JP2016070684A - 光源ユニット、光コヒーレンストモグラフィシステムおよび偏波調整方法 - Google Patents

光源ユニット、光コヒーレンストモグラフィシステムおよび偏波調整方法 Download PDF

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Masato Tanaka
正人 田中
奥野 俊明
Toshiaki Okuno
俊明 奥野
省三 外崎
Shozo Sotozaki
省三 外崎
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Abstract

【課題】広帯域の出力光の偏波を容易に調整することができる光源ユニットを提供する。
【解決手段】光源ユニット1は、SLD光源11〜13、偏波コントローラ21〜23、合波部31,32、偏波ビームスプリッタ41、WDMカプラ51、フォトダイオード71,72および制御部80を備える。制御部80は、フォトダイオード71,72による各波長成分の検出値に基づいて偏波コントローラ21〜23それぞれにおける偏波調整を制御する。
【選択図】図1

Description

本発明は、光源ユニット、光源ユニットを備える光コヒーレンストモグラフィシステム、および、光源ユニットから出力される光の偏波を調整する方法に関するものである。
光コヒーレンストモグラフィシステムは、干渉計により、光源ユニットから出力された光を2分岐して測定光および参照光とするとともに、測定光を対象物に照射したときに該対象物の内部で生じた反射光と前記参照光とを互いに干渉させて、当該干渉光に基づいて対象物の光断層画像を取得することができる。
光コヒーレンストモグラフィシステムにおいて用いられる光源ユニットは、対象物等によっては近赤外域で広帯域の光を出力することが要求され、複数の広帯域光源それぞれから出力される光を合波部により合波する構成とされる場合があり、また、これら複数の広帯域光源としてSLD(Superluminescent Diode)光源を用いる場合がある(特許文献1,2および非特許文献1,2を参照)。
特開2007−212428号公報 特開2002−214125号公報
Opt. Express, vol.12, p.2112 (2004) Proc. SPIE vol.8565, 2013, 85654F
光コヒーレンストモグラフィシステムにおいて高精度の光断層画像を取得するには、光源ユニットから出力される光の偏波消光比は大きいことが望まれる。しかし、複数のSLD光源および合波部を備える光源ユニットの出力光の偏波消光比は小さい場合があり、このような光源ユニットを備える光コヒーレンストモグラフィシステムの性能は劣る場合がある。
本発明は、上記問題点を解消する為になされたものであり、広帯域の出力光の偏波を容易に調整することができる光源ユニットを提供することを目的とする。本発明は、このような光源ユニットを備え高精度の光断層画像を取得することができる光コヒーレンストモグラフィシステムを提供することを目的とする。また、本発明は、光源ユニットの出力光の偏波を調整する方法を提供することを目的とする。
光源ユニットは、出力波長帯域が互いに異なる複数のSLD光源と、前記複数のSLD光源それぞれに対応して設けられ各SLD光源から出力された光の偏波を調整する複数の偏波コントローラと、前記複数の偏波コントローラそれぞれから出力された光を合波して出力する合波部と、前記合波部から出力された光の一部を分岐する分岐部と、前記分岐部により分岐された光を複数の波長成分に分離して各波長成分の光のパワーを検出する検出部と、前記検出部による各波長成分の検出値に基づいて前記複数の偏波コントローラそれぞれにおける偏波調整を制御する制御部とを備える。
本発明の光源ユニットは、広帯域の出力光の偏波を容易に調整することができる。本発明の光コヒーレンストモグラフィシステムは、このような光源ユニットを備え、高精度の光断層画像を取得することができる。
第1実施形態の光源ユニット1の構成を示す図である。 第2実施形態の光源ユニット2の構成を示す図である。 第3実施形態の光源ユニット3の構成を示す図である。 第4実施形態の光源ユニット4の構成を示す図である。 第4実施形態の光源ユニット4を備える光コヒーレンストモグラフィ(OCT)システムの構成を示す図である。 第4実施形態の光源ユニット4における制御部80による制御を説明する図である。
光源ユニットは、出力波長帯域が互いに異なる複数のSLD光源と、前記複数のSLD光源それぞれに対応して設けられ各SLD光源から出力された光の偏波を調整する複数の偏波コントローラと、前記複数の偏波コントローラそれぞれから出力された光を合波して出力する合波部と、前記合波部から出力された光の一部を分岐する分岐部と、前記分岐部により分岐された光を複数の波長成分に分離して各波長成分の光のパワーを検出する検出部と、前記検出部による各波長成分の検出値に基づいて前記複数の偏波コントローラそれぞれにおける偏波調整を制御する制御部とを備える。
前記複数のSLD光源それぞれから出力される光の偏光度が0.9以上であり、前記合波部により合波された光の偏波消光比が13dBであるのが好適である。前記合波部と前記分岐部との間に設けられた偏光子を更に備えるのが好適である。
前記分岐部が、前記合波部から出力された光を偏波分離して第1方位の直線偏波の光および第2方位の直線偏波の光を出力する偏波ビームスプリッタであり、前記検出部が、前記偏波ビームスプリッタから出力された第1方位の直線偏波の光を検出するセンサを含むのが好適である。前記センサが第1分光計であるのが好適である。また、前記検出部が、前記偏波ビームスプリッタから出力された第2方位の直線偏波の光を検出する第2分光計を含むのが好適である。
また、光源ユニットは、出力波長帯域が互いに異なる複数のSLD光源と、前記複数のSLD光源それぞれに対応して設けられ各SLD光源から出力された光の偏波を調整する複数の偏波コントローラと、前記複数の偏波コントローラそれぞれから出力された光を合波して出力する合波部とを備え、前記複数の偏波コントローラそれぞれから出力される光の偏波が略一致するよう前記複数の偏波コントローラが調整されている。
光コヒーレンストモグラフィシステムは、上記の光源ユニットと、前記合波部と前記偏波ビームスプリッタとの間に設けられ、前記合波部から出力された光を2分岐して測定光および参照光とし、前記測定光が照射された対象物で生じた反射光と前記参照光とを前記偏波ビームスプリッタへ出力する干渉計と、を備える。
偏波調整方法は、上記の光源ユニットから出力される光の偏波を調整する方法であって、前記複数のSLD光源それぞれから順次に1台ずつ光を出力させて、前記複数の偏波コントローラそれぞれにおける偏波調整を順次に実施する。
前記分岐部が、前記合波部から出力された光を偏波分離して第1方位の直線偏波の光および第2方位の直線偏波の光を出力する偏波ビームスプリッタであり、前記検出部が、前記偏波ビームスプリッタから出力された第1方位の直線偏波の光を検出する第1分光計を含み、前記第1分光計による各波長成分の検出値の総和を最大化または最小化することで、偏波調整を実施するのが好適である。
前記分岐部が、前記合波部から出力された光を偏波分離して第1方位の直線偏波の光および第2方位の直線偏波の光を出力する偏波ビームスプリッタであり、前記検出部が、前記偏波ビームスプリッタから出力された第1方位の直線偏波の光を検出する第1分光計と、前記偏波ビームスプリッタから出力された第2方位の直線偏波の光を検出する第2分光計とを含み、前記第1分光計および前記第2分光計それぞれによる各波長成分の検出値の差の絶対値または二乗値の総和を最大化または最小化することで、偏波調整を実施するのが好適である。
前記分岐部が、前記合波部から出力された光を偏波分離して第1方位の直線偏波の光および第2方位の直線偏波の光を出力する偏波ビームスプリッタであり、前記検出部が、前記偏波ビームスプリッタから出力された第1方位の直線偏波の光を検出する第1分光計と、前記偏波ビームスプリッタから出力された第2方位の直線偏波の光を検出する第2分光計とを含み、前記第1分光計および前記第2分光計それぞれによる各波長成分の検出値の逆数の差の絶対値または二乗値の総和を最大化することで、偏波調整を実施するのが好適である。
前記総和を算出する際に、分割した複数の帯域それぞれにおける検出値の平均値を用いるのが好適である。
以下、添付図面を参照して、本発明を実施するための形態を詳細に説明する。なお、図面の説明において同一の要素には同一の符号を付し、重複する説明を省略する。本発明は、これらの例示に限定されるものではなく、特許請求の範囲によって示され、特許請求の範囲と均等の意味および範囲内でのすべての変更が含まれることが意図される。
