JP2016012635A - Template manufacturing method and template - Google Patents
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Abstract
Description
本発明は、主にナノインプリントリソグラフィに用いられるテンプレートの製造方法に関するものである。 The present invention relates to a template manufacturing method mainly used for nanoimprint lithography.
近年、半導体リソグラフィにおいては、デバイスの微細化の要求に対して、露光波長の問題や製造コストの問題などからフォトリソグラフィ方式の限界が指摘されており、その対案として、ナノインプリント技術を用いたナノインプリントリソグラフィ(NIL:Nanoimprint Lithography)が注目を集めている。 In recent years, in semiconductor lithography, the limit of the photolithography method has been pointed out due to the problem of exposure wavelength and manufacturing cost in response to the demand for miniaturization of devices. As a countermeasure, nanoimprint lithography using nanoimprint technology has been pointed out. (NIL: Nanoimprint Lithography) is drawing attention.
ナノインプリントリソグラフィは、表面に微細な凹凸形状の転写パターンを形成したテンプレート(モールド、スタンパ、金型とも呼ばれる)を、半導体ウェハなどの被転写基板の上に形成された被転写樹脂に接触させ、この被転写樹脂の表面側の形状を、テンプレートの転写パターンの凹凸形状に成型した後に離型し、次いで、ドライエッチング等により余分な部分(残膜部分)を除去することで、被転写基板の上の被転写樹脂にテンプレートの転写パターンの凹凸形状(より詳しくは、凹凸反転形状)を転写させる技術である。 In nanoimprint lithography, a template (also referred to as a mold, stamper, or mold) on which a fine uneven transfer pattern is formed is brought into contact with a transfer resin formed on a transfer substrate such as a semiconductor wafer. The shape of the surface side of the resin to be transferred is molded into a concavo-convex shape of the template transfer pattern, then released, and then the excess part (residual film part) is removed by dry etching, etc. This is a technique for transferring the concave / convex shape of the template transfer pattern (more specifically, the concave / convex inverted shape) to the transfer resin.
このナノインプリントリソグラフィは、一度テンプレート(適宜、ナノインプリント用テンプレートとも呼ぶ)を作製すれば、微細な凹凸形状の転写パターンを繰り返し転写成型でき、この転写工程には高額な露光装置(ステッパー)を用いないため、経済的にも有利である。 In this nanoimprint lithography, once a template (also referred to as a template for nanoimprinting as appropriate) is prepared, a transfer pattern with fine irregularities can be repeatedly transferred and molded, and an expensive exposure device (stepper) is not used for this transfer process. It is also economically advantageous.
上述のようなナノインプリントリソグラフィにより、テンプレートの転写パターンを被転写基板に位置精度良く転写するには、テンプレートと被転写基板との位置合わせを精密に行う必要がある。一般的には、テンプレートに設けられている凹凸構造のアライメントマークと、被転写基板に設けられているアライメントマークとを、テンプレート側から光学的に検出することにより位置合わせを行う。 In order to transfer a template transfer pattern to a substrate to be transferred with high positional accuracy by nanoimprint lithography as described above, it is necessary to precisely align the template and the substrate to be transferred. In general, alignment is performed by optically detecting, from the template side, an alignment mark having a concavo-convex structure provided on a template and an alignment mark provided on a transferred substrate.
ここで、インプリントに際してテンプレートを被転写樹脂に接触させると、テンプレートのアライメントマークの凹部が、被転写樹脂によって充填された状態になる。
そして、このような状態になると、テンプレートのアライメントマークを構成する材料(一般的には、合成石英ガラス)の屈折率と、被転写樹脂の屈折率とがほとんど同じ値であることから、テンプレートのアライメントマークを光学的に識別することが困難になってしまうという問題がある。
Here, when the template is brought into contact with the transferred resin during imprinting, the recesses of the alignment marks of the template are filled with the transferred resin.
In such a state, since the refractive index of the material (generally synthetic quartz glass) constituting the alignment mark of the template and the refractive index of the transferred resin are almost the same value, There is a problem that it becomes difficult to optically identify the alignment mark.
この問題に対して、テンプレートのアライメントマークの凹部に高屈折率材料膜を形成することによって、被転写樹脂によって充填された状態でも、アライメントマークを光学的に識別する方法が提案されている(例えば、特許文献1〜3)。 In order to solve this problem, a method has been proposed in which the alignment mark is optically identified even when the template is filled with the transfer resin by forming a high refractive index material film in the recess of the alignment mark of the template (for example, And Patent Documents 1 to 3).
例えば、上記の特許文献1に記載のテンプレートの製造方法においては、図10に例示するように、まず、主面102に、転写パターン領域120とアライメントマーク領域130を有する凹凸基板101を準備し(図10(a))、スパッタ法等の手法を用いて、アライメントマーク領域130のみならず、転写パターン領域120も覆うように視認性薄膜140(高屈折材料膜に相当)を形成する(図10(b))。
さらに、その上からレジスト膜170(保護層に相当)を形成し、段差基板を押し付けて、アライメントマーク領域130の膜厚が転写パターン領域120の膜厚よりも厚くなるようにレジスト膜170を変形させる(図10(c))。
その後、レジスト膜170の所定の厚み分をドライエッチングして、アライメントマーク領域130の凹部内のみにレジスト膜170が残る状態にする(図10(d))。
次に、露出する視認性薄膜140を所定量ドライエッチングし、最後に、アライメントマーク領域130の凹部内のレジスト膜170を除去して、アライメントマーク領域130の凹部に視認性薄膜140を有するテンプレート110を得る(図10(e))。
For example, in the template manufacturing method described in Patent Document 1 above, as illustrated in FIG. 10, first, an
Further, a resist film 170 (corresponding to a protective layer) is formed thereon, and the step substrate is pressed to deform the
Thereafter, a predetermined thickness of the
Next, the exposed visibility
上記の特許文献2、3に記載のテンプレートの製造方法においても、上記の特許文献1に記載のテンプレートの製造方法と同様に、アライメントマーク領域と転写パターン領域を、高屈折材料膜と保護層の両方、又は高屈折材料膜若しくは保護層のいずれか一方で覆い、これらに対して各種加工を施して、アライメントマーク領域の凹部に高屈折率材料膜を形成する。
In the template manufacturing methods described in
しかしながら、上記の特許文献1〜3に記載のテンプレートの製造方法では、アライメントマーク領域のみならず転写パターン領域も、高屈折材料膜と保護層の両方、又は高屈折材料膜若しくは保護層のいずれか一方で覆い、これらに対して各種加工を施すため、転写パターン領域に異物を付着させてしまうというおそれや、転写パターン領域に欠陥を生じさせてしまうというおそれがある。 However, in the template manufacturing methods described in Patent Documents 1 to 3, not only the alignment mark region but also the transfer pattern region is either a high-refractive material film and a protective layer, or a high-refractive material film or a protective layer. On the other hand, since these are covered and various types of processing are performed, there is a risk that foreign matter may adhere to the transfer pattern region or a defect may occur in the transfer pattern region.
そして、転写パターン領域に、異物付着や欠陥を生じたテンプレートを用いて、上記のナノインプリントリソグラフィを行うと、転写された被転写樹脂のパターンにも欠陥を生じさせてしまうことになる。 If the above-described nanoimprint lithography is performed using a template in which foreign matter is attached or has a defect in the transfer pattern region, the transferred pattern of the transferred resin also has a defect.
