JP2016022684A - Laminate - Google Patents

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博行 溝内
Hiroyuki Mizouchi
博行 溝内
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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a laminate excellent in scratch resistance, transparency, heat coloring resistance, heat resistance, bending resistance, flex resistance, and interference fringe resistance.SOLUTION: A laminate 1 comprises a transparent substrate layer 2, and a coat layer 3 placed on at least one side of the substrate layer 2. The substrate layer 2 is formed from a resin composition comprising an aromatic polyether, and the coat layer 3 is formed from a curable composition comprising organic particles, inorganic particles or a combination of them.SELECTED DRAWING: Figure 1

Description

本発明は、積層体に関する。   The present invention relates to a laminate.

近年、フィルム等の透明な基材層の傷付き防止や汚染防止のために、硬化性樹脂組成物の塗工により基材層の表面にコート層を設けたハードコートフィルム等の積層体が広く使用されている。このような積層体は、タッチパネル等の表示装置、メンブレンスイッチ、キーパッド等の表面材料、液晶表示素子を構成する液晶セルの電極基板、位相差フィルム、光学フィルター、レンズ、タッチパネル用透明電極付フィルムや、LED、有機EL等の照明の光学フィルム、太陽電池、トランジスタ等の電子デバイスのコーティング材料として用いられている。   In recent years, in order to prevent scratches and contamination of transparent base material layers such as films, laminates such as hard coat films in which a coating layer is provided on the surface of the base material layer by applying a curable resin composition are widely used. It is used. Such laminates include display devices such as touch panels, surface materials such as membrane switches and keypads, electrode substrates for liquid crystal cells constituting liquid crystal display elements, retardation films, optical filters, lenses, and films with transparent electrodes for touch panels. It is used as a coating material for electronic devices such as optical films for lighting such as LEDs and organic EL, solar cells, and transistors.

上記積層体には、耐傷付性、透明性、耐加熱着色性、耐熱性、耐折曲性、耐屈曲性、耐干渉縞等の種々の性能が要求される。これらの性能の中でも、耐屈曲性が低いと、取り扱い時に折れ曲がったり、割れが生じたりして、製品価値を損なう場合も生じる。折れ曲がりや割れの発生を回避するために、他の保護フィルムを貼合することも提案されているが、この場合生産コストが上昇するという不都合がある。   The laminate is required to have various performances such as scratch resistance, transparency, heat resistance, heat resistance, bending resistance, bending resistance, interference fringe resistance, and the like. Among these performances, if the bending resistance is low, the product value may be impaired by bending or cracking during handling. In order to avoid the occurrence of bending and cracking, it has also been proposed to bond another protective film, but in this case, there is a disadvantage that the production cost increases.

このような中、ハードコートフィルム等の積層体に求められる種々の性能を高める技術として、屈折率1.50以上の金属酸化物粒子と特定のウレタン(メタ)アクリレート化合物とを含有する硬化性組成物(特開2006−182826号公報参照)、紫外線硬化樹脂と高分子量ポリエステル樹脂の粒子とを含有するハードコートフィルム(特許2974576号公報参照)が提案されている。しかし、上記いずれの技術を用いた積層体も、上述した性能を十分に満足できるものではない。   Under such circumstances, as a technique for enhancing various performances required for a laminate such as a hard coat film, a curable composition containing metal oxide particles having a refractive index of 1.50 or more and a specific urethane (meth) acrylate compound And a hard coat film (see Japanese Patent No. 2974576) containing an ultraviolet curable resin and particles of a high molecular weight polyester resin (see Japanese Patent Application Laid-Open No. 2006-182826). However, a laminate using any of the above-mentioned techniques does not sufficiently satisfy the above-described performance.

特開2006−182826号公報JP 2006-182826 A 特許2974576号公報Japanese Patent No. 2974576

本発明は、上述のような事情に基づいてなされたものであり、耐傷付性、透明性、耐加熱着色性、耐熱性、耐折曲性、耐屈曲性、耐干渉縞に優れる積層体の提供を目的とする。   The present invention has been made based on the circumstances as described above, and is a laminate excellent in scratch resistance, transparency, heat resistance, heat resistance, bending resistance, bending resistance, and interference fringe. For the purpose of provision.

上記課題を解決するためになされた本発明は、
透明な基材層と、この基材層の少なくとも一方の面に積層されるコート層とを備える積層体であって、上記基材層が、下記式(0)で表される構造単位を有する芳香族ポリエーテルを含む樹脂組成物により形成されており、上記コート層が、有機粒子、無機粒子又はこれらの組み合わせを含有する硬化性組成物により形成されることを特徴とする。

Figure 2016022684
(式(0)中、Ar、Ar、Ar及びArは、それぞれ独立して、2価の芳香族炭化水素基又は2価のヘテロ芳香族基である。但し、上記芳香族炭化水素基及びヘテロ芳香族基が有する水素原子の一部又は全部は、置換されていてもよい。Rは、単結合又は炭素数1〜20の2価の炭化水素基である。但し、上記炭素数1〜20の2価の炭化水素基が有する水素原子の一部又は全部は、置換されていてもよい。上記炭素数1〜20の2価の炭化水素基は、エステル基、エーテル基又はカルボニル基を構造中に有していてもよい。Yは、カルボニル基又はスルホニル基である。mは、0又は1である。nは、0又は1である。) The present invention made to solve the above problems
A laminate comprising a transparent substrate layer and a coat layer laminated on at least one surface of the substrate layer, wherein the substrate layer has a structural unit represented by the following formula (0) It is formed with the resin composition containing aromatic polyether, The said coating layer is formed with the curable composition containing an organic particle, an inorganic particle, or these combination, It is characterized by the above-mentioned.
Figure 2016022684
(In the formula (0), Ar 1 , Ar 2 , Ar 3 and Ar 4 are each independently a divalent aromatic hydrocarbon group or a divalent heteroaromatic group, provided that the above aromatic carbonization is performed. Some or all of the hydrogen atoms of the hydrogen group and heteroaromatic group may be substituted, and R 0 is a single bond or a divalent hydrocarbon group having 1 to 20 carbon atoms, provided that the above Some or all of the hydrogen atoms of the divalent hydrocarbon group having 1 to 20 carbon atoms may be substituted, and the divalent hydrocarbon group having 1 to 20 carbon atoms may be an ester group or an ether group. Or a carbonyl group may be present in the structure, Y is a carbonyl group or a sulfonyl group, m is 0 or 1, and n is 0 or 1.)

以上説明したように、本発明の積層体は、耐傷付性、透明性、耐加熱着色性、耐熱性、耐折曲性、耐屈曲性、耐干渉縞に優れる。従って、本発明の積層体はタッチパネル等の材料として好適に用いることができる。   As described above, the laminate of the present invention is excellent in scratch resistance, transparency, heat resistance, heat resistance, bending resistance, bending resistance, and interference fringe resistance. Therefore, the laminate of the present invention can be suitably used as a material for touch panels and the like.

本発明の一実施形態に係る積層体を示す模式的断面図Typical sectional drawing which shows the laminated body which concerns on one Embodiment of this invention.

以下、適宜図面を参照にしつつ、本発明の積層体及び硬化性組成物の実施の形態を詳説する。   Hereinafter, embodiments of the laminate and the curable composition of the present invention will be described in detail with reference to the drawings as appropriate.

[積層体]
図1の積層体1は、透明な基材層2と、この基材層2の少なくとも一方の面(表面側)に積層されるコート層3とを備える。
[Laminate]
A laminate 1 in FIG. 1 includes a transparent substrate layer 2 and a coat layer 3 that is laminated on at least one surface (surface side) of the substrate layer 2.

(耐屈曲性)
当該積層体1は、円筒形マンドレル法による耐屈曲性試験においてクラックが生じるマンドレルの直径が2mm以下である。当該積層体1は、このように高い耐屈曲性を有する。
(Flexibility)
The laminate 1 has a mandrel diameter of 2 mm or less in which a crack is generated in a bending resistance test by a cylindrical mandrel method. The laminate 1 has such a high bending resistance.

ここで、「円筒形マンドレル法による耐屈曲性試験」とは、JIS−K5600−5−1:1999塗料一般試験方法−第5部:塗膜の機械的性質−第1節:耐屈曲性(円筒形マンドレル法)に準拠し、タイプ1の試験装置を用いて測定した値をいう。また、クラックは、コート層そのものの剥離、コート層/基材層の界面の剥離等により生じ、目視にて視認される白色線とする。なお、直径2mmのマンドレルを用いてクラックが生じなかった場合、クラックが生じるマンドレルの直径は2mm以下といえる。   Here, the “flexibility test by the cylindrical mandrel method” means JIS-K5600-5-1: 1999 paint general test method-Part 5: Mechanical properties of coating film-Section 1: Flex resistance ( According to the cylindrical mandrel method), a value measured using a type 1 test apparatus. Further, the crack is caused by peeling of the coating layer itself, peeling of the interface between the coating layer / base material layer, and the like, and is a white line visually recognized. In addition, when a crack is not generated using a mandrel having a diameter of 2 mm, it can be said that the diameter of the mandrel in which the crack is generated is 2 mm or less.

このように積層体1においてクラックが生じるマンドレルの直径を2mm以下とする手段としては、後述するような基材層2及びコート層3の厚みや用いる材料を調製する方法が挙げられる。   Thus, as a means to make the diameter of the mandrel which a crack occurs in the laminated body 1 to 2 mm or less, the method of preparing the thickness of the base material layer 2 and the coating layer 3 which are mentioned later, and the material to be used is mentioned.

当該積層体1は、上記耐屈曲性試験においてクラックが生じないことから耐屈曲性が高い。   The laminate 1 has high bending resistance because no cracks are generated in the bending resistance test.

(硬度)
当該積層体1のコート層3の表面の鉛筆硬度としては3B以上が好ましく、2B又はBがより好ましい。このような範囲の鉛筆硬度とすることで、上述の高い耐屈曲性を維持しつつ、高い硬度を付与することができる。
(hardness)
The pencil hardness of the surface of the coat layer 3 of the laminate 1 is preferably 3B or more, and more preferably 2B or B. By setting it as pencil hardness of such a range, high hardness can be provided, maintaining the above-mentioned high bending resistance.

ここで、「鉛筆硬度」とは、JIS−K5600−5−4のひっかき硬度(鉛筆法)に準拠して測定される値をいう。   Here, “pencil hardness” refers to a value measured in accordance with the scratch hardness (pencil method) of JIS-K5600-5-4.

(透明性)
当該積層体1の全光線透過率は85%以上が好ましく、86%以上がより好ましい。加えて、当該積層体1のヘーズ値は1%以下が好ましく、0.01%以上0.5%以下がより好ましい。全光線透過率及びヘーズ値を上記範囲とすることで、透明性等を高め、タッチパネル等により好適に用いることができる。
(transparency)
The total light transmittance of the laminate 1 is preferably 85% or more, and more preferably 86% or more. In addition, the haze value of the laminate 1 is preferably 1% or less, and more preferably 0.01% or more and 0.5% or less. By setting the total light transmittance and the haze value within the above ranges, the transparency and the like can be improved and the touch panel can be suitably used.

ここで、「全光線透過率」及び「ヘーズ値」とは、JIS−K7105に準拠して測定される値をいう。   Here, “total light transmittance” and “haze value” refer to values measured in accordance with JIS-K7105.

また、当該積層体1の全光線透過率と、基材層2のみの全光線透過率との差が1%以内であり、かつ、当該積層体1のヘーズ値と、基材層2のみのヘーズ値との差が1%以内であることが好ましい。このような場合、コート層3が特に高い透明性を有するため、タッチパネル等にさらに好適に用いることができる。   Further, the difference between the total light transmittance of the laminate 1 and the total light transmittance of only the base material layer 2 is within 1%, and the haze value of the laminate 1 and only the base material layer 2 The difference from the haze value is preferably within 1%. In such a case, since the coat layer 3 has particularly high transparency, it can be more suitably used for a touch panel or the like.

(密着性)
JIS−K5600−5−6:1999に準拠したクロスカット法による密着性試験において、上記基材層2と上記コート層3との間の密着性が分類0又は1であることが好ましい。このような範囲の密着性とすることで、当該積層体1の機械的強度を向上させることができる。
(Adhesion)
In the adhesion test by the cross-cut method based on JIS-K5600-5-6: 1999, the adhesion between the base material layer 2 and the coat layer 3 is preferably classification 0 or 1. By setting it as the adhesiveness of such a range, the mechanical strength of the said laminated body 1 can be improved.

波長589.3nmにおける上記基材層2と上記コート層3との屈折率差としては、0.05以下が好ましい。上記基材層2と上記コート層3との屈折率差をこのように小さなものとすることで、当該積層体1における干渉縞の発生をより抑制することができる。   The difference in refractive index between the substrate layer 2 and the coat layer 3 at a wavelength of 589.3 nm is preferably 0.05 or less. By making the difference in refractive index between the base material layer 2 and the coat layer 3 small in this way, generation of interference fringes in the laminate 1 can be further suppressed.

JIS−Z8729:2004に準拠して測定されるCIELABのL表色系でのbが、1.5以下であり、かつ200℃、30分加熱後のbの変化量Δbが0.5以下であることが好ましい。当該積層体1のCIELABのL表色系でのbを上記特定範囲のものとすることで、当該積層体1の耐加熱着色性及び透明性をより高めることができる。 JIS-Z8729: in the CIELAB of L * a * b * color system are measured in accordance with 2004 b * is 1.5 or less and 200 ° C., the amount of change in b * after heating 30 minutes Δb * is preferably 0.5 or less. By setting b * in the L * a * b * color system of CIELAB of the laminate 1 to be in the above specific range, the heat resistance and transparency of the laminate 1 can be further improved.

(基材層2)
基材層2は透明であり、無色透明が好ましい。基材層2は、下記式(0)で表される構造単位(以下、「構造単位(0)」ともいう)を有する芳香族ポリエーテルを含む樹脂組成物により形成されている。このような樹脂組成物を用いることで、高い耐熱性、透明性、耐加熱着色性、耐折曲性及び耐屈曲性を発揮させることができる。
(Base material layer 2)
The base material layer 2 is transparent and is preferably colorless and transparent. The base material layer 2 is formed of a resin composition containing an aromatic polyether having a structural unit represented by the following formula (0) (hereinafter also referred to as “structural unit (0)”). By using such a resin composition, high heat resistance, transparency, heat coloring resistance, bending resistance, and bending resistance can be exhibited.

Figure 2016022684
Figure 2016022684

上記式(0)中、Ar、Ar、Ar及びArは、それぞれ独立して、2価の芳香族炭化水素基又は2価のヘテロ芳香族基である。但し、上記芳香族炭化水素基及びヘテロ芳香族基が有する水素原子の一部又は全部は、置換されていてもよい。Rは、単結合又は炭素数1〜20の2価の炭化水素基である。但し、上記炭素数1〜20の2価の炭化水素基が有する水素原子の一部又は全部は、置換されていてもよい。上記炭素数1〜20の2価の炭化水素基は、エステル基、エーテル基又はカルボニル基を構造中に有していてもよい。Yは、カルボニル基又はスルホニル基である。mは、0又は1である。nは、0又は1である。 In the above formula (0), Ar 1 , Ar 2 , Ar 3 and Ar 4 are each independently a divalent aromatic hydrocarbon group or a divalent heteroaromatic group. However, part or all of the hydrogen atoms of the aromatic hydrocarbon group and heteroaromatic group may be substituted. R 0 is a single bond or a divalent hydrocarbon group having 1 to 20 carbon atoms. However, one part or all part of the hydrogen atom which the said C1-C20 bivalent hydrocarbon group has may be substituted. The divalent hydrocarbon group having 1 to 20 carbon atoms may have an ester group, an ether group or a carbonyl group in the structure. Y is a carbonyl group or a sulfonyl group. m is 0 or 1. n is 0 or 1.

上記Ar、Ar、Ar及びArで表される2価の芳香族炭化水素基としては、炭素数6〜20の2価の芳香族炭化水素基が好ましく、例えば、フェニレン基、ナフチレン基、アントラニレン基等が挙げられる。 The divalent aromatic hydrocarbon group represented by Ar 1 , Ar 2 , Ar 3 and Ar 4 is preferably a C 6-20 divalent aromatic hydrocarbon group, such as a phenylene group or naphthylene. Group, anthranylene group and the like.

上記Ar、Ar、Ar及びArで表される2価のヘテロ芳香族基としては、炭素数3〜20の2価のヘテロ芳香族基が好ましく、例えば、フラン、ピロール、チオフェン、ホスホール、ピラゾール、オキサゾール、イソオキサゾール、チアゾール、ピリジン、ピラジン、ピリミジン、ピリダジン、トリアジン、インドール、キノリン、アクリジン等の複素芳香族化合物から2個の水素原子を除いた基等が挙げられる。 The divalent heteroaromatic group represented by Ar 1 , Ar 2 , Ar 3 and Ar 4 is preferably a divalent heteroaromatic group having 3 to 20 carbon atoms, such as furan, pyrrole, thiophene, Examples include groups obtained by removing two hydrogen atoms from a heteroaromatic compound such as phosphole, pyrazole, oxazole, isoxazole, thiazole, pyridine, pyrazine, pyrimidine, pyridazine, triazine, indole, quinoline and acridine.

上記2価の芳香族炭化水素基及び2価のヘテロ芳香族基に置換してもよい置換基としては、例えば、ハロゲン原子、ヒドロキシ基、シアノ基、ニトロ基、ホルミル基又は1価の有機基等が挙げられる。   Examples of the substituent that may be substituted with the divalent aromatic hydrocarbon group and the divalent heteroaromatic group include, for example, a halogen atom, a hydroxy group, a cyano group, a nitro group, a formyl group, or a monovalent organic group. Etc.

上記ハロゲン原子としては、例えば、フッ素原子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子等が挙げられる。   As said halogen atom, a fluorine atom, a chlorine atom, a bromine atom, an iodine atom etc. are mentioned, for example.

上記1価の有機基としては、例えば、−CO−、−COO−、−OCO−、−O−、−NR−、−CS−、−S−、−SO−及び−SO−からなる群より選ばれる少なくとも1種の基と炭素数3〜20の1価の芳香族基とを組み合わせた1価の基、炭素数3〜20の1価の芳香族基等が挙げられ、さらにこれらの基が有する水素原子が置換基により置換されたものが挙げられる。上記Rは、水素原子又は炭素数1〜10の1価の有機基である。また、上記置換基としては、ヒドロキシ基、シアノ基、カルボキシ基、エチニル基等が挙げられる。 Examples of the monovalent organic group include a group consisting of —CO—, —COO—, —OCO—, —O—, —NR—, —CS—, —S—, —SO— and —SO 2 —. A monovalent group in which at least one group selected from the above and a monovalent aromatic group having 3 to 20 carbon atoms are combined, a monovalent aromatic group having 3 to 20 carbon atoms, and the like. The thing which the hydrogen atom which group has is substituted by the substituent is mentioned. R is a hydrogen atom or a monovalent organic group having 1 to 10 carbon atoms. Examples of the substituent include a hydroxy group, a cyano group, a carboxy group, and an ethynyl group.

