JP2016069434A - Imide structure-containing (meth)acrylic resin - Google Patents

Imide structure-containing (meth)acrylic resin Download PDF

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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To provide an imide structure-containing (meth)acrylic resin that can be suitably used as a raw material for an optical film excellent in heat resistance and having small birefringence, high surface hardness and a small photoelastic coefficient and the like, to provide a method for producing the same, to provide an optical film containing the imide structure-containing (meth)acrylic resin and to provide an image display device having the optical film.SOLUTION: The imide structure-containing (meth)acrylic resin uses a (meth)acrylic resin produced by polymerizing as a raw material a monomer component containing a (meth)acrylic monomer. The monomer component contains a (meth)acrylic acid alkyl ester having a 2-6C alkyl ester and a (meth)acrylic acid and the imide structure-containing (meth)acrylic resin has a glass transition temperature of 150°C or higher.SELECTED DRAWING: None

Description

本発明は、イミド構造含有(メタ)アクリル系樹脂に関する。さらに詳しくは、本発明は、例えば、VD、CD、DVD、MD、LDなどの光ディスクの基板の保護フィルム、LCDなどの液晶表示装置などの画像表示装置に備えられている偏光板に用いられる偏光子保護フィルムなどの光学用保護フィルム、有機ELディスプレイ(OLED)に用いられる反射防止フィルム、ITO層などの透明導電層が形成された透明導電性フィルムなどに代表される光学フィルムの原料として好適に使用することができるイミド構造含有(メタ)アクリル系樹脂およびその製造方法、光学フィルム、ならびに画像表示装置に関する。   The present invention relates to an imide structure-containing (meth) acrylic resin. More specifically, the present invention relates to polarized light used in a polarizing plate provided in an image display device such as a protective film for a substrate of an optical disk such as VD, CD, DVD, MD, and LD, and a liquid crystal display device such as an LCD. Suitable as a raw material for optical films represented by optical protective films such as optical protective films, antireflection films used in organic EL displays (OLEDs), transparent conductive films formed with transparent conductive layers such as ITO layers, etc. The present invention relates to an imide structure-containing (meth) acrylic resin that can be used and a method for producing the same, an optical film, and an image display device.

近年、画像表示装置には、画像の鮮明度の向上の要望により、高度な光学特性を有する光学材料の開発が求められている。高度な光学特性の1つとして複屈折が小さいことが要求されている。一般に、光学材料に用いられる高分子化合物は、その分子の主鎖方向の屈折率と当該主鎖方向に対して垂直方向の屈折率とが異なるため、複屈折が生じる。複屈折が小さい光学フィルム用高分子材料として、トリアセチルセルロースなどのセルロース系樹脂が提案されている(例えば、特許文献1参照)。   In recent years, there has been a demand for image display devices to develop optical materials having advanced optical characteristics in response to a demand for improvement in image sharpness. As one of the advanced optical characteristics, low birefringence is required. In general, a polymer compound used for an optical material has birefringence because the refractive index in the main chain direction of the molecule is different from the refractive index in the direction perpendicular to the main chain direction. As a polymer material for an optical film having a small birefringence, a cellulose-based resin such as triacetyl cellulose has been proposed (for example, see Patent Document 1).

しかし、セルロース系樹脂からなる光学フィルムは、斜め方向の入射光に対して位相差が生じ、当該斜め方向の入射光に対する位相差は、大型の液晶ディスプレイでは、視野角特性に悪影響を及ぼすという欠点を有する。   However, an optical film made of a cellulose-based resin produces a phase difference with respect to obliquely incident light, and the phase difference with respect to the obliquely incident light adversely affects viewing angle characteristics in a large liquid crystal display. Have

一方、成形加工性に優れ、表面硬度が高く、高光線透過率、低複屈折および低波長依存性を有する光学材料としてポリメチルメタクリレートが提案されている(例えば、特許文献2参照)。しかし、ポリメチルメタクリレートは、ガラス転移温度(Tg)が100℃程度と低いため耐熱性に劣ることから、耐熱性が求められる用途、例えば、画像表示装置に使用することが困難とされている。   On the other hand, polymethyl methacrylate has been proposed as an optical material that has excellent moldability, high surface hardness, high light transmittance, low birefringence, and low wavelength dependency (see, for example, Patent Document 2). However, since polymethyl methacrylate has a low glass transition temperature (Tg) of about 100 ° C. and is inferior in heat resistance, it is difficult to use it in applications requiring heat resistance, such as an image display device.

そこで、ポリメチルメタクリレートなどのアクリル系樹脂の耐熱性を改善する方法として、押出機を用いてアクリル系樹脂を押出成形によって光学フィルムを成形する際に、アクリル系樹脂をメチルアミンで処理することにより、アクリル系樹脂をイミド化させることが提案されている(例えば、特許文献3参照)。しかし、アクリル系樹脂をメチルアミンでイミド化させることによって得られる樹脂は、正の複屈折が大きいという欠点がある。   Therefore, as a method for improving the heat resistance of acrylic resins such as polymethyl methacrylate, when forming an optical film by extrusion molding of an acrylic resin using an extruder, the acrylic resin is treated with methylamine. It has been proposed to imidize acrylic resins (for example, see Patent Document 3). However, a resin obtained by imidizing an acrylic resin with methylamine has a drawback of large positive birefringence.

特開2009−265174号公報JP 2009-265174 A 特開平06−102547号公報Japanese Patent Laid-Open No. 06-102547 特開2009−107180号公報JP 2009-107180 A

本発明は、前記従来技術に鑑みてなされたものであり、耐熱性に優れ、複屈折が小さく、表面硬度が高く、光弾性係数が小さい光学フィルムの原料などとして好適に使用することができるイミド構造含有(メタ)アクリル系樹脂およびその製造方法、当該イミド構造含有(メタ)アクリル系樹脂を含有する光学フィルム、ならびに当該光学フィルムを有する画像表示装置を提供することを課題とする。   The present invention has been made in view of the above prior art, and is an imide that can be suitably used as a raw material for optical films having excellent heat resistance, low birefringence, high surface hardness, and low photoelastic coefficient. It is an object to provide a structure-containing (meth) acrylic resin and a production method thereof, an optical film containing the imide structure-containing (meth) acrylic resin, and an image display device having the optical film.

本発明は、
(1) 原料として(メタ)アクリル系モノマーを含有するモノマー成分を重合させてなる(メタ)アクリル系樹脂が用いられたイミド構造含有(メタ)アクリル系樹脂であって、前記(メタ)アクリル系モノマーがアルキルエステルの炭素数が2〜6である(メタ)アクリル酸アルキルエステルおよび(メタ)アクリル酸を含有する(メタ)アクリル系モノマーであり、150℃以上のガラス転移温度を有することを特徴とするイミド構造含有(メタ)アクリル系樹脂、
(2) イミド構造含有(メタ)アクリル系樹脂が式(I):
The present invention
(1) An imide structure-containing (meth) acrylic resin using a (meth) acrylic resin obtained by polymerizing a monomer component containing a (meth) acrylic monomer as a raw material, the (meth) acrylic resin The monomer is a (meth) acrylic monomer containing a (meth) acrylic acid alkyl ester having 2 to 6 carbon atoms in the alkyl ester and (meth) acrylic acid, and has a glass transition temperature of 150 ° C. or higher. An imide structure-containing (meth) acrylic resin,
(2) The imide structure-containing (meth) acrylic resin is represented by the formula (I):

Figure 2016069434
Figure 2016069434

(式中、R1およびR2は、それぞれ独立して、水素原子または炭素数1〜8のアルキル基、R3は、水素原子、炭素数1〜18のアルキル基、炭素数3〜12のシクロアルキル基または炭素数6〜10のアリール基を示す)
で表わされる繰返し単位および式(II):
(In the formula, R 1 and R 2 are each independently a hydrogen atom or an alkyl group having 1 to 8 carbon atoms, R 3 is a hydrogen atom, an alkyl group having 1 to 18 carbon atoms, or an alkyl group having 3 to 12 carbon atoms. A cycloalkyl group or an aryl group having 6 to 10 carbon atoms)
Repeating units represented by the formula (II):

Figure 2016069434
Figure 2016069434

(式中、R4およびR5は、それぞれ独立して、水素原子または炭素数1〜8のアルキル基、R6は、炭素数2〜6のアルキル基を示す)
で表わされる繰返し単位を有する前記(1)に記載のイミド構造含有(メタ)アクリル系樹脂、
(3) 式(I)において、R3が炭素数3〜12のシクロアルキル基または炭素数6〜10のアリール基である前記(2)に記載のイミド構造含有(メタ)アクリル系樹脂、
(4) (メタ)アクリル系樹脂が式(I)で表わされる繰返し単位5〜85重量%および式(II)で表わされる繰返し単位15〜95重量%を有する前記(1)〜(3)のいずれかに記載のイミド構造含有(メタ)アクリル系樹脂、
(5) 応力光学係数(Cr)の絶対値が0.3×10-9Pa-1以下である前記(1)〜(4)のいずれかに記載のイミド構造含有(メタ)アクリル系樹脂、
(6) 原料として(メタ)アクリル系モノマーを含有するモノマー成分を重合させてなる(メタ)アクリル系樹脂を用いてイミド構造含有(メタ)アクリル系樹脂を製造する方法であって、前記モノマー成分としてアルキルエステルの炭素数が2〜6である(メタ)アクリル酸アルキルエステルおよび(メタ)アクリル酸を含有するモノマー成分を用いることを特徴とするイミド構造含有(メタ)アクリル系樹脂の製造方法、
(7)前記(1)〜(5)のいずれかに記載のイミド構造含有(メタ)アクリル系樹脂を含有してなる光学フィルム、
(8) 少なくとも一方表面に透明導電層が形成されている前記(7)に記載の光学フィルム、および
(9) 前記(7)または(8)に記載の光学フィルムを有する画像表示装置
に関する。
(Wherein R 4 and R 5 each independently represents a hydrogen atom or an alkyl group having 1 to 8 carbon atoms, and R 6 represents an alkyl group having 2 to 6 carbon atoms)
The imide structure-containing (meth) acrylic resin according to the above (1) having a repeating unit represented by:
(3) The imide structure-containing (meth) acrylic resin according to (2), wherein in formula (I), R 3 is a cycloalkyl group having 3 to 12 carbon atoms or an aryl group having 6 to 10 carbon atoms,
(4) The above (1) to (3) wherein the (meth) acrylic resin has 5 to 85% by weight of the repeating unit represented by the formula (I) and 15 to 95% by weight of the repeating unit represented by the formula (II). The imide structure-containing (meth) acrylic resin according to any one of the above,
(5) The imide structure-containing (meth) acrylic resin according to any one of (1) to (4), wherein the absolute value of the stress optical coefficient (Cr) is 0.3 × 10 −9 Pa −1 or less,
(6) A method for producing an imide structure-containing (meth) acrylic resin using a (meth) acrylic resin obtained by polymerizing a monomer component containing a (meth) acrylic monomer as a raw material, the monomer component A method for producing an imide structure-containing (meth) acrylic resin, comprising using a monomer component containing (meth) acrylic acid alkyl ester and (meth) acrylic acid, wherein the alkyl ester has 2 to 6 carbon atoms,
(7) An optical film comprising the imide structure-containing (meth) acrylic resin according to any one of (1) to (5),
(8) The optical film according to (7), in which a transparent conductive layer is formed on at least one surface, and (9) the image display device having the optical film according to (7) or (8).

なお、本明細書において、「(メタ)アクリ」は、「アクリ」または「メタクリ」を意味する。   In the present specification, “(meth) acryl” means “acryl” or “methacryl”.

本発明によれば、耐熱性に優れ、複屈折が小さく、表面硬度が高く、光弾性係数が小さい光学フィルムの原料などとして好適に使用することができるイミド構造含有(メタ)アクリル系樹脂およびその製造方法、当該イミド構造含有(メタ)アクリル系樹脂を含有する光学フィルム、ならびに当該光学フィルムを有する画像表示装置が提供される。   According to the present invention, an imide structure-containing (meth) acrylic resin that can be suitably used as a raw material for an optical film having excellent heat resistance, low birefringence, high surface hardness, and low photoelastic coefficient, and the like A production method, an optical film containing the imide structure-containing (meth) acrylic resin, and an image display device having the optical film are provided.

本発明のイミド構造含有(メタ)アクリル系樹脂は、前記したように、原料として(メタ)アクリル系モノマーを含有するモノマー成分を重合させることによって得られた(メタ)アクリル系樹脂が用いられたイミド構造含有(メタ)アクリル系樹脂であり、前記(メタ)アクリル系モノマーがアルキルエステルの炭素数が2〜6である(メタ)アクリル酸アルキルエステルおよび(メタ)アクリル酸を含有する(メタ)アクリル系モノマーであり、150℃以上のガラス転移温度を有することを特徴とする。   As described above, the (meth) acrylic resin obtained by polymerizing the monomer component containing the (meth) acrylic monomer as a raw material was used for the imide structure-containing (meth) acrylic resin of the present invention. (Meth) acrylic resin containing an imide structure, wherein the (meth) acrylic monomer contains (meth) acrylic acid alkyl ester having 2 to 6 carbon atoms and (meth) acrylic acid (meth) It is an acrylic monomer and has a glass transition temperature of 150 ° C. or higher.

本発明においては、(メタ)アクリル系樹脂の原料として用いられるモノマー成分に、種々ある(メタ)アクリル系モノマーのなかでもアルキルエステルの炭素数が2〜6である(メタ)アクリル酸アルキルエステルおよび(メタ)アクリル酸が用いられているので、本発明のイミド構造含有(メタ)アクリル系樹脂は、耐熱性に優れ、複屈折が小さく、表面硬度が高く、光弾性係数が小さいのみならず、吸水率が低く、厚さ方向位相差Rthの変化値が小さく、さらに寸法安定性に優れた光学フィルムの原料などとして好適に使用することができる。   In the present invention, the monomer component used as a raw material for the (meth) acrylic resin includes (meth) acrylic acid alkyl ester having 2 to 6 carbon atoms of alkyl ester among various (meth) acrylic monomers and Since (meth) acrylic acid is used, the imide structure-containing (meth) acrylic resin of the present invention has excellent heat resistance, low birefringence, high surface hardness, and low photoelastic coefficient. It can be suitably used as a raw material for optical films having a low water absorption, a small change in thickness direction retardation Rth, and excellent dimensional stability.

本発明のイミド構造含有(メタ)アクリル系樹脂は、例えば、(メタ)アクリル系樹脂を減圧下で加熱することによって環化縮合させ、得られた環構造含有(メタ)アクリル系樹脂をイミド化剤でイミド化させることにより、調製することができる。   The imide structure-containing (meth) acrylic resin of the present invention is, for example, cyclized and condensed by heating the (meth) acrylic resin under reduced pressure, and the resulting ring structure-containing (meth) acrylic resin is imidized. It can be prepared by imidizing with an agent.

本発明のイミド構造含有(メタ)アクリル系樹脂の原料として用いられる(メタ)アクリル系樹脂は、(メタ)アクリル系モノマーを含有するモノマー成分を重合させることにより、調製することができる。   The (meth) acrylic resin used as a raw material of the imide structure-containing (meth) acrylic resin of the present invention can be prepared by polymerizing a monomer component containing a (meth) acrylic monomer.

(メタ)アクリル系モノマーとして、アルキルエステルの炭素数が2〜6である(メタ)アクリル酸アルキルエステルおよび(メタ)アクリル酸が用いられる。   As the (meth) acrylic monomer, (meth) acrylic acid alkyl ester having 2 to 6 carbon atoms and (meth) acrylic acid are used.

好適なアルキルエステルの炭素数が2〜6である(メタ)アクリル酸アルキルエステルとしては、式(III):   Suitable alkyl ester (meth) acrylic acid alkyl ester having 2 to 6 carbon atoms is represented by formula (III):

Figure 2016069434
Figure 2016069434

(式中、R4およびR5は、それぞれ独立して、水素原子または炭素数1〜8のアルキル基、R6は、炭素数2〜6のアルキル基を示す)
で表わされる(メタ)アクリル酸アルキルエステルが挙げられる。
(Wherein R 4 and R 5 each independently represents a hydrogen atom or an alkyl group having 1 to 8 carbon atoms, and R 6 represents an alkyl group having 2 to 6 carbon atoms)
(Meth) acrylic acid alkyl esters represented by the formula:

式(III)で表わされる(メタ)アクリル酸アルキルエステルにおいて、R4およびR5は、それぞれ独立して、水素原子または炭素数1〜8のアルキル基である。炭素数1〜8のアルキル基としては、例えば、メチル基、エチル基、n−プロピル基、イソプロピル基、n−ブチル基、イソブチル基、tert−ブチル基、n−ペンチル基、イソペンチル基、n−ヘキシル基、イソへキシル基、n−ヘプチル基、イソヘプチル基、n−オクチル基、2−エチルヘキシル基などが挙げられるが、本発明は、かかる例示のみに限定されるものではない。これらのアルキル基のなかでは、耐熱性に優れ、複屈折が小さく、表面硬度が高く、光弾性係数が小さい光学フィルムを得る観点から、炭素数1〜4のアルキル基が好ましい。 In the (meth) acrylic acid alkyl ester represented by the formula (III), R 4 and R 5 are each independently a hydrogen atom or an alkyl group having 1 to 8 carbon atoms. Examples of the alkyl group having 1 to 8 carbon atoms include methyl group, ethyl group, n-propyl group, isopropyl group, n-butyl group, isobutyl group, tert-butyl group, n-pentyl group, isopentyl group, n- Examples include a hexyl group, an isohexyl group, an n-heptyl group, an isoheptyl group, an n-octyl group, and a 2-ethylhexyl group, but the present invention is not limited to such examples. Among these alkyl groups, an alkyl group having 1 to 4 carbon atoms is preferable from the viewpoint of obtaining an optical film having excellent heat resistance, low birefringence, high surface hardness, and low photoelastic coefficient.

式(III)で表わされる繰返し単位において、R6は、炭素数2〜6のアルキル基である。炭素数2〜6のアルキル基としては、例えば、エチル基、n−プロピル基、イソプロピル基、n−ブチル基、イソブチル基、tert−ブチル基、ペンチル基、ヘキシル基などが挙げられるが、本発明は、かかる例示のみに限定されるものではない。これらのなかでは、耐熱性に優れ、複屈折が小さく、表面硬度が高く、光弾性係数が小さい光学フィルムを得る観点から、炭素数2〜4のアルキル基が好ましく、エチル基およびn−ブチル基がより好ましい。 In the repeating unit represented by the formula (III), R 6 is an alkyl group having 2 to 6 carbon atoms. Examples of the alkyl group having 2 to 6 carbon atoms include an ethyl group, an n-propyl group, an isopropyl group, an n-butyl group, an isobutyl group, a tert-butyl group, a pentyl group, and a hexyl group. Is not limited to such examples. Among these, an alkyl group having 2 to 4 carbon atoms is preferable from the viewpoint of obtaining an optical film having excellent heat resistance, low birefringence, high surface hardness, and low photoelastic coefficient, and includes an ethyl group and an n-butyl group. Is more preferable.

