JP2016085177A - Electronic device, electronic equipment and mobile body - Google Patents

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信也 青木
Shinya Aoki
信也 青木
竜太 西澤
Ryuta Nishizawa
竜太 西澤
匡史 志村
Tadashi Shimura
匡史 志村
川内 修
Osamu Kawauchi
修 川内
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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To provide an electronic device, electronic equipment and a mobile body, in which deposition of a material (scattered matter) on a vibration arm during adjustment can be decreased.SOLUTION: An electronic device 1 includes a base 21, an IC 3 disposed on the base 21, and a vibration element 4 disposed on the IC 3. The vibration element 4 includes a base part and an adjustment vibration arm connected to the base part, in which at least a part of the adjustment vibration arm is disposed as not overlapping the IC 3 in a plan view. The base 21 is located in a periphery of the IC 3 and includes: a first surface where an internal terminal 241 to be electrically connected to the IC 3 is disposed; and a second surface located to overlap the adjustment vibration arm in a plan view, at a greater separation distance from the vibration element 4 than a separation distance between the first surface and the vibration element, in a thickness direction of the base 21.SELECTED DRAWING: Figure 1

Description

本発明は、電子デバイス、電子機器および移動体に関するものである。   The present invention relates to an electronic device, an electronic apparatus, and a moving object.

従来から、角速度を検出するための振動素子として、特許文献1のような電子デバイスが知られている。特許文献1に記載の電子デバイスは、基部から一対の駆動腕と一対の検出腕とが延出する振動素子を有しており、この振動素子が半導体基板上に固定された状態でパッケージに収容されている。また、振動素子は、調整振動腕が半導体基板と重ならないように設けられている。これにより、バランスチューニング(不要信号キャンセルチューニング)の際に調整振動腕を透過したレーザーが半導体基板に照射されてしまうのが防止される。また、パッケージの調整振動腕と重なる位置には金属層からなるレーザー保護膜が設けられている。これにより、調整振動腕を透過したレーザーがパッケージに直接照射されることが防止され、パッケージのダメージを低減することができる。   Conventionally, an electronic device as in Patent Document 1 is known as a vibration element for detecting angular velocity. The electronic device described in Patent Document 1 includes a vibration element in which a pair of drive arms and a pair of detection arms extend from a base, and the vibration element is housed in a package in a state of being fixed on a semiconductor substrate. Has been. The vibration element is provided so that the adjustment vibration arm does not overlap the semiconductor substrate. This prevents the semiconductor substrate from being irradiated with the laser that has passed through the adjustment vibrating arm during balance tuning (unnecessary signal cancellation tuning). Further, a laser protective film made of a metal layer is provided at a position overlapping the adjustment vibration arm of the package. As a result, it is possible to prevent the laser beam that has passed through the adjustment vibrating arm from being directly irradiated onto the package, and to reduce damage to the package.

しかしながら、特許文献1の電子デバイスでは、調整される振動腕とパッケージとの離間距離が短いため、レーザーが照射されることで溶融した金属層やパッケージの一部が飛散して振動腕に付着し易い。そのため、バランスチューニング(不要信号キャンセルチューニング)の効率や精度が低下し、また、付着した材料によって振動腕の振動特性が変化したり、異なる電極同士が短絡したりする。   However, in the electronic device of Patent Document 1, since the distance between the vibration arm to be adjusted and the package is short, a part of the metal layer or package melted by laser irradiation is scattered and adheres to the vibration arm. easy. For this reason, the efficiency and accuracy of balance tuning (unnecessary signal cancellation tuning) are reduced, the vibration characteristics of the vibrating arm are changed by the attached material, and different electrodes are short-circuited.

特開2013−253895号公報JP2013-253895A

本発明の目的は、調整時における振動腕への材料(飛散物)の付着を低減することのできる電子デバイス、電子機器および移動体を提供することにある。   An object of the present invention is to provide an electronic device, an electronic apparatus, and a moving body that can reduce adhesion of a material (scattered matter) to a vibrating arm during adjustment.

本発明は、上述の課題の少なくとも一部を解決するためになされたものであり、以下の形態または適用例として実現することが可能である。   SUMMARY An advantage of some aspects of the invention is to solve at least a part of the problems described above, and the invention can be implemented as the following forms or application examples.

[適用例1]
本適用例の電子デバイスは、ベースと、
前記ベースに配置されている半導体装置と、
前記半導体装置に配置されている振動素子と、を有し、
前記振動素子は、前記基部に接続され、調整部を有する振動腕を含み、前記振動腕の少なくとも一部が前記半導体装置と平面視で重ならないように配置され、
前記ベースは、前記半導体装置と電気的に接続される端子が設けられている第1面と、前記振動腕と平面視で重なるように位置し、前記ベースの厚さ方向での前記振動素子との離間距離が前記第1面よりも大きい第2面と、を有することを特徴とする。
これにより、調整時における振動腕への材料(飛散物)の付着を低減することができる。
[Application Example 1]
The electronic device of this application example includes a base,
A semiconductor device disposed on the base;
A vibration element disposed in the semiconductor device,
The vibrating element includes a vibrating arm connected to the base and having an adjustment unit, and is arranged so that at least a part of the vibrating arm does not overlap the semiconductor device in plan view,
The base is positioned so as to overlap a first surface on which a terminal electrically connected to the semiconductor device is provided, and the vibrating arm in plan view, and the vibration element in the thickness direction of the base And a second surface having a larger separation distance than the first surface.
Thereby, adhesion of the material (scattering matter) to the vibrating arm at the time of adjustment can be reduced.

[適用例2]
本適用例の電子デバイスでは、前記第2面に設けられている保護層を有していることが好ましい。
これにより、調整時における振動腕への材料(飛散物)の付着をより効果的に低減することができる。
[Application Example 2]
The electronic device of this application example preferably has a protective layer provided on the second surface.
Thereby, adhesion of the material (scattered matter) to the vibrating arm at the time of adjustment can be reduced more effectively.

[適用例3]
本適用例の電子デバイスでは、前記保護層の構成材料の光吸収率は、前記ベースの構成材料の光吸収率よりも高いことが好ましい。
これにより、保護層によって光(レーザー)を効果的に吸収することができ、ベースが受けるダメージを低減することができる。
[Application Example 3]
In the electronic device of this application example, it is preferable that the light absorption rate of the constituent material of the protective layer is higher than the light absorption rate of the base constituent material.
Thereby, light (laser) can be effectively absorbed by the protective layer, and damage to the base can be reduced.

[適用例4]
本適用例の電子デバイスでは、前記保護層の構成材料の比重は、前記ベースの構成材料の比重よりも高いことが好ましい。
これにより、保護層が飛散し難くなる。
[Application Example 4]
In the electronic device of this application example, it is preferable that the specific gravity of the constituent material of the protective layer is higher than the specific gravity of the base constituent material.
This makes it difficult for the protective layer to scatter.

[適用例5]
本適用例の電子デバイスでは、前記保護層は、導電性を有し、定電位に電気的に接続されていることが好ましい。
これにより、保護層がシールド層として機能し、振動素子が有する電極へのノイズの混入等を低減することができる。
[Application Example 5]
In the electronic device according to this application example, it is preferable that the protective layer has conductivity and is electrically connected to a constant potential.
As a result, the protective layer functions as a shield layer, and it is possible to reduce the mixing of noise into the electrodes of the vibration element.

[適用例6]
本適用例の電子デバイスでは、前記保護層は、前記ベースに設けられ、前記半導体装置から絶縁されていることが好ましい。
これにより、ベースに堆積した飛散物を介した保護層と他の電極との短絡を防止することができる。
[Application Example 6]
In the electronic device of this application example, it is preferable that the protective layer is provided on the base and insulated from the semiconductor device.
Thereby, the short circuit with the protective layer and other electrode through the scattered material deposited on the base can be prevented.

[適用例7]
本適用例の電子デバイスでは、前記ベースは、一方の主面に開口する第1凹部と、前記第1凹部の底部に開口する第2凹部および第3凹部と、を有し、
前記第2凹部の底面に前記半導体装置が配置され、
前記第1凹部の底面が前記第1面となり、
前記第3凹部の底面が前記第2面となっていることが好ましい。
これにより、ベースの構成が簡単なものとなる。
[Application Example 7]
In the electronic device of this application example, the base includes a first recess opening in one main surface, and a second recess and a third recess opening in the bottom of the first recess,
The semiconductor device is disposed on the bottom surface of the second recess,
The bottom surface of the first recess is the first surface,
The bottom surface of the third recess is preferably the second surface.
This simplifies the base configuration.

[適用例8]
本適用例の電子デバイスでは、前記第2面は、前記ベースの厚さ方向において、前記第1面と前記第2凹部の底面との間に位置していることが好ましい。
これにより、ベースの機械的強度を保ちつつ、第2面を振動腕から離間させることができる。
[Application Example 8]
In the electronic device according to this application example, it is preferable that the second surface is located between the first surface and the bottom surface of the second recess in the thickness direction of the base.
Accordingly, the second surface can be separated from the vibrating arm while maintaining the mechanical strength of the base.

[適用例9]
本適用例の電子デバイスでは、前記調整振動腕と前記第2面との離間距離は、100μm以上、400μm以下であることが好ましい。
これにより、ベースの厚肉化を抑えつつ、振動腕と第2面との離間距離を十分に確保することができる。
[Application Example 9]
In the electronic device according to this application example, it is preferable that a separation distance between the adjustment vibrating arm and the second surface is 100 μm or more and 400 μm or less.
Thereby, the separation distance between the vibrating arm and the second surface can be sufficiently ensured while suppressing the increase in thickness of the base.

[適用例10]
本適用例の電子デバイスでは、前記振動素子は、物理量を検出することができることが好ましい。
これにより、電子デバイスを物理量センサーとして用いることができる。
[Application Example 10]
In the electronic device according to this application example, it is preferable that the vibration element can detect a physical quantity.
Thereby, an electronic device can be used as a physical quantity sensor.

[適用例11]
本適用例の電子デバイスでは、複数の前記振動素子が前記半導体装置に配置されていることが好ましい。
これにより、複数の検出軸を有する物理量センサーとして用いることができる。
[Application Example 11]
In the electronic device according to this application example, it is preferable that a plurality of the vibration elements are arranged in the semiconductor device.
Thereby, it can be used as a physical quantity sensor having a plurality of detection axes.

[適用例12]
本適用例の電子機器は、上記適用例の電子デバイスを有していることを特徴とする。
これにより、信頼性の高い電子機器が得られる。
[Application Example 12]
An electronic apparatus according to this application example includes the electronic device according to the application example described above.
As a result, a highly reliable electronic device can be obtained.

[適用例13]
本適用例の移動体は、上記適用例の電子デバイスを有していることを特徴とする。
これにより、信頼性の高い移動体が得られる。
[Application Example 13]
The moving body of this application example includes the electronic device of the application example described above.
Thereby, a mobile body with high reliability is obtained.

