JP2016029292A - 断熱層の形成方法及びその装置 - Google Patents

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Abstract

【課題】中空粒子12が規則的に密充填された断熱層を得る。
【解決手段】中空粒子を吸着する多数の真空引き用吸引口が規則的に配列された粒子吸着面25を有する吸引部材21に中空粒子12を吸着させる工程Aと、吸着された各中空粒子12にバインダ13を塗布する工程Bと、バインダ13が塗布された中空粒子12を真空引きの解除によって粒子吸着面25から離脱させて基材1に付着させる工程Cとを備え、工程A、B、Cを順に行なうサイクルを複数回繰り返すことによって、多数の中空粒子12がバインダ13を介して積み重なった断熱層を形成する。
【選択図】図4

Description

本発明は基材に断熱層を形成する方法及びその装置に関する。
エネルギーの供給を必要とする産業機器や民生機器では、エネルギー効率を高めるために、従来より各種の断熱材が使用され、また、断熱材の研究開発も行なわれている。例えば、自動車においては、エンジンの熱効率を高めるために、燃焼室の壁面に設ける断熱層の研究開発が進められている。排気系やEGRクーラ等から廃熱を回収することも自動車の重要なニーズの一つであり、そのために効率の良い断熱材が求められている。
エンジンの燃焼室壁面に断熱層を設ける方法に関して、古くは、ZrOをはじめとする無機酸化物粒子をプラズマ溶射することが知られ、無機酸化物粒子として中空粒子を使用することも知られている。また、特許文献1には、無機酸化物の中空粒子とバインダ(例えばSi系樹脂)を混合し、スプレー等によって上記燃焼室壁面に塗布することで、バインダ中に多数の中空粒子が分散してなる断熱層を形成することが記載されている。また、多数の中空粒子を断熱層内部に所定の間隔で規則的に配列することも、特許文献2に記載されているように知られている。この特許文献2には、単分散の球状粒子を溶液に分散させたものをゆっくり濾過することによって規則的に配列した球状粒子の堆積体を得ること、そして、その堆積体の間に液状バインダを流し込んで焼成することが記載されている。
特開2014−001718号公報 WO2009/020206号公報
上述の無機酸化物粒子のプラズマ溶射によって形成された断熱層はポーラスであるため、これを、例えばエンジンの燃焼室壁に設けると、燃焼室内に噴射された燃料が断熱層に浸み込むという問題がある。つまり、燃料が断熱層に浸み込むことによってエンジンの燃焼性が悪化し、ひいては燃費が悪化するという問題である。
これに対して、バインダ中に多数の中空粒子が分散してなる断熱層の場合は、燃料の浸み込みの問題は避けられるが、スプレー等による塗布方法では、中空粒子の分散がランダムになって断熱性能にバラツキが出やすい。また、断熱層における中空粒子の充填度が高くならず、そのため、高い断熱性能を有する断熱層が得られない。
特許文献2に記載された濾過法の場合、中空粒子を規則的に配列することが可能になるかもしれないが、ゆっくりした濾過及びバインダの流し込みに時間がかかり、また、特許文献2の図6Aに示されているように、中空粒子の充填度もそれほど高くないと推測される。
そこで、本発明は、中空粒子が規則的に密充填された断熱層を得ることを課題とする。
本発明は、上記課題を解決するために、多数の中空粒子を真空引きによって吸引部材に規則的に配列した状態になるように吸着し、吸引部材から基材に移すという手法を繰り返すことにより、多数の中空粒子を規則的に積み重ねるようにした。以下、具体的に説明する。
ここに提示する断熱層の形成方法は、多数の中空粒子を有する断熱層を基材に形成する方法であって、