式(III)で表わされる繰返し単位において、耐熱性に優れ、複屈折が小さく、表面硬度が高く、光弾性係数が小さい光学フィルムを得る観点から、R4およびR5は、それぞれ独立して、水素原子または炭素数1〜8のアルキル基、好ましくは水素原子または炭素数1〜4のアルキル基、より好ましくは水素原子またはメチル基であり、R6は、炭素数2〜6のアルキル基、好ましくは炭素数2〜4のアルキル基、より好ましくはエチル基またはn−ブチル基である。 In the repeating unit represented by the formula (III), R 4 and R 5 are each independently from the viewpoint of obtaining an optical film having excellent heat resistance, low birefringence, high surface hardness, and low photoelastic coefficient. A hydrogen atom or an alkyl group having 1 to 8 carbon atoms, preferably a hydrogen atom or an alkyl group having 1 to 4 carbon atoms, more preferably a hydrogen atom or a methyl group, and R 6 is an alkyl group having 2 to 6 carbon atoms, Preferably it is a C2-C4 alkyl group, More preferably, it is an ethyl group or n-butyl group.

アルキル基の炭素数が2〜6の(メタ)アクリル酸アルキルエステルとしては、例えば、エチル(メタ)アクリレート、n−プロピル(メタ)アクリレート、イソプロピル(メタ)アクリレート、n−ブチル(メタ)アクリレート、イソブチル(メタ)アクリレート、tert−ブチル(メタ)アクリレート、ペンチル(メタ)アクリレート、ヘキシル(メタ)アクリレート、などが挙げられるが、本発明は、かかる例示のみに限定されるものではない。これらの(メタ)アクリレートは、それぞれ単独で用いてもよく、2種類以上を併用してもよい。   Examples of the (meth) acrylic acid alkyl ester having 2 to 6 carbon atoms in the alkyl group include, for example, ethyl (meth) acrylate, n-propyl (meth) acrylate, isopropyl (meth) acrylate, n-butyl (meth) acrylate, Examples include isobutyl (meth) acrylate, tert-butyl (meth) acrylate, pentyl (meth) acrylate, hexyl (meth) acrylate, and the like, but the present invention is not limited to such examples. These (meth) acrylates may be used alone or in combination of two or more.

アルキルエステルの炭素数が2〜6である(メタ)アクリル酸アルキルエステルと(メタ)アクリル酸との比〔アルキルエステルの炭素数が2〜6である(メタ)アクリル酸アルキルエステル/(メタ)アクリル酸(質量比)〕は、フィルムへの成形性を向上させ、機械的強度を高めるとともに、複屈折が小さい光学フィルムを得る観点から、好ましくは40/60以上、より好ましくは50/50以上であり、耐熱性に優れ、複屈折が小さく、表面硬度が高く、光弾性係数が小さい光学フィルムを得る観点から、好ましくは90/10以下、より好ましくは80/20以下である。   Ratio of (meth) acrylic acid alkyl ester having 2 to 6 carbon atoms of alkyl ester and (meth) acrylic acid [(meth) acrylic acid alkyl ester having 2 to 6 carbon atoms of alkyl ester / (meth) Acrylic acid (mass ratio)] is preferably 40/60 or more, more preferably 50/50 or more, from the viewpoint of improving the moldability to the film, increasing the mechanical strength, and obtaining an optical film having a small birefringence. From the viewpoint of obtaining an optical film having excellent heat resistance, low birefringence, high surface hardness and low photoelastic coefficient, it is preferably 90/10 or less, more preferably 80/20 or less.

(メタ)アクリル系モノマーは、アルキルエステルの炭素数が2〜6である(メタ)アクリル酸アルキルエステルおよび(メタ)アクリル酸で構成されていてもよく、本発明の目的を阻害しない範囲内で、アルキルエステルの炭素数が2〜6である(メタ)アクリル酸アルキルエステルおよび(メタ)アクリル酸以外の(メタ)アクリル系モノマー、例えば、メチル(メタ)アクリレートなどが含まれていてもよい。   The (meth) acrylic monomer may be composed of (meth) acrylic acid alkyl ester having 2 to 6 carbon atoms of alkyl ester and (meth) acrylic acid, and within a range not hindering the object of the present invention. The (meth) acrylic acid alkyl ester having 2 to 6 carbon atoms in the alkyl ester and (meth) acrylic monomers other than (meth) acrylic acid, for example, methyl (meth) acrylate may be contained.

また、モノマー成分は、(メタ)アクリル系モノマーで構成されていてもよく、本発明の目的を阻害しない範囲内で、例えば、スチレンなどの(メタ)アクリル系モノマー以外のモノマーが含まれていてもよい。   In addition, the monomer component may be composed of a (meth) acrylic monomer, and includes a monomer other than a (meth) acrylic monomer such as styrene, for example, within a range that does not impair the object of the present invention. Also good.

モノマー成分を重合させる方法としては、例えば、塊状重合法、溶液重合法、乳化重合法、懸濁重合法などが挙げられるが、本発明は、かかる例示のみに限定されるものではない。   Examples of the method for polymerizing the monomer component include a bulk polymerization method, a solution polymerization method, an emulsion polymerization method, a suspension polymerization method, and the like, but the present invention is not limited to such examples.

次に、前記モノマー成分を重合させることによって得られた(メタ)アクリル系樹脂を減圧下にて加熱し、環化縮合させることにより、環構造含有(メタ)アクリル系樹脂が得られる。   Next, the (meth) acrylic resin obtained by polymerizing the monomer component is heated under reduced pressure and subjected to cyclization condensation to obtain a ring structure-containing (meth) acrylic resin.

一般に、ポリメチルメタクリレート(PMMA)などの(メタ)アクリル系樹脂を1級アミンでイミド化させることによってグルタルイミド樹脂が得られる。当該(メタ)アクリル系樹脂のイミド化の際には、無水グルタル酸構造を経由することが知られている。グルタルイミド構造の含有量が多い(メタ)アクリル系樹脂を製造するためには、無水グルタル酸構造を効率よく(メタ)アクリル系樹脂に生成させることが重要である。(メタ)アクリル系樹脂の環化(無水グルタル酸化)の反応促進には、高温かつ減圧条件が効果的であり、押出機を用いて(メタ)アクリル系樹脂の環化(無水グルタル酸化)を行なうことが知られている。   Generally, a glutarimide resin is obtained by imidizing a (meth) acrylic resin such as polymethyl methacrylate (PMMA) with a primary amine. In the imidation of the (meth) acrylic resin, it is known to go through a glutaric anhydride structure. In order to produce a (meth) acrylic resin having a high content of glutarimide structure, it is important to efficiently produce a glutaric anhydride structure in the (meth) acrylic resin. High temperature and reduced pressure conditions are effective in promoting the reaction of cyclization of (meth) acrylic resin (anhydrous glutaroxidation). It is known to do.

(メタ)アクリル系樹脂を減圧下で加熱する際の減圧度は、(メタ)アクリル系樹脂の環化反応を促進させる観点から、好ましくは200hPa以上、より好ましくは600hPa以上、さらに好ましくは800hPa以上である。また、(メタ)アクリル系樹脂の加熱温度は、(メタ)アクリル系樹脂の環化反応を促進させる観点から、好ましくは240℃以上、より好ましくは260℃以上、さらに好ましくは280℃以上であり、(メタ)アクリル系樹脂の分解および着色を抑制する観点から、好ましくは350℃以下、より好ましくは330℃以下である。   The degree of pressure reduction when heating the (meth) acrylic resin under reduced pressure is preferably 200 hPa or more, more preferably 600 hPa or more, further preferably 800 hPa or more, from the viewpoint of promoting the cyclization reaction of the (meth) acrylic resin. It is. Further, the heating temperature of the (meth) acrylic resin is preferably 240 ° C. or higher, more preferably 260 ° C. or higher, and further preferably 280 ° C. or higher, from the viewpoint of promoting the cyclization reaction of the (meth) acrylic resin. From the viewpoint of suppressing decomposition and coloring of the (meth) acrylic resin, it is preferably 350 ° C. or lower, more preferably 330 ° C. or lower.

((メタ)アクリル系樹脂を減圧下で加熱する際には、(メタ)アクリル系樹脂の環化反応を促進させ、生産性を向上させる観点から、押出機を用いることが好ましく、二軸押出機を用いることがより好ましい。   (When heating the (meth) acrylic resin under reduced pressure, it is preferable to use an extruder from the viewpoint of promoting the cyclization reaction of the (meth) acrylic resin and improving the productivity. It is more preferable to use a machine.

また、(メタ)アクリル系樹脂を環化縮合させる際には、環化縮合を促進させる観点から、環化触媒を用いることが好ましい。環化触媒として、酸、塩基およびそれらの塩からなる群より選ばれた少なくとも1種を用いることができる。酸、塩基およびそれらの塩の種類は、特に限定されない。当該触媒は、(メタ)アクリル系樹脂に着色などの悪影響が及ぼされず、当該(メタ)アクリル系樹脂の透明性が低下しない範囲内で使用することが好ましい。   In addition, when the (meth) acrylic resin is cyclized and condensed, a cyclization catalyst is preferably used from the viewpoint of promoting the cyclized condensation. As the cyclization catalyst, at least one selected from the group consisting of acids, bases and salts thereof can be used. Kinds of acids, bases and salts thereof are not particularly limited. The catalyst is preferably used within the range where the (meth) acrylic resin is not adversely affected such as coloring and the transparency of the (meth) acrylic resin is not lowered.

酸としては、例えば、塩酸、硫酸、p−トルエンスルホン酸、リン酸、亜リン酸、フェニルホスホン酸、リン酸メチルなどが挙げられるが、本発明は、かかる例示のみに限定されるものではない。塩基としては、例えば、金属水酸化物、アミン類、イミン類、アルカリ金属誘導体、アルコキシド類、水酸化アンモニウム塩などが挙げられるが、本発明は、かかる例示のみに限定されるものではない。酸および塩基の塩としては、例えば、酢酸金属塩、ステアリン酸金属塩、炭酸金属塩などが挙げられるが、本発明は、かかる例示のみに限定されるものではない。   Examples of the acid include hydrochloric acid, sulfuric acid, p-toluenesulfonic acid, phosphoric acid, phosphorous acid, phenylphosphonic acid, methyl phosphate, and the like, but the present invention is not limited to such examples. . Examples of the base include metal hydroxides, amines, imines, alkali metal derivatives, alkoxides, ammonium hydroxide salts, and the like, but the present invention is not limited to such examples. Examples of the acid and base salts include metal acetates, metal stearates, metal carbonates, etc., but the present invention is not limited to such examples.

環化触媒のなかでは、少量で優れた反応促進効果を示すことから、アルカリ金属を有する化合物が好ましい。アルカリ金属を有する化合物としては、例えば、水酸化リチウム、水酸化ナトリウム、水酸化カリウムなどのアルカリ金属水酸化物、ナトリウムメトキシド、ナトリウムエトキシド、ナトリウムフェノキシド、カリウムメトキシド、カリウムエトキシド、カリウムフェノキシドなどのアルカリ金属アルコキシド化合物、酢酸リチウム、酢酸ナトリウム、酢酸カリウム、ステアリン酸ナトリウムなどの有機カルボン酸アルカリ金属塩などが挙げられるが、本発明は、かかる例示のみに限定されるものではない。アルカリ金属を有する化合物のなかでは、比較的少量の添加で優れた反応促進効果を示し、樹脂の着色が抑制されることから、水酸化ナトリウム、ナトリウムメトキシド、酢酸リチウムおよび酢酸ナトリウムがより好ましく、ナトリウムメトキシドおよび酢酸リチウムがさらに好ましい。   Among the cyclization catalysts, a compound having an alkali metal is preferable because an excellent reaction promoting effect is exhibited in a small amount. Examples of the compound having an alkali metal include alkali metal hydroxides such as lithium hydroxide, sodium hydroxide and potassium hydroxide, sodium methoxide, sodium ethoxide, sodium phenoxide, potassium methoxide, potassium ethoxide and potassium phenoxide. Examples of the alkali metal alkoxide compound such as lithium acetate, sodium acetate, potassium acetate, and sodium stearate include organic carboxylic acid alkali metal salts, but the present invention is not limited to such examples. Among the compounds having an alkali metal, sodium hydroxide, sodium methoxide, lithium acetate and sodium acetate are more preferable because they exhibit an excellent reaction promoting effect with a relatively small amount of addition and suppress resin coloring. Sodium methoxide and lithium acetate are more preferred.

環化触媒の量は、環化反応を促進させ,ガラス転移温度が高いイミド構造含有(メタ)アクリル系樹脂を得る観点から、(メタ)アクリル系樹脂100重量部あたり、0.01〜1重量部程度であることが好ましい。   The amount of the cyclization catalyst is 0.01 to 1 weight per 100 parts by weight of the (meth) acrylic resin from the viewpoint of accelerating the cyclization reaction and obtaining an imide structure-containing (meth) acrylic resin having a high glass transition temperature. It is preferable that it is about a part.

(メタ)アクリル系樹脂の環化縮合反応に要する時間は、当該環化縮合反応の条件などによって異なるので一概には決定することができない。通常、(メタ)アクリル系樹脂の環化縮合は、当該(メタ)アクリル系樹脂の環化縮合の反応率が所望値に到達するまで行なわれる。   Since the time required for the cyclization condensation reaction of the (meth) acrylic resin varies depending on the conditions of the cyclization condensation reaction and the like, it cannot be determined unconditionally. Usually, the cyclization condensation of the (meth) acrylic resin is performed until the reaction rate of the cyclization condensation of the (meth) acrylic resin reaches a desired value.

以上のようにして環構造含有(メタ)アクリル系樹脂が得られる。(メタ)アクリル系樹脂から環構造含有(メタ)アクリル系樹脂を調製し、必要により環構造含有(メタ)アクリル系樹脂を単離した後、得られた環構造含有(メタ)アクリル系樹脂をイミド化させた場合には、イミド構造を効率よく環構造含有(メタ)アクリル系樹脂に生成させることができる。この方法は、例えば、メチルアミンなどのアルキルアミンと比べて塩基性が小さいアニリンなどをイミド化剤として用いたときに有効な方法である。   A ring structure-containing (meth) acrylic resin is obtained as described above. After preparing a ring structure-containing (meth) acrylic resin from a (meth) acrylic resin and isolating the ring structure-containing (meth) acrylic resin as necessary, the obtained ring structure-containing (meth) acrylic resin When imidized, an imide structure can be efficiently produced in a ring structure-containing (meth) acrylic resin. This method is effective when, for example, aniline having a smaller basicity than an alkylamine such as methylamine is used as an imidizing agent.

次に、環構造含有(メタ)アクリル系樹脂をイミド化剤でイミド化させることにより、イミド構造含有(メタ)アクリル系樹脂を得ることができる。   Next, an imide structure-containing (meth) acrylic resin can be obtained by imidizing the ring structure-containing (meth) acrylic resin with an imidizing agent.

環構造含有(メタ)アクリル系樹脂をイミド化剤でイミド化させる方法としては、例えば、公知のイミド化する方法などを挙げることができる。環構造含有(メタ)アクリル系樹脂をイミド化剤でイミド化させる具体的な方法としては、例えば、
(1)環構造含有(メタ)アクリル系樹脂を溶解させることができ、イミド化に対して不活性な溶媒に当該環構造含有(メタ)アクリル系樹脂を溶解させ、得られた環構造含有(メタ)アクリル系樹脂溶液にイミド化剤を添加し、環構造含有(メタ)アクリル系樹脂とイミド化剤とを反応させることにより、環構造含有(メタ)アクリル系樹脂をイミド化剤でイミド化させる方法(バッチ式反応法)、
(2)押出機などを用いて溶融状態の環構造含有(メタ)アクリル系樹脂にイミド化剤を添加し、環構造含有(メタ)アクリル系樹脂とイミド化剤とを反応させることにより、環構造含有(メタ)アクリル系樹脂をイミド化させる方法(溶融混練法)
などが挙げられるが、本発明は、かかる例示のみに限定されるものではない。
Examples of a method for imidizing a ring structure-containing (meth) acrylic resin with an imidizing agent include a known imidizing method. As a specific method for imidizing a ring structure-containing (meth) acrylic resin with an imidizing agent, for example,
(1) The ring structure-containing (meth) acrylic resin can be dissolved, the ring structure-containing (meth) acrylic resin is dissolved in a solvent inert to imidization, and the resulting ring structure-containing ( Imidizing a ring structure-containing (meth) acrylic resin with an imidizing agent by adding an imidizing agent to the (meth) acrylic resin solution and reacting the ring structure-containing (meth) acrylic resin with the imidizing agent Method (batch reaction method),
(2) Using an extruder or the like, an imidizing agent is added to the ring structure-containing (meth) acrylic resin in a molten state, and the ring structure-containing (meth) acrylic resin and the imidizing agent are reacted to form a ring. Method of imidizing structure-containing (meth) acrylic resin (melt kneading method)
However, the present invention is not limited to such examples.

前記バッチ式反応法には、バッチ式反応槽(圧力容器)を用いることができる。バッチ式反応槽(圧力容器)は、環構造含有(メタ)アクリル系樹脂を溶媒に溶解させた溶液を加熱し、撹拌することができ、イミド化剤を添加することができる構造を有することが好ましく、イミド化反応の進行に伴って前記溶液の粘度が高くなることがあるので、撹拌効率に優れていることがより好ましい。前記バッチ式反応槽(圧力容器)としては、例えば、住友重機械工業(株)製、マックスブレンド(登録商標)撹拌槽などが挙げられるが、本発明は、かかる例示のみに限定されるものではない。   For the batch reaction method, a batch reaction tank (pressure vessel) can be used. The batch-type reaction vessel (pressure vessel) has a structure in which a solution obtained by dissolving a ring structure-containing (meth) acrylic resin in a solvent can be heated and stirred, and an imidizing agent can be added. Preferably, the viscosity of the solution may increase with the progress of the imidization reaction, and thus it is more preferable that the stirring efficiency is excellent. Examples of the batch-type reaction vessel (pressure vessel) include a Max blend (registered trademark) agitation vessel manufactured by Sumitomo Heavy Industries, Ltd., but the present invention is not limited to such examples. Absent.

前記バッチ式反応法において、イミド化に対して不活性な溶媒としては、例えば、メタノール、エタノール、n−プロパノール、イソプロパノール、n−ブタノール、イソブタノールなどの脂肪族アルコール;ベンゼン、トルエン、キシレン、クロロベンゼン、クロロトルエンなどの芳香族系化合物;エーテル系化合物などが挙げられるが、本発明は、かかる例示のみに限定されるものではない。これらの溶媒は、それぞれ単独で用いてもよく、2種類以上を併用してもよい。これらの溶媒のなかでは、トルエン、およびトルエンとメタノールとの混合溶媒が好ましい。   In the batch reaction method, examples of the solvent inert to imidization include aliphatic alcohols such as methanol, ethanol, n-propanol, isopropanol, n-butanol, and isobutanol; benzene, toluene, xylene, and chlorobenzene. And aromatic compounds such as chlorotoluene; ether compounds and the like, but the present invention is not limited to such examples. These solvents may be used alone or in combination of two or more. Among these solvents, toluene and a mixed solvent of toluene and methanol are preferable.

前記バッチ式反応法において、環構造含有(メタ)アクリル系樹脂とイミド化剤とを反応させる際の反応温度は、環構造含有(メタ)アクリル系樹脂をイミド化剤で効率よくイミド化させるとともに、過剰な熱履歴による(メタ)アクリル樹脂の分解、着色などを抑制する観点から、好ましくは160〜400℃、より好ましくは180〜350℃、さらに好ましくは200〜300℃である。   In the batch reaction method, the reaction temperature for reacting the ring structure-containing (meth) acrylic resin with the imidizing agent is such that the ring structure-containing (meth) acrylic resin is efficiently imidized with the imidizing agent. From the viewpoint of suppressing decomposition, coloring, etc. of the (meth) acrylic resin due to excessive heat history, it is preferably 160 to 400 ° C, more preferably 180 to 350 ° C, and further preferably 200 to 300 ° C.