本発明の電子デバイスの好適な実施形態を示す斜視図である。It is a perspective view which shows suitable embodiment of the electronic device of this invention. 図1に示す電子デバイスの断面図である。It is sectional drawing of the electronic device shown in FIG. 図1に示す電子デバイスの平面図である。It is a top view of the electronic device shown in FIG. 図1に示す電子デバイスが有する振動素子を示す平面図である。It is a top view which shows the vibration element which the electronic device shown in FIG. 1 has. 図1に示す電子デバイスが有する振動素子を示す平面図である。It is a top view which shows the vibration element which the electronic device shown in FIG. 1 has. 不要信号キャンセルチューニングを説明する図である。It is a figure explaining unnecessary signal cancellation tuning. 図1に示す電子デバイスが有するベースを示す部分拡大断面図である。It is a partial expanded sectional view which shows the base which the electronic device shown in FIG. 1 has. 図1に示す電子デバイスが有するベースを示す部分拡大断面図である。It is a partial expanded sectional view which shows the base which the electronic device shown in FIG. 1 has. 図1に示す電子デバイスが有する応力緩和層を示す断面図である。It is sectional drawing which shows the stress relaxation layer which the electronic device shown in FIG. 1 has. 本発明の第2実施形態に係る電子デバイスが有するベースの部分拡大断面図である。It is a partial expanded sectional view of the base which the electronic device concerning a 2nd embodiment of the present invention has. 本発明の第2実施形態に係る電子デバイスが有するベースの部分拡大断面図である。It is a partial expanded sectional view of the base which the electronic device concerning a 2nd embodiment of the present invention has. 本発明の電子デバイスを備える電子機器を適用したモバイル型(またはノート型)のパーソナルコンピューターの構成を示す斜視図である。FIG. 14 is a perspective view illustrating a configuration of a mobile (or notebook) personal computer to which an electronic apparatus including the electronic device of the invention is applied. 本発明の電子デバイスを備える電子機器を適用した携帯電話機(PHSも含む)の構成を示す斜視図である。It is a perspective view which shows the structure of the mobile telephone (PHS is also included) to which the electronic device provided with the electronic device of this invention is applied. 本発明の電子デバイスを備える電子機器を適用したデジタルスチールカメラの構成を示す斜視図である。It is a perspective view which shows the structure of the digital still camera to which the electronic device provided with the electronic device of this invention is applied. 本発明の電子デバイスを備える移動体を適用した自動車の構成を示す斜視図である。It is a perspective view which shows the structure of the motor vehicle which applied the mobile body provided with the electronic device of this invention.

以下、本発明の電子デバイス、電子機器および移動体を添付図面に示す実施形態に基づいて詳細に説明する。   Hereinafter, an electronic device, an electronic apparatus, and a moving body of the present invention will be described in detail based on embodiments shown in the accompanying drawings.

<第1実施形態>
図1は、本発明の電子デバイスの好適な実施形態を示す斜視図である。図2は、図1に示す電子デバイスの断面図である。図3は、図1に示す電子デバイスの平面図である。図4は、図1に示す電子デバイスが有する振動素子を示す平面図である。図5は、図1に示す電子デバイスが有する振動素子を示す平面図である。図6は、不要信号キャンセルチューニングを説明する図である。図7は、図1に示す電子デバイスが有するベースを示す部分拡大断面図である。図8は、図1に示す電子デバイスが有するベースを示す部分拡大断面図である。図9は、図1に示す電子デバイスが有する応力緩和層を示す断面図である。なお、以下では、説明の便宜上、図2の上側を「上側」とも言い、下側を「下側」とも言う。また、図1に示すように、互いに直交する3軸をX軸、Y軸およびZ軸とし、電子デバイスの厚さ方向がZ軸と一致するものとする。
<First Embodiment>
FIG. 1 is a perspective view showing a preferred embodiment of the electronic device of the present invention. FIG. 2 is a cross-sectional view of the electronic device shown in FIG. FIG. 3 is a plan view of the electronic device shown in FIG. FIG. 4 is a plan view showing a vibration element included in the electronic device shown in FIG. FIG. 5 is a plan view showing a vibration element included in the electronic device shown in FIG. FIG. 6 is a diagram for explaining unnecessary signal cancellation tuning. FIG. 7 is a partially enlarged cross-sectional view showing a base included in the electronic device shown in FIG. FIG. 8 is a partially enlarged cross-sectional view showing a base included in the electronic device shown in FIG. FIG. 9 is a cross-sectional view showing the stress relaxation layer of the electronic device shown in FIG. In the following, for convenience of explanation, the upper side of FIG. 2 is also referred to as “upper side” and the lower side is also referred to as “lower side”. Further, as shown in FIG. 1, the three axes orthogonal to each other are assumed to be the X axis, the Y axis, and the Z axis, and the thickness direction of the electronic device coincides with the Z axis.

図1に示す電子デバイス1は、3軸角速度センサー(物理量センサー)であり、X軸まわりの角速度ωxと、Y軸まわりの角速度ωyと、Z軸まわりの角速度ωzと、をそれぞれ独立して検出することができる。このような電子デバイス1は、内部に収容空間Sが形成されたパッケージ2と、収容空間Sに収容されたIC(半導体装置)3と、IC3上に応力緩和層7を介して配置された3つの振動素子4、5、6と、を有している。   The electronic device 1 shown in FIG. 1 is a triaxial angular velocity sensor (physical quantity sensor), and independently detects an angular velocity ωx around the X axis, an angular velocity ωy around the Y axis, and an angular velocity ωz around the Z axis. can do. Such an electronic device 1 includes a package 2 in which a housing space S is formed, an IC (semiconductor device) 3 housed in the housing space S, and a stress relaxation layer 7 disposed on the IC 3 3. Two vibration elements 4, 5, 6.

以下、これら各部について順に説明する。
≪パッケージ≫
パッケージ2は、図2に示すように、上面に開口する凹部211を有する箱状のベース21と、凹部211の開口を塞ぐ板状のリッド22と、ベース21とリッド22との間に介在し、これらを接合するシームリング23と、を有している。そして、凹部211の開口がリッド22で塞がれることにより形成された収容空間S内にIC3および振動素子4、5、6が収納されている。なお、収容空間Sの雰囲気は、特に限定されないが、例えば、真空状態(10Pa以下の減圧状態)とされる。これにより、粘性抵抗が低減され、振動素子4、5、6を効率的に駆動することができる。
Hereinafter, each of these units will be described in order.
≪Package≫
As shown in FIG. 2, the package 2 is interposed between a box-shaped base 21 having a recess 211 opened on the upper surface, a plate-shaped lid 22 that closes the opening of the recess 211, and the base 21 and the lid 22. And a seam ring 23 for joining them. The IC 3 and the vibration elements 4, 5, 6 are accommodated in the accommodation space S formed by closing the opening of the recess 211 with the lid 22. In addition, the atmosphere of the accommodation space S is not particularly limited, but is in a vacuum state (a reduced pressure state of 10 Pa or less), for example. Thereby, viscous resistance is reduced and the vibration elements 4, 5, and 6 can be driven efficiently.

−ベース21−
ベース21は、略正方形の平面視形状を有している。なお、ベース21の平面視形状としては、特に限定されず、例えば、長方形や円形であってもよい。
-Base 21-
The base 21 has a substantially square plan view shape. In addition, it does not specifically limit as a planar view shape of the base 21, For example, a rectangle and circular may be sufficient.

また、凹部211は、ベース21の上面に開口する第1凹部211aと、第1凹部211aの底面211a’の縁部を除く中央部に開口する第2凹部211bと、第1凹部211aの底面211a’に開口する第3凹部211cおよび第4凹部211dと、を有している。第3凹部211cは、振動素子4の調整振動腕441、442と平面視で重なるように設けられ、第4凹部211dは、振動素子5の調整振動腕541、542と平面視で重なるように設けられている。また、第3、第4凹部211c、211dは、第2凹部211bよりも浅く、Z軸方向において、これらの底面211c’、211d’が第1凹部211aの底面211a’と第2凹部211bの底面との間に位置している。このような凹部211を設けることで、ベース21の構成が簡単なものとなる。   The concave portion 211 includes a first concave portion 211a that opens to the upper surface of the base 21, a second concave portion 211b that opens to a central portion excluding the edge of the bottom surface 211a ′ of the first concave portion 211a, and a bottom surface 211a of the first concave portion 211a. A third concave portion 211c and a fourth concave portion 211d that are open at the right side. The third recess 211c is provided so as to overlap with the adjustment vibration arms 441 and 442 of the vibration element 4 in plan view, and the fourth recess 211d is provided so as to overlap with the adjustment vibration arms 541 and 542 of the vibration element 5 in plan view. It has been. The third and fourth recesses 211c and 211d are shallower than the second recess 211b, and in the Z-axis direction, these bottom surfaces 211c ′ and 211d ′ are the bottom surface 211a ′ of the first recess 211a and the bottom surface of the second recess 211b. Is located between. By providing such a recess 211, the configuration of the base 21 is simplified.

また、ベース21の各側面には上面から下面まで延びる複数の切り欠き部212が形成されている。   In addition, a plurality of notches 212 extending from the upper surface to the lower surface are formed on each side surface of the base 21.

このようなベース21は、例えば、酸化アルミニウム質、窒化アルミニウム質、炭化珪素質、ムライト質、ガラス・セラミック質等のセラミックグリーンシートを複数枚積層したものを焼結することで形成することができる。   Such a base 21 can be formed, for example, by sintering a laminate of a plurality of ceramic green sheets such as aluminum oxide, aluminum nitride, silicon carbide, mullite, glass / ceramic. .

このようなベース21には配線24が配置されている。配線24は、第1凹部211aの底面(第1面)211a’に配置され、ボンディングワイヤーBWを介してIC3と電気的に接続された複数の内部端子241と、ベース21の底面に配置され、対応する内部端子241と電気的に接続された複数の外部端子242と、を有している。さらに、配線24は、ベース21内に形成された内部配線243や切り欠き部212に形成されたキャスタレーション電極244を有し、これらを介して各内部端子241とそれに対応する外部端子242とが電気的に接続されている。このような配線24は、例えば、タングステン(W)、モリブテン(Mo)、マンガン(Mg)等で構成することができ、ベース21から露出している部分(例えば、内部端子241、外部端子242、キャスタレーション電極244)については、さらに、その表面に金(Au)などのめっき金属層を形成してもよい。   Wiring 24 is arranged on such a base 21. The wiring 24 is disposed on the bottom surface (first surface) 211a ′ of the first recess 211a, and is disposed on the bottom surface of the base 21 and a plurality of internal terminals 241 that are electrically connected to the IC 3 via the bonding wires BW. And a plurality of external terminals 242 electrically connected to the corresponding internal terminals 241. Further, the wiring 24 has an internal wiring 243 formed in the base 21 and a castellation electrode 244 formed in the notch 212, and through these, the internal terminals 241 and the corresponding external terminals 242 are connected. Electrically connected. Such wiring 24 can be composed of, for example, tungsten (W), molybdenum (Mo), manganese (Mg), or the like, and is exposed from the base 21 (for example, the internal terminal 241, the external terminal 242, For the castellation electrode 244), a plated metal layer such as gold (Au) may be further formed on the surface thereof.

−リッド22−
リッド22は、板状であり、シームリング23を介してベース21の上面に接合されている。リッド22の構成材料としては、特に限定されないが、例えば、コバール等の合金を用いることが好ましい。なお、リッド22は、例えば、シームリング23を介して配線24に含まれているグランド配線と電気的に接続されていてもよい。これにより、リッド22をパッケージ2の外部からのノイズを遮断するシールド部として機能させることができる。
-Lid 22-
The lid 22 has a plate shape and is joined to the upper surface of the base 21 through a seam ring 23. The constituent material of the lid 22 is not particularly limited, but for example, an alloy such as Kovar is preferably used. Note that the lid 22 may be electrically connected to a ground wiring included in the wiring 24 via a seam ring 23, for example. Thereby, the lid 22 can function as a shield part that blocks noise from the outside of the package 2.

≪IC≫
IC3は、第2凹部211bの底面に銀ペースト等によって固定されている。また、IC3は、略矩形の平面視形状を有し、平面視の外形は、図3に示すように、Y軸方向に延在する一対の外縁(辺)31、32と、X軸方向に延在する一対の外縁(辺)33、34と、を有している。
≪IC≫
IC3 is fixed to the bottom surface of the second recess 211b with silver paste or the like. Further, the IC 3 has a substantially rectangular plan view shape. As shown in FIG. 3, the outer shape of the plan view has a pair of outer edges (sides) 31 and 32 extending in the Y-axis direction and an X-axis direction. And a pair of extending outer edges (sides) 33 and 34.

このIC3には、例えば、外部のホストデバイスと通信を行うインターフェース部3iと、振動素子4を駆動し、振動素子4に加わった角速度ωyを検出する駆動/検出回路3xと、振動素子5を駆動し、振動素子5に加わった角速度ωxを検出する駆動/検出回路3yと、振動素子6を駆動し、振動素子6に加わった角速度ωzを検出する駆動/検出回路3zと、が含まれている。また、IC3の上面には複数の接続端子39が配置されており、これら接続端子39と内部端子241とがボンディングワイヤーBWを介して接続されている。これにより、IC3は、外部端子242を介してホストデバイスと通信を行うことができる。なお、IC3の通信方式としては、特に限定されず、例えば、SPI(登録商標)(Serial Peripheral Interface)や、IC(登録商標)(Inter-Integrated Circuit)を用いることができる。また、IC3は、通信方式を選択するセレクト機能を有し、通信方式をSPIおよびICの中から選択できるようになっていてもよい。これにより、複数の通信方式に対応した利便性の高い電子デバイス1となる。 The IC 3 includes, for example, an interface unit 3 i that communicates with an external host device, a driving element 4 that drives the vibration element 4, detects an angular velocity ωy applied to the vibration element 4, and a vibration element 5. In addition, a drive / detection circuit 3y that detects the angular velocity ωx applied to the vibration element 5 and a drive / detection circuit 3z that drives the vibration element 6 and detects the angular velocity ωz applied to the vibration element 6 are included. . Further, a plurality of connection terminals 39 are arranged on the upper surface of the IC 3, and these connection terminals 39 and the internal terminals 241 are connected via bonding wires BW. Thus, the IC 3 can communicate with the host device via the external terminal 242. The communication method of IC3 is not particularly limited, and for example, SPI (registered trademark) (Serial Peripheral Interface) or I 2 C (registered trademark) (Inter-Integrated Circuit) can be used. Further, the IC 3 may have a select function for selecting a communication method, and the communication method may be selected from SPI and I 2 C. Thereby, it becomes the highly convenient electronic device 1 corresponding to a plurality of communication methods.

ここで、複数の接続端子39は、図3に示すように、IC3の上面に設定された3つの領域、第1端子配置領域SS1、第2端子配置領域SS2および第3端子配置領域SS3に分かれて配置されている。第1端子配置領域SS1は、外縁(第2外縁)33に沿って、かつ、外縁(第3外縁)31側に片寄って配置されており、第2端子配置領域SS2は、外縁(第1外縁)34に沿って、かつ、外縁31側に片寄って配置されており、第3端子配置領域SS3は、外縁(第4外縁)32に沿って、かつ、外縁34側に片寄って配置されている。   Here, as shown in FIG. 3, the plurality of connection terminals 39 are divided into three regions set on the upper surface of the IC 3, a first terminal arrangement region SS1, a second terminal arrangement region SS2, and a third terminal arrangement region SS3. Are arranged. The first terminal arrangement region SS1 is arranged along the outer edge (second outer edge) 33 and offset toward the outer edge (third outer edge) 31 side, and the second terminal arrangement region SS2 is arranged at the outer edge (first outer edge). ) 34 and the outer edge 31 side. The third terminal arrangement region SS3 is arranged along the outer edge (fourth outer edge) 32 and the outer edge 34 side. .

第1端子配置領域SS1には、例えば、通信方式を選択するためのスレーブセレクト信号SS用のデジタル信号端子、データ入力信号MOSI用のデジタル信号端子、クロック信号SCLK用のデジタル信号端子、データ出力信号MISO用のデジタル信号端子等のデジタル信号用端子がまとめて配置されている。また、第2端子配置領域SS2および第3端子配置領域SS3には、例えば、グランドGND用のグランド端子、インターフェース部3iの電源VDDI用の電源信号端子、駆動/検出回路3x、3y、3zの電源VDD用の電源信号端子、テスト用のテスト信号用端子等のアナログ信号用端子がまとめて配置されている。   In the first terminal arrangement area SS1, for example, a digital signal terminal for a slave select signal SS for selecting a communication method, a digital signal terminal for a data input signal MOSI, a digital signal terminal for a clock signal SCLK, and a data output signal Digital signal terminals such as MISO digital signal terminals are arranged together. The second terminal arrangement area SS2 and the third terminal arrangement area SS3 include, for example, a ground terminal for the ground GND, a power supply signal terminal for the power supply VDDI of the interface unit 3i, and power supplies for the drive / detection circuits 3x, 3y, and 3z. Analog signal terminals such as a power supply signal terminal for VDD and a test signal terminal for test are arranged together.

このように、デジタル信号用端子とアナログ信号用端子とを異なる領域に分けて配置することで、アナログ信号用端子(配線)へのデジタル信号の混入を低減することができる。そのため、ノイズを低減することができ、より正確な駆動を行うことのできる電子デバイス1となる。特に、本実施形態では、第2、第3端子配置領域SS2、SS3から第1端子配置領域SS1をなるべく遠ざける配置となっているため、上記の効果をより効果的に発揮することができる。   As described above, by arranging the digital signal terminal and the analog signal terminal in different regions, mixing of the digital signal into the analog signal terminal (wiring) can be reduced. Therefore, it becomes the electronic device 1 which can reduce a noise and can perform more exact drive. In particular, in the present embodiment, since the first terminal arrangement region SS1 is arranged as far as possible from the second and third terminal arrangement regions SS2, SS3, the above effects can be more effectively exhibited.

≪振動素子≫
−振動素子4−
振動素子4は、所謂「H型」と呼ばれるジャイロ素子であり、Y軸まわりの角速度ωyを検出することができる。このような振動素子4は、図4に示すように、水晶からなる振動片40と、振動片40に配置された電極(図示せず)と、を有している。ただし、振動片40の材料としては、水晶に限定されず、例えば、タンタル酸リチウム、ニオブ酸リチウムなどの圧電材料を用いることもできる。
≪Vibration element≫
-Vibration element 4-
The vibration element 4 is a so-called “H-type” gyro element and can detect an angular velocity ωy about the Y axis. As shown in FIG. 4, the vibrating element 4 includes a vibrating piece 40 made of quartz and an electrode (not shown) disposed on the vibrating piece 40. However, the material of the resonator element 40 is not limited to quartz, and for example, a piezoelectric material such as lithium tantalate or lithium niobate can also be used.

振動片40は、水晶の結晶軸であるx軸(電気軸)およびy軸(機械軸)で規定されるxy平面に広がりを有し、z軸(光軸)方向に厚みを有する板状をなしている。また、振動片40は、基部41と、基部41から−y軸側に並んで延出する一対の駆動振動腕421、422と、基部41から+y軸側に並んで延出する一対の検出振動腕431、432と、基部41から+y軸側に延出し、検出振動腕431、432の両側に位置する一対の調整振動腕441、442と、基部41を支持する支持部45と、基部41と支持部45とを連結する連結部46と、を有している。   The resonator element 40 has a plate shape having a spread in the xy plane defined by the x-axis (electric axis) and the y-axis (mechanical axis), which are crystal axes of quartz, and having a thickness in the z-axis (optical axis) direction. There is no. The vibrating piece 40 includes a base 41, a pair of drive vibrating arms 421 and 422 extending side by side from the base 41 on the −y axis side, and a pair of detection vibrations extending side by side from the base 41 to the + y axis side. Arms 431 and 432; a pair of adjustment vibrating arms 441 and 442 that extend from the base 41 to the + y-axis side and are located on both sides of the detection vibrating arms 431 and 432; a support 45 that supports the base 41; And a connecting portion 46 that connects the support portion 45.

このような振動素子4は、支持部45において応力緩和層7に固定されている。また、振動素子4の応力緩和層7への固定は、導電性を有する固定部材8を用いて行われており、固定部材8および応力緩和層7を介して、振動素子4とIC3とが電気的に接続されている。固定部材8としては、特に限定されず、例えば、金属ろう材、金属バンプ、導電性接着剤等を用いることができる。   Such a vibration element 4 is fixed to the stress relaxation layer 7 in the support portion 45. Further, the vibration element 4 is fixed to the stress relaxation layer 7 using a conductive fixing member 8, and the vibration element 4 and the IC 3 are electrically connected via the fixing member 8 and the stress relaxation layer 7. Connected. The fixing member 8 is not particularly limited, and for example, a metal brazing material, a metal bump, a conductive adhesive, or the like can be used.

また、支持部45は、略「コ」字状をなしており、一対の駆動振動腕421、422を囲むように配置されている。また、連結部46は、基部41の−x軸側の端部と支持部45の−x軸側の端部とを連結する梁部461と、基部41の+x軸側の端部と支持部45の+x軸側の端部とを連結する梁部462と、基部41のx軸方向両側の端部と支持部45の中央部とを連結する梁部463とを有している。特に、本実施形態では、梁部461、462が、基部41から+y軸方向に延出し、−y軸方向に折り返した形状となっており、さらに、梁部463が、その途中に蛇行するように湾曲した湾曲部463aを有する形状となっている。これにより、連結部46を十分に柔らかくすることができ、不要振動(特に、y軸並進モードの振動)の発生を低減することができる。   The support portion 45 has a substantially “U” shape and is disposed so as to surround the pair of drive vibrating arms 421 and 422. The connecting portion 46 includes a beam portion 461 that connects an end portion on the −x axis side of the base portion 41 and an end portion on the −x axis side of the support portion 45, and an end portion and a support portion on the + x axis side of the base portion 41. 45 has a beam portion 462 that connects the + x-axis side end portions of 45 and a beam portion 463 that connects the end portions on both sides of the base portion 41 in the x-axis direction and the center portion of the support portion 45. In particular, in the present embodiment, the beam portions 461 and 462 have a shape extending from the base portion 41 in the + y axis direction and turned back in the −y axis direction, and the beam portion 463 meanders in the middle thereof. It has a shape having a curved portion 463a that is curved. Thereby, the connection part 46 can be made soft enough and generation | occurrence | production of an unnecessary vibration (especially vibration of a y-axis translation mode) can be reduced.

