JP2016012635A - Template manufacturing method and template - Google Patents

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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a temperature manufacturing method in which highly accurate alignment is made possible while preventing foreign matter from being attached or defects from being generated in a transfer pattern region of a template.SOLUTION: In an alignment mark region 30, an uneven substrate 1a is prepared in which an alignment mark constituted from a recess 31 and a protrusion 32 is formed, ink containing a material to form a high-refraction material film is locally arranged in the alignment mark region by an ink jet system, the high-refraction material film is formed by volatilizing a catalyst of the ink, and the high-refraction material film 41 formed in the recess in the alignment mark region is made to remain, thereby removing other high-refraction material films.

Description

本発明は、主にナノインプリントリソグラフィに用いられるテンプレートの製造方法に関するものである。   The present invention relates to a template manufacturing method mainly used for nanoimprint lithography.

近年、半導体リソグラフィにおいては、デバイスの微細化の要求に対して、露光波長の問題や製造コストの問題などからフォトリソグラフィ方式の限界が指摘されており、その対案として、ナノインプリント技術を用いたナノインプリントリソグラフィ(NIL:Nanoimprint Lithography)が注目を集めている。   In recent years, in semiconductor lithography, the limit of the photolithography method has been pointed out due to the problem of exposure wavelength and manufacturing cost in response to the demand for miniaturization of devices. As a countermeasure, nanoimprint lithography using nanoimprint technology has been pointed out. (NIL: Nanoimprint Lithography) is drawing attention.

ナノインプリントリソグラフィは、表面に微細な凹凸形状の転写パターンを形成したテンプレート(モールド、スタンパ、金型とも呼ばれる)を、半導体ウェハなどの被転写基板の上に形成された被転写樹脂に接触させ、この被転写樹脂の表面側の形状を、テンプレートの転写パターンの凹凸形状に成型した後に離型し、次いで、ドライエッチング等により余分な部分(残膜部分)を除去することで、被転写基板の上の被転写樹脂にテンプレートの転写パターンの凹凸形状(より詳しくは、凹凸反転形状)を転写させる技術である。   In nanoimprint lithography, a template (also referred to as a mold, stamper, or mold) on which a fine uneven transfer pattern is formed is brought into contact with a transfer resin formed on a transfer substrate such as a semiconductor wafer. The shape of the surface side of the resin to be transferred is molded into a concavo-convex shape of the template transfer pattern, then released, and then the excess part (residual film part) is removed by dry etching, etc. This is a technique for transferring the concave / convex shape of the template transfer pattern (more specifically, the concave / convex inverted shape) to the transfer resin.

このナノインプリントリソグラフィは、一度テンプレート(適宜、ナノインプリント用テンプレートとも呼ぶ)を作製すれば、微細な凹凸形状の転写パターンを繰り返し転写成型でき、この転写工程には高額な露光装置(ステッパー)を用いないため、経済的にも有利である。   In this nanoimprint lithography, once a template (also referred to as a template for nanoimprinting as appropriate) is prepared, a transfer pattern with fine irregularities can be repeatedly transferred and molded, and an expensive exposure device (stepper) is not used for this transfer process. It is also economically advantageous.

上述のようなナノインプリントリソグラフィにより、テンプレートの転写パターンを被転写基板に位置精度良く転写するには、テンプレートと被転写基板との位置合わせを精密に行う必要がある。一般的には、テンプレートに設けられている凹凸構造のアライメントマークと、被転写基板に設けられているアライメントマークとを、テンプレート側から光学的に検出することにより位置合わせを行う。   In order to transfer a template transfer pattern to a substrate to be transferred with high positional accuracy by nanoimprint lithography as described above, it is necessary to precisely align the template and the substrate to be transferred. In general, alignment is performed by optically detecting, from the template side, an alignment mark having a concavo-convex structure provided on a template and an alignment mark provided on a transferred substrate.

ここで、インプリントに際してテンプレートを被転写樹脂に接触させると、テンプレートのアライメントマークの凹部が、被転写樹脂によって充填された状態になる。
そして、このような状態になると、テンプレートのアライメントマークを構成する材料(一般的には、合成石英ガラス)の屈折率と、被転写樹脂の屈折率とがほとんど同じ値であることから、テンプレートのアライメントマークを光学的に識別することが困難になってしまうという問題がある。
Here, when the template is brought into contact with the transferred resin during imprinting, the recesses of the alignment marks of the template are filled with the transferred resin.
In such a state, since the refractive index of the material (generally synthetic quartz glass) constituting the alignment mark of the template and the refractive index of the transferred resin are almost the same value, There is a problem that it becomes difficult to optically identify the alignment mark.

この問題に対して、テンプレートのアライメントマークの凹部に高屈折率材料膜を形成することによって、被転写樹脂によって充填された状態でも、アライメントマークを光学的に識別する方法が提案されている(例えば、特許文献1〜3)。   In order to solve this problem, a method has been proposed in which the alignment mark is optically identified even when the template is filled with the transfer resin by forming a high refractive index material film in the recess of the alignment mark of the template (for example, And Patent Documents 1 to 3).

例えば、上記の特許文献1に記載のテンプレートの製造方法においては、図10に例示するように、まず、主面102に、転写パターン領域120とアライメントマーク領域130を有する凹凸基板101を準備し(図10(a))、スパッタ法等の手法を用いて、アライメントマーク領域130のみならず、転写パターン領域120も覆うように視認性薄膜140(高屈折材料膜に相当)を形成する(図10(b))。
さらに、その上からレジスト膜170(保護層に相当)を形成し、段差基板を押し付けて、アライメントマーク領域130の膜厚が転写パターン領域120の膜厚よりも厚くなるようにレジスト膜170を変形させる(図10(c))。
その後、レジスト膜170の所定の厚み分をドライエッチングして、アライメントマーク領域130の凹部内のみにレジスト膜170が残る状態にする(図10(d))。
次に、露出する視認性薄膜140を所定量ドライエッチングし、最後に、アライメントマーク領域130の凹部内のレジスト膜170を除去して、アライメントマーク領域130の凹部に視認性薄膜140を有するテンプレート110を得る(図10(e))。
For example, in the template manufacturing method described in Patent Document 1 above, as illustrated in FIG. 10, first, an uneven substrate 101 having a transfer pattern region 120 and an alignment mark region 130 is prepared on the main surface 102 ( 10A), a visibility thin film 140 (corresponding to a highly refractive material film) is formed so as to cover not only the alignment mark region 130 but also the transfer pattern region 120 by using a method such as sputtering (FIG. 10). (B)).
Further, a resist film 170 (corresponding to a protective layer) is formed thereon, and the step substrate is pressed to deform the resist film 170 so that the film thickness of the alignment mark region 130 is larger than the film thickness of the transfer pattern region 120. (FIG. 10C).
Thereafter, a predetermined thickness of the resist film 170 is dry-etched so that the resist film 170 remains only in the recesses of the alignment mark region 130 (FIG. 10D).
Next, the exposed visibility thin film 140 is dry-etched by a predetermined amount. Finally, the resist film 170 in the recess in the alignment mark region 130 is removed, and the template 110 having the visibility thin film 140 in the recess in the alignment mark region 130 is removed. (FIG. 10E) is obtained.

上記の特許文献2、3に記載のテンプレートの製造方法においても、上記の特許文献1に記載のテンプレートの製造方法と同様に、アライメントマーク領域と転写パターン領域を、高屈折材料膜と保護層の両方、又は高屈折材料膜若しくは保護層のいずれか一方で覆い、これらに対して各種加工を施して、アライメントマーク領域の凹部に高屈折率材料膜を形成する。   In the template manufacturing methods described in Patent Documents 2 and 3 above, as in the template manufacturing method described in Patent Document 1 above, the alignment mark region and the transfer pattern region are formed of a high refractive material film and a protective layer. Both are covered with either the high-refractive material film or the protective layer, and various processes are performed on these to form a high-refractive-index material film in the concave portion of the alignment mark region.

特開2013−168604号公報JP 2013-168604 A 特開2007−103915号公報JP 2007-103915 A 特表2013−519236号公報Special table 2013-519236 gazette

しかしながら、上記の特許文献1〜3に記載のテンプレートの製造方法では、アライメントマーク領域のみならず転写パターン領域も、高屈折材料膜と保護層の両方、又は高屈折材料膜若しくは保護層のいずれか一方で覆い、これらに対して各種加工を施すため、転写パターン領域に異物を付着させてしまうというおそれや、転写パターン領域に欠陥を生じさせてしまうというおそれがある。   However, in the template manufacturing methods described in Patent Documents 1 to 3, not only the alignment mark region but also the transfer pattern region is either a high-refractive material film and a protective layer, or a high-refractive material film or a protective layer. On the other hand, since these are covered and various types of processing are performed, there is a risk that foreign matter may adhere to the transfer pattern region or a defect may occur in the transfer pattern region.

そして、転写パターン領域に、異物付着や欠陥を生じたテンプレートを用いて、上記のナノインプリントリソグラフィを行うと、転写された被転写樹脂のパターンにも欠陥を生じさせてしまうことになる。   If the above-described nanoimprint lithography is performed using a template in which foreign matter is attached or has a defect in the transfer pattern region, the transferred pattern of the transferred resin also has a defect.

本発明は、上記実情に鑑みてなされたものであり、テンプレートの転写パターン領域に異物の付着や欠陥を生じさせてしまうことを防止しつつ、高精度な位置合わせを可能とするテンプレートの製造方法を提供することを主たる目的とする。   The present invention has been made in view of the above-described circumstances, and a template manufacturing method that enables highly accurate alignment while preventing foreign matter from adhering to and defects in the transfer pattern region of the template. The main purpose is to provide

すなわち、本発明の請求項1に係る発明は、主面に、転写パターン領域とアライメントマーク領域を有し、前記アライメントマーク領域に凹部と凸部から構成されるアライメントマークが形成されている凹凸基板を準備する工程と、高屈折材料膜を形成する材料を含有するインクをインクジェット方式によって前記アライメントマーク領域に局所的に配設する工程と、前記インクの溶媒を揮発させて前記高屈折材料膜を形成する工程と、前記アライメントマークを構成する凹部の底面の上に形成された前記高屈折材料膜を残しつつ、前記主面から突出する前記高屈折材料膜を除去する工程と、を順に備えることを特徴とするテンプレートの製造方法である。   That is, the invention according to claim 1 of the present invention is a concavo-convex substrate having a transfer pattern region and an alignment mark region on the main surface, and an alignment mark composed of a concave portion and a convex portion is formed in the alignment mark region. A step of locally disposing ink containing a material for forming a high refractive material film in the alignment mark region by an ink jet method; and volatilizing a solvent of the ink to form the high refractive material film. A step of forming, and a step of removing the high-refractive-material film protruding from the main surface while leaving the high-refractive-material film formed on the bottom surface of the recess that constitutes the alignment mark. A template manufacturing method characterized by the above.

また、本発明の請求項2に係る発明は、前記インクが、界面活性剤を含有することを特徴とする請求項1に記載のテンプレートの製造方法である。   The invention according to claim 2 of the present invention is the template manufacturing method according to claim 1, wherein the ink contains a surfactant.

