JP2016020409A - コーティング組成物及び光学部材 - Google Patents
コーティング組成物及び光学部材 Download PDFInfo
- Publication number
- JP2016020409A JP2016020409A JP2014143665A JP2014143665A JP2016020409A JP 2016020409 A JP2016020409 A JP 2016020409A JP 2014143665 A JP2014143665 A JP 2014143665A JP 2014143665 A JP2014143665 A JP 2014143665A JP 2016020409 A JP2016020409 A JP 2016020409A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- coating composition
- optical member
- metal oxide
- oxide particles
- glycidyl group
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
- 230000003287 optical effect Effects 0.000 title claims abstract description 95
- 239000008199 coating composition Substances 0.000 title claims abstract description 48
- 239000002245 particle Substances 0.000 claims abstract description 89
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 claims abstract description 67
- 229910044991 metal oxide Inorganic materials 0.000 claims abstract description 47
- 150000004706 metal oxides Chemical class 0.000 claims abstract description 47
- 125000003055 glycidyl group Chemical group C(C1CO1)* 0.000 claims abstract description 46
- 229920005989 resin Polymers 0.000 claims abstract description 33
- 239000011347 resin Substances 0.000 claims abstract description 33
- 238000001704 evaporation Methods 0.000 claims abstract description 31
- 230000008020 evaporation Effects 0.000 claims abstract description 31
- 239000003960 organic solvent Substances 0.000 claims abstract description 28
- 239000013522 chelant Substances 0.000 claims abstract description 21
- -1 titanate compound Chemical class 0.000 claims abstract description 13
- GWEVSGVZZGPLCZ-UHFFFAOYSA-N Titan oxide Chemical compound O=[Ti]=O GWEVSGVZZGPLCZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 10
- XLOMVQKBTHCTTD-UHFFFAOYSA-N Zinc monoxide Chemical compound [Zn]=O XLOMVQKBTHCTTD-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 10
- OGIDPMRJRNCKJF-UHFFFAOYSA-N titanium oxide Inorganic materials [Ti]=O OGIDPMRJRNCKJF-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 9
- ZKATWMILCYLAPD-UHFFFAOYSA-N niobium pentoxide Inorganic materials O=[Nb](=O)O[Nb](=O)=O ZKATWMILCYLAPD-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 5
- URLJKFSTXLNXLG-UHFFFAOYSA-N niobium(5+);oxygen(2-) Chemical compound [O-2].[O-2].[O-2].[O-2].[O-2].[Nb+5].[Nb+5] URLJKFSTXLNXLG-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 5
- 239000011787 zinc oxide Substances 0.000 claims abstract description 5
- XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N Silicon Chemical compound [Si] XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 28
- 229910052710 silicon Inorganic materials 0.000 claims description 28
- 239000010703 silicon Substances 0.000 claims description 28
- 239000007787 solid Substances 0.000 claims description 17
- 229920002050 silicone resin Polymers 0.000 claims description 13
- 230000003746 surface roughness Effects 0.000 claims description 13
- RVTZCBVAJQQJTK-UHFFFAOYSA-N oxygen(2-);zirconium(4+) Chemical compound [O-2].[O-2].[Zr+4] RVTZCBVAJQQJTK-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 12
- 229910001928 zirconium oxide Inorganic materials 0.000 claims description 12
- 229910052782 aluminium Inorganic materials 0.000 claims description 11
- XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N aluminium Chemical compound [Al] XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 11
- RTAQQCXQSZGOHL-UHFFFAOYSA-N Titanium Chemical class [Ti] RTAQQCXQSZGOHL-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 9
- 239000010936 titanium Substances 0.000 claims description 7
- 229910052719 titanium Inorganic materials 0.000 claims description 7
- 125000001997 phenyl group Chemical group [H]C1=C([H])C([H])=C(*)C([H])=C1[H] 0.000 claims description 4
- 125000002496 methyl group Chemical group [H]C([H])([H])* 0.000 claims description 3
- POILWHVDKZOXJZ-ARJAWSKDSA-M (z)-4-oxopent-2-en-2-olate Chemical compound C\C([O-])=C\C(C)=O POILWHVDKZOXJZ-ARJAWSKDSA-M 0.000 claims description 2
- QCWXUUIWCKQGHC-UHFFFAOYSA-N Zirconium Chemical compound [Zr] QCWXUUIWCKQGHC-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- 229910052726 zirconium Inorganic materials 0.000 claims description 2
- 238000000149 argon plasma sintering Methods 0.000 abstract description 13
- MCMNRKCIXSYSNV-UHFFFAOYSA-N Zirconium dioxide Chemical compound O=[Zr]=O MCMNRKCIXSYSNV-UHFFFAOYSA-N 0.000 abstract description 6
- 229920001296 polysiloxane Polymers 0.000 abstract description 3
- 238000000576 coating method Methods 0.000 description 68
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 description 66
- YXFVVABEGXRONW-UHFFFAOYSA-N Toluene Chemical compound CC1=CC=CC=C1 YXFVVABEGXRONW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 51
- 239000002904 solvent Substances 0.000 description 48
- 239000000203 mixture Substances 0.000 description 34
- ZWEHNKRNPOVVGH-UHFFFAOYSA-N 2-Butanone Chemical compound CCC(C)=O ZWEHNKRNPOVVGH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 30
- 239000006185 dispersion Substances 0.000 description 30
- JHIVVAPYMSGYDF-UHFFFAOYSA-N cyclohexanone Chemical compound O=C1CCCCC1 JHIVVAPYMSGYDF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 26
- 238000002360 preparation method Methods 0.000 description 21
- 239000007788 liquid Substances 0.000 description 20
- KFZMGEQAYNKOFK-UHFFFAOYSA-N Isopropanol Chemical compound CC(C)O KFZMGEQAYNKOFK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 18