駆動振動腕421、422には図示しない駆動電極が設けられており、IC3(駆動/検出回路3y)から駆動電極に発振駆動信号(交番電圧)を印加することで、矢印Aで示す駆動モードが励振される。そして、駆動振動腕421、422が駆動モードで振動しているときに、検出軸Jまわりの角速度ωが加わると、矢印Bで示す検出モードが励振され、これにより、検出振動腕431、432が振動する。検出振動腕431、432には図示しない検出電極が設けられており、この検出電極から検出振動腕431、432の振動により生じる検出信号(電荷)が取り出される。そして、取り出された検出信号に基づいてIC3(駆動/検出回路3y)が角速度ωを検出する。 The drive vibrating arms 421 and 422 are provided with drive electrodes (not shown). By applying an oscillation drive signal (alternating voltage) from the IC 3 (drive / detection circuit 3y) to the drive electrodes, the drive mode indicated by the arrow A is changed. Excited. When the driving vibration arms 421 and 422 are vibrating in the driving mode, when an angular velocity ω around the detection axis J 4 is applied, is excited detection mode indicated by the arrow B, thereby, the detection vibration arms 431 and 432 Vibrates. The detection vibration arms 431 and 432 are provided with detection electrodes (not shown), and detection signals (charges) generated by the vibrations of the detection vibration arms 431 and 432 are extracted from the detection electrodes. Based on the extracted detection signal, the IC 3 (drive / detection circuit 3y) detects the angular velocity ω.

また、図示しないが、調整振動腕441、442には不要信号キャンセルチューニング用(調整用)の調整用電極(調整部)が設けられている。不要信号キャンセルチューニングとは、例えば、製造バラツキ等により検出振動431、432に生じる不要信号の少なくとも一部を、不要信号とは逆位相の調整信号により相殺させるために、レーザー照射によって調整用電極の一部を除去し、調整振動腕441、442に生じる調整信号の電荷量を変化させることで、調整を行う作業である。この作業によって、振動素子4に角速度ωが加わっていない状態で駆動振動腕421、422を駆動モードで振動させた際の、検出信号に含まれる不要信号を低減することができる。そのため、より精度よく角速度ωを検出することができる。   Although not shown, adjustment vibration arms 441 and 442 are provided with adjustment electrodes (adjustment units) for unnecessary signal cancellation tuning (adjustment). Unnecessary signal cancellation tuning means that, for example, at least part of the unnecessary signal generated in the detection vibrations 431 and 432 due to manufacturing variation or the like is canceled by an adjustment signal having a phase opposite to that of the unnecessary signal. The adjustment is performed by removing a part and changing the charge amount of the adjustment signal generated in the adjustment vibration arms 441 and 442. By this work, unnecessary signals included in the detection signal when the drive vibrating arms 421 and 422 are vibrated in the drive mode in a state where the angular velocity ω is not applied to the vibration element 4 can be reduced. Therefore, the angular velocity ω can be detected with higher accuracy.

−振動素子5−
振動素子5は、所謂「H型」と呼ばれるジャイロ素子であり、X軸まわりの角速度ωxを検出することができる。このような振動素子5は、IC3上に配置された状態の向きが異なる以外は、前述した振動素子4と同様の構成であるため、その説明を省略する。
-Vibration element 5-
The vibration element 5 is a so-called “H-type” gyro element and can detect an angular velocity ωx around the X axis. Since such a vibration element 5 has the same configuration as that of the vibration element 4 described above except that the orientation of the state of the vibration element 5 arranged on the IC 3 is different, the description thereof is omitted.

−振動素子6−
振動素子6は、Z軸まわりの角速度ωzを検出することができるジャイロ素子である。このような振動素子6は、図5に示すように、水晶からなる振動片60と、振動片60に配置された電極(図示せず)と、を有している。ただし、振動片60の材料としては、水晶に限定されず、例えば、タンタル酸リチウム、ニオブ酸リチウムなどの圧電材料を用いることもできる。
-Vibration element 6
The vibration element 6 is a gyro element that can detect an angular velocity ωz around the Z axis. As shown in FIG. 5, the vibrating element 6 includes a vibrating piece 60 made of crystal and an electrode (not shown) disposed on the vibrating piece 60. However, the material of the resonator element 60 is not limited to quartz, and for example, a piezoelectric material such as lithium tantalate or lithium niobate can also be used.

振動片60は、水晶の結晶軸であるx軸(電気軸)およびy軸(機械軸)で規定されるxy平面に広がりを有し、z軸(光軸)方向に厚みを有する板状をなしている。また、振動片60は、基部61と、基部61からy軸方向両側に延出する一対の検出振動腕621、622と、基部61からx軸方向両側へ延出する一対の連結腕631、632と、連結腕631の先端部からy軸方向両側に延出する一対の駆動振動腕641、642と、連結腕632の先端部からy軸方向両側に延出する一対の駆動振動腕643、644と、基部61を支持する一対の支持部651、652と、支持部651と基部61とを連結する一対の連結部661、662と、支持部652と基部61とを連結する一対の連結部663、664と、を有している。   The resonator element 60 has a plate shape having a spread in the xy plane defined by the x-axis (electrical axis) and the y-axis (mechanical axis) which are crystal axes of the crystal and having a thickness in the z-axis (optical axis) direction. There is no. The vibrating piece 60 includes a base 61, a pair of detection vibrating arms 621 and 622 extending from the base 61 to both sides in the y-axis direction, and a pair of connecting arms 631 and 632 extending from the base 61 to both sides in the x-axis direction. A pair of drive vibration arms 641 and 642 extending from the tip of the connecting arm 631 to both sides in the y-axis direction, and a pair of drive vibration arms 643 and 644 extending from the tip of the connection arm 632 to both sides in the y-axis direction. A pair of support portions 651 and 652 that support the base portion 61, a pair of connection portions 661 and 662 that connect the support portion 651 and the base portion 61, and a pair of connection portions 663 that connect the support portion 652 and the base portion 61. , 664.

このような振動素子6は、支持部651、652において応力緩和層7に固定されている。また、振動素子6の応力緩和層7への固定は、固定部材8を用いて行われており、固定部材8および応力緩和層7を介して、振動素子6とIC3とが電気的に接続されている。   Such a vibration element 6 is fixed to the stress relaxation layer 7 at the support portions 651 and 652. Further, the vibration element 6 is fixed to the stress relaxation layer 7 by using a fixing member 8, and the vibration element 6 and the IC 3 are electrically connected via the fixing member 8 and the stress relaxation layer 7. ing.

駆動振動腕641〜644には図示しない駆動電極が設けられており、IC3(駆動/検出回路3z)から駆動電極に発振駆動信号(交番電圧)を印加することで、矢印Cで示すような駆動モードが励振される。そして、駆動振動腕641〜644が駆動モードで振動しているときに、検出軸Jまわりの角速度ωが加わると、矢印Dで示すような検出モードが励振され、これにより、検出振動腕621、622が振動する。検出振動腕621、622には図示しない検出電極が設けられており、この検出電極から検出振動腕621、622の振動により生じる検出信号(電荷)が取り出される。そして、取り出された検出信号に基づいてIC3(駆動/検出回路3z)が角速度ωを検出する。 The drive vibrating arms 641 to 644 are provided with drive electrodes (not shown), and driving as indicated by an arrow C is performed by applying an oscillation drive signal (alternating voltage) to the drive electrodes from the IC 3 (drive / detection circuit 3z). The mode is excited. When the driving vibration arms 641 to 644 is vibrating in the driving mode, when an angular velocity ω around the detection axis J 6 is applied, the detection mode as shown by the arrow D is excited, thereby, the detection vibration arms 621 , 622 vibrate. The detection vibrating arms 621 and 622 are provided with detection electrodes (not shown), and detection signals (charges) generated by the vibrations of the detection vibrating arms 621 and 622 are taken out from the detection electrodes. Based on the extracted detection signal, the IC 3 (drive / detection circuit 3z) detects the angular velocity ω.

以上、振動素子4、5、6の構成について説明した。次に、IC3上での振動素子4、5、6の配置について説明する。   The configuration of the vibration elements 4, 5 and 6 has been described above. Next, the arrangement of the vibration elements 4, 5, and 6 on the IC 3 will be described.

まず、振動素子4の配置について説明する。振動素子4は、図3に示すように、検出軸JがY軸と一致するように配置されている。これにより、振動素子4によって角速度ωyを検出することができる。また、振動素子4は、IC3の上面の外縁32側および外縁34側に片寄った位置(図中右下に位置する角部付近)に配置されている。また、振動素子4の+X軸側(すなわち、振動素子4と外縁32との間)には第3端子配置領域SS3が位置し、振動素子4の−X軸側(すなわち、振動素子4と外縁31との間)には第2端子配置領域SS2が位置している。 First, the arrangement of the vibration element 4 will be described. Vibrating element 4, as shown in FIG. 3, the detection axis J 4 are arranged to coincide with the Y-axis. Thereby, the angular velocity ωy can be detected by the vibration element 4. Further, the vibration element 4 is disposed at a position (near the corner located at the lower right in the drawing) that is offset toward the outer edge 32 side and the outer edge 34 side of the upper surface of the IC 3. The third terminal arrangement region SS3 is located on the + X axis side of the vibration element 4 (that is, between the vibration element 4 and the outer edge 32), and the −X axis side of the vibration element 4 (that is, the vibration element 4 and the outer edge). The second terminal arrangement region SS2 is located between the second terminal arrangement region SS2 and the second terminal arrangement region 31).

また、振動素子4は、調整振動腕441、442が平面視でIC3の外縁34から+Y軸側へはみ出し、平面視でIC3と重ならないように配置されている。これにより、前述した不要信号キャンセルチューニング時のIC3の損傷を防止することができる。具体的に説明すると、不要信号キャンセルチューニングは、図6に示すように、振動素子4の上方から調整部としての調整用電極49にレーザーLLを照射し、調整用電極49の一部を除去して行うが、この際、レーザーLLが調整振動腕441、442を透過して振動素子4の下方に位置する部分に照射される場合がある。そのため、調整振動腕441、442をIC3と重ならないように配置することで、レーザーLLが調整振動腕441、442を透過したとしても、透過したレーザーLLがIC3に照射されることがない。これにより、IC3へのダメージを防止することができる。   The vibration element 4 is disposed so that the adjustment vibrating arms 441 and 442 protrude from the outer edge 34 of the IC 3 to the + Y axis side in a plan view and do not overlap with the IC 3 in a plan view. As a result, it is possible to prevent the IC 3 from being damaged during the above-described unnecessary signal cancellation tuning. Specifically, as shown in FIG. 6, unnecessary signal cancellation tuning is performed by irradiating the adjustment electrode 49 as the adjustment unit with the laser LL from above the vibration element 4 and removing a part of the adjustment electrode 49. In this case, the laser LL may pass through the adjustment vibrating arms 441 and 442 and irradiate a portion positioned below the vibrating element 4 in some cases. Therefore, by arranging the adjustment vibrating arms 441 and 442 so as not to overlap with the IC 3, even if the laser LL passes through the adjustment vibrating arms 441 and 442, the transmitted laser LL is not irradiated on the IC 3. Thereby, damage to IC3 can be prevented.