図1は、第1実施形態の光源ユニット1の構成を示す図である。第1実施形態の光源ユニット1は、SLD光源11〜13、偏波コントローラ21〜23、合波部31,32、偏波ビームスプリッタ41、WDMカプラ51、フォトダイオード71,72および制御部80を備える。
SLD光源11〜13は、波長帯域が互いに異なる広帯域の光を出力する。偏波コントローラ21は、SLD光源11から出力された光を入力し、その光の偏波を調整して、その偏波調整後の光を合波部31へ出力する。偏波コントローラ22は、SLD光源12から出力された光を入力し、その光の偏波を調整して、その偏波調整後の光を合波部31へ出力する。偏波コントローラ23は、SLD光源13から出力された光を入力し、その光の偏波を調整して、その偏波調整後の光を合波部32へ出力する。
合波部31は、偏波コントローラ21,22それぞれから出力された光を合波して出力する。合波部32は、合波部31および偏波コントローラ23それぞれから出力された光を合波して出力する。
偏波ビームスプリッタ41は、合波部32から出力された光の一部を分岐してWDMカプラ51へ出力する分岐部である。特に、偏波ビームスプリッタ41は、合波部32から出力された光を偏波分離して互いに直交する第1方位および第2方位それぞれの直線偏波の光とし、そのうちの第1方位の直線偏波の光をWDMカプラ51へ出力する。WDMカプラ51は、偏波ビームスプリッタ41から出力された第1方位の直線偏波の光を入力し、この光を分波して、互いに異なる第1波長成分および第2波長成分それぞれの光を出力する。
フォトダイオード71,72は、各波長成分の光のパワーを検出する検出部である。フォトダイオード71は、WDMカプラ51から出力された第1波長成分の光のパワーを検出する。フォトダイオード72は、WDMカプラ51から出力された第2波長成分の光のパワーを検出する。制御部80は、フォトダイオード71,72による各波長成分の検出値に基づいて偏波コントローラ21〜23それぞれにおける偏波調整を制御する。
図2は、第2実施形態の光源ユニット2の構成を示す図である。第2実施形態の光源ユニット2は、SLD光源11〜13、偏波コントローラ21〜23、合波部31,32、カプラ43、スターカプラ52、光フィルタ61〜63、フォトダイオード71〜73および制御部80を備える。第1実施形態の光源ユニット1の構成(図1)と比較すると、第2実施形態の光源ユニット2は、偏波ビームスプリッタ41、WDMカプラ51およびフォトダイオード71,72に替えて、カプラ43、スターカプラ52、光フィルタ61〜63およびフォトダイオード71〜73を備える点で相違する。
カプラ43は、合波部32から出力された光の一部を分岐してスターカプラ52へ出力する分岐部である。スターカプラ52は、カプラ43により分岐された光を入力し、その光を3分岐して第1〜第3の分岐光として出力する。光フィルタ61〜63それぞれの透過帯域は互いに異なる。
フォトダイオード71〜73は、各波長成分の光のパワーを検出する検出部である。フォトダイオード71は、スターカプラ52から出力され光フィルタ61を透過した第1分岐光のパワーを検出する。フォトダイオード72は、スターカプラ52から出力され光フィルタ62を透過した第2分岐光のパワーを検出する。フォトダイオード73は、スターカプラ52から出力され光フィルタ63を透過した第3分岐光のパワーを検出する。制御部80は、フォトダイオード71〜73による各波長成分の検出値に基づいて偏波コントローラ21〜23それぞれにおける偏波調整を制御する。
図3は、第3実施形態の光源ユニット3の構成を示す図である。第3実施形態の光源ユニット3は、SLD光源11〜13、偏波コントローラ21〜23、合波部31,32、偏光子42、カプラ43、WDMカプラ51、フォトダイオード71,72および制御部80を備える。第1実施形態の光源ユニット1の構成(図1)と比較すると、第3実施形態の光源ユニット3は、偏波ビームスプリッタ41に替えて、偏光子42およびカプラ43を備える点で相違する。
