electrodes adjacent to each other in the horizontal direction that should not be connected are difficult to be connected via the plurality of conductive particles. The insulation reliability between the electrodes adjacent to each other can be improved. Further, it is possible to make it difficult to unintentionally detach the insulating particles from the surface of the conductive particles before the conductive connection, and to easily detach the insulating particles from the surface of the conductive particles during the conductive connection.

さらに、導電性粒子が導電部の外表面に複数の突起を有することによっても、突起部分が上下の電極に接触しやすくなり、更に電極に圧痕も形成されやすくなり、導通信頼性を高めることができる。さらに、導電性粒子が導電部の外表面に複数の突起を有することで、突起上の被膜がある程度厚いにもかかわらず、突起上の被膜が効果的に排除されることによって、導通信頼性を高めることができる。   Furthermore, even when the conductive particles have a plurality of protrusions on the outer surface of the conductive portion, the protrusion portions are likely to come into contact with the upper and lower electrodes, and indentations are also easily formed on the electrodes, thereby improving conduction reliability. it can. In addition, since the conductive particles have a plurality of protrusions on the outer surface of the conductive part, the coating on the protrusions is effectively eliminated even though the coating on the protrusions is somewhat thick, thereby improving conduction reliability. Can be increased.

被膜が、導電性粒子を覆っている第1の被膜部分のみを有していたり、絶縁性粒子の表面を覆っている第2の被膜部分のみを有していたりする場合には、導電接続前に、導電性粒子の表面から絶縁性粒子が意図せずに脱離しやすくなる。例えば、絶縁性粒子付き導電性粒子をバインダー樹脂中に分散させる際に、導電性粒子の表面から、絶縁性粒子が容易に脱離することがある。さらに、複数の絶縁性粒子付き導電性粒子が接触したときに、接触時の衝撃により、導電性粒子の表面から絶縁性粒子が脱離しやすくなる。このため、絶縁性粒子付き導電性粒子を電極間の接続に用いた場合に、隣接する導電性粒子間には絶縁性粒子が存在せずに、接続されてはならない隣り合う電極間が電気的に接続されることがある。本発明に係る絶縁性粒子付き導電性粒子では、このような問題点も解消できる。   When the coating has only the first coating portion covering the conductive particles, or only the second coating portion covering the surface of the insulating particles, the conductive coating is not yet connected. In addition, the insulating particles are easily detached from the surface of the conductive particles unintentionally. For example, when the conductive particles with insulating particles are dispersed in the binder resin, the insulating particles may be easily detached from the surface of the conductive particles. Furthermore, when a plurality of conductive particles with insulating particles are in contact with each other, the insulating particles are easily detached from the surface of the conductive particles due to an impact at the time of contact. Therefore, when conductive particles with insulating particles are used for connection between electrodes, there are no insulating particles between adjacent conductive particles, and the adjacent electrodes that should not be connected are electrically connected. May be connected. Such problems can be solved by the conductive particles with insulating particles according to the present invention.

第1の被膜部分における厚みの、絶縁性粒子の平均粒子径に対する比が3を超えると、導電接続時に、導電性粒子の表面から絶縁性粒子が脱離しにくくなる。この結果、絶縁性粒子付き導電性粒子を用いて接続構造体を得た場合に、電極間の接続抵抗が高くなったり、接続不良が生じたりしやすくなる可能性が高まる。   When the ratio of the thickness of the first coating portion to the average particle diameter of the insulating particles exceeds 3, the insulating particles are less likely to be detached from the surface of the conductive particles during conductive connection. As a result, when the connection structure is obtained using the conductive particles with insulating particles, the possibility that the connection resistance between the electrodes is increased or a connection failure is likely to occur is increased.

さらに、本発明に係る絶縁性粒子付き導電性粒子では、導通信頼性及び絶縁信頼性を効果的に高める観点から、上記突起の平均高さの上記絶縁性粒子の平均粒子径に対する比(平均高さ/平均粒子径)は、0.1以上、5以下である。導通信頼性及び絶縁信頼性をより一層効果的に高める観点からは、上記比(平均高さ/平均粒子径)は、好ましくは0.5以上であり、好ましくは3以下である。また、上記比(平均高さ/平均粒子径)が上記上限以下であると、突起が折れ難くなり、導通信頼性が高くなる。   Furthermore, in the conductive particles with insulating particles according to the present invention, the ratio of the average height of the protrusions to the average particle diameter of the insulating particles (average height) from the viewpoint of effectively increasing the conduction reliability and the insulation reliability. (Sa / average particle diameter) is 0.1 or more and 5 or less. From the viewpoint of more effectively increasing the conduction reliability and the insulation reliability, the ratio (average height / average particle diameter) is preferably 0.5 or more, and preferably 3 or less. Further, when the ratio (average height / average particle diameter) is not more than the above upper limit, the protrusions are not easily broken, and the conduction reliability is increased.

上記突起の高さは、導電性粒子の中心と突起の先端とを結ぶ線(図1に示す破線L1)上における、突起が無いと想定した場合の導電部の仮想線(図1に示す破線L2)上(突起が無いと想定した場合の球状の導電性粒子の外表面上)から突起の先端までの距離を示す。すなわち、図1においては、破線L1と破線L2との交点から突起の先端までの距離を示す。   The height of the projection is a virtual line of the conductive portion (dashed line shown in FIG. 1) on the assumption that there is no projection on the line (dashed line L1 shown in FIG. 1) connecting the center of the conductive particles and the tip of the projection. L2) Indicates the distance from the top (on the outer surface of the spherical conductive particles assuming no projection) to the tip of the projection. That is, in FIG. 1, the distance from the intersection of the broken line L1 and the broken line L2 to the tip of the protrusion is shown.

導通性をより一層高める観点、並びに導電性粒子の表面から絶縁性粒子が意図せずに脱離するのを効果的に抑制する観点からは、第1の被膜部分における厚みは薄いほどよい。第1の被膜部分における厚みの、絶縁性粒子の平均粒子径に対する比(厚み/平均粒子径)は、好ましくは2.5以下、より好ましくは2以下である。絶縁性粒子の導電接続前の脱離防止の機能を効果的に果たすためには、第1の被膜部分における厚みの、絶縁性粒子の平均粒子径に対する比(厚み/平均粒子径)は、好ましくは3/4以上、より好ましくは1以上である。   From the viewpoint of further increasing the electrical conductivity, and from the viewpoint of effectively suppressing the unintentional detachment of the insulating particles from the surface of the conductive particles, the thinner the first coating portion, the better. The ratio (thickness / average particle diameter) of the thickness of the first coating portion to the average particle diameter of the insulating particles is preferably 2.5 or less, more preferably 2 or less. In order to effectively perform the function of preventing the detachment of the insulating particles before the conductive connection, the ratio of the thickness in the first coating portion to the average particle size of the insulating particles (thickness / average particle size) is preferably Is 3/4 or more, more preferably 1 or more.

上記絶縁性粒子の「平均粒子径」は、数平均粒子径を示す。絶縁性粒子の平均粒子径は、任意の絶縁性粒子50個を電子顕微鏡又は光学顕微鏡にて観察し、平均値を算出することにより求められる。   The “average particle diameter” of the insulating particles indicates a number average particle diameter. The average particle diameter of the insulating particles is obtained by observing 50 arbitrary insulating particles with an electron microscope or an optical microscope and calculating an average value.

上記第1の被膜部分の厚みと上記第2の被膜部分の厚みとは、同一であってもよく、異なっていてもよい。上記第1の被膜部分の厚みは、好ましくは10nm以上、より好ましくは20nm以上であり、好ましくは150nm以下、より好ましくは80nm以下である。上記第2の被膜部分の厚みは、好ましくは10nm以上、より好ましくは40nm以上であり、好ましくは300nm以下、より好ましくは150nm以下である。   The thickness of the first coating portion and the thickness of the second coating portion may be the same or different. The thickness of the first coating portion is preferably 10 nm or more, more preferably 20 nm or more, preferably 150 nm or less, more preferably 80 nm or less. The thickness of the second coating portion is preferably 10 nm or more, more preferably 40 nm or more, preferably 300 nm or less, more preferably 150 nm or less.

導電接続前に、導電性粒子の表面から絶縁性粒子が意図せずに脱離するのを効果的に防ぐ観点からは、絶縁性粒子付き導電性粒子における複数の上記絶縁性粒子の全個数の内の50%以上が、上記導電性粒子に接触していることが好ましい。絶縁性粒子付き導電性粒子における複数の上記絶縁性粒子の全個数の内の90%以上が、上記導電性粒子に接触していることがより好ましく、95%以上が、上記導電性粒子に接触していることがより好ましい。   From the viewpoint of effectively preventing unintentional detachment of the insulating particles from the surface of the conductive particles before the conductive connection, the total number of the plurality of insulating particles in the conductive particles with insulating particles is It is preferable that 50% or more of them are in contact with the conductive particles. 90% or more of the total number of the plurality of insulating particles in the conductive particles with insulating particles is more preferably in contact with the conductive particles, and 95% or more is in contact with the conductive particles. More preferably.

導電接続前に、導電性粒子の表面から絶縁性粒子が意図せずに脱離するのを効果的に防ぐ観点からは、第1の被膜部分と、第2の被膜部分とは連なっていることが好ましい。被膜は、第1の被膜部分と、第2の被膜部分とが連続している被膜であることが好ましい。   From the viewpoint of effectively preventing unintentional detachment of the insulating particles from the surface of the conductive particles before the conductive connection, the first coating portion and the second coating portion are continuous. Is preferred. The coating is preferably a coating in which the first coating portion and the second coating portion are continuous.

導電接続前に、導電性粒子の表面から絶縁性粒子が意図せずに脱離するのを効果的に防ぐ観点からは、複数の上記絶縁性粒子が、上記被膜により被覆されていることによって露出していないことが好ましい。絶縁性粒子付き導電性粒子は、被膜により覆われていない絶縁性粒子を有さず、かつ露出している絶縁性粒子を有さないことが好ましい。絶縁性粒子付き導電性粒子は、露出した絶縁性粒子部分を有さないことが好ましい。   From the viewpoint of effectively preventing unintentional detachment of the insulating particles from the surface of the conductive particles before the conductive connection, a plurality of the insulating particles are exposed by being covered with the coating film. Preferably not. It is preferable that the conductive particles with insulating particles do not have insulating particles that are not covered with a coating film and do not have exposed insulating particles. It is preferable that the conductive particles with insulating particles do not have exposed insulating particle portions.

導電接続前に、導電性粒子の表面から絶縁性粒子が意図せずに脱離するのを効果的に防ぐ観点からは、導電部の表外面に、化学結合を介して、絶縁性粒子が付着していることが好ましい。   From the viewpoint of effectively preventing unintentional detachment of the insulating particles from the surface of the conductive particles before the conductive connection, the insulating particles adhere to the outer surface of the conductive portion through a chemical bond. It is preferable.

また、絶縁性粒子付き導電性粒子本体の表面を被膜が被覆していることによって、絶縁性粒子付き導電性粒子における導電層に錆が生じ難くなる。被膜は防錆効果を付与する。このため、絶縁性粒子付き導電性粒子における導電性粒子の導電性が高くなり、長期間にわたり高い導電性を維持できる。従って、絶縁性粒子付き導電性粒子を用いて電極間を接続した場合に、導通信頼性を高めることができる。   Moreover, it becomes difficult to produce rust in the conductive layer in the electroconductive particle with an insulating particle because the film coat | covers the surface of the electroconductive particle main body with an insulating particle. The coating imparts a rust prevention effect. For this reason, the electroconductivity of the electroconductive particle in the electroconductive particle with an insulating particle becomes high, and can maintain high electroconductivity over a long period of time. Therefore, when the electrodes are connected using conductive particles with insulating particles, the conduction reliability can be improved.

また、絶縁性粒子付き導電性粒子本体の表面を被膜が被覆しており、該被膜の材料が、炭素数6〜22のアルキル基を有する化合物及び反応性モノマーであることが好ましい。上記被膜が、炭素数6〜22のアルキル基を有する化合物及び反応性モノマーにより形成されていることが好ましい。上記被膜は、炭素数6〜22のアルキル基を有する化合物及び反応性モノマーの反応物であることが好ましい。これらにより、絶縁性粒子付き導電性粒子における導電層に錆がより一層生じ難くなる。   Moreover, it is preferable that the surface of the electroconductive particle main body with an insulating particle is coat | covered with the film, and the material of this film is a compound and reactive monomer which have a C6-C22 alkyl group. It is preferable that the said film is formed with the compound and reactive monomer which have a C6-C22 alkyl group. The coating is preferably a reaction product of a compound having an alkyl group having 6 to 22 carbon atoms and a reactive monomer. As a result, rust is more unlikely to occur in the conductive layer of the conductive particles with insulating particles.

被膜は、絶縁性粒子付き導電性粒子本体の表面に付着していることが好ましい。絶縁性粒子付き導電性粒子では、被膜は、絶縁性粒子付き導電性粒子本体の表面全体を覆っていることが好ましい。   The coating is preferably attached to the surface of the conductive particle body with insulating particles. In the conductive particles with insulating particles, the coating preferably covers the entire surface of the conductive particle body with insulating particles.

なお、被膜は、絶縁性粒子付き導電性粒子本体の表面全体を必ずしも被覆している必要はない。被膜が、導電性粒子を覆っている第1の被膜部分と絶縁性粒子の表面を覆っている第2の被膜部分とを有していれば、第1の被膜部分のみを有するか又は第2の被膜部分のみを有する場合と比べて、導電接続前の脱離防止性及び導電接続時の脱離性をバランスよく高めることができる。また、導電層の表面の少なくとも一部の領域を、被膜が被覆していることにより、特に炭素数6〜22のアルキル基を有する化合物により形成されている被膜が被覆していることにより、被膜が形成されている部分において、導電層の錆を抑制できる。   The coating does not necessarily have to cover the entire surface of the conductive particle body with insulating particles. If the coating has a first coating portion covering the conductive particles and a second coating portion covering the surface of the insulating particles, it has only the first coating portion or the second coating portion. Compared with the case of having only the coating portion, the prevention of detachment before conductive connection and the detachability at the time of conductive connection can be improved in a balanced manner. Further, at least a part of the surface of the conductive layer is covered with a coating, and particularly, a coating formed of a compound having an alkyl group having 6 to 22 carbon atoms is coated. In the portion where is formed, rust of the conductive layer can be suppressed.

以下、被膜の詳細及び絶縁性粒子付き導電性粒子本体の詳細を説明する。なお、以下の説明において、「(メタ)アクリル」は「アクリル」と「メタクリル」との一方又は双方を意味し、「(メタ)アクリレート」は「アクリレート」と「メタクリレート」との一方又は双方を意味する。   Hereinafter, details of the coating and details of the conductive particle body with insulating particles will be described. In the following description, “(meth) acryl” means one or both of “acryl” and “methacryl”, and “(meth) acrylate” means one or both of “acrylate” and “methacrylate”. means.

[被膜]
導電部に錆を生じ難くするために、上記被膜は、炭素数6〜22のアルキル基を有する化合物(以下、化合物Aともいう)及び反応性モノマーを重合することにより形成されていることが好ましい。また、化合物Aが反応性官能基を有することが好ましい。上記アルキル基の炭素数が6未満であると、導電部の外表面に錆が生じやすくなる。上記アルキル基の炭素数が22を超えると、絶縁性粒子付き導電性粒子の導電性が低くなる。絶縁性粒子付き導電性粒子の導電性をより一層高める観点からは、上記化合物Aにおける上記アルキル基の炭素数は16以下であることが好ましい。上記アルキル基は直鎖構造を有していてもよく、分岐構造を有していてもよい。上記アルキル基は、直鎖構造を有することが好ましい。
[Coating]
In order to make it difficult for rust to occur in the conductive part, the coating is preferably formed by polymerizing a compound having an alkyl group having 6 to 22 carbon atoms (hereinafter also referred to as compound A) and a reactive monomer. . Moreover, it is preferable that the compound A has a reactive functional group. When the carbon number of the alkyl group is less than 6, rust is likely to occur on the outer surface of the conductive portion. When carbon number of the said alkyl group exceeds 22, the electroconductivity of the electroconductive particle with an insulating particle will become low. From the viewpoint of further increasing the conductivity of the conductive particles with insulating particles, the alkyl group in the compound A preferably has 16 or less carbon atoms. The alkyl group may have a linear structure or a branched structure. The alkyl group preferably has a linear structure.

上記化合物Aは、炭素数6〜22のアルキル基を有していれば特に限定されない。上記化合物Aは、炭素数6〜22のアルキル基を有するリン酸エステル又はその塩、炭素数6〜22のアルキル基を有する亜リン酸エステル又はその塩、炭素数6〜22のアルキル基を有するアルコキシシラン、炭素数6〜22のアルキル基を有するアルキルチオール、及び炭素数6〜22のアルキル基を有するジアルキルジスルフィドからなる群より選択される少なくとも1種であることが好ましい。すなわち、上記炭素数6〜22のアルキル基を有する化合物Aは、リン酸エステル又はその塩、亜リン酸エステル又はその塩、アルコキシシラン、アルキルチオール及びジアルキルジスルフィドからなる群から選択された少なくとも1種であることが好ましい。これらの好ましい化合物Aの使用により、導電部に錆をより一層生じ難くすることができる。錆を更に一層生じ難くする観点からは、上記化合物Aは、上記リン酸エステル又はその塩、亜リン酸エステル又はその塩及びアルコキシシランからなる群から選択された少なくとも1種であることが好ましく、上記リン酸エステル又はその塩及び亜リン酸エステル又はその塩の内の少なくとも1種であることがより好ましい。上記化合物Aは、1種のみが用いられてもよく、2種以上が併用されてもよい。   The compound A is not particularly limited as long as it has an alkyl group having 6 to 22 carbon atoms. The compound A has a phosphate ester having an alkyl group having 6 to 22 carbon atoms or a salt thereof, a phosphite ester having an alkyl group having 6 to 22 carbon atoms or a salt thereof, and an alkyl group having 6 to 22 carbon atoms. It is preferably at least one selected from the group consisting of alkoxysilanes, alkylthiols having an alkyl group having 6 to 22 carbon atoms, and dialkyl disulfides having an alkyl group having 6 to 22 carbon atoms. That is, the compound A having an alkyl group having 6 to 22 carbon atoms is at least one selected from the group consisting of phosphate esters or salts thereof, phosphite esters or salts thereof, alkoxysilanes, alkylthiols, and dialkyl disulfides. It is preferable that By using these preferable compounds A, it is possible to further prevent rust from being generated in the conductive portion. From the viewpoint of making rust more difficult to occur, the compound A is preferably at least one selected from the group consisting of the phosphate ester or a salt thereof, a phosphite ester or a salt thereof and an alkoxysilane, More preferably, the phosphoric acid ester or a salt thereof and a phosphorous acid ester or a salt thereof are at least one of them. As for the said compound A, only 1 type may be used and 2 or more types may be used together.

上記化合物Aは、導電性粒子と反応可能な反応性官能基を有することが好ましい。上記化合物Aは、絶縁性粒子及び反応性モノマーと反応可能な反応性官能基を有することが好ましい。被膜は、絶縁性粒子付き導電性粒子本体と化学結合していることが好ましい。被膜は、導電性粒子と化学結合していることが好ましい。被膜は、絶縁性粒子と化学結合していることが好ましい。被膜は、導電性粒子及び絶縁性粒子と化学結合していることがより好ましい。上記反応性官能基の存在により、及び上記化学結合により、被膜の剥離が生じ難くなる。この結果、導電層に錆がより一層生じ難くなり、かつ導電性粒子の表面から絶縁性粒子が意図せずにより一層脱離し難くなる。   The compound A preferably has a reactive functional group capable of reacting with the conductive particles. The compound A preferably has a reactive functional group capable of reacting with the insulating particles and the reactive monomer. The coating is preferably chemically bonded to the conductive particle body with insulating particles. The coating is preferably chemically bonded to the conductive particles. The coating is preferably chemically bonded to the insulating particles. More preferably, the coating is chemically bonded to the conductive particles and the insulating particles. The presence of the reactive functional group and the chemical bond make it difficult for the coating to peel off. As a result, rust is less likely to occur in the conductive layer, and the insulating particles are more difficult to be detached from the surface of the conductive particles unintentionally.

上記炭素数6〜22のアルキル基を有するリン酸エステル又はその塩としては、例えば、リン酸ヘキシルエステル、リン酸ヘプチルエステル、リン酸モノオクチルエステル、リン酸モノノニルエステル、リン酸モノデシルエステル、リン酸モノウンデシルエステル、リン酸モノドデシルエステル、リン酸モノトリデシルエステル、リン酸モノテトラデシルエステル、リン酸モノペンタデシルエステル、リン酸モノヘキシルエステルモノナトリウム塩、リン酸モノヘプチルエステルモノナトリウム塩、リン酸モノオクチルエステルモノナトリウム塩、リン酸モノノニルエステルモノナトリウム塩、リン酸モノデシルエステルモノナトリウム塩、リン酸モノウンデシルエステルモノナトリウム塩、リン酸モノドデシルエステルモノナトリウム塩、リン酸モノトリデシルエステルモノナトリウム塩、リン酸モノテトラデシルエステルモノナトリウム塩及びリン酸モノペンタデシルエステルモノナトリウム塩等が挙げられる。上記リン酸エステルのカリウム塩を用いてもよい。   Examples of the phosphoric acid ester having an alkyl group having 6 to 22 carbon atoms or a salt thereof include, for example, phosphoric acid hexyl ester, phosphoric acid heptyl ester, phosphoric acid monooctyl ester, phosphoric acid monononyl ester, phosphoric acid monodecyl ester, Monoundecyl phosphate, monododecyl phosphate, monotridecyl phosphate, monotetradecyl phosphate, monopentadecyl phosphate, monohexyl phosphate monosodium salt, monoheptyl phosphate monosodium Salts, monooctyl phosphate monosodium salt, monononyl phosphate monosodium salt, monodecyl phosphate monosodium salt, monoundecyl phosphate monosodium salt, monododecyl phosphate monosodium salt, Phosphate mono tridecyl ester monosodium salt, phosphate acid mono tetradecyl ester monosodium salt and phosphoric acid mono pentadecyl ester monosodium salt. You may use the potassium salt of the said phosphate ester.

上記炭素数6〜22のアルキル基を有する亜リン酸エステル又はその塩としては、例えば、亜リン酸ヘキシルエステル、亜リン酸ヘプチルエステル、亜リン酸モノオクチルエステル、亜リン酸モノノニルエステル、亜リン酸モノデシルエステル、亜リン酸モノウンデシルエステル、亜リン酸モノドデシルエステル、亜リン酸モノトリデシルエステル、亜リン酸モノテトラデシルエステル、亜リン酸モノペンタデシルエステル、亜リン酸モノヘキシルエステルモノナトリウム塩、亜リン酸モノヘプチルエステルモノナトリウム塩、亜リン酸モノオクチルエステルモノナトリウム塩、亜リン酸モノノニルエステルモノナトリウム塩、亜リン酸モノデシルエステルモノナトリウム塩、亜リン酸モノウンデシルエステルモノナトリウム塩、亜リン酸モノドデシルエステルモノナトリウム塩、亜リン酸モノトリデシルエステルモノナトリウム塩、亜リン酸モノテトラデシルエステルモノナトリウム塩及び亜リン酸モノペンタデシルエステルモノナトリウム塩等が挙げられる。上記亜リン酸エステルのカリウム塩を用いてもよい。   Examples of the phosphite ester having an alkyl group having 6 to 22 carbon atoms or a salt thereof include, for example, hexyl phosphite ester, heptyl phosphite ester, monooctyl phosphite ester, monononyl phosphite ester, Phosphoric acid monodecyl ester, phosphorous acid monoundecyl ester, phosphorous acid monododecyl ester, phosphorous acid monotridecyl ester, phosphorous acid monotetradecyl ester, phosphorous acid monopentadecyl ester, phosphorous acid monohexyl Ester monosodium salt, phosphorous acid monoheptyl ester monosodium salt, phosphorous acid monooctyl ester monosodium salt, phosphorous acid monononyl ester monosodium salt, phosphorous acid monodecyl ester monosodium salt, phosphorous acid monoun Decyl ester monosodium salt, phosphorous acid Dodecyl ester monosodium salt, phosphorous acid mono-tridecyl ester monosodium salt, phosphorous acid mono-tetradecyl ester monosodium salt and phosphorous acid mono-pentadecyl ester monosodium salt. You may use the potassium salt of the said phosphite.

上記炭素数6〜22のアルキル基を有するアルコキシシランとしては、例えば、ヘキシルトリメトキシシラン、ヘキシルトリエトキシシラン、ヘプチルトリメトキシシラン、ヘプチルトリエトキシシラン、オクチルトリメトキシシラン、オクチルトリエトキシシラン、ノニルトリメトキシシラン、ノニルトリエトキシシラン、デシルトリメトキシシラン、デシルトリエトキシシラン、ウンデシルトリメトキシシラン、ウンデシルトリエトキシシラン、ドデシルトリメトキシシラン、ドデシルトリエトキシシラン、トリデシルトリメトキシシラン、トリデシルトリエトキシシラン、テトラデシルトリメトキシシラン、テトラデシルトリエトキシシラン、ペンタデシルトリメトキシシラン及びペンタデシルトリエトキシシラン等が挙げられる。   Examples of the alkoxysilane having an alkyl group having 6 to 22 carbon atoms include hexyltrimethoxysilane, hexyltriethoxysilane, heptyltrimethoxysilane, heptyltriethoxysilane, octyltrimethoxysilane, octyltriethoxysilane, and nonyltri. Methoxysilane, nonyltriethoxysilane, decyltrimethoxysilane, decyltriethoxysilane, undecyltrimethoxysilane, undecyltriethoxysilane, dodecyltrimethoxysilane, dodecyltriethoxysilane, tridecyltrimethoxysilane, tridecyltriethoxy Examples include silane, tetradecyltrimethoxysilane, tetradecyltriethoxysilane, pentadecyltrimethoxysilane, and pentadecyltriethoxysilane.

上記炭素数6〜22のアルキル基を有するアルキルチオールとしては、例えば、ヘキシルチオール、ヘプチルチオール、オクチルチオール、ノニルチオール、デシルチオール、ウンデシルチオール、ドデシルチオール、トリデシルチオール、テトラデシルチオール、ペンタデシルチオール及びヘキサデシルチオール等が挙げられる。上記アルキルチオールは、アルキル鎖の末端にチオール基を有することが好ましい。   Examples of the alkyl thiol having an alkyl group having 6 to 22 carbon atoms include hexyl thiol, heptyl thiol, octyl thiol, nonyl thiol, decyl thiol, undecyl thiol, dodecyl thiol, tridecyl thiol, tetradecyl thiol, pentadecyl. Examples include thiol and hexadecyl thiol. The alkyl thiol preferably has a thiol group at the end of the alkyl chain.

上記炭素数6〜22のアルキル基を有するジアルキルジスルフィドとしては、例えば、ジヘキシルジスルフィド、ジヘプチルジスルフィド、ジオクチルジスルフィド、ジノニルジスルフィド、ジデシルジスルフィド、ジウンデシルジスルフィド、ジドデシルジスルフィド、ジトリデシルジスルフィド、ジテトラデシルジスルフィド、ジペンタデシルジスルフィド及びジヘキサデシルジスルフィド等が挙げられる。   Examples of the dialkyl disulfide having an alkyl group having 6 to 22 carbon atoms include dihexyl disulfide, diheptyl disulfide, dioctyl disulfide, dinonyl disulfide, didecyl disulfide, diundecyl disulfide, didodecyl disulfide, ditridecyl disulfide, ditetradecyl disulfide. Examples include decyl disulfide, dipentadecyl disulfide, and dihexadecyl disulfide.

上記反応性モノマーとしては、反応性官能基を有していれば特に限定されない。反応性官能基としては、ビニル基、(メタ)アクリロイル基、カルボキシル基及びグリシジル基等が挙げられる。上記反応性モノマーとして、具体的には後述する樹脂粒子を形成するための化合物を同様に使用できる。   The reactive monomer is not particularly limited as long as it has a reactive functional group. Examples of the reactive functional group include a vinyl group, a (meth) acryloyl group, a carboxyl group, and a glycidyl group. As the reactive monomer, specifically, a compound for forming resin particles to be described later can be similarly used.

[絶縁性粒子付き導電性粒子本体]
上記導電性粒子は、少なくとも表面に導電部を有し、かつ、導電部の外表面に複数の突起を有していればよい。上記導電部は、例えば導電層である。導電性粒子は、基材粒子と、基材粒子の表面上に配置された導電層を有する導電性粒子であってもよく、全体が導電層である金属粒子であってもよい。なかでも、コストを低減したり、導電性粒子の柔軟性を高くして、電極間の導通信頼性を高めたりする観点からは、基材粒子と、基材粒子の表面上に配置された導電部を有する導電性粒子が好ましい。
[Conductive particle body with insulating particles]
The conductive particles may have at least a conductive part on the surface and a plurality of protrusions on the outer surface of the conductive part. The conductive part is, for example, a conductive layer. The conductive particles may be base particles and conductive particles having a conductive layer disposed on the surface of the base particles, or may be metal particles whose entirety is a conductive layer. Among these, from the viewpoint of reducing the cost and increasing the flexibility of the conductive particles to increase the conduction reliability between the electrodes, the base particles and the conductive material disposed on the surface of the base particles are used. The electroconductive particle which has a part is preferable.

上記基材粒子としては、樹脂粒子、金属粒子を除く無機粒子、有機無機ハイブリッド粒子及び金属粒子等が挙げられる。上記基材粒子は、金属粒子を除く基材粒子であることが好ましく、樹脂粒子又は有機無機ハイブリッド粒子であることが好ましい。上記基材粒子は、コアシェル粒子であってもよい。上記コアが有機コアであってもよく、上記シェルが無機シェルであってもよい。   Examples of the substrate particles include resin particles, inorganic particles excluding metal particles, organic-inorganic hybrid particles, and metal particles. The substrate particles are preferably substrate particles excluding metal particles, and are preferably resin particles or organic-inorganic hybrid particles. The base particles may be core-shell particles. The core may be an organic core, and the shell may be an inorganic shell.

上記基材粒子は、樹脂により形成された樹脂粒子であることが好ましい。絶縁性粒子付き導電性粒子を用いて電極間を接続する際には、絶縁性粒子付き導電性粒子を電極間に配置した後、圧着することにより絶縁性粒子付き導電性粒子を圧縮させる。基材粒子が樹脂粒子であると、上記圧着の際に導電性粒子が変形しやすく、導電性粒子と電極との接触面積が大きくなる。このため、電極間の導通信頼性が高くなる。   The substrate particles are preferably resin particles formed of a resin. When connecting the electrodes using the conductive particles with insulating particles, the conductive particles with insulating particles are compressed by placing the conductive particles with insulating particles between the electrodes and then pressing them. When the substrate particles are resin particles, the conductive particles are likely to be deformed during the pressure bonding, and the contact area between the conductive particles and the electrode is increased. For this reason, the conduction | electrical_connection reliability between electrodes becomes high.

上記樹脂粒子を形成するための樹脂として、種々の有機物が好適に用いられる。上記樹脂粒子を形成するための樹脂としては、例えば、ポリエチレン、ポリプロピレン、ポリスチレン、ポリ塩化ビニル、ポリ塩化ビニリデン、ポリイソブチレン、ポリブタジエン等のポリオレフィン樹脂;ポリメチルメタクリレート及びポリメチルアクリレート等のアクリル樹脂;ポリアルキレンテレフタレート、ポリカーボネート、ポリアミド、フェノールホルムアルデヒド樹脂、メラミンホルムアルデヒド樹脂、ベンゾグアナミンホルムアルデヒド樹脂、尿素ホルムアルデヒド樹脂、フェノール樹脂、メラミン樹脂、ベンゾグアナミン樹脂、尿素樹脂、エポキシ樹脂、不飽和ポリエステル樹脂、飽和ポリエステル樹脂、ポリスルホン、ポリフェニレンオキサイド、ポリアセタール、ポリイミド、ポリアミドイミド、ポリエーテルエーテルケトン、ポリエーテルスルホン、及び、エチレン性不飽和基を有する種々の重合性単量体を1種もしくは2種以上重合させて得られる重合体等が挙げられる。導電材料に適した任意の圧縮時の物性を有する樹脂粒子を設計及び合成することができ、かつ基材粒子の硬度を好適な範囲に容易に制御できるので、上記樹脂粒子を形成するための樹脂は、エチレン性不飽和基を複数有する重合性単量体を1種又は2種以上重合させた重合体であることが好ましい。   Various organic materials are suitably used as the resin for forming the resin particles. Examples of the resin for forming the resin particles include polyolefin resins such as polyethylene, polypropylene, polystyrene, polyvinyl chloride, polyvinylidene chloride, polyisobutylene, and polybutadiene; acrylic resins such as polymethyl methacrylate and polymethyl acrylate; Alkylene terephthalate, polycarbonate, polyamide, phenol formaldehyde resin, melamine formaldehyde resin, benzoguanamine formaldehyde resin, urea formaldehyde resin, phenol resin, melamine resin, benzoguanamine resin, urea resin, epoxy resin, unsaturated polyester resin, saturated polyester resin, polysulfone, polyphenylene Oxide, polyacetal, polyimide, polyamideimide, polyether ether Ketones, polyether sulfones, and polymers such as obtained by a variety of polymerizable monomer having an ethylenically unsaturated group is polymerized with one or more thereof. Resin for forming the resin particles can be designed and synthesized, and the hardness of the base particles can be easily controlled within a suitable range, which is suitable for conductive materials and having physical properties at the time of compression. Is preferably a polymer obtained by polymerizing one or more polymerizable monomers having a plurality of ethylenically unsaturated groups.

上記樹脂粒子を、エチレン性不飽和基を有する単量体を重合させて得る場合には、該エチレン性不飽和基を有する単量体としては、非架橋性の単量体と架橋性の単量体とが挙げられる。   When the resin particles are obtained by polymerizing a monomer having an ethylenically unsaturated group, the monomer having the ethylenically unsaturated group may be a non-crosslinkable monomer or a crosslinkable monomer. And a polymer.

上記非架橋性の単量体としては、例えば、スチレン、α−メチルスチレン等のスチレン系単量体;(メタ)アクリル酸、マレイン酸、無水マレイン酸等のカルボキシル基含有単量体;メチル(メタ)アクリレート、エチル(メタ)アクリレート、プロピル(メタ)アクリレート、ブチル(メタ)アクリレート、2−エチルヘキシル(メタ)アクリレート、ラウリル(メタ)アクリレート、セチル(メタ)アクリレート、ステアリル(メタ)アクリレート、シクロヘキシル(メタ)アクリレート、イソボルニル(メタ)アクリレート等のアルキル(メタ)アクリレート類;2−ヒドロキシエチル(メタ)アクリレート、グリセロール(メタ)アクリレート、ポリオキシエチレン(メタ)アクリレート、グリシジル(メタ)アクリレート等の酸素原子含有(メタ)アクリレート類;(メタ)アクリロニトリル等のニトリル含有単量体;メチルビニルエーテル、エチルビニルエーテル、プロピルビニルエーテル等のビニルエーテル類;酢酸ビニル、酪酸ビニル、ラウリン酸ビニル、ステアリン酸ビニル等の酸ビニルエステル類;エチレン、プロピレン、イソプレン、ブタジエン等の不飽和炭化水素;トリフルオロメチル(メタ)アクリレート、ペンタフルオロエチル(メタ)アクリレート、塩化ビニル、フッ化ビニル、クロルスチレン等のハロゲン含有単量体等が挙げられる。   Examples of the non-crosslinkable monomer include styrene monomers such as styrene and α-methylstyrene; carboxyl group-containing monomers such as (meth) acrylic acid, maleic acid, and maleic anhydride; (Meth) acrylate, ethyl (meth) acrylate, propyl (meth) acrylate, butyl (meth) acrylate, 2-ethylhexyl (meth) acrylate, lauryl (meth) acrylate, cetyl (meth) acrylate, stearyl (meth) acrylate, cyclohexyl ( Alkyl (meth) acrylates such as meth) acrylate and isobornyl (meth) acrylate; oxygen such as 2-hydroxyethyl (meth) acrylate, glycerol (meth) acrylate, polyoxyethylene (meth) acrylate and glycidyl (meth) acrylate (Meth) acrylates; nitrile-containing monomers such as (meth) acrylonitrile; vinyl ethers such as methyl vinyl ether, ethyl vinyl ether, propyl vinyl ether; vinyl acids such as vinyl acetate, vinyl butyrate, vinyl laurate, vinyl stearate Esters; Unsaturated hydrocarbons such as ethylene, propylene, isoprene and butadiene; Halogen-containing monomers such as trifluoromethyl (meth) acrylate, pentafluoroethyl (meth) acrylate, vinyl chloride, vinyl fluoride and chlorostyrene Is mentioned.

上記架橋性の単量体としては、例えば、テトラメチロールメタンテトラ(メタ)アクリレート、テトラメチロールメタントリ(メタ)アクリレート、テトラメチロールメタンジ(メタ)アクリレート、トリメチロールプロパントリ(メタ)アクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサ(メタ)アクリレート、ジペンタエリスリトールペンタ(メタ)アクリレート、グリセロールトリ(メタ)アクリレート、グリセロールジ(メタ)アクリレート、(ポリ)エチレングリコールジ(メタ)アクリレート、(ポリ)プロピレングリコールジ(メタ)アクリレート、(ポリ)テトラメチレングリコールジ(メタ)アクリレート、1,4−ブタンジオールジ(メタ)アクリレート等の多官能(メタ)アクリレート類;トリアリル(イソ)シアヌレート、トリアリルトリメリテート、ジビニルベンゼン、ジアリルフタレート、ジアリルアクリルアミド、ジアリルエーテル、γ−(メタ)アクリロキシプロピルトリメトキシシラン、トリメトキシシリルスチレン、ビニルトリメトキシシラン等のシラン含有単量体等が挙げられる。   Examples of the crosslinkable monomer include tetramethylolmethane tetra (meth) acrylate, tetramethylolmethane tri (meth) acrylate, tetramethylolmethane di (meth) acrylate, trimethylolpropane tri (meth) acrylate, and dipenta Erythritol hexa (meth) acrylate, dipentaerythritol penta (meth) acrylate, glycerol tri (meth) acrylate, glycerol di (meth) acrylate, (poly) ethylene glycol di (meth) acrylate, (poly) propylene glycol di (meth) Polyfunctional (meth) acrylates such as acrylate, (poly) tetramethylene glycol di (meth) acrylate, 1,4-butanediol di (meth) acrylate; triallyl (iso) cyanure And silane-containing monomers such as triallyl trimellitate, divinylbenzene, diallyl phthalate, diallylacrylamide, diallyl ether, γ- (meth) acryloxypropyltrimethoxysilane, trimethoxysilylstyrene, vinyltrimethoxysilane It is done.

上記エチレン性不飽和基を有する重合性単量体を、公知の方法により重合させることで、上記樹脂粒子を得ることができる。この方法としては、例えば、ラジカル重合開始剤の存在下で懸濁重合する方法、及び非架橋の種粒子を用いてラジカル重合開始剤とともに単量体を膨潤させて重合する方法等が挙げられる。   The resin particles can be obtained by polymerizing the polymerizable monomer having an ethylenically unsaturated group by a known method. Examples of this method include a method of suspension polymerization in the presence of a radical polymerization initiator, and a method of polymerization by swelling a monomer together with a radical polymerization initiator using non-crosslinked seed particles.

上記基材粒子が金属粒子を除く無機粒子又は有機無機ハイブリッド粒子である場合には、上記基材粒子の材料である無機物としては、シリカ及びカーボンブラック等が挙げられる。上記無機物は金属ではないことが好ましい。上記シリカにより形成された粒子としては特に限定されないが、例えば、加水分解性のアルコキシシリル基を2つ以上有するケイ素化合物を加水分解して架橋重合体粒子を形成した後に、必要に応じて焼成を行うことにより得られる粒子が挙げられる。上記有機無機ハイブリッド粒子としては、例えば、架橋したアルコキシシリルポリマーとアクリル樹脂とにより形成された有機無機ハイブリッド粒子等が挙げられる。   When the substrate particles are inorganic particles or organic-inorganic hybrid particles excluding metal particles, examples of the inorganic material that is a material of the substrate particles include silica and carbon black. The inorganic substance is preferably not a metal. The particles formed from the silica are not particularly limited. For example, after forming a crosslinked polymer particle by hydrolyzing a silicon compound having two or more hydrolyzable alkoxysilyl groups, firing may be performed as necessary. The particle | grains obtained by performing are mentioned. Examples of the organic / inorganic hybrid particles include organic / inorganic hybrid particles formed of a crosslinked alkoxysilyl polymer and an acrylic resin.

上記基材粒子が金属粒子である場合に、該金属粒子を形成するための金属としては、銀、銅、ニッケル、ケイ素、金及びチタン等が挙げられる。但し、上記基材粒子は金属粒子ではないことが好ましい。   When the substrate particles are metal particles, examples of the metal for forming the metal particles include silver, copper, nickel, silicon, gold, and titanium. However, the substrate particles are preferably not metal particles.

