JP2016019975A - Coating apparatus - Google Patents
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Abstract
Description
本発明は、塗布装置、詳しくは、粒子および樹脂を含むワニスを塗布するための塗布装置に関する。 The present invention relates to a coating apparatus, and more particularly to a coating apparatus for coating a varnish containing particles and a resin.
従来、粒子および樹脂を含むワニスを塗布するための塗布装置が知られている。 Conventionally, a coating apparatus for coating a varnish containing particles and a resin is known.
例えば、スラリータンクと、その吐出方向下流側に配置されるダイコータと、それらを接続する配管に介装されるスタティックミキサとを備えるスラリー塗布装置が提案されている（例えば、下記特許文献１参照。）。 For example, a slurry coating apparatus including a slurry tank, a die coater disposed on the downstream side in the discharge direction, and a static mixer interposed in a pipe connecting them is proposed (for example, see Patent Document 1 below). ).
特許文献１のスラリー塗布装置では、スラリータンクから供給されるスラリーがスタティックミキサを通過し、その後、ダイコータから吐出されることにより、ダイコータから吐出されるときの不均一性を解消し、これによって、形成される塗膜の平坦性を確保している。 In the slurry application device of Patent Document 1, the slurry supplied from the slurry tank passes through the static mixer and is then discharged from the die coater, thereby eliminating the non-uniformity when discharged from the die coater. The flatness of the formed coating film is ensured.
しかるに、ダイコータに形成されるマニホールドは、通常、幅方向（吐出方向に対して直交する方向）に広がる正面視略矩形状をなしており、マニホールドの吐出方向上流部分の幅方向両端部では、ワニスの流れが緩慢になり、そのため、ワニスが滞留し易い。そして、ワニスの滞留部分では、粒子の比重が相対的に大きいと、粒子が沈降する。そのため、滞留部分における粒子の分布が不均一、さらには、マニホールドにおける粒子の分布が不均一になり易いという不具合がある。その結果、塗膜における粒子の分布が不均一になるという不具合がある。 However, the manifold formed on the die coater usually has a substantially rectangular shape in front view extending in the width direction (direction perpendicular to the discharge direction), and the varnish is formed at both ends in the width direction of the upstream portion of the manifold in the discharge direction. The flow of water becomes slow, and therefore the varnish tends to stay. And in the stay part of a varnish, when the specific gravity of particle | grains is relatively large, particle | grains will settle. Therefore, there is a problem that the distribution of particles in the staying portion is non-uniform, and further, the distribution of particles in the manifold tends to be non-uniform. As a result, there is a problem that the distribution of particles in the coating film becomes non-uniform.
本発明の目的は、塗膜における粒子の均一性を確保することのできる塗布装置を提供することにある。 The objective of this invention is providing the coating device which can ensure the uniformity of the particle | grains in a coating film.
上記目的を達成するために、本発明の塗布装置は、粒子および樹脂を含むワニスを塗布するための塗布装置であり、前記ワニスを撹拌するためのスタティックミキサーと、前記スタティックミキサーの吐出方向下流側に設けられるノズルとを備え、前記ノズルは、前記スタティックミキサーにより撹拌されながら吐出されるワニスを、前記吐出方向に直交する第１方向に広げるためのマニホールドを備え、前記マニホールドには、前記第１方向長さが、前記吐出方向下流側に向かうに従って、次第に長くなる拡大部が設けられていることを特徴としている。 In order to achieve the above object, a coating apparatus of the present invention is a coating apparatus for coating a varnish containing particles and a resin, and a static mixer for stirring the varnish, and a downstream side in the discharge direction of the static mixer Provided with a nozzle, and the nozzle includes a manifold for spreading a varnish discharged while stirring by the static mixer in a first direction orthogonal to the discharge direction, and the manifold includes the first An enlarged portion is provided in which the direction length is gradually increased toward the downstream side in the discharge direction.
この塗布装置では、ノズルに供給する前のワニスをスタティックミキサーによって撹拌することができる。そのため、ワニスにおける粒子および樹脂の均一性を確保することができる。 In this coating apparatus, the varnish before supplying to a nozzle can be stirred with a static mixer. Therefore, the uniformity of particles and resin in the varnish can be ensured.
また、この塗布装置では、マニホールドを通過するワニスは、拡大部において、吐出方向下流側に向かうに従って、第１方向外側に次第に広げられる。そのため、ワニスの吐出流れが緩慢になることを防止して、ワニスの滞留が生じることを防止することができる。その結果、マニホールドにおいてワニスにおける粒子の不均一性を解消することができる。従って、得られる塗膜における粒子の均一性を十分に確保することができる。 Further, in this coating apparatus, the varnish passing through the manifold is gradually spread outward in the first direction toward the downstream side in the discharge direction at the enlarged portion. Therefore, it is possible to prevent the discharge flow of the varnish from becoming slow and prevent the varnish from staying. As a result, the non-uniformity of particles in the varnish can be eliminated in the manifold. Therefore, sufficient uniformity of particles in the obtained coating film can be ensured.
また、本発明の塗布装置では、前記マニホールドは、前記スタティックミキサーにより吐出されるワニスが流入され、前記吐出方向に対する直交方向に沿う開口断面積が、前記吐出方向下流側に向かうに従って拡大する流入部と、前記流入部の前記吐出方向下流側に設けられ、ワニスが前記流入部から流出され、前記直交方向に沿う開口断面積が、前記吐出方向に向かうに従って縮小する流出部とを備え、前記拡大部は、前記流入部に設けられていることが好適である。 Further, in the coating apparatus of the present invention, the manifold is supplied with varnish discharged by the static mixer, and an inflow portion in which an opening cross-sectional area along a direction orthogonal to the discharge direction increases toward the downstream side in the discharge direction. And an outflow portion provided downstream of the inflow portion in the discharge direction, the varnish being discharged from the inflow portion, and an opening cross-sectional area along the orthogonal direction being reduced toward the discharge direction. It is preferable that the portion is provided in the inflow portion.
マニホールドにおいて、直交方向に沿う開口断面積が吐出方向下流側に向かうに従って拡大する流入部では、直交方向に沿う開口断面積が吐出方向に向かうに従って縮小する流出部に比べて、上記したワニスの吐出流れが緩慢になり易く、それに起因するワニスの滞留を生じ易い。 In the manifold, in the inflow portion where the opening cross-sectional area along the orthogonal direction expands toward the downstream side in the discharge direction, the discharge of the varnish described above is performed compared to the outflow portion in which the opening cross-sectional area along the orthogonal direction decreases toward the discharge direction. The flow tends to be slow, and varnish retention due to this tends to occur.
しかし、この塗布装置では、拡大部が流入部に設けられているので、上記したワニスの吐出流れが緩慢になることを防止して、ワニスの滞留が生じることを防止することができる。 However, in this coating apparatus, since the enlarged portion is provided in the inflow portion, it is possible to prevent the discharge flow of the varnish from slowing down and prevent the varnish from staying.
また、本発明の塗布装置では、前記スタティックミキサーは、前記吐出方向に向かうに従ってねじられたねじり羽根を前記吐出方向に沿って６個以上備えることが好適である。 In the coating apparatus of the present invention, it is preferable that the static mixer includes six or more torsion blades twisted along the discharge direction.
この塗布装置では、スタティックミキサーは、ねじり羽根を６個以上備えるので、ワニスにおける粒子および樹脂の均一性をより一層十分に確保することができる。 In this coating apparatus, since the static mixer includes six or more twisted blades, the uniformity of the particles and the resin in the varnish can be more sufficiently ensured.
また、本発明の塗布装置には、前記拡大部を区画するための、前記マニホールドに対して着脱可能なアタッチメント部材が、前記マニホールドの前記吐出方向上流側における前記第１方向端部に設けられていることが好適である。 In the coating apparatus of the present invention, an attachment member that can be attached to and detached from the manifold for partitioning the enlarged portion is provided at the end in the first direction on the upstream side in the discharge direction of the manifold. It is preferable that
この塗布装置によれば、アタッチメント部材が、マニホールドに対して着脱可能であるので、ワニスの特性に応じて、所望形状のアタッチメント部材に交換することができる。 According to this coating apparatus, since the attachment member can be attached to and detached from the manifold, it can be replaced with an attachment member having a desired shape according to the characteristics of the varnish.
また、本発明の塗布装置では、前記ノズルは、前記拡大部を通過するワニスを目視することのできる透明部材を備えていることが好適である。 Moreover, in the coating apparatus of this invention, it is suitable for the said nozzle to be equipped with the transparent member which can visually observe the varnish which passes the said expansion part.
この塗布装置によれば、透明部材を介して、拡大部を通過するワニスを目視することができるので、ワニスにおける粒子の状態を簡単に検査することができる。 According to this coating apparatus, since the varnish passing through the enlarged portion can be visually observed through the transparent member, the state of the particles in the varnish can be easily inspected.
本発明の塗布装置によれば、得られる塗膜における粒子の均一性を十分に確保することができる。 According to the coating apparatus of the present invention, the uniformity of particles in the obtained coating film can be sufficiently ensured.
図１〜図１１を参照して、本発明の塗布装置の一実施形態について説明する。 With reference to FIGS. 1-11, one Embodiment of the coating device of this invention is described.
図３において、紙面左右方向を「左右方向」（第１方向あるいは幅方向）とし、紙面上下方向を「前後方向」（第２方向あるいは厚み方向）とし、紙厚方向を「上下方向」（第３方向あるいは吐出方向）とし、具体的には、図３に記載の方向矢印に準拠する。図３以外の図面についても、図３の方向を基準とする。 In FIG. 3, the left-right direction on the paper surface is “left-right direction” (first direction or width direction), the up-down direction on the paper surface is “front-rear direction” (second direction or thickness direction), and the thickness direction is “up-down direction” (first direction). 3 directions or discharge directions), specifically, in accordance with the direction arrow shown in FIG. The drawings other than FIG. 3 are also based on the direction of FIG.