- 239000003054 catalyst Substances 0.000 description 17
- 230000000052 comparative effect Effects 0.000 description 17
- JRPBQTZRNDNNOP-UHFFFAOYSA-N barium titanate Chemical compound [Ba+2].[Ba+2].[O-][Ti]([O-])([O-])[O-] JRPBQTZRNDNNOP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 13
- 229910002113 barium titanate Inorganic materials 0.000 description 13
- 239000000758 substrate Substances 0.000 description 12
- CTQNGGLPUBDAKN-UHFFFAOYSA-N O-Xylene Chemical compound CC1=CC=CC=C1C CTQNGGLPUBDAKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 10
- 239000008096 xylene Substances 0.000 description 10
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 9
- 125000005595 acetylacetonate group Chemical group 0.000 description 8
- 238000001035 drying Methods 0.000 description 7
- 238000000034 method Methods 0.000 description 7
- 238000005401 electroluminescence Methods 0.000 description 6
- 238000000605 extraction Methods 0.000 description 6
- 239000011521 glass Substances 0.000 description 6
- 239000011159 matrix material Substances 0.000 description 6
- 238000002156 mixing Methods 0.000 description 6
- 239000003795 chemical substances by application Substances 0.000 description 5
- 230000008878 coupling Effects 0.000 description 5
- 238000010168 coupling process Methods 0.000 description 5
- 238000005859 coupling reaction Methods 0.000 description 5
- 230000007423 decrease Effects 0.000 description 4
- HJOVHMDZYOCNQW-UHFFFAOYSA-N isophorone Chemical compound CC1=CC(=O)CC(C)(C)C1 HJOVHMDZYOCNQW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 239000000463 material Substances 0.000 description 4
- DKPFZGUDAPQIHT-UHFFFAOYSA-N Butyl acetate Natural products CCCCOC(C)=O DKPFZGUDAPQIHT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- XEKOWRVHYACXOJ-UHFFFAOYSA-N Ethyl acetate Chemical compound CCOC(C)=O XEKOWRVHYACXOJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- LYCAIKOWRPUZTN-UHFFFAOYSA-N Ethylene glycol Chemical compound OCCO LYCAIKOWRPUZTN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 239000011324 bead Substances 0.000 description 3
- 238000013329 compounding Methods 0.000 description 3
- 239000007822 coupling agent Substances 0.000 description 3
- 125000000524 functional group Chemical group 0.000 description 3
- 238000005286 illumination Methods 0.000 description 3
- 238000005259 measurement Methods 0.000 description 3
- LAQFLZHBVPULPL-UHFFFAOYSA-N methyl(phenyl)silicon Chemical compound C[Si]C1=CC=CC=C1 LAQFLZHBVPULPL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 239000003973 paint Substances 0.000 description 3
- 230000008569 process Effects 0.000 description 3
- 238000001228 spectrum Methods 0.000 description 3
- ARXJGSRGQADJSQ-UHFFFAOYSA-N 1-methoxypropan-2-ol Chemical compound COCC(C)O ARXJGSRGQADJSQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- HXVNBWAKAOHACI-UHFFFAOYSA-N 2,4-dimethyl-3-pentanone Chemical compound CC(C)C(=O)C(C)C HXVNBWAKAOHACI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- XNWFRZJHXBZDAG-UHFFFAOYSA-N 2-METHOXYETHANOL Chemical compound COCCO XNWFRZJHXBZDAG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- POAOYUHQDCAZBD-UHFFFAOYSA-N 2-butoxyethanol Chemical compound CCCCOCCO POAOYUHQDCAZBD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- ZNQVEEAIQZEUHB-UHFFFAOYSA-N 2-ethoxyethanol Chemical compound CCOCCO ZNQVEEAIQZEUHB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- SVONRAPFKPVNKG-UHFFFAOYSA-N 2-ethoxyethyl acetate Chemical compound CCOCCOC(C)=O SVONRAPFKPVNKG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- RTZKZFJDLAIYFH-UHFFFAOYSA-N Diethyl ether Chemical compound CCOCC RTZKZFJDLAIYFH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- NTIZESTWPVYFNL-UHFFFAOYSA-N Methyl isobutyl ketone Chemical compound CC(C)CC(C)=O NTIZESTWPVYFNL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- UIHCLUNTQKBZGK-UHFFFAOYSA-N Methyl isobutyl ketone Natural products CCC(C)C(C)=O UIHCLUNTQKBZGK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N Silicium dioxide Chemical compound O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- WYURNTSHIVDZCO-UHFFFAOYSA-N Tetrahydrofuran Chemical compound C1CCOC1 WYURNTSHIVDZCO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 230000009471 action Effects 0.000 description 2
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 2
- 230000008859 change Effects 0.000 description 2
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 description 2
- 230000002950 deficient Effects 0.000 description 2
- SWXVUIWOUIDPGS-UHFFFAOYSA-N diacetone alcohol Chemical compound CC(=O)CC(C)(C)O SWXVUIWOUIDPGS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 2
- KPUWHANPEXNPJT-UHFFFAOYSA-N disiloxane Chemical class [SiH3]O[SiH3] KPUWHANPEXNPJT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 2
- LZCLXQDLBQLTDK-UHFFFAOYSA-N ethyl 2-hydroxypropanoate Chemical compound CCOC(=O)C(C)O LZCLXQDLBQLTDK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000011049 filling Methods 0.000 description 2
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 description 2
- PJXISJQVUVHSOJ-UHFFFAOYSA-N indium(iii) oxide Chemical compound [O-2].[O-2].[O-2].[In+3].[In+3] PJXISJQVUVHSOJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 2
- PGMYKACGEOXYJE-UHFFFAOYSA-N pentyl acetate Chemical compound CCCCCOC(C)=O PGMYKACGEOXYJE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- LLHKCFNBLRBOGN-UHFFFAOYSA-N propylene glycol methyl ether acetate Chemical compound COCC(C)OC(C)=O LLHKCFNBLRBOGN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910000077 silane Inorganic materials 0.000 description 2