上記導電部を形成するための金属は特に限定されない。さらに、導電性粒子が、全体が導電部である金属粒子である場合、該金属粒子を形成するための金属は特に限定されない。該金属としては、例えば、金、銀、パラジウム、銅、白金、亜鉛、鉄、錫、鉛、アルミニウム、コバルト、インジウム、ニッケル、クロム、チタン、アンチモン、ビスマス、タリウム、ゲルマニウム、カドミウム、タングステン、モリブデン、ケイ素及びこれらの合金等が挙げられる。また、上記金属としては、錫ドープ酸化インジウム(ITO)及びはんだ等が挙げられる。なかでも、電極間の接続抵抗をより一層低くすることができるので、錫を含む合金、ニッケル、パラジウム、銅又は金が好ましく、ニッケル又はパラジウムが好ましい。   The metal for forming the conductive part is not particularly limited. Furthermore, in the case where the conductive particles are metal particles that are conductive parts as a whole, the metal for forming the metal particles is not particularly limited. Examples of the metal include gold, silver, palladium, copper, platinum, zinc, iron, tin, lead, aluminum, cobalt, indium, nickel, chromium, titanium, antimony, bismuth, thallium, germanium, cadmium, tungsten, and molybdenum. , Silicon and alloys thereof. Examples of the metal include tin-doped indium oxide (ITO) and solder. Especially, since the connection resistance between electrodes can be made still lower, an alloy containing tin, nickel, palladium, copper or gold is preferable, and nickel or palladium is preferable.

上記導電部を構成する金属に錆が生じやすいほど、上記被膜による被覆効果が顕著に得られる。ニッケル、銅又は錫により形成された導電部では、導電部の外表面に錆が比較的生じやすい。このような導電部の外表面を被膜で被覆することにより、導電部の外表面に錆が生じるのを効果的に抑制できる。上記被膜による被覆効果が効果的に得られるので、上記導電部は、ニッケル、銅又は錫を含んでいてもよい。   As the metal constituting the conductive part is more likely to be rusted, the coating effect by the coating is more remarkable. In the conductive part formed of nickel, copper or tin, rust is relatively likely to occur on the outer surface of the conductive part. By covering the outer surface of such a conductive part with a film, it is possible to effectively suppress rust from being generated on the outer surface of the conductive part. Since the covering effect by the said film is acquired effectively, the said electroconductive part may contain nickel, copper, or tin.

なお、導電部の外表面には、酸化により水酸基が存在することが多い。一般的に、ニッケルにより形成された導電部の外表面には、酸化により水酸基が存在する。このような水酸基を有する導電部は被膜と化学結合する。   In many cases, hydroxyl groups are present on the outer surface of the conductive portion by oxidation. Generally, a hydroxyl group exists on the outer surface of a conductive portion formed of nickel by oxidation. The conductive part having such a hydroxyl group is chemically bonded to the film.

上記導電層は、1つの層により形成されていてもよい。導電層は、複数の層により形成されていてもよい。すなわち、導電層は、2層以上の積層構造を有していてもよい。導電層が複数の層により形成されている場合には、最外層は、金層、ニッケル層、パラジウム層、銅層又は錫と銀とを含む合金層であることが好ましく、金層であることがより好ましい。最外層がこれらの好ましい導電層である場合には、電極間の接続抵抗がより一層低くなる。また、最外層が金層である場合には、耐腐食性がより一層高くなる。   The conductive layer may be formed of a single layer. The conductive layer may be formed of a plurality of layers. That is, the conductive layer may have a stacked structure of two or more layers. When the conductive layer is formed of a plurality of layers, the outermost layer is preferably a gold layer, a nickel layer, a palladium layer, a copper layer, or an alloy layer containing tin and silver, and is a gold layer. Is more preferable. When the outermost layer is these preferred conductive layers, the connection resistance between the electrodes is further reduced. Moreover, when the outermost layer is a gold layer, the corrosion resistance is further enhanced.

粒子の表面上に導電部を形成する方法は特に限定されない。導電部を形成する方法としては、例えば、無電解めっきによる方法、電気めっきによる方法、物理的蒸着による方法、並びに金属粉末もしくは金属粉末とバインダーとを含むペーストを粒子の表面にコーティングする方法等が挙げられる。なかでも、導電部の形成が簡便であるので、無電解めっきによる方法が好ましい。上記物理的蒸着による方法としては、真空蒸着、イオンプレーティング及びイオンスパッタリング等の方法が挙げられる。   The method for forming the conductive portion on the surface of the particle is not particularly limited. Examples of the method for forming the conductive part include a method by electroless plating, a method by electroplating, a method by physical vapor deposition, and a method of coating the surface of particles with metal powder or a paste containing metal powder and a binder. Can be mentioned. Especially, since formation of an electroconductive part is simple, the method by electroless plating is preferable. Examples of the method by physical vapor deposition include methods such as vacuum vapor deposition, ion plating, and ion sputtering.

上記導電性粒子の平均粒子径は、好ましくは0.5μm以上、より好ましくは1μm以上であり、好ましくは100μm以下、より好ましくは20μm以下、更に好ましくは5μm以下である。導電性粒子の平均粒子径が上記下限以上及び上記上限以下であると、絶縁性粒子付き導電性粒子を用いて電極間を接続した場合に、導電性粒子と電極との接触面積が充分に大きくなり、かつ導電層を形成する際に凝集した導電性粒子が形成されにくくなる。また、導電性粒子を介して接続された電極間の間隔が大きくなりすぎず、かつ導電層が基材粒子の表面から剥離し難くなる。   The average particle diameter of the conductive particles is preferably 0.5 μm or more, more preferably 1 μm or more, preferably 100 μm or less, more preferably 20 μm or less, and even more preferably 5 μm or less. When the average particle diameter of the conductive particles is not less than the above lower limit and not more than the above upper limit, the contact area between the conductive particles and the electrodes is sufficiently large when the electrodes are connected using the conductive particles with insulating particles. And it becomes difficult to form aggregated conductive particles when the conductive layer is formed. Further, the distance between the electrodes connected via the conductive particles does not become too large, and the conductive layer is difficult to peel from the surface of the base material particles.

上記導電性粒子の「平均粒子径」は、数平均粒子径を示す。導電性粒子の平均粒子径は、任意の導電性粒子50個を電子顕微鏡又は光学顕微鏡にて観察し、平均値を算出することにより求められる。   The “average particle size” of the conductive particles indicates a number average particle size. The average particle diameter of the conductive particles can be obtained by observing 50 arbitrary conductive particles with an electron microscope or an optical microscope and calculating an average value.

導電部の厚みは、好ましくは5nm以上、より好ましくは10nm以上、更に好ましくは20nm以上、特に好ましくは50nm以上であり、好ましくは1000nm以下、より好ましくは800nm以下、更に好ましくは500nm以下、特に好ましくは400nm以下、最も好ましくは300nm以下である。導電部の厚みは、導電部が多層(上記第1,第2の導電部など)である場合には、多層の導電部(第1,第2の導電部)の合計の厚みである。導電部全体の厚みが上記下限以上であると、導電性粒子の導電性がより一層良好になる。導電部全体の厚みが上記上限以下であると、基材粒子と導電部との熱膨張率の差が小さくなり、基材粒子から金属層が剥離し難くなる。   The thickness of the conductive part is preferably 5 nm or more, more preferably 10 nm or more, further preferably 20 nm or more, particularly preferably 50 nm or more, preferably 1000 nm or less, more preferably 800 nm or less, still more preferably 500 nm or less, particularly preferably. Is 400 nm or less, most preferably 300 nm or less. The thickness of the conductive portion is the total thickness of the multilayer conductive portions (first and second conductive portions) when the conductive portion is a multilayer (such as the first and second conductive portions). When the thickness of the entire conductive portion is not less than the above lower limit, the conductivity of the conductive particles is further improved. When the thickness of the entire conductive part is less than or equal to the above upper limit, the difference in thermal expansion coefficient between the base particle and the conductive part is small, and the metal layer is difficult to peel from the base particle.

上記導電部が多層である場合に、最外層の導電部の厚みは、好ましくは1nm以上、より好ましくは10nm以上であり、好ましくは500nm以下、より好ましくは100nm以下である。上記最外層の導電部の厚みが上記下限以上及び上記上限以下であると、最外層の導電部による被覆を均一にでき、耐腐食性が充分に高くなり、かつ電極間の接続抵抗が充分に低くなる。また、上記最外層が内層の導電部よりも高価である場合に、最外層の厚みが薄いほど、コストが低くなる。   When the conductive part is a multilayer, the thickness of the conductive part of the outermost layer is preferably 1 nm or more, more preferably 10 nm or more, preferably 500 nm or less, more preferably 100 nm or less. When the thickness of the conductive portion of the outermost layer is not less than the above lower limit and not more than the above upper limit, the coating with the conductive portion of the outermost layer can be made uniform, the corrosion resistance is sufficiently high, and the connection resistance between the electrodes is sufficiently high Lower. In addition, when the outermost layer is more expensive than the inner-layer conductive portion, the thinner the outermost layer, the lower the cost.

上記導電部の厚みは、例えば透過型電子顕微鏡(TEM)を用いて、導電性粒子又は絶縁性粒子付き導電性粒子の断面を観察することにより測定できる。   The thickness of the said electroconductive part can be measured by observing the cross section of electroconductive particle or electroconductive particle with an insulating particle using a transmission electron microscope (TEM), for example.

導電性粒子は、導電部の外表面に複数の突起を有する。該突起は複数である。絶縁性粒子付き導電性粒子により接続される電極の表面には、酸化被膜が形成されていることが多い。導電部の外表面に突起を有する絶縁性粒子付き導電性粒子を用いた場合には、電極間に導電性粒子を配置して圧着させることにより、突起により上記酸化被膜を効果的に排除できる。このため、電極と導電部とがより一層確実に接触し、電極間の接続抵抗が低くなる。さらに、電極間の接続時に、導電性粒子の突起によって、導電性粒子と電極との間の絶縁性粒子を効果的に排除できる。このため、電極間の導通信頼性が高くなる。   The conductive particles have a plurality of protrusions on the outer surface of the conductive part. There are a plurality of protrusions. An oxide film is often formed on the surface of the electrode connected by the conductive particles with insulating particles. When the conductive particles with insulating particles having protrusions on the outer surface of the conductive part are used, the oxide film can be effectively eliminated by the protrusions by placing the conductive particles between the electrodes and pressing them. For this reason, an electrode and an electroconductive part contact more reliably and the connection resistance between electrodes becomes low. Furthermore, when the electrodes are connected, the insulating particles between the conductive particles and the electrodes can be effectively eliminated by the protrusions of the conductive particles. For this reason, the conduction | electrical_connection reliability between electrodes becomes high.

上記芯物質が上記導電部内に埋め込まれていることによって、上記導電部が外表面に複数の突起を有するようにすることが容易である。   Since the core substance is embedded in the conductive portion, it is easy for the conductive portion to have a plurality of protrusions on the outer surface.

上記突起を形成する方法としては、基材粒子の表面に芯物質を付着させた後、無電解めっきにより導電部を形成する方法、並びに基材粒子の表面に無電解めっきにより導電部を形成した後、芯物質を付着させ、更に無電解めっきにより導電部を形成する方法等が挙げられる。上記突起を形成する他の方法としては、基材粒子の表面上に、第1の導電部を形成した後、該第1の導電部上に芯物質を配置し、次に第2の導電部を形成する方法、並びに基材粒子の表面上に導電部を形成する途中段階で、芯物質を添加する方法等が挙げられる。   As a method for forming the protrusions, after a core substance is attached to the surface of the base particle, a conductive part is formed by electroless plating, and a conductive part is formed by electroless plating on the surface of the base particle. Thereafter, a method of attaching a core substance and further forming a conductive portion by electroless plating can be used. As another method for forming the protrusion, a first conductive part is formed on the surface of the base particle, and then a core substance is disposed on the first conductive part, and then the second conductive part. And a method of adding a core substance in the middle of forming a conductive part on the surface of the base particle.

上記基材粒子の表面上に芯物質を配置する方法としては、例えば、基材粒子の分散液中に、芯物質を添加し、基材粒子の表面に芯物質を、例えば、ファンデルワールス力により集積させ、付着させる方法、基材粒子を入れた容器に、芯物質を添加し、容器の回転等による機械的な作用により基材粒子の表面に芯物質を付着させる方法、並びに芯物質を添加せず、めっき浴中でニッケル粉を発生させ、基材粒子の表面にニッケル粉をファンデルワールス力等により集積させ、付着させる方法等が挙げられる。なかでも、付着させる芯物質の量を制御しやすいため、分散液中の基材粒子の表面に芯物質を集積させ、付着させる方法が好ましい。   As a method of arranging the core substance on the surface of the base particle, for example, the core substance is added to the dispersion of the base particle, and the core substance is applied to the surface of the base particle, for example, van der Waals force. And a method for adding a core substance to a container containing base particles and attaching the core substance to the surface of the base particles by a mechanical action such as rotation of the container, and a core substance. Examples thereof include a method in which nickel powder is generated in a plating bath without being added, and the nickel powder is accumulated and adhered to the surface of the substrate particles by van der Waals force. Especially, since the quantity of the core substance to adhere is easy to control, the method of making a core substance accumulate and adhere on the surface of the base particle in a dispersion liquid is preferable.

上記導電性粒子は、基材粒子の表面上に第1の導電部を有し、かつ該第1の導電部上に第2の導電部を有していてもよい。この場合に、第1の導電部の外表面に芯物質を付着させてもよい。芯物質は第2の導電部により被覆されていることが好ましい。上記第1の導電部の厚みは、好ましくは0.05μm以上であり、好ましくは0.5μm以下である。導電性粒子は、基材粒子の表面上に第1の導電部を形成し、次に該第1の導電部の外表面上に芯物質を付着させた後、第1の導電部及び芯物質の表面上に第2の導電部を形成することにより得られていることが好ましい。   The conductive particles may have a first conductive portion on the surface of the base particle, and may have a second conductive portion on the first conductive portion. In this case, a core substance may be attached to the outer surface of the first conductive part. The core substance is preferably covered with the second conductive portion. The thickness of the first conductive part is preferably 0.05 μm or more, and preferably 0.5 μm or less. The conductive particles form a first conductive part on the surface of the base particle, and then attach a core substance on the outer surface of the first conductive part, and then the first conductive part and the core substance It is preferable to be obtained by forming the second conductive portion on the surface of the substrate.

上記芯物質の材料としては、導電性物質及び非導電性物質が挙げられる。上記導電性物質としては、例えば、金属、金属の酸化物、黒鉛等の導電性非金属及び導電性ポリマー等が挙げられる。上記導電性ポリマーとしては、ポリアセチレン等が挙げられる。上記非導電性物質としては、シリカ、アルミナ及びジルコニア等が挙げられる。なかでも、導電性を高めることができるので、金属が好ましい。上記芯物質は金属粒子であることが好ましい。   Examples of the material of the core substance include a conductive substance and a non-conductive substance. Examples of the conductive material include conductive non-metals such as metals, metal oxides, and graphite, and conductive polymers. Examples of the conductive polymer include polyacetylene. Examples of the nonconductive material include silica, alumina, and zirconia. Among them, metal is preferable because conductivity can be increased. The core substance is preferably metal particles.

上記金属としては、例えば、金、銀、銅、白金、亜鉛、鉄、鉛、錫、アルミニウム、コバルト、インジウム、ニッケル、クロム、チタン、アンチモン、ビスマス、ゲルマニウム及びカドミウム等の金属、並びに錫−鉛合金、錫−銅合金、錫−銀合金、錫−鉛−銀合金及び炭化タングステン等の2種類以上の金属で構成される合金等が挙げられる。なかでも、ニッケル、銅、銀又は金が好ましい。上記芯物質を構成する金属は、上記導電部(導電層)を構成する金属と同じであってもよく、異なっていてもよい。   Examples of the metal include gold, silver, copper, platinum, zinc, iron, lead, tin, aluminum, cobalt, indium, nickel, chromium, titanium, antimony, bismuth, germanium and cadmium, and tin-lead. Examples include alloys composed of two or more metals such as alloys, tin-copper alloys, tin-silver alloys, tin-lead-silver alloys, and tungsten carbide. Of these, nickel, copper, silver or gold is preferable. The metal constituting the core substance may be the same as or different from the metal constituting the conductive part (conductive layer).

上記芯物質の形状は特に限定されない。芯物質の形状は塊状であることが好ましい。芯物質としては、例えば、粒子状の塊、複数の微小粒子が凝集した凝集塊、及び不定形の塊等が挙げられる。   The shape of the core material is not particularly limited. The shape of the core substance is preferably a lump. Examples of the core substance include a particulate lump, an agglomerate in which a plurality of fine particles are aggregated, and an irregular lump.

複数の上記突起の平均高さは、好ましくは0.05μm以上、より好ましくは0.10μm以上であり、好ましくは0.5μm以下、より好ましくは0.3μm以下である。上記突起の平均高さが上記下限以上及び上記上限以下であると、電極間の接続抵抗が効果的に低くなる。   The average height of the plurality of protrusions is preferably 0.05 μm or more, more preferably 0.10 μm or more, preferably 0.5 μm or less, more preferably 0.3 μm or less. When the average height of the protrusions is not less than the above lower limit and not more than the above upper limit, the connection resistance between the electrodes is effectively reduced.

上記芯物質の平均径(平均粒子径)は、好ましくは0.001μm以上、より好ましくは0.05μm以上であり、好ましくは0.9μm以下、より好ましくは0.2μm以下である。上記芯物質の平均径が上記下限以上及び上限以下であると、電極間の接続抵抗が効果的に低くなる。   The average diameter (average particle diameter) of the core substance is preferably 0.001 μm or more, more preferably 0.05 μm or more, preferably 0.9 μm or less, more preferably 0.2 μm or less. When the average diameter of the core substance is not less than the above lower limit and not more than the upper limit, the connection resistance between the electrodes is effectively reduced.

上記芯物質の「平均径(平均粒子径)」は、数平均径(数平均粒子径)を示す。芯物質の平均径を細孔電気抵抗法コールターカウンター マルチサイザー4(ベックマンコールター社製)によって測定し、数平均粒子径を算出することにより求められる。   The “average diameter (average particle diameter)” of the core substance indicates a number average diameter (number average particle diameter). The average diameter of the core substance is determined by measuring the number average particle diameter by measuring with a pore electrical resistance method Coulter counter Multisizer 4 (manufactured by Beckman Coulter).

上記絶縁性粒子は、絶縁性を有する粒子である。絶縁性粒子は導電性粒子よりも小さい。絶縁性粒子付き導電性粒子を用いて電極間を接続すると、絶縁性粒子により、隣接する電極間の短絡を防止できる。具体的には、複数の絶縁性粒子付き導電性粒子が接触したときに、複数の絶縁性粒子付き導電性粒子における導電性粒子間には絶縁性粒子が存在するので、上下の電極間ではなく、横方向に隣り合う電極間の短絡を防止できる。なお、電極間の接続の際に、2つの電極で絶縁性粒子付き導電性粒子を加圧することにより、導電部と電極との間の絶縁性粒子を容易に排除できる。導電性粒子の表面に突起が設けられているので、導電部と電極との間の絶縁性粒子をより一層容易に排除できる。   The insulating particles are particles having insulating properties. Insulating particles are smaller than conductive particles. When the electrodes are connected using conductive particles with insulating particles, the insulating particles can prevent a short circuit between adjacent electrodes. Specifically, when the conductive particles with a plurality of insulating particles are in contact with each other, there are insulating particles between the conductive particles in the conductive particles with a plurality of insulating particles. Short circuit between the electrodes adjacent in the lateral direction can be prevented. In addition, the insulating particle between an electroconductive part and an electrode can be easily excluded by pressurizing the electroconductive particle with an insulating particle with two electrodes in the case of the connection between electrodes. Since the protrusion is provided on the surface of the conductive particle, the insulating particle between the conductive portion and the electrode can be more easily eliminated.

上記絶縁性粒子を構成する材料としては、絶縁性の樹脂、及び絶縁性の無機物等が挙げられる。上記絶縁性の樹脂としては、基材粒子として用いることが可能な樹脂粒子を形成するための樹脂として挙げた上記樹脂が挙げられる。上記絶縁性の無機物としては、基材粒子として用いることが可能な無機粒子を形成するための無機物として挙げた上記無機物が挙げられる。   Examples of the material constituting the insulating particles include an insulating resin and an insulating inorganic substance. As said insulating resin, the said resin quoted as resin for forming the resin particle which can be used as a base particle is mentioned. As said insulating inorganic substance, the said inorganic substance quoted as an inorganic substance for forming the inorganic particle which can be used as a base particle is mentioned.

上記絶縁性粒子の材料である絶縁性樹脂の具体例としては、ポリオレフィン類、(メタ)アクリレート重合体、(メタ)アクリレート共重合体、ブロックポリマー、熱可塑性樹脂、熱可塑性樹脂の架橋物、熱硬化性樹脂及び水溶性樹脂等が挙げられる。   Specific examples of the insulating resin that is the material of the insulating particles include polyolefins, (meth) acrylate polymers, (meth) acrylate copolymers, block polymers, thermoplastic resins, crosslinked thermoplastic resins, heat Examples thereof include curable resins and water-soluble resins.