なお、図８において、マニホールド２１（後述）、シム１３（後述）およびアタッチメント部材２５（後述）の相対配置を明確に示すために、第２ブロック１２（後述）を省略している。さらに、図９において、シム１３、第１ブロック１１および第２ブロック１２の相対配置を明確に示すために、アタッチメント部材２５を省略している。 In FIG. 8, the second block 12 (described later) is omitted in order to clearly show the relative arrangement of the manifold 21 (described later), the shim 13 (described later), and the attachment member 25 (described later). Further, in FIG. 9, the attachment member 25 is omitted in order to clearly show the relative arrangement of the shim 13, the first block 11, and the second block 12.
図１において、この塗布装置１は、粒子および樹脂を含むワニス（後で詳述する）を塗布するための塗布装置である。塗布装置１は、タンク２と、ポンプ３と、スタティックミキサー４と、ノズル５とを備える。タンク２、ポンプ３、スタティックミキサー４およびノズル５は、ワニスの吐出方向上流側から下流側に向かって、順次配置されている。 In FIG. 1, a coating apparatus 1 is a coating apparatus for coating a varnish containing particles and a resin (described in detail later). The coating apparatus 1 includes a tank 2, a pump 3, a static mixer 4, and a nozzle 5. The tank 2, the pump 3, the static mixer 4 and the nozzle 5 are sequentially arranged from the upstream side toward the downstream side in the varnish discharge direction.
タンク２は、ワニスを貯蔵するリザーバであって、塗布装置１の上側部分に設けられている。 The tank 2 is a reservoir for storing the varnish, and is provided in an upper portion of the coating apparatus 1.
ポンプ３は、タンク２と配管６１を介して接続されており、具体的には、タンク２の後側に配置されている。ポンプ３は、タンク２内に貯蔵されるワニスをスタティックミキサー４に圧力を負荷して吐出できるポンプであれば特に限定されず、例えば、モーノポンプ（具体的には、ヘイシンモーノポンプ（兵神装備社製）として市販されるポンプなど）などが挙げられる。 The pump 3 is connected to the tank 2 via the pipe 61, and specifically, is disposed on the rear side of the tank 2. The pump 3 is not particularly limited as long as the pump can discharge the varnish stored in the tank 2 while applying pressure to the static mixer 4. For example, the pump 3 can be a MONO pump (specifically, a Heisin MONO pump (manufactured by Hyojin Equipment Co., Ltd.). ) And other commercially available pumps).
スタティックミキサー４は、上下方向に沿って延びるように配置されている。スタティックミキサー４は、ポンプ３の下側に配置されており、ポンプ３の下端部に接続されている。スタティックミキサー４としては、特に限定されず、例えば、改訂六版 化学工学便覧の第４５３頁に記載されるような、Ｋｅｎｉｃｓ ｍｉｘｅｒ型、Ｓｕｌｚｅｒ ＳＭＶ型、Ｓｕｌｚｅｒ ＳＭＸ型、Ｔｒａｙ Ｈｉ−ｍｉｘｅｒ型、Ｋｏｍａｘ ｍｉｘｅｒ型、Ｌｉｇｈｔｎｉｎ ｍｉｘｅｒ型、Ｒｏｓｓ ＩＳＧ型、Ｂｒａｎ＆Ｌｕｂｅ ｍｉｘｅｒ型のスタティックミキサーが挙げられる。好ましくは、図２に示すＫｅｎｉｃｓ ｍｉｘｅｒ型が用いられる。 The static mixer 4 is arranged so as to extend along the vertical direction. The static mixer 4 is disposed below the pump 3 and is connected to the lower end of the pump 3. The static mixer 4 is not particularly limited. For example, as described in the revised Sixth Edition, page 453 of the Chemical Engineering Handbook, Kenics mixer type, Sulzer SMV type, Sulzer SMX type, Ray Hi-mixer type, Komax mixer Type, Lightnin mixer type, Ross ISG type, Bran & Lub mixer type static mixer. Preferably, the Kenics mixer type shown in FIG. 2 is used.
Ｋｅｎｉｃｓ ｍｉｘｅｒ型のスタティックミキサー４は、上下方向に延びる直管６と、直管６に収容されるねじり羽根７とを備える。 The Kenics mixer type static mixer 4 includes a straight pipe 6 extending in the vertical direction and a torsion blade 7 accommodated in the straight pipe 6.
ねじり羽根７は、吐出方向下流側に向かうに従って時計回り（右回り）に１８０度ねじられた右ねじり羽根８と、吐出方向下流側に向かうに従って反時計回り（左回り）に１８０度ねじられた左ねじり羽根９とを備える。右ねじり羽根８および左ねじり羽根９は、それぞれ、複数（図２では、９個）設けられており、吐出方向に沿って交互に配置されている。また、右ねじり羽根８の吐出方向下流側端縁と、左ねじり羽根９の吐出方向上流側端縁とは、吐出方向に投影したときに、直交するように、接合されている。また、右ねじり羽根８の吐出方向上流側端縁と、左ねじり羽根９の吐出方向下流側端縁とは、吐出方向（上下方向）に投影したときに、直交するように、接合されている。 The torsion blade 7 is twisted 180 degrees clockwise (clockwise) as it goes downstream in the discharge direction, and twisted 180 degrees counterclockwise (counterclockwise) as it goes downstream in the discharge direction. A left twisted blade 9. Each of the right twist blade 8 and the left twist blade 9 is provided in plural (nine in FIG. 2), and is alternately arranged along the discharge direction. Further, the discharge direction downstream end edge of the right twist blade 8 and the discharge direction upstream end edge of the left twist blade 9 are joined so as to be orthogonal when projected in the discharge direction. Further, the upstream edge in the discharge direction of the right twist blade 8 and the downstream edge in the discharge direction of the left twist blade 9 are joined so as to be orthogonal when projected in the discharge direction (vertical direction). .
スタティックミキサー４の寸法は、適宜設定されており、例えば、管長が、例えば、１０ｍｍ以上、好ましくは、３０ｍｍ以上であり、また、例えば、４００ｍｍ以下、好ましくは、３５０ｍｍ以下である。また、内径は、例えば、３ｍｍ以上、好ましくは、５ｍｍ以上であり、また、例えば、３０ｍｍ以下、好ましくは、１５ｍｍ以下である。また、管長／内径比は、例えば、３以上、好ましくは、５以上であり、また、例えば、３０以下、好ましくは、２５以下である。さらに、スタティックミキサー４がＫｅｎｉｃｓ ｍｉｘｅｒ型である場合には、各右ねじり羽根８および各左ねじり羽根９の吐出方向長さは、例えば、３ｍｍ以上、好ましくは、５ｍｍ以上であり、また、例えば、５０ｍｍ以下、好ましくは、３０ｍｍ以下である。 The dimensions of the static mixer 4 are appropriately set. For example, the tube length is, for example, 10 mm or more, preferably 30 mm or more, and, for example, 400 mm or less, preferably 350 mm or less. Moreover, an internal diameter is 3 mm or more, for example, Preferably, it is 5 mm or more, for example, is 30 mm or less, Preferably, it is 15 mm or less. The tube length / inner diameter ratio is, for example, 3 or more, preferably 5 or more, and for example, 30 or less, preferably 25 or less. Further, when the static mixer 4 is a Kenics mixer type, the length in the discharge direction of each right twist blade 8 and each left twist blade 9 is, for example, 3 mm or more, preferably 5 mm or more. It is 50 mm or less, preferably 30 mm or less.
ノズル５は、例えば、スロットダイコータであって、具体的には、図１に示すように、スタティックミキサー４の下側に配置されており、スタティックミキサー４の下端部に接続されている。ノズル５は、上下方向および左右方向に延びる厚肉平板形状に形成されている。ノズル５は、第１ブロック１１と、第１ブロック１１の前側に対向配置される第２ブロック１２と、第１ブロック１１および第２ブロック１２の間に介在するシム１３とを備える。 The nozzle 5 is, for example, a slot die coater. Specifically, as shown in FIG. 1, the nozzle 5 is disposed below the static mixer 4 and connected to the lower end of the static mixer 4. The nozzle 5 is formed in a thick plate shape extending in the vertical direction and the horizontal direction. The nozzle 5 includes a first block 11, a second block 12 disposed to face the front side of the first block 11, and a shim 13 interposed between the first block 11 and the second block 12.
第１ブロック１１は、例えば、ステンレスなどの金属、あるいは、アクリル樹脂などの樹脂から形成されている。第１ブロック１１は、好ましくは、耐久性の観点から、金属から形成されている。 The first block 11 is made of, for example, a metal such as stainless steel or a resin such as acrylic resin. The first block 11 is preferably made of metal from the viewpoint of durability.
図３および図９に示すように、第１ブロック１１は、上下方向および左右方向に延びる厚肉平板形状をなし、具体的には、平面視および正面視において、略矩形状に形成され、側面視において、上側部分が略矩形状に形成され、下側部分が、下側に向かうに従って前後方向長さが短くなる略三角形状に形成されている。また、第１ブロック１１は、前面の中央部が後側に凹む有底枠形状に形成されている。第１ブロック１１は、上壁４６ａと、下壁４６ｂと、１対の側壁４６ｃとを一体的に備える。 As shown in FIGS. 3 and 9, the first block 11 has a thick flat plate shape extending in the up-down direction and the left-right direction. Specifically, the first block 11 is formed in a substantially rectangular shape in a plan view and a front view, and has a side surface. In view, the upper part is formed in a substantially rectangular shape, and the lower part is formed in a substantially triangular shape whose length in the front-rear direction becomes shorter toward the lower side. Moreover, the 1st block 11 is formed in the bottomed frame shape where the center part of the front surface is dented in the back side. The first block 11 integrally includes an upper wall 46a, a lower wall 46b, and a pair of side walls 46c.
上壁４６ａは、左右方向に延びる平面視略矩形状、かつ、正面視略矩形状に形成されている。また、上壁４６ａは、図６および図７に示すように、側面視において、上側部分が略矩形状をなし、下側部分の下面４７が湾曲面となるように形成されている。具体的には、上壁４６ａの下面４７は、後方に向かうに従って次第に下側に湾曲する円弧形状に形成されている。 The upper wall 46a is formed in a substantially rectangular shape in plan view extending in the left-right direction and in a substantially rectangular shape in front view. Further, as shown in FIGS. 6 and 7, the upper wall 46a is formed so that the upper portion is substantially rectangular in a side view and the lower surface 47 of the lower portion is a curved surface. Specifically, the lower surface 47 of the upper wall 46a is formed in an arc shape that gradually curves downward as it goes rearward.