上記炭素数3〜20の1価の芳香族基としては、炭素数6〜20の1価の芳香族炭化水素基又は炭素数3〜20の1価のヘテロ芳香族基が好ましい。炭素数6〜20の1価の芳香族炭化水素基としては、例えば、フェニル基、ナフチル基、アントラニル基等が挙げられる。また、炭素数3〜20の1価のヘテロ芳香族基としては、例えば、フラン、ピロール、チオフェン、ホスホール、ピラゾール、オキサゾール、イソオキサゾール、チアゾール、ピリジン、ピラジン、ピリミジン、ピリダジン、トリアジン、インドール、キノリン、アクリジン等の複素芳香族化合物から1個の水素原子を除いた基等が挙げられる。   The monovalent aromatic group having 3 to 20 carbon atoms is preferably a monovalent aromatic hydrocarbon group having 6 to 20 carbon atoms or a monovalent heteroaromatic group having 3 to 20 carbon atoms. Examples of the monovalent aromatic hydrocarbon group having 6 to 20 carbon atoms include a phenyl group, a naphthyl group, and an anthranyl group. Examples of the monovalent heteroaromatic group having 3 to 20 carbon atoms include furan, pyrrole, thiophene, phosphole, pyrazole, oxazole, isoxazole, thiazole, pyridine, pyrazine, pyrimidine, pyridazine, triazine, indole, and quinoline. And groups obtained by removing one hydrogen atom from a heteroaromatic compound such as acridine.

上記−CO−、−COO−、−OCO−、−O−、−NR−、−CS−、−S−、−SO−及び−SO−からなる群より選ばれる少なくとも1種の基と炭素数3〜20の1価の芳香族基とを組み合わせた1価の基としては、例えば、フェノキシ基、ナフチルオキシ基、アントラニルオキシ基、アニリノ基等が挙げられる。 The -CO -, - COO -, - OCO -, - O -, - NR -, - CS -, - S -, - SO- and -SO 2 - at least one group and a carbon selected from the group consisting of Examples of the monovalent group in combination with the monovalent aromatic group of 3 to 20 include a phenoxy group, a naphthyloxy group, an anthranyloxy group, and an anilino group.

上記芳香族ポリエーテルが、上記式(0)で表される構造単位として、下記式(1)で表される構造単位(以下、「構造単位(1)」ともいう)、下記式(2)で表される構造単位(以下、「構造単位(2)」ともいう)又はこれらの組み合わせ(以下、「構造単位(i)」ともいう)を有することが好ましい。このような芳香族ポリエーテルを含有する樹脂組成物を用いることで、より高い耐熱性、透明性、耐加熱着色性、耐折曲性及び耐屈曲性を発揮させることができる。   As the structural unit represented by the above formula (0), the aromatic polyether is a structural unit represented by the following formula (1) (hereinafter also referred to as “structural unit (1)”), the following formula (2): It is preferable to have a structural unit represented by (hereinafter also referred to as “structural unit (2)”) or a combination thereof (hereinafter also referred to as “structural unit (i)”). By using such a resin composition containing an aromatic polyether, higher heat resistance, transparency, heat resistance, color resistance, bending resistance and bending resistance can be exhibited.

Figure 2016022684
Figure 2016022684

上記式(1)中、R〜Rは、それぞれ独立して炭素数1〜12の1価の有機基である。a1〜d1は、それぞれ独立して0〜4の整数である。 In the above formula (1), R 1 to R 4 are each independently a monovalent organic group having 1 to 12 carbon atoms. a1 to d1 are each independently an integer of 0 to 4.

Figure 2016022684
Figure 2016022684

上記式(2)中、R1’〜R4’は、それぞれ独立して、炭素数1〜12の1価の有機基である。a2〜d2は、それぞれ独立して、0〜4の整数である。Yは、単結合、−SO−又は−CO−である。R及びRは、それぞれ独立してハロゲン原子、炭素数1〜12の1価の有機基又はニトロ基である。g1及びh1は、それぞれ独立して0〜4の整数である。m1は、0又は1である。但し、m1が0の場合、Rはシアノ基ではない。 In the above formula (2), R 1 '~R 4' are each independently a monovalent organic group having 1 to 12 carbon atoms. a2 to d2 are each independently an integer of 0 to 4. Y 1 is a single bond, —SO 2 — or —CO—. R 7 and R 8 are each independently a halogen atom, a monovalent organic group having 1 to 12 carbon atoms or a nitro group. g1 and h1 are each independently an integer of 0 to 4. m1 is 0 or 1. However, when m1 is 0, R 7 is not a cyano group.

上記R〜Rで表される炭素数1〜12の1価の有機基としては、例えば炭素数1〜12の1価の炭化水素基、酸素原子及び窒素原子からなる群より選ばれる少なくとも1種の原子を含む炭素数1〜12の1価の有機基等が挙げられる。 The monovalent organic group having 1 to 12 carbon atoms represented by R 1 to R 4 is, for example, at least selected from the group consisting of a monovalent hydrocarbon group having 1 to 12 carbon atoms, an oxygen atom, and a nitrogen atom. Examples thereof include a monovalent organic group having 1 to 12 carbon atoms containing one kind of atom.

上記炭素数1〜12の1価の炭化水素基としては、例えば炭素数1〜12の直鎖状又は分岐状の炭化水素基、炭素数3〜12の脂環式炭化水素基、炭素数6〜12の芳香族炭化水素基等が挙げられる。   Examples of the monovalent hydrocarbon group having 1 to 12 carbon atoms include a linear or branched hydrocarbon group having 1 to 12 carbon atoms, an alicyclic hydrocarbon group having 3 to 12 carbon atoms, and 6 carbon atoms. -12 aromatic hydrocarbon groups and the like.

上記炭素数1〜12の直鎖状又は分岐状の炭化水素基としては、炭素数1〜8の直鎖状又は分岐状炭化水素基が好ましく、炭素数1〜5の直鎖状又は分岐状の炭化水素基がより好ましい。   The linear or branched hydrocarbon group having 1 to 12 carbon atoms is preferably a linear or branched hydrocarbon group having 1 to 8 carbon atoms, and is linear or branched having 1 to 5 carbon atoms. The hydrocarbon group is more preferable.

上記炭素数1〜12の直鎖状又は分岐状の炭化水素基としては、メチル基、エチル基、n−プロピル基、イソプロピル基、n−ブチル基、sec−ブチル基、tert−ブチル基、n−ペンチル基、n−ヘキシル基及びn−ヘプチル基が好ましい。   Examples of the linear or branched hydrocarbon group having 1 to 12 carbon atoms include methyl group, ethyl group, n-propyl group, isopropyl group, n-butyl group, sec-butyl group, tert-butyl group, n -Pentyl group, n-hexyl group and n-heptyl group are preferred.

上記炭素数3〜12の脂環式炭化水素基としては、炭素数3〜8の脂環式炭化水素基が好ましく、炭素数3又は4の脂環式炭化水素基がより好ましい。   As said C3-C12 alicyclic hydrocarbon group, a C3-C8 alicyclic hydrocarbon group is preferable, and a C3-C4 alicyclic hydrocarbon group is more preferable.

上記炭素数3〜12の脂環式炭化水素基としては、例えばシクロプロピル基、シクロブチル基、シクロペンチル基、シクロへキシル基等のシクロアルキル基;シクロブテニル基、シクロペンテニル基、シクロヘキセニル基等のシクロアルケニル基が挙げられる。この脂環式炭化水素基の結合部位は、脂環上のいずれの炭素でもよい。   Examples of the alicyclic hydrocarbon group having 3 to 12 carbon atoms include cycloalkyl groups such as a cyclopropyl group, a cyclobutyl group, a cyclopentyl group, and a cyclohexyl group; a cyclobutenyl group such as a cyclobutenyl group, a cyclopentenyl group, and a cyclohexenyl group. An alkenyl group is mentioned. The bonding site of the alicyclic hydrocarbon group may be any carbon on the alicyclic ring.

上記炭素数6〜12の芳香族炭化水素基としては、フェニル基、ビフェニル基、ナフチル基等が挙げられる。この芳香族炭化水素基の結合部位は、芳香族環上のいずれの炭素でもよい。   Examples of the aromatic hydrocarbon group having 6 to 12 carbon atoms include a phenyl group, a biphenyl group, and a naphthyl group. The bonding site of the aromatic hydrocarbon group may be any carbon on the aromatic ring.

上記酸素原子を含む炭素数1〜12の有機基としては、例えば水素原子、炭素原子及び酸素原子からなる有機基等が挙げられる。これらの中でも、エーテル結合、カルボニル基又はエステル結合と炭化水素基とからなる総炭素数1〜12の有機基が好ましい。   As said C1-C12 organic group containing an oxygen atom, the organic group etc. which consist of a hydrogen atom, a carbon atom, and an oxygen atom etc. are mentioned, for example. Among these, an organic group having 1 to 12 carbon atoms in total consisting of an ether bond, a carbonyl group or an ester bond and a hydrocarbon group is preferable.

上記エーテル結合を有する総炭素数1〜12の有機基としては、例えば炭素数1〜12のアルコキシ基、炭素数2〜12のアルケニルオキシ基、炭素数2〜12のアルキニルオキシ基、炭素数6〜12のアリールオキシ基、炭素数2〜12のアルコキシアルキル基等が挙げられ、具体的には、メトキシ基、エトキシ基、プロポキシ基、イソプロピルオキシ基、ブトキシ基、フェノキシ基、プロペニルオキシ基、シクロヘキシルオキシ基、メトキシメチル基、アルキル置換フェノキシ基(アルキル基の炭素数は1〜4であり、アルキル基の数は1〜5である。)、フェニル置換フェノキシ基(フェニル基の数は1又は2である。)等が挙げられる。   Examples of the organic group having 1 to 12 carbon atoms having an ether bond include an alkoxy group having 1 to 12 carbon atoms, an alkenyloxy group having 2 to 12 carbon atoms, an alkynyloxy group having 2 to 12 carbon atoms, and 6 carbon atoms. -12 aryloxy group, C2-C12 alkoxyalkyl group, etc., specifically, methoxy group, ethoxy group, propoxy group, isopropyloxy group, butoxy group, phenoxy group, propenyloxy group, cyclohexyl An oxy group, a methoxymethyl group, an alkyl-substituted phenoxy group (the carbon number of the alkyl group is 1 to 4 and the number of the alkyl group is 1 to 5), a phenyl-substituted phenoxy group (the number of phenyl groups is 1 or 2) And the like.

上記カルボニル基を有する総炭素数1〜12の有機基としては、例えば炭素数2〜12のアシル基等が挙げられ、具体的には、アセチル基、プロピオニル基、イソプロピオニル基、ベンゾイル基等が挙げられる。   Examples of the organic group having 1 to 12 carbon atoms having a carbonyl group include an acyl group having 2 to 12 carbon atoms, and specifically, an acetyl group, a propionyl group, an isopropionyl group, a benzoyl group, and the like. Can be mentioned.

上記エステル結合を有する総炭素数1〜12の有機基としては、例えば炭素数2〜12のアシルオキシ基等が挙げられ、具体的には、アセチルオキシ基、プロピオニルオキシ基、イソプロピオニルオキシ基、ベンゾイルオキシ基等が挙げられる。   Examples of the organic group having 1 to 12 carbon atoms having an ester bond include an acyloxy group having 2 to 12 carbon atoms, and specifically include an acetyloxy group, a propionyloxy group, an isopropionyloxy group, and benzoyl. An oxy group etc. are mentioned.

上記窒素原子を含む炭素数1〜12の有機基としては、例えば水素原子、炭素原子及び窒素原子からなる有機基等が挙げられ、具体的には、シアノ基、イミダゾール基、トリアゾール基、ベンズイミダゾール基、ベンズトリアゾール基等が挙げられる。   As said C1-C12 organic group containing a nitrogen atom, the organic group which consists of a hydrogen atom, a carbon atom, and a nitrogen atom etc. is mentioned, for example, Specifically, a cyano group, an imidazole group, a triazole group, a benzimidazole is mentioned. Group, benztriazole group and the like.

上記酸素原子及び窒素原子を含む炭素数1〜12の有機基としては、例えば水素原子、炭素原子、酸素原子及び窒素原子からなる有機基が挙げられ、具体的には、オキサゾール基、オキサジアゾール基、ベンズオキサゾール基、ベンズオキサジアゾール基等が挙げられる。   As said C1-C12 organic group containing an oxygen atom and a nitrogen atom, the organic group which consists of a hydrogen atom, a carbon atom, an oxygen atom, and a nitrogen atom is mentioned, for example, Specifically, an oxazole group, an oxadiazole Group, benzoxazole group, benzoxadiazole group and the like.

上記式(1)におけるR〜Rとしては炭素数1〜12の1価の炭化水素基が好ましく、炭素数6〜12の芳香族炭化水素基がより好ましく、フェニル基がさらに好ましい。 As R < 1 > -R < 4 > in said Formula (1), a C1-C12 monovalent hydrocarbon group is preferable, a C6-C12 aromatic hydrocarbon group is more preferable, and a phenyl group is further more preferable.

上記式(1)において、a1及び/又はb1が1であるとき、RやRのベンゼン環への結合位置としては、それぞれのベンゼン環に結合する主鎖結合(エーテル結合)のベンゼン環への結合位置に対して、オルト位が、構造単位(1)を有する重合体を容易に得ることができる点から好ましい。また、この場合、RやRとしては、メチル基、フェニル基等の立体的にバルキーな基であることが好ましい。なお、以下、式(2)におけるR1’〜R4’、a2〜d2の例示や好ましい基、好ましい数値、結合位置は、それぞれ式(1)におけるR〜R、a1〜d1と同様である。例えば、R及びRの好ましい結合位置及び基は、構造単位(2)のR1’及びR2’においても同様である。 In the above formula (1), when a1 and / or b1 is 1, the bonding position of R 1 or R 2 to the benzene ring is a main chain bond (ether bond) benzene ring bonded to each benzene ring. The ortho position with respect to the bonding position to is preferable in that a polymer having the structural unit (1) can be easily obtained. In this case, R 1 and R 2 are preferably sterically bulky groups such as a methyl group and a phenyl group. In the following, examples of R 1 ′ to R 4 ′ and a2 to d2 in Formula (2), preferred groups, preferred numerical values, and bonding positions are the same as R 1 to R 4 and a1 to d1 in Formula (1), respectively. It is. For example, preferred bonding positions and groups for R 1 and R 2 are the same for R 1 ′ and R 2 ′ of the structural unit (2).

m1としては、0が好ましい。   As m1, 0 is preferable.

上記式(2)において、g1及び/又はh1が1であるとき、RやRのベンゼン環への結合位置としては、それぞれのベンゼン環に結合する主鎖結合のベンゼン環への結合位置に対して、オルト位が構造単位(2)を有する重合体を容易に得ることができる点から好ましい。なお、m1が1であり、g1が1である場合には、Rのベンゼン環への結合位置は、エーテル結合のベンゼン環への結合位置に対して、オルト位であることが好ましい。また、この場合、RやRとしては、メチル基、フェニル基のように立体的にバルキーな基が好ましい。なお、後述の式(4)におけるR7’、R8’、g2、h2の例示、好ましい基、結合部位もそれぞれ式(2)におけるR、R、g1、h1と同様である。 In the above formula (2), when g1 and / or h1 is 1, the bonding position of R 7 or R 8 to the benzene ring is the bonding position of the main chain bond bonded to each benzene ring to the benzene ring. On the other hand, the ortho-position is preferable in that a polymer having the structural unit (2) can be easily obtained. When m1 is 1 and g1 is 1, the bonding position of R 7 to the benzene ring is preferably ortho to the bonding position of the ether bond to the benzene ring. In this case, R 7 and R 8 are preferably sterically bulky groups such as a methyl group and a phenyl group. Examples, preferred groups, and bonding sites of R 7 ′ , R 8 ′ , g2 and h2 in the formula (4) described later are the same as R 7 , R 8 , g1 and h1 in the formula (2), respectively.

上記Yとしては、単結合が好ましい。 Y 1 is preferably a single bond.

上記R及びRで表されるハロゲン原子としては、例えばフッ素原子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原等が挙げられる。これらのうち、塩素原子、フッ素原子が好ましい。 Examples of the halogen atom represented by R 7 and R 8 include a fluorine atom, a chlorine atom, a bromine atom, and an iodine source. Among these, a chlorine atom and a fluorine atom are preferable.

上記R及びRで表される炭素数1〜12の1価の有機基としては、例えば上記式(1)においてR〜Rとして例示した炭素数1〜12の1価の有機基と同様の基等が挙げられる。これらのうち、炭素数1〜12の1価の炭化水素基が好ましく、炭素数6〜12の芳香族炭化水素基がより好ましく、フェニル基がさらに好ましい。 The monovalent organic group having 1 to 12 carbon atoms represented by R 7 and R 8 is, for example, a monovalent organic group having 1 to 12 carbon atoms exemplified as R 1 to R 4 in the above formula (1). And the like groups. Among these, a monovalent hydrocarbon group having 1 to 12 carbon atoms is preferable, an aromatic hydrocarbon group having 6 to 12 carbon atoms is more preferable, and a phenyl group is further preferable.

上記芳香族ポリエーテルは、下記式(3)で表される構造単位(以下、「構造単位(3)」ともいう)及び下記式(4)で表される構造単位(以下、「構造単位(4)」ともいう)からなる群より選ばれる少なくとも1種(以下、「構造単位(ii)」ともいう)をさらに有することが好ましい。上記芳香族ポリエーテルが構造単位(ii)をさらに有することで、得られる基材層の力学的特性を向上させることができる。   The aromatic polyether includes a structural unit represented by the following formula (3) (hereinafter also referred to as “structural unit (3)”) and a structural unit represented by the following formula (4) (hereinafter referred to as “structural unit ( It is preferable that the resin further has at least one selected from the group consisting of “4)” (hereinafter also referred to as “structural unit (ii)”). When the aromatic polyether further has the structural unit (ii), the mechanical properties of the obtained base material layer can be improved.

Figure 2016022684
Figure 2016022684

上記式(3)中、R及びRは、それぞれ独立して炭素数1〜12の1価の有機基である。Zは、単結合、−O−、−S−、−SO−、−CO−、−CONH−、−COO−又は炭素数1〜12の2価の有機基である。e1及びf1は、それぞれ独立して0〜4の整数である。n1は、0又は1である。 In the above formula (3), R 5 and R 6 are independently a monovalent organic group having 1 to 12 carbon atoms. Z 1 is a single bond, —O—, —S—, —SO 2 —, —CO—, —CONH—, —COO— or a divalent organic group having 1 to 12 carbon atoms. e1 and f1 are each independently an integer of 0 to 4. n1 is 0 or 1.

Figure 2016022684
Figure 2016022684

上記式(4)中、R5’及びR6’は、それぞれ独立して炭素数1〜12の1価の有機基である。Zは、単結合、−O−、−S−、−SO−、−CO−、−CONH−、−COO−又は炭素数1〜12の2価の有機基である。e2及びf2は、それぞれ独立して0〜4の整数である。n2は、0又は1である。R7’及びR8’は、それぞれ独立してハロゲン原子、炭素数1〜12の1価の有機基又はニトロ基である。Yは、単結合、−SO−又は−CO−である。m2は、0又は1である。但し、m2が0の場合、R7’はシアノ基ではない。g2及びh2は、それぞれ独立して0〜4の整数である。 In the above formula (4), R 5 ′ and R 6 ′ are each independently a monovalent organic group having 1 to 12 carbon atoms. Z 2 is a single bond, —O—, —S—, —SO 2 —, —CO—, —CONH—, —COO—, or a divalent organic group having 1 to 12 carbon atoms. e2 and f2 are each independently an integer of 0 to 4. n2 is 0 or 1. R 7 ′ and R 8 ′ each independently represent a halogen atom, a monovalent organic group having 1 to 12 carbon atoms, or a nitro group. Y 2 is a single bond, —SO 2 — or —CO—. m2 is 0 or 1. However, when m2 is 0, R 7 ′ is not a cyano group. g2 and h2 are each independently an integer of 0 to 4.