さらに、図7に示すように、調整振動腕441、442の下方には第3凹部211cが位置している。そのため、調整振動腕441、442と第3凹部211cの底面(第2面)211c’との離間距離Dを、調整振動腕441、442と第1凹部211aの底面(第1面)211a’との離間距離Dよりも長くすることができ、離間距離Dを十分に大きく確保することができる。これにより、調整振動腕441、442の下面に設けられた調整電極49から除去された飛散物(飛沫)49aが、底面211c’で跳ね返って調整振動腕441、442に再付着することが低減される。また、レーザーLLが調整振動腕441、442を透過して下方に位置する底面211c’に照射され、当該照射によって溶融、飛散した飛散物21a(ベース21の一部)が調整振動腕441、442に付着することが低減される。そのため、不要信号キャンセルチューニングの効率および精度が向上する。また、付着した材料(飛散物49a、21a)によって調整振動腕441、442の振動特性(振動バランス等)が変化したり、付着した材料を介して異なる電極同士が短絡したりすることを低減することができる。 Further, as shown in FIG. 7, a third recess 211 c is located below the adjustment vibrating arms 441 and 442. Therefore, the bottom surface (second surface) of the adjustment vibrating arms 441 and 442 the third recess 211c 211c 'the distance D 3 between, the adjustment vibrating arms 441 and 442 bottom (first surface) of the first recess 211a 211a' distance can be longer than D 1 of the and can be secured sufficiently large distance D 3. As a result, the scattered matter (spray) 49a removed from the adjustment electrode 49 provided on the lower surface of the adjustment vibration arms 441 and 442 is reduced from being rebounded on the bottom surface 211c ′ and reattaching to the adjustment vibration arms 441 and 442. The Further, the laser beam LL passes through the adjustment vibration arms 441 and 442 and is irradiated to the bottom surface 211c ′ positioned below, and the scattered matter 21a (part of the base 21) melted and scattered by the irradiation is adjusted vibration arms 441 and 442. Adhering to is reduced. This improves the efficiency and accuracy of unnecessary signal cancellation tuning. In addition, the vibration characteristics (vibration balance and the like) of the adjustment vibrating arms 441 and 442 are changed by the attached material (scattered matter 49a and 21a), and different electrodes are short-circuited through the attached material. be able to.

ここで、離間距離Dとしては、特に限定されないが、例えば、100μm以上、400μm以下程度であることが好ましい。これにより、上記効果を十分に発揮することができると共に、第3凹部211cが過度に深くなることを防止し、電子デバイス1の大型化や強度低下を抑えることができる。特に、本実施形態では、Z軸方向において、底面211c’が第1凹部211aの底面211a’と第2凹部211bの底面との間に位置しているため、第3凹部211cを設けることによる、ベース21の機械的強度を低下が小さく抑えられている。ただし、底面211c’の位置としては、これに限定されず、例えば、第2凹部211bの底面と面一になっていてもよいし、第2凹部211bの底面よりも下側(−Z軸側)に位置していてもよい。 Here, the distance D 3, but not limited to, e.g., 100 [mu] m or more, preferably lower than about 400 [mu] m. Thereby, while being able to fully exhibit the said effect, it can prevent that the 3rd recessed part 211c becomes deep too much, and can suppress the enlargement of the electronic device 1 and an intensity | strength fall. In particular, in the present embodiment, since the bottom surface 211c ′ is located between the bottom surface 211a ′ of the first recess 211a and the bottom surface of the second recess 211b in the Z-axis direction, by providing the third recess 211c, A decrease in the mechanical strength of the base 21 is suppressed small. However, the position of the bottom surface 211c ′ is not limited to this. For example, the bottom surface 211c ′ may be flush with the bottom surface of the second recess 211b, or may be lower than the bottom surface of the second recess 211b (−Z-axis side). ).

なお、本実施形態の振動素子4は、調整振動腕441、442の全域が平面視でIC3と重ならないように配置されているが、振動素子4の配置としては、これに限定されず、調整振動腕441、442のうちの少なくとも質量調整領域(レーザーLLが照射される領域)がIC3と重ならないように配置されていればよい。また、本実施形態の第3凹部211cは、平面視で、検出振動腕431、432および調整振動腕441、442と重なるように設けられているが、第3凹部211cの構成としては、少なくとも調整振動腕441、442の質量調整領域(レーザーLLが照射される領域)と重なるように配置されていれば特に限定されない。   The vibration element 4 of the present embodiment is disposed so that the entire area of the adjustment vibration arms 441 and 442 does not overlap with the IC 3 in plan view. However, the arrangement of the vibration element 4 is not limited to this and is adjusted. It suffices that at least the mass adjustment region (region irradiated with the laser LL) of the vibrating arms 441 and 442 is arranged so as not to overlap with the IC 3. In addition, the third recess 211c of the present embodiment is provided so as to overlap the detection vibrating arms 431 and 432 and the adjustment vibrating arms 441 and 442 in plan view, but the configuration of the third recess 211c is at least adjusted. If it arrange | positions so that it may overlap with the mass adjustment area | region (area | region where laser LL is irradiated) of the vibrating arms 441 and 442, it will not specifically limit.

次に、振動素子5の配置について説明する。振動素子5は、図3に示すように、検出軸JがX軸と一致するように配置されている。これにより、振動素子5によって角速度ωxを検出することができる。また、振動素子5は、IC3の上面の外縁32側および外縁33側に片寄った位置(図中左下に位置する角部付近)に配置されている。そのため、振動素子5は、振動素子4に対して−Y軸側(すなわち、振動素子4と外縁33との間)に位置している。また、振動素子5の−X軸側(すなわち、振動素子5と外縁31との間)には第1端子配置領域SS1が位置している。また、振動素子5は、調整振動腕541、542が平面視でIC3の外縁32から+X軸側へはみ出して配置されている。これにより、前述した振動素子4と同様に、不要信号キャンセルチューニング時のIC3の損傷を防止することができる。 Next, the arrangement of the vibration element 5 will be described. Vibrating element 5, as shown in FIG. 3, the detection axis J 5 are arranged to coincide with the X axis. Thereby, the angular velocity ωx can be detected by the vibration element 5. Further, the vibration element 5 is disposed at a position (near the corner located at the lower left in the drawing) that is offset toward the outer edge 32 side and the outer edge 33 side of the upper surface of the IC 3. Therefore, the vibration element 5 is located on the −Y axis side (that is, between the vibration element 4 and the outer edge 33) with respect to the vibration element 4. The first terminal arrangement region SS1 is located on the −X axis side of the vibration element 5 (that is, between the vibration element 5 and the outer edge 31). Further, the vibration element 5 is arranged such that the adjustment vibration arms 541 and 542 protrude from the outer edge 32 of the IC 3 to the + X axis side in a plan view. Thereby, similarly to the vibration element 4 described above, it is possible to prevent the IC 3 from being damaged during unnecessary signal cancellation tuning.

さらに、図8に示すように、調整振動腕541、542の下方には第4凹部211dが位置している。そのため、調整振動腕541、542と第4凹部211dの底面(第2面)211d’との離間距離Dを十分に大きく確保することができる。これにより、前述した第3凹部211cと同様の効果を発揮することができる。なお、第4凹部211dの構成は、前述した第3凹部211cと同様であるため、その説明を省略する。 Further, as shown in FIG. 8, a fourth recess 211 d is located below the adjustment vibrating arms 541 and 542. Therefore, the distance D 4 between the adjustment vibrating arms 541 and 542 and the bottom surface of the fourth recess 211d (second surface) 211d 'can be secured sufficiently large. Thereby, the effect similar to the 3rd recessed part 211c mentioned above can be exhibited. Note that the configuration of the fourth recess 211d is the same as that of the third recess 211c described above, and a description thereof will be omitted.

なお、本実施形態の振動素子5は、調整振動腕541、542の全域が平面視でIC3と重ならないように配置されているが、振動素子5の配置としては、これに限定されず、調整振動腕541、542のうちの少なくとも質量調整領域(レーザーLLが照射される領域)がIC3と重ならないように配置されていればよい。   The vibration element 5 of the present embodiment is arranged so that the entire area of the adjustment vibration arms 541 and 542 does not overlap with the IC 3 in plan view. However, the arrangement of the vibration element 5 is not limited to this, and adjustment is performed. It suffices that at least the mass adjustment region (region irradiated with the laser LL) of the vibrating arms 541 and 542 is arranged so as not to overlap with the IC 3.

次に、振動素子6の配置について説明する。振動素子6は、図3に示すように、検出軸JがZ軸と一致するように配置されている。これにより、振動素子6によって角速度ωzを検出することができる。また、振動素子6は、IC3の上面の外縁31側に片寄った位置に配置されている。そのため、振動素子6は、振動素子4、5に対して−X軸側(すなわち、振動素子4、5と外縁31との間)に位置している。また、振動素子6の−Y軸側(すなわち、振動素子6と外縁33との間)には第1端子配置領域SS1が位置し、+Y軸側(すなわち、振動素子6と外縁34との間)には第2端子配置領域SS2が位置している。 Next, the arrangement of the vibration element 6 will be described. Vibrating element 6, as shown in FIG. 3, the detection axis J 6 is arranged to coincide with the Z-axis. Thereby, the angular velocity ωz can be detected by the vibration element 6. The vibration element 6 is disposed at a position offset toward the outer edge 31 on the upper surface of the IC 3. Therefore, the vibration element 6 is positioned on the −X axis side (that is, between the vibration elements 4 and 5 and the outer edge 31) with respect to the vibration elements 4 and 5. Further, the first terminal arrangement region SS1 is located on the −Y axis side of the vibration element 6 (that is, between the vibration element 6 and the outer edge 33), and the + Y axis side (that is, between the vibration element 6 and the outer edge 34). ) Is the second terminal arrangement region SS2.

特に、振動素子6は、第1端子配置領域SS1よりも第2端子配置領域SS2側に片寄って配置されている。言い換えると、振動素子6は、第1端子配置領域SS1との離間距離DSS1よりも、第2端子配置領域SS2との離間距離DSS2の方が短くなるように配置されている。これにより、第1端子配置領域SS1から振動素子6をなるべく離間させることができ、振動素子6へのデジタル信号の混入が低減される。そのため、駆動信号や検出信号へのノイズの混入を低減することができ、より正確な駆動を行うことのできる電子デバイス1となる。 In particular, the vibration element 6 is arranged closer to the second terminal arrangement region SS2 than the first terminal arrangement region SS1. In other words, the vibration element 6 is disposed such that the separation distance D SS2 from the second terminal arrangement region SS2 is shorter than the separation distance D SS1 from the first terminal arrangement region SS1. Thereby, the vibration element 6 can be separated as much as possible from the first terminal arrangement region SS1, and mixing of digital signals into the vibration element 6 is reduced. Therefore, it is possible to reduce the mixing of noise into the drive signal and the detection signal, and the electronic device 1 can be driven more accurately.