また、本発明の請求項3に係る発明は、前記アライメントマーク領域に局所的に配設される前記インクの配設量が、前記アライメントマークを構成する凹部の全てを合わせた容積を満たす量以下であることを特徴とする請求項1または請求項2に記載のテンプレートの製造方法である。   In the invention according to claim 3 of the present invention, the amount of the ink locally disposed in the alignment mark region is less than the amount satisfying the total volume of all the concave portions constituting the alignment mark. The template manufacturing method according to claim 1 or 2, wherein:

また、本発明の請求項4に係る発明は、前記凹凸基板が、前記アライメントマーク領域の外縁に内接する溝構造を有しており、前記アライメントマーク領域に局所的に配設される前記インクの配設量が、前記アライメントマークを構成する凹部の全てを合わせた容積に前記溝構造の容積を加えた容積を満たす量以下であることを特徴とする請求項1または請求項2に記載のテンプレートの製造方法である。   In the invention according to claim 4 of the present invention, the concavo-convex substrate has a groove structure inscribed in an outer edge of the alignment mark region, and the ink that is locally disposed in the alignment mark region. 3. The template according to claim 1, wherein an arrangement amount is equal to or less than an amount satisfying a volume obtained by adding a volume of the groove structure to a volume obtained by adding all of the concave portions constituting the alignment mark. It is a manufacturing method.

また、本発明の請求項5に係る発明は、前記アライメントマーク領域に局所的に配設される前記インクの配設量が、前記アライメントマークを構成する凹部の全てを合わせた容積を満たす量以上であることを特徴とする請求項4に記載のテンプレートの製造方法である。   Further, in the invention according to claim 5 of the present invention, the amount of the ink locally disposed in the alignment mark region is equal to or larger than the amount satisfying the combined volume of all the concave portions constituting the alignment mark. The template manufacturing method according to claim 4, wherein:

また、本発明の請求項6に係る発明は、前記アライメントマークを構成する凹部の底面の上に形成された前記高屈折材料膜を残しつつ、前記主面から突出する前記高屈折材料膜を除去する工程が、前記高屈折材料膜を形成した前記アライメントマークの凹部に局所的にエッチング保護膜を形成する工程と、前記エッチング保護膜から露出する前記高屈折材料膜をエッチングにより除去する工程と、前記エッチング保護膜を除去する工程と、を順に備えることを特徴とする請求項1乃至請求項5のいずれか一項に記載のテンプレートの製造方法である。   Further, the invention according to claim 6 of the present invention removes the high refractive material film protruding from the main surface while leaving the high refractive material film formed on the bottom surface of the concave portion constituting the alignment mark. A step of locally forming an etching protective film in a recess of the alignment mark on which the high refractive material film is formed, and a step of removing the high refractive material film exposed from the etching protective film by etching, The template manufacturing method according to claim 1, further comprising a step of removing the etching protective film in order.

また、本発明の請求項7に係る発明は、前記エッチング保護膜が硬化性樹脂から構成されており、前記高屈折材料膜を形成した前記アライメントマークの凹部に局所的にエッチング保護膜を形成する工程が、前記アライメントマーク領域に局所的に前記硬化性樹脂を配設する工程と、前記アライメントマーク領域に対向配置され、前記アライメントマーク領域に対向する領域に平面を有する部材により、前記硬化性樹脂を押し付ける工程と、前記硬化性樹脂を硬化させる工程と、前記硬化性樹脂と前記部材を離間する工程と、前記主面から突出する前記高屈折材料膜の上に位置する前記硬化性樹脂を除去する工程と、を順に備えることを特徴とする請求項6に記載のテンプレートの製造方法である。   In the invention according to claim 7 of the present invention, the etching protective film is made of a curable resin, and the etching protective film is locally formed in the concave portion of the alignment mark on which the high refractive material film is formed. A step of locally disposing the curable resin in the alignment mark region; and a member having a flat surface in a region opposed to the alignment mark region and facing the alignment mark region. The step of pressing the curable resin, the step of curing the curable resin, the step of separating the curable resin and the member, and removing the curable resin located on the highly refractive material film protruding from the main surface The template manufacturing method according to claim 6, further comprising: a step of:

また、本発明の請求項8に係る発明は、溝構造で囲まれた領域に、凹部と凸部から構成されるアライメントマークを有し、前記アライメントマークを構成する凹部の底面の上に、高屈折材料膜が形成されていることを特徴とするテンプレートである。   The invention according to claim 8 of the present invention has an alignment mark composed of a concave portion and a convex portion in a region surrounded by the groove structure, and has a high height on the bottom surface of the concave portion constituting the alignment mark. The template is characterized in that a refractive material film is formed.

また、本発明の請求項9に係る発明は、前記溝構造の底面の上に、高屈折材料膜が形成されていることを特徴とする請求項8に記載のテンプレートである。   The invention according to claim 9 of the present invention is the template according to claim 8, wherein a highly refractive material film is formed on the bottom surface of the groove structure.

本発明によれば、テンプレートの転写パターン領域に異物の付着や欠陥を生じさせてしまうことを防止しつつ、高精度な位置合わせを可能とするテンプレートを製造することができる。   ADVANTAGE OF THE INVENTION According to this invention, the template which enables highly accurate position alignment can be manufactured, preventing producing a foreign material adhesion and a defect in the transcription | transfer pattern area | region of a template.

本発明に係るテンプレートの製造方法の第1の実施形態の一例を説明する図である。It is a figure explaining an example of 1st Embodiment of the manufacturing method of the template which concerns on this invention. 本発明に係るテンプレートの製造方法の第1の実施形態において準備する凹凸基板の一例を説明する図である。It is a figure explaining an example of the uneven substrate prepared in a 1st embodiment of a manufacturing method of a template concerning the present invention. 本発明に係るテンプレートの製造方法の第1の実施形態において製造されるテンプレートの一例を説明する図である。It is a figure explaining an example of the template manufactured in 1st Embodiment of the manufacturing method of the template concerning the present invention. 本発明に係るテンプレートの製造方法の第2の実施形態の一例を説明する図である。It is a figure explaining an example of 2nd Embodiment of the manufacturing method of the template which concerns on this invention. 本発明に係るテンプレートの製造方法の第2の実施形態において準備する凹凸基板の一例を説明する図である。It is a figure explaining an example of the uneven substrate prepared in a 2nd embodiment of a manufacturing method of a template concerning the present invention. 本発明に係るテンプレートの製造方法の第2の実施形態において製造されるテンプレートの一例を説明する図である。It is a figure explaining an example of the template manufactured in 2nd Embodiment of the manufacturing method of the template which concerns on this invention. 本発明に係るテンプレートの製造方法の第2の実施形態において製造されるテンプレートの他の例を説明する図である。It is a figure explaining the other example of the template manufactured in 2nd Embodiment of the manufacturing method of the template which concerns on this invention. 本発明に係るテンプレートの製造方法の第3の実施形態の一例を説明する図である。It is a figure explaining an example of 3rd Embodiment of the manufacturing method of the template which concerns on this invention. 図8に続く、本発明に係るテンプレートの製造方法の第3の実施形態の一例を説明する図である。It is a figure explaining an example of 3rd Embodiment of the manufacturing method of the template which concerns on this invention following FIG. 従来のテンプレートの製造方法の一例を説明する図である。It is a figure explaining an example of the manufacturing method of the conventional template.

以下、本発明に係るテンプレートの製造方法およびテンプレートの各実施形態について詳しく説明する。   Hereinafter, a template manufacturing method and a template embodiment according to the present invention will be described in detail.

<テンプレートの製造方法>
まず、本発明に係るテンプレートの製造方法について説明する。
<Template manufacturing method>
First, a template manufacturing method according to the present invention will be described.

(第1の実施形態)
図1は、本発明に係るテンプレートの製造方法の第1の実施形態の一例を説明する図である。なお、図1は、本実施形態の各工程における転写パターン領域20とアライメントマーク領域30の関係を説明するために、転写パターン領域20とアライメントマーク領域30の断面を模式的に拡大したものである。
(First embodiment)
FIG. 1 is a diagram for explaining an example of a first embodiment of a template manufacturing method according to the present invention. FIG. 1 is a schematic enlarged view of the cross section of the transfer pattern region 20 and the alignment mark region 30 in order to explain the relationship between the transfer pattern region 20 and the alignment mark region 30 in each step of the present embodiment. .

本実施形態においては、まず図1(a)に示すように、主面2に、転写パターン領域20とアライメントマーク領域30を有し、アライメントマーク領域30に凹部31と凸部32から構成されるアライメントマークが形成されている凹凸基板1aを準備する。   In the present embodiment, first, as shown in FIG. 1A, the main surface 2 has a transfer pattern region 20 and an alignment mark region 30, and the alignment mark region 30 includes a concave portion 31 and a convex portion 32. An uneven substrate 1a on which alignment marks are formed is prepared.

凹凸基板1aは、上記の図10に例示した凹凸基板101と同様に、アライメントマークの凹部31に高屈折率材料膜を有していない従来のテンプレートに相当するものである。
凹凸基板1aを構成する材料は、ナノインプリントリソグラフィに用いられるテンプレートとして適用できるものであれば特に限定されないが、一般的には合成石英ガラスが好適に用いられる。
The concavo-convex substrate 1a corresponds to a conventional template that does not have a high refractive index material film in the concave portion 31 of the alignment mark, similarly to the concavo-convex substrate 101 illustrated in FIG.
Although the material which comprises the uneven | corrugated board | substrate 1a will not be specifically limited if it can apply as a template used for nanoimprint lithography, Generally synthetic quartz glass is used suitably.

転写パターン領域20に形成される転写パターンは、例えば、本実施形態の製造方法によって得られるテンプレート10が半導体用途のテンプレートならば回路パターンなどである。アライメントマーク領域30に形成されるアライメントマークは、凹部31と凸部32で構成されるものである。
なお、図1(a)においては、煩雑となるのを避けるため、アライメントマーク領域30に形成されるアライメントマークが2個の凹部31と1個の凸部32で構成されている形態を模式的に示しているが、実際には、アライメントマーク領域30に形成されるアライメントマークは、より多くの凹部31と凸部32の繰り返しパターンで構成されている。
The transfer pattern formed in the transfer pattern region 20 is, for example, a circuit pattern if the template 10 obtained by the manufacturing method of this embodiment is a template for semiconductor use. The alignment mark formed in the alignment mark region 30 is composed of a concave portion 31 and a convex portion 32.
In FIG. 1A, in order to avoid complication, the form in which the alignment mark formed in the alignment mark region 30 is configured by two concave portions 31 and one convex portion 32 is schematically illustrated. However, in practice, the alignment mark formed in the alignment mark region 30 is composed of a repeating pattern of more concave portions 31 and convex portions 32.

図2は、本実施形態において準備する凹凸基板の一例を説明する図である。ここで、図2(a)は、凹凸基板1aの概略平面図を示し、図2(b)は、凹凸基板1aのアライメントマーク領域30の概略平面拡大図を示す。   FIG. 2 is a diagram for explaining an example of a concavo-convex substrate prepared in the present embodiment. Here, FIG. 2A shows a schematic plan view of the uneven substrate 1a, and FIG. 2B shows an enlarged schematic plan view of the alignment mark region 30 of the uneven substrate 1a.