上記R及びRで表される炭素数1〜12の1価の有機基としては、上記(1)における炭素数1〜12の1価の有機基と同様の基等が挙げられる。 Examples of the monovalent organic group having 1 to 12 carbon atoms represented by R 5 and R 6 include the same groups as the monovalent organic group having 1 to 12 carbon atoms in (1) above.

上記Zで表される炭素数1〜12の2価の有機基としては、例えば炭素数1〜12の2価の炭化水素基、炭素数1〜12の2価のハロゲン化炭化水素基、酸素原子及び窒素原子からなる群より選ばれる少なくとも1種の原子を含む炭素数1〜12の2価の有機基、並びに酸素原子及び窒素原子からなる群より選ばれる少なくとも1種の原子を含む炭素数1〜12の2価のハロゲン化有機基等を挙げることができる。 Examples of the divalent organic group having 1 to 12 carbon atoms represented by Z 1 include a divalent hydrocarbon group having 1 to 12 carbon atoms, a divalent halogenated hydrocarbon group having 1 to 12 carbon atoms, A C1-C12 divalent organic group containing at least one atom selected from the group consisting of an oxygen atom and a nitrogen atom, and a carbon containing at least one atom selected from the group consisting of an oxygen atom and a nitrogen atom Examples thereof include divalent halogenated organic groups of 1 to 12.

上記炭素数1〜12の2価の炭化水素基としては、例えば炭素数1〜12の直鎖状又は分岐状の2価の炭化水素基、炭素数3〜12の2価の脂環式炭化水素基、炭素数6〜12の2価の芳香族炭化水素基等が挙げられる。   Examples of the divalent hydrocarbon group having 1 to 12 carbon atoms include a linear or branched divalent hydrocarbon group having 1 to 12 carbon atoms and a divalent alicyclic carbon group having 3 to 12 carbon atoms. A hydrogen group, a C6-C12 bivalent aromatic hydrocarbon group, etc. are mentioned.

上記炭素数1〜12の2価の炭化水素基としては、例えばメチレン基、エチレン基、トリメチレン基、イソプロピリデン基、ペンタメチレン基、ヘキサメチレン基、ヘプタメチレン基等が挙げられる。   Examples of the divalent hydrocarbon group having 1 to 12 carbon atoms include a methylene group, an ethylene group, a trimethylene group, an isopropylidene group, a pentamethylene group, a hexamethylene group, and a heptamethylene group.

上記炭素数3〜12の2価の脂環式炭化水素基としては、シクロプロピレン基、シクロブチレン基、シクロペンチレン基、シクロへキシレン基等のシクロアルキレン基;シクロ
ブテニレン基、シクロペンテニレン基、シクロヘキセニレン基等のシクロアルケニレン基等が挙げられる。この脂環式炭化水素基の結合部位は、脂環上のいずれの炭素でもよい。
Examples of the divalent alicyclic hydrocarbon group having 3 to 12 carbon atoms include a cycloalkylene group such as a cyclopropylene group, a cyclobutylene group, a cyclopentylene group, and a cyclohexylene group; a cyclobutenylene group and a cyclopentenylene group. And cycloalkenylene groups such as a cyclohexenylene group. The bonding site of the alicyclic hydrocarbon group may be any carbon on the alicyclic ring.

上記炭素数6〜12の2価の芳香族炭化水素基としては、フェニレン基、ナフチレン基、ビフェニレン基等が挙げられる。この芳香族炭化水素基の結合部位は、芳香族環上のい
ずれの炭素でもよい。
Examples of the divalent aromatic hydrocarbon group having 6 to 12 carbon atoms include a phenylene group, a naphthylene group, and a biphenylene group. The bonding site of the aromatic hydrocarbon group may be any carbon on the aromatic ring.

上記炭素数1〜12の2価のハロゲン化炭化水素基としては、例えば炭素数1〜12の2価のハロゲン化炭化水素基、炭素数3〜12の2価のハロゲン化脂環式炭化水素基、炭素数6〜12の2価のハロゲン化芳香族炭化水素基等が挙げられる。   Examples of the divalent halogenated hydrocarbon group having 1 to 12 carbon atoms include a divalent halogenated hydrocarbon group having 1 to 12 carbon atoms and a divalent halogenated alicyclic hydrocarbon group having 3 to 12 carbon atoms. Group, a bivalent halogenated aromatic hydrocarbon group having 6 to 12 carbon atoms, and the like.

上記炭素数1〜12の直鎖状又は分岐状の2価のハロゲン化炭化水素基としては、ジフロオロメチレン基、ジクロロメチレン基、テトラフルオロエチレン基、テトラクロロエチレン基、ヘキサフルオロトリメチレン基、ヘキサクロロトリメチレン基、ヘキサフルオロイソプロピリデン基、ヘキサクロロイソプロピリデン基等が挙げられる。   Examples of the linear or branched divalent halogenated hydrocarbon group having 1 to 12 carbon atoms include difluoromethylene group, dichloromethylene group, tetrafluoroethylene group, tetrachloroethylene group, hexafluorotrimethylene group, hexachloro A trimethylene group, a hexafluoroisopropylidene group, a hexachloroisopropylidene group, etc. are mentioned.

上記炭素数3〜12の2価のハロゲン化脂環式炭化水素基としては、例えば上記炭素数3〜12の2価の脂環式炭化水素基において例示した基の少なくとも一部の水素原子がフッ素原子、塩素原子、臭素原子又はヨウ素原子で置換された基等が挙げられる。   Examples of the divalent halogenated alicyclic hydrocarbon group having 3 to 12 carbon atoms include, for example, at least a part of hydrogen atoms of the groups exemplified in the divalent alicyclic hydrocarbon group having 3 to 12 carbon atoms. And a group substituted with a fluorine atom, a chlorine atom, a bromine atom or an iodine atom.

上記炭素数6〜12の2価のハロゲン化芳香族炭化水素基としては、例えば上記炭素数6〜12の2価の芳香族炭化水素基において例示した基の少なくとも一部の水素原子がフッ素原子、塩素原子、臭素原子又はヨウ素原子で置換された基等が挙げられる。   Examples of the divalent halogenated aromatic hydrocarbon group having 6 to 12 carbon atoms include a fluorine atom in which at least a part of the hydrogen atoms exemplified in the above divalent aromatic hydrocarbon group having 6 to 12 carbon atoms is a fluorine atom. , A group substituted with a chlorine atom, a bromine atom or an iodine atom.

上記酸素原子及び窒素原子からなる群より選ばれる少なくとも1種の原子を含む炭素数1〜12の有機基としては、例えば水素原子及び炭素原子と、酸素原子及び/又は窒素原子とからなる有機基等が挙げられ、エーテル結合、カルボニル基、エステル結合又はアミド結合と炭化水素基とを有する総炭素数1〜12の2価の有機基等が挙げられる。   Examples of the organic group having 1 to 12 carbon atoms containing at least one atom selected from the group consisting of the oxygen atom and the nitrogen atom include an organic group consisting of a hydrogen atom and a carbon atom, and an oxygen atom and / or a nitrogen atom. And a divalent organic group having 1 to 12 carbon atoms having an ether bond, a carbonyl group, an ester bond or an amide bond and a hydrocarbon group.

上記酸素原子及び窒素原子からなる群より選ばれる少なくとも1種の原子を含む炭素数1〜12の2価のハロゲン化有機基としては、具体的には、酸素原子及び窒素原子からな
る群より選ばれる少なくとも1種の原子を含む炭素数1〜12の2価の有機基において例
示した基の少なくとも一部の水素原子がフッ素原子、塩素原子、臭素原子又はヨウ素原
子で置換された基等が挙げられる。
Specifically, the divalent halogenated organic group having 1 to 12 carbon atoms containing at least one atom selected from the group consisting of the oxygen atom and nitrogen atom is specifically selected from the group consisting of an oxygen atom and a nitrogen atom. And a group in which at least a part of the hydrogen atoms exemplified in the divalent organic group having 1 to 12 carbon atoms containing at least one kind of atom is substituted with a fluorine atom, a chlorine atom, a bromine atom or an iodine atom, etc. It is done.

上記式(3)において、e1及び/又はf1が1であるとき、RやRのベンゼン環への結合位置としては、それぞれのベンゼン環に結合するエーテル結合のベンゼン環への結合位置に対して、オルト位が構造単位(3)を有する重合体を容易に得ることができる点から好ましい。また、この場合、RやRとしては、メチル基、フェニル基のような立体的にバルキーな基であることが好ましい。 In the above formula (3), when e1 and / or f1 is 1, the bonding position of R 5 or R 6 to the benzene ring is the bonding position of the ether bond bonded to each benzene ring to the benzene ring. On the other hand, the ortho-position is preferable because a polymer having the structural unit (3) can be easily obtained. In this case, R 5 and R 6 are preferably sterically bulky groups such as a methyl group and a phenyl group.

上記式(3)におけるZとしては、単結合、−O−、−SO−、−CO−又は炭素
数1〜12の2価の有機基が好ましく、炭素数1〜12の2価の炭化水素基、炭素数1〜12の2価のハロゲン化炭化水素基がより好ましい。
Z 1 in the above formula (3) is preferably a single bond, —O—, —SO 2 —, —CO— or a divalent organic group having 1 to 12 carbon atoms, and a divalent organic group having 1 to 12 carbon atoms. A hydrocarbon group and a divalent halogenated hydrocarbon group having 1 to 12 carbon atoms are more preferred.

上記式(4)におけるR5’及びR6’の例示、好ましい基は、それぞれ上記式(3)におけるR及びRと同様である。 Exemplary R 5 'and R 6' in the formula (4), preferred groups are respectively same as R 5 and R 6 in the formula (3).

上記式(4)におけるe2及びf2の好ましい数値は、上記式(3)におけるe1及びf1と同様である。   Preferred numerical values of e2 and f2 in the above formula (4) are the same as e1 and f1 in the above formula (3).

上記式(4)におけるZの例示、好ましい基は、それぞれ上記式(3)におけるZと同様である。 Examples and preferred groups of Z 2 in the above formula (4) are the same as Z 1 in the above formula (3).

上記n2としては、1が好ましい。   As said n2, 1 is preferable.

上記式(4)におけるR7’及びR8’の例示、好ましい基は、上記式(2)におけるR及びRとそれぞれ同様である。 Exemplary R 7 'and R 8' in the formula (4), preferred groups are respectively same as R 7 and R 8 in the formula (2).

上記式(4)におけるYの例示、好ましい基は、上記式(2)におけるYと同様である。 Examples and preferred groups of Y 2 in the above formula (4) are the same as those of Y 1 in the above formula (2).

上記式(4)におけるm2としては、0が好ましい。   As m2 in the above formula (4), 0 is preferable.

上記式(4)におけるg2及びh2の好ましい範囲は、上記式(2)におけるg1及びh1とそれぞれ同様である。   The preferable ranges of g2 and h2 in the above formula (4) are the same as g1 and h1 in the above formula (2), respectively.

上記炭素数1〜12の2価の炭化水素基としては、例えば炭素数1〜12の直鎖状又は分岐状の2価の炭化水素基、炭素数3〜12の2価の脂環式炭化水素基が好ましい。   Examples of the divalent hydrocarbon group having 1 to 12 carbon atoms include a linear or branched divalent hydrocarbon group having 1 to 12 carbon atoms and a divalent alicyclic carbon group having 3 to 12 carbon atoms. A hydrogen group is preferred.

上記芳香族ポリエーテルは、上記構造単位(i)と上記構造単位(ii)とのモル比(但し、両者(構造単位(i)+構造単位(ii))の合計は100である。)が、光学特性、耐熱性及び力学的特性の観点から構造単位(i):構造単位(ii)=50:50〜100:0であることが好ましく、構造単位(i):構造単位(ii)=70:30〜100:0であることがより好ましく、構造単位(i):構造単位(ii)=80:20〜100:0であることがさらに好ましい。また、芳香族ポリエーテルは、さらに主鎖に下記式(8−1)又は下記式(8−2)で表される構造を共重合させてもよい。このような構造とすることで、低複屈折率が得られる。   The aromatic polyether has a molar ratio of the structural unit (i) to the structural unit (ii) (however, the sum of the structural unit (i) and the structural unit (ii) is 100). From the viewpoint of optical properties, heat resistance and mechanical properties, the structural unit (i): structural unit (ii) is preferably 50:50 to 100: 0, and the structural unit (i): structural unit (ii) = 70:30 to 100: 0 is more preferable, and structural unit (i): structural unit (ii) is more preferably 80:20 to 100: 0. The aromatic polyether may further copolymerize a structure represented by the following formula (8-1) or the following formula (8-2) in the main chain. With such a structure, a low birefringence can be obtained.

Figure 2016022684
Figure 2016022684

上記式(8−1)及び上記式(8−2)中、sは、1〜4の整数である。   In the above formula (8-1) and the above formula (8-2), s is an integer of 1 to 4.

上記芳香族ポリエーテルは、光学特性、耐熱性及び力学的特性の観点から上記構造単位(i)及び上記構造単位(ii)を全構造単位中70モル%以上含むことが好ましく、全構造単位中95モル%以上含むことがより好ましい。   The aromatic polyether preferably contains 70 mol% or more of the structural unit (i) and the structural unit (ii) in the total structural units from the viewpoint of optical properties, heat resistance and mechanical properties. More preferably, it contains 95 mol% or more.

上記樹脂組成物は、その他添加剤として、例えば紫外線吸収剤、可塑剤、安定剤等を含有していてもよい。   The resin composition may contain, for example, an ultraviolet absorber, a plasticizer, a stabilizer, etc. as other additives.

上記基材層2の平均厚みとしては、特に限定されないが、10μm以上500μm以下が好ましく、20μm以上200μm以下がより好ましい。基材層2を上記範囲の平均厚みとすることで、耐屈曲性や強度等をよりバランスよく高めることができる。   Although it does not specifically limit as average thickness of the said base material layer 2, 10 micrometers or more and 500 micrometers or less are preferable, and 20 micrometers or more and 200 micrometers or less are more preferable. By setting the base material layer 2 to an average thickness in the above range, the bending resistance, strength, and the like can be improved in a balanced manner.

上記基材層2の製造方法としては、特に限定されないが、上記樹脂等を主成分とする材料を製膜すること等により製造することができる。かかる製膜方法としては、特に限定されないが、例えば溶剤キャスト法、溶融押出法、カレンダー法等の公知の成膜方法が挙げられる。なお、成膜後、基材層2には延伸処理が施されていてもよい。   Although it does not specifically limit as a manufacturing method of the said base material layer 2, It can manufacture by forming into a film the material which has the said resin etc. as a main component. The film forming method is not particularly limited, and examples thereof include known film forming methods such as a solvent casting method, a melt extrusion method, and a calender method. In addition, after the film formation, the base material layer 2 may be subjected to a stretching process.

(コート層3)
上記コート層3は、通常、硬化性組成物の塗布により形成される。この硬化性組成物の好ましい組成等は後に詳述する。
(Coat layer 3)
The coat layer 3 is usually formed by applying a curable composition. The preferred composition of this curable composition will be described in detail later.

上記コート層3の平均厚みとしては、0.05μm以上10μm以下が好ましく、0.1μm以上5μm以下がより好ましい。コート層3の平均厚みを上記範囲とすることで、耐屈曲性及び耐ブロッキング性を維持しつつ、透明性等を高めることができる。   The average thickness of the coat layer 3 is preferably 0.05 μm or more and 10 μm or less, and more preferably 0.1 μm or more and 5 μm or less. By setting the average thickness of the coat layer 3 within the above range, the transparency and the like can be improved while maintaining the bending resistance and the blocking resistance.

(硬化性組成物)
上記硬化性組成物は、有機粒子、無機粒子又はこれらの組み合わせを含有する。上記硬化性組成物は、さらにウレタン(メタ)アクリレート化合物(B)を含有することが好ましく、その他、他の(メタ)アクリレート化合物(C)等を含有することができる。また、上記硬化性組成物は、シランカップリング剤、各種無機粒子の分散剤等を含有していてもよい。
(Curable composition)
The curable composition contains organic particles, inorganic particles, or a combination thereof. It is preferable that the said curable composition contains a urethane (meth) acrylate compound (B) further, and can contain another (meth) acrylate compound (C) etc. in addition. The curable composition may contain a silane coupling agent, a dispersant for various inorganic particles, and the like.

(有機粒子)
上記有機粒子としては、アクリル系微粒子等の固体状のものが好適に用いられる。アクリル系微粒子としては、例えばメタクリル酸メチル重合体、メタクリル酸とアルキル化合物の共重合体等が挙げられる。有機粒子の市販品としては、例えばゼフィアックF−320、F−301、F−340、F−325、F−351(以上、ガンツ化成社製)、アクリル系微粒子MP−300(綜研化学社製)等が挙げられる。
(Organic particles)
As the organic particles, solid particles such as acrylic fine particles are preferably used. Examples of the acrylic fine particles include a methyl methacrylate polymer, a copolymer of methacrylic acid and an alkyl compound, and the like. Examples of commercially available organic particles include Zefiac F-320, F-301, F-340, F-325, F-351 (manufactured by Ganz Kasei Co., Ltd.), and acrylic fine particles MP-300 (manufactured by Soken Chemical Co., Ltd.). Etc.

(無機粒子(A1))
上記無機粒子(A1)としては、カリウム、カルシウム、ストロンチウム、バリウム、ハフニウム、ガリウム、ニオブ、ランタン、ケイ素、アルミニウム、ジルコニウム、チタニウム、亜鉛、ゲルマニウム、インジウム、スズ、アンチモン、セリウムの酸化物粒子、硫化物粒子、炭化物粒子、窒化物粒子又はこれらの組み合わせが好ましく、チタン、ジルコニウム、カリウム、スズ、ケイ素の酸化物粒子がより好ましい。このような無機粒子(A1)は高屈折粒子であるため、屈折率の比較的高いコート層を得ることができ、その結果、基材層との屈折率差を小さくできるので、得られる積層体の耐干渉縞性を向上させることができる。
(Inorganic particles (A1))
As the inorganic particles (A1), potassium, calcium, strontium, barium, hafnium, gallium, niobium, lanthanum, silicon, aluminum, zirconium, titanium, zinc, germanium, indium, tin, antimony, cerium oxide particles, sulfide Product particles, carbide particles, nitride particles, or a combination thereof is preferable, and oxide particles of titanium, zirconium, potassium, tin, and silicon are more preferable. Since such inorganic particles (A1) are highly refractive particles, a coating layer having a relatively high refractive index can be obtained, and as a result, the difference in refractive index from the base material layer can be reduced. The interference fringe resistance can be improved.

上記酸化物の粒子としては、例えば、シリカ、アルミナ、ジルコニア、酸化チタン、酸化亜鉛、酸化ゲルマニウム、酸化インジウム、酸化スズ、インジウムスズ酸化物(ITO)、酸化アンチモン、酸化セリウム等の粒子を挙げることができる。これら中でも、高硬度の観点から、シリカ、アルミナ、ジルコニア、酸化チタン及び酸化アンチモンの粒子が好ましい。これらは単独で又は2種以上を組み合わせて用いることができる。   Examples of the oxide particles include particles of silica, alumina, zirconia, titanium oxide, zinc oxide, germanium oxide, indium oxide, tin oxide, indium tin oxide (ITO), antimony oxide, cerium oxide, and the like. Can do. Among these, silica, alumina, zirconia, titanium oxide, and antimony oxide particles are preferable from the viewpoint of high hardness. These can be used alone or in combination of two or more.

