JP2016008531A - Vacuum pump device - Google Patents
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Abstract
Description
本発明は、真空ポンプ装置に関し、特に、排気騒音を低減することが可能な真空ポンプ装置に関するものである。 The present invention relates to a vacuum pump device, and more particularly to a vacuum pump device capable of reducing exhaust noise.
半導体製造装置などにおいては、真空チャンバ内の気体を排出するために、ドライ真空ポンプ装置が用いられる。ドライ真空ポンプ装置の代表例である容積式真空ポンプ装置は、一対のポンプロータをモータにより互いに反対方向に回転させ、真空チャンバ内の気体をポンプロータの上流側(すなわち、ポンプの吸気側)から下流側(すなわち、ポンプの排気側)に移送することで、真空チャンバを真空にする。 In a semiconductor manufacturing apparatus or the like, a dry vacuum pump apparatus is used to discharge the gas in the vacuum chamber. A positive displacement vacuum pump device, which is a typical example of a dry vacuum pump device, rotates a pair of pump rotors in opposite directions by a motor, and causes gas in the vacuum chamber to flow from the upstream side of the pump rotor (that is, the intake side of the pump). The vacuum chamber is evacuated by transferring it downstream (ie, the pump exhaust side).
図7は、一般的なポンプユニット101内での気体の移送を示す模式図である。ポンプユニット101は、ポンプケーシング108内に収容された4段の一対のポンプロータ(ルーツロータ)106a,106b,106c,106dと、これらポンプロータ106a〜106dが固定される一対の回転軸112とを備えている。ポンプケーシング108の内部にはポンプロータ106a〜106dにより圧縮された気体が移送される気体流路105が形成されている。
FIG. 7 is a schematic diagram showing gas transfer in a
ポンプケーシング108には吸気ポート102および排気ポート104が設けられている。回転軸112は、軸受114,116によって回転自在に支持されている。モータ110が駆動されると、互いに噛み合う一対のタイミングギヤ123を介して一対のポンプロータ106a〜106dが互いに反対方向に回転し、外部空間の気体が吸気ポート102を通じてポンプユニット101内に導入される。気体は、ポンプロータ106a〜106dによって徐々に圧縮されながら気体流路105を通って下流側に移送され、排気ポート104から排出される。
The
図8(a)乃至図8(d)は図7のA−A線断面図である。図8(a)乃至図8(d)は、最終段のポンプロータ106dに移送された気体が排出される様子を示している。図8(a)乃至図8(d)の矢印に示すように、最終段のポンプロータ106dが互いに反対方向に回転すると、気体はポンプロータ106dとポンプケーシング108との間に形成される気体移送空間109に閉じ込められて排気側に移送され、排気ポート104から外部空間(大気圧空間)に排出される。
8A to 8D are cross-sectional views taken along line AA in FIG. FIGS. 8A to 8D show how the gas transferred to the final
図7に示すように、排気ポート104は外部空間と連通しているため、ポンプロータ106dの排気側には大気圧が形成される。これに対し、ポンプロータ106dの吸気側には真空圧が形成される。このため、気体を排出する際、図8(d)に示すように、真空状態にある気体移送空間109に一気に大気が逆流し、その結果、排気騒音(破裂音)が発生する。
As shown in FIG. 7, since the
このような排気騒音は、気体移送空間109の圧力が低い程、つまり大気圧との圧力差が大きい程大きくなる。これは、この圧力差が大きい程、気体移送空間109への大気の逆流速度が大きくなるためである。また、このような排気騒音の基本周波数は、ポンプロータの回転周波数と形状によって決定される。例えば、回転周波数がN[Hz]の三葉ルーツ型真空ポンプの場合、排気騒音基本周波数f0=6×N[Hz](二葉ルーツ型真空ポンプの場合はf0=4×N[Hz])となる。さらに、排気騒音の周波数成分には、基本周波数の他に、この高調波成分(三葉ルーツ型真空ポンプの場合、2×f0=12×N[Hz]、3×f0=18×N[Hz]、・・・)が含まれることが知られている。
Such exhaust noise becomes larger as the pressure in the
このような排気騒音を低減するために、サイレンサを真空ポンプ装置に取り付けることが考えられる。しかしながら、膨張型サイレンサでは、消音ターゲットとなる周波数一つに対して、一つの膨張室が必要となる。したがって、高い消音効果を膨張型サイレンサで得ようとすると、複数の周波数毎の膨張室が必要となる。また、より高い消音効果を得るためには、各膨張室の径を大きくする等して、膨張率を高くする必要がある。その結果、サイレンサの大型化や製造コスト増加などの問題が発生する。 In order to reduce such exhaust noise, it is conceivable to attach a silencer to the vacuum pump device. However, in the expansion type silencer, one expansion chamber is required for one frequency that is a muffler target. Therefore, in order to obtain a high silencing effect with the expansion silencer, expansion chambers for a plurality of frequencies are required. Further, in order to obtain a higher silencing effect, it is necessary to increase the expansion rate by increasing the diameter of each expansion chamber. As a result, problems such as an increase in the size of the silencer and an increase in manufacturing cost occur.
本発明は、上述の事情に鑑みなされたもので、排気騒音を低減することができる真空ポンプ装置を提供することを目的とする。 The present invention has been made in view of the above-described circumstances, and an object thereof is to provide a vacuum pump device that can reduce exhaust noise.
本発明の一態様は、互いに対向して配置された一対のポンプロータと、前記一対のポンプロータを回転させるモータと、前記一対のポンプロータが収容されるポンプハウジングとを備えた真空ポンプ装置であって、前記一対のポンプロータの外周面と前記ポンプハウジングの内周面との間には第1の気体移送空間および第2の気体移送空間が形成され、気体は前記第1の気体移送空間および前記第2の気体移送空間に閉じ込められた状態で、前記ポンプハウジングの吐出口に移送され、前記ポンプハウジングには、前記第1の気体移送空間と大気圧空間とを連通する第1の逆流孔と、前記第2の気体移送空間と大気圧空間とを連通する第2の逆流孔が形成されており、前記第1の逆流孔および前記第2の逆流孔は、回転する前記一対のポンプロータによって開閉されることを特徴とする。 One aspect of the present invention is a vacuum pump device including a pair of pump rotors arranged to face each other, a motor that rotates the pair of pump rotors, and a pump housing that houses the pair of pump rotors. A first gas transfer space and a second gas transfer space are formed between the outer peripheral surface of the pair of pump rotors and the inner peripheral surface of the pump housing, and the gas is the first gas transfer space. And in a state of being confined in the second gas transfer space, it is transferred to the discharge port of the pump housing, and the pump housing has a first backflow communicating the first gas transfer space and the atmospheric pressure space. A second counterflow hole communicating with the hole, the second gas transfer space and the atmospheric pressure space is formed, and the first counterflow hole and the second counterflow hole are the pair of rotating pumps. Characterized in that it is opened and closed by chromatography data.
本発明の好ましい態様は、前記第1の逆流孔および前記第2の逆流孔は、前記一対のポンプロータの外周部の最も外側に位置する凸部よりも、前記外周部の最も内側に位置する凹部に近いことを特徴とする。
本発明の好ましい態様は、前記第1の逆流孔および前記第2の逆流孔の配置は、前記一対のポンプロータの回転に伴い、前記第1の逆流孔と前記第1の気体移送空間との連通、前記第1の気体移送空間と前記吐出口との連通、前記第2の逆流孔と前記第2の気体移送空間との連通、および前記第2の気体移送空間と前記吐出口との連通が、この順序で等しい時間間隔で起こる配置であることを特徴とする。
本発明の好ましい態様は、前記第1の逆流孔および前記第2の逆流孔の直径は、前記ポンプロータの直径の0.5%〜5.0%の範囲内であることを特徴とする。
In a preferred aspect of the present invention, the first counterflow hole and the second counterflow hole are located on the innermost side of the outer peripheral part with respect to the convex part located on the outermost part of the outer peripheral part of the pair of pump rotors. It is characterized by being close to a recess.
In a preferred aspect of the present invention, the first counterflow hole and the second counterflow hole are arranged such that the first counterflow hole and the first gas transfer space are arranged with the rotation of the pair of pump rotors. Communication, communication between the first gas transfer space and the discharge port, communication between the second backflow hole and the second gas transfer space, and communication between the second gas transfer space and the discharge port Are arrangements that occur at equal time intervals in this order.
In a preferred aspect of the present invention, the diameters of the first counterflow hole and the second counterflow hole are in the range of 0.5% to 5.0% of the diameter of the pump rotor.
本発明によれば、大気は逆流孔を通じて気体移送空間内に流入し、気体移送空間内の圧力と大気圧との差が小さくなる。したがって、気体移送空間が吐出口を通じて大気圧空間に連通したときに生じる排気音を低減することができる。 According to the present invention, the atmosphere flows into the gas transfer space through the backflow hole, and the difference between the pressure in the gas transfer space and the atmospheric pressure is reduced. Therefore, exhaust noise generated when the gas transfer space communicates with the atmospheric pressure space through the discharge port can be reduced.
以下、本発明の実施形態について図面を参照して説明する。図1乃至図5において、同一または相当する構成要素には、同一の符号を付して重複した説明を省略する。
図1に記載されるポンプユニットは、気体の流路内にオイルを使用しないドライ真空ポンプユニットである。本実施形態ではポンプユニットを三葉ルーツ型真空ポンプユニットとして説明するが、ポンプユニットは三葉ルーツ型真空ポンプユニットに限定されず、二葉ルーツ型真空ポンプユニットであってもよい。
Embodiments of the present invention will be described below with reference to the drawings. 1 to 5, the same or corresponding components are denoted by the same reference numerals, and redundant description is omitted.
The pump unit described in FIG. 1 is a dry vacuum pump unit that does not use oil in a gas flow path. In the present embodiment, the pump unit is described as a three-lobe root type vacuum pump unit, but the pump unit is not limited to a three-lobe root type vacuum pump unit, and may be a two-lobe root type vacuum pump unit.
図1は、本発明の一実施形態に係る真空ポンプ装置を構成するポンプユニットの断面図である。ポンプユニットは、気体を吸気するための吸気ポート2と、気体を排出するための排気ポート4とを備えている。ポンプユニットの運転により、気体は、吸気ポート2を通ってポンプユニットに吸い込まれ、排気ポート4から排出される。ポンプユニットは、互いに対向して配置された一対のポンプロータ(ルーツロータ)40a,40b,40c,40d,40eと、これらポンプロータ40a〜40eが固定される一対の回転軸42と、ポンプロータ40a〜40eが収容されるポンプハウジング5と、回転軸42を介してポンプロータ40a〜40eを回転させるモータ10とを備えている。なお、ここに図示した例では、5段のポンプロータを示したが、本発明はこれに限られず、ポンプロータの段数は、求められる真空度や排気量などに応じて適宜選定することができる。
FIG. 1 is a cross-sectional view of a pump unit constituting a vacuum pump device according to an embodiment of the present invention. The pump unit includes an
モータ10は、図示しないインバータに接続されており、インバータから可変周波数の電圧がモータ10に印加されるようになっている。回転軸42は、軸受14,16によって回転自在に支持されている。回転軸42の一方の端部には、互いに噛み合う一対のタイミングギヤ23が設けられており、これらタイミングギヤ23は、軸受14と共にギヤカバー25内に収容されている。
The
モータ10は、2つの回転軸42のうちの一方に固定されたモータロータ27と、コイルが巻かれたステータコアを有するモータステータ29と、これらモータロータ27、モータステータ29を収容するモータフレーム32とを備えている。モータステータ29は、モータロータ27を囲むように配置されており、モータフレーム32の内周面に固定されている。モータ10が駆動されると、タイミングギヤ23を介して一対のポンプロータ40a〜40eが互いに反対方向に回転し、気体が吸気ポート2を通じてポンプユニットに吸い込まれ、ポンプロータ40a〜40eによって下流側に移送され、排気ポート4から排出される。
The
ポンプハウジング5は、ポンプロータ40a〜40eにより圧縮された気体が移送される気体流路41が内部に形成されたポンプケーシング8と、気体流路41に連通する排気チャンバ56が内部に形成されたサイドカバー58とを備えている。サイドカバー58はポンプケーシング8とギヤカバー25との間に配置されており、排気ポート4はサイドカバー58に設けられる。吸気ポート2はポンプケーシング8に設けられている。ポンプケーシング8、排気ポート4が設けられるサイドカバー58、タイミングギヤ23が配置されるギヤカバー25、およびモータ10のモータフレーム32は、この順番に直列に並んで配置されている。
The
排気チャンバ56は最終段のポンプロータ40eに隣接している。ポンプロータ40a〜40eにより圧縮された気体は排気チャンバ56に移送され、さらに排気チャンバ56に連通している排気ポート4を通じて外部空間(大気圧空間)に排出される。
The
図2は図1のB−B線断面図である。ポンプロータ40eが互いに反対方向に回転すると、ポンプロータ40eの外周面とポンプケーシング8の内周面との間には、第1の気体移送空間45Aおよび第2の気体移送空間45Bが形成される。気体は、これらの気体移送空間45A,45Bに閉じ込められた状態で、ポンプケーシング8の吐出口41aに移送される。
2 is a cross-sectional view taken along line BB in FIG. When the
図1および図2に示すように、最終段のポンプロータ40eに隣接するポンプハウジング5の端壁(吐出側端壁)5aには、第1の気体移送空間45Aと大気圧空間とを連通する第1の逆流孔46A、および第2の気体移送空間45Bと大気圧空間とを連通する第2の逆流孔46Bが設けられている。これら2つの逆流孔46A,46Bは、ポンプハウジング5の端壁5aを貫通して、すなわちポンプケーシング8およびサイドカバー58の端壁を貫通して延びている。これら逆流孔46A,46Bは、回転軸42の軸方向と垂直なポンプケーシング8の中心線CLに関して対称に形成されている。
As shown in FIGS. 1 and 2, the first
図2に示すように、第1の逆流孔46Aおよび第2の逆流孔46Bは、一対のポンプロータ40eにそれぞれ対向して配置されている。以下の説明では、第1の逆流孔46Aに対向するポンプロータ40eを第1のポンプロータ40eと称し、第2の逆流孔46Bに対向するポンプロータ40eを第2のポンプロータ40eと称することがある。
As shown in FIG. 2, the
三葉型のポンプロータ40eの外周面は、最も内側に位置する3つの凹部48と、最も外側に位置する3つの凸部49とを有する。第1のポンプロータ40eの中心から第1の逆流孔46Aまでの距離L1は、第1のポンプロータ40eの中心から凹部48までの距離L2よりも長く、かつ第1のポンプロータ40eの中心から凸部49までの距離L3よりも短い。同様に、第2のポンプロータ40eの中心から第2の逆流孔46Bまでの距離L1は、第2のポンプロータ40eの中心から凹部48までの距離L2よりも長く、かつ第2のポンプロータ40eの中心から凸部49までの距離L3よりも短い。
The outer peripheral surface of the
このような位置に配置されている第1の逆流孔46Aおよび第2の逆流孔46Bは、回転するポンプロータ40eによって開閉される。すなわち、第1のポンプロータ40eが第1の逆流孔46Aに対向すると、第1の逆流孔46Aが閉じられ、第1のポンプロータ40eが第1の逆流孔46Aから離れると、第1の逆流孔46Aが開かれる。同じように、第2のポンプロータ40eが第2の逆流孔46Bに対向すると、第2の逆流孔46Bが閉じられ、第2のポンプロータ40eが第2の逆流孔46Bから離れると、第2の逆流孔46Bが開かれる。
46 A of 1st backflow holes and the
第1の逆流孔46Aおよび第2の逆流孔46Bは、ポンプロータ40eの外周面の凸部49よりも、ポンプロータ40eの外周面の凹部48に近い位置に配置されている。これは、ポンプロータ40eの1回転あたりに第1の逆流孔46Aおよび第2の逆流孔46Bが開いている時間を短くするためである。第1の逆流孔46Aおよび第2の逆流孔46Bが開いている時間が長くなると、第1の気体移送空間45Aおよび第2の気体移送空間45B内に多くの大気が逆流し、第1の逆流孔46Aおよび第2の逆流孔46Bにおいて騒音が発生してしまう。このような騒音の発生を避けるために、第1の逆流孔46Aおよび第2の逆流孔46Bは、ポンプロータ40eの外周面の凹部48に近接して配置されている。
46 A of 1st backflow holes and 46B of 2nd backflow holes are arrange | positioned in the position near the recessed
図3は第1の逆流孔46Aに対する第1の気体移送空間45Aの相対位置の変化を示す図である。図3に示すように、ポンプロータ40eが矢印で示す方向に回転すると、ポンプロータ40eの第1の逆流孔46Aに対する相対位置は変化する。第1の逆流孔46Aは、第1のポンプロータ40eの回転に伴って第1の気体移送空間45Aに周期的に連通する位置に設けられている。同様に、第2の逆流孔46Bは、第2のポンプロータ40eの回転に伴って第2の気体移送空間45Bに周期的に連通する位置に設けられている。
FIG. 3 is a diagram showing a change in the relative position of the first
以下、ポンプロータ40eの第1の逆流孔46Aに対する相対位置の時間経過に伴う変化を説明する。時刻1では、第1の逆流孔46Aは最終段のポンプロータ40eによって閉じられている。第1の気体移送空間45Aと排気チャンバ56内の大気圧空間との連通はポンプロータ40eによって遮断されるため、大気は第1の気体移送空間45A内に流入しない。時刻2では、ポンプロータ40eが第1の逆流孔46Aから離れ、第1の逆流孔46Aが開かれる。第1の気体移送空間45Aは第1の逆流孔46Aを通じて排気チャンバ56内の大気圧空間に連通し、第1の気体移送空間45A内に大気が流入する。時刻3では、再度、第1の逆流孔46Aがポンプロータ40eによって閉じられ、第1の気体移送空間45Aと排気チャンバ56内の大気圧空間との連通が遮断される。
Hereinafter, the change with time of the relative position of the
第1の逆流孔46Aおよび第2の逆流孔46Bの直径は、ポンプロータ40eの直径の0.5%〜5.0%の範囲内であることが好ましい。これは、第1の逆流孔46Aおよび第2の逆流孔46Bの直径がポンプロータ40eの直径の5.0%よりも大きいと、多くの大気が気体移送空間45A,45B内に流入してしまい、気体移送空間45A,45B内の圧力が上昇するとともに騒音が発生することがあるからであり、逆に、第1の逆流孔46Aおよび第2の逆流孔46Bの直径がポンプロータ40eの直径の0.5%よりも小さいと大気があまり気体移送空間45A,45B内に流入せず、圧力上昇(つまり排気口部での圧力差低減効果)が不十分となり、消音効果が低減するからである。
The diameters of the
図4は、ポンプロータ40a〜40eによって移送される気体の経路を示す模式図である。図4に示すように、気体は、回転するポンプロータ40a〜40eによって圧縮され、最終的に排気ポート4に送られる。圧縮された気体の一部は、排気ポート4に移送される前に、第1の逆流孔46Aおよび第2の逆流孔46Bを通って、最終段のポンプロータ40eの外周面とポンプケーシング8の内周面とによって形成された気体移送空間45A,45Bに戻される。このような構成により、気体移送空間45A,45B内の圧力と大気圧との差が小さくなり、気体移送空間が吐出口を通じて大気圧空間に連通したときに生じる排気音を低減することができる。
FIG. 4 is a schematic diagram illustrating a path of gas transferred by the
図5(a)乃至図5(d)は、ポンプロータ40eの回転に伴って第1の逆流孔46Aおよび第2の逆流孔46Bが開閉される様子を説明する図である。図5(a)では、第1の逆流孔46Aが開き、これにより第1の気体移送空間45Aが大気圧空間と連通する。したがって、大気が第1の逆流孔46Aを通じて第1の気体移送空間45Aに流入する。ポンプロータ40eがさらに回転すると、図5(b)に示すように、第1の逆流孔46Aが閉じるとともに、第1の気体移送空間45Aがポンプケーシング8の吐出口41aに連通する。図5(a)に示す第1の逆流孔46Aが開いたときのポンプロータ40eと、図5(b)に示す第1の気体移送空間45Aが吐出口41aに連通したときのポンプロータ40eとのなす角度は、30度である。
FIGS. 5A to 5D are views for explaining how the first and
ポンプロータ40eがさらに回転すると、図5(c)に示すように、第2の逆流孔46Bが開き、これにより第2の気体移送空間45Bが大気圧空間と連通する。したがって、大気が第2の逆流孔46Bを通じて第2の気体移送空間45Bに流入する。図5(b)に示す第1の気体移送空間45Aが吐出口41aに連通したときのポンプロータ40eと、図5(c)に示す第2の逆流孔46Bが開いたときのポンプロータ40eとのなす角度は、30度である。
When the
ポンプロータ40eがさらに回転すると、図5(d)に示すように、第2の逆流孔46Bが閉じるとともに、第2の気体移送空間45Bがポンプケーシング8の吐出口41aに連通する。図5(c)に示す第2の逆流孔46Bが開いたときのポンプロータ40eと、図5(d)に示す第2の気体移送空間45Bが吐出口41aに連通したときのポンプロータ40eとのなす角度は、30度である。
When the
ポンプロータ40eがさらに30度回転すると、図5(a)に示すように、第1の逆流孔46Aが再び開く。このようにして、第1の逆流孔46Aと第1の気体移送空間45Aとの連通(第1の逆流孔46Aが開)、第1の気体移送空間45Aと吐出口41aとの連通(第1の逆流孔46Aが閉)、第2の逆流孔46Bと第2の気体移送空間45Bとの連通(第2の逆流孔46Bが開)、および第2の気体移送空間45Bと吐出口41aとの連通(第2の逆流孔46Bが閉)が、この順序で等しい時間間隔で起こる。このような構成により、ポンプユニット内に導入された気体の圧力は、時間的に等間隔で段階的に低下するので、排気騒音の全体的なレベルを低減することができる。
When the
図6は、逆流孔を設けた場合の騒音レベルと、逆流孔を設けない場合の騒音レベルの測定結果を示すグラフである。縦軸は騒音レベル[dB(A)]を表し、横軸は周波数[Hz]を表している。図6から分かるように、逆流孔46A,46Bを設けたときの騒音レベルは、全体的に、逆流孔を設けなかった騒音レベルよりも下がっている。さらに、騒音レベルのピークの数が少ないことが図6から分かる。このように、騒音レベルが低減され、サイレンサの各膨張室の膨張率を小さくすることができるため、サイレンサの小型化を図ることができる。また、排気レベルのピークの数を減らすことができるため、消音ターゲットとなる周波数を限定することができる。したがって、サイレンサの膨張室の個数を削減することができるため、サイレンサのさらなる小型化および低コスト化が容易となる。
FIG. 6 is a graph showing the measurement result of the noise level when the backflow hole is provided and the noise level when the backflow hole is not provided. The vertical axis represents the noise level [dB (A)], and the horizontal axis represents the frequency [Hz]. As can be seen from FIG. 6, the noise level when the
以上、本発明の実施形態について説明したが、本発明は上記実施形態に限定されるものではなく、特許請求の範囲、及び明細書と図面に記載された技術的思想の範囲内において種々の変形が可能である。例えば、本実施形態において、多段のポンプロータを備えた多段型真空ポンプ装置について説明したが、この例に限定されず、単段のポンプロータを備えた単段型真空ポンプ装置も採用することができる。 Although the embodiments of the present invention have been described above, the present invention is not limited to the above-described embodiments, and various modifications can be made within the scope of the technical idea described in the claims and the specification and drawings. Is possible. For example, in the present embodiment, a multi-stage vacuum pump apparatus including a multi-stage pump rotor has been described. However, the present invention is not limited to this example, and a single-stage vacuum pump apparatus including a single-stage pump rotor may be employed. it can.
2,102 吸気ポート
4,104 排気ポート
5 ポンプハウジング
5a 端壁
8,108 ポンプケーシング
10,110 モータ
14,16,114,116 軸受
23,123 タイミングギヤ
25 ギヤカバー
27 モータロータ
29 モータステータ
32 モータフレーム
40a〜40e,106a〜106d ポンプロータ
41,105 気体流路
41a 吐出口
42,112 回転軸
45A,45B 気体移送空間
46A,46B 逆流孔
48 凹部
49 凸部
56 排気チャンバ
58 サイドカバー
101 ポンプユニット
2,102 Intake port 4,104
Claims (4)
前記一対のポンプロータを回転させるモータと、
前記一対のポンプロータが収容されるポンプハウジングとを備えた真空ポンプ装置であって、
前記一対のポンプロータの外周面と前記ポンプハウジングの内周面との間には第1の気体移送空間および第2の気体移送空間が形成され、気体は前記第1の気体移送空間および前記第2の気体移送空間に閉じ込められた状態で、前記ポンプハウジングの吐出口に移送され、
前記ポンプハウジングには、前記第1の気体移送空間と大気圧空間とを連通する第1の逆流孔と、前記第2の気体移送空間と大気圧空間とを連通する第2の逆流孔が形成されており、
前記第1の逆流孔および前記第2の逆流孔は、回転する前記一対のポンプロータによって開閉されることを特徴とする真空ポンプ装置。 A pair of pump rotors disposed opposite each other;
A motor for rotating the pair of pump rotors;
A vacuum pump device comprising a pump housing in which the pair of pump rotors are housed,
A first gas transfer space and a second gas transfer space are formed between the outer peripheral surface of the pair of pump rotors and the inner peripheral surface of the pump housing, and the gas is in the first gas transfer space and the first gas transfer space. In a state of being confined in the gas transfer space of 2, and transferred to the discharge port of the pump housing
The pump housing is formed with a first backflow hole that communicates the first gas transfer space and the atmospheric pressure space, and a second backflow hole that communicates the second gas transfer space and the atmospheric pressure space. Has been
The vacuum pump device, wherein the first counterflow hole and the second counterflow hole are opened and closed by the pair of rotating pump rotors.
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