偏光子42は、合波部32から出力された光のうち特定方位の直線偏光の光を透過させる。カプラ43は、偏光子42を透過した光の一部を分岐してWDMカプラ51へ出力する分岐部である。WDMカプラ51は、カプラ43から分岐されて出力された光を入力し、この光を分波して、互いに異なる第1波長成分および第2波長成分それぞれの光を出力する。
フォトダイオード71,72は、各波長成分の光のパワーを検出する検出部である。フォトダイオード71は、WDMカプラ51から出力された第1波長成分の光のパワーを検出する。フォトダイオード72は、WDMカプラ51から出力された第2波長成分の光のパワーを検出する。制御部80は、フォトダイオード71,72による各波長成分の検出値に基づいて偏波コントローラ21〜23それぞれにおける偏波調整を制御する。
光源ユニット1〜3それぞれにおいて、或る構成要素と他の構成要素との間は光ファイバにより光学的に接続されているのが好適である。ここで用いられる光ファイバはシングルモード光ファイバであってよいが、直線偏波の光を導光する光ファイバは偏波保持光ファイバであるのが好適である。偏波依存性を有するWDMフィルタを用いることもできる。光ファイバを用いることなく、光を空間伝搬させてもよい。
光源ユニット1〜3それぞれにおいて、制御部80による制御は例えば以下のように行われる。制御部80は、検出部(フォトダイオード71〜73)による各波長成分の検出値を解析することにより、または、予め保有している設定値または設定範囲と検出値とを対比することにより、検出値が適正値または適正範囲内であるか否かを判定する。制御部80は、その判定結果に基づいて、検出値が適正値または適正範囲内となるように、偏波コントローラ21〜23それぞれにおける偏波調整を制御する。
制御部80は、様々な制御条件をパラメータ化してデータベース管理しており、検出部(フォトダイオード71〜73)による各波長成分の検出値に応じて、データベースに基づいて適切な制御条件を選別し、その制御条件に従って偏波コントローラ21〜23それぞれにおける偏波調整を制御するのも好適である。
制御部80は、分岐部により分岐されて検出部により検出される光の波長域のうち、少なくとも光コヒーレンストモグラフィシステムで利用される波長域で、検出部により検出される光のパワーが可能な限り小さくなうように、偏波コントローラ21〜23の偏波調整を制御するのが好適である。このようにすることにより、検出部により検出される光のパワーの微弱な変化を高感度に捉えることができる。
例えば、制御部80は、検出部による各波長成分の検出値が低下した場合に、偏波コントローラ21〜23の条件を変更して、検出部による各波長成分の検出値が改善するか否かを判定する。もし、偏波コントローラ21〜23の条件を変更しても検出部による各波長成分の検出値が改善しなければ、制御部80は、SLD光源11〜13に供給する駆動電流を調整するのが好適である。更に、制御部80は、必要に応じて、偏波コントローラ21〜23の条件を再度変更するのも好適である。
偏波コントローラ21〜23における調整の際には、例えば、SLD光源11〜13それぞれから順次に1台ずつ光を出力させて、偏波コントローラ21〜23それぞれにおける調整を順次に実施する。すなわち、先ず、SLD光源11〜13のうちSLD光源11のみから光を出力させ、このSLD光源11に対応して設けてられている偏波コントローラ21における調整を実施する。次に、SLD光源11〜13のうちSLD光源12のみから光を出力させ、このSLD光源12に対応して設けてられている偏波コントローラ22における調整を実施する。更に、SLD光源11〜13のうちSLD光源13のみから光を出力させ、このSLD光源13に対応して設けてられている偏波コントローラ23における調整を実施する。その後に、SLD光源11〜13の全てから光を出力させて、合波部32から出力される光のスペクトルおよび偏波状態を確認する。この場合、偏波コントローラ21〜23それぞれにおける調整を個々に実施するので、調整が容易である。
SLD光源11〜13それぞれから出力される光の偏光度は0.9以上であるのが好適である。各SLD光源から出力される光の偏光度が0.9未満である場合、偏波コントローラで偏波調整を行っても偏波消光比が6dB以下となり、光コヒーレンストモグラフィシステムの性能が劣ることになる。それ故、各SLD光源から出力される光の偏光度は、0.9以上であるのが好適であり、0.95以上であれば更に好適である。