上記酸化物粒子は、粉体状又は分散ゾルとして用いるのが好ましい。分散ゾルとして用いる場合、他の成分との分散性等の観点から、分散媒は有機分散媒が好ましい。このような有機分散媒としては、例えば、メタノール、エタノール、イソプロパノール、ブタノール、オクタノール等のアルコール類;アセトン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、シクロヘキサノン等のケトン類;酢酸エチル、酢酸ブチル、乳酸エチル、γ−ブチロラクトン、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート、プロピレングリコールモノエチルエーテルアセテート等のエステル類;エチレングリコールモノメチルエーテル、ジエチレングリコールモノブチルエーテル等のエーテル類;ベンゼン、トルエン、キシレン等の芳香族炭化水素類;ジメチルホルムアミド、ジメチルアセトアミド、N−メチルピロリドン等のアミド類を挙げることができる。これらの中でも、メタノール、イソプロパノール、ブタノール、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、酢酸エチル、酢酸ブチル、トルエン、キシレンが好ましい。   The oxide particles are preferably used in the form of powder or dispersed sol. When used as a dispersion sol, the dispersion medium is preferably an organic dispersion medium from the viewpoint of dispersibility with other components. Examples of such an organic dispersion medium include alcohols such as methanol, ethanol, isopropanol, butanol, and octanol; ketones such as acetone, methyl ethyl ketone, methyl isobutyl ketone, and cyclohexanone; ethyl acetate, butyl acetate, ethyl lactate, and γ- Esters such as butyrolactone, propylene glycol monomethyl ether acetate and propylene glycol monoethyl ether acetate; ethers such as ethylene glycol monomethyl ether and diethylene glycol monobutyl ether; aromatic hydrocarbons such as benzene, toluene and xylene; dimethylformamide and dimethylacetamide And amides such as N-methylpyrrolidone. Among these, methanol, isopropanol, butanol, methyl ethyl ketone, methyl isobutyl ketone, ethyl acetate, butyl acetate, toluene, and xylene are preferable.

なお、この粒子の分散性を改良するために各種カップリング剤、界面活性剤、分散剤を用いてもよい。カップリング剤としては、シランカップリング剤、チタンカップリング剤が挙げられ、例えば、信越化学工業社のKBE−1003、KBM−1003、KBM−303、KBM−403、KBM−402、KBE−403、KBE−402、KBM−1403、KBM−502、KBM−503、KBE−502、KBE−503、KBM−5103、KBM−9659等のシランカップリング剤、マツモトファインケミカル社、オルガチックスTC−100、同TC401、同TC−710、同TC−1040、同TC−201、同TC−750等のチタンカップリング剤等が挙げられる。また、界面活性剤、分散剤としては、例えばビックケミージャパン社のDisperBYK111、同171、同180、同2022、2152、BYK4510、Cray Valley社のSMA1000P、同SMA EF−30、東亞合成社のアルフォンUC−3900、同US−6110等が挙げられる。   In order to improve the dispersibility of the particles, various coupling agents, surfactants, and dispersants may be used. Examples of coupling agents include silane coupling agents and titanium coupling agents. For example, KBE-1003, KBM-1003, KBM-303, KBM-403, KBM-402, KBE-403 from Shin-Etsu Chemical Co., Ltd. Silane coupling agents such as KBE-402, KBM-1403, KBM-502, KBM-503, KBE-502, KBE-503, KBM-5103, KBM-9659, Matsumoto Fine Chemical Co., Ltd., Olgax TC-100, TC401 TC-710, TC-1040, TC-201, TC-750, and the like. Examples of the surfactant and dispersant include DisperBYK111, 171, 180, 2022, and 2152, BYK4510, BK1000, Cray Valley SMA1000P, SMA EF-30, Toagosei Co., Ltd., Alfon UC. -3900, US-6110, and the like.

ケイ素酸化物粒子(例えば、シリカ粒子)として市販されている商品としては、例えば、コロイダルシリカとして、日産化学工業社のメタノ−ルシリカゾル、IPA−ST−S、IPA−ST−ZL、IPA−ST−L、IPA−ST−UP、MEK−ST、MEK−ST−L、MEK−ST−UP、MEK−ST−ZL、NBA−ST、XBA−ST、DMAC−ST、ST−UP、ST−OUP、ST−20、ST−40、ST−C、ST−N、ST−O、ST−50、ST−OL等を挙げることができる。また粉体シリカとしては、日本アエロジル社のアエロジル130、アエロジル300、アエロジル380、アエロジルTT600、アエロジルOX50、旭硝子社のシルデックスH31、H32、H51、H52、H121、H122、日本シリカ工業社のE220A、E220、富士シリシア社のSYLYSIA470、日本板硝子社のSGフレ−ク等を挙げることができる。   Commercially available products as silicon oxide particles (for example, silica particles) include, for example, colloidal silica, methanol silica sol, IPA-ST-S, IPA-ST-ZL, IPA-ST- from Nissan Chemical Industries, Ltd. L, IPA-ST-UP, MEK-ST, MEK-ST-L, MEK-ST-UP, MEK-ST-ZL, NBA-ST, XBA-ST, DMAC-ST, ST-UP, ST-OUP, ST-20, ST-40, ST-C, ST-N, ST-O, ST-50, ST-OL, etc. can be mentioned. Examples of the powder silica include Aerosil 130, Aerosil 300, Aerosil 380, Aerosil TT600, Aerosil OX50, Silex H31, H32, H51, H52, H121, H122 from Asahi Glass Co., E220A from Nippon Silica Industry, E220, Fuji Silysia's SYLYSIA470, Nippon Sheet Glass's SG flakes, and the like.

アルミナ粒子の水分散品としては、日産化学工業社のアルミナゾル−100、−200、−520;アルミナ粒子のイソプロパノール分散品としては、住友大阪セメント社のAS−150I;アルミナ粒子のトルエン分散品としては、住友大阪セメント社のAS−150T;ジルコニア粒子のトルエン分散品としては、住友大阪セメント社のHXU−110JC;アンチモン酸亜鉛粉末の水分散品としては、日産化学工業社のセルナックス;アルミナ、酸化チタン、酸化スズ、酸化インジウム、酸化亜鉛等の粉末及び溶媒分散品としては、シーアイ化成社のナノテック;アンチモンドープ酸化スズの水分散ゾルとしては、石原産業社のSN−100D;ITO粉末としては、三菱マテリアル社の製品;酸化セリウム水分散液としては、多木化学社のニードラール等を挙げることができる。   As an aqueous dispersion of alumina particles, alumina sol-100, -200, -520 of Nissan Chemical Industries, Ltd. As an isopropanol dispersion of alumina particles, AS-150I of Sumitomo Osaka Cement Co., Ltd. As a toluene dispersion of alumina particles, AS-150T from Sumitomo Osaka Cement Co., Ltd. As a toluene dispersion of zirconia particles, HXU-110JC from Sumitomo Osaka Cement Co., Ltd. As an aqueous dispersion of zinc antimonate powder, Cellnax from Nissan Chemical Industries, Ltd .; alumina, oxidation As powders and solvent dispersions of titanium, tin oxide, indium oxide, zinc oxide and the like, nanotech of CI Kasei Co., Ltd .; as an aqueous dispersion sol of antimony-doped tin oxide, SN-100D of Ishihara Sangyo Co., Ltd .; Mitsubishi Materials' product; as a cerium oxide aqueous dispersion, Takika Mention may be made of the company Nidoraru the like of.

酸化チタン粒子のプロピレングリコールモノメチルエーテル分散液としては、例えば堺化学工業社の「SRD−PGME」、日揮触媒化成社の「OPTOLAKE−2120Z」等が挙げられる。   Examples of the propylene glycol monomethyl ether dispersion of titanium oxide particles include “SRD-PGME” manufactured by Sakai Chemical Industry Co., Ltd. and “OPTOLAKE-2120Z” manufactured by JGC Catalysts & Chemicals.

ジルコニア粒子の市販品としては、第一稀元素化学工業社の商品名:EP、UEP、RC、日本電工社の商品名:N−PC、PCS、東ソー社の TZ−3Y−E、TZ−4YS、TZ−6YS、TZ−8YS、TZ−10YS、TZ−0等を挙げることができる。酸化ジルコニウム系粒子のメチルエチルケトン分散液としては、例えば堺化学工業社の「SZR−K」、日産化学工業社の「ナノユースOZ−S30K」等が挙げられる。   As commercial products of zirconia particles, trade names of Daiichi Rare Chemicals Co., Ltd .: EP, UEP, RC, trade names of Nippon Electric Works: N-PC, PCS, TZ-3Y-E, TZ-4YS of Tosoh Corporation TZ-6YS, TZ-8YS, TZ-10YS, TZ-0, and the like. Examples of the methyl ethyl ketone dispersion of zirconium oxide-based particles include “SZR-K” manufactured by Sakai Chemical Industry Co., Ltd. and “Nanouse OZ-S30K” manufactured by Nissan Chemical Industries, Ltd.

上記酸化物粒子の形状は、特に限定されず、球状、中空状、多孔質状、環状、棒状、板状、繊維状、鎖状、不定形状等のものを用いることができるが、球状が好ましい。酸化物粒子の平均粒径としては、0.1μm以下が好ましく、0.05μm以下がより好ましく、0.03μm以下がさらに好ましい。   The shape of the oxide particles is not particularly limited, and may be spherical, hollow, porous, annular, rod-like, plate-like, fiber-like, chain-like, indefinite or the like, but spherical is preferred. . The average particle size of the oxide particles is preferably 0.1 μm or less, more preferably 0.05 μm or less, and further preferably 0.03 μm or less.

上記平均粒子径は、レーザー回折/散乱式粒度分布測定装置(例えば、HORIBA LB−550)を用いてバッチ式測定法により測定された散乱光データからMie理論により粒度分布を自動計算させることによって得たメジアン径を意味する。メジアン径は頻度分布が累積50%に相当する粒子径である。   The average particle size is obtained by automatically calculating the particle size distribution according to the Mie theory from scattered light data measured by a batch measurement method using a laser diffraction / scattering particle size distribution measuring apparatus (for example, HORIBA LB-550). Mean median diameter. The median diameter is a particle diameter corresponding to a cumulative frequency distribution of 50%.

(反応性粒子)
上記反応性粒子は、無機粒子(A1)と、特定の反応性基を有する有機化合物(A2)とを結合させて得ることができる。
(Reactive particles)
The reactive particles can be obtained by bonding inorganic particles (A1) and an organic compound (A2) having a specific reactive group.

(有機化合物(A2))
上記有機化合物(A2)は、反応性基として重合性不飽和基及び加水分解性シリル基を有する有機化合物である。
(Organic compound (A2))
The organic compound (A2) is an organic compound having a polymerizable unsaturated group and a hydrolyzable silyl group as a reactive group.

上記重合性不飽和基としては、特に制限はないが、例えば、アクリロイル基、メタクリロイル基、ビニル基、プロペニル基、ブタジエニル基、スチリル基、エチニル基、シンナモイル基、マレエ−ト基、アクリルアミド基等を挙げることができる。この重合性不飽和基は、活性ラジカル種により付加重合をする基である。   The polymerizable unsaturated group is not particularly limited, and examples thereof include acryloyl group, methacryloyl group, vinyl group, propenyl group, butadienyl group, styryl group, ethynyl group, cinnamoyl group, maleate group, and acrylamide group. Can be mentioned. This polymerizable unsaturated group is a group that undergoes addition polymerization with active radical species.

上記加水分解性シリル基とは、シラノール基又は加水分解によってシラノール基を生成する基である。シラノール基を生成する基としては、ケイ素原子にアルコキシ基、アリールオキシ基、アセトキシ基、アミノ基、ハロゲン原子等が結合した基を挙げることができるが、ケイ素原子にアルコキシ基又はアリールオキシ基が結合した基、すなわち、アルコキシシリル基又はアリールオキシシリル基を含有する有機化合物が好ましい。ここでアルコキシ基としては炭素数1〜8のアルコキシ基が好ましく、アリールオキシ基としては、炭素数6〜18のアリールオキシ基が好ましい。この加水分解性シリル基(シラノール基又はシラノール基を生成する基)は、縮合反応又は加水分解に続いて生じる縮合反応によって、無機粒子(A1)と結合する基である。   The hydrolyzable silyl group is a silanol group or a group that generates a silanol group by hydrolysis. Examples of the group that forms a silanol group include a group in which an alkoxy group, an aryloxy group, an acetoxy group, an amino group, a halogen atom, or the like is bonded to a silicon atom, but an alkoxy group or an aryloxy group is bonded to a silicon atom. An organic compound containing a selected group, that is, an alkoxysilyl group or an aryloxysilyl group is preferred. Here, the alkoxy group is preferably an alkoxy group having 1 to 8 carbon atoms, and the aryloxy group is preferably an aryloxy group having 6 to 18 carbon atoms. This hydrolyzable silyl group (a silanol group or a group that generates a silanol group) is a group that binds to the inorganic particles (A1) by a condensation reaction or a condensation reaction that occurs following hydrolysis.

上記有機化合物(A2)として、例えば、3−メタクリロイルオキシプロピルトリメトキシシラン、3−アクリロイルオキシプロピルトリメトキシシラン、2−メタクリロイルオキシエチルトリメトキシシラン、2−アクリロイルオキシエチルトリメトキシシラン、3−メタクリロイルオキシプロピルトリエトキシシラン、3−アクリロイルオキシプロピルトリエトキシシラン、2−メタクリロイルオキシエチルトリエトキシシラン、2−アクリロイルオキシエチルトリエトキシシラン、3−メタクリロイルオキシプロピルメチルジメトキシシラン、3−アクリロイルオキシプロピルメチルジメトキシシラン、ビニルトリメトキシシラン、ビニルトリエトキシシラン等から選択される、少なくとも1種のシラン化合物が挙げられる。   Examples of the organic compound (A2) include 3-methacryloyloxypropyltrimethoxysilane, 3-acryloyloxypropyltrimethoxysilane, 2-methacryloyloxyethyltrimethoxysilane, 2-acryloyloxyethyltrimethoxysilane, and 3-methacryloyloxy. Propyltriethoxysilane, 3-acryloyloxypropyltriethoxysilane, 2-methacryloyloxyethyltriethoxysilane, 2-acryloyloxyethyltriethoxysilane, 3-methacryloyloxypropylmethyldimethoxysilane, 3-acryloyloxypropylmethyldimethoxysilane, Examples thereof include at least one silane compound selected from vinyltrimethoxysilane and vinyltriethoxysilane.

これらの中でも、3−メタクリロイルオキシプロピルトリメトキシシラン、3−アクリロイルオキシプロピルトリメトキシシラン、3−メタクリロイルオキシプロピルトリエトキシシラン、3−アクリロイルオキシプロピルトリエトキシシラン、ビニルトリメトキシシラン、ビニルトリエトキシシランから選択される少なくとも1種のシラン化合物が、無機粒子(A1)との反応性が優れる点から好ましい。   Among these, from 3-methacryloyloxypropyltrimethoxysilane, 3-acryloyloxypropyltrimethoxysilane, 3-methacryloyloxypropyltriethoxysilane, 3-acryloyloxypropyltriethoxysilane, vinyltrimethoxysilane, vinyltriethoxysilane At least one silane compound selected is preferable from the viewpoint of excellent reactivity with the inorganic particles (A1).

有機化合物(A2)は、重合性不飽和基及び加水分解性シリル基に加えて、さらに、下記式(5)で表される基を有することが好ましい。   The organic compound (A2) preferably further has a group represented by the following formula (5) in addition to the polymerizable unsaturated group and the hydrolyzable silyl group.

Figure 2016022684
Figure 2016022684

式(5)中、Xは、NH、O又はSである。Yは、O又はSである。   In Formula (5), X is NH, O, or S. Y is O or S.

上記式(5)で表される基は、具体的には、[−O−C(=O)−NH−]、[−O−C(=S)−NH−]、[−S−C(=O)−NH−]、[−NH−C(=O)−NH−]、−NH−C(=S)−NH−]、及び[−S−C(=S)−NH−]の6種である。これらの基は、単独又は2種以上有していてもよい。これらの中でも、熱安定性の観点から、[−O−C(=O)−NH−]基に加えて、[−O−C(=S)−NH−]基及び[−S−C(=O)−NH−]基の少なくとも1つを有することが好ましい。上記式(5)で表される基は、分子間において水素結合による適度の凝集力を発生させ、硬化物にした場合、優れた機械的強度、基材層との密着性及び耐熱性、柔軟性等の特性を付与することができる。   Specific examples of the group represented by the above formula (5) include [—O—C (═O) —NH—], [—O—C (═S) —NH—], [—S—C. (= O) -NH-], [-NH-C (= O) -NH-], -NH-C (= S) -NH-], and [-S-C (= S) -NH-]. There are six types. These groups may be used alone or in combination of two or more. Among these, from the viewpoint of thermal stability, in addition to [—O—C (═O) —NH—] group, [—O—C (═S) —NH—] group and [—S—C ( ═O) —NH—] group is preferred. The group represented by the above formula (5) generates an appropriate cohesive force due to hydrogen bonding between molecules, and when made into a cured product, has excellent mechanical strength, adhesion to the base material layer, heat resistance, and flexibility. Properties such as properties can be imparted.

有機化合物(A2)としては、下記式(6)で表される化合物が好ましい。   As the organic compound (A2), a compound represented by the following formula (6) is preferable.

Figure 2016022684
Figure 2016022684

上記式(6)中、R、R及びRのうち少なくとも一つは、ヒドロキシ基、アルコキシ基又はアリールオキシ基であり、残余は、水素原子、アルキル基又はアリール基である。Rは、炭素数1〜12の脂肪族又は芳香族構造を有する2価の有機基である。Rは、2価の有機基である。Rは、(q+1)価の有機基である。Zは、活性ラジカル種の存在下、分子間架橋反応をする重合性不飽和基を有する1価の有機基である。qは、1〜20の整数である。 In the above formula (6), at least one of R 1 , R 2 and R 3 is a hydroxy group, an alkoxy group or an aryloxy group, and the remainder is a hydrogen atom, an alkyl group or an aryl group. R 4 is a divalent organic group having an aliphatic or aromatic structure having 1 to 12 carbon atoms. R 5 is a divalent organic group. R 6 is a (q + 1) valent organic group. Z is a monovalent organic group having a polymerizable unsaturated group that undergoes an intermolecular crosslinking reaction in the presence of an active radical species. q is an integer of 1-20.

上記式(6)中、R、R及びRで表されるアルコキシ基及びアルキル基としては炭素数1〜8のものが挙げられ、メトキシ基、エトキシ基、プロポキシ基、ブトキシ基、オクチルオキシ基、メチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基、オクチル基等が好ましい。また、アリールオキシ基及びアリール基としては炭素数6〜18のものが挙げられ、フェノキシ基、キシリルオキシ基、フェニル基、キシリル基等が好ましい。R(R)(R)Si−で表される基(加水分解性シリル基)としては、例えば、トリメトキシシリル基、トリエトキシシリル基、トリフェノキシシリル基、メチルジメトキシシリル基、ジメチルメトキシシリル基等を挙げることができる。このような基のうち、トリメトキシシリル基又はトリエトキシシリル基等が好ましい。 In the above formula (6), the alkoxy group and the alkyl group represented by R 1, R 2 and R 3 include those having 1 to 8 carbon atoms, a methoxy group, an ethoxy group, a propoxy group, a butoxy group, octyl An oxy group, a methyl group, an ethyl group, a propyl group, a butyl group, an octyl group and the like are preferable. Moreover, as an aryloxy group and an aryl group, a C6-C18 thing is mentioned, A phenoxy group, a xylyloxy group, a phenyl group, a xylyl group etc. are preferable. Examples of the group represented by R 1 (R 2 ) (R 3 ) Si— (hydrolyzable silyl group) include a trimethoxysilyl group, a triethoxysilyl group, a triphenoxysilyl group, a methyldimethoxysilyl group, and dimethyl. A methoxysilyl group etc. can be mentioned. Of these groups, a trimethoxysilyl group or a triethoxysilyl group is preferable.