上記ポリオレフィン類としては、ポリエチレン、エチレン−酢酸ビニル共重合体及びエチレン−アクリル酸エステル共重合体等が挙げられる。上記(メタ)アクリレート重合体としては、ポリメチル(メタ)アクリレート、ポリエチル(メタ)アクリレート及びポリブチル(メタ)アクリレート等が挙げられる。上記ブロックポリマーとしては、ポリスチレン、スチレン−アクリル酸エステル共重合体、SB型スチレン−ブタジエンブロック共重合体、及びSBS型スチレン−ブタジエンブロック共重合体、並びにこれらの水素添加物等が挙げられる。上記熱可塑性樹脂としては、ビニル重合体及びビニル共重合体等が挙げられる。上記熱硬化性樹脂としては、エポキシ樹脂、フェノール樹脂及びメラミン樹脂等が挙げられる。上記水溶性樹脂としては、ポリビニルアルコール、ポリアクリル酸、ポリアクリルアミド、ポリビニルピロリドン、ポリエチレンオキシド及びメチルセルロース等が挙げられる。なかでも、水溶性樹脂が好ましく、ポリビニルアルコールがより好ましい。   Examples of the polyolefins include polyethylene, ethylene-vinyl acetate copolymer, and ethylene-acrylic acid ester copolymer. Examples of the (meth) acrylate polymer include polymethyl (meth) acrylate, polyethyl (meth) acrylate, and polybutyl (meth) acrylate. Examples of the block polymer include polystyrene, styrene-acrylic acid ester copolymer, SB type styrene-butadiene block copolymer, SBS type styrene-butadiene block copolymer, and hydrogenated products thereof. Examples of the thermoplastic resin include vinyl polymers and vinyl copolymers. As said thermosetting resin, an epoxy resin, a phenol resin, a melamine resin, etc. are mentioned. Examples of the water-soluble resin include polyvinyl alcohol, polyacrylic acid, polyacrylamide, polyvinyl pyrrolidone, polyethylene oxide, and methyl cellulose. Of these, water-soluble resins are preferable, and polyvinyl alcohol is more preferable.

熱圧着時の絶縁性粒子の脱離性をより一層高める観点からは、上記絶縁性粒子は、無機粒子を含むか、又は上記絶縁性粒子の外表面は、上記被膜のガラス転移温度よりも高いガラス転移温度を有することが好ましく、上記無機粒子は、シリカ粒子であることが好ましい。上記絶縁性粒子は、無機粒子を含むことが好ましい。上記絶縁性粒子の外表面は、上記被膜のガラス転移温度よりも高いガラス転移温度を有することが好ましい。絶縁性粒子が表面に上記高分子化合物により形成されている層を有さない場合には、上記絶縁性粒子は、無機粒子であるか、又は上記絶縁性粒子は、上記被膜のガラス転移温度よりも高いガラス転移温度を有することが好ましい。絶縁性粒子本体の表面が上記高分子化合物により形成された層により覆われた絶縁性粒子を用いる場合には、絶縁性粒子本体は、無機粒子であることが好ましい。   From the viewpoint of further increasing the detachability of the insulating particles during thermocompression bonding, the insulating particles include inorganic particles, or the outer surface of the insulating particles is higher than the glass transition temperature of the coating film. It preferably has a glass transition temperature, and the inorganic particles are preferably silica particles. The insulating particles preferably include inorganic particles. The outer surface of the insulating particles preferably has a glass transition temperature higher than the glass transition temperature of the coating film. When the insulating particles do not have a layer formed of the polymer compound on the surface, the insulating particles are inorganic particles, or the insulating particles are from the glass transition temperature of the coating film. Preferably have a high glass transition temperature. When insulating particles whose surface is covered with a layer formed of the above polymer compound are used, the insulating particle body is preferably inorganic particles.

導通信頼性及び絶縁信頼性をより一層高める観点からは、上記絶縁性粒子の外表面のガラス転移温度と上記絶縁層のガラス転移温度との差の絶対値は好ましくは0℃を超え、より好ましくは10℃以上、更に好ましくは30℃以上であり、好ましくは100℃以下、より好ましくは50℃以下である。   From the viewpoint of further improving the conduction reliability and the insulation reliability, the absolute value of the difference between the glass transition temperature of the outer surface of the insulating particles and the glass transition temperature of the insulating layer is preferably more than 0 ° C., more preferably Is 10 ° C. or higher, more preferably 30 ° C. or higher, preferably 100 ° C. or lower, more preferably 50 ° C. or lower.

上記無機粒子としては、シラス粒子、ハイドロキシアパタイト粒子、マグネシア粒子、酸化ジルコニウム粒子及びシリカ粒子等が挙げられる。シリカ粒子としては、粉砕シリカ、球状シリカが挙げられ、球状シリカを用いることが好ましい。また、シリカ粒子は表面に、例えばカルボキシル基、水酸基等の化学結合可能な官能基を有することが好ましく、水酸基を有することがより好ましい。無機粒子は比較的硬く、特にシリカ粒子は比較的硬い。このような硬い絶縁性粒子を有する絶縁性粒子付き導電性粒子本体を用いた場合には、絶縁性粒子付き導電性粒子本体とバインダー樹脂とを混練する際に、導電性粒子の表面から、硬い絶縁性粒子が脱離しやすい。しかしながら、本発明に係る絶縁性粒子付き導電性粒子を用いた場合には、硬い絶縁性粒子を用いたとしても、上記混練の際に、被膜により硬い絶縁性粒子が脱離するのを抑制できる。上記高分子化合物により形成されている層は、例えば柔軟層としての役割を果たす。   Examples of the inorganic particles include shirasu particles, hydroxyapatite particles, magnesia particles, zirconium oxide particles, and silica particles. Examples of the silica particles include pulverized silica and spherical silica, and spherical silica is preferably used. The silica particles preferably have a functional group capable of chemical bonding such as a carboxyl group and a hydroxyl group on the surface, and more preferably have a hydroxyl group. Inorganic particles are relatively hard, especially silica particles are relatively hard. When the conductive particle body with insulating particles having such hard insulating particles is used, when the conductive particle body with insulating particles and the binder resin are kneaded, the surface of the conductive particles is hard. Insulating particles are easily detached. However, when the conductive particles with insulating particles according to the present invention are used, even when the hard insulating particles are used, the hard insulating particles can be prevented from being detached by the coating during the kneading. . The layer formed of the polymer compound serves as a flexible layer, for example.

上記高分子化合物により形成されている層における高分子化合物又は重合等により該高分子化合物となる化合物としては、重合可能な反応性官能基を有する化合物であることが好ましい。該重合可能な反応性官能基は、不飽和二重結合であることが好ましい。例えば、絶縁性粒子本体の表面上で不飽和二重結合を有する化合物(高分子化合物となる化合物)を重合反応させてもよく、また高分子化合物と絶縁性粒子本体の表面の反応性官能基とを反応させてもよい。上記高分子化合物又は該高分子化合物となる化合物としては、(メタ)アクリロイル基を有する化合物、エポキシ基を有する化合物及びビニル基を有する化合物等が挙げられる。絶縁性粒子付き導電性粒子を分散する際などに、導電性粒子の表面から絶縁性粒子の脱離を抑制する観点からは、上記高分子化合物又は該高分子化合物となる化合物は、(メタ)アクリロイル基、グリシジル基及びビニル基からなる群から選択された少なくとも1種の反応性官能基を有することが好ましい。なかでも、絶縁性粒子の脱離をより一層抑制する観点からは、上記高分子化合物又は該高分子化合物となる化合物は、(メタ)アクリロイル基を有することが好ましい。   The polymer compound in the layer formed of the polymer compound or the compound that becomes the polymer compound by polymerization or the like is preferably a compound having a polymerizable reactive functional group. The polymerizable reactive functional group is preferably an unsaturated double bond. For example, a compound having an unsaturated double bond (a compound that becomes a polymer compound) may be subjected to a polymerization reaction on the surface of the insulating particle main body, and the reactive functional group on the surface of the polymer compound and the insulating particle main body. And may be reacted. Examples of the polymer compound or the compound to be the polymer compound include a compound having a (meth) acryloyl group, a compound having an epoxy group, and a compound having a vinyl group. From the viewpoint of suppressing detachment of the insulating particles from the surface of the conductive particles when dispersing the conductive particles with insulating particles, the polymer compound or the compound to be the polymer compound is (meth) It preferably has at least one reactive functional group selected from the group consisting of an acryloyl group, a glycidyl group and a vinyl group. Among these, from the viewpoint of further suppressing the detachment of the insulating particles, the polymer compound or the compound to be the polymer compound preferably has a (meth) acryloyl group.

上記(メタ)アクリロイル基を有する化合物の具体例としては、メタクリル酸、ヒドロキシエチルアクリレート及びジメタクリル酸エチレングリコール等が挙げられる。   Specific examples of the compound having the (meth) acryloyl group include methacrylic acid, hydroxyethyl acrylate, and ethylene glycol dimethacrylate.

上記エポキシ化合物の具体例としては、ビスフェノールA型エポキシ樹脂及びレゾルシノールグリシジルエーテル等が挙げられる。   Specific examples of the epoxy compound include bisphenol A type epoxy resin and resorcinol glycidyl ether.

上記ビニル基を有する化合物の具体例としては、スチレン及び酢酸ビニル等が挙げられる。   Specific examples of the compound having a vinyl group include styrene and vinyl acetate.

上記高分子化合物の重量平均分子量は、1000以上であることが好ましい。上記高分子化合物の重量平均分子量の上限は特に限定されないが、上記高分子化合物の重量平均分子量は20000以下であることが好ましい。該重量平均分子量はゲルパーミエーションクロマトグラフィー(GPC)により測定されたポリスチレン換算での値を示す。   The polymer compound preferably has a weight average molecular weight of 1000 or more. The upper limit of the weight average molecular weight of the polymer compound is not particularly limited, but the polymer compound preferably has a weight average molecular weight of 20000 or less. The weight average molecular weight indicates a value in terms of polystyrene measured by gel permeation chromatography (GPC).

絶縁性粒子の表面に上記高分子化合物により形成されている層を形成する方法は特に限定されない。絶縁性粒子本体の表面の少なくとも一部の領域を覆うように、高分子化合物又は高分子化合物となる化合物を用いて、高分子化合物により形成された層を形成し、絶縁性粒子を得ることが好ましい。上記高分子化合物により形成されている層の形成方法の一例としては、ビニル基などの反応性官能基を表面に有する絶縁性粒子本体に反応性二重結合と水酸基とを有する化合物を絶縁性粒子本体の表面上で重合させる方法等が挙げられる。ただし、この形成方法以外の方法を用いてもよい。   The method for forming the layer formed of the polymer compound on the surface of the insulating particles is not particularly limited. Using a polymer compound or a compound that becomes a polymer compound so as to cover at least a part of the surface of the insulating particle main body, a layer formed of the polymer compound is formed to obtain insulating particles. preferable. As an example of a method for forming a layer formed of the above polymer compound, a compound having a reactive double bond and a hydroxyl group on an insulating particle body having a reactive functional group such as a vinyl group on the surface is used as the insulating particle. Examples thereof include a method of polymerizing on the surface of the main body. However, methods other than this forming method may be used.

上記絶縁性粒子本体と上記層とは化学的に結合していることが好ましい。この化学的結合には、共有結合、水素結合、イオン結合及び配位結合等が含まれる。なかでも、共有結合が好ましく、反応性官能基を用いた化学的結合が好ましい。   The insulating particle body and the layer are preferably chemically bonded. This chemical bond includes a covalent bond, a hydrogen bond, an ionic bond, a coordination bond, and the like. Of these, a covalent bond is preferable, and a chemical bond using a reactive functional group is preferable.

上記化学的結合を形成する反応性官能基としては、例えば、ビニル基、(メタ)アクリロイル基、シラン基、シラノール基、カルボキシル基、アミノ基、アンモニウム基、ニトロ基、水酸基、カルボニル基、チオール基、スルホン酸基、スルホニウム基、ホウ酸基、オキサゾリン基、ピロリドン基、リン酸基及びニトリル基等が挙げられる。なかでも、ビニル基、(メタ)アクリロイル基が好ましい。   Examples of the reactive functional group that forms the chemical bond include a vinyl group, (meth) acryloyl group, silane group, silanol group, carboxyl group, amino group, ammonium group, nitro group, hydroxyl group, carbonyl group, and thiol group. Sulfonic acid group, sulfonium group, boric acid group, oxazoline group, pyrrolidone group, phosphoric acid group and nitrile group. Of these, a vinyl group and a (meth) acryloyl group are preferable.

絶縁性粒子の脱離をより一層抑制し、接続構造体における絶縁信頼性をより一層高める観点からは、上記絶縁性粒子本体として、反応性官能基を表面に有する絶縁性粒子本体を用いることが好ましい。絶縁性粒子の脱離をより一層抑制し、接続構造体における絶縁信頼性をより一層高める観点からは、上記絶縁性粒子本体として、反応性官能基を有する化合物を用いて表面処理された絶縁性粒子本体を用いることが好ましい。絶縁性粒子の脱離をより一層抑制し、接続構造体における絶縁信頼性をより一層高める観点からは、反応性官能基を表面に有する上記絶縁性粒子本体と、高分子化合物又は該高分子化合物となる化合物とを用いて、上記絶縁性粒子本体の表面の反応性官能基に、上記高分子化合物により形成された層を化学的に結合させることにより、上記絶縁性粒子本体と上記層とが化学的に結合している上記絶縁性粒子が得られていることが好ましい。   From the viewpoint of further suppressing the detachment of the insulating particles and further improving the insulation reliability in the connection structure, it is possible to use an insulating particle body having a reactive functional group on the surface as the insulating particle body. preferable. From the viewpoint of further suppressing the detachment of the insulating particles and further improving the insulation reliability in the connection structure, the insulating particles subjected to surface treatment using a compound having a reactive functional group as the insulating particle main body. It is preferable to use a particle body. From the viewpoint of further suppressing the detachment of the insulating particles and further improving the insulation reliability in the connection structure, the insulating particle main body having a reactive functional group on the surface, the polymer compound, or the polymer compound And the layer formed of the polymer compound is chemically bonded to the reactive functional group on the surface of the insulating particle body using the compound to form the insulating particle body and the layer. It is preferable that the insulating particles that are chemically bonded are obtained.

上記絶縁性粒子本体が表面に有する上記反応性官能基としては、(メタ)アクリロイル基、グリシジル基、水酸基、ビニル基及びアミノ基等が挙げられる。上記絶縁性粒子本体が表面に有する上記反応性官能基は、(メタ)アクリロイル基、グリシジル基、水酸基、ビニル基及びアミノ基からなる群から選択された少なくとも1種の反応性官能基であることが好ましい。   Examples of the reactive functional group on the surface of the insulating particle body include a (meth) acryloyl group, a glycidyl group, a hydroxyl group, a vinyl group, and an amino group. The reactive functional group on the surface of the insulating particle body is at least one reactive functional group selected from the group consisting of a (meth) acryloyl group, a glycidyl group, a hydroxyl group, a vinyl group, and an amino group. Is preferred.

上記絶縁性粒子本体の表面に上記反応性官能基を導入するための化合物(表面処理物質)としては、(メタ)アクリロイル基を有する化合物、エポキシ基を有する化合物及びビニル基を有する化合物等が挙げられる。   Examples of the compound (surface treatment substance) for introducing the reactive functional group onto the surface of the insulating particle body include a compound having a (meth) acryloyl group, a compound having an epoxy group, and a compound having a vinyl group. It is done.

上記絶縁性粒子本体の表面に上記反応性官能基であるビニル基を導入するための化合物(表面処理物質)としては、ビニル基を有するシラン化合物、及びビニル基を有するチタン化合物、及びビニル基を有するリン酸化合物等が挙げられる。上記表面処理物質は、ビニル基を有するシラン化合物であることが好ましい。上記ビニル基を有するシラン化合物としては、ビニルトリメトキシシラン、ビニルトリエトキシシラン、ビニルトリアセトキシシラン及びビニルトリイソプロポキシシラン等が挙げられる。   As a compound (surface treatment substance) for introducing a vinyl group as the reactive functional group onto the surface of the insulating particle body, a silane compound having a vinyl group, a titanium compound having a vinyl group, and a vinyl group are used. The phosphoric acid compound etc. which have are mentioned. The surface treatment substance is preferably a silane compound having a vinyl group. Examples of the silane compound having a vinyl group include vinyltrimethoxysilane, vinyltriethoxysilane, vinyltriacetoxysilane, and vinyltriisopropoxysilane.

上記絶縁性粒子本体の表面に上記反応性官能基である(メタ)アクリロイル基を導入するための化合物(表面処理物質)としては、(メタ)アクリロイル基を有するシラン化合物、及び(メタ)アクリロイル基を有するチタン化合物、及び(メタ)アクリロイル基を有するリン酸化合物等が挙げられる。上記表面処理物質は、(メタ)アクリロイル基を有するシラン化合物であることも好ましい。上記(メタ)アクリロイル基を有するシラン化合物としては、(メタ)アクリロキシプロピルトリエトキシシラン、(メタ)アクリロキシプロピルトリメトキシシラン及び(メタ)アクリロキシプロピルトリジメトキシシラン等が挙げられる。   As a compound (surface treatment substance) for introducing the (meth) acryloyl group which is the reactive functional group onto the surface of the insulating particle main body, a silane compound having a (meth) acryloyl group and a (meth) acryloyl group And a phosphoric acid compound having a (meth) acryloyl group. The surface treatment substance is also preferably a silane compound having a (meth) acryloyl group. Examples of the silane compound having a (meth) acryloyl group include (meth) acryloxypropyltriethoxysilane, (meth) acryloxypropyltrimethoxysilane, (meth) acryloxypropyltridimethoxysilane, and the like.

導電部を少なくとも表面に有する導電性粒子の表面上に、複数の絶縁性粒子を配置することで、上記絶縁性粒子付き導電性粒子本体を得ることができる。上記絶縁性粒子は、上記絶縁性粒子本体と高分子化合物又は該高分子化合物となる化合物とを用いた混合による摩擦で形成されていないことが好ましい。また、上記絶縁性粒子本体の表面が上記層によりハイブリダイゼーション法を用いて被覆されていないことが好ましい。混合による摩擦やハイブリダイゼーション法を用いて絶縁性粒子が形成されている場合には、絶縁性粒子本体の表面上から層が脱離しやすくなる。また、絶縁性粒子の表面に、混練時に形成された層の破片が付着しやすくなる。このため、絶縁性粒子付き導電性粒子の導電部の外表面上で脱離した層や層の破片が付着し、接続構造体における導通信頼性が低下しやすい傾向がある。また、混合による摩擦やハイブリダイゼーション法を用いて絶縁性粒子が形成されている場合には、炭素数6〜22のアルキル基を有する化合物及び反応性モノマーによって形成される被膜の形成が阻害されることがある。従って、絶縁性粒子の脱離をより一層抑制し、接続構造体における絶縁信頼性及び導通信頼性をより一層高める観点からは、混合による摩擦で絶縁性粒子は形成されていないことが好ましく、ハイブリダイゼーション法を用いないことが好ましい。   The conductive particle body with insulating particles can be obtained by arranging a plurality of insulating particles on the surface of the conductive particles having at least the conductive portion on the surface. It is preferable that the insulating particles are not formed by friction by mixing using the insulating particle main body and the polymer compound or the compound to be the polymer compound. Moreover, it is preferable that the surface of the insulating particle body is not covered with the layer using a hybridization method. When insulating particles are formed using friction by mixing or a hybridization method, the layer is easily detached from the surface of the insulating particle body. In addition, the fragments of the layer formed during kneading easily adhere to the surface of the insulating particles. For this reason, the layer and the fragments of the layer detached on the outer surface of the conductive part of the conductive particles with insulating particles tend to adhere, and the conduction reliability in the connection structure tends to decrease. In addition, when insulating particles are formed using friction by mixing or a hybridization method, formation of a film formed of a compound having an alkyl group having 6 to 22 carbon atoms and a reactive monomer is inhibited. Sometimes. Therefore, from the viewpoint of further suppressing the detachment of the insulating particles and further increasing the insulation reliability and conduction reliability in the connection structure, it is preferable that the insulating particles are not formed by friction due to mixing. It is preferable not to use a hybridization method.

上記絶縁性粒子を得る際に、上記絶縁性粒子本体100重量部に対する上記高分子化合物又は該高分子となる化合物の使用量は、好ましくは30重量部以上、より好ましくは50重量部以上であり、好ましくは500重量部以下、より好ましくは300重量部以下である。上記高分子化合物の使用量が上記下限以上及び上記上限以下であると、良好な層を形成できる。   When the insulating particles are obtained, the amount of the polymer compound or the compound that becomes the polymer is preferably 30 parts by weight or more, more preferably 50 parts by weight or more, with respect to 100 parts by weight of the insulating particle body. , Preferably 500 parts by weight or less, more preferably 300 parts by weight or less. A favorable layer can be formed as the usage-amount of the said high molecular compound is more than the said minimum and below the said upper limit.