図2に示す例において、凹凸基板1aは、転写パターン領域20とアライメントマーク領域30を有しており、アライメントマーク領域30には、凹部31と凸部32から構成されるアライメントマークが形成されている。
なお、図2に示す例においては、理解を容易とするために、転写パターン領域20、及び、アライメントマーク領域30の各領域を破線で囲んで示しているが、実際の凹凸基板1aにおいては、このような破線は存在しない。
In the example shown in FIG. 2, the concavo-convex substrate 1 a has a transfer pattern region 20 and an alignment mark region 30, and an alignment mark made up of a concave portion 31 and a convex portion 32 is formed in the alignment mark region 30. Yes.
In the example shown in FIG. 2, for easy understanding, the transfer pattern region 20 and the alignment mark region 30 are surrounded by broken lines. However, in the actual uneven substrate 1a, There is no such broken line.

また、図2(a)に示す例においては、転写パターン領域20の外側の上下左右方向にアライメントマーク領域30が合計4箇所設けられている形態が例示されているが、本実施形態はこれに限定されず、アライメントマーク領域30の配置箇所やその数は適宜変更されてよい。
また、図2(b)に示す例においては、アライメントマーク領域30に形成されているアライメントマークは、一の種類の凹部31と凸部32の繰り返しパターンで構成されている形態が例示されているが、本実施形態はこれに限定されず、例えば、アライメントマーク領域30に形成されているアライメントマークは、複数種の凹部31と凸部32から構成される物であっても良い。
なお、図2(b)に示す例においては、アライメントマーク領域30に形成されているアライメントマークは、ラインアンドスペースパターンの形態を有しているが、本実施形態はこれに限定されず、例えば、アライメントマークは、ホールやドットのアレイパターンの形態を有していても良い。
言い換えれば、図2(b)に示す例においては、凹部31及び凸部32は平面視においてライン状の形態を有しているが、本実施形態はこれに限定されず、例えば、凹部31はホール形状であっても良く、また、凸部32はドット形状であっても良い。
In addition, in the example shown in FIG. 2A, a mode in which a total of four alignment mark regions 30 are provided in the vertical and horizontal directions outside the transfer pattern region 20 is illustrated. It is not limited and the arrangement | positioning location and number of the alignment mark area | region 30 may be changed suitably.
In the example shown in FIG. 2B, the alignment mark formed in the alignment mark region 30 is exemplified by a configuration in which a single type of concave portion 31 and convex portion 32 are repeated. However, the present embodiment is not limited to this. For example, the alignment mark formed in the alignment mark region 30 may be composed of a plurality of types of concave portions 31 and convex portions 32.
In the example shown in FIG. 2B, the alignment mark formed in the alignment mark region 30 has a form of a line and space pattern, but the present embodiment is not limited to this. For example, The alignment mark may have an array pattern of holes or dots.
In other words, in the example shown in FIG. 2B, the concave portion 31 and the convex portion 32 have a line shape in plan view, but the present embodiment is not limited to this. A hole shape may be sufficient, and the convex part 32 may be a dot shape.

アライメントマーク領域30の大きさは、アライメント精度を確保できる大きさであれば特に制限されるものではないが、例えば、10μm×50μm〜100μm×500μmの範囲とすることができる。
アライメントマーク領域30に形成されるアライメントマークの凹部31の深さは、通常、転写パターン領域20に形成される転写パターンの深さと同程度になる。これは、通常、転写パターンとアライメントマークが同一工程のドライエッチングにより形成されるからである。凹部31の深さは、例えば、20nm〜100nmの範囲とすることができる。
また、上記のアライメントマークは例えば、30nm〜5μm幅の凹部31と凸部32の繰り返しパターンとすることができる。
The size of the alignment mark region 30 is not particularly limited as long as the alignment accuracy can be ensured. For example, the alignment mark region 30 can be in a range of 10 μm × 50 μm to 100 μm × 500 μm.
The depth of the concave portion 31 of the alignment mark formed in the alignment mark region 30 is usually approximately the same as the depth of the transfer pattern formed in the transfer pattern region 20. This is because the transfer pattern and the alignment mark are usually formed by dry etching in the same process. The depth of the recessed part 31 can be made into the range of 20 nm-100 nm, for example.
In addition, the alignment mark can be, for example, a repeated pattern of concave portions 31 and convex portions 32 having a width of 30 nm to 5 μm.

次に、図1(b)に示すように、高屈折材料膜41を構成する材料を含有するインク40をアライメントマーク領域30に局所的に配設する。
上記のインク40をアライメントマーク領域30に局所的に配設する方法としては、ナノインプリントの技術分野で用いられているインクジェット方式によるものを好適に用いることができる。上記のインクジェット方式は、ナノインプリント分野で実績があり、インク40を所望の配設量で所望の位置に配設できるからである。
Next, as shown in FIG. 1B, the ink 40 containing the material constituting the high refractive material film 41 is locally disposed in the alignment mark region 30.
As a method for locally disposing the ink 40 in the alignment mark region 30, an ink jet method used in the technical field of nanoimprinting can be suitably used. This is because the ink jet method has a track record in the nanoimprint field, and the ink 40 can be disposed at a desired position in a desired amount.

上記のように、本実施形態においては、高屈折材料膜41を構成する材料を含有するインク40を、インクジェット方式によってアライメントマーク領域30に局所的に配設する。それゆえ、転写パターン領域20には、高屈折材料膜41を構成する材料を含有するインク40が配設されることはなく、転写パターン領域20に異物の付着や欠陥を生じさせてしまうことを防止することができる。   As described above, in the present embodiment, the ink 40 containing the material constituting the highly refractive material film 41 is locally disposed in the alignment mark region 30 by the ink jet method. Therefore, the transfer pattern region 20 is not provided with the ink 40 containing the material constituting the high refractive material film 41, and the transfer pattern region 20 may cause adhesion of foreign matters and defects. Can be prevented.

本実施形態において、インク40に含まれる、高屈折材料膜41を構成する材料としては、凹凸基板1aを構成する材料(一般的には合成石英ガラス)よりも屈折率が高い材料であれば良く、例えば、クロム(Cr)、金(Au)、銀(Ag)、コバルト(Co)、銅(Cu)、鉄(Fe)、ニッケル(Ni)、パラジウム(Pd)、白金(Pt)及びスズ(Sn)から選択される一つ以上の金属、それらの酸化物、窒化物、酸窒化物、または合金などが挙げられる。
中でも、クロム(Cr)を含む材料を好適に用いることができる。クロム(Cr)は、フォトマスクのマスクパターンとしても用いられる材料であり、微細加工の分野において実績があるからである。
In the present embodiment, the material constituting the highly refractive material film 41 contained in the ink 40 may be any material having a higher refractive index than the material constituting the concavo-convex substrate 1a (generally synthetic quartz glass). For example, chromium (Cr), gold (Au), silver (Ag), cobalt (Co), copper (Cu), iron (Fe), nickel (Ni), palladium (Pd), platinum (Pt) and tin ( One or more metals selected from Sn), their oxides, nitrides, oxynitrides, alloys or the like.
Among these, a material containing chromium (Cr) can be preferably used. This is because chromium (Cr) is a material used also as a mask pattern of a photomask and has a track record in the field of microfabrication.

また、インク40に含まれる溶媒としては、トルエン、ヘキサン、ヘプタン、テトラデカン、クロロホルム、メチルクロライド、ブチルカルビトールアセテート(Butyl carbitol acetate)、エチルカルビトールアセテート(Ethyl carbitol acetate)、α−テルピネオール(α−Terpineol)、エタノール、アセトン、メタノールなどが挙げられる。
本実施形態においては、例えば、溶媒にトルエンを用い、クロム(Cr)を含む材料を10wt%〜60wt%の範囲で含有するインクを、上記のインク40として用いることができる。
The solvent contained in the ink 40 includes toluene, hexane, heptane, tetradecane, chloroform, methyl chloride, butyl carbitol acetate, ethyl carbitol acetate, α-terpineol (α-terpineol). Terpineol), ethanol, acetone, methanol and the like.
In the present embodiment, for example, an ink containing toluene as a solvent and containing a material containing chromium (Cr) in a range of 10 wt% to 60 wt% can be used as the ink 40.

また、本実施形態においては、インク40は界面活性剤を含有することが好ましい。
インク40の濡れ性を高めて、より効率良くアライメントマークを構成する各凹部31にインク40を流入させるためである。
含有する界面活性剤としては、例えば、フッ素系界面活性剤を使用する事が出来る。その含有量としては、例えば、0.1wt%〜10wt%の範囲とすることができる。
In the present embodiment, the ink 40 preferably contains a surfactant.
This is to improve the wettability of the ink 40 and allow the ink 40 to flow into the respective recesses 31 constituting the alignment mark more efficiently.
As the surfactant to be contained, for example, a fluorine-based surfactant can be used. The content can be, for example, in the range of 0.1 wt% to 10 wt%.

また、本実施形態においては、インク40の配設量は、アライメントマーク領域30に形成されたアライメントマークを構成する凹部31の全てを合わせた容積を満たす量以下であることが好ましい。アライメントマーク領域30よりも外側の領域に、インク40が濡れ広がっていくことを防止するためである。   In the present embodiment, the amount of ink 40 disposed is preferably equal to or less than the amount that satisfies the combined volume of all the recesses 31 that constitute the alignment mark formed in the alignment mark region 30. This is to prevent the ink 40 from spreading out into a region outside the alignment mark region 30.

ここで、インク40は流動性を有するため、配設されたインク40はアライメントマーク領域30を濡れ広がり、その配設量の大部分は凹部31に溜まることになる。それゆえ、インク40の配設量が、アライメントマーク領域30に形成されたアライメントマークを構成する凹部31の全てを合わせた容積を満たす量以下であっても、アライメントマークを構成する各凹部31の底面をインク40で覆うことは十分可能である。   Here, since the ink 40 has fluidity, the disposed ink 40 spreads over the alignment mark region 30, and most of the disposed amount is accumulated in the recess 31. Therefore, even if the arrangement amount of the ink 40 is equal to or less than the amount that satisfies the combined volume of all the concave portions 31 that form the alignment marks formed in the alignment mark region 30, the respective concave portions 31 that constitute the alignment marks It is sufficiently possible to cover the bottom surface with the ink 40.

なお、上記の「アライメントマーク領域30に形成されたアライメントマークを構成する凹部31の全てを合わせた容積」とは、例えば、図1(a)に示すように、アライメントマークが同じ形態の2個の凹部31から構成されており、その幅をW1、その深さをD1、その奥行の長さをL1(図示せず)とした場合に、V1=W1×D1×L1×2で表される容積V1のことを言う。 The above-mentioned “volume of all the recesses 31 constituting the alignment mark formed in the alignment mark region 30” refers to, for example, two alignment marks having the same form as shown in FIG. , When the width is W 1 , the depth is D 1 , and the depth is L 1 (not shown), V 1 = W 1 × D 1 × L This refers to the volume V 1 represented by 1 × 2.

次に、図1(c)に示すように、インク40の溶媒を揮発させる。これにより、アライメントマーク領域30の主面2の上、及び、凹部31の底面の上に高屈折材料膜41が形成される。   Next, as shown in FIG. 1C, the solvent of the ink 40 is volatilized. Thereby, the high refractive material film 41 is formed on the main surface 2 of the alignment mark region 30 and on the bottom surface of the recess 31.