下壁４６ｂは、上壁４６ａの下端部に隣接して設けられている。下壁４６ｂは、図４および図８に示すように、左右方向に延びる底面視略矩形状、かつ、正面視略矩形状に形成されている。また、下壁４６ｂは、図６および図７に示すように、側面視において、その下面が前側に向かうに従って下方に直線状に傾斜する傾斜面として形成されるとともに、その上面４８が前側に向かうに従って下方に直線状に傾斜する傾斜面として形成される。下壁４６ｂの上面４８の上端縁は、上壁４６ａの下面４７の下端縁に連続するように形成されている。 The lower wall 46b is provided adjacent to the lower end of the upper wall 46a. As shown in FIGS. 4 and 8, the lower wall 46b is formed in a substantially rectangular shape in bottom view extending in the left-right direction and in a substantially rectangular shape in front view. Further, as shown in FIGS. 6 and 7, the lower wall 46b is formed as an inclined surface that is linearly inclined downward as the lower surface thereof is directed toward the front side, and the upper surface 48 thereof is directed toward the front side, as shown in FIGS. Accordingly, it is formed as an inclined surface inclined linearly downward. The upper end edge of the upper surface 48 of the lower wall 46b is formed to be continuous with the lower end edge of the lower surface 47 of the upper wall 46a.
１対の側壁４６ｃは、図８および図９に示すように、上壁４６ａおよび下壁４６ｂの左右方向両端部に連続しており、上下方向に延びる平面視略矩形状に形成されている。また、側壁４６ｃは、側面視において、上側部分が略矩形状をなし、下側部分が、下側に向かうに従って前後方向長さが短くなる略三角形状に形成されている。 As shown in FIGS. 8 and 9, the pair of side walls 46c are continuous to both ends in the left-right direction of the upper wall 46a and the lower wall 46b, and are formed in a substantially rectangular shape in plan view extending in the up-down direction. Further, the side wall 46c is formed in a substantially triangular shape in which the upper part has a substantially rectangular shape in a side view and the lower part has a length in the front-rear direction that decreases toward the lower side.
そして、第１ブロック１１では、上壁４６ａ、下壁４６ｂおよび１対の側壁４６ｃの前面が、面一の正面視略矩形枠状に形成されている。また、図６および図８に示すように、第１ブロック１１では、上壁４６ａの下面４７と、下壁４６ｂの上面４８と、１対の側壁４６ｃの内面（内側面）とから、マニホールド２１が形成される。マニホールド２１は、後述する供給孔２０から供給されるワニスを左右方向に広げるために設けられる。 In the first block 11, the front surfaces of the upper wall 46a, the lower wall 46b, and the pair of side walls 46c are formed in a substantially rectangular frame shape in a flush front view. As shown in FIGS. 6 and 8, in the first block 11, the manifold 21 includes a lower surface 47 of the upper wall 46a, an upper surface 48 of the lower wall 46b, and an inner surface (inner surface) of the pair of side walls 46c. Is formed. The manifold 21 is provided to spread a varnish supplied from a supply hole 20 described later in the left-right direction.
具体的には、マニホールド２１は、流入部５０および流出部５１を備える。 Specifically, the manifold 21 includes an inflow portion 50 and an outflow portion 51.
流入部５０は、上壁４６ａの下面４７と、１対の側壁４６ｃの内面（内側面）とによって形成される。流入部５０は、左右方向および前後方向（吐出方向に対する直交方向）に沿う開口断面積が、下方（吐出方向下流側）に向かうに従って拡大するように、形成されている。この流入部５０によって、流入空間５２が仕切られる。 The inflow portion 50 is formed by the lower surface 47 of the upper wall 46a and the inner surfaces (inner side surfaces) of the pair of side walls 46c. The inflow portion 50 is formed such that the opening cross-sectional area along the left-right direction and the front-rear direction (the direction orthogonal to the discharge direction) increases as it goes downward (downstream in the discharge direction). The inflow space 52 is partitioned by the inflow portion 50.
流出部５１は、下壁４６ｂの上面４８と、１対の側壁４６ｃの内面（内側面）とによって形成される。流出部５１は、左右方向および前後方向（吐出方向に対する直交方向）に沿う開口断面積が、吐出方向に向かうに従って縮小するように、形成されている。この流出部５１によって、流出空間５３が、流入空間５２に連通するように、仕切られる。 The outflow portion 51 is formed by the upper surface 48 of the lower wall 46b and the inner surfaces (inner side surfaces) of the pair of side walls 46c. The outflow portion 51 is formed such that the opening cross-sectional area along the left-right direction and the front-rear direction (the direction orthogonal to the discharge direction) decreases as it goes toward the discharge direction. The outflow space 53 is partitioned by the outflow portion 51 so as to communicate with the inflow space 52.
このマニホールド２１によって、マニホールド空間が仕切られる。 The manifold space is partitioned by the manifold 21.
マニホールド空間は、流入空間５２と、流出空間５３とから形成される。 The manifold space is formed from an inflow space 52 and an outflow space 53.
また、上壁４６ａには、上壁４６ａを上下方向に貫通する供給孔２０が形成されている。供給孔２０は、スタティックミキサー４（図１および図２参照）から供給されるワニスをキャビティ４９（後述する）に案内するために上壁４６ａに形成されており、略円柱形状にされている。また、図３に示すように、供給孔２０は、平面視において、上壁４６ａの左右方向略中央部に設けられている。なお、図６に示すように、供給孔２０の下端部は、下側斜め前方に屈曲して、上壁４６ａの下面４７に開口されている。 The upper wall 46a has a supply hole 20 penetrating the upper wall 46a in the vertical direction. The supply hole 20 is formed in the upper wall 46a in order to guide the varnish supplied from the static mixer 4 (see FIGS. 1 and 2) to the cavity 49 (described later), and has a substantially cylindrical shape. As shown in FIG. 3, the supply hole 20 is provided at a substantially central portion in the left-right direction of the upper wall 46 a in plan view. As shown in FIG. 6, the lower end portion of the supply hole 20 is bent obliquely forward to the lower side and opened on the lower surface 47 of the upper wall 46a.
また、図８に示すように、上壁４６ａおよび１対の側壁４６ｃには、それらの前面から後方に向かって穿孔される第１固定孔２８が形成される。第１固定孔２８は、互いに間隔を隔てて複数設けられている。具体的には、第１固定孔２８は、上壁４６ａの前面において、左右方向に等間隔を隔てて形成されている。また、第１固定孔２８は、１対の側壁４６ｃの前面において、上下方向に等間隔を隔てて形成されている。 Further, as shown in FIG. 8, the upper wall 46a and the pair of side walls 46c are formed with a first fixing hole 28 that is drilled rearward from the front surface thereof. A plurality of first fixing holes 28 are provided at intervals. Specifically, the first fixing holes 28 are formed at equal intervals in the left-right direction on the front surface of the upper wall 46a. The first fixing holes 28 are formed at equal intervals in the vertical direction on the front surfaces of the pair of side walls 46c.
さらに、図５および図８に示すように、１対の側壁４６ｃには、左右方向を貫通する第２固定孔２９が形成されている。第２固定孔２９は、側壁４６ｃにおいて、流入空間５２（図６参照）に連通する位置に設けられている。 Further, as shown in FIGS. 5 and 8, a second fixing hole 29 penetrating in the left-right direction is formed in the pair of side walls 46 c. The second fixing hole 29 is provided at a position communicating with the inflow space 52 (see FIG. 6) on the side wall 46c.
そして、図７および図８に示すように、マニホールド２１には、アタッチメント部材２５が装着されている。 As shown in FIGS. 7 and 8, an attachment member 25 is attached to the manifold 21.
アタッチメント部材２５は、マニホールド２１の上側（吐出方向上流側）部分において、左右方向に互いに間隔を隔てて２つ設けられている。 Two attachment members 25 are provided on the upper side (upstream side in the discharge direction) of the manifold 21 at intervals in the left-right direction.
各アタッチメント部材２５は、図３の破線および図７に示すように、左右方向に延びる平面視略矩形状をなし、その左右方向外側面が、上下方向に延びる平坦状に形成されている。また、アタッチメント部材２５は、側面視扇状をなし、その下面が平坦面に形成されており、上面が、後方に向かうに従って次第に下側に湾曲する円弧形状に形成されている。図８の太線および細線のハッチングで示されるように、アタッチメント部材２５は、正面視略三角形状（具体的には、直角三角形状）に形成されている。また、２つのアタッチメント部材２５の下面は、正面視において、左右方向外側に向かうに従って下側に傾斜する傾斜面として形成されており、それらは、左右方向に互いに対向するように配置されている。 As shown in the broken line in FIG. 3 and FIG. 7, each attachment member 25 has a substantially rectangular shape in plan view extending in the left-right direction, and the outer side surface in the left-right direction is formed in a flat shape extending in the up-down direction. Further, the attachment member 25 has a fan shape when viewed from the side, the lower surface is formed as a flat surface, and the upper surface is formed in an arc shape that gradually curves downward as it goes rearward. As shown by the thick and thin hatching in FIG. 8, the attachment member 25 is formed in a substantially triangular shape (specifically, a right triangle shape) when viewed from the front. In addition, the lower surfaces of the two attachment members 25 are formed as inclined surfaces that are inclined downwardly toward the outer side in the left-right direction when viewed from the front, and are disposed so as to face each other in the left-right direction.
また、図７に示すように、アタッチメント部材２５には、上下方向および左右方向に投影したときに、第１ブロック１１から前側にわずか突出する突出部分が形成されている。 Further, as shown in FIG. 7, the attachment member 25 is formed with a protruding portion that slightly protrudes forward from the first block 11 when projected in the vertical direction and the horizontal direction.