上記導電性粒子及び上記導電部の外表面に絶縁性粒子を付着させる方法としては、化学的方法、及び物理的もしくは機械的方法等が挙げられる。上記化学的方法としては、例えば、界面重合法、粒子存在下での懸濁重合法及び乳化重合法等が挙げられる。上記物理的もしくは機械的方法としては、スプレードライ、ハイブリダイゼーション、静電付着法、噴霧法、ディッピング及び真空蒸着による方法等が挙げられる。ただし、ハイブリダイゼーション法では、絶縁性粒子の脱離が生じやすい傾向があるので、上記導電性粒子及び上記導電部の外表面に絶縁性粒子を付着させる方法は、ハイブリダイゼーション法以外の方法であることが好ましい。なかでも、絶縁性粒子が脱離し難いことから、導電部の外表面に、化学結合を介して絶縁性粒子を付着させる方法が好ましい。   Examples of the method for attaching the insulating particles to the conductive particles and the outer surface of the conductive part include a chemical method and a physical or mechanical method. Examples of the chemical method include an interfacial polymerization method, a suspension polymerization method in the presence of particles, and an emulsion polymerization method. Examples of the physical or mechanical method include spray drying, hybridization, electrostatic adhesion, spraying, dipping, and vacuum deposition. However, since the hybridization method tends to cause the detachment of the insulating particles, the method of attaching the insulating particles to the outer surfaces of the conductive particles and the conductive part is a method other than the hybridization method. It is preferable. In particular, a method in which the insulating particles are attached to the outer surface of the conductive portion via a chemical bond is preferable because the insulating particles are difficult to be detached.

本発明に係る絶縁性粒子付き導電性粒子において、絶縁性粒子は、導電性粒子の表面に、ハイブリダイゼーション法により付着されていないことが好ましい。上記絶縁性粒子付き導電性粒子本体を得る工程において、上記絶縁性粒子を、上記導電性粒子の表面に、ハイブリダイゼーション法により付着させないことが好ましい。   In the conductive particles with insulating particles according to the present invention, the insulating particles are preferably not attached to the surface of the conductive particles by a hybridization method. In the step of obtaining the conductive particle body with insulating particles, it is preferable that the insulating particles are not attached to the surface of the conductive particles by a hybridization method.

なお、図5に示すように、ハイブリダイゼーション法を用いた従来の絶縁性粒子付き導電性粒子101では、導電性粒子102の表面の絶縁性粒子103が付着している部分102a以外の部分102bにも高分子化合物104が付着する。これは、ハイブリダイゼーション法では、圧縮剪断力がかかり、絶縁性粒子の付着と脱離とが繰り返し起こり、徐々に絶縁性粒子が付着するためである。圧縮剪断力により、絶縁性粒子の高分子化合物により形成された層が剥がれて、剥がれた高分子化合物が、導電性粒子の表面の絶縁性粒子が付着している部分以外の部分に付着する。導電性粒子の表面の絶縁性粒子が付着している部分以外の部分に付着した高分子化合物は、導電性粒子の体積抵抗率を高くしたり、電極間の接続抵抗を低下させたりする。また、図5に示す絶縁性粒子付き導電性粒子101の表面を被膜により被覆した場合でも、導電性が低くなり、電極間の接続抵抗が低くなりやすい。   As shown in FIG. 5, in the conventional conductive particles 101 with insulating particles using the hybridization method, the surface of the conductive particles 102 has a portion 102b other than the portion 102a to which the insulating particles 103 are attached. Also, the polymer compound 104 adheres. This is because in the hybridization method, a compressive shear force is applied, the insulating particles are repeatedly attached and detached, and the insulating particles are gradually attached. The layer formed of the polymer compound of the insulating particles is peeled off by the compressive shearing force, and the peeled polymer compound is attached to a portion other than the portion where the insulating particles are attached on the surface of the conductive particles. The polymer compound adhering to the portion other than the portion to which the insulating particles adhere on the surface of the conductive particles increases the volume resistivity of the conductive particles or decreases the connection resistance between the electrodes. Further, even when the surface of the conductive particles 101 with insulating particles shown in FIG. 5 is coated with a coating, the conductivity is low and the connection resistance between the electrodes tends to be low.

上記導電性粒子及び上記導電部の外表面に絶縁性粒子を付着させる方法の一例としては、以下の方法が挙げられる。   The following method is mentioned as an example of the method of making an insulating particle adhere to the outer surface of the said electroconductive particle and the said electroconductive part.

先ず、水などの溶媒3L中に、導電性粒子を入れ、撹拌しながら、絶縁性粒子を徐々に添加する。十分に撹拌した後、絶縁性粒子付き導電性粒子を分離し、真空乾燥機などにより乾燥して、絶縁性粒子付き導電性粒子を得る。   First, the conductive particles are put in 3 L of a solvent such as water, and the insulating particles are gradually added while stirring. After sufficiently stirring, the conductive particles with insulating particles are separated and dried by a vacuum dryer or the like to obtain conductive particles with insulating particles.

上記導電部は表面に、絶縁性粒子と反応可能な反応性官能基を有することが好ましく、被膜と反応可能な反応性官能基を有することが好ましい。絶縁性粒子は表面に、導電部と反応可能な反応性官能基を有することが好ましく、被膜と反応可能な反応性官能基を有することが好ましい。上記被膜は表面に、導電部と反応可能な反応性官能基を有することが好ましく、絶縁性粒子と反応可能な官能基を有することが好ましい。これらの反応性官能基により、導電性粒子の表面から絶縁性粒子が意図せずに脱離し難くなり、更に導電性粒子の表面及び絶縁性粒子の表面から被膜が剥離し難くなる。さらに、導電部の外表面を被膜により充分に被覆でき、更に絶縁性粒子の表面を被膜により充分に被覆できる。   The conductive part preferably has a reactive functional group capable of reacting with insulating particles on the surface, and preferably has a reactive functional group capable of reacting with the coating. The insulating particles preferably have a reactive functional group capable of reacting with the conductive portion on the surface, and preferably have a reactive functional group capable of reacting with the coating. The coating preferably has a reactive functional group capable of reacting with the conductive portion on the surface, and preferably has a functional group capable of reacting with the insulating particles. By these reactive functional groups, it becomes difficult for the insulating particles to be unintentionally detached from the surface of the conductive particles, and further, the coating film is difficult to peel from the surfaces of the conductive particles and the surfaces of the insulating particles. Furthermore, the outer surface of the conductive portion can be sufficiently covered with the coating, and the surface of the insulating particles can be sufficiently covered with the coating.

上記反応性官能基として、反応性を考慮して適宜の基が選択される。上記反応性官能基としては、水酸基、ビニル基及びアミノ基等が挙げられる。反応性に優れているので、上記反応性官能基は水酸基であることが好ましい。上記絶縁性粒子付き導電性粒子本体は表面の少なくとも一部の領域に、水酸基を有することが好ましい。上記導電性粒子は表面に、水酸基を有することが好ましい。上記絶縁性粒子は表面に、水酸基を有することが好ましい。上記被膜は表面に水酸基を有することが好ましい。   As the reactive functional group, an appropriate group is selected in consideration of reactivity. Examples of the reactive functional group include a hydroxyl group, a vinyl group, and an amino group. Since the reactivity is excellent, the reactive functional group is preferably a hydroxyl group. The conductive particle body with insulating particles preferably has a hydroxyl group in at least a part of the surface. The conductive particles preferably have a hydroxyl group on the surface. The insulating particles preferably have a hydroxyl group on the surface. The coating preferably has a hydroxyl group on the surface.

絶縁性粒子の表面と導電性粒子の表面とに水酸基がある場合には、脱水反応により絶縁性粒子と導電性粒子との付着力が適度に高くなる。   When there are hydroxyl groups on the surface of the insulating particles and the surface of the conductive particles, the adhesion force between the insulating particles and the conductive particles is appropriately increased by the dehydration reaction.

上記水酸基を有する化合物としては、P−OH基含有化合物及びSi−OH基含有化合物等が挙げられる。絶縁性粒子の表面に水酸基を導入するための水酸基を有する化合物としては、P−OH基含有化合物及びSi−OH基含有化合物等が挙げられる。   Examples of the compound having a hydroxyl group include a P—OH group-containing compound and a Si—OH group-containing compound. Examples of the compound having a hydroxyl group for introducing a hydroxyl group on the surface of the insulating particles include a P—OH group-containing compound and a Si—OH group-containing compound.

上記P−OH基含有化合物の具体例としては、アシッドホスホオキシエチルメタクリレート、アシッドホスホオキシプロピルメタクリレート、アシッドホスホオキシポリオキシエチレングリコールモノメタクリレート及びアシッドホスホオキシポリオキシプロピレングリコールモノメタクリレート等が挙げられる。上記P−OH基含有化合物は1種のみが用いられてもよく、2種以上が併用されてもよい。   Specific examples of the P-OH group-containing compound include acid phosphooxyethyl methacrylate, acid phosphooxypropyl methacrylate, acid phosphooxypolyoxyethylene glycol monomethacrylate, and acid phosphooxypolyoxypropylene glycol monomethacrylate. As for the said P-OH group containing compound, only 1 type may be used and 2 or more types may be used together.

上記Si−OH基含有化合物の具体例としては、ビニルトリヒドロキシシラン、及び3−メタクリロキシプロピルトリヒドロキシシラン等が挙げられる。上記Si−OH基含有化合物は1種のみが用いられてもよく、2種以上が併用されてもよい。   Specific examples of the Si-OH group-containing compound include vinyltrihydroxysilane and 3-methacryloxypropyltrihydroxysilane. As for the said Si-OH group containing compound, only 1 type may be used and 2 or more types may be used together.

例えば、水酸基を表面に有する絶縁性粒子は、シランカップリング剤を用いた処理により得ることができる。上記シランカップリング剤としては、例えば、ヒドロキシトリメトキシシラン等が挙げられる。   For example, insulating particles having a hydroxyl group on the surface can be obtained by a treatment using a silane coupling agent. Examples of the silane coupling agent include hydroxytrimethoxysilane.

(絶縁性粒子付き導電性粒子の製造方法)
本発明に係る絶縁性粒子付き導電性粒子の製造方法は、絶縁性粒子付き導電性粒子本体の表面を被覆するように被膜を形成する工程を備える。上記導電性粒子を覆っている第1の被膜部分と、上記絶縁性粒子の表面を覆っている第2の被膜部分とを有するように、かつ上記第1の被膜部分における厚みの、上記絶縁性粒子の平均粒子径に対する比が2/3以上、3以下であるように、上記被膜を形成する。
(Method for producing conductive particles with insulating particles)
The manufacturing method of the electroconductive particle with an insulating particle which concerns on this invention comprises the process of forming a film so that the surface of the electroconductive particle main body with an insulating particle may be coat | covered. The insulating property having a first coating portion covering the conductive particles and a second coating portion covering the surface of the insulating particles, and having a thickness in the first coating portion. The coating is formed so that the ratio of the particles to the average particle diameter is 2/3 or more and 3 or less.

本発明に係る絶縁性粒子付き導電性粒子の製造方法では、絶縁性粒子付き導電性粒子本体の表面に、炭素数6〜22のアルキル基を有する化合物(化合物A)及び反応性モノマーを用いて、上記絶縁性粒子本体の表面を被覆するように被膜を形成することが好ましい。   In the method for producing conductive particles with insulating particles according to the present invention, a compound (compound A) having an alkyl group having 6 to 22 carbon atoms and a reactive monomer are used on the surface of the conductive particle body with insulating particles. It is preferable to form a coating so as to cover the surface of the insulating particle body.

上記化合物A及び反応性モノマーを用いて、絶縁性粒子付き導電性粒子本体の表面に被膜を形成する方法としては特に限定されず、絶縁性粒子付き導電性粒子本体の表面に、上記化合物Aを含む溶液を付着させた後、重合性開始剤を使用して反応性モノマーを重合させて、被覆する方法等が挙げられる。   The method for forming a film on the surface of the conductive particle body with insulating particles using the compound A and the reactive monomer is not particularly limited, and the compound A is formed on the surface of the conductive particle body with insulating particles. Examples of the method include a method in which a reactive monomer is polymerized using a polymerizable initiator and then coated.

上記化合物A及び反応性モノマーを含む溶液における溶媒は、水であることが好ましい。上記化合物Aを含む溶液における溶媒は、テトラヒドロフラン、並びにメタノール、エタノール及びプロパノール等のアルコール等の有機溶剤を含んでいてもよい。絶縁性粒子付き導電性粒子本体の表面に上記溶液を付着させた後、溶媒は必要に応じて除去される。   The solvent in the solution containing the compound A and reactive monomer is preferably water. The solvent in the solution containing the compound A may contain tetrahydrofuran and organic solvents such as alcohols such as methanol, ethanol and propanol. After making the said solution adhere to the surface of the electroconductive particle main body with an insulating particle, a solvent is removed as needed.

上記化合物A及び反応性モノマーを含む溶液における上記化合物A及び反応性モノマーの含有量は、所望の被膜が得られるように適宜調整される。   Content of the said compound A and reactive monomer in the solution containing the said compound A and reactive monomer is suitably adjusted so that a desired film may be obtained.

例えば、導電部の外表面又は絶縁性粒子の表面に、上記化合物Aと反応可能な反応性官能基が存在する場合には、該反応性官能基と、上記化合物Aとを反応させ、上記導電部の外表面及び絶縁性粒子の表面に上記化合物Aを化学結合させることができる。   For example, when a reactive functional group capable of reacting with the compound A is present on the outer surface of the conductive part or the surface of the insulating particles, the reactive functional group is reacted with the compound A, and the conductive The compound A can be chemically bonded to the outer surface of the part and the surface of the insulating particles.

絶縁性粒子付き導電性粒子本体が表面の少なくとも一部の領域に水酸基を有し、絶縁性粒子付き導電性粒子本体の表面の水酸基に、水酸基を有する炭素数6〜22のアルキル基を有する化合物(以下、化合物A1ともいう)を反応させて、絶縁性粒子付き導電性粒子本体の表面を被覆するように被膜を形成することが好ましい。また、導電性粒子が表面に水酸基を有し、該導電性粒子の表面の水酸基に、上記化合物A1を反応させて、絶縁性粒子付き導電性粒子本体の表面を被覆するように被膜を形成することが好ましい。絶縁性粒子が表面に水酸基を有し、絶縁性粒子の表面の水酸基に、上記化合物A1を反応させて、絶縁性粒子付き導電性粒子本体の表面を被覆するように被膜を形成することが好ましい。さらに、導電性粒子の表面及び絶縁性粒子の表面がそれぞれ水酸基を有し、導電性粒子の表面及び絶縁性粒子の表面の水酸基に、上記化合物A1を反応させて、絶縁性粒子付き導電性粒子本体の表面を被覆するように被膜を形成することが好ましい。これらの好ましい態様で被膜を形成することにより、導電部の外表面を被膜により充分に被覆でき、更に絶縁性粒子の表面を被膜により充分に被覆できる。従って、導電部に錆がより一層生じ難くなり、被膜が剥離し難くなり、更に絶縁性粒子が意図せずに脱離し難くなる。   Compound having conductive particle body with insulating particles having hydroxyl group in at least a part of the surface, and hydroxyl group on the surface of conductive particle body with insulating particle having a C 6-22 alkyl group having a hydroxyl group It is preferable to form a film so as to coat the surface of the conductive particle body with insulating particles by reacting (hereinafter also referred to as compound A1). Further, the conductive particles have a hydroxyl group on the surface, and the film is formed so as to cover the surface of the conductive particle body with insulating particles by reacting the compound A1 with the hydroxyl group on the surface of the conductive particle. It is preferable. It is preferable that the insulating particles have a hydroxyl group on the surface, and the coating is formed so as to cover the surface of the conductive particle body with insulating particles by reacting the compound A1 with the hydroxyl group on the surface of the insulating particles. . Furthermore, the surface of the conductive particles and the surface of the insulating particles each have a hydroxyl group, and the compound A1 is reacted with the hydroxyl groups on the surface of the conductive particles and the surface of the insulating particles, thereby conducting the conductive particles with insulating particles. It is preferable to form a coating so as to cover the surface of the main body. By forming a film in these preferred embodiments, the outer surface of the conductive portion can be sufficiently covered with the film, and the surface of the insulating particles can be sufficiently covered with the film. Accordingly, rust is more unlikely to occur in the conductive portion, the coating is difficult to peel off, and the insulating particles are not easily detached unintentionally.

導電性粒子の表面及び絶縁性粒子の表面はそれぞれ、反応性官能基を有する化合物によって被覆されていてもよい。導電性粒子の表面と絶縁性粒子の表面とは、直接化学結合していなくてもよく、反応性官能基を有する化合物によって間接的に化学結合していてもよい。導電性粒子の表面にカルボキシル基を導入した後、該カルボキシル基がポリエチレンイミンなどの高分子電解質を介して絶縁性粒子の表面の官能基と化学結合していても構わない。   The surface of the conductive particles and the surface of the insulating particles may each be coated with a compound having a reactive functional group. The surface of the conductive particles and the surface of the insulating particles may not be directly chemically bonded, but may be indirectly chemically bonded by a compound having a reactive functional group. After introducing a carboxyl group into the surface of the conductive particle, the carboxyl group may be chemically bonded to a functional group on the surface of the insulating particle through a polymer electrolyte such as polyethyleneimine.

(導電材料)
本発明に係る導電材料は、本発明の絶縁性粒子付き導電性粒子と、バインダー樹脂とを含むか、又は本発明の絶縁性粒子付き導電性粒子の製造方法により得られた絶縁性粒子付き導電性粒子と、バインダー樹脂とを含む。上記導電性粒子は、バインダー樹脂中に分散され、導電材料として用いられることが好ましい。上記導電材料は、異方性導電材料であることが好ましい。上記導電材料は、電極の電気的な接続に好適に用いられる。上記導電材料は、回路接続材料であることが好ましい。
(Conductive material)
The conductive material according to the present invention includes the conductive particles with insulating particles of the present invention and a binder resin, or the conductive material with insulating particles obtained by the method for producing conductive particles with insulating particles of the present invention. Particles and a binder resin. The conductive particles are preferably dispersed in a binder resin and used as a conductive material. The conductive material is preferably an anisotropic conductive material. The conductive material is preferably used for electrical connection of electrodes. The conductive material is preferably a circuit connection material.

上記絶縁性粒子付き導電性粒子を用いた場合には、絶縁性粒子と導電性粒子との表面が特定の被膜により被覆されているので、絶縁性粒子付き導電性粒子をバインダー樹脂中に分散させる際などに、導電性粒子の表面から絶縁性粒子が脱離し難い。   When the conductive particles with insulating particles are used, since the surfaces of the insulating particles and the conductive particles are covered with a specific coating, the conductive particles with insulating particles are dispersed in the binder resin. In some cases, it is difficult for the insulating particles to be detached from the surface of the conductive particles.

上記バインダー樹脂は特に限定されない。上記バインダー樹脂としては、一般的には絶縁性の樹脂が用いられる。上記バインダー樹脂は、熱可塑性成分(熱可塑性化合物)又は硬化性成分を含むことが好ましく、硬化性成分を含むことがより好ましい。上記硬化性成分としては、光硬化性成分及び熱硬化性成分が挙げられる。上記光硬化性成分は、光硬化性化合物及び光重合開始剤を含むことが好ましい。上記熱硬化性成分は、熱硬化性化合物及び熱硬化剤を含むことが好ましい。上記バインダー樹脂としては、例えば、ビニル樹脂、熱可塑性樹脂、硬化性樹脂、熱可塑性ブロック共重合体及びエラストマー等が挙げられる。上記バインダー樹脂は、1種のみが用いられてもよく、2種以上が併用されてもよい。   The binder resin is not particularly limited. In general, an insulating resin is used as the binder resin. The binder resin preferably includes a thermoplastic component (thermoplastic compound) or a curable component, and more preferably includes a curable component. Examples of the curable component include a photocurable component and a thermosetting component. It is preferable that the said photocurable component contains a photocurable compound and a photoinitiator. The thermosetting component preferably contains a thermosetting compound and a thermosetting agent. Examples of the binder resin include vinyl resins, thermoplastic resins, curable resins, thermoplastic block copolymers, and elastomers. As for the said binder resin, only 1 type may be used and 2 or more types may be used together.