次に、第4実施形態の光源ユニット4について説明する。図4は、第4実施形態の光源ユニット4の構成を示す図である。第4実施形態の光源ユニット4は、SLD光源11〜13、偏波コントローラ21〜23、合波部31,32、偏波コントローラ24、偏波ビームスプリッタ41、第1分光計74、第2分光計75および制御部80を備える。第1実施形態の光源ユニット1の構成(図1)と比較すると、第4実施形態の光源ユニット4は、偏波ビームスプリッタ41、WDMカプラ51およびフォトダイオード71,72に替えて、偏波コントローラ24、偏波ビームスプリッタ41および分光計74,75を備える点で相違する。
偏波コントローラ24は、合波部32から出力された光の偏波を調整して、その偏波調整後の光を偏波ビームスプリッタ41へ出力する。偏波ビームスプリッタ41は、偏波コントローラ24から出力された光を偏波分離して互いに直交する第1方位および第2方位それぞれの直線偏波の光とし、そのうちの第1方位の直線偏波の光を第1分光計74へ出力するとともに、第2方位の直線偏波の光を第2分光計75へ出力する。
第1分光計74は、偏波ビームスプリッタ41から出力された第1方位の直線偏波の光を検出する。第2分光計75は、偏波ビームスプリッタ41から出力された第2方位の直線偏波の光を検出する。分光計74,75それぞれは、受光した光の各波長のパワーを検出する。制御部80は、分光計74,75による各波長成分の検出値に基づいて偏波コントローラ21〜24それぞれにおける偏波調整を制御する。
この光源ユニット4を備える光コヒーレンストモグラフィシステムを構成する場合、偏波コントローラ24と偏波ビームスプリッタ41との間に干渉計が設けられる。その干渉計は、合波部32から出力され偏波コントローラ24により偏波調整された光を2分岐して測定光および参照光とし、測定光が照射された対象物で生じた反射光と前記参照光とを偏波ビームスプリッタ41へ出力する。偏波コントローラ24、偏波ビームスプリッタ41および分光計74,75は、光コヒーレンストモグラフィシステムの測定系の一部を兼ねていてもよい。
図5は、第4実施形態の光源ユニット4を備える光コヒーレンストモグラフィ(OCT)システムの構成を示す図である。合波部32と偏波ビームスプリッタ41との間に干渉計が設けられている。合波部32から出力された光は、カプラ25により2分岐されて測定光および参照光となる。測定光は、光方向器(光サーキュレータ)28によりスキャン照射機構29へ導かれる。スキャン照射機構29は、回転および前後動させる機構と出射光学系ないしはガルバノミラーと空間光学系である。参照光は、光路長調整機構27(ミラーを使う方式であっても使わない方式であってもよい)を通過する。測定光が照射された対象物で生じスキャン照射機構29と光方向器28とを経て戻ってきた反射光と、偏波コントローラ24により偏波調整された前記参照光とを、カプラ26から偏波ビームスプリッタ41へ出力する。偏波コントローラ24、偏波ビームスプリッタ41および分光計74,75は、光コヒーレンストモグラフィシステムの測定系の一部を兼ねていてもよい。
光源ユニット4において、制御部80による制御は例えば以下のように行われる。図6は、第4実施形態の光源ユニット4における制御部80による制御を説明する図である。同図(a)〜(h)それぞれにおいて、横軸は波長であり、縦軸は検出値(または、遮光時の検出値(暗電流分)を差し引いた後の検出値)である。また、同図(a)〜(h)それぞれにおいて、実線および破線のうち一方は、第1分光計74により検出される第1方位の直線偏波の光のスペクトルを示し、他方は、第2分光計75により検出される第2方位の直線偏波の光のスペクトルを示す。
制御部80による制御は、偏波コントローラ21〜23それぞれの調整を順次に制御する第1〜第3のステップと、これに続く偏波コントローラ24の調整を制御する第4ステップとを含む。
第1ステップでは、偏波コントローラ24を初期状態のままにして、SLD光源11〜13のうちSLD光源11のみから光を出力させ、このSLD光源11に対応して設けてられている偏波コントローラ21における調整を実施する。同図(a)は、当該調整前に分光計74,75により検出されるスペクトルを示し、同図(b)は、当該調整後に分光計74,75により検出されるスペクトルを示す。