- 125000005372 silanol group Chemical group 0.000 description 2
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 2
- LLZRNZOLAXHGLL-UHFFFAOYSA-J titanic acid Chemical class O[Ti](O)(O)O LLZRNZOLAXHGLL-UHFFFAOYSA-J 0.000 description 2
- DOVZUKKPYKRVIK-UHFFFAOYSA-N 1-methoxypropan-2-yl propanoate Chemical compound CCC(=O)OC(C)COC DOVZUKKPYKRVIK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- PTTPXKJBFFKCEK-UHFFFAOYSA-N 2-Methyl-4-heptanone Chemical compound CC(C)CC(=O)CC(C)C PTTPXKJBFFKCEK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- MFKRHJVUCZRDTF-UHFFFAOYSA-N 3-methoxy-3-methylbutan-1-ol Chemical compound COC(C)(C)CCO MFKRHJVUCZRDTF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RHLVCLIPMVJYKS-UHFFFAOYSA-N 3-octanone Chemical compound CCCCCC(=O)CC RHLVCLIPMVJYKS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VGVHNLRUAMRIEW-UHFFFAOYSA-N 4-methylcyclohexan-1-one Chemical compound CC1CCC(=O)CC1 VGVHNLRUAMRIEW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910002012 Aerosil® Inorganic materials 0.000 description 1
- XBDQKXXYIPTUBI-UHFFFAOYSA-M Propionate Chemical compound CCC([O-])=O XBDQKXXYIPTUBI-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- BLRPTPMANUNPDV-UHFFFAOYSA-N Silane Chemical compound [SiH4] BLRPTPMANUNPDV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ATJFFYVFTNAWJD-UHFFFAOYSA-N Tin Chemical compound [Sn] ATJFFYVFTNAWJD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- GSCOPSVHEGTJRH-UHFFFAOYSA-J [Ti+4].CCCC(=O)CC([O-])=O.CCCC(=O)CC([O-])=O.CCCC(=O)CC([O-])=O.CCCC(=O)CC([O-])=O Chemical compound [Ti+4].CCCC(=O)CC([O-])=O.CCCC(=O)CC([O-])=O.CCCC(=O)CC([O-])=O.CCCC(=O)CC([O-])=O GSCOPSVHEGTJRH-UHFFFAOYSA-J 0.000 description 1
- 238000010521 absorption reaction Methods 0.000 description 1
- 238000000862 absorption spectrum Methods 0.000 description 1
- KXKVLQRXCPHEJC-UHFFFAOYSA-N acetic acid trimethyl ester Natural products COC(C)=O KXKVLQRXCPHEJC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000001336 alkenes Chemical group 0.000 description 1
- 125000000217 alkyl group Chemical group 0.000 description 1
- 238000000137 annealing Methods 0.000 description 1
- 239000003849 aromatic solvent Substances 0.000 description 1
- 125000003118 aryl group Chemical group 0.000 description 1
- 125000004104 aryloxy group Chemical group 0.000 description 1
- 230000008901 benefit Effects 0.000 description 1
- 230000005540 biological transmission Effects 0.000 description 1
- 125000004106 butoxy group Chemical group [*]OC([H])([H])C([H])([H])C(C([H])([H])[H])([H])[H] 0.000 description 1
- AOWKSNWVBZGMTJ-UHFFFAOYSA-N calcium titanate Chemical compound [Ca+2].[O-][Ti]([O-])=O AOWKSNWVBZGMTJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000003197 catalytic effect Effects 0.000 description 1
- 238000004132 cross linking Methods 0.000 description 1
- HPXRVTGHNJAIIH-UHFFFAOYSA-N cyclohexanol Chemical compound OC1CCCCC1 HPXRVTGHNJAIIH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000007607 die coating method Methods 0.000 description 1
- OTARVPUIYXHRRB-UHFFFAOYSA-N diethoxy-methyl-[3-(oxiran-2-ylmethoxy)propyl]silane Chemical compound CCO[Si](C)(OCC)CCCOCC1CO1 OTARVPUIYXHRRB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WHGNXNCOTZPEEK-UHFFFAOYSA-N dimethoxy-methyl-[3-(oxiran-2-ylmethoxy)propyl]silane Chemical compound CO[Si](C)(OC)CCCOCC1CO1 WHGNXNCOTZPEEK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000002612 dispersion medium Substances 0.000 description 1
- 238000009826 distribution Methods 0.000 description 1
- 239000003759 ester based solvent Substances 0.000 description 1
- 239000004210 ether based solvent Substances 0.000 description 1
- 229940116333 ethyl lactate Drugs 0.000 description 1
- FUZZWVXGSFPDMH-UHFFFAOYSA-M hexanoate Chemical compound CCCCCC([O-])=O FUZZWVXGSFPDMH-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- 230000006872 improvement Effects 0.000 description 1
- 229910003437 indium oxide Inorganic materials 0.000 description 1
- 230000010354 integration Effects 0.000 description 1
- 239000005453 ketone based solvent Substances 0.000 description 1
- NCWQJOGVLLNWEO-UHFFFAOYSA-N methylsilicon Chemical compound [Si]C NCWQJOGVLLNWEO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000006606 n-butoxy group Chemical group 0.000 description 1
- 239000002105 nanoparticle Substances 0.000 description 1
- 150000002894 organic compounds Chemical class 0.000 description 1
- TWNQGVIAIRXVLR-UHFFFAOYSA-N oxo(oxoalumanyloxy)alumane Chemical compound O=[Al]O[Al]=O TWNQGVIAIRXVLR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- SOQBVABWOPYFQZ-UHFFFAOYSA-N oxygen(2-);titanium(4+) Chemical class [O-2].[O-2].[Ti+4] SOQBVABWOPYFQZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000004044 response Effects 0.000 description 1
- 238000007763 reverse roll coating Methods 0.000 description 1
- 239000004576 sand Substances 0.000 description 1
- 239000003566 sealing material Substances 0.000 description 1
- 150000003377 silicon compounds Chemical class 0.000 description 1
- 229910052814 silicon oxide Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000004528 spin coating Methods 0.000 description 1
- 238000005507 spraying Methods 0.000 description 1
- 238000004544 sputter deposition Methods 0.000 description 1
- 229910052712 strontium Inorganic materials 0.000 description 1