本発明は、上記実情に鑑みてなされたものであり、テンプレートの転写パターン領域に異物の付着や欠陥を生じさせてしまうことを防止しつつ、高精度な位置合わせを可能とするテンプレートの製造方法を提供することを主たる目的とする。 The present invention has been made in view of the above-described circumstances, and a template manufacturing method that enables highly accurate alignment while preventing foreign matter from adhering to and defects in the transfer pattern region of the template. The main purpose is to provide
すなわち、本発明の請求項1に係る発明は、主面に、転写パターン領域とアライメントマーク領域を有し、前記アライメントマーク領域に凹部と凸部から構成されるアライメントマークが形成されている凹凸基板を準備する工程と、高屈折材料膜を形成する材料を含有するインクをインクジェット方式によって前記アライメントマーク領域に局所的に配設する工程と、前記インクの溶媒を揮発させて前記高屈折材料膜を形成する工程と、前記アライメントマークを構成する凹部の底面の上に形成された前記高屈折材料膜を残しつつ、前記主面から突出する前記高屈折材料膜を除去する工程と、を順に備えることを特徴とするテンプレートの製造方法である。 That is, the invention according to claim 1 of the present invention is a concavo-convex substrate having a transfer pattern region and an alignment mark region on the main surface, and an alignment mark composed of a concave portion and a convex portion is formed in the alignment mark region. A step of locally disposing ink containing a material for forming a high refractive material film in the alignment mark region by an ink jet method; and volatilizing a solvent of the ink to form the high refractive material film. A step of forming, and a step of removing the high-refractive-material film protruding from the main surface while leaving the high-refractive-material film formed on the bottom surface of the recess that constitutes the alignment mark. A template manufacturing method characterized by the above.
また、本発明の請求項2に係る発明は、前記インクが、界面活性剤を含有することを特徴とする請求項1に記載のテンプレートの製造方法である。
The invention according to
また、本発明の請求項3に係る発明は、前記アライメントマーク領域に局所的に配設される前記インクの配設量が、前記アライメントマークを構成する凹部の全てを合わせた容積を満たす量以下であることを特徴とする請求項1または請求項2に記載のテンプレートの製造方法である。
In the invention according to claim 3 of the present invention, the amount of the ink locally disposed in the alignment mark region is less than the amount satisfying the total volume of all the concave portions constituting the alignment mark. The template manufacturing method according to
また、本発明の請求項4に係る発明は、前記凹凸基板が、前記アライメントマーク領域の外縁に内接する溝構造を有しており、前記アライメントマーク領域に局所的に配設される前記インクの配設量が、前記アライメントマークを構成する凹部の全てを合わせた容積に前記溝構造の容積を加えた容積を満たす量以下であることを特徴とする請求項1または請求項2に記載のテンプレートの製造方法である。 In the invention according to claim 4 of the present invention, the concavo-convex substrate has a groove structure inscribed in an outer edge of the alignment mark region, and the ink that is locally disposed in the alignment mark region. 3. The template according to claim 1, wherein an arrangement amount is equal to or less than an amount satisfying a volume obtained by adding a volume of the groove structure to a volume obtained by adding all of the concave portions constituting the alignment mark. It is a manufacturing method.
また、本発明の請求項5に係る発明は、前記アライメントマーク領域に局所的に配設される前記インクの配設量が、前記アライメントマークを構成する凹部の全てを合わせた容積を満たす量以上であることを特徴とする請求項4に記載のテンプレートの製造方法である。 Further, in the invention according to claim 5 of the present invention, the amount of the ink locally disposed in the alignment mark region is equal to or larger than the amount satisfying the combined volume of all the concave portions constituting the alignment mark. The template manufacturing method according to claim 4, wherein:
また、本発明の請求項6に係る発明は、前記アライメントマークを構成する凹部の底面の上に形成された前記高屈折材料膜を残しつつ、前記主面から突出する前記高屈折材料膜を除去する工程が、前記高屈折材料膜を形成した前記アライメントマークの凹部に局所的にエッチング保護膜を形成する工程と、前記エッチング保護膜から露出する前記高屈折材料膜をエッチングにより除去する工程と、前記エッチング保護膜を除去する工程と、を順に備えることを特徴とする請求項1乃至請求項5のいずれか一項に記載のテンプレートの製造方法である。 Further, the invention according to claim 6 of the present invention removes the high refractive material film protruding from the main surface while leaving the high refractive material film formed on the bottom surface of the concave portion constituting the alignment mark. A step of locally forming an etching protective film in a recess of the alignment mark on which the high refractive material film is formed, and a step of removing the high refractive material film exposed from the etching protective film by etching, The template manufacturing method according to claim 1, further comprising a step of removing the etching protective film in order.
また、本発明の請求項7に係る発明は、前記エッチング保護膜が硬化性樹脂から構成されており、前記高屈折材料膜を形成した前記アライメントマークの凹部に局所的にエッチング保護膜を形成する工程が、前記アライメントマーク領域に局所的に前記硬化性樹脂を配設する工程と、前記アライメントマーク領域に対向配置され、前記アライメントマーク領域に対向する領域に平面を有する部材により、前記硬化性樹脂を押し付ける工程と、前記硬化性樹脂を硬化させる工程と、前記硬化性樹脂と前記部材を離間する工程と、前記主面から突出する前記高屈折材料膜の上に位置する前記硬化性樹脂を除去する工程と、を順に備えることを特徴とする請求項6に記載のテンプレートの製造方法である。 In the invention according to claim 7 of the present invention, the etching protective film is made of a curable resin, and the etching protective film is locally formed in the concave portion of the alignment mark on which the high refractive material film is formed. A step of locally disposing the curable resin in the alignment mark region; and a member having a flat surface in a region opposed to the alignment mark region and facing the alignment mark region. The step of pressing the curable resin, the step of curing the curable resin, the step of separating the curable resin and the member, and removing the curable resin located on the highly refractive material film protruding from the main surface The template manufacturing method according to claim 6, further comprising: a step of:
また、本発明の請求項8に係る発明は、溝構造で囲まれた領域に、凹部と凸部から構成されるアライメントマークを有し、前記アライメントマークを構成する凹部の底面の上に、高屈折材料膜が形成されていることを特徴とするテンプレートである。 The invention according to claim 8 of the present invention has an alignment mark composed of a concave portion and a convex portion in a region surrounded by the groove structure, and has a high height on the bottom surface of the concave portion constituting the alignment mark. The template is characterized in that a refractive material film is formed.
また、本発明の請求項9に係る発明は、前記溝構造の底面の上に、高屈折材料膜が形成されていることを特徴とする請求項8に記載のテンプレートである。 The invention according to claim 9 of the present invention is the template according to claim 8, wherein a highly refractive material film is formed on the bottom surface of the groove structure.
本発明によれば、テンプレートの転写パターン領域に異物の付着や欠陥を生じさせてしまうことを防止しつつ、高精度な位置合わせを可能とするテンプレートを製造することができる。 ADVANTAGE OF THE INVENTION According to this invention, the template which enables highly accurate position alignment can be manufactured, preventing producing a foreign material adhesion and a defect in the transcription | transfer pattern area | region of a template.
以下、本発明に係るテンプレートの製造方法およびテンプレートの各実施形態について詳しく説明する。 Hereinafter, a template manufacturing method and a template embodiment according to the present invention will be described in detail.
<テンプレートの製造方法>
まず、本発明に係るテンプレートの製造方法について説明する。
<Template manufacturing method>
First, a template manufacturing method according to the present invention will be described.