上記中空粒子を個々に吸着する多数の真空引き用吸引口が規則的に配列された粒子吸着面を有する吸引部材を用い、この吸引部材に上記中空粒子を吸着させる工程Aと、
上記粒子吸着面に吸着された各中空粒子にバインダを塗布する工程Bと、
上記バインダが塗布された上記中空粒子を上記真空引きの解除によって上記粒子吸着面から離脱させて上記基材に付着させる工程Cとを備え、
上記工程A、B、Cを順に行なうサイクルを複数回繰り返すことによって、多数の中空粒子が上記バインダを介して積み重なった断熱層を形成することを特徴とする。
この方法によれば、多数の中空粒子が規則的に配列され且つバインダを介して規則的に積み重なった断熱層を得ることができる。この断熱層では、中空粒子の充填度が高くなるため、断熱性能の向上に有利になる。しかも、真空引き、バインダの塗布及び真空引きの解除という単純工程の繰り返しで断熱層を形成することができるから、複雑な装置は不要であり、所要時間も長くならず、生産性の向上にも有利になる。
上記断熱層形成方法の好ましい態様は、上記工程A、B、Cを順に行なうサイクルの2回目以降では、上記工程Cにおいて、各中空粒子の中心を上記基材に前回付着させた中空粒子の中心からずらすことを特徴とする。
この態様によれば、下段の配列された中空粒子間に、つまり、相隣る中空粒子の間にできる凹所に上段の中空粒子が載るため、中空粒子の充填度が高くなり、断熱性能の向上に有利になる。
上記断熱層形成方法の別の好ましい態様は、上記吸引部材が、上記吸引口として、大径中空粒子を吸着するための大径用吸引口と小径中空粒子を吸着するための小径用吸引口とを備え、
上記粒子吸着面において、上記大径用吸引口は正方格子状又は正三角格子状に配置され、上記小径用吸引口は当該格子の各すき間の中心に配置され、且つ上記粒子吸着面は凹凸を有し、上記小径用吸引口は上記大径用吸引口よりも奥まった位置に開口しており、
さらに、上記大径中空粒子と小径中空粒子は、上記大径用吸引口及び小径用吸引口各々に吸着された状態では、上記粒子吸着面を正面視したときに互いの一部が重なり合う寸法関係にあり、
上記工程Aでは、上記小径中空粒子を吸着させた後に上記大径中空粒子を吸着させることを特徴とする。
この態様によれば、上記工程A、B、Cを順に行なうサイクルの2回目以降の上記工程Cにおいて、大径中空粒子の中心が上記基材に前回付着させた大径中空粒子の中心の上に配置されるようにすると、大径用吸引口が正方格子状に配置されるケースでは、大径中空粒子が正四角柱の各頂点に配置され、小径中空粒子が当該正四角柱の体心位置に配置された体心正方格子構造となる。一方、大径用吸引口が正三角格子状に配置されるケースでは、大径中空粒子が正三角柱の各頂点に配置され、小径中空粒子が当該正三角柱の体心位置に配置された構造となる。
いずれのケースも、正四角柱又は正三角柱の体心位置に小径中空粒子が配置されることから、中空粒子の充填度が高くなり、断熱性能の向上に有利になる。
上記断熱層形成方法のさらに別の好ましい態様は、上記サイクルを複数回繰り返した後、最後に付着させた上記中空粒子の上から上記バインダを塗布する工程を備えていることを特徴とする。
この態様によれば、断熱層最上段の中空粒子がバインダで覆われた状態になるため、この最上段の中空粒子の剥落が防止され、また、断熱層の表面を平滑に仕上げることが容易になる。
本発明の別の態様は、基材に多数の中空粒子を有する断熱層の形成装置であって、
上記中空粒子を個々に吸着する多数の真空引き用吸引口が規則的に配列された粒子吸着面を有する吸引部材と、
上記吸引部材に接続された上記真空引きのための真空発生手段と、
上記粒子吸着面に吸着された各中空粒子にバインダを塗布するバインダ塗布手段と、