- CIOAGBVUUVVLOB-UHFFFAOYSA-N strontium atom Chemical compound [Sr] CIOAGBVUUVVLOB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VEALVRVVWBQVSL-UHFFFAOYSA-N strontium titanate Chemical compound [Sr+2].[O-][Ti]([O-])=O VEALVRVVWBQVSL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- YLQBMQCUIZJEEH-UHFFFAOYSA-N tetrahydrofuran Natural products C=1C=COC=1 YLQBMQCUIZJEEH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000004408 titanium dioxide Substances 0.000 description 1
- 238000002834 transmittance Methods 0.000 description 1
- DQZNLOXENNXVAD-UHFFFAOYSA-N trimethoxy-[2-(7-oxabicyclo[4.1.0]heptan-4-yl)ethyl]silane Chemical compound C1C(CC[Si](OC)(OC)OC)CCC2OC21 DQZNLOXENNXVAD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BPSIOYPQMFLKFR-UHFFFAOYSA-N trimethoxy-[3-(oxiran-2-ylmethoxy)propyl]silane Chemical compound CO[Si](OC)(OC)CCCOCC1CO1 BPSIOYPQMFLKFR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000005406 washing Methods 0.000 description 1
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052727 yttrium Inorganic materials 0.000 description 1
- VWQVUPCCIRVNHF-UHFFFAOYSA-N yttrium atom Chemical compound [Y] VWQVUPCCIRVNHF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
Images
Landscapes
- Optical Elements Other Than Lenses (AREA)
- Electroluminescent Light Sources (AREA)
- Paints Or Removers (AREA)
Abstract
【課題】透明電極にクラックを生じさせない光散乱性の光学部材をを形成可能なコーティング組成物を提供する。
【解決手段】本発明のコーティング組成物は、金属酸化物粒子、グリシジル基含有化合物、シリコン系樹脂、キレート化合物及び有機溶剤を含み、前記金属酸化物粒子は、チタン酸化合物、酸化ジルコニウム、酸化チタン、酸化亜鉛及び五酸化二ニオブよりなる群から選ばれる少なくとも一種の粒子からなり、かつ、前記金属酸化物粒子の平均粒子径が60〜300nmであり、前記グリシジル基含有化合物の含有量は、前記シリコン系樹脂及び前記グリシジル基含有化合物の総重量に対して5〜50重量%であり、前記有機溶剤が、相対蒸発速度80以下の有機溶剤を35重量%以上含むことを特徴とする。
【選択図】なし
【解決手段】本発明のコーティング組成物は、金属酸化物粒子、グリシジル基含有化合物、シリコン系樹脂、キレート化合物及び有機溶剤を含み、前記金属酸化物粒子は、チタン酸化合物、酸化ジルコニウム、酸化チタン、酸化亜鉛及び五酸化二ニオブよりなる群から選ばれる少なくとも一種の粒子からなり、かつ、前記金属酸化物粒子の平均粒子径が60〜300nmであり、前記グリシジル基含有化合物の含有量は、前記シリコン系樹脂及び前記グリシジル基含有化合物の総重量に対して5〜50重量%であり、前記有機溶剤が、相対蒸発速度80以下の有機溶剤を35重量%以上含むことを特徴とする。
【選択図】なし
Description
本発明は、コーティング組成物及び光学部材に関する。
いわゆる有機エレクトロルミネッセンス(EL)装置は、透明電極と金属電極との間に有機発光層を形成した発光装置である。透明電極には通常、スズ含有酸化インジウム(ITO)が用いられ、有機発光層はガラス等の透明基材で封止されている。ここで、透明基材上に透明電極を形成して用いる場合、透明基材と透明電極の屈折率の差が小さいと、有機発光層から出射された光は、効率よく透明基材の表面から外部へ放出されるため、光取り出し効率は良好である。しかし、上記屈折率の差が大きくなると、光取り出し効率は低下する。これは、透明基材に通常用いられるガラスの屈折率は約1.5であり、透明電極に通常用いられるITOの屈折率は約2であるため、有機発光層から出射された光が、透明電極と透明基材との界面で反射し、金属電極側に戻ってしまうためである。
光取り出し効率を向上させる方法として、透明電極と透明基材との間に光散乱作用を有する光学部材を設けることが提案されている。例えば、特許文献1では、アルコキシシラン類を含むマトリクス中に粒子径20〜400nmの光散乱粒子を含有させてなる光学部材が提案されている。
このようなマトリクス中に粒子を含有させてなる光学部材を発光装置に利用することは、いわゆる発光ダイオード(LED)においても検討されている。例えば、特許文献2では、アリール基、アリールオキシ基、アルキル基又はオレフィン鎖を含むシロキサン化合物と親和性を示す官能基を有し、分子量が1000以下の有機化合物あるいはシラン化合物で被覆した無機ナノ粒子を、マトリクスであるシロキサン架橋生成物中に含有させてなる光学部材を、発光素子の充填材料、封止材料に用いることが提案されている。
しかし、特許文献2に記載されているシロキサン架橋生成物を用いたマトリクス中に粒子を含有させてなる光学部材を有機EL装置の光学部材として用いた場合、光の取り出しが困難となる場合があることが分かった。この原因について検討したところ、光学部材の上に形成したITOからなる透明電極にクラックが生じるためであることが分かった。
本発明は、上記事情に鑑みてなされたものであり、透明電極にクラックが生じない光学部材を形成可能なコーティング組成物、及び、そのコーティング組成物を用いた光学部材を提供する。
本発明のコーティング組成物は、金属酸化物粒子、グリシジル基含有化合物、シリコン系樹脂、キレート化合物及び有機溶剤を含むコーティング組成物であって、前記金属酸化物粒子は、チタン酸化合物、酸化ジルコニウム、酸化チタン、酸化亜鉛及び五酸化二ニオブよりなる群から選ばれる少なくとも一種の粒子からなり、かつ、前記金属酸化物粒子の平均粒子径が60〜300nmであり、前記グリシジル基含有化合物の含有量は、前記シリコン系樹脂及び前記グリシジル基含有化合物の総重量に対して5〜50重量%であり、前記有機溶剤が、相対蒸発速度80以下の有機溶剤を35重量%以上含むことを特徴とする。
本発明の光学部材は、上記本発明のコーティング組成物から形成された光学部材であって、ヘイズが2%以上であり、表面粗度Raが5.0nm以下であることを特徴とする。
本発明によれば、透明電極にクラックを生じさせない光散乱性の光学部材を形成可能なコーティング組成物、及び、透明電極にクラックを生じさせない光学部材を提供できる。
(本発明のコーティング組成物)
本発明者らは、鋭意検討の結果、透明電極にクラックを生じる原因として、光学部材の塗膜の硬化度の低下にあることを見出した。例えば、透明電極としてITO膜を光学部材の上に形成する場合、ITO膜の特性を向上させるため基材を200℃程度に加熱することが行われる。この加熱時に光学部材の塗膜の硬化度が変化し、ITO膜にクラックが生じることがある。また、ITO膜の作製後、洗浄して使用する場合、洗浄後の乾燥にIPA(イソプロピルアルコール)蒸気乾燥を用いると光学部材の塗膜の未硬化成分が流出して塗膜が収縮し、その塗膜の上に形成したITO膜にクラックが発生することがある。このような原因で発生するクラックを防止するには、光学部材の塗膜の硬化度の変化を抑制することが重要であり、このため硬化度の向上が必要と考えた。そこで、光学部材の塗膜の硬化度の向上の検討を行い、本発明に至った。
本発明者らは、鋭意検討の結果、透明電極にクラックを生じる原因として、光学部材の塗膜の硬化度の低下にあることを見出した。例えば、透明電極としてITO膜を光学部材の上に形成する場合、ITO膜の特性を向上させるため基材を200℃程度に加熱することが行われる。この加熱時に光学部材の塗膜の硬化度が変化し、ITO膜にクラックが生じることがある。また、ITO膜の作製後、洗浄して使用する場合、洗浄後の乾燥にIPA(イソプロピルアルコール)蒸気乾燥を用いると光学部材の塗膜の未硬化成分が流出して塗膜が収縮し、その塗膜の上に形成したITO膜にクラックが発生することがある。このような原因で発生するクラックを防止するには、光学部材の塗膜の硬化度の変化を抑制することが重要であり、このため硬化度の向上が必要と考えた。そこで、光学部材の塗膜の硬化度の向上の検討を行い、本発明に至った。
本発明者らは、種々検討の結果、金属酸化物粒子、グリシジル基含有化合物、シリコン系樹脂、キレート化合物及び有機溶剤を含む特定のコーティング組成物を用いて、光学部材の塗膜を形成すると、その塗膜の硬化度が向上することを見出し、本発明を完成させるに至った。
以下、本発明のコーティング組成物について具体的に説明する。本発明のコーティング組成物は、金属酸化物粒子、グリシジル基含有化合物、シリコン系樹脂、キレート化合物及び有機溶剤を含み、上記金属酸化物粒子は、チタン酸化合物、酸化ジルコニウム、酸化チタン、酸化亜鉛及び五酸化二ニオブよりなる群から選ばれる少なくとも一種の粒子からなり、かつ、上記金属酸化物粒子の平均粒子径が60〜300nmであり、上記グリシジル基含有化合物の含有量は、上記シリコン系樹脂及び上記グリシジル基含有化合物の総重量に対して5〜50重量%であり、上記有機溶剤が、相対蒸発速度80以下の有機溶剤を35重量%以上含むことを特徴とする。
本発明の第1の特徴が、上記コーティング組成物にグリシジル基含有化合物とシリコン系樹脂を含有させることである。上記シリコン系樹脂と上記グリシジル基含有化合物とを用いると塗膜の硬化度が向上するのは、シリコン系化合物のシラノール基とグリシジル基含有化合物のグリシジル基との反応により、金属酸化物粒子の周囲のマトリクス部分の硬化度が上昇すると考えられるからである。特に、グリシジル基含有化合物としてグリシジル基を有するアルコキシシラン化合物を用いると、金属酸化物粒子の表面に上記アルコキシシラン化合物が吸着し、上記アルコキシシラン化合物を介して金属酸化物粒子とシリコン系樹脂との一体化が図られるためか、塗膜の硬化度が向上すると考えられる。
また、本発明の第2の特徴が、上記コーティング組成物にキレート化合物を含有させることである。これにより、キレート化合物によるシリコン系樹脂に対する触媒作用により、塗膜の硬化度が向上するためか、光学部材の上に形成する透明導電膜にクラックが生じなくなる。
また、本発明の第3の特徴が、上記コーティング組成物に相対蒸発速度80以下の有機溶剤を含有させることである。これにより、塗膜の乾燥速度が遅くなり、塗膜の表面にマトリクス樹脂が偏在するためか、光学部材の上に形成される金属酸化物からなる透明導電膜との密着性が良好になり、透明導電膜のクラックの発生が抑制される。
以下、本発明のコーティング組成物の各成分について詳細に説明する。
<金属酸化物粒子>
本発明のコーティング組成物に含まれる金属酸化物粒子には、チタン酸化合物、酸化ジルコニウム、酸化チタン、酸化亜鉛及び五酸化二ニオブよりなる群から選ばれる少なくとも一種の粒子を用いる。これらの金属酸化物の屈折率は約2であり、高屈折率の光学部材を作製可能となる。これにより、本発明のコーティング組成物で作製した光学部材(光散乱層)と、その上に形成した透明電極との屈折率の差を小さくでき、光取り出し効率を高めることができる。上記金属酸化物粒子としては、吸収端が可視光領域から離れていることから、特にチタン酸化合物粒子及び酸化ジルコニウム粒子の少なくとも一種であることが好ましい。また、上記金属酸化物粒子には、触媒活性の抑制あるいは分散性の向上のため、他の金属酸化物粒子、例えば、酸化アルミニウム粒子、酸化ケイ素粒子等を含有させてもよい。
本発明のコーティング組成物に含まれる金属酸化物粒子には、チタン酸化合物、酸化ジルコニウム、酸化チタン、酸化亜鉛及び五酸化二ニオブよりなる群から選ばれる少なくとも一種の粒子を用いる。これらの金属酸化物の屈折率は約2であり、高屈折率の光学部材を作製可能となる。これにより、本発明のコーティング組成物で作製した光学部材(光散乱層)と、その上に形成した透明電極との屈折率の差を小さくでき、光取り出し効率を高めることができる。上記金属酸化物粒子としては、吸収端が可視光領域から離れていることから、特にチタン酸化合物粒子及び酸化ジルコニウム粒子の少なくとも一種であることが好ましい。また、上記金属酸化物粒子には、触媒活性の抑制あるいは分散性の向上のため、他の金属酸化物粒子、例えば、酸化アルミニウム粒子、酸化ケイ素粒子等を含有させてもよい。
上記チタン酸化合物としては、例えば、チタン酸バリウム、チタン酸カルシウム、チタン酸ストロンチウム等が挙げられる。チタン酸化合物の具体例としては、戸田工業社製のチタン酸バリウム“T−BTO−20RF”、“T−BTO−30RF”、“T−BTO−50RF”、“T−BTO−100RF”、“T−BTO−120RK”、“T−BTO−155RK”(商品名)、共立マテリアル社製のチタン酸バリウム“BT−HP200”、“BT−HP150”、“BT−HP100”、“BT−HP50”(商品名)、日本化学工業社製のストロンチウム含有チタン酸バリウム“パルセラムAKBST(9:1)”(商品名)等が挙げられる。
上記酸化ジルコニウムとしては、例えば、共立マテリアル社製の“KZ−0Y”、“KZ−0YL”、“KZ−0YLSF”(商品名)等があげられる。また、イットリウム等を添加し部分安定化した酸化ジルコニウムを用いてもよく、例えば、共立マテリアル社製の“KZ−3YF typeC”、“KZ−3YFtypeNFS”(商品名)、東ソー社製の“TZ−3Y-E”(商品名)等が挙げられる。
上記酸化チタンとしては、例えば、石原産業社製の超微粒子酸化チタン“TTO−55A”、“TTO−55B”、“TTO−55C”、“TTO−55D”、“TTO−51A”、“TTO−51C”(商品名)、日本アエロジル社製の二酸化チタン“アエロキサイドP25”、“アエロキサイドT805”(商品名)、酸化チタン“STX501”(商品名)等が挙げられる。
上記金属酸化物粒子の平均粒子径は、60〜300nmの範囲に設定される。上記平均粒子径を60nm以上とすることにより、光散乱性を有する光学部材の作製が可能となる。より具体的には、上記平均粒子径を60nm以上とすることにより、ヘイズが2%以上の光散乱部材を提供できる。また、上記平均粒子径を300nm以下とすることにより、塗膜の平滑性を確保でき、例えば、有機EL装置用の光学部材として好適なものを提供できる。
本明細書において、平均粒子径とは、走査型電子顕微鏡(SEM)、透過型電子顕微鏡(TEM)等の電子顕微鏡を用いて、金属酸化物粒子100個の粒子径を測定し、その算術平均値で示したものである。
上記金属酸化物粒子の含有量は、コーティング組成物の固形分中、即ち溶剤以外の成分中、10〜80重量%が好ましい。上記金属酸化物粒子の配合量が多いほど、光散乱効果が大きくなり、10重量%以上で光取り出し効率を好適に調整可能となる。一方、上記金属酸化物粒子の配合量が80重量%を超えると、樹脂成分が少なくなり塗膜の硬化度が低下する傾向がある。
また、本発明者らは、種々検討を行った結果、塗膜の透過光の色味の角度依存に差を確認した。透過光の色味が角度依存する塗膜を光取り出し膜(光学部材)として用いた照明では、その照明光の色味が角度依存することになり、好ましくないと考えられる。このような透過光の色味について検討したところ、「光損失率」により、色味の差を確認できることが分かった。ここで、「光損失率」は、「100−(透過率+散乱率)」と定義されるものであり、各波長での光損失率を計算し損失スペクトルを作成した場合、長波長側から短波長側にかけて光損失率は漸次増加し、400nmあたりで急激に増加することが分かった。即ち、図1に示すように光損失率が414nmから急激に増加する塗膜はその色味の角度依存が大きく、図2に示すように394nmから急激に増加するものは角度依存が少ないことが分かった。ここで、図1の塗膜に含まれる金属酸化物粒子は酸化チタン粒子であり、図2の塗膜に含まれる金属酸化物粒子はチタン酸バリウム粒子である。また、金属酸化物粒子として、酸化ジルコニウム粒子を用いても、図2と同様の結果を得た。この結果から、透過光の色味の角度依存が少ない光学部材を得るには、光損失率の最大ピークの開始波長が、410nm以下の領域に存在することが必要であり、405nm以下の領域に存在することが好ましく、また、400nm以下の領域に存在することがより好ましいことが分かった。
このように、本発明者らは、金属酸化物粒子として、チタン酸化合物粒子、酸化ジルコニウム粒子の少なくとも一種を用いることにより、透過光の色味の角度依存が少ない光学部材を作製できることを見出した。即ち、上記金属酸化物粒子として、チタン酸化合物粒子又は酸化ジルコニウム粒子を含む本発明のコーティング組成物を用いることにより、透過光の色味の角度依存の少ない光学部材を作製することができる。
<グリシジル基含有化合物>
本発明のコーティング組成物に含まれるグリシジル基含有化合物は、グリシジル基を有するアルコキシシラン化合物であることが好ましい。具体的には、例えば、2−(3,4−エポキシシクロヘキシル)エチルトリメトキシシラン、3−グリシドキシプロピルトリメトキシシラン、3−グリシドキシプロピルメチルジメトキシシラン、3−グリシドキシプロピルトリエトキシシラン、3−グリシドキシプロピルメチルジエトキシシランの少なくとも一種を用いることが好ましい。また、グリシジル基含有化合物は、グリシジル基を有するアルコキシシラン化合物以外のグリシジルエーテル化合物を用いてもよい。上記グリシジルエーテル化合物は、グリシジル基を有するアルコキシシラン化合物と併用してもよい。
本発明のコーティング組成物に含まれるグリシジル基含有化合物は、グリシジル基を有するアルコキシシラン化合物であることが好ましい。具体的には、例えば、2−(3,4−エポキシシクロヘキシル)エチルトリメトキシシラン、3−グリシドキシプロピルトリメトキシシラン、3−グリシドキシプロピルメチルジメトキシシラン、3−グリシドキシプロピルトリエトキシシラン、3−グリシドキシプロピルメチルジエトキシシランの少なくとも一種を用いることが好ましい。また、グリシジル基含有化合物は、グリシジル基を有するアルコキシシラン化合物以外のグリシジルエーテル化合物を用いてもよい。上記グリシジルエーテル化合物は、グリシジル基を有するアルコキシシラン化合物と併用してもよい。
上記グリシジル基含有化合物の含有量は、上記シリコン系樹脂及び上記グリシジル基含有化合物の総重量に対して5〜50重量%に設定され、より好ましくは10〜40重量%に設定する。上記グリシジル基含有化合物の含有量が5重量%を下回ると、塗膜の硬化度が十分に向上しない。また、上記含有量が50重量%を超えると、塗膜の硬化度は向上するが、上記グリシジル基含有化合物は分子量が小さいため、シリコン系樹脂と反応して硬化しても、塗膜中の樹脂が十分に高分子量化しないため、塗膜がもろくなる傾向がある。
<シリコン系樹脂>
本発明のコーティング組成物に含まれるシリコン系樹脂には、架橋性官能基を含むものを用いることが好ましい。上記架橋性官能基としては、例えばシラノール基、アルコキシシラノール基等の熱架橋するものが好ましい。また、上記シリコン系樹脂は一般的に、メチル基のみを含むメチルシリコン系樹脂と、メチル基とフェニル基とを含むメチルフェニルシリコン系樹脂に大別される。この中でも、本発明では、メチルフェニルシリコン系樹脂を用いることが好ましい。フェニル基を含めることで、塗膜の屈折率の向上が図れるためである。特に、メチルフェニルシリコン系樹脂中に含まれるフェニル基のモル含有率は、20〜60モル%が好ましい。
本発明のコーティング組成物に含まれるシリコン系樹脂には、架橋性官能基を含むものを用いることが好ましい。上記架橋性官能基としては、例えばシラノール基、アルコキシシラノール基等の熱架橋するものが好ましい。また、上記シリコン系樹脂は一般的に、メチル基のみを含むメチルシリコン系樹脂と、メチル基とフェニル基とを含むメチルフェニルシリコン系樹脂に大別される。この中でも、本発明では、メチルフェニルシリコン系樹脂を用いることが好ましい。フェニル基を含めることで、塗膜の屈折率の向上が図れるためである。特に、メチルフェニルシリコン系樹脂中に含まれるフェニル基のモル含有率は、20〜60モル%が好ましい。
上記シリコン系樹脂の具体例としては、信越化学工業社製の“KR−255”、“KR−271”、“KR−282”、“KR−300”、“KR−311”、“KR−212”、“KR−213”、“KR−9218”、“KR−312”(商品名)等が挙げられる。また、上記シリコン系樹脂を他の有機樹脂と組み合わせた変性シリコン系樹脂も好適に用いることができ、具体例としては、信越化学工業社製の“KR−9706”、“KR−5230”、“KR−5235”、“ES−1001N”、“ES−1002T”、“ES−1023”(商品名)等が挙げられる。
上記シリコン系樹脂の含有量は、コーティング組成物の固形分中、10〜50重量%が好ましい。上記シリコン系樹脂の配合量が10重量%以上であれば、コーティング組成物中に架橋が発達するためか、耐薬品性は良好となる。一方、シリコン系樹脂の配合量が多くなりすぎると、屈折率が低くなるため、50重量%以下が好ましい。
<キレート化合物>
本発明のコーティング組成物に含まれるキレート化合物には、上記シリコン系樹脂の硬化性をより改善するため、チタン、ジルコニウム及びアルミニウムから選ばれる少なくとも一種と、アセチルアセトナート又はエチルアセトナートとを含むものが好ましい。
本発明のコーティング組成物に含まれるキレート化合物には、上記シリコン系樹脂の硬化性をより改善するため、チタン、ジルコニウム及びアルミニウムから選ばれる少なくとも一種と、アセチルアセトナート又はエチルアセトナートとを含むものが好ましい。
アルミニウム含有キレート化合物としては、例えば、ジエトキシ・モノ(アセチルアセトナート)アルミニウム、ジ−n−プロポキシ・モノ(アセチルアセトナート)アルミニウム、ジ−イソプロポキシ・モノ(アセチルアセトナート)アルミニウム、ジ−n−ブトキシ・モノ(アセチルアセトナート)アルミニウム等が挙げられる。また、チタン含有キレート化合物としては、例えば、トリエトキシ・モノ(アセチルアセトナート)チタン、トリ−n−プロポキシ・モノ(アセチルアセトナート)チタン、トリ−イソプロポキシ・モノ(アセチルアセトナート)チタン、トリ−n−ブトキシ・モノ(アセチルアセトナート)チタン、ジイソプロポキシビス(エチルアセトアセテート)チタン等が挙げられる。
上記キレート化合物の含有量は、コーティング組成物の固形分中、0.01重量%以上5重量%以下が好ましい。上記キレート化合物の含有量が5重量%を超えると、コーティング組成物を塗布して作製した光学部材が黄色味を帯びることがある。
<有機溶剤>
本発明のコーティング組成物に含まれる有機溶剤には、従来公知のものを用いることができる。有機溶剤としては、例えば、メチルエチルケトン(MEK)、シクロヘキサノン、メチルイソブチルケトン(MIBK)、イソホロン等のケトン系溶剤;トルエン、キシレン等の芳香族系溶剤;酢酸メチル、酢酸エチル、酢酸ブチル等のエステル系溶剤;テトラヒドロフラン、プロピレングリコールモノメチルエーテル、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート等のエーテル系溶剤;等が挙げられる。
本発明のコーティング組成物に含まれる有機溶剤には、従来公知のものを用いることができる。有機溶剤としては、例えば、メチルエチルケトン(MEK)、シクロヘキサノン、メチルイソブチルケトン(MIBK)、イソホロン等のケトン系溶剤;トルエン、キシレン等の芳香族系溶剤;酢酸メチル、酢酸エチル、酢酸ブチル等のエステル系溶剤;テトラヒドロフラン、プロピレングリコールモノメチルエーテル、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート等のエーテル系溶剤;等が挙げられる。
但し、本発明のコーティング組成物に含まれる有機溶剤には、相対蒸発速度80以下の有機溶剤を35重量%以上含むことが必要である。ここで、相対蒸発速度とは、いわいる酢酸nブチルとの相対的な蒸発時間を実験的に求めたものである(例えば、石橋弘毅編、溶剤便覧、槇書店、昭和42年5月参照。)。
上記相対蒸発速度80以下の有機溶剤が35重量%を下回ると、塗膜の平滑性が低下し、塗膜の表面粗度が5.0nmを下回る傾向がある。
上記相対蒸発速度80以下の有機溶剤としては、例えば、キシレン、酢酸ペンチル、メチルセロソルブ、ジイソプロピルケトン、nブタノール、酢酸メチルセロソルブ、セロソルブ、シクロヘキサノン、酢酸セロソルブ、乳酸エチル、ジアセトンアルコール、ブチルセロソルブ、シクロヘキサノール、イソホロン、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート、エチルグリコールアセテート、プロピレングリコールモノメチルエーテルプロピオネート、プロピレングリコールモノメチルエーテルエチルセロソルブ、エチレングリコールtブチルエーテル、ブチルセロソルブ、3−メトキシ−3−メチル−1−ブタノール、エチルアミルケトン、メチルシクロヘキサノン、ジイソブチルケトン等が挙げられる。
本発明のコーティング組成物は、上記金属酸化物粒子、上記グリシジル基含有化合物、上記シリコン系樹脂、上記キレート化合物及び上記有機溶剤を、公知の手法により適宜混合することにより得られる。例えば、上記金属酸化物粒子、上記グリシジル基含有化合物、上記シリコン系樹脂及び上記有機溶剤を含む混合物を分散処理した後、上記キレート化合物を配合することで、本発明のコーティング組成物が得られる。
上記分散処理は、従来公知の方法で行うことができ、例えば、ボールミル、ビーズミル、サンドミル、ピコミル、ペイントコンディショナー等の分散メディアを介在させた機械的処理、及び超音波分散機、3本ロールミル、プラネタリーミキサー、ホモジナイザー、ディスパー、ジェットミル等の分散機を使用した分散処理が挙げられる。また、上記の分散機を組み合わせて分散処理を行ってもよい。
(本発明の光学部材)
次に、本発明の光学部材について説明する。本発明の光学部材は、上記本発明のコーティング組成物から形成されており、そのヘイズが2%以上であり、その表面粗度Raが5.0nm以下であることを特徴とする。
次に、本発明の光学部材について説明する。本発明の光学部材は、上記本発明のコーティング組成物から形成されており、そのヘイズが2%以上であり、その表面粗度Raが5.0nm以下であることを特徴とする。
本発明の光学部材は、上記本発明のコーティング組成物を用いて形成されているため、塗膜の硬化度が向上し、光学部材の上に形成する透明導電膜にクラックが生じなくなる。また、本発明の光学部材は、そのヘイズが2%以上であるため、適度の光散乱作用を有し、光散乱部材として好適である。更に、本発明の光学部材は、その表面粗度Raが5.0nm以下であるため、その表面が平滑である。従って例えば、本発明の光学部材を有機EL装置の光散乱部材として用いても、その光学部材の表面の凹凸が発光層等に影響しないため、発光層の短絡を防止できる。
本発明の光学部材は、上記本発明のコーティング組成物を、例えばガラス基板等の基材に塗布、乾燥後、硬化処理を行うことにより得られる。但し、乾燥と硬化処理とは必ずしも独立して行う必要はない。
上記塗布方法としては、スピンコート、スプレーコート、スリットコート、ダイコート、グラビアロールコート、リバースロールコート等の種々の方法を用いることができる。また、上記塗布方法に応じて、コーティング組成物の固形分濃度及び溶剤組成を適宜調整することが好ましい。
上記乾燥は、室温以上で行うことが好ましく、溶剤が蒸発すれば問題はない。但し、温度が高すぎると、基材として用いるガラス基板等が変形することがあるため、450℃以下で行うことが好ましい。
上記硬化処理は、150〜450℃の温度範囲で、少なくとも5分間行うことが好ましい。温度が150℃未満では、コーティング組成物の硬化反応が進まず、450℃を超えると、基材として用いるガラス基板等が変形することがある。
また、前述のとおり、上記本発明のコーティング組成物に含まれる金属酸化物粒子として、チタン酸化合物粒子又は酸化ジルコニウム粒子を用いて光学部材を作製すると、光損失率の最大ピークの開始波長が410nm以下の領域に存在する光学部材を作製することができる。上記光損失率の最大ピークの開始波長は、400nm以下の領域に存在することがより好ましい。
上記光損失率の最大ピークの開始波長が410nm以下の領域に存在する光学部材を用いることにより、出射光の色味の角度依存の少ない照明装置、ディスプレイ装置等を作製することができる。
以下、実施例に基づいて本発明を詳細に述べる。実施例中の「部」は「重量部」を示す。下記実施例は、本発明を制限するものではない。
(実施例1)
[分散混合液1の作製]
下記成分を含む混合物を分散容器に入れ、更に直径0.1mmのジルコニアビーズを加えて、ペイントコンディショナーを用いて分散処理を行って分散混合液1を作製した。
(1)金属酸化物粒子:チタン酸バリウム(戸田工業社製、商品名“T−BTO−100RF”、粒子径:71nm):90部
(2)グリシジル基含有化合物(信越化学工業社製、シリコンカップリング剤、商品名“KBM403”):11.9部
(3)シリコン系樹脂(信越化学工業社製、商品名“KR300”、固形分50重量%、溶剤(相対蒸発速度80以下):キシレン):53.3部
(4)溶剤:メチルエチルケトン:40.5部
(5)溶剤:トルエン:14.6部
(6)溶剤:シクロヘキサノン(相対蒸発速度80以下):55.0部
[分散混合液1の作製]
下記成分を含む混合物を分散容器に入れ、更に直径0.1mmのジルコニアビーズを加えて、ペイントコンディショナーを用いて分散処理を行って分散混合液1を作製した。
(1)金属酸化物粒子:チタン酸バリウム(戸田工業社製、商品名“T−BTO−100RF”、粒子径:71nm):90部
(2)グリシジル基含有化合物(信越化学工業社製、シリコンカップリング剤、商品名“KBM403”):11.9部
(3)シリコン系樹脂(信越化学工業社製、商品名“KR300”、固形分50重量%、溶剤(相対蒸発速度80以下):キシレン):53.3部
(4)溶剤:メチルエチルケトン:40.5部
(5)溶剤:トルエン:14.6部
(6)溶剤:シクロヘキサノン(相対蒸発速度80以下):55.0部
[触媒液1の作製]
下記成分を混合して触媒液1を作製した。
(7)アルミニウムキレート化合物(信越化学工業社製、商品名“cat−AC”、固形分50重量%、溶剤:トルエン):10部
(8)溶剤:トルエン:45部
(9)溶剤:シクロヘキサノン(相対蒸発速度80以下):45部
下記成分を混合して触媒液1を作製した。
(7)アルミニウムキレート化合物(信越化学工業社製、商品名“cat−AC”、固形分50重量%、溶剤:トルエン):10部
(8)溶剤:トルエン:45部
(9)溶剤:シクロヘキサノン(相対蒸発速度80以下):45部
[コーティング液1の作製]
上記分散混合液1に、25.7部の上記触媒液1を添加して混合し、フィルターに通してジルコニアビーズを取り除き、コーティング液1を作製した。
上記分散混合液1に、25.7部の上記触媒液1を添加して混合し、フィルターに通してジルコニアビーズを取り除き、コーティング液1を作製した。
[光学部材の作製]
上記コーティング液1をガラス基板(コーニング社製の“イーグルXG”、75×75mm、厚み:0.7mm)の一主面上にフィルターを通して滴下し、スピンコーターを用いて塗布し、塗膜を形成した。スピンコーターは、回転速度を1000rpm、回転時間を25秒の条件に設定した。そして、塗膜を120℃で2分間乾燥した後、250℃で30分間硬化処理を行い、実施例1の光学部材を作製した。
上記コーティング液1をガラス基板(コーニング社製の“イーグルXG”、75×75mm、厚み:0.7mm)の一主面上にフィルターを通して滴下し、スピンコーターを用いて塗布し、塗膜を形成した。スピンコーターは、回転速度を1000rpm、回転時間を25秒の条件に設定した。そして、塗膜を120℃で2分間乾燥した後、250℃で30分間硬化処理を行い、実施例1の光学部材を作製した。
(実施例2)
[分散混合液2の作製]
下記の成分を含む混合物を用いたこと以外、実施例1と同様にして分散混合液2を作製した。
(1)金属酸化物粒子:チタン酸バリウム(共立マテリアル社製、商品名“BT−HP150”、粒子径:126nm):90部
(2)グリシジル基含有化合物(信越化学工業社製、シリコンカップリング剤、商品名“KBM403”):26.5部
(3)シリコン系樹脂(信越化学工業社製、商品名“KR300”、固形分50重量%、溶剤(相対蒸発速度80以下):キシレン):367.0部
(4)溶剤:メチルエチルケトン:41.4部
(5)溶剤:トルエン:193.7部
(6)溶剤:シクロヘキサノン(相対蒸発速度80以下):124.3部
[分散混合液2の作製]
下記の成分を含む混合物を用いたこと以外、実施例1と同様にして分散混合液2を作製した。
(1)金属酸化物粒子:チタン酸バリウム(共立マテリアル社製、商品名“BT−HP150”、粒子径:126nm):90部
(2)グリシジル基含有化合物(信越化学工業社製、シリコンカップリング剤、商品名“KBM403”):26.5部
(3)シリコン系樹脂(信越化学工業社製、商品名“KR300”、固形分50重量%、溶剤(相対蒸発速度80以下):キシレン):367.0部
(4)溶剤:メチルエチルケトン:41.4部
(5)溶剤:トルエン:193.7部
(6)溶剤:シクロヘキサノン(相対蒸発速度80以下):124.3部
[触媒液2の作製]
下記成分を混合して触媒液2を作製した。
(7)アルミニウムキレート化合物(信越化学工業社製、商品名“cat−AC”、固形分50重量%、溶剤:トルエン):10部
(8)溶剤:トルエン:63部
(9)溶剤:シクロヘキサノン(相対蒸発速度80以下):27部
下記成分を混合して触媒液2を作製した。
(7)アルミニウムキレート化合物(信越化学工業社製、商品名“cat−AC”、固形分50重量%、溶剤:トルエン):10部
(8)溶剤:トルエン:63部
(9)溶剤:シクロヘキサノン(相対蒸発速度80以下):27部
[コーティング液2の作製]
上記分散混合液2に、60.0部の上記触媒液2を添加して混合した以外は、実施例1と同様にしてコーティング液2を作製した。
上記分散混合液2に、60.0部の上記触媒液2を添加して混合した以外は、実施例1と同様にしてコーティング液2を作製した。
[光学部材の作製]
上記コーティング液2を用いた以外は、実施例1と同様にして実施例2の光学部材を作製した。
上記コーティング液2を用いた以外は、実施例1と同様にして実施例2の光学部材を作製した。
(実施例3)
[分散混合液3の作製]
下記の成分を含む混合物を用いたこと以外、実施例1と同様にして分散混合液3を得た。
(1)金属酸化物粒子:チタン酸バリウム(共立マテリアル社製、商品名“BT−HP150”、粒子径:126nm):90部
(2)グリシジル基含有化合物(信越化学工業社製、シリコンカップリング剤、商品名“KBM403”):104.5部
(3)シリコン系樹脂(信越化学工業社製、商品名“KR300”、固形分50重量%、溶剤(相対蒸発速度80以下):キシレン):211.0部
(4)溶剤:メチルエチルケトン:40.5部
(5)溶剤:トルエン:245.4部
(6)溶剤:シクロヘキサノン(相対蒸発速度80以下):145.6部
[分散混合液3の作製]
下記の成分を含む混合物を用いたこと以外、実施例1と同様にして分散混合液3を得た。
(1)金属酸化物粒子:チタン酸バリウム(共立マテリアル社製、商品名“BT−HP150”、粒子径:126nm):90部
(2)グリシジル基含有化合物(信越化学工業社製、シリコンカップリング剤、商品名“KBM403”):104.5部
(3)シリコン系樹脂(信越化学工業社製、商品名“KR300”、固形分50重量%、溶剤(相対蒸発速度80以下):キシレン):211.0部
(4)溶剤:メチルエチルケトン:40.5部
(5)溶剤:トルエン:245.4部
(6)溶剤:シクロヘキサノン(相対蒸発速度80以下):145.6部
[コーティング液3の作製]
上記分散混合液3に、実施例2で作製した60.0部の触媒液2を添加して混合した以外は、実施例1と同様にしてコーティング液3を作製した。
上記分散混合液3に、実施例2で作製した60.0部の触媒液2を添加して混合した以外は、実施例1と同様にしてコーティング液3を作製した。
[光学部材の作製]
上記コーティング液3を用いた以外は、実施例1と同様にして実施例3の光学部材を作製した。
上記コーティング液3を用いた以外は、実施例1と同様にして実施例3の光学部材を作製した。
(実施例4)
[分散混合液4の作製]
下記の成分を含む混合物を用いたこと以外、実施例1と同様にして分散混合液4を作製した。
(1)金属酸化物粒子:チタン酸バリウム(共立マテリアル社製、商品名“BT−HP200”、粒子径:273nm):90部
(2)グリシジル基含有化合物(信越化学工業社製、シリコンカップリング剤、商品名“KBM403”):5.4部
(3)シリコン系樹脂(信越化学工業社製、商品名“KR300”、固形分50重量%、溶剤(相対蒸発速度80以下):キシレン):34.2部
(4)溶剤:メチルエチルケトン:42.3部
(5)溶剤:トルエン:3.0部
(6)溶剤:シクロヘキサノン(相対蒸発速度80以下):48.9部
[分散混合液4の作製]
下記の成分を含む混合物を用いたこと以外、実施例1と同様にして分散混合液4を作製した。
(1)金属酸化物粒子:チタン酸バリウム(共立マテリアル社製、商品名“BT−HP200”、粒子径:273nm):90部
(2)グリシジル基含有化合物(信越化学工業社製、シリコンカップリング剤、商品名“KBM403”):5.4部
(3)シリコン系樹脂(信越化学工業社製、商品名“KR300”、固形分50重量%、溶剤(相対蒸発速度80以下):キシレン):34.2部
(4)溶剤:メチルエチルケトン:42.3部
(5)溶剤:トルエン:3.0部
(6)溶剤:シクロヘキサノン(相対蒸発速度80以下):48.9部
[触媒液3の作製]
下記成分を混合して触媒液3を作製した。
(7)アルミニウムキレート化合物(信越化学工業社製、商品名“cat−AC”、固形分50重量%、溶剤:トルエン):10部
(8)溶剤:トルエン:27部
(9)溶剤:シクロヘキサノン(相対蒸発速度80以下):63部
下記成分を混合して触媒液3を作製した。
(7)アルミニウムキレート化合物(信越化学工業社製、商品名“cat−AC”、固形分50重量%、溶剤:トルエン):10部
(8)溶剤:トルエン:27部
(9)溶剤:シクロヘキサノン(相対蒸発速度80以下):63部
[コーティング液4の作製]
上記分散混合液4に、22.5部の上記触媒液3を添加して混合した以外は、実施例1と同様にしてコーティング液4を作製した。
上記分散混合液4に、22.5部の上記触媒液3を添加して混合した以外は、実施例1と同様にしてコーティング液4を作製した。
[光学部材の作製]
上記コーティング液4を用いた以外は、実施例1と同様にして実施例4の光学部材を作製した。
上記コーティング液4を用いた以外は、実施例1と同様にして実施例4の光学部材を作製した。
(比較例1)
[分散混合液5の作製]
下記の成分を含む混合物を用いたこと以外、実施例1と同様にして分散混合液5を作製した。
(1)金属酸化物粒子:チタン酸バリウム(戸田工業社製、商品名“T−BTO−50RF”、粒子径:51nm):90.0部
(2)グリシジル基含有化合物(信越化学工業社製、シリコンカップリング剤、商品名“KBM403”):11.3部
(3)シリコン系樹脂(信越化学工業社製、商品名“KR300”、固形分50重量%、溶剤(相対蒸発速度80以下):キシレン):54.6部
(4)溶剤:メチルエチルケトン:39.4部
(5)溶剤:トルエン:11.7部
(6)溶剤:シクロヘキサノン(相対蒸発速度80以下):50.4部
[分散混合液5の作製]
下記の成分を含む混合物を用いたこと以外、実施例1と同様にして分散混合液5を作製した。
(1)金属酸化物粒子:チタン酸バリウム(戸田工業社製、商品名“T−BTO−50RF”、粒子径:51nm):90.0部
(2)グリシジル基含有化合物(信越化学工業社製、シリコンカップリング剤、商品名“KBM403”):11.3部
(3)シリコン系樹脂(信越化学工業社製、商品名“KR300”、固形分50重量%、溶剤(相対蒸発速度80以下):キシレン):54.6部
(4)溶剤:メチルエチルケトン:39.4部
(5)溶剤:トルエン:11.7部
(6)溶剤:シクロヘキサノン(相対蒸発速度80以下):50.4部
[コーティング液5の作製]
上記分散混合液5に、実施例1で作製した25.7部の触媒液1を添加して混合した以外は、実施例1と同様にしてコーティング液5を作製した。
上記分散混合液5に、実施例1で作製した25.7部の触媒液1を添加して混合した以外は、実施例1と同様にしてコーティング液5を作製した。
[光学部材の作製]
上記コーティング液5を用いた以外は、実施例1と同様にして比較例1の光学部材を作製した。
上記コーティング液5を用いた以外は、実施例1と同様にして比較例1の光学部材を作製した。
(比較例2)
[分散混合液6の作製]
下記の成分を含む混合物を用いたこと以外、実施例1と同様にして分散混合液6を作製した。
(1)金属酸化物粒子:チタン酸バリウム(戸田工業社製、商品名“T−BTO−100RF”、粒子径:71nm):90部
(2)グリシジル基含有化合物(信越化学工業社製、シリコンカップリング剤、商品名“KBM403”):11.9部
(3)シリコン系樹脂(信越化学工業社製、商品名“KR300”、固形分50重量%、溶剤(相対蒸発速度80以下):キシレン):53.3部
(4)溶剤:メチルエチルケトン:56.7部
(5)溶剤:トルエン:29.2部
(6)溶剤:シクロヘキサノン(相対蒸発速度80以下):24.3部
[分散混合液6の作製]
下記の成分を含む混合物を用いたこと以外、実施例1と同様にして分散混合液6を作製した。
(1)金属酸化物粒子:チタン酸バリウム(戸田工業社製、商品名“T−BTO−100RF”、粒子径:71nm):90部
(2)グリシジル基含有化合物(信越化学工業社製、シリコンカップリング剤、商品名“KBM403”):11.9部
(3)シリコン系樹脂(信越化学工業社製、商品名“KR300”、固形分50重量%、溶剤(相対蒸発速度80以下):キシレン):53.3部
(4)溶剤:メチルエチルケトン:56.7部
(5)溶剤:トルエン:29.2部
(6)溶剤:シクロヘキサノン(相対蒸発速度80以下):24.3部
[触媒液4の作製]
下記成分を混合して触媒液4を作製した。
(7)アルミニウムキレート化合物(信越化学工業社製、商品名“cat−AC”、固形分50重量%、溶剤:トルエン):10部
(8)溶剤:トルエン:90部
下記成分を混合して触媒液4を作製した。
(7)アルミニウムキレート化合物(信越化学工業社製、商品名“cat−AC”、固形分50重量%、溶剤:トルエン):10部
(8)溶剤:トルエン:90部
[コーティング液6の作製]
上記分散混合液6に、25.7部の上記触媒液4を添加して混合した以外は、実施例1と同様にしてコーティング液6を作製した。
上記分散混合液6に、25.7部の上記触媒液4を添加して混合した以外は、実施例1と同様にしてコーティング液6を作製した。
[光学部材の作製]
上記コーティング液6を用いた以外は、実施例1と同様にして比較例2の光学部材を作製した。
上記コーティング液6を用いた以外は、実施例1と同様にして比較例2の光学部材を作製した。
(比較例3)
[コーティング液7の作製]
実施例2で作製した分散混合液2のみを用いてコーティング液7を作製した。
[コーティング液7の作製]
実施例2で作製した分散混合液2のみを用いてコーティング液7を作製した。
[光学部材の作製]
上記コーティング液7を用いた以外は、実施例1と同様にして比較例3の光学部材を作製した。
上記コーティング液7を用いた以外は、実施例1と同様にして比較例3の光学部材を作製した。
(比較例4)
[分散混合液7の作製]
下記の成分を含む混合物を用いたこと以外、実施例1と同様にして分散混合液7を作製した。
(1)金属酸化物粒子:チタン酸バリウム(共立マテリアル社製、商品名“BT−HP150”、粒子径:126nm):90部
(2)グリシジル基含有化合物(信越化学工業社製、シリコンカップリング剤、商品名“KBM403”):122.9部
(3)シリコン系樹脂(信越化学工業社製、商品名“KR300”、固形分50重量%、溶剤(相対蒸発速度80以下):キシレン):174.2部
(4)溶剤:メチルエチルケトン:41.4部
(5)溶剤:トルエン:186.7部
(6)溶剤:シクロヘキサノン(相対蒸発速度80以下):227.8部
[分散混合液7の作製]
下記の成分を含む混合物を用いたこと以外、実施例1と同様にして分散混合液7を作製した。
(1)金属酸化物粒子:チタン酸バリウム(共立マテリアル社製、商品名“BT−HP150”、粒子径:126nm):90部
(2)グリシジル基含有化合物(信越化学工業社製、シリコンカップリング剤、商品名“KBM403”):122.9部
(3)シリコン系樹脂(信越化学工業社製、商品名“KR300”、固形分50重量%、溶剤(相対蒸発速度80以下):キシレン):174.2部
(4)溶剤:メチルエチルケトン:41.4部
(5)溶剤:トルエン:186.7部
(6)溶剤:シクロヘキサノン(相対蒸発速度80以下):227.8部
[コーティング液8の作製]
上記分散混合液7に、実施例1で作製した60.0部の触媒液1を添加して混合した以外は、実施例1と同様にしてコーティング液8を作製した。
上記分散混合液7に、実施例1で作製した60.0部の触媒液1を添加して混合した以外は、実施例1と同様にしてコーティング液8を作製した。
[光学部材の作製]
上記コーティング液8を用いた以外は、実施例1と同様にして比較例4の光学部材を作製した。
上記コーティング液8を用いた以外は、実施例1と同様にして比較例4の光学部材を作製した。
(比較例5)
[分散混合液8の作製]
下記の成分を含む混合物を用いたこと以外、実施例1と同様にして分散混合液8を作製した。
(1)金属酸化物粒子:チタン酸バリウム(共立マテリアル社製、商品名“BT−HP150”、粒子径:126nm):90部
(2)グリシジル基含有化合物(信越化学工業社製、シリコンカップリング剤、商品名“KBM403”):7.2部
(3)シリコン系樹脂(信越化学工業社製、商品名“KR300”、固形分50重量%、溶剤(相対蒸発速度80以下):キシレン):405.6部
(4)溶剤:メチルエチルケトン:41.4部
(5)溶剤:トルエン:128.8部
(6)溶剤:シクロヘキサノン(相対蒸発速度80以下):169.9部
[分散混合液8の作製]
下記の成分を含む混合物を用いたこと以外、実施例1と同様にして分散混合液8を作製した。
(1)金属酸化物粒子:チタン酸バリウム(共立マテリアル社製、商品名“BT−HP150”、粒子径:126nm):90部
(2)グリシジル基含有化合物(信越化学工業社製、シリコンカップリング剤、商品名“KBM403”):7.2部
(3)シリコン系樹脂(信越化学工業社製、商品名“KR300”、固形分50重量%、溶剤(相対蒸発速度80以下):キシレン):405.6部
(4)溶剤:メチルエチルケトン:41.4部
(5)溶剤:トルエン:128.8部
(6)溶剤:シクロヘキサノン(相対蒸発速度80以下):169.9部
[コーティング液9の作製]
上記分散混合液8に、実施例1で作製した60.0部の触媒液1を添加して混合した以外は、実施例1と同様にしてコーティング液9を作製した。
上記分散混合液8に、実施例1で作製した60.0部の触媒液1を添加して混合した以外は、実施例1と同様にしてコーティング液9を作製した。
[光学部材の作製]
上記コーティング液9を用いた以外は、実施例1と同様にして比較例5の光学部材を作製した。
上記コーティング液9を用いた以外は、実施例1と同様にして比較例5の光学部材を作製した。
続いて、上記実施例1〜4及び上記比較例1〜5で作製した光学部材について、ヘイズ、表面粗度及び光損失率を測定した。また、上記光学部材の上にITO膜を形成してITO膜のクラックの有無を観察した。
(ヘイズ)
日本電色工業社製のヘイズメーター“NDH2000”(商品名)を用い、JIS K7361−1に準拠してヘイズを測定した。
日本電色工業社製のヘイズメーター“NDH2000”(商品名)を用い、JIS K7361−1に準拠してヘイズを測定した。
(表面粗度)