また、振動素子6は、支持部651、652の並び方向(検出振動腕621、622の延在方向)がY軸方向とほぼ一致するように配置されている。振動素子6は、支持部651、652の並び方向の長さの方が、これに直交する方向(連結腕631、632の延在方向)の長さよりも長い。そのため、このように配置することで、IC3の上面のスペースを有効に活用することができる。そのため、例えば、外縁31、33の離間距離を短くすることができ、IC3の小型化を図ることができる。ただし、振動素子6の配置としては、これに限定されず、例えば、支持部651、652の並び方向がX軸と一致するように配置されていてもよい。この場合には、本実施形態と比べて、離間距離DSS1を長くすることができるため、振動素子6へのノイズの混入をより効果的に低減することができる。 In addition, the vibration element 6 is disposed so that the arrangement direction of the support portions 651 and 652 (the extending direction of the detection vibration arms 621 and 622) substantially coincides with the Y-axis direction. In the vibration element 6, the length in the direction in which the support portions 651 and 652 are arranged is longer than the length in the direction perpendicular to this (the extending direction of the connecting arms 631 and 632). Therefore, by arranging in this way, the space on the upper surface of the IC 3 can be effectively utilized. Therefore, for example, the distance between the outer edges 31 and 33 can be shortened, and the IC 3 can be downsized. However, the arrangement of the vibration element 6 is not limited to this, and for example, the arrangement direction of the support portions 651 and 652 may be arranged to coincide with the X axis. In this case, since the separation distance DSS1 can be increased as compared with the present embodiment, the mixing of noise into the vibration element 6 can be more effectively reduced.

以上のように、IC3の上面の外縁32側の領域に振動素子4、5をY軸方向に並べて配置し、さらに、IC3の上面の外縁31側の領域に振動素子6を配置することで、これら3つの振動素子4、5、6を比較的小さいスペースで配置することができる。そのため、IC3の小型化を図ることができ、それに伴い、電子デバイス1の小型化を図ることができる。   As described above, the vibration elements 4 and 5 are arranged in the Y-axis direction in the region on the outer edge 32 side of the upper surface of the IC 3, and the vibration element 6 is disposed in the region on the outer edge 31 side of the upper surface of the IC 3, These three vibrating elements 4, 5, 6 can be arranged in a relatively small space. For this reason, the IC 3 can be reduced in size, and accordingly, the electronic device 1 can be reduced in size.

≪応力緩和層≫
応力緩和層7は、図1および図3に示すように、IC3の上面に設けられている。また、応力緩和層7は、IC3と振動素子4との間に設けられ、上面に振動素子4が配置された第1応力緩和層71と、IC3と振動素子5との間に設けられ、上面に振動素子5が配置された第2応力緩和層72と、IC3と振動素子6との間に設けられ、上面に振動素子6が配置された第3応力緩和層73と、を有している。これら第1、第2、第3応力緩和層71、72、73を設けることで、パッケージが受けた衝撃が緩和され、前記衝撃が振動素子4、5、6に伝達され難くなる。また、IC3と振動素子4、5、6との間の熱膨張差に起因して発生する応力が緩和され、振動素子4、5、6が変形(撓み)し難くなる。そのため、第1、第2、第3応力緩和層71、72、73を設けることで、電子デバイス1の機械的強度を高めることができると共に、より精度よく角速度ωx、ωy、ωzを検出することができる。
≪Stress relaxation layer≫
As shown in FIGS. 1 and 3, the stress relaxation layer 7 is provided on the upper surface of the IC 3. The stress relaxation layer 7 is provided between the IC 3 and the vibration element 4. The stress relaxation layer 7 is provided between the first stress relaxation layer 71 having the vibration element 4 disposed on the upper surface and the IC 3 and the vibration element 5. A second stress relaxation layer 72 in which the vibration element 5 is disposed, and a third stress relaxation layer 73 provided between the IC 3 and the vibration element 6 and having the vibration element 6 disposed on an upper surface thereof. . By providing the first, second, and third stress relaxation layers 71, 72, and 73, the impact received by the package is reduced, and the impact is hardly transmitted to the vibration elements 4, 5, and 6. In addition, the stress generated due to the difference in thermal expansion between the IC 3 and the vibration elements 4, 5, 6 is relieved, and the vibration elements 4, 5, 6 are difficult to deform (bend). Therefore, by providing the first, second, and third stress relaxation layers 71, 72, and 73, the mechanical strength of the electronic device 1 can be increased, and the angular velocities ωx, ωy, and ωz can be detected more accurately. Can do.

このような第1、第2、第3応力緩和層71、72、73は、互いに同様の構成であるため、以下では、第1応力緩和層71について代表して説明し、第2、第3応力緩和層72、73については、その説明を省略する。   Since the first, second, and third stress relaxation layers 71, 72, and 73 have the same configuration as each other, the first stress relaxation layer 71 will be described below as a representative. The description of the stress relaxation layers 72 and 73 is omitted.

第1応力緩和層71は、例えば、図9に示すように、IC3の上面(パッシベーション膜38上)に積層された絶縁膜711と、絶縁膜711上に形成され、IC3と電気的に接続された配線層712と、配線層712および絶縁膜711上に形成された絶縁膜713と、絶縁膜713上に形成され、配線層712と電気的に接続された配線層714と、を有している。そして、配線層714に設けられた端子714’に、固定部材8を介して振動素子4が固定されている。これにより、配線層732、734を介して、IC3と振動素子4とが電気的に接続される。このように、配線層732、734は、IC3と振動素子4とを電気的に接続するための配線(再配置配線)として機能する。そのため、IC3の振動素子4と接続するための端子37を、振動素子4の構成(特に端子の位置)を考慮することなく自由に配置することができる。   For example, as shown in FIG. 9, the first stress relaxation layer 71 is formed on the insulating film 711 stacked on the upper surface of the IC 3 (on the passivation film 38), the insulating film 711, and is electrically connected to the IC 3. A wiring layer 712, an insulating film 713 formed over the wiring layer 712 and the insulating film 711, and a wiring layer 714 formed over the insulating film 713 and electrically connected to the wiring layer 712. Yes. The vibration element 4 is fixed to the terminal 714 ′ provided on the wiring layer 714 through the fixing member 8. Thereby, the IC 3 and the vibration element 4 are electrically connected via the wiring layers 732 and 734. Thus, the wiring layers 732 and 734 function as wiring (rearrangement wiring) for electrically connecting the IC 3 and the vibration element 4. Therefore, the terminal 37 for connecting to the vibration element 4 of the IC 3 can be freely arranged without considering the configuration of the vibration element 4 (particularly the position of the terminal).

絶縁膜711、712は、それぞれ、弾性を有する樹脂材料で構成されている。前記樹脂材料としては、特に限定されないが、ポリイミド、シリコーン変性ポリイミド樹脂、エポキシ樹脂、シリコーン変性エポキシ樹脂、アクリル樹脂、フェノール樹脂、シリコーン樹脂、変性ポリイミド樹脂、ベンゾシクロブテン、ポリベンゾオキサゾール等を用いることができる。   The insulating films 711 and 712 are each made of an elastic resin material. The resin material is not particularly limited, and polyimide, silicone-modified polyimide resin, epoxy resin, silicone-modified epoxy resin, acrylic resin, phenol resin, silicone resin, modified polyimide resin, benzocyclobutene, polybenzoxazole, and the like are used. Can do.

なお、本実施形態では、応力緩和層7が、第1、第2、第3応力緩和層71、72、73に分割されているが、第1、第2、第3応力緩和層71、72、73は、一体的に形成されていてもよい。   In this embodiment, the stress relaxation layer 7 is divided into first, second, and third stress relaxation layers 71, 72, and 73. However, the first, second, and third stress relaxation layers 71 and 72 are divided. , 73 may be integrally formed.

<第2実施形態>
図10および図11は、それぞれ、本発明の第2実施形態に係る電子デバイスが有するベースの部分拡大断面図である。
Second Embodiment
10 and 11 are partially enlarged cross-sectional views of a base included in an electronic device according to the second embodiment of the present invention.

以下、第2実施形態について、前述した実施形態との相違点を中心に説明し、同様の事項については、その説明を省略する。   Hereinafter, the second embodiment will be described with a focus on differences from the above-described embodiment, and description of similar matters will be omitted.

第2実施形態は、第3、第4凹部の底面(第2面)に金属膜が設けられていること以外は、前述した第1実施形態と同様である。   The second embodiment is the same as the first embodiment described above except that a metal film is provided on the bottom surfaces (second surfaces) of the third and fourth recesses.

本実施形態の電子デバイス1では、図10に示すように、第3凹部211cの底面211c’に金属膜(保護膜)29が設けられている。この金属膜29の材料としては、特に限定されないが、レーザーLLの光吸収率が、ベース21の構成材料のレーザーLLの光吸収率よりも高いことが好ましい。また、金属膜29の材料としては、比重が、ベース21の構成材料の比重よりも高いことが好ましい。このような金属膜29としては、上記の条件を満足していれば、特に限定されないが、例えば、タングステン(W)、モリブテン(Mo)、マンガン(Mg)の下地層に、金(Au)などのめっき層を積層した金属膜で構成することができる。このような構成とすると、金属膜29を配線24(内部配線243)と一括で形成することができる点でも好ましい。   In the electronic device 1 of this embodiment, as shown in FIG. 10, a metal film (protective film) 29 is provided on the bottom surface 211c 'of the third recess 211c. The material of the metal film 29 is not particularly limited, but the light absorption rate of the laser LL is preferably higher than the light absorption rate of the laser LL of the constituent material of the base 21. In addition, the material of the metal film 29 preferably has a specific gravity higher than that of the constituent material of the base 21. Such a metal film 29 is not particularly limited as long as the above-described conditions are satisfied. For example, an underlayer of tungsten (W), molybdenum (Mo), manganese (Mg), gold (Au), or the like is used. It can comprise with the metal film which laminated | stacked these plating layers. Such a configuration is also preferable in that the metal film 29 can be formed together with the wiring 24 (internal wiring 243).

このような金属膜29を設けることにより、前述した第1実施形態で述べたような調整振動腕441、442への飛散物49a、21aの付着をより低減することができる。具体的には、金属膜29の構成材料のレーザーLLの光吸収率をベース21の構成材料よりも高くすることで、金属膜29を透過してベース21に照射されるレーザーLLを少なくすることができ、その分、飛散物21aの発生量を減らすことができる。ただし、この場合には、金属膜29が溶融して、金属膜29から飛散物が発生する可能性があるため、金属膜29の構成材料の比重をベース21の構成材料よりも重くすることで、金属膜29からの飛散物の飛散を低減している。さらには、金属膜29は、ベース21よりも柔らかいため、飛散物49aが跳ね返り難くなり、飛散物49aの調整振動腕441、442への再付着を低減することができる。   By providing such a metal film 29, it is possible to further reduce the adhesion of the scattered objects 49a and 21a to the adjustment vibrating arms 441 and 442 as described in the first embodiment. More specifically, the laser LL of the constituent material of the metal film 29 is made higher than that of the constituent material of the base 21 to reduce the laser LL transmitted through the metal film 29 and irradiated on the base 21. Therefore, the amount of scattered matter 21a can be reduced accordingly. However, in this case, since the metal film 29 may melt and scattered matter may be generated from the metal film 29, the specific gravity of the constituent material of the metal film 29 is made heavier than the constituent material of the base 21. The scattering of the scattered material from the metal film 29 is reduced. Furthermore, since the metal film 29 is softer than the base 21, the scattered matter 49a is less likely to rebound, and reattachment of the scattered matter 49a to the adjustment vibrating arms 441 and 442 can be reduced.