前記溶融混練法では、押出機を用いることができる。押出機としては、例えば、単軸押出機、二軸押出機、多軸押出機などが挙げられるが、本発明は、かかる例示のみに限定されるものではない。これらの押出機のなかでは、環構造含有(メタ)アクリル系樹脂とイミド化剤とを効率よく混合することができることから、二軸押出機が好ましい。二軸押出機としては、例えば、非噛合い型同方向回転式二軸押出機、噛合い型同方向回転式二軸押出機、非噛合い型異方向回転式二軸押出機、噛合い型異方向回転式二軸押出機などが挙げられるが、本発明は、かかる例示のみに限定されるものではない。これらの押出機は、それぞれ単独で用いてもよく、2機以上を直列に接続してもよい。二軸押出機のなかでは、噛合い型同方向回転式二軸押出機は、高速回転が可能であり、環構造含有(メタ)アクリル系樹脂とイミド化剤とを効率よく混合することができるので好ましい。   In the melt-kneading method, an extruder can be used. Examples of the extruder include a single-screw extruder, a twin-screw extruder, and a multi-screw extruder, but the present invention is not limited to such examples. Among these extruders, a twin-screw extruder is preferable because the ring structure-containing (meth) acrylic resin and the imidizing agent can be efficiently mixed. Examples of the twin screw extruder include, for example, a non-meshing type co-rotating twin screw extruder, a meshing type co-rotating twin screw extruder, a non-meshing different direction rotating twin screw extruder, and a meshing type. Although a different direction rotation type twin screw extruder etc. are mentioned, this invention is not limited only to this illustration. These extruders may be used singly or two or more may be connected in series. Among the twin screw extruders, the meshing type co-rotating twin screw extruder can rotate at high speed and can efficiently mix the ring structure-containing (meth) acrylic resin and the imidizing agent. Therefore, it is preferable.

前記溶融混練法において、環構造含有(メタ)アクリル系樹脂のイミド化は、例えば、環構造含有(メタ)アクリル系樹脂を押出機の原料投入部から投入し、当該環構造含有(メタ)アクリル系樹脂を溶融させ、シリンダ内に充満させた後、イミド化剤を添加ポンプで押出機中に注入することにより、行なうことができる。   In the melt-kneading method, imidation of the ring structure-containing (meth) acrylic resin is performed, for example, by introducing the ring structure-containing (meth) acrylic resin from the raw material charging portion of the extruder, and the ring structure-containing (meth) acrylic. After melting the system resin and filling the cylinder, an imidizing agent is injected into the extruder with an addition pump.

前記溶融混練法において、押出機中の反応ゾーンの温度(樹脂温度)は、環構造含有(メタ)アクリル系樹脂のイミド化反応を効率よく進行させるとともに、耐薬品性および耐熱性を向上させる観点から、好ましくは180℃以上、より好ましくは220℃以上であり、環構造含有(メタ)アクリル系樹脂の分解を抑制し、例えば、光学フィルムなどのフィルムの耐折り曲げ性を向上させる観点から、好ましくは380℃以下、より好ましくは350℃以下、さらに好ましくは300℃以下である。なお、前記押出機中の反応ゾーンは、押出機のシリンダにおいて、イミド化剤の注入位置から樹脂吐出口(ダイス部)までの間の領域を意味する。   In the melt-kneading method, the temperature (resin temperature) of the reaction zone in the extruder is a viewpoint that efficiently advances the imidization reaction of the ring structure-containing (meth) acrylic resin and improves chemical resistance and heat resistance. Therefore, it is preferably 180 ° C. or higher, more preferably 220 ° C. or higher, preferably from the viewpoint of suppressing the decomposition of the ring structure-containing (meth) acrylic resin and improving the bending resistance of films such as optical films. Is 380 ° C. or lower, more preferably 350 ° C. or lower, and further preferably 300 ° C. or lower. In addition, the reaction zone in the said extruder means the area | region from the injection position of an imidizing agent to the resin discharge port (die part) in the cylinder of an extruder.

前記溶融混練法においては、押出機中の反応ゾーンにおける環構造含有(メタ)アクリル系樹脂とイミド化剤との反応時間を長くすることにより、環構造含有(メタ)アクリル系樹脂のイミド化を促進させることができる。押出機中の反応ゾーン内における環構造含有(メタ)アクリル系樹脂のイミド化に要する時間は、環構造含有(メタ)アクリル系樹脂のイミド化を十分に行なう観点から、好ましくは10秒間以上、より好ましくは30秒間以上である。押出機内における環構造含有(メタ)アクリル系樹脂の圧力は、イミド化剤の溶解性を向上させる観点から、好ましくは大気圧以上、より好ましくは1MPa以上であり、押出機の耐圧性を考慮して、好ましくは50MPa以下、より好ましくは30MPa以下である。   In the melt-kneading method, the ring structure-containing (meth) acrylic resin is imidized by increasing the reaction time of the ring structure-containing (meth) acrylic resin and the imidizing agent in the reaction zone in the extruder. Can be promoted. The time required for imidation of the ring structure-containing (meth) acrylic resin in the reaction zone in the extruder is preferably 10 seconds or more from the viewpoint of sufficiently imidating the ring structure-containing (meth) acrylic resin. More preferably, it is 30 seconds or more. From the viewpoint of improving the solubility of the imidizing agent, the pressure of the ring structure-containing (meth) acrylic resin in the extruder is preferably at least atmospheric pressure, more preferably at least 1 MPa, considering the pressure resistance of the extruder. Thus, it is preferably 50 MPa or less, more preferably 30 MPa or less.

なお、押出機には、未反応のイミド化剤や副生物を除去するために、大気圧以下に減圧させることができるベントを押出機に設けることが好ましい。ベントの数は、1つだけであってもよく、複数であってもよい。   In order to remove unreacted imidizing agent and by-products, the extruder is preferably provided with a vent that can be depressurized below atmospheric pressure. The number of vents may be only one or plural.

前記溶融混練法によって(メタ)アクリル樹脂をイミド化させる際には、押出機の代わりに、例えば、横型二軸反応装置〔住友重機械工業(株)製、商品名:バイボラック〕、竪型同心二軸攪拌槽〔住友重機械工業(株)製、商品名:スーパーブレンド〕などの高粘度に対応することができる反応装置を用いることができる。   When the (meth) acrylic resin is imidized by the melt-kneading method, instead of an extruder, for example, a horizontal biaxial reactor (manufactured by Sumitomo Heavy Industries, Ltd., trade name: Vivolak), vertical concentricity A reaction apparatus capable of dealing with high viscosity such as a biaxial stirring tank (manufactured by Sumitomo Heavy Industries, Ltd., trade name: Super Blend) can be used.

イミド化剤としては、例えば、式:NH23(式中、R3は前記と同じ)で表わされるアミン化合物が挙げられる。アミン化合物の具体例としては、例えば、メチルアミン、エチルアミン、n−ブチルアミンなどの脂肪族炭化水素基含有アミン、シクロヘキシルアミンなどの炭素数3〜12のシクロアルキル基を有するシクロアルキルアミン、アニリン、ベンジルアミン、トルイジン、トリクロロアニリンなどの炭素数6〜10のアリール基を有するアリールアミンなどが挙げられるが、本発明は、かかる例示のみに限定されるものではない。これらのイミド化剤は、それぞれ単独で用いてもよく、2種類以上を併用してもよい。イミド化剤のなかでは、耐熱性に優れ、複屈折が小さい光学フィルムを得る観点から、シクロヘキシルアミン、アニリンおよびトルイジンが好ましく、アニリンがより好ましい。 Examples of the imidizing agent include amine compounds represented by the formula: NH 2 R 3 (wherein R 3 is the same as described above). Specific examples of the amine compound include, for example, an aliphatic hydrocarbon group-containing amine such as methylamine, ethylamine, and n-butylamine, a cycloalkylamine having 3 to 12 carbon atoms such as cyclohexylamine, aniline, and benzyl. Examples include arylamines having an aryl group having 6 to 10 carbon atoms such as amine, toluidine, and trichloroaniline, but the present invention is not limited to such examples. These imidizing agents may be used alone or in combination of two or more. Among the imidizing agents, cyclohexylamine, aniline and toluidine are preferable, and aniline is more preferable from the viewpoint of obtaining an optical film having excellent heat resistance and low birefringence.

イミド化剤の量は、一概には決定することができず、通常、環構造含有(メタ)アクリル系樹脂が所望のイミド化率を有するように調整することが好ましい。   The amount of the imidizing agent cannot be generally determined, and it is usually preferable to adjust the ring structure-containing (meth) acrylic resin so as to have a desired imidization ratio.

以上のようにして環構造含有(メタ)アクリル系樹脂をイミド化剤でイミド化させることにより、イミド構造含有(メタ)アクリル系樹脂を得ることができる。   By imidating the ring structure-containing (meth) acrylic resin with an imidizing agent as described above, an imide structure-containing (meth) acrylic resin can be obtained.

本発明のイミド構造含有(メタ)アクリル系樹脂のガラス転移温度は、フィルムの耐熱性を向上させる観点から、150℃以上である。また、イミド構造含有(メタ)アクリル系樹脂のガラス転移温度は、フィルムへの成形加工性を向上させる観点から、好ましくは250℃以下、より好ましくは230℃以下、さらに好ましくは210℃以下、さらに一層好ましくは200℃以下である。   The glass transition temperature of the imide structure-containing (meth) acrylic resin of the present invention is 150 ° C. or higher from the viewpoint of improving the heat resistance of the film. Further, the glass transition temperature of the imide structure-containing (meth) acrylic resin is preferably 250 ° C. or lower, more preferably 230 ° C. or lower, more preferably 210 ° C. or lower, from the viewpoint of improving the moldability to a film. More preferably, it is 200 degrees C or less.

なお、本明細書において、イミド構造含有(メタ)アクリル系樹脂のガラス転移温度は、JIS K7121の規定に準拠して求めたときの値である。さらに詳しくは、示差走査熱量計〔(株)リガク製、商品名:Thermo plus EVO DSC−8230〕を用い、また参照としてα−アルミナを用い、窒素ガス雰囲気中でイミド構造含有(メタ)アクリル系樹脂約10mgを室温から200℃まで昇温速度20℃/minで昇温し、得られたDSC曲線から始点法によって求めたときの温度である。   In addition, in this specification, the glass transition temperature of imide structure containing (meth) acrylic-type resin is a value when calculated | required based on prescription | regulation of JISK7121. More specifically, a differential scanning calorimeter [trade name: Thermo plus EVO DSC-8230, manufactured by Rigaku Corporation] was used, and α-alumina was used as a reference, and an imide structure-containing (meth) acrylic system in a nitrogen gas atmosphere. It is the temperature when about 10 mg of the resin is heated from room temperature to 200 ° C. at a rate of temperature increase of 20 ° C./min and determined from the obtained DSC curve by the starting point method.

本発明のイミド構造含有(メタ)アクリル系樹脂は、耐熱性を向上させ、複屈折を小さくし、表面硬度を高くし、光弾性係数を小さくするのみならず、吸水率を低くし、厚さ方向位相差Rthの変化値を小さくし、さらに寸法安定性を向上させる観点から、式(I):   The imide structure-containing (meth) acrylic resin of the present invention has improved heat resistance, reduced birefringence, increased surface hardness, reduced photoelastic coefficient, reduced water absorption, thickness From the viewpoint of reducing the change value of the directional phase difference Rth and further improving the dimensional stability, the formula (I):

Figure 2016069434
Figure 2016069434

(式中、R1およびR2は、それぞれ独立して、水素原子または炭素数1〜8のアルキル基、R3は、水素原子、炭素数1〜18のアルキル基、炭素数3〜12のシクロアルキル基または炭素数6〜10のアリール基を示す)
で表わされる繰返し単位および式(II):
(In the formula, R 1 and R 2 are each independently a hydrogen atom or an alkyl group having 1 to 8 carbon atoms, R 3 is a hydrogen atom, an alkyl group having 1 to 18 carbon atoms, or an alkyl group having 3 to 12 carbon atoms. A cycloalkyl group or an aryl group having 6 to 10 carbon atoms)
Repeating units represented by the formula (II):

Figure 2016069434
Figure 2016069434

(式中、R4およびR5は、それぞれ独立して、水素原子または炭素数1〜8のアルキル基、R6は、炭素数2〜6のアルキル基を示す)
で表わされる繰返し単位を有することが好ましい。
(Wherein R 4 and R 5 each independently represents a hydrogen atom or an alkyl group having 1 to 8 carbon atoms, and R 6 represents an alkyl group having 2 to 6 carbon atoms)
It is preferable to have a repeating unit represented by:

式(I)で表わされる繰返し単位において、R1およびR2は、それぞれ独立して、水素原子または炭素数1〜8のアルキル基である。炭素数1〜8のアルキル基としては、例えば、メチル基、エチル基、n−プロピル基、イソプロピル基、n−ブチル基、イソブチル基、tert−ブチル基、n−ペンチル基、イソペンチル基、n−ヘキシル基、イソへキシル基、n−ヘプチル基、イソヘプチル基、n−オクチル基、2−エチルヘキシル基などが挙げられるが、本発明は、かかる例示のみに限定されるものではない。R1およびR2のなかでは、耐熱性に優れ、複屈折が小さい光学フィルムを得る観点から、水素原子または炭素数1〜4のアルキル基が好ましい。 In the repeating unit represented by the formula (I), R 1 and R 2 are each independently a hydrogen atom or an alkyl group having 1 to 8 carbon atoms. Examples of the alkyl group having 1 to 8 carbon atoms include methyl group, ethyl group, n-propyl group, isopropyl group, n-butyl group, isobutyl group, tert-butyl group, n-pentyl group, isopentyl group, n- Examples include a hexyl group, an isohexyl group, an n-heptyl group, an isoheptyl group, an n-octyl group, and a 2-ethylhexyl group, but the present invention is not limited to such examples. Among R 1 and R 2 , a hydrogen atom or an alkyl group having 1 to 4 carbon atoms is preferable from the viewpoint of obtaining an optical film having excellent heat resistance and low birefringence.

式(I)で表わされる繰返し単位において、R3は、水素原子、炭素数1〜18のアルキル基、炭素数3〜12のシクロアルキル基または炭素数6〜10のアリール基を示す。R3のなかでは、耐熱性を向上させ、複屈折を小さくし、表面硬度を高くし、光弾性係数を小さくするのみならず、吸水率を低くし、厚さ方向位相差Rthの変化値を小さくし、さらに寸法安定性を向上させる観点から、炭素数3〜12のシクロアルキル基または炭素数6〜10のアリール基が好ましい。炭素数3〜12のシクロアルキル基としては、例えば、シクロプロピル基、シクロブチル基、シクロペンチル基、シクロヘキシル基などが挙げられるが、本発明は、かかる例示のみに限定されるものではない。これらのシクロアルキル基のなかでは、耐熱性に優れ、複屈折が小さい光学フィルムを得る観点から、炭素数が3〜6のシクロアルキル基が好ましく、シクロヘキシル基がより好ましい。炭素数6〜10のアリール基としては、フェニル基、ベンジル基、o−トリル基、m−トリル基、p−トリル基、2,3−キシリル基、2,4−キシリル基、2,5−キシリル基、2,6−キシリル基、3,4−キシリル基、3,5−キシリル基、1−ナフチル基、2−ナフチル基、ビナフチル基、アントリル基などが挙げられるが、本発明は、かかる例示のみに限定されるものではない。これらのアリール基のなかでは、耐熱性に優れ、複屈折が小さい光学フィルムを得る観点から、フェニル基およびトリル基が好ましい。また、R3のなかでは、耐熱性に優れ、複屈折が小さい光学フィルムを得る観点から、炭素数が3〜6のシクロアルキル基、フェニル基およびトリル基が好ましく、シクロヘキシル基およびフェニル基がより好ましい。 In the repeating unit represented by the formula (I), R 3 represents a hydrogen atom, an alkyl group having 1 to 18 carbon atoms, a cycloalkyl group having 3 to 12 carbon atoms, or an aryl group having 6 to 10 carbon atoms. Among R 3 , heat resistance is improved, birefringence is decreased, surface hardness is increased, photoelastic coefficient is decreased, water absorption is decreased, and thickness direction retardation Rth is changed. From the viewpoint of reducing the size and further improving the dimensional stability, a cycloalkyl group having 3 to 12 carbon atoms or an aryl group having 6 to 10 carbon atoms is preferable. Examples of the cycloalkyl group having 3 to 12 carbon atoms include a cyclopropyl group, a cyclobutyl group, a cyclopentyl group, a cyclohexyl group, and the like, but the present invention is not limited to such examples. Among these cycloalkyl groups, a cycloalkyl group having 3 to 6 carbon atoms is preferable, and a cyclohexyl group is more preferable from the viewpoint of obtaining an optical film having excellent heat resistance and low birefringence. Examples of the aryl group having 6 to 10 carbon atoms include phenyl, benzyl, o-tolyl, m-tolyl, p-tolyl, 2,3-xylyl, 2,4-xylyl, 2,5- Examples include xylyl group, 2,6-xylyl group, 3,4-xylyl group, 3,5-xylyl group, 1-naphthyl group, 2-naphthyl group, binaphthyl group, anthryl group, and the like. It is not limited to illustration only. Among these aryl groups, a phenyl group and a tolyl group are preferable from the viewpoint of obtaining an optical film having excellent heat resistance and low birefringence. Among R 3 , a cycloalkyl group having 3 to 6 carbon atoms, a phenyl group and a tolyl group are preferable, and a cyclohexyl group and a phenyl group are more preferable from the viewpoint of obtaining an optical film having excellent heat resistance and low birefringence. preferable.

式(I)で表わされる繰返し単位において、耐熱性に優れ、複屈折が小さい光学フィルムを得る観点から、R1およびR2が、それぞれ独立して、水素原子または炭素数1〜4のアルキル基、好ましくは水素原子またはメチル基であり、R3がシクロヘキシル基またはフェニル基、好ましくはフェニル基であることが望ましい。 In the repeating unit represented by the formula (I), R 1 and R 2 are each independently a hydrogen atom or an alkyl group having 1 to 4 carbon atoms from the viewpoint of obtaining an optical film having excellent heat resistance and low birefringence. , Preferably a hydrogen atom or a methyl group, and it is desirable that R 3 is a cyclohexyl group or a phenyl group, preferably a phenyl group.

なお、イミド構造含有(メタ)アクリル系樹脂は、式(I)で表わされる繰返し単位を2種類以上含んでいてもよい。   The imide structure-containing (meth) acrylic resin may contain two or more repeating units represented by the formula (I).

式(II)で表わされる繰返し単位において、R4およびR5は、それぞれ独立して、水素原子または炭素数1〜8のアルキル基である。炭素数1〜8のアルキル基としては、例えば、メチル基、エチル基、n−プロピル基、イソプロピル基、n−ブチル基、イソブチル基、tert−ブチル基、n−ペンチル基、イソペンチル基、n−ヘキシル基、イソへキシル基、n−ヘプチル基、イソヘプチル基、n−オクチル基、2−エチルヘキシル基などが挙げられるが、本発明は、かかる例示のみに限定されるものではない。これらのアルキル基のなかでは、耐熱性に優れ、複屈折が小さく、表面硬度が高く、光弾性係数が小さい光学フィルムを得る観点から、炭素数1〜4のアルキル基が好ましい。 In the repeating unit represented by the formula (II), R 4 and R 5 are each independently a hydrogen atom or an alkyl group having 1 to 8 carbon atoms. Examples of the alkyl group having 1 to 8 carbon atoms include methyl group, ethyl group, n-propyl group, isopropyl group, n-butyl group, isobutyl group, tert-butyl group, n-pentyl group, isopentyl group, n- Examples include a hexyl group, an isohexyl group, an n-heptyl group, an isoheptyl group, an n-octyl group, and a 2-ethylhexyl group, but the present invention is not limited to such examples. Among these alkyl groups, an alkyl group having 1 to 4 carbon atoms is preferable from the viewpoint of obtaining an optical film having excellent heat resistance, low birefringence, high surface hardness, and low photoelastic coefficient.

式(II)で表わされる繰返し単位において、R6は、炭素数2〜6のアルキル基である。炭素数2〜6のアルキル基としては、例えば、メチル基、エチル基、n−プロピル基、イソプロピル基、n−ブチル基、イソブチル基、tert−ブチル基、ペンチル基、ヘキシル基などが挙げられるが、本発明は、かかる例示のみに限定されるものではない。炭素数2〜6のアルキル基のなかでは、耐熱性に優れ、複屈折が小さく、表面硬度が高く、光弾性係数が小さい光学フィルムを得る観点から、炭素数2〜4のアルキル基が好ましく、エチル基およびn−ブチル基がより好ましい。 In the repeating unit represented by the formula (II), R 6 is an alkyl group having 2 to 6 carbon atoms. Examples of the alkyl group having 2 to 6 carbon atoms include methyl group, ethyl group, n-propyl group, isopropyl group, n-butyl group, isobutyl group, tert-butyl group, pentyl group, and hexyl group. The present invention is not limited to such examples. Among the alkyl groups having 2 to 6 carbon atoms, an alkyl group having 2 to 4 carbon atoms is preferable from the viewpoint of obtaining an optical film having excellent heat resistance, low birefringence, high surface hardness, and low photoelastic coefficient. An ethyl group and an n-butyl group are more preferable.

式(II)で表わされる繰返し単位において、耐熱性に優れ、複屈折が小さく、表面硬度が高く、光弾性係数が小さい光学フィルムを得る観点から、R4およびR5は、それぞれ独立して、水素原子または炭素数1〜8のアルキル基、好ましくは水素原子または炭素数1〜4のアルキル基、より好ましくは水素原子またはメチル基であり、R6は、炭素数2〜6のアルキル基、好ましくは炭素数2〜4のアルキル基、より好ましくはエチル基またはn−ブチル基である。 In the repeating unit represented by the formula (II), R 4 and R 5 are each independently from the viewpoint of obtaining an optical film having excellent heat resistance, low birefringence, high surface hardness, and low photoelastic coefficient. A hydrogen atom or an alkyl group having 1 to 8 carbon atoms, preferably a hydrogen atom or an alkyl group having 1 to 4 carbon atoms, more preferably a hydrogen atom or a methyl group, and R 6 is an alkyl group having 2 to 6 carbon atoms, Preferably it is a C2-C4 alkyl group, More preferably, it is an ethyl group or n-butyl group.

なお、イミド構造含有(メタ)アクリル系樹脂は、式(II)で表わされる繰返し単位を2種類以上含んでいてもよい。   The imide structure-containing (meth) acrylic resin may contain two or more repeating units represented by the formula (II).

イミド構造含有(メタ)アクリル系樹脂における式(I)で表わされる繰返し単位の含有率は、イミド構造含有(メタ)アクリル系樹脂の耐熱性および透明性を向上させるとともに、複屈折が小さい光学フィルムを得る観点から、好ましくは5重量%以上、より好ましくは10重量%以上、さらに好ましくは15重量%以上であり、フィルムへの成形性を向上させ、機械的強度を高めるとともに、複屈折が小さい光学フィルムを得る観点から、好ましくは85重量%以下、より好ましくは80重量%以下、さらに好ましくは75重量%以下である。   The content of the repeating unit represented by the formula (I) in the imide structure-containing (meth) acrylic resin improves the heat resistance and transparency of the imide structure-containing (meth) acrylic resin, and has a small birefringence. Is preferably 5 wt% or more, more preferably 10 wt% or more, and even more preferably 15 wt% or more, improving the moldability to the film, increasing the mechanical strength, and reducing the birefringence. From the viewpoint of obtaining an optical film, it is preferably 85% by weight or less, more preferably 80% by weight or less, and further preferably 75% by weight or less.

また、イミド構造含有(メタ)アクリル系樹脂における式(II)で表わされる繰返し単位の含有率は、フィルムへの成形性を向上させ、機械的強度を高めるとともに、複屈折が小さい光学フィルムを得る観点から、好ましくは15重量%以上、より好ましくは20重量%以上、さらに好ましくは25重量%以上であり、イミド構造含有(メタ)アクリル系樹脂の耐熱性および透明性を向上させるとともに、複屈折が小さい光学フィルムを得る観点から、好ましくは95重量%以下、より好ましくは90重量%以下、さらに好ましくは85重量%以下である。   Further, the content of the repeating unit represented by the formula (II) in the imide structure-containing (meth) acrylic resin improves the moldability to the film, increases the mechanical strength, and obtains an optical film having a small birefringence. From the viewpoint, it is preferably 15% by weight or more, more preferably 20% by weight or more, and further preferably 25% by weight or more, improving the heat resistance and transparency of the imide structure-containing (meth) acrylic resin, and birefringence. Is preferably 95% by weight or less, more preferably 90% by weight or less, and still more preferably 85% by weight or less, from the viewpoint of obtaining an optical film having a small thickness.

なお、イミド構造含有(メタ)アクリル系樹脂には、本発明の目的が阻害されない範囲内で、例えば、スチレン単位などの式(I)で表わされる繰返し単位および式(II)で表わされる繰返し単位以外の繰返し単位が含まれていてもよい。例えば、式(I)で表わされる繰返し単位および式(II)で表わされる繰返し単位以外の繰返し単位がスチレン単位である場合、全ての繰返し単位におけるスチレン単位の含有率は、好ましくは10重量%以下、より好ましくは5重量%以下、さらに好ましくは2重量%以下、さらに一層好ましくは1重量%以下である。   In addition, the imide structure-containing (meth) acrylic resin includes, for example, a repeating unit represented by the formula (I) such as a styrene unit and a repeating unit represented by the formula (II) within a range in which the object of the present invention is not hindered. Repeating units other than may be included. For example, when the repeating unit represented by the formula (I) and the repeating unit other than the repeating unit represented by the formula (II) are styrene units, the content of styrene units in all the repeating units is preferably 10% by weight or less. More preferably, it is 5% by weight or less, more preferably 2% by weight or less, and still more preferably 1% by weight or less.

イミド構造含有(メタ)アクリル系樹脂の重量平均分子量は、フィルムの機械的強度を高める観点から、好ましくは10000以上、より好ましくは30000以上であり、フィルムへの成形性を向上させる観点から、好ましくは500000以下、より好ましくは300000以下である。   The weight average molecular weight of the imide structure-containing (meth) acrylic resin is preferably 10,000 or more, more preferably 30000 or more from the viewpoint of increasing the mechanical strength of the film, and preferably from the viewpoint of improving moldability to the film. Is 500,000 or less, more preferably 300,000 or less.

なお、本明細書において、(メタ)アクリル系樹脂、環構造含有(メタ)アクリル系樹脂およびイミド構造含有(メタ)アクリル系樹脂の重量平均分子量は、ゲル浸透クロマトグラフィー(GPC)により、以下の条件で求めたときの値である。   In the present specification, the weight average molecular weight of the (meth) acrylic resin, the ring structure-containing (meth) acrylic resin and the imide structure-containing (meth) acrylic resin is determined by gel permeation chromatography (GPC) as follows. This is the value obtained when the condition is obtained.

・システム:(株)東ソー製、商品名:GPCシステムHLC−8220
・展開溶媒:テトラヒドロフラン〔和光純薬工業(株)製、特級〕
・溶媒流量:0.6mL/min
・標準試料:TSK標準ポリスチレン〔(株)東ソー製、商品名:PS−オリゴマーキット〕
・測定側カラム構成:ガードカラム〔(株)東ソー製、商品名:TSK−GEL super HZM−M 6.0×150を2本直列接続、(株)東ソー製、商品名:TSK−GEL super HZ−Lを1本使用
・リファレンス側カラムの構成:リファレンスカラム〔(株)東ソー製、商品名:TSK−GEL SuperH−RC 6.0×150、2本直列接続〕
・カラム温度:40℃
System: Made by Tosoh Corporation, trade name: GPC system HLC-8220
・ Developing solvent: Tetrahydrofuran [Wako Pure Chemical Industries, Ltd., special grade]
・ Solvent flow rate: 0.6 mL / min
Standard sample: TSK standard polystyrene [trade name: PS-oligomer kit, manufactured by Tosoh Corporation]
Measurement side column configuration: guard column [manufactured by Tosoh Corporation, trade name: TSK-GEL super HZM-M 6.0 × 150 in series, two manufactured by Tosoh Corporation, trade name: TSK-GEL super HZ -L is used-Reference column configuration: Reference column [manufactured by Tosoh Corporation, trade name: TSK-GEL SuperH-RC 6.0 × 150, two in series]
-Column temperature: 40 ° C

本発明のイミド構造含有(メタ)アクリル系樹脂の応力光学係数(Cr)の絶対値は、当該樹脂からなる光学フィルム、例えば、延伸フィルムの屈折率の異方性を抑制し、複屈折を小さくする観点から、0.3×10-9Pa-1以下、好ましくは0.2×10-9Pa-1以下、より好ましくは0.1×10-9Pa-1以下である。イミド構造含有(メタ)アクリル系樹脂の応力光学係数(Cr)は、以下の実施例に記載の方法に基づいて測定したときの値である。 The absolute value of the stress optical coefficient (Cr) of the imide structure-containing (meth) acrylic resin of the present invention suppresses the anisotropy of the refractive index of an optical film made of the resin, for example, a stretched film, and reduces the birefringence. Therefore , it is 0.3 × 10 −9 Pa −1 or less, preferably 0.2 × 10 −9 Pa −1 or less, more preferably 0.1 × 10 −9 Pa −1 or less. The stress optical coefficient (Cr) of the imide structure-containing (meth) acrylic resin is a value when measured based on the method described in the following examples.

なお、本発明のイミド構造含有(メタ)アクリル系樹脂の応力光学係数(Cr)の絶対値を0.3×10-9Pa-1以下に制御することにより、二軸延伸後における光学フィルムの厚さ方向位相差Rthの絶対値を20nm以下とすることができる。 In addition, by controlling the absolute value of the stress optical coefficient (Cr) of the imide structure-containing (meth) acrylic resin of the present invention to 0.3 × 10 −9 Pa −1 or less, the optical film after biaxial stretching The absolute value of the thickness direction retardation Rth can be 20 nm or less.

また、本発明のイミド構造含有(メタ)アクリル系樹脂の酸価は、フィルム化などの成形加工性を向上させる観点から、1.4mmol/g以下、好ましくは1.2mmol/g以下、より好ましくは1.0mmol/g以下である。本発明のイミド構造含有(メタ)アクリル系樹脂の酸価は、以下の実施例に記載の方法に基づいて測定したときの値である。   Further, the acid value of the imide structure-containing (meth) acrylic resin of the present invention is 1.4 mmol / g or less, preferably 1.2 mmol / g or less, more preferably from the viewpoint of improving molding processability such as film formation. Is 1.0 mmol / g or less. The acid value of the imide structure-containing (meth) acrylic resin of the present invention is a value when measured based on the method described in the following examples.

本発明のイミド構造含有(メタ)アクリル系樹脂には、本発明の目的が阻害されない範囲内で、他の熱可塑性樹脂が含まれていてもよい。他の熱可塑性樹脂としては、例えば、ポリエチレン、ポリプロピレン、エチレン−プロピレン共重合体、ポリ(4−メチル−1−ペンテン)などのオレフィン系ポリマー;塩化ビニル、塩素化ビニル樹脂などのハロゲン含有ポリマー;ポリメチルメタクレートなどの(メタ)アクリル系ポリマー;ポリスチレン、スチレン−メタクリル酸メチル共重合体、スチレン−アクリロニトリル共重合体、アクリロニトリル−ブタジエン−スチレンブロック共重合体などのスチレン系ポリマー;ポリエチレンテレフタレート、ポリブチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレートなどのポリエステル;ポリ乳酸、ポリブチレンサクシネートなどの生分解性ポリエステル;ナイロン6、ナイロン66、ナイロン610などのポリアミド;ポリアセタール;ポリカーボネート;ポリフェニレンオキシド;ポリフェニレンスルフィド;ポリエーテルエーテルケトン;ポリエーテルニトリル;ポリサルホン;ポリエーテルサルホン;ポリオキシベンジレン;ポリアミドイミド;ポリブタジエン系ゴム、アクリル系ゴムなどのゴムなどが挙げられるが、本発明は、かかる例示のみに限定されるものではない。   The imide structure-containing (meth) acrylic resin of the present invention may contain other thermoplastic resins as long as the object of the present invention is not impaired. Other thermoplastic resins include, for example, olefin-based polymers such as polyethylene, polypropylene, ethylene-propylene copolymer, poly (4-methyl-1-pentene); halogen-containing polymers such as vinyl chloride and chlorinated vinyl resins; (Meth) acrylic polymers such as polymethyl methacrylate; styrene polymers such as polystyrene, styrene-methyl methacrylate copolymer, styrene-acrylonitrile copolymer, acrylonitrile-butadiene-styrene block copolymer; polyethylene terephthalate, poly Polyesters such as butylene terephthalate and polyethylene naphthalate; biodegradable polyesters such as polylactic acid and polybutylene succinate; polyamides such as nylon 6, nylon 66, nylon 610; polyaceter Polycarbonate, polyphenylene oxide, polyphenylene sulfide, polyether ether ketone, polyether nitrile, polysulfone, polyether sulfone, polyoxybenzylene, polyamideimide, and rubbers such as polybutadiene rubber and acrylic rubber. The invention is not limited to such examples.

また、本発明のイミド構造含有(メタ)アクリル系樹脂には、本発明の目的が阻害されない範囲内で、例えば、ヒンダードフェノール系酸化防止剤、リン系酸化防止剤、イオウ系酸化防止剤などの酸化防止剤;耐光安定化剤、耐候安定化剤、熱安定化剤などの安定化剤;ガラス繊維、炭素繊維などの補強材;近赤外線吸収剤;トリス(ジブロモプロピル)ホスフェート、トリアリルホスフェート、酸化アンチモンなどの難燃化剤;アニオン系界面活性剤、カチオン系界面活性剤、ノニオン界面活性剤などの帯電防止剤;無機顔料、有機顔料、染料などの着色剤;有機充填材、無機充填材などの充填材;樹脂改質剤;可塑剤;滑剤などが含まれていてもよい。   In addition, the imide structure-containing (meth) acrylic resin of the present invention includes, for example, a hindered phenol antioxidant, a phosphorus antioxidant, a sulfur antioxidant, and the like within a range in which the object of the present invention is not inhibited. Antioxidants; stabilizers such as light stabilizers, weather stabilizers and heat stabilizers; reinforcing materials such as glass fibers and carbon fibers; near infrared absorbers; tris (dibromopropyl) phosphate, triallyl phosphate Flame retardants such as antimony oxide; antistatic agents such as anionic surfactants, cationic surfactants and nonionic surfactants; colorants such as inorganic pigments, organic pigments and dyes; organic fillers and inorganic fillers Fillers such as materials; resin modifiers; plasticizers; lubricants and the like may be included.

本発明の光学フィルムは、本発明のイミド構造含有(メタ)アクリル系樹脂を用い、例えば、Tダイ法、インフレーション法などの溶融押出成形法、キャスト成形法、プレス成形法などによって製造することができる。光学フィルムを溶融押出法によって製造する場合、例えば、単軸押出機、二軸押出機などを用いることができる。   The optical film of the present invention can be produced by using the imide structure-containing (meth) acrylic resin of the present invention, for example, by a melt extrusion molding method such as a T-die method or an inflation method, a cast molding method, a press molding method, or the like. it can. When the optical film is produced by a melt extrusion method, for example, a single screw extruder, a twin screw extruder, or the like can be used.

以上のようにして本発明の光学フィルムが得られるが、本発明の光学フィルムは、機械的強度を高める観点から、一軸延伸または二軸延伸されていることが好ましく、二軸延伸されていることがより好ましい。本発明の光学フィルムを二軸延伸させる方法としては、例えば、逐次二軸延伸法、同時二軸延伸法などが挙げられるが、本発明は、かかる例示のみに限定されるものではない。   As described above, the optical film of the present invention can be obtained. From the viewpoint of increasing the mechanical strength, the optical film of the present invention is preferably uniaxially stretched or biaxially stretched, and biaxially stretched. Is more preferable. Examples of the method for biaxially stretching the optical film of the present invention include a sequential biaxial stretching method and a simultaneous biaxial stretching method. However, the present invention is not limited to such examples.

本発明の光学フィルムを延伸させる際の延伸温度は、光学フィルムに破断を発生させずに当該光学フィルムを延伸させるとともに、十分に分子配向させる観点から、好ましくはイミド構造含有(メタ)アクリル系樹脂のガラス転移温度よりも20℃低い温度から当該ガラス転移温度よりも50℃高い温度までの温度範囲、より好ましくはイミド構造含有(メタ)アクリル系樹脂のガラス転移温度よりも10℃低い温度から当該ガラス転移温度よりも30℃高い温度までの温度範囲である。   The stretching temperature for stretching the optical film of the present invention is preferably an imide structure-containing (meth) acrylic resin from the viewpoint of stretching the optical film without causing breakage of the optical film and sufficiently aligning the molecules. From a temperature range from a temperature 20 ° C. lower than the glass transition temperature to 50 ° C. higher than the glass transition temperature, more preferably 10 ° C. lower than the glass transition temperature of the imide structure-containing (meth) acrylic resin. It is a temperature range up to a temperature 30 ° C. higher than the glass transition temperature.

光学フィルムの延伸倍率は、縦方向および当該縦方向に直交する横方向のいずれの方向においても、機械的強度を高める観点から、それぞれ、1.5〜3倍程度であることが好ましく、1.5〜2.5倍程度であることがより好ましい。   The stretching ratio of the optical film is preferably about 1.5 to 3 times from the viewpoint of increasing mechanical strength in both the longitudinal direction and the transverse direction orthogonal to the longitudinal direction. More preferably, it is about 5 to 2.5 times.

延伸された光学フィルムの寸法変化率は、例えば、ITOフィルムなどの二次加工が施されたフィルムの耐久性を向上させる観点から、好ましくは1.0%以下、より好ましくは0.7%以下、さらに好ましくは0.5%以下、さらに一層好ましくは0.2%以下である。   The dimensional change rate of the stretched optical film is preferably 1.0% or less, more preferably 0.7% or less, from the viewpoint of improving the durability of a film subjected to secondary processing such as an ITO film. More preferably, it is 0.5% or less, and still more preferably 0.2% or less.

本発明の光学フィルムの厚さは、その用途などによって異なるので一概には決定することができない。例えば、本発明の光学フィルムを液晶表示装置、有機EL表示装置などの画像表示装置に用いられる保護フィルム、反射防止フィルム、偏光フィルムなどの用途に用いる場合には、当該光学フィルムの厚さは、好ましくは1〜250μm、より好ましくは10〜100μm、さらに好ましくは20〜80μmである。また、例えば、本発明の光学フィルムをITO蒸着フィルム、銀ナノワイヤーフィルム、メタルメッシュフィルムなどに用いられる透明導電性フィルムなどの用途に用いる場合には、当該光学フィルムの厚さは、好ましくは20〜400μm、より好ましくは30〜350μm、さらに好ましくは40〜300μmである。   Since the thickness of the optical film of the present invention varies depending on its use and the like, it cannot be determined unconditionally. For example, when the optical film of the present invention is used for a liquid crystal display device, a protective film used for an image display device such as an organic EL display device, an antireflection film, a polarizing film, the thickness of the optical film is Preferably it is 1-250 micrometers, More preferably, it is 10-100 micrometers, More preferably, it is 20-80 micrometers. In addition, for example, when the optical film of the present invention is used for a transparent conductive film used for an ITO vapor-deposited film, a silver nanowire film, a metal mesh film, or the like, the thickness of the optical film is preferably 20 It is -400 micrometers, More preferably, it is 30-350 micrometers, More preferably, it is 40-300 micrometers.

なお、本明細書において、光学フィルムの厚さは、例えば、デジマチックマイクロメーター〔(株)ミツトヨ製〕を用いて測定したときの厚さである。   In addition, in this specification, the thickness of an optical film is a thickness when it measures using a Digimatic micrometer [product made from Mitutoyo Corporation], for example.

本発明の波長590nmの光に対する光学フィルムの面内位相差Reは、光学フィルムの屈折率の異方性を抑制し、複屈折を小さくする観点から、好ましくは20nm以下、より好ましくは10nm以下、さらに好ましくは5nm以下、さらに一層好ましくは3nm以下である。また、本発明の波長590nmの光に対する光学フィルムの厚さ方向位相差Rthの絶対値は、面内位相差Reと同様に、光学フィルムの屈折率の異方性を抑制し、複屈折を小さくする観点から、好ましくは20nm以下、より好ましくは10nm以下、さらに好ましくは5nm以下、さらに一層好ましくは3nm以下である。   The in-plane retardation Re of the optical film with respect to light having a wavelength of 590 nm of the present invention is preferably 20 nm or less, more preferably 10 nm or less, from the viewpoint of suppressing the refractive index anisotropy of the optical film and reducing birefringence. More preferably, it is 5 nm or less, More preferably, it is 3 nm or less. Further, the absolute value of the thickness direction retardation Rth of the optical film with respect to light having a wavelength of 590 nm of the present invention, like the in-plane retardation Re, suppresses the anisotropy of the refractive index of the optical film and reduces the birefringence. Therefore, the thickness is preferably 20 nm or less, more preferably 10 nm or less, further preferably 5 nm or less, and still more preferably 3 nm or less.

本明細書において、波長590nmの光に対する光学フィルムの面内位相差Reおよび厚さ方向位相差Rthは、位相差フィルム・光学材料検査装置〔大塚電子(株)製、品番:RETS−100〕を用い、入射角40°の条件で測定したときの値である。   In this specification, the in-plane retardation Re and the thickness direction retardation Rth of the optical film with respect to light having a wavelength of 590 nm are obtained by using a retardation film / optical material inspection apparatus [manufactured by Otsuka Electronics Co., Ltd., product number: RETS-100]. It is a value when used and measured under the condition of an incident angle of 40 °.

光学フィルムの面内位相差Reは、式:
〔面内位相差Re〕=(nx−ny)×d
〔式中、nxは波長590nmの光に対する遅相軸方向(光学フィルムの面内において最大の屈折率を示す方向)の屈折率、nyは進相軸方向(光学フィルムの面内におけるnxと垂直な方向)の屈折率、nyはフィルムの面内における進相軸方向の屈折率、dは光学フィルムの厚さ(nm)を示す〕
に基づいて求められる。
The in-plane retardation Re of the optical film is expressed by the formula:
[In-plane phase difference Re] = (nx−ny) × d
[Where nx is the refractive index in the slow axis direction (the direction showing the maximum refractive index in the plane of the optical film) for light having a wavelength of 590 nm, and ny is the fast axis direction (perpendicular to nx in the plane of the optical film) The refractive index in the azimuth direction), ny is the refractive index in the fast axis direction in the plane of the film, and d is the thickness (nm) of the optical film.
Based on.

また、光学フィルムの厚さ方向位相差Rthは、式:
〔厚さ方向位相差Rth〕={(nx+ny)/2−nz}×d
〔式中、nxは波長590nmの光に対する遅相軸方向の屈折率、nyは進相軸方向の屈折率、nzはフィルムの厚さ方向の屈折率、dはフィルムの厚さ(nm)〕
に基づいて求められる。
The thickness direction retardation Rth of the optical film is expressed by the formula:
[Thickness direction retardation Rth] = {(nx + ny) / 2−nz} × d
[Where nx is the refractive index in the slow axis direction for light of wavelength 590 nm, ny is the refractive index in the fast axis direction, nz is the refractive index in the film thickness direction, and d is the film thickness (nm)].
Based on.

本発明の光学フィルムの波長590nmの光に対する光弾性係数の絶対値は、光漏れ、特に高温高湿度の環境下における光漏れを抑制する観点から、好ましくは10×10-12Pa-1以下、より好ましくは6×10-12Pa-1以下である。 The absolute value of the photoelastic coefficient for light having a wavelength of 590 nm of the optical film of the present invention is preferably 10 × 10 −12 Pa −1 or less from the viewpoint of suppressing light leakage, particularly light leakage in a high temperature and high humidity environment. More preferably, it is 6 × 10 −12 Pa −1 or less.

本明細書において、波長590nmの光に対する光学フィルムの光弾性係数は、光学フィルムの延伸方向を長辺として20mm×50mmに切り出してサンプルを作製し、このサンプルをエリプソメーター〔日本分光(株)製、品番:M−150〕の光弾性計測ユニットに装着し、延伸方向と平行に5〜25Nの応力荷重を印加しながら複屈折を3点で計測し、波長590nmの光を用い、応力に対する複屈折の傾きを光弾性係数として求めたときの値である。   In this specification, the photoelastic coefficient of the optical film with respect to light with a wavelength of 590 nm is cut into 20 mm × 50 mm with the stretching direction of the optical film as the long side, and a sample is prepared. This sample is an ellipsometer [manufactured by JASCO Corporation] , Product number: M-150], and birefringence is measured at three points while applying a stress load of 5 to 25 N in parallel with the stretching direction. It is a value when the inclination of refraction is obtained as a photoelastic coefficient.

また、本発明の光学フィルムの厚さ方向位相差Rth(590)の変化値は、光漏れ、特に高温高湿度の環境下における光漏れを抑制する観点から、好ましくは10nm以下、より好ましくは5nmである。なお、光学フィルムの厚さ方向位相差Rth(590)の変化値は、以下の実施例に記載の方法に基づいて測定したときの値である。   The change value of the thickness direction retardation Rth (590) of the optical film of the present invention is preferably 10 nm or less, more preferably 5 nm, from the viewpoint of suppressing light leakage, particularly light leakage in a high temperature and high humidity environment. It is. In addition, the change value of thickness direction phase difference Rth (590) of an optical film is a value when it measures based on the method as described in a following example.

本発明の光学フィルムの60〜100℃の温度範囲における線膨張係数は、高温環境下における寸法変化を抑制する観点から、好ましくは80×10-6-1以下、より好ましくは70×10-6-1以下である。 The linear expansion coefficient in the temperature range of 60 to 100 ° C. of the optical film of the present invention is preferably 80 × 10 −6 K −1 or less, more preferably 70 × 10 from the viewpoint of suppressing dimensional change in a high temperature environment. 6 K -1 or less.

本明細書において、光学フィルムの60〜100℃における線膨張係数は、熱機械測定装置〔(株)島津製作所製、品番:TMA−60〕を用い、以下の測定条件にて60℃から100℃における傾きとして求めた。
〔測定条件〕
・試料の大きさ:5mm×20mm(延伸方向を長辺とする)
・試料の前処理:60℃で15時間の前処理を行なった後、室温まで冷却
・測定加重:5g
・昇温速度:5℃/min
In this specification, the linear expansion coefficient at 60 to 100 ° C. of the optical film is from 60 ° C. to 100 ° C. under the following measurement conditions using a thermomechanical measuring device [manufactured by Shimadzu Corporation, product number: TMA-60]. It was calculated as the slope at.
〔Measurement condition〕
・ Sample size: 5 mm × 20 mm (the long side is the stretching direction)
Sample pretreatment: After pretreatment at 60 ° C. for 15 hours, cooling to room temperature Measurement weight: 5 g
・ Raising rate: 5 ° C / min

本発明の光学フィルムの吸水率は、例えば、ITOフィルムへの成形加工性を向上させる観点から、好ましくは3.0%以下、より好ましくは2.5%以下、さらに好ましくは2.0%以下である。光学フィルムの吸水率は、以下の実施例に記載の方法に基づいて測定したときの値である。   The water absorption of the optical film of the present invention is preferably 3.0% or less, more preferably 2.5% or less, and even more preferably 2.0% or less, from the viewpoint of improving the molding processability to an ITO film, for example. It is. The water absorption rate of the optical film is a value when measured based on the method described in the following examples.

本発明の光学フィルムの少なくとも一方表面には、必要により、コーティング層が形成されていてもよい。コーティング層としては、例えば、帯電防止層、粘着剤層、接着剤層、易接着層、防眩(ノングレア)層、光触媒層、防汚層、反射防止層、ハードコート層、紫外線遮蔽層、熱線遮蔽層、電磁波遮蔽層、ガスバリヤー層などが挙げられるが、本発明は、かかる例示のみに限定されるものではない。   If necessary, a coating layer may be formed on at least one surface of the optical film of the present invention. Examples of the coating layer include an antistatic layer, an adhesive layer, an adhesive layer, an easy-adhesion layer, an antiglare layer (non-glare) layer, a photocatalyst layer, an antifouling layer, an antireflection layer, a hard coat layer, an ultraviolet shielding layer, and a heat ray. Although a shielding layer, an electromagnetic wave shielding layer, a gas barrier layer, etc. are mentioned, this invention is not limited only to this illustration.

以上説明したように、本発明の光学フィルムは、R3が炭素数3〜12のシクロアルキル基または炭素数6〜10のアリール基である式(I)で表わされる繰返し単位に基づく弱い正の複屈折を有し、式(II)で表わされる繰返し単位に基づく弱い負の複屈折を有するが、両者の複屈折が互いに打消しあうので、全体として低複屈折を有する。また、本発明の光学フィルムは、式(I)で表わされる繰返し単位を有するので、耐熱性に優れており、スチレンに代表される芳香族ビニル単量体に基づく繰返し単位を実質的に有しない場合には、式(II)で表わされる繰返し単位に基づく特徴である硬い表面硬度および低い光弾性係数を有するという優れた性質を有する。 As described above, the optical film of the present invention is weakly positive based on the repeating unit represented by the formula (I) in which R 3 is a cycloalkyl group having 3 to 12 carbon atoms or an aryl group having 6 to 10 carbon atoms. It has birefringence and weak negative birefringence based on the repeating unit represented by the formula (II), but the birefringence of both cancels each other, so that it has low birefringence as a whole. Further, since the optical film of the present invention has a repeating unit represented by the formula (I), it has excellent heat resistance, and has substantially no repeating unit based on an aromatic vinyl monomer typified by styrene. In some cases, it has excellent properties of having a hard surface hardness and a low photoelastic coefficient, which are characteristics based on the repeating unit represented by the formula (II).

本発明の光学フィルムは、例えば、光ディスクの保護フィルム、液晶表示装置などの画像表示装置の偏光板に用いられる偏光子保護フィルム、位相差フィルム、視野角補償フィルム、光拡散フィルム、反射フィルム、反射防止フィルム、防眩フィルム、輝度向上フィルム、タッチパネル用導電フィルム、拡散板、導光体、プリズムシートなどの用途に用いることが期待されるものである。したがって、本発明の光学フィルムは、例えば、液晶表示装置などの画像表示装置、静電容量式タッチパネルなどの用途に好適に使用することが期待される。   The optical film of the present invention is, for example, a protective film for an optical disc, a polarizer protective film used for a polarizing plate of an image display device such as a liquid crystal display device, a retardation film, a viewing angle compensation film, a light diffusion film, a reflective film, a reflective film. It is expected to be used for applications such as a prevention film, an antiglare film, a brightness enhancement film, a conductive film for a touch panel, a diffusion plate, a light guide, and a prism sheet. Therefore, the optical film of the present invention is expected to be suitably used for applications such as image display devices such as liquid crystal display devices and capacitive touch panels.

また、本発明の光学フィルムの少なくとも一方表面に、例えば、透明導電層、光学調整層、透明ハードコート層、防眩層、反射防止層などが形成されていてもよい。   Moreover, for example, a transparent conductive layer, an optical adjustment layer, a transparent hard coat layer, an antiglare layer, an antireflection layer and the like may be formed on at least one surface of the optical film of the present invention.

本発明の光学フィルムの少なくとも一方表面に透明導電層が形成された光学フィルムは、透明導電性フィルムとして用いることができる。透明導電層としては、例えば、インジウム−スズ系酸化物(ITO)層などの赤外線を反射する性質を有する無機化合物層、銀、銅、ニッケル、タングステンなどの金属からなる金属メッシュ層などが挙げられるが、本発明は、かかる例示のみに限定されるものではない。   The optical film having a transparent conductive layer formed on at least one surface of the optical film of the present invention can be used as a transparent conductive film. Examples of the transparent conductive layer include an inorganic compound layer having a property of reflecting infrared rays, such as an indium-tin oxide (ITO) layer, and a metal mesh layer made of a metal such as silver, copper, nickel, and tungsten. However, the present invention is not limited to such examples.

透明導電層が無機化合物層である場合、当該透明導電層の厚さは、導電性および光透過性を向上させる観点から、好ましくは0.001〜10μm、より好ましくは0.005〜1μm、さらに好ましくは0.01〜0.5μmである。また、透明導電層が金属メッシュ層である場合、当該透明導電層の厚さは、導電性および光透過性を向上させる観点から、好ましくは0.1〜30μm、より好ましくは0.1〜10μm、さらに好ましくは1〜5μmである。   When the transparent conductive layer is an inorganic compound layer, the thickness of the transparent conductive layer is preferably 0.001 to 10 μm, more preferably 0.005 to 1 μm, from the viewpoint of improving conductivity and light transmittance. Preferably it is 0.01-0.5 micrometer. When the transparent conductive layer is a metal mesh layer, the thickness of the transparent conductive layer is preferably 0.1 to 30 μm, more preferably 0.1 to 10 μm from the viewpoint of improving conductivity and light transmittance. More preferably, it is 1-5 micrometers.

前記光学調整層は、入射される光線の透過率または反射率を適宜調整するための層である。光学調整層は、例えば、特開2006−201450号公報などに記載されているように、屈折率が相対的に低い低屈折率層と屈折率が相対的に高い高屈折率層とを交互に積層させることによって形成させることができる。   The optical adjustment layer is a layer for appropriately adjusting the transmittance or reflectance of incident light. As described in, for example, Japanese Patent Application Laid-Open No. 2006-201450, the optical adjustment layer is formed by alternately arranging a low refractive index layer having a relatively low refractive index and a high refractive index layer having a relatively high refractive index. It can be formed by laminating.

次に本発明を実施例に基づいてさらに詳細に説明するが、本発明はかかる実施例のみに限定されるものではない。   EXAMPLES Next, although this invention is demonstrated further in detail based on an Example, this invention is not limited only to this Example.

実施例1
攪拌装置、温度センサー、冷却管および窒素ガス導入管を備えた反応釜に、メタクリル酸エチル70重量部、メタクリル酸30重量部、重合溶媒としてトルエン78.8重量部とメタノール33.8重量部との混合溶媒、および酸化防止剤〔(株)ADEKA製、商品名:アデカスタブ2112〕0.05重量部を仕込み、反応釜内に窒素ガスを通じながら73℃まで昇温させた。昇温に伴う還流が始まった時点で、重合開始剤としてジメチル−2,2’−アゾビス(2−メチルプロピオネート)〔和光純薬工業(株)製、商品名:V−601〕0.25重量部を反応釜内に添加するとともに、トルエン6.4重量部とメタノール2.7重量部との混合溶媒にジメチル−2,2’−アゾビス(2−メチルプロピオネート)〔和光純薬工業(株)製、商品名:V−601〕0.35重量部を溶解させた溶液を2時間かけて反応釜内に滴下しながら、約71〜76℃の還流下で溶液重合を行ない、ジメチル−2,2’−アゾビス(2−メチルプロピオネート)の滴下終了後に、さらに4時間かけて熟成を行なった。
Example 1
In a reaction kettle equipped with a stirrer, temperature sensor, cooling pipe and nitrogen gas introduction pipe, 70 parts by weight of ethyl methacrylate, 30 parts by weight of methacrylic acid, 78.8 parts by weight of toluene as a polymerization solvent and 33.8 parts by weight of methanol A mixed solvent and an antioxidant (manufactured by ADEKA, trade name: ADK STAB 2112) were added in an amount of 0.05 part by weight, and the temperature was raised to 73 ° C. while passing nitrogen gas through the reaction kettle. At the time when the reflux accompanying the temperature rise starts, dimethyl-2,2′-azobis (2-methylpropionate) [manufactured by Wako Pure Chemical Industries, Ltd., trade name: V-601] as a polymerization initiator. 25 parts by weight was added to the reaction kettle, and dimethyl-2,2′-azobis (2-methylpropionate) [Wako Pure Chemical Industries, Ltd.] was added to a mixed solvent of 6.4 parts by weight of toluene and 2.7 parts by weight of methanol. Kogyo Co., Ltd., trade name: V-601] Performing solution polymerization under reflux at about 71 to 76 ° C. while dropping 0.35 parts by weight of the solution in which the solution was dissolved in the reaction kettle over 2 hours. After completion of the dropwise addition of dimethyl-2,2′-azobis (2-methylpropionate), aging was performed for another 4 hours.

前記で得られた重合体溶液に含まれる(メタ)アクリル系樹脂におけるメタクリル酸に由来の繰返し単位の含有率は、30.2重量%であった。また、当該(メタ)アクリル系樹脂の重量平均分子量は、12.2万であった。   The content of repeating units derived from methacrylic acid in the (meth) acrylic resin contained in the polymer solution obtained above was 30.2% by weight. Moreover, the weight average molecular weight of the (meth) acrylic resin was 122,000.

次に、メタノール9.9重量部に環化触媒としてナトリウムメトキシド0.1重量部を溶解させた溶液を20分間かけて約65〜70℃の温度で反応釜内の重合溶液に滴下し、均一な重合溶液とした。   Next, a solution prepared by dissolving 0.1 part by weight of sodium methoxide as a cyclization catalyst in 9.9 parts by weight of methanol is dropped into the polymerization solution in the reaction kettle at a temperature of about 65 to 70 ° C. over 20 minutes. A uniform polymerization solution was obtained.

前記で得られた重合溶液をバレル温度290℃、回転数160rpm、減圧度13.3〜400hPa(10〜300mmHg)、リアベント数が1個、フォアベント数が2個のベントタイプスクリュー二軸押出機(孔径:15mm、L/D:45)内に樹脂量換算で420g/hの処理速度で導入し、この押出機内で脱揮を行ない、軸内滞留時間3.6分間程度で押出すことにより、透明な環構造含有(メタ)アクリル系樹脂のペレットを得た。   Vent type screw twin screw extruder having a barrel temperature of 290 ° C., a rotation speed of 160 rpm, a degree of vacuum of 13.3 to 400 hPa (10 to 300 mmHg), a rear vent number of 1, and a forevent number of 2 (Pore diameter: 15 mm, L / D: 45) Introduced at a processing speed of 420 g / h in terms of resin amount, devolatilized in this extruder, and extruded with an on-axis residence time of about 3.6 minutes A transparent ring structure-containing (meth) acrylic resin pellet was obtained.

前記で得られた環構造含有(メタ)アクリル系樹脂の重量平均分子量は11.3万であり、ガラス転移温度は109℃であった。   The weight average molecular weight of the ring structure-containing (meth) acrylic resin obtained above was 113,000, and the glass transition temperature was 109 ° C.

次に、前記で得られたペレットをバレル温度290℃、回転数300rpm、減圧度13.3〜400hPa(10〜300mmHg)、ベント数が1個のベントタイプスクリュー二軸押出機(孔径:15mm、L/D:45)内に樹脂量換算で420g/hの処理速度でホッパーから導入し、ホッパーの後よりアニリンを液添ポンプにて202g/hの投入速度で注入し、軸内滞留時間5.2分間程度で押出すことにより、透明なイミド構造含有(メタ)アクリル系樹脂のペレットを得た。   Next, the pellet obtained above was a barrel type screw twin screw extruder (hole diameter: 15 mm) with a barrel temperature of 290 ° C., a rotation speed of 300 rpm, a degree of vacuum of 13.3 to 400 hPa (10 to 300 mmHg), and a single vent number. L / D: 45) was introduced from the hopper at a processing rate of 420 g / h in terms of resin amount, and aniline was injected from the hopper after the hopper at a charging rate of 202 g / h. By extruding in about 2 minutes, transparent imide structure-containing (meth) acrylic resin pellets were obtained.

前記で得られたイミド構造含有(メタ)アクリル系樹脂の重量平均分子量は、10.1万であった。前記で得られたイミド構造含有(メタ)アクリル系樹脂は、式(I)において、R1がメチル基であり、R2が水素原子であり、R3がフェニル基である繰返し単位および式(II)において、R4が水素原子であり、R5がメチル基であり、R6がエチル基である繰返し単位を有し、ガラス転移温度が168℃であるイミド構造含有(メタ)アクリル系樹脂であった。 The weight average molecular weight of the imide structure-containing (meth) acrylic resin obtained above was 10.11,000. The imide structure-containing (meth) acrylic resin obtained above has the formula (I) in which R 1 is a methyl group, R 2 is a hydrogen atom, and R 3 is a phenyl group, In (II), an imide structure-containing (meth) acrylic resin having a repeating unit in which R 4 is a hydrogen atom, R 5 is a methyl group, R 6 is an ethyl group, and has a glass transition temperature of 168 ° C. Met.

前記で得られたイミド構造含有(メタ)アクリル樹脂のイミド化率は54.6%、式(II)で表わされる繰返し単位の含有率は26.0重量%、応力光学係数(Cr)は0.02×10-9Pa-1であった。また、当該イミド構造含有(メタ)アクリル系樹脂の酸価は0.88mmol/gであった。 The imidization ratio of the imide structure-containing (meth) acrylic resin obtained above was 54.6%, the content of the repeating unit represented by the formula (II) was 26.0% by weight, and the stress optical coefficient (Cr) was 0. 0.02 × 10 −9 Pa −1 . The acid value of the imide structure-containing (meth) acrylic resin was 0.88 mmol / g.

なお、本明細書において、イミド構造含有(メタ)アクリル系樹脂のイミド化率、式(II)で表わされる繰返し単位の含有率および応力光学係数(Cr)、ならびにイミド構造含有(メタ)アクリル系樹脂の酸価を以下の方法に基づいて調べた。   In this specification, the imidization ratio of the imide structure-containing (meth) acrylic resin, the content of repeating units represented by the formula (II) and the stress optical coefficient (Cr), and the imide structure-containing (meth) acrylic resin The acid value of the resin was examined based on the following method.

〔イミド化率〕
イミド構造含有(メタ)アクリル系樹脂のイミド化率は、1803cm-1付近のカルボン酸無水物基に由来する吸収と、1720cm-1付近のエステルカルボニル基に由来する吸収と、1680cm-1付近のイミドカルボニル基に由来する吸収との強度比からイミド化率を決定した。ここで、イミド化率は、全カルボニル基においてイミドカルボニル基が占める割合である。
[Imidation rate]
Imide structure-containing (meth) imidization ratio of the acrylic resin, the absorption derived from a carboxylic acid anhydride group in the vicinity of 1803cm -1, and the absorption derived from the ester carbonyl group in the vicinity of 1720 cm -1, 1680 cm -1 vicinity of The imidization rate was determined from the intensity ratio with the absorption derived from the imidocarbonyl group. Here, the imidization rate is a ratio of imide carbonyl groups in all carbonyl groups.

〔式(II)で表わされる繰返し単位の含有率〕
イミド構造含有(メタ)アクリル系樹脂において、式(II)で表わされる繰返し単位の含有率は、NMR測定装置(Varian社製、商品名:Unity Plus400)を用いて1H−NMRスペクトルを測定することによって求めた。
[Content of repeating unit represented by formula (II)]
In the imide structure-containing (meth) acrylic resin, the content of the repeating unit represented by the formula (II) is determined by measuring a 1 H-NMR spectrum using an NMR measuring apparatus (manufactured by Varian, trade name: Unity Plus 400). Was determined by

より具体的には、重アセトンにイミド構造含有(メタ)アクリル系樹脂(重量:a)と、内標として1,1,2,2−テトラクロロエタン(分子量:167.85、重量:b)を溶解させ、内標(5.9ppm、2プロトン分)とエステルカルボニル基に隣接したR6のプロトンに由来するピークの面積比〔エステルカルボニル基に隣接したR6のプロトンに由来するピーク面積Aと内標プロトンに由来するピーク面積Bとの比(ピーク面積A/ピーク面積B)〕から式(II)で表わされる繰返し単位の含有率を算出した。 More specifically, heavy acetone contains an imide structure-containing (meth) acrylic resin (weight: a) and 1,1,2,2-tetrachloroethane (molecular weight: 167.85, weight: b) as an internal standard. The area ratio of the peak derived from the internal standard (5.9 ppm, 2 protons) and the R 6 proton adjacent to the ester carbonyl group [the peak area A derived from the R 6 proton adjacent to the ester carbonyl group and The ratio of the repeating unit represented by the formula (II) was calculated from the ratio (peak area A / peak area B) to the peak area B derived from the internal standard proton.

例えば、式(II)で表わされる繰返し単位のR4が水素原子であり、R5がメチル基であり、R6がメチル基である場合(繰返し単位の分子量は100.12)、式(II)で表わされる繰返し単位の含有率(重量%)は、式:
〔式(II)で表わされる繰返し単位の含有率(重量%)〕
=[(ピーク面積A/ピーク面積B)×(2/3)×(b/167.85)×(1/100.12)]×(100/a)
に基づいて求めることができる。
For example, when R 4 of the repeating unit represented by the formula (II) is a hydrogen atom, R 5 is a methyl group, and R 6 is a methyl group (the molecular weight of the repeating unit is 100.12), the formula (II The content (% by weight) of the repeating unit represented by
[Content of repeating unit represented by formula (II) (% by weight)]
= [(Peak area A / Peak area B) × (2/3) × (b / 167.85) × (1 / 100.12)] × (100 / a)
Can be determined based on

〔応力光学係数(Cr)〕
イミド構造含有(メタ)アクリル系樹脂の応力光学係数(Cr)は、未延伸フィルムを60mm×20mmの長方形に切り出し、1N/mm2以下の応力となるように重りを選択し、未延伸フィルムの下端に取り付けた。
[Stress optical coefficient (Cr)]
For the stress optical coefficient (Cr) of the imide structure-containing (meth) acrylic resin, the unstretched film is cut into a 60 mm × 20 mm rectangle, and the weight is selected so that the stress is 1 N / mm 2 or less. Attached to the lower end.

この未延伸フィルムをイミド構造含有(メタ)アクリル系樹脂のガラス転移温度よりも3℃高い温度で定温乾燥機〔アズワン(株)製、品番:DOV−450A〕にチャック間距離40mmでセットし、当該温度で約30分間保持して延伸を行なった後、加熱を停止し、イミド構造含有(メタ)アクリル系樹脂のガラス転移温度よりも40℃低い温度となるまで約1℃/minの冷却速度で冷却した。その後、得られた延伸フィルムを定温乾燥機から取り出し、延伸後のフィルムの長さ、厚さおよび重りの質量を測定し、延伸後のフィルムの面内位相差Reを測定した。   This unstretched film was set at a temperature of 3 ° C higher than the glass transition temperature of the imide structure-containing (meth) acrylic resin at a constant temperature dryer (manufactured by ASONE, product number: DOV-450A) with a chuck distance of 40 mm. After stretching by holding at that temperature for about 30 minutes, the heating is stopped, and the cooling rate is about 1 ° C./min until the temperature becomes 40 ° C. lower than the glass transition temperature of the imide structure-containing (meth) acrylic resin. Cooled with. Then, the obtained stretched film was taken out from the constant temperature dryer, and the length, thickness and weight of the stretched film were measured, and the in-plane retardation Re of the stretched film was measured.

さらに、応力が1N/mm2以下となるように4種類の質量の重りを用いて前記と同様にして延伸後のフィルムの長さ、厚さおよび重りの質量を測定し、延伸後のフィルムの面内位相差Reを測定した。 Further, the length, thickness and weight of the stretched film were measured in the same manner as described above using four kinds of weights so that the stress was 1 N / mm 2 or less, and the film was stretched. In-plane retardation Re was measured.

以上の結果に基づき、高分子学会編「透明プラスチックの最前線(ポリマーフロンティア21シリーズ)」、(株)エヌ・ティー・エス、2006年10月、37−44頁に記載の測定方法に基づいて応力光学係数(Cr)を算出した。より具体的には、Δn(nx−ny)をy軸に、σをx軸にプロットし、最小二乗法で得られた直線の傾きを求め、その傾きの値を応力光学係数(Cr)とした。なお、nxはフィルムの面内における遅相軸方向(フィルム面内において最大の屈折率を示す方向)の屈折率、nyはフィルムの面内における進相軸方向(フィルム面内においてnxと垂直な方向)の屈折率、σは延伸に対する応力(N/m2)である。 Based on the above results, based on the measurement method described in Polymer Science Society, “Frontier of Transparent Plastics (Polymer Frontier 21 Series)”, NTS, October 2006, pages 37-44. The stress optical coefficient (Cr) was calculated. More specifically, Δn (nx−ny) is plotted on the y-axis, σ is plotted on the x-axis, the slope of the straight line obtained by the least square method is obtained, and the value of the slope is expressed as the stress optical coefficient (Cr). did. Note that nx is the refractive index in the slow axis direction in the plane of the film (direction showing the maximum refractive index in the film plane), and ny is the fast axis direction in the plane of the film (perpendicular to nx in the film plane). (Direction) is a refractive index, σ, is a stress (N / m 2 ) on stretching.

〔イミド構造含有(メタ)アクリル系樹脂に残存する酸成分の量(酸価)の測定方法〕
塩化メチレン24.94gにイミド構造含有(メタ)アクリル系樹脂0.15gを溶解させ、得られた溶液にメタノール14.85gを添加し、3時間撹拌した。その後、この溶液に1重量%フェノールフタレインエタノール溶液2滴を添加し、撹拌しながら0.1N水酸化ナトリウム水溶液を添加し、室温で1時間撹拌を継続し、0.1N水酸化ナトリウム水溶液の量をAmlとした。この溶液に0.1N塩酸を滴下し、溶液の赤紫色が消失するまでの0.1N塩酸の滴下量(Bml)を測定した。
[Method for measuring the amount of acid component (acid value) remaining in the imide structure-containing (meth) acrylic resin]
In 24.94 g of methylene chloride was dissolved 0.15 g of an imide structure-containing (meth) acrylic resin, and 14.85 g of methanol was added to the resulting solution, and the mixture was stirred for 3 hours. Then, 2 drops of 1 wt% phenolphthalein ethanol solution was added to this solution, 0.1N sodium hydroxide aqueous solution was added with stirring, and stirring was continued for 1 hour at room temperature. The amount was Aml. 0.1N hydrochloric acid was added dropwise to this solution, and the amount of 0.1N hydrochloric acid added until the reddish purple color of the solution disappeared (Bml) was measured.

次に、塩化メチレン24.94gとメタノール14.85gとの混合液に1重量%フェノールフタレインエタノール溶液2滴を添加し、撹拌しながら0.1N水酸化ナトリウム水溶液を添加し、室温で1時間撹拌を継続し、0.1N水酸化ナトリウム水溶液の量をCmlとした。この溶液に0.1N塩酸を滴下し、溶液の赤紫色が消失するまでに要した0.1N塩酸の滴下量(Dml)を測定した。   Next, 2 drops of a 1% by weight phenolphthalein ethanol solution are added to a mixed solution of 24.94 g of methylene chloride and 14.85 g of methanol, a 0.1N aqueous sodium hydroxide solution is added with stirring, and the mixture is stirred at room temperature for 1 hour. Stirring was continued and the amount of 0.1N sodium hydroxide aqueous solution was Cml. 0.1N hydrochloric acid was added dropwise to this solution, and the amount of 0.1N hydrochloric acid added (Dml) required until the reddish purple color of the solution disappeared was measured.

イミド構造含有(メタ)アクリル系樹脂に残存する酸成分の量(カルボキシル基および酸無水物基の合計量)(mmol/g)は、式:
〔イミド構造含有(メタ)アクリル系樹脂に残存する酸成分の量(カルボキシル基および酸無水物基の合計量)(mmol/g)〕
=0.1×[(A−B)−(C−D)]/0.15
に基づいて求めた。
The amount of the acid component remaining in the imide structure-containing (meth) acrylic resin (total amount of carboxyl group and acid anhydride group) (mmol / g) is expressed by the formula:
[Amount of acid component remaining in imide structure-containing (meth) acrylic resin (total amount of carboxyl group and acid anhydride group) (mmol / g)]
= 0.1 × [(A−B) − (C−D)] / 0.15
Based on.

次に、前記で得られたペレットを単軸押出機(孔径:20mm、L/D:25)に入れ、Tダイ温度を290℃に調節し、コートハンガータイプTダイ(幅150mm)から溶融押出しを行ない、ロール温度163℃の冷却ロール上に吐出し、厚さ160μmの未延伸フィルムを作製した。   Next, the pellet obtained above is put into a single screw extruder (hole diameter: 20 mm, L / D: 25), the T die temperature is adjusted to 290 ° C., and melt extrusion is performed from a coat hanger type T die (width 150 mm). And was discharged onto a cooling roll having a roll temperature of 163 ° C. to produce an unstretched film having a thickness of 160 μm.

次に、前記で得られた未延伸フィルムを96mm×96mmに切り出し、逐次二軸延伸機〔(株)東洋精機製作所製、品番:X−6S〕を用い、188℃の温度にて240mm/minの延伸速度で縦方向(MD方向)および横方向(TD方向)の順にそれぞれ延伸倍率が2倍となるように逐次二軸延伸を行なった。前記で得られた延伸フィルムを速やかに試験装置から取り出して冷却することにより、厚さ40μmの光学フィルムを得た。   Next, the unstretched film obtained above was cut out to 96 mm × 96 mm, and successively 240 mm / min at a temperature of 188 ° C. using a biaxial stretching machine (manufactured by Toyo Seiki Seisakusho, product number: X-6S). Biaxial stretching was performed sequentially so that the stretching ratio was doubled in the order of the machine direction (MD direction) and the transverse direction (TD direction) at the stretching speed of. The stretched film obtained above was quickly taken out from the test apparatus and cooled to obtain an optical film having a thickness of 40 μm.

前記で得られた光学フィルムの面内位相差および厚さ方向位相差は、それぞれ、0.4nmおよび1.4nmであった。   The in-plane retardation and thickness direction retardation of the optical film obtained above were 0.4 nm and 1.4 nm, respectively.

前記で得られた光学フィルムの吸水率、厚さ方向位相差の変化値および寸法変化率を以下の方法に基づいて調べた。その結果を表1に示す。なお、以下の実施例および比較例でも、以下の方法に基づいて光学フィルムの吸水率、厚さ方向位相差の変化値および寸法変化率を調べた。   The water absorption rate, thickness direction retardation value and dimensional change rate of the optical film obtained above were examined based on the following methods. The results are shown in Table 1. Also in the following examples and comparative examples, the water absorption rate, the change value of the thickness direction retardation and the dimensional change rate of the optical film were examined based on the following method.

〔吸水率〕
手動式加熱プレス機〔(株)井元製作所製、IMC−180C型〕を用い、250℃の温度で20MPaの圧力にて樹脂ペレットを2分間溶融プレス成形し、厚さが200μmの未延伸フィルムを作製した。得られた未延伸フィルムを80℃で24時間乾燥させた後、その質量(X)を測定した。
[Water absorption rate]
Using a manual heating press (manufactured by Imoto Seisakusho Co., Ltd., model IMC-180C), resin pellets were melt-pressed at a pressure of 20 MPa at a temperature of 250 ° C. for 2 minutes to form an unstretched film having a thickness of 200 μm Produced. The obtained unstretched film was dried at 80 ° C. for 24 hours, and then its mass (X) was measured.

次に、前記で得られた未延伸フィルムを85℃、相対湿度85%の恒温槽内で保管することによって吸水させ、250時間経過後に恒温槽から取り出し、吸水後の未延伸フィルムの質量(Y)を測定した。   Next, the unstretched film obtained above is absorbed in water by storing it in a thermostatic bath at 85 ° C. and a relative humidity of 85%, taken out from the thermostatic bath after 250 hours, and the mass of the unstretched film after water absorption (Y ) Was measured.

前記未延伸フィルムの吸水率は、式:
〔吸水率(%)〕=[(Y−X)/X]×100
に基づいて求めた。
The water absorption of the unstretched film is expressed by the formula:
[Water absorption (%)] = [(Y−X) / X] × 100
Based on.

〔厚さ方向位相差の変化値〕
光学フィルムの厚さ方向位相差Rth1(590)を測定した後、当該光学フィルムを温度が85℃であり、相対湿度85%である恒温槽内で保管し、250時間経過後に恒温槽から取り出し、再度、光学フィルムの厚さ方向位相差Rth2(590)を測定した。
[Change in thickness direction retardation]
After measuring the thickness direction retardation Rth 1 (590) of the optical film, the optical film is stored in a thermostatic bath having a temperature of 85 ° C. and a relative humidity of 85%, and is taken out from the thermostatic bath after 250 hours. Again, the thickness direction retardation Rth 2 (590) of the optical film was measured.

次に、光学フィルムの厚さ方向位相差の変化値を式:
[厚さ方向位相差の変化値]
=|厚さ方向位相差Rth1(590)−厚さ方向位相差Rth2(590)|
に基づいて求めた。
Next, the change value of the thickness direction retardation of the optical film is expressed by the formula:
[Change in thickness direction retardation]
= | Thickness direction retardation Rth 1 (590) −Thickness direction retardation Rth 2 (590) |
Based on.

〔寸法変化率〕
光学フィルムを裁断することにより、縦40mm、横40mmの正方形状のサンプル3枚を作製した。サンプルの四辺の長さ(La1、La2、La3、La4)をデジタルノギスで測定した。
[Dimensional change rate]
By cutting the optical film, three square samples having a length of 40 mm and a width of 40 mm were produced. The length of each side of the sample (La1, La2, La3, La4) was measured with a digital caliper.

次に、前記サンプルを温度が85℃であり、相対湿度85%である恒温槽内で保管し、250時間経過後に恒温槽から取り出し、サンプルの四片の長さ(Lb1、Lb2、Lb3、Lb4)を再度測定した。   Next, the sample is stored in a thermostatic chamber having a temperature of 85 ° C. and a relative humidity of 85%, taken out from the thermostatic chamber after 250 hours, and the length of the four pieces of the sample (Lb1, Lb2, Lb3, Lb4) ) Was measured again.

次に、サンプル3枚の各辺における寸法変化率を式:
〔寸法変化率(%)〕=|(Lb−La)/La|×100
(式中、Laは試験前における一辺の長さ、Lbは試験後における一片の長さを示す)
に基づいて求め、求められたサンプル3枚の各辺の寸法変化率の平均値を求め、その各辺の平均値の和を求めた後、その和を4で除することにより、光学フィルムの寸法変化率とした。
Next, the dimensional change rate at each side of the three samples is expressed by the formula:
[Dimensional change rate (%)] = | (Lb−La) / La | × 100
(In the formula, La represents the length of one side before the test, and Lb represents the length of one piece after the test)
After obtaining the average value of the dimensional change rate of each side of the three obtained samples, and obtaining the sum of the average value of each side, dividing the sum by 4 The dimensional change rate was used.

実施例2
攪拌装置、温度センサー、冷却管および窒素ガス導入管を備えた反応釜に、メタクリル酸n-ブチル60重量部、メタクリル酸40重量部、重合溶媒としてトルエン67.5重量部とメタノール45重量部との混合溶媒、および酸化防止剤〔(株)ADEKA製、商品名:アデカスタブ2112〕0.05重量部を仕込み、反応釜内に窒素ガスを通じながら73℃まで昇温させた。昇温に伴う還流が始まった時点で、重合開始剤としてジメチル−2,2’−アゾビス(2−メチルプロピオネート)〔和光純薬工業(株)製、商品名:V−601〕0.25重量部を反応釜内に添加するとともに、トルエン5.5重量部とメタノール3.6重量部との混合溶媒にジメチル−2,2’−アゾビス(2−メチルプロピオネート)〔和光純薬工業(株)製、商品名:V−601〕0.35重量部を溶解させた溶液を2時間かけて反応釜内に滴下しながら、約71〜76℃の還流下で溶液重合を行ない、ジメチル−2,2’−アゾビス(2−メチルプロピオネート)の滴下終了後に、さらに5時間かけて熟成を行なった。
Example 2
In a reaction kettle equipped with a stirrer, temperature sensor, cooling pipe and nitrogen gas introduction pipe, 60 parts by weight of n-butyl methacrylate, 40 parts by weight of methacrylic acid, 67.5 parts by weight of toluene as a polymerization solvent and 45 parts by weight of methanol A mixed solvent and an antioxidant (manufactured by ADEKA, trade name: ADK STAB 2112) were added in an amount of 0.05 part by weight, and the temperature was raised to 73 ° C. while passing nitrogen gas through the reaction kettle. At the time when the reflux accompanying the temperature rise starts, dimethyl-2,2′-azobis (2-methylpropionate) [manufactured by Wako Pure Chemical Industries, Ltd., trade name: V-601] as a polymerization initiator. 25 parts by weight was added to the reaction kettle, and dimethyl-2,2′-azobis (2-methylpropionate) [Wako Pure Chemical Industries, Ltd.] was added to a mixed solvent of 5.5 parts by weight of toluene and 3.6 parts by weight of methanol. Kogyo Co., Ltd., trade name: V-601] Performing solution polymerization under reflux at about 71 to 76 ° C. while dropping 0.35 parts by weight of the solution in which the solution was dissolved in the reaction kettle over 2 hours. After completion of the dropwise addition of dimethyl-2,2′-azobis (2-methylpropionate), aging was further performed for 5 hours.

前記で得られた重合体溶液に含まれる(メタ)アクリル系樹脂におけるメタクリル酸に由来の繰返し単位の含有率は、40.1重量%であった。また、当該(メタ)アクリル系樹脂の重量平均分子量は、14.5万であった。   The content of repeating units derived from methacrylic acid in the (meth) acrylic resin contained in the polymer solution obtained above was 40.1% by weight. Moreover, the weight average molecular weight of the (meth) acrylic resin was 145,000.

次に、メタノール9.9重量部に、環化触媒としてナトリウムメトキシド0.1重量部を溶解させた溶液を20分間かけて約65〜70℃の温度で反応釜内の重合溶液に滴下し、均一な重合溶液とした。   Next, a solution prepared by dissolving 0.1 part by weight of sodium methoxide as a cyclization catalyst in 9.9 parts by weight of methanol is dropped into the polymerization solution in the reaction kettle at a temperature of about 65 to 70 ° C. over 20 minutes. A uniform polymerization solution was obtained.

次に、前記で得られた重合溶液をバレル温度290℃、回転数70rpm、減圧度13.3〜400hPa(10〜300mmHg)、リアベント数が1個、フォアベント数が2個のベントタイプスクリュー二軸押出機(孔径:15mm、L/D:45)内に樹脂量換算で420g/hの処理速度で導入し、この押出機内で脱揮を行ない、軸内滞留時間3.6分間程度で押出すことにより、透明な環構造含有(メタ)アクリル系樹脂のペレットを得た。   Next, the polymer solution obtained above was subjected to a vent type screw having a barrel temperature of 290 ° C., a rotation speed of 70 rpm, a degree of vacuum of 13.3 to 400 hPa (10 to 300 mmHg), a rear vent number of 1, and a forevent number of 2. It was introduced into a shaft extruder (hole diameter: 15 mm, L / D: 45) at a processing rate of 420 g / h in terms of resin amount, devolatilized in this extruder, and pushed in a shaft residence time of about 3.6 minutes. As a result, a transparent ring structure-containing (meth) acrylic resin pellet was obtained.

前記で得られた環構造含有(メタ)アクリル系樹脂の重量平均分子量は12.8万であり、ガラス転移温度は98℃であった。   The weight average molecular weight of the ring structure-containing (meth) acrylic resin obtained above was 1280,000, and the glass transition temperature was 98 ° C.

次に、前記で得られたペレットをバレル温度290℃、回転数300rpm、減圧度13.3〜400hPa(10〜300mmHg)、ベント数が1個のベントタイプスクリュー二軸押出機(孔径:15mm、L/D:45)内に樹脂量換算で456g/hの処理速度でホッパーから導入し、ホッパーの後よりアニリンを液添ポンプにて219g/hの投入速度で注入し、軸内滞留時間5.2分間程度で押出すことにより、透明なイミド構造含有(メタ)アクリル系樹脂のペレットを得た。   Next, the pellet obtained above was a barrel type screw twin screw extruder (hole diameter: 15 mm) with a barrel temperature of 290 ° C., a rotation speed of 300 rpm, a degree of vacuum of 13.3 to 400 hPa (10 to 300 mmHg), and a single vent number. L / D: 45) is introduced from the hopper at a processing speed of 456 g / h in terms of resin amount, and aniline is injected from the hopper after the hopper at a charging speed of 219 g / h. By extruding in about 2 minutes, transparent imide structure-containing (meth) acrylic resin pellets were obtained.

前記で得られたイミド構造含有(メタ)アクリル系樹脂の重量平均分子量は、10.9万であった。前記で得られた(メタ)アクリル系樹脂は、式(I)において、R1がメチル基であり、R2が水素原子であり、R3がフェニル基である繰返し単位および式(II)において、R4が水素原子であり、R5がメチル基であり、R6がn−ブチル基である繰返し単位を有し、ガラス転移温度が161℃であるイミド構造含有(メタ)アクリル系樹脂であった。 The weight average molecular weight of the imide structure-containing (meth) acrylic resin obtained above was 101,000. The (meth) acrylic resin obtained above has a repeating unit in the formula (I) wherein R 1 is a methyl group, R 2 is a hydrogen atom, and R 3 is a phenyl group. , An imide structure-containing (meth) acrylic resin having a repeating unit in which R 4 is a hydrogen atom, R 5 is a methyl group, R 6 is an n-butyl group, and a glass transition temperature is 161 ° C. there were.

前記で得られたイミド構造含有(メタ)アクリル樹脂のイミド化率は61.0%、式(II)で表わされる繰返し単位の含有率は22.9重量%、応力光学係数(Cr)は0.08×10-9Pa-1であった。また、当該イミド構造含有(メタ)アクリル系樹脂の酸価は1.08mmol/gであった。 The imidization ratio of the imide structure-containing (meth) acrylic resin obtained above was 61.0%, the content of the repeating unit represented by the formula (II) was 22.9% by weight, and the stress optical coefficient (Cr) was 0. 0.08 × 10 −9 Pa −1 . The acid value of the imide structure-containing (meth) acrylic resin was 1.08 mmol / g.

次に、前記で得られたペレットを単軸押出機(孔径:20mm、L/D:25)に入れ、Tダイ温度を285℃に調節し、コートハンガータイプTダイ(幅150mm)から溶融押出しを行ない、ロール温度155℃の冷却ロール上に吐出し、厚さ160μmの未延伸フィルムを作製した。   Next, the pellet obtained above is put into a single screw extruder (hole diameter: 20 mm, L / D: 25), the T die temperature is adjusted to 285 ° C., and melt extrusion is performed from a coat hanger type T die (width 150 mm). And was discharged onto a cooling roll having a roll temperature of 155 ° C. to produce an unstretched film having a thickness of 160 μm.

次に、前記で得られた未延伸フィルムを96mm×96mmに切り出し、逐次二軸延伸機〔(株)東洋精機製作所製、品番:X−6S〕を用い、182℃の温度にて240mm/minの延伸速度で縦方向(MD方向)および横方向(TD方向)の順にそれぞれ延伸倍率が2倍となるように逐次二軸延伸を行なった。前記で得られた延伸フィルムを速やかに試験装置から取り出して冷却することにより、厚さ40μmの光学フィルムを得た。   Next, the unstretched film obtained above was cut out to 96 mm × 96 mm, and sequentially 240 mm / min at a temperature of 182 ° C. using a biaxial stretching machine (manufactured by Toyo Seiki Seisakusho, product number: X-6S). Biaxial stretching was performed sequentially so that the stretching ratio was doubled in the order of the machine direction (MD direction) and the transverse direction (TD direction) at the stretching speed of. The stretched film obtained above was quickly taken out from the test apparatus and cooled to obtain an optical film having a thickness of 40 μm.

前記で得られた光学フィルムの面内位相差および厚さ方向位相差は、それぞれ、2.5nmおよび4.8nmであった。   The in-plane retardation and thickness direction retardation of the optical film obtained above were 2.5 nm and 4.8 nm, respectively.

前記で得られた光学フィルムの吸水率、厚さ方向位相差の変化値および寸法変化率を実施例1と同様にして調べた。その結果を表1に示す。   In the same manner as in Example 1, the water absorption, the change value of the thickness direction retardation and the dimensional change rate of the optical film obtained above were examined. The results are shown in Table 1.

実施例3
攪拌装置、温度センサー、冷却管および窒素ガス導入管を備えた反応釜に、メタクリル酸n-ブチル60重量部、メタクリル酸40重量部、重合溶媒としてトルエン67.5重量部とメタノール45重量部との混合溶媒、および酸化防止剤〔(株)ADEKA製、商品名:アデカスタブ2112〕0.05重量部を仕込み、反応釜内に窒素ガスを通じながら73℃まで昇温させた。昇温に伴う還流が始まった時点で、重合開始剤としてジメチル−2,2’−アゾビス(2−メチルプロピオネート)〔和光純薬工業(株)製、商品名:V−601〕0.25重量部を反応釜内に添加するとともに、トルエン5.5重量部とメタノール3.6重量部との混合溶媒にジメチル−2,2’−アゾビス(2−メチルプロピオネート)〔和光純薬工業(株)製、商品名:V−601〕0.35重量部を溶解させた溶液を2時間かけて反応釜内に滴下しながら、約71〜76℃の還流下で溶液重合を行ない、ジメチル−2,2’−アゾビス(2−メチルプロピオネート)の滴下終了後に、さらに5時間かけて熟成を行なった。
Example 3
In a reaction kettle equipped with a stirrer, temperature sensor, cooling pipe and nitrogen gas introduction pipe, 60 parts by weight of n-butyl methacrylate, 40 parts by weight of methacrylic acid, 67.5 parts by weight of toluene as a polymerization solvent and 45 parts by weight of methanol A mixed solvent and an antioxidant (manufactured by ADEKA, trade name: ADK STAB 2112) were added in an amount of 0.05 part by weight, and the temperature was raised to 73 ° C. while passing nitrogen gas through the reaction kettle. At the time when the reflux accompanying the temperature rise starts, dimethyl-2,2′-azobis (2-methylpropionate) [manufactured by Wako Pure Chemical Industries, Ltd., trade name: V-601] as a polymerization initiator. 25 parts by weight was added to the reaction kettle, and dimethyl-2,2′-azobis (2-methylpropionate) [Wako Pure Chemical Industries, Ltd.] was added to a mixed solvent of 5.5 parts by weight of toluene and 3.6 parts by weight of methanol. Kogyo Co., Ltd., trade name: V-601] Performing solution polymerization under reflux at about 71 to 76 ° C. while dropping 0.35 parts by weight of the solution in which the solution was dissolved in the reaction kettle over 2 hours. After completion of the dropwise addition of dimethyl-2,2′-azobis (2-methylpropionate), aging was further performed for 5 hours.

前記で得られた重合体溶液に含まれる(メタ)アクリル系樹脂におけるメタクリル酸に由来の繰返し単位の含有率は、40.1重量%であった。また、当該(メタ)アクリル系樹脂の重量平均分子量は、14.5万であった。   The content of repeating units derived from methacrylic acid in the (meth) acrylic resin contained in the polymer solution obtained above was 40.1% by weight. Moreover, the weight average molecular weight of the (meth) acrylic resin was 145,000.

次に、メタノール9.9重量部に、環化触媒としてナトリウムメトキシド0.1重量部を溶解させた溶液を20分間かけて約65〜70℃の温度で反応釜内の重合溶液に滴下し、均一な重合溶液とした。   Next, a solution prepared by dissolving 0.1 part by weight of sodium methoxide as a cyclization catalyst in 9.9 parts by weight of methanol is dropped into the polymerization solution in the reaction kettle at a temperature of about 65 to 70 ° C. over 20 minutes. A uniform polymerization solution was obtained.

次に、前記で得られた重合溶液をバレル温度290℃、回転数70rpm、減圧度13.3〜400hPa(10〜300mmHg)、リアベント数が1個、フォアベント数が2個のベントタイプスクリュー二軸押出機(孔径:15mm、L/D:45)内に樹脂量換算で420g/hの処理速度で導入し、この押出機内で脱揮を行ない、軸内滞留時間3.6分間程度で押出すことにより、透明な環構造含有(メタ)アクリル系樹脂のペレットを得た。   Next, the polymer solution obtained above was subjected to a vent type screw having a barrel temperature of 290 ° C., a rotation speed of 70 rpm, a degree of vacuum of 13.3 to 400 hPa (10 to 300 mmHg), a rear vent number of 1, and a forevent number of 2. It was introduced into a shaft extruder (hole diameter: 15 mm, L / D: 45) at a processing rate of 420 g / h in terms of resin amount, devolatilized in this extruder, and pushed in a shaft residence time of about 3.6 minutes. As a result, a transparent ring structure-containing (meth) acrylic resin pellet was obtained.

前記で得られた環構造含有(メタ)アクリル系樹脂の重量平均分子量は12.8万であり、ガラス転移温度は98℃であった。   The weight average molecular weight of the ring structure-containing (meth) acrylic resin obtained above was 1280,000, and the glass transition temperature was 98 ° C.

次に、前記で得られたペレットをバレル温度290℃、回転数300rpm、減圧度13.3〜400hPa(10〜300mmHg)、ベント数が1個のベントタイプスクリュー二軸押出機(孔径:15mm、L/D:45)内に樹脂量換算で456g/hの処理速度でホッパーから導入し、ホッパーの後よりアニリンを液添ポンプにて378g/hの投入速度で注入し、軸内滞留時間5.2分間程度で押出すことにより、透明なイミド構造含有(メタ)アクリル系樹脂のペレットを得た。   Next, the pellet obtained above was a barrel type screw twin screw extruder (hole diameter: 15 mm) with a barrel temperature of 290 ° C., a rotation speed of 300 rpm, a degree of vacuum of 13.3 to 400 hPa (10 to 300 mmHg), and a single vent number. L / D: 45) is introduced from the hopper at a processing rate of 456 g / h in terms of resin amount, and aniline is injected from the hopper after the hopper at a feed rate of 378 g / h, and the residence time in the shaft is 5 By extruding in about 2 minutes, transparent imide structure-containing (meth) acrylic resin pellets were obtained.

前記で得られたイミド構造含有(メタ)アクリル系樹脂の重量平均分子量は、10.7万であった。前記で得られた(メタ)アクリル系樹脂は、式(I)において、R1がメチル基であり、R2が水素原子であり、R3がフェニル基である繰返し単位および式(II)において、R4が水素原子であり、R5がメチル基であり、R6がn−ブチル基である繰返し単位を有し、ガラス転移温度が162℃であるイミド構造含有(メタ)アクリル系樹脂であった。 The weight average molecular weight of the imide structure-containing (meth) acrylic resin obtained above was 107,000. The (meth) acrylic resin obtained above has a repeating unit in the formula (I) wherein R 1 is a methyl group, R 2 is a hydrogen atom, and R 3 is a phenyl group. , An imide structure-containing (meth) acrylic resin having a repeating unit in which R 4 is a hydrogen atom, R 5 is a methyl group, R 6 is an n-butyl group, and a glass transition temperature is 162 ° C. there were.

前記で得られたイミド構造含有(メタ)アクリル樹脂のイミド化率は61.8%、式(II)で表わされる繰返し単位の含有率は22.6重量%、応力光学係数(Cr)は0.09×10-9Pa-1であった。また、当該イミド構造含有(メタ)アクリル系樹脂の酸価は0.92mmol/gであった。 The imidization ratio of the imide structure-containing (meth) acrylic resin obtained above was 61.8%, the content of the repeating unit represented by the formula (II) was 22.6% by weight, and the stress optical coefficient (Cr) was 0. 0.09 × 10 −9 Pa −1 . The acid value of the imide structure-containing (meth) acrylic resin was 0.92 mmol / g.

次に、前記で得られたペレットを単軸押出機(孔径:20mm、L/D:25)に入れ、Tダイ温度を285℃に調節し、コートハンガータイプTダイ(幅150mm)から溶融押出しを行ない、ロール温度155℃の冷却ロール上に吐出し、厚さ160μmの未延伸フィルムを作製した。   Next, the pellet obtained above is put into a single screw extruder (hole diameter: 20 mm, L / D: 25), the T die temperature is adjusted to 285 ° C., and melt extrusion is performed from a coat hanger type T die (width 150 mm). And was discharged onto a cooling roll having a roll temperature of 155 ° C. to produce an unstretched film having a thickness of 160 μm.

次に、前記で得られた未延伸フィルムを96mm×96mmに切り出し、逐次二軸延伸機〔(株)東洋精機製作所製、品番:X−6S〕を用い、182℃の温度にて240mm/minの延伸速度で縦方向(MD方向)および横方向(TD方向)の順にそれぞれ延伸倍率が2倍となるように逐次二軸延伸を行なった。前記で得られた延伸フィルムを速やかに試験装置から取り出して冷却することにより、厚さ40μmの光学フィルムを得た。   Next, the unstretched film obtained above was cut out to 96 mm × 96 mm, and sequentially 240 mm / min at a temperature of 182 ° C. using a biaxial stretching machine (manufactured by Toyo Seiki Seisakusho, product number: X-6S). Biaxial stretching was performed sequentially so that the stretching ratio was doubled in the order of the machine direction (MD direction) and the transverse direction (TD direction) at the stretching speed of. The stretched film obtained above was quickly taken out from the test apparatus and cooled to obtain an optical film having a thickness of 40 μm.

前記で得られた光学フィルムの面内位相差および厚さ方向位相差は、それぞれ、1.2nmおよび6.1nmであった。   The in-plane retardation and thickness direction retardation of the optical film obtained above were 1.2 nm and 6.1 nm, respectively.

前記で得られた光学フィルムの吸水率、厚さ方向位相差の変化値および寸法変化率を実施例1と同様にして調べた。その結果を表1に示す。   In the same manner as in Example 1, the water absorption, the change value of the thickness direction retardation and the dimensional change rate of the optical film obtained above were examined. The results are shown in Table 1.

比較例1
攪拌装置、温度センサー、冷却管および窒素ガス導入管を備えた反応釜に、メタクリル酸メチル79.4重量部、メタクリル酸20.6重量部、重合溶媒としてトルエン90.0重量部とメタノール22.5重量部との混合溶媒、および酸化防止剤〔(株)ADEKA製、商品名:アデカスタブ2112〕0.05重量部を仕込み、反応釜内に窒素ガスを通じながら73℃まで昇温させた。昇温に伴う還流が始まった時点で、重合開始剤としてジメチル−2,2’−アゾビス(2−メチルプロピオネート)〔和光純薬工業(株)製、商品名:V−601〕0.25重量部を反応釜内に添加するとともに、トルエン7.3重量部とメタノール1.8重量部との混合溶媒にジメチル−2,2’−アゾビス(2−メチルプロピオネート)〔和光純薬工業(株)製、商品名:V−601〕0.35重量部を溶解させた溶液を2時間かけて反応釜内に滴下しながら、約71〜76℃の還流下で溶液重合を行ない、ジメチル−2,2’−アゾビス(2−メチルプロピオネート)の滴下終了後に、さらに4時間かけて熟成を行なった。
Comparative Example 1
In a reaction kettle equipped with a stirrer, a temperature sensor, a cooling pipe and a nitrogen gas introduction pipe, 79.4 parts by weight of methyl methacrylate, 20.6 parts by weight of methacrylic acid, 90.0 parts by weight of toluene as a polymerization solvent and 22. A mixed solvent with 5 parts by weight and 0.05 parts by weight of an antioxidant (manufactured by ADEKA, trade name: ADK STAB 2112) were charged, and the temperature was raised to 73 ° C. while passing nitrogen gas into the reaction kettle. At the time when the reflux accompanying the temperature rise starts, dimethyl-2,2′-azobis (2-methylpropionate) [manufactured by Wako Pure Chemical Industries, Ltd., trade name: V-601] as a polymerization initiator. 25 parts by weight was added to the reaction kettle, and dimethyl-2,2′-azobis (2-methylpropionate) [Wako Pure Chemical Industries, Ltd.] was added to a mixed solvent of 7.3 parts by weight of toluene and 1.8 parts by weight of methanol. Kogyo Co., Ltd., trade name: V-601] Performing solution polymerization under reflux at about 71 to 76 ° C. while dropping 0.35 parts by weight of the solution in which the solution was dissolved in the reaction kettle over 2 hours. After completion of the dropwise addition of dimethyl-2,2′-azobis (2-methylpropionate), aging was performed for another 4 hours.

前記で得られた重合体溶液に含まれる(メタ)アクリル系樹脂におけるメタクリル酸に由来の繰返し単位の含有率は、20.6重量%であった。また、当該(メタ)アクリル系樹脂の重量平均分子量は、11万であった。   The content of the repeating unit derived from methacrylic acid in the (meth) acrylic resin contained in the polymer solution obtained above was 20.6% by weight. Moreover, the weight average molecular weight of the (meth) acrylic resin was 110,000.

次に、メタノール9.9重量部に、環化触媒としてナトリウムメトキシド0.1重量部を溶解させた溶液を20分間かけて約65〜70℃の温度で反応釜内の重合溶液に滴下し、均一な重合溶液とした。   Next, a solution prepared by dissolving 0.1 part by weight of sodium methoxide as a cyclization catalyst in 9.9 parts by weight of methanol is dropped into the polymerization solution in the reaction kettle at a temperature of about 65 to 70 ° C. over 20 minutes. A uniform polymerization solution was obtained.

次に、前記で得られた重合溶液をバレル温度290℃、回転数238rpm、減圧度13.3〜400hPa(10〜300mmHg)、リアベント数が1個、フォアベント数が2個のベントタイプスクリュー二軸押出機(孔径:15mm、L/D:45)内に樹脂量換算で300g/hの処理速度で導入し、この押出機内で脱揮を行ない、軸内滞留時間0.9分間程度で押出すことにより、透明な環構造含有(メタ)アクリル系樹脂のペレットを得た。   Next, the polymer solution obtained above was subjected to a vent type screw having a barrel temperature of 290 ° C., a rotation speed of 238 rpm, a degree of vacuum of 13.3 to 400 hPa (10 to 300 mmHg), a rear vent number of 1, and a forevent number of 2. It is introduced into a shaft extruder (hole diameter: 15 mm, L / D: 45) at a processing rate of 300 g / h in terms of resin amount, devolatilized in this extruder, and pushed in a shaft residence time of about 0.9 minutes. As a result, a transparent ring structure-containing (meth) acrylic resin pellet was obtained.

前記で得られた環構造含有(メタ)アクリル系樹脂の重量平均分子量は10万であり、ガラス転移温度は131℃であった。   The ring structure-containing (meth) acrylic resin obtained above had a weight average molecular weight of 100,000 and a glass transition temperature of 131 ° C.

次に、前記で得られたペレットをバレル温度290℃、回転数300rpm、減圧度13.3〜400hPa(10〜300mmHg)、ベント数が1個のベントタイプスクリュー二軸押出機(孔径:15mm、L/D:45)内に樹脂量換算で420g/hの処理速度でホッパーから導入し、ホッパーの後よりアニリンを液添ポンプにて101g/hの投入速度で注入し、軸内滞留時間5.2分間程度で押出すことにより、透明なイミド構造含有(メタ)アクリル系樹脂のペレットを得た。   Next, the pellet obtained above was a barrel type screw twin screw extruder (hole diameter: 15 mm) with a barrel temperature of 290 ° C., a rotation speed of 300 rpm, a degree of vacuum of 13.3 to 400 hPa (10 to 300 mmHg), and a single vent number. L / D: 45) is introduced from the hopper at a processing rate of 420 g / h in terms of resin amount, and aniline is injected from the hopper after the hopper at a feeding rate of 101 g / h. By extruding in about 2 minutes, transparent imide structure-containing (meth) acrylic resin pellets were obtained.

前記で得られたイミド構造含有(メタ)アクリル系樹脂の重量平均分子量は、9.4万であった。前記で得られた(メタ)アクリル系樹脂は、式(I)において、R1がメチル基であり、R2が水素原子であり、R3がフェニル基である繰返し単位および式(II)において、R4が水素原子であり、R5がメチル基であり、R6がメチル基である繰返し単位を有し、ガラス転移温度が169℃であるイミド構造含有(メタ)アクリル系樹脂であった。 The weight average molecular weight of the imide structure-containing (meth) acrylic resin obtained above was 94,000. The (meth) acrylic resin obtained above has a repeating unit in the formula (I) wherein R 1 is a methyl group, R 2 is a hydrogen atom, and R 3 is a phenyl group. , An imide structure-containing (meth) acrylic resin having a repeating unit in which R 4 is a hydrogen atom, R 5 is a methyl group, R 6 is a methyl group, and a glass transition temperature is 169 ° C. .

前記で得られたイミド構造含有(メタ)アクリル樹脂のイミド化率は40.8%、式(II)で表わされる繰返し単位の含有率は38.3重量%、応力光学係数(Cr)は0.15×10-9Pa-1であった。また、当該イミド構造含有(メタ)アクリル系樹脂の酸価は1.42mmol/gであった。 The imidization ratio of the imide structure-containing (meth) acrylic resin obtained above was 40.8%, the content of the repeating unit represented by the formula (II) was 38.3% by weight, and the stress optical coefficient (Cr) was 0. It was 15 × 10 −9 Pa −1 . The acid value of the imide structure-containing (meth) acrylic resin was 1.42 mmol / g.

次に、前記で得られたペレットを単軸押出機(孔径:20mm、L/D:25)に入れ、Tダイ温度を290℃に調節し、コートハンガータイプTダイ(幅150mm)から溶融押出しを行ない、ロール温度165℃の冷却ロール上に吐出し、厚さ160μmの未延伸フィルムを作製した。   Next, the pellet obtained above is put into a single screw extruder (hole diameter: 20 mm, L / D: 25), the T die temperature is adjusted to 290 ° C., and melt extrusion is performed from a coat hanger type T die (width 150 mm). And was discharged onto a cooling roll having a roll temperature of 165 ° C. to produce an unstretched film having a thickness of 160 μm.

次に、前記で得られた未延伸フィルムを96mm×96mmに切り出し、逐次二軸延伸機〔(株)東洋精機製作所製、品番:X−6S〕を用い、189℃の温度にて240mm/minの延伸速度で縦方向(MD方向)および横方向(TD方向)の順にそれぞれ延伸倍率が2倍となるように逐次二軸延伸を行なった。前記で得られた延伸フィルムを速やかに試験装置から取り出して冷却することにより、厚さ40μmの光学フィルムを得た。
に試験装置から取り出して冷却することにより、厚さ40μmの光学フィルムを得た。
Next, the unstretched film obtained above was cut out into 96 mm × 96 mm, and successively 240 mm / min at a temperature of 189 ° C. using a biaxial stretching machine (manufactured by Toyo Seiki Seisakusho, product number: X-6S). Biaxial stretching was performed sequentially so that the stretching ratio was doubled in the order of the machine direction (MD direction) and the transverse direction (TD direction) at the stretching speed of. The stretched film obtained above was quickly taken out from the test apparatus and cooled to obtain an optical film having a thickness of 40 μm.
Then, the film was taken out from the test apparatus and cooled to obtain an optical film having a thickness of 40 μm.

前記で得られた光学フィルムの面内位相差および厚さ方向位相差は、それぞれ、1.5nmおよび7.2nmであった。   The in-plane retardation and thickness direction retardation of the optical film obtained above were 1.5 nm and 7.2 nm, respectively.

前記で得られた光学フィルムの吸水率、厚さ方向位相差の変化値および寸法変化率を実施例1と同様にして調べた。その結果を表1に示す。   In the same manner as in Example 1, the water absorption, the change value of the thickness direction retardation and the dimensional change rate of the optical film obtained above were examined. The results are shown in Table 1.

Figure 2016069434
Figure 2016069434

表1に示された結果から、各実施例で得られた光学フィルムは、いずれも、比較例1で得られた光学フィルムと対比して、未延伸フィルムの吸水率が低く、延伸フィルムの厚さ方向位相差変化値および寸法変化率が小さいという優れた性質を有するものであることがわかる。   From the results shown in Table 1, each of the optical films obtained in each example has a low water absorption rate of the unstretched film compared to the optical film obtained in Comparative Example 1, and the thickness of the stretched film. It turns out that it has the outstanding property that a length direction phase difference change value and a dimensional change rate are small.

次に、各実施例および比較例1で得られた光学フィルムの面内位相差、厚さ方向位相差、光弾性係数および線膨張係数を調べた。その結果を表2に示す。また、これらの光学フィルムの物性として、ヘイズ、全光線透過率、MIT耐折度試験回数、フィルムインパクト強度および鉛筆硬度を以下の方法に従って調べた。その結果を表2に示す。また、光学フィルムの耐熱性の指標としてイミド構造含有(メタ)アクリル系樹脂のガラス転移温度を表2に記載した。   Next, the in-plane retardation, thickness direction retardation, photoelastic coefficient, and linear expansion coefficient of the optical film obtained in each Example and Comparative Example 1 were examined. The results are shown in Table 2. Further, as physical properties of these optical films, haze, total light transmittance, number of MIT folding resistance tests, film impact strength, and pencil hardness were examined according to the following methods. The results are shown in Table 2. Table 2 shows the glass transition temperature of the imide structure-containing (meth) acrylic resin as an index of heat resistance of the optical film.

(1)ヘイズおよび全光線透過率
ヘイズおよび全光線透過率は、濁度計〔日本電色工業(株)製、品番:NDH 5000〕を用いて測定した。
(1) Haze and total light transmittance Haze and total light transmittance were measured using a turbidimeter [Nippon Denshoku Industries Co., Ltd., product number: NDH 5000].

(2)MIT耐折度試験回数
MIT耐折度試験回数は、JIS P8115に準じて光学フィルムを縦15mm、長さ90mmに裁断し、得られた試験片を用いてMIT耐折度試験機〔テスター産業(株)製、品番:BE−201〕にて、温度23℃、相対湿度50%の雰囲気中で荷重200gを加えて測定した。
(2) MIT fold resistance test number The MIT fold resistance test number was determined by cutting an optical film into 15 mm length and 90 mm length according to JIS P8115, and using the obtained test piece, an MIT fold resistance test machine [ Tester Sangyo Co., Ltd., product number: BE-201], and a load of 200 g was applied in an atmosphere at a temperature of 23 ° C. and a relative humidity of 50%.

(3)フィルムインパクト強度
フィルムインパクト強度は、フィルムインパクトテスター〔テスター産業(株)製、品番:BU−302〕を用い、温度23℃、相対湿度50%の雰囲気中でASTM D3420に準じて測定した。
(3) Film impact strength The film impact strength was measured according to ASTM D3420 in an atmosphere at a temperature of 23 ° C. and a relative humidity of 50% using a film impact tester [Tester Sangyo Co., Ltd., product number: BU-302]. .

(4)鉛筆硬度
JIS K5600−5−4(1999年)に準じ、鉛筆引っかき硬度試験機〔(株)安田精機製作所製〕を用い、荷重750gにて測定した。
(4) Pencil Hardness According to JIS K5600-5-4 (1999), a pencil scratch hardness tester (manufactured by Yasuda Seiki Seisakusho Co., Ltd.) was used and measured at a load of 750 g.

Figure 2016069434
Figure 2016069434

表1および表2に示された結果から、各実施例で得られた光学フィルムは、いずれも、吸水率が低く、湿熱下における厚さ方向位相差の変化値が小さく、湿熱下における寸法変化率が小さく、耐熱性に優れ、光弾性係数が小さいという優れた性質を有するものであることがわかる。

From the results shown in Tables 1 and 2, all of the optical films obtained in each Example have a low water absorption, a small change in thickness direction retardation under wet heat, and a dimensional change under wet heat. It can be seen that it has excellent properties such as a low rate, excellent heat resistance, and a small photoelastic coefficient.

Claims (9)

原料として(メタ)アクリル系モノマーを含有するモノマー成分を重合させてなる(メタ)アクリル系樹脂が用いられたイミド構造含有(メタ)アクリル系樹脂であって、前記(メタ)アクリル系モノマーがアルキルエステルの炭素数が2〜6である(メタ)アクリル酸アルキルエステルおよび(メタ)アクリル酸を含有する(メタ)アクリル系モノマーであり、150℃以上のガラス転移温度を有することを特徴とするイミド構造含有(メタ)アクリル系樹脂。   An imide structure-containing (meth) acrylic resin using a (meth) acrylic resin obtained by polymerizing a monomer component containing a (meth) acrylic monomer as a raw material, wherein the (meth) acrylic monomer is an alkyl (Meth) acrylic acid alkyl ester having 2 to 6 carbon atoms and (meth) acrylic monomer containing (meth) acrylic acid and having a glass transition temperature of 150 ° C. or higher Structure-containing (meth) acrylic resin. イミド構造含有(メタ)アクリル系樹脂が式(I):
Figure 2016069434
(式中、R1およびR2は、それぞれ独立して、水素原子または炭素数1〜8のアルキル基、R3は、水素原子、炭素数1〜18のアルキル基、炭素数3〜12のシクロアルキル基または炭素数6〜10のアリール基を示す)
で表わされる繰返し単位および式(II):
Figure 2016069434
(式中、R4およびR5は、それぞれ独立して、水素原子または炭素数1〜8のアルキル基、R6は、炭素数2〜6のアルキル基を示す)
で表わされる繰返し単位を有する請求項1に記載のイミド構造含有(メタ)アクリル系樹脂。
Imide structure-containing (meth) acrylic resin is represented by the formula (I):
Figure 2016069434
(In the formula, R 1 and R 2 are each independently a hydrogen atom or an alkyl group having 1 to 8 carbon atoms, R 3 is a hydrogen atom, an alkyl group having 1 to 18 carbon atoms, or an alkyl group having 3 to 12 carbon atoms. A cycloalkyl group or an aryl group having 6 to 10 carbon atoms)
Repeating units represented by the formula (II):
Figure 2016069434
(Wherein R 4 and R 5 each independently represents a hydrogen atom or an alkyl group having 1 to 8 carbon atoms, and R 6 represents an alkyl group having 2 to 6 carbon atoms)
The imide structure containing (meth) acrylic resin of Claim 1 which has a repeating unit represented by these.
式(I)において、R3が炭素数3〜12のシクロアルキル基または炭素数6〜10のアリール基である請求項2に記載のイミド構造含有(メタ)アクリル系樹脂。 The imide structure-containing (meth) acrylic resin according to claim 2, wherein R 3 in formula (I) is a cycloalkyl group having 3 to 12 carbon atoms or an aryl group having 6 to 10 carbon atoms. (メタ)アクリル系樹脂が式(I)で表わされる繰返し単位5〜85重量%および式(II)で表わされる繰返し単位15〜95重量%を有する請求項1〜3のいずれかに記載のイミド構造含有(メタ)アクリル系樹脂。   The imide according to any one of claims 1 to 3, wherein the (meth) acrylic resin has 5 to 85% by weight of the repeating unit represented by the formula (I) and 15 to 95% by weight of the repeating unit represented by the formula (II). Structure-containing (meth) acrylic resin. 応力光学係数(Cr)の絶対値が0.3×10-9Pa-1以下である請求項1〜4のいずれかに記載のイミド構造含有(メタ)アクリル系樹脂。 5. The imide structure-containing (meth) acrylic resin according to claim 1, wherein the absolute value of the stress optical coefficient (Cr) is 0.3 × 10 −9 Pa −1 or less. 原料として(メタ)アクリル系モノマーを含有するモノマー成分を重合させてなる(メタ)アクリル系樹脂を用いてイミド構造含有(メタ)アクリル系樹脂を製造する方法であって、前記モノマー成分としてアルキルエステルの炭素数が2〜6である(メタ)アクリル酸アルキルエステルおよび(メタ)アクリル酸を含有するモノマー成分を用いることを特徴とするイミド構造含有(メタ)アクリル系樹脂の製造方法。   A method for producing an imide structure-containing (meth) acrylic resin using a (meth) acrylic resin obtained by polymerizing a monomer component containing a (meth) acrylic monomer as a raw material, wherein the monomer component is an alkyl ester A method for producing an imide structure-containing (meth) acrylic resin, comprising using a monomer component containing (meth) acrylic acid alkyl ester having 2 to 6 carbon atoms and (meth) acrylic acid. 請求項1〜5のいずれかに記載のイミド構造含有(メタ)アクリル系樹脂を含有してなる光学フィルム。   An optical film comprising the imide structure-containing (meth) acrylic resin according to claim 1. 少なくとも一方表面に透明導電層が形成されている請求項7に記載の光学フィルム。   The optical film according to claim 7, wherein a transparent conductive layer is formed on at least one surface. 請求項7または8に記載の光学フィルムを有する画像表示装置。

An image display device comprising the optical film according to claim 7.

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