JP2016018829A - Substrate assembly - Google Patents

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周 岡坂
Shu OKASAKA
周 岡坂
小宮谷 壽郎
Toshio Komiyatani
壽郎 小宮谷
浩二 小泉
Koji Koizumi
浩二 小泉
孝幸 馬塲
Takayuki Baba
孝幸 馬塲
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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a substrate assembly capable of sufficiently dissipating the heat produced in a heating element.SOLUTION: A substrate assembly 10 comprises a guidance device 1 as a heating element which produces heat, and a first heat dissipation substrate 20A and a second heat dissipation substrate 20B which are composed of a hardened material or a solidified material of a resin composition mainly containing a resin material and a filler, include a bonding layer 5 bonded to the guidance device 1, and dissipate the heat produced by the guidance device 1. The first heat dissipation substrate 20A and the second heat dissipation substrate 20B are arranged around a central axis 11.SELECTED DRAWING: Figure 2

Description

本発明は、基板組立体に関する。   The present invention relates to a substrate assembly.

近年、地球環境保護の観点からハイブリッド自動車が実用化されている。ハイブリッド
自動車は、エンジンおよびモータを駆動源として備え、その一方または双方を用いて走行する自動車である。
In recent years, hybrid vehicles have been put into practical use from the viewpoint of protecting the global environment. A hybrid vehicle is a vehicle that includes an engine and a motor as drive sources and travels using one or both of them.

このようなハイブリッド自動車は、バッテリの直流をインバータで交流に変換し、その交流を走行用のモータに供給している。特に、近年のハイブリッド自動車では、バッテリおよびモータの小型化のために昇圧コンバータ(DC−DCコンバータ)を備えている。昇圧コンバータは、バッテリの電圧を昇圧してインバータ(モータ)に供給する役割と、ジェネレータ(モータ)からの回生電流をバッテリ電圧に降圧し、バッテリに充電を行う役割を持っている。誘導装置は、電気エネルギーを磁気エネルギーとして蓄えることができ、昇圧コンバータが備える部品の一つとして用いられる(例えば、特許文献1参照)。   In such a hybrid vehicle, the direct current of the battery is converted into alternating current by an inverter, and the alternating current is supplied to a motor for traveling. In particular, recent hybrid vehicles include a step-up converter (DC-DC converter) to reduce the size of the battery and motor. The boost converter has a role of boosting the voltage of the battery and supplying it to the inverter (motor), and a role of reducing the regenerative current from the generator (motor) to the battery voltage and charging the battery. The induction device can store electric energy as magnetic energy, and is used as one of components included in the boost converter (see, for example, Patent Document 1).

このような誘導装置1は、例えば、図5に示すように、コア部2と、このコア部2に巻回されたコイル3とを有する構成をなしており、ハウジング70内に、粘着層50を介して、その底部に固定されるとともに、封止材60により封止されている(従来の誘導装置封止物40)。これにより、誘導装置1のコイル3における励磁により生じた熱が、粘着層50を介してハウジング70の底部に伝達されることで誘導装置1から放熱される。   For example, as shown in FIG. 5, such a guide device 1 has a configuration including a core portion 2 and a coil 3 wound around the core portion 2. In addition to being fixed to the bottom via the sealing member 60, it is sealed with a sealing material 60 (conventional guidance device sealing object 40). Thereby, heat generated by excitation in the coil 3 of the induction device 1 is radiated from the induction device 1 by being transmitted to the bottom of the housing 70 via the adhesive layer 50.

しかしながら、図5に示す構成では、誘導装置1で生じた熱は、主として一方向(図中の下方)、すなわち、ハウジング70の底面側に放熱するよう構成されており、発熱の程度によっては、放熱が不十分となるという問題があった。   However, in the configuration shown in FIG. 5, the heat generated in the induction device 1 is configured to dissipate heat mainly in one direction (downward in the drawing), that is, on the bottom surface side of the housing 70. There was a problem of insufficient heat dissipation.

特開2004−241475号公報JP 2004-241475 A

本発明の目的は、発熱体で生じた熱を十分に放熱することができる基板組立体を提供することにある。   An object of the present invention is to provide a substrate assembly that can sufficiently dissipate heat generated by a heating element.

このような目的は、下記(1)〜(13)の本発明により達成される。
(1) 熱を発する発熱体と、
主として樹脂材料およびフィラーを含有する樹脂組成物の硬化物または固化物で構成され、前記発熱体と接合される接合層を有し、前記発熱体が発した熱を放熱する複数の放熱基板とを備え、
前記複数の放熱基板は、前記発熱体の中心軸を想定したとき、該中心軸回りに配置されていることを特徴とする基板組立体。
Such an object is achieved by the present inventions (1) to (13) below.
(1) a heating element that generates heat;
A plurality of heat dissipating substrates that are composed of a cured or solidified resin composition mainly containing a resin material and a filler, have a bonding layer bonded to the heating element, and dissipate heat generated by the heating element. Prepared,
The substrate assembly, wherein the plurality of heat dissipating boards are arranged around a central axis when the central axis of the heating element is assumed.

(2) 前記放熱基板を2つ備え、
前記発熱体は、前記中心軸方向から見て輪郭形状が多角形をなす誘導装置であり、
前記各放熱基板は、前記多角形の隣接する2つの辺にそれぞれ対向して配置されている上記(1)に記載の基板組立体。
(2) Two heat dissipation substrates are provided,
The heating element is a guide device having a polygonal outline when viewed from the central axis direction,
Each said heat dissipation board | substrate is a board | substrate assembly as described in said (1) arrange | positioned facing each two adjacent sides of the polygon.

(3) 前記誘導装置は、コア部と、導電性を有する線状体を前記コア部に巻回してなるコイルとを有し、前記線状体の両端部は、それぞれ同じ方向に向かって突出しており、
前記各放熱基板は、それぞれ、前記コイルに対して、前記線状体の両端部の突出方向には配置されていない上記(2)に記載の基板組立体。
(3) The induction device includes a core portion and a coil formed by winding a conductive linear body around the core portion, and both end portions of the linear body protrude in the same direction. And
Each said heat dissipation board | substrate is a board | substrate assembly as described in said (2) which is not arrange | positioned with respect to the said coil in the protrusion direction of the both ends of the said linear body, respectively.

(4) 前記中心軸方向に隣接する前記線状体同士の間には、間隙が形成されており、
前記間隙において、前記コイルの端面が前記接合層に接合する領域に対応する位置では、前記間隙に接合層が埋入している上記(3)に記載の基板組立体。
(4) A gap is formed between the linear bodies adjacent in the central axis direction,
The substrate assembly according to (3), wherein a bonding layer is embedded in the gap at a position corresponding to a region where the end face of the coil is bonded to the bonding layer in the gap.

(5) 前記中心軸回りに隣接する前記放熱基板同士は、互いに大きさが異なる上記(1)ないし(4)のいずれかに記載の基板組立体。   (5) The board assembly according to any one of (1) to (4), wherein the heat dissipation boards adjacent to each other around the central axis have different sizes.

(6) 前記樹脂材料は、熱硬化性樹脂である上記(1)ないし(5)のいずれかに記載の基板組立体。
(7) 前記熱硬化性樹脂は、エポキシ樹脂である上記(6)に記載の基板組立体。
(6) The board assembly according to any one of (1) to (5), wherein the resin material is a thermosetting resin.
(7) The board assembly according to (6), wherein the thermosetting resin is an epoxy resin.

(8) 前記フィラーは、主として酸化アルミニウムで構成された粒状体である上記(1)ないし(7)のいずれかに記載の基板組立体。   (8) The substrate assembly according to any one of (1) to (7), wherein the filler is a granular body mainly composed of aluminum oxide.

(9) 前記放熱基板は、前記接合層の前記発熱体と反対側に配置された金属板を有する上記(1)ないし(8)のいずれかに記載の基板組立体。   (9) The board assembly according to any one of (1) to (8), wherein the heat dissipation board includes a metal plate disposed on a side opposite to the heating element of the bonding layer.

(10) 前記発熱体を前記接合層ごと覆うことで、前記発熱体を封止する封止材を備える上記(1)ないし(9)のいずれかに記載の基板組立体。   (10) The substrate assembly according to any one of (1) to (9), further including a sealing material that seals the heating element by covering the heating element together with the bonding layer.

(11) 前記封止材は、熱硬化性樹脂を含有する封止材用樹脂組成物の硬化物で構成される上記(10)に記載の基板組立体。   (11) The substrate assembly according to (10), wherein the sealing material is formed of a cured product of a resin composition for a sealing material containing a thermosetting resin.

(12) 前記封止材用樹脂組成物での前記熱硬化性樹脂は、フェノール樹脂である上記(11)に記載の基板組立体。   (12) The board assembly according to (11), wherein the thermosetting resin in the resin composition for a sealing material is a phenol resin.

(13) 前記接合層と前記封止材との界面において、前記フィラーは、前記封止材側に分散している上記(10)ないし(12)のいずれかに記載の基板組立体。   (13) The substrate assembly according to any one of (10) to (12), wherein the filler is dispersed on the sealing material side at an interface between the bonding layer and the sealing material.

本発明によれば、発熱体で生じた熱は、各放熱基板を介して確実に放熱される。これにより、発熱体に対する放熱を十分かつ確実に行なうことができる。   According to the present invention, the heat generated in the heating element is reliably radiated through each heat radiating substrate. Thereby, the heat radiation to the heating element can be performed sufficiently and reliably.

図1は、本発明の基板組立体の第1実施形態を示す部分縦断面図である。FIG. 1 is a partial longitudinal sectional view showing a first embodiment of a substrate assembly of the present invention. 図2は、図1中のA−A線断面図である。2 is a cross-sectional view taken along line AA in FIG. 図3は、図1中の一点鎖線で囲まれた領域[B]の拡大断面図である。FIG. 3 is an enlarged cross-sectional view of a region [B] surrounded by an alternate long and short dash line in FIG. 図4は、本発明の基板組立体の第2実施形態を示す横断面図である。FIG. 4 is a cross-sectional view showing a second embodiment of the substrate assembly of the present invention. 従来の誘導装置封止物の実施形態を示す縦断面図である。It is a longitudinal cross-sectional view which shows embodiment of the conventional guidance device sealing object.

以下、本発明の基板組立体を添付図面に示す好適な実施形態に基づいて詳細に説明する。   Hereinafter, a substrate assembly of the present invention will be described in detail based on preferred embodiments shown in the accompanying drawings.

なお、本発明での発熱体としては、導通により発熱する発熱体を封止するものであれば、如何なる発熱体であってもよく、例えば、発熱体として、サーミスタのような抵抗、トランス、コイル、スイッチなどのリレー素子、コンデンサー、ダイオードパワーMOSFET、絶縁ゲートバイポーラトランジスタ(IGBT)のようなパワートランジスタ、および、これらを組み合わせたパワーモジュール、誘導装置、レギュレーター(整流器)、LED(発光ダイオード)、LD(レーザダイオード)、有機EL素子のような発光素子、LSI、CPUのような集積回路素子、温度センサ、ならびに、モータ、バッテリーパック等が挙げられる。以下では、発熱体として誘導装置に適用する場合を一例に説明する。   The heating element in the present invention may be any heating element as long as it seals the heating element that generates heat by conduction. For example, the heating element includes a resistor such as a thermistor, a transformer, and a coil. , Relay elements such as switches, capacitors, diode power MOSFETs, power transistors such as insulated gate bipolar transistors (IGBT), and power modules combining these, induction devices, regulators (rectifiers), LEDs (light emitting diodes), LDs (Laser diodes), light emitting elements such as organic EL elements, integrated circuit elements such as LSI and CPU, temperature sensors, motors, battery packs, and the like. Below, the case where it applies to an induction device as a heat generating body is demonstrated to an example.

<第1実施形態>
図1は、本発明の基板組立体の第1実施形態を示す部分縦断面図である。図2は、図1中のA−A線断面図である。図3は、図1中の一点鎖線で囲まれた領域[B]の拡大断面図である。なお、以下では、説明の都合上、図1〜図3中(図4についても同様)の上側を「上」または「上方」、下側を「下」または「下方」と言う。
<First Embodiment>
FIG. 1 is a partial longitudinal sectional view showing a first embodiment of a substrate assembly of the present invention. 2 is a cross-sectional view taken along line AA in FIG. FIG. 3 is an enlarged cross-sectional view of a region [B] surrounded by an alternate long and short dash line in FIG. In the following, for convenience of explanation, the upper side in FIGS. 1 to 3 (the same applies to FIG. 4) is referred to as “upper” or “upper”, and the lower side is referred to as “lower” or “lower”.

図1に示す誘導装置構造体100は、誘導装置1を有する基板組立体10と、基板組立体10を収納するハウジング7とを備え、例えば、ハイブリット自動車や、電気自動車等に、これらが備える昇圧コンバータの一部品として搭載される。   A guidance device structure 100 shown in FIG. 1 includes a board assembly 10 having a guidance device 1 and a housing 7 that houses the board assembly 10. For example, a booster included in a hybrid car, an electric car, or the like. It is mounted as a part of the converter.

基板組立体10は、誘導装置1(昇圧コイル)と、第1の放熱基板(下面側放熱基板)20Aと、第2の放熱基板(側面側放熱基板)20Bとを備え、これらを組み立てて一括して封止材6で封止して得られた組立体である。   The board assembly 10 includes an induction device 1 (step-up coil), a first heat radiation board (lower surface heat radiation board) 20A, and a second heat radiation board (side surface heat radiation board) 20B. The assembly obtained by sealing with the sealing material 6.