上記中空粒子を真空引きによって上記吸引部材に吸着させる工程と、該吸引部材に吸着された中空粒子に上記バインダを塗布する工程と、上記真空引きの解除によって上記バインダが塗布された中空粒子を上記吸引部材から離脱させて上記基材に載せる工程とが順に繰り返されるように、装置全体の動作を制御する制御部とを備えていることを特徴とする。
この断熱層の形成装置によれば、上記断熱層の形成方法に係る発明を実施して、多数の中空粒子が規則的に配列され且つバインダを介して規則的に積み重なった断熱層を得ることができ、中空粒子の充填度が高くなるため、断熱性能の向上に有利になる。しかも、装置構成が簡単であり、生産コスト低減に有利になる。
以上のように、本発明によれば、多数の中空粒子が規則的に配列され且つバインダを介して規則的に積み重なった断熱層を得ることができ、中空粒子の充填度が高くなるため、断熱性能の向上に有利になる。しかも、真空引き、バインダの塗布及び真空引きの解除という単純工程の繰り返しで断熱層を形成することができるから、複雑な装置は不要であり、所要時間も長くならず、生産性の向上にも有利になる。
本発明の一適用例としてのエンジンを示す断面図。 当該エンジンのピストンの頂部を示す断面図。 断熱層の一例を示す断面図。 断熱層形成装置の構成を示す図。 吸引部材の一例を示す平面図。 図5の吸引部材に吸着された中空粒子にバインダが塗布された状態を示す断面図。 吸引部材をずらした状態を示す平面図。 吸引部材の他の例を示す平面図。 吸引部材のさらに他の例を示す平面図。 図9の吸引部材に中空粒子が吸着された状態を示す断面図。 断熱層の他の例を示す断面図。
以下、本発明を実施するための形態を図面に基づいて説明する。以下の好ましい実施形態の説明は、本質的に例示に過ぎず、本発明、その適用物或いはその用途を制限することを意図するものではない。
<本発明の適用例>
この実施形態は、図1に示すエンジンのピストンに本発明に係る方法及び装置によって断熱層を形成する例である。
図1において、1は断熱層が形成される基材としてのアルミニウム合金製ピストン、2はシリンダブロック、3はシリンダヘッド、4はシリンダヘッド3の吸気ポート5を開閉する吸気バルブ、6は排気ポート7を開閉する排気バルブ、8は燃料噴射弁である。エンジンの燃焼室は、ピストン1の頂面、シリンダブロック2、シリンダヘッド3、吸排気バルブ4,6の傘部前面(燃焼室に臨む面)で形成される。ピストン1の頂面には、キャビティ9が形成されている。なお、点火プラグの図示は省略している。
図2に示すように、ピストン1の頂面のキャビティ9を形成する面に断熱層11が形成されている。図3に示すように、断熱層11は、無機酸化物よりなる多数の球状中空粒子12がSi系樹脂等よりなるバインダ13中に分散してなる。その多数の中空粒子12は、ピストン1の頂面に規則的に配列されているとともに、規則的に積み上げられている。相隣る中空粒子12の間はバインダ13によって埋められている。また、最上段の中空粒子12の上側に、中空粒子12の凹凸が表れないようにバインダ13が厚く盛られ、それによって、断熱層11の表面は平滑になっている。中空粒子12の直径は例えば5μm〜50μm程度、さらには20μm〜30μm程度とし、断熱層11の厚さは例えば50μm〜200μm程度とすることが好ましい。
但し、上記数値範囲はエンジンの燃焼室の壁面に断熱層11を設ける場合の好ましい範囲であって、限定的なものではない。また、燃焼室の壁面以外の機器等に断熱層を設ける場合は、中空粒子12の直径及び断熱層11の厚さは、さらに小さく、あるいは大きくすることもできる。
<断熱層の成形装置>
本発明は、多数の中空粒子12をピストン1の頂面に規則的に配列させるために、中空粒子12を真空引き方式の吸着手段に吸着させ、該吸着手段からピストン1の頂面に移すという手法をとる。
図4に示すように、断熱層11を形成する成形装置は、中空粒子12を規則的に配列した状態にして吸着させる吸引部材21を備えているとともに、この吸引部材21に中空粒子12を吸着する吸着ステーション22、吸引部材21に吸着した中空粒子12にバインダ13を塗布する塗布ステーション23と、バインダ13が塗布された中空粒子12をピストン1の頂面に付着させる付着ステーション24とを備えている。
吸引部材21の下面には中空粒子12が吸着する粒子吸着面25が設けられている。粒子吸着面25は、ピストン1の頂面の形状に倣った形状に形成されている。図5に示すように、粒子吸着面25には、中空粒子12を個々に吸着する多数の真空引き用吸引口26が規則的に配列されて開口している。本例の吸引部材21には多数の吸引口26が縦横に二次元正方格子状に並ぶように配置されている。吸引口26の直径は例えば中空粒子12の直径の1/5から2/3程度にすればよい。
図4に示すように、吸引部材21は、各吸引口26に真空引き用の負圧及び正圧を選択的に与えるためのエア通路を有するプレート27に取り付けられている。プレート27のエア通路にエア管28が接続され、エア管28に切換弁29が接続され、切換弁29に真空発生源(エジェクタ)31とエア源(コンプレッサ)32が接続されている。真空発生源31とエア源32がエア管28に切換弁29によって切り換えて接続されるようになっている。
ここで、吸引口26に中空粒子12を吸着するための真空圧力について説明する。中空粒子12の直径が25μmであるとき、中空粒子12の重量は例えば3×10−11N〜4×10−11N程度である。真空引きによるリフト力(吸着力)は、理論的には「吸引口の面積×真空圧力」で求まる。吸引口26の面積が2×10−5mm(吸引口26の直径が約5μm)であるとき、−10kPaの真空圧力でれば、2×10−7N程度のリフト力が得られ、直径25μmの中空粒子12を持ち上げることができる。中空粒子12の直径及びバインダ13の付着両にもよるが、上記真空発生源31による真空圧力は例えば−10kPa〜−40kPa程度に設定すればよい。
プレート27に取り付けられた吸引部材21は、吸着ステーション22、塗布ステーション23及び付着ステーション24間を移動するものであり、そのための移動手段(図示省略)が設けられている。
吸着ステーション22には、多数の中空粒子12を収容した容器33が設けられている。容器33は、昇降手段(図示省略)により、図4に示す待機位置と吸引部材21に中空粒子12を吸着させる上昇位置の間で昇降する。吸引部材21が吸着ステーション22に移動したときに容器33が上昇し、切換弁29が真空発生源31をエア管28に接続し、真空発生源31の作動により吸引部材21の各吸引口26に中空粒子12が吸着される。
塗布ステーション23には、第1バインダ塗布装置34が設けられている。この塗布装置34は、バインダ噴霧管35を備え、このバインダ噴霧管35にバインダ供給ホース36が接続されている。バインダ噴霧管35にはバインダ13を吸引部材21の中空粒子12に吹き付けて塗布する複数の噴霧ノズル37が設けられている。中空粒子12を吸着した吸引部材21が塗布ステーション23に移動したときに、バインダ噴霧管35は吸引部材21に対して平行移動して中空粒子12にバインダ13を塗布する。
付着ステーション24には、昇降台(図示省略)が設けられていて、この昇降台にピストン1がその頂面を上向きにして支持される。中空粒子12を吸着した吸引部材21が付着ステーション24に移動したときに、ピストン1が上昇し、切換弁29がエア源32をエア管28に接続し、エア源32の作動により吸引部材21の各吸引口26に正圧が付与され(真空破壊)、バインダ13が塗布された中空粒子12が吸引部材21の粒子吸着面25から離脱してピストン1の頂面に付着する。
付着ステーション24には、ピストン1の頂面に中空粒子12を層状に付着させた後に、その上からバインダ13を塗布するための第2バインダ塗布装置38が横移動自在に設けられている。第2バインダ塗布装置38は、第1バインダ塗布装置34と同じく、バインダ噴霧管35に噴霧ノズル37が設けられたものである。
また、付着ステーション24には、吸引部材21に対するピストン1の位置を相対的に横にずらす変位手段(図示省略)が設けられている。この位置ずらしについては後述する。
当該断熱層の成形装置は、以下に説明する工程A〜Cが順に繰り返され、さらに工程Dが実行されるように、装置全体の動作を制御する制御部(図示省略)を備えている。
<断熱層の形成>
−工程A−
吸引部材21を吸着ステーション22に移動させ、容器33内の中空粒子12を粒子吸着面25に真空引きによって吸着させる。粒子吸着面25には多数の吸引口26が規則的に配列して開口しているから、粒子吸着面25には多数の中空粒子が規則的に配列されて吸着された状態になる。
−工程B−
中空粒子12を吸着した吸引部材21を塗布ステーション23に移動させ、第1バインダ塗布装置34によってバインダ13を吸引部材21の粒子吸着面25に吹き付けて中空粒子12に塗布する。これにより、図6に示すように、各中空粒子12の下面側にバインダ13が塗布された状態になる。
−工程C−
中空粒子12にバインダ13が塗布された吸引部材21を付着ステーション24に移動させ、エア源32によって各吸引口26に正圧を加えることにより(真空引きの解除)、中空粒子12を粒子吸着面25からピストン1の頂面に向けて離脱させる。これにより、ピストン1の頂面に多数の中空粒子12が規則的に配列されて付着した状態になる。
−工程A〜Cの繰り返し−
工程A、B、Cを順に行なうサイクルを複数回繰り返すことによって、多数の中空粒子12がバインダ13を介して積み重なった状態にする。
−工程D−
最後のサイクルで付着させた最上段の中空粒子12の上から第2バインダ塗布装置38によってバインダ13を吹き付けて塗布する。これにより、図3に示すように、中空粒子12間にバインダ13を充填するとともに、最上段の中空粒子12の上側に、中空粒子12の凹凸が表れないようにバインダ13が厚く盛られた状態になり、断熱層11の表面は平滑になる。
−工程E−
バインダ13を焼成する。これにより、図3に示す断熱層11が得られる。
<2回目以降のサイクルの工程Cについて>
2回目以降のサイクルの工程Cにおいては、ピストン1に対する吸引部材21の位置をずらさずに、中空粒子12を前回サイクルの中空粒子12の上に配置してもよい。この場合は、図5に示す吸引口26が正方格子状に配置されている例では、中空粒子12が単純正方格子構造の各格子点に配置された断熱層が得られる。
また、2回目以降のサイクルの工程Cにおいては、ピストン1に対する吸引部材21の位置を変位手段によってずらすこともできる。つまり、各中空粒子12の中心が前回サイクルでピストン1の頂面に付着した相隣る中空粒子12の間に配置されるように、ピストン1に対する吸引部材21の位置をずらすというものである。
その一例を図5と図7に基いて説明する。この両図に示す線A,Bはピストン1の頂面に係る直交する縦横の基準線である。図5は例えば前回サイクルにおける吸引部材21の位置であり、縦基準線Aが縦方向の2つの吸引口26の列の中央を通り、横基準線Bが横方向の2つの吸引口26の列の中央を通っている。図7は今回サイクルの吸引部材21の位置であり、縦方向に並ぶ1つの吸引口26の列が縦基準線A上に配置され、横方向に並ぶ1つの吸引口26の列が横基準線B上に配置されている。
要するに、図7は各吸引口26の中心が前回サイクルの正方格子上で斜めに相隣る吸引口26間の中央に位置するように、吸引部材21を横方向に半ピッチ、縦方向に半ピッチそれぞれずらした、つまり、斜めにずらした例である。なお、ここでいう「ピッチ」は吸引口26が縦横に並ぶピッチを意味する。図5の正方格子を基準にすれば、図7の各吸引口26は図5の正方格子の各すき間の中心に配置されているということができる。