なお、金属膜29の厚みとしては、特に限定されないが、例えば、内部配線243よりも厚くすることができる。具体的には、2μm以上、10μm以下程度とすることができる。これにより、金属膜29によってレーザーLLをより多く吸収することができ、ベース21に照射されるレーザーLLの量をより抑えることができる。   The thickness of the metal film 29 is not particularly limited, but can be made thicker than the internal wiring 243, for example. Specifically, it can be about 2 μm or more and 10 μm or less. Thereby, more laser LL can be absorbed by the metal film 29, and the amount of laser LL irradiated to the base 21 can be further suppressed.

以上、第3凹部211cの底面211c’に金属膜29が設けられていることについて説明したが、これと同様に、図11に示すように、第4凹部211dの底面211d’にも金属膜29が設けられている。これにより、前述と同様の効果を発揮することができる。   As described above, the metal film 29 is provided on the bottom surface 211c ′ of the third recess 211c. Similarly, as shown in FIG. 11, the metal film 29 is also applied to the bottom surface 211d ′ of the fourth recess 211d. Is provided. Thereby, the effect similar to the above can be exhibited.

ここで、金属膜29は、定電位に電気的に接続されてもよい。すなわち、金属膜29は、例えば、配線24に含まれているグランド配線と電気的に接続されていてもよい。これにより、金属膜29がシールド層として機能し、例えば、検出振動腕431、432(531、532)上の検出電極と、その周囲の配線との間の静電結合を低減することができる。そのため、前記検出電極へのノイズの混入が低減され、角速度ωy(ωx)をより精度よく検出することができる。   Here, the metal film 29 may be electrically connected to a constant potential. That is, the metal film 29 may be electrically connected to a ground wiring included in the wiring 24, for example. Thereby, the metal film 29 functions as a shield layer, and for example, electrostatic coupling between the detection electrodes on the detection vibrating arms 431 and 432 (531 and 532) and the wiring around the detection electrodes can be reduced. For this reason, the mixing of noise into the detection electrode is reduced, and the angular velocity ωy (ωx) can be detected with higher accuracy.

反対に、金属膜29は、配線24(IC3)から電気的に絶縁されていてもよい。すなわち、金属膜29は、配線24から電気的に浮いた状態となっていてもよい。これにより、仮に、飛散物49aや金属膜29からの飛散物のベース21上への体積によって、金属膜29と、配線24に含まれるいずれかの配線とが電気的に接続されてしまっても、短絡等の問題が生じ得ない。したがって、電気的な安定を確保することができる。   Conversely, the metal film 29 may be electrically insulated from the wiring 24 (IC3). That is, the metal film 29 may be in an electrically floating state from the wiring 24. As a result, even if the metal film 29 and one of the wirings included in the wiring 24 are electrically connected to each other due to the volume of the scattered material 49a and the scattering material from the metal film 29 onto the base 21. Problems such as short circuit cannot occur. Therefore, electrical stability can be ensured.

このような第2実施形態によっても、前述した第1実施形態と同様の効果を発揮することができる。   Also according to the second embodiment, the same effects as those of the first embodiment described above can be exhibited.

[電子機器]
次いで、電子デバイス1を適用した電子機器について、図12〜図14に基づき、詳細に説明する。
[Electronics]
Next, an electronic apparatus to which the electronic device 1 is applied will be described in detail with reference to FIGS.

図12は、本発明の電子デバイスを備える電子機器を適用したモバイル型(またはノート型)のパーソナルコンピューターの構成を示す斜視図である。   FIG. 12 is a perspective view illustrating a configuration of a mobile (or notebook) personal computer to which an electronic apparatus including the electronic device of the present invention is applied.

この図において、パーソナルコンピューター1100は、キーボード1102を備えた本体部1104と、表示部1108を備えた表示ユニット1106とにより構成され、表示ユニット1106は、本体部1104に対しヒンジ構造部を介して回動可能に支持されている。このようなパーソナルコンピューター1100には、角速度検知手段(ジャイロセンサー)として機能する電子デバイス1が内蔵されている。そのため、パーソナルコンピューター1100は、より高性能で、高い信頼性を発揮することができる。   In this figure, a personal computer 1100 includes a main body portion 1104 provided with a keyboard 1102 and a display unit 1106 provided with a display portion 1108. The display unit 1106 is rotated with respect to the main body portion 1104 via a hinge structure portion. It is supported movably. Such a personal computer 1100 incorporates an electronic device 1 that functions as angular velocity detection means (gyro sensor). Therefore, the personal computer 1100 can exhibit higher performance and higher reliability.

図13は、本発明の電子デバイスを備える電子機器を適用した携帯電話機(PHSも含む)の構成を示す斜視図である。   FIG. 13 is a perspective view illustrating a configuration of a mobile phone (including PHS) to which an electronic apparatus including the electronic device of the invention is applied.

この図において、携帯電話機1200は、複数の操作ボタン1202、受話口1204および送話口1206を備え、操作ボタン1202と受話口1204との間には、表示部1208が配置されている。このような携帯電話機1200には、角速度検知手段(ジャイロセンサー)として機能する電子デバイスが内蔵されている。そのため、携帯電話機1200は、より高性能で、高い信頼性を発揮することができる。   In this figure, a cellular phone 1200 includes a plurality of operation buttons 1202, an earpiece 1204, and a mouthpiece 1206, and a display unit 1208 is disposed between the operation buttons 1202 and the earpiece 1204. Such a cellular phone 1200 incorporates an electronic device that functions as angular velocity detection means (gyro sensor). Therefore, the cellular phone 1200 can exhibit higher performance and higher reliability.

図14は、本発明の電子デバイスを備える電子機器を適用したデジタルスチールカメラの構成を示す斜視図である。なお、この図には、外部機器との接続についても簡易的に示されている。   FIG. 14 is a perspective view showing a configuration of a digital still camera to which an electronic apparatus including the electronic device of the present invention is applied. In this figure, connection with an external device is also simply shown.

デジタルスチールカメラ1300は、被写体の光像をCCD(Charge Coupled Device)などの撮像素子により光電変換して撮像信号(画像信号)を生成する。デジタルスチールカメラ1300におけるケース(ボディー)1302の背面には、表示部1310が設けられ、CCDによる撮像信号に基づいて表示を行う構成になっており、表示部1310は、被写体を電子画像として表示するファインダーとして機能する。また、ケース1302の正面側(図中裏面側)には、光学レンズ(撮像光学系)やCCDなどを含む受光ユニット1304が設けられている。撮影者が表示部1310に表示された被写体像を確認し、シャッターボタン1306を押下すると、その時点におけるCCDの撮像信号が、メモリー1308に転送・格納される。   The digital still camera 1300 generates an imaging signal (image signal) by photoelectrically converting an optical image of a subject using an imaging element such as a CCD (Charge Coupled Device). A display unit 1310 is provided on the back of a case (body) 1302 in the digital still camera 1300, and is configured to perform display based on an imaging signal from the CCD. The display unit 1310 displays a subject as an electronic image. Functions as a viewfinder. A light receiving unit 1304 including an optical lens (imaging optical system), a CCD, and the like is provided on the front side (the back side in the drawing) of the case 1302. When the photographer confirms the subject image displayed on the display unit 1310 and presses the shutter button 1306, the CCD image pickup signal at that time is transferred and stored in the memory 1308.

また、このデジタルスチールカメラ1300においては、ケース1302の側面に、ビデオ信号出力端子1312と、データ通信用の入出力端子1314と、が設けられている。そして、図示されるように、ビデオ信号出力端子1312にはテレビモニター1430が、デ−タ通信用の入出力端子1314にはパーソナルコンピューター1440が、それぞれ必要に応じて接続される。さらに、所定の操作により、メモリー1308に格納された撮像信号が、テレビモニター1430や、パーソナルコンピューター1440に出力される構成になっている。   In this digital still camera 1300, a video signal output terminal 1312 and an input / output terminal 1314 for data communication are provided on the side surface of the case 1302. As shown in the figure, a television monitor 1430 is connected to the video signal output terminal 1312 and a personal computer 1440 is connected to the input / output terminal 1314 for data communication as necessary. Further, the imaging signal stored in the memory 1308 is output to the television monitor 1430 or the personal computer 1440 by a predetermined operation.

このようなデジタルスチールカメラ1300には、角速度検知手段(ジャイロセンサー)として機能する電子デバイス1が内蔵されている。   Such a digital still camera 1300 incorporates an electronic device 1 that functions as an angular velocity detection means (gyro sensor).

なお、本発明の電子デバイスを備える電子機器は、図12のパーソナルコンピューター(モバイル型パーソナルコンピューター)、図13の携帯電話機、図14のデジタルスチールカメラの他にも、例えば、インクジェット式吐出装置(例えばインクジェットプリンター)、ラップトップ型パーソナルコンピューター、テレビ、ビデオカメラ、ビデオテープレコーダー、カーナビゲーション装置、ページャ、電子手帳(通信機能付も含む)、電子辞書、電卓、電子ゲーム機器、ワードプロセッサー、ワークステーション、テレビ電話、防犯用テレビモニター、電子双眼鏡、POS端末、医療機器(例えば電子体温計、血圧計、血糖計、心電図計測装置、超音波診断装置、電子内視鏡)、魚群探知機、各種測定機器、計器類(例えば、車両、航空機、船舶の計器類)、フライトシュミレーター等に適用することができる。   In addition to the personal computer (mobile personal computer) shown in FIG. 12, the mobile phone shown in FIG. 13, and the digital still camera shown in FIG. Inkjet printers), laptop personal computers, televisions, video cameras, video tape recorders, car navigation devices, pagers, electronic notebooks (including those with communication functions), electronic dictionaries, calculators, electronic game devices, word processors, workstations, televisions Telephone, crime prevention TV monitor, electronic binoculars, POS terminal, medical equipment (for example, electronic thermometer, blood pressure monitor, blood glucose meter, electrocardiogram measuring device, ultrasonic diagnostic device, electronic endoscope), fish detector, various measuring devices, instruments Class (eg, vehicle, navigation Aircraft, gauges of a ship), can be applied to a flight simulator or the like.

[移動体]
次いで、図1に示す電子デバイスを適用した移動体について、図15に基づき、詳細に説明する。
[Moving object]
Next, a moving body to which the electronic device shown in FIG. 1 is applied will be described in detail with reference to FIG.

図15は、本発明の電子デバイスを備える移動体を適用した自動車の構成を示す斜視図である。   FIG. 15 is a perspective view showing a configuration of an automobile to which a moving object including the electronic device of the present invention is applied.

自動車1500には、角速度検知手段(ジャイロセンサー)として機能する電子デバイス1が内蔵されており、電子デバイス1によって車体1501の姿勢を検出することができる。電子デバイス1の検出信号は、車体姿勢制御装置1502に供給され、車体姿勢制御装置1502は、その信号に基づいて車体1501の姿勢を検出し、検出結果に応じてサスペンションの硬軟を制御したり、個々の車輪1503のブレーキを制御したりすることができる。その他、このような姿勢制御は、二足歩行ロボットやラジコンヘリコプターで利用することができる。以上のように、各種移動体の姿勢制御の実現にあたって、電子デバイス1が組み込まれる。   The automobile 1500 incorporates an electronic device 1 that functions as angular velocity detection means (gyro sensor), and the attitude of the vehicle body 1501 can be detected by the electronic device 1. The detection signal of the electronic device 1 is supplied to the vehicle body posture control device 1502, and the vehicle body posture control device 1502 detects the posture of the vehicle body 1501 based on the signal and controls the stiffness of the suspension according to the detection result. The brakes of the individual wheels 1503 can be controlled. In addition, such posture control can be used by a biped robot or a radio control helicopter. As described above, the electronic device 1 is incorporated in realizing the attitude control of various moving objects.

以上、本発明の電子デバイス、電子機器および移動体を図示の実施形態に基づいて説明したが、本発明はこれに限定されるものではなく、各部の構成は、同様の機能を有する任意の構成のものに置換することができる。また、本発明に、他の任意の構成物が付加されていてもよい。また、本発明は、前記各実施形態のうちの、任意の2以上の構成(特徴)を組み合わせたものであってもよい。   As mentioned above, although the electronic device, the electronic apparatus, and the moving body of the present invention have been described based on the illustrated embodiments, the present invention is not limited to this, and the configuration of each unit is an arbitrary configuration having the same function Can be substituted. In addition, any other component may be added to the present invention. Further, the present invention may be a combination of any two or more configurations (features) of the above embodiments.

また、前述した実施形態では、3つの振動素子を有しているが、角速度ωx、ωyの少なくとも一方を有していれば、残りの振動素子は省略してもよい。   In the above-described embodiment, the three vibration elements are provided. However, the remaining vibration elements may be omitted as long as at least one of the angular velocities ωx and ωy is provided.

また、前述した実施形態では、角速度センサーとしての電子デバイスについて説明したが、電子デバイスとしては、角速度センサーに限定されず、例えば、加速度を検出することのできる加速度センサーであってもよいし、角速度と加速度とを検出することのできる複合センサーであってもよい。また、物理量を検出する必要もなく、例えば、発振器であってもよい。   In the above-described embodiments, the electronic device as the angular velocity sensor has been described. However, the electronic device is not limited to the angular velocity sensor, and may be, for example, an acceleration sensor that can detect acceleration, or an angular velocity. And a composite sensor that can detect acceleration and acceleration. Further, there is no need to detect a physical quantity, and for example, an oscillator may be used.

1……電子デバイス
2……パッケージ
21……ベース
21a……飛散物
211……凹部
211a……第1凹部
211a’……底面
211b……第2凹部
211c……第3凹部
211c’……底面
211d……第4凹部
211d’……底面
212……切り欠き部
22……リッド
23……シームリング
24……配線
241……内部端子
242……外部端子
243……内部配線
244……キャスタレーション電極
29……金属膜
3……IC
3i……インターフェース部
3x、3y、3z……駆動/検出回路
31、32、33、34……外縁
37……端子
38……パッシベーション膜
39……接続端子
4……振動素子
40……振動片
41……基部
421、422……駆動振動腕
431、432……検出振動腕
441、442……調整振動腕
45……支持部
46……連結部
461、462、463……梁部
463a……湾曲部
49……調整電極
49a……飛散物
5……振動素子
541、542……調整振動腕
6……振動素子
621、622……検出振動腕
631、632……連結腕
641、642、643、644……駆動振動腕
651、652……支持部
661、662、663、664……連結部
7……応力緩和層
71……第1応力緩和層
711……絶縁膜
712……配線層
713……絶縁膜
714……配線層
714’……端子
72……第2応力緩和層
73……第3応力緩和層
8……固定部材
60……振動片
61……基部
1100……パーソナルコンピューター
1102……キーボード
1104……本体部
1106……表示ユニット
1108……表示部
1200……携帯電話機
1202……操作ボタン
1204……受話口
1206……送話口
1208……表示部
1300……デジタルスチールカメラ
1302……ケース
1304……受光ユニット
1306……シャッターボタン
1308……メモリー
1310……表示部
1312……ビデオ信号出力端子
1314……入出力端子
1430……テレビモニター
1440……パーソナルコンピューター
1500……自動車
1501……車体
1502……車体姿勢制御装置
1503……車輪
BW……ボンディングワイヤー
SS1、DSS2……離間距離
、J、J……検出軸
LL……レーザー
S……収容空間
SS1……第1端子配置領域
SS2……第2端子配置領域
SS3……第3端子配置領域
ω、ωx、ωy、ωz……角速度
DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 ... Electronic device 2 ... Package 21 ... Base 21a ... Scattered object 211 ... Recessed part 211a ... 1st recessed part 211a '... Bottom 211b ... 2nd recessed part 211c ... 3rd recessed part 211c' ... Bottom 211d …… Fourth recess 211d ′ …… Bottom surface 212 …… Notch 22 …… Lid 23 …… Seam ring 24 …… Wiring 241 …… Internal terminal 242 …… External terminal 243 …… Internal wiring 244 …… Castellation Electrode 29 …… Metal film 3 …… IC
3i …… Interface portion 3x, 3y, 3z …… Drive / detection circuit 31, 32, 33, 34 …… Outer edge 37 …… Terminal 38 …… Passivation film 39 …… Connection terminal 4 …… Vibration element 40 …… Vibration piece 41... Base 421, 422... Drive vibration arm 431, 432... Detection vibration arm 441, 442... Adjustment vibration arm 45 .. Support portion 46 .. Connection portion 461, 462, 463. Curved portion 49 …… Adjustment electrode 49a …… Spattering object 5 …… Vibration element 541, 542 …… Adjustment vibration arm 6 …… Vibration element 621,622… Detection vibration arm 631,632 ... Connection arm 641,642,643 , 644... Drive vibration arm 651, 652... Support portion 661, 662, 663, 664... Connection portion 7 .. Stress relaxation layer 71. 12 ... Wiring layer 713 ... Insulating film 714 ... Wiring layer 714 '... Terminal 72 ... Second stress relaxation layer 73 ... Third stress relaxation layer 8 ... Fixing member 60 ... Vibrating piece 61 ... Base DESCRIPTION OF SYMBOLS 1100 …… Personal computer 1102 …… Keyboard 1104 …… Main unit 1106 …… Display unit 1108 …… Display unit 1200 …… Mobile phone 1202 …… Operation buttons 1204 …… Earpiece 1206 …… Sent mouth 1208 …… Display unit 1300 …… Digital still camera 1302 …… Case 1304 …… Light receiving unit 1306 …… Shutter button 1308 …… Memory 1310 …… Display unit 1312 …… Video signal output terminal 1314 …… Input / output terminal 1430 …… TV monitor 1440 …… Personal computer 1500 ... car 1501 ... Body 1502 ...... vehicle body attitude control unit 1503 ...... wheel BW ...... bonding wire D SS1, D SS2 ...... distance J 4, J 5, J 6 ...... detection axis LL ...... laser S ...... accommodating space SS1 ...... First terminal arrangement area SS2 ... Second terminal arrangement area SS3 ... Third terminal arrangement area ω, ωx, ωy, ωz ... Angular velocity

Claims (13)

ベースと、
前記ベースに配置されている半導体装置と、
前記半導体装置に配置されている振動素子と、を有し、
前記振動素子は、前記基部に接続され、調整部を有する振動腕を含み、前記振動腕の少なくとも一部が前記半導体装置と平面視で重ならないように配置され、
前記ベースは、前記半導体装置と電気的に接続される端子が設けられている第1面と、前記振動腕と平面視で重なるように位置し、前記ベースの厚さ方向での前記振動素子との離間距離が前記第1面よりも大きい第2面と、を有することを特徴とする電子デバイス。
Base and
A semiconductor device disposed on the base;
A vibration element disposed in the semiconductor device,
The vibrating element includes a vibrating arm connected to the base and having an adjustment unit, and is arranged so that at least a part of the vibrating arm does not overlap the semiconductor device in plan view,
The base is positioned so as to overlap a first surface on which a terminal electrically connected to the semiconductor device is provided, and the vibrating arm in plan view, and the vibration element in the thickness direction of the base And a second surface having a larger separation distance than the first surface.
前記第2面に設けられている保護層を有している請求項1に記載の電子デバイス。   The electronic device according to claim 1, further comprising a protective layer provided on the second surface. 前記保護層の構成材料の光吸収率は、前記ベースの構成材料の光吸収率よりも高い請求項2に記載の電子デバイス。   The electronic device according to claim 2, wherein the light absorption rate of the constituent material of the protective layer is higher than the light absorption rate of the base constituent material. 前記保護層の構成材料の比重は、前記ベースの構成材料の比重よりも高い請求項2または3に記載の電子デバイス。   The electronic device according to claim 2, wherein a specific gravity of a constituent material of the protective layer is higher than a specific gravity of the base constituent material. 前記保護層は、導電性を有し、定電位に電気的に接続されている請求項2ないし4のいずれか1項に記載の電子デバイス。   The electronic device according to claim 2, wherein the protective layer has conductivity and is electrically connected to a constant potential. 前記保護層は、前記ベースに設けられ、前記半導体装置から絶縁されている請求項2ないし4のいずれか1項に記載の電子デバイス。   The electronic device according to claim 2, wherein the protective layer is provided on the base and insulated from the semiconductor device. 前記ベースは、一方の主面に開口する第1凹部と、前記第1凹部の底部に開口する第2凹部および第3凹部と、を有し、
前記第2凹部の底面に前記半導体装置が配置され、
前記第1凹部の底面が前記第1面となり、
前記第3凹部の底面が前記第2面となっている請求項1ないし6のいずれか1項に記載の電子デバイス。
The base has a first recess opening in one main surface, and a second recess and a third recess opening in the bottom of the first recess,
The semiconductor device is disposed on the bottom surface of the second recess,
The bottom surface of the first recess is the first surface,
The electronic device according to any one of claims 1 to 6, wherein a bottom surface of the third recess is the second surface.
前記第2面は、前記ベースの厚さ方向において、前記第1面と前記第2凹部の底面との間に位置している請求項7に記載の電子デバイス。   The electronic device according to claim 7, wherein the second surface is located between the first surface and a bottom surface of the second recess in the thickness direction of the base. 前記調整振動腕と前記第2面との離間距離は、100μm以上、400μm以下である請求項1ないし8のいずれか1項に記載の電子デバイス。   The electronic device according to claim 1, wherein a distance between the adjustment vibrating arm and the second surface is 100 μm or more and 400 μm or less. 前記振動素子は、物理量を検出することができる請求項1ないし9のいずれか1項に記載の電子デバイス。   The electronic device according to claim 1, wherein the vibration element can detect a physical quantity. 複数の前記振動素子が前記半導体装置に配置されている請求項10に記載の電子デバイス。   The electronic device according to claim 10, wherein a plurality of the vibration elements are arranged in the semiconductor device. 請求項1ないし11のいずれか1項に記載の電子デバイスを有していることを特徴とする電子機器。   An electronic apparatus comprising the electronic device according to claim 1. 請求項1ないし11のいずれか1項に記載の電子デバイスを有していることを特徴とする移動体。   A moving body comprising the electronic device according to claim 1.
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