(第1の実施形態)
図1は、本発明に係るテンプレートの製造方法の第1の実施形態の一例を説明する図である。なお、図1は、本実施形態の各工程における転写パターン領域20とアライメントマーク領域30の関係を説明するために、転写パターン領域20とアライメントマーク領域30の断面を模式的に拡大したものである。
(First embodiment)
FIG. 1 is a diagram for explaining an example of a first embodiment of a template manufacturing method according to the present invention. FIG. 1 is a schematic enlarged view of the cross section of the
本実施形態においては、まず図1(a)に示すように、主面2に、転写パターン領域20とアライメントマーク領域30を有し、アライメントマーク領域30に凹部31と凸部32から構成されるアライメントマークが形成されている凹凸基板1aを準備する。
In the present embodiment, first, as shown in FIG. 1A, the
凹凸基板1aは、上記の図10に例示した凹凸基板101と同様に、アライメントマークの凹部31に高屈折率材料膜を有していない従来のテンプレートに相当するものである。
凹凸基板1aを構成する材料は、ナノインプリントリソグラフィに用いられるテンプレートとして適用できるものであれば特に限定されないが、一般的には合成石英ガラスが好適に用いられる。
The concavo-
Although the material which comprises the uneven | corrugated board |
転写パターン領域20に形成される転写パターンは、例えば、本実施形態の製造方法によって得られるテンプレート10が半導体用途のテンプレートならば回路パターンなどである。アライメントマーク領域30に形成されるアライメントマークは、凹部31と凸部32で構成されるものである。
なお、図1(a)においては、煩雑となるのを避けるため、アライメントマーク領域30に形成されるアライメントマークが2個の凹部31と1個の凸部32で構成されている形態を模式的に示しているが、実際には、アライメントマーク領域30に形成されるアライメントマークは、より多くの凹部31と凸部32の繰り返しパターンで構成されている。
The transfer pattern formed in the
In FIG. 1A, in order to avoid complication, the form in which the alignment mark formed in the
図2は、本実施形態において準備する凹凸基板の一例を説明する図である。ここで、図2(a)は、凹凸基板1aの概略平面図を示し、図2(b)は、凹凸基板1aのアライメントマーク領域30の概略平面拡大図を示す。
FIG. 2 is a diagram for explaining an example of a concavo-convex substrate prepared in the present embodiment. Here, FIG. 2A shows a schematic plan view of the
図2に示す例において、凹凸基板1aは、転写パターン領域20とアライメントマーク領域30を有しており、アライメントマーク領域30には、凹部31と凸部32から構成されるアライメントマークが形成されている。
なお、図2に示す例においては、理解を容易とするために、転写パターン領域20、及び、アライメントマーク領域30の各領域を破線で囲んで示しているが、実際の凹凸基板1aにおいては、このような破線は存在しない。
In the example shown in FIG. 2, the concavo-
In the example shown in FIG. 2, for easy understanding, the
また、図2(a)に示す例においては、転写パターン領域20の外側の上下左右方向にアライメントマーク領域30が合計4箇所設けられている形態が例示されているが、本実施形態はこれに限定されず、アライメントマーク領域30の配置箇所やその数は適宜変更されてよい。
また、図2(b)に示す例においては、アライメントマーク領域30に形成されているアライメントマークは、一の種類の凹部31と凸部32の繰り返しパターンで構成されている形態が例示されているが、本実施形態はこれに限定されず、例えば、アライメントマーク領域30に形成されているアライメントマークは、複数種の凹部31と凸部32から構成される物であっても良い。
なお、図2(b)に示す例においては、アライメントマーク領域30に形成されているアライメントマークは、ラインアンドスペースパターンの形態を有しているが、本実施形態はこれに限定されず、例えば、アライメントマークは、ホールやドットのアレイパターンの形態を有していても良い。
言い換えれば、図2(b)に示す例においては、凹部31及び凸部32は平面視においてライン状の形態を有しているが、本実施形態はこれに限定されず、例えば、凹部31はホール形状であっても良く、また、凸部32はドット形状であっても良い。
In addition, in the example shown in FIG. 2A, a mode in which a total of four
In the example shown in FIG. 2B, the alignment mark formed in the
In the example shown in FIG. 2B, the alignment mark formed in the
In other words, in the example shown in FIG. 2B, the
アライメントマーク領域30の大きさは、アライメント精度を確保できる大きさであれば特に制限されるものではないが、例えば、10μm×50μm〜100μm×500μmの範囲とすることができる。
アライメントマーク領域30に形成されるアライメントマークの凹部31の深さは、通常、転写パターン領域20に形成される転写パターンの深さと同程度になる。これは、通常、転写パターンとアライメントマークが同一工程のドライエッチングにより形成されるからである。凹部31の深さは、例えば、20nm〜100nmの範囲とすることができる。
また、上記のアライメントマークは例えば、30nm〜5μm幅の凹部31と凸部32の繰り返しパターンとすることができる。
The size of the
The depth of the
In addition, the alignment mark can be, for example, a repeated pattern of
次に、図1(b)に示すように、高屈折材料膜41を構成する材料を含有するインク40をアライメントマーク領域30に局所的に配設する。
上記のインク40をアライメントマーク領域30に局所的に配設する方法としては、ナノインプリントの技術分野で用いられているインクジェット方式によるものを好適に用いることができる。上記のインクジェット方式は、ナノインプリント分野で実績があり、インク40を所望の配設量で所望の位置に配設できるからである。
Next, as shown in FIG. 1B, the
As a method for locally disposing the
上記のように、本実施形態においては、高屈折材料膜41を構成する材料を含有するインク40を、インクジェット方式によってアライメントマーク領域30に局所的に配設する。それゆえ、転写パターン領域20には、高屈折材料膜41を構成する材料を含有するインク40が配設されることはなく、転写パターン領域20に異物の付着や欠陥を生じさせてしまうことを防止することができる。
As described above, in the present embodiment, the
本実施形態において、インク40に含まれる、高屈折材料膜41を構成する材料としては、凹凸基板1aを構成する材料(一般的には合成石英ガラス)よりも屈折率が高い材料であれば良く、例えば、クロム(Cr)、金(Au)、銀(Ag)、コバルト(Co)、銅(Cu)、鉄(Fe)、ニッケル(Ni)、パラジウム(Pd)、白金(Pt)及びスズ(Sn)から選択される一つ以上の金属、それらの酸化物、窒化物、酸窒化物、または合金などが挙げられる。
中でも、クロム(Cr)を含む材料を好適に用いることができる。クロム(Cr)は、フォトマスクのマスクパターンとしても用いられる材料であり、微細加工の分野において実績があるからである。
In the present embodiment, the material constituting the highly
Among these, a material containing chromium (Cr) can be preferably used. This is because chromium (Cr) is a material used also as a mask pattern of a photomask and has a track record in the field of microfabrication.
また、インク40に含まれる溶媒としては、トルエン、ヘキサン、ヘプタン、テトラデカン、クロロホルム、メチルクロライド、ブチルカルビトールアセテート(Butyl carbitol acetate)、エチルカルビトールアセテート(Ethyl carbitol acetate)、α−テルピネオール(α−Terpineol)、エタノール、アセトン、メタノールなどが挙げられる。
本実施形態においては、例えば、溶媒にトルエンを用い、クロム(Cr)を含む材料を10wt%〜60wt%の範囲で含有するインクを、上記のインク40として用いることができる。
The solvent contained in the
In the present embodiment, for example, an ink containing toluene as a solvent and containing a material containing chromium (Cr) in a range of 10 wt% to 60 wt% can be used as the
また、本実施形態においては、インク40は界面活性剤を含有することが好ましい。
インク40の濡れ性を高めて、より効率良くアライメントマークを構成する各凹部31にインク40を流入させるためである。
含有する界面活性剤としては、例えば、フッ素系界面活性剤を使用する事が出来る。その含有量としては、例えば、0.1wt%〜10wt%の範囲とすることができる。
In the present embodiment, the
This is to improve the wettability of the
As the surfactant to be contained, for example, a fluorine-based surfactant can be used. The content can be, for example, in the range of 0.1 wt% to 10 wt%.