第1の放熱基板20Aおよび第2の放熱基板20Bは、それぞれ、金属板4と接合層(接合材)5とを有する積層体である。図2に示すように、第1の放熱基板20Aは、誘導装置1の直下に配置され、第2の放熱基板20Bは、誘導装置1の図中右側直近に配置されている。以下では、誘導装置1の第1の放熱基板20Aが配される側の面を「下面12」と言い、第2の放熱基板20Bが配される側の面を「右側面13」と言う。   The first heat dissipation substrate 20 </ b> A and the second heat dissipation substrate 20 </ b> B are laminated bodies each having a metal plate 4 and a bonding layer (bonding material) 5. As shown in FIG. 2, the first heat dissipation substrate 20 </ b> A is disposed immediately below the guidance device 1, and the second heat dissipation substrate 20 </ b> B is disposed in the vicinity of the right side of the guidance device 1 in the drawing. Hereinafter, the surface of the guidance device 1 on the side where the first heat dissipation substrate 20A is disposed is referred to as “lower surface 12”, and the surface on the side of which the second heat dissipation substrate 20B is disposed is referred to as “right side surface 13”.

誘導装置1は、通電により熱を発する発熱体で、電気エネルギーを磁気エネルギーとして蓄えることができるものであり、昇圧コンバータが備える部品の一つとして用いられる。   The induction device 1 is a heating element that generates heat when energized, can store electrical energy as magnetic energy, and is used as one of the components included in the boost converter.

図1に示すように、誘導装置1は、コア部2と、コア部2に巻回されたコイル3とを有している。   As shown in FIG. 1, the guidance device 1 includes a core part 2 and a coil 3 wound around the core part 2.

コア部2は、本実施形態では、直線状をなすI型コアで構成され、図示しない、絶縁ボビンまたは絶縁紙等を介して、その外周部にコイル3が設けられている。なお、図2に示すように、本実施形態では、コア部2の横断面形状は、角部21が丸みを帯びた正方形をなす。   In this embodiment, the core portion 2 is formed of a linear I-shaped core, and the coil 3 is provided on the outer peripheral portion thereof via an insulating bobbin or insulating paper (not shown). As shown in FIG. 2, in the present embodiment, the cross-sectional shape of the core portion 2 is a square in which the corner portions 21 are rounded.

また、このコア部(I型コア)2は、磁性粉末を加圧成形してなる圧粉磁心で構成されており、かかる磁性粉末としては、特に限定されないが、例えば、鉄、鉄−シリコン系合金、鉄−窒素系合金、鉄−ニッケル系合金、鉄−炭素系合金、鉄−ホウ素系合金、鉄−コバルト系合金、鉄−リン系合金、鉄−ニッケル−コバルト系合金および鉄−アルミニウム−シリコン系合金等が挙げられる。   Moreover, this core part (I type core) 2 is comprised with the powder magnetic core formed by press-molding magnetic powder, and as such magnetic powder, although not specifically limited, for example, iron, iron-silicon type Alloys, iron-nitrogen alloys, iron-nickel alloys, iron-carbon alloys, iron-boron alloys, iron-cobalt alloys, iron-phosphorus alloys, iron-nickel-cobalt alloys and iron-aluminum- Examples thereof include silicon-based alloys.

コイル3は、導電性を有する銅線31の表面を樹脂層32でコーティングすることで得られる線状体(図3参照)で構成され、当該線状体をコア部2に巻回することで形成されたものである。樹脂層32を銅線31の表面に形成することでコイル3の絶縁性が保持されている。   The coil 3 is composed of a linear body (see FIG. 3) obtained by coating the surface of the conductive copper wire 31 with the resin layer 32, and by winding the linear body around the core portion 2. It is formed. The insulating property of the coil 3 is maintained by forming the resin layer 32 on the surface of the copper wire 31.

なお、コイル3は、前述した横断面形状が正方形をなすコア部2の外周部に巻回されているため、その巻回状態も当該横断面形状に沿って巻回された状態となる(図2参照)。これにより、誘導装置1は、その中心軸11方向から見た輪郭形状が、コア部2の横断面形状と同様の正方形をなすものとなる。   In addition, since the coil 3 is wound around the outer peripheral portion of the core portion 2 having the square cross-sectional shape described above, the coil 3 is also wound along the cross-sectional shape (see FIG. 2). Thereby, as for guidance device 1, the outline shape seen from the direction of central axis 11 makes the same square as the cross section shape of core part 2.

また、図2に示すように、コイル3を構成する線状体の一端部36は、図中の左側に向かって突出しており、これと同様に、他端部37も図中の左側に向かって突出している。一端部36と他端部37とは、中心軸11を介して互いに反対側に配されている。   Further, as shown in FIG. 2, one end portion 36 of the linear body constituting the coil 3 protrudes toward the left side in the drawing, and similarly, the other end portion 37 faces toward the left side in the drawing. Protruding. The one end portion 36 and the other end portion 37 are arranged on opposite sides with respect to the central axis 11.

樹脂層32の構成材料としては、特に限定されないが、例えば、ポリエステル樹脂、ポリエステルイミド樹脂、ポリアミドイミド樹脂、ポリイミド樹脂、およびポリウレタン樹脂等が挙げられ、これらのうちの1種または2種以上を組み合わせて用いることができる。中でも、ポリアミドイミド樹脂であることが好ましい。これにより、銅線31の絶縁性、すなわちコイル3の絶縁性を確実に確保することができる。また、封止材6に対する密着性を優れたものとすることができる。   Although it does not specifically limit as a constituent material of the resin layer 32, For example, a polyester resin, a polyesterimide resin, a polyamideimide resin, a polyimide resin, a polyurethane resin etc. are mentioned, Among these, it combines 1 type or 2 types or more. Can be used. Among these, a polyamideimide resin is preferable. Thereby, the insulation of the copper wire 31, ie, the insulation of the coil 3, can be ensured reliably. Moreover, the adhesiveness with respect to the sealing material 6 can be made excellent.

また、樹脂層32の厚さは、例えば、好ましくは10μm以上、50μm以下、より好ましくは20μm以上、30μm以下に設定される。これにより、銅線31の絶縁性、すなわちコイル3の絶縁性を確実に確保することができる。   Moreover, the thickness of the resin layer 32 is, for example, preferably 10 μm or more and 50 μm or less, more preferably 20 μm or more and 30 μm or less. Thereby, the insulation of the copper wire 31, ie, the insulation of the coil 3, can be ensured reliably.

また、コイル3は、前述の通り、線状体をコア部2に巻回することで形成されるが、その外周側に位置する端面(外周面)33は、図3に示すように、平坦面で構成されている。これにより、第1の放熱基板20Aおよび第2の放熱基板20Bの各接合層5に対する接触面積をそれぞれ大きく確保することができるため、当該各接合層5に対する密着性が向上する。また、各接合層5の膜厚を端面33が接触する位置において、ほぼ一定に保つことが可能となるため、コイル3の金属板4に対する絶縁性が確実に保持される。   Further, as described above, the coil 3 is formed by winding a linear body around the core portion 2, and an end surface (outer peripheral surface) 33 located on the outer peripheral side thereof is flat as shown in FIG. It is composed of planes. Thereby, since the contact area with respect to each joining layer 5 of 20 A of 1st heat sinks and 2nd heat sink 20B can each be ensured large, the adhesiveness with respect to each said joining layer 5 improves. In addition, since the thickness of each bonding layer 5 can be kept substantially constant at the position where the end face 33 contacts, the insulation of the coil 3 with respect to the metal plate 4 is reliably maintained.

図2に示すように、第1の放熱基板20Aおよび第2の放熱基板20Bは、それぞれ、通電時に誘導装置1のコイル3で励磁によって生じた熱Qを放熱する部材であり、金属板4と、金属板4とコイル3とを接合する接合層5とで構成されている。   As shown in FIG. 2, the first heat radiating board 20 </ b> A and the second heat radiating board 20 </ b> B are members that radiate heat Q generated by excitation in the coil 3 of the induction device 1 when energized. , And a joining layer 5 that joins the metal plate 4 and the coil 3.

第1の放熱基板20Aおよび第2の放熱基板20Bは、それぞれ、誘導装置1の中心軸11回りに配置されている。すなわち、本実施形態では、第1の放熱基板20Aは、誘導装置1の下面12に対向して配置され、第2の放熱基板20Bは、下面12に隣接する右側面13に対向して配置されている。また、平面視で第1の放熱基板20Aの中心部と誘導装置1の中心軸11とが重なっており、右側面視で第2の放熱基板20Bの中心部と誘導装置1の中心軸11とが重なっている。   The first heat radiating board 20A and the second heat radiating board 20B are arranged around the central axis 11 of the induction device 1, respectively. That is, in the present embodiment, the first heat dissipation board 20A is disposed to face the lower surface 12 of the guidance device 1, and the second heat dissipation board 20B is disposed to face the right side surface 13 adjacent to the lower surface 12. ing. In addition, the central portion of the first heat dissipation board 20A and the central axis 11 of the guidance device 1 overlap in plan view, and the central portion of the second heat dissipation board 20B and the central axis 11 of the guidance device 1 in right side view. Are overlapping.

このような位置関係により、誘導装置1で生じた熱Qは、下面12側からは、第1の放熱基板20Aを介して確実に放熱され、右側面13からは、第2の放熱基板20Bを介して確実に放熱される。これにより、誘導装置1に対する放熱を主として2方向から行なうことができ、よって、その放熱が十分となる。   Due to such a positional relationship, the heat Q generated in the induction device 1 is surely radiated from the lower surface 12 side via the first heat radiating substrate 20A, and from the right side surface 13 the second heat radiating substrate 20B. The heat is reliably radiated through. Thereby, the heat dissipation with respect to the induction device 1 can be performed mainly from two directions, and thus the heat dissipation is sufficient.

また、前述したように、第1の放熱基板20Aが誘導装置1の下面12側配され、第2の放熱基板20Bが右側面13側に配置されている。従って、第1の放熱基板20Aおよび第2の放熱基板20Bは、それぞれ、コイル3に対しては、コイル3の一端部36、他端部37の突出方向には配置されていない状態となる。これにより、基板組立体10の製造時の、コイル3に対する第1の放熱基板20Aおよび第2の放熱基板20Bの配置が容易となる。   Further, as described above, the first heat dissipation board 20A is disposed on the lower surface 12 side of the guidance device 1, and the second heat dissipation board 20B is disposed on the right side surface 13 side. Therefore, the first heat dissipation board 20A and the second heat dissipation board 20B are not arranged in the protruding direction of the one end portion 36 and the other end portion 37 of the coil 3 with respect to the coil 3, respectively. Thereby, arrangement | positioning of 20 A of 1st heat sinks with respect to the coil 3 at the time of manufacture of the board assembly 10 and the 2nd heat sink 20B becomes easy.

また、第1の放熱基板20Aおよび第2の放熱基板20Bでは、それぞれ、平面視で長方形をなす金属板4が、接合層5の誘導装置1と反対側に配置されている。これにより、第1の放熱基板20Aの金属板4は、ハウジング7の底部71に当接して、当該底部71に熱Qを伝達して逃がす放熱板としての機能を発揮し、第2の放熱基板20Bの金属板4は、ハウジング7の枠体72に当接して、当該枠体72に熱Qを伝達して逃がす放熱板としての機能を発揮する。また、金属板4により、各放熱基板自体の強度が向上する。   Further, in the first heat dissipation substrate 20A and the second heat dissipation substrate 20B, the metal plate 4 having a rectangular shape in plan view is disposed on the opposite side of the bonding layer 5 from the induction device 1. As a result, the metal plate 4 of the first heat dissipation board 20A abuts on the bottom portion 71 of the housing 7 and exhibits a function as a heat dissipation plate that transfers the heat Q to the bottom portion 71 and releases it. The metal plate 4 of 20B abuts on the frame body 72 of the housing 7 and exhibits a function as a heat radiating plate that transfers the heat Q to the frame body 72 and releases it. Moreover, the strength of each heat dissipation substrate itself is improved by the metal plate 4.

この金属板4の構成材料としては、アルミニウムまたはアルミニウム合金、銅、銅合金、ステンレス材料などを用いるのが好ましい。これらの金属で金属板4を構成することにより、金属板4の熱伝導性を優れたものとすることができる。   As a constituent material of the metal plate 4, it is preferable to use aluminum or an aluminum alloy, copper, a copper alloy, a stainless material, or the like. By constituting the metal plate 4 with these metals, the thermal conductivity of the metal plate 4 can be made excellent.

また、金属板4の厚さは、特に限定されないが、例えば、5μm〜100μm程度であるのが好ましく、30μm〜60μm程度であるのがより好ましい。金属板4の厚さをこのような数値範囲に設定することにより、各放熱基板の必要な機械的強度を確保しつつ、基板組立体10の小型化を図ることができる。さらに、コイル3における励磁により生じた熱を、接合層5および金属板4を介してハウジング7の底部71に効率よく伝達することができる。   Further, the thickness of the metal plate 4 is not particularly limited, but is preferably about 5 μm to 100 μm, and more preferably about 30 μm to 60 μm. By setting the thickness of the metal plate 4 in such a numerical range, it is possible to reduce the size of the substrate assembly 10 while ensuring the necessary mechanical strength of each heat dissipation substrate. Furthermore, heat generated by excitation in the coil 3 can be efficiently transmitted to the bottom 71 of the housing 7 via the bonding layer 5 and the metal plate 4.

また、金属板4の厚さ方向に対する熱伝導率は、3W/m・K以上、500W/m・K以下であることが好ましく、10W/m・K以上、400W/m・K以下であることがより好ましい。このような金属板4は、優れた熱伝導率を有する基板と言うことができ、コイル3における励磁により生じた熱Qを、金属板4を介してハウジング7に効率よく伝達することができる。   The thermal conductivity in the thickness direction of the metal plate 4 is preferably 3 W / m · K or more and 500 W / m · K or less, preferably 10 W / m · K or more and 400 W / m · K or less. Is more preferable. Such a metal plate 4 can be said to be a substrate having excellent thermal conductivity, and heat Q generated by excitation in the coil 3 can be efficiently transmitted to the housing 7 via the metal plate 4.

接合層5は、金属板4の誘導装置1側で、当該誘導装置1のコイル3と接合されている。   The bonding layer 5 is bonded to the coil 3 of the induction device 1 on the induction device 1 side of the metal plate 4.

また、この接合層5は、絶縁性を有している。これにより、金属板4と、誘導装置1との絶縁状態が確保される。   Further, the bonding layer 5 has an insulating property. Thereby, the insulation state of the metal plate 4 and the guidance apparatus 1 is ensured.

さらに、接合層5は、優れた熱伝導性を発揮するように構成されている。これにより、接合層5は、誘導装置1側の熱Qを金属板4に伝達することができる。   Furthermore, the bonding layer 5 is configured to exhibit excellent thermal conductivity. Thereby, the bonding layer 5 can transfer the heat Q on the induction device 1 side to the metal plate 4.

このような接合層5の熱伝導率は、高いものが好適に用いられ、具体的には、1W/m・K以上、15W/m・K以下であることが好ましく、5W/m・K以上、10W/m・K以下であることがより好ましい。これにより、接合層5が誘導装置1側の熱Qを金属板4に効率よく伝達され、よって、放熱効率の向上が図られる。   The bonding layer 5 having a high thermal conductivity is preferably used. Specifically, the bonding layer 5 is preferably 1 W / m · K or more and 15 W / m · K or less, preferably 5 W / m · K or more. More preferably, it is 10 W / m · K or less. As a result, the bonding layer 5 efficiently transmits the heat Q on the induction device 1 side to the metal plate 4, thereby improving the heat dissipation efficiency.

接合層5の平均厚さは、特に限定されないが、40μm〜300μm程度であるのが好ましく、60μm〜200μm程度であるのがより好ましい。これにより、接合層5の絶縁性を確保しつつ、誘導装置1の小型化を図ることができる。さらに、接合層5の熱伝導性を向上させることができる。そのため、コイル3における励磁により生じた熱を、接合層5および金属板4を介してハウジング7の底部71に効率よく伝達することができる。   The average thickness of the bonding layer 5 is not particularly limited, but is preferably about 40 μm to 300 μm, and more preferably about 60 μm to 200 μm. Thereby, size reduction of the induction device 1 can be achieved while ensuring the insulation of the bonding layer 5. Furthermore, the thermal conductivity of the bonding layer 5 can be improved. Therefore, heat generated by excitation in the coil 3 can be efficiently transmitted to the bottom 71 of the housing 7 through the bonding layer 5 and the metal plate 4.

特に、コイル3の端面33に接合する位置では、接合層5の厚さは、30μm〜300μm程度であるのが好ましく、30μm〜150μm程度であるのがより好ましく、30μm〜60μm程度であるのがさらに好ましい。これにより、前記効果をより顕著に発揮させることができる。   In particular, the thickness of the bonding layer 5 is preferably about 30 μm to 300 μm, more preferably about 30 μm to 150 μm, and more preferably about 30 μm to 60 μm at the position where it is bonded to the end face 33 of the coil 3. Further preferred. Thereby, the said effect can be exhibited more notably.

なお、金属板4と接合層5の合計の平均厚さは、例えば、60μm〜300μm程度であるのが好ましく、115μm〜270μm程度であるのがより好ましい。合計の平均厚さをこのような数値範囲に設定することにより、誘導装置1の必要な機械的強度を確保しつつ、誘導装置1の小型化を図りつつ、コイル3における励磁により生じた熱を、接合層5および金属板4を介してハウジング7の底部71により効率よく伝達することができる。   The total average thickness of the metal plate 4 and the bonding layer 5 is preferably, for example, about 60 μm to 300 μm, and more preferably about 115 μm to 270 μm. By setting the total average thickness within such a numerical range, the heat generated by excitation in the coil 3 can be reduced while ensuring the necessary mechanical strength of the induction device 1 and reducing the size of the induction device 1. Further, it can be efficiently transmitted to the bottom portion 71 of the housing 7 through the bonding layer 5 and the metal plate 4.

また、接合層5は、そのガラス転移温度が好ましくは100℃以上、200℃以下である。これにより、接合層5は、剛性が高まり、接合層5の反りを低減できることから、誘導装置1の金属板4に対する位置ずれを抑制することができる。   The bonding layer 5 has a glass transition temperature of preferably 100 ° C. or higher and 200 ° C. or lower. Thereby, since the rigidity of the joining layer 5 increases and the warp of the joining layer 5 can be reduced, the displacement of the guidance device 1 with respect to the metal plate 4 can be suppressed.

なお、接合層5のガラス転移温度は、JIS C 6481に基づいて、以下のようにして計測できる。   The glass transition temperature of the bonding layer 5 can be measured as follows based on JIS C 6481.

動的粘弾性測定装置(ティー・エイ・インスツルメント社製DMA/983)を用いて窒素雰囲気(200ml/分)のもと引っ張り荷重をかけて、周波数1Hz、−50℃から300℃の温度範囲を昇温速度5℃/分の条件で測定し、tanδのピーク位置よりガラス転移温度Tgを得る。   Using a dynamic viscoelasticity measuring device (DMA Instruments' DMA / 983) under a nitrogen atmosphere (200 ml / min), a tensile load was applied, and a frequency of 1 Hz and a temperature of −50 ° C. to 300 ° C. The range is measured at a temperature rising rate of 5 ° C./min, and the glass transition temperature Tg is obtained from the peak position of tan δ.

また、接合層5の25℃の弾性率(貯蔵弾性率)E’は、10GPa以上、70GPa以下であることが好ましい。これにより、接合層5の剛性が高まることから、接合層5に生じる反りを低減させることができる。その結果、誘導装置1や金属板4との接合信頼性が維持できる。   The elastic modulus (storage elastic modulus) E ′ of the bonding layer 5 at 25 ° C. is preferably 10 GPa or more and 70 GPa or less. Thereby, since the rigidity of the joining layer 5 increases, the curvature which arises in the joining layer 5 can be reduced. As a result, the bonding reliability with the induction device 1 and the metal plate 4 can be maintained.

なお、上記貯蔵弾性率は、動的粘弾性測定装置で測定することができ、具体的には、貯蔵弾性率E’は、接合層5に引張り荷重をかけて、周波数1Hz、昇温速度5〜10℃/分で−50℃から300℃で測定した際の、25℃における貯蔵弾性率の値として測定される。   The storage elastic modulus can be measured with a dynamic viscoelasticity measuring device. Specifically, the storage elastic modulus E ′ is obtained by applying a tensile load to the bonding layer 5, a frequency of 1 Hz, and a heating rate of 5 It is measured as the value of the storage elastic modulus at 25 ° C. when measured from −50 ° C. to 300 ° C. at −10 ° C./min.

かかる機能を有する接合層5は、樹脂材料を主材料として構成された層内にフィラーが分散された構成をなしている。   The bonding layer 5 having such a function has a configuration in which a filler is dispersed in a layer formed using a resin material as a main material.

樹脂材料は、フィラーを接合層5内に保持させるバインダーとしての機能を発揮し、フィラーは、樹脂材料の熱伝導率よりも高い熱伝導率を有している。接合層5を、かかる構成を有するものとすることにより、接合層5の熱伝導率を高めることができる。   The resin material exhibits a function as a binder for holding the filler in the bonding layer 5, and the filler has a thermal conductivity higher than that of the resin material. By making the bonding layer 5 have such a configuration, the thermal conductivity of the bonding layer 5 can be increased.

このような接合層5は、主として樹脂材料およびフィラーを含有する、接合層形成用樹脂組成物を固化または硬化させることにより形成される固化物または硬化物で構成される。すなわち、接合層5は、接合層形成用樹脂組成物を層状に成形した硬化物または固化物で構成されている。   Such a joining layer 5 is comprised with the solidified material or hardened | cured material formed by solidifying or hardening the resin composition for joining layer formation mainly containing a resin material and a filler. That is, the bonding layer 5 is composed of a cured product or a solidified product obtained by forming the bonding layer forming resin composition into a layer shape.

以下、この接合層形成用樹脂組成物について説明する。
接合層形成用樹脂組成物は、上記の通り、主として樹脂材料およびフィラーを含んで構成されている。
Hereinafter, the bonding layer forming resin composition will be described.
As described above, the bonding layer forming resin composition mainly includes a resin material and a filler.

樹脂材料としては、特に限定されず、熱可塑性樹脂、熱硬化性樹脂の各種樹脂材料を用いることができる。   The resin material is not particularly limited, and various resin materials such as a thermoplastic resin and a thermosetting resin can be used.

熱可塑性樹脂としては、例えば、ポリエチレン、ポリプロピレン、エチレン−酢酸ビニル共重合体等のポリオレフィン、変性ポリオレフィン、ポリアミド(例:ナイロン6、ナイロン46、ナイロン66、ナイロン610、ナイロン612、ナイロン11、ナイロン12、ナイロン6−12、ナイロン6−66)、熱可塑性ポリイミド、芳香族ポリエステル等の液晶ポリマー、ポリフェニレンオキシド、ポリフェニレンサルファイド、ポリカーボネート、ポリメチルメタクリレート、ポリエーテル、ポリエーテルエーテルケトン、ポリエーテルイミド、ポリアセタール、スチレン系、ポリオレフィン系、ポリ塩化ビニル系、ポリウレタン系、ポリエステル系、ポリアミド系、ポリブタジエン系、トランスポリイソプレン系、フッ素ゴム系、塩素化ポリエチレン系等の各種熱可塑性エラストマー等、またはこれらを主とする共重合体、ブレンド体、ポリマーアロイ等が挙げられ、これらのうちの1種または2種以上を混合して用いることができる。   Examples of the thermoplastic resin include polyolefins such as polyethylene, polypropylene, and ethylene-vinyl acetate copolymer, modified polyolefins, polyamides (eg, nylon 6, nylon 46, nylon 66, nylon 610, nylon 612, nylon 11, nylon 12). , Nylon 6-12, nylon 6-66), thermoplastic polyimide, aromatic polyester and other liquid crystal polymers, polyphenylene oxide, polyphenylene sulfide, polycarbonate, polymethyl methacrylate, polyether, polyether ether ketone, polyether imide, polyacetal, Styrene, polyolefin, polyvinyl chloride, polyurethane, polyester, polyamide, polybutadiene, trans polyisoprene, fluoro rubber, salt Various thermoplastic elastomers, etc., or a copolymer of these His polyethylene type or the like, blends, polymer alloys and the like, can be used as a mixture of two or more of them.

一方、熱硬化性樹脂(第2の熱硬化性樹脂)としては、例えば、エポキシ樹脂、フェノール樹脂、ユリア樹脂、メラミン樹脂、ポリエステル(不飽和ポリエステル)樹脂、ポリイミド樹脂、シリコーン樹脂、ポリウレタン樹脂等が挙げられ、これらのうちの1種または2種以上を混合して用いることができる。   On the other hand, examples of the thermosetting resin (second thermosetting resin) include an epoxy resin, a phenol resin, a urea resin, a melamine resin, a polyester (unsaturated polyester) resin, a polyimide resin, a silicone resin, and a polyurethane resin. 1 type or 2 types or more of these can be mixed and used.

これらのなかでも、接合層形成用樹脂組成物に用いる樹脂材料としては、熱硬化性樹脂を用いるのが好ましく、さらに、エポキシ樹脂を用いるのがより好ましい。これにより、得られる接合層5の耐熱性を優れたものとすることができる。また、接合層5を介して金属板4と誘導装置1(コイル3)とを強固に接合することができる。そのため、得られる基板組立体10の放熱性および耐久性を優れたものとすることができる。   Among these, as a resin material used for the resin composition for forming a bonding layer, it is preferable to use a thermosetting resin, and it is more preferable to use an epoxy resin. Thereby, the heat resistance of the joining layer 5 obtained can be made excellent. Further, the metal plate 4 and the induction device 1 (coil 3) can be firmly bonded via the bonding layer 5. Therefore, the heat dissipation and durability of the obtained substrate assembly 10 can be made excellent.

また、エポキシ樹脂は、芳香環構造および脂環構造(脂環式の炭素環構造)の少なくともいずれか一方を有するエポキシ樹脂(A)を含むことが好ましい。このようなエポキシ樹脂(A)を使用することで、ガラス転移温度を高くするとともに、接合層5の熱伝導性をより向上させることができる。また、金属板4および誘導装置1(コイル3)に対する密着性を向上させることができる。   Moreover, it is preferable that an epoxy resin contains the epoxy resin (A) which has at least any one of an aromatic ring structure and an alicyclic structure (alicyclic carbocyclic structure). By using such an epoxy resin (A), the glass transition temperature can be increased, and the thermal conductivity of the bonding layer 5 can be further improved. Moreover, the adhesiveness with respect to the metal plate 4 and the guidance apparatus 1 (coil 3) can be improved.

また、芳香環あるいは脂肪環構造を有するエポキシ樹脂(A)としては、例えば、ビスフェノールA型エポキシ樹脂、ビスフェノールF型エポキシ樹脂、ビスフェノールS型エポキシ樹脂、ビスフェノールE型エポキシ樹脂、ビスフェノールM型エポキシ樹脂、ビスフェノールP型エポキシ樹脂、ビスフェノールZ型エポキシ樹脂等のビスフェノール型エポキシ樹脂、フェノールノボラック型エポキシ樹脂、クレゾールノボラック型エポキシ樹脂、テトラフェノール基エタン型ノボラック型エポキシ樹脂等のノボラック型エポキシ樹脂、ビフェニル型エポキシ樹脂、ビフェニレン骨格を有するフェノールアラルキル型エポキシ樹脂等のアリールアルキレン型エポキシ樹脂、ナフタレン型エポキシ樹脂等のエポキシ樹脂等が挙げられ、これらのうちの1種または2種以上を組み合わせて用いることができる。   Examples of the epoxy resin (A) having an aromatic ring or alicyclic structure include, for example, bisphenol A type epoxy resin, bisphenol F type epoxy resin, bisphenol S type epoxy resin, bisphenol E type epoxy resin, bisphenol M type epoxy resin, Bisphenol P type epoxy resin, bisphenol type epoxy resin such as bisphenol Z type epoxy resin, phenol novolac type epoxy resin, cresol novolak type epoxy resin, novolak type epoxy resin such as tetraphenol group ethane type novolak type epoxy resin, biphenyl type epoxy resin , Arylalkylene type epoxy resins such as phenol aralkyl type epoxy resins having a biphenylene skeleton, and epoxy resins such as naphthalene type epoxy resins. It can be used in combination of at least Chino one or.

また、このエポキシ樹脂(A)としては、ナフタレン型エポキシ樹脂であることが好ましい。これにより、ガラス転移温度をより一層高くでき、接合層5のボイドの発生を抑制し、熱伝導性をより一層向上でき、かつ絶縁破壊電圧を向上させることができる。   The epoxy resin (A) is preferably a naphthalene type epoxy resin. Thereby, the glass transition temperature can be further increased, the generation of voids in the bonding layer 5 can be suppressed, the thermal conductivity can be further improved, and the dielectric breakdown voltage can be improved.

なお、ナフタレン型エポキシ樹脂とは、ナフタレン環骨格を有し、かつ、グリシジル基を2つ以上有するものを呼ぶ。   The naphthalene type epoxy resin is one having a naphthalene ring skeleton and having two or more glycidyl groups.

また、エポキシ樹脂中におけるナフタレン型エポキシ樹脂の含有量は、エポキシ樹脂100質量%に対し、好ましくは20質量%以上、80質量%以下であり、より好ましくは40質量%以上、60質量%以下である。   The content of the naphthalene type epoxy resin in the epoxy resin is preferably 20% by mass or more and 80% by mass or less, more preferably 40% by mass or more and 60% by mass or less with respect to 100% by mass of the epoxy resin. is there.

ナフタレン型エポキシ樹脂としては、例えば、以下の式(5)〜(8)のうちのいずれかのものが挙げられる。   Examples of the naphthalene type epoxy resin include any of the following formulas (5) to (8).

Figure 2016018829
Figure 2016018829

Figure 2016018829
[式中、m、nはナフタレン環上の置換基の個数を示し、それぞれ独立して1〜7の整数を示す。]
Figure 2016018829
[Wherein, m and n represent the number of substituents on the naphthalene ring, and each independently represents an integer of 1 to 7. ]

なお、式(6)の化合物としては、以下のいずれか1種以上を使用することが好ましい。   In addition, as a compound of Formula (6), it is preferable to use any 1 or more types of the following.

Figure 2016018829
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Figure 2016018829
[式中、Meはメチル基を示し、l、m、nは1以上の整数を示す。]
Figure 2016018829
[Wherein, Me represents a methyl group, and l, m, and n represent an integer of 1 or more. ]

Figure 2016018829
[式中、nは1以上、20以下の整数であり、lは1以上、2以下の整数であり、Rはそれぞれ独立に水素原子、ベンジル基、アルキル基または下記式(9)で表される構造であり、Rはそれぞれ独立に水素原子またはメチル基である。]
Figure 2016018829
[Wherein, n is an integer of 1 or more and 20 or less, l is an integer of 1 or more and 2 or less, and R 1 is independently a hydrogen atom, a benzyl group, an alkyl group or the following formula (9). And each R 2 independently represents a hydrogen atom or a methyl group. ]

Figure 2016018829
[式中、Arはそれぞれ独立にフェニレン基またはナフチレン基であり、Rはそれぞれ独立に水素原子またはメチル基であり、mは1または2の整数である。]
Figure 2016018829
[Wherein, Ar is each independently a phenylene group or a naphthylene group, R 2 is each independently a hydrogen atom or a methyl group, and m is an integer of 1 or 2. ]

式(8)のナフタレン型エポキシ樹脂は、いわゆるナフチレンエーテル型エポキシ樹脂に分類されるが、この式(8)で表される化合物は、下記式(10)で表されるものが一例として挙げられる。   The naphthalene type epoxy resin of the formula (8) is classified as a so-called naphthylene ether type epoxy resin, and the compound represented by the formula (8) is exemplified by those represented by the following formula (10). It is done.

Figure 2016018829
[上記式(10)式において、nは1以上、20以下の整数であり、好ましくは1以上、10以下の整数であり、より好ましくは1以上、3以下の整数である。Rはそれぞれ独立に水素原子または下記式(11)で表される構造であり、好ましくは水素原子である。]
Figure 2016018829
[In the above formula (10), n is an integer of 1 or more and 20 or less, preferably an integer of 1 or more and 10 or less, more preferably an integer of 1 or more and 3 or less. Each R is independently a hydrogen atom or a structure represented by the following formula (11), preferably a hydrogen atom. ]

Figure 2016018829
[上記式(11)式において、mは1または2の整数である。]
Figure 2016018829
[In the above formula (11), m is an integer of 1 or 2. ]

さらに、上記式(10)で表されるナフチレンエーテル型エポキシ樹脂は、具体的には、例えば、下記式(12)〜(16)で表されるものが挙げられる。   Furthermore, specific examples of the naphthylene ether type epoxy resin represented by the above formula (10) include those represented by the following formulas (12) to (16).

Figure 2016018829
Figure 2016018829

Figure 2016018829
Figure 2016018829

Figure 2016018829
Figure 2016018829

Figure 2016018829
Figure 2016018829

Figure 2016018829
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また、前記樹脂材料の含有量は、接合層形成用樹脂組成物全体(溶剤を除く)の、30体積%以上、70体積%以下であるのが好ましく、40体積%以上、60体積%以下であるのがより好ましい。これにより、得られる接合層5の機械的強度および熱伝導性を優れたものとすることができる。また、金属板4および誘導装置1(コイル3)に対する密着性を向上させることができる。   The content of the resin material is preferably 30% by volume or more and 70% by volume or less, and preferably 40% by volume or more and 60% by volume or less of the entire resin composition for forming a bonding layer (excluding the solvent). More preferably. Thereby, the mechanical strength and thermal conductivity of the obtained bonding layer 5 can be made excellent. Moreover, the adhesiveness with respect to the metal plate 4 and the guidance apparatus 1 (coil 3) can be improved.

これに対し、かかる含有量が前記下限値未満であると、樹脂材料の種類によっては、樹脂材料がフィラー同士を結合するバインダーとしての機能を十分に発揮することができず、得られる接合層5の機械的強度が低下するおそれがある。また、接合層形成用樹脂組成物の構成材料によっては、接合層形成用樹脂組成物の粘度が高くなりすぎて、接合層形成用樹脂組成物(ワニス)の濾過作業や層状成形(コーティング)が困難となったり、接合層形成用樹脂組成物のフローが小さくなりすぎて、接合層5にボイドが発生するおそれが生じる。   On the other hand, when the content is less than the lower limit value, depending on the type of the resin material, the resin material cannot sufficiently exhibit the function as a binder for bonding the fillers together, and the resulting bonding layer 5 is obtained. There is a risk that the mechanical strength of the steel will decrease. Moreover, depending on the constituent material of the resin composition for forming the bonding layer, the viscosity of the resin composition for forming the bonding layer becomes too high, and the filtering operation or layered molding (coating) of the resin composition for forming the bonding layer (varnish) may occur. It becomes difficult or the flow of the resin composition for forming the bonding layer becomes too small, and there is a possibility that voids are generated in the bonding layer 5.

一方、かかる含有量が前記上限値を超えると、樹脂材料の種類によっては、接合層5の絶縁性を確保しつつ、接合層5の熱伝導性を優れたものとするのが困難となるおそれがある。   On the other hand, when the content exceeds the upper limit, depending on the type of the resin material, it may be difficult to ensure the thermal conductivity of the bonding layer 5 while ensuring the insulation of the bonding layer 5. There is.

また、樹脂材料がエポキシ樹脂を含む場合、接合層形成用樹脂組成物にはフェノキシ樹脂が含まれていることが好ましい。これにより、接合層5の耐屈曲性を向上できるため、フィラーを高充填することによる接合層5のハンドリング性の低下を抑制することができる。   Moreover, when the resin material contains an epoxy resin, the bonding layer forming resin composition preferably contains a phenoxy resin. Thereby, since the bending resistance of the joining layer 5 can be improved, the fall of the handleability of the joining layer 5 by highly filling a filler can be suppressed.

また、フェノキシ樹脂を含むと、粘度上昇により、プレス時の流動性が低減し、ボイド等が発生することが抑制することができる。また、接合層5と金属板4および誘導装置1との密着性が向上する。これらの相乗効果により、基板組立体10の絶縁信頼性および熱伝導性をより一層高めることができる。   Moreover, when a phenoxy resin is contained, the fluidity | liquidity at the time of a press reduces by an increase in a viscosity, and it can suppress that a void etc. generate | occur | produce. In addition, the adhesion between the bonding layer 5 and the metal plate 4 and the induction device 1 is improved. These synergistic effects can further increase the insulation reliability and thermal conductivity of the substrate assembly 10.

フェノキシ樹脂としては、例えば、ビスフェノール骨格を有するフェノキシ樹脂、ナフタレン骨格を有するフェノキシ樹脂、アントラセン骨格を有するフェノキシ樹脂、ビフェニル骨格を有するフェノキシ樹脂等が挙げられる。また、これらの骨格を複数種有した構造のフェノキシ樹脂を用いることもできる。   Examples of the phenoxy resin include a phenoxy resin having a bisphenol skeleton, a phenoxy resin having a naphthalene skeleton, a phenoxy resin having an anthracene skeleton, and a phenoxy resin having a biphenyl skeleton. A phenoxy resin having a structure having a plurality of these skeletons can also be used.

これらの中でも、ビスフェノールA型またはビスフェノールF型のフェノキシ樹脂を用いるのが好ましい。ビスフェノールA骨格とビスフェノールF骨格を両方有するフェノキシ樹脂を用いても良い。   Among these, it is preferable to use bisphenol A type or bisphenol F type phenoxy resin. A phenoxy resin having both a bisphenol A skeleton and a bisphenol F skeleton may be used.

フェノキシ樹脂の重量平均分子量は、とくに限定されないが、4.0×10以上、8.0×10以下が好ましい。 The weight average molecular weight of the phenoxy resin is not particularly limited, but is preferably 4.0 × 10 4 or more and 8.0 × 10 4 or less.

なお、フェノキシ樹脂の重量平均分子量は、ゲルパーミエーションクロマトグラフィー(GPC)で測定したポリスチレン換算の値である。   In addition, the weight average molecular weight of a phenoxy resin is a value in terms of polystyrene measured by gel permeation chromatography (GPC).

フェノキシ樹脂の含有量は、例えば、接合層形成用樹脂組成物の全固形分100質量%に対し、好ましくは1質量%以上、15質量%以下、より好ましくは2質量%以上、10質量%以下である。   The content of the phenoxy resin is preferably 1% by mass or more and 15% by mass or less, more preferably 2% by mass or more and 10% by mass or less, for example, with respect to 100% by mass of the total solid content of the resin composition for forming a bonding layer. It is.

また、かかる接合層形成用樹脂組成物には、前述した樹脂材料の種類(例えば、エポキシ樹脂である場合)等によっては、必要に応じて、硬化剤が含まれる。   In addition, the bonding layer forming resin composition includes a curing agent as necessary depending on the type of the resin material described above (for example, in the case of an epoxy resin).

硬化剤としては、特に限定されず、例えば、ジシアンジアミド、脂肪族ポリアミド等のアミド系硬化剤や、ジアミノジフェニルメタン、メタンフェニレンジアミン、アンモニア、トリエチルアミン、ジエチルアミン等のアミン系硬化剤や、ビスフェノールA、ビスフェノールF、フェノールノボラック樹脂、クレゾールノボラック樹脂、p−キシレン−ノボラック樹脂などのフェノール系硬化剤や、酸無水物類等を挙げることができる。   The curing agent is not particularly limited, and examples thereof include amide curing agents such as dicyandiamide and aliphatic polyamide, amine curing agents such as diaminodiphenylmethane, methanephenylenediamine, ammonia, triethylamine, and diethylamine, bisphenol A, and bisphenol F. And phenolic curing agents such as phenol novolac resin, cresol novolak resin, p-xylene-novolak resin, and acid anhydrides.

また、接合層形成用樹脂組成物は、さらに硬化触媒(硬化促進剤)を含んでいてもよい。これにより、接合層形成用樹脂組成物の硬化性を向上させることができる。   The bonding layer forming resin composition may further contain a curing catalyst (curing accelerator). Thereby, the sclerosis | hardenability of the resin composition for joining layer formation can be improved.

硬化触媒としては、例えば、イミダゾール類、1,8−ジアザビシクロ(5,4,0)ウンデセン等アミン系触媒、トリフェニルホスフィン等リン系触媒等が挙げられる。これらの中でもイミダゾール類が好ましい。これにより、特に、接合層形成用樹脂組成物の速硬化性および保存性を両立することができる。   Examples of the curing catalyst include amine catalysts such as imidazoles, 1,8-diazabicyclo (5,4,0) undecene, phosphorus catalysts such as triphenylphosphine, and the like. Of these, imidazoles are preferred. Thereby, in particular, both the fast curability and the storage stability of the resin composition for forming a bonding layer can be achieved.

イミダゾール類としては、例えば1−ベンジル−2メチルイミダゾール、1−ベンジル−2フェニルイミダゾール、1−シアノエチル−2−エチル−4−メチルイミダゾール、2−フェニル−4−メチルイミダゾール、1−シアノエチル−2−フェニルイミダゾリウムトリメリテイト、2,4−ジアミノ−6−[2’−メチルイミダゾリル−(1’)]−エチル−s−トリアジン、2,4−ジアミノ−6−[2’−ウンデシルイミダゾリル−(1’)]−エチル−s−トリアジン、2,4−ジアミノ−6−[2’−エチル−4’メチルイミダゾリル−(1’)]−エチル−s−トリアジン、2,4−ジアミノ−6−[2’−メチルイミダゾリル−(1’)]−エチル−s−トリアジンイソシアヌル酸付加物、2−フェニルイミダゾールイソシアヌル酸付加物、2−フェニル−4,5−ジヒドロキシメチルイミダゾール、2−フェニル−4−メチル−5−ヒドロキシメチルイミダゾール、2,4−ジアミノ−6−ビニル−s−トリアジン、2,4−ジアミノ−6−ビニル−s−トリアジンイソシアヌル酸付加物、2,4−ジアミノ−6−メタクリロイルオキシエチル−s−トリアジン、2,4−ジアミノ−6−メタクリロイルオキシエチル−s−トリアジンイソシアヌル酸付加物等が挙げられる。これらの中でも2−フェニル−4,5−ジヒドロキシメチルイミダゾールまたは2−フェニル−4−メチル−5−ヒドロキシメチルイミダゾールが好ましい。これにより、接合層形成用樹脂組成物の保存性を特に向上させることができる。   Examples of imidazoles include 1-benzyl-2-methylimidazole, 1-benzyl-2-phenylimidazole, 1-cyanoethyl-2-ethyl-4-methylimidazole, 2-phenyl-4-methylimidazole, 1-cyanoethyl-2- Phenylimidazolium trimellitate, 2,4-diamino-6- [2'-methylimidazolyl- (1 ')]-ethyl-s-triazine, 2,4-diamino-6- [2'-undecylimidazolyl- (1 ′)]-Ethyl-s-triazine, 2,4-diamino-6- [2′-ethyl-4′methylimidazolyl- (1 ′)]-ethyl-s-triazine, 2,4-diamino-6 -[2'-Methylimidazolyl- (1 ')]-ethyl-s-triazine isocyanuric acid adduct, 2-phenylimidazole Null acid adduct, 2-phenyl-4,5-dihydroxymethylimidazole, 2-phenyl-4-methyl-5-hydroxymethylimidazole, 2,4-diamino-6-vinyl-s-triazine, 2,4-diamino -6-vinyl-s-triazine isocyanuric acid adduct, 2,4-diamino-6-methacryloyloxyethyl-s-triazine, 2,4-diamino-6-methacryloyloxyethyl-s-triazine isocyanuric acid adduct, etc. Can be mentioned. Among these, 2-phenyl-4,5-dihydroxymethylimidazole or 2-phenyl-4-methyl-5-hydroxymethylimidazole is preferable. Thereby, especially the preservability of the resin composition for bonding layer formation can be improved.

また、硬化触媒の含有量は、特に限定されないが、樹脂材料100質量部に対して0.01〜30質量部程度であるのが好ましく、特に0.5〜10質量部程度であるのがより好ましい。かかる含有量が前記下限値未満であると、接合層形成用樹脂組成物の硬化性が不十分となる場合があり、一方、かかる含有量が前記上限値を超えると、接合層形成用樹脂組成物の保存性が低下する傾向を示す。   Moreover, the content of the curing catalyst is not particularly limited, but is preferably about 0.01 to 30 parts by mass, more preferably about 0.5 to 10 parts by mass with respect to 100 parts by mass of the resin material. preferable. When the content is less than the lower limit, the curability of the bonding layer forming resin composition may be insufficient. On the other hand, when the content exceeds the upper limit, the bonding layer forming resin composition may be used. It shows a tendency for the shelf life of the product to decrease.

また、硬化触媒の平均粒子径は、特に限定されないが、10μm以下であることが好ましく、特に1μm〜5μmであることがより好ましい。かかる平均粒子径が前記範囲内であると、特に硬化触媒の反応性に優れる。   The average particle diameter of the curing catalyst is not particularly limited, but is preferably 10 μm or less, and more preferably 1 μm to 5 μm. When the average particle size is within the above range, the reactivity of the curing catalyst is particularly excellent.

また、接合層形成用樹脂組成物は、さらにカップリング剤を含むことが好ましい。これにより、フィラー、誘導装置1(コイル3)および金属板4に対する樹脂材料の密着性をより向上させることができる。   Moreover, it is preferable that the resin composition for forming a bonding layer further includes a coupling agent. Thereby, the adhesiveness of the resin material with respect to a filler, the guidance apparatus 1 (coil 3), and the metal plate 4 can be improved more.

かかるカップリング剤としては、シラン系カップリング剤、チタン系カップリング剤、アルミニウム系カップリング剤等が挙げられる。これらの中でもシラン系カップリング剤が好ましい。これにより、接合層形成用樹脂組成物の耐熱性および熱伝導性をより向上させることができる。   Examples of such coupling agents include silane coupling agents, titanium coupling agents, aluminum coupling agents, and the like. Of these, silane coupling agents are preferred. Thereby, the heat resistance and thermal conductivity of the resin composition for forming a bonding layer can be further improved.

このうち、シラン系カップリング剤としては、例えばビニルトリクロロシラン、ビニルトリメトキシシラン、ビニルトリエトキシシラン、β−(3,4エポキシシクロヘキシル)エチルトリメトキシシラン、γ−グリシドキシプロピルトリメトキシシラン、γ−グリシドキシプロピルメチルジメトキシシラン、γ−メタクリロキシプロピルトリメトキシシラン、γ−メタクリロキシプロピルメチルジエトキシシラン、γ−メタクリロキシプロピルトリエトキシシラン、N−β(アミノエチル)γ−アミノプロピルメチルジメトキシシラン、N−β(アミノエチル)γ−アミノプロピルトリメトキシシラン、N−β(アミノエチル)γ−アミノプロピルトリエトキシシラン、γ−アミノプロピルトリメトキシシラン、γ−アミノプロピルトリエトキシシラン、N−フェニル−γ−アミノプロピルトリメトキシシラン、γ−クロロプロピルトリメトキシシラン、γ−メルカプトプロピルトリメトキシシラン、3−イソシアネートプロピルトリエトキシシラン、3−アクリロキシプロピルトリメトキシシラン、ビス(3−トリエトキシシリルプロピル)テトラスルファンなどが挙げられる。   Among these, as the silane coupling agent, for example, vinyltrichlorosilane, vinyltrimethoxysilane, vinyltriethoxysilane, β- (3,4-epoxycyclohexyl) ethyltrimethoxysilane, γ-glycidoxypropyltrimethoxysilane, γ-glycidoxypropylmethyldimethoxysilane, γ-methacryloxypropyltrimethoxysilane, γ-methacryloxypropylmethyldiethoxysilane, γ-methacryloxypropyltriethoxysilane, N-β (aminoethyl) γ-aminopropylmethyl Dimethoxysilane, N-β (aminoethyl) γ-aminopropyltrimethoxysilane, N-β (aminoethyl) γ-aminopropyltriethoxysilane, γ-aminopropyltrimethoxysilane, γ-aminopropyltriethoxysila N-phenyl-γ-aminopropyltrimethoxysilane, γ-chloropropyltrimethoxysilane, γ-mercaptopropyltrimethoxysilane, 3-isocyanatopropyltriethoxysilane, 3-acryloxypropyltrimethoxysilane, bis (3 -Triethoxysilylpropyl) tetrasulfane and the like.

カップリング剤の含有量は、特に限定されないが、樹脂材料100質量部に対して0.01〜10質量部程度であるのが好ましく、特に0.5〜10質量部程度であるのがより好ましい。かかる含有量が前記下限値未満であると、前述したような密着性を高める効果が不十分となる場合があり、一方、かかる含有量が前記上限値を超えると、接合層5を形成する際にアウトガスやボイドの原因になる場合がある。   Although content of a coupling agent is not specifically limited, It is preferable that it is about 0.01-10 mass parts with respect to 100 mass parts of resin materials, and it is more preferable that it is especially about 0.5-10 mass parts. . When the content is less than the lower limit, the effect of improving the adhesion as described above may be insufficient. On the other hand, when the content exceeds the upper limit, the bonding layer 5 is formed. May cause outgassing and voids.

また、接合層形成用樹脂組成物中のフィラーは、無機材料で構成される。これにより、フィラーは、樹脂材料の熱伝導率よりも高い熱伝導率を発揮する。したがって、このフィラーが接合層形成用樹脂組成物中に分散していることにより、接合層5の熱伝導率を高めることができる。   Moreover, the filler in the resin composition for bonding layer formation is comprised with an inorganic material. Thereby, a filler exhibits heat conductivity higher than the heat conductivity of a resin material. Therefore, the thermal conductivity of the bonding layer 5 can be increased by dispersing the filler in the bonding layer forming resin composition.

このようなフィラーは、無機材料で構成されるものの中でも、酸化アルミニウム(アルミナ、Al)および窒化アルミニウムのうちの少なくとも1種で構成される粒状体であるのが好ましく、特に、主として酸化アルミニウムで構成された粒状体であるのが好ましい。これにより、熱伝導性(放熱性)および絶縁性に優れたフィラーとすることができる。また、酸化アルミニウムは、汎用性に優れ、安価に入手できる点から、特に好ましく用いられる。 Such a filler is preferably a granular body composed of at least one of aluminum oxide (alumina, Al 2 O 3 ) and aluminum nitride among those composed of inorganic materials, and is mainly mainly oxidized. A granular body made of aluminum is preferable. Thereby, it can be set as the filler excellent in heat conductivity (heat dissipation) and insulation. Aluminum oxide is particularly preferably used because it is highly versatile and can be obtained at low cost.

したがって、以下では、フィラーが、主として酸化アルミニウムで構成された粒状体である場合を一例に説明する。   Therefore, hereinafter, a case where the filler is a granular body mainly composed of aluminum oxide will be described as an example.

フィラーの含有量は、接合層形成用樹脂組成物全体(溶剤を除く)の、30体積%以上、70体積%以下であるのが好ましく、40体積%以上、60体積%以下であるのがより好ましい。かかる範囲のように接合層形成用樹脂組成物におけるフィラーの含有率を高くすることにより、接合層5の熱伝導性を優れたものとすることができる。   The filler content is preferably 30% by volume or more and 70% by volume or less, and more preferably 40% by volume or more and 60% by volume or less, based on the entire resin composition for forming a bonding layer (excluding the solvent). preferable. By increasing the filler content in the resin composition for forming a bonding layer as in this range, the heat conductivity of the bonding layer 5 can be made excellent.

これに対し、かかる含有量が前記下限値未満であると、接合層5の絶縁性を確保しつつ、接合層5の熱伝導性を優れたものとするのが難しい。一方、かかる含有量が前記上限値を超えると、接合層形成用樹脂組成物の構成材料によっては、接合層形成用樹脂組成物の粘度が高くなりすぎて、ワニスの濾過作業や層状への成形(コーティング)が困難となったり、接合層形成用樹脂組成物のフローが小さくなりすぎて、得られる接合層5にボイドが発生してしまったりする場合がある。   On the other hand, when the content is less than the lower limit value, it is difficult to ensure the heat conductivity of the bonding layer 5 while ensuring the insulating properties of the bonding layer 5. On the other hand, if the content exceeds the upper limit, depending on the constituent material of the bonding layer forming resin composition, the viscosity of the bonding layer forming resin composition becomes too high, and the varnish is filtered or formed into a layer. (Coating) may be difficult, or the flow of the resin composition for forming a bonding layer may be too small, and voids may be generated in the bonding layer 5 to be obtained.

なお、接合層形成用樹脂組成物におけるフィラーの含有率を、上記の範囲のように高く設定したとしても、接合層形成用樹脂組成物として、温度25℃、せん断速度1.0rpmの条件での粘度をA[Pa・s]とし、温度25℃、せん断速度10.0rpmの条件での粘度をB[Pa・s]としたとき、A/B(チキソ比)が1.2以上、3.0以下なる関係を満足するものを用いることにより、基板組立体10の製造時に、接合層形成用樹脂組成物(ワニス)の粘度およびフロー性を適度なものとすることができる。   Even if the filler content in the bonding layer forming resin composition is set high as in the above range, the bonding layer forming resin composition has a temperature of 25 ° C. and a shear rate of 1.0 rpm. 2. A / B (thixo ratio) is 1.2 or more when the viscosity is A [Pa · s], the viscosity at a temperature of 25 ° C. and a shear rate of 10.0 rpm is B [Pa · s]. By using a material that satisfies the relationship of 0 or less, the viscosity and flowability of the bonding layer forming resin composition (varnish) can be made appropriate during the production of the substrate assembly 10.

また、このフィラーの含水量は、0.10質量%以上、0.30質量%以下であるのが好ましく、0.10質量%以上、0.25質量%以下であるのがより好ましく、0.12質量%以上、0.20質量%以下であるのがさらに好ましい。これにより、フィラーの含有量を多くしても、より適度な粘度およびフロー性を有するものとなる。そのため、得られる接合層5中にボイドが発生するのを防止しつつ、熱伝導性に優れた接合層5を形成することができる。すなわち、優れた熱伝導性および絶縁性を有する接合層5を形成することができる。   The water content of the filler is preferably 0.10% by mass or more and 0.30% by mass or less, more preferably 0.10% by mass or more and 0.25% by mass or less. More preferably, it is 12 mass% or more and 0.20 mass% or less. Thereby, even if the content of the filler is increased, it has a more appropriate viscosity and flowability. Therefore, it is possible to form the bonding layer 5 having excellent thermal conductivity while preventing generation of voids in the obtained bonding layer 5. That is, the bonding layer 5 having excellent thermal conductivity and insulating properties can be formed.

また、酸化アルミニウムは、通常、水酸化アルミニウムを焼成することにより得られる。得られる酸化アルミニウムの粒状体は、複数の一次粒子で構成されるが、その一次粒子の平均粒径は、その焼成の条件に応じて設定することができる。   Aluminum oxide is usually obtained by firing aluminum hydroxide. The obtained aluminum oxide granules are composed of a plurality of primary particles, and the average particle size of the primary particles can be set according to the firing conditions.

また、その焼成後に何ら処理されていない酸化アルミニウムは、一次粒子同士が固着により凝集した凝集体(二次粒子)で構成されている。   Moreover, the aluminum oxide which has not been treated at all after the firing is composed of aggregates (secondary particles) in which primary particles are aggregated due to fixation.

そのため、その一次粒子同士の凝集を粉砕により必要に応じて解くことにより、最終的なフィラーが得られる。最終的なフィラーの平均粒径は、その粉砕の条件(例えば時間)に応じて設定することができる。   Therefore, the final filler can be obtained by solving the aggregation of the primary particles as necessary by pulverization. The average particle diameter of the final filler can be set according to the pulverization conditions (for example, time).

その粉砕の際、酸化アルミニウムは極めて高い硬度を有するため、一次粒子同士の固着が解かれていくだけで、一次粒子自体は殆ど破壊されず、一次粒子の平均粒径は粉砕後においてもほぼ維持されることとなる。   During the pulverization, the aluminum oxide has a very high hardness, so the primary particles themselves are hardly broken, and the average particle size of the primary particles is almost maintained even after pulverization. The Rukoto.

したがって、粉砕時間が長くなるに従い、フィラーの平均粒径は、一次粒子の平均粒径に近づくことになる。そして、粉砕時間が所定時間以上となると、フィラーの平均粒径は、一次粒子の平均粒径に等しくなる。すなわち、フィラーは、粉砕時間を短くすると主として二次粒子で構成され、粉砕時間を長くするにしたがって一次粒子の含有量が多くなり、最終的に所定時間以上とすると、主として一次粒子で構成されることとなる。   Therefore, as the grinding time becomes longer, the average particle size of the filler approaches the average particle size of the primary particles. And when grinding | pulverization time becomes more than predetermined time, the average particle diameter of a filler will become equal to the average particle diameter of a primary particle. That is, the filler is mainly composed of secondary particles when the grinding time is shortened, and the content of primary particles increases as the grinding time is lengthened. It will be.

また、例えば、前述したように水酸化アルミニウムを焼成することにより得られた酸化アルミニウムの一次粒子は、球形ではなく、鱗片状のような平坦面を有する形状をなしている。そのため、フィラー同士の接触面積を大きくすることができる。その結果、得られる接合層5の熱伝導性を高めることができる。   Further, for example, primary particles of aluminum oxide obtained by firing aluminum hydroxide as described above have a shape having a flat surface such as a scaly shape instead of a spherical shape. Therefore, the contact area between fillers can be increased. As a result, the thermal conductivity of the obtained bonding layer 5 can be increased.

さらに、フィラーは、平均粒子径が異なる3成分(大粒径、中粒径、小粒径)の混合系であり、さらに、大粒径成分が球状であり、中粒径成分および小粒径成分が多面体状であることが好ましい。   Furthermore, the filler is a mixed system of three components (large particle size, medium particle size, and small particle size) having different average particle sizes, and the large particle size component is spherical, and the medium particle size component and small particle size are The component is preferably polyhedral.

より具体的には、フィラーは、平均粒子径が5.0μm以上、50μm以下、好ましくは5.0μm以上、25μm以下の第1粒径範囲に属し、かつ、円形度が0.80以上、1.0以下、好ましくは0.85以上、0.95以下である大粒径アルミナと、平均粒子径が1.0μm以上、5.0μm未満の第2粒径範囲に属し、かつ、円形度が0.50以上、0.90以下、好ましくは0.70以上、0.80以下である中粒径酸化アルミニウムと、平均粒子径が0.1μm以上、1.0μm未満の第3粒径範囲に属し、かつ、円形度が0.50以上、0.90以下、好ましくは0.70以上、0.80以下ある小粒径酸化アルミニウムと、の混合物であることが好ましい。   More specifically, the filler belongs to the first particle size range in which the average particle size is 5.0 μm or more and 50 μm or less, preferably 5.0 μm or more and 25 μm or less, and the circularity is 0.80 or more, 1 0.02 or less, preferably 0.85 or more, 0.95 or less of the large particle size alumina, the average particle size belongs to the second particle size range of 1.0 μm or more and less than 5.0 μm, and the circularity is 0.50 or more, 0.90 or less, preferably 0.70 or more and 0.80 or less, medium particle size aluminum oxide and an average particle size of 0.1 μm or more and less than 1.0 μm in the third particle size range It is preferable to be a mixture with a small particle size aluminum oxide having a circularity of 0.50 or more and 0.90 or less, preferably 0.70 or more and 0.80 or less.

なお、フィラーの粒子径は、レーザー回折式粒度分布測定装置SALD−7000を用いて、水中に酸化アルミニウムを1分間超音波処理することにより分散させ、測定することができる。   The particle size of the filler can be measured by dispersing aluminum oxide in water for 1 minute using a laser diffraction particle size distribution analyzer SALD-7000.

これにより、大粒径成分の隙間に中粒径成分が充填され、さらに中粒径成分の隙間に小粒径成分が充填されるため、酸化アルミニウムの充填性が高められ、酸化アルミニウム粒子同士の接触面積をより大きくすることができる。その結果、接合層5の熱伝導性をより一層向上できる。さらに、接合層5の耐熱性、耐屈曲性、絶縁性をより一層向上できる。   As a result, the medium particle size component is filled in the gap between the large particle size components, and the small particle size component is filled in the gap between the medium particle size components. The contact area can be increased. As a result, the thermal conductivity of the bonding layer 5 can be further improved. Furthermore, the heat resistance, bending resistance, and insulation of the bonding layer 5 can be further improved.

また、このようなフィラーを用いることにより、接合層5と金属板4および誘導装置1との密着性をより一層向上できる。   Moreover, the adhesiveness of the joining layer 5, the metal plate 4, and the guidance apparatus 1 can be improved further by using such a filler.

これらの相乗効果により、基板組立体10の絶縁信頼性および放熱信頼性をより一層高めることができる。   These synergistic effects can further increase the insulation reliability and heat dissipation reliability of the substrate assembly 10.

なお、接合層形成用樹脂組成物は、上述した成分に加え、レベリング剤、消泡剤等の添加剤が含まれていてもよい。   In addition to the components described above, the bonding layer forming resin composition may contain additives such as a leveling agent and an antifoaming agent.

また、接合層形成用樹脂組成物は、例えば、メチルエチルケトン、アセトン、トルエン、ジメチルホルムアルデヒド等の溶剤を含む。これにより、接合層形成用樹脂組成物は、樹脂材料等が溶剤に溶解することにより、ワニスの状態となる。   Moreover, the resin composition for forming a bonding layer includes a solvent such as methyl ethyl ketone, acetone, toluene, dimethylformaldehyde, and the like. Thereby, the resin composition for bonding layer formation will be in a varnish state, when resin material etc. melt | dissolve in a solvent.

なお、このようなワニス状をなす接合層形成用樹脂組成物は、例えば、必要に応じて樹脂材料と溶剤とを混合してワニス状にした後、さらに、フィラーを混合することで得ることができる。   In addition, the resin composition for forming a bonding layer having such a varnish shape can be obtained, for example, by mixing a resin material and a solvent as necessary to form a varnish, and further mixing a filler. it can.

また、混合に用いる混合機としては、特に限定されないが、例えば、ディスパーザー、複合羽根型撹拌機、ビーズミルおよびホモジナイザー等が挙げられる。   The mixer used for mixing is not particularly limited, and examples thereof include a disperser, a composite blade type stirrer, a bead mill, and a homogenizer.

封止材6は、誘導装置1を第1の放熱基板20A(接合層5)、第2の放熱基板20B(接合層5)ごと覆うことで、誘導装置1を封止(モールド)する。   The sealing material 6 seals (molds) the guidance device 1 by covering the guidance device 1 together with the first heat dissipation substrate 20A (bonding layer 5) and the second heat dissipation substrate 20B (bonding layer 5).

これにより、誘導装置1は、第1の放熱基板20Aと第2の放熱基板20Bと封止材6とで取り囲まれるようにして封止され、基板組立体10における誘導装置1の封止性が確保される。   Thereby, the guidance device 1 is sealed so as to be surrounded by the first heat radiation substrate 20A, the second heat radiation substrate 20B, and the sealing material 6, and the sealing property of the guidance device 1 in the substrate assembly 10 is improved. Secured.

また、このように誘導装置1を取り囲むようにして誘導装置1を封止する構成とすることにより、接合層5と封止材6との間での熱線膨張係数の差を小さく設定することができる。これにより、誘導装置1のコイル3における励磁時には、誘導装置1自体が発熱し接合層5および封止材6が加熱されることとなるが、接合層5と封止材6との間で反りが生じ、これに起因して、これら同士の間で剥離が生じてしまうのを的確に抑制または防止することができる。   Further, by setting the induction device 1 so as to surround the induction device 1 in this way, the difference in the coefficient of thermal expansion between the bonding layer 5 and the sealing material 6 can be set small. it can. Thereby, at the time of excitation in the coil 3 of the induction device 1, the induction device 1 itself generates heat and the bonding layer 5 and the sealing material 6 are heated, but the warpage between the bonding layer 5 and the sealing material 6 occurs. It is possible to accurately suppress or prevent the occurrence of peeling between the two due to this.

この封止材6は、熱硬化性樹脂を含有する封止材用樹脂組成物の硬化物で構成される。
以下、この封止材用組成物について説明する。
This sealing material 6 is comprised with the hardened | cured material of the resin composition for sealing materials containing a thermosetting resin.
Hereinafter, this composition for sealing materials is demonstrated.

熱硬化性樹脂は、特に限定されないが、例えば、フェノール樹脂、エポキシ樹脂、ユリア(尿素)樹脂、メラミン樹脂のようなトリアジン環を有する樹脂、不飽和ポリエステル樹脂、ビスマレイミド(BMI)樹脂、ポリウレタン樹脂、ジアリルフタレート樹脂、シリコーン樹脂、ベンゾオキサジン環を有する樹脂、シアネートエステル樹脂等が挙げられ、これらのうちの1種または2種以上を組み合わせて用いることができる。中でも、フェノール樹脂は、流動性が良好であるため、封止材用樹脂組成物の流動性を向上させることができることから、封止材6の形成時において、誘導装置1の形状(特に、コイル3の形状)に依存することなく、誘導装置1を封止することができることから、好ましく用いられる。また、誘導装置1および金属板4に対する密着性を向上させることができる。   The thermosetting resin is not particularly limited. For example, phenol resin, epoxy resin, urea (urea) resin, resin having a triazine ring such as melamine resin, unsaturated polyester resin, bismaleimide (BMI) resin, polyurethane resin , Diallyl phthalate resin, silicone resin, resin having a benzoxazine ring, cyanate ester resin, and the like, and one or more of them can be used in combination. Among these, since the phenol resin has good fluidity, the fluidity of the resin composition for a sealing material can be improved. Therefore, when the sealing material 6 is formed, the shape of the induction device 1 (especially the coil) Since the guiding device 1 can be sealed without depending on the shape 3), it is preferably used. Moreover, the adhesiveness with respect to the guidance apparatus 1 and the metal plate 4 can be improved.

また、フェノール樹脂としては、例えば、フェノールノボラック樹脂、クレゾールノボラック樹脂、ビスフェノールAノボラック樹脂、アリールアルキレン型ノボラック樹脂のようなノボラック型フェノール樹脂、ジメチレンエーテル型レゾール樹脂、メチロール型レゾール樹脂等の未変性のレゾールフェノール樹脂、桐油、アマニ油、クルミ油等で変性した油変性レゾールフェノール樹脂のようなレゾール型フェノール樹脂等が挙げられる。   Examples of the phenol resin include unmodified phenol novolak resin, cresol novolak resin, bisphenol A novolak resin, novolak type phenol resin such as arylalkylene type novolak resin, dimethylene ether type resole resin, methylol type resole resin and the like. And resole phenolic resins such as oil-modified resole phenolic resins modified with tung oil, linseed oil, walnut oil and the like.

また、ノボラック型フェノール樹脂を用いる場合、封止材用樹脂組成物には硬化剤が含まれるが、通常、この硬化剤としては、ヘキサメチレンテトラミンが使用される。さらに、ヘキサメチレンテトラミンを用いる場合、その含有量は、特に限定されないが、ノボラック型フェノール樹脂100重量部に対して、10重量部以上、30重量部以下含有することが好ましく、さらに15重量部以上、20重量部以下含有することが好ましい。ヘキサメチレンテトラミンの含有量を上記範囲とすることで、封止材用樹脂組成物の硬化物すなわち封止材6の機械的強度および成形収縮量を良好なものとすることができる。   Moreover, when using a novolak-type phenol resin, although the hardening | curing agent is contained in the resin composition for sealing materials, hexamethylenetetramine is normally used as this hardening | curing agent. Further, when hexamethylenetetramine is used, its content is not particularly limited, but it is preferably 10 parts by weight or more and 30 parts by weight or less, more preferably 15 parts by weight or more with respect to 100 parts by weight of the novolac type phenol resin. 20 parts by weight or less is preferable. By setting the content of hexamethylenetetramine within the above range, the cured product of the resin composition for a sealing material, that is, the mechanical strength and molding shrinkage of the sealing material 6 can be improved.

このようなフェノール樹脂の中でも、レゾール型フェノール樹脂を用いるのが好ましい。ノボラック型フェノール樹脂を主成分として用いた場合、上記の通り、硬化剤として通常ヘキサメチレンテトラミンが使用され、ノボラック型フェノール樹脂の硬化時にアンモニアガス等の腐食性ガスが発生する。そのため、これに起因して、誘導装置1が備えるコア部2およびコイル3が腐食するおそれがあることから、ノボラック型フェノール樹脂に比較して、レゾール型フェノール樹脂が好ましく用いられる。   Among such phenol resins, it is preferable to use a resol type phenol resin. When a novolac type phenol resin is used as a main component, as described above, hexamethylenetetramine is usually used as a curing agent, and corrosive gas such as ammonia gas is generated when the novolac type phenol resin is cured. For this reason, the core portion 2 and the coil 3 included in the induction device 1 may corrode due to this, and therefore, a resol type phenol resin is preferably used as compared with a novolac type phenol resin.

また、レゾール型フェノール樹脂とノボラック型フェノール樹脂とを併用するようにすることもできる。これにより、封止材6の強度を高めることができるとともに、靭性をも高めることができる。   Moreover, a resol type phenol resin and a novolac type phenol resin can be used in combination. Thereby, while being able to raise the intensity | strength of the sealing material 6, toughness can also be improved.

また、エポキシ樹脂としては、例えば、ビスフェノールA型、ビスフェノールF型、ビスフェノールAD型のようなビスフェノール型エポキシ樹脂、フェノールノボラック型、クレゾールノボラック型のようなノボラック型エポキシ樹脂、臭素化ビスフェノールA型、臭素化フェノールノボラック型のような臭素化型エポキシ樹脂、ビフェニル型エポキシ樹脂、ナフタレン型エポキシ樹脂、トリス(ヒドロキシフェニル)メタン型エポキシ樹脂等が挙げられる。これらの中でも、比較的分子量の低いビスフェノールA型エポキシ樹脂、フェノールノボラック型エポキシ樹脂、クレゾールノボラック型エポキシ樹脂が好ましい。これにより、封止材6の形成時における作業性や成形性をさらに良好なものにすることができる。また、封止材6の耐熱性の面からフェノールノボラック型エポキシ樹脂、クレゾールノボラック型エポキシ樹脂、トリス(ヒドロキシフェニル)メタン型エポキシ樹脂が好ましく、特に、トリス(ヒドロキシフェニル)メタン型エポキシ樹脂が好ましい。   Examples of the epoxy resin include bisphenol type epoxy resins such as bisphenol A type, bisphenol F type and bisphenol AD type, novolac type epoxy resins such as phenol novolak type and cresol novolak type, brominated bisphenol A type, bromine Brominated epoxy resin such as a fluorinated phenol novolak type, biphenyl type epoxy resin, naphthalene type epoxy resin, tris (hydroxyphenyl) methane type epoxy resin and the like. Among these, bisphenol A type epoxy resins, phenol novolac type epoxy resins, and cresol novolac type epoxy resins having a relatively low molecular weight are preferable. Thereby, the workability and moldability at the time of forming the sealing material 6 can be further improved. Further, from the viewpoint of heat resistance of the sealing material 6, a phenol novolac type epoxy resin, a cresol novolac type epoxy resin, and a tris (hydroxyphenyl) methane type epoxy resin are preferable, and a tris (hydroxyphenyl) methane type epoxy resin is particularly preferable.

トリス(ヒドロキシフェニル)メタン型エポキシ樹脂を用いる場合、その数平均分子量は、特に限定されないが、500〜2000であることが好ましく、700〜1400であることがさらに好ましい。   When using a tris (hydroxyphenyl) methane type epoxy resin, the number average molecular weight is not particularly limited, but is preferably 500 to 2000, and more preferably 700 to 1400.

また、エポキシ樹脂を用いる場合、封止材用樹脂組成物中には、硬化剤が含まれることが好ましい。硬化剤としては、特に限定されないが、例えば、脂肪族ポリアミン、芳香族ポリアミン、ジシアミンジアミドのようなアミン化合物、脂環族酸無水物、芳香族酸無水物などの酸無水物、ノボラック型フェノール樹脂のようなポリフェノール化合物や、イミダゾール化合物等が挙げられる。中でも、ノボラック型フェノール樹脂が好ましい。これにより、封止材用樹脂組成物の取り扱い、作業性が向上するとともに、封止材用樹脂組成物を環境面に優れたものとすることができる。   Moreover, when using an epoxy resin, it is preferable that a hardening | curing agent is contained in the resin composition for sealing materials. The curing agent is not particularly limited, and examples thereof include amine compounds such as aliphatic polyamines, aromatic polyamines and diciamine diamide, alicyclic acid anhydrides, acid anhydrides such as aromatic acid anhydrides, and novolak phenols. Examples thereof include polyphenol compounds such as resins, imidazole compounds, and the like. Among these, novolac type phenol resins are preferable. Thereby, while handling and the workability | operativity of the resin composition for sealing materials improve, it can make the resin composition for sealing materials excellent in the environmental aspect.

特に、エポキシ樹脂としてフェノールノボラック型エポキシ樹脂、クレゾールノボラック型エポキシ樹脂、トリス(ヒドロキシフェニル)メタン型エポキシ樹脂を用いる場合には、硬化剤として、ノボラック型フェノール樹脂を用いることが好ましい。これにより、封止材用樹脂組成物から得られる硬化物の耐熱性を向上させることができる。なお、硬化剤の添加量は特に限定されないが、エポキシ樹脂に対する理論当量比1.0からの許容幅を±10重量%以内にして配合することが好ましい。   In particular, when a phenol novolac type epoxy resin, a cresol novolac type epoxy resin, or a tris (hydroxyphenyl) methane type epoxy resin is used as the epoxy resin, it is preferable to use a novolac type phenol resin as the curing agent. Thereby, the heat resistance of the hardened | cured material obtained from the resin composition for sealing materials can be improved. In addition, the addition amount of the curing agent is not particularly limited, but it is preferable that the curing width is within ± 10% by weight from the theoretical equivalent ratio of 1.0 to the epoxy resin.

また、封止材用樹脂組成物は、上記硬化剤とともに必要に応じて硬化促進剤を含有するものであってもよい。硬化促進剤としては、特に限定されないが、例えば、イミダゾール化合物、三級アミン化合物、有機リン化合物等が挙げられる。硬化促進剤の含有量は、特に限定されないが、エポキシ樹脂100重量部に対して0.1〜10重量部であることが好ましく、3〜8重量部であることがより好ましい。   Moreover, the resin composition for sealing materials may contain a hardening accelerator with the said hardening | curing agent as needed. Although it does not specifically limit as a hardening accelerator, For example, an imidazole compound, a tertiary amine compound, an organic phosphorus compound, etc. are mentioned. Although content of a hardening accelerator is not specifically limited, It is preferable that it is 0.1-10 weight part with respect to 100 weight part of epoxy resins, and it is more preferable that it is 3-8 weight part.

また、封止材用樹脂組成物は、充填材として機能する繊維強化材を含むことが好ましい。これにより、封止材6自体の機械的強度と剛性を優れたものとすることができる。   Moreover, it is preferable that the resin composition for sealing materials contains the fiber reinforcement which functions as a filler. Thereby, the mechanical strength and rigidity of the sealing material 6 itself can be made excellent.

繊維強化材としては、特に限定されないが、例えば、ガラス繊維、カーボン繊維、アラミド繊維(芳香族ポリアミド)、ポリ−p−フェニレンベンゾビスオキサゾール(PBO)繊維、ポリビニルアルコール(PVA)繊維、ポリエチレン(PE)繊維、ポリイミド繊維のようなプラスチック繊維、バサルト繊維のような無機繊維およびステンレス繊維のような金属繊維等が挙げられ、これらのうちの1種または2種以上を組み合わせて用いることができる。   The fiber reinforcing material is not particularly limited. For example, glass fiber, carbon fiber, aramid fiber (aromatic polyamide), poly-p-phenylenebenzobisoxazole (PBO) fiber, polyvinyl alcohol (PVA) fiber, polyethylene (PE ) Fibers, plastic fibers such as polyimide fibers, inorganic fibers such as basalt fibers, and metal fibers such as stainless steel fibers. One or more of these can be used in combination.

さらに、これらの繊維強化材には、熱硬化性樹脂との接着性を向上させることを目的に、シランカップリング剤による表面処理が施されていてもよい。シランカップリング剤としては、特に限定されないが、例えば、アミノシランカップリング剤、エポキシシランカップリング剤、ビニルシランカップリング剤等が挙げられ、これらのうちの1種または2種以上を組み合わせて用いることができる。   Further, these fiber reinforcements may be subjected to a surface treatment with a silane coupling agent for the purpose of improving the adhesion with the thermosetting resin. Although it does not specifically limit as a silane coupling agent, For example, an aminosilane coupling agent, an epoxy silane coupling agent, a vinyl silane coupling agent etc. are mentioned, It is used combining these 1 type (s) or 2 or more types. it can.

これらの繊維強化材のうち、カーボン繊維またはアラミド繊維を用いることが好ましい。これにより、封止材6の機械強度をさらに向上させることができる。特に、カーボン繊維を用いることにより、高負荷における耐摩耗性をさらに向上させることができる。なお、封止材6のさらなる軽量化を図るという観点からは、アラミド繊維等のプラスチック繊維であることが好ましい。さらに、封止材6の機械強度を向上させる観点からは、繊維強化材として、ガラス繊維やカーボン繊維等の繊維基材を用いることが好ましい。   Of these fiber reinforcements, it is preferable to use carbon fibers or aramid fibers. Thereby, the mechanical strength of the sealing material 6 can be further improved. In particular, the use of carbon fibers can further improve the wear resistance at high loads. In addition, from the viewpoint of further reducing the weight of the sealing material 6, it is preferably a plastic fiber such as an aramid fiber. Furthermore, from the viewpoint of improving the mechanical strength of the sealing material 6, it is preferable to use a fiber base material such as glass fiber or carbon fiber as the fiber reinforcing material.

硬化物中における繊維強化材の含有量は、硬化物全量に対して、例えば、10体積%以上であり、好ましくは20体積%以上であり、さらに好ましくは25体積%以上である。また、硬化物全量に対する繊維強化材の含有量の上限値は、特に限定されないが、好ましくは80体積%以下とされる。これにより、封止材6の機械強さを確実に向上させることができる。   The content of the fiber reinforcement in the cured product is, for example, 10% by volume or more, preferably 20% by volume or more, and more preferably 25% by volume or more with respect to the total amount of the cured product. Moreover, the upper limit of content of the fiber reinforcement with respect to hardened | cured material whole quantity is although it does not specifically limit, Preferably it is 80 volume% or less. Thereby, the mechanical strength of the sealing material 6 can be improved reliably.

さらに、封止材用樹脂組成物は、充填材として、繊維強化材以外のものを含んでいてもよく、かかる充填材としては、無機充填材および有機充填材のいずれであってもよい。   Furthermore, the resin composition for a sealing material may contain a material other than the fiber reinforcing material as the filler, and the filler may be either an inorganic filler or an organic filler.

無機充填材としては、例えば、酸化チタン、酸化ジルコニウム、シリカ、炭酸カルシウム、炭化ホウ素、クレー、マイカ、タルク、ワラストナイト、ガラスビーズ、ミルドカーボン、グラファイト等から選択される1種以上が用いられる。なお、無機充填材としては、酸化チタン、酸化ジルコニウム、シリカのような金属酸化物が含まれていることが好ましい。これにより、金属酸化物が備える酸化皮膜が不動態化膜としての機能を発揮し、硬化物全体としての耐酸性を向上させることができる。   As the inorganic filler, for example, one or more selected from titanium oxide, zirconium oxide, silica, calcium carbonate, boron carbide, clay, mica, talc, wollastonite, glass beads, milled carbon, graphite and the like are used. . The inorganic filler preferably contains a metal oxide such as titanium oxide, zirconium oxide, or silica. Thereby, the oxide film with which a metal oxide is provided exhibits the function as a passivating film | membrane, and can improve the acid resistance as the whole hardened | cured material.

また、有機充填材としては、ポリビニールブチラール、アクリロニトリルブタジエンゴム(NBR)、パルプ、木粉等から選択される1種以上が用いられる。なお、アクリロニトリルブタジエンゴムとしては、部分架橋またはカルボキシ変性タイプの何れであっても良い。これらのうち、硬化物の靭性を向上させる効果がさらに高まるという観点からは、アクリロニトリルブタジエンゴムが好ましい。   As the organic filler, one or more selected from polyvinyl butyral, acrylonitrile butadiene rubber (NBR), pulp, wood powder, and the like are used. The acrylonitrile butadiene rubber may be either partially crosslinked or carboxy modified type. Of these, acrylonitrile butadiene rubber is preferred from the viewpoint of further enhancing the effect of improving the toughness of the cured product.

なお、封止材用樹脂組成物には、以上に説明した成分の他にも、離型剤、硬化助剤、顔料等の添加剤が添加されていてもよい。   In addition to the components described above, additives such as a mold release agent, a curing aid, and a pigment may be added to the resin composition for a sealing material.

また、上述したような構成の誘導装置1において、コイル3は、銅線31と樹脂層32とからなる線状体を、コア部2に巻回することで設けられたものであるが、図3に示すように、図中左右(中心軸11方向)に隣接する線状体同士の間には間隙35が形成される。   Moreover, in the induction device 1 having the above-described configuration, the coil 3 is provided by winding a linear body composed of the copper wire 31 and the resin layer 32 around the core portion 2. As shown in FIG. 3, a gap 35 is formed between the linear bodies adjacent in the left and right (in the direction of the central axis 11) in the figure.

このような間隙35において、コイル3の端面33が接合層5に接合する領域に対応する位置では、間隙35に接合層5が埋入(充填)されている。これにより、接合層5とコイル3との接触面積が大きくなることから、接合層5と誘導装置1との密着性、誘導装置1から接合層5への熱伝達性を向上させることができる。また、この場合、端面33が接合層5に対向する位置では、接合層5の厚さは、その平均厚さと比較して薄くなるが、10μm以上、50μm以下であることが好ましく、20μm以上、30μm以下であることがより好ましい。これにより、コイル3と金属板4との間における絶縁性を確実に確保することができる。   In such a gap 35, the bonding layer 5 is embedded (filled) in the gap 35 at a position corresponding to a region where the end face 33 of the coil 3 is bonded to the bonding layer 5. Thereby, since the contact area of the joining layer 5 and the coil 3 becomes large, the adhesiveness between the joining layer 5 and the induction device 1 and the heat transfer property from the induction device 1 to the joining layer 5 can be improved. In this case, at the position where the end face 33 faces the bonding layer 5, the thickness of the bonding layer 5 is thinner than the average thickness, but is preferably 10 μm or more and 50 μm or less, preferably 20 μm or more, More preferably, it is 30 μm or less. Thereby, the insulation between the coil 3 and the metal plate 4 can be ensured reliably.

また、端面33が接合層5に接合する領域に対応する位置を除く領域、すなわち、間隙35の接合層5が埋入していない領域では、間隙35には封止材6が充填されている。これにより、封止材6とコイル3との接触面積が大きくなることから、誘導装置1の封止材6による封止を、より優れた密着性をもって行うことができる。また、コイル3における励磁により生じる振動を低減させることができるため、コイル3の励磁時における騒音を軽減させることができるとともに、基板組立体10の耐久性を向上させることができる。   Further, in the region excluding the position corresponding to the region where the end surface 33 is bonded to the bonding layer 5, that is, in the region where the bonding layer 5 of the gap 35 is not embedded, the gap 35 is filled with the sealing material 6. . Thereby, since the contact area of the sealing material 6 and the coil 3 becomes large, sealing by the sealing material 6 of the guidance apparatus 1 can be performed with more excellent adhesiveness. In addition, since vibration generated by excitation in the coil 3 can be reduced, noise during excitation of the coil 3 can be reduced, and durability of the substrate assembly 10 can be improved.

さらに、接合層5と封止材6とが互いに接触して界面14が形成されるまで、間隙35に空隙が形成されることなく封止材6が充填されている。そして、この接合層5と封止材6との界面14では、接合層5に含まれるフィラーが、封止材6側に分散していることが好ましい。これにより、界面14において、接合層5と封止材6とが混在した状態が形成されていると言え、接合層5と封止材6との密着性の向上が図られる。そのため、基板組立体10の耐久性を優れたものとすることができる。   Further, until the bonding layer 5 and the sealing material 6 come into contact with each other to form the interface 14, the sealing material 6 is filled without forming a gap in the gap 35. In addition, at the interface 14 between the bonding layer 5 and the sealing material 6, it is preferable that the filler contained in the bonding layer 5 is dispersed on the sealing material 6 side. Accordingly, it can be said that a state in which the bonding layer 5 and the sealing material 6 are mixed is formed at the interface 14, and the adhesion between the bonding layer 5 and the sealing material 6 is improved. Therefore, the durability of the substrate assembly 10 can be made excellent.

かかる構成の基板組立体10が、本実施形態では、放熱性を備える台座として機能する底部71と、底部71の縁部で立設する枠体72とを備えるハウジング7内に配置されている(図1参照)。誘導装置構造体100では、誘導装置1が接合層5および封止材6で取り囲まれることで封止された構成をなしているため、単に、ハウジング7内に配置するだけで誘導装置1の封止性が確保される。すなわち、ハウジング7に対するウレタン樹脂等を含有する液状材料のポッティングを経ることなく、誘導装置1の封止性を確保することができる。さらに、ハウジング7に接する各金属板4が優れた放熱性を有しているため、誘導装置1で発生した熱Qをハウジング7に伝達することができる。   In this embodiment, the substrate assembly 10 having such a configuration is disposed in a housing 7 including a bottom 71 functioning as a pedestal having heat dissipation and a frame 72 standing at an edge of the bottom 71 ( (See FIG. 1). In the guidance device structure 100, since the guidance device 1 is sealed by being surrounded by the bonding layer 5 and the sealing material 6, the guidance device 1 is simply sealed in the housing 7. Stop is secured. That is, the sealing performance of the guidance device 1 can be ensured without potting a liquid material containing urethane resin or the like with respect to the housing 7. Furthermore, since each metal plate 4 in contact with the housing 7 has excellent heat dissipation, the heat Q generated by the induction device 1 can be transmitted to the housing 7.

また、底部71と枠体72とは、ともに、優れた放熱性を発揮し得るように、絶縁性のアルミニウムやその合金等で構成される。   Moreover, both the bottom part 71 and the frame 72 are comprised with insulating aluminum, its alloy, etc. so that the outstanding heat dissipation may be exhibited.

<第2実施形態>
図4は、本発明の基板組立体の第2実施形態を示す横断面図である。
Second Embodiment
FIG. 4 is a cross-sectional view showing a second embodiment of the substrate assembly of the present invention.

以下、この図を参照して本発明の基板組立体の第2実施形態について説明するが、前述した実施形態との相違点を中心に説明し、同様の事項はその説明を省略する。   Hereinafter, a second embodiment of the substrate assembly of the present invention will be described with reference to this figure, but the description will focus on differences from the above-described embodiment, and the description of the same matters will be omitted.

本実施形態は、第2の放熱基板の大きさが異なること以外は前記第1実施形態と同様である。   The present embodiment is the same as the first embodiment except that the size of the second heat dissipation substrate is different.

図4に示すように、本実施形態では、第1の放熱基板20Aと第2の放熱基板20Bとが互いに大きさが異なっており、第2の放熱基板20Bが第1の放熱基板20Aよりも小さい。第2の放熱基板20Bの大きさ(面積)は、例えば、第1の放熱基板20Aの大きさ(面積)の20%以上、80%以下であるのが好ましく、30%以上、50%以下であるのがより好ましい。また、第2の放熱基板20Bは、第1の放熱基板20A側に偏在している。   As shown in FIG. 4, in this embodiment, the first heat dissipation board 20A and the second heat dissipation board 20B have different sizes, and the second heat dissipation board 20B is more than the first heat dissipation board 20A. small. The size (area) of the second heat dissipation board 20B is preferably 20% or more and 80% or less, for example, 30% or more and 50% or less of the size (area) of the first heat dissipation board 20A. More preferably. Further, the second heat dissipation board 20B is unevenly distributed on the first heat dissipation board 20A side.

このような構成は、下面12側からの放熱を優先的に行ないたい場合、すなわち、右側面13側からの放熱の程度を抑えたい場合に有効な構成となっている。   Such a configuration is effective when it is desired to preferentially dissipate heat from the lower surface 12 side, that is, when it is desired to suppress the degree of heat radiation from the right side surface 13 side.

なお、本実施形態では、第2の放熱基板20Bが第1の放熱基板20Aよりも小さくなっているが、これに限定されず、大小関係が逆転してもよい。   In the present embodiment, the second heat dissipation board 20B is smaller than the first heat dissipation board 20A, but the present invention is not limited to this, and the magnitude relationship may be reversed.

以上、本発明の基板組立体を図示の実施形態について説明したが、本発明は、これに限定されるものではなく、基板組立体を構成する各部は、同様の機能を発揮し得る任意の構成のものと置換することができる。また、任意の構成物が付加されていてもよい。   As mentioned above, although the board | substrate assembly of this invention was demonstrated about embodiment of illustration, this invention is not limited to this, Each part which comprises a board | substrate assembly is arbitrary structures which can exhibit the same function. Can be substituted. Moreover, arbitrary components may be added.

また、本発明の基板組立体は、前記各実施形態のうちの、任意の2以上の構成(特徴)を組み合わせたものであってもよい。   In addition, the substrate assembly of the present invention may be a combination of any two or more configurations (features) of the above embodiments.

また、基板組立体が備える放熱基板の設置数は、前記各実施形態では2枚であるが、これに限定されず、例えば、3枚以上であってもよい。   In addition, the number of heat dissipating boards provided in the board assembly is two in each embodiment, but is not limited thereto, and may be three or more, for example.

また、中心軸方向から見た誘導装置の輪郭形状は、前記各実施形態では四角形であるが、これに限定されず、例えば、三角形、五角形、六角形等の多角形であってもよい。   In addition, the outline shape of the guidance device viewed from the central axis direction is a quadrangle in each of the embodiments described above, but is not limited thereto, and may be a polygon such as a triangle, a pentagon, and a hexagon.

また、コイルの端面は、前記各実施形態では平坦面で構成されているが、これに限定されず、例えば丸みを帯びていてもよい。   Moreover, although the end surface of the coil is configured as a flat surface in each of the embodiments described above, the present invention is not limited thereto, and may be rounded, for example.

また、本発明での発熱体は、前述の通り、前記各実施形態のものに限定されるもの、すなわち、誘導装置に限定されるものではない。   Further, as described above, the heating element in the present invention is not limited to the ones in the above embodiments, that is, not limited to the induction device.

1 誘導装置
11 中心軸
12 下面
13 右側面
14 界面
2 コア部
21 角部
3 コイル
31 銅線
32 樹脂層
33 端面
35 間隙
36 一端部
37 他端部
4 金属板
5 接合層(接合材)
6 封止材
7 ハウジング
71 底部
72 枠体
10 基板組立体
20A 第1の放熱基板(下面側放熱基板)
20B 第2の放熱基板(側面側放熱基板)
40 誘導装置封止物
50 粘着層
60 封止材
70 ハウジング
100 誘導装置構造体
Q 熱
DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 Guide apparatus 11 Center axis | shaft 12 Lower surface 13 Right side 14 Interface 2 Core part 21 Corner | angular part 3 Coil 31 Copper wire 32 Resin layer 33 End surface 35 Gap 36 One end part 37 Other end part 4 Metal plate 5 Bonding layer (bonding material)
6 Sealant 7 Housing 71 Bottom 72 Frame 10 Substrate Assembly 20A First Heat Dissipation Board (Lower Side Heat Dissipation Board)
20B Second heat dissipation board (side surface heat dissipation board)
40 Guiding device sealing material 50 Adhesive layer 60 Sealing material 70 Housing 100 Guiding device structure Q Heat

Claims (13)

熱を発する発熱体と、
主として樹脂材料およびフィラーを含有する樹脂組成物の硬化物または固化物で構成され、前記発熱体と接合される接合層を有し、前記発熱体が発した熱を放熱する複数の放熱基板とを備え、
前記複数の放熱基板は、前記発熱体の中心軸を想定したとき、該中心軸回りに配置されていることを特徴とする基板組立体。
A heating element that emits heat;
A plurality of heat dissipating substrates that are composed of a cured or solidified resin composition mainly containing a resin material and a filler, have a bonding layer bonded to the heating element, and dissipate heat generated by the heating element. Prepared,
The substrate assembly, wherein the plurality of heat dissipating boards are arranged around a central axis when the central axis of the heating element is assumed.
前記放熱基板を2つ備え、
前記発熱体は、前記中心軸方向から見て輪郭形状が多角形をなす誘導装置であり、
前記各放熱基板は、前記多角形の隣接する2つの辺にそれぞれ対向して配置されている請求項1に記載の基板組立体。
Two heat dissipation substrates are provided,
The heating element is a guide device having a polygonal outline when viewed from the central axis direction,
The substrate assembly according to claim 1, wherein each of the heat dissipating substrates is disposed to face two adjacent sides of the polygon.
前記誘導装置は、コア部と、導電性を有する線状体を前記コア部に巻回してなるコイルとを有し、前記線状体の両端部は、それぞれ同じ方向に向かって突出しており、
前記各放熱基板は、それぞれ、前記コイルに対して、前記線状体の両端部の突出方向には配置されていない請求項2に記載の基板組立体。
The induction device includes a core portion and a coil formed by winding a conductive linear body around the core portion, and both end portions of the linear body protrude in the same direction,
The board assembly according to claim 2, wherein each of the heat dissipation boards is not arranged in a protruding direction of both ends of the linear body with respect to the coil.
前記中心軸方向に隣接する前記線状体同士の間には、間隙が形成されており、
前記間隙において、前記コイルの端面が前記接合層に接合する領域に対応する位置では、前記間隙に接合層が埋入している請求項3に記載の基板組立体。
A gap is formed between the linear bodies adjacent in the central axis direction,
4. The substrate assembly according to claim 3, wherein a bonding layer is embedded in the gap at a position corresponding to a region where the end face of the coil is bonded to the bonding layer in the gap. 5.
前記中心軸回りに隣接する前記放熱基板同士は、互いに大きさが異なる請求項1ないし4のいずれか1項に記載の基板組立体。   The board assembly according to any one of claims 1 to 4, wherein the heat dissipation boards adjacent to each other around the central axis have different sizes. 前記樹脂材料は、熱硬化性樹脂である請求項1ないし5のいずれか1項に記載の基板組立体。   The substrate assembly according to claim 1, wherein the resin material is a thermosetting resin. 前記熱硬化性樹脂は、エポキシ樹脂である請求項6に記載の基板組立体。   The board assembly according to claim 6, wherein the thermosetting resin is an epoxy resin. 前記フィラーは、主として酸化アルミニウムで構成された粒状体である請求項1ないし7のいずれか1項に記載の基板組立体。   The substrate assembly according to any one of claims 1 to 7, wherein the filler is a granular body mainly composed of aluminum oxide. 前記放熱基板は、前記接合層の前記発熱体と反対側に配置された金属板を有する請求項1ないし8のいずれか1項に記載の基板組立体。   The board assembly according to any one of claims 1 to 8, wherein the heat dissipation board includes a metal plate disposed on a side of the bonding layer opposite to the heating element. 前記発熱体を前記接合層ごと覆うことで、前記発熱体を封止する封止材を備える求項1ないし9のいずれか1項に記載の基板組立体。   The substrate assembly according to any one of claims 1 to 9, further comprising: a sealing material that seals the heating element by covering the heating element together with the bonding layer. 前記封止材は、熱硬化性樹脂を含有する封止材用樹脂組成物の硬化物で構成される請求項10に記載の基板組立体。   The said sealing material is a board | substrate assembly of Claim 10 comprised with the hardened | cured material of the resin composition for sealing materials containing a thermosetting resin. 前記封止材用樹脂組成物での前記熱硬化性樹脂は、フェノール樹脂である請求項11に記載の基板組立体。   The board assembly according to claim 11, wherein the thermosetting resin in the encapsulating resin composition is a phenol resin. 前記接合層と前記封止材との界面において、前記フィラーは、前記封止材側に分散している請求項10ないし12のいずれか1項に記載の基板組立体。   The substrate assembly according to any one of claims 10 to 12, wherein the filler is dispersed on the sealing material side at an interface between the bonding layer and the sealing material.
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* Cited by examiner, † Cited by third party
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JP2017228741A (en) * 2016-06-24 2017-12-28 株式会社トーキン Coil component

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