図７および図８に示すように、アタッチメント部材２５の下面の左右方向両外端縁は、前後方向に投影したときに、上壁４６ａの下面４７の下端縁に重なるように配置されている。また、アタッチメント部材２５の下面の左右方向内端縁は、供給孔２０の左右方向両端部に隣接して、供給孔２０を露出するように、供給孔２０の下端部の左右方向両外側に隣接配置されている。 As shown in FIGS. 7 and 8, both left and right outer end edges of the lower surface of the attachment member 25 are arranged so as to overlap the lower end edge of the lower surface 47 of the upper wall 46a when projected in the front-rear direction. The left and right inner end edges of the lower surface of the attachment member 25 are adjacent to both left and right ends of the supply hole 20 and adjacent to both outer sides of the lower end of the supply hole 20 so as to expose the supply hole 20. Has been placed.
このアタッチメント部材２５がマニホールド２１に装着されることによって、キャビティ４９の流入空間５２に、左右方向長さが、下側に向かうに従って、次第に長くなる拡大部３３が形成される。 By attaching the attachment member 25 to the manifold 21, an enlarged portion 33 is formed in the inflow space 52 of the cavity 49 that gradually increases in length in the left-right direction toward the lower side.
拡大部３３は、供給孔２０を中心として、その左右方向長さが、下方に向かうに従って、次第に長くなるように、略逆Ｖ字形状に形成されている。 The enlarged portion 33 is formed in a substantially inverted V shape so that the length in the left-right direction with respect to the supply hole 20 gradually increases as it goes downward.
第２ブロック１２は、例えば、アクリル樹脂（具体的には、ポリメタクリル酸メチル）、シリコーン樹脂などの透明樹脂などの透明材料から形成される透明部材である。 The second block 12 is a transparent member formed of a transparent material such as an acrylic resin (specifically, polymethyl methacrylate) or a transparent resin such as a silicone resin.
第２ブロック１２は、図９に示すように、左右方向に延びる平板形状をなし、下端部が、下側に向かうに従って前後方向長さが短くなる略三角形状に形成されている。また、第２ブロック１２は、前後方向に投影したときに、第１ブロック１１と重複するように形成されている。第２ブロック１２の上面および両側面は、第１ブロック１１における上面および両側面と面一に形成され、また、第２ブロック１２の下端部は、第１ブロック１１における下端部と、前後方向に投影したときに、同一位置に配置されている。 As shown in FIG. 9, the second block 12 has a flat plate shape extending in the left-right direction, and the lower end portion is formed in a substantially triangular shape whose length in the front-rear direction becomes shorter toward the lower side. The second block 12 is formed so as to overlap the first block 11 when projected in the front-rear direction. The upper surface and both side surfaces of the second block 12 are formed flush with the upper surface and both side surfaces of the first block 11, and the lower end portion of the second block 12 is in the front-rear direction with the lower end portion of the first block 11. When projected, they are placed at the same position.
なお、図示しないが、第２ブロック１２には、正面視において、第１ブロック１１と同じ配置および大きさの複数の第１固定孔２８（図８参照）が形成されている。 Although not shown, the second block 12 is formed with a plurality of first fixing holes 28 (see FIG. 8) having the same arrangement and size as the first block 11 in a front view.
シム１３は、例えば、第１ブロック１１と同様の材料から形成されている。シム１３は、下側に開放される正面視略逆Ｕ字形状の薄板である。図８の細線のハッチングが参照されるように、シム１３は、前後方向に投影したときに、上壁４６ａの前面、および、１対の側壁４６ｃの前面に重複するように、第１ブロック１１および第２ブロック１２の間に介在されている。 The shim 13 is formed of the same material as that of the first block 11, for example. The shim 13 is a thin plate having a substantially inverted U shape when viewed from the front. As the thin line hatching in FIG. 8 is referred to, the shim 13 overlaps the front surface of the upper wall 46a and the front surface of the pair of side walls 46c when projected in the front-rear direction. And is interposed between the second blocks 12.
なお、図示しないが、シム１３には、正面視において、第１ブロック１１と同じ配置および大きさの複数の第１固定孔２８が形成されている。 Although not shown, the shim 13 is formed with a plurality of first fixing holes 28 having the same arrangement and size as the first block 11 in a front view.
次に、ノズル５の組み付けについて、図９および図１０を参照して説明する。 Next, assembly of the nozzle 5 will be described with reference to FIGS. 9 and 10.
まず、第１ブロック１１、アタッチメント部材２５、シム１３および第２ブロック１２のそれぞれを用意する。 First, each of the first block 11, the attachment member 25, the shim 13, and the second block 12 is prepared.
次いで、第１ブロック１１のマニホールド２１に、アタッチメント部材２５を装着するとともに、上壁４６ａの前面および１対の側壁４６ｃの前面にシム１３を配置する。 Next, the attachment member 25 is mounted on the manifold 21 of the first block 11, and the shim 13 is disposed on the front surface of the upper wall 46a and the front surface of the pair of side walls 46c.
具体的には、アタッチメント部材２５を、マニホールド２１の流入部５０に嵌め込んだ後、図示しない固定部材（図示せず、例えば、ねじ、ボルトなど）を第２固定孔２９（図５および図８参照）に挿通し、アタッチメント部材２５に到達させ、これによって、アタッチメント部材２５をマニホールド２１に固定する。 Specifically, after fitting the attachment member 25 into the inflow portion 50 of the manifold 21, a fixing member (not shown) (not shown, for example, a screw or a bolt) is inserted into the second fixing hole 29 (FIGS. 5 and 8). And the attachment member 25 is fixed to the manifold 21.
また、シム１３を、上壁４６ａの前面および１対の側壁４６ｃの前面に接触させる。 Further, the shim 13 is brought into contact with the front surface of the upper wall 46a and the front surfaces of the pair of side walls 46c.
次いで、第２ブロック１２の後面を、シム１３の前面と、アタッチメント部材２５の前面とに接触させる。続いて、図示しない固定部材を、第１ブロック１１、シム１３および第２ブロック１２の第１固定孔２８（図８参照）に挿通し、固定する。これによって、第１ブロック１１および第２ブロック１２によって、シム１３を挟み込み、ノズル５を組み付ける。 Next, the rear surface of the second block 12 is brought into contact with the front surface of the shim 13 and the front surface of the attachment member 25. Subsequently, a fixing member (not shown) is inserted into the first fixing hole 28 (see FIG. 8) of the first block 11, the shim 13, and the second block 12 and fixed. As a result, the shim 13 is sandwiched between the first block 11 and the second block 12 and the nozzle 5 is assembled.
これによって、図６に示すように、ノズル５には、第１ブロック１１のマニホールド２１と、シム１３の内側面と、第２ブロック１２の後面とによって仕切られるキャビティ４９が形成される。 As a result, as shown in FIG. 6, the nozzle 5 is formed with a cavity 49 that is partitioned by the manifold 21 of the first block 11, the inner surface of the shim 13, and the rear surface of the second block 12.
これとともに、第１ブロック１１の下壁４６ｂの前面と、シム１３の内側面と、第２ブロック１２の後面とによって仕切られるスリット５６が形成される。スリット５６は、図８が参照されるように、左右方向に延びる平面視略矩形状に開口され、また、図６に示すように、上下方向に延びる側面視略矩形状に開口されている。 Along with this, a slit 56 is formed that is partitioned by the front surface of the lower wall 46 b of the first block 11, the inner surface of the shim 13, and the rear surface of the second block 12. As shown in FIG. 8, the slit 56 is opened in a substantially rectangular shape in plan view extending in the left-right direction, and is opened in a substantially rectangular shape in side view extending in the vertical direction as shown in FIG.
また、図４および図６に示すように、スリット５６の下端部（吐出口）は、スロット５７が開口される。スロット５７は、底面視において、左右方向に細長く延びる略矩形状のワニスの吐出口に形成される。 As shown in FIGS. 4 and 6, the slot 57 is opened at the lower end (discharge port) of the slit 56. The slot 57 is formed at a discharge port of a substantially rectangular varnish extending in the left-right direction when viewed from the bottom.
また、スリット５６を仕切る下壁４６ｂ、シム１３および第２ブロック１２は、吐出部２３とされる。 Further, the lower wall 46 b, the shim 13, and the second block 12 that partition the slit 56 are used as the discharge unit 23.
さらに、第１ブロック１１の下壁４６ｂの下端部の下面、および、第２ブロック１２の下端部の下面は、いずれも平坦面であって、ドクター２６とされる。 Furthermore, the lower surface of the lower end portion of the lower wall 46 b of the first block 11 and the lower surface of the lower end portion of the second block 12 are both flat surfaces and are used as the doctor 26.
ノズル５の寸法は、ワニスの物性（粘度を含む）、塗膜６０（図１１参照）の形状および／または厚さによって適宜設定され、特に限定されない。ノズル５の幅（左右方向長さ）は、例えば、３０ｍｍ以上、好ましくは、５０ｍｍ以上であり、また、例えば、５００ｍｍ以下、好ましくは、２００ｍｍ以下である。また、供給孔２０の内径は、例えば、２ｍｍ以上、好ましくは、５ｍｍ以上であり、また、例えば、３０ｍｍ以下、好ましくは、１５ｍｍ以下である。また、キャビティ４９、スリット５６およびスロット５７の幅（左右方向長さ）は、例えば、１０ｍｍ以上、好ましくは、３０ｍｍ以上であり、また、例えば、４５０ｍｍ以下、好ましくは、１５０ｍｍ以下である。また、流入空間５２の上下方向長さは、例えば、３ｍｍ以上、好ましくは、５ｍｍ以上であり、また、例えば、８０ｍｍ以下、好ましくは、５０ｍｍ以下であり、前後方向長さは、例えば、３ｍｍ以上、好ましくは、５ｍｍ以上であり、また、例えば、５０ｍｍ以下、好ましくは、３０ｍｍ以下である。流出空間５３の上下方向長さは、例えば、３ｍｍ以上、好ましくは、５ｍｍ以上であり、また、例えば、８０ｍｍ以下、好ましくは、５０ｍｍ以下である。 The dimensions of the nozzle 5 are appropriately set depending on the physical properties (including viscosity) of the varnish, the shape and / or thickness of the coating film 60 (see FIG. 11), and are not particularly limited. The width (length in the left-right direction) of the nozzle 5 is, for example, 30 mm or more, preferably 50 mm or more, and, for example, 500 mm or less, preferably 200 mm or less. Moreover, the internal diameter of the supply hole 20 is 2 mm or more, for example, Preferably, it is 5 mm or more, for example, is 30 mm or less, Preferably, it is 15 mm or less. The width (length in the left-right direction) of the cavity 49, the slit 56, and the slot 57 is, for example, 10 mm or more, preferably 30 mm or more, and, for example, 450 mm or less, preferably 150 mm or less. The length of the inflow space 52 in the vertical direction is, for example, 3 mm or more, preferably 5 mm or more, for example, 80 mm or less, preferably 50 mm or less, and the length in the front-rear direction is, for example, 3 mm or more. The thickness is preferably 5 mm or more, and for example, 50 mm or less, preferably 30 mm or less. The vertical length of the outflow space 53 is, for example, 3 mm or more, preferably 5 mm or more, and for example, 80 mm or less, preferably 50 mm or less.