この溶媒を揮発させる工程は、ベーク(焼成)工程を含んでいても良い。ベークすることで、インク40に含まれる高屈折材料膜41を構成する材料の粒子密度を向上させることができる。
ベーク(焼成)温度は、インク40に含まれる高屈折材料膜41を構成する材料等に依存するが、例えば、100℃〜300℃の範囲とすることができる。
The step of volatilizing the solvent may include a baking (firing) step. By baking, the particle density of the material constituting the highly refractive material film 41 contained in the ink 40 can be improved.
The baking (baking) temperature depends on the material constituting the highly refractive material film 41 included in the ink 40, but can be set in the range of 100 ° C to 300 ° C, for example.

ここで、本実施形態においては、上記のように、インク40の配設量の大部分は凹部31に溜まることになる。すなわち、インク40に含まれる高屈折材料膜41を構成する材料は、アライメントマーク領域30の主面2の上よりも、凹部31の底面の上に、多く存在することになる。
それゆえ、凹部31の底面の上に形成される高屈折材料膜41(図1(c)に示す41b)の膜厚T2は、アライメントマーク領域30の主面2の上に形成される高屈折材料膜41(図1(c)に示す41a)の膜厚T1よりも厚くなる。
Here, in the present embodiment, as described above, most of the arrangement amount of the ink 40 is accumulated in the recess 31. In other words, the material constituting the highly refractive material film 41 contained in the ink 40 is present more on the bottom surface of the recess 31 than on the main surface 2 of the alignment mark region 30.
Therefore, the film thickness T 2 of the high refractive material film 41 (41b shown in FIG. 1C) formed on the bottom surface of the concave portion 31 is high on the main surface 2 of the alignment mark region 30. It becomes thicker than the film thickness T 1 of the refractive material film 41 (41a shown in FIG. 1C).

次に、図1(d)に示すように、エッチング用ガス61を用いたドライエッチングにより、アライメントマークの凹部31の底面の上に形成された高屈折材料膜41(図1(d)に示す41b)を残しつつ、主面2から突出する高屈折材料膜41(図1(d)に示す41a)を除去する。   Next, as shown in FIG. 1D, a high refractive material film 41 (shown in FIG. 1D) formed on the bottom surface of the recess 31 of the alignment mark by dry etching using an etching gas 61. The high-refractive material film 41 (41a shown in FIG. 1D) protruding from the main surface 2 is removed while leaving 41b).

上記のように、凹部31の底面の上に形成される高屈折材料膜41(図1(c)に示す41b)の膜厚T2は、アライメントマーク領域30の主面2の上に形成される高屈折材料膜41(図1(c)に示す41a)の膜厚T1よりも厚い。
それゆえ、本実施形態においては、この膜厚差を利用して、アライメントマークの凹部31に形成された高屈折材料膜41(図1(d)に示す41b)を残しつつ、主面2から突出する高屈折材料膜41(図1(d)に示す41a)を除去することができる。
ここで、インク40に含まれる高屈折材料膜41を構成する材料としてクロムを含む材料を用いた場合には、エッチング用ガス61には塩素と酸素の混合ガスを用いることができる。
As described above, the film thickness T 2 of the high refractive material film 41 (41b shown in FIG. 1C) formed on the bottom surface of the recess 31 is formed on the main surface 2 of the alignment mark region 30. The film thickness T 1 of the high refractive material film 41 (41a shown in FIG. 1C) is thicker.
Therefore, in the present embodiment, the difference in film thickness is used to leave the high refractive material film 41 (41b shown in FIG. 1 (d)) formed in the concave portion 31 of the alignment mark from the main surface 2. The protruding high refractive material film 41 (41a shown in FIG. 1D) can be removed.
Here, when a material containing chromium is used as the material constituting the highly refractive material film 41 included in the ink 40, a mixed gas of chlorine and oxygen can be used as the etching gas 61.

そして最終的に、図1(e)に示すように、主面2に、転写パターン領域20とアライメントマーク領域30を有し、アライメントマーク領域30に形成されているアライメントマークの凹部31の底面の上には、高屈折材料膜41が形成されているテンプレート10を得る。   Finally, as shown in FIG. 1E, the main surface 2 has a transfer pattern region 20 and an alignment mark region 30, and the bottom surface of the recess 31 of the alignment mark formed in the alignment mark region 30. On the top, the template 10 on which the high refractive material film 41 is formed is obtained.

なお、テンプレート10において、凹部31の底面の上に形成されている高屈折材料膜41(図1(e)に示す41b)の膜厚T3は、上記のエッチング用ガス61を用いたドライエッチングにより、図1(c)に示す高屈折材料膜41bの膜厚T2よりも薄くなる。 In the template 10, the film thickness T 3 of the high refractive material film 41 (41 b shown in FIG. 1E) formed on the bottom surface of the recess 31 is dry etching using the etching gas 61. As a result, it becomes thinner than the film thickness T 2 of the high refractive material film 41b shown in FIG.

図3は、本実施形態において製造されるテンプレートの一例を説明する図である(図1(e)に相当)。ここで、図3(a)は、テンプレート10の概略平面図を示し、図3(b)は、テンプレート10のアライメントマーク領域30の概略平面拡大図を示す。   FIG. 3 is a diagram for explaining an example of a template manufactured in the present embodiment (corresponding to FIG. 1 (e)). Here, FIG. 3A shows a schematic plan view of the template 10, and FIG. 3B shows a schematic plan enlarged view of the alignment mark region 30 of the template 10.

図3に示すように、テンプレート10は、転写パターン領域20とアライメントマーク領域30を有し、アライメントマーク領域30に形成されているアライメントマークの凹部31の底面の上には、高屈折材料膜41が形成されている。   As shown in FIG. 3, the template 10 has a transfer pattern region 20 and an alignment mark region 30, and a high refractive material film 41 is formed on the bottom surface of the recess 31 of the alignment mark formed in the alignment mark region 30. Is formed.

なお、図3においては、理解を容易とするために、転写パターン領域20、及び、アライメントマーク領域30の各領域を破線で囲んで示しているが、本実施形態の製造方法によって製造される実際のテンプレートにおいては、このような破線は存在しない。   In FIG. 3, for easy understanding, the transfer pattern region 20 and the alignment mark region 30 are shown by being surrounded by broken lines, but are actually manufactured by the manufacturing method of the present embodiment. Such a broken line does not exist in the template.

上記のように、本実施形態によれば、高屈折材料膜41を構成する材料を含有するインク40をアライメントマーク領域30に局所的に配設することにより、高屈折材料膜41をアライメントマーク領域30に局所的に形成でき、転写パターン領域20にはインク40の付着や高屈折材料膜41の形成が生じない。それゆえ、転写パターン領域20に異物の付着や欠陥を生じさせてしまうことを防止することができる。   As described above, according to the present embodiment, the ink 40 containing the material constituting the high-refractive material film 41 is locally disposed in the alignment mark region 30, so that the high-refractive material film 41 is aligned with the alignment mark region. 30, the ink 40 does not adhere to the transfer pattern region 20 and the high refractive material film 41 does not form. Therefore, it is possible to prevent foreign matter from adhering to the transfer pattern region 20 and causing defects.

そして、本実施形態によれば、アライメントマークの凹部31の底面の上に高屈折材料膜41が形成されているテンプレート10を製造することができ、このテンプレート10を用いることで、インプリントに際して凹部31が被転写樹脂によって充填された状態となっても、良好にアライメントマークを光学的に識別することができ、高精度な位置合わせが可能となる。   According to this embodiment, it is possible to manufacture the template 10 in which the highly refractive material film 41 is formed on the bottom surface of the recess 31 of the alignment mark. Even when 31 is filled with the resin to be transferred, the alignment mark can be optically identified satisfactorily, and highly accurate alignment is possible.

(第2の実施形態)
次に、本発明に係るテンプレートの製造方法の第2の実施形態について説明する。
(Second Embodiment)
Next, a second embodiment of the template manufacturing method according to the present invention will be described.

図4は、本発明に係るテンプレートの製造方法の第2の実施形態の一例を説明する図である。ここで、図4においては、本実施形態の要部である溝構造33を含むアライメントマーク領域30の断面を模式的に拡大し、この模式的断面図を用いて各工程を説明する。
なお、上記の図1に示す凹凸基板1aと同様に、図4に示す凹凸基板1bにおいても、アライメントマーク領域30に形成されるアライメントマークが2個の凹部31と1個の凸部32で構成されている形態を模式的に示しているが、実際には、アライメントマーク領域30に形成されるアライメントマークは、より多くの凹部31と凸部32の繰り返しパターンで構成されている。
FIG. 4 is a diagram for explaining an example of the second embodiment of the template manufacturing method according to the present invention. Here, in FIG. 4, the cross section of the alignment mark region 30 including the groove structure 33 which is the main part of the present embodiment is schematically enlarged, and each process will be described using this schematic cross sectional view.
Similar to the concavo-convex substrate 1a shown in FIG. 1 above, also in the concavo-convex substrate 1b shown in FIG. 4, the alignment mark formed in the alignment mark region 30 is composed of two concave portions 31 and one convex portion 32. However, in practice, the alignment mark formed in the alignment mark region 30 is configured by a repeating pattern of more concave portions 31 and convex portions 32.

また、図5は、本発明に係るテンプレートの製造方法の第2の実施形態において準備する凹凸基板の一例を説明する図である。ここで、図5(a)は、凹凸基板1bの概略平面図を示し、図5(b)は、凹凸基板1bのアライメントマーク領域30の概略平面拡大図を示す。   Moreover, FIG. 5 is a figure explaining an example of the uneven | corrugated board | substrate prepared in 2nd Embodiment of the manufacturing method of the template based on this invention. Here, FIG. 5A shows a schematic plan view of the concavo-convex substrate 1b, and FIG. 5B shows a schematic enlarged plan view of the alignment mark region 30 of the concavo-convex substrate 1b.

図5に示すように、本実施形態において準備する凹凸基板1bは、アライメントマーク領域30の外縁に内接する溝構造33を有している。換言すれば、凹凸基板1bにおいては、アライメントマーク領域30に形成されるアライメントマークの全てが、溝構造33によって囲まれる領域に存在している。   As shown in FIG. 5, the concavo-convex substrate 1 b prepared in the present embodiment has a groove structure 33 inscribed in the outer edge of the alignment mark region 30. In other words, in the concavo-convex substrate 1 b, all of the alignment marks formed in the alignment mark region 30 are present in the region surrounded by the groove structure 33.

それゆえ、本実施形態においては、アライメントマーク領域30に局所的に配設するインク40が、転写パターン領域20に濡れ広がって行くことを、より確実に防止でき、アライメントマーク領域30に形成される全てのアライメントマークの凹部31の底面の上に高屈折材料膜41を形成することを、より確実にできる。   Therefore, in the present embodiment, it is possible to more reliably prevent the ink 40 locally disposed in the alignment mark region 30 from spreading into the transfer pattern region 20 and is formed in the alignment mark region 30. It is possible to more reliably form the high refractive material film 41 on the bottom surfaces of the recesses 31 of all the alignment marks.