吸引部材21をサイクル毎に図5に示す位置と図7に示す位置に交互にずらした場合、中空粒子12が体心正方格子構造(或いは体心立方格子構造)の各格子点に配置された断熱層が得られる(図3参照)。
半径が等しい球状粒子の場合、単純立方格子構造での充填率は約52vol%であり、体心立方格子構造での充填率は約68%であるから、各サイクル毎に吸引部材21をずらすと、中空粒子12の充填密度が高くなることがわかる。
図8は各吸引口26を正三角格子状に配置した吸引部材21を示す。各サイクル毎にピストン1に対する吸引部材21の位置をずらさない場合、中空粒子12が単純六方格子構造の各格子点に配置された断熱層が形成される。これに対して、各サイクル毎にピストン1に対する吸引部材21の位置を各吸引口26が前回サイクルの正三角格子の各すき間の中心にくるようにずらす(各中空粒子12が前回サイクルで正三角格子状に付着させた最小単位の3個の中空粒子12の中心に配置されるようにする)と、中空粒子12が最密六方格子構造の各格子点に配置された断熱層が形成される。その結果、単純六方格子構造の場合に比べて、中空粒子12の充填密度が高くなる。
<大径中空粒子と小径中空粒子の使用>
図9に示す吸引部材21は、図10に示す球状の大径中空粒子41を吸着するための大径用吸引口42と球状の小径中空粒子43を吸着するための小径用吸引口44とを備えている。大径用吸引口42は当該吸引部材21の粒子吸着面25に二次元正方格子状に配置されて開口し、小径用吸引口44は当該正方格子の各すき間の中心に配置されて粒子吸着面25に開口している。図9では小径用吸引口44の口径が大径用吸引口42の口径よりも小さくなっているが、両吸引口42,44の口径は同じであってもよい。
図9に鎖線で示すように、大径中空粒子41と小径中空粒子43は、大径用吸引口42及び小径用吸引口44各々に吸着された状態では、粒子吸着面25を正面視したときに互いの一部が重なり合う寸法関係にある。そのため、粒子吸着面25は凹凸を有し、小径用吸引口44は大径用吸引口42よりも奥まった位置に開口している。
吸引部材21を取り付けるプレートには、大径用吸引口42に連通するエア通路と小径用吸引口44に連通するエア通路が形成され、各エア通路に大径用エア管と小径用エア管が接続される。両エア管が真空発生源31及びエア源32に切換弁を介して接続される。切換弁は、小径用エア管のみに負圧を及ぼす状態から大径用及び小径用の両エア管に負圧を及ぼす状態に切り換え可能であり、また、両エア管に負圧を及ぼす状態から両エア管に正圧を及ぼす状態に切り換え可能である。
上記工程Aでは、吸着ステーション22に大径中空粒子41を収容する容器と小径中空粒子43を収容する容器を設けておき、小径用吸引口44のみに負圧を及ぼして小径中空粒子43を小径用吸引口44に吸着させた後、大径用及び小径用の両吸引口42,44に負圧を及ぼして大径中空粒子41を大径用吸引口42に吸着させる。
上記工程Bでは、第1バインダ塗布装置34によってバインダ13を吸引部材21の粒子吸着面25に吹き付けて大径中空粒子41及び小径用中空粒子43に塗布する。
上記工程Cでは、エア源32によって各吸引口42,44に正圧を加えることにより(真空引きの解除)、大径及び小径の中空粒子41,43を粒子吸着面25からピストン1の頂面に向けて離脱させ、ピストン1の頂面に付着させる。
工程A、B、Cを順に行なうサイクルを複数回繰り返すことによって、多数の中空粒子41,42がバインダ13を介して積み重なった状態にする。最後に第2バインダ塗布装置38によってバインダ13を吹き付けて塗布し、バインダ13を焼成して断熱層を得る。
2回目以降のサイクルの工程Cにおいては、ピストン1に対する吸引部材21の位置をずらさずに、大径中空粒子41が前回サイクルの大径中空粒子41の上に、小径中空粒子43が前回サイクルの小径中空粒子43の上に配置されるようにしてもよい。最後のサイクルにおいて、図5に示す吸引部材21を用いて大径中空粒子41が一つ前のサイクルの大径中空粒子41の上に配置されるようにすると、図11に示す大径中空粒子41が単純正方格子構造又は単純立方格子構造の各格子点に配置され、小径中空粒子43が当該単純正方格子構造又は単純立方格子構造の体心位置のすき間に配置された断熱層が得られる。
半径が等しい球状粒子の場合、単純立方格子構造の充填率は約52vol%であり、その球状粒子の直径をRとすると、その体心位置の隙間に入ることが可能な球状粒子の最大直径はRの約0.73倍であり、その場合の充填率は約73%になる。小径中空粒子43の直径は当該最大直径にする必要はなく、当該最大直径の例えば0.7倍〜1.1倍程度にすればよく、これにより、断熱層における中空粒子の充填率を高めることができる。
ところで、球状粒子の体心立方格子型充填構造では、四面体格子間サイトと八面体格子間サイトの2種類の格子間隙間がある。従って、大径中空粒子41を体心立方格子構造の格子点に配置し、小径中空粒子43を格子間サイトに配置するようにすれば、図3に示す例よりもさらに中空粒子の充填率が高い断熱層を形成することができる。
そのためには、例えば、格子点に配置すべき大径中空粒子41を吸着する大径用吸引口を図9に示す吸引部材21と同様に正方格子状に配置し、格子間サイトに配置すべき小径中空粒子43を吸着する小径用吸引口に当該格子間サイトに対応する位置に配置した吸引部材を準備し、サイクル毎に吸引部材をずらして中空粒子を積み重ねて行くようにすればよい。その吸引部材をずらす手法は図5及び図7に基いて説明した方法と同じである。これにより、複数の格子間サイトに小径中空粒子を配置した体心立方格子構造型の断熱層を形成することができる。
また、格子間サイトへの小径中空粒子43の配置は面心立方格子型の充填構造でも可能である。すなわち、面心立方格子型においても、四面体格子間サイトと八面体格子間サイトの2種類の格子間隙間がある。従って、大径中空粒子41を面心立方格子構造の格子点に配置し、小径中空粒子43を格子間サイトに配置するようにすれば、中空粒子の充填率が高い断熱層を形成することができる。
面心立方格子構造は最密六方格子構造と同じであるから、図8に示す吸引口26が正三角格子状に配置された吸引部材21において、その吸引口26を大径中空粒子用の吸引口とし、当該粒子吸着面25に、格子間サイトに配置すべき小径中空粒子43を吸着する小径用吸引口をさらに設け、サイクル毎に吸引部材をずらして中空粒子を積み重ねて行くようにすればよい。これにより、複数の格子間サイトに小径中空粒子を配置した最密立方格子構造型又は面心立方格子構造型の断熱層を形成することができる。
体心立方格子構造において、八面体格子間に入る小径中空粒子43の直径は、最大で大径中空粒子41の直径の約0.309倍である。面心立方格子構造において、八面体格子間に入る小径中空粒子43の直径は、最大で大径中空粒子41の直径の約0.414倍であり、四面体格子間に入る小径中空粒子43の直径は、最大で大径中空粒子41の直径の約0.224倍である。
小径中空粒子43の直径は、格子間に入ることが可能な最大直径にする必要はなく、当該最大直径の例えば0.7倍〜1.1倍程度にすればよい。大径中空粒子41の直径は例えば20μm〜50μm程度、さらには20μm〜30μm程度とすればよい。
なお、上記実施形態では、バインダ13が中空粒子間を隙間なく埋めているが、中空粒子間に隙間が形成されていてもよい。
上記実施形態では、サイクル毎に中空粒子の付着位置をずらす場合に吸引部材をずらすようにしたが、吸引口の配置が異なる2つ以上の吸引部材を選択的に使用することによって(例えば、2種の吸引部材を交互に用いることによって)、サイクル毎に中空粒子の付着位置をずらすようにしてもよい。
また、本発明は、上記エンジンの燃焼室壁面に限らず、エンジンの排気系やEGRクーラ等に断熱層を形成するケースにも適用することができ、その他の産業機器や民生機器にも適用することができる。
1 ピストン(基材)
11 断熱層
12 中空粒子
13 バインダ
21 吸引部材
25 粒子吸着面
26 吸引口
41 大径中空粒子
42 大径用吸引口
43 小径中空粒子
44 小径用吸引口
31 真空発生源(真空発生手段)
34 第1バインダ塗布装置(バインダ塗布手段)
38 第2バインダ塗布装置(バインダ塗布手段)

Claims (5)

  1. 多数の中空粒子を有する断熱層を基材に形成する方法であって、
    上記中空粒子を個々に吸着する多数の真空引き用吸引口が規則的に配列された粒子吸着面を有する吸引部材を用い、この吸引部材に上記中空粒子を吸着させる工程Aと、
    上記粒子吸着面に吸着された各中空粒子にバインダを塗布する工程Bと、
    上記バインダが塗布された上記中空粒子を上記真空引きの解除によって上記粒子吸着面から離脱させて上記基材に付着させる工程Cとを備え、
    上記工程A、B、Cを順に行なうサイクルを複数回繰り返すことによって、多数の中空粒子が上記バインダを介して積み重なった断熱層を形成することを特徴とする断熱層の形成方法。
  2. 請求項1において、
    上記工程A、B、Cを順に行なうサイクルの2回目以降では、上記工程Cにおいて、各中空粒子の中心を上記基材に前回付着させた中空粒子の中心からずらすことを特徴とする断熱層の形成方法。
  3. 請求項1において、
    上記吸引部材は、上記吸引口として、大径中空粒子を吸着するための大径用吸引口と小径中空粒子を吸着するための小径用吸引口とを備え、
    上記粒子吸着面において、上記大径用吸引口は正方格子状又は正三角格子状に配置され、上記小径用吸引口は当該格子の各すき間の中心に配置され、且つ上記粒子吸着面は凹凸を有し、上記小径用吸引口は上記大径用吸引口よりも奥まった位置に開口しており、
    さらに、上記大径中空粒子と小径中空粒子は、上記大径用吸引口及び小径用吸引口各々に吸着された状態では、上記粒子吸着面を正面視したときに互いの一部が重なり合う寸法関係にあり、
    上記工程Aでは、上記小径中空粒子を吸着させた後に上記大径中空粒子を吸着させることを特徴とする断熱層の形成方法。
  4. 請求項1乃至請求項3のいずれか一において、
    上記サイクルを複数回繰り返した後、最後に付着させた上記中空粒子の上から上記バインダを塗布する工程を備えていることを特徴とする断熱層の形成方法。
  5. 基材に多数の中空粒子を有する断熱層を形成するための装置であって、
    上記中空粒子を個々に吸着する多数の真空引き用吸引口が規則的に配列された粒子吸着面を有する吸引部材と、
    上記吸引部材に接続された上記真空引きのための真空発生手段と、
    上記粒子吸着面に吸着された各中空粒子にバインダを塗布するバインダ塗布手段と、
    上記中空粒子を真空引きによって上記吸引部材に吸着させる工程と、該吸引部材に吸着された中空粒子に上記バインダを塗布する工程と、上記真空引きの解除によって上記バインダが塗布された中空粒子を上記吸引部材から離脱させて上記基材に載せる工程とが順に繰り返されるように、装置全体の動作を制御する制御部とを備えていることを特徴とする断熱層の形成装置。
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