上記ビニル樹脂としては、例えば、酢酸ビニル樹脂、アクリル樹脂及びスチレン樹脂等が挙げられる。上記熱可塑性樹脂としては、例えば、ポリオレフィン樹脂、エチレン−酢酸ビニル共重合体及びポリアミド樹脂等が挙げられる。上記硬化性樹脂としては、例えば、エポキシ樹脂、ウレタン樹脂、ポリイミド樹脂及び不飽和ポリエステル樹脂等が挙げられる。なお、上記硬化性樹脂は、常温硬化型樹脂、熱硬化型樹脂、光硬化型樹脂又は湿気硬化型樹脂であってもよい。上記硬化性樹脂は、硬化剤と併用されてもよい。上記熱可塑性ブロック共重合体としては、例えば、スチレン−ブタジエン−スチレンブロック共重合体、スチレン−イソプレン−スチレンブロック共重合体、スチレン−ブタジエン−スチレンブロック共重合体の水素添加物、及びスチレン−イソプレン−スチレンブロック共重合体の水素添加物等が挙げられる。上記エラストマーとしては、例えば、スチレン−ブタジエン共重合ゴム、及びアクリロニトリル−スチレンブロック共重合ゴム等が挙げられる。   Examples of the vinyl resin include vinyl acetate resin, acrylic resin, and styrene resin. Examples of the thermoplastic resin include polyolefin resins, ethylene-vinyl acetate copolymers, and polyamide resins. Examples of the curable resin include an epoxy resin, a urethane resin, a polyimide resin, and an unsaturated polyester resin. The curable resin may be a room temperature curable resin, a thermosetting resin, a photocurable resin, or a moisture curable resin. The curable resin may be used in combination with a curing agent. Examples of the thermoplastic block copolymer include a styrene-butadiene-styrene block copolymer, a styrene-isoprene-styrene block copolymer, a hydrogenated product of a styrene-butadiene-styrene block copolymer, and a styrene-isoprene. -Hydrogenated product of a styrene block copolymer. Examples of the elastomer include styrene-butadiene copolymer rubber and acrylonitrile-styrene block copolymer rubber.

上記導電材料は、上記絶縁性粒子付き導電性粒子及び上記バインダー樹脂の他に、例えば、充填剤、増量剤、軟化剤、可塑剤、重合触媒、硬化触媒、着色剤、酸化防止剤、熱安定剤、光安定剤、紫外線吸収剤、滑剤、帯電防止剤及び難燃剤等の各種添加剤を含んでいてもよい。   In addition to the conductive particles with insulating particles and the binder resin, the conductive material includes, for example, a filler, an extender, a softener, a plasticizer, a polymerization catalyst, a curing catalyst, a colorant, an antioxidant, and heat stability. Various additives such as an agent, a light stabilizer, an ultraviolet absorber, a lubricant, an antistatic agent and a flame retardant may be contained.

本発明に係る導電材料は、導電ペースト又は導電フィルムとして使用され得る。本発明に係る導電材料が、導電フィルムとして使用される場合には、該導電性粒子を含む導電フィルムに、導電性粒子を含まないフィルムが積層されていてもよい。上記導電ペーストは、異方性導電ペーストであることが好ましい。上記導電フィルムは、異方性導電フィルムであることが好ましい。   The conductive material according to the present invention can be used as a conductive paste or a conductive film. When the conductive material according to the present invention is used as a conductive film, a film not including conductive particles may be laminated on the conductive film including the conductive particles. The conductive paste is preferably an anisotropic conductive paste. The conductive film is preferably an anisotropic conductive film.

本発明に係る導電材料は、導電ペーストであることが好ましく、異方性導電ペーストであることがより好ましい。異方性導電ペーストなどの導電ペーストは取り扱い性及び回路充填性に優れている。導電ペーストを得る際には絶縁性粒子付き導電性粒子に比較的大きな力が付与されるものの、上記被膜の存在によって導電性粒子の表面から絶縁性粒子が脱離するのを抑制できる。   The conductive material according to the present invention is preferably a conductive paste, and more preferably an anisotropic conductive paste. Conductive pastes such as anisotropic conductive pastes are excellent in handleability and circuit fillability. When a conductive paste is obtained, a relatively large force is applied to the conductive particles with insulating particles, but it is possible to prevent the insulating particles from being detached from the surface of the conductive particles due to the presence of the coating film.

上記導電材料100重量%中、上記バインダー樹脂の含有量は好ましくは10重量%以上、より好ましくは30重量%以上、更に好ましくは50重量%以上、特に好ましくは70重量%以上であり、好ましくは99.99重量%以下、より好ましくは99.9重量%以下である。上記バインダー樹脂の含有量が上記下限以上及び上記上限以下であると、電極間に導電性粒子が効率的に配置され、導電材料により接続された接続対象部材の接続信頼性がより一層高くなる。   The content of the binder resin in 100% by weight of the conductive material is preferably 10% by weight or more, more preferably 30% by weight or more, still more preferably 50% by weight or more, particularly preferably 70% by weight or more, preferably It is 99.99 weight% or less, More preferably, it is 99.9 weight% or less. When the content of the binder resin is not less than the above lower limit and not more than the above upper limit, the conductive particles are efficiently arranged between the electrodes, and the connection reliability of the connection target member connected by the conductive material is further increased.

上記導電材料100重量%中、上記導電性粒子の含有量は好ましくは0.01重量%以上、より好ましくは0.1重量%以上であり、好ましくは80重量%以下、より好ましくは60重量%以下、より一層好ましくは40重量%以下、更に好ましくは20重量%以下、特に好ましくは10重量%以下である。上記導電性粒子の含有量が上記下限以上及び上記上限以下であると、電極間の導通信頼性がより一層高くなる。   In 100% by weight of the conductive material, the content of the conductive particles is preferably 0.01% by weight or more, more preferably 0.1% by weight or more, preferably 80% by weight or less, more preferably 60% by weight. Hereinafter, it is more preferably 40% by weight or less, further preferably 20% by weight or less, and particularly preferably 10% by weight or less. When the content of the conductive particles is not less than the above lower limit and not more than the above upper limit, the conduction reliability between the electrodes is further enhanced.

(接続構造体)
本発明の絶縁性粒子付き導電性粒子を用いて、又は該絶縁性粒子付き導電性粒子とバインダー樹脂とを含む導電材料を用いて、接続対象部材を接続することにより、接続構造体を得ることができる。さらに、本発明の絶縁性粒子付き導電性粒子の製造方法により得られた絶縁性粒子付き導電性粒子を用いて、又は該絶縁性粒子付き導電性粒子とバインダー樹脂とを含む導電材料を用いて、接続対象部材を接続することにより、接続構造体を得ることができる。
(Connection structure)
By using the conductive particles with insulating particles of the present invention or by using a conductive material containing the conductive particles with insulating particles and a binder resin, a connection structure is obtained by connecting the connection target members. Can do. Furthermore, using the conductive particles with insulating particles obtained by the method for producing conductive particles with insulating particles of the present invention, or using a conductive material containing the conductive particles with insulating particles and a binder resin. By connecting the connection target members, a connection structure can be obtained.

上記接続構造体は、第1の接続対象部材と、第2の接続対象部材と、第1,第2の接続対象部材を電気的に接続している接続部とを備え、該接続部の材料が上記絶縁性粒子付き導電性粒子であるか、又は該絶縁性粒子付き導電性粒子とバインダー樹脂とを含む導電材料である接続構造体であることが好ましい。上記接続部が上記絶縁性粒子付き導電性粒子により形成されているか、又は該絶縁性粒子付き導電性粒子とバインダー樹脂とを含む導電材料により形成されている接続構造体であることが好ましい。絶縁性粒子付き導電性粒子が用いられた場合には、接続部自体が絶縁性粒子付き導電性粒子によって形成される。すなわち、第1,第2の接続対象部材が絶縁性粒子付き導電性粒子における導電性粒子により電気的に接続される。   The connection structure includes a first connection object member, a second connection object member, and a connection part that electrically connects the first and second connection object members, and a material for the connection part. Are conductive particles with insulating particles, or a connection structure that is a conductive material including the conductive particles with insulating particles and a binder resin. It is preferable that the connection portion is formed of the conductive particles with insulating particles or a connection structure formed of a conductive material including the conductive particles with insulating particles and a binder resin. In the case where conductive particles with insulating particles are used, the connecting portion itself is formed of conductive particles with insulating particles. That is, the first and second connection target members are electrically connected by the conductive particles in the conductive particles with insulating particles.

図4は、図1に示す絶縁性粒子付き導電性粒子1を用いた接続構造体を模式的に示す断面図である。   FIG. 4 is a cross-sectional view schematically showing a connection structure using the conductive particles 1 with insulating particles shown in FIG.

図4に示す接続構造体81は、第1の接続対象部材82と、第2の接続対象部材83と、第1,第2の接続対象部材82,83を接続している接続部84とを備える。接続部84は、絶縁性粒子付き導電性粒子1とバインダー樹脂とを含む導電材料により形成されている。図4では、図示の便宜上、絶縁性粒子付き導電性粒子1は略図的に示されている。絶縁性粒子付き導電性粒子1にかえて、絶縁性粒子付き導電性粒子21,41を用いてもよい。   A connection structure 81 shown in FIG. 4 includes a first connection target member 82, a second connection target member 83, and a connection portion 84 connecting the first and second connection target members 82 and 83. Prepare. The connecting portion 84 is formed of a conductive material including the conductive particles 1 with insulating particles and a binder resin. In FIG. 4, the conductive particles 1 with insulating particles are schematically shown for convenience of illustration. Instead of the conductive particles 1 with insulating particles, conductive particles 21 and 41 with insulating particles may be used.

第1の接続対象部材82は表面(上面)に、複数の第1の電極82aを有する。第2の接続対象部材83は表面(裏面)に、複数の第2の電極83aを有する。第1の電極82aと第2の電極83aとが、1つ又は複数の絶縁性粒子付き導電性粒子1における導電性粒子11により電気的に接続されている。従って、第1,第2の接続対象部材82,83が絶縁性粒子付き導電性粒子1により電気的に接続されている。   The first connection target member 82 has a plurality of first electrodes 82a on the surface (upper surface). The second connection target member 83 has a plurality of second electrodes 83a on the front surface (back surface). The 1st electrode 82a and the 2nd electrode 83a are electrically connected by the electroconductive particle 11 in the electroconductive particle 1 with one or some insulating particle. Therefore, the first and second connection target members 82 and 83 are electrically connected by the conductive particles 1 with insulating particles.

上記接続構造体の製造方法は特に限定されない。接続構造体の製造方法の一例として、第1の接続対象部材と第2の接続対象部材との間に上記導電材料を配置し、積層体を得た後、該積層体を加熱及び加圧する方法等が挙げられる。上記加圧の圧力は9.8×10〜4.9×10Pa程度である。上記加熱の温度は、120〜220℃程度である。 The manufacturing method of the connection structure is not particularly limited. As an example of a method of manufacturing a connection structure, a method of placing the conductive material between a first connection target member and a second connection target member to obtain a laminate, and then heating and pressurizing the laminate Etc. The pressure of the said pressurization is about 9.8 * 10 < 4 > -4.9 * 10 < 6 > Pa. The temperature of the said heating is about 120-220 degreeC.

上記積層体を加熱及び加圧する際に、導電性粒子11と第1,第2の電極82a,83aとの間に存在していた絶縁性粒子15を排除できる。例えば、上記加熱及び加圧の際には、導電性粒子11と第1,第2の電極82a,83aとの間に存在していた絶縁性粒子15が溶融したり、変形したりして、導電性粒子11の表面が部分的に露出する。なお、上記加熱及び加圧の際には、大きな力が付与されるので、導電性粒子11の表面から一部の絶縁性粒子15が剥離して、導電性粒子11の表面が部分的に露出することもある。導電性粒子11の表面が露出した部分が、第1,第2の電極82a,83aに接触することにより、導電性粒子11を介して第1,第2の電極82a,83aを電気的に接続できる。   When the laminate is heated and pressed, the insulating particles 15 existing between the conductive particles 11 and the first and second electrodes 82a and 83a can be eliminated. For example, during the heating and pressurization, the insulating particles 15 existing between the conductive particles 11 and the first and second electrodes 82a and 83a are melted or deformed, The surface of the conductive particles 11 is partially exposed. In addition, since a large force is applied during the heating and pressurization, some of the insulating particles 15 are peeled off from the surface of the conductive particles 11, and the surface of the conductive particles 11 is partially exposed. Sometimes. The portion where the surface of the conductive particle 11 is exposed contacts the first and second electrodes 82a and 83a, so that the first and second electrodes 82a and 83a are electrically connected through the conductive particle 11. it can.

上記接続対象部材としては、具体的には、半導体チップ、コンデンサ及びダイオード等の電子部品、並びにプリント基板、フレキシブルプリント基板、ガラスエポキシ基板及びガラス基板等の回路基板などの電子部品等が挙げられる。上記導電材料はペースト状であり、ペーストの状態で接続対象部材上に塗布されることが好ましい。上記絶縁性粒子付き導電性粒子及び導電材料は、電子部品である接続対象部材の接続に用いられることが好ましい。上記接続対象部材は電子部品であることが好ましい。上記絶縁性粒子付き導電性粒子は、電子部品における電極の電気的な接続に用いられることが好ましい。   Specific examples of the connection target member include electronic components such as semiconductor chips, capacitors, and diodes, and electronic components such as printed boards, flexible printed boards, glass epoxy boards, and glass boards. The conductive material is in a paste form, and is preferably applied on the connection target member in a paste state. The conductive particles with insulating particles and the conductive material are preferably used for connection of a connection target member that is an electronic component. The connection target member is preferably an electronic component. The conductive particles with insulating particles are preferably used for electrical connection of electrodes in an electronic component.

上記接続対象部材に設けられている電極としては、金電極、ニッケル電極、錫電極、アルミニウム電極、銅電極、銀電極、モリブデン電極及びタングステン電極等の金属電極が挙げられる。上記接続対象部材がフレキシブルプリント基板である場合には、上記電極は金電極、ニッケル電極、錫電極又は銅電極であることが好ましい。上記接続対象部材がガラス基板である場合には、上記電極はアルミニウム電極、銅電極、モリブデン電極又はタングステン電極であることが好ましい。なお、上記電極がアルミニウム電極である場合には、アルミニウムのみで形成された電極であってもよく、金属酸化物層の表面にアルミニウム層が積層された電極であってもよい。上記金属酸化物層の材料としては、3価の金属元素がドープされた酸化インジウム及び3価の金属元素がドープされた酸化亜鉛等が挙げられる。上記3価の金属元素としては、Sn、Al及びGa等が挙げられる。   Examples of the electrode provided on the connection target member include metal electrodes such as a gold electrode, a nickel electrode, a tin electrode, an aluminum electrode, a copper electrode, a silver electrode, a molybdenum electrode, and a tungsten electrode. When the connection object member is a flexible printed board, the electrode is preferably a gold electrode, a nickel electrode, a tin electrode, or a copper electrode. When the connection target member is a glass substrate, the electrode is preferably an aluminum electrode, a copper electrode, a molybdenum electrode, or a tungsten electrode. In addition, when the said electrode is an aluminum electrode, the electrode formed only with aluminum may be sufficient and the electrode by which the aluminum layer was laminated | stacked on the surface of the metal oxide layer may be sufficient. Examples of the material for the metal oxide layer include indium oxide doped with a trivalent metal element and zinc oxide doped with a trivalent metal element. Examples of the trivalent metal element include Sn, Al, and Ga.

以下、実施例及び比較例を挙げて、本発明を具体的に説明する。本発明は、以下の実施例のみに限定されない。   Hereinafter, the present invention will be specifically described with reference to Examples and Comparative Examples. The present invention is not limited only to the following examples.

(実施例1)
ジビニルベンゼン樹脂粒子(平均粒子径2.8μm)を用意した。
Example 1
Divinylbenzene resin particles (average particle size of 2.8 μm) were prepared.

樹脂粒子10gをエッチング処理した後、水洗した。次に、樹脂粒子に硫酸パラジウムを加え、パラジウムイオンを樹脂粒子に吸着させた。パラジウムが付着された樹脂粒子をイオン交換水300mL中で3分間攪拌し、分散させ、分散液を得た。次に、金属ニッケル粒子スラリー(平均粒子径200nm)1gを3分間かけて上記分散液に添加し、芯物質が付着した樹脂粒子を得た。芯物質が付着した樹脂粒子の表面に、無電解ニッケルめっきによりニッケル層を形成した。このようにして、樹脂粒子の表面に芯物質が付着しており、樹脂粒子と芯物質との表面がニッケル層により被覆されている導電性粒子を得た。この導電性粒子の平均粒子径は3μmであり、導電層の厚みは0.2μmであった。この導電性粒子はニッケル層の外表面に、平均高さが0.25μmである突起を有していた。   The resin particles 10g were etched and then washed with water. Next, palladium sulfate was added to the resin particles to adsorb palladium ions to the resin particles. The resin particles to which palladium was attached were stirred and dispersed in 300 mL of ion exchange water for 3 minutes to obtain a dispersion. Next, 1 g of metallic nickel particle slurry (average particle size 200 nm) was added to the dispersion over 3 minutes to obtain resin particles to which the core substance was adhered. A nickel layer was formed by electroless nickel plating on the surface of the resin particles to which the core substance adhered. In this way, conductive particles were obtained in which the core material was adhered to the surface of the resin particles, and the surfaces of the resin particles and the core material were covered with the nickel layer. The average particle diameter of the conductive particles was 3 μm, and the thickness of the conductive layer was 0.2 μm. The conductive particles had protrusions having an average height of 0.25 μm on the outer surface of the nickel layer.

また、ゾルゲル法を使用して作製したシリカ粒子(平均粒子径200nm)の表面をヒドロキシトリエトキシシランで被覆し、水酸基を表面に有する絶縁性粒子を得た。この絶縁性粒子を純水30mLに分散して、絶縁性粒子を含む分散液を得た。   Moreover, the surface of the silica particle (average particle diameter 200nm) produced using the sol-gel method was coat | covered with hydroxytriethoxysilane, and the insulating particle which has a hydroxyl group on the surface was obtained. The insulating particles were dispersed in 30 mL of pure water to obtain a dispersion containing insulating particles.

1Lのセパラブルフラスコに、純水250mLと、エタノール50mLと、上記導電性粒子15重量部とを入れ、十分に攪拌し、導電性粒子を含む液を得た。この導電性粒子を含む液に、絶縁性粒子を含む分散液を、超音波を当てながら10分間かけて滴下した。その後、ろ過し、真空乾燥機により100℃で8時間乾燥させ、絶縁性粒子付き導電性粒子本体を得た。   In a 1 L separable flask, 250 mL of pure water, 50 mL of ethanol, and 15 parts by weight of the conductive particles were put, and stirred sufficiently to obtain a liquid containing conductive particles. A dispersion containing insulating particles was dropped into the liquid containing conductive particles over 10 minutes while applying ultrasonic waves. Then, it filtered and it was made to dry at 100 degreeC with a vacuum dryer for 8 hours, and the electroconductive particle main body with an insulating particle was obtained.

純水25gとエタノール25gとの混合液中に上記絶縁性粒子付き導電性粒子10重量部とオレイルアシッドホスフェイト0.5重量部とを入れ、50℃で1時間攪拌した。70℃に昇温した後、メタクリル酸メチル2重量部と、開始剤(和光純薬工業社製「V−50」)0.5重量部と、純水10重量部及びエタノール10重量部の混合液とを2時間かけて滴下し、続けて5時間撹拌した。その後、ろ過し、真空乾燥機により100℃で8時間乾燥させ、絶縁性粒子付き導電性粒子本体の表面に、上記オレイルアシッドホスフェイト及びメタクリル酸メチルにより形成された被膜を有する絶縁性粒子付き導電性粒子を得た。集束イオンビームを用いて、得られた導電性粒子の薄膜切片を作製し、透過型電子顕微鏡FE−TEM(日本電子社製「JEM−2010FEF」)を用いて、エネルギー分散型X線分析装置(EDS)により、オレイルアシッドホスフェイト及びメタクリル酸メチルにより形成された被膜の状態を観察し、かつ被膜の厚みを測定した。上記被膜は、導電性粒子の表面と絶縁性粒子の表面とを被覆していた。導電性粒子の表面を被覆している第1の被膜部分と、絶縁性粒子の表面を被覆している第2の被膜部分とは、連なっていた。第1の被膜部分と第2の被膜部分との厚みは同じであった。第1の被膜部分における厚みの、絶縁性粒子の平均粒子径に対する比(厚み/平均粒子径)は1であった。複数の絶縁性粒子の全てが、導電性粒子に接触していた。絶縁性粒子付き導電性粒子では、全ての絶縁性粒子が露出していなかった。   10 parts by weight of the conductive particles with insulating particles and 0.5 part by weight of oleyl acid phosphate were placed in a mixed solution of 25 g of pure water and 25 g of ethanol, and stirred at 50 ° C. for 1 hour. After heating to 70 ° C., mixing of 2 parts by weight of methyl methacrylate, 0.5 part by weight of initiator (“V-50” manufactured by Wako Pure Chemical Industries, Ltd.), 10 parts by weight of pure water and 10 parts by weight of ethanol The solution was added dropwise over 2 hours, followed by stirring for 5 hours. Then, it is filtered and dried at 100 ° C. for 8 hours by a vacuum drier. Conductive particles with insulating particles having a film formed of the oleyl acid phosphate and methyl methacrylate on the surface of the conductive particle body with insulating particles. Sex particles were obtained. Using a focused ion beam, a thin film section of the obtained conductive particles was prepared, and an energy dispersive X-ray analyzer (“JEM-2010FEF” manufactured by JEOL Ltd.) was used with a transmission electron microscope FE-TEM ( By EDS), the state of the film formed with oleyl acid phosphate and methyl methacrylate was observed, and the thickness of the film was measured. The coating covered the surface of the conductive particles and the surface of the insulating particles. The first coating portion covering the surface of the conductive particles and the second coating portion covering the surface of the insulating particles were continuous. The thickness of the 1st film part and the 2nd film part was the same. The ratio (thickness / average particle diameter) of the thickness of the first coating portion to the average particle diameter of the insulating particles was 1. All of the plurality of insulating particles were in contact with the conductive particles. In the conductive particles with insulating particles, all the insulating particles were not exposed.

