JP2016008164A - Method for producing laminar silicate - Google Patents

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博嗣 鹿野
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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a method for producing a laminar silicate.SOLUTION: The method for producing a laminar silicate catalyst comprises the steps of: (1) mixing a laminar silicate, an acid and a metal element compound; (2) thermally treating the mixture obtained in the step (1) at 70°C-170°C; (3) separating a solid from the thermally treated mixture obtained in the step (2); (4) cleaning the solid separated in the step (3) while maintaining the pH of cleaning fluid at 4 or less; and (5) drying the solid obtained in the step (4).

Description

本発明は、層状ケイ酸塩の製造方法に関する。   The present invention relates to a method for producing a layered silicate.

特許文献1には、層状ケイ酸塩にコバルト化合物の水溶液を含浸させて、コバルトが層状ケイ酸塩に担持された触媒を製造する方法が開示されており、さらにかかる触媒を触媒成分として用いてシクロアルカンを酸素で酸化しシクロアルカノール及び/又はシクロアルカノンを製造する方法が開示されている。   Patent Document 1 discloses a method for producing a catalyst in which cobalt is supported on a layered silicate by impregnating a layered silicate with an aqueous solution of a cobalt compound, and further using such a catalyst as a catalyst component. A method for producing cycloalkanol and / or cycloalkanone by oxidizing cycloalkane with oxygen is disclosed.

特開2006−101690号公報JP 2006-101690 A

層状ケイ酸塩に金属種を担持した触媒の製造に際して、モンモリロナイトのような層状ケイ酸塩は水を吸収して湿潤することにより粘度が上昇するため、工業的な規模での製造では、取り扱いが難しくなるという問題点がある。そこで、本発明の目的は、層状ケイ酸塩に金属種を担持した触媒の調製を、容易に行うことのできる方法を提供することにある。さらにかかる方法で製造された層状ケイ酸塩を触媒として用いるアミンの酸化方法を提供する。 In the production of a catalyst in which a metal species is supported on a layered silicate, the layered silicate such as montmorillonite increases in viscosity due to absorption of water and wets. There is a problem that it becomes difficult. Accordingly, an object of the present invention is to provide a method capable of easily preparing a catalyst in which a metal species is supported on a layered silicate. Furthermore, the present invention provides a method for oxidizing an amine using a layered silicate produced by such a method as a catalyst.

本発明者らは、検討を行った結果、以下の方法により、前記課題を解決する方法を見出し、本発明を完成するに至った。すなわち、本発明は、以下の方法を含む。
1. 下記工程(1)〜(5)、
(1):層状ケイ酸塩、酸および金属元素化合物を混合する工程、
(2):工程(1)で得られた混合物を70℃〜170℃で熱処理する工程、
(3):工程(2)で得られた熱処理した混合物から固体を分離する工程
(4):工程(3)で分離した固体を洗浄液のpHを4以下に保って洗浄する工程、
(5):工程(4)で得られた固体を乾燥する工程、
を含むことを特徴とする金属担持した層状ケイ酸塩の製造方法。
2.工程(1)で用いる層状ケイ酸塩がスメクタイトである前記1の製造方法。
3.工程(1)で用いる酸が、無機酸である前記1または2に記載の製造方法
4.工程(1)で用いる金属元素化合物が、第4属金属元素の化合物、第5属金属元素の化合物、第6属金属元素の化合物及びゲルマニウム化合物からなる群より選ばれる少なくとも一種の化合物である前記1から4の何れかに記載の製造方法。
5.工程(2)の熱処理を、1〜20時間行う前項4に記載の製造方法
6.工程(3)において工程(2)で得られた固体を濾過によって分離する前項1から5のいずれかに記載の製造方法。
7.工程(4)において洗浄液を濾過によって分離する前項1から6のいずれかに記載の製造方法
8.工程(5)の乾燥温度が0℃〜600℃である前項1から7のいずれかに記載の製造方法

9.上記のいずれかに記載の方法により層状ケイ酸塩を製造し、この層状ケイ酸塩の存在下、式(I)
As a result of investigations, the present inventors have found a method for solving the above problems by the following method, and have completed the present invention. That is, the present invention includes the following methods.
1. The following steps (1) to (5),
(1): a step of mixing a layered silicate, an acid and a metal element compound,
(2): a step of heat-treating the mixture obtained in step (1) at 70 ° C. to 170 ° C.,
(3): a step of separating the solid from the heat-treated mixture obtained in step (2) (4): a step of washing the solid separated in step (3) while maintaining the pH of the washing liquid at 4 or less,
(5): a step of drying the solid obtained in step (4),
A method for producing a metal-supported layered silicate characterized by comprising:
2. Said 1 manufacturing method whose layered silicate used at a process (1) is a smectite.
3. The production method according to 1 or 2 above, wherein the acid used in the step (1) is an inorganic acid. 4. The metal element compound used in the step (1) is a compound of a Group 4 metal element, a Group 5 metal element. 5. The production method according to any one of 1 to 4 above, which is at least one compound selected from the group consisting of a compound of group 6 metal elements and a germanium compound.
5. The manufacturing method according to item 4 above, wherein the heat treatment in step (2) is performed for 1 to 20 hours 6. Any of items 1 to 5 above in which the solid obtained in step (2) is separated by filtration in step (3) The manufacturing method as described in.
7. The manufacturing method according to any one of the preceding items 1 to 6, wherein the washing liquid is separated by filtration in the step (4) 8. The drying temperature in the step (5) is any one of the preceding items 1 to 7 wherein the drying temperature is 0 ° C. to 600 ° C. Manufacturing method described

9. A layered silicate is produced by the method according to any one of the above, and in the presence of the layered silicate, the formula (I)

Figure 2016008164

(式中、RおよびR2は、それぞれ独立に水素原子、置換基を有していてもよい炭化水素基、または置換基を有していてもよい複素環基を表すか、あるいは、RおよびR2は互いにその末端で結合して、RおよびR2が結合している炭素原子とともに置換基を有していてもよい環を形成している。ただし、RとR2は同時に水素原子を表すことはない。)
で示される第一級アミンを分子状酸素で酸化することを特徴とする式(II)
Figure 2016008164

(Wherein R 1 and R 2 each independently represents a hydrogen atom, a hydrocarbon group which may have a substituent, or a heterocyclic group which may have a substituent, or R 1 1 and R 2 are bonded to each other at an end thereof to form an optionally substituted ring together with the carbon atom to which R 1 and R 2 are bonded, provided that R 1 and R 2 are It does not represent a hydrogen atom at the same time.)
A primary amine represented by the formula (II) is oxidized with molecular oxygen

Figure 2016008164
(式中、RおよびR2は、前記と同じ意味を表す。)
で示されるオキシム化合物の製造方法。
Figure 2016008164
(Wherein R 1 and R 2 represent the same meaning as described above.)
The manufacturing method of the oxime compound shown by these.

本発明によれば、層状ケイ酸塩に金属種を担持した触媒の調製を、容易に行うことができる。かかる方法で製造された層状ケイ酸塩を触媒として、オキシム化などの酸化反応を効率的に行うことができる。   According to the present invention, a catalyst in which a metal species is supported on a layered silicate can be easily prepared. Oxidation reactions such as oximation can be efficiently performed using the layered silicate produced by this method as a catalyst.

以下、本発明で使用する層状ケイ酸塩について、説明する。層状ケイ酸塩は、天然物であってもよく、人工的に合成された合成品であってもよく、これらの混合物であってもよい。合成品の合成方法としては、例えば、水熱合成反応法、固相反応法、溶融合成法等が挙げられる。該層状ケイ酸塩としては、例えば、モンモリロナイト、サポナイト、バイデライト、ノントロナイト、ソーコナイト、スチーブンサイト、ヘクトライト、ボルコンスコアイト、スインホルダイト等のスメクタイト;バーミキュライト;白雲母、金雲母、鉄雲母、イーストナイト、シデロフィライトテトラフェリ鉄雲母、ポリリシオナイト、セラドン石、鉄セラドン石、鉄アルミノセラドン石、アルミノセラドン石、砥部雲母、パラゴナイト等のマイカ;クリントナイト、ビテ雲母、真珠雲母等の脆雲母;クリノクロア、シャモサイト、ペナンタイト、ニマイト、ベイリクロア、クッケアイト、スドーアイト等の緑泥石;タルク;パイロフィライト;カオリン石、ディッカイト、ナクライト、ハロイサイト、アメサイト、ベルチェリン、クロンステダイト、ヌポア石、ケリアイト、フレイポナイト、ブリンドリアイト等のカオリナイト;アンチゴライト、クリソタイル、リザーダイト等の蛇紋石;等が挙げられ、必要に応じてそれらの2種以上を用いることもできる。中でも、得られるオキシム化合物(II)の選択率の点で、スメクタイトが好ましい。本発明においては、前記層状ケイ酸塩は、層状ケイ酸塩を含有する粘土鉱物の形態で用いてもよく、層状ケイ酸塩を含有する粘土鉱物としては、例えば、ベントナイト、酸性白土、活性白土等のモンモリロナイトを含有する粘土鉱物が挙げられる。前記層状ケイ酸塩は、焼成してから使用してもよく、該焼成の温度は、150〜600℃が好ましく、焼成の時間は0.1〜100時間が好ましい。   Hereinafter, the layered silicate used in the present invention will be described. The layered silicate may be a natural product, a synthetic product synthesized artificially, or a mixture thereof. Examples of the synthetic method include a hydrothermal synthesis reaction method, a solid phase reaction method, and a melt synthesis method. Examples of the layered silicate include smectite such as montmorillonite, saponite, beidellite, nontronite, soconite, stevensite, hectorite, bolconscoreite, and swinoldite; vermiculite; muscovite, phlogopite, iron mica, Mica such as East Knight, Siderophyrite Tetraferri Iron Mica, Polyricionite, Celadon Stone, Iron Ceradon Stone, Iron Alumino Ceradon Stone, Alumino Ceradon Stone, Tobe Mica, Paragonite, etc .; Clintnite, Bite Mica, Pearl Mica, etc. Brittle mica; chlorite, chamosite, penanthite, nimite, bailicroa, kukeite, suedite, etc .; talc; pyrophyllite; kaolinite, dickite, nacrite, halloysite, amesite, bercherin, cron Tedaito, Nupoa stone, Keriaito, Fureiponaito, kaolinite such Brin Doria site; antigorite, chrysotile, serpentine, such as lizardite; and the like, can also be used two or more thereof as needed. Among these, smectite is preferable in terms of selectivity of the oxime compound (II) to be obtained. In the present invention, the layered silicate may be used in the form of a clay mineral containing a layered silicate. Examples of the clay mineral containing a layered silicate include bentonite, acid clay, and activated clay. Clay minerals containing montmorillonite such as The layered silicate may be used after being fired, and the firing temperature is preferably 150 to 600 ° C., and the firing time is preferably 0.1 to 100 hours.

層状ケイ酸塩としては、層間に陽イオンを含有するものが好ましく、該陽イオンとしては、水素イオン、アンモニウムイオン、第四級アンモニウムイオン、アルカリ金属元素の陽イオン、アルカリ土類金属元素の陽イオン、第3族金属元素の陽イオン、第4族金属元素の陽イオン、第5族金属元素の陽イオン、第6族金属元素の陽イオン、第7族金属元素の陽イオン、第8族金属元素の陽イオン、第9族金属元素の陽イオン、第10族金属元素の陽イオン、第11族金属元素の陽イオン、第12族金属元素の陽イオン、アルミニウムイオン、ガリウムイオン、インジウムイオン、タリウムイオン、スズイオン、鉛イオン、ゲルマニウムイオン、正に荷電した第4族金属元素の酸化物、正に荷電した第5族金属元素の酸化物、正に荷電した第6族金属元素の酸化物、正に荷電した第7族金属元素の酸化物、正に荷電した第8族金属元素の酸化物、正に荷電した第9族金属元素の酸化物、正に荷電した第10族金属元素の酸化物、正に荷電した第11族金属元素の酸化物、正に荷電した第12族金属元素の酸化物、正に荷電したアルミニウムの酸化物、正に荷電したガリウムの酸化物、正に荷電したインジウムの酸化物、正に荷電したタリウムの酸化物、正に荷電したスズの酸化物、正に荷電した鉛の酸化物、正に荷電した酸化ゲルマニウム等が挙げられる。   The layered silicate preferably contains a cation between layers, and the cation includes a hydrogen ion, an ammonium ion, a quaternary ammonium ion, a cation of an alkali metal element, a cation of an alkaline earth metal element. Ions, cations of Group 3 metal elements, cations of Group 4 metal elements, cations of Group 5 metal elements, cations of Group 6 metal elements, cations of Group 7 metal elements, Group 8 Metal element cation, Group 9 metal element cation, Group 10 metal element cation, Group 11 metal element cation, Group 12 metal element cation, Aluminum ion, Gallium ion, Indium ion , Thallium ion, tin ion, lead ion, germanium ion, positively charged Group 4 metal element oxide, positively charged Group 5 metal element oxide, positively charged Group 6 metal oxide Metal element oxides, positively charged Group 7 metal element oxides, positively charged Group 8 metal element oxides, positively charged Group 9 metal element oxides, positively charged Group 7 metal element oxides Group 10 metal element oxide, positively charged Group 11 metal element oxide, positively charged Group 12 metal element oxide, positively charged aluminum oxide, positively charged gallium oxide Materials, positively charged indium oxide, positively charged thallium oxide, positively charged tin oxide, positively charged lead oxide, positively charged germanium oxide, and the like.

本発明において好適に使用されるスメクタイトは、陽イオンと酸素とから構成される四面体シート、及び陽イオンと酸素又は水酸化物とから構成される八面体シートが、負に荷電した単位層を形成し、その単位層の層間に陽イオンが存在してなる層状化合物であり、一般には次式(A)   The smectite used preferably in the present invention is a tetrahedral sheet composed of a cation and oxygen, and an octahedral sheet composed of a cation and oxygen or a hydroxide. It is a layered compound formed and having cations between the unit layers, and generally has the following formula (A)

0.2〜0.6(Y,Y2〜3410(OH)・nHO (A) X 0.2~0.6 (Y 1, Y 2 ) 2~3 Z 4 O 10 (OH) 2 · nH 2 O (A)

〔式中、XはK、Na、1/2Ca2+及び1/2Mg2+からなる群より選ばれる少なくとも1種を表し、YはMg2+、Fe2+、Mn2+、Ni2+及びZn2+からなる群より選ばれる少なくとも1種を表し、YはAl3+、Li+、Fe3+、Mn3+及びCr3+からなる群より選ばれる少なくとも1種を表し、ZはSi及びAlからなる群より選ばれる少なくとも1種(但し、ZがAlのみの場合を除く)を表し、n≧0である。〕
で示される層状ケイ酸塩である。尚、Xは層間の陽イオンを表し、Y、Yは八面体シートの陽イオンを表し、Zは四面体シートの陽イオンを表す。
[Wherein, X represents at least one selected from the group consisting of K + , Na + , 1 / 2Ca 2+ and 1 / 2Mg 2+ , and Y 1 represents Mg 2+ , Fe 2+ , Mn 2+ , Ni 2+ and Zn Y 2 represents at least one selected from the group consisting of 2+ , Y 2 represents at least one selected from the group consisting of Al 3+ , Li +, Fe 3+ , Mn 3+ and Cr 3+ , and Z represents from the group consisting of Si and Al It represents at least one selected (except when Z is only Al), and n ≧ 0. ]
Is a layered silicate. X represents a cation between layers, Y 1 and Y 2 represent a cation of an octahedral sheet, and Z represents a cation of a tetrahedral sheet.

本発明においては、得られるオキシム化合物(II)の選択率の点で、スメクタイトの中でも、モンモリロナイト、サポナイト、スチーブンサイト、ヘクトライトが好ましい。   In the present invention, montmorillonite, saponite, stevensite, and hectorite are preferable among smectites in terms of selectivity of the oxime compound (II) to be obtained.

本発明において好適に使用されるモンモリロナイトは、ケイ酸シート/アルミン酸シート/ケイ酸シートの2:1型構造を層の基本構造とし、アルミン酸シートのアルミニウムの一部がマグネシウムで置換されることにより層が負電荷を帯び、層と層との間に交換可能なカチオンが存在する層状ケイ酸塩であり、一般には次式(B)   The montmorillonite preferably used in the present invention has a 2: 1 type structure of silicate sheet / aluminate sheet / silicate sheet as a basic layer structure, and a part of aluminum of the aluminate sheet is replaced with magnesium. Is a layered silicate in which the layer is negatively charged and exchangeable cations are present between the layers.

(Al2−mMg)Si410(OH)・nHO (B) X m (Al 2-m Mg m) Si 4 O 10 (OH) 2 · nH 2 O (B)

〔式中、XはK、Na、1/2Ca2+及び1/2Mg2+からなる群より選ばれる少なくとも1種を表し、0.2≦m≦0.6、n≧0である。〕
で示される層状ケイ酸塩である。なお、Xは層間の陽イオンを表し、陽イオンとしてナトリウムイオン、カリウムイオン及びカルシウムイオンからなる群より選ばれる少なくとも一種を有するものが好ましく使用される。
[Wherein, X represents at least one selected from the group consisting of K + , Na + , 1 / 2Ca 2+ and 1 / 2Mg 2+ , and 0.2 ≦ m ≦ 0.6 and n ≧ 0. ]
Is a layered silicate. X represents a cation between layers, and a cation having at least one selected from the group consisting of sodium ion, potassium ion and calcium ion is preferably used.

本発明においては、上記層状ケイ酸塩を、酸および金属元素化合物とともに混合することにより、層状ケイ酸塩触媒が調製される。   In the present invention, a layered silicate catalyst is prepared by mixing the layered silicate together with an acid and a metal element compound.

金属元素化合物としては、第4族金属元素化合物、第5族金属元素化合物、第6族金属元素化合物、ゲルマニウム化合物からなる群より選ばれる少なくとも一種の金属元素化合物が例示される。   Examples of the metal element compound include at least one metal element compound selected from the group consisting of Group 4 metal element compounds, Group 5 metal element compounds, Group 6 metal element compounds, and germanium compounds.

第4族金属元素の化合物としては、第4族金属元素の無機化合物および第4族金属元素の有機化合物が挙げられる。第4族金属元素の無機化合物としては、例えば、三塩化チタン(TiCl)、四塩化チタン(TiCl)、四臭化チタン(TiBr)、四フッ化チタン(TiF)、四ヨウ化チタン(TiI)、三塩化ジルコニウム(ZrCl)、四塩化ジルコニウム(ZrCl)、三臭化ジルコニウム(ZrBr)、四臭化ジルコニウム(ZrBr)、四フッ化ジルコニウム(ZrF)、四ヨウ化ジルコニウム(ZrI)等の第4族金属元素のハロゲン化物;四硝酸チタン(Ti(NO)、四硝酸ジルコニウム(Zr(NO)等の第4族金属元素の硝酸塩;硝酸ジルコニル(ZrO(NO)等の第4族金属元素のオキシ硝酸塩;二硫酸チタン(Ti(SO)、二硫酸ジルコニウム(Zr(SO)等の第4族金属元素の硫酸塩;リン酸チタン(Ti(PO)、リン酸ジルコニウム(Zr(PO)等の第4族金属元素のリン酸塩;等が挙げられる。第4族金属元素の有機化合物としては、例えば、Ti(OR(以下、Rは炭素数1〜4のアルキル基を表す。)、Zr(OR等の第4族金属元素のアルコキシド化合物;TiCl(OR、TiCl(OR、TiCl(OR)、ZrCl(OR、ZrCl(OR、ZrCl(OR)等の第4族金属元素のハロゲン化アルコキシド化合物;四酢酸チタン(Ti(CHCOO))、四酢酸ジルコニウム(Zr(CHCOO))等の第4族金属元素の酢酸塩;等が挙げられる。また、必要に応じて、第4族金属元素の化合物の水和物を用いてもよいし、それらの2種以上を用いてもよい。第4族金属元素の化合物としては、製造装置の腐食を考慮すればハロゲン化物以外が好ましく、中でも、第4族金属元素の硫酸塩、第4族金属元素のアルコキシド化合物、第4族金属元素のオキシ硝酸塩が好ましく、第4族金属元素の硫酸塩がより好ましい。 Examples of Group 4 metal element compounds include inorganic compounds of Group 4 metal elements and organic compounds of Group 4 metal elements. Examples of inorganic compounds of Group 4 metal elements include titanium trichloride (TiCl 3 ), titanium tetrachloride (TiCl 4 ), titanium tetrabromide (TiBr 4 ), titanium tetrafluoride (TiF 4 ), and tetraiodide. Titanium (TiI 4 ), zirconium trichloride (ZrCl 3 ), zirconium tetrachloride (ZrCl 4 ), zirconium tribromide (ZrBr 3 ), zirconium tetrabromide (ZrBr 4 ), zirconium tetrafluoride (ZrF 4 ), four Group 4 metal element halides such as zirconium iodide (ZrI 4 ); Group 4 metal element nitrates such as titanium tetranitrate (Ti (NO 3 ) 4 ) and zirconium tetranitrate (Zr (NO 3 ) 4 ) ; zirconyl nitrate (ZrO (NO 3) 2) a group 4 metal elements oxy nitrates such as; disulfate titanium (Ti (SO 4) 2) , disulfate zirconium (Zr (SO 4) 2) sulfate group 4 metal elements such as; titanium phosphate (Ti 3 (PO 4) 4 ), zirconium phosphate (Zr 3 (PO 4) 4 ) Group 4 metal, such as Elemental phosphates; and the like. Examples of organic compounds of Group 4 metal elements include Group 4 metals such as Ti (OR 3 ) 4 (hereinafter, R 3 represents an alkyl group having 1 to 4 carbon atoms), Zr (OR 3 ) 4, and the like. Elemental alkoxide compounds; TiCl (OR 3 ) 3 , TiCl 2 (OR 3 ) 2 , TiCl 3 (OR 3 ), ZrCl (OR 3 ) 3 , ZrCl 2 (OR 3 ) 2 , ZrCl 3 (OR 3 ), etc. Halogenated alkoxide compounds of Group 4 metal elements; acetates of Group 4 metal elements such as titanium tetraacetate (Ti (CH 3 COO) 4 ) and zirconium tetraacetate (Zr (CH 3 COO) 4 ); It is done. Moreover, the hydrate of the compound of a group 4 metal element may be used as needed, and 2 or more types thereof may be used. The group 4 metal element compound is preferably a halide other than the halide in consideration of the corrosion of the production apparatus. Among them, the sulfate of the group 4 metal element, the alkoxide compound of the group 4 metal element, the group 4 metal element Oxynitrates are preferred, and sulfates of Group 4 metal elements are more preferred.

第5族金属元素の化合物としては、第5族金属元素の無機化合物、第5族金属元素の有機化合物が挙げられる。第5族金属元素の無機化合物としては、例えば、三塩化バナジウム(VCl)、四塩化バナジウム(VCl)、三臭化バナジウム(VBr)、三フッ化バナジウム(VF)、四フッ化バナジウム(VF)、三ヨウ化バナジウム(VI)、三塩化ニオブ(NbCl)、五塩化ニオブ(NbCl)、三臭化ニオブ(NbBr)、五臭化ニオブ(NbBr)、五フッ化ニオブ(NbF)、五ヨウ化ニオブ(NbI)、三塩化タンタル(TaCl)、五塩化タンタル(TaCl)、五臭化タンタル(TaBr)、五フッ化タンタル(TaF)、五ヨウ化タンタル(TaI))等の第5族金属元素のハロゲン化物等が挙げられる。第5族金属元素の有機化合物としては、例えば、Nb(OR、Ta(OR等の第5族金属元素のアルコキシド化合物等が挙げられる。また、必要に応じて、第5族金属元素の化合物の水和物を用いてもよいし、それらの2種以上を用いてもよい。 Examples of the Group 5 metal element compound include inorganic compounds of Group 5 metal elements and organic compounds of Group 5 metal elements. Examples of inorganic compounds of Group 5 metal elements include vanadium trichloride (VCl 3 ), vanadium tetrachloride (VCl 4 ), vanadium tribromide (VBr 3 ), vanadium trifluoride (VF 3 ), and tetrafluoride. Vanadium (VF 4 ), vanadium triiodide (VI 3 ), niobium trichloride (NbCl 3 ), niobium pentachloride (NbCl 5 ), niobium tribromide (NbBr 3 ), niobium pentabromide (NbBr 5 ), five Niobium fluoride (NbF 5 ), niobium pentaiodide (NbI 5 ), tantalum trichloride (TaCl 3 ), tantalum pentachloride (TaCl 5 ), tantalum pentabromide (TaBr 5 ), tantalum pentafluoride (TaF 5 ) And halides of Group 5 metal elements such as tantalum pentaiodide (TaI 5 ). Examples of organic compounds of Group 5 metal elements include alkoxide compounds of Group 5 metal elements such as Nb (OR 3 ) 5 and Ta (OR 3 ) 5 . Moreover, the hydrate of the compound of a Group 5 metal element may be used as needed, and 2 or more types thereof may be used.

第6族金属元素の化合物としては、第6族金属元素の無機化合物、第6族金属元素の有機化合物が挙げられる。第6族金属元素の無機化合物としては、例えば、二塩化クロム(CrCl)、三塩化クロム(CrCl)、二臭化クロム(CrBr)、三臭化クロム(CrBr)、二フッ化クロム(CrF)、三フッ化クロム(CrF)、二ヨウ化クロム(CrI)、三ヨウ化クロム(CrI)、三塩化モリブデン(MoCl)、五塩化モリブデン(MoCl)、三臭化モリブデン(MoBr)、四フッ化モリブデン(MoF)、六フッ化モリブデン(MoF)、四塩化タングステン(WCl)、六塩化タングステン(WCl)、五臭化タングステン(WBr)、六フッ化タングステン(WF)等の第6族金属元素のハロゲン化物;三硝酸クロム(Cr(NO)等の第6族金属元素の硝酸塩;硫酸クロム(III)(Cr(SO)、等の第6族金属元素の硫酸塩;等が挙げられる。第6族金属元素の有機化合物としては、例えば、Mo(OR、W(OR、W(OR等の第6族金属元素のアルコキシド化合物;三酢酸クロム(Cr(CHCOO))等の第6族金属元素の酢酸塩;等が挙げられる。また、必要に応じて、第6族金属元素の化合物の水和物を用いてもよいし、それらの2種以上を用いてもよい。 Examples of the Group 6 metal element compound include inorganic compounds of Group 6 metal elements and organic compounds of Group 6 metal elements. Examples of inorganic compounds of Group 6 metal elements include chromium dichloride (CrCl 2 ), chromium trichloride (CrCl 3 ), chromium dibromide (CrBr 2 ), chromium tribromide (CrBr 3 ), and difluoride. Chromium (CrF 2 ), chromium trifluoride (CrF 3 ), chromium diiodide (CrI 2 ), chromium triiodide (CrI 3 ), molybdenum trichloride (MoCl 3 ), molybdenum pentachloride (MoCl 5 ), three Molybdenum bromide (MoBr 3 ), molybdenum tetrafluoride (MoF 4 ), molybdenum hexafluoride (MoF 6 ), tungsten tetrachloride (WCl 4 ), tungsten hexachloride (WCl 6 ), tungsten pentabromide (WBr 5 ) , halides of the group 6 metal element such as tungsten hexafluoride (WF 6); trinitrate chromium (Cr (NO 3) 3) of the group 6 metal elements such as Salt; Chromium sulfate (III) (Cr 2 (SO 4) 3), sulfates of Group 6 metal element and the like; and the like. Examples of organic compounds of Group 6 metal elements include alkoxide compounds of Group 6 metal elements such as Mo (OR 3 ) 5 , W (OR 3 ) 5 , and W (OR 3 ) 6 ; chromium triacetate (Cr ( CH 3 COO) 3 ) group 6 metal element acetates; and the like. Moreover, the hydrate of the compound of a Group 6 metal element may be used as needed, and 2 or more types thereof may be used.

ゲルマニウム化合物としては、ゲルマニウムの無機化合物、ゲルマニウムの有機化合物が挙げられる。ゲルマニウムの無機化合物としては、例えば、四塩化ゲルマニウム(GeCl)、四臭化ゲルマニウム(GeBr)、四フッ化ゲルマニウム(GeF)、四ヨウ化ゲルマニウム(GeI)等のゲルマニウムのハロゲン化物;硫化ゲルマニウム(GeS)等のゲルマニウムの硫化物;等が挙げられる。ゲルマニウムの有機化合物としては、例えば、Ge(OR等のゲルマニウムのアルコキシド化合物;GeCl(OR、GeCl(OR、GeCl(OR)等のゲルマニウムのハロゲン化アルコキシド化合物;等が挙げられる。また、必要に応じて、ゲルマニウム化合物の水和物を用いてもよいし、それらの2種以上を用いてもよい。ゲルマニウム化合物としては、中でも、ゲルマニウムのハロゲン化物、ゲルマニウムのアルコキシド化合物が好ましい。 Examples of the germanium compound include an inorganic compound of germanium and an organic compound of germanium. Examples of germanium inorganic compounds include germanium halides such as germanium tetrachloride (GeCl 4 ), germanium tetrabromide (GeBr 4 ), germanium tetrafluoride (GeF 4 ), and germanium tetraiodide (GeI 4 ); And germanium sulfides such as germanium sulfide (GeS). Examples of germanium organic compounds include germanium alkoxide compounds such as Ge (OR 3 ) 4 ; germanium halogenated alkoxides such as GeCl (OR 3 ) 3 , GeCl 2 (OR 3 ) 2 , and GeCl 3 (OR 3 ). Compound; and the like. Moreover, the hydrate of a germanium compound may be used as needed, and those 2 or more types may be used. Of these, germanium halides and germanium alkoxide compounds are preferred as the germanium compound.

第4族金属元素の化合物、第5族金属元素の化合物、第6族金属元素の化合物及びゲルマニウム化合物からなる群より選ばれる少なくとも一種の化合物の使用量は、第4族金属元素の化合物、第5族金属元素の化合物、第6族金属元素の化合物及びゲルマニウム化合物からなる群より選ばれる少なくとも一種の化合物に含まれる金属元素に換算して、層状ケイ酸塩100重量部に対して、0.01〜100重量部が好ましく、0.05〜50重量部がより好ましい。第4族金属元素の化合物、第5族金属元素の化合物、第6族金属元素の化合物及びゲルマニウム化合物からなる群より選ばれる二種以上の化合物を使用する場合、その合計使用量が前記範囲となればよい。   The amount of at least one compound selected from the group consisting of a Group 4 metal element compound, a Group 5 metal element compound, a Group 6 metal element compound, and a germanium compound is the Group 4 metal element compound, In terms of a metal element contained in at least one compound selected from the group consisting of a group 5 metal element compound, a group 6 metal element compound and a germanium compound, 0. 01-100 weight part is preferable and 0.05-50 weight part is more preferable. When using two or more kinds of compounds selected from the group consisting of compounds of Group 4 metal elements, compounds of Group 5 metal elements, compounds of Group 6 metal elements, and germanium compounds, the total amount used is within the above range. It only has to be.

層状ケイ酸塩、金属元素化合物と共に混合する酸としては、有機酸、無機酸が挙げられ、中でも、無機酸が好ましい。無機酸としては、例えば、塩化水素、硫酸、リン酸、硝酸等の水溶液が挙げられ、製造装置の腐食を考慮するなら、塩化水素以外の酸が好ましく、中でも、硝酸及び硫酸の水溶液が好ましい。該酸性水溶液のpHは、4以下が好ましい。該酸性水溶液には、メタノール、エタノール、アセトン、1,2−ジメトキシエタン等の極性有機溶媒が含まれてもよい。該酸性水溶液の調製において、第4族金属元素化合物、第5族金属元素化合物、第6族金属元素化合物及びゲルマニウム化合物からなる群より選ばれる少なくとも一種の化合物として、加水分解性のハロゲン化物、アルコキシド化合物、オキシ硝酸塩等の酸性条件で加水分解される化合物を用いると、化合物が加水分解され酸化物となり、層間の陽イオンが、正に荷電した第4族金属元素の酸化物、正に荷電した第5族金属元素の酸化物、正に荷電した第6族金属元素の酸化物及び正に荷電した酸化ゲルマニウムからなる群より選ばれる少なくとも一種でイオン交換された層状ケイ酸塩を調製することができる。また、第4族金属元素の化合物、第5族金属元素の化合物又は第6族金属元素の化合物として、加水分解性のハロゲン化物、アルコキシド化合物、オキシ硝酸塩等の酸性条件で加水分解される2種以上の第4族金属元素の化合物、2種以上の第5族金属元素の化合物又は2種以上の第6族金属元素の化合物を用い、それらの2種以上の化合物に含まれる第4族金属元素、第5族金属元素又は第6族金属元素が化合物間で同一でない場合には、2種以上の第4族金属元素、2種以上の第5族金属元素又は2種以上の第6族金属元素を構成元素とする複合酸化物も生成し得るため、層間の陽イオンとして、2種以上の第4族金属元素、2種以上の第5族金属元素又は2種以上の第6族金属元素を構成元素とする正に荷電した複合酸化物が導入され得る。また、第4族金属元素の化合物、第5族金属元素の化合物、第6族金属元素の化合物及びゲルマニウム化合物からなる群より選ばれる二種以上の化合物を使用する場合、層間の陽イオンとして、第4族金属元素、第5族金属元素、第6族金属元素及びゲルマニウムからなる群より選ばれる二種以上の金属元素を構成元素とする正に荷電した複合酸化物が導入され得る。   Examples of the acid mixed with the layered silicate and the metal element compound include organic acids and inorganic acids, and among them, inorganic acids are preferable. Examples of the inorganic acid include aqueous solutions of hydrogen chloride, sulfuric acid, phosphoric acid, nitric acid, and the like. In consideration of corrosion of the production apparatus, acids other than hydrogen chloride are preferable, and aqueous solutions of nitric acid and sulfuric acid are particularly preferable. The pH of the acidic aqueous solution is preferably 4 or less. The acidic aqueous solution may contain a polar organic solvent such as methanol, ethanol, acetone, 1,2-dimethoxyethane. In the preparation of the acidic aqueous solution, at least one compound selected from the group consisting of Group 4 metal element compounds, Group 5 metal element compounds, Group 6 metal element compounds, and germanium compounds, hydrolyzable halides, alkoxides When a compound that is hydrolyzed under acidic conditions such as a compound or oxynitrate is used, the compound is hydrolyzed to become an oxide, and the cation between layers is a positively charged group 4 metal element oxide, and is positively charged. Preparing a layered silicate ion-exchanged with at least one selected from the group consisting of Group 5 metal element oxides, positively charged Group 6 metal element oxides and positively charged germanium oxide. it can. In addition, as a Group 4 metal element compound, a Group 5 metal element compound, or a Group 6 metal element compound, two types that are hydrolyzed under acidic conditions such as hydrolyzable halides, alkoxide compounds, oxynitrates, etc. The above Group 4 metal element compound, 2 or more Group 5 metal element compounds, or 2 or more Group 6 metal element compounds, and Group 4 metals contained in these 2 or more compounds When the element, Group 5 metal element or Group 6 metal element are not the same among the compounds, two or more Group 4 metal elements, two or more Group 5 metal elements, or two or more Group 6 elements Since complex oxides containing metal elements can also be generated, two or more Group 4 metal elements, two or more Group 5 metal elements, or two or more Group 6 metals can be used as interlayer cations. Positively charged complex oxides with elements as constituent elements were introduced. That. When using two or more compounds selected from the group consisting of a Group 4 metal element compound, a Group 5 metal element compound, a Group 6 metal element compound and a germanium compound, A positively charged composite oxide having two or more metal elements selected from the group consisting of Group 4 metal elements, Group 5 metal elements, Group 6 metal elements, and germanium as constituent elements may be introduced.

第4族金属元素化合物、第5族金属元素化合物、第6族金属元素化合物及びゲルマニウム化合物からなる群より選ばれる少なくとも一種の化合物を含む溶液には、第4族金属元素化合物、第5族金属元素化合物、第6族金属元素化合物及びゲルマニウム化合物以外に、他の元素の化合物が含まれてもよい。また、かかる溶液と接触させる前及び/又は接触させた後に、他の元素の化合物を含む溶液との接触を行ってもよい。他の元素の化合物としては、例えば、アルカリ金属元素の化合物、アルカリ土類金属元素の化合物、第3族金属元素の化合物、第7族金属元素の化合物、第8族金属元素の化合物、第9族金属元素の化合物、第10族金属元素の化合物、第11族金属元素の化合物、第12族金属元素の化合物、アルミニウム化合物、ガリウム化合物、インジウム化合物、タリウム化合物、スズ化合物、鉛化合物、ケイ素化合物、ヒ素化合物、アンチモン化合物、ビスマス化合物、セレン化合物、テルル化合物等が挙げられ、必要に応じてそれらの2種以上を用いることもできる。中でも、第8族金属元素の化合物、第9族金属元素の化合物、第10族金属元素の化合物、第11族金属元素の化合物、アルミニウム化合物、ケイ素化合物が好ましい。他の元素の化合物として、アルコキシド化合物等の酸性条件で加水分解される化合物を用い、第4族金属元素の化合物、第5族金属元素の化合物、第6族金属元素の化合物及びゲルマニウム化合物からなる群より選ばれる少なくとも一種の化合物と、前記の他の元素の化合物とを含む溶液が酸性水溶液である場合、層間の陽イオンが、以下のi)、ii)及び/又はiii)、
i)第4族金属元素、第5族金属元素、第6族金属元素及びゲルマニウムからなる群より選ばれる少なくとも一種の金属元素の陽イオンと、他の元素の正に荷電した酸化物との混合物
ii)第4族金属元素の化合物、第5族金属元素の化合物、第6族金属元素の化合物及びゲルマニウム化合物からなる群より選ばれる少なくとも一種の化合物が酸性条件で加水分解される化合物である場合、正に荷電した第4族金属元素の酸化物、正に荷電した第5族金属元素の酸化物、正に荷電した第6族金属元素の酸化物及び正に荷電した酸化ゲルマニウムからなる群より選ばれる少なくとも一種と、他の元素の正に荷電した酸化物との混合物
iii)第4族金属元素、第5族金属元素、第6族金属元素及びゲルマニウムからなる群より選ばれる少なくとも一種の金属元素と、他の元素とを構成元素とする正に荷電した複合酸化物でイオン交換された層状ケイ酸塩を調製することができる。酸性条件で加水分解される他の元素を含む化合物としては、例えば、ケイ素アルコキシド化合物が挙げられ、ケイ素アルコキシド化合物としては、例えば、オルトケイ酸テトラメチル、オルトケイ酸テトラエチル、オルトケイ酸テトラプロピル、オルトケイ酸テトラブチル等のオルトケイ酸テトラアルキルが挙げられる。ケイ素アルコキシド化合物を使用することにより、正に荷電したケイ素の酸化物を含有する層状ケイ酸塩を調製することができる。
The solution containing at least one compound selected from the group consisting of Group 4 metal element compounds, Group 5 metal element compounds, Group 6 metal element compounds, and germanium compounds includes Group 4 metal element compounds and Group 5 metals. In addition to the elemental compound, the Group 6 metal elemental compound, and the germanium compound, compounds of other elements may be included. Moreover, you may perform the contact with the solution containing the compound of another element before and / or after making it contact with this solution. Examples of other element compounds include compounds of alkali metal elements, compounds of alkaline earth metal elements, compounds of Group 3 metal elements, compounds of Group 7 metal elements, compounds of Group 8 metal elements, Group metal element compounds, Group 10 metal element compounds, Group 11 metal element compounds, Group 12 metal element compounds, aluminum compounds, gallium compounds, indium compounds, thallium compounds, tin compounds, lead compounds, silicon compounds , Arsenic compounds, antimony compounds, bismuth compounds, selenium compounds, tellurium compounds and the like, and two or more of them can be used as necessary. Of these, compounds of Group 8 metal elements, compounds of Group 9 metal elements, compounds of Group 10 metal elements, compounds of Group 11 metal elements, aluminum compounds, and silicon compounds are preferred. As a compound of another element, a compound hydrolyzed under an acidic condition such as an alkoxide compound is used, and is composed of a Group 4 metal element compound, a Group 5 metal element compound, a Group 6 metal element compound, and a germanium compound. When the solution containing at least one compound selected from the group and the compound of the other element is an acidic aqueous solution, the cations between the layers are represented by the following i), ii) and / or iii):
i) A mixture of a cation of at least one metal element selected from the group consisting of Group 4 metal elements, Group 5 metal elements, Group 6 metal elements and germanium, and positively charged oxides of other elements ii) When at least one compound selected from the group consisting of Group 4 metal element compounds, Group 5 metal element compounds, Group 6 metal element compounds and germanium compounds is a compound that is hydrolyzed under acidic conditions. A positively charged Group 4 metal element oxide, a positively charged Group 5 metal element oxide, a positively charged Group 6 metal element oxide, and a positively charged germanium oxide. A mixture of at least one selected with a positively charged oxide of another element iii) at least selected from the group consisting of Group 4 metal elements, Group 5 metal elements, Group 6 metal elements and germanium And one metal element, the other composite oxide and positively charged to a constituent element element ion-exchanged layered silicate can be prepared. Examples of compounds containing other elements that are hydrolyzed under acidic conditions include silicon alkoxide compounds. Examples of silicon alkoxide compounds include tetramethyl orthosilicate, tetraethyl orthosilicate, tetrapropyl orthosilicate, and tetrabutyl orthosilicate. And tetraalkyl orthosilicate. By using a silicon alkoxide compound, a layered silicate containing a positively charged silicon oxide can be prepared.

層状ケイ酸塩、金属元素化合物および酸の混合は、回分式で行ってもよいし、連続式で行ってもよい。回分式で行う方法としては、例えば、撹拌槽中、層間に交換可能な陽イオンを有する層状ケイ酸塩を、第4族金属元素の化合物、第5族金属元素の化合物、第6族金属元素の化合物及びゲルマニウム化合物からなる群より選ばれる少なくとも一種の化合物を含む溶液に浸漬し撹拌混合する方法等が挙げられる。連続式で行う方法としては、例えば、層間に交換可能な陽イオンを有する層状ケイ酸塩を充填した管状容器に、第4族金属元素の化合物、第5族金属元素の化合物、第6族金属元素の化合物及びゲルマニウム化合物からなる群より選ばれる少なくとも一種の化合物を含む溶液を流通させる方法や、層間に交換可能な陽イオンを有する層状ケイ酸塩を入れた撹拌槽に、第4族金属元素の化合物、第5族金属元素の化合物、第6族金属元素の化合物及びゲルマニウム化合物からなる群より選ばれる少なくとも一種の化合物を含む溶液を供給しながら、混合物の液相を抜き出す方法等が挙げられる。   The mixing of the layered silicate, the metal element compound and the acid may be performed batchwise or continuously. Examples of the batch method include a layered silicate having cations exchangeable between layers in a stirring tank, a group 4 metal element compound, a group 5 metal element compound, and a group 6 metal element. And a method in which the mixture is immersed in a solution containing at least one compound selected from the group consisting of the above compound and a germanium compound and stirred and mixed. Examples of the continuous method include, for example, a group 4 metal element compound, a group 5 metal element compound, and a group 6 metal element in a tubular container filled with layered silicate having cations exchangeable between layers. Group 4 metal elements in a method of circulating a solution containing at least one compound selected from the group consisting of elemental compounds and germanium compounds, and a stirring tank containing layered silicates having exchangeable cations between layers And a method of withdrawing the liquid phase of the mixture while supplying a solution containing at least one compound selected from the group consisting of compounds of Group 5, Group 5 metal elements, Group 6 metal elements, and germanium compounds. .

層状ケイ酸塩、金属元素化合物および酸を混合して得られた混合物には、熱処理が行われる。熱処理温度は通常70〜170℃であり、好ましくは70〜120℃、さらに好ましくは70〜90℃である。時間は通常0.1〜240時間であり、好ましくは0.5〜120時間である。圧力は、通常、絶対圧で0.1〜1MPa、好ましくは大気圧である。また、該熱処理は、層状ケイ酸塩、金属元素化合物、酸を混合した時点から開始できるよう、あらかじめ構成物の1つまたは2つの混合物を加熱した状態に、他の構成物を混合して開始してもよい。また、第4族金属元素の化合物、第5族金属元素の化合物、第6族金属元素の化合物及びゲルマニウム化合物からなる群より選ばれる少なくとも一種の化合物を含む溶液の使用量は、層状ケイ酸塩に対して、適宜設定される。なお、上述の層状ケイ酸塩、金属元素化合物および酸を混合して行う熱処理は、必要に応じて複数回行ってもよく、金属元素化合物および酸を異なる化合物に変えて行ってもよい。   The mixture obtained by mixing the layered silicate, the metal element compound and the acid is subjected to heat treatment. The heat processing temperature is 70-170 degreeC normally, Preferably it is 70-120 degreeC, More preferably, it is 70-90 degreeC. The time is usually 0.1 to 240 hours, preferably 0.5 to 120 hours. The pressure is usually 0.1 to 1 MPa in absolute pressure, preferably atmospheric pressure. In addition, the heat treatment is started by mixing one or two of the components in advance and mixing other components so that the heat treatment can be started from the time when the layered silicate, the metal element compound, and the acid are mixed. May be. The amount of the solution containing at least one compound selected from the group consisting of a Group 4 metal element compound, a Group 5 metal element compound, a Group 6 metal element compound and a germanium compound is a layered silicate. Is appropriately set. The heat treatment performed by mixing the layered silicate, the metal element compound and the acid may be performed a plurality of times as necessary, or may be performed by changing the metal element compound and the acid to different compounds.

層状ケイ酸塩、金属元素化合物および酸を混合して得られた混合物のスラリーは、層状ケイ酸塩の量がスラリー中の水分に対して、通常、2重量%以上、好ましくは5重量%以上である。層状ケイ酸塩の量は、スラリー中の水分に対して、20重量%以下とするのが好ましい。 The slurry of the mixture obtained by mixing the layered silicate, the metal element compound and the acid, the amount of the layered silicate is usually 2% by weight or more, preferably 5% by weight or more based on the moisture in the slurry. It is. The amount of the layered silicate is preferably 20% by weight or less based on the moisture in the slurry.

層状ケイ酸塩、金属元素化合物および酸の混合後に、熱処理して得られた層状ケイ酸塩触媒の固体は、通常、溶媒蒸発、濾過やデカンテーション等により分離した後、洗浄される。前記溶媒蒸発の方法としてはスプレードライヤー、ディスクドライヤー、気流乾燥機、箱型乾燥機等の乾燥機器を利用したものがあげられる。前記ろ過の方法としては、加圧ろ過、減圧ろ過、遠心ろ過、が挙げられる。洗浄液としては、水、水酸性水溶液、水と混和性の溶媒(例えば、低級アルコール)があげられ、これらは、任意の順に使用するかこれらの混合物として使用してもよい。洗浄は、分離した固体に洗浄液を接触させればよく、典型的には、リンス、リパルプにより行われる。洗浄液としては、水が好ましい。洗浄の際には、分離した固体と混合した状態での洗浄液、および洗浄液をろ過してえられたろ液のpHを4以下に保つことが好ましい。洗浄液として、水を用いた場合、層状ケイ酸塩触媒が湿潤することにより粘度が上がりやすく、取り扱い性が悪化する傾向があるので、洗浄液のpHを前記範囲に保つことが特に有効である。   The solid of the layered silicate catalyst obtained by heat treatment after the mixing of the layered silicate, metal element compound and acid is usually washed after being separated by solvent evaporation, filtration, decantation or the like. Examples of the method for evaporating the solvent include those using a drying device such as a spray dryer, a disk dryer, an air dryer, and a box dryer. Examples of the filtration method include pressure filtration, vacuum filtration, and centrifugal filtration. Examples of the cleaning liquid include water, an aqueous acidic solution, and a solvent miscible with water (for example, lower alcohol). These may be used in any order or as a mixture thereof. The washing may be performed by bringing the washing liquid into contact with the separated solid, and is typically performed by rinsing or repulping. As the cleaning liquid, water is preferable. At the time of washing, it is preferable to maintain the pH of the washing liquid mixed with the separated solid and the filtrate obtained by filtering the washing liquid at 4 or less. When water is used as the cleaning liquid, it is particularly effective to maintain the pH of the cleaning liquid in the above range because the viscosity of the layered silicate catalyst tends to increase due to the wetness and the handling property tends to deteriorate.

洗浄後は、生成した層状ケイ酸塩を乾燥することにより、層状ケイ酸塩を回収して触媒として使用することができる。
乾燥は、常圧下、減圧下のいずれでも行うことができ、乾燥温度は、0〜600℃が好ましく、乾燥時間は、0.5〜100時間が好ましい。前記乾燥は、空気等の酸素含有ガスの雰囲気下で行ってもよいし、窒素、ヘリウム、アルゴン、二酸化酸素等の不活性ガスの雰囲気下で行ってもよい。
After washing, the produced layered silicate is dried, whereby the layered silicate can be recovered and used as a catalyst.
Drying can be performed under normal pressure or reduced pressure, the drying temperature is preferably 0 to 600 ° C., and the drying time is preferably 0.5 to 100 hours. The drying may be performed in an atmosphere of an oxygen-containing gas such as air, or may be performed in an atmosphere of an inert gas such as nitrogen, helium, argon, or oxygen dioxide.

乾燥の後、必要に応じて焼成してもよい。該焼成の温度は、150〜600℃が好ましく、焼成の時間は0.1〜100時間が好ましい。 After drying, you may bake as needed. The firing temperature is preferably 150 to 600 ° C., and the firing time is preferably 0.1 to 100 hours.

焼成は、空気等の酸素含有ガスの雰囲気下で行ってもよいし、窒素、ヘリウム、アルゴン、二酸化酸素等の不活性ガスの雰囲気下で行ってもよい。酸素含有ガスや不活性ガスには、水蒸気が含まれていてもよい。焼成は、酸素含有ガス又は不活性ガスの雰囲気下、多段階で行ってもよい。焼成は、流動層式で行ってもよいし、固定床式で行ってもよい。前記焼成に用いられる装置としては、加熱できる装置であれば特に制限はないが、例えば、熱風循環式焼成炉、静置式焼成炉、トンネル炉、ロータリーキルン、遠赤外線炉、マイクロ波加熱炉等を使用することができる。 Firing may be performed in an atmosphere of an oxygen-containing gas such as air, or may be performed in an atmosphere of an inert gas such as nitrogen, helium, argon, or oxygen dioxide. Water vapor may be contained in the oxygen-containing gas or the inert gas. Firing may be performed in multiple stages under an atmosphere containing an oxygen-containing gas or an inert gas. Firing may be performed by a fluidized bed type or a fixed bed type. The apparatus used for the firing is not particularly limited as long as it can be heated. For example, a hot-air circulating firing furnace, a stationary firing furnace, a tunnel furnace, a rotary kiln, a far infrared furnace, a microwave heating furnace, or the like is used. can do.

本発明の方法で得られた層状ケイ酸塩は、必要に応じてバインダーを用いて、成形してから酸化反応の触媒として使用してもよいし、担体に担持して使用してもよい。かかる成形処理又は担持処理は、層状ケイ酸塩、金属元素化合物および酸の混合の前に行ってもよいし、層状ケイ酸塩、金属元素化合物および酸の混合液の熱処理後に行ってもよいし、層状ケイ酸塩、金属元素化合物および酸の混合液の熱処理後に洗浄した後に行ってもよい。成形処理は、例えば、押出、圧縮、打錠、流動、転動、噴霧等の方法により行うことができ、所望の形状、例えば粒状、ペレット状、球状、円柱状、板状、リング状、クローバー状等に成形することができる。 The layered silicate obtained by the method of the present invention may be used as a catalyst for an oxidation reaction after being molded using a binder as necessary, or may be used by being supported on a carrier. Such forming treatment or supporting treatment may be performed before mixing the layered silicate, the metal element compound and the acid, or may be performed after the heat treatment of the mixed solution of the layered silicate, the metal element compound and the acid. The cleaning may be performed after the heat treatment of the mixed solution of the layered silicate, the metal element compound, and the acid. The molding process can be performed by a method such as extrusion, compression, tableting, flow, rolling, spraying, etc., and a desired shape, for example, granular, pellet, spherical, cylindrical, plate, ring, clover It can be formed into a shape or the like.

式(I)および(II)及び(III)において、R及びRで表される置換基を有していてもよい炭化水素基、または置換基を有していてもよい複素環基置換基において、炭化水素基(例えば、直鎖または環状の、飽和または不飽和の脂肪族基、芳香族基(アリール基)あるいはアラルキル基)および複素環基は、それぞれ独立に、その一部または全部の水素原子が、他の置換基で置換されていてもよい。R及びRにおいて、炭化水素基としては、例えば、アルキル基、アルケニル基、アルキニル基、シクロアルキル基、シクロアルケニル基、アリール基等が挙げられる。 In formulas (I) and (II) and (III), a hydrocarbon group which may have a substituent represented by R 1 and R 2 or a heterocyclic group which may have a substituent In the group, a hydrocarbon group (for example, a linear or cyclic, saturated or unsaturated aliphatic group, aromatic group (aryl group) or aralkyl group) and a heterocyclic group are each independently part or all of The hydrogen atom of may be substituted with other substituents. In R 1 and R 2 , examples of the hydrocarbon group include an alkyl group, an alkenyl group, an alkynyl group, a cycloalkyl group, a cycloalkenyl group, and an aryl group.

アルキル基としては、炭素数が1〜24のアルキル基が好ましく、例えば、メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、ブチル基、イソブチル基、s−ブチル基、t−ブチル基、ペンチル基、ヘキシル基、ヘプチル基、オクチル基、ノニル基、デシル基、ウンデシル基、ドデシル基、トリデシル基、テトラデシル基、ペンタデシル基、ヘキサデシル基、ヘプタデシル基、オクタデシル基、ノナデシル基、イコシル基、エイコシル基、ヘンイコシル基、ヘンエイコシル基、ドコシル基、トリコシル基、テトラコシル基等が挙げられる。   As the alkyl group, an alkyl group having 1 to 24 carbon atoms is preferable. For example, a methyl group, an ethyl group, a propyl group, an isopropyl group, a butyl group, an isobutyl group, a s-butyl group, a t-butyl group, a pentyl group, Hexyl, heptyl, octyl, nonyl, decyl, undecyl, dodecyl, tridecyl, tetradecyl, pentadecyl, hexadecyl, heptadecyl, octadecyl, nonadecyl, icosyl, eicosyl, heicosyl , Heneicosyl group, docosyl group, tricosyl group, tetracosyl group and the like.

アルケニル基としては、炭素数が2〜24のアルケニル基が好ましく、例えば、ビニル基、アリル基、2−メチルアリル基、イソプロペニル基、1−プロペニル基、1−ブテニル基、2−ブテニル基、3−ブテニル基、1−メチル−1−プロペニル基、1−メチル−2−プロペニル基、2−メチル−1−プロペニル基、2−メチル−2−プロペニル基、1−ペンテニル基、2−ペンテニル基、3−ペンテニル基、4−ペンテニル基、1−メチル−1−ブテニル基、2−メチル−1−ブテニル基、3−メチル−1−ブテニル基、1−メチル−2−ブテニル基、2−メチル−2−ブテニル基、3−メチル−2−ブテニル基、1−ヘキセニル基、2−ヘキセニル基、3−ヘキセニル基、4−ヘキセニル基、5−ヘキセニル基、1−メチル−1−ペンテニル基、2−メチル−1−ペンテニル基、4−メチル−3−ペンテニル基、2−エチル−1−ブテニル基、2−ヘプテニル基、2−オクテニル基、2−ノネニル基、2−デセニル基、2−ウンデセニル基、2−ドデセニル基、2−トリデセニル基、2−テトラデセニル基、2−ペンタデセニル基、2−ヘキサデセニル基、2−ヘプタデセニル基、2−オクタデセニル基、2−ノナデセニル基、2−イコセニル基、2−エイコセニル基、2−ヘンイコセニル基、2−ヘンエイコセニル基、2−ドコセニル基、2−トリコセニル基、2−テトラコセニル基等が挙げられる。   The alkenyl group is preferably an alkenyl group having 2 to 24 carbon atoms, for example, vinyl group, allyl group, 2-methylallyl group, isopropenyl group, 1-propenyl group, 1-butenyl group, 2-butenyl group, 3 -Butenyl group, 1-methyl-1-propenyl group, 1-methyl-2-propenyl group, 2-methyl-1-propenyl group, 2-methyl-2-propenyl group, 1-pentenyl group, 2-pentenyl group, 3-pentenyl group, 4-pentenyl group, 1-methyl-1-butenyl group, 2-methyl-1-butenyl group, 3-methyl-1-butenyl group, 1-methyl-2-butenyl group, 2-methyl- 2-butenyl group, 3-methyl-2-butenyl group, 1-hexenyl group, 2-hexenyl group, 3-hexenyl group, 4-hexenyl group, 5-hexenyl group, 1-methyl-1-pen Nyl group, 2-methyl-1-pentenyl group, 4-methyl-3-pentenyl group, 2-ethyl-1-butenyl group, 2-heptenyl group, 2-octenyl group, 2-nonenyl group, 2-decenyl group, 2-undecenyl group, 2-dodecenyl group, 2-tridecenyl group, 2-tetradecenyl group, 2-pentadecenyl group, 2-hexadecenyl group, 2-heptadecenyl group, 2-octadecenyl group, 2-nonadecenyl group, 2-icosenyl group, A 2-eicosenyl group, a 2-henecocenyl group, a 2-henecocenyl group, a 2-docosenyl group, a 2-tricocenyl group, a 2-tetracocenyl group, and the like can be given.

アルキニル基としては、炭素数が2〜24のアルキニル基が好ましく、例えば、エチニル基、1−プロピニル基、2−プロピニル基、1−ブチニル基、2−ブチニル基、3−ブチニル基、1−メチル−2−プロピニル基、1−ペンチニル基、2−ペンチニル基、3−ペンチニル基、4−ペンチニル基、1−メチル−3−ブチニル基、2−メチル−3−ブチニル基、1−ヘキシニル基、2−ヘキシニル基、3−ヘキシニル基、4−ヘキシニル基、5−ヘキシニル基、2−ヘプチニル基、2−オクチニル基、2−ノニニル基、2−デシニル基、2−ウンデシニル基、2−ドデシニル基、2−トリデシニル基、2−テトラデシニル基、2−ペンタデシニル基、2−ヘキサデシニル基、2−ヘプタデシニル基、2−オクタデシニル基、2−ノナデシニル基、2−イコシニル基、2−エイコシニル基、2−ヘンイコシニル基、2−ヘンエイコシニル基、2−ドコシニル基、2−トリコシニル基、2−テトラコシニル基等が挙げられる。   The alkynyl group is preferably an alkynyl group having 2 to 24 carbon atoms. For example, ethynyl group, 1-propynyl group, 2-propynyl group, 1-butynyl group, 2-butynyl group, 3-butynyl group, 1-methyl 2-propynyl group, 1-pentynyl group, 2-pentynyl group, 3-pentynyl group, 4-pentynyl group, 1-methyl-3-butynyl group, 2-methyl-3-butynyl group, 1-hexynyl group, 2 -Hexynyl group, 3-hexynyl group, 4-hexynyl group, 5-hexynyl group, 2-heptynyl group, 2-octynyl group, 2-noninyl group, 2-decynyl group, 2-undecynyl group, 2-dodecynyl group, 2 -Tridecynyl group, 2-tetradecynyl group, 2-pentadecynyl group, 2-hexadecynyl group, 2-heptadecynyl group, 2-octadecynyl group, 2-nonadecini Group, 2-Ikoshiniru group, 2-Eikoshiniru group, 2-Hen'ikoshiniru group, 2-Hen'eikoshiniru group, 2-Dokoshiniru group, 2-Torikoshiniru group, 2-Tetorakoshiniru group and the like.

シクロアルキル基としては、炭素数が3〜8のシクロアルキル基が好ましく、例えば、シクロプロピル基、シクロブチル基、シクロペンチル基、シクロヘキシル基、シクロヘプチル基、シクロオクチル基等が挙げられる。   The cycloalkyl group is preferably a cycloalkyl group having 3 to 8 carbon atoms, and examples thereof include a cyclopropyl group, a cyclobutyl group, a cyclopentyl group, a cyclohexyl group, a cycloheptyl group, and a cyclooctyl group.

シクロアルケニル基としては、炭素数が3〜8のシクロアルケニル基が好ましく、例えば、シクロプロペニル基、シクロブテニル基、シクロペンテニル基、シクロヘキセニル基、シクロヘプテニル基、シクロオクテニル基等が挙げられる。   As a cycloalkenyl group, a C3-C8 cycloalkenyl group is preferable, for example, a cyclopropenyl group, a cyclobutenyl group, a cyclopentenyl group, a cyclohexenyl group, a cycloheptenyl group, a cyclooctenyl group etc. are mentioned.

アリール基としては、例えば、フェニル基、ナフチル基、アントラセニル基、フェナントリル基、トリル基、キシリル基等が挙げられる。   Examples of the aryl group include a phenyl group, a naphthyl group, an anthracenyl group, a phenanthryl group, a tolyl group, and a xylyl group.

及びRにおいて、炭化水素基の有していてもよい置換基としては、以下のような置換基が例示される。炭化水素基がアルキル基、アルケニル基又はアルキニル基の場合、その置換基としては、例えば、フッ素、塩素、臭素等のハロゲン原子;シクロプロピル基、1−メチルシクロプロピル基、シクロブチル基、シクロペンチル基、1−メチルシクロペンチル基、シクロヘキシル基等の炭素数が3〜6のシクロアルキル基;メトキシ基、エトキシ基、プロポキシ基、イソプロポキシ基、ブトキシ基、s−ブトキシ基、イソブトキシ基、t−ブトキシ基等の炭素数が1〜4のアルコキシ基;チオメトキシ基、チオエトキシ基、チオプロポキシ基、チオブトキシ基等の炭素数が1〜4のチオアルコキシ基;アリルオキシ基、2−プロペニルオキシ基、2−ブテニルオキシ基、2−メチル−3−プロペニルオキシ基等の炭素数が3〜4のアルケニルオキシ基;炭素数が7〜20のアラルキルオキシ基;フェニル基、ナフチル基、アントラセニル基、フェナントリル基等の炭素数が6〜18のアリール基;フェニルオキシ基、ナフチルオキシ基等のアリールオキシ基;炭素数が2〜7のアルカノイル基;炭素数が7〜19のアリロイル基;炭素数が1〜6のアルコキシカルボニル基等が挙げられる。炭化水素基がアルキル基の場合、炭素数が6〜18のアリール基で置換されたアルキル基としては、例えば、ベンジル基、フェネチル基、3−フェニルプロピル基、ベンズヒドリル基、トリチル基、トリフェニルエチル基、(1−ナフチル)メチル基、(2−ナフチル)メチル基等のアラルキル基が挙げられる。 In R 1 and R 2 , examples of the substituent that the hydrocarbon group may have include the following substituents. When the hydrocarbon group is an alkyl group, alkenyl group or alkynyl group, examples of the substituent include halogen atoms such as fluorine, chlorine and bromine; cyclopropyl group, 1-methylcyclopropyl group, cyclobutyl group, cyclopentyl group, A cycloalkyl group having 3 to 6 carbon atoms such as 1-methylcyclopentyl group and cyclohexyl group; methoxy group, ethoxy group, propoxy group, isopropoxy group, butoxy group, s-butoxy group, isobutoxy group, t-butoxy group and the like An alkoxy group having 1 to 4 carbon atoms; a thioalkoxy group having 1 to 4 carbon atoms such as a thiomethoxy group, a thioethoxy group, a thiopropoxy group, or a thiobutoxy group; an allyloxy group, a 2-propenyloxy group, a 2-butenyloxy group, Alkenyloxy having 3 to 4 carbon atoms such as 2-methyl-3-propenyloxy group An aralkyloxy group having 7 to 20 carbon atoms; an aryl group having 6 to 18 carbon atoms such as a phenyl group, a naphthyl group, an anthracenyl group, and a phenanthryl group; an aryloxy group such as a phenyloxy group and a naphthyloxy group; An alkanoyl group having 2 to 7 carbon atoms; an aryloyl group having 7 to 19 carbon atoms; an alkoxycarbonyl group having 1 to 6 carbon atoms; When the hydrocarbon group is an alkyl group, examples of the alkyl group substituted with an aryl group having 6 to 18 carbon atoms include benzyl group, phenethyl group, 3-phenylpropyl group, benzhydryl group, trityl group, and triphenylethyl. And aralkyl groups such as a group, (1-naphthyl) methyl group, (2-naphthyl) methyl group and the like.

及びRにおいて、炭化水素基がシクロアルキル基、シクロアルケニル基又はアリール基の場合、その置換基としては、例えば、上述のハロゲン原子、炭素数が3〜6のシクロアルキル基、炭素数が1〜4のアルコキシ基、炭素数が1〜4のチオアルコキシ基、炭素数が3〜4のアルケニルオキシ基、炭素数が7〜20のアラルキルオキシ基、炭素数が6〜18のアリール基、アリールオキシ基、炭素数が2〜7のアルカノイル基、炭素数が7〜19のアリロイル基、炭素数が1〜6のアルコキシカルボニル基や、メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、ブチル基、イソブチル基、s−ブチル基、t−ブチル基、ペンチル基、ヘキシル基等の炭素数が1〜6のアルキル基や、ビニル基、1−プロペニル基、2−プロペニル基、1−ブテニル基、2−ブテニル基、3−ブテニル基、1−メチル−2−プロペニル基、2−メチル−2−プロペニル基、1−ペンテニル基、2−ペンテニル基、3−ペンテニル基、4−ペンテニル基、1−メチル−2−ブテニル基、2−メチル−2−ブテニル基、1−ヘキセニル基、2−ヘキセニル基、3−ヘキセニル基、4−ヘキセニル基、5−ヘキセニル基等の炭素数が2〜6のアルケニル基や、ベンジル基、フェネチル基、ナフチルメチル基等の炭素数が7〜20のアラルキル基等が挙げられる。 In R 1 and R 2 , when the hydrocarbon group is a cycloalkyl group, a cycloalkenyl group or an aryl group, examples of the substituent include the halogen atom described above, a cycloalkyl group having 3 to 6 carbon atoms, and a carbon number. Is an alkoxy group having 1 to 4 carbon atoms, a thioalkoxy group having 1 to 4 carbon atoms, an alkenyloxy group having 3 to 4 carbon atoms, an aralkyloxy group having 7 to 20 carbon atoms, and an aryl group having 6 to 18 carbon atoms , Aryloxy group, alkanoyl group having 2 to 7 carbon atoms, allyloyl group having 7 to 19 carbon atoms, alkoxycarbonyl group having 1 to 6 carbon atoms, methyl group, ethyl group, propyl group, isopropyl group, butyl Group, isobutyl group, s-butyl group, t-butyl group, pentyl group, hexyl group and other alkyl groups having 1 to 6 carbon atoms, vinyl group, 1-propenyl group, 2-propenyl 1-butenyl group, 2-butenyl group, 3-butenyl group, 1-methyl-2-propenyl group, 2-methyl-2-propenyl group, 1-pentenyl group, 2-pentenyl group, 3-pentenyl group, 4 Carbon number such as -pentenyl group, 1-methyl-2-butenyl group, 2-methyl-2-butenyl group, 1-hexenyl group, 2-hexenyl group, 3-hexenyl group, 4-hexenyl group, 5-hexenyl group, etc. Are alkenyl groups having 2 to 6 carbon atoms, aralkyl groups having 7 to 20 carbon atoms such as benzyl, phenethyl, and naphthylmethyl groups.

及びRにおいて、複素環基としては、例えば、ヘテロアリール基、ヘテロアラルキル基等が挙げられる。ヘテロアリール基としては、炭素数が3〜9のヘテロアリール基が好ましく、例えば、ピリジル基、キノニル基、ピロリル基、イミダゾリル基、フリル基、インドリル基、チエニル基、オキサゾリル基等が挙げられる。ヘテロアラルキル基としては、炭素数が5〜10のヘテロアラルキル基が好ましく、例えば、ピリジルメチル基、キノリルメチル基、インドリルメチル基、フリルメチル基、ピロリルメチル基等が挙げられる。 In R 1 and R 2 , examples of the heterocyclic group include a heteroaryl group and a heteroaralkyl group. The heteroaryl group is preferably a heteroaryl group having 3 to 9 carbon atoms, and examples thereof include a pyridyl group, a quinonyl group, a pyrrolyl group, an imidazolyl group, a furyl group, an indolyl group, a thienyl group, and an oxazolyl group. The heteroaralkyl group is preferably a heteroaralkyl group having 5 to 10 carbon atoms, and examples thereof include a pyridylmethyl group, a quinolylmethyl group, an indolylmethyl group, a furylmethyl group, and a pyrrolylmethyl group.

及びRにおいて、複素環基は、置換基を有していてもよい。その場合、複素環基の有する置換基としては、例えば、上述のハロゲン原子、炭素数が3〜6のシクロアルキル基、炭素数が1〜4のアルコキシ基、炭素数が1〜4のチオアルコキシ基、炭素数が3〜4のアルケニルオキシ基、炭素数が7〜20のアラルキルオキシ基、炭素数が6〜18のアリール基、アリールオキシ基、炭素数が2〜7のアルカノイル基、炭素数が7〜19のアリロイル基、炭素数が1〜6のアルコキシカルボニル基や、上述の炭素数が1〜6のアルキル基、炭素数が2〜6のアルケニル基、炭素数が7〜20のアラルキル基等が挙げられる。 In R 1 and R 2 , the heterocyclic group may have a substituent. In that case, examples of the substituent of the heterocyclic group include the above-described halogen atom, a cycloalkyl group having 3 to 6 carbon atoms, an alkoxy group having 1 to 4 carbon atoms, and a thioalkoxy group having 1 to 4 carbon atoms. Group, alkenyloxy group having 3 to 4 carbon atoms, aralkyloxy group having 7 to 20 carbon atoms, aryl group having 6 to 18 carbon atoms, aryloxy group, alkanoyl group having 2 to 7 carbon atoms, carbon number Is an allyloxy group having 7 to 19 carbon atoms, an alkoxycarbonyl group having 1 to 6 carbon atoms, an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms, an alkenyl group having 2 to 6 carbon atoms, and an aralkyl having 7 to 20 carbon atoms. Groups and the like.

式(I)において、R及びRが、それぞれ独立して、水素原子又は置換されていてもよい炭化水素基を表す場合、アミン化合物(I)としては、例えば、メチルアミン、エチルアミン、n−プロピルアミン、イソプロピルアミン、n−ブチルアミン、イソブチルアミン、s−ブチルアミン、t−ブチルアミン、ペンチルアミン、ヘキシルアミン、ヘプチルアミン、オクチルアミン、ノニルアミン、デシルアミン、ウンデシルアミン、ドデシルアミン、トリデシルアミン、テトラデシルアミン、ペンタデシルアミン、ヘキサデシルアミン、ヘプタデシルアミン、オクタデシルアミン、ノナデシルアミン、イコシルアミン、エイコシルアミン、ヘンイコシルアミン、ヘンエイコシルアミン、ドコシルアミン、トリコシルアミン、テトラコシルアミン、1−メチルブチルアミン、2−メチルブチルアミン、シクロプロピルメチルアミン、シクロヘキシルメチルアミン、ベンジルアミン、2−メチルベンジルアミン、4−メチルベンジルアミン、1−フェニルエチルアミン、2−フェニルエチルアミン、3−アミノメチルピリジン、1−(4−クロロフェニル)エチルアミン、2−(2−クロロフェニル)エチルアミン、1−(3−メトキシフェニル)エチルアミン、1−(4−メトキシフェニル)エチルアミン、2−(2−メトキシフェニル)エチルアミン、2−(3−メトキシフェニル)エチルアミン、2−(4−メトキシフェニル)エチルアミン、1−[3−(トリフルオロメチル)フェニル]エチルアミン、1−(1−ナフチル)エチルアミン、1−(2−ナフチル)エチルアミン、1−フェニルプロピルアミン、3−フェニルプロピルアミン等が挙げられる。 In the formula (I), when R 1 and R 2 each independently represent a hydrogen atom or an optionally substituted hydrocarbon group, examples of the amine compound (I) include methylamine, ethylamine, n -Propylamine, isopropylamine, n-butylamine, isobutylamine, s-butylamine, t-butylamine, pentylamine, hexylamine, heptylamine, octylamine, nonylamine, decylamine, undecylamine, dodecylamine, tridecylamine, tetra Decylamine, pentadecylamine, hexadecylamine, heptadecylamine, octadecylamine, nonadecylamine, icosylamine, eicosylamine, heicosylamine, heneicosylamine, docosylamine, tricosylamine, tetracosyl Amine, 1-methylbutylamine, 2-methylbutylamine, cyclopropylmethylamine, cyclohexylmethylamine, benzylamine, 2-methylbenzylamine, 4-methylbenzylamine, 1-phenylethylamine, 2-phenylethylamine, 3-aminomethyl Pyridine, 1- (4-chlorophenyl) ethylamine, 2- (2-chlorophenyl) ethylamine, 1- (3-methoxyphenyl) ethylamine, 1- (4-methoxyphenyl) ethylamine, 2- (2-methoxyphenyl) ethylamine, 2- (3-methoxyphenyl) ethylamine, 2- (4-methoxyphenyl) ethylamine, 1- [3- (trifluoromethyl) phenyl] ethylamine, 1- (1-naphthyl) ethylamine, 1- (2-naphthyl) Ethyla Min, 1-phenylpropylamine, 3-phenylpropylamine and the like.

前記式(I)及び(II)において、R及びRは、その末端で結合し、R及びRが結合する炭素原子と共に置換を有していてもよい炭素数3〜12の脂環式炭化水素基を形成していてもよく、その場合、その炭素数は6〜12が好ましい。ここで、炭素数3〜12の脂環式炭化水素基とは、3〜12員環の脂環式炭化水素基をいい、「置換基を有する」とは、該脂環式炭化水素基中のメチレン基における水素原子の一部または全部が、他の置換基で置換されていてもよい脂環式炭化水素基のことをいう。他の置換基で置換されている場合、該置換基の炭素数は上記の炭素数には含まれない。R及びRが一緒になって、R及びRが結合する炭素原子と共に置換されていてもよい炭素数3〜12の脂環式炭化水素基を形成する場合、アミン化合物(I)としては、例えば、シクロヘキシルアミン、シクロオクチルアミン、シクロペンチルアミン、シクロヘプチルアミン、シクロドデシルアミン、2−メチルシクロヘキシルアミン、4−メチルシクロヘキシルアミン等が挙げられる。 In the above formulas (I) and (II), R 1 and R 2 are bonded at their ends, and the C 3-12 fat which may have substitution with the carbon atom to which R 1 and R 2 are bonded. A cyclic hydrocarbon group may be formed, and in that case, the number of carbon atoms is preferably 6 to 12. Here, a C3-C12 alicyclic hydrocarbon group means a 3-12 membered alicyclic hydrocarbon group, and "having a substituent" means in this alicyclic hydrocarbon group This means an alicyclic hydrocarbon group in which part or all of the hydrogen atoms in the methylene group may be substituted with other substituents. When it is substituted with another substituent, the carbon number of the substituent is not included in the above carbon number. When R 1 and R 2 together form an alicyclic hydrocarbon group having 3 to 12 carbon atoms which may be substituted with the carbon atom to which R 1 and R 2 are bonded, the amine compound (I) Examples thereof include cyclohexylamine, cyclooctylamine, cyclopentylamine, cycloheptylamine, cyclododecylamine, 2-methylcyclohexylamine, 4-methylcyclohexylamine and the like.

アミン化合物(I)の中でも、シクロヘキシルアミンを原料として使用する場合に、高い選択率でシクロヘキサノンオキシムが得られる点で、本発明の方法は有利に採用される。シクロヘキシルアミンとしては、例えば、アニリン、ニトロベンゼン、ニトロシクロヘキサン等を水素化することにより得られたものであってもよいし、シクロヘキセン又はシクロヘキサノールと、アンモニアとのアミノ化反応により得られたものであってもよい。   Among the amine compounds (I), when cyclohexylamine is used as a raw material, the method of the present invention is advantageously employed in that cyclohexanone oxime can be obtained with high selectivity. The cyclohexylamine may be obtained, for example, by hydrogenating aniline, nitrobenzene, nitrocyclohexane, or the like, or obtained by amination reaction of cyclohexene or cyclohexanol with ammonia. May be.

酸化に用いられる酸素の酸素源としては、酸素含有ガスを用いることが好ましい。この酸素含有ガスは、例えば、空気であってもよいし、純酸素であってもよいし、空気又は純酸素を、窒素、アルゴン、ヘリウムのような不活性ガスで希釈したものであってもよい。また、空気に純酸素を添加した酸素富化空気を使用することもできる。酸素含有ガスを使用する場合、その酸素濃度は1〜30容量%が好ましい。   An oxygen-containing gas is preferably used as an oxygen source for oxygen used for oxidation. The oxygen-containing gas may be, for example, air, pure oxygen, or air or pure oxygen diluted with an inert gas such as nitrogen, argon, or helium. Good. Further, oxygen-enriched air obtained by adding pure oxygen to air can also be used. When an oxygen-containing gas is used, the oxygen concentration is preferably 1 to 30% by volume.

酸化においては、溶媒を用いることが好ましい。溶媒としては、有機溶媒、水、有機溶媒と水との混合溶媒が挙げられ、中でも、有機溶媒又は有機溶媒と水との混合溶媒が好ましく、有機溶媒がより好ましい。有機溶媒の例としては、メタノール、エタノール、プロパノール、イソプロパノール、n−ブタノール、t−ブタノール、n−ヘキサノール、2−エチルヘキサノール、n−ドデカノール等のアルコール;ペンタン、ヘキサン、ヘプタン、オクタン、石油エーテル、リグロイン等の脂肪族炭化水素;シクロペンタン、シクロヘキサン、メチルシクロヘキサン等の脂環式炭化水素;ベンゼン、トルエン、o−キシレン、m−キシレン、p−キシレン等の芳香族炭化水素;ジクロロメタン、クロロホルム、1,2−ジクロロエタン、1,1,1−トリクロロエタン、1,1,2−トリクロロエチレン、1,1,2,2−テトラクロロエチレン、クロロベンゼン、o−ジクロロベンゼン等のハロゲン化炭化水素;アセトニトリル、ベンゾニトリル等のニトリル;ニトロベンゼン等のニトロ化合物;酢酸エチル、酢酸イソプロピル、酢酸ブチル、安息香酸エチル等のエステル化合物等が挙げられ、必要に応じてこれらの2種以上を用いることもできる。中でも、アルコール、芳香族炭化水素、ニトリルが好ましい。アルコールの中でも、メタノール、エタノール、t−ブタノールが好ましく、芳香族炭化水素の中でも、トルエン、o−キシレン、m−キシレン、p−キシレンが好ましく、ニトリルの中でも、アセトニトリルが好ましい。   In the oxidation, it is preferable to use a solvent. Examples of the solvent include an organic solvent, water, and a mixed solvent of an organic solvent and water. Among them, an organic solvent or a mixed solvent of an organic solvent and water is preferable, and an organic solvent is more preferable. Examples of organic solvents include methanol, ethanol, propanol, isopropanol, n-butanol, t-butanol, n-hexanol, 2-ethylhexanol, n-dodecanol and other alcohols; pentane, hexane, heptane, octane, petroleum ether, Aliphatic hydrocarbons such as ligroin; cycloaliphatic hydrocarbons such as cyclopentane, cyclohexane, and methylcyclohexane; aromatic hydrocarbons such as benzene, toluene, o-xylene, m-xylene, and p-xylene; dichloromethane, chloroform, 1 Halogenated hydrocarbons such as 1,2-dichloroethane, 1,1,1-trichloroethane, 1,1,2-trichloroethylene, 1,1,2,2-tetrachloroethylene, chlorobenzene, o-dichlorobenzene; acetonitrile, benzonitrile, etc. Nitrile; nitro compounds such as nitrobenzene; ethyl acetate, isopropyl acetate, butyl acetate, ester compounds such as ethyl benzoate and the like, can also be used two or more of them as required. Of these, alcohol, aromatic hydrocarbon, and nitrile are preferable. Among alcohols, methanol, ethanol, and t-butanol are preferable. Among aromatic hydrocarbons, toluene, o-xylene, m-xylene, and p-xylene are preferable. Among nitrites, acetonitrile is preferable.

溶媒を使用する場合、その量は、アミン化合物(I)1重量部に対して、通常0.1〜300重量部、好ましくは0.5〜100重量部である。   When using a solvent, the quantity is 0.1-300 weight part normally with respect to 1 weight part of amine compound (I), Preferably it is 0.5-100 weight part.

酸化は、回分式で行ってもよく、半回分式で行ってもよく、連続式で行ってもよく、回分式、半回分式及び連続式の組み合わせで行ってもよい。連続式で行う場合、固定床方式、流動床方式、移動床方式、懸濁床方式や、撹拌混合式又はループ式の反応器内に反応原料を供給しながら、反応混合物の液相を抜き出す方式等の各種の方式で実施することができる。   The oxidation may be performed in a batch system, a semi-batch system, a continuous system, or a combination of a batch system, a semi-batch system, and a continuous system. For continuous operation, fixed bed method, fluidized bed method, moving bed method, suspension bed method, and the method of extracting the liquid phase of the reaction mixture while supplying the reaction raw material into the stirring / mixing type or loop type reactor. It can implement by various methods, such as.

酸化における反応温度は、50〜200℃が好ましく、より好ましくは70〜150℃である。また、反応圧力は、通常、絶対圧で0.1〜10MPa、好ましくは0.2〜7.0MPaである。前記酸化は、加圧下に行うのが好ましく、この場合、窒素やヘリウム等の不活性ガスを用いて、圧力を調整してもよい。前記酸化を、撹拌混合式の反応器内で、液相条件下、酸素含有ガスを使用して回分式又は連続式で実施する場合には、反応器の気相部に酸素含有ガスを供給してもよいし、液相中に酸素含有ガスを供給してもよいし、反応器の気相部及び液相中に酸素含有ガスを供給してもよい。   The reaction temperature in the oxidation is preferably 50 to 200 ° C, more preferably 70 to 150 ° C. The reaction pressure is usually 0.1 to 10 MPa, preferably 0.2 to 7.0 MPa in absolute pressure. The oxidation is preferably performed under pressure. In this case, the pressure may be adjusted using an inert gas such as nitrogen or helium. When the oxidation is carried out batchwise or continuously using an oxygen-containing gas under a liquid phase condition in a stirring and mixing reactor, an oxygen-containing gas is supplied to the gas phase part of the reactor. Alternatively, the oxygen-containing gas may be supplied into the liquid phase, or the oxygen-containing gas may be supplied into the gas phase portion and the liquid phase of the reactor.

酸化においては、ラジカル開始剤、フェノール系連鎖移動剤等を共存させてもよく、オキシム化合物(II)の選択率を向上させる観点から、ラジカル開始剤を共存させるのが好ましい。該ラジカル開始剤としては、例えば、国際公開第2005/009613号に開示されているヒドラジルラジカル、ヒドラジン化合物や、特開2005−15381号公報に開示されているアゾ化合物、過酸化物等が挙げられ、必要に応じて2種以上のラジカル開始剤を使用してもよい。ヒドラジルラジカルとしては、2,2−ジフェニル−1−ピクリルヒドラジル、2,2−ジ(4−tert−オクチルフェニル)−1−ピクリルヒドラジルが好ましい。ヒドラジン化合物としては、1,1−ジフェニル−2−ピクリルヒドラジンが好ましい。本発明においては、前記ラジカル開始剤として、2,2−ジフェニル−1−ピクリルヒドラジル及び1,1−ジフェニル−2−ピクリルヒドラジンからなる群より選ばれる少なくとも一種が好ましく使用される。前記フェノール系連鎖移動剤としては、例えば、特開2005−15382号公報に開示されている化合物等が挙げられる。   In the oxidation, a radical initiator, a phenol chain transfer agent or the like may coexist. From the viewpoint of improving the selectivity of the oxime compound (II), it is preferable to coexist a radical initiator. Examples of the radical initiator include hydrazyl radicals and hydrazine compounds disclosed in International Publication No. 2005/009613, azo compounds and peroxides disclosed in JP-A No. 2005-15381. If necessary, two or more kinds of radical initiators may be used. As the hydrazyl radical, 2,2-diphenyl-1-picrylhydrazyl and 2,2-di (4-tert-octylphenyl) -1-picrylhydrazyl are preferable. As the hydrazine compound, 1,1-diphenyl-2-picrylhydrazine is preferable. In the present invention, at least one selected from the group consisting of 2,2-diphenyl-1-picrylhydrazyl and 1,1-diphenyl-2-picrylhydrazine is preferably used as the radical initiator. As said phenol type chain transfer agent, the compound etc. which are disclosed by Unexamined-Japanese-Patent No. 2005-15382 are mentioned, for example.

酸化により得られたオキシム化合物(II)を含む反応混合物の後処理操作については、適宜選択でき、必要に応じて濾過、洗浄、蒸留、晶析、抽出、再結晶、クロマトグラフィー等の処理を組み合わせてオキシム化合物(II)を精製した後、各種用途に使用できる。前記酸化後に回収された触媒は、必要に応じて洗浄、焼成、イオン交換処理等の処理が施された後、再使用することができる。また、反応混合物中に溶媒や未反応原料が含まれる場合、回収された溶媒や未反応原料は再使用することができる。   The post-treatment operation of the reaction mixture containing the oxime compound (II) obtained by oxidation can be selected as appropriate, and may be combined with treatments such as filtration, washing, distillation, crystallization, extraction, recrystallization, and chromatography as necessary. The oxime compound (II) can be purified and used for various purposes. The catalyst recovered after the oxidation can be reused after being subjected to treatments such as washing, calcination and ion exchange treatment as necessary. Moreover, when a solvent and an unreacted raw material are contained in the reaction mixture, the recovered solvent and unreacted raw material can be reused.

得られたオキシム化合物(II)は、例えば、ベックマン転位反応させて式(III):

Figure 2016008164

(式中、R及びRは、それぞれ独立して、水素原子、置換基を有していてもよい炭化水素基又は置換基を有していてもよい複素環基を表す(但し、R及びRが共に水素原子であることはない。)か、あるいは
及びRは一緒になって、Rが結合する窒素原子と、Rが結合する炭素原子と共に置換基を有していてもよい複素環を形成する。)
で表されるアミド化合物を製造するための原料として好適に使用される。 The obtained oxime compound (II) is subjected to, for example, a Beckmann rearrangement reaction to obtain a compound represented by the formula (III):

Figure 2016008164

(In the formula, R 1 and R 2 each independently represent a hydrogen atom, a hydrocarbon group which may have a substituent, or a heterocyclic group which may have a substituent (provided that R 1 and R 2 are not both hydrogen atoms), or R 1 and R 2 together have a nitrogen atom to which R 1 is bonded and a carbon atom to which R 2 is bonded. A heterocyclic ring which may be
It is used suitably as a raw material for manufacturing the amide compound represented by these.

式(III)において、R及びRは、一緒になって、Rが結合する窒素原子と、Rが結合する炭素原子と共に置換を有していてもよい炭素数3〜12の脂肪族複素環を形成するアミド化合物は、式(II)において、R及びRが一緒になって、R及びRが結合する炭素原子と共に置換されていてもよい炭素数3〜12の脂環式炭化水素基を形成しているオキシム化合物をベックマン転位反応させてが得られる。 In formula (III), R 1 and R 2 together represent a nitrogen atom to which R 1 is bonded and a C 3-12 fat optionally having substitution with the carbon atom to which R 2 is bonded. amide compound to form the group heterocyclic ring, in the formula (II), R 1 and R 2 together, R 1 and R 2 is which may be the number 3 to 12 carbon substituted together with the carbon atom bonded It is obtained by subjecting an oxime compound forming an alicyclic hydrocarbon group to a Beckmann rearrangement reaction.

かかるベックマン転位反応としては、液相条件下に行う方法、気相条件下に行う方法が挙げられる。液相条件下のベックマン転位反応は、例えば、発煙硫酸等の強酸の存在下で行う方法等が挙げられ、特公昭48−4791号公報等に記載の方法に準じて行うことができる。気相条件下のベックマン転位反応は、例えば、ゼオライト等の固体触媒の存在下で行う方法等が挙げられ、特開平5−170732号公報等に記載の方法に準じて行うことができる。例えば、アミン化合物(I)としてシクロヘキシルアミンを使用した場合には、前記酸化により得られるシクロヘキサノンオキシムをベックマン転位反応させることにより、ε−カプロラクタムを製造することができる。   Examples of such Beckmann rearrangement include a method performed under liquid phase conditions and a method performed under gas phase conditions. The Beckmann rearrangement reaction under liquid phase conditions includes, for example, a method performed in the presence of a strong acid such as fuming sulfuric acid, and can be performed according to the method described in Japanese Patent Publication No. 48-4791. The Beckmann rearrangement reaction under gas phase conditions includes, for example, a method performed in the presence of a solid catalyst such as zeolite, and can be performed according to the method described in JP-A-5-170732. For example, when cyclohexylamine is used as the amine compound (I), ε-caprolactam can be produced by subjecting cyclohexanone oxime obtained by the oxidation to Beckmann rearrangement reaction.

以下、本発明の実施例及び比較例を示すが、本発明はこれによって限定されるものではない   Examples of the present invention and comparative examples are shown below, but the present invention is not limited thereby.

実施例1
2Lフラスコ内に、1N 硝酸(和光純薬工業(株)製)444gと、モンモリロナイト(クニミネ工業(株)製のクニピアF、層間の陽イオンとしてナトリウムイオン、カリウムイオン及びカルシウムイオンを含有するモンモリロナイト)25gを加え、攪拌した。次いで、ウォーターバスを使用して、撹拌しながら90℃に昇温後、35重量%の硫酸チタン溶液(和光純薬工業(株)製)31gを1時間かけて滴下し、滴下終了後、90℃で6時間混合液を攪拌しながら熱処理を実施した。6時間経過後、熱処理を終了して室温まで冷却し、撹拌を停止した。得られた混合物を加圧濾過することにより固体を分離したところ、ろ過時間は10分以内であった。また、この固体を1Lの水で洗浄し、再度加圧濾過により固体を分離したところ、ろ液のpHは1以下であり、ろ過時間は15分以内であった。洗浄後、得られた固体は110℃で一晩乾燥し、触媒A(層間にチタンイオンを含有するモンモリロナイト)を得た。
Example 1
In a 2 L flask, 444 g of 1N nitric acid (manufactured by Wako Pure Chemical Industries, Ltd.) and montmorillonite (Kunipia F, manufactured by Kunimine Kogyo Co., Ltd., montmorillonite containing sodium ion, potassium ion and calcium ion as cations between layers) 25 g was added and stirred. Next, using a water bath, the temperature was raised to 90 ° C. with stirring, and 31 g of a 35 wt% titanium sulfate solution (manufactured by Wako Pure Chemical Industries, Ltd.) was added dropwise over 1 hour. Heat treatment was performed while stirring the mixed solution at 6 ° C. for 6 hours. After the elapse of 6 hours, the heat treatment was completed, the mixture was cooled to room temperature, and stirring was stopped. When the solid was separated by pressure filtration of the obtained mixture, the filtration time was within 10 minutes. Moreover, when this solid was washed with 1 L of water and the solid was separated again by pressure filtration, the pH of the filtrate was 1 or less and the filtration time was within 15 minutes. After washing, the obtained solid was dried at 110 ° C. overnight to obtain catalyst A (montmorillonite containing titanium ions between layers).

比較例1
実施例1において、1N 硝酸とモンモリロナイトの混合物を攪拌しながら50℃に昇温し、35%硫酸チタン滴下終了後、50℃で6時間熱処理した他は実施例1と同様の操作を行ったところ混合物を加圧ろ過した際のろ過時間は15分以内、1Lの水で洗浄後のろ液のpHは1以下であり、ろ過時間は1時間以上であった。
Comparative Example 1
In Example 1, a mixture of 1N nitric acid and montmorillonite was heated to 50 ° C. while stirring, and after the completion of dropwise addition of 35% titanium sulfate, the same operation as in Example 1 was performed except that the heat treatment was performed at 50 ° C. for 6 hours. The filtration time when pressure-filtering the mixture was within 15 minutes, and the pH of the filtrate after washing with 1 L of water was 1 or less, and the filtration time was 1 hour or more.


実施例2
1Lポリービーカー内に、1N 硝酸(和光純薬工業(株)製)266gと、モンモリロナイト(クニミネ工業(株)製のクニピアF、層間の陽イオンとしてナトリウムイオン、カリウムイオン及びカルシウムイオンを含有するモンモリロナイト)15gを加え、攪拌した。次いで、ウォーターバスを使用して、撹拌しながら50℃に昇温後、35重量%の硫酸チタン溶液(和光純薬工業(株)製)19gを1時間かけて滴下し、滴下終了後、混合液をSUS製オートクレーブに移し、110℃に昇温した。その後110℃で4時間混合液を攪拌しながら熱処理を実施した。4時間経過後、熱処理を終了して室温まで冷却し、撹拌を停止した。得られた混合物を加圧濾過することにより固体を分離したところ、ろ過時間は5分以内であった。また、この固体を500mLの水で洗浄し、再度加圧濾過により固体を分離したところ、ろ液のpHは1以下であり、ろ過時間は10分以内であった。洗浄後、得られた固体は110℃で一晩乾燥し、触媒B(層間にチタンイオンを含有するモンモリロナイト)を得た。

Example 2
In a 1 L poly beaker, 266 g of 1N nitric acid (manufactured by Wako Pure Chemical Industries, Ltd.), montmorillonite (Kunipia F, manufactured by Kunimine Kogyo Co., Ltd.), montmorillonite containing sodium ion, potassium ion and calcium ion as cations between layers ) 15 g was added and stirred. Next, using a water bath, the temperature was raised to 50 ° C. while stirring, and 19 g of 35 wt% titanium sulfate solution (manufactured by Wako Pure Chemical Industries, Ltd.) was added dropwise over 1 hour. The liquid was transferred to a SUS autoclave and heated to 110 ° C. Thereafter, heat treatment was performed while stirring the mixed solution at 110 ° C. for 4 hours. After the elapse of 4 hours, the heat treatment was completed, the mixture was cooled to room temperature, and stirring was stopped. The obtained mixture was filtered under pressure to separate the solid, and the filtration time was within 5 minutes. Moