JP6417728B2 - Method of manufacturing a template - Google Patents

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本発明は、微細な転写パターンを被転写基板上に形成された被転写樹脂に転写するナノインプリントリソグラフィに用いられるテンプレートの製造方法に関するものである。 The present invention relates to a manufacturing method of a template for use in nanoimprint lithography for transferring a fine transfer pattern to a transfer resin formed on the transfer substrate.

近年、半導体リソグラフィにおいては、デバイスの微細化の要求に対して、露光波長の問題や製造コストの問題などからフォトリソグラフィ方式の限界が指摘されており、その対案として、ナノインプリント技術を用いたナノインプリントリソグラフィ(NIL:Nanoimprint Lithography)が注目を集めている。 In recent years, in semiconductor lithography, the request of miniaturization of devices, and the limit of the photolithography method has been pointed out from such problems and manufacturing cost issues of exposure wavelength, as a counterproposal, nanoimprint lithography using nano-imprint technology (NIL: Nanoimprint Lithography) has attracted attention.

ナノインプリントリソグラフィは、表面に微細な凹凸形状の転写パターンを形成したテンプレート(モールド、スタンパ、金型とも呼ばれる)を、半導体ウェハなどの被転写基板の上に形成された被転写樹脂に接触させ、この被転写樹脂の表面側の形状を、テンプレートの転写パターンの凹凸形状に成型した後に離型し、次いで、ドライエッチング等により余分な部分(残膜部分)を除去することで、被転写基板の上の被転写樹脂にテンプレートの転写パターンの凹凸形状(より詳しくは、凹凸反転形状)を転写させる技術である Nanoimprint lithography, fine irregularities template to form a transfer pattern on the surface (the mold, the stamper, also referred to as mold), is contacted to the transfer resin formed on the transfer substrate such as a semiconductor wafer, the the shape of the surface side of the transfer resin, demolded after molded in concavo-convex shape of the transfer pattern of the template, then by removing unnecessary portions (remaining film portion) by dry etching or the like, on the transfer target substrate (more specifically, uneven inverted shape) of the concave-convex shape of the transfer pattern of the template to the transfer resin is a technique for transferring the

このナノインプリントリソグラフィは、一度テンプレート(適宜、ナノインプリント用テンプレートとも呼ぶ)を作製すれば、微細な凹凸形状の転写パターンを繰り返し転写成型でき、この転写工程には高額な露光装置(ステッパー)を用いないため、経済的にも有利である。 The nanoimprint lithography, once the template (as appropriate, also called nano-imprint template) if prepared, can repeatedly transfer molding a transfer pattern of fine irregularities, because of not using the expensive exposure apparatus (stepper) for this transfer process , it is economically advantageous.

上述のようなナノインプリントリソグラフィにより、テンプレートの転写パターンを被転写基板に位置精度良く転写するには、テンプレートと被転写基板との位置合わせを精密に行う必要がある。 The nanoimprint lithography as described above, the transfer pattern of the template to transfer high positional accuracy on the transfer substrate, it is necessary to precisely to align the template and the transfer substrate. 一般的には、テンプレートに設けられている凹凸構造のアライメントマークと、被転写基板に設けられているアライメントマークとを、テンプレート側から光学的に検出することにより位置合わせを行う。 In general, performing an alignment mark of the concavo-convex structure provided on the template, an alignment mark provided on the transfer substrate, the alignment by detecting optically the template side.

ここで、テンプレートを被転写樹脂に接触させると、テンプレートのアライメントマークの凹部が、被転写樹脂によって充填された状態になる。 Here, when contacting the template to a transfer resin, recesses of the alignment mark of the template, in a state of being filled by the transfer resin.
そして、このような状態になると、テンプレートのアライメントマークを構成する材料(一般的には、石英)の屈折率と、被転写樹脂の屈折率とがほとんど同じ値であることから、テンプレートのアライメントマークを光学的に識別することが困難になってしまうという問題がある。 Then, at this state, (typically quartz) material constituting the alignment mark of the template and the refractive index of, since the refractive index of the transferred resin is almost the same value, the alignment mark of the template there is a problem that can be identified optically becomes difficult.

この問題に対して、テンプレートのアライメントマークの凹部に高屈折率材料膜を形成することによって、被転写樹脂によって充填された状態でも、アライメントマークを光学的に識別する方法が提案されている(例えば、特許文献1〜3)。 For this problem, by forming the high refractive index material film in the recess of the alignment mark of the template, even in a state of being filled by the transfer resin, a method for identifying an alignment mark optically have been proposed (e.g. , Patent documents 1 to 3).

例えば、上記の特許文献1に記載のテンプレートの製造方法においては、図5に例示するように、まず、主面102に、転写パターン領域120とアライメントマーク領域130を有するテンプレート101を準備し(図5(a))、スパッタ法等の手法を用いて、アライメントマーク領域130のみならず、転写パターン領域120も覆うように視認性薄膜140(高屈折材料膜に相当)を形成する(図5(b))。 For example, in the method for manufacturing the template described in Patent Document 1 above, as illustrated in FIG. 5, first, the main surface 102, preparing a template 101 having a transfer pattern region 120 and the alignment mark area 130 (FIG. 5 (a)), by using a technique such as sputtering, not only the alignment mark region 130, to form a transfer pattern region 120 also covers so visibility film 140 (corresponding to a high refractive index material film) (FIG. 5 ( b)).
さらに、その上からレジスト膜170(保護層に相当)を形成し、段差基板を押し付けて、アライメントマーク領域130の膜厚が転写パターン領域120の膜厚よりも厚くなるようにレジスト膜170を変形させる(図5(c))。 Further, the upper resist film 170 is formed (corresponding to the protective layer) from pressing the stepped substrate, deformation of the resist film 170 as the film thickness of the alignment mark region 130 is thicker than the thickness of the transfer pattern region 120 let (Figure 5 (c)).
その後、レジスト膜170の所定の厚み分をドライエッチングして、アライメントマーク領域130の凹部内のみにレジスト膜170が残る状態にする(図5(d))。 Thereafter, a predetermined thickness of the resist film 170 is dry-etched, a state where the resist film 170 remains only in the recess of the alignment mark region 130 (FIG. 5 (d)).
次に、露出する視認性薄膜140を所定量ドライエッチングし、最後に、アライメントマーク領域130の凹部内のレジスト膜170を除去して、アライメントマーク領域130の凹部に視認性薄膜140を有するテンプレート110aを得る(図5(e))。 Next, the visibility thin film 140 to expose a predetermined amount the dry etching, and finally, by removing the resist film 170 in the recess of the alignment mark region 130, the template 110a having visibility film 140 in the recess of the alignment mark region 130 the obtained (FIG. 5 (e)).

上記の特許文献2、3に記載のテンプレートの製造方法においても、上記の特許文献1に記載のテンプレートの製造方法と同様に、アライメントマーク領域と転写パターン領域を、高屈折材料膜と保護層の両方、又は高屈折材料膜若しくは保護層のいずれか一方で覆い、これらに対して各種加工を施して、アライメントマーク領域の凹部に高屈折率材料膜を形成する。 In the manufacturing method of the template described in Patent Documents 2 and 3 above, as in the manufacturing method of the template described in Patent Document 1 above, the alignment mark area and a transfer pattern region, a high refractive index material film and the protective layer both, or covered with one of the high refractive index material film or protective layer, it is subjected to various processing to these, to form a high refractive index material film in the recess of the alignment mark region.

特開2013−168604号公報 JP 2013-168604 JP 特開2007−103915号公報 JP 2007-103915 JP 特表2013−519236号公報 JP-T 2013-519236 JP

しかしながら、上記の特許文献1〜3に記載のテンプレートの製造方法では、アライメントマーク領域のみならず転写パターン領域も、高屈折材料膜と保護層の両方、又は高屈折材料膜若しくは保護層のいずれか一方で覆い、これらに対して各種加工を施すため、転写パターン領域に異物を付着させてしまうというおそれや、転写パターン領域に欠陥を生じさせてしまうというおそれがある。 However, in the manufacturing method of the templates described in Patent Documents 1 to 3 described above, the transfer pattern region not alignment mark region but also, one of both of the high refractive material layer and the protective layer, or high refractive index material film or protective layer on the other hand covered with, for performing various processing on these, and fear arises by adhering foreign matter in the transfer pattern area, there is a possibility arises that cause defects in the transfer pattern area.

そして、転写パターン領域に、異物付着や欠陥を生じたテンプレートを用いて、上記のナノインプリントリソグラフィを行うと、転写された被転写樹脂のパターンにも欠陥を生じさせてしまうことになる。 Then, the transfer pattern region, using a template generated a foreign matter adhesion and defects, when the nanoimprint lithography above, so that would cause defects in the pattern of the transferred the transfer resin.

本発明は、上記実情に鑑みてなされたものであり、テンプレートの転写パターン領域に異物の付着や欠陥を生じさせてしまうことを防止しつつ、高精度な位置合わせを可能とするテンプレートの製造方法を提供することを目的とする。 The present invention has been made in view of the above circumstances, while preventing the the transfer pattern region of the template thereby causing adhesion and defects of the foreign matter, method for manufacturing a template enabling highly accurate positioning an object of the present invention is to provide a.

すなわち、本発明の請求項1に係る発明は、主面に、転写パターン領域とアライメントマーク領域を有し、前記アライメントマーク領域に形成されるアライメントマークは凹部と凸部から構成されており、前記アライメントマークの凹部には、高屈折材料膜が形成されているテンプレートの製造方法であって、前記アライメントマーク領域に局所的に前記高屈折材料膜を堆積させる工程と、前記アライメントマークの前記凹部に堆積した前記高屈折材料膜を残して、前記主面から突出する前記高屈折材料膜を除去する工程と、を順に備えることを特徴とするテンプレートの製造方法である。 That is, the invention according to claim 1 of the present invention, the main surface having the transfer pattern region and alignment mark regions, the alignment mark formed on the alignment mark region is composed of concave portions and convex portions, wherein the recess of the alignment mark, a method for manufacturing a template high refractive material film is formed, depositing a locally the high refractive material layer on the alignment mark regions, in the recess of the alignment mark It deposited leaving the high refractive material film, a method for manufacturing a template characterized by comprising the step of removing the high refractive material layer which protrudes, the order from the main surface.

また、本発明の請求項2に係る発明は、前記アライメントマークの前記凹部に堆積した前記高屈折材料膜を残して、前記主面から突出する前記高屈折材料膜を除去する工程が、前記高屈折材料膜を堆積した前記アライメントマークの前記凹部に局所的にエッチング保護膜を形成する工程と、前記エッチング保護膜から露出する前記高屈折材料膜をエッチングにより除去する工程と、前記エッチング保護膜を除去する工程と、を順に備えることを特徴とする請求項1に記載のテンプレートの製造方法である。 The invention according to claim 2 of the present invention, leaving the high refractive material film deposited on the recess of the alignment mark, the step of removing the high refractive material layer projecting from said main surface, the high forming a locally etching protective film in the recess of the alignment mark by depositing a refractive material film, and removing the high refractive material film exposed from the etching protection film by etching, the etching protective film removing a method for producing a template of claim 1, characterized in that sequentially provided a.

また、本発明の請求項3に係る発明は、前記エッチング保護膜が硬化性樹脂から構成されており、前記高屈折材料膜を堆積した前記アライメントマークの前記凹部に局所的にエッチング保護膜を形成する工程が、前記アライメントマーク領域に局所的に前記硬化性樹脂を配設する工程と、前記アライメントマーク領域に対向配置され、前記アライメントマーク領域に対向する領域に平面を有する部材により、前記硬化性樹脂を押し付ける工程と、前記硬化性樹脂を硬化させる工程と、前記硬化性樹脂と前記部材を離間する工程と、前記主面から突出する前記高屈折材料膜の上に位置する前記硬化性樹脂を除去する工程と、を順に備えることを特徴とする請求項2に記載のテンプレートの製造方法である。 The invention according to claim 3 of the present invention, forming the etching protective film is composed of a curable resin, locally etching protective film in the recess of the alignment mark deposited the high refractive material layer step, a step of disposing locally the curable resin in the alignment mark region, the disposed to face the alignment mark region, the member having a plane in a region facing the alignment mark region, the curable to a step of pressing the resin, and curing the curable resin, a step of separating the said member and the curable resin, the curable resin positioned on the high refractive material layer projecting from the main surface removing a method for producing a template of claim 2, characterized in that sequentially provided a.

また、本発明の請求項4に係る発明は、前記アライメントマーク領域に局所的に前記高屈折材料膜を堆積させる工程が、デポジション用ガスを供給しながら、前記アライメントマーク領域に局所的にエネルギー線を照射する工程を備えることを特徴とする請求項1乃至請求項3のいずれか一項に記載のテンプレートの製造方法である。 In the invention, the step of depositing a locally the high refractive material layer on the alignment mark regions, while supplying the deposition gas, topically energy to the alignment mark region according to claim 4 of the present invention a method for producing a template according to any one of claims 1 to 3, characterized in that it comprises a step of irradiating the line.

また、本発明の請求項5に係る発明は、前記エネルギー線が、レーザであることを特徴とする請求項4に記載のテンプレートの製造方法である。 The invention according to claim 5 of the present invention, the energy beam is a method for producing a template of claim 4, characterized in that a laser.

また、本発明の請求項6に係る発明は、前記アライメントマーク領域に局所的に前記高屈折材料膜を堆積させる工程が、前記主面の上に、前記アライメントマーク領域に対向する領域に開口部を有するマスクを配置し、前記マスクを介したスパッタ法により、前記アライメントマーク領域に前記高屈折材料膜を堆積させる工程を備えることを特徴とする請求項1乃至請求項3のいずれか一項に記載のテンプレートの製造方法である。 The invention according to claim 6 of the present invention comprises the steps of depositing a locally the high refractive material layer on the alignment mark region, on the main surface, opening in a region that faces the alignment mark region place a mask having, by sputtering through the mask, to any one of claims 1 to 3, characterized in that it comprises the step of depositing the high refractive material layer on the alignment mark regions a method for producing a template description.

本発明によれば、テンプレートの転写パターン領域に異物の付着や欠陥を生じさせてしまうことを防止しつつ、高精度な位置合わせを可能とするテンプレートを製造することができる。 According to the present invention, while preventing the the transfer pattern region of the template thereby causing adhesion and defects of the foreign matter, it is possible to produce a template that enables highly accurate positioning.

本発明に係るテンプレートの製造方法の第1の実施形態の一例を説明する図である。 Is a diagram illustrating an example of a first embodiment of a method for manufacturing a template according to the present invention. 本発明に係るテンプレートの製造方法の第2の実施形態の一例を説明する図である。 Is a diagram illustrating an example of a second embodiment of the method for manufacturing a template according to the present invention. 本発明に係るテンプレートの製造方法の第3の実施形態の一例を説明する図である。 Is a diagram illustrating an example of a third embodiment of the method for manufacturing a template according to the present invention. 図3に続く、本発明に係るテンプレートの製造方法の第3の実施形態の一例を説明する図である。 Subsequent to FIG. 3 is a diagram illustrating an example of a third embodiment of the method for manufacturing a template according to the present invention. 従来のテンプレートの製造方法の一例を説明する図である。 Is a diagram illustrating an example of a conventional method for manufacturing a template.

以下、本発明に係るテンプレートの製造方法の各実施形態について詳しく説明する。 It will be described in detail below each of the embodiments of the method for manufacturing a template according to the present invention.

(第1の実施形態) (First Embodiment)
図1は、本発明に係るテンプレートの製造方法の第1の実施形態の一例を説明する図である。 Figure 1 is a diagram illustrating an example of a first embodiment of a method for manufacturing a template according to the present invention.
本実施形態においては、まず、図1(a)に示すように、主面2に、転写パターン領域20とアライメントマーク領域30を有するテンプレート1を準備する。 In the present embodiment, first, as shown in FIG. 1 (a), the main surface 2, to prepare a template 1 having the transfer pattern region 20 and the alignment mark region 30.
転写パターン領域20に形成される転写パターンは、例えば、テンプレート1が半導体用途のテンプレートならば回路パターンなどである。 Transfer pattern formed on the transfer pattern region 20 is, for example, the template 1 is such as a circuit pattern, if the template semiconductor applications.
アライメントマーク領域30に形成されるアライメントマークは、凹部31と凸部32で構成されている。 An alignment mark formed on the alignment mark region 30 is composed of the concave portion 31 and convex portion 32.
なお、図1(a)においては、煩雑となるのを避けるため、アライメントマーク領域30に形成されるアライメントマークが2個の凹部31と1個の凸部32で構成されている形態を模式的に示しているが、実際には、アライメントマーク領域30に形成されるアライメントマークは、より多くの凹部31と凸部32の繰り返しパターンで構成されている。 In order to avoid the in FIG. 1 (a), becomes complicated, schematically an embodiment of an alignment mark formed on the alignment mark region 30 is formed with two recesses 31 with one protrusion 32 It is shown in, in fact, an alignment mark formed on the alignment mark region 30 is composed of a repetitive pattern of more recesses 31 and the projections 32.

アライメントマーク領域30の大きさは、アライメント精度を確保できる大きさであれば特に制限されるものではないが、例えば、10μm×50μm〜100μm×500μmの範囲とすることができる。 The size of the alignment mark region 30 is not particularly limited if it is large enough to be able precisely align, e.g., can be in the range of 10μm × 50μm~100μm × 500μm.
アライメントマーク領域30に形成されるアライメントマークの凹部31の深さは、通常、転写パターン領域20に形成される転写パターンの深さと同程度になり、例えば、20nm〜100nmの範囲とすることができる。 The depth of the recess 31 of the alignment mark formed on the alignment mark region 30 is typically made to a depth comparable to the transfer pattern formed transfer pattern region 20, for example, can range from 20nm~100nm .
上記のアライメントマークは例えば、30nm〜5μm幅の凹部31と凸部32の繰り返しパターンとすることができる。 The above alignment mark, for example, be a repeated pattern of recesses 31 and the projections 32 of the 30nm~5μm width.

次に、図1(b)に示すように、デポジション用ガス51を供給しながら、アライメントマーク領域30のみにエネルギー線52を照射して、アライメントマーク領域30のみに高屈折材料膜40を堆積させる。 Next, as shown in FIG. 1 (b), while supplying the deposition gas 51, by irradiating an energy beam 52 only in the alignment mark region 30, depositing a high refractive material film 40 only in the alignment mark region 30 make.

上記のエネルギー線52としては、例えば、電子線、ガリウムイオンビーム、レーザ等をあげることができる。 The energy beam 52 described above, for example, an electron beam, may be mentioned gallium ion beam, a laser or the like. 中でも、本実施形態においては、レーザを好適に用いることができる。 Above all, in the present embodiment, it is possible to use a laser suitably.
エネルギー線52にレーザを用いる場合には、通常、電子線を用いる場合よりも短い時間で高屈折材料膜40を堆積させることができる。 In the case of using a laser energy beam 52, typically, it can be deposited a high refractive material film 40 in a shorter time than the case of using an electron beam. また、エネルギー線52にガリウムイオンビームを用いる場合には、ガリウムがテンプレート内に残ってしまうという現象も生じ得るが、レーザであれば、このような現象が生じるおそれはない。 In the case of using a gallium ion beam to the energy beam 52 is gallium may occur phenomenon may remain in the template, if the laser, there is no possibility to occur such a phenomenon.
上記のレーザとしては、アルゴンレーザや連続励起Nd:YAGレーザを挙げることができる。 As the laser, an argon laser or a continuous excitation Nd: mention may be made of YAG laser.
上記レーザのスポット径は、例えば10μmよりも小さいサイズとすることができ、これはアライメントマーク領域30の大きさよりも小さいため、アライメントマーク領域30のみにエネルギー線52を照射することができる。 Spot diameter of the laser may be, for example, a size smaller than 10 [mu] m, which is smaller than the size of the alignment mark region 30 can be irradiated with the energy beam 52 only in the alignment mark region 30.

また、デポジション用ガス51には、例えば、クロムカルボニル(Cr(CO) 6 )ガスを用いることができる。 Also, the deposition gas 51, for example, can be used chromium carbonyl (Cr (CO) 6) gas. 上記のガスにより堆積されるクロム系材料膜は、石英よりも高い屈折率を有しているため、本実施形態における高屈折材料膜40として用いることができる。 Chromium-containing material film deposited by the above gas, since it has a higher refractive index than quartz, can be used as a high refractive index material film 40 in this embodiment.

堆積させる高屈折材料膜40の膜厚(図1(c)に示す膜厚T 1 )としては、最終的に、凹部31に残る高屈折材料膜40によってアライメント精度を確保できるものであれば特に制限されるものではないが、無用に膜厚を大きくすると、それだけ堆積時間がかかることになり、生産性が低下することになる。 As the high-refractive film thickness of the material layer 40 to be deposited (film thickness T 1 shown in FIG. 1 (c)), finally, in particular as long as it can ensure the alignment accuracy by the high refractive index material film 40 remaining in the recess 31 limiting but are not, but if unnecessarily increasing the thickness, will be such that much deposition time, the productivity decreases.
それゆえ、本実施形態においては、例えば、5nm〜50nmの範囲とすることが好ましい。 Therefore, in the present embodiment, for example, it is preferably in the range of 5 nm to 50 nm.

上記のように、エネルギー線52としてレーザを照射して、アライメントマーク領域30のみに高屈折材料膜40を堆積させる工程には、例えば、LCD用フォトマスクの欠陥修正に用いられるレーザリペア装置を好適に用いることができる。 As described above, by irradiating a laser as the energy beam 52, the step of depositing the high-refractive material film 40 only in the alignment mark region 30, for example, preferably a laser repair apparatus used for defect correction of LCD photomask it can be used for.

次に、図1(c)に示すように、エッチング用ガス61を用いたドライエッチングにより、アライメントマーク領域30の凹部31の側壁面に堆積した高屈折材料膜40を残して、テンプレート1の主面2から突出する高屈折材料膜40を除去し、図1(d)に示すように、主面2に転写パターン領域20とアライメントマーク領域30を有し、アライメントマーク領域30の凹部31には、高屈折材料膜40が形成されているテンプレート10aを得る。 Next, as shown in FIG. 1 (c), by dry etching using an etching gas 61, leaving a high refractive material layer 40 deposited on the side wall surface of the concave portion 31 of the alignment mark region 30, the template 1 of the main removing the high-refractive material film 40 that protrudes from the surface 2, as shown in FIG. 1 (d), having a transfer pattern region 20 and the alignment mark area 30 on the main surface 2, the recess 31 of the alignment mark region 30 to obtain a template 10a to the high refractive index material film 40 is formed.
上記のように、高屈折材料膜40としてクロム系材料膜を形成した場合には、エッチング用ガス61には塩素と酸素の混合ガスを用いることができる。 As described above, in the case of forming a chromium-based material film as a high refractive index material film 40, the etching gas 61 may be a mixed gas of chlorine and oxygen.

ここで、アライメントマーク領域30の凹部31の底面に堆積した高屈折材料膜40の膜厚T 2は、通常、アライメントマーク領域30の凸部32の上面に堆積した高屈折材料膜40の膜厚T 1と同じか、若しくは、膜厚T 1よりも薄い厚みとなる。 The thickness T 2 of the high-refractive index material film 40 deposited on the bottom surface of the concave portion 31 of the alignment mark region 30 is typically a high refractive index material film 40 thickness of deposited on the top surface of the convex portion 32 of the alignment mark region 30 the same as the T 1, or a thickness less than the thickness T 1.
それゆえ、テンプレート1の主面2から突出する高屈折材料膜40を除去するようにドライエッチングを施す場合、アライメントマーク領域30の凹部31の底面に堆積した高屈折材料膜40も、通常、消失してしまうことになる。 Therefore, if dry etching to remove the high-refractive index material film 40 protruding from the main surface 2 of template 1, the high refractive index material film 40 deposited on the bottom surface of the concave portion 31 of the alignment mark region 30 is also usually lost and it will be thus.

一方、アライメントマーク領域30の凹部31の側壁面に堆積した高屈折材料膜40は、主面2に垂直な方向(図1に示すZ方向)の膜厚が、概ねアライメントマーク領域30の凹部31の深さと同じになり、この膜厚は膜厚T 1よりも大きい。 On the other hand, the high refractive index material film 40 deposited on the side wall surface of the concave portion 31 of the alignment mark region 30, the film thickness in a direction perpendicular to the main surface 2 (Z direction shown in FIG. 1) is recess 31 of generally the alignment mark region 30 the same as the depth of, the film thickness is greater than the thickness T 1.
それゆえ、テンプレート1の主面2から突出する高屈折材料膜40を除去するようにドライエッチングを施す場合であっても、アライメントマーク領域30の凹部31の側壁面に堆積した高屈折材料膜40は、消失せずに残存することができる。 Therefore, even when the dry etching to remove the high-refractive index material film 40 protruding from the main surface 2 of template 1, the high refractive index material film deposited on the side wall surface of the concave portion 31 of the alignment mark region 30 40 it can be left without loss.

上記のように、本実施形態によれば、アライメントマーク領域30に局所的に高屈折材料膜40を堆積させることができ、転写パターン領域20には高屈折材料膜40を堆積させずに済むため、転写パターン領域20に異物の付着や欠陥を生じさせてしまうことを防止することができる。 As described above, according to this embodiment, can be deposited locally high refractive material layer 40 in the alignment mark region 30, since the transfer pattern region 20 unnecessary to deposit the high-refractive material film 40 , it can be prevented from being caused to adhere and defects of the foreign matter in the transfer pattern region 20.

そして、本実施形態によれば、アライメントマーク領域30の凹部31に高屈折材料膜40が形成されているテンプレート10aを製造することができ、このテンプレート10aを用いれば、インプリントに際して凹部31が被転写樹脂によって充填された状態となっても、良好にアライメントマークを光学的に識別することができ、高精度な位置合わせが可能となる。 Then, according to this embodiment, the high refractive index material film can 40 to produce the template 10a which is formed in the recess 31 of the alignment mark region 30, by using this template 10a, the recess 31 during imprinting the even in a state of being filled by transfer resin, favorably can identify the alignment marks optically, it is possible to highly accurate positioning.

(第2の実施形態) (Second Embodiment)
図2は、本発明に係るテンプレートの製造方法の第2の実施形態の一例を説明する図である。 Figure 2 is a diagram illustrating an example of a second embodiment of the method for manufacturing a template according to the present invention.
図2(a)に示すように、本実施形態においても、上記の第1の実施形態と同様に、まず、主面2に転写パターン領域20とアライメントマーク領域30を有するテンプレート1を準備する。 As shown in FIG. 2 (a), also in this embodiment, as in the first embodiment described above, first, preparing a template 1 having the transfer pattern region 20 and the alignment mark area 30 on the main surface 2.

次に、図2(b)に示すように、テンプレート1の主面2の上に、アライメントマーク領域30に対向する領域に開口部を有するマスク53を配置し、マスク53を介したスパッタ法により、アライメントマーク領域30のみに高屈折材料膜41を堆積させる。 Next, as shown in FIG. 2 (b), on the major surface 2 of template 1, a mask 53 having an opening is disposed in a region opposed to the alignment mark region 30, by sputtering through a mask 53 , depositing a high refractive index material film 41 only in the alignment mark region 30.

本実施形態においては、上記のように、アライメントマーク領域30に対向する領域に開口部を有するマスク53を介して局所的にスパッタ成膜するため、アライメントマーク領域30のみに高屈折材料膜41を堆積させることができる。 In the present embodiment, as described above, for locally sputtering through a mask 53 having an opening in a region facing the alignment mark region 30, a high refractive material film 41 only in the alignment mark region 30 it can be deposited.

本実施形態において、スパッタターゲット54の材料としては、被転写樹脂によって充填された状態でもアライメントマークを光学的に識別することが可能な高屈折材料膜41を堆積させることができるものであれば、特に制限されるものではないが、例えば、クロム(Cr)を好適に用いることができる。 In the present embodiment, as the material of the sputter target 54, as long as it can be deposited high refractive index material film 41 capable of identifying the alignment marks optically even in a state of being filled by the transfer resin, It not particularly limited but, for example, can be preferably used chromium (Cr). また、スパッタに用いるガスとしては、例えば、アルゴンガスの他に、酸素ガスや窒素ガスを含めたものを用いることができる。 As the gas used for sputtering, for example, it can be used, including in addition to argon gas, oxygen gas and nitrogen gas.

次に、図2(c)に示すように、エッチング用ガス62を用いたドライエッチングにより、上記の第1の実施形態と同様に、アライメントマーク領域30の凹部31の側壁面に堆積した高屈折材料膜41を残して、テンプレート1の主面2から突出する高屈折材料膜41を除去し、図2(d)に示すように、主面2に、転写パターン領域20とアライメントマーク領域30を有し、アライメントマーク領域30の凹部31には、高屈折材料膜41が形成されているテンプレート10bを得る。 Next, as shown in FIG. 2 (c), by dry etching using an etching gas 62, as in the first embodiment described above, the high-refractive-deposited on the side wall surface of the concave portion 31 of the alignment mark region 30 leaving the material film 41, to remove the high-refractive index material film 41 protruding from the main surface 2 of template 1, as shown in FIG. 2 (d), the main surface 2, a transfer pattern region 20 and the alignment mark region 30 It has, in the recess 31 of the alignment mark region 30, to obtain a template 10b of the high refractive material film 41 is formed.
ここで、高屈折材料膜41としてクロム系材料膜を形成した場合には、エッチング用ガス62には塩素と酸素の混合ガスを用いることができる。 Here, in the case of forming a chromium-based material film as a high refractive index material film 41, the etching gas 62 may be a mixed gas of chlorine and oxygen.

上記のように、本実施形態によれば、アライメントマーク領域30に局所的に高屈折材料膜41を堆積させることができ、転写パターン領域20には高屈折材料膜41を堆積させずに済むため、転写パターン領域20に異物の付着や欠陥を生じさせてしまうことを防止することができる。 As described above, according to this embodiment, it is possible to locally deposit a high refractive material layer 41 in the alignment mark region 30, since the transfer pattern region 20 unnecessary to deposit the high-refractive material film 41 , it can be prevented from being caused to adhere and defects of the foreign matter in the transfer pattern region 20.

そして、本実施形態によれば、アライメントマーク領域30の凹部31に高屈折材料膜41が形成されているテンプレート10bを製造することができ、このテンプレート10bを用いれば、インプリントに際して凹部31が被転写樹脂によって充填された状態となっても、良好にアライメントマークを光学的に識別することができ、高精度な位置合わせが可能となる。 Then, according to this embodiment, the template 10b of the high refractive material film 41 is formed can be made to produce the recess 31 of the alignment mark region 30, by using this template 10b, the recess 31 during imprinting the even in a state of being filled by transfer resin, favorably can identify the alignment marks optically, it is possible to highly accurate positioning.

(第3の実施形態) (Third Embodiment)
図3及び図4は、本発明に係るテンプレートの製造方法の第3の実施形態の一例を説明する図である。 3 and 4 are diagrams illustrating an example of a third embodiment of the method for manufacturing a template according to the present invention.

本実施形態においても、上記の第1の実施形態や第2の実施形態と同様に、まず、主面2に、転写パターン領域20とアライメントマーク領域30を有するテンプレート1を準備し(図3(a))、次いで、アライメントマーク領域30のみに高屈折材料膜42を堆積させる(図3(b))。 In this embodiment, as in the first embodiment and the second embodiment described above, first, the main surface 2, prepares a template 1 having the transfer pattern region 20 and the alignment mark area 30 (FIG. 3 ( a)), then, a high refractive material film 42 is deposited only in the alignment mark region 30 (Figure 3 (b)).

ここで、図3(b)に示すアライメントマーク領域30のみに高屈折材料膜42を堆積させる方法は、第1の実施形態において説明した方法であっても良く、また、第2の実施形態において説明した方法であっても良い。 Here, a method of depositing a high refractive material film 42 only in the alignment mark region 30 shown in FIG. 3 (b) may be a method described in the first embodiment, also in the second embodiment a described method may be.

次に、アライメントマーク領域30のみにエッチング保護膜として硬化性樹脂71を配設し(図3(c))、アライメントマーク領域30に対向配置され、アライメントマーク領域30に対向する領域に平面を有する部材81により、硬化性樹脂71を押し付けて、主面2から突出する高屈折材料膜42の上に位置する硬化性樹脂71の膜厚T 3が一定の範囲内になるように平坦化し(図3(d))、この状態で硬化性樹脂71を硬化させ、その後、硬化性樹脂71と部材81を離間する。 Then, only the alignment mark region 30 is disposed a curable resin 71 as an etching protection film (FIG. 3 (c)), is disposed opposite to the alignment mark region 30 has a plane region opposite to the alignment mark region 30 the member 81, presses the curable resin 71, and planarized to a thickness T 3 of the curable resin 71 positioned on the high refractive material film 42 protruding from the main surface 2 is within a certain range (Fig. 3 (d)), to cure the curable resin 71 in this state, then separating the curable resin 71 and the member 81.

本実施形態において、部材81は、硬化性樹脂71を押し付けることによって、硬化性樹脂71の膜厚T 3が一定の範囲内になるように平坦化することができるものであれば、特に制限されるものではないが、図3(d)に示すように、アライメントマーク領域30に対向する領域が他の部位よりも突出している形態を有しているものであることが、好ましい。 In this embodiment, member 81, by pressing a curable resin 71, is the thickness T 3 of the curable resin 71 as long as it can be planarized to be within a certain range, particularly limited but not shall, as shown in FIG. 3 (d), it is intended to have a form in which the region opposed to the alignment mark region 30 is protruded than the other sites are preferred.
このような形態であれば、部材81と転写パターン領域20との接触を、より確実に回避することができ、転写パターン領域20に異物の付着や欠陥を生じさせてしまうことを、より確実に防止することができるからである。 With such a configuration, the contact between the member 81 and the transfer pattern region 20 can be more reliably avoided, that would cause adhesion and defects of the foreign matter in the transfer pattern region 20, more reliably This is because it is possible to prevent.

部材81を構成する材料としては、上記のように、硬化性樹脂71を押し付けることによって平坦化することができるものであれば、特に制限されるものではないが、紫外線透過性の材料であることが好ましい。 It The material for the member 81, as described above, as long as it can be flattened by pressing a curable resin 71, is not particularly limited, an ultraviolet transmitting material It is preferred.
部材81が紫外線透過性の材料から構成されていれば、後述するように硬化性樹脂71が紫外線硬化性樹脂である場合に、部材81側から(図3に示すZ方向側)から紫外線照射して、硬化性樹脂71を硬化させることができるからである。 If member 81 is long as it is constituted of an ultraviolet transmitting material, when the curable resin 71, as will be described later is an ultraviolet curable resin, and UV irradiation from the member 81 side from (Z direction shown in FIG. 3) Te is because it is possible to cure the curable resin 71.
紫外線透過性の材料としては、例えば、石英等、テンプレート1を構成する材料として用いられるものを挙げることができる。 The ultraviolet transmitting material, for example, may include those used as a material for forming quartz, the template 1.

また、図3(d)に示す硬化性樹脂71の膜厚T 3の範囲としては、後述するドライエッチング工程によって除去できる膜厚であれば、特に制限されるものではないが、例えば、10nm〜200nmの範囲とすることができる。 As the range of the thickness T 3 of the curable resin 71 shown in FIG. 3 (d), if the film thickness can be removed by a dry etching process to be described later, it is not particularly limited, for example, 10 nm to it can be in the range of 200nm.

なお、アライメントマーク領域30のみに硬化性樹脂71を配設する方法としては、ナノインプリントの技術分野で用いられているインクジェット方式によるものを好適に用いることができる。 As a method of disposing a curable resin 71 only in the alignment mark region 30 can be suitably used as an inkjet system used in the art of nano-imprinting. 上記のインクジェット方式は、ナノインプリント分野で実績があり、所望の微量な硬化性樹脂71を所望の位置に配設できるからである。 The above ink jet method, it is proven nanoimprint art, because the desired small amount of curable resin 71 can be disposed at a desired position.

硬化性樹脂71には、ナノインプリントの技術分野で用いられている硬化性樹脂、特に、紫外線硬化性樹脂を、好適に用いることができる。 The curable resin 71, curable resin used in the art of nano-imprint, in particular, an ultraviolet curable resin, can be suitably used. 上記の紫外線硬化性樹脂は、ナノインプリント分野で実績があり、紫外線照射によって硬化するため特別な加熱や冷却を要せず、それゆえ加熱や冷却によって生じるテンプレート1の負荷等を回避することができるからである。 The above ultraviolet-curable resin, it is proven nanoimprinting art, without requiring special heating or cooling for curing by irradiation with ultraviolet light, because it is possible to avoid the load or the like of the template 1 caused by the thus heated or cooled it is.
そして、硬化性樹脂71に紫外線硬化性樹脂を用いた場合には、部材81側、若しくはテンプレート1側から紫外線照射して、硬化性樹脂71を硬化させることができる。 In the case of using an ultraviolet curable resin to the curable resin 71 may be members 81 side, or by ultraviolet radiation from the template 1 side, to cure the curable resin 71.

次に、図4(e)に示すように、エッチング用ガス63を用いたドライエッチングにより、硬化性樹脂71の膜厚T 3の部分を除去する。 Next, as shown in FIG. 4 (e), by dry etching using an etching gas 63, to remove a portion of the thickness T 3 of the curable resin 71. これにより、アライメントマーク領域30の凹部31の中の硬化性樹脂71は残されたまま、主面2から突出する高屈折材料膜42の上に位置する硬化性樹脂71は除去される。 Thus, while the curable resin 71 in the recess 31 of the alignment mark region 30 is left, the curable resin 71 positioned on the high refractive material film 42 that protrudes from the main surface 2 is removed.
エッチング用ガス63としては、硬化性樹脂71を除去できるものであれば用いることができ、例えば、酸素ガスを挙げることができる。 As an etching gas 63, it can be used as long as it can remove the curable resin 71, for example, a oxygen gas.

次に、図4(f)に示すように、エッチング用ガス64を用いたドライエッチングにより、残された硬化性樹脂71から露出する高屈折材料膜42を除去する。 Next, as shown in FIG. 4 (f), by dry etching using an etching gas 64, a high refractive material film 42 exposed from the cured resin 71 left removed. これにより、高屈折材料膜42のうち、主面2から突出する膜厚T 4の部分は除去されるが、凹部31の底面に堆積した高屈折材料膜42は、硬化性樹脂71で覆われているため、残存することになる。 Thus, among the high-refractive index material film 42, the portion of the thickness T 4 projecting from the main surface 2 is being removed, the high refractive index material film 42 deposited on the bottom surface of the recess 31 is covered with the curable resin 71 and for which it results in the remaining.

ここで、凹部31の側壁面に堆積した高屈折材料膜42は、主面2に垂直な方向(図4に示すZ方向)の膜厚が、概ね凹部31の深さと同じになり、この膜厚は膜厚T 4よりも大きい。 Here, the high refractive index material film 42 deposited on the side wall surface of the recess 31, the film thickness in a direction perpendicular to the main surface 2 (Z direction shown in FIG. 4) is approximately the same as the depth of the recess 31, the film the thickness is greater than the thickness T 4.
それゆえ、テンプレート1の主面2から突出する高屈折材料膜42を除去するようにドライエッチングを施す場合であっても、凹部31の側壁面に堆積した高屈折材料膜42は、消失せずに残存することができる。 Therefore, even when the dry etching to remove the high-refractive index material film 42 that protrudes from the main surface 2 of template 1, the high refractive index material film 42 deposited on the side wall surface of the concave portion 31 does not disappear it is possible to remain in.

上記の第1の実施形態や第2の実施形態のように、高屈折材料膜40としてクロム系材料膜を形成した場合には、エッチング用ガス64には塩素と酸素の混合ガスを用いることができる。 As in the first embodiment and the second embodiment described above, in the case of forming a chromium-based material film as a high refractive index material film 40, the etching gas 64 be a mixed gas of chlorine and oxygen it can.

その後、図4(g)に示すように、エッチング用ガス63を用いたドライエッチングにより、凹部31の中に残存する硬化性樹脂71を除去し、図4(h)に示すように、主面2に転写パターン領域20とアライメントマーク領域30を有し、アライメントマーク領域30の凹部31には、高屈折材料膜42が形成されているテンプレート10cを得る。 Thereafter, as shown in FIG. 4 (g), by dry etching using an etching gas 63, to remove curable resin 71 remaining in the recess 31, as shown in FIG. 4 (h), the main surface 2 has a transfer pattern region 20 and the alignment mark region 30, the recess 31 of the alignment mark region 30, to obtain a template 10c for high-refractive index material film 42 is formed.

上記のように、本実施形態によれば、アライメントマーク領域30に局所的に高屈折材料膜42を堆積させることができ、かつ、エッチング保護膜としての硬化性樹脂71もアライメントマーク領域30に局所的に配設するため、転写パターン領域20には高屈折材料膜42を堆積させずに済み、かつ、エッチング保護膜としての硬化性樹脂71も転写パターン領域20には配設させないことになり、転写パターン領域20に異物の付着や欠陥を生じさせてしまうことを防止することができる。 As described above, according to this embodiment, the alignment mark region 30 can be locally deposited a high refractive material film 42, and, also local to the alignment mark region 30 curable resin 71 as an etching protective film to manner provided, the transfer pattern region 20 requires without depositing a high refractive material layer 42, and also curable resin 71 as an etching protective film will be not disposed at the transfer pattern region 20, it can be prevented from being caused to adhere and defects of the foreign matter in the transfer pattern region 20.

そして、本実施形態によれば、アライメントマーク領域30の凹部31(特に凹部31の底面)に高屈折材料膜42が形成されているテンプレート10cを製造することができ、このテンプレート10cを用いれば、インプリントに際して凹部31が被転写樹脂によって充填された状態となっても、より良好にアライメントマークを光学的に識別することができ、高精度な位置合わせが可能となる。 Then, according to this embodiment, it is possible to produce a template 10c for high-refractive index material film 42 in the recess 31 of the alignment mark region 30 (particularly the bottom surface of the concave portion 31) is formed, by using this template 10c, even in a state in which the recess 31 during imprinting is filled by the transfer resin, better able to identify the alignment marks optically, it is possible to highly accurate positioning.

以上、本発明に係るテンプレートの製造方法について説明したが、本発明は、上記実施形態に限定されるものではない。 Having described method for manufacturing a template according to the present invention, the present invention is not limited to the above embodiment. 上記実施形態は例示であり、本発明の特許請求の範囲に記載された技術的思想と、実質的に同一の構成を有し、同様な作用効果を奏するものは、いかなる場合であっても本発明の技術的範囲に包含される。 The above embodiments are illustrative, and the technical idea described in the claims of the present invention have substantially the same configuration, which achieves the same effects are present in any case It is included in the technical scope of the invention.

1、10a、10b、10c テンプレート 2 主面 20 転写パターン領域 30 アライメントマーク領域 31 凹部 32 凸部 40、41、42 高屈折材料膜 51 デポジション用ガス 52 エネルギー線 53 マスク 61、62、63、64 エッチング用ガス 71 硬化性樹脂 81 部材 101、110a テンプレート 102 主面 120 転写パターン領域 130 アライメントマーク領域 140 視認性薄膜 170 レジスト膜 1 and 10a, 10b, 10c templates second major surface 20 transfer pattern region 30 alignment mark region 31 recess 32 protrusion 40, 41, 42 high-refractive index material film 51 deposition gas 52 energy beam 53 mask 61, 62, 63, 64 etching gas 71 curable resin 81 member 101,110a template 102 main surface 120 transfer pattern region 130 alignment mark region 140 visibility thin 170 resist film

Claims (4)

  1. 主面に、転写パターン領域とアライメントマーク領域を有し、前記アライメントマーク領域に形成されるアライメントマークは凹部と凸部から構成されており、前記アライメントマークの凹部には、高屈折材料膜が形成されているテンプレートの製造方法であって、 The main surface, having a transfer pattern region and alignment mark regions, the alignment mark formed on the alignment mark region is composed of concave portions and convex portions, the concave portion of the alignment mark, the high refractive index material film a method of manufacturing a has been templates,
    前記アライメントマーク領域に局所的に前記高屈折材料膜を堆積させる工程と、 Depositing a locally the high refractive material layer on the alignment mark region,
    前記アライメントマークの前記凹部に堆積した前記高屈折材料膜を残して、前記主面から突出する前記高屈折材料膜を除去する工程と、 Removing the high refractive material film leaving the high refractive material film deposited on the recess of the alignment mark, projecting from the main surface,
    を順に備え Equipped with the order,
    前記アライメントマークの前記凹部に堆積した前記高屈折材料膜を残して、前記主面から突出する前記高屈折材料膜を除去する工程が、 Leaving the high refractive material film deposited on the recess of the alignment mark, the step of removing the high refractive material layer projecting from said main surface,
    前記高屈折材料膜を堆積した前記アライメントマークの前記凹部に局所的にエッチング保護膜を形成する工程と、 Forming a locally etching protective film in the recess of the alignment mark deposited the high refractive material film,
    前記エッチング保護膜から露出する前記高屈折材料膜をエッチングにより除去する工程と、 Removing the high refractive material film exposed from the etching protection film by etching,
    前記エッチング保護膜を除去する工程と、 Removing the etching protective film,
    を順に備え、 Equipped with the order,
    前記エッチング保護膜が硬化性樹脂から構成されており、 The etching protective film is composed of a curable resin,
    前記高屈折材料膜を堆積した前記アライメントマークの前記凹部に局所的にエッチング保護膜を形成する工程が、 Forming a locally etching protective film in the recess of the alignment mark deposited the high refractive material film,
    前記アライメントマーク領域に局所的に前記硬化性樹脂を配設する工程と、 A step of disposing locally the curable resin in the alignment mark region,
    前記アライメントマーク領域に対向配置され、前記アライメントマーク領域に対向する領域に平面を有する部材により、前記硬化性樹脂を押し付ける工程と、 Wherein is disposed opposite to the alignment mark region, the member having a plane in a region facing the alignment mark region, a step of pressing the curable resin,
    前記硬化性樹脂を硬化させる工程と、 And curing the curable resin,
    前記硬化性樹脂と前記部材を離間する工程と、 A step of spacing said member and said curable resin,
    前記主面から突出する前記高屈折材料膜の上に位置する前記硬化性樹脂を除去する工程と、 Removing the cured resin is positioned on the high refractive material layer projecting from the main surface,
    を順に備えることを特徴とするテンプレートの製造方法。 Method for manufacturing a template wherein the Rukoto provided in this order.
  2. 前記アライメントマーク領域に局所的に前記高屈折材料膜を堆積させる工程が、 Depositing a locally the high refractive material layer on the alignment mark regions,
    デポジション用ガスを供給しながら、前記アライメントマーク領域に局所的にエネルギー線を照射する工程を備えることを特徴とする請求項1に記載のテンプレートの製造方法。 While supplying the deposition gas, the manufacturing method of the template according to claim 1, characterized in that it comprises a step of irradiating the localized energy beam to the alignment mark region.
  3. 前記エネルギー線が、レーザであることを特徴とする請求項2に記載のテンプレートの製造方法。 The energy beam is a manufacturing method of a template according to claim 2, characterized in that a laser.
  4. 前記アライメントマーク領域に局所的に前記高屈折材料膜を堆積させる工程が、 Depositing a locally the high refractive material layer on the alignment mark regions,
    前記主面の上に、前記アライメントマーク領域に対向する領域に開口部を有するマスクを配置し、前記マスクを介したスパッタ法により、前記アライメントマーク領域に前記高屈折材料膜を堆積させる工程を備えることを特徴とする請求項1に記載のテンプレートの製造方法。 On the main surface, a mask having an opening in a region that faces the alignment mark regions disposed by sputtering through the mask, comprising the step of depositing the high refractive material layer on the alignment mark regions method for producing a template of claim 1, wherein the.
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