また、本実施形態においては、インク40の配設量は、アライメントマーク領域30に形成されたアライメントマークを構成する凹部31の全てを合わせた容積を満たす量以下であることが好ましい。アライメントマーク領域30よりも外側の領域に、インク40が濡れ広がっていくことを防止するためである。
In the present embodiment, the amount of
ここで、インク40は流動性を有するため、配設されたインク40はアライメントマーク領域30を濡れ広がり、その配設量の大部分は凹部31に溜まることになる。それゆえ、インク40の配設量が、アライメントマーク領域30に形成されたアライメントマークを構成する凹部31の全てを合わせた容積を満たす量以下であっても、アライメントマークを構成する各凹部31の底面をインク40で覆うことは十分可能である。
Here, since the
なお、上記の「アライメントマーク領域30に形成されたアライメントマークを構成する凹部31の全てを合わせた容積」とは、例えば、図1(a)に示すように、アライメントマークが同じ形態の2個の凹部31から構成されており、その幅をW1、その深さをD1、その奥行の長さをL1(図示せず)とした場合に、V1=W1×D1×L1×2で表される容積V1のことを言う。
The above-mentioned “volume of all the
次に、図1(c)に示すように、インク40の溶媒を揮発させる。これにより、アライメントマーク領域30の主面2の上、及び、凹部31の底面の上に高屈折材料膜41が形成される。
Next, as shown in FIG. 1C, the solvent of the
この溶媒を揮発させる工程は、ベーク(焼成)工程を含んでいても良い。ベークすることで、インク40に含まれる高屈折材料膜41を構成する材料の粒子密度を向上させることができる。
ベーク(焼成)温度は、インク40に含まれる高屈折材料膜41を構成する材料等に依存するが、例えば、100℃〜300℃の範囲とすることができる。
The step of volatilizing the solvent may include a baking (firing) step. By baking, the particle density of the material constituting the highly
The baking (baking) temperature depends on the material constituting the highly
ここで、本実施形態においては、上記のように、インク40の配設量の大部分は凹部31に溜まることになる。すなわち、インク40に含まれる高屈折材料膜41を構成する材料は、アライメントマーク領域30の主面2の上よりも、凹部31の底面の上に、多く存在することになる。
それゆえ、凹部31の底面の上に形成される高屈折材料膜41(図1(c)に示す41b)の膜厚T2は、アライメントマーク領域30の主面2の上に形成される高屈折材料膜41(図1(c)に示す41a)の膜厚T1よりも厚くなる。
Here, in the present embodiment, as described above, most of the arrangement amount of the
Therefore, the film thickness T 2 of the high refractive material film 41 (41b shown in FIG. 1C) formed on the bottom surface of the
次に、図1(d)に示すように、エッチング用ガス61を用いたドライエッチングにより、アライメントマークの凹部31の底面の上に形成された高屈折材料膜41(図1(d)に示す41b)を残しつつ、主面2から突出する高屈折材料膜41(図1(d)に示す41a)を除去する。
Next, as shown in FIG. 1D, a high refractive material film 41 (shown in FIG. 1D) formed on the bottom surface of the
上記のように、凹部31の底面の上に形成される高屈折材料膜41(図1(c)に示す41b)の膜厚T2は、アライメントマーク領域30の主面2の上に形成される高屈折材料膜41(図1(c)に示す41a)の膜厚T1よりも厚い。
それゆえ、本実施形態においては、この膜厚差を利用して、アライメントマークの凹部31に形成された高屈折材料膜41(図1(d)に示す41b)を残しつつ、主面2から突出する高屈折材料膜41(図1(d)に示す41a)を除去することができる。
ここで、インク40に含まれる高屈折材料膜41を構成する材料としてクロムを含む材料を用いた場合には、エッチング用ガス61には塩素と酸素の混合ガスを用いることができる。
As described above, the film thickness T 2 of the high refractive material film 41 (41b shown in FIG. 1C) formed on the bottom surface of the
Therefore, in the present embodiment, the difference in film thickness is used to leave the high refractive material film 41 (41b shown in FIG. 1 (d)) formed in the
Here, when a material containing chromium is used as the material constituting the highly
そして最終的に、図1(e)に示すように、主面2に、転写パターン領域20とアライメントマーク領域30を有し、アライメントマーク領域30に形成されているアライメントマークの凹部31の底面の上には、高屈折材料膜41が形成されているテンプレート10を得る。
Finally, as shown in FIG. 1E, the
なお、テンプレート10において、凹部31の底面の上に形成されている高屈折材料膜41(図1(e)に示す41b)の膜厚T3は、上記のエッチング用ガス61を用いたドライエッチングにより、図1(c)に示す高屈折材料膜41bの膜厚T2よりも薄くなる。
In the
図3は、本実施形態において製造されるテンプレートの一例を説明する図である(図1(e)に相当)。ここで、図3(a)は、テンプレート10の概略平面図を示し、図3(b)は、テンプレート10のアライメントマーク領域30の概略平面拡大図を示す。
FIG. 3 is a diagram for explaining an example of a template manufactured in the present embodiment (corresponding to FIG. 1 (e)). Here, FIG. 3A shows a schematic plan view of the
図3に示すように、テンプレート10は、転写パターン領域20とアライメントマーク領域30を有し、アライメントマーク領域30に形成されているアライメントマークの凹部31の底面の上には、高屈折材料膜41が形成されている。
As shown in FIG. 3, the
なお、図3においては、理解を容易とするために、転写パターン領域20、及び、アライメントマーク領域30の各領域を破線で囲んで示しているが、本実施形態の製造方法によって製造される実際のテンプレートにおいては、このような破線は存在しない。
In FIG. 3, for easy understanding, the
上記のように、本実施形態によれば、高屈折材料膜41を構成する材料を含有するインク40をアライメントマーク領域30に局所的に配設することにより、高屈折材料膜41をアライメントマーク領域30に局所的に形成でき、転写パターン領域20にはインク40の付着や高屈折材料膜41の形成が生じない。それゆえ、転写パターン領域20に異物の付着や欠陥を生じさせてしまうことを防止することができる。
As described above, according to the present embodiment, the
そして、本実施形態によれば、アライメントマークの凹部31の底面の上に高屈折材料膜41が形成されているテンプレート10を製造することができ、このテンプレート10を用いることで、インプリントに際して凹部31が被転写樹脂によって充填された状態となっても、良好にアライメントマークを光学的に識別することができ、高精度な位置合わせが可能となる。
According to this embodiment, it is possible to manufacture the
(第2の実施形態)
次に、本発明に係るテンプレートの製造方法の第2の実施形態について説明する。
(Second Embodiment)
Next, a second embodiment of the template manufacturing method according to the present invention will be described.
図4は、本発明に係るテンプレートの製造方法の第2の実施形態の一例を説明する図である。ここで、図4においては、本実施形態の要部である溝構造33を含むアライメントマーク領域30の断面を模式的に拡大し、この模式的断面図を用いて各工程を説明する。
なお、上記の図1に示す凹凸基板1aと同様に、図4に示す凹凸基板1bにおいても、アライメントマーク領域30に形成されるアライメントマークが2個の凹部31と1個の凸部32で構成されている形態を模式的に示しているが、実際には、アライメントマーク領域30に形成されるアライメントマークは、より多くの凹部31と凸部32の繰り返しパターンで構成されている。
FIG. 4 is a diagram for explaining an example of the second embodiment of the template manufacturing method according to the present invention. Here, in FIG. 4, the cross section of the
Similar to the concavo-
また、図5は、本発明に係るテンプレートの製造方法の第2の実施形態において準備する凹凸基板の一例を説明する図である。ここで、図5(a)は、凹凸基板1bの概略平面図を示し、図5(b)は、凹凸基板1bのアライメントマーク領域30の概略平面拡大図を示す。
Moreover, FIG. 5 is a figure explaining an example of the uneven | corrugated board | substrate prepared in 2nd Embodiment of the manufacturing method of the template based on this invention. Here, FIG. 5A shows a schematic plan view of the concavo-
図5に示すように、本実施形態において準備する凹凸基板1bは、アライメントマーク領域30の外縁に内接する溝構造33を有している。換言すれば、凹凸基板1bにおいては、アライメントマーク領域30に形成されるアライメントマークの全てが、溝構造33によって囲まれる領域に存在している。
As shown in FIG. 5, the concavo-
それゆえ、本実施形態においては、アライメントマーク領域30に局所的に配設するインク40が、転写パターン領域20に濡れ広がって行くことを、より確実に防止でき、アライメントマーク領域30に形成される全てのアライメントマークの凹部31の底面の上に高屈折材料膜41を形成することを、より確実にできる。
Therefore, in the present embodiment, it is possible to more reliably prevent the
なお、図5に示す例においては、溝構造33は、その外縁33a及び内縁33bが矩形状の平面形態を有しているが、本実施形態に係る溝構造33は、この形態に限定されず、アライメントマーク領域30に局所的に配設するインク40が、アライメントマーク領域30の外側の領域に濡れ広がって行くことを防止できるものであればよい。
例えば、溝構造33は、その外縁33a及び内縁33bが曲線から構成される平面形態を有していてもよく、また、多角形状や十字型の平面形態を有していてもよい。
In the example shown in FIG. 5, the
For example, the
以下、本実施形態に係るテンプレートの製造方法について、詳しく説明する。なお、上記の第1の実施形態と重複する事項については、煩雑となることを避けるため、適宜省略する。 Hereinafter, the template manufacturing method according to the present embodiment will be described in detail. Note that items overlapping with those in the first embodiment are appropriately omitted in order to avoid complications.
図4(a)に示すように、本実施形態においても上記の第1の実施形態と同様に、まず凹凸基板1bを準備し、次に、図4(b)に示すように、高屈折材料膜41を構成する材料を含有するインク40をインクジェット方式によってアライメントマーク領域30に局所的に配設する。
As shown in FIG. 4A, also in the present embodiment, as in the first embodiment, first, an
ここで、インク40はアライメントマーク領域30全域に濡れ広がるが、凹凸基板1bには、アライメントマーク領域30の外縁に内接する溝構造33が設けられているため、この溝構造33に達したインク40は溝構造33に溜まることになり、インク40がアライメントマーク領域30の外側の領域に濡れ広がって行くことを防止できる。
それゆえ、本実施形態においては、転写パターン領域20に、インク40の付着やインク40に含まれる材料による高屈折材料膜41の形成が生じることを、より確実に防止でき、転写パターン領域20に異物の付着や欠陥を生じさせてしまうことを、より確実に防止することができる。
Here, the
Therefore, in the present embodiment, it is possible to more reliably prevent the
本実施形態において、インク40の配設量は、アライメントマーク領域30に形成されたアライメントマークを構成する凹部31の全てを合わせた容積に溝構造33の容積を加えた容積を満たす量以下であることが好ましい。
アライメントマーク領域30よりも外側の領域にインク40が濡れ広がっていくことを、より確実に防止できるからである。
In the present embodiment, the arrangement amount of the
This is because it is possible to more reliably prevent the
さらに、本実施形態においては、インク40の配設量は、アライメントマーク領域30に形成されているアライメントマークを構成する凹部31の全てを合わせた容積に溝構造33の容積を加えた容積を満たす量以下であって、アライメントマーク領域30に形成されているアライメントマークを構成する凹部31の全てを合わせた容積を満たす量以上であることが好ましい。
アライメントマーク領域30よりも外側の領域にインク40が濡れ広がっていくことを、より確実に防止しつつ、各凹部31により多くのインク40を溜めることができるからである。
Furthermore, in the present embodiment, the amount of
This is because
上記のように各凹部31により多くのインク40を溜めることができれば、各凹部31の底面の上に、より厚い高屈折材料膜41を形成することができることになる。
そして、本実施形態の製造方法により製造されたテンプレートを用いてインプリントを行えば、より良好にアライメントマークを光学的に識別することが可能になり、より容易に高精度な位置合わせを行うことが可能になる。
If a large amount of
Then, if imprinting is performed using the template manufactured by the manufacturing method of the present embodiment, it becomes possible to optically identify the alignment mark better, and to perform high-precision alignment more easily. Is possible.
ここで、溝構造33の深さは、アライメントマークを構成する凹部31の深さと同じ、若しくは同程度とすることが好ましい。溝構造33とアライメントマークを、同一工程のドライエッチングにより形成することができ、凹凸基板1bの製造コストをより安価なものにできるからである。
Here, it is preferable that the depth of the
溝構造33の幅は、上記のインク40の配設量やアライメントマークを構成する凹部31の容積との関係や、転写パターン領域20とアライメントマーク領域30との位置関係等から適宜決められるものであるが、例えば、凹部31の幅の5倍〜100倍の範囲とすることができる。
The width of the
次に、図4(c)に示すように、インク40の溶媒を揮発させる。これにより、アライメントマーク領域30の主面2の上、凹部31の底面の上、及び、溝構造33の底面の上に高屈折材料膜41が形成される。なお、この溶媒を揮発させる工程は、ベーク(焼成)工程を含んでいても良い。
Next, as shown in FIG. 4C, the solvent of the
次に、図4(d)に示すように、エッチング用ガス61を用いたドライエッチングにより、アライメントマークの凹部31の底面の上に形成された高屈折材料膜41(図4(d)に示す41b)を残しつつ、主面2から突出する高屈折材料膜41(図4(d)に示す41a)を除去し、図4(e)に示すように、アライメントマークの凹部31の底面の上に、高屈折材料膜41(図4(e)に示す41b)が形成されているテンプレート11aを得る。
Next, as shown in FIG. 4D, a highly refractive material film 41 (shown in FIG. 4D) formed on the bottom surface of the
ここで、図4(c)に示す溶剤を揮発させる工程において凹部31の底面の上に形成される高屈折材料膜41(図4(c)に示す41b)の膜厚は、同工程でアライメントマーク領域30の主面2の上に形成される高屈折材料膜41(図4(c)に示す41a)の膜厚よりも厚い。
それゆえ、この膜厚差を利用して、アライメントマークの凹部31に形成された高屈折材料膜41(図4(d)に示す41b)を残しつつ、主面2から突出する高屈折材料膜41(図4(d)に示す41a)を除去することができる。
Here, in the step of volatilizing the solvent shown in FIG. 4C, the film thickness of the high refractive material film 41 (41b shown in FIG. 4C) formed on the bottom surface of the
Therefore, by utilizing this film thickness difference, the high refractive material film protruding from the
なお、テンプレート11aにおいて、凹部31の底面の上に形成される高屈折材料膜41(図4(e)に示す41b)の膜厚は、上記のエッチング用ガス61を用いたドライエッチングにより、図4(c)に示す高屈折材料膜41bの膜厚よりも薄くなる。
In the
上記のように、本実施形態においても、アライメントマークの凹部31の底面の上に高屈折材料膜41が形成されているテンプレートを製造することができ、このテンプレートを用いることで、インプリントに際して凹部31が被転写樹脂によって充填された状態となっても、良好にアライメントマークを光学的に識別することができ、高精度な位置合わせが可能となる。
As described above, also in the present embodiment, it is possible to manufacture a template in which the high
さらに、本実施形態によれば、溝構造33によってインク40がアライメントマーク領域30の外側の領域に濡れ広がって行くことを、より確実に防止できる。それゆえ、転写パターン領域20に異物の付着や欠陥を生じさせてしまうことを、より確実に防止することができる。
Furthermore, according to the present embodiment, the
ここで、本実施形態においては、図4(c)に示す溶剤を揮発させる工程を経て溝構造33の底面の上に形成される高屈折材料膜41(図4(c)に示す41c)の膜厚に応じて、異なる形態のテンプレートが得られることになる。
Here, in the present embodiment, the high refractive material film 41 (41c shown in FIG. 4C) formed on the bottom surface of the
例えば、図4(c)に示す溶剤を揮発させる工程を経て溝構造33の底面の上に形成される高屈折材料膜41(図4(c)に示す41c)の膜厚が、同工程で主面2の上に形成される高屈折材料膜41(図4(c)に示す41a)の膜厚よりも厚い場合には、図4(e)に示すように、溝構造33の底面の上にも、高屈折材料膜41(図4(e)に示す41c)が残ることになる。
なお、最終的に、溝構造33の底面の上に形成される高屈折材料膜41(図4(e)に示す41c)の膜厚は、上記のエッチング用ガス61を用いたドライエッチングにより、図4(c)に示す高屈折材料膜41cの膜厚よりも薄くなる。
For example, the film thickness of the high refractive material film 41 (41c shown in FIG. 4C) formed on the bottom surface of the
Note that the film thickness of the high refractive material film 41 (41c shown in FIG. 4E) formed on the bottom surface of the
図6は、本実施形態において製造されるテンプレートの一例を説明する図である。ここで、図6(a)は、テンプレート11aの概略平面図を示し、図6(b)は、テンプレート11aのアライメントマーク領域30の概略平面拡大図を示す。
FIG. 6 is a diagram illustrating an example of a template manufactured in the present embodiment. Here, FIG. 6A shows a schematic plan view of the
図6(a)に示すように、テンプレート11aは、転写パターン領域20とアライメントマーク領域30を有しており、さらに、図6(b)に示すように、アライメントマーク領域30の外縁に内接する溝構造33を有し、溝構造33で囲まれた領域に、凹部31と凸部32から構成されるアライメントマークを有しており、溝構造33の底面の上、及び、アライメントマークの凹部31の底面の上には、高屈折材料膜41が形成されている。
As shown in FIG. 6A, the
一方、図4(c)に示す溶剤を揮発させる工程を経て溝構造33の底面の上に形成される高屈折材料膜41(図4(c)に示す41c)の膜厚が、同工程で主面2の上に形成される高屈折材料膜41(図4(c)に示す41a)の膜厚よりも薄い場合や同じ厚みの場合、溝構造33の底面の上には、高屈折材料膜41が残らないことになる。
On the other hand, the film thickness of the high refractive material film 41 (41c shown in FIG. 4C) formed on the bottom surface of the
図7は、本実施形態において製造されるテンプレートの他の例を説明する図である。ここで、図7(a)は、テンプレート11bの概略平面図を示し、図7(b)は、テンプレート11bのアライメントマーク領域30の概略平面拡大図を示す。
FIG. 7 is a diagram illustrating another example of the template manufactured in the present embodiment. Here, FIG. 7A shows a schematic plan view of the
図7(a)に示すように、テンプレート11bは、転写パターン領域20とアライメントマーク領域30を有しており、さらに、図7(b)に示すように、アライメントマーク領域30の外縁に内接する溝構造33を有し、溝構造33で囲まれた領域に、凹部31と凸部32から構成されるアライメントマークを有している。
そして、アライメントマークの凹部31の底面の上には、高屈折材料膜41が形成されているが、溝構造33の底面の上には、高屈折材料膜41は形成されていない。
As shown in FIG. 7A, the
A high
上記のように、本実施形態においては、図4(b)に示す配設工程および図4(c)に示す溶剤を揮発させる工程において溝構造33の底面の上に形成される高屈折材料膜41(図4(c)に示す41c)の膜厚に応じて、異なる形態のテンプレートが得られることになる。
As described above, in the present embodiment, the highly refractive material film formed on the bottom surface of the
(第3の実施形態)
次に、本発明に係るテンプレートの製造方法の第3の実施形態について説明する。
本実施形態は、上記の第1の実施形態または第2の実施形態における、アライメントマークを構成する凹部31の底面の上に形成された高屈折材料膜41を残しつつ、主面2から突出する高屈折材料膜41を除去する工程が、高屈折材料膜41を形成したアライメントマークの凹部31に局所的にエッチング保護膜を形成する工程と、エッチング保護膜から露出する高屈折材料膜41をエッチングにより除去する工程と、エッチング保護膜を除去する工程と、を順に備えるものである。
(Third embodiment)
Next, a third embodiment of the template manufacturing method according to the present invention will be described.
This embodiment protrudes from the
本実施形態によれば、最終的に得られるテンプレートにおいて、アライメントマークを構成する凹部31の底面の上に形成されている高屈折材料膜41の膜厚を、より厚いものとすることができる。
それゆえ、本実施形態の製造方法により製造されたテンプレートを用いてインプリントを行えば、より良好にアライメントマークを光学的に識別することが可能になり、より容易に高精度な位置合わせが可能となる。
以下、本実施形態について、詳細を説明する。
According to this embodiment, in the template finally obtained, the film thickness of the high
Therefore, if imprinting is performed using the template manufactured by the manufacturing method of the present embodiment, it is possible to optically identify the alignment mark better, and it is possible to perform alignment with higher accuracy more easily. It becomes.
Hereinafter, details of this embodiment will be described.
図8及び図9は、本発明に係るテンプレートの製造方法の第3の実施形態の一例を説明する図である。なお、この図8及び図9に示す例は、本実施形態に係るテンプレートの製造方法により、上記の第1の実施形態で準備した凹凸基板1aからテンプレート12を製造する方法の一例である。
8 and 9 are diagrams for explaining an example of the third embodiment of the template manufacturing method according to the present invention. The example shown in FIGS. 8 and 9 is an example of a method for manufacturing the
まず、図8(a)に示すように、上記の第1の実施形態と同様に、主面2に、転写パターン領域20とアライメントマーク領域30を有し、アライメントマーク領域30に凹部31と凸部32から構成されるアライメントマークが形成されている凹凸基板1aを準備する。
そして、上記の第1の実施形態と同様にして、すなわち、上述した図1(b)、(c)に示す工程を施して、図8(c)に示すように、アライメントマーク領域30の主面2の上、及び、凹部31の底面の上に高屈折材料膜41を形成する。
なお、図8(b)、(c)に示す工程は、それぞれ、上記の図1(b)、(c)に示す工程と同じである。
First, as shown in FIG. 8A, as in the first embodiment, the
Then, in the same manner as in the first embodiment, that is, by performing the steps shown in FIGS. 1B and 1C described above, as shown in FIG. A highly
The steps shown in FIGS. 8B and 8C are the same as the steps shown in FIGS. 1B and 1C, respectively.
次に、図8(d)に示すように、エッチング保護膜として硬化性樹脂71を、アライメントマーク領域30に局所的に配設し、次いで、図8(e)に示すように、アライメントマーク領域30に対向配置され、アライメントマーク領域30に対向する領域に平面を有する部材81により、硬化性樹脂71を押し付けて、主面2から突出する高屈折材料膜41の上に位置する硬化性樹脂71の膜厚T4が一定の範囲内になるように平坦化し、この状態で硬化性樹脂71を硬化させ、その後、硬化性樹脂71と部材81を離間する。
Next, as shown in FIG. 8D, a
本実施形態において、硬化性樹脂71には、ナノインプリントの技術分野で用いられている硬化性樹脂、特に、紫外線硬化性樹脂を、好適に用いることができる。そして、硬化性樹脂71に紫外線硬化性樹脂を用いた場合には、部材81側、若しくはテンプレート1側から紫外線照射して、硬化性樹脂71を硬化させることができる。
In the present embodiment, as the
硬化性樹脂71をアライメントマーク領域30に局所的に配設する方法としては、ナノインプリントの技術分野で用いられているインクジェット方式によるものを好適に用いることができる。上記のインクジェット方式は、ナノインプリント分野で実績があり、所望の微量な硬化性樹脂71を所望の位置に配設できるからである。
As a method for locally disposing the
本実施形態において、部材81は、硬化性樹脂71を押し付けることによって、硬化性樹脂71の膜厚T4が一定の範囲内になるように平坦化することができるものであれば、特に制限されるものではないが、図8(e)に示すように、アライメントマーク領域30に対向する領域が他の部位よりも突出している形態を有しているものであることが、好ましい。
このような形態であれば、部材81と転写パターン領域20との接触を、より確実に回避することができ、転写パターン領域20に異物の付着や欠陥を生じさせてしまうことを、より確実に防止することができるからである。
In the present embodiment, the
With such a configuration, the contact between the
部材81を構成する材料としては、上記のように、硬化性樹脂71を押し付けることによって平坦化することができるものであれば、特に制限されるものではないが、紫外線透過性の材料であることが好ましい。
部材81が紫外線透過性の材料から構成されていれば、硬化性樹脂71が紫外線硬化性樹脂である場合に、部材81側から(図8に示すZ方向側)から紫外線照射して、硬化性樹脂71を硬化させることができるからである。
紫外線透過性の材料としては、例えば、合成石英ガラス等、テンプレートを構成する材料として用いられるものを挙げることができる。
The material constituting the
If the
Examples of the ultraviolet light transmissive material include materials used as a material constituting the template, such as synthetic quartz glass.
図8(e)に示す硬化性樹脂71の膜厚T4の範囲としては、後述するドライエッチング工程によって除去できる膜厚であれば、特に制限されるものではないが、例えば、10nm〜200nmの範囲とすることができる。
The range of the film thickness T 4 of the
次に、図9(f)に示すように、エッチング用ガス62を用いたドライエッチングにより、硬化性樹脂71の膜厚T4の部分を除去する。これにより、アライメントマーク領域30の凹部31の中の硬化性樹脂71は残されたまま、主面2から突出する高屈折材料膜41の上に位置する硬化性樹脂71は除去される。
なお、エッチング用ガス62としては、硬化性樹脂71を除去できるものであれば用いることができ、例えば、酸素ガスを挙げることができる。
Next, as shown in FIG. 9F, the portion of the
As the
次に、図9(g)に示すように、エッチング用ガス61を用いたドライエッチングにより、残された硬化性樹脂71から露出する高屈折材料膜41を除去する。これにより、高屈折材料膜41のうち、主面2から突出する膜厚T1の部分は除去されるが、凹部31の底面の上に形成された高屈折材料膜41は、硬化性樹脂71で覆われているため、膜厚T2のままで残存することになる。
なお、上記の第1の実施形態と同様に、高屈折材料膜41を構成する材料としてクロムを含む材料を用いた場合には、エッチング用ガス61には塩素と酸素の混合ガスを用いることができる。
Next, as shown in FIG. 9G, the high
As in the first embodiment, when a material containing chromium is used as the material constituting the high
次に、図9(h)に示すように、エッチング用ガス62を用いたドライエッチングにより、凹部31の中に残存する硬化性樹脂71を除去し、図9(i)に示すように、主面2に転写パターン領域20とアライメントマーク領域30を有し、アライメントマーク領域30の凹部31には、高屈折材料膜41が形成されているテンプレート12を得る。
Next, as shown in FIG. 9 (h), the
ここで、図9(i)に示すテンプレート12において、凹部31の底面の上に形成されている高屈折材料膜41の膜厚T2は、図8(c)に示す工程で、凹部31の底面の上に形成された高屈折材料膜41の膜厚T2と、原則同じになる。
そして、この膜厚T2は、上記の第1の実施形態における図1(e)に示すテンプレート10において、凹部31の底面の上に形成されている高屈折材料膜41の膜厚T3よりも、厚いものである。
Here, in the
Then, this film thickness T 2 is greater than the film thickness T 3 of the high
上記のように、本実施形態によれば、最終的に得られるテンプレートにおいて、アライメントマークを構成する凹部31の底面の上に形成されている高屈折材料膜41の膜厚を、より厚いものとすることができる。
それゆえ、本実施形態の製造方法により製造されたテンプレートを用いてインプリントを行えば、より良好にアライメントマークを光学的に識別することが可能になり、より容易に高精度な位置合わせが可能となる。
As described above, according to the present embodiment, in the finally obtained template, the thickness of the high
Therefore, if imprinting is performed using the template manufactured by the manufacturing method of the present embodiment, it is possible to optically identify the alignment mark better, and it is possible to perform alignment with higher accuracy more easily. It becomes.
そして、上記の第1の実施形態と同様に、本実施形態においても、高屈折材料膜41を構成する材料を含有するインク40は、アライメントマーク領域30に局所的に配設されるため、転写パターン領域20にはインク40の付着は生じない。
また、本実施形態において、エッチング保護膜として形成する硬化性樹脂71も、アライメントマーク領域30に局所的に配設されるため、転写パターン領域20には硬化性樹脂71の付着は生じない。
それゆえ、転写パターン領域20に異物の付着や欠陥を生じさせてしまうことを防止することができる。
As in the first embodiment, the
In the present embodiment, the
Therefore, it is possible to prevent foreign matter from adhering to the
なお上記においては、図8及び図9を用いて、本実施形態の製造方法により、上記の第1の実施形態で準備した凹凸基板1aから、凹部31の底面の上に形成されている高屈折材料膜41の膜厚がより厚いテンプレート12を製造する方法の一例を説明したが、同様に、上記の第2の実施形態で準備した凹凸基板1bから、本実施形態の製造方法により、凹部31の底面の上に形成されている高屈折材料膜41の膜厚がより厚いテンプレートを製造することもできる。
In the above, with reference to FIG. 8 and FIG. 9, the high refraction formed on the bottom surface of the
<テンプレート>
次に、本発明に係るテンプレートについて、説明する。
本発明に係るテンプレートは、溝構造で囲まれた領域に、凹部と凸部から構成されるアライメントマークを有し、アライメントマークを構成する凹部の底面の上に、高屈折材料膜が形成されていることを特徴とするものである。
また、本発明に係るテンプレートは、溝構造の底面の上にも高屈折材料膜が形成されている形態であってもよい。
<Template>
Next, the template according to the present invention will be described.
The template according to the present invention has an alignment mark composed of a concave portion and a convex portion in a region surrounded by a groove structure, and a high refractive material film is formed on the bottom surface of the concave portion constituting the alignment mark. It is characterized by being.
Further, the template according to the present invention may have a form in which a high refractive material film is also formed on the bottom surface of the groove structure.
本発明に係るテンプレートの例としては、上記の本発明に係るテンプレートの製造方法の第2の実施形態において、図6及び図7を用いて説明したテンプレート11a、11bを挙げることができる。
Examples of the template according to the present invention include the
すなわち、図6(a)に示すように、テンプレート11aは、転写パターン領域20とアライメントマーク領域30を有しており、さらに、図6(b)に示すように、アライメントマーク領域30の外縁に内接する溝構造33を有し、溝構造33で囲まれた領域に、凹部31と凸部32から構成されるアライメントマークを有しており、凹部31の底面の上、及び、溝構造33の底面の上には、高屈折材料膜41が形成されている。
That is, as shown in FIG. 6A, the
また、図7(a)に示すように、テンプレート11bは、転写パターン領域20とアライメントマーク領域30を有しており、さらに、図7(b)に示すように、アライメントマーク領域30の外縁に内接する溝構造33を有し、溝構造33で囲まれた領域に、凹部31と凸部32から構成されるアライメントマークを有している。
そして、凹部31の底面の上には高屈折材料膜41が形成されているが、溝構造33の底面の上には高屈折材料膜41は形成されていない。
Further, as shown in FIG. 7A, the
The high
上記のように、テンプレート11a、11bは、本発明に係るテンプレートの製造方法の第2の実施形態により、製造することができる。
As described above, the
そして、テンプレート11a、11bにおいては、アライメントマークの凹部31の底面の上に高屈折材料膜41が形成されているため、インプリントに際して凹部31が被転写樹脂によって充填された状態となっても、良好にアライメントマークを光学的に識別することができ、高精度な位置合わせが可能となる。
In the
以上、本発明に係るテンプレートの製造方法およびテンプレートについて説明したが、本発明は、上記実施形態に限定されるものではない。上記実施形態は例示であり、本発明の特許請求の範囲に記載された技術的思想と、実質的に同一の構成を有し、同様な作用効果を奏するものは、いかなる場合であっても本発明の技術的範囲に包含される。 The template manufacturing method and the template according to the present invention have been described above, but the present invention is not limited to the above embodiment. The above-described embodiment is an exemplification, and the technical idea described in the claims of the present invention has substantially the same configuration and exhibits the same function and effect regardless of the case. It is included in the technical scope of the invention.
1a、1b 凹凸基板
10、11a、11b、12 テンプレート
2 主面
20 転写パターン領域
30 アライメントマーク領域
31 凹部
32 凸部
33 溝構造
33a 外縁
33b 内縁
40 インク
41、41a、41b、41c 高屈折材料膜
61、62 エッチング用ガス
71 硬化性樹脂
81 部材
101 凹凸基板
102 主面
110 テンプレート
120 転写パターン領域
130 アライメントマーク領域
140 視認性薄膜
170 レジスト膜
1a, 1b
Claims (9)
高屈折材料膜を形成する材料を含有するインクをインクジェット方式によって前記アライメントマーク領域に局所的に配設する工程と、
前記インクの溶媒を揮発させて前記高屈折材料膜を形成する工程と、
前記アライメントマークを構成する凹部の底面の上に形成された前記高屈折材料膜を残しつつ、前記主面から突出する前記高屈折材料膜を除去する工程と、
を順に備えることを特徴とするテンプレートの製造方法。 Preparing a concavo-convex substrate having a transfer pattern region and an alignment mark region on the main surface, and wherein an alignment mark composed of a concave portion and a convex portion is formed in the alignment mark region;
A step of locally disposing an ink containing a material for forming a highly refractive material film in the alignment mark region by an inkjet method;
Evaporating the ink solvent to form the highly refractive material film;
Removing the high refractive material film protruding from the main surface while leaving the high refractive material film formed on the bottom surface of the concave portion constituting the alignment mark;
The template manufacturing method characterized by including these in order.
前記アライメントマークを構成する凹部の全てを合わせた容積を満たす量以下であることを特徴とする請求項1または請求項2に記載のテンプレートの製造方法。 The amount of ink disposed locally in the alignment mark region is
The template manufacturing method according to claim 1, wherein the template is less than or equal to an amount that satisfies a combined volume of all the recesses constituting the alignment mark.
前記アライメントマーク領域に局所的に配設される前記インクの配設量が、
前記アライメントマークを構成する凹部の全てを合わせた容積に前記溝構造の容積を加えた容積を満たす量以下であることを特徴とする請求項1または請求項2に記載のテンプレートの製造方法。 The concavo-convex substrate has a groove structure inscribed in an outer edge of the alignment mark region;
The amount of ink disposed locally in the alignment mark region is
3. The template manufacturing method according to claim 1, wherein the template is not more than an amount that satisfies a volume obtained by adding a volume of the groove structure to a volume obtained by adding all of the concave portions constituting the alignment mark.
前記アライメントマークを構成する凹部の全てを合わせた容積を満たす量以上であることを特徴とする請求項4に記載のテンプレートの製造方法。 The amount of ink disposed locally in the alignment mark region is
The template manufacturing method according to claim 4, wherein the amount is equal to or more than an amount satisfying a combined volume of all the concave portions constituting the alignment mark.
前記高屈折材料膜を形成した前記アライメントマークの凹部に局所的にエッチング保護膜を形成する工程と、
前記エッチング保護膜から露出する前記高屈折材料膜をエッチングにより除去する工程と、
前記エッチング保護膜を除去する工程と、
を順に備えることを特徴とする請求項1乃至請求項5のいずれか一項に記載のテンプレートの製造方法。 The step of removing the high refractive material film protruding from the main surface while leaving the high refractive material film formed on the bottom surface of the concave portion constituting the alignment mark,
Forming an etching protective film locally in the recess of the alignment mark on which the high refractive material film is formed;
Removing the highly refractive material film exposed from the etching protective film by etching;
Removing the etching protective film;
The template manufacturing method according to claim 1, wherein the template is provided in order.
前記高屈折材料膜を形成した前記アライメントマークの凹部に局所的にエッチング保護膜を形成する工程が、
前記アライメントマーク領域に局所的に前記硬化性樹脂を配設する工程と、
前記アライメントマーク領域に対向配置され、前記アライメントマーク領域に対向する領域に平面を有する部材により、前記硬化性樹脂を押し付ける工程と、
前記硬化性樹脂を硬化させる工程と、
前記硬化性樹脂と前記部材を離間する工程と、
前記主面から突出する前記高屈折材料膜の上に位置する前記硬化性樹脂を除去する工程と、
を順に備えることを特徴とする請求項6に記載のテンプレートの製造方法。 The etching protective film is made of a curable resin,
The step of locally forming an etching protective film in the concave portion of the alignment mark formed with the high refractive material film,
Disposing the curable resin locally in the alignment mark region;
A step of pressing the curable resin by a member that is disposed to face the alignment mark region and has a flat surface in a region facing the alignment mark region;
Curing the curable resin;
Separating the curable resin and the member;
Removing the curable resin located on the highly refractive material film protruding from the main surface;
The template manufacturing method according to claim 6, comprising: in order.
前記アライメントマークを構成する凹部の底面の上に、高屈折材料膜が形成されていることを特徴とするテンプレート。 In the region surrounded by the groove structure, it has an alignment mark composed of a concave portion and a convex portion,
A template, wherein a highly refractive material film is formed on a bottom surface of a concave portion constituting the alignment mark.
The template according to claim 8, wherein a highly refractive material film is formed on a bottom surface of the groove structure.
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