JP2016055241A - Manufacturing device of substrate with resin layer, manufacturing method of laminate, and manufacturing method of electronic device - Google Patents
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Abstract
Description
本発明は、樹脂層付き基板の製造装置及び積層体の製造方法並びに電子デバイスの製造方法に関する。 The present invention relates to an apparatus for manufacturing a substrate with a resin layer, a method for manufacturing a laminate, and a method for manufacturing an electronic device.
表示パネル、太陽電池、薄膜二次電池等の電子デバイスの薄型化、軽量化に伴い、これらの電子デバイスに用いられるガラス基板の薄板化が要望されている。 As electronic devices such as display panels, solar cells, and thin film secondary batteries are made thinner and lighter, glass substrates used in these electronic devices are required to be made thinner.
しかしながら、ガラス基板の厚さが薄くなると、ガラス基板のハンドリング性が悪化するため、ガラス基板の表面に電子デバイス用の機能層(薄膜トランジスタ(TFT: Thin Film Transistor)、カラーフィルタ(CF:Color Filter))を形成することが困難になる。 However, as the glass substrate becomes thinner, the handling properties of the glass substrate deteriorate, so that functional layers for electronic devices (thin film transistors (TFTs), color filters (CFs)) are formed on the surface of the glass substrate. ) Becomes difficult to form.
そこで、特許文献1には、ガラス基板の裏面に補強板を貼り付け、ガラス基板を補強板によって補強したガラス積層体が開示されている。この補強板は、基板と、基板に設けられた樹脂層とからなり、樹脂層にガラス基板が剥離可能に貼り付けられる。 Therefore, Patent Document 1 discloses a glass laminate in which a reinforcing plate is attached to the back surface of a glass substrate and the glass substrate is reinforced by the reinforcing plate. The reinforcing plate includes a substrate and a resin layer provided on the substrate, and the glass substrate is detachably attached to the resin layer.
ガラス基板は、ガラス積層体の状態でその表面に機能層が形成される。ガラス積層体を使用した機能層形成方法によれば、ガラス基板のハンドリング性が向上するので、ガラス基板の表面に機能層を良好に形成できる利点がある。 A functional layer is formed on the surface of the glass substrate in the state of a glass laminate. According to the method for forming a functional layer using a glass laminate, since the handling properties of the glass substrate are improved, there is an advantage that the functional layer can be favorably formed on the surface of the glass substrate.
補強板は、機能層の形成後に、特許文献2等に開示された剥離装置によってガラス基板から剥離される。ガラス基板から剥離された補強板は、新たなガラス基板に積層され、ガラス積層体として再利用される。 After the formation of the functional layer, the reinforcing plate is peeled from the glass substrate by a peeling device disclosed in Patent Document 2 and the like. The reinforcing plate peeled from the glass substrate is laminated on a new glass substrate and reused as a glass laminate.
〔基板に樹脂層を設けるための従来の樹脂層付き基板の製造装置〕
従来の樹脂層付き基板の製造装置は、塗布装置、第1の加熱炉、第2の加熱炉、及び基板搬送用のロボット等によって構成される。
[Conventional apparatus for manufacturing a substrate with a resin layer for providing a resin layer on the substrate]
A conventional apparatus for manufacturing a substrate with a resin layer includes a coating apparatus, a first heating furnace, a second heating furnace, a substrate transfer robot, and the like.
前記塗布装置は、硬化性樹脂と溶媒とを含む硬化性樹脂組成物を基板の片面に塗布して、基板の片面に硬化性樹脂組成物層を形成する(塗布工程)。 The coating device applies a curable resin composition containing a curable resin and a solvent to one side of a substrate to form a curable resin composition layer on one side of the substrate (application process).
前記第1の加熱炉は、硬化性樹脂組成物層が形成された基板を、150度から160度の温度で所定時間加熱することにより、溶媒を蒸発させて硬化性樹脂組成物層を平滑化する(プリベーク処理工程)。 The first heating furnace heats the substrate on which the curable resin composition layer is formed at a temperature of 150 to 160 degrees for a predetermined time, thereby evaporating the solvent and smoothing the curable resin composition layer. (Pre-baking process).
前記第2の加熱炉は、硬化性樹脂組成物層が平滑化された基板を、210度から220度の温度で所定時間加熱することにより、硬化性樹脂組成物層を加熱硬化させる(ポストベーク処理工程)。このような製造工程を経ることによって、基板に樹脂層が設けられる。 The second heating furnace heats and cures the curable resin composition layer by heating the substrate on which the curable resin composition layer is smoothed at a temperature of 210 to 220 degrees for a predetermined time (post-baking). Processing step). The resin layer is provided on the substrate through such a manufacturing process.
なお、前記ロボットは、塗布装置から第1の加熱炉に基板を搬送するとともに、第1の加熱炉にてプリベーク処理が終了した基板を、第1の加熱炉から第2の加熱炉に搬送する。 The robot transports the substrate from the coating apparatus to the first heating furnace, and transports the substrate that has been pre-baked in the first heating furnace from the first heating furnace to the second heating furnace. .
図5(A)は、基板100の片面に硬化性樹脂組成物層102が塗布された補強板104の拡大断面図であり、図5(B)は、硬化性樹脂組成物層102が加熱硬化された樹脂層106にガラス基板108が貼り付けられたガラス積層体110の拡大断面図である。 5A is an enlarged cross-sectional view of the reinforcing plate 104 in which the curable resin composition layer 102 is applied to one side of the substrate 100, and FIG. 5B is a diagram in which the curable resin composition layer 102 is heated and cured. It is an expanded sectional view of the glass laminated body 110 by which the glass substrate 108 was affixed on the made resin layer 106. FIG.
図5(A)に示すように、硬化性樹脂組成物層102の表面に塵埃等の微小な異物112が付着すると、異物112が付着した硬化性樹脂組成物層102の表面に凹状部114が形成される。この状態でガラス基板108を樹脂層106に貼り付けた場合には、前記凹状部114が気泡となって現れる。このような気泡が多数個存在すると、TFTアレイ等の高温条件下(400度以上)での製造工程において、熱膨張した前記気泡によりガラス基板108に歪みが生じるので、TFTアレイの製造に悪影響を与えるという問題がある。 As shown in FIG. 5A, when a minute foreign matter 112 such as dust adheres to the surface of the curable resin composition layer 102, a concave portion 114 is formed on the surface of the curable resin composition layer 102 to which the foreign matter 112 adheres. It is formed. When the glass substrate 108 is attached to the resin layer 106 in this state, the concave portion 114 appears as bubbles. If a large number of such bubbles are present, the glass substrate 108 is distorted by the thermally expanded bubbles in a manufacturing process under a high temperature condition (400 ° C. or more) such as a TFT array, which adversely affects the manufacturing of the TFT array. There is a problem of giving.
上記の問題を解消するために、高い清浄度に維持されたブース(booth:クリーンルームともいう)に前記ロボットを設置し、ロボットによる補強板104の搬送中に、硬化性樹脂組成物層102の表面に異物112が付着することを抑制している。 In order to solve the above problem, the robot is installed in a booth (also referred to as a clean room) maintained at a high cleanliness, and the surface of the curable resin composition layer 102 is being transferred while the reinforcing plate 104 is being transported by the robot. This prevents the foreign matter 112 from adhering to the surface.
一方、特許文献3には、溶剤を含む膜材料が塗布された基板を連続的に乾燥処理する乾燥装置が開示されている。この乾燥装置は、乾燥装置の加熱部に基板を搬入する搬入口、及び加熱部から基板を搬出する搬出口に、排気フードがそれぞれ設けられるとともに、排気フードの内壁面を加熱する加熱装置が設けられている。この乾燥装置によれば、搬入口及び搬出口から立ち上がる溶剤の蒸気を、排気フードを介して排気管に導くとともに、加熱装置によって排気フードの内壁面を加熱することによって、その内壁面に生じる溶剤の結露を防止している。 On the other hand, Patent Document 3 discloses a drying apparatus for continuously drying a substrate coated with a film material containing a solvent. In this drying apparatus, an exhaust hood is provided at each of a carry-in port for carrying the substrate into the heating unit of the drying device and a carry-out port for carrying out the substrate from the heating unit, and a heating device for heating the inner wall surface of the exhaust hood is provided. It has been. According to this drying device, the solvent vapor that rises from the carry-in port and the carry-out port is guided to the exhaust pipe through the exhaust hood, and the inner wall surface of the exhaust hood is heated by the heating device, whereby the solvent generated on the inner wall surface Prevents condensation.
つまり、特許文献3には、基板から蒸発した溶剤を乾燥装置から排気する発明が開示されているが、膜材料の表面に異物が付着することを防止する点については開示されていない。 That is, Patent Document 3 discloses an invention in which the solvent evaporated from the substrate is exhausted from the drying apparatus, but does not disclose the point of preventing foreign matter from adhering to the surface of the film material.
従来の樹脂層付き基板の製造装置のように、ロボットが設置されるブースをクリーンルーム化する対策のみでは、硬化性樹脂組成物層に対する異物の付着を抑制するという効果を十分に得ることができなかった。 Just like the conventional manufacturing equipment for substrates with resin layers, the measures to make the booth where the robots are installed clean rooms are not enough to prevent the adhesion of foreign substances to the curable resin composition layer. It was.
その原因について検証した。ブースの室内の気流には、大別して2つの気流が存在する。一つ目の気流は、ブースの天井に設置されたファンフィルタユニットからダウンフローされる清浄空気の下降流である。二つ目の気流は、第1及び第2の加熱炉の高温の壁面に沿って上昇する上昇気流である。 The cause was verified. There are two main types of airflow in the booth. The first airflow is a downward flow of clean air that is downflowed from a fan filter unit installed on the ceiling of the booth. The second airflow is an ascending airflow that rises along the hot wall surfaces of the first and second heating furnaces.
前記下降気流は、ブースの清浄度を高めることを目的とした必須の気流であるが、前記上昇気流は、装置の構成上当然に発生する特有の気流であり、この上昇気流が問題を引き起こす原因になっていた。 The downdraft is an indispensable airflow for the purpose of improving the cleanliness of the booth, but the updraft is a specific airflow that naturally occurs in the configuration of the apparatus, and the cause of this updraft causing problems It was.
つまり、ブースの床面に落下している微小な塵埃が、前記上昇気流によって床面から巻き上げられ、巻き上げられた異物が浮遊し、その浮遊物が硬化性樹脂組成物層に付着することを確認した。 That is, it is confirmed that the minute dust falling on the floor of the booth is wound up from the floor by the rising air flow, the foreign matter lifted up floats, and the suspended matter adheres to the curable resin composition layer. did.
ブースは、ファンフィルタユニットからの清浄空気によって高い清浄度を維持するように構成されている。しかしながら、ロボットの摺動部から発生する微小な金属粉、第1及び第2の加熱炉のそれぞれの基板搬入搬出用扉(シャッタ)の摺動部から発生する微小な金属粉、及びブースに入室したオペレータからの発塵によって、ブースの清浄度を上げるには限界があった。また、ブースで発生する前記上昇気流についても、装置の構成上当然に発生する気流なので、この上昇気流を抑制することも困難であった。 The booth is configured to maintain high cleanliness by clean air from the fan filter unit. However, the minute metal powder generated from the sliding part of the robot, the minute metal powder generated from the sliding part of each substrate loading / unloading door (shutter) of the first and second heating furnaces, and the booth are entered. There was a limit to raising the cleanliness of the booth due to dust generated by the operators. Also, the updraft generated in the booth is naturally generated due to the configuration of the apparatus, and it has been difficult to suppress the updraft.
以上の如く、従来装置では、クリーンルーム化されたブースにロボットを設置したにもかかわらず、ブースには発塵源と上昇気流とが存在するために、硬化性樹脂組成物層に対する異物の付着を抑制することができなかった。 As described above, in the conventional apparatus, even though the robot is installed in the clean room booth, the booth has a dust generation source and an updraft, so that foreign matter adheres to the curable resin composition layer. Could not be suppressed.
本発明は、このような事情に鑑みてなされたもので、硬化性樹脂組成物層に異物が付着することを抑制することができる樹脂層付き基板の製造装置及び積層体の製造方法並びに電子デバイスの製造方法を提供することを目的とする。 This invention is made | formed in view of such a situation, and the manufacturing apparatus of the board | substrate with a resin layer which can suppress that a foreign material adheres to a curable resin composition layer, the manufacturing method of a laminated body, and an electronic device It aims at providing the manufacturing method of.
本発明の一態様は、前記目的を達成するために、硬化性樹脂と溶媒とを含む硬化性樹脂組成物を基板の片面に塗布して、前記基板の片面に硬化性樹脂組成物層を形成する塗布手段と、前記硬化性樹脂組成物層が形成された前記基板を第1の温度で加熱することにより、前記溶媒を蒸発させて前記硬化性樹脂組成物層を平滑化する第1の加熱炉と、前記硬化性樹脂組成物層が平滑化された前記基板を前記第1の温度より高い第2の温度で加熱することにより、前記硬化性樹脂組成物層を硬化させて樹脂層を得る第2の加熱炉と、前記塗布手段、前記第1の加熱炉、及び前記第2の加熱炉に包囲された第1のクリーンルームと、前記第1のクリーンルームに設置され、前記塗布手段から前記第1の加熱炉に前記基板を搬送するとともに、前記第1の加熱炉から前記第2の加熱炉に前記基板を搬送する搬送手段と、前記第1のクリーンルームの空気を吸気して第1のクリーンルームの浮遊物を除去する吸気手段と、を備えたことを特徴とする樹脂層付き基板の製造装置を提供する。 In one embodiment of the present invention, in order to achieve the above object, a curable resin composition containing a curable resin and a solvent is applied to one side of a substrate, and a curable resin composition layer is formed on one side of the substrate. And heating the substrate on which the curable resin composition layer is formed at a first temperature, thereby evaporating the solvent and smoothing the curable resin composition layer. A furnace and the substrate on which the curable resin composition layer is smoothed are heated at a second temperature higher than the first temperature to cure the curable resin composition layer and obtain a resin layer. A second heating furnace, the coating means, the first heating furnace, a first clean room surrounded by the second heating furnace, and the first clean room; And transporting the substrate to one heating furnace, the first The apparatus comprises: a transport unit that transports the substrate from a heating furnace to the second heating furnace; and an intake unit that sucks air from the first clean room and removes floating substances in the first clean room. An apparatus for manufacturing a substrate with a resin layer is provided.
本発明の一態様の樹脂層付き基板の製造装置は、塗布手段、第1の加熱炉、第2の加熱炉、及び搬送手段を備えていること、塗布手段、第1の加熱炉、及び第2の加熱炉に包囲された第1のクリーンルームに搬送手段が設置されていることを前提とした装置であり、第1のクリーンルームの空気を吸気して第1のクリーンルームの浮遊物を除去する吸気手段を更に備えたことを特徴とする。 The apparatus for manufacturing a substrate with a resin layer of one embodiment of the present invention includes a coating unit, a first heating furnace, a second heating furnace, and a transport unit, a coating unit, a first heating furnace, and a first Intake apparatus that presupposes that transport means is installed in a first clean room surrounded by two heating furnaces, and sucks air from the first clean room to remove floating substances in the first clean room. Means are further provided.
前記前提装置では、搬送手段による基板の搬送中に、硬化性樹脂組成物層に異物が付着することを抑制することができない。この異物は、第1のクリーンルームで発生した上昇気流によって床面から巻き上げられた浮遊物を主としている。また、第1のクリーンルームに存在する発塵源から発生した金属粉等の異物も含まれる。 In the said premise apparatus, it cannot suppress that a foreign material adheres to the curable resin composition layer during conveyance of the board | substrate by a conveyance means. This foreign material is mainly floating substances wound up from the floor surface by the updraft generated in the first clean room. In addition, foreign matter such as metal powder generated from a dust source present in the first clean room is also included.
本発明の一態様によれば、吸気手段によって第1のクリーンルーム内の空気を強制的に吸気し、第1のクリーンルームから浮遊物を吸引除去するので、硬化性樹脂組成物層に異物が付着することを大幅に抑制することができる。すなわち、本発明は、高い清浄度に維持されている第1のクリーンルームの空気を、浮遊物を吸引除去するために強制的に吸気して排気することを技術的思想としている。 According to one aspect of the present invention, the air in the first clean room is forcibly taken in by the air intake means, and the suspended matter is sucked and removed from the first clean room, so that foreign matter adheres to the curable resin composition layer. This can be greatly suppressed. That is, the technical idea of the present invention is to forcibly inhale and exhaust the air in the first clean room maintained at a high cleanliness in order to suck and remove the suspended matter.
本発明の一態様は、前記吸気手段の吸気口は、前記第1のクリーンルームの天井に備えられていることが好ましい。 In one aspect of the present invention, it is preferable that an intake port of the intake means is provided on a ceiling of the first clean room.
本発明の一態様によれば、第1のクリーンルームで発生した、浮遊物を大量に含む上昇気流を、第1のクリーンルームの天井に備えられた吸気口を介して排気するので、上昇気流の流れに沿って上昇気流を第1のクリーンルームから効率よく排気できる。これにより、浮遊物を効率よく吸引除去することができる。 According to one aspect of the present invention, the updraft generated in the first clean room and containing a large amount of suspended matter is exhausted through the intake port provided in the ceiling of the first clean room. Ascending air current can be efficiently exhausted from the first clean room along the line. As a result, the suspended matter can be efficiently removed by suction.
本発明の一態様は、前記吸気手段の吸気口は、前記第1の加熱炉又は前記第2の加熱炉のうち少なくとも一方の加熱炉の上方に配置されていることが好ましい。 In one aspect of the present invention, it is preferable that an intake port of the intake means is disposed above at least one of the first heating furnace and the second heating furnace.
本発明の一態様によれば、第1のクリーンルームで発生する上昇気流は、第1及び第2の加熱炉の高温の壁面に沿ってそれぞれ発生するので、吸気手段の吸気口を、第1及び第2の加熱炉のうち少なくとも一方の加熱炉の上方に配置することにより、浮遊物を効率よく吸引除去することができる。 According to one aspect of the present invention, the updraft generated in the first clean room is generated along the hot wall surfaces of the first and second heating furnaces, respectively. By placing the second heating furnace above at least one of the heating furnaces, the suspended matter can be efficiently removed by suction.
本発明の一態様は、前記吸気手段の吸気口は、前記第1の加熱炉又は前記第2の加熱炉のうち少なくとも一方の加熱炉に備えられた基板搬入搬出用扉の上方に配置されていることが好ましい。 In one aspect of the present invention, the intake port of the intake means is disposed above a substrate loading / unloading door provided in at least one of the first heating furnace and the second heating furnace. Preferably it is.
本発明の一態様によれば、基板搬入搬出用扉の摺動部から発生した微小な金属粉を、上昇気流に乗せてそのまま吸気口から吸引除去することができる。これにより、前記金属粉を効率よく吸引除去することができる。 According to one aspect of the present invention, minute metal powder generated from the sliding portion of the substrate loading / unloading door can be sucked and removed from the intake port as it is on the rising airflow. Thereby, the said metal powder can be efficiently suction-removed.
本発明の一態様は、前記塗布手段、前記第1の加熱炉、前記第2の加熱炉、及び前記第1のクリーンルームは、第2のクリーンルームに設置され、前記第1のクリーンルームは、前記第2のクリーンルームの清浄空気を浄化させて第1のクリーンルームに供給する浄化手段を備えることが好ましい。 In one embodiment of the present invention, the coating unit, the first heating furnace, the second heating furnace, and the first clean room are installed in a second clean room, and the first clean room is the first clean room. It is preferable to provide purification means for purifying the clean air in the second clean room and supplying it to the first clean room.
本発明の一態様によれば、塗布手段、第1及び第2の加熱炉、第1のクリーンルームを第2のクリーンルームに設置したので、塗布手段による硬化性樹脂組成物の塗布時においても、硬化性樹脂組成物に異物が付着することを抑制することができ、また、第1及び第2の加熱炉による硬化性樹脂組成物層の加熱処理時においても、硬化性樹脂組成物層に異物が付着することを抑制することができる。更に、本発明の一態様によれば、第2のクリーンルームの清浄度の高い清浄空気を、浄化手段によって更に浄化して第1のクリーンルームに供給する。これにより、浄化手段の負荷を上げることなく、清浄度の高い清浄空気を第1のクリーンルームに供給することができる。 According to one aspect of the present invention, since the coating means, the first and second heating furnaces, and the first clean room are installed in the second clean room, the curing is performed even when the curable resin composition is applied by the coating means. It is possible to prevent foreign matter from adhering to the curable resin composition, and foreign matter is present in the curable resin composition layer even during the heat treatment of the curable resin composition layer in the first and second heating furnaces. It can suppress adhering. Furthermore, according to one aspect of the present invention, the clean air having high cleanliness in the second clean room is further purified by the purifying means and supplied to the first clean room. Thereby, clean air with high cleanliness can be supplied to the first clean room without increasing the load of the purifying means.
本発明の一態様は、前記樹脂層付き基板の製造装置は、前記基板に前記樹脂層を介してガラス基板を貼り付けてガラス積層体を製造するために使用される、樹脂層付き基板を製造する装置であることが好ましい。 In one embodiment of the present invention, the apparatus for manufacturing a substrate with a resin layer manufactures a substrate with a resin layer, which is used to manufacture a glass laminate by attaching a glass substrate to the substrate via the resin layer. It is preferable that it is an apparatus.
本発明の一態様は、本発明の樹脂層付き基板の製造装置によって製造された樹脂層付き基板とガラス基板とを、前記樹脂層を介して貼り付けることにより、積層体を製造することを特徴とする積層体の製造方法を提供する。 One embodiment of the present invention is characterized in that a laminated body is manufactured by attaching a substrate with a resin layer and a glass substrate manufactured by the manufacturing apparatus for a substrate with a resin layer of the present invention via the resin layer. A method for producing a laminate is provided.
本発明の一態様は、本発明の樹脂層付き基板の製造装置によって製造された樹脂層付き基板とガラス基板とを、樹脂層を介して貼り付けることにより積層体を構成し、前記ガラス基板の露出面に機能層を形成する機能層形成工程と、前記機能層が形成された前記ガラス基板から前記樹脂層付き基板を分離する分離工程と、を有することを特徴とする電子デバイスの製造方法を提供する。 In one embodiment of the present invention, a laminated body is formed by attaching a resin layer-coated substrate and a glass substrate manufactured by the resin layer-coated substrate manufacturing apparatus of the present invention via a resin layer. A method for producing an electronic device, comprising: a functional layer forming step of forming a functional layer on an exposed surface; and a separation step of separating the substrate with the resin layer from the glass substrate on which the functional layer is formed. provide.
以上説明したように本発明の樹脂層付き基板の製造装置及び積層体の製造方法並びに電子デバイスの製造方法によれば、硬化性樹脂組成物層に異物が付着することを抑制することができる。 As described above, according to the apparatus for manufacturing a substrate with a resin layer, the method for manufacturing a laminate, and the method for manufacturing an electronic device according to the present invention, it is possible to suppress foreign matter from adhering to the curable resin composition layer.
以下、添付図面に従って本発明に係る樹脂層付き基板の製造装置及び積層体の製造方法並びに電子デバイスの製造方法の好ましい実施形態について説明する。 Hereinafter, preferred embodiments of a manufacturing apparatus for a substrate with a resin layer, a manufacturing method for a laminate, and a manufacturing method for an electronic device according to the present invention will be described with reference to the accompanying drawings.
図1は、本発明の実施形態に係る樹脂層付き基板の製造装置10の平面図、図2は、図1の矢印A方向から見た製造装置10の正面図である。 FIG. 1 is a plan view of a manufacturing apparatus 10 for a substrate with a resin layer according to an embodiment of the present invention, and FIG. 2 is a front view of the manufacturing apparatus 10 as viewed from the direction of arrow A in FIG.
図3は、製造装置10による樹脂層付き基板の製造工程を示したフローチャートである。図4は、図3のフローチャートに従って樹脂層付き基板が製造されていくその過程を示した説明図である。 FIG. 3 is a flowchart showing a manufacturing process of the substrate with a resin layer by the manufacturing apparatus 10. FIG. 4 is an explanatory view showing the process of manufacturing a substrate with a resin layer according to the flowchart of FIG.
〔樹脂層付き基板の製造装置10〕
図1、図2に示す製造装置10は、塗布装置(塗布手段)12、プリベーク装置(第1の加熱炉)14、ポストベーク装置(第2の加熱炉)16、及び基板搬送用のロボット(搬送手段)18を備えて構成される。
[Production apparatus 10 for substrate with resin layer]
1 and 2 includes a coating device (coating means) 12, a pre-baking device (first heating furnace) 14, a post-baking device (second heating furnace) 16, and a substrate transfer robot ( Conveying means) 18 is provided.
また、製造装置10は、塗布装置12、プリベーク装置14、及びポストベーク装置16に包囲されたブース(第1のクリーンルーム)20を備え、ブース20の室内にロボット18が設置されている。ブース20は、樹脂製又はガラス製の透明パネルによって壁面及び天井面が構成されており、その天井面には、ファンフィルタユニット(浄化手段)22が設置される。ファンフィルタユニット22からの清浄空気は、図2の矢印Bで示すダウンフローによってブース20の室内全体に供給される。 The manufacturing apparatus 10 includes a booth (first clean room) 20 surrounded by the coating apparatus 12, the pre-bake apparatus 14, and the post-bake apparatus 16, and a robot 18 is installed in the booth 20. The booth 20 has a wall surface and a ceiling surface made of a resin or glass transparent panel, and a fan filter unit (purifying means) 22 is installed on the ceiling surface. The clean air from the fan filter unit 22 is supplied to the entire interior of the booth 20 by the downflow indicated by the arrow B in FIG.
更に、塗布装置12、プリベーク装置14、ポストベーク装置16、及びブース20は、クリーンルーム(第2のクリーンルーム)24に設置され、製造装置10の全体の雰囲気が所定の清浄度に維持されている。 Furthermore, the coating device 12, the pre-baking device 14, the post-baking device 16, and the booth 20 are installed in a clean room (second clean room) 24, and the entire atmosphere of the manufacturing apparatus 10 is maintained at a predetermined cleanliness.
更にまた、図1に示すようにブース20の天井面には、複数の吸気口26が備えられ、これらの吸気口26は、図2に示す排気管28及び吸気用ポンプ30に接続されている。すなわち、吸気口26、排気管28、及び吸気用ポンプ30からなる吸気装置(吸引手段)32によって、ブース20の室内の空気が強制的に吸気されるように構成されている。吸気装置32の機能については後述する。なお、図1、図2に示した製造装置10の構成は一例であり、例えば、塗布装置12、プリベーク装置14、ポストベーク装置16が複数台設置されている形態も含むものである。 Furthermore, as shown in FIG. 1, a plurality of air intakes 26 are provided on the ceiling surface of the booth 20, and these air intakes 26 are connected to the exhaust pipe 28 and the intake pump 30 shown in FIG. . That is, the air in the booth 20 is forcibly taken in by the intake device (suction means) 32 including the intake port 26, the exhaust pipe 28, and the intake pump 30. The function of the intake device 32 will be described later. The configuration of the manufacturing apparatus 10 shown in FIGS. 1 and 2 is an example, and includes, for example, a configuration in which a plurality of coating apparatuses 12, pre-baking apparatuses 14, and post-baking apparatuses 16 are installed.
一方、図3に示すように、樹脂層付き基板の製造工程は、塗布工程S102、搬出・搬入工程S104、第1の加熱工程S106、搬出・搬入工程S108、及び第2の加熱工程S110を備える。これらの工程を経ることにより、図4に示した樹脂層付き基板34が製造される。 On the other hand, as shown in FIG. 3, the manufacturing process of the substrate with a resin layer includes a coating process S102, a carry-out / carry-in process S104, a first heating process S106, a carry-out / carry-in process S108, and a second heating process S110. . Through these steps, the substrate 34 with a resin layer shown in FIG. 4 is manufactured.
〔積層体の製造方法〕
樹脂層付き基板34は、製造装置10から積層装置36に移送され、積層装置36によって樹脂層付き基板34の樹脂層38にガラス基板40が着脱自在に貼り付けられる。これにより、ガラス積層体(積層体)42が構成される。ガラス積層体42は、積層装置36の後段に配置された検査装置44によって、樹脂層38とガラス基板40との界面に存在する気泡の個数が検出される。
[Method for producing laminate]
The substrate 34 with the resin layer is transferred from the manufacturing apparatus 10 to the laminating apparatus 36, and the glass substrate 40 is detachably attached to the resin layer 38 of the substrate 34 with the resin layer by the laminating apparatus 36. Thereby, the glass laminated body (laminated body) 42 is comprised. In the glass laminate 42, the number of bubbles present at the interface between the resin layer 38 and the glass substrate 40 is detected by an inspection device 44 disposed at the subsequent stage of the lamination device 36.
検査装置44によって品質が保証されたガラス積層体42は、電子デバイスの製造工場であるディスプレイ製造工場にて、ガラス基板40の表面に機能層が形成される(機能層形成工程)。その後、機能層が形成されたガラス基板40から樹脂層付き基板34が分離される(分離工程)。これにより、機能層が形成されたガラス基板40のみを製品ガラスとして取得することができる(電子デバイスの製造方法)。 In the glass laminate 42 whose quality is guaranteed by the inspection apparatus 44, a functional layer is formed on the surface of the glass substrate 40 in a display manufacturing factory which is an electronic device manufacturing factory (functional layer forming step). Thereafter, the substrate 34 with a resin layer is separated from the glass substrate 40 on which the functional layer is formed (separation step). Thereby, only the glass substrate 40 in which the functional layer was formed can be acquired as product glass (electronic device manufacturing method).
次に、製造装置10を構成する各装置の製造工程を詳説する。 Next, the manufacturing process of each apparatus constituting the manufacturing apparatus 10 will be described in detail.
〈塗布装置12による塗布工程S102〉
塗布装置12によって行われる図3の塗布工程S102は、硬化性樹脂と溶媒とを含む硬化性樹脂組成物を基板46(図4参照)の片面(ここでは上面という)に塗布して、基板46の片面に硬化性樹脂組成物層48を形成する工程である。塗布工程S102を経ることにより、基板46の上面に硬化性樹脂組成物層48が形成された硬化性樹脂組成物層48付きの基板46が得られる。
<Coating process S102 by coating device 12>
In the coating step S102 of FIG. 3 performed by the coating apparatus 12, a curable resin composition containing a curable resin and a solvent is applied to one surface (referred to herein as the upper surface) of the substrate 46 (refer to FIG. 4). This is a step of forming the curable resin composition layer 48 on one side. By passing through application | coating process S102, the board | substrate 46 with the curable resin composition layer 48 in which the curable resin composition layer 48 was formed in the upper surface of the board | substrate 46 is obtained.
基板46の上面に硬化性樹脂組成物を塗布する方法は特に制限されず、公知の方法を採用できる。例えば、スプレーコート法、ダイコート法、スピンコート法、ディップコート法、ロールコート法、バーコート法、スクリーン印刷法、グラビアコート法等が挙げられる。硬化性樹脂組成物層48の厚みは特に制限されないが、一例として20μm程度の厚さで塗布される。 The method in particular of apply | coating curable resin composition to the upper surface of the board | substrate 46 is not restrict | limited, A well-known method is employable. Examples thereof include spray coating, die coating, spin coating, dip coating, roll coating, bar coating, screen printing, and gravure coating. Although the thickness of the curable resin composition layer 48 is not particularly limited, it is applied with a thickness of about 20 μm as an example.
次に、製造装置10にて使用される基板46、前記硬化性樹脂、及び前記溶媒について説明する。 Next, the board | substrate 46 used in the manufacturing apparatus 10, the said curable resin, and the said solvent are demonstrated.
《基板46》
基板46は、表面及び裏面の2つの主面を有し、樹脂層38と協働して、ガラス基板40を支持して補強し、電子デバイス用の機能層形成工程において機能層の形成の際にガラス基板40の変形、傷付き、破損などを防止する。
<< Substrate 46 >>
The substrate 46 has two main surfaces, a front surface and a back surface, and cooperates with the resin layer 38 to support and reinforce the glass substrate 40. When the functional layer is formed in the functional layer forming process for the electronic device, In addition, the glass substrate 40 is prevented from being deformed, scratched or broken.
基板46としては、例えば、ガラス板、プラスチック板、SUS板、セラミック板等の金属板等が用いられる。基板46は、機能層形成工程が熱処理を伴う場合、ガラス基板40との線膨張係数の差の小さい材料で形成されることが好ましく、ガラス基板40と同一材料で形成されることがより好ましい。よって、基板46はガラス板であることが好ましい。 As the substrate 46, for example, a glass plate, a plastic plate, a SUS plate, a metal plate such as a ceramic plate, or the like is used. When the functional layer forming step involves heat treatment, the substrate 46 is preferably formed of a material having a small difference in linear expansion coefficient from the glass substrate 40, and more preferably formed of the same material as the glass substrate 40. Therefore, the substrate 46 is preferably a glass plate.
基板46の厚さは、ガラス基板40よりも厚くてもよいし、薄くてもよい。好ましくは、ガラス基板40の厚さ、樹脂層38の厚さ、及びガラス積層体42の厚さに基づいて、基板46の厚さが選択される。例えば、現行の機能層形成工程が厚さ0.5mmのガラス積層体を処理するように設計されたものであって、ガラス基板40の厚さと樹脂層38の厚さとの和が0.1mmの場合、基板46の厚さは0.4mmとなる。基板46の厚さは、通常の場合、0.2〜5.0mmであることが好ましい。 The thickness of the substrate 46 may be thicker or thinner than the glass substrate 40. Preferably, the thickness of the substrate 46 is selected based on the thickness of the glass substrate 40, the thickness of the resin layer 38, and the thickness of the glass laminate 42. For example, the current functional layer forming process is designed to process a glass laminate having a thickness of 0.5 mm, and the sum of the thickness of the glass substrate 40 and the thickness of the resin layer 38 is 0.1 mm. In this case, the thickness of the substrate 46 is 0.4 mm. In general, the thickness of the substrate 46 is preferably 0.2 to 5.0 mm.
基板46がガラス板の場合、ガラス板の厚さは、扱いやすく、割れにくいなどの理由から、0.08mm以上であることが好ましい。また、ガラス板の厚さは、機能層形成後に剥離する際に、割れずに適度に撓むような剛性が望まれる理由から、1.0mm以下であることが好ましい。 When the board | substrate 46 is a glass plate, it is preferable that the thickness of a glass plate is 0.08 mm or more from the reasons of being easy to handle and being hard to break. Moreover, it is preferable that the thickness of a glass plate is 1.0 mm or less from the reason for request | requiring the rigidity which bends moderately, without cracking, when peeling after functional layer formation.
《硬化性樹脂》
硬化性樹脂として、シリコーン樹脂、ポリイミド樹脂、及びシリコーンゾルゲルを例示する。以下、それらの組成を説明する。
《Curable resin》
Examples of the curable resin include a silicone resin, a polyimide resin, and a silicone sol gel. Hereinafter, their compositions will be described.
(シリコーン樹脂)
下記線状オルガノポリシロキサン(a)と下記線状オルガノポリシロキサン(b)とを含む硬化性シリコーン樹脂組成物の硬化物。
(Silicone resin)
Hardened | cured material of the curable silicone resin composition containing the following linear organopolysiloxane (a) and the following linear organopolysiloxane (b).
線状オルガノポリシロキサン(a):アルケニル基を1分子あたり少なくとも2個有する線状オルガノポリシロキサン。 Linear organopolysiloxane (a): A linear organopolysiloxane having at least two alkenyl groups per molecule.
線状オルガノポリシロキサン(b):ケイ素原子に結合した水素原子を1分子あたり少なくとも3個有する線状オルガノポリシロキサンであって、かつ、前記ケイ素原子に結合した水素原子の少なくとも1個が分子末端のケイ素原子に存在している線状オルガノポリシロキサン。 Linear organopolysiloxane (b): a linear organopolysiloxane having at least three hydrogen atoms bonded to silicon atoms per molecule, and at least one of the hydrogen atoms bonded to the silicon atoms is a molecular end. A linear organopolysiloxane present in the silicon atom.
(ポリイミド樹脂)
下記式(1)で表される、テトラカルボン酸類の残基(X)とジアミン類の残基(A)とを有する繰り返し単位からなり、かつ、前記テトラカルボン酸類の残基(X)の総数の50モル%以上が下記式(X1)〜(X4)で表される基からなる群から選ばれる少なくとも1種の基からなり、前記ジアミン類の残基(A)の総数の50モル%以上が下記式(A1)〜(A7)で表される基からなる群から選ばれる少なくとも1種の基からなるポリイミド樹脂。
(Polyimide resin)
The total number of residues (X) of the tetracarboxylic acids, comprising a repeating unit having the residue (X) of tetracarboxylic acids and the residue (A) of diamines represented by the following formula (1) Of at least one group selected from the group consisting of groups represented by the following formulas (X1) to (X4), and 50 mol% or more of the total number of residues (A) of the diamines Is a polyimide resin comprising at least one group selected from the group consisting of groups represented by the following formulas (A1) to (A7).
(式(1)中、Xはテトラカルボン酸類からカルボキシ基を除いた4価の基を、Aはジアミン類からアミノ基を除いた2価の基を表す。) (In formula (1), X represents a tetravalent group obtained by removing a carboxy group from tetracarboxylic acids, and A represents a divalent group obtained by removing an amino group from diamines.)
(シリコーンゾルゲル)
下記T3で表されるオルガノシロキシ単位を有し、全オルガノシロキシ単位に対する下記T3で表されるオルガノシロキシ単位の合計割合が80〜100モル%であり、下記T3中のRがフェニル基であるオルガノシロキシ単位(A−1)と、下記T3中のRがメチル基であるオルガノシロキシ単位(B−1)とのモル比((A−1)/(B−1))が80/20〜20/80であるシリコーン樹脂。
(Silicone sol gel)
Organosiloxane having an organosiloxy unit represented by the following T3, the total proportion of the organosiloxy unit represented by the following T3 with respect to all the organosiloxy units being 80 to 100 mol%, and R in the following T3 being a phenyl group The molar ratio ((A-1) / (B-1)) between the siloxy unit (A-1) and the organosiloxy unit (B-1) in which R in the following T3 is a methyl group is 80/20 to 20 / 80 silicone resin.
T3:R−SiO3/2(式中、Rは、フェニル基またはメチル基を表す。)
《溶媒》
溶媒としては、各種成分を容易に溶解でき、かつ、容易に揮発除去させることのできる溶媒であることが好ましい。具体的には、酢酸ブチル、ヘプタン、2−ヘプタノン、1−メトキシ−2−プロパノールアセテート、トルエン、キシレン、THF、クロロホルム等を例示することができる。なかでも、飽和炭化水素が好ましく、各種の飽和炭化水素(直鎖状飽和炭化水素、分岐鎖状飽和炭化水素、脂環式飽和炭化水素)の1種または2種以上から実質的になる各種の飽和炭化水素溶剤が用いられる。
T3: R—SiO 3/2 (wherein R represents a phenyl group or a methyl group)
"solvent"
The solvent is preferably a solvent that can easily dissolve various components and can be easily volatilized and removed. Specifically, butyl acetate, heptane, 2-heptanone, 1-methoxy-2-propanol acetate, toluene, xylene, THF, chloroform and the like can be exemplified. Of these, saturated hydrocarbons are preferable, and various types of hydrocarbons substantially composed of one or more of various saturated hydrocarbons (linear saturated hydrocarbons, branched saturated hydrocarbons, alicyclic saturated hydrocarbons). Saturated hydrocarbon solvents are used.
〈ロボット18による搬出・搬入工程S104〉
図3に示した搬出・搬入工程S104は、塗布装置12から硬化性樹脂組成物層48付きの基板46を搬出し、プリベーク装置14に搬入する工程である。この際には、まず、図2に示した塗布装置12のシャッタ50を図2の矢印C方向に上昇させて、塗布装置12の搬入搬出口52を開放する。次に、ロボット18の吸着パッド53を搬入搬出口52から塗布装置12の内部に挿入し、吸着パッド53によって硬化性樹脂組成物層48付きの基板46を保持した後、搬入搬出口52からブース20の室内に図1の矢印D方向に搬出する。次に、プリベーク装置14のシャッタ(基板搬入搬出用扉)54を図2の矢印E方向に上昇させて、プリベーク装置14の搬入搬出口56を開放する。この後、ロボット18によって硬化性樹脂組成物層48付きの基板46を、プリベーク装置14の内部に図1の矢印F方向に搬入する。
<Unloading and loading process S104 by robot 18>
The carry-out / carry-in step S104 shown in FIG. 3 is a step in which the substrate 46 with the curable resin composition layer 48 is carried out from the coating device 12 and carried into the prebaking device 14. In this case, first, the shutter 50 of the coating apparatus 12 shown in FIG. 2 is raised in the direction of arrow C in FIG. 2 to open the carry-in / out port 52 of the coating apparatus 12. Next, after the suction pad 53 of the robot 18 is inserted into the coating apparatus 12 from the carry-in / out port 52 and the substrate 46 with the curable resin composition layer 48 is held by the suction pad 53, the booth is moved from the carry-in / out port 52. It is carried out in the direction of arrow D in FIG. Next, the shutter (substrate loading / unloading door) 54 of the prebaking device 14 is raised in the direction of arrow E in FIG. 2 to open the loading / unloading port 56 of the prebaking device 14. Thereafter, the robot 18 carries the substrate 46 with the curable resin composition layer 48 into the prebaking apparatus 14 in the direction of arrow F in FIG.
なお、シャッタ50は、次の基板46が塗布装置12の内部に搬送されると閉じられ、また、シャッタ54は、ロボット18の吸着パッド53がプリベーク装置14から矢印G方向に退避されると閉じられる。また、搬入搬出口52、56に対向するブース20の壁面には、ロボット18の吸着パッド53を通過させるための開口部が備えられている。 The shutter 50 is closed when the next substrate 46 is transported into the coating apparatus 12, and the shutter 54 is closed when the suction pad 53 of the robot 18 is retracted from the prebaking apparatus 14 in the arrow G direction. It is done. Moreover, the wall surface of the booth 20 facing the loading / unloading exits 52 and 56 is provided with an opening for allowing the suction pad 53 of the robot 18 to pass therethrough.
〈プリベーク装置14による第1の加熱工程S106〉
第1の加熱工程S106は、硬化性樹脂組成物層48付きの基板46の上方に加熱プレート(不図示)を配置して、排気を行いながら加熱処理を行い、硬化性樹脂組成物層48に含有する溶媒を除去する工程である。第1の加熱工程を経ることにより、硬化性樹脂組成物層48に残存している溶媒が除去されるとともに、適切な温度で加熱することで硬化性樹脂組成物層48の表面が、図4の如く平滑化される。
<First heating step S106 by the pre-baking device 14>
In the first heating step S106, a heating plate (not shown) is disposed above the substrate 46 with the curable resin composition layer 48, heat treatment is performed while exhausting, and the curable resin composition layer 48 is formed. This is a step of removing the contained solvent. By passing through the first heating step, the solvent remaining in the curable resin composition layer 48 is removed, and the surface of the curable resin composition layer 48 is heated at an appropriate temperature, so that the surface of FIG. It is smoothed as follows.
硬化性樹脂組成物層48の組成が硬化性シリコーンの場合には、凝集破壊をより抑制できる点で、150〜170℃が好ましい。加熱時間は特に制限されず、使用される溶媒や硬化性シリコーンの種類により適宜最適な条件が選択されるが、残存溶媒の除去性、および、生産性の点から、2〜3分が好ましい。 When the composition of the curable resin composition layer 48 is curable silicone, 150 to 170 ° C. is preferable in that the cohesive failure can be further suppressed. The heating time is not particularly limited, and optimum conditions are appropriately selected depending on the type of the solvent and curable silicone used, but 2 to 3 minutes are preferable from the viewpoints of removability of residual solvent and productivity.
〈ロボット18による搬出・搬入工程S108〉
図3に示した搬出・搬入工程S108は、プリベーク装置14によってプリベーク処理された硬化性樹脂組成物層48付きの基板46を搬出し、ポストベーク装置16に搬入する工程である。この際には、まず、プリベーク装置14のシャッタ54を図2の矢印E方向に上昇させて、プリベーク装置14の搬入搬出口56を開放する。次に、ロボット18の吸着パッド53を搬入搬出口56からプリベーク装置14の内部に挿入し、吸着パッド53によって硬化性樹脂組成物層48付きの基板46を保持した後、搬入搬出口56からブース20の室内に図1の矢印G方向に搬出する。次に、ポストベーク装置16のシャッタ(基板搬入搬出用扉)58を開放して、ポストベーク装置16の搬入搬出口60を開放する。この後、ロボット18によって硬化性樹脂組成物層48付きの基板46を、ポストベーク装置16の内部に図1の矢印H方向に搬入する。
<Unloading and loading process S108 by robot 18>
The unloading / loading step S108 shown in FIG. 3 is a step of unloading the substrate 46 with the curable resin composition layer 48 pre-baked by the pre-baking device 14 and loading it into the post-baking device 16. In this case, first, the shutter 54 of the prebaking device 14 is raised in the direction of arrow E in FIG. 2 to open the loading / unloading port 56 of the prebaking device 14. Next, the suction pad 53 of the robot 18 is inserted into the prebaking device 14 from the carry-in / out port 56, and the substrate 46 with the curable resin composition layer 48 is held by the suction pad 53, and then the booth is loaded from the carry-in / out port 56. It is carried out in the direction of arrow G in FIG. Next, the shutter (substrate loading / unloading door) 58 of the post-baking device 16 is opened, and the loading / unloading port 60 of the post-baking device 16 is opened. Thereafter, the robot 18 carries the substrate 46 with the curable resin composition layer 48 into the post-baking apparatus 16 in the direction of arrow H in FIG.
なお、シャッタ54は、硬化性樹脂組成物層48付きの基板46が搬出されると直ちに閉じられ、シャッタ58は、ロボット18の吸着パッド53がポストベーク装置16から矢印I方向に退避されると直ちに閉じられる。また、搬入搬出口60に対向するブース20の壁面には、ロボット18の吸着パッド53を通過させるための開口部が備えられている。 The shutter 54 is closed immediately after the substrate 46 with the curable resin composition layer 48 is carried out, and the shutter 58 is moved away from the post-bake device 16 in the direction of arrow I when the suction pad 53 of the robot 18 is retracted. Closed immediately. Further, an opening for allowing the suction pad 53 of the robot 18 to pass through is provided on the wall surface of the booth 20 facing the carry-in / out port 60.
<ポストベーク装置16による第2の加熱工程S110>
第2の加熱工程S110は、硬化性樹脂組成物層48付きの基板46に対し、プリベーク装置14よりも高い温度で加熱処理を行い、樹脂層38を得る工程である。第2の加熱工程を経ることにより、硬化性樹脂組成物層48に残存している溶媒が更に除去されることで硬化性樹脂の硬化が進行し、図4に示した樹脂層38が得られる。つまり、樹脂層付き基板34が得られる。
<Second Heating Step S110 by Post Bake Device 16>
The second heating step S110 is a step in which the substrate 46 with the curable resin composition layer 48 is subjected to heat treatment at a temperature higher than that of the prebaking device 14 to obtain the resin layer 38. By passing through the second heating step, the solvent remaining in the curable resin composition layer 48 is further removed, whereby the curing of the curable resin proceeds, and the resin layer 38 shown in FIG. 4 is obtained. . That is, the substrate 34 with a resin layer is obtained.
このようにプリベーク装置14によってプリベーク処理を実施した後、ポストベーク装置16によってポストベーク処理を実施することにより、形成される樹脂層38に残存する溶媒をさらに除去することができるので、樹脂層38の表面面状がより平坦となり、ガラス基板40との密着性がより向上する。 Thus, after performing the pre-baking process by the pre-baking apparatus 14, the solvent remaining in the resin layer 38 to be formed can be further removed by performing the post-baking process by the post-baking apparatus 16, so that the resin layer 38 The surface shape of the substrate becomes flatter and the adhesion to the glass substrate 40 is further improved.
第2の加熱工程では、第1の加熱工程S106の温度よりも高い温度で加熱処理を実施するが、双方の温度の差は特に制限されず、使用される硬化性樹脂や溶媒の種類により適宜最適な条件が選択される。例えば、硬化性シリコーン樹脂層の場合には、凝集破壊がより抑制されるに基づいて、10〜100℃が好ましく、30〜70℃がより好ましい。 In the second heating step, the heat treatment is performed at a temperature higher than the temperature of the first heating step S106, but the difference between the two temperatures is not particularly limited, and is appropriately determined depending on the type of curable resin and solvent used. Optimal conditions are selected. For example, in the case of a curable silicone resin layer, 10 to 100 ° C is preferable and 30 to 70 ° C is more preferable based on the fact that cohesive failure is further suppressed.
なかでも、第2の加熱工程の温度としては、210℃超であることが好ましい。シリコーン樹脂層での溶媒除去、及び硬化反応がより優れる点で、210℃超250℃以下が好ましい。加熱時間は、使用される材料により適宜最適な条件が選択されるが、生産性および溶媒の除去性の点から20分程度が好ましい。 Especially, it is preferable that it is more than 210 degreeC as temperature of a 2nd heating process. From the viewpoint that the solvent removal and the curing reaction in the silicone resin layer are more excellent, the temperature is more than 210 ° C. and not more than 250 ° C. The heating time is appropriately selected depending on the material used, but is preferably about 20 minutes from the viewpoint of productivity and solvent removability.
〔実施形態の製造装置10の特徴〕
〈第1の特徴〉
図1の如く、実施形態の製造装置10は、塗布装置12、プリベーク装置14、ポストベーク装置16、及びロボット18を備え、かつ塗布装置12、プリベーク装置14、及びポストベーク装置16に包囲されたブース20の室内にロボット18が設置されていることを前提とし、図2の如く、ブース20の室内の空気を吸気してブース20の室内の浮遊物62を除去する吸気装置32を更に備えたことにある。
[Features of Manufacturing Apparatus 10 of Embodiment]
<First feature>
As shown in FIG. 1, the manufacturing apparatus 10 of the embodiment includes a coating device 12, a pre-baking device 14, a post-baking device 16, and a robot 18, and is surrounded by the coating device 12, the pre-baking device 14, and the post-baking device 16. Assuming that the robot 18 is installed in the room of the booth 20, as shown in FIG. 2, the apparatus further includes an air intake device 32 that draws in air in the room of the booth 20 and removes suspended matter 62 in the room of the booth 20. There is.
前記前提装置では、ロボット18による基板46の搬送中に、硬化性樹脂組成物層48に異物が付着することを抑制することが困難である。この異物は、ブース20で発生した、図2の矢印Jで示す上昇気流によって床面から巻き上げられた浮遊物62を主としている。また、ブース20に存在する発塵源(シャッタ50、54、58)から発生した金属粉等の異物、及びブース20に入室したオペレータからの発塵も含まれる。 In the premise apparatus, it is difficult to prevent foreign matter from adhering to the curable resin composition layer 48 during the transfer of the substrate 46 by the robot 18. The foreign matter mainly includes the suspended matter 62 generated from the floor surface by the updraft generated by the booth 20 and indicated by the arrow J in FIG. Further, foreign matter such as metal powder generated from a dust generation source (shutters 50, 54, and 58) existing in the booth 20 and dust generation from an operator who entered the booth 20 are also included.
実施形態の製造装置10によれば、吸気装置32によってブース20の空気を強制的に吸気し、ブース20から浮遊物62を吸引除去するので、硬化性樹脂組成物層48に異物が付着することを大幅に抑制することができる。すなわち、実施形態の製造装置10は、高い清浄度に維持されているブース20の空気を、浮遊物62を吸引除去するために強制的に吸気して排気することを特徴としている。なお、吸気装置32による吸気量は、ファンフィルタユニット22からブース20の室内に供給される給気量に応じて設定される。 According to the manufacturing apparatus 10 of the embodiment, the air in the booth 20 is forcibly sucked by the air intake device 32 and the suspended matter 62 is sucked and removed from the booth 20, so that foreign matter adheres to the curable resin composition layer 48. Can be greatly suppressed. In other words, the manufacturing apparatus 10 according to the embodiment is characterized in that the air in the booth 20 maintained at a high cleanness is forcibly sucked and exhausted in order to suck and remove the suspended matter 62. The intake air amount by the intake device 32 is set according to the air supply amount supplied from the fan filter unit 22 into the booth 20.
〈第2の特徴〉
吸気装置32の吸気口26が、ブース20の天井に備えられたことにある。
<Second feature>
The suction port 26 of the suction device 32 is provided in the ceiling of the booth 20.
ブース20で発生した、浮遊物62を大量に含む、矢印Jの上昇気流を、ブース20の天井に備えられた吸気口26を介して排気するので、上昇気流の流れに沿って上昇気流をブース20から効率よく排気できる。これにより、浮遊物62を効率よく吸引除去することができる。 Ascending airflow generated by the booth 20 and containing a large amount of suspended matter 62 and exhausted by the arrow J is exhausted through the air intake 26 provided on the ceiling of the booth 20, so that the ascending airflow is boothed along the upward airflow. 20 can be efficiently exhausted. Thereby, the suspended | floating matter 62 can be efficiently suction-removed.
〈第3の特徴〉
図1、図2の如く、吸気装置32の吸気口26が、プリベーク装置14又はポストベーク装置16のうち少なくとも一方の加熱炉の上方に配置されていることにある。
<Third feature>
As shown in FIG. 1 and FIG. 2, the intake port 26 of the intake device 32 is disposed above at least one of the pre-baking device 14 and the post-baking device 16.
ブース20で発生する、矢印Jの上昇気流は、プリベーク装置14及びポストベーク装置16の高温の壁面に沿ってそれぞれ発生するので、吸気装置32の吸気口26を、プリベーク装置14又はポストベーク装置16のうち少なくとも一方の加熱炉の上方に配置することにより、浮遊物62を効率よく吸引除去することができる。なお、図1では、プリベーク装置14及びポストベーク装置16の上方に複数の吸気口26が配置されているので、浮遊物62の付着を更に抑制することができる。 Since the upward air flow indicated by the arrow J generated in the booth 20 is generated along the hot wall surfaces of the pre-baking device 14 and the post-baking device 16, the intake port 26 of the intake device 32 is connected to the pre-baking device 14 or the post-baking device 16. By disposing them above at least one of the heating furnaces, the suspended matter 62 can be efficiently removed by suction. In addition, in FIG. 1, since the several inlet 26 is arrange | positioned above the prebaking apparatus 14 and the post-baking apparatus 16, adhesion of the floating substance 62 can further be suppressed.
〈第4の特徴〉
本発明の一態様は、吸気装置32の吸気口26が、プリベーク装置14又はポストベーク装置16のうち少なくとも一方の加熱炉に備えられたシャッタ54、58の上方に配置されていることにある。
<Fourth feature>
One aspect of the present invention is that the intake port 26 of the intake device 32 is disposed above the shutters 54 and 58 provided in at least one of the pre-baking device 14 and the post-baking device 16.
シャッタ54、58の摺動部から発生した微小な金属粉を、矢印Jの上昇気流に乗せてそのまま吸気口26から吸引除去することができる。これにより、金属粉を効率よく吸引除去することができる。なお、図1、2では、シャッタ54、58の上方に複数の吸気口26が配置されているので、浮遊物62の付着を更に抑制することができる。 The minute metal powder generated from the sliding portions of the shutters 54 and 58 can be sucked and removed from the intake port 26 as it is on the ascending current of the arrow J. Thereby, metal powder can be efficiently removed by suction. In FIGS. 1 and 2, since the plurality of air inlets 26 are disposed above the shutters 54 and 58, the attachment of the suspended matter 62 can be further suppressed.
〈第5の特徴〉
塗布装置12、プリベーク装置14、ポストベーク装置16、及びブース20が、クリーンルーム24に設置され、ブース20が、クリーンルーム24の清浄空気を浄化させてブースに供給するファンフィルタユニット22を備えていることにある。
<Fifth feature>
The coating device 12, the pre-baking device 14, the post-baking device 16, and the booth 20 are installed in a clean room 24, and the booth 20 includes a fan filter unit 22 that purifies clean air in the clean room 24 and supplies it to the booth. It is in.
塗布装置12、プリベーク装置14、ポストベーク装置16、及びブース20をクリーンルーム24に設置したので、塗布装置12による硬化性樹脂組成物の塗布時においても、硬化性樹脂組成物に異物が付着することを抑制することができ、また、プリベーク装置14及びポストベーク装置16による硬化性樹脂組成物層の加熱処理時においても、硬化性樹脂組成物層に異物が付着することを抑制することができる。 Since the coating device 12, the pre-baking device 14, the post-baking device 16, and the booth 20 are installed in the clean room 24, foreign matter adheres to the curable resin composition even when the coating device 12 applies the curable resin composition. In addition, even during the heat treatment of the curable resin composition layer by the pre-baking device 14 and the post-baking device 16, it is possible to suppress foreign matter from adhering to the curable resin composition layer.
更に、クリーンルーム24の清浄度の高い清浄空気を、ファンフィルタユニット22によって更に浄化してブース20に供給するので、ファンフィルタユニット22の負荷を上げることなく、清浄度の高い清浄空気をブース20に供給することができる。 Furthermore, since the clean air having a high cleanliness in the clean room 24 is further purified by the fan filter unit 22 and supplied to the booth 20, the clean air having a high cleanness is supplied to the booth 20 without increasing the load of the fan filter unit 22. Can be supplied.
10…樹脂層付き基板の製造装置、12…塗布装置、14…プリベーク装置、16…ポストベーク装置、18…ロボット、20…ブース、22…ファンフィルタユニット、24…クリーンルーム、26…吸気口、28…排気管、30…吸気用ポンプ、32…吸気装置、34…樹脂層付き基板、36…積層装置、38…樹脂層、40…ガラス基板、42…ガラス積層体、44…検査装置、46…基板、48…硬化性樹脂組成物層、50…シャッタ、52…搬入搬出口、53…吸着パッド、54…シャッタ、56…搬入搬出口、58…シャッタ、60…搬入搬出口、62…浮遊物 DESCRIPTION OF SYMBOLS 10 ... Manufacturing apparatus of the board | substrate with a resin layer, 12 ... Coating apparatus, 14 ... Prebaking apparatus, 16 ... Post-baking apparatus, 18 ... Robot, 20 ... Booth, 22 ... Fan filter unit, 24 ... Clean room, 26 ... Intake port, 28 DESCRIPTION OF SYMBOLS ... Exhaust pipe, 30 ... Intake pump, 32 ... Intake device, 34 ... Substrate with resin layer, 36 ... Laminate device, 38 ... Resin layer, 40 ... Glass substrate, 42 ... Glass laminate, 44 ... Inspection device, 46 ... Substrate, 48 ... curable resin composition layer, 50 ... shutter, 52 ... loading / unloading port, 53 ... suction pad, 54 ... shutter, 56 ... loading / unloading port, 58 ... shutter, 60 ... loading / unloading port, 62 ... floating material
Claims (8)
前記硬化性樹脂組成物層が形成された前記基板を第1の温度で加熱することにより、前記溶媒を蒸発させて前記硬化性樹脂組成物層を平滑化する第1の加熱炉と、
前記硬化性樹脂組成物層が平滑化された前記基板を前記第1の温度より高い第2の温度で加熱することにより、前記硬化性樹脂組成物層を硬化させて樹脂層を得る第2の加熱炉と、
前記塗布手段、前記第1の加熱炉、及び前記第2の加熱炉に包囲された第1のクリーンルームと、
前記第1のクリーンルームに設置され、前記塗布手段から前記第1の加熱炉に前記基板を搬送するとともに、前記第1の加熱炉から前記第2の加熱炉に前記基板を搬送する搬送手段と、
前記第1のクリーンルームの空気を吸気して第1のクリーンルームの浮遊物を除去する吸気手段と、
を備えたことを特徴とする樹脂層付き基板の製造装置。 An application means for applying a curable resin composition containing a curable resin and a solvent to one side of the substrate, and forming a curable resin composition layer on one side of the substrate;
A first heating furnace for smoothing the curable resin composition layer by evaporating the solvent by heating the substrate on which the curable resin composition layer is formed at a first temperature;
A second resin layer is obtained by curing the curable resin composition layer by heating the substrate on which the curable resin composition layer has been smoothed at a second temperature higher than the first temperature. A heating furnace;
A first clean room surrounded by the coating means, the first heating furnace, and the second heating furnace;
A transport unit installed in the first clean room, transporting the substrate from the coating unit to the first heating furnace, and transporting the substrate from the first heating furnace to the second heating furnace;
A suction means for sucking in air in the first clean room and removing floating substances in the first clean room;
An apparatus for producing a substrate with a resin layer, comprising:
前記ガラス基板の露出面に機能層を形成する機能層形成工程と、前記機能層が形成された前記ガラス基板から前記樹脂層付き基板を分離する分離工程と、を有することを特徴とする電子デバイスの製造方法。 A laminate is formed by attaching the resin layer-coated substrate and the glass substrate manufactured by the resin layer-coated substrate manufacturing apparatus according to any one of claims 1 to 6 via the resin layer,
An electronic device comprising: a functional layer forming step of forming a functional layer on an exposed surface of the glass substrate; and a separation step of separating the substrate with the resin layer from the glass substrate on which the functional layer is formed. Manufacturing method.
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