なお、図5に示す例においては、溝構造33は、その外縁33a及び内縁33bが矩形状の平面形態を有しているが、本実施形態に係る溝構造33は、この形態に限定されず、アライメントマーク領域30に局所的に配設するインク40が、アライメントマーク領域30の外側の領域に濡れ広がって行くことを防止できるものであればよい。
例えば、溝構造33は、その外縁33a及び内縁33bが曲線から構成される平面形態を有していてもよく、また、多角形状や十字型の平面形態を有していてもよい。
In the example shown in FIG. 5, the groove structure 33 has a planar form in which the outer edge 33 a and the inner edge 33 b are rectangular. However, the groove structure 33 according to the present embodiment is not limited to this form. Any ink 40 that is locally disposed in the alignment mark region 30 may be used as long as it can prevent the region 40 outside the alignment mark region 30 from spreading wet.
For example, the groove structure 33 may have a planar form in which the outer edge 33a and the inner edge 33b are formed of curves, or may have a polygonal or cross-shaped planar form.

以下、本実施形態に係るテンプレートの製造方法について、詳しく説明する。なお、上記の第1の実施形態と重複する事項については、煩雑となることを避けるため、適宜省略する。   Hereinafter, the template manufacturing method according to the present embodiment will be described in detail. Note that items overlapping with those in the first embodiment are appropriately omitted in order to avoid complications.

図4(a)に示すように、本実施形態においても上記の第1の実施形態と同様に、まず凹凸基板1bを準備し、次に、図4(b)に示すように、高屈折材料膜41を構成する材料を含有するインク40をインクジェット方式によってアライメントマーク領域30に局所的に配設する。   As shown in FIG. 4A, also in the present embodiment, as in the first embodiment, first, an uneven substrate 1b is prepared, and then, as shown in FIG. An ink 40 containing a material constituting the film 41 is locally disposed in the alignment mark region 30 by an ink jet method.

ここで、インク40はアライメントマーク領域30全域に濡れ広がるが、凹凸基板1bには、アライメントマーク領域30の外縁に内接する溝構造33が設けられているため、この溝構造33に達したインク40は溝構造33に溜まることになり、インク40がアライメントマーク領域30の外側の領域に濡れ広がって行くことを防止できる。
それゆえ、本実施形態においては、転写パターン領域20に、インク40の付着やインク40に含まれる材料による高屈折材料膜41の形成が生じることを、より確実に防止でき、転写パターン領域20に異物の付着や欠陥を生じさせてしまうことを、より確実に防止することができる。
Here, the ink 40 wets and spreads over the entire alignment mark region 30, but since the groove substrate 33 is inscribed on the outer edge of the alignment mark region 30 on the concavo-convex substrate 1 b, the ink 40 that has reached the groove structure 33. Is accumulated in the groove structure 33, and it is possible to prevent the ink 40 from spreading to the area outside the alignment mark area 30.
Therefore, in the present embodiment, it is possible to more reliably prevent the ink 40 from being attached to the transfer pattern region 20 or the formation of the high refractive material film 41 from the material contained in the ink 40. It can prevent more reliably that a foreign material adheres and produces a defect.

本実施形態において、インク40の配設量は、アライメントマーク領域30に形成されたアライメントマークを構成する凹部31の全てを合わせた容積に溝構造33の容積を加えた容積を満たす量以下であることが好ましい。
アライメントマーク領域30よりも外側の領域にインク40が濡れ広がっていくことを、より確実に防止できるからである。
In the present embodiment, the arrangement amount of the ink 40 is equal to or less than an amount satisfying the volume obtained by adding the volume of the groove structure 33 to the total volume of the concave portions 31 constituting the alignment mark formed in the alignment mark region 30. It is preferable.
This is because it is possible to more reliably prevent the ink 40 from spreading into the area outside the alignment mark area 30.

さらに、本実施形態においては、インク40の配設量は、アライメントマーク領域30に形成されているアライメントマークを構成する凹部31の全てを合わせた容積に溝構造33の容積を加えた容積を満たす量以下であって、アライメントマーク領域30に形成されているアライメントマークを構成する凹部31の全てを合わせた容積を満たす量以上であることが好ましい。
アライメントマーク領域30よりも外側の領域にインク40が濡れ広がっていくことを、より確実に防止しつつ、各凹部31により多くのインク40を溜めることができるからである。
Furthermore, in the present embodiment, the amount of ink 40 provided satisfies the volume obtained by adding the volume of the groove structure 33 to the total volume of the recesses 31 constituting the alignment mark formed in the alignment mark region 30. It is preferable that the amount is equal to or less than the amount, and is equal to or more than the amount satisfying the combined volume of all the recesses 31 constituting the alignment mark formed in the alignment mark region 30.
This is because more ink 40 can be stored in each recess 31 while more reliably preventing the ink 40 from spreading out to the region outside the alignment mark region 30.

上記のように各凹部31により多くのインク40を溜めることができれば、各凹部31の底面の上に、より厚い高屈折材料膜41を形成することができることになる。
そして、本実施形態の製造方法により製造されたテンプレートを用いてインプリントを行えば、より良好にアライメントマークを光学的に識別することが可能になり、より容易に高精度な位置合わせを行うことが可能になる。
If a large amount of ink 40 can be stored in each recess 31 as described above, a thicker highly refractive material film 41 can be formed on the bottom surface of each recess 31.
Then, if imprinting is performed using the template manufactured by the manufacturing method of the present embodiment, it becomes possible to optically identify the alignment mark better, and to perform high-precision alignment more easily. Is possible.

ここで、溝構造33の深さは、アライメントマークを構成する凹部31の深さと同じ、若しくは同程度とすることが好ましい。溝構造33とアライメントマークを、同一工程のドライエッチングにより形成することができ、凹凸基板1bの製造コストをより安価なものにできるからである。   Here, it is preferable that the depth of the groove structure 33 is the same as or substantially the same as the depth of the recess 31 constituting the alignment mark. This is because the groove structure 33 and the alignment mark can be formed by dry etching in the same process, and the manufacturing cost of the concavo-convex substrate 1b can be reduced.

溝構造33の幅は、上記のインク40の配設量やアライメントマークを構成する凹部31の容積との関係や、転写パターン領域20とアライメントマーク領域30との位置関係等から適宜決められるものであるが、例えば、凹部31の幅の5倍〜100倍の範囲とすることができる。   The width of the groove structure 33 is appropriately determined based on the relationship between the amount of the ink 40 and the volume of the recess 31 constituting the alignment mark, the positional relationship between the transfer pattern region 20 and the alignment mark region 30, and the like. However, for example, the width can be in the range of 5 to 100 times the width of the recess 31.

次に、図4(c)に示すように、インク40の溶媒を揮発させる。これにより、アライメントマーク領域30の主面2の上、凹部31の底面の上、及び、溝構造33の底面の上に高屈折材料膜41が形成される。なお、この溶媒を揮発させる工程は、ベーク(焼成)工程を含んでいても良い。   Next, as shown in FIG. 4C, the solvent of the ink 40 is volatilized. Thereby, the high refractive material film 41 is formed on the main surface 2 of the alignment mark region 30, the bottom surface of the recess 31, and the bottom surface of the groove structure 33. Note that the step of volatilizing the solvent may include a baking (firing) step.

次に、図4(d)に示すように、エッチング用ガス61を用いたドライエッチングにより、アライメントマークの凹部31の底面の上に形成された高屈折材料膜41(図4(d)に示す41b)を残しつつ、主面2から突出する高屈折材料膜41(図4(d)に示す41a)を除去し、図4(e)に示すように、アライメントマークの凹部31の底面の上に、高屈折材料膜41(図4(e)に示す41b)が形成されているテンプレート11aを得る。   Next, as shown in FIG. 4D, a highly refractive material film 41 (shown in FIG. 4D) formed on the bottom surface of the recess 31 of the alignment mark by dry etching using an etching gas 61. 41b), the high refractive material film 41 protruding from the main surface 2 (41a shown in FIG. 4 (d)) is removed, and as shown in FIG. 4 (e), on the bottom surface of the recess 31 of the alignment mark. Then, the template 11a on which the high refractive material film 41 (41b shown in FIG. 4E) is formed is obtained.

ここで、図4(c)に示す溶剤を揮発させる工程において凹部31の底面の上に形成される高屈折材料膜41(図4(c)に示す41b)の膜厚は、同工程でアライメントマーク領域30の主面2の上に形成される高屈折材料膜41(図4(c)に示す41a)の膜厚よりも厚い。
それゆえ、この膜厚差を利用して、アライメントマークの凹部31に形成された高屈折材料膜41(図4(d)に示す41b)を残しつつ、主面2から突出する高屈折材料膜41(図4(d)に示す41a)を除去することができる。
Here, in the step of volatilizing the solvent shown in FIG. 4C, the film thickness of the high refractive material film 41 (41b shown in FIG. 4C) formed on the bottom surface of the recess 31 is aligned in the same step. It is thicker than the film thickness of the high refractive material film 41 (41a shown in FIG. 4C) formed on the main surface 2 of the mark region 30.
Therefore, by utilizing this film thickness difference, the high refractive material film protruding from the main surface 2 while leaving the high refractive material film 41 (41b shown in FIG. 4D) formed in the recess 31 of the alignment mark. 41 (41a shown in FIG. 4D) can be removed.

なお、テンプレート11aにおいて、凹部31の底面の上に形成される高屈折材料膜41(図4(e)に示す41b)の膜厚は、上記のエッチング用ガス61を用いたドライエッチングにより、図4(c)に示す高屈折材料膜41bの膜厚よりも薄くなる。   In the template 11a, the film thickness of the high refractive material film 41 (41b shown in FIG. 4E) formed on the bottom surface of the recess 31 is determined by dry etching using the etching gas 61 described above. It becomes thinner than the film thickness of the high refractive material film 41b shown in 4 (c).

上記のように、本実施形態においても、アライメントマークの凹部31の底面の上に高屈折材料膜41が形成されているテンプレートを製造することができ、このテンプレートを用いることで、インプリントに際して凹部31が被転写樹脂によって充填された状態となっても、良好にアライメントマークを光学的に識別することができ、高精度な位置合わせが可能となる。   As described above, also in the present embodiment, it is possible to manufacture a template in which the high refractive material film 41 is formed on the bottom surface of the recess 31 of the alignment mark. Even when 31 is filled with the resin to be transferred, the alignment mark can be optically identified satisfactorily, and highly accurate alignment is possible.

さらに、本実施形態によれば、溝構造33によってインク40がアライメントマーク領域30の外側の領域に濡れ広がって行くことを、より確実に防止できる。それゆえ、転写パターン領域20に異物の付着や欠陥を生じさせてしまうことを、より確実に防止することができる。   Furthermore, according to the present embodiment, the groove structure 33 can more reliably prevent the ink 40 from spreading into the area outside the alignment mark area 30. Therefore, it is possible to more reliably prevent foreign matter from adhering to the transfer pattern region 20 and causing defects.

ここで、本実施形態においては、図4(c)に示す溶剤を揮発させる工程を経て溝構造33の底面の上に形成される高屈折材料膜41(図4(c)に示す41c)の膜厚に応じて、異なる形態のテンプレートが得られることになる。   Here, in the present embodiment, the high refractive material film 41 (41c shown in FIG. 4C) formed on the bottom surface of the groove structure 33 through the process of volatilizing the solvent shown in FIG. Depending on the film thickness, different forms of templates are obtained.