は、その構造中に鎖状、分岐状又は環状構造を含んでいてもよい。このような構造として、例えばメチレン基、エチレン基、プロピレン基、メチルエチレン基、ブチレン基、メチルプロピレン基、オクタメチレン基、ドデカメチレン基等の炭素数1〜12の脂肪族基;シクロヘキシレン基等の炭素数3〜12の脂環式基;フェニレン基、2−メチルフェニレン基、3−メチルフェニレン基、ビフェニレン基等の炭素数6〜12の芳香族基等を挙げることができる。これらの中で好ましい例はメチレン基、プロピレン基、シクロヘキシレン基、フェニレン基等である。 R 4 may contain a chain, branched or cyclic structure in its structure. Examples of such a structure include an aliphatic group having 1 to 12 carbon atoms such as a methylene group, an ethylene group, a propylene group, a methylethylene group, a butylene group, a methylpropylene group, an octamethylene group, and a dodecamethylene group; a cyclohexylene group and the like And an alicyclic group having 3 to 12 carbon atoms; an aromatic group having 6 to 12 carbon atoms such as a phenylene group, a 2-methylphenylene group, a 3-methylphenylene group, and a biphenylene group. Among these, preferred examples include a methylene group, a propylene group, a cyclohexylene group, and a phenylene group.

としては、分子量(基を構成する原子の合計原子量)14〜1万、特に分子量76〜500の2価の有機基が好ましい。これらの有機基としては、脂肪族又は芳香族構造を有する2価の有機基が挙げられ、その構造として鎖状、分岐状又は環状構造を含んでいてもよい。そのような構造単位として、例えばメチレン基、エチレン基、プロピレン基、テトラメチレン基、ヘキサメチレン基、2,2,4−トリメチルヘキサメチレン基、1−(メチルカルボキシル)−ペンタメチレン基等の鎖状構造の骨格を有する2価の有機基;イソフォロン、シクロヘキシルメタン、メチレンビス(4−シクロヘキサン)、水添ジエニルメタン、水添キシレン、水添トルエン等の脂環式構造の骨格を有する2価の有機基;及びベンゼン、トルエン、キシレン、パラフェニレン、ジフェニルメタン、ジフェニルプロパン、ナフタレン等の芳香環構造の骨格を有する2価の有機基から選ぶことができる。 R 5 is preferably a divalent organic group having a molecular weight (total atomic weight of atoms constituting the group) of 14 to 10,000, particularly a molecular weight of 76 to 500. Examples of these organic groups include divalent organic groups having an aliphatic or aromatic structure, and the structure may include a chain, branched or cyclic structure. Examples of such a structural unit include a chain such as a methylene group, an ethylene group, a propylene group, a tetramethylene group, a hexamethylene group, a 2,2,4-trimethylhexamethylene group, and a 1- (methylcarboxyl) -pentamethylene group. A divalent organic group having a structure skeleton; a divalent organic group having an alicyclic structure skeleton such as isophorone, cyclohexylmethane, methylenebis (4-cyclohexane), hydrogenated dienylmethane, hydrogenated xylene, hydrogenated toluene; And a divalent organic group having a skeleton of an aromatic ring structure such as benzene, toluene, xylene, paraphenylene, diphenylmethane, diphenylpropane, and naphthalene.

としては、(q+1)価の直鎖状又は分岐状の飽和炭化水素基若しくは不飽和炭化水素基が挙げられる。より具体的には、上述したRの2価の有機基の他、2−エチル−2−メチレンプロピレン等の3価の有機基、イソシアヌル骨格を有する3価の有機基、2,2−ジメチレンプロピレン等の置換アルキレン等の4価の有機基、ジペンタエリスリトール由来のアルキレン等の6価の有機基が挙げられる。これらのうち、エチレン、2−エチル−2−メチレンプロピレン、イソシアヌル骨格を有する3価の有機基、2,2−ジメチレンプロピレン等の置換アルキレン、ジペンタエリスリトール由来のアルキレンが好ましい。 Examples of R 6 include a (q + 1) -valent linear or branched saturated hydrocarbon group or unsaturated hydrocarbon group. More specifically, in addition to the divalent organic group of R 5 described above, a trivalent organic group such as 2-ethyl-2-methylenepropylene, a trivalent organic group having an isocyanuric skeleton, 2,2-di- Examples include tetravalent organic groups such as substituted alkylene such as methylenepropylene, and hexavalent organic groups such as alkylene derived from dipentaerythritol. Of these, ethylene, 2-ethyl-2-methylenepropylene, trivalent organic groups having an isocyanuric skeleton, substituted alkylene such as 2,2-dimethylenepropylene, and alkylene derived from dipentaerythritol are preferable.

Zとしては、例えばアクリロキシ基、メタクリロキシ基、ビニル基、プロペニル基、ブタンジエニル基、スチリル基、エチニル基、シンナモイル基、マレエート基、アクリルアミド基等を例示することができる。これらのうち、アクリロキシ基、メタクリロキシ基及びビニル基がより好ましい。   Examples of Z include acryloxy group, methacryloxy group, vinyl group, propenyl group, butanedienyl group, styryl group, ethynyl group, cinnamoyl group, maleate group, acrylamide group and the like. Of these, an acryloxy group, a methacryloxy group, and a vinyl group are more preferable.

qは、1〜20の整数であるが、1〜10の整数が好ましく、1〜5の整数がより好ましい。   Although q is an integer of 1-20, the integer of 1-10 is preferable and the integer of 1-5 is more preferable.

これらの有機化合物(A2)は、例えば、特開平9−100111号公報に記載の方法により製造することができる。   These organic compounds (A2) can be produced, for example, by the method described in JP-A-9-100111.

無機粒子(A1)と有機化合物(A2)とを結合させる方法としては、特に限定されないが、
無機粒子(A1)と有機化合物(A2)とを、水を含む有機溶媒に混合し、加水分解・縮合反応を一度に行う方法、
予め有機化合物(A2)を水を含む有機溶媒の存在下で加水分解処理した後、無機粒子(A1)と縮合反応させる方法、
無機粒子(A1)と有機化合物(A2)とを水、有機溶媒、及び他の成分、例えば、分子内に2以上の重合性不飽和基を有する化合物、ラジカル重合開始剤等と混合し、加水分解・縮合反応を一度に行う方法
等が挙げられる。
The method for bonding the inorganic particles (A1) and the organic compound (A2) is not particularly limited,
A method in which the inorganic particles (A1) and the organic compound (A2) are mixed in an organic solvent containing water, and a hydrolysis / condensation reaction is performed at once;
A method in which the organic compound (A2) is hydrolyzed in the presence of an organic solvent containing water in advance and then subjected to a condensation reaction with the inorganic particles (A1).
The inorganic particles (A1) and the organic compound (A2) are mixed with water, an organic solvent, and other components such as a compound having two or more polymerizable unsaturated groups in the molecule, a radical polymerization initiator, and the like. Examples include a method in which a decomposition / condensation reaction is performed at once.

これらの方法により無機粒子(A1)表面のケイ素、アルミニウム、ジルコニウム、チタニウム、亜鉛、ゲルマニウム、インジウム、スズ、アンチモン及びセリウムよりなる群から選ばれる少なくとも一つの元素と、有機化合物(A2)分子中のケイ素原子が酸素原子を介して結合することにより、無機粒子(A1)と有機化合物(A2)とが化学的に結合した反応性粒子が得られる。   By these methods, at least one element selected from the group consisting of silicon, aluminum, zirconium, titanium, zinc, germanium, indium, tin, antimony and cerium on the surface of the inorganic particles (A1) and the organic compound (A2) in the molecule Reactive particles in which the inorganic particles (A1) and the organic compound (A2) are chemically bonded are obtained by bonding silicon atoms through oxygen atoms.

なお、無機粒子(A1)がシリカ粒子であり、有機化合物(A2)がシラノール基又シラノール基を生成する基を有する有機化合物(A2)である場合等には、これらを水又は水を含む有機溶媒に混合後、水又は有機溶媒を減圧又は常圧下で留去することにより、シリカ粒子と有機化合物(A2)とがシリルオキシ基を介して結合してなる重合反応性シリカ粒子を製造することができる。この反応は、例えば特開平9−100111号公報の記載に基づいて行うことができる。   In addition, when the inorganic particles (A1) are silica particles and the organic compound (A2) is an organic compound (A2) having a silanol group or a group that generates a silanol group, these are water or an organic containing water. After mixing with a solvent, water or an organic solvent is distilled off under reduced pressure or normal pressure to produce polymerization reactive silica particles in which silica particles and an organic compound (A2) are bonded via a silyloxy group. it can. This reaction can be performed, for example, based on the description in JP-A-9-100111.

複数の無機粒子(A1)を用いる場合は、それぞれの無機粒子(A1)を別々に有機化合物(A2)と加水分解・縮合反応を行ってもよいし、複数の無機粒子(A1)を事前に混合したのち、有機化合物(A2)と加水分解・縮合反応を行ってもよい。なお、球状及び鎖状の無機粒子(A1)を同時に有機化合物(A2)と反応させることにより、耐ブロッキング性に優れた硬化物が得られるため好ましく用いられる。   When using a plurality of inorganic particles (A1), each inorganic particle (A1) may be separately subjected to a hydrolysis / condensation reaction with the organic compound (A2), or the plurality of inorganic particles (A1) may be preliminarily used. After mixing, the organic compound (A2) may be subjected to a hydrolysis / condensation reaction. In addition, since the hardened | cured material excellent in blocking resistance is obtained by making a spherical and chain | strand-shaped inorganic particle (A1) react with an organic compound (A2) simultaneously, it is used preferably.

有機化合物(A2)の結合量は、反応性粒子(無機粒子(A1)及び有機化合物(A2)の合計)を100質量%として、好ましくは0.1質量%以上であり、さらに好ましくは1質量%以上、特に好ましくは3質量%以上40質量部以下である。結合した有機化合物(A2)の結合量が0.01質量%未満であると、組成物中における反応性粒子の分散性が十分でなく、得られる硬化物の透明性、耐ブロッキング等が十分でなくなる場合がある。   The binding amount of the organic compound (A2) is preferably 0.1% by mass or more, more preferably 1% by mass based on 100% by mass of the reactive particles (the total of the inorganic particles (A1) and the organic compound (A2)). % Or more, particularly preferably 3 mass% or more and 40 mass parts or less. When the bound amount of the bound organic compound (A2) is less than 0.01% by mass, the dispersibility of the reactive particles in the composition is not sufficient, and the resulting cured product has sufficient transparency, blocking resistance, and the like. It may disappear.

上記硬化性組成物における反応性粒子の含有量は、全固形分中、30質量%以上85質量%以下が好ましく、35質量%以上80質量%以下がさらに好ましい。30質量%未満であると、硬化物としたときに十分な硬度が得られない場合がある。逆に、90質量%を超えると、成膜性が不十分となり、また基材層との密着性が低下する等の不都合がある。なお、反応性粒子の含有量は、固形分を意味し、反応性粒子が分散媒分散ゾルの形態で用いられるときは、その含有量には分散媒の量を含まない。   The content of reactive particles in the curable composition is preferably 30% by mass to 85% by mass, and more preferably 35% by mass to 80% by mass in the total solid content. If it is less than 30% by mass, sufficient hardness may not be obtained when a cured product is obtained. On the other hand, when it exceeds 90% by mass, the film formability is insufficient, and the adhesion to the base material layer is lowered. The content of the reactive particles means a solid content, and when the reactive particles are used in the form of a dispersion medium-dispersed sol, the content does not include the amount of the dispersion medium.

(ウレタン(メタ)アクリレート化合物(B))
上記ウレタン(メタ)アクリレート化合物(B)は、得られる硬化物の耐屈曲性等を高める機能を有する。
(Urethane (meth) acrylate compound (B))
The said urethane (meth) acrylate compound (B) has a function which improves the bending resistance etc. of the hardened | cured material obtained.

ウレタン(メタ)アクリレート化合物(B)は、2個以上の(メタ)アクリロイル基を有することが好ましく、2個以上15個以下の(メタ)アクリロイル基を有することがさらに好ましい。   The urethane (meth) acrylate compound (B) preferably has 2 or more (meth) acryloyl groups, more preferably 2 or more and 15 or less (meth) acryloyl groups.

上記ウレタン(メタ)アクリレート化合物(B)としては、ゲルパーミエーションクロマトグラフィー(GPC)における、ポリスチレン換算数平均分子量が500〜50000であるウレタン(メタ)アクリレートが好適に使用される。ウレタン(メタ)アクリレート化合物(B)のGPCパターンは、HLC−8020型高速液体クロマトグラフ(東ソー株式会社製)を用い、GPC用カラムとしてスチレン・ジビニルベンゼン共重合体樹脂を用い、溶離液としてテトラヒドロフランを用いて測定する。ウレタン(メタ)アクリレート化合物(B)としては、分子量を(メタ)アクリロイル基の数で除した値が1,000を超えることが好ましい。   As said urethane (meth) acrylate compound (B), the urethane (meth) acrylate whose polystyrene conversion number average molecular weight is 500-50000 in a gel permeation chromatography (GPC) is used suitably. The GPC pattern of the urethane (meth) acrylate compound (B) uses an HLC-8020 high performance liquid chromatograph (manufactured by Tosoh Corporation), a styrene / divinylbenzene copolymer resin as a GPC column, and tetrahydrofuran as an eluent. Use to measure. As a urethane (meth) acrylate compound (B), it is preferable that the value obtained by dividing the molecular weight by the number of (meth) acryloyl groups exceeds 1,000.

上記ウレタン(メタ)アクリレート化合物(B)としては、(メタ)アクリロイル基及びウレタン結合を有する化合物であれば特に制限されるものではなく、その市販品としては、例えば、H−7、UN−5500、アートレジンUN−333、KY−111、UN−2600、UN−2700、H−34、UN−3320HA、UN−3320HS、UN−904M、UN−905(以上、根上工業社)、EBECRYL230、EBECRYL270、EBECRYL4858、EBECRYL8807、EBECRYL9260、EBECRYL9270(以上、ダイセル・オルネクス社)、U−4HA、U−6HA、U−6LPA、UA−1100H、UA−200PA、UA−4200、UA−122P、UA−53H、NKエステルABE−300、A9300、A−LEN−10、NKエステルAMP−10G、A−TMM−3LM−N、A−DPH、A−TMMT(以上、新中村化学工業社)、KAYRAD−R604(日本化薬社)、ファンクルFA−BZA(日立化成工業社)等が挙げられる。これらは単独で又は2種以上を組み合わせて用いることができる。   The urethane (meth) acrylate compound (B) is not particularly limited as long as it is a compound having a (meth) acryloyl group and a urethane bond. Examples of commercially available products thereof include H-7 and UN-5500. Art Resin UN-333, KY-111, UN-2600, UN-2700, H-34, UN-3320HA, UN-3320HS, UN-904M, UN-905 (above, Negami Industrial Co., Ltd.), EBECRYL230, EBECRYL270, EBECRYL4858, EBECRYL8807, EBECRYL9260, EBECRYL9270 (above, Daicel Ornex), U-4HA, U-6HA, U-6LPA, UA-1100H, UA-200PA, UA-4200, UA-122P, UA-53H, NK ABE-300, A9300, A-LEN-10, NK ester AMP-10G, A-TMM-3LM-N, A-DPH, A-TMMT (above, Shin-Nakamura Chemical Co., Ltd.), KAYRAD-R604 (Nipponization) Pharmaceutical Co., Ltd.), Funkuru FA-BZA (Hitachi Chemical Industry Co., Ltd.) These can be used alone or in combination of two or more.

これらの中でも、ウレタン(メタ)アクリレート化合物(B)としては、ベンゼン環、トリアジン環、シクロヘキサン環、シクロペンタン環などの環状構造を有するものが好ましい。   Among these, as a urethane (meth) acrylate compound (B), what has cyclic structures, such as a benzene ring, a triazine ring, a cyclohexane ring, a cyclopentane ring, is preferable.

上記ウレタン(メタ)アクリレート化合物(B)の含有量は、全固形分中、通常、10質量%以上60質量%以下であり、20質量%以上60質量%以下が好ましい。このような範囲とすることで、得られる積層体の耐屈曲性等を効果的に高めることができる。   Content of the said urethane (meth) acrylate compound (B) is 10 mass% or more and 60 mass% or less normally in a total solid, and 20 mass% or more and 60 mass% or less are preferable. By setting it as such a range, the bending resistance etc. of the laminated body obtained can be improved effectively.

また、上記ウレタン(メタ)アクリレート化合物(B)の含有量は、上記組成物中の(A)成分以外の全(メタ)アクリレート成分中、15質量%以上85質量%以下が好ましく、20質量%以上80質量%以下がより好ましい。このような含有量とすることで、コート層に良好な柔軟性が効果的に付与されるとともに、表面硬度とのより高いバランスが図れる。ここで、(A)成分以外の全(メタ)アクリレート成分とは、不溶性の粒子である(A)成分を除いた全可溶性成分中に含まれる(メタ)アクリレート成分((メタ)アクリロイル基を有する化合物)をいう。具体的には、(B)成分と、後に詳述する(C)成分の合計量を意味する。   Moreover, 15 mass% or more and 85 mass% or less are preferable in all (meth) acrylate components other than the (A) component in the said composition, and, as for content of the said urethane (meth) acrylate compound (B), 20 mass%. More preferably, it is 80 mass% or less. By setting it as such content, while a favorable softness | flexibility is effectively provided to a coating layer, the higher balance with surface hardness can be aimed at. Here, all (meth) acrylate components other than (A) component are (meth) acrylate components (having (meth) acryloyl groups) contained in all soluble components except (A) component which is insoluble particles. Compound). Specifically, it means the total amount of the component (B) and the component (C) described in detail later.

(他の(メタ)アクリレート化合物(C))
他の(メタ)アクリレート化合物(C)は、コート層3と基材層2との密着性を上げ、硬度を調節するために好適に用いられる。(メタ)アクリレート化合物(C)は、1分子中に1個以上の(メタ)アクリロイル基を有する化合物であり、例えば、(メタ)アクリルエステル類等を挙げることができる。
(Other (meth) acrylate compounds (C))
The other (meth) acrylate compound (C) is suitably used for increasing the adhesion between the coating layer 3 and the base material layer 2 and adjusting the hardness. The (meth) acrylate compound (C) is a compound having one or more (meth) acryloyl groups in one molecule, and examples thereof include (meth) acrylic esters.