また、アタッチメント部材２５の幅（左右方向長さ）は、例えば、５ｍｍ以上、好ましくは、１５ｍｍ以上であり、また、例えば、２００ｍｍ以下、好ましくは、７０ｍｍ以下である。また、アタッチメント部材２５の上下方向長さは、例えば、３ｍｍ以上、好ましくは、５ｍｍ以上であり、また、例えば、８０ｍｍ以下、好ましくは、５０ｍｍ以下である。また、アタッチメント部材２５の前後方向長さは、例えば、３ｍｍ以上、好ましくは、５ｍｍ以上であり、また、例えば、５０ｍｍ以下、好ましくは、３０ｍｍ以下である。 Moreover, the width (length in the left-right direction) of the attachment member 25 is, for example, 5 mm or more, preferably 15 mm or more, and for example, 200 mm or less, preferably 70 mm or less. The vertical length of the attachment member 25 is, for example, 3 mm or more, preferably 5 mm or more, and for example, 80 mm or less, preferably 50 mm or less. The length in the front-rear direction of the attachment member 25 is, for example, 3 mm or more, preferably 5 mm or more, and, for example, 50 mm or less, preferably 30 mm or less.
スリット５６の前後方向長さおよびスロット５７（吐出口）の前後方向長さは、シム１３の前後方向の長さと実質的に同一であり、例えば、０．１ｍｍ以上、好ましくは、０．５ｍｍ以上であり、また、例えば、３ｍｍ以下、好ましくは、２ｍｍ以下である。 The length of the slit 56 in the front-rear direction and the length of the slot 57 (discharge port) in the front-rear direction are substantially the same as the length of the shim 13 in the front-rear direction, for example, 0.1 mm or more, preferably 0.5 mm or more. Also, for example, 3 mm or less, preferably 2 mm or less.
なお、この塗布装置１には、図１に示すように、ノズル５を前後方向、左右方向および／または上下方向に移動可能な移動装置５５が、ポンプ３の上側に隣接して設けられている。 As shown in FIG. 1, the coating device 1 is provided with a moving device 55 that can move the nozzle 5 in the front-rear direction, the left-right direction, and / or the up-down direction, adjacent to the upper side of the pump 3. .
次いで、この塗布装置１を用いてワニスを塗布する方法について、図１および図１１を参照して説明する。 Next, a method of applying varnish using the coating apparatus 1 will be described with reference to FIGS. 1 and 11.
この方法では、まず、ワニスを調製する。 In this method, first, a varnish is prepared.
ワニスは、粒子および樹脂を必須成分として含有する。 The varnish contains particles and a resin as essential components.
粒子としては、塗膜の用途および目的に応じて適宜設定され、例えば、蛍光体、充填剤が挙げられる。 The particles are appropriately set according to the application and purpose of the coating film, and examples thereof include phosphors and fillers.
蛍光体は、波長変換機能を有しており、例えば、青色光を黄色光に変換することのできる黄色蛍光体、青色光を赤色光に変換することのできる赤色蛍光体などが挙げられる。 The phosphor has a wavelength conversion function, and examples thereof include a yellow phosphor capable of converting blue light into yellow light, and a red phosphor capable of converting blue light into red light.
黄色蛍光体としては、例えば、（Ｂａ，Ｓｒ，Ｃａ）２ＳｉＯ４；Ｅｕ、（Ｓｒ，Ｂａ）２ＳｉＯ４：Ｅｕ（バリウムオルソシリケート（ＢＯＳ））などのシリケート蛍光体、例えば、Ｙ３Ａｌ５Ｏ１２：Ｃｅ（ＹＡＧ（イットリウム・アルミニウム・ガーネット）：Ｃｅ）、Ｔｂ３Ａｌ３Ｏ１２：Ｃｅ（ＴＡＧ（テルビウム・アルミニウム・ガーネット）：Ｃｅ）などのガーネット型結晶構造を有するガーネット型蛍光体、例えば、Ｃａ−α−ＳｉＡｌＯＮなどの酸窒化物蛍光体などが挙げられる。 Examples of the yellow phosphor include silicate phosphors such as (Ba, Sr, Ca) 2 SiO 4 ; Eu, (Sr, Ba) 2 SiO 4 : Eu (barium orthosilicate (BOS)), for example, Y 3 Al Garnet-type phosphors having a garnet-type crystal structure such as 5 O 12 : Ce (YAG (yttrium, aluminum, garnet): Ce), Tb 3 Al 3 O 12 : Ce (TAG (terbium, aluminum, garnet): Ce) Examples thereof include oxynitride phosphors such as Ca-α-SiAlON.
赤色蛍光体としては、例えば、ＣａＡｌＳｉＮ３：Ｅｕ、ＣａＳｉＮ２：Ｅｕなどの窒化物蛍光体などが挙げられる。 Examples of the red phosphor include nitride phosphors such as CaAlSiN 3 : Eu and CaSiN 2 : Eu.
蛍光体の形状としては、例えば、球状、板状、針状などが挙げられる。好ましくは、流動性の観点から、球状が挙げられる。 Examples of the shape of the phosphor include a spherical shape, a plate shape, and a needle shape. Preferably, spherical shape is mentioned from a fluid viewpoint.
蛍光体の最大長さの平均値（球状である場合には、平均粒子径）は、例えば、０．１μｍ以上、好ましくは、１μｍ以上であり、また、例えば、２００μｍ以下、好ましくは、１００μｍ以下でもある。 The average value of the maximum length of the phosphor (in the case of a sphere, the average particle diameter) is, for example, 0.1 μm or more, preferably 1 μm or more, and for example, 200 μm or less, preferably 100 μm or less. There is also.
蛍光体の比重は、例えば、２．０以上であり、また、例えば、９．０以下である。 The specific gravity of the phosphor is, for example, 2.0 or more, and, for example, 9.0 or less.
蛍光体は、単独使用または併用することができる。 The phosphors can be used alone or in combination.
蛍光体の配合割合は、樹脂１００質量部に対して、例えば、０．１質量部以上、好ましくは、０．５質量部以上であり、例えば、８０質量部以下、好ましくは、５０質量部以下でもある。 The blending ratio of the phosphor is, for example, 0.1 parts by mass or more, preferably 0.5 parts by mass or more, for example, 80 parts by mass or less, preferably 50 parts by mass or less with respect to 100 parts by mass of the resin. But there is.
充填剤は、塗膜の靱性を向上させるためにワニスに配合され、例えば、シリコーン粒子などの有機微粒子、例えば、シリカ、タルク、アルミナ、窒化アルミニウム、窒化ケイ素などの無機微粒子が挙げられる。 A filler is mix | blended with a varnish in order to improve the toughness of a coating film, for example, organic fine particles, such as a silicone particle, For example, inorganic fine particles, such as a silica, a talc, an alumina, an aluminum nitride, a silicon nitride, are mentioned.
充填剤の比重は、例えば、０．５以上であり、また、例えば、７．０以下である。 The specific gravity of the filler is, for example, 0.5 or more, and, for example, 7.0 or less.
充填剤の最大長さの平均値（球状である場合には、平均粒子径）は、例えば、０．１μｍ以上、好ましくは、０．５μｍ以上であり、また、例えば、２００μｍ以下、好ましくは、１００μｍ以下でもある。 The average value of the maximum length of the filler (in the case of a spherical shape, the average particle diameter) is, for example, 0.1 μm or more, preferably 0.5 μm or more, and, for example, 200 μm or less, preferably It is also 100 μm or less.
充填剤は、単独使用または併用することができる。 The filler can be used alone or in combination.
充填剤の配合割合は、樹脂１００質量部に対して、例えば、０．１質量部以上、好ましくは、０．５質量部以上であり、また、例えば、７０質量部以下、好ましくは、５０質量部以下でもある。 The blending ratio of the filler is, for example, 0.1 parts by mass or more, preferably 0.5 parts by mass or more, and, for example, 70 parts by mass or less, preferably 50 parts by mass with respect to 100 parts by mass of the resin. It is also below the department.
蛍光体と充填剤とを併用する場合の配合割合は、樹脂１００質量部に対して、蛍光体と充填剤との合計量が例えば、０．１質量部以上、好ましくは、０．５質量部以上であり、例えば、８０質量部以下、好ましくは、６０質量部以下でもある。 When the phosphor and the filler are used in combination, the total amount of the phosphor and the filler is, for example, 0.1 parts by mass or more, preferably 0.5 parts by mass with respect to 100 parts by mass of the resin. For example, 80 parts by mass or less, preferably 60 parts by mass or less.
樹脂としては、例えば、シリコーン樹脂、エポキシ樹脂、ポリイミド樹脂、フェノール樹脂、尿素樹脂、メラミン樹脂、不飽和ポリエステル樹脂などの硬化性樹脂が挙げられる。 Examples of the resin include curable resins such as silicone resins, epoxy resins, polyimide resins, phenol resins, urea resins, melamine resins, and unsaturated polyester resins.