例えば、図4(c)に示す溶剤を揮発させる工程を経て溝構造33の底面の上に形成される高屈折材料膜41(図4(c)に示す41c)の膜厚が、同工程で主面2の上に形成される高屈折材料膜41(図4(c)に示す41a)の膜厚よりも厚い場合には、図4(e)に示すように、溝構造33の底面の上にも、高屈折材料膜41(図4(e)に示す41c)が残ることになる。
なお、最終的に、溝構造33の底面の上に形成される高屈折材料膜41(図4(e)に示す41c)の膜厚は、上記のエッチング用ガス61を用いたドライエッチングにより、図4(c)に示す高屈折材料膜41cの膜厚よりも薄くなる。
For example, the film thickness of the high refractive material film 41 (41c shown in FIG. 4C) formed on the bottom surface of the groove structure 33 through the process of volatilizing the solvent shown in FIG. When the film thickness of the highly refractive material film 41 (41a shown in FIG. 4C) formed on the main surface 2 is thicker, as shown in FIG. The high refractive material film 41 (41c shown in FIG. 4E) also remains on the top.
Note that the film thickness of the high refractive material film 41 (41c shown in FIG. 4E) formed on the bottom surface of the groove structure 33 is finally set by dry etching using the etching gas 61 described above. It becomes thinner than the film thickness of the high refractive material film 41c shown in FIG.

図6は、本実施形態において製造されるテンプレートの一例を説明する図である。ここで、図6(a)は、テンプレート11aの概略平面図を示し、図6(b)は、テンプレート11aのアライメントマーク領域30の概略平面拡大図を示す。   FIG. 6 is a diagram illustrating an example of a template manufactured in the present embodiment. Here, FIG. 6A shows a schematic plan view of the template 11a, and FIG. 6B shows a schematic plan enlarged view of the alignment mark region 30 of the template 11a.

図6(a)に示すように、テンプレート11aは、転写パターン領域20とアライメントマーク領域30を有しており、さらに、図6(b)に示すように、アライメントマーク領域30の外縁に内接する溝構造33を有し、溝構造33で囲まれた領域に、凹部31と凸部32から構成されるアライメントマークを有しており、溝構造33の底面の上、及び、アライメントマークの凹部31の底面の上には、高屈折材料膜41が形成されている。   As shown in FIG. 6A, the template 11a has a transfer pattern region 20 and an alignment mark region 30, and is inscribed in the outer edge of the alignment mark region 30 as shown in FIG. 6B. It has a groove structure 33 and an alignment mark composed of a concave portion 31 and a convex portion 32 in a region surrounded by the groove structure 33, and on the bottom surface of the groove structure 33 and the concave portion 31 of the alignment mark. A high refractive material film 41 is formed on the bottom surface of.

一方、図4(c)に示す溶剤を揮発させる工程を経て溝構造33の底面の上に形成される高屈折材料膜41(図4(c)に示す41c)の膜厚が、同工程で主面2の上に形成される高屈折材料膜41(図4(c)に示す41a)の膜厚よりも薄い場合や同じ厚みの場合、溝構造33の底面の上には、高屈折材料膜41が残らないことになる。   On the other hand, the film thickness of the high refractive material film 41 (41c shown in FIG. 4C) formed on the bottom surface of the groove structure 33 through the process of volatilizing the solvent shown in FIG. In the case where the film thickness is less than or the same as that of the high refractive material film 41 (41a shown in FIG. 4C) formed on the main surface 2, the high refractive material is formed on the bottom surface of the groove structure 33. The film 41 does not remain.

図7は、本実施形態において製造されるテンプレートの他の例を説明する図である。ここで、図7(a)は、テンプレート11bの概略平面図を示し、図7(b)は、テンプレート11bのアライメントマーク領域30の概略平面拡大図を示す。   FIG. 7 is a diagram illustrating another example of the template manufactured in the present embodiment. Here, FIG. 7A shows a schematic plan view of the template 11b, and FIG. 7B shows a schematic plan enlarged view of the alignment mark region 30 of the template 11b.

図7(a)に示すように、テンプレート11bは、転写パターン領域20とアライメントマーク領域30を有しており、さらに、図7(b)に示すように、アライメントマーク領域30の外縁に内接する溝構造33を有し、溝構造33で囲まれた領域に、凹部31と凸部32から構成されるアライメントマークを有している。
そして、アライメントマークの凹部31の底面の上には、高屈折材料膜41が形成されているが、溝構造33の底面の上には、高屈折材料膜41は形成されていない。
As shown in FIG. 7A, the template 11b has a transfer pattern region 20 and an alignment mark region 30, and is inscribed in the outer edge of the alignment mark region 30 as shown in FIG. 7B. A groove structure 33 is provided, and an alignment mark including a concave portion 31 and a convex portion 32 is provided in a region surrounded by the groove structure 33.
A high refractive material film 41 is formed on the bottom surface of the recess 31 of the alignment mark, but the high refractive material film 41 is not formed on the bottom surface of the groove structure 33.

上記のように、本実施形態においては、図4(b)に示す配設工程および図4(c)に示す溶剤を揮発させる工程において溝構造33の底面の上に形成される高屈折材料膜41(図4(c)に示す41c)の膜厚に応じて、異なる形態のテンプレートが得られることになる。   As described above, in the present embodiment, the highly refractive material film formed on the bottom surface of the groove structure 33 in the disposing step shown in FIG. 4B and the solvent volatilizing step shown in FIG. Depending on the film thickness of 41 (41c shown in FIG. 4C), templates having different forms are obtained.

(第3の実施形態)
次に、本発明に係るテンプレートの製造方法の第3の実施形態について説明する。
本実施形態は、上記の第1の実施形態または第2の実施形態における、アライメントマークを構成する凹部31の底面の上に形成された高屈折材料膜41を残しつつ、主面2から突出する高屈折材料膜41を除去する工程が、高屈折材料膜41を形成したアライメントマークの凹部31に局所的にエッチング保護膜を形成する工程と、エッチング保護膜から露出する高屈折材料膜41をエッチングにより除去する工程と、エッチング保護膜を除去する工程と、を順に備えるものである。
(Third embodiment)
Next, a third embodiment of the template manufacturing method according to the present invention will be described.
This embodiment protrudes from the main surface 2 while leaving the high refractive material film 41 formed on the bottom surface of the recess 31 constituting the alignment mark in the first embodiment or the second embodiment. The step of removing the high refractive material film 41 includes a step of locally forming an etching protective film in the recess 31 of the alignment mark on which the high refractive material film 41 is formed, and an etching of the high refractive material film 41 exposed from the etching protective film. And a step of removing the etching protective film in order.

本実施形態によれば、最終的に得られるテンプレートにおいて、アライメントマークを構成する凹部31の底面の上に形成されている高屈折材料膜41の膜厚を、より厚いものとすることができる。
それゆえ、本実施形態の製造方法により製造されたテンプレートを用いてインプリントを行えば、より良好にアライメントマークを光学的に識別することが可能になり、より容易に高精度な位置合わせが可能となる。
以下、本実施形態について、詳細を説明する。
According to this embodiment, in the template finally obtained, the film thickness of the high refractive material film 41 formed on the bottom surface of the recess 31 constituting the alignment mark can be made thicker.
Therefore, if imprinting is performed using the template manufactured by the manufacturing method of the present embodiment, it is possible to optically identify the alignment mark better, and it is possible to perform alignment with higher accuracy more easily. It becomes.
Hereinafter, details of this embodiment will be described.

図8及び図9は、本発明に係るテンプレートの製造方法の第3の実施形態の一例を説明する図である。なお、この図8及び図9に示す例は、本実施形態に係るテンプレートの製造方法により、上記の第1の実施形態で準備した凹凸基板1aからテンプレート12を製造する方法の一例である。   8 and 9 are diagrams for explaining an example of the third embodiment of the template manufacturing method according to the present invention. The example shown in FIGS. 8 and 9 is an example of a method for manufacturing the template 12 from the concavo-convex substrate 1a prepared in the first embodiment by the template manufacturing method according to the present embodiment.

まず、図8(a)に示すように、上記の第1の実施形態と同様に、主面2に、転写パターン領域20とアライメントマーク領域30を有し、アライメントマーク領域30に凹部31と凸部32から構成されるアライメントマークが形成されている凹凸基板1aを準備する。
そして、上記の第1の実施形態と同様にして、すなわち、上述した図1(b)、(c)に示す工程を施して、図8(c)に示すように、アライメントマーク領域30の主面2の上、及び、凹部31の底面の上に高屈折材料膜41を形成する。
なお、図8(b)、(c)に示す工程は、それぞれ、上記の図1(b)、(c)に示す工程と同じである。
First, as shown in FIG. 8A, as in the first embodiment, the main surface 2 has a transfer pattern region 20 and an alignment mark region 30, and the alignment mark region 30 has a recess 31 and a convex. A concavo-convex substrate 1a on which an alignment mark composed of the portion 32 is formed is prepared.
Then, in the same manner as in the first embodiment, that is, by performing the steps shown in FIGS. 1B and 1C described above, as shown in FIG. A highly refractive material film 41 is formed on the surface 2 and on the bottom surface of the recess 31.
The steps shown in FIGS. 8B and 8C are the same as the steps shown in FIGS. 1B and 1C, respectively.

次に、図8(d)に示すように、エッチング保護膜として硬化性樹脂71を、アライメントマーク領域30に局所的に配設し、次いで、図8(e)に示すように、アライメントマーク領域30に対向配置され、アライメントマーク領域30に対向する領域に平面を有する部材81により、硬化性樹脂71を押し付けて、主面2から突出する高屈折材料膜41の上に位置する硬化性樹脂71の膜厚T4が一定の範囲内になるように平坦化し、この状態で硬化性樹脂71を硬化させ、その後、硬化性樹脂71と部材81を離間する。 Next, as shown in FIG. 8D, a curable resin 71 is locally disposed in the alignment mark region 30 as an etching protective film, and then, as shown in FIG. The curable resin 71 is positioned on the highly refractive material film 41 protruding from the main surface 2 by pressing the curable resin 71 with a member 81 that is disposed opposite to the substrate 30 and has a flat surface in the region facing the alignment mark region 30. thickness T 4 is flattened to be within a certain range of, to cure the curable resin 71 in this state, then separating the curable resin 71 and the member 81.

本実施形態において、硬化性樹脂71には、ナノインプリントの技術分野で用いられている硬化性樹脂、特に、紫外線硬化性樹脂を、好適に用いることができる。そして、硬化性樹脂71に紫外線硬化性樹脂を用いた場合には、部材81側、若しくはテンプレート1側から紫外線照射して、硬化性樹脂71を硬化させることができる。   In the present embodiment, as the curable resin 71, a curable resin used in the technical field of nanoimprinting, in particular, an ultraviolet curable resin can be suitably used. When an ultraviolet curable resin is used as the curable resin 71, the curable resin 71 can be cured by irradiating with ultraviolet rays from the member 81 side or the template 1 side.

硬化性樹脂71をアライメントマーク領域30に局所的に配設する方法としては、ナノインプリントの技術分野で用いられているインクジェット方式によるものを好適に用いることができる。上記のインクジェット方式は、ナノインプリント分野で実績があり、所望の微量な硬化性樹脂71を所望の位置に配設できるからである。   As a method for locally disposing the curable resin 71 in the alignment mark region 30, an ink jet method used in the nanoimprint technical field can be suitably used. This is because the above-described inkjet method has a track record in the nanoimprint field, and a desired trace amount of the curable resin 71 can be disposed at a desired position.

本実施形態において、部材81は、硬化性樹脂71を押し付けることによって、硬化性樹脂71の膜厚T4が一定の範囲内になるように平坦化することができるものであれば、特に制限されるものではないが、図8(e)に示すように、アライメントマーク領域30に対向する領域が他の部位よりも突出している形態を有しているものであることが、好ましい。
このような形態であれば、部材81と転写パターン領域20との接触を、より確実に回避することができ、転写パターン領域20に異物の付着や欠陥を生じさせてしまうことを、より確実に防止することができるからである。
In the present embodiment, the member 81 is particularly limited as long as the member 81 can be flattened by pressing the curable resin 71 so that the film thickness T 4 of the curable resin 71 is within a certain range. Although not intended, as shown in FIG. 8 (e), it is preferable that the region facing the alignment mark region 30 has a form protruding from other portions.
With such a configuration, the contact between the member 81 and the transfer pattern region 20 can be avoided more reliably, and the transfer pattern region 20 can be more reliably prevented from adhering to foreign matter or causing defects. This is because it can be prevented.

部材81を構成する材料としては、上記のように、硬化性樹脂71を押し付けることによって平坦化することができるものであれば、特に制限されるものではないが、紫外線透過性の材料であることが好ましい。
部材81が紫外線透過性の材料から構成されていれば、硬化性樹脂71が紫外線硬化性樹脂である場合に、部材81側から(図8に示すZ方向側)から紫外線照射して、硬化性樹脂71を硬化させることができるからである。
紫外線透過性の材料としては、例えば、合成石英ガラス等、テンプレートを構成する材料として用いられるものを挙げることができる。
The material constituting the member 81 is not particularly limited as long as it can be flattened by pressing the curable resin 71 as described above, but it is an ultraviolet ray transmissive material. Is preferred.
If the member 81 is made of an ultraviolet light transmissive material, when the curable resin 71 is an ultraviolet curable resin, the member 81 is irradiated with ultraviolet rays from the member 81 side (the Z direction side shown in FIG. 8), and is curable. This is because the resin 71 can be cured.
Examples of the ultraviolet light transmissive material include materials used as a material constituting the template, such as synthetic quartz glass.

図8(e)に示す硬化性樹脂71の膜厚T4の範囲としては、後述するドライエッチング工程によって除去できる膜厚であれば、特に制限されるものではないが、例えば、10nm〜200nmの範囲とすることができる。 The range of the film thickness T 4 of the curable resin 71 shown in FIG. 8 (e) is not particularly limited as long as it is a film thickness that can be removed by a dry etching process described later. It can be a range.

次に、図9(f)に示すように、エッチング用ガス62を用いたドライエッチングにより、硬化性樹脂71の膜厚T4の部分を除去する。これにより、アライメントマーク領域30の凹部31の中の硬化性樹脂71は残されたまま、主面2から突出する高屈折材料膜41の上に位置する硬化性樹脂71は除去される。
なお、エッチング用ガス62としては、硬化性樹脂71を除去できるものであれば用いることができ、例えば、酸素ガスを挙げることができる。
Next, as shown in FIG. 9F, the portion of the curable resin 71 having a film thickness T 4 is removed by dry etching using an etching gas 62. Thereby, the curable resin 71 located on the high refractive material film 41 protruding from the main surface 2 is removed while the curable resin 71 in the recess 31 of the alignment mark region 30 remains.
As the etching gas 62, any gas that can remove the curable resin 71 can be used. For example, oxygen gas can be used.

次に、図9(g)に示すように、エッチング用ガス61を用いたドライエッチングにより、残された硬化性樹脂71から露出する高屈折材料膜41を除去する。これにより、高屈折材料膜41のうち、主面2から突出する膜厚T1の部分は除去されるが、凹部31の底面の上に形成された高屈折材料膜41は、硬化性樹脂71で覆われているため、膜厚T2のままで残存することになる。
なお、上記の第1の実施形態と同様に、高屈折材料膜41を構成する材料としてクロムを含む材料を用いた場合には、エッチング用ガス61には塩素と酸素の混合ガスを用いることができる。
Next, as shown in FIG. 9G, the high refractive material film 41 exposed from the remaining curable resin 71 is removed by dry etching using an etching gas 61. Thus, the portion of the high refractive material film 41 having the film thickness T 1 protruding from the main surface 2 is removed, but the high refractive material film 41 formed on the bottom surface of the recess 31 is made of the curable resin 71. Therefore, the film thickness T 2 remains as it is.
As in the first embodiment, when a material containing chromium is used as the material constituting the high refractive material film 41, the etching gas 61 may be a mixed gas of chlorine and oxygen. it can.

次に、図9(h)に示すように、エッチング用ガス62を用いたドライエッチングにより、凹部31の中に残存する硬化性樹脂71を除去し、図9(i)に示すように、主面2に転写パターン領域20とアライメントマーク領域30を有し、アライメントマーク領域30の凹部31には、高屈折材料膜41が形成されているテンプレート12を得る。   Next, as shown in FIG. 9 (h), the curable resin 71 remaining in the recess 31 is removed by dry etching using an etching gas 62, and as shown in FIG. A template 12 having a transfer pattern region 20 and an alignment mark region 30 on the surface 2 and having a highly refractive material film 41 formed in the recess 31 of the alignment mark region 30 is obtained.

ここで、図9(i)に示すテンプレート12において、凹部31の底面の上に形成されている高屈折材料膜41の膜厚T2は、図8(c)に示す工程で、凹部31の底面の上に形成された高屈折材料膜41の膜厚T2と、原則同じになる。
そして、この膜厚T2は、上記の第1の実施形態における図1(e)に示すテンプレート10において、凹部31の底面の上に形成されている高屈折材料膜41の膜厚T3よりも、厚いものである。
Here, in the template 12 shown in FIG. 9 (i), the film thickness T 2 of the high refractive material film 41 formed on the bottom surface of the recess 31 is the same as that of the recess 31 in the step shown in FIG. In principle, it is the same as the film thickness T 2 of the high refractive material film 41 formed on the bottom surface.
Then, this film thickness T 2 is greater than the film thickness T 3 of the high refractive material film 41 formed on the bottom surface of the recess 31 in the template 10 shown in FIG. 1E in the first embodiment. Is also thick.

上記のように、本実施形態によれば、最終的に得られるテンプレートにおいて、アライメントマークを構成する凹部31の底面の上に形成されている高屈折材料膜41の膜厚を、より厚いものとすることができる。
それゆえ、本実施形態の製造方法により製造されたテンプレートを用いてインプリントを行えば、より良好にアライメントマークを光学的に識別することが可能になり、より容易に高精度な位置合わせが可能となる。
As described above, according to the present embodiment, in the finally obtained template, the thickness of the high refractive material film 41 formed on the bottom surface of the recess 31 constituting the alignment mark is made thicker. can do.
Therefore, if imprinting is performed using the template manufactured by the manufacturing method of the present embodiment, it is possible to optically identify the alignment mark better, and it is possible to perform alignment with higher accuracy more easily. It becomes.

そして、上記の第1の実施形態と同様に、本実施形態においても、高屈折材料膜41を構成する材料を含有するインク40は、アライメントマーク領域30に局所的に配設されるため、転写パターン領域20にはインク40の付着は生じない。
また、本実施形態において、エッチング保護膜として形成する硬化性樹脂71も、アライメントマーク領域30に局所的に配設されるため、転写パターン領域20には硬化性樹脂71の付着は生じない。
それゆえ、転写パターン領域20に異物の付着や欠陥を生じさせてしまうことを防止することができる。
As in the first embodiment, the ink 40 containing the material constituting the high refractive material film 41 is also locally disposed in the alignment mark region 30 in this embodiment. The ink 40 does not adhere to the pattern area 20.
In the present embodiment, the curable resin 71 formed as an etching protective film is also locally disposed in the alignment mark region 30, so that the curable resin 71 does not adhere to the transfer pattern region 20.
Therefore, it is possible to prevent foreign matter from adhering to the transfer pattern region 20 and causing defects.

なお上記においては、図8及び図9を用いて、本実施形態の製造方法により、上記の第1の実施形態で準備した凹凸基板1aから、凹部31の底面の上に形成されている高屈折材料膜41の膜厚がより厚いテンプレート12を製造する方法の一例を説明したが、同様に、上記の第2の実施形態で準備した凹凸基板1bから、本実施形態の製造方法により、凹部31の底面の上に形成されている高屈折材料膜41の膜厚がより厚いテンプレートを製造することもできる。   In the above, with reference to FIG. 8 and FIG. 9, the high refraction formed on the bottom surface of the recess 31 from the uneven substrate 1 a prepared in the first embodiment by the manufacturing method of the present embodiment. Although an example of the method for manufacturing the template 12 having the thicker material film 41 has been described, the concave portion 31 is similarly formed from the concavo-convex substrate 1b prepared in the second embodiment by the manufacturing method of the present embodiment. It is also possible to manufacture a template in which the film thickness of the high refractive material film 41 formed on the bottom surface is thicker.

<テンプレート>
次に、本発明に係るテンプレートについて、説明する。
本発明に係るテンプレートは、溝構造で囲まれた領域に、凹部と凸部から構成されるアライメントマークを有し、アライメントマークを構成する凹部の底面の上に、高屈折材料膜が形成されていることを特徴とするものである。
また、本発明に係るテンプレートは、溝構造の底面の上にも高屈折材料膜が形成されている形態であってもよい。
<Template>
Next, the template according to the present invention will be described.
The template according to the present invention has an alignment mark composed of a concave portion and a convex portion in a region surrounded by a groove structure, and a high refractive material film is formed on the bottom surface of the concave portion constituting the alignment mark. It is characterized by being.
Further, the template according to the present invention may have a form in which a high refractive material film is also formed on the bottom surface of the groove structure.

本発明に係るテンプレートの例としては、上記の本発明に係るテンプレートの製造方法の第2の実施形態において、図6及び図7を用いて説明したテンプレート11a、11bを挙げることができる。   Examples of the template according to the present invention include the templates 11a and 11b described with reference to FIGS. 6 and 7 in the second embodiment of the template manufacturing method according to the present invention.

すなわち、図6(a)に示すように、テンプレート11aは、転写パターン領域20とアライメントマーク領域30を有しており、さらに、図6(b)に示すように、アライメントマーク領域30の外縁に内接する溝構造33を有し、溝構造33で囲まれた領域に、凹部31と凸部32から構成されるアライメントマークを有しており、凹部31の底面の上、及び、溝構造33の底面の上には、高屈折材料膜41が形成されている。   That is, as shown in FIG. 6A, the template 11a has a transfer pattern region 20 and an alignment mark region 30, and further, on the outer edge of the alignment mark region 30 as shown in FIG. An inscribed groove structure 33 is provided, and an alignment mark composed of a concave portion 31 and a convex portion 32 is provided in a region surrounded by the groove structure 33, and on the bottom surface of the concave portion 31 and of the groove structure 33. A highly refractive material film 41 is formed on the bottom surface.