第2ステップでは、偏波コントローラ24を初期状態のままにして、SLD光源11〜13のうちSLD光源12のみから光を出力させ、このSLD光源12に対応して設けてられている偏波コントローラ22における調整を実施する。同図(c)は、当該調整前に分光計74,75により検出されるスペクトルを示し、同図(d)は、当該調整後に分光計74,75により検出されるスペクトルを示す。
第3ステップでは、偏波コントローラ24を初期状態のままにして、SLD光源11〜13のうちSLD光源13のみから光を出力させ、このSLD光源13に対応して設けてられている偏波コントローラ23における調整を実施する。同図(e)は、当該調整前に分光計74,75により検出されるスペクトルを示し、同図(f)は、当該調整後に分光計74,75により検出されるスペクトルを示す。
第1〜第3のステップにおいて、偏波コントローラ21〜23それぞれの調整を以下の方法A〜Dの何れかにより行う。方法Aでは、分光計74,75の何れか一方の分光計による各波長成分の検出値の総和を最大化するように、偏波コントローラを調整する。方法Bでは、分光計74,75の何れか一方の分光計による各波長成分の検出値の総和を最小化するように、偏波コントローラを調整する。方法Cでは、分光計74,75それぞれによる各波長成分の検出値の差の二乗値の総和を最大化するように、偏波コントローラを調整する。方法Dでは、分光計74,75それぞれによる各波長成分の検出値の差の絶対値の総和を最大化するように、偏波コントローラを調整する。
第1〜第3のステップにおける各偏波コントローラの調整により、各偏波コントローラから出力される光を特定の偏波状態に設定することができる。また、偏波コントローラ21〜23それぞれにおける調整を個々に実施するので、各SLD光源から出力される光が互いに重なり合う波長帯域での調整の曖昧さをなくすことができ、調整が容易である。
第1〜第3のステップの後の第4ステップでは、SLD光源11〜13の全てから光を出力させて、偏波コントローラ24における調整を実施する。同図(g)は、当該調整前に分光計74,75により検出されるスペクトルを示し、同図(h)は、当該調整後に分光計74,75により検出されるスペクトルを示す。
第4ステップにおいて、偏波コントローラ24の調整を以下の方法a〜dの何れかにより行う。方法aでは、分光計74,75それぞれによる各波長成分の検出値の差の二乗値の総和を最小化するように、偏波コントローラ24を調整する。方法bでは、分光計74,75それぞれによる各波長成分の検出値の差の絶対値の総和を最小化するように、偏波コントローラ24を調整する。方法cでは、分光計74,75それぞれによる各波長成分の検出値の差と和との比率の二乗値または絶対値の総和を最小化するように、偏波コントローラ24を調整する。方法dでは、分光計74,75それぞれによる各波長成分の検出値の逆数の差の二乗値または絶対値の総和を最小化するように、偏波コントローラ24を調整する。
第4ステップでは、2つの分光計74,75それぞれによる検出値のバランスをとることができ、光コヒーレンストモグラフィの偏波ダイバーシティに有効である。
なお、第1〜第4のステップにおいて、総和を算出する際に、すべての波長に対する検出値を用いるのではなく、間引きした検出値を用いてもよく、分割した複数の帯域それぞれにおける検出値の平均値を用いてもよい。後者については、分光計74,75において不良画素があって検出値が異常である場合に、その影響を緩和することができる。
1〜4…光源ユニット、11〜13…SLD光源、21〜24…偏波コントローラ、31,32…合波部、41…偏波ビームスプリッタ、42…偏光子、43…カプラ、51…WDMカプラ、52…スターカプラ、61〜63…光フィルタ、71〜73…フォトダイオード、74,75…分光計、80…制御部。

Claims (13)

  1. 出力波長帯域が互いに異なる複数のSLD光源と、
    前記複数のSLD光源それぞれに対応して設けられ各SLD光源から出力された光の偏波を調整する複数の偏波コントローラと、
    前記複数の偏波コントローラそれぞれから出力された光を合波して出力する合波部と、
    前記合波部から出力された光の一部を分岐する分岐部と、
    前記分岐部により分岐された光を複数の波長成分に分離して各波長成分の光のパワーを検出する検出部と、