(実施例2)
実施例1と同じ導電性粒子(平均粒子径3μm、導電層の厚み0.2μm)を用意した。
(Example 2)
The same conductive particles as those of Example 1 (average particle diameter 3 μm, conductive layer thickness 0.2 μm) were prepared.

また、ゾルゲル法を使用して作製したシリカ粒子(平均粒子径200nm)の表面をビニルトリエトキシシランで被覆し、ビニル基を表面に有する絶縁性粒子を絶縁性粒子本体として得た。具体的には、シリカ粒子10重量部を水とエタノールとが重量比1:9で混合された液400mLにスリーワンモーターを用いて分散させて、第1の分散液を得た。次いでビニルトリエトキシシラン0.1重量部を水とエタノールとが重量比1:9で混合された液100mLに分散させて、第2の分散液を得た。その後、上記第2の分散液を上記第1の分散液に10分かけて滴下し、混合液を得た。滴下後、得られた混合液を30分攪拌した。その後、混合液をろ過し、100℃で2時間乾燥した後、篩で篩うことにより、絶縁性粒子本体を得た。   Moreover, the surface of the silica particle (average particle diameter 200nm) produced using the sol-gel method was coat | covered with vinyltriethoxysilane, and the insulating particle which has a vinyl group on the surface was obtained as an insulating particle main body. Specifically, 10 parts by weight of silica particles were dispersed in 400 mL of a liquid in which water and ethanol were mixed at a weight ratio of 1: 9 using a three-one motor to obtain a first dispersion. Next, 0.1 part by weight of vinyltriethoxysilane was dispersed in 100 mL of a liquid in which water and ethanol were mixed at a weight ratio of 1: 9 to obtain a second dispersion. Thereafter, the second dispersion was dropped into the first dispersion over 10 minutes to obtain a mixed solution. After the dropwise addition, the resulting mixture was stirred for 30 minutes. Then, after filtering a liquid mixture and drying at 100 degreeC for 2 hours, the insulating particle main body was obtained by sieving with a sieve.

水200mL中に、上記絶縁性粒子本体1重量部と、絶縁性粒子本体を覆う高分子化合物として、メタクリル酸メチル0.22重量部と、ジメタクリル酸エチレングリコール0.05重量部と、開始剤(和光純薬工業社製「V−50」)0.5重量部とをスリーワンモーターで十分に攪拌しながら70℃まで昇温し、70℃で6時間保持して、上記モノマーを重合させた。   In 200 mL of water, 1 part by weight of the insulating particle main body, 0.22 part by weight of methyl methacrylate, 0.05 part by weight of ethylene glycol dimethacrylate, and an initiator as a polymer compound covering the insulating particle main body (V-50 manufactured by Wako Pure Chemical Industries, Ltd.) 0.5 parts by weight was heated to 70 ° C. with sufficient stirring with a three-one motor and held at 70 ° C. for 6 hours to polymerize the monomer. .

その後、冷却し、遠心分離機で固液分離を2回行い、余分なモノマーを洗浄により除去し、高分子化合物により表面全体が被覆された絶縁性粒子を得た。次に、得られた絶縁性粒子を純水30mLに分散して、絶縁性粒子の分散液を得た。   Then, it cooled, solid-liquid separation was performed twice with the centrifuge, the excess monomer was removed by washing | cleaning, and the insulating particle by which the whole surface was coat | covered with the high molecular compound was obtained. Next, the obtained insulating particles were dispersed in 30 mL of pure water to obtain a dispersion of insulating particles.

1Lのセパラブルフラスコに純水250mLと、エタノール50mLと、上記導電性粒子15重量部とを入れ、十分に攪拌し、導電性粒子を含む液を得た。この導電性粒子を含む液に、超音波を当てながら上記絶縁性粒子の分散液を10分間かけて滴下した後、40℃に昇温し1時間攪拌を行った。その後、ろ過し、真空乾燥機により100℃で8時間乾燥させ、絶縁性粒子付き導電性粒子本体を得た。   A 1 L separable flask was charged with 250 mL of pure water, 50 mL of ethanol, and 15 parts by weight of the conductive particles, and stirred sufficiently to obtain a liquid containing conductive particles. To the liquid containing the conductive particles, the dispersion of the insulating particles was dropped over 10 minutes while applying ultrasonic waves, and then the temperature was raised to 40 ° C. and stirred for 1 hour. Then, it filtered and it was made to dry at 100 degreeC with a vacuum dryer for 8 hours, and the electroconductive particle main body with an insulating particle was obtained.

得られた絶縁性粒子付き導電性粒子本体を用いたこと以外は実施例1と同様にして、絶縁性粒子付き導電性粒子を得た。上記被膜は、導電性粒子の表面と絶縁性粒子の表面とを被覆していた。導電性粒子の表面を被覆している第1の被膜部分と、絶縁性粒子の表面を被覆している第2の被膜部分とは、連なっていた。第1の被膜部分と第2の被膜部分との厚みは同じであった。第1の被膜部分における厚みの、絶縁性粒子の平均粒子径に対する比(厚み/平均粒子径)は1であった。複数の絶縁性粒子の全てが、導電性粒子に接触していた。絶縁性粒子付き導電性粒子では、全ての絶縁性粒子が露出していなかった。   Except having used the obtained electroconductive particle main body with an insulating particle, it carried out similarly to Example 1, and obtained the electroconductive particle with an insulating particle. The coating covered the surface of the conductive particles and the surface of the insulating particles. The first coating portion covering the surface of the conductive particles and the second coating portion covering the surface of the insulating particles were continuous. The thickness of the 1st film part and the 2nd film part was the same. The ratio (thickness / average particle diameter) of the thickness of the first coating portion to the average particle diameter of the insulating particles was 1. All of the plurality of insulating particles were in contact with the conductive particles. In the conductive particles with insulating particles, all the insulating particles were not exposed.

(実施例3)
金属ニッケル粒子スラリー(平均粒子径200nm)を、金属ニッケル粒子スラリー(平均粒子径50nm)に変更し、突起の平均高さを0.06μmに変更したこと以外は実施例1と同様にして、絶縁性粒子付き導電性粒子を得た。
(Example 3)
Insulation was performed in the same manner as in Example 1 except that the metal nickel particle slurry (average particle size 200 nm) was changed to metal nickel particle slurry (average particle size 50 nm) and the average height of the protrusions was changed to 0.06 μm. Conductive particles with conductive particles were obtained.

(実施例4)
金属ニッケル粒子スラリー(平均粒子径200nm)を、金属ニッケル粒子スラリー(平均粒子径70nm)に変更し、突起の平均高さを0.08μmに変更したこと以外は実施例1と同様にして、絶縁性粒子付き導電性粒子を得た。
Example 4
Insulation was conducted in the same manner as in Example 1 except that the metal nickel particle slurry (average particle diameter 200 nm) was changed to metal nickel particle slurry (average particle diameter 70 nm) and the average height of the protrusions was changed to 0.08 μm. Conductive particles with conductive particles were obtained.

(実施例5)
金属ニッケル粒子スラリー(平均粒子径200nm)を、金属ニッケル粒子スラリー(平均粒子径400nm)に変更し、突起の平均高さを0.45μmに変更したこと以外は実施例1と同様にして、絶縁性粒子付き導電性粒子を得た。
(Example 5)
Insulation was performed in the same manner as in Example 1 except that the metal nickel particle slurry (average particle diameter 200 nm) was changed to metal nickel particle slurry (average particle diameter 400 nm) and the average height of the protrusions was changed to 0.45 μm. Conductive particles with conductive particles were obtained.

(実施例6)
オレイルアシッドホスフェイトを、リン酸モノオクチルエステルに変更したこと以外は、実施例1と同様にして、絶縁性粒子付き導電性粒子を得た。
(Example 6)
Conductive particles with insulating particles were obtained in the same manner as in Example 1, except that oleyl acid phosphate was changed to monooctyl phosphate.

(実施例7)
オレイルアシッドホスフェイトを、リン酸モノドデシルエステルに変更したこと以外は、実施例1と同様にして、絶縁性粒子付き導電性粒子を得た。
(Example 7)
Conductive particles with insulating particles were obtained in the same manner as in Example 1 except that oleyl acid phosphate was changed to monododecyl phosphate.

(実施例8)
オレイルアシッドホスフェイトを、リン酸モノヘキサデシルエステルに変更したこと以外は、実施例1と同様にして、絶縁性粒子付き導電性粒子を得た。
(Example 8)
Conductive particles with insulating particles were obtained in the same manner as in Example 1 except that oleyl acid phosphate was changed to monohexadecyl phosphate.

(実施例9)
オレイルアシッドホスフェイトを、ヘキシルトリエトキシシランに変更したこと以外は、実施例1と同様にして、絶縁性粒子付き導電性粒子を得た。
Example 9
Conductive particles with insulating particles were obtained in the same manner as in Example 1 except that oleyl acid phosphate was changed to hexyltriethoxysilane.

(実施例10)
オレイルアシッドホスフェイトを、オクチルトリエトキシシランに変更したこと以外は、実施例1と同様にして、絶縁性粒子付き導電性粒子を得た。
(Example 10)
Conductive particles with insulating particles were obtained in the same manner as in Example 1 except that oleyl acid phosphate was changed to octyltriethoxysilane.

(実施例11)
オレイルアシッドホスフェイトを、ドデシルトリエトキシシランに変更したこと以外は、実施例1と同様にして、絶縁性粒子付き導電性粒子を得た。
(Example 11)
Conductive particles with insulating particles were obtained in the same manner as in Example 1 except that oleyl acid phosphate was changed to dodecyltriethoxysilane.

(実施例12)
高分子化合物となる化合物を、メタクリル酸2.5重量部と、ジビニルベンゼン1.2重量部とに変更したこと以外は実施例2と同様にして、絶縁性粒子を含む分散液を得た。なお、上記絶縁性粒子の分散液の状態で、高分子化合物により被覆された絶縁性粒子の平均粒子径は335nmであった。
(Example 12)
A dispersion containing insulating particles was obtained in the same manner as in Example 2 except that the polymer compound was changed to 2.5 parts by weight of methacrylic acid and 1.2 parts by weight of divinylbenzene. The average particle diameter of the insulating particles coated with the polymer compound in the state of the dispersion of the insulating particles was 335 nm.

絶縁性粒子を含む分散液として、得られた絶縁性粒子を含む分散液を用いた以外は実施例1と同様にして、絶縁性粒子付き導電性粒子を得た。   Conductive particles with insulating particles were obtained in the same manner as in Example 1 except that the obtained dispersion containing insulating particles was used as the dispersion containing insulating particles.

(実施例13)
シリカ粒子の表面をメタクリロキシプロピルトリエトキシシランで被覆し、メタクリロイル基を表面に有する絶縁性粒子を絶縁性粒子本体として得たこと、並びに高分子化合物となる化合物を、酢酸ビニル2.2重量部と、N,N−メチレンビスアクリルアミド1.0重量部とに変更したこと以外は実施例2と同様にして、絶縁性粒子を含む分散液を得た。
(Example 13)
The surface of the silica particles was coated with methacryloxypropyltriethoxysilane to obtain insulating particles having a methacryloyl group on the surface as the insulating particle body, and the compound to be a polymer compound was 2.2 parts by weight of vinyl acetate. A dispersion containing insulating particles was obtained in the same manner as in Example 2 except that the amount was changed to 1.0 part by weight of N, N-methylenebisacrylamide.

なお、上記絶縁性粒子の分散液の状態で、高分子化合物により被覆された絶縁性粒子の平均粒子径は326nmであった。   The average particle diameter of the insulating particles covered with the polymer compound in the state of the dispersion of the insulating particles was 326 nm.

絶縁性粒子を含む分散液として、得られた絶縁性粒子を含む分散液を用いた以外は実施例1と同様にして、絶縁性粒子付き導電性粒子を得た。   Conductive particles with insulating particles were obtained in the same manner as in Example 1 except that the obtained dispersion containing insulating particles was used as the dispersion containing insulating particles.

(実施例14)
導電性粒子として、ジビニルベンゼン樹脂粒子の表面に芯物質としてニッケル粉体(100nm)が付着しており、かつニッケル粉体が付着したジビニルベンゼン粒子の表面上にニッケルめっき層(導電層)が形成されている導電性粒子(平均粒子径3.03μm、導電層の厚み0.21μm)を用いたこと以外は実施例1と同様にして、絶縁性粒子付き導電性粒子を得た。
(Example 14)
As conductive particles, nickel powder (100 nm) is attached as a core substance to the surface of divinylbenzene resin particles, and a nickel plating layer (conductive layer) is formed on the surface of divinylbenzene particles to which nickel powder is attached. Conductive particles with insulating particles were obtained in the same manner as in Example 1 except that the conductive particles (average particle size: 3.03 μm, conductive layer thickness: 0.21 μm) were used.

(実施例15)
高分子化合物となる化合物を、メタクリル酸0.4重量部と、ジメタクリル酸エチレングリコール0.05重量部とに変更したこと以外は実施例2と同様にして、絶縁性粒子を含む分散液を得た。
(Example 15)
A dispersion containing insulating particles was obtained in the same manner as in Example 2 except that the polymer compound was changed to 0.4 parts by weight of methacrylic acid and 0.05 parts by weight of ethylene glycol dimethacrylate. Obtained.

なお、上記絶縁性粒子の分散液の状態で、高分子化合物により被覆された絶縁性粒子の平均粒子径は248nmであった。   The average particle diameter of the insulating particles coated with the polymer compound in the state of the dispersion of the insulating particles was 248 nm.

絶縁性粒子を含む分散液として、得られた絶縁性粒子を含む分散液を用いたこと以外は実施例1と同様にして、絶縁性粒子付き導電性粒子を得た。   Conductive particles with insulating particles were obtained in the same manner as in Example 1 except that the obtained dispersion containing insulating particles was used as the dispersion containing insulating particles.

(実施例16)
ハイブリダイゼーション法を使用して絶縁性粒子付き導電性粒子本体を得たこと以外は実施例2と同様にして、絶縁性粒子付き導電性粒子を得た。なお、ハイブリダイゼーション法では、ハイブリダイザー(奈良機械製作所社製「NHSシリーズ」)を用いて、50℃、12000回転/分の条件下で、絶縁性粒子と導電性粒子とを混合し、絶縁性粒子付き導電性粒子を得た。
(Example 16)
Conductive particles with insulating particles were obtained in the same manner as in Example 2 except that the conductive particle body with insulating particles was obtained using the hybridization method. In the hybridization method, insulating particles and conductive particles are mixed using a hybridizer (“NHS series” manufactured by Nara Machinery Co., Ltd.) under the conditions of 50 ° C. and 12,000 revolutions / minute to obtain insulating properties. Conductive particles with particles were obtained.

(実施例17)
被膜を形成する際の材料の使用量を変えて、第1の被膜部分における厚みを、絶縁性粒子の平均粒子径の0.70倍(140nm)にしたこと以外は実施例1と同様にして、絶縁性粒子付き導電性粒子を得た。
(Example 17)
The amount of the material used for forming the coating was changed, and the thickness in the first coating portion was changed to 0.70 times (140 nm) the average particle diameter of the insulating particles in the same manner as in Example 1. As a result, conductive particles with insulating particles were obtained.

(実施例18)
被膜を形成する際の材料の使用量を変えて、第1の被膜部分における厚みを、絶縁性粒子の平均粒子径の2.5倍(500nm)にしたこと以外は実施例1と同様にして、絶縁性粒子付き導電性粒子を得た。
(Example 18)
The amount of the material used for forming the coating was changed, and the thickness in the first coating was changed to 2.5 times (500 nm) the average particle diameter of the insulating particles, as in Example 1. As a result, conductive particles with insulating particles were obtained.

(実施例19)
被膜を形成する際の材料の使用量を変えて、第1の被膜部分における厚みを、絶縁性粒子の平均粒子径の3倍(600nm)にしたこと以外は実施例1と同様にして、絶縁性粒子付き導電性粒子を得た。
(Example 19)
Insulation was performed in the same manner as in Example 1 except that the amount of the material used for forming the coating was changed and the thickness of the first coating was changed to 3 times the average particle diameter (600 nm) of the insulating particles. Conductive particles with conductive particles were obtained.

(実施例20)
導電性粒子として、ジビニルベンゼン樹脂粒子の表面に芯物質としてシリカ粉体(平均粒子径200nm)が付着しており、かつシリカ粉体が付着したジビニルベンゼン粒子の表面上にニッケルめっき層(導電層)が形成されている導電性粒子(平均粒子径3μm、導電層の厚み0.2μm)を用いたこと以外は実施例1と同様にして、絶縁性粒子付き導電性粒子を得た。
(Example 20)
As conductive particles, silica powder (average particle diameter 200 nm) is attached as a core substance to the surface of divinylbenzene resin particles, and a nickel plating layer (conductive layer) is formed on the surface of divinylbenzene particles to which silica powder is attached. ) Was used in the same manner as in Example 1 except that conductive particles (average particle diameter of 3 μm, conductive layer thickness of 0.2 μm) formed thereon were obtained.

(実施例21)
導電性粒子として、芯物質としての金属ニッケル粒子を添加せず、ジビニルベンゼン樹脂粒子の表面にめっき反応時に系内で発生させたナノ粉体(200nm)が付着するように変更し、ニッケルナノ粉体が付着したジビニルベンゼン粒子の表面上にニッケルめっき層(導電層)が形成されている導電性粒子(平均粒子径3μm、導電層の厚み0.2μm)を用いたこと以外は実施例1と同様にして、絶縁性粒子付き導電性粒子を得た。
(Example 21)
Nickel nanopowder was changed so that the nanopowder (200 nm) generated in the system during the plating reaction was attached to the surface of the divinylbenzene resin particles without adding metallic nickel particles as the core material as conductive particles. Example 1 except that conductive particles (average particle diameter 3 μm, conductive layer thickness 0.2 μm) in which a nickel plating layer (conductive layer) is formed on the surface of the divinylbenzene particles to which the body is attached are used. Similarly, conductive particles with insulating particles were obtained.

(比較例1)
実施例1で得られた絶縁性粒子付き導電性粒子本体である絶縁性粒子付き導電性粒子。すなわち、比較例1では、実施例1で得られた絶縁性粒子付き導電性粒子本体に被膜を形成せずに、実施例1で得られた絶縁性粒子付き導電性粒子本体自体を絶縁性粒子付き導電性粒子として用いて後述する評価を行った。
(Comparative Example 1)
The electroconductive particle with an insulating particle which is the electroconductive particle main body with an insulating particle obtained in Example 1. That is, in Comparative Example 1, the conductive particle main body with insulating particles obtained in Example 1 was not formed on the conductive particle main body with insulating particles obtained in Example 1, and the insulating particle was used as an insulating particle. The attached conductive particles were used for evaluation described later.

(比較例2)
ジビニルベンゼン樹脂粒子の表面にニッケルめっき層が形成されている金属層を有する導電性粒子(平均粒子径3μm、導電層の厚み0.2μm)を用意した。
(Comparative Example 2)
Conductive particles (average particle diameter: 3 μm, conductive layer thickness: 0.2 μm) having a metal layer on which nickel plating layers are formed on the surface of divinylbenzene resin particles were prepared.

純水25gとエタノール25gとの混合液中に上記絶縁性粒子付き導電性粒子10重量部とオレイルアシッドホスフェイト0.5重量部とを入れ、50℃で1時間攪拌した。その後、ろ過し、真空乾燥機により100℃で8時間乾燥させ、導電性粒子の表面に、上記リン酸モノヘキシルエステルにより形成された被膜を有する導電性粒子を得た。上記被膜は、導電性粒子の表面を被覆していた。   10 parts by weight of the conductive particles with insulating particles and 0.5 part by weight of oleyl acid phosphate were placed in a mixed solution of 25 g of pure water and 25 g of ethanol, and stirred at 50 ° C. for 1 hour. Then, it filtered and dried at 100 degreeC with the vacuum dryer for 8 hours, and obtained the electroconductive particle which has the film formed with the said monohexyl phosphate on the surface of electroconductive particle. The coating covered the surface of the conductive particles.

また、ゾルゲル法を使用して作製したシリカ粒子(平均粒子径200nm)の表面をヒドロキシトリエトキシシランで被覆し、水酸基を表面に有する絶縁性粒子を得た。この絶縁性粒子を純水30mLに分散して、絶縁性粒子を含む分散液を得た。   Moreover, the surface of the silica particle (average particle diameter 200nm) produced using the sol-gel method was coat | covered with hydroxytriethoxysilane, and the insulating particle which has a hydroxyl group on the surface was obtained. The insulating particles were dispersed in 30 mL of pure water to obtain a dispersion containing insulating particles.

1Lのセパラブルフラスコに、純水250mLと、エタノール50mLと、上記導電性粒子15重量部とを入れ、十分に攪拌し、導電性粒子を含む液を得た。被膜を有する導電性粒子を含む液に、絶縁性粒子を含む分散液を、超音波を当てながら10分間かけて滴下した。その後、ろ過し、真空乾燥機により100℃で8時間乾燥させ、絶縁性粒子付き導電性粒子を得た。得られた絶縁性粒子付き導電性粒子では、上記被膜は、絶縁性粒子の表面を覆っていなかった。   In a 1 L separable flask, 250 mL of pure water, 50 mL of ethanol, and 15 parts by weight of the conductive particles were put, and stirred sufficiently to obtain a liquid containing conductive particles. A dispersion containing insulating particles was dropped into a liquid containing conductive particles having a film over 10 minutes while applying ultrasonic waves. Then, it filtered and it was made to dry at 100 degreeC with a vacuum dryer for 8 hours, and the electroconductive particle with an insulating particle was obtained. In the obtained conductive particles with insulating particles, the coating did not cover the surfaces of the insulating particles.

(比較例3)
被膜を形成する際の材料の使用量を変えて、第1の被膜部分における厚みを、絶縁性粒子の平均粒子径の0.60倍(120nm)にしたこと以外は実施例1と同様にして、絶縁性粒子付き導電性粒子を得た。
(Comparative Example 3)
The amount of the material used for forming the coating was changed, and the thickness in the first coating was changed to 0.60 times (120 nm) the average particle diameter of the insulating particles in the same manner as in Example 1. As a result, conductive particles with insulating particles were obtained.

(比較例4)
突起を形成しなかったこと以外は実施例1と同様にして、絶縁性粒子付き導電性粒子を得た。
(Comparative Example 4)
Conductive particles with insulating particles were obtained in the same manner as in Example 1 except that no protrusion was formed.

(比較例5)
被膜を形成する際の材料の使用量を変えて、第1の被膜部分における厚みを、絶縁性粒子の平均粒子径の3.5倍(700nm)にしたこと以外は実施例1と同様にして、絶縁性粒子付き導電性粒子を得た。
(Comparative Example 5)
The amount of the material used for forming the coating was changed, and the thickness in the first coating was changed to 3.5 times (700 nm) the average particle diameter of the insulating particles, as in Example 1. As a result, conductive particles with insulating particles were obtained.

(比較例6,7)
芯物質として用いる金属ニッケル粒子スラリー(平均粒子径200nm)の平均粒子径をかえて、突起の平均高さを下記の表1に示すように変更したこと以外は実施例1と同様にして、絶縁性粒子付き導電性粒子を得た。
(Comparative Examples 6 and 7)
Insulation was carried out in the same manner as in Example 1 except that the average particle diameter of the metal nickel particle slurry (average particle diameter 200 nm) used as the core substance was changed and the average height of the protrusions was changed as shown in Table 1 below. Conductive particles with conductive particles were obtained.

(評価)
異方性導電ペーストの調製:
絶縁性粒子付き導電性粒子を含有量が10重量%となるように、三井化学社製「ストラクトボンドXN−5A」に添加し、分散させ、異方性導電ペーストを得た。
(Evaluation)
Preparation of anisotropic conductive paste:
The conductive particles with insulating particles were added to “Strectbond XN-5A” manufactured by Mitsui Chemicals so that the content was 10% by weight, and dispersed to obtain an anisotropic conductive paste.

接続構造体の作製:
L/Sが30μm/30μmであるITO電極パターンが上面に形成された透明ガラス基板を用意した。また、L/Sが30μm/30μmである銅電極パターンが下面に形成された半導体チップを用意した。
Fabrication of connection structure:
A transparent glass substrate having an ITO electrode pattern with an L / S of 30 μm / 30 μm formed on the upper surface was prepared. Further, a semiconductor chip was prepared in which a copper electrode pattern having L / S of 30 μm / 30 μm was formed on the lower surface.

上記透明ガラス基板上に、得られた異方性導電ペーストを厚さ30μmとなるように塗工し、異方性導電ペースト層を形成した。次に、異方性導電ペースト層上に上記半導体チップを、電極同士が対向するように積層した。その後、異方性導電ペースト層の温度が185℃となるようにヘッドの温度を調整しながら、半導体チップの上面に加圧加熱ヘッドを載せ、0.5MPaの圧力をかけて異方性導電ペースト層を185℃で完全硬化させ、接続構造体を得た。   On the transparent glass substrate, the obtained anisotropic conductive paste was applied to a thickness of 30 μm to form an anisotropic conductive paste layer. Next, the semiconductor chip was stacked on the anisotropic conductive paste layer so that the electrodes face each other. Then, while adjusting the temperature of the head so that the temperature of the anisotropic conductive paste layer becomes 185 ° C., a pressure heating head is placed on the upper surface of the semiconductor chip, and a pressure of 0.5 MPa is applied to apply the anisotropic conductive paste. The layer was fully cured at 185 ° C. to obtain a connection structure.

(1)導通信頼性の評価(上下の電極間)
得られた接続構造体の上下の電極間の接続抵抗をそれぞれ、4端子法により測定した。2つの接続抵抗の平均値を算出した。なお、電圧=電流×抵抗の関係から、一定の電流を流した時の電圧を測定することにより接続抵抗を求めることができる。導通信頼性(接続抵抗)を下記の基準で判定した。
(1) Evaluation of conduction reliability (between upper and lower electrodes)
The connection resistance between the upper and lower electrodes of the obtained connection structure was measured by a four-terminal method. The average value of the two connection resistances was calculated. Note that the connection resistance can be obtained by measuring the voltage when a constant current is passed from the relationship of voltage = current × resistance. The conduction reliability (connection resistance) was determined according to the following criteria.

[導通信頼性の判定基準]
○○:接続抵抗が2.0Ω以下
○:接続抵抗が2.0Ωを超え、3.0Ω以下
△:接続抵抗が3.0Ωを超え、4.0Ω以下
△△:接続抵抗が4.0Ωを超え、5.0Ω以下
×:接続抵抗が5.0Ωを超える
[Judgment criteria for conduction reliability]
○○: Connection resistance is 2.0Ω or less ○: Connection resistance exceeds 2.0Ω, 3.0Ω or less △: Connection resistance exceeds 3.0Ω, 4.0Ω or less Δ △: Connection resistance is 4.0Ω Exceeding 5.0Ω or less ×: Connection resistance exceeds 5.0Ω

(2)絶縁信頼性の評価(横方向に隣り合う電極間)
得られた接続構造体において、隣接する電極間のリークの有無を、テスターで抵抗を測定することにより評価した。絶縁信頼性を下記の基準で判定した。
(2) Evaluation of insulation reliability (between adjacent electrodes in the horizontal direction)
In the obtained connection structure, the presence or absence of leakage between adjacent electrodes was evaluated by measuring resistance with a tester. Insulation reliability was judged according to the following criteria.

[絶縁信頼性の判定基準]
○:抵抗が700MΩを超え、リーク無しと判定
△:抵抗が500MΩを超え、700MΩ以下であり、リーク無しと判定
×:抵抗が500MΩ以下であり、リーク有りと判定
[Criteria for insulation reliability]
○: Resistance exceeds 700 MΩ and it is determined that there is no leak. Δ: Resistance exceeds 500 MΩ and is 700 MΩ or less, and it is determined that there is no leakage. X: Resistance is 500 MΩ or less and it is determined that there is a leak.

(3)防錆性
接続構造体を、85℃及び相対湿度85%の条件で放置した。放置開始から、100時間後に上記同様に電極間の接続抵抗を4端子法により測定した。上記の導通信頼性の評価時の接続抵抗(放置前)の平均値に対して、接続抵抗(放置後)の平均値がどれだけ上昇しているかを評価することで、防錆性を評価した。
(3) Rust prevention The connection structure was left under conditions of 85 ° C. and relative humidity 85%. After 100 hours from the start of standing, the connection resistance between the electrodes was measured by the 4-terminal method in the same manner as described above. Rust prevention was evaluated by evaluating how much the average value of connection resistance (after leaving) rises compared to the average value of connection resistance (before leaving) at the time of evaluation of the above-mentioned conduction reliability. .

[防錆性の判定基準]
○:接続抵抗(放置前)の平均値に対して、接続抵抗(放置後)の平均値が150%未満
×:接続抵抗(放置前)の平均値に対して、接続抵抗(放置後)の平均値が150%以上
[Criteria for rust prevention]
○: The average value of the connection resistance (after leaving) is less than 150% of the average value of the connection resistance (before leaving). ×: The connection resistance (after leaving) of the average value of the connection resistance (before leaving). The average value is 150% or more

(4)導電接続前の絶縁性粒子の脱離防止性
異方性導電ペーストにおいて、導電性粒子の表面から絶縁性粒子が脱離しているか否かを観察した。絶縁性粒子の脱離防止性を下記の基準で判定した。
(4) Insulation prevention property of insulating particles before conductive connection In the anisotropic conductive paste, it was observed whether or not the insulating particles were detached from the surface of the conductive particles. The anti-detachment property of the insulating particles was determined according to the following criteria.

[脱離防止性の判定基準]
○:導電性粒子の表面から脱離した絶縁性粒子の割合が極めて少ない(脱離した絶縁性粒子の個数割合が10%未満)
△:導電性粒子の表面から脱離した絶縁性粒子が少しある(脱離した絶縁性粒子の個数割合が10%以上、40%未満)
×:導電性粒子の表面から脱離した絶縁性粒子が多くある(脱離した絶縁性粒子の個数割合が40%以上)
[Decision criteria for desorption prevention]
○: The ratio of the insulating particles detached from the surface of the conductive particles is extremely small (the number ratio of the detached insulating particles is less than 10%).
Δ: There are a few insulating particles detached from the surface of the conductive particles (number ratio of the detached insulating particles is 10% or more and less than 40%)
X: There are many insulating particles detached from the surface of the conductive particles (number ratio of detached insulating particles is 40% or more)

(5)導電接続時の絶縁性粒子の脱離性
接続構造体において、導電性粒子の表面から絶縁性粒子が脱離せずに又は脱離後に、電極と導電性粒子との間に挟み込まれている絶縁性粒子が存在するか否かを評価した。
(5) Insulative particle detachability during conductive connection In the connection structure, the insulating particle is sandwiched between the electrode and the conductive particle without or after detachment from the surface of the conductive particle. It was evaluated whether or not insulating particles exist.

[絶縁性粒子の脱離性の判定基準]
○:電極と導電性粒子との間に挟み込まれている絶縁性粒子が存在しない
△:電極と導電性粒子との間に挟み込まれている絶縁性粒子がわずかに存在する
×:電極と導電性粒子との間に挟み込まれている絶縁性粒子が存在する
[Judgment criteria for detachability of insulating particles]
○: There are no insulating particles sandwiched between the electrode and the conductive particles. Δ: There are a few insulating particles sandwiched between the electrode and the conductive particles. There are insulating particles sandwiched between the particles

結果を下記の表1に示す。下記表1において、比(厚み/平均粒子径)は、被膜の厚みの、絶縁性粒子の平均粒子径に対する比を示す。なお、(1)導通信頼性の評価において、接続抵抗の具体的な数値に関しては、実施例18では、実施例19よりも低かった。   The results are shown in Table 1 below. In Table 1 below, the ratio (thickness / average particle diameter) indicates the ratio of the thickness of the coating to the average particle diameter of the insulating particles. In the evaluation of (1) conduction reliability, the specific value of the connection resistance was lower in Example 18 than in Example 19.

Figure 2016085988
Figure 2016085988

1…絶縁性粒子付き導電性粒子
2…絶縁性粒子付き導電性粒子本体
3…被膜
3a…第1の被膜部分
3b…第2の被膜部分
11…導電性粒子
11a…突起
12…基材粒子
13…導電層(導電部)
13a…突起
14…芯物質
15…絶縁性粒子
21…絶縁性粒子付き導電性粒子
22…絶縁性粒子付き導電性粒子本体
31…導電性粒子
31a…突起
32…導電部
32a…突起
35…絶縁性粒子
35a…絶縁性粒子本体
35b…層
41…絶縁性粒子付き導電性粒子
42…絶縁性粒子付き導電性粒子本体
43…被膜
43a…第1の被膜部分
43b…第2の被膜部分
51…導電性粒子
51a…突起
52…導電層
52A…第1の導電層
52B…第2の導電層
52a…突起
81…接続構造体
82…第1の接続対象部材
82a…第1の電極
83…第2の接続対象部材
83a…第2の電極
84…接続部
DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 ... Conductive particle with insulating particle 2 ... Conductive particle body with insulating particle 3 ... Coating 3a ... First coating part 3b ... Second coating part 11 ... Conductive particle 11a ... Protrusion 12 ... Base particle 13 ... Conductive layer (conductive part)
DESCRIPTION OF SYMBOLS 13a ... Protrusion 14 ... Core substance 15 ... Insulating particle 21 ... Conductive particle with insulating particle 22 ... Conductive particle body with insulating particle 31 ... Conductive particle 31a ... Protrusion 32 ... Conductive part 32a ... Protrusion 35 ... Insulating Particle 35a ... Insulating particle body 35b ... Layer 41 ... Conductive particle with insulating particle 42 ... Conductive particle body with insulating particle 43 ... Coating 43a ... First coating part 43b ... Second coating part 51 ... Conductivity Particle 51a ... Protrusion 52 ... Conductive layer 52A ... First conductive layer 52B ... Second conductive layer 52a ... Protrusion 81 ... Connection structure 82 ... First connection object member 82a ... First electrode 83 ... Second connection Target member 83a ... second electrode 84 ... connecting portion

Claims (13)

絶縁性粒子付き導電性粒子本体と、前記絶縁性粒子付き導電性粒子本体の表面を被覆している被膜とを備え、
前記絶縁性粒子付き導電性粒子本体が、導電部を少なくとも表面に有する導電性粒子と、前記導電性粒子の表面上に配置された複数の絶縁性粒子とを有し、
前記導電性粒子が、前記導電部の外表面に複数の突起を有し、
前記突起の平均高さが、0.05μm以上、0.5μm以下であり、
前記被膜が、前記導電性粒子を覆っている第1の被膜部分と、前記絶縁性粒子の表面を覆っている第2の被膜部分とを有し、
前記第1の被膜部分における厚みの、前記絶縁性粒子の平均粒子径に対する比が、2/3以上、3以下である、絶縁性粒子付き導電性粒子。
A conductive particle body with insulating particles, and a coating covering the surface of the conductive particle body with insulating particles,
The conductive particle body with insulating particles has conductive particles having at least a conductive part on the surface, and a plurality of insulating particles arranged on the surface of the conductive particles,
The conductive particles have a plurality of protrusions on the outer surface of the conductive portion;
The average height of the protrusions is 0.05 μm or more and 0.5 μm or less,
The coating has a first coating portion covering the conductive particles and a second coating portion covering the surfaces of the insulating particles,
Conductive particles with insulating particles, wherein the ratio of the thickness of the first coating portion to the average particle diameter of the insulating particles is 2/3 or more and 3 or less.
前記絶縁性粒子が、無機粒子を含むか、又は前記絶縁性粒子の外表面が、前記被膜のガラス転移温度よりも高いガラス転移温度を有する、請求項1に記載の絶縁性粒子付き導電性粒子。   The conductive particles with insulating particles according to claim 1, wherein the insulating particles include inorganic particles, or an outer surface of the insulating particles has a glass transition temperature higher than a glass transition temperature of the coating film. . 前記絶縁性粒子の外表面が、前記被膜のガラス転移温度よりも高いガラス転移温度を有する、請求項1又は2に記載の絶縁性粒子付き導電性粒子。   The conductive particles with insulating particles according to claim 1 or 2, wherein an outer surface of the insulating particles has a glass transition temperature higher than a glass transition temperature of the coating film. 複数の前記絶縁性粒子の全個数の内の90%以上が、前記導電性粒子に接触している、請求項1〜3のいずれか1項に記載の絶縁性粒子付き導電性粒子。   The conductive particles with insulating particles according to any one of claims 1 to 3, wherein 90% or more of the total number of the plurality of insulating particles is in contact with the conductive particles. 複数の前記絶縁性粒子が、前記被膜により被覆されていることによって露出していない、請求項1〜4のいずれか1項に記載の絶縁性粒子付き導電性粒子。   The conductive particles with insulating particles according to claim 1, wherein a plurality of the insulating particles are not exposed by being covered with the coating film. 前記導電部の外表面に、化学結合を介して、前記絶縁性粒子が付着している、請求項1〜5のいずれか1項に絶縁性粒子付き導電性粒子。   The conductive particles with insulating particles according to claim 1, wherein the insulating particles are attached to the outer surface of the conductive part via chemical bonds. 前記被膜の材料が、炭素数6〜22のアルキル基を有する化合物及び反応性モノマーである、請求項1〜6のいずれか1項に記載の絶縁性粒子付き導電性粒子。   The electroconductive particle with an insulating particle of any one of Claims 1-6 whose materials of the said film are a compound and reactive monomer which have a C6-C22 alkyl group. 請求項1〜7のいずれか1項に記載の絶縁性粒子付き導電性粒子と、バインダー樹脂とを含む、導電材料。   The electrically-conductive material containing the electroconductive particle with an insulating particle of any one of Claims 1-7, and binder resin. 導電ペーストである、請求項8に記載の導電材料。   The conductive material according to claim 8, which is a conductive paste. 第1の接続対象部材と、
第2の接続対象部材と、
前記第1の接続対象部材と前記第2の接続対象部材とを接続している接続部とを備え、
前記接続部の材料が、請求項1〜7のいずれか1項に記載の絶縁性粒子付き導電性粒子であるか、又は前記絶縁性粒子付き導電性粒子とバインダー樹脂とを含む導電材料である、接続構造体。
A first connection target member;
A second connection target member;
A connection portion connecting the first connection target member and the second connection target member;
The material of the connection portion is the conductive particles with insulating particles according to any one of claims 1 to 7, or is a conductive material including the conductive particles with insulating particles and a binder resin. , Connection structure.
請求項1〜7のいずれか1項に記載の絶縁性粒子付き導電性粒子の製造方法であって、
導電部を少なくとも表面に有する導電性粒子、及び前記導電性粒子の表面上に配置された複数の絶縁性粒子を有する絶縁性粒子付き導電性粒子本体の表面を被覆して、被膜を形成する工程を備え、
前記導電性粒子が、前記導電部の外表面に複数の突起を有し、
前記突起の平均高さが、0.05μm以上、0.5μm以下であり、
前記導電性粒子を覆っている第1の被膜部分と、前記絶縁性粒子の表面を覆っている第2の被膜部分とを有するように、前記第1の被膜部分における厚みの、前記絶縁性粒子の平均粒子径に対する比が、2/3以上、3以下であるように、前記被膜を形成する、絶縁性粒子付き導電性粒子の製造方法。
A method for producing conductive particles with insulating particles according to any one of claims 1 to 7,
A process of forming a film by covering the surface of the conductive particle body with insulating particles having conductive particles having at least a conductive part on the surface and a plurality of insulating particles arranged on the surface of the conductive particles. With
The conductive particles have a plurality of protrusions on the outer surface of the conductive portion;
The average height of the protrusions is 0.05 μm or more and 0.5 μm or less,
The insulating particles having a thickness in the first coating portion so as to have a first coating portion covering the conductive particles and a second coating portion covering the surface of the insulating particles. The method for producing conductive particles with insulating particles, wherein the coating is formed so that the ratio of the average particle diameter to 2/3 or more and 3 or less.
導電部を少なくとも表面に有する導電性粒子の表面上に、複数の絶縁性粒子を配置して、前記絶縁性粒子付き導電性粒子本体を得る工程を備える、請求項11に記載の絶縁性粒子付き導電性粒子の製造方法。   12. With the insulating particles according to claim 11, comprising a step of arranging a plurality of insulating particles on the surface of the conductive particles having at least a conductive part on the surface thereof to obtain the conductive particle body with insulating particles. A method for producing conductive particles. 前記絶縁性粒子付き導電性粒子本体を得る工程において、前記絶縁性粒子を、前記導電性粒子の表面に、ハイブリダイゼーション法により付着させない、請求項12に記載の絶縁性粒子付き導電性粒子の製造方法。   The process for obtaining a conductive particle body with insulating particles, wherein the insulating particles are not attached to the surface of the conductive particles by a hybridization method. Method.
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