また、図7(a)に示すように、テンプレート11bは、転写パターン領域20とアライメントマーク領域30を有しており、さらに、図7(b)に示すように、アライメントマーク領域30の外縁に内接する溝構造33を有し、溝構造33で囲まれた領域に、凹部31と凸部32から構成されるアライメントマークを有している。
そして、凹部31の底面の上には高屈折材料膜41が形成されているが、溝構造33の底面の上には高屈折材料膜41は形成されていない。
Further, as shown in FIG. 7A, the template 11b has a transfer pattern region 20 and an alignment mark region 30, and further, on the outer edge of the alignment mark region 30 as shown in FIG. An inscribed groove structure 33 is provided, and an alignment mark composed of a concave portion 31 and a convex portion 32 is provided in a region surrounded by the groove structure 33.
The high refractive material film 41 is formed on the bottom surface of the recess 31, but the high refractive material film 41 is not formed on the bottom surface of the groove structure 33.

上記のように、テンプレート11a、11bは、本発明に係るテンプレートの製造方法の第2の実施形態により、製造することができる。   As described above, the templates 11a and 11b can be manufactured by the second embodiment of the template manufacturing method according to the present invention.

そして、テンプレート11a、11bにおいては、アライメントマークの凹部31の底面の上に高屈折材料膜41が形成されているため、インプリントに際して凹部31が被転写樹脂によって充填された状態となっても、良好にアライメントマークを光学的に識別することができ、高精度な位置合わせが可能となる。   In the templates 11a and 11b, since the highly refractive material film 41 is formed on the bottom surface of the recess 31 of the alignment mark, even when the recess 31 is filled with the transferred resin during imprinting, The alignment mark can be optically identified satisfactorily, and highly accurate alignment is possible.

以上、本発明に係るテンプレートの製造方法およびテンプレートについて説明したが、本発明は、上記実施形態に限定されるものではない。上記実施形態は例示であり、本発明の特許請求の範囲に記載された技術的思想と、実質的に同一の構成を有し、同様な作用効果を奏するものは、いかなる場合であっても本発明の技術的範囲に包含される。   The template manufacturing method and the template according to the present invention have been described above, but the present invention is not limited to the above embodiment. The above-described embodiment is an exemplification, and the technical idea described in the claims of the present invention has substantially the same configuration and exhibits the same function and effect regardless of the case. It is included in the technical scope of the invention.

1a、1b 凹凸基板
10、11a、11b、12 テンプレート
2 主面
20 転写パターン領域
30 アライメントマーク領域
31 凹部
32 凸部
33 溝構造
33a 外縁
33b 内縁
40 インク
41、41a、41b、41c 高屈折材料膜
61、62 エッチング用ガス
71 硬化性樹脂
81 部材
101 凹凸基板
102 主面
110 テンプレート
120 転写パターン領域
130 アライメントマーク領域
140 視認性薄膜
170 レジスト膜
1a, 1b Uneven substrate 10, 11a, 11b, 12 Template 2 Main surface 20 Transfer pattern region 30 Alignment mark region 31 Concave portion 32 Convex portion 33 Groove structure 33a Outer edge 33b Inner edge 40 Ink 41, 41a, 41b, 41c High refractive material film 61 62 Gas for etching 71 Curable resin 81 Member 101 Concavity and convexity substrate 102 Main surface 110 Template 120 Transfer pattern area 130 Alignment mark area 140 Visible thin film 170 Resist film

Claims (9)

主面に、転写パターン領域とアライメントマーク領域を有し、前記アライメントマーク領域に凹部と凸部から構成されるアライメントマークが形成されている凹凸基板を準備する工程と、
高屈折材料膜を形成する材料を含有するインクをインクジェット方式によって前記アライメントマーク領域に局所的に配設する工程と、
前記インクの溶媒を揮発させて前記高屈折材料膜を形成する工程と、
前記アライメントマークを構成する凹部の底面の上に形成された前記高屈折材料膜を残しつつ、前記主面から突出する前記高屈折材料膜を除去する工程と、
を順に備えることを特徴とするテンプレートの製造方法。
Preparing a concavo-convex substrate having a transfer pattern region and an alignment mark region on the main surface, and wherein an alignment mark composed of a concave portion and a convex portion is formed in the alignment mark region;
A step of locally disposing an ink containing a material for forming a highly refractive material film in the alignment mark region by an inkjet method;
Evaporating the ink solvent to form the highly refractive material film;
Removing the high refractive material film protruding from the main surface while leaving the high refractive material film formed on the bottom surface of the concave portion constituting the alignment mark;
The template manufacturing method characterized by including these in order.
前記インクが、界面活性剤を含有することを特徴とする請求項1に記載のテンプレートの製造方法。   The method for producing a template according to claim 1, wherein the ink contains a surfactant. 前記アライメントマーク領域に局所的に配設される前記インクの配設量が、
前記アライメントマークを構成する凹部の全てを合わせた容積を満たす量以下であることを特徴とする請求項1または請求項2に記載のテンプレートの製造方法。
The amount of ink disposed locally in the alignment mark region is
The template manufacturing method according to claim 1, wherein the template is less than or equal to an amount that satisfies a combined volume of all the recesses constituting the alignment mark.
前記凹凸基板が、前記アライメントマーク領域の外縁に内接する溝構造を有しており、
前記アライメントマーク領域に局所的に配設される前記インクの配設量が、
前記アライメントマークを構成する凹部の全てを合わせた容積に前記溝構造の容積を加えた容積を満たす量以下であることを特徴とする請求項1または請求項2に記載のテンプレートの製造方法。
The concavo-convex substrate has a groove structure inscribed in an outer edge of the alignment mark region;
The amount of ink disposed locally in the alignment mark region is
3. The template manufacturing method according to claim 1, wherein the template is not more than an amount that satisfies a volume obtained by adding a volume of the groove structure to a volume obtained by adding all of the concave portions constituting the alignment mark.
前記アライメントマーク領域に局所的に配設される前記インクの配設量が、
前記アライメントマークを構成する凹部の全てを合わせた容積を満たす量以上であることを特徴とする請求項4に記載のテンプレートの製造方法。
The amount of ink disposed locally in the alignment mark region is
The template manufacturing method according to claim 4, wherein the amount is equal to or more than an amount satisfying a combined volume of all the concave portions constituting the alignment mark.
前記アライメントマークを構成する凹部の底面の上に形成された前記高屈折材料膜を残しつつ、前記主面から突出する前記高屈折材料膜を除去する工程が、
前記高屈折材料膜を形成した前記アライメントマークの凹部に局所的にエッチング保護膜を形成する工程と、
前記エッチング保護膜から露出する前記高屈折材料膜をエッチングにより除去する工程と、
前記エッチング保護膜を除去する工程と、
を順に備えることを特徴とする請求項1乃至請求項5のいずれか一項に記載のテンプレートの製造方法。
The step of removing the high refractive material film protruding from the main surface while leaving the high refractive material film formed on the bottom surface of the concave portion constituting the alignment mark,
Forming an etching protective film locally in the recess of the alignment mark on which the high refractive material film is formed;
Removing the highly refractive material film exposed from the etching protective film by etching;
Removing the etching protective film;
The template manufacturing method according to claim 1, wherein the template is provided in order.
前記エッチング保護膜が硬化性樹脂から構成されており、
前記高屈折材料膜を形成した前記アライメントマークの凹部に局所的にエッチング保護膜を形成する工程が、
前記アライメントマーク領域に局所的に前記硬化性樹脂を配設する工程と、
前記アライメントマーク領域に対向配置され、前記アライメントマーク領域に対向する領域に平面を有する部材により、前記硬化性樹脂を押し付ける工程と、
前記硬化性樹脂を硬化させる工程と、
前記硬化性樹脂と前記部材を離間する工程と、
前記主面から突出する前記高屈折材料膜の上に位置する前記硬化性樹脂を除去する工程と、
を順に備えることを特徴とする請求項6に記載のテンプレートの製造方法。
The etching protective film is made of a curable resin,
The step of locally forming an etching protective film in the concave portion of the alignment mark formed with the high refractive material film,
Disposing the curable resin locally in the alignment mark region;
A step of pressing the curable resin by a member that is disposed to face the alignment mark region and has a flat surface in a region facing the alignment mark region;
Curing the curable resin;
Separating the curable resin and the member;
Removing the curable resin located on the highly refractive material film protruding from the main surface;
The template manufacturing method according to claim 6, comprising: in order.
溝構造で囲まれた領域に、凹部と凸部から構成されるアライメントマークを有し、
前記アライメントマークを構成する凹部の底面の上に、高屈折材料膜が形成されていることを特徴とするテンプレート。
In the region surrounded by the groove structure, it has an alignment mark composed of a concave portion and a convex portion,
A template, wherein a highly refractive material film is formed on a bottom surface of a concave portion constituting the alignment mark.
前記溝構造の底面の上に、高屈折材料膜が形成されていることを特徴とする請求項8に記載のテンプレート。


The template according to claim 8, wherein a highly refractive material film is formed on a bottom surface of the groove structure.


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Cited By (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2018152478A (en) * 2017-03-14 2018-09-27 東芝メモリ株式会社 Template and manufacturing method thereof
JP2021090017A (en) * 2019-12-05 2021-06-10 大日本印刷株式会社 Imprint mold, manufacturing method therefor, and imprint method
JP2021150482A (en) * 2020-03-19 2021-09-27 キオクシア株式会社 Method of manufacturing template

Citations (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2011176132A (en) * 2010-02-24 2011-09-08 Canon Inc Imprint device, template thereof, and method for manufacturing article
JP2012099729A (en) * 2010-11-04 2012-05-24 Toshiba Corp Template, method of forming template, and method of manufacturing semiconductor device
JP2013519236A (en) * 2010-02-05 2013-05-23 モレキュラー・インプリンツ・インコーポレーテッド Template with high contrast alignment mark
JP2013168604A (en) * 2012-02-17 2013-08-29 Fujifilm Corp Manufacturing method of mold for nanoimprint

Patent Citations (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2013519236A (en) * 2010-02-05 2013-05-23 モレキュラー・インプリンツ・インコーポレーテッド Template with high contrast alignment mark
JP2011176132A (en) * 2010-02-24 2011-09-08 Canon Inc Imprint device, template thereof, and method for manufacturing article
JP2012099729A (en) * 2010-11-04 2012-05-24 Toshiba Corp Template, method of forming template, and method of manufacturing semiconductor device
JP2013168604A (en) * 2012-02-17 2013-08-29 Fujifilm Corp Manufacturing method of mold for nanoimprint

Cited By (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2018152478A (en) * 2017-03-14 2018-09-27 東芝メモリ株式会社 Template and manufacturing method thereof
JP2021090017A (en) * 2019-12-05 2021-06-10 大日本印刷株式会社 Imprint mold, manufacturing method therefor, and imprint method
JP7384012B2 (en) 2019-12-05 2023-11-21 大日本印刷株式会社 Imprint mold and its manufacturing method, and imprint method
JP2021150482A (en) * 2020-03-19 2021-09-27 キオクシア株式会社 Method of manufacturing template
JP7374826B2 (en) 2020-03-19 2023-11-07 キオクシア株式会社 Template manufacturing method

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