    前記検出部による各波長成分の検出値に基づいて前記複数の偏波コントローラそれぞれにおける偏波調整を制御する制御部と、
    を備える光源ユニット。
  2. 前記複数のSLD光源それぞれから出力される光の偏光度が0.9以上であり、
    前記合波部により合波された光の偏波消光比が13dBである、
    請求項1に記載の光源ユニット。
  3. 前記合波部と前記分岐部との間に設けられた偏光子を更に備える、
    請求項1または2に記載の光源ユニット。
  4. 前記分岐部が、前記合波部から出力された光を偏波分離して第1方位の直線偏波の光および第2方位の直線偏波の光を出力する偏波ビームスプリッタであり、
    前記検出部が、前記偏波ビームスプリッタから出力された第1方位の直線偏波の光を検出するセンサを含む、
    請求項1または2に記載の光源ユニット。
  5. 前記センサが第1分光計である、
    請求項4に記載の光源ユニット。
  6. 前記検出部が、前記偏波ビームスプリッタから出力された第2方位の直線偏波の光を検出する第2分光計を含む、
    請求項5に記載の光源ユニット。
  7. 出力波長帯域が互いに異なる複数のSLD光源と、
    前記複数のSLD光源それぞれに対応して設けられ各SLD光源から出力された光の偏波を調整する複数の偏波コントローラと、
    前記複数の偏波コントローラそれぞれから出力された光を合波して出力する合波部と、
    を備え、
    前記複数の偏波コントローラそれぞれから出力される光の偏波が略一致するよう前記複数の偏波コントローラが調整されている、
    光源ユニット。
  8. 請求項5または6に記載の光源ユニットと、
    前記合波部と前記偏波ビームスプリッタとの間に設けられ、前記合波部から出力された光を2分岐して測定光および参照光とし、前記測定光が照射された対象物で生じた反射光と前記参照光とを前記偏波ビームスプリッタへ出力する干渉計と、
    を備える光コヒーレンストモグラフィシステム。
  9. 請求項1または2に記載の光源ユニットから出力される光の偏波を調整する方法であって、
    前記複数のSLD光源それぞれから順次に1台ずつ光を出力させて、前記複数の偏波コントローラそれぞれにおける偏波調整を順次に実施する、
    偏波調整方法。
  10. 前記分岐部が、前記合波部から出力された光を偏波分離して第1方位の直線偏波の光および第2方位の直線偏波の光を出力する偏波ビームスプリッタであり、
    前記検出部が、前記偏波ビームスプリッタから出力された第1方位の直線偏波の光を検出する第1分光計を含み、
    前記第1分光計による各波長成分の検出値の総和を最大化または最小化することで、偏波調整を実施する、
    請求項9に記載の偏波調整方法。
  11. 前記分岐部が、前記合波部から出力された光を偏波分離して第1方位の直線偏波の光および第2方位の直線偏波の光を出力する偏波ビームスプリッタであり、
    前記検出部が、前記偏波ビームスプリッタから出力された第1方位の直線偏波の光を検出する第1分光計と、前記偏波ビームスプリッタから出力された第2方位の直線偏波の光を検出する第2分光計とを含み、
    前記第1分光計および前記第2分光計それぞれによる各波長成分の検出値の差の絶対値または二乗値の総和を最大化または最小化することで、偏波調整を実施する、
    請求項9に記載の偏波調整方法。
  12. 前記分岐部が、前記合波部から出力された光を偏波分離して第1方位の直線偏波の光および第2方位の直線偏波の光を出力する偏波ビームスプリッタであり、
    前記検出部が、前記偏波ビームスプリッタから出力された第1方位の直線偏波の光を検出する第1分光計と、前記偏波ビームスプリッタから出力された第2方位の直線偏波の光を検出する第2分光計とを含み、
    前記第1分光計および前記第2分光計それぞれによる各波長成分の検出値の逆数の差の絶対値または二乗値の総和を最大化することで、偏波調整を実施する、
    請求項9に記載の偏波調整方法。
  13. 前記総和を算出する際に、分割した複数の帯域それぞれにおける検出値の平均値を用いる、
    請求項10〜12の何れか1項に記載の偏波調整方法。
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