(メタ)アクリルエステル類としては、トリメチロールプロパントリ(メタ)アクリレート、ジトリメチロールプロパンテトラ(メタ)アクリレート、ペンタエリスリトールトリ(メタ)アクリレート、ペンタエリスリトールテトラ(メタ)アクリレート、ジペンタエリスリトールペンタ(メタ)アクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサ(メタ)アクリレート、トリシクロデカンジメタノールジアクリレート、ジシクロペンテニルアクリレート、ジシクロペンテニルオキシエチルアクリレート、ジシクロペンタテニルアクリレート、フェノキシエチルアクリレート、グリセリントリ(メタ)アクリレート、トリス(2−ヒドロキシエチル)イソシアヌレートトリ(メタ)アクリレート、エチレングルコールジ(メタ)アクリレート、1,3−ブタンジオールジ(メタ)アクリレート、1,4−ブタンジオールジ(メタ)アクリレート、1,6−ヘキサンジオールジ(メタ)アクリレート、ネオペンチルグリコールジ(メタ)アクリレート、ジエチレングルコールジ(メタ)アクリレート、トリエチレングルコールジ(メタ)アクリレート、ジプロピレングルコールジ(メタ)アクリレート、ビス(2−ヒドロキシエチル)イソシアヌレートジ(メタ)アクリレート等の水酸基含有(メタ)アクリレート類、及びこれらの水酸基へのエチレンオキシド又はプロピレンオキシド付加物のポリ(メタ)アクリレート類、分子内に2以上の(メタ)アクリロイル基を有するオリゴエステル(メタ)アクリレート類、オリゴエーテル(メタ)アクリレート類、オリゴウレタン(メタ)アクリレート類、及びオリゴエポキシ(メタ)アクリレート類等を挙げることができる。   (Meth) acrylic esters include trimethylolpropane tri (meth) acrylate, ditrimethylolpropane tetra (meth) acrylate, pentaerythritol tri (meth) acrylate, pentaerythritol tetra (meth) acrylate, dipentaerythritol penta (meth) Acrylate, dipentaerythritol hexa (meth) acrylate, tricyclodecane dimethanol diacrylate, dicyclopentenyl acrylate, dicyclopentenyloxyethyl acrylate, dicyclopentenyl acrylate, phenoxyethyl acrylate, glycerin tri (meth) acrylate, tris ( 2-hydroxyethyl) isocyanurate tri (meth) acrylate, ethylene glycol di (meth) acrylate, 1 3-butanediol di (meth) acrylate, 1,4-butanediol di (meth) acrylate, 1,6-hexanediol di (meth) acrylate, neopentyl glycol di (meth) acrylate, diethylene glycol di (meth) Hydroxyl-containing (meth) acrylates such as acrylate, triethylene glycol di (meth) acrylate, dipropylene glycol di (meth) acrylate, bis (2-hydroxyethyl) isocyanurate di (meth) acrylate, and hydroxyl groups thereof Poly (meth) acrylates of adducts with ethylene oxide or propylene oxide, oligoesters (meth) acrylates having two or more (meth) acryloyl groups in the molecule, oligoethers (meth) acrylates, oligourethanes (meth) A Relate acids, and can be exemplified oligo epoxy (meth) acrylate, and the like.

これらの中でも、トリシクロデカンジメタノールジアクリレート、ペンタエリスリトールトリ(メタ)アクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサ(メタ)アクリレート、ジペンタエリスリトールペンタ(メタ)アクリレート、ペンタエリスリトールテトラ(メタ)アクリレート、ジトリメチロールプロパンテトラ(メタ)アクリレートが好ましい。   Among these, tricyclodecane dimethanol diacrylate, pentaerythritol tri (meth) acrylate, dipentaerythritol hexa (meth) acrylate, dipentaerythritol penta (meth) acrylate, pentaerythritol tetra (meth) acrylate, ditrimethylolpropane tetra (Meth) acrylate is preferred.

このような(メタ)アクリレート化合物(C)の市販品としては、例えば、東亞合成社のアロニックスM−400、M−408、M−450、M−305、M−309、M−310、M−315、M−320、M−350、M−360、M−208、M−210、M−215、M−220、M−225、M−233、M−240、M−245、M−260、M−270、M−1100、M−1200、M−1210、M−1310、M−1600、M−221、M−203、TO−924、TO−1270、TO−1231、TO−595、TO−756、TO−1343、TO−902、TO−904、TO−905、TO−1330、日本化薬社のKAYARAD D−310、D−330、DPHA、DPCA−20、DPCA−30、DPCA−60、DPCA−120、DN−0075、DN−2475、SR−295、SR−355、SR−399E、SR−494、SR−9041、SR−368、SR−415、SR−444、SR−454、SR−492、SR−499、SR−502、SR−9020、SR−9035、SR−111、SR−212、SR−213、SR−230、SR−259、SR−268、SR−272、SR−344、SR−349、SR−601、SR−602、SR−610、SR−9003、PET−30、T−1420、GPO−303、TC−120S、HDDA、NPGDA、TPGDA、PEG400DA、MANDA、HX−220、HX−620、R−551、R−712、R−167、R−526、R−551、R−712、R−604、R−684、TMPTA、THE−330、TPA−320、TPA−330、KS−HDDA、KS−TPGDA、KS−TMPTA、共栄社化学社のライトアクリレート PE−4A、DPE−6A、DTMP−4A、日立化成工業社のFA−511AS、FA−512AS、新中村化学工業社のNKエステルA−TMM−3LM−N等を挙げることができる。   Examples of commercially available products of such (meth) acrylate compound (C) include, for example, Aronix M-400, M-408, M-450, M-305, M-309, M-310, M- 315, M-320, M-350, M-360, M-208, M-210, M-215, M-220, M-225, M-233, M-240, M-245, M-260, M-270, M-1100, M-1200, M-1210, M-1310, M-1600, M-221, M-203, TO-924, TO-1270, TO-1231, TO-595, TO- 756, TO-1343, TO-902, TO-904, TO-905, TO-1330, Nippon Kayaku's KAYARAD D-310, D-330, DPHA, DPCA-20, DPCA-30 DPCA-60, DPCA-120, DN-0075, DN-2475, SR-295, SR-355, SR-399E, SR-494, SR-9041, SR-368, SR-415, SR-444, SR- 454, SR-492, SR-499, SR-502, SR-9020, SR-9035, SR-111, SR-212, SR-213, SR-230, SR-259, SR-268, SR-272, SR-344, SR-349, SR-601, SR-602, SR-610, SR-9003, PET-30, T-1420, GPO-303, TC-120S, HDDA, NPGDA, TPGDA, PEG400DA, MANDA, HX-220, HX-620, R-551, R-712, R-167, R-526, R-551, R-712, R-604, R-684, TMPTA, THE-330, TPA-320, TPA-330, KS-HDDA, KS-TPGDA, KS-TMPTA, Kyoeisha Chemical Light Acrylate PE-4A, DPE- 6A, DTMP-4A, Hitachi Chemical Co., Ltd. FA-511AS, FA-512AS, Shin Nakamura Chemical Co., Ltd. NK ester A-TMM-3LM-N, and the like.

上記他の(メタ)アクリレート化合物(C)の含有量は、全固形分中、1質量%以上50質量%以下が好ましく、5質量%以上40質量%以下がより好ましい。1質量%未満の場合は、この(C)成分の機能が十分に発揮されない場合があり、40質量%を超えると耐屈曲性等が低下するおそれがある。   The content of the other (meth) acrylate compound (C) is preferably 1% by mass or more and 50% by mass or less, and more preferably 5% by mass or more and 40% by mass or less in the total solid content. When the amount is less than 1% by mass, the function of the component (C) may not be sufficiently exhibited. When the amount exceeds 40% by mass, the bending resistance may be deteriorated.

(ラジカル重合開始剤(D))
上記硬化性組成物は、さらにラジカル重合開始剤(D)を含有していてもよい。上記ラジカル重合開始剤(D)としては、例えば、放射線(光)照射により活性ラジカル種を発生させる化合物(放射線(光)重合開始剤)、熱的に活性ラジカル種を発生させる化合物(熱重合開始剤)等を挙げることができる。なお、必要に応じて放射線(光)重合開始剤と熱重合開始剤とを併用することができる。
(Radical polymerization initiator (D))
The curable composition may further contain a radical polymerization initiator (D). Examples of the radical polymerization initiator (D) include a compound that generates active radical species (radiation (light) polymerization initiator) by radiation (light) irradiation, and a compound that thermally generates active radical species (thermal polymerization initiation). Agent) and the like. If necessary, a radiation (light) polymerization initiator and a thermal polymerization initiator can be used in combination.

放射線(光)重合開始剤としては、光照射により分解してラジカルを発生して重合を開始せしめるものであれば特に制限はなく、例えば、アセトフェノン、アセトフェノンベンジルケタール、1−ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトン、2,2−ジメトキシ−1,2−ジフェニルエタン−1−オン、キサントン、フルオレノン、ベンズアルデヒド、フルオレン、アントラキノン、トリフェニルアミン、カルバゾール、3−メチルアセトフェノン、4−クロロベンゾフェノン、4,4’−ジメトキシベンゾフェノン、4,4’−ジアミノベンゾフェノン、ベンゾインプロピルエーテル、ベンゾインエチルエーテル、ベンジルジメチルケタール、1−(4−イソプロピルフェニル)−2−ヒドロキシ−2−メチルプロパン−1−オン、2−ヒドロキシ−2−メチル−1−フェニルプロパン−1−オン、チオキサントン、ジエチルチオキサントン、2−イソプロピルチオキサントン、2−クロロチオキサントン、2−メチル−1−[4−(メチルチオ)フェニル]−2−モルホリノ−プロパン−1−オン、2−ベンジル−2−ジメチルアミノ−1−(4−モルフォリノフェニル)−ブタノン−1,4−(2−ヒドロキシエトキシ)フェニル−(2−ヒドロキシ−2−プロピル)ケトン、2,4,6−トリメチルベンゾイルジフェニルフォスフィンオキサイド、ビス−(2,6−ジメトキシベンゾイル)−2,4,4−トリメチルペンチルフォスフィンオキシド、オリゴ(2−ヒドロキシ−2−メチル−1−(4−(1−メチルビニル)フェニル)プロパノン)等を挙げることができる。   The radiation (photo) polymerization initiator is not particularly limited as long as it can be decomposed by light irradiation to generate radicals to initiate polymerization. For example, acetophenone, acetophenone benzyl ketal, 1-hydroxycyclohexyl phenyl ketone, 2 , 2-dimethoxy-1,2-diphenylethane-1-one, xanthone, fluorenone, benzaldehyde, fluorene, anthraquinone, triphenylamine, carbazole, 3-methylacetophenone, 4-chlorobenzophenone, 4,4′-dimethoxybenzophenone, 4,4′-diaminobenzophenone, benzoin propyl ether, benzoin ethyl ether, benzyl dimethyl ketal, 1- (4-isopropylphenyl) -2-hydroxy-2-methylpropan-1-one, 2-hydroxy Roxy-2-methyl-1-phenylpropan-1-one, thioxanthone, diethylthioxanthone, 2-isopropylthioxanthone, 2-chlorothioxanthone, 2-methyl-1- [4- (methylthio) phenyl] -2-morpholino-propane -1-one, 2-benzyl-2-dimethylamino-1- (4-morpholinophenyl) -butanone-1,4- (2-hydroxyethoxy) phenyl- (2-hydroxy-2-propyl) ketone, 2 , 4,6-trimethylbenzoyldiphenylphosphine oxide, bis- (2,6-dimethoxybenzoyl) -2,4,4-trimethylpentylphosphine oxide, oligo (2-hydroxy-2-methyl-1- (4- (1-methylvinyl) phenyl) propanone) and the like.

放射線(光)重合開始剤の市販品としては、例えば、チバ・スペシャルティ・ケミカルズ社の 商品名:イルガキュア184、369、651、500、819、907、784、2959、CGI1700、CGI1750、CGI1850、CG24−61、ダロキュア1116、1173、BASF社製 商品名:ルシリンTPO、UCB社製商品名:ユベクリルP36、フラテツリ・ランベルティ社製 商品名:エザキュアーKIP150、KIP65LT、KIP100F、KT37、KT55、KTO46、KIP75/B等を挙げることができる。   Examples of commercially available radiation (photo) polymerization initiators include trade names of Ciba Specialty Chemicals: Irgacure 184, 369, 651, 500, 819, 907, 784, 2959, CGI 1700, CGI 1750, CGI 1850, CG 24- 61, Darocur 1116, 1173, manufactured by BASF, Inc. Product name: Lucyrin TPO, UCB, Inc. Product name: Ubekril P36, Fratteri Lamberti, Inc. Product names: Ezacure KIP150, KIP65LT, KIP100F, KT37, KT55, KTO46, KIP75 / B Etc.

熱重合開始剤としては、例えば、過酸化物及びアゾ化合物を挙げることができ、具体例としては、ベンゾイルパーオキサイド、t−ブチル−パーオキシベンゾエート、アゾビスイソブチロニトリル等を挙げることができる。   Examples of the thermal polymerization initiator include peroxides and azo compounds. Specific examples include benzoyl peroxide, t-butyl-peroxybenzoate, and azobisisobutyronitrile. .

上記ラジカル重合開始剤(D)の含有量としては、全固形分中、0.01質量%以上10質量%以下が好ましく、0.1質量%以上5質量%以下がより好ましい。0.01質量%未満であると硬度が不十分となることがあり、10質量%を超えると内部(基材層2側)まで十分に硬化しないことがある。   As content of the said radical polymerization initiator (D), 0.01 to 10 mass% is preferable in a total solid, and 0.1 to 5 mass% is more preferable. If it is less than 0.01% by mass, the hardness may be insufficient, and if it exceeds 10% by mass, it may not be sufficiently cured to the inside (base material layer 2 side).

(その他の重合性化合物)
上記硬化性組成物は、その他の重合性化合物を含有していてもよい。この重合性化合物としては、ビニル化合物類を挙げることができる。
(Other polymerizable compounds)
The curable composition may contain other polymerizable compounds. Examples of the polymerizable compound include vinyl compounds.

このビニル化合物類としては、ジビニルベンゼン、エチレングリコールジビニルエーテル、ジエチレングリコールジビニルエーテル、トリエチレングリコールジビニルエーテル等を挙げることができる。   Examples of the vinyl compounds include divinylbenzene, ethylene glycol divinyl ether, diethylene glycol divinyl ether, and triethylene glycol divinyl ether.

(他の添加剤)
上記硬化性組成物は、さらに他の添加剤を含有していてもよい。上記添加剤としては、例えばアンチブロッキング材、レベリング剤、紫外線吸収剤、酸化防止剤、光安定剤、顔料、染料、充頃剤、分散剤、可塑剤、界面活性剤、チキソトロビー化剤、スリップ剤、防汚剤、帯電防止剤、抗菌剤、耐候剤、ブルーイング剤等が挙げられる。
(Other additives)
The curable composition may further contain other additives. Examples of the additive include an anti-blocking material, a leveling agent, an ultraviolet absorber, an antioxidant, a light stabilizer, a pigment, a dye, a filling agent, a dispersant, a plasticizer, a surfactant, a thixotropic agent, and a slip agent. Antifouling agents, antistatic agents, antibacterial agents, weathering agents, bluing agents and the like.

上記硬化性組成物は、アンチブロッキング材を含有することで、耐ブロッキング性を向上させることができる。上記硬化性組成物に添加するアンチブロッキング材としては、コート層の厚み10に対して好ましくは9以上12以下の粒径を有する粒子が好ましい。粒子の材質としては、有機の材質も無機の材質も挙げられ、特に限定されないが、好ましくは、有機の材質であり、例えば綜研化学社のケミスノーSX−130H、同MX−150、同MX−80H3WT、積水化学品工業社のデュオマスターXS−10、同XS−50、日本触媒社のエポスターS12、堺化学工業社のMC−1N等の有機粒子、根上工業社のアートパールMM−110SMA、同MM−110SPA等の有機粒子の有機溶媒分散液が挙げられる。アンチブロッキング材の添加量としては、上記硬化性組成物100質量部に対して、通常0.01質量部以上であり、0.005質量部以上0.1質量部未満が好ましい。   The said curable composition can improve blocking resistance by containing an anti-blocking material. As the anti-blocking material added to the curable composition, particles having a particle size of preferably 9 or more and 12 or less with respect to the thickness 10 of the coat layer are preferable. The material of the particle may be an organic material or an inorganic material, and is not particularly limited, but is preferably an organic material, for example, Chemisno SX-130H, MX-150, MX-80H3WT from Soken Chemical Co., Ltd. , Sekisui Chemical Co., Ltd. Duomaster XS-10, XS-50, Nippon Shokubai Co., Ltd. Eposter S12, Sakai Chemical Industry Co., Ltd. MC-1N organic particles, Negami Kogyo Co., Ltd. Art Pearl MM-110SMA, MM An organic solvent dispersion of organic particles such as -110 SPA. The addition amount of the anti-blocking material is usually 0.01 parts by mass or more and preferably 0.005 parts by mass or more and less than 0.1 parts by mass with respect to 100 parts by mass of the curable composition.

上記レベリング剤としては、シリコーン系又はフッ素系のレベリング剤を適宜選択して使用するのが好ましい。シリコーン系レベリング剤としては、ポリジメチルシロキサン、ポリメチルアルキルシロキサン、ポリエーテル変性ポリジメチルシロキサン、(メタ)アクリル基を有するポリシロキサン等を挙げることができる。   As the leveling agent, it is preferable to appropriately select and use a silicone-based or fluorine-based leveling agent. Examples of the silicone leveling agent include polydimethylsiloxane, polymethylalkylsiloxane, polyether-modified polydimethylsiloxane, polysiloxane having a (meth) acryl group, and the like.

上記紫外線吸収剤としては、ベンゾトリアゾール系、ベンゾフェノン系、サリチル酸系、シアノアクリレート系の各紫外線吸収剤等が挙げられる。   Examples of the ultraviolet absorber include benzotriazole-based, benzophenone-based, salicylic acid-based, and cyanoacrylate-based ultraviolet absorbers.

上記酸化防止剤としては、例えば、ヒンダードフェノール系、硫黄系、リン系の各酸化防止剤を挙げることができる。   Examples of the antioxidant include hindered phenol-based, sulfur-based, and phosphorus-based antioxidants.

上記光安定剤としては、ヒンダードアミン系光安定剤等を挙げることができる。   Examples of the light stabilizer include hindered amine light stabilizers.

これらの各添加剤は、単独で使用されてもよいし、2種類以上併用されてもよい。また、これらの他の添加剤の含有量としては、全固形分中、10質量%以下が好ましく、3質量部以下が好ましい。   Each of these additives may be used alone or in combination of two or more. Moreover, as content of these other additives, 10 mass% or less is preferable in a total solid, and 3 mass parts or less are preferable.

(溶媒)
上記硬化性組成物は、通常、粘度(塗工性)や塗膜の厚さを調整することと等のため、溶媒で希釈して用いられる。上記硬化性組成物の粘度としては、通常0.1〜50,000mPa・秒/25℃、好ましくは0.5〜10,000mPa・秒/25℃である。
(solvent)
The curable composition is usually used after being diluted with a solvent in order to adjust the viscosity (coating property) and the thickness of the coating film. As a viscosity of the said curable composition, it is 0.1-50,000 mPa * second / 25 degreeC normally, Preferably it is 0.5-10,000 mPa * second / 25 degreeC.

上記溶媒としては、アセトン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトンシクロペンタノン、シクロヘキサノン等のケトン類;酢酸エチル、酢酸ブチル等のエステル類;イソプロピルアルコール、エチルアルコール等のアルコール類;ベンゼン、トルエン、キシレン、メトキシベンゼン、1,2−ジメトキベンゼン等の芳香族炭化水素類;フェノール、パラクロロフェノール等のフェノール類;クロロホルム、ジクロロメタン、ジクロロエタン、テトラクロロエタン、トリクロロエチレン、テトラクロロエチレン、クロロベンゼン等のハロゲン化炭化水素類等があげられる。これら溶媒は1種を単独で、又は2種以上を混合して用いることができる。   Examples of the solvent include ketones such as acetone, methyl ethyl ketone, methyl isobutyl ketone cyclopentanone and cyclohexanone; esters such as ethyl acetate and butyl acetate; alcohols such as isopropyl alcohol and ethyl alcohol; benzene, toluene, xylene and methoxybenzene Aromatic hydrocarbons such as 1,2-dimethoxybenzene; phenols such as phenol and parachlorophenol; halogenated hydrocarbons such as chloroform, dichloromethane, dichloroethane, tetrachloroethane, trichloroethylene, tetrachloroethylene, and chlorobenzene It is done. These solvents can be used alone or in combination of two or more.

上記溶液の含有量は、70質量%以下が好ましく、より好ましくは30質量%以上60質量%以下である。   The content of the solution is preferably 70% by mass or less, more preferably 30% by mass to 60% by mass.

上記硬化性組成物の塗布方法は、特に制限されず、公知の方法を用いることができ、例えばディッピングコート、スプレーコ−ト、フローコ−ト、シャワーコート、ロールコート、スピンコート、刷毛塗り等を挙げることができる。   The coating method of the curable composition is not particularly limited, and a known method can be used, and examples thereof include dipping coating, spray coating, flow coating, shower coating, roll coating, spin coating, brush coating, and the like. be able to.

上記硬化性組成物の塗布後、好ましくは0〜200℃で溶媒(揮発成分)を乾燥させた後、熱及び/又は放射線で硬化処理を行うことによりコート層3を形成することができる。   After application of the curable composition, preferably after drying the solvent (volatile component) at 0 to 200 ° C., the coating layer 3 can be formed by performing a curing treatment with heat and / or radiation.

熱による場合、その熱源としては、例えば、電気ヒーター、赤外線ランプ、熱風等を用いることができる。熱による場合の好ましい硬化条件は20〜150℃であり、10秒〜24時間の範囲内で行われる。   When using heat, as the heat source, for example, an electric heater, an infrared lamp, hot air, or the like can be used. The preferable curing conditions in the case of heat are 20 to 150 ° C., and are performed within a range of 10 seconds to 24 hours.

放射線(光)による場合、その線源としては、組成物を塗布後短時間で硬化させることができるものである限り特に制限はないが、例えば、赤外線の線源として、ランプ、抵抗加熱板、レーザー等を、また可視光線の線源として、日光、ランプ、蛍光灯、レーザー等を、また紫外線の線源として、水銀ランプ、ハライドランプ、レーザー等を、また電子線の線源として、市販されているタングステンフィラメントから発生する熱電子を利用する方式、金属に高電圧パルスを通じて発生させる冷陰極方式及びイオン化したガス状分子と金属電極との衝突により発生する2次電子を利用する2次電子方式を挙げることができる。また、アルファ線、ベータ線及びガンマ線の線源として、例えば、Co60等の核分裂物質を用いることができ、ガンマ線については加速電子を陽極へ衝突させる真空管等を利用することができる。これら放射線は1種単独で又は2種以上を同時に又は一定期間をおいて照射することができる。 In the case of radiation (light), the radiation source is not particularly limited as long as the composition can be cured in a short time after application. For example, as an infrared radiation source, a lamp, a resistance heating plate, Commercially available lasers, etc., as visible ray sources, sunlight, lamps, fluorescent lamps, lasers, etc., ultraviolet ray sources, mercury lamps, halide lamps, lasers, etc., and electron beam sources Using thermionic electrons generated from tungsten filaments, cold cathode method for generating metal through high voltage pulse, and secondary electron method using secondary electrons generated by collision between ionized gaseous molecules and metal electrode Can be mentioned. Moreover, as a source of alpha rays, beta rays, and gamma rays, for example, a fission material such as Co 60 can be used. For the gamma rays, a vacuum tube that collides accelerated electrons with the anode can be used. These radiations can be irradiated alone or in combination of two or more at a certain time.

上記放射線としては、紫外線又は電子線を用いることが好ましい。そのような場合、好ましい紫外線の照射光量は0.01〜10J/cmであり、より好ましくは、0.1〜2J/cmである。また、好ましい電子線の照射条件は、加速電圧は10〜300kV、電子密度は0.02〜0.30mA/cmであり、電子線照射量は1〜10Mradである。 As the radiation, ultraviolet rays or electron beams are preferably used. In such a case, the preferable irradiation amount of ultraviolet rays is 0.01 to 10 J / cm 2 , more preferably 0.1 to 2 J / cm 2 . Moreover, preferable irradiation conditions of the electron beam are an acceleration voltage of 10 to 300 kV, an electron density of 0.02 to 0.30 mA / cm 2 , and an electron beam irradiation amount of 1 to 10 Mrad.

当該積層体1は、上述のように透明性、耐熱性、耐屈曲性、耐ブロッキング性、及び硬度が高く、ハンドリング性(ロール状への巻き取り及び巻き出しの際の作業性等)に優れる。従って、当該積層体1は、タッチパネル等の表示装置、メンブレンスイッチ、キーパッド等の表面材料として好適に用いられる。なお、タッチパネル等に用いられる場合、当該積層体1のコート層3の表面側に透明電極膜(ITO等)が積層される。   As described above, the laminate 1 has high transparency, heat resistance, bending resistance, blocking resistance, and hardness, and is excellent in handling properties (workability during winding and unwinding into a roll shape, etc.). . Therefore, the laminate 1 is suitably used as a surface material for display devices such as touch panels, membrane switches, and keypads. When used in a touch panel or the like, a transparent electrode film (ITO or the like) is laminated on the surface side of the coat layer 3 of the laminate 1.

上記硬化性組成物によりコート層を形成することで、耐屈曲性と耐ブロッキング性により優れる積層体を得ることができる。当該硬化性組成物は、コート層の形成材料として上述したものと同じであるので詳細な説明を省略する。   By forming a coat layer with the curable composition, a laminate excellent in bending resistance and blocking resistance can be obtained. Since the curable composition is the same as that described above as the material for forming the coat layer, a detailed description thereof will be omitted.

以下、実施例によって本発明をさらに詳細に説明するが、本発明はこれらの実施例に限定されるものではない。   EXAMPLES Hereinafter, although an Example demonstrates this invention further in detail, this invention is not limited to these Examples.

<基材層(I)の作製>
[基材層I−1の作製]
(重合体合成)
3Lの4つ口フラスコに(A)成分:2,6−ジフルオロベンゾニトリル(以下、「DFBN」ともいう。)35.12g(0.253mol)、(B)成分:9,9−ビス(4−ヒドロキシフェニル)フルオレン(以下、「BPFL」ともいう。)70.08g(0.200mol)、レゾルシノール(以下、「RES」ともいう。)5.51g(0.050mol)、炭酸カリウム41.46g(0.300mol)、N,N−ジメチルアセトアミド(以下、「DMAc」ともいう。)443gおよびトルエン111gを添加した。続いて、4つ口フラスコに温度計、撹拌機、窒素導入管付き三方コック、Dean−Stark管および冷却管を取り付けた。
<Preparation of base material layer (I)>
[Production of Base Material Layer I-1]
(Polymer synthesis)
In a 3 L four-necked flask, component (A): 35.12 g (0.253 mol) of 2,6-difluorobenzonitrile (hereinafter also referred to as “DFBN”), component (B): 9,9-bis (4 -Hydroxyphenyl) fluorene (hereinafter also referred to as “BPFL”) 70.08 g (0.200 mol), resorcinol (hereinafter also referred to as “RES”) 5.51 g (0.050 mol), 41.46 g of potassium carbonate ( 0.300 mol), 443 g of N, N-dimethylacetamide (hereinafter also referred to as “DMAc”) and 111 g of toluene were added. Subsequently, a thermometer, a stirrer, a three-way cock with a nitrogen introduction tube, a Dean-Stark tube and a cooling tube were attached to the four-necked flask.

次いで、フラスコ内を窒素置換した後、得られた溶液を140℃で3時間反応させ、生成する水をDean−Stark管から随時取り除いた。水の生成が認められなくなったところで、徐々に温度を160℃まで上昇させ、そのままの温度で6時間反応させた。
室温(25℃)まで冷却後、生成した塩をろ紙で除去し、ろ液をメタノールに投じて再沈殿させ、ろ別によりろ物(残渣)を単離した。得られたろ物を60℃で一晩真空乾燥し、白色粉末(重合体)を得た(収量95.67g、収率95%)。
Next, after the atmosphere in the flask was replaced with nitrogen, the obtained solution was reacted at 140 ° C. for 3 hours, and water produced was removed from the Dean-Stark tube as needed. When no more water was observed, the temperature was gradually raised to 160 ° C. and reacted at that temperature for 6 hours.
After cooling to room temperature (25 ° C.), the produced salt was removed with a filter paper, the filtrate was poured into methanol for reprecipitation, and the filtrate (residue) was isolated by filtration. The obtained filtrate was vacuum dried at 60 ° C. overnight to obtain a white powder (polymer) (yield 95.67 g, yield 95%).

得られた重合体の物性を表1に示す。得られた重合体の構造分析及び重量平均分子量の測定を行った。結果は、赤外吸収スペクトルの特性吸収が、3035(C−H伸縮)、2229cm−1(CN)、1574cm−1、1499cm−1(芳香環骨格吸収)、1240cm−1(−O−)であり、重量平均分子量が130,000であった。 Table 1 shows the physical properties of the obtained polymer. The obtained polymer was subjected to a structural analysis and a weight average molecular weight measurement. As a result, the characteristic absorption of the infrared absorption spectrum is 3035 (C—H stretching), 2229 cm −1 (CN), 1574 cm −1 , 1499 cm −1 (aromatic ring skeleton absorption), 1240 cm −1 (—O—). The weight average molecular weight was 130,000.

(フィルム作製)
次いで、得られた重合体をDMAcに再溶解し、重合体濃度20質量%の組成物を得た。上記組成物を、ポリエチレンテレフタラート(PET)からなる基材上にドクターブレードを用いて塗布し、70℃で30分乾燥させ、ついで100℃で30分乾燥してフィルムとした後、PET基材より剥離した。その後、フィルムを金枠に固定し、さらに230℃、2時間乾燥して、膜厚30μmの評価用フィルムを得た。得られた評価用フィルム(基材層I−1)は、ヘーズ=0.1%、全光線透過率=90.1%、b*=0.9、D線波長の屈折率が1.66であった。
(Film production)
Next, the obtained polymer was redissolved in DMAc to obtain a composition having a polymer concentration of 20% by mass. The above composition was applied onto a substrate made of polyethylene terephthalate (PET) using a doctor blade, dried at 70 ° C. for 30 minutes, then dried at 100 ° C. for 30 minutes to form a film, and then a PET substrate. More peeled. Thereafter, the film was fixed to a metal frame and further dried at 230 ° C. for 2 hours to obtain an evaluation film having a thickness of 30 μm. The obtained film for evaluation (base material layer I-1) has haze = 0.1%, total light transmittance = 90.1%, b * = 0.9, and the refractive index of D-line wavelength is 1.66. Met.

[基材層I−2の作製]
RES5.51gの代わりに2,2−ビス(4−ヒドロキシフェニル)プロパン11.41g(0.050mol)を使用した以外は、基材層I−1の作製と同様に行った。得られたフィルム(基材層I−2)は、ヘーズ=0.2%、全光線透過率=90.2%、b*=0.8、D線波長の屈折率が1.66であった。
[Production of Base Material Layer I-2]
It carried out similarly to preparation of the base material layer I-1 except having used 11.41 g (0.050 mol) of 2, 2-bis (4-hydroxyphenyl) propane instead of 5.51 g of RES. The obtained film (base material layer I-2) had haze = 0.2%, total light transmittance = 90.2%, b * = 0.8, and the refractive index of D-line wavelength was 1.66. It was.

[基材層I−3(比較例用)]
厚みが50μmの東レ社のポリエステルフィルム「ルミラー、グレード:U34」を用いた。基材層I−3は、ヘーズ=0.2%、全光線透過率=93.0%、b*=0.2、D線波長の屈折率が1.65であった。
[Base Material Layer I-3 (for Comparative Example)]
A polyester film “Lumirror, Grade: U34” manufactured by Toray Industries Inc. having a thickness of 50 μm was used. In the base material layer I-3, haze = 0.2%, total light transmittance = 93.0%, b * = 0.2, and the refractive index at the D-line wavelength was 1.65.

(ウレタン(メタ)アクリレート化合物(B))
実施例及び比較例で使用したウレタン(メタ)アクリレート化合物(B)成分を以下に示す。
(B−1):日立化成工業社のベンジルアクリレート、品名「ファンクルFA−BZA」分子量162、官能基数1
(B−2):新中村化学工業社のエトキシ化ビスフェノールAジアクリレート、品名「NKエステルABE300」、分子量466、官能基数2
(B−3):新中村化学工業社のε−カプロラクトン変性トリス−(2−アクリロイルキシエチル)イソシアヌレート、品名「NKエステルA9300」、分子量、官能基数3
(B−4):新中村化学工業社のエトキシ化o−フェニルフェノールアクリレート、品名「NKエステルA−LEN−10」、分子量268、官能基数1
(B−5):新中村化学工業社のフェノキシエチレングリコールアクリレート、品名「NKエステルAMP−10G」、分子量192、官能基数1
(B−6):日本化薬社のジオキサングリコールジアクリレート、品名「カヤラッドR604」、分子量326、官能基数2
(B−7):根上工業社のトリアジン環含むウレタンアクリレート、品名「アートレジンH−7」、分子量25729、官能基数4
(B−8):根上工業社のカーボネート系ウレタンアクリレート、品名「アートレジンUN−5500」、分子量50000、官能基数2
(B−9):新中村化学工業社のテトラメチロールメタントリ/テトラアクリレート、品名「NKエステルA−TMM−3LM−N」、分子量298、官能基数3〜4
(B−10):新中村化学工業社のジペンタエリスリトールヘキサアクリレート、品名「NKエステルA−DPH」、分子量578、官能基数6
(B−11):根上工業社のトリアジン環含むウレタンアクリレート、品名「アートレジンH−34」、分子量34100、官能基数4
(B−12):新中村化学工業社のジペンタエリスリトールテトラアクリレート、品名「NKエステルA−TMMT」、分子量352、官能基数4
(B−13):新中村化学工業社のジペンタエリスリトールヘキサアクリレート、品名「NKエステルA−DPH」、分子量578、官能基数6
(B−14):ダイセルオルネクス社の脂肪族ウレタンアクリレート、品名「EBECRYL270」、分子量1500、官能基数2
(Urethane (meth) acrylate compound (B))
The urethane (meth) acrylate compound (B) component used in Examples and Comparative Examples is shown below.
(B-1): Hitachi Chemical Co., Ltd. benzyl acrylate, product name “Funkle FA-BZA” molecular weight 162, functional group number 1
(B-2): Shin-Nakamura Chemical Co., Ltd. ethoxylated bisphenol A diacrylate, product name “NK ester ABE300”, molecular weight 466, functional group number 2
(B-3): ε-caprolactone-modified tris- (2-acryloyloxyethyl) isocyanurate manufactured by Shin-Nakamura Chemical Co., Ltd., product name “NK ester A9300”, molecular weight, functional group number 3
(B-4): Shin-Nakamura Chemical Co., Ltd. ethoxylated o-phenylphenol acrylate, product name “NK ester A-LEN-10”, molecular weight 268, number of functional groups 1
(B-5): Shin Nakamura Chemical Co., Ltd. phenoxyethylene glycol acrylate, product name “NK ester AMP-10G”, molecular weight 192, number of functional groups 1
(B-6): Nippon Kayaku Co., Ltd. dioxane glycol diacrylate, product name “Kayarad R604”, molecular weight 326, functional group number 2
(B-7): A urethane acrylate containing a triazine ring from Negami Kogyo Co., Ltd., product name “Art Resin H-7”, molecular weight 25729, functional group number 4
(B-8): Carbonate urethane acrylate from Negami Kogyo Co., Ltd., product name “Art Resin UN-5500”, molecular weight 50000, number of functional groups 2
(B-9): Shin-Nakamura Chemical Industry Tetramethylol Methanetri / Tetraacrylate, Product Name “NK Ester A-TMM-3LM-N”, Molecular Weight 298, Functional Group Number 3-4
(B-10): Shin-Nakamura Chemical Co., Ltd. dipentaerythritol hexaacrylate, product name “NK ester A-DPH”, molecular weight 578, number of functional groups 6
(B-11): urethane acrylate containing a triazine ring from Negami Kogyo Co., Ltd., product name “Art Resin H-34”, molecular weight 34100, functional group number 4
(B-12): Shin-Nakamura Chemical Co., Ltd. dipentaerythritol tetraacrylate, product name “NK Ester A-TMMT”, molecular weight 352, functional group number 4
(B-13): Dipentaerythritol hexaacrylate of Shin-Nakamura Chemical Co., Ltd., product name “NK Ester A-DPH”, molecular weight 578, number of functional groups 6
(B-14): Daicel Ornex's aliphatic urethane acrylate, product name “EBECRYL270”, molecular weight 1500, functional group number 2

(無機粒子成分)
A1−1:堺化学工業社の酸化チタン粒子のプロピレングリコールモノメチルエーテル分散液、品名「SRD−PGME」、平均粒径20nm、固形分量20質量%
A1−2:堺化学工業社の酸化ジルコニウム系粒子のメチルエチルケトン分散液、品名「SZR−K」、平均粒径6nm、固形分量30質量%
A1−3:日揮触媒化成社の酸化チタン系粒子のプロピレングリコールモノメチルエーテル分散液、品名「OPTOLAKE−2120Z」、平均粒径13nm、固形分量20質量%
A1−4:日産化学工業社の酸化ジルコニウム系粒子のメチルエチルケトン分散液、品名「ナノユースOZ−S30K」、平均粒径20nm、固形分量30質量%
A1−5:日産化学工業社のシリカ粒子のメチルエチルケトン分散液、品名「MEK−ST」、平均粒径20nm、固形分量30質量%
A1−6:日産化学工業社のシリカ粒子のメチルエチルケトン分散液、品名「MEK−ST−L」、平均粒径45nm、固形分量30質量%
(Inorganic particle component)
A1-1: Propylene glycol monomethyl ether dispersion of titanium oxide particles from Sakai Chemical Industry Co., Ltd., product name “SRD-PGME”, average particle size 20 nm, solid content 20% by mass
A1-2: Methyl ethyl ketone dispersion of zirconium oxide-based particles of Sakai Chemical Industry Co., Ltd., product name “SZR-K”, average particle size 6 nm, solid content 30% by mass
A1-3: Propylene glycol monomethyl ether dispersion of titanium oxide-based particles of JGC Catalysts & Chemicals, product name "OPTOLAKE-2120Z", average particle size 13 nm, solid content 20% by mass
A1-4: Methyl ethyl ketone dispersion of zirconium oxide-based particles of Nissan Chemical Industries, Ltd., product name “Nanouse OZ-S30K”, average particle size 20 nm, solid content 30% by mass
A1-5: Methyl ethyl ketone dispersion of silica particles of Nissan Chemical Industries, Ltd., product name “MEK-ST”, average particle size 20 nm, solid content 30% by mass
A1-6: Methyl ethyl ketone dispersion of silica particles of Nissan Chemical Industries, Ltd., product name “MEK-ST-L”, average particle size 45 nm, solid content 30% by mass

上記使用したウレタン(メタ)アクリレート化合物(B)のB−1〜B−14及び無機粒子成分A1−1〜A1−6の組成について、下記表1に示す。なお、表1中の化合物量の比率は質量比を示す。   The compositions of B-1 to B-14 and inorganic particle components A1-1 to A1-6 of the urethane (meth) acrylate compound (B) used above are shown in Table 1 below. In addition, the ratio of the amount of a compound in Table 1 shows mass ratio.

Figure 2016022684
Figure 2016022684

(硬化性組成物の調製)
硬化性組成物は、30mL遮光性スクリュー管瓶に、表2並びに表3中のコート層IIに記載の固形分配合比で、硬化性樹脂組成物成分、無機粒子成分、光重合開始剤を順次、メチルエチルケトンと混合し、その後ミックスローターにて、回転数40rpmの条件で、1時間撹拌した。これにより、固形分量20質量%の硬化性組成物のメチルエチルケトン希釈液20gを調製した。
(Preparation of curable composition)
The curable composition is a 30 mL light-shielding screw tube bottle, in which the curable resin composition component, the inorganic particle component, and the photopolymerization initiator are sequentially added at the solid content blending ratio described in the coating layer II in Table 2 and Table 3. Then, it was mixed with methyl ethyl ketone, and then stirred for 1 hour with a mix rotor under the condition of a rotation speed of 40 rpm. Thereby, 20 g of a methyl ethyl ketone diluted solution of a curable composition having a solid content of 20% by mass was prepared.

[実施例1]
(積層体の作製)
安田精機製作所社のオートアプリケーター(安田精機製作所社のNo542−AB−H)にA4サイズの基材フィルムを設置し、1/2インチ径、番手2のバーコーターを用い、硬化性組成物のメチルエチルケトン希釈液を2mL計量し、基材フィルム上に50mm/秒の速度にて、塗工を行なった。続いて、送風定温乾燥器(ヤマト科学社、型式:DKS402)を用い、100℃、3分間、溶媒を乾燥させ、窒素下にて、露光機(アイグラフィックス社のコンベア式紫外線露光機US2)を用い、水銀ランプにて、窒素下、UV積算光量600mJ/cmの条件下にて硬化樹脂組成物を硬化させ、積層体を得た。
[Example 1]
(Production of laminate)
Installed A4 size base film on Yasuda Seiki Seisakusho's auto applicator (Yasuda Seiki Seisakusho No. 542-AB-H), and used a 1/2 inch diameter, count 2 bar coater, methyl ethyl ketone as curable composition 2 mL of the diluted solution was weighed and applied on the base film at a speed of 50 mm / second. Subsequently, the solvent was dried at 100 ° C. for 3 minutes using an air-cooled constant temperature dryer (Yamato Scientific Co., Ltd., model: DKS402), and an exposure machine (conveyor type ultraviolet exposure machine US2 from I Graphics Co., Ltd.) under nitrogen. The cured resin composition was cured with a mercury lamp under a condition of a UV integrated light quantity of 600 mJ / cm 2 with a mercury lamp to obtain a laminate.

[評価]
得られた各基材層(I)、各コート層(II)、各積層体に対して、以下の各評価を行った。評価結果を表2及び表3に示す。
[Evaluation]
Each evaluation below was performed with respect to each obtained base material layer (I), each coating layer (II), and each laminated body. The evaluation results are shown in Tables 2 and 3.

(1)屈折率
大塚電子社の反射分光膜厚計FE−3000を用いて、波長589nmの屈折率を測定した。基材層とコート層との屈折率差が、0.05以下の場合はA、屈折率差が0.05を超える場合Bとした。
(1) Refractive index The refractive index of wavelength 589nm was measured using the reflective spectral film thickness meter FE-3000 of Otsuka Electronics. When the difference in refractive index between the base material layer and the coating layer was 0.05 or less, A was used.

(2)全光線透過率
村上色彩技術研究所社のヘーズ・透過率計HM−150を用い、JIS−K7105「プラスチックの光学的特性試験方法」に準拠し全光線透過率の測定を行った。全光線透過率が85%以上の場合をA、全光線透過率85%未満の場合をBとした。
(2) Total light transmittance The total light transmittance was measured using a haze / transmittance meter HM-150 manufactured by Murakami Color Research Laboratory Co., Ltd. according to JIS-K7105 “Testing method for optical properties of plastics”. The case where the total light transmittance was 85% or more was designated as A, and the case where the total light transmittance was less than 85% was designated as B.

(3)ヘーズ(%)
村上色彩技術研究所社のヘーズ・透過率計HM−150を用い、JIS−K7105「プラスチックの光学的特性試験方法」に準拠し測定を行った。ヘーズが1%以下の場合をA、ヘーズが1%を超える場合をBとした。
(3) Haze (%)
Using a haze / transmittance meter HM-150 manufactured by Murakami Color Research Laboratory Co., Ltd., the measurement was performed in accordance with JIS-K7105 “Testing methods for optical properties of plastics”. The case where the haze was 1% or less was designated as A, and the case where the haze exceeded 1% was designated as B.

(4)b*
日立ハイテクノロジーズ社の分光光度計U−4100を用い、波長範囲380〜780nmにて測定を行い、JIS−Z8729「色の表示方法─L*a*b*表色系及びL*u*v*表色系」に準拠し、b*を算出した。評価は、b*が1.5以下の場合Aと、b*が1.5を超える場合Bとした。
(4) b *
Using a spectrophotometer U-4100 manufactured by Hitachi High-Technologies Corporation, measurement is performed in the wavelength range of 380 to 780 nm, and JIS-Z8729 “Color display method: L * a * b * color system and L * u * v * B * was calculated based on “color system”. The evaluation was A when b * was 1.5 or less and B when b * exceeded 1.5.

(5)Δb*
ヤマト科学社の送風定温乾燥機DKS402をもちい、200℃、30分、加熱した後のb*を測定し、加熱前のb*との差を算出し、Δb*とした。評価は、Δb*が0.5以下の場合をA、Δb*が0.5を超える場合をBとした。
(5) Δb *
Using a Yamato Scientific air blowing constant temperature dryer DKS402, b * after heating at 200 ° C. for 30 minutes was measured, and the difference from b * before heating was calculated to be Δb *. The evaluation was A when Δb * was 0.5 or less, and B when Δb * exceeded 0.5.

(6)密着性
JIS−K5600−5−6「塗料一般試験方法−第5部:塗膜の機械的性質−第6節:付着性(クロスカット法)」に準拠し、測定、評価を行った。評価は、JIS−K5600−5−6表1に記載の分類0、すなわちコート層の剥離がない場合をAと、上記分類0以外、すなわちコート層の剥離ある場合をBとした。
(6) Adhesion Measurement and evaluation are performed in accordance with JIS-K5600-5-6 “General test method for coating materials—Part 5: Mechanical properties of coating film—Section 6: Adhesiveness (cross-cut method)” It was. Evaluation was classified as A in JIS-K5600-5-6 Table 1, that is, when there was no peeling of the coating layer, and when it was other than the above classification 0, that is, when there was peeling of the coating layer.

(7)耐折曲性
積層体を180度折り曲げた後、積層体を平滑に戻し、割れを確認した。評価は、積層体の任意の10カ所で行い、10カ所全て割れが無い場合をA、10カ所中1カ所以上割れが有る場合をBとした。
(7) Bending resistance After the laminate was bent 180 degrees, the laminate was returned to a smooth state and cracks were confirmed. The evaluation was performed at any 10 locations of the laminate, and A was given when there were no cracks at 10 locations, and B was given when there were 1 or more cracks among 10 locations.

(8)耐屈曲性
コーテック社のTQC円筒がたマンドレル屈曲試験器を用い、直径2mmのマンドレルを使用し、JIS−K5600−5−1に準拠し、測定した。評価は、クラックの発生が無い場合をA、クラックの発生がある場合をBとした。
(8) Bending resistance It measured based on JIS-K5600-5-1 using the mandrel 2mm in diameter using the TQC cylindrical mandrel bending tester of a Cortec company. The evaluation was A when no crack occurred and B when crack occurred.

(9)鉛筆硬度
東洋精機製作所社の鉛筆引掻塗膜硬さ試験機を用い、750g荷重、速度1.0mm/secの条件にて、JIS−K5600−5−4「塗料一般試験方法−第5部:塗膜の機械的性質−第4節:引っかき硬度(鉛筆法)」に準拠し、測定を行った。評価は、3B以上の場合をA、3B未満の場合をBとした。
(9) Pencil hardness JIS-K5600-5-4 “Paint general test method-No. 1” under the conditions of 750 g load and speed 1.0 mm / sec using a pencil scratch coating film hardness tester manufactured by Toyo Seiki Seisakusho. 5 parts: Mechanical properties of coating film-Section 4: Scratch hardness (pencil method) " In the evaluation, the case of 3B or more was A, and the case of less than 3B was B.

(10)耐傷付性
新東科学社のトライボステーションTYPE32を用い、日本スチールウール社のボンスター品番No.0000のスチールウールを評価サンプルに接触させ、荷重100g/cm2、速度6m/min、ストローク10cm、摺動回数10往復したのちの、傷の有無を目視評価した。評価は、傷の発生が無い場合をA、傷の発生が有る場合をBとした。
(10) Scratch resistance Using a tribostation TYPE32 from Shinto Kagaku Co., Ltd. After 0000 steel wool was brought into contact with the evaluation sample, the load was 100 g / cm 2, the speed was 6 m / min, the stroke was 10 cm, and the number of sliding operations was 10 times. The evaluation was A when no scratch was generated, and B when scratch was generated.

(11)耐干渉縞
パナソニック社のHf蛍光灯、品番FHF32EXNHを光源として、積層体に光をあて、斜め45度から目視で、干渉縞の発生の有無を判断した。評価は、干渉縞の発生が無い場合をA、干渉縞の発生が有る場合をBとした。
(11) Anti-interference fringes Using a Panasonic Hf fluorescent lamp, product number FHF32EXNH as a light source, light was applied to the laminate, and the presence or absence of interference fringes was determined visually at an angle of 45 degrees. The evaluation was A when no interference fringes were generated, and B when interference fringes were generated.

Figure 2016022684
Figure 2016022684

Figure 2016022684
Figure 2016022684

本発明の積層体は、耐傷付性、透明性、耐加熱着色性、耐熱性、耐折曲性、耐屈曲性、耐干渉縞に優れる。従って、本発明の積層体はタッチパネル等の材料として好適に用いることができる。   The laminate of the present invention is excellent in scratch resistance, transparency, heat coloring resistance, heat resistance, bending resistance, bending resistance, and interference fringe resistance. Therefore, the laminate of the present invention can be suitably used as a material for touch panels and the like.

1 積層体
2 基材層
3 コート層
1 Laminated body 2 Base material layer 3 Coat layer

Claims (12)

透明な基材層と、この基材層の少なくとも一方の面に積層されるコート層とを備える積層体であって、
上記基材層が、下記式(0)で表される構造単位を有する芳香族ポリエーテルを含む樹脂組成物により形成されており、
上記コート層が、有機粒子、無機粒子又はこれらの組み合わせを含有する硬化性組成物により形成されることを特徴とする積層体。
Figure 2016022684
(式(0)中、Ar、Ar、Ar及びArは、それぞれ独立して、2価の芳香族炭化水素基又は2価のヘテロ芳香族基である。但し、上記芳香族炭化水素基及びヘテロ芳香族基が有する水素原子の一部又は全部は、置換されていてもよい。Rは、単結合又は炭素数1〜20の2価の炭化水素基である。但し、上記炭素数1〜20の2価の炭化水素基が有する水素原子の一部又は全部は、置換されていてもよい。上記炭素数1〜20の2価の炭化水素基は、エステル基、エーテル基又はカルボニル基を構造中に有していてもよい。Yは、カルボニル基又はスルホニル基である。mは、0又は1である。nは、0又は1である。)
A laminate comprising a transparent substrate layer and a coat layer laminated on at least one surface of the substrate layer,
The base material layer is formed of a resin composition containing an aromatic polyether having a structural unit represented by the following formula (0),
The said coating layer is formed with the curable composition containing an organic particle, an inorganic particle, or these combination, The laminated body characterized by the above-mentioned.
Figure 2016022684
(In the formula (0), Ar 1 , Ar 2 , Ar 3 and Ar 4 are each independently a divalent aromatic hydrocarbon group or a divalent heteroaromatic group, provided that the above aromatic carbonization is performed. Some or all of the hydrogen atoms of the hydrogen group and heteroaromatic group may be substituted, and R 0 is a single bond or a divalent hydrocarbon group having 1 to 20 carbon atoms, provided that the above Some or all of the hydrogen atoms of the divalent hydrocarbon group having 1 to 20 carbon atoms may be substituted, and the divalent hydrocarbon group having 1 to 20 carbon atoms may be an ester group or an ether group. Or a carbonyl group may be present in the structure, Y is a carbonyl group or a sulfonyl group, m is 0 or 1, and n is 0 or 1.)
上記芳香族ポリエーテルが、上記式(0)で表される構造単位として、下記式(1)で表される構造単位、下記式(2)で表される構造単位又はこれらの組み合わせを有する請求項1に記載の積層体。
Figure 2016022684
(式(1)中、R〜Rは、それぞれ独立して炭素数1〜12の1価の有機基である。a1〜d1は、それぞれ独立して0〜4の整数である。)
Figure 2016022684
(式(2)中、R1’〜R4’は、それぞれ独立して炭素数1〜12の1価の有機基である。a2〜d2は、それぞれ独立して、0〜4の整数である。Yは、単結合、−SO−又は−CO−である。R及びRは、それぞれ独立してハロゲン原子、炭素数1〜12の1価の有機基又はニトロ基である。g1及びh1は、それぞれ独立して0〜4の整数である。m1は、0又は1である。但し、m1が0の場合、Rはシアノ基ではない。)
The aromatic polyether has a structural unit represented by the following formula (1), a structural unit represented by the following formula (2), or a combination thereof as the structural unit represented by the above formula (0). Item 2. The laminate according to Item 1.
Figure 2016022684
(In formula (1), R 1 to R 4 are each independently a monovalent organic group having 1 to 12 carbon atoms. A 1 to d 1 are each independently an integer of 0 to 4)
Figure 2016022684
(In formula (2), R 1 ′ to R 4 ′ are each independently a monovalent organic group having 1 to 12 carbon atoms. A2 to d2 are each independently an integer of 0 to 4. Y 1 is a single bond, —SO 2 — or —CO—, and R 7 and R 8 are each independently a halogen atom, a monovalent organic group having 1 to 12 carbon atoms or a nitro group. G1 and h1 are each independently an integer of 0 to 4. m1 is 0 or 1. However, when m1 is 0, R 7 is not a cyano group.
上記芳香族ポリエーテルが、下記式(3)で表される構造単位、下記式(4)で表される構造単位又はこれらの組み合わせをさらに有する請求項1又は請求項2に記載の積層体。
Figure 2016022684
(式(3)中、R及びRは、それぞれ独立して炭素数1〜12の1価の有機基である。Zは、単結合、−O−、−S−、−SO−、−CO−、−CONH−、−COO−又は炭素数1〜12の2価の有機基である。e1及びf1は、それぞれ独立して0〜4の整数である。n1は、0又は1である。)
Figure 2016022684
(式(4)中、R5’及びR6’は、それぞれ独立して炭素数1〜12の1価の有機基である。Zは、単結合、−O−、−S−、−SO−、−CO−、−CONH−、−COO−又は炭素数1〜12の2価の有機基である。e2及びf2は、それぞれ独立して0〜4の整数である。n2は、0又は1である。R7’及びR8’は、それぞれ独立してハロゲン原子、炭素数1〜12の1価の有機基又はニトロ基である。Yは、単結合、−SO−又は−CO−である。m2は、0又は1である。但し、m2が0の場合、R7’はシアノ基ではない。g2及びh2は、それぞれ独立して0〜4の整数である。)
The laminate according to claim 1 or 2, wherein the aromatic polyether further comprises a structural unit represented by the following formula (3), a structural unit represented by the following formula (4), or a combination thereof.
Figure 2016022684
(In Formula (3), R 5 and R 6 are each independently a monovalent organic group having 1 to 12 carbon atoms. Z 1 is a single bond, —O—, —S—, —SO 2. -, -CO-, -CONH-, -COO-, or a divalent organic group having 1 to 12 carbon atoms, e1 and f1 are each independently an integer of 0 to 4. n1 is 0 or 1)
Figure 2016022684
(In Formula (4), R 5 ′ and R 6 ′ are each independently a monovalent organic group having 1 to 12 carbon atoms. Z 2 is a single bond, —O—, —S—, — SO 2- , -CO-, -CONH-, -COO- or a divalent organic group having 1 to 12 carbon atoms, e2 and f2 are each independently an integer of 0 to 4. n2 is Each of R 7 ′ and R 8 ′ is independently a halogen atom, a monovalent organic group having 1 to 12 carbon atoms, or a nitro group, Y 2 is a single bond, —SO 2 —; Or —CO—, m2 is 0 or 1. However, when m2 is 0, R 7 ′ is not a cyano group, and g2 and h2 are each independently an integer of 0 to 4. )
上記コート層の平均厚みが0.05μm以上10μm以下である請求項1、請求項2又は請求項3に記載の積層体。   The laminate according to claim 1, wherein the average thickness of the coat layer is 0.05 μm or more and 10 μm or less. 上記無機粒子が、カリウム、カルシウム、ストロンチウム、バリウム、ハフニウム、ガリウム、ニオブ、ランタン、ケイ素、アルミニウム、ジルコニウム、チタニウム、亜鉛、ゲルマニウム、インジウム、スズ、アンチモン、セリウムの酸化物粒子、硫化物粒子、炭化物粒子、窒化物粒子又はこれらの組み合わせを含む請求項1から請求項4のいずれか1項に記載の積層体。   The inorganic particles are potassium, calcium, strontium, barium, hafnium, gallium, niobium, lanthanum, silicon, aluminum, zirconium, titanium, zinc, germanium, indium, tin, antimony, cerium oxide particles, sulfide particles, carbides The laminate according to any one of claims 1 to 4, comprising particles, nitride particles, or a combination thereof. 上記硬化性組成物が紫外線硬化性組成物である請求項1から請求項5のいずれか1項に記載の積層体。   The laminate according to any one of claims 1 to 5, wherein the curable composition is an ultraviolet curable composition. JIS−K5600−5−6:1999に準拠したクロスカット法による密着性試験において、上記基材層と上記コート層との間の密着性が分類0又は1である請求項1から請求項6のいずれか1項に記載の積層体。   The adhesion between the base material layer and the coating layer is classified as 0 or 1 in the adhesion test by the cross-cut method according to JIS-K5600-5-6: 1999. The laminated body of any one of Claims. JIS−K5600−5−1:1999に準拠した円筒形マンドレル法による耐屈曲性試験において、クラックが生じるマンドレルの直径が2mm以下である請求項1から請求項7のいずれか1項に記載の積層体。   The lamination according to any one of claims 1 to 7, wherein in a bending resistance test by a cylindrical mandrel method according to JIS-K5600-5-1: 1999, a diameter of a mandrel in which a crack occurs is 2 mm or less. body. JIS−K5600−5−4:1999に準拠して測定される上記コート層の表面の鉛筆硬度が3B以上である請求項1から請求項8のいずれか1項に記載の積層体。   The laminate according to any one of claims 1 to 8, wherein a pencil hardness of the surface of the coat layer measured in accordance with JIS-K5600-5-4: 1999 is 3B or more. 波長589.3nmにおける上記基材層と上記コート層との屈折率差が、0.05以下である請求項1から請求項9のいずれか1項に記載の積層体。   The laminate according to any one of claims 1 to 9, wherein a difference in refractive index between the base material layer and the coat layer at a wavelength of 589.3 nm is 0.05 or less. JIS−K7105に準拠して測定される全光線透過率が85%以上であり、ヘーズ値が1%以下である請求項1から請求項10のいずれか1項に記載の積層体。   The laminate according to any one of claims 1 to 10, wherein the total light transmittance measured in accordance with JIS-K7105 is 85% or more and the haze value is 1% or less. JIS−Z8729:2004に準拠して測定されるCIELABのL表色系でのbが、1.5以下であり、かつ200℃、30分加熱後のbの変化量Δbが0.5以下である請求項1から請求項11のいずれか1項に記載の積層体。 JIS-Z8729: in the CIELAB of L * a * b * color system are measured in accordance with 2004 b * is 1.5 or less and 200 ° C., the amount of change in b * after heating 30 minutes The laminate according to any one of claims 1 to 11, wherein Δb * is 0.5 or less.
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