ZYGO社製の非接触粗さ計“New View5030”(商品名)を用い、対物レンズの倍率を50倍、視野を2倍とする条件で、光学部材の塗膜側の表面粗度を測定した。測定時に用いるフィルターにはF1を用い、5点測定してその算術平均値を表面粗度Raとした。
ZYGO社製の非接触粗さ計“New View5030”(商品名)を用い、対物レンズの倍率を50倍、視野を2倍とする条件で、光学部材の塗膜側の表面粗度を測定した。測定時に用いるフィルターにはF1を用い、5点測定してその算術平均値を表面粗度Raとした。
(光損失率)
日本分光社製の分光光度計“Ubest V570型”(商品名)を用い、日本分光社製の大型積分球“ILN-472型”(商品名)を組み合わせて測定した吸光スペクトル及び反射スペクトルを基に、光学部材の光損失率を計算により求めた。スペクトルの測定は、分光光度計用ソフトウエアを用い、測光モード“%”、レスポンス“Fast"、バンド幅“2.0nm”、走査速度“400nm/min”、データ取り込み間隔“1.0nm”で380〜780nmの範囲を測定した。光学部材の測定にあたって、測定位置を合わせ、干渉パターンの影響をできるだけ排除するようにした。その結果、光損失率の最大ピークの開始波長が410nm以下の領域に存在するものを良好(A)と評価し、光損失率の最大ピークの開始波長が410nmより大きい領域に存在するものを不良(B)と評価した。
日本分光社製の分光光度計“Ubest V570型”(商品名)を用い、日本分光社製の大型積分球“ILN-472型”(商品名)を組み合わせて測定した吸光スペクトル及び反射スペクトルを基に、光学部材の光損失率を計算により求めた。スペクトルの測定は、分光光度計用ソフトウエアを用い、測光モード“%”、レスポンス“Fast"、バンド幅“2.0nm”、走査速度“400nm/min”、データ取り込み間隔“1.0nm”で380〜780nmの範囲を測定した。光学部材の測定にあたって、測定位置を合わせ、干渉パターンの影響をできるだけ排除するようにした。その結果、光損失率の最大ピークの開始波長が410nm以下の領域に存在するものを良好(A)と評価し、光損失率の最大ピークの開始波長が410nmより大きい領域に存在するものを不良(B)と評価した。
(クラック)
光学部材の表面にスパッタリング法でITO膜を製膜した。具体的には、製膜温度を200℃とし、その製膜後に更に200℃で30分アニール処理を行い、光学部材の表面に厚さ100nmのITO膜を形成した。上記ITO膜の表面抵抗値は約17Ω/スクエアであった。上記のように形成したITO膜を目視により観察して、ITO膜にクラックが発生していない場合を良好(A)と評価し、ITO膜にクラックが発生している場合を不良(B)と評価した。
光学部材の表面にスパッタリング法でITO膜を製膜した。具体的には、製膜温度を200℃とし、その製膜後に更に200℃で30分アニール処理を行い、光学部材の表面に厚さ100nmのITO膜を形成した。上記ITO膜の表面抵抗値は約17Ω/スクエアであった。上記のように形成したITO膜を目視により観察して、ITO膜にクラックが発生していない場合を良好(A)と評価し、ITO膜にクラックが発生している場合を不良(B)と評価した。
続いて、ITO膜にクラックが発生していないものについて、更にそのITO膜をイソプリピルアルコール(IPA)蒸気に10分間曝し、再度クラック発生の有無を観察し、上記と同様に評価した。IPA蒸気は、ビーカー中にIPAを適量入れ、ウオターバスで加熱してビーカー中に発生させて用いた。
上記結果を表1に示す。また、表1では、実施例1〜4及び比較例1〜4で用いたコーティング液について、金属酸化物粒子の平均粒子径、シリコン系樹脂とグリシジル基含有化合物の総重量に対するグリシジル基含有化合物の含有量(表1ではグリシジル量と表示)及び相対蒸発速度80以下の有機溶剤の割合(表1では特定有機溶剤の割合と表示)も合せて示した。
表1から明らかなように、本発明の実施例1〜4の光学部材は、ヘイズが2%以上で、表面粗度Raが5.0μm以下であり、光損失率及びクラックの有無においても満足いく結果となった。
一方、用いたコーティング液の金属酸化物粒子の平均粒子径が60μmを下回った比較例1の光学部材は、ヘイズが1%を下回り、光散乱部材としては適さないことが分かる。また、用いたコーティング液の有機溶剤中の相対蒸発速度80以下の有機溶剤の割合が35重量%を下回った比較例2の光学部材は、表面粗度Raが5.0μmを超え、表面の平滑性が劣っていることが分かる。また、キレート化合物を含まないコーティング液を用いた比較例3の光学部材は、表面粗度Raが5.0μmを超えるとともに、塗膜の硬化性が劣ったため、ITO膜にクラックが発生した。また、グリシジル基含有化合物の含有量が50重量%を超えた比較例4の光学部材は、表面粗度Raが5.0μmを超えるとともに、塗膜がもろくなったためか、ITO膜にクラックが発生した。また、グリシジル基含有化合物の含有量が5重量%を下回った比較例5の光学部材は、塗膜の硬化性が劣ったため、ITO膜にクラックが発生した。
本発明は、透明電極にクラックを生じさせない光散乱性の光学部材を提供でき、有機EL照明等の発光素子の充填組み立てに適した光学部材として利用可能である。
Claims (9)
- 金属酸化物粒子、グリシジル基含有化合物、シリコン系樹脂、キレート化合物及び有機溶剤を含むコーティング組成物であって、
前記金属酸化物粒子は、チタン酸化合物、酸化ジルコニウム、酸化チタン、酸化亜鉛及び五酸化二ニオブよりなる群から選ばれる少なくとも一種の粒子からなり、かつ、前記金属酸化物粒子の平均粒子径が60〜300nmであり、
前記グリシジル基含有化合物の含有量は、前記シリコン系樹脂及び前記グリシジル基含有化合物の総重量に対して5〜50重量%であり、
前記有機溶剤が、相対蒸発速度80以下の有機溶剤を35重量%以上含むことを特徴とするコーティング組成物。 - 前記金属酸化物粒子の含有量は、前記コーティング組成物に含まれる固形分中、10〜80重量%である請求項1に記載のコーティング組成物。
- 前記グリシジル基含有化合物が、グリシジル基を有するアルコキシシラン化合物である請求項1又は2に記載のコーティング組成物。
- 前記キレート化合物が、チタン、ジルコニウム及びアルミニウムから選ばれる少なくとも一種と、アセチルアセトナート又はエチルアセトナートとを含む請求項1〜3のいずれか1項に記載のコーティング組成物。
- 前記シリコン系樹脂は、メチル基とフェニル基とを含む請求項1〜4のいずれか1項に記載のコーティング組成物。
- 前記金属酸化物粒子が、チタン酸化合物粒子又は酸化ジルコニウム粒子である請求項1〜5のいずれか1項に記載のコーティング組成物。
- 請求項1〜6のいずれか1項に記載のコーティング組成物から形成された光学部材であって、
ヘイズが2%以上であり、
表面粗度Raが5.0nm以下であることを特徴とする光学部材。 - 請求項6に記載のコーティング組成物から形成された光学部材であって、
光損失率の最大ピークの開始波長が、410nm以下の領域に存在することを特徴とする光学部材。 - 前記光損失率の最大ピークの開始波長が、400nm以下の領域に存在する請求項8に記載の光学部材。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2014143665A JP2016020409A (ja) | 2014-07-11 | 2014-07-11 | コーティング組成物及び光学部材 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2014143665A JP2016020409A (ja) | 2014-07-11 | 2014-07-11 | コーティング組成物及び光学部材 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2016020409A true JP2016020409A (ja) | 2016-02-04 |
Family
ID=55265461
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2014143665A Pending JP2016020409A (ja) | 2014-07-11 | 2014-07-11 | コーティング組成物及び光学部材 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP2016020409A (ja) |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
WO2024067203A1 (zh) * | 2022-09-29 | 2024-04-04 | Tcl科技集团股份有限公司 | 复合材料、光电器件及其制备方法 |
-
2014
- 2014-07-11 JP JP2014143665A patent/JP2016020409A/ja active Pending
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
WO2024067203A1 (zh) * | 2022-09-29 | 2024-04-04 | Tcl科技集团股份有限公司 | 复合材料、光电器件及其制备方法 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JP5564748B2 (ja) | 屈折率調整光学部材用透明粘着剤と光学用透明粘着層及び屈折率調整光学部材用透明粘着剤の製造方法並びに光学用透明粘着層の製造方法 | |
JP4437783B2 (ja) | シリカ含有積層体 | |
JP6986339B2 (ja) | 反射防止膜形成用組成物、反射防止膜およびその形成方法 | |
JP5546239B2 (ja) | ハードコート膜付基材およびハードコート膜形成用塗布液 | |
JP5566306B2 (ja) | コーティング組成物、該組成物の製造方法、およびハードコート層を有する積層体 | |
JP5034301B2 (ja) | 高屈折材料形成用組成物およびその硬化体、ならびに高屈折材料形成用組成物の製造方法 | |
WO2010134464A1 (ja) | コーティング組成物および光学物品 | |
TWI609935B (zh) | 無機粒子分散液、含無機粒子之組成物、塗膜、附塗膜之塑膠基材、顯示裝置 | |
JP2003201443A (ja) | コーティング材組成物及びそれにより形成された被膜を有する物品 | |
CN1918252A (zh) | 涂布用涂料、使用该涂料的光学薄膜的制造方法、光学薄膜、偏振片及图像显示装置 | |
JP2007277505A (ja) | 酸化物微粒子分散体およびその製造方法 | |
JP2016148846A (ja) | 光学素子、遮光塗料セット及び光学素子の製造方法 | |
JP2004142161A (ja) | 表面防汚性複合樹脂フィルム、表面防汚性物品、化粧板 | |
JP2012246365A (ja) | 熱放射性塗料、及びそれを塗布した発光ダイオード(led)照明、ヒートシンク、太陽電池モジュール用バックシート | |
JP2008019358A (ja) | 透明被膜形成用塗料および透明被膜付基材 | |
JP2016020409A (ja) | コーティング組成物及び光学部材 | |
JP2009203282A (ja) | 透明帯電防止膜形成用塗料とそれを用いた透明帯電防止膜および透明帯電防止膜付き透明基材 | |
JP2014196424A (ja) | ハードコート層形成用組成物およびハードコート層 | |
JP6204227B2 (ja) | 水性組成物とその製造方法、ハードコートフィルム、積層フィルム、透明導電性フィルム、およびタッチパネル | |
JP4754035B1 (ja) | めっき付着性良好なポリオルガノシロキサン塗料組成物とその塗膜 | |
JP2007277073A (ja) | 酸化物微粒子分散体およびその製造方法 | |
JP4830461B2 (ja) | 反射防止材の製造方法 | |
JPWO2011099505A1 (ja) | 屋外設置用デバイスおよび屋外設置用デバイス用反射防止層 | |
JP2018135232A (ja) | 赤外線遮蔽部材、赤外線遮蔽部材付透明基体および赤外線遮蔽部材付透明基体の製造方法 | |
JP2014198848A (ja) | コーティング組成物及び光学部材 |