また、樹脂として、例えば、ポリオレフィン（例えば、ポリエチレン、ポリプロピレン、エチレン−プロピレン共重合体など）、アクリル樹脂（例えば、ポリメタクリル酸メチルなど）、ポリ酢酸ビニル、エチレン−酢酸ビニル共重合体、ポリ塩化ビニル、ポリスチレン、ポリアクリロニトリル、ポリアミド、ポリカーボネート、ポリアセタール、ポリエチレンテレフタレート、ポリフェニレンオキシド、ポリフェニレンスルフィド、ポリスルホン、ポリエーテルスルホン、ポリエーテルエーテルケトン、ポリアリルスルホン、熱可塑性ポリイミド、熱可塑性ウレタン樹脂、ポリアミノビスマレイミド、ポリアミドイミド、ポリエーテルイミド、ビスマレイミドトリアジン樹脂、ポリメチルペンテン、フッ化樹脂、液晶ポリマー、オレフィン−ビニルアルコール共重合体、アイオノマー、ポリアリレート、アクリロニトリル−エチレン−スチレン共重合体、アクリロニトリル−ブタジエン−スチレン共重合体、アクリロニトリル−スチレン共重合体などの熱可塑性樹脂も挙げられる。 Examples of the resin include polyolefin (for example, polyethylene, polypropylene, ethylene-propylene copolymer), acrylic resin (for example, polymethyl methacrylate), polyvinyl acetate, ethylene-vinyl acetate copolymer, polychlorinated resin. Vinyl, polystyrene, polyacrylonitrile, polyamide, polycarbonate, polyacetal, polyethylene terephthalate, polyphenylene oxide, polyphenylene sulfide, polysulfone, polyethersulfone, polyetheretherketone, polyallylsulfone, thermoplastic polyimide, thermoplastic urethane resin, polyaminobismaleimide, Polyamideimide, polyetherimide, bismaleimide triazine resin, polymethylpentene, fluororesin, liquid crystal polymer, olefin Vinyl alcohol copolymer, ionomer, polyarylate, acrylonitrile - ethylene - styrene copolymers, acrylonitrile - butadiene - styrene copolymer, acrylonitrile - thermoplastic resins, such as styrene copolymers may also be used.
樹脂として、好ましくは、硬化性樹脂、より好ましくは、硬化性シリコーン樹脂が挙げられる。 The resin is preferably a curable resin, and more preferably a curable silicone resin.
硬化性シリコーン樹脂としては、例えば、２段階硬化型シリコーン樹脂、１段階硬化型シリコーン樹脂などが挙げられる。 Examples of the curable silicone resin include a two-stage curable silicone resin and a one-stage curable silicone resin.
２段階硬化型シリコーン樹脂は、２段階の反応機構を有しており、１段階目の反応でＢステージ化（半硬化）し、２段階目の反応でＣステージ化（完全硬化）する硬化性シリコーン樹脂である。 The two-stage curable silicone resin has a two-stage reaction mechanism, and is curable by B-stage (semi-curing) by the first-stage reaction and C-stage (full-curing) by the second-stage reaction. Silicone resin.
また、Ｂステージは、２段階硬化型シリコーン樹脂が、溶剤に可溶なＡステージと、完全硬化したＣステージとの間の状態であって、硬化およびゲル化がわずかに進行し、溶剤に膨潤するが完全に溶解せず、加熱によって軟化するが溶融しない状態である。 The B stage is a state in which the two-stage curable silicone resin is between the A stage soluble in the solvent and the fully cured C stage, and the curing and gelation progresses slightly, and the solvent swells. However, it is not completely dissolved and is softened by heating but not melted.
１段階硬化型シリコーン樹脂は、１段階の反応機構を有しており、１段階目の反応で完全硬化する硬化性シリコーン樹脂である。 The one-step curable silicone resin has a one-step reaction mechanism and is a curable silicone resin that is completely cured by the first-step reaction.
また、硬化性シリコーン樹脂として、例えば、加熱により硬化する熱硬化性シリコーン樹脂、例えば、活性エネルギー線（例えば、紫外線、電子線など）の照射により硬化する活性エネルギー線硬化性シリコーン樹脂などが挙げられる。好ましくは、熱硬化性シリコーン樹脂が挙げられる。 Examples of the curable silicone resin include a thermosetting silicone resin that is cured by heating, such as an active energy ray-curable silicone resin that is cured by irradiation with active energy rays (for example, ultraviolet rays and electron beams). . Preferably, a thermosetting silicone resin is used.
樹脂の比重は、例えば、蛍光体および／または充填剤の比重より軽く、具体的には、例えば、０．５以上であり、また、例えば、２．０以下である。 The specific gravity of the resin is, for example, lighter than the specific gravity of the phosphor and / or filler, specifically, for example, 0.5 or more, and, for example, 2.0 or less.
樹脂の配合割合は、ワニスに対して、例えば、０．１質量％以上、好ましくは、０．５質量％以上であり、また、例えば、１００質量％未満、好ましくは、９９．５質量％以下である。 The blending ratio of the resin is, for example, 0.1% by mass or more, preferably 0.5% by mass or more, and for example, less than 100% by mass, preferably 99.5% by mass or less with respect to the varnish. It is.
また、ワニスには、必要により、溶媒や添加剤などの任意成分を適宜の割合で配合することができる。溶媒としては、例えば、ヘキサンなどの脂肪族炭化水素、例えば、キシレンなどの芳香族炭化水素、例えば、ビニルメチル環状シロキサン、両末端ビニルポリジメチルシロキサンなどのシロキサンなどが挙げられる。 Moreover, arbitrary components, such as a solvent and an additive, can be mix | blended with a varnish in a suitable ratio as needed. Examples of the solvent include aliphatic hydrocarbons such as hexane, aromatic hydrocarbons such as xylene, and siloxanes such as vinylmethyl cyclic siloxane and both-end vinyl polydimethylsiloxane.
添加剤としては、例えば、分散剤、シランカップリング剤、レベリング剤の表面調整剤などが挙げられる。 Examples of the additive include a dispersant, a silane coupling agent, and a leveling agent surface conditioner.
上記した各成分を配合して、撹拌混合することによって、ワニスを調製する。 A varnish is prepared by blending the above-described components and stirring and mixing them.
ワニスの２５℃、１気圧の条件下における粘度は、例えば、１，０００ｍＰａ・ｓ以上、好ましくは、４，０００ｍＰａ・ｓ以上であり、また、例えば、１，０００，０００ｍＰａ・ｓ以下、好ましくは、１００，０００ｍＰａ・ｓ以下である。なお、粘度は、ワニスを２５℃に温度調節し、Ｅ型コーンを用いて測定される。 The viscosity of the varnish at 25 ° C. and 1 atm is, for example, 1,000 mPa · s or more, preferably 4,000 mPa · s or more, and, for example, 1,000,000 mPa · s or less, preferably , 100,000 mPa · s or less. The viscosity is measured by adjusting the temperature of the varnish to 25 ° C. and using an E-type cone.
次いで、調製したワニスをタンク２に投入する。 Next, the prepared varnish is charged into the tank 2.
別途、基材５４を用意する。 A base material 54 is prepared separately.
基材５４は、シート状に形成されており、その外形形状は特に限定されず、例えば、図１に示すように、平面視略矩形状（短冊状、長尺状を含む）などに形成されている。また、基材５４は、水平方向に沿って配置される。 The base material 54 is formed in a sheet shape, and the outer shape thereof is not particularly limited. For example, as illustrated in FIG. 1, the base material 54 is formed in a substantially rectangular shape in plan view (including a strip shape and a long shape). ing. Moreover, the base material 54 is arrange | positioned along a horizontal direction.
基材５４は、例えば、ポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）などのポリエステル樹脂、例えば、ポリプロピレンなどのポリオレフィン樹脂などの樹脂からシート状に形成されている。また、基材５４を、例えば、金属から形成することもできる。基材５４の表面には、剥離処理などを施すこともできる。 The base material 54 is formed in a sheet shape from a resin such as a polyester resin such as polyethylene terephthalate (PET), for example, a polyolefin resin such as polypropylene. Moreover, the base material 54 can also be formed from a metal, for example. The surface of the substrate 54 can be subjected to a peeling treatment or the like.
次いで、図１１が参照されるように、ノズル５の吐出部２３（スロット５７）を、基材５４に対向させて、吐出部２３を基材５４に近接させる。 Next, as illustrated in FIG. 11, the discharge unit 23 (slot 57) of the nozzle 5 is opposed to the base material 54, and the discharge unit 23 is brought close to the base material 54.
この際、ドクター２６と基材５４との上下方向長さを、例えば、塗膜６０（図１０参照）の所望の厚み以上、あるいは、例えば、同じ厚みに設定し、具体的には、例えば、１０μｍ以上、好ましくは、３０μｍ以上であり、また、例えば、３０００μｍ以下、好ましくは、２８００μｍ以下に設定する。 At this time, the vertical length of the doctor 26 and the base material 54 is set to, for example, a desired thickness of the coating film 60 (see FIG. 10) or more, for example, the same thickness. It is 10 μm or more, preferably 30 μm or more, and is set to, for example, 3000 μm or less, preferably 2800 μm or less.
続いて、ポンプ３を駆動させるとともに、移動装置５５によって、ノズル５を前方に水平移動させる。 Subsequently, the pump 3 is driven and the moving device 55 horizontally moves the nozzle 5 forward.
すると、ポンプ３の駆動により、ワニスは、タンク２からポンプ３を介してスタティックミキサー４に至る。すると、ワニスにおける粒子と樹脂とが均一に混合されながら、図１１に示すように、供給孔２０を介してキャビティ４９内に案内される。 Then, the varnish reaches the static mixer 4 from the tank 2 through the pump 3 by driving the pump 3. Then, the particles in the varnish and the resin are guided into the cavity 49 through the supply holes 20 as shown in FIG. 11 while being uniformly mixed.
すると、ワニスは、流入空間５２に流入し、拡大部３３において、図８が参照されるように、左右方向に次第に広げられるとともに、ポンプ３の駆動および／または重力によって、流出空間５３に流出される。続いて、流出空間５３において、図６に示すように、ワニスは、前後方向に狭められながら、下方に流れ、スリット５６に至る。その後、スロット５７から基材５４に向けて吐出される。 Then, the varnish flows into the inflow space 52 and is gradually expanded in the left-right direction in the enlarged portion 33 as shown in FIG. 8, and flows out into the outflow space 53 by driving the pump 3 and / or gravity. The Subsequently, in the outflow space 53, as shown in FIG. 6, the varnish flows downward and reaches the slit 56 while being narrowed in the front-rear direction. Thereafter, the ink is discharged from the slot 57 toward the base material 54.
基材５４に吐出されたワニスは、図１１に示すように、前方に移動するノズル５の第１ブロック１１のドクター２６によって厚みが整えられる。 As shown in FIG. 11, the thickness of the varnish discharged to the base material 54 is adjusted by the doctor 26 of the first block 11 of the nozzle 5 that moves forward.
その後、必要により、ワニスを乾燥させて、塗膜６０を形成する。 Thereafter, if necessary, the varnish is dried to form the coating film 60.
なお、ワニスを基材５４に対して断続的に塗布することによって、塗膜６０を枚葉式で形成することができ、あるいは、ワニスを基材５４に対して連続的に吐出することによって、塗膜６０を連続式で形成することもできる。なお、その後、連続式の塗膜６０を、切断などの外形加工によって、枚葉式とすることもできる。 In addition, the coating film 60 can be formed in a single-wafer type by intermittently applying the varnish to the base material 54, or by continuously discharging the varnish to the base material 54, The coating film 60 can also be formed continuously. After that, the continuous coating film 60 can be made into a single wafer type by external processing such as cutting.
その後、必要により、樹脂が硬化性樹脂を含む場合には、熱や活性エネルギー線などによって、硬化処理を施す。これによって、硬化後（あるいは半硬化後）の塗膜６０を形成する。 Thereafter, if necessary, when the resin contains a curable resin, a curing treatment is performed by heat, active energy rays, or the like. Thereby, the coating film 60 after the curing (or after the semi-curing) is formed.
なお、樹脂が熱可塑性樹脂を含む場合には、塗布装置１にヒータを設けて、上記した処理を加熱して、樹脂を溶融あるいは軟化させながら、実施する。 When the resin includes a thermoplastic resin, the coating apparatus 1 is provided with a heater, and the above-described treatment is performed while the resin is melted or softened.
そして、この塗布装置１では、ノズル５に供給する前のワニスをスタティックミキサー４によって撹拌することができる。そのため、ワニスにおける粒子および樹脂の均一性を確保することができる。 In the coating device 1, the varnish before being supplied to the nozzle 5 can be stirred by the static mixer 4. Therefore, the uniformity of particles and resin in the varnish can be ensured.
また、この塗布装置１では、マニホールド２１を通過するワニスは、拡大部３３において、下側（吐出方向下流側）に向かうに従って、左右方向（第１方向）外側に次第に広げられる。そのため、ワニスの吐出流れが緩慢になり、それに基づくワニスの滞留が生じることを防止することができる。その結果、マニホールド２１においてワニスにおける粒子の不均一性を解消することができる。従って、得られる塗膜における粒子の均一性を十分に確保することができる。 Moreover, in this coating device 1, the varnish that passes through the manifold 21 is gradually spread outward in the left-right direction (first direction) toward the lower side (downstream in the discharge direction) in the enlarged portion 33. Therefore, the discharge flow of the varnish becomes slow and it is possible to prevent the varnish from staying based thereon. As a result, the non-uniformity of particles in the varnish can be eliminated in the manifold 21. Therefore, sufficient uniformity of particles in the obtained coating film can be ensured.
また、マニホールド２１において、流入部５０では、流出部５１に比べて、上記したワニスの吐出流れが緩慢になり易く、それに起因するワニスの滞留を生じ易い。 Moreover, in the manifold 21, in the inflow part 50, compared with the outflow part 51, the above-mentioned discharge flow of a varnish tends to become slow, and the retention of the varnish resulting from it tends to arise.
しかし、この塗布装置１では、拡大部３３が流入部に設けられているので、上記したワニスの吐出流れが緩慢になることを防止して、ワニスの滞留が生じることを防止することができる。 However, in this coating apparatus 1, since the enlarged portion 33 is provided in the inflow portion, it is possible to prevent the discharge flow of the varnish from slowing down and prevent the varnish from staying.
なお、スタティックミキサー４におけるねじり羽根７の数は、複数であれば特に限定されず、好ましくは、６以上（具体的には、左ねじり羽根９の数が３以上、右ねじり羽根８の数が３以上）、また、例えば、３０以下（具体的には、左ねじり羽根９の数が１５以下、右ねじり羽根８の数が１５以下）である。この塗布装置１では、スタティックミキサー４は、ねじり羽根７を６個以上備えるので、ワニスにおける粒子および樹脂の均一性をより一層十分に確保することができる。 The number of twisting blades 7 in the static mixer 4 is not particularly limited as long as it is plural, and is preferably 6 or more (specifically, the number of left twisting blades 9 is 3 or more and the number of right twisting blades 8 is 3 or more), for example, 30 or less (specifically, the number of left twist blades 9 is 15 or less, and the number of right twist blades 8 is 15 or less). In this coating apparatus 1, since the static mixer 4 includes six or more torsion blades 7, the uniformity of particles and resin in the varnish can be more sufficiently ensured.
図８の説明では、アタッチメント部材２５をマニホールド２１に対して着脱可能に構成しているが、例えば、図示しないが、アタッチメント部材２５をマニホールド２１と一体的に構成することもできる。好ましくは、アタッチメント部材２５をマニホールド２１に対して着脱可能に構成する。このような塗布装置１によれば、ワニスの特性に応じて、所望形状のアタッチメント部材２５に交換することができる。具体的には、ワニスの粘度に応じて、アタッチメント部材２５の下面（傾斜面）の傾斜角を変更する。詳しくは、粒子の種類、配合割合、形状、平均粒子径や、樹脂の種類、配合割合、粘度など、つまり、ワニスの処方に応じて、上記したアタッチメント部材２５の（傾斜面）の傾斜角を変更して、上記したワニスの滞留を簡単に防止することができる。 In the description of FIG. 8, the attachment member 25 is configured to be detachable from the manifold 21. However, for example, although not illustrated, the attachment member 25 may be configured integrally with the manifold 21. Preferably, the attachment member 25 is configured to be detachable from the manifold 21. According to such a coating device 1, it can be replaced with the attachment member 25 having a desired shape according to the characteristics of the varnish. Specifically, the inclination angle of the lower surface (inclined surface) of the attachment member 25 is changed according to the viscosity of the varnish. Specifically, the inclination angle of the (inclined surface) of the attachment member 25 described above is determined according to the type of particles, the mixing ratio, the shape, the average particle diameter, the type of resin, the mixing ratio, the viscosity, etc., that is, according to the varnish prescription. It is possible to easily prevent the above-mentioned varnish from staying.
また、第２ブロック１２を、透明部材としているが、例えば、金属からなる不透明部材とすることもできる。好ましくは、第２ブロック１２を透明部材とする。このような塗布装置１によれば、透明部材である第２ブロック１２を介して、拡大部３３を含むキャビティ４９を通過するワニスを目視することができるので、ワニスにおける粒子の状態を簡単に検査することができる。 Moreover, although the 2nd block 12 is made into the transparent member, it can also be made into the opaque member which consists of metals, for example. Preferably, the second block 12 is a transparent member. According to such a coating apparatus 1, since the varnish passing through the cavity 49 including the enlarged portion 33 can be observed through the second block 12 which is a transparent member, the state of particles in the varnish can be easily inspected. can do.
なお、拡大部３３においてワニスの滞留を確認するために、上記した透明材料からなる第２ブロック１２に限定されず、例えば、第２ブロック１２において、拡大部３３に対向する部分（例えば、窓部）を、透明材料から形成し、それ以外の部分を、不透明部材とすることもできる。 In addition, in order to confirm the stay of varnish in the expansion part 33, it is not limited to the 2nd block 12 which consists of an above-described transparent material, For example, in 2nd block 12, the part (for example, window part) facing the expansion part 33 ) May be formed from a transparent material, and the other part may be an opaque member.
なお、図１の実施形態では、基材５４に対して、ノズル５を移動させているが、例えば、基材５４とノズル５とが相対移動すればよく、図示しないが、ノズル５に対して基材５４を移動させることもできる。 In the embodiment of FIG. 1, the nozzle 5 is moved with respect to the base material 54. For example, the base material 54 and the nozzle 5 may be moved relative to each other. The substrate 54 can also be moved.
上記した説明では、スロット５７を下方に向けるように、ノズル５を設けているが、例えば、側方または上方に向けることもできる。 In the above description, the nozzle 5 is provided so that the slot 57 is directed downward, but it can also be directed laterally or upward, for example.
また、図１の実施形態では、ノズル５を前方に移動させているが、移動方向はこれに限定されず、例えば、ノズル５を後方に移動させることもできる。この場合には、図１１が参照されるように、第２ブロック１２のドクター２６によって塗膜６０の厚みを調整する。 In the embodiment of FIG. 1, the nozzle 5 is moved forward, but the moving direction is not limited to this. For example, the nozzle 5 can be moved backward. In this case, as shown in FIG. 11, the thickness of the coating film 60 is adjusted by the doctor 26 of the second block 12.
また、上記各実施形態において、スタティックミキサー４および／またはノズル５における各部品に、面取り加工などの加工処理を施すこともできる。 In each of the above embodiments, each component in the static mixer 4 and / or the nozzle 5 can be subjected to processing such as chamfering.
以下に示す実施例および比較例における数値は、上記の実施形態において記載される対応する数値（すなわち、上限値または下限値）に代替することができる。 The numerical values in the following examples and comparative examples can be substituted for the corresponding numerical values (that is, the upper limit value or the lower limit value) described in the above embodiment.
実施例１
＜ワニスの調製＞
液状シリコーン樹脂（ＬＲ７６６５のＡ液、１段階硬化型シリコーン樹脂、比重１．０、信越化学工業社製）８０質量部に、シリコーン粒子（トスパール２０００Ｂ、比重１．３２、モメンティブ・パフォーマンス・マテリアルズ・ジャパン社製）２０質量部を添加し、さらに、ＹＡＧ：Ｃｅ（Ｙ−４６８、比重４．５、黄色蛍光体、ネモト・ルミマテリアル社製）１５質量部を添加して、これらを攪拌混合して、ワニスを調製した。
Example 1
<Preparation of varnish>
80 parts by mass of liquid silicone resin (LR7665 A solution, one-step curable silicone resin, specific gravity 1.0, manufactured by Shin-Etsu Chemical Co., Ltd.), silicone particles (Tospearl 2000B, specific gravity 1.32, Momentive Performance Materials, 20 parts by mass (Japan)) and 15 parts by mass of YAG: Ce (Y-468, specific gravity 4.5, yellow phosphor, Nemoto Lumi Material) are added, and these are stirred and mixed. A varnish was prepared.
ワニスの２５℃、１気圧の条件下における粘度は、４０，０００ｍＰａ・ｓであった。 The viscosity of the varnish at 25 ° C. and 1 atm was 40,000 mPa · s.
＜基材への塗布＞
図１〜図１１に示すように、タンク、ポンプ、スタティックミキサー、ノズル（アタッチメント部材付）および移動装置を備える塗布装置を用意した。スタティックミキサーおよびノズルの型式および寸法を以下に示す。
［スタティックミキサー］
Ｋｅｎｉｃｓ ｍｉｘｅｒ型
管長 ２６０ｍｍ
内径 １１ｍｍ
管長／内径比 ２３．６
右ねじり羽根の吐出方向長さ １０ｍｍ
左ねじり羽根の吐出方向長さ １０ｍｍ
右ねじり羽根の数 ７
左ねじり羽根の数 ８
［ノズル］
ノズルの幅（左右方向長さ） ７０ｍｍ
供給孔の内径 １０．５ｍｍ
キャビティの幅（左右方向の最大長さ） ５４ｍｍ
流入空間の上下方向長さ １０ｍｍ
流入空間の前後方向長さ １０ｍｍ
流出空間の上下方向長さ １０ｍｍ
アタッチメント部材の幅 ２２ｍｍ
アタッチメント部材の上下方向長さ １０ｍｍ
アタッチメント部材の前後方向長さ １０ｍｍ
スロットの幅（左右方向の最大長さ） ５０ｍｍ
スリットの前後方向長さ １０ｍｍ
スロットの前後方向長さ １０ｍｍ
次いで、調製したワニスをタンクに投入し、別途、ＰＥＴからなる基材を用意した。
<Application to substrate>
As shown in FIGS. 1-11, the coating device provided with a tank, a pump, a static mixer, a nozzle (with an attachment member), and a moving apparatus was prepared. The model and dimensions of the static mixer and nozzle are shown below.
[Static mixer]
Kenics mixer type tube length 260mm
11mm inside diameter
Tube length / inner diameter ratio 23.6
Length of discharge direction of right twist blade 10mm
Left twisted blade discharge direction length 10mm
Number of right twist blades 7
Number of left twist blades 8
[nozzle]
Nozzle width (horizontal length) 70mm
Inside diameter of supply hole 10.5mm
Cavity width (maximum length in the left-right direction) 54 mm
The vertical length of the inflow space is 10mm
The length of the inflow space in the front-rear direction is 10mm
Length of outflow space in the vertical direction 10mm
Attachment member width 22mm
10mm vertical length of attachment member
Attachment member length 10mm
Slot width (maximum length in the left-right direction) 50 mm
10mm length in the front-rear direction of the slit
Slot length 10mm
Next, the prepared varnish was put into a tank, and a base material made of PET was prepared separately.
次いで、移動装置によって、ドクターと基材との上下方向長さが４００μｍとなるように、ノズルのスロットを基材に対向させた。 Next, the slot of the nozzle was opposed to the base material so that the vertical length of the doctor and the base material was 400 μm by the moving device.
続いて、ポンプを駆動させるとともに、移動装置によって、ノズルを前方に１４０ｍｍだけ水平移動させた。 Subsequently, the pump was driven and the nozzle was horizontally moved forward by 140 mm by the moving device.
これによって、左右方向長さ５４ｍｍ、前後方向長さが１４０ｍｍ、厚み０．４ｍｍの塗膜を製造した。 Thus, a coating film having a length in the left-right direction of 54 mm, a length in the front-rear direction of 140 mm, and a thickness of 0.4 mm was produced.
比較例１
ノズルにアタッチメント部材を装着しなかった以外は、実施例１と同様に処理して、塗膜を製造した。
Comparative Example 1
A coating film was produced in the same manner as in Example 1 except that the attachment member was not attached to the nozzle.
比較例２
塗布装置において、スタティックミキサーに代えて、直管を設けた以外は、実施例１と同様に処理して、塗膜を製造した。
Comparative Example 2
In the coating apparatus, a coating film was produced in the same manner as in Example 1 except that a straight pipe was provided instead of the static mixer.
＜評価＞
実施例１および比較例１、２における塗布時のノズルにおけるワニスを第２ブロック側から目視にて観察した。その写真を図１２〜図１４に示す。
<Evaluation>
The varnish in the nozzle at the time of application in Example 1 and Comparative Examples 1 and 2 was visually observed from the second block side. The photographs are shown in FIGS.
ノズルにアタッチメント部材を装着しない比較例１では、上側空間の上端部および左右方向両端部の隅部に、ＹＡＧ：Ｃｅ（黄色蛍光体）が希薄となる希薄部分を確認でき、隅部において、ワニスの滞留を確認できた。 In Comparative Example 1 in which the attachment member is not attached to the nozzle, a dilute portion where YAG: Ce (yellow phosphor) is dilute can be confirmed at the upper end portion of the upper space and the corner portions of both end portions in the left-right direction. Was confirmed.
比較例２では、上側空間においてアタッチメント部材の下端面と、下側空間において、マニホールドの内面に沿って、ＹＡＧ：Ｃｅ（黄色蛍光体）が希薄な流れを確認でき、ワニスにおいてＹＡＧ：Ｃｅ（黄色蛍光体）の濃度が不均一となる点を確認できた。 In Comparative Example 2, a thin flow of YAG: Ce (yellow phosphor) can be confirmed along the lower end surface of the attachment member in the upper space and the inner surface of the manifold in the lower space, and YAG: Ce (yellow) in the varnish. It was confirmed that the concentration of the phosphor was not uniform.
比較例１および２に対して、実施例１では、ワニスにおいてＹＡＧ：Ｃｅ（黄色蛍光体）の希薄部分が確認されず、ＹＡＧ：Ｃｅ（黄色蛍光体）が均一であることが分かった。 In contrast to Comparative Examples 1 and 2, in Example 1, a dilute portion of YAG: Ce (yellow phosphor) was not confirmed in the varnish, and it was found that YAG: Ce (yellow phosphor) was uniform.
１ 塗布装置
４ スタティックミキサー
５ ノズル
７ ねじり羽根
１２ 第２ブロック（透明部材）
２１ マニホールド
３３ 拡大部
1 Coating device 4 Static mixer 5 Nozzle 7 Torsion blade 12 Second block (transparent member)
21 Manifold 33 Enlarged part
Claims (7)
前記ワニスを撹拌するためのスタティックミキサーと、
前記スタティックミキサーの吐出方向下流側に設けられるノズルとを備え、
前記ノズルは、前記スタティックミキサーにより撹拌されながら吐出されるワニスを、前記吐出方向に直交する第１方向に広げるためのマニホールドを備え、
前記マニホールドには、前記第１方向長さが、前記吐出方向下流側に向かうに従って、次第に長くなる拡大部が設けられ、
前記ノズルの吐出口が下側に向かい、
前記ワニスの２５℃、１気圧の条件下における粘度であって、Ｅ型コーンを用いて測定される粘度が、１，０００ｍＰａ・ｓ以上、１，０００，０００ｍＰａ・ｓ以下であることを特徴とする、塗布装置。 A coating device for applying a varnish containing particles and a thermosetting resin,
A static mixer for stirring the varnish;
A nozzle provided on the downstream side in the discharge direction of the static mixer,
The nozzle includes a manifold for spreading a varnish discharged while stirring by the static mixer in a first direction orthogonal to the discharge direction,
The manifold is provided with an enlarged portion that gradually increases in length in the first direction toward the downstream side in the discharge direction.
The discharge port of the nozzle faces downward,
The viscosity of the varnish under a condition of 25 ° C. and 1 atm, which is measured using an E-type cone, is 1,000 mPa · s or more and 1,000,000 mPa · s or less. Applying device.
前記スタティックミキサーにより吐出されるワニスが流入され、前記吐出方向に対する直交方向に沿う開口断面積が、前記吐出方向下流側に向かうに従って拡大する流入部と、
前記流入部の前記吐出方向下流側に設けられ、ワニスが前記流入部から流出され、前記直交方向に沿う開口断面積が、前記吐出方向に向かうに従って縮小する流出部と
を備え、
前記拡大部は、前記流入部に設けられていることを特徴とする、請求項１に記載の塗布装置。 The manifold is
The inflow part into which the varnish discharged by the static mixer flows in, and the opening cross-sectional area along the direction orthogonal to the discharge direction expands toward the discharge direction downstream side, and
Provided on the downstream side in the discharge direction of the inflow portion, the varnish is flowed out from the inflow portion, an opening cross-sectional area along the orthogonal direction is provided with an outflow portion that is reduced toward the discharge direction,
The coating apparatus according to claim 1, wherein the enlarged portion is provided in the inflow portion.
前記ノズルは、前記スタティックミキサーの下側に配置されていることを特徴とする、請求項１〜５のいずれか一項に記載の塗布装置。 The static mixer extends along the vertical direction,
The said nozzle is arrange | positioned under the said static mixer, The coating device as described in any one of Claims 1-5 characterized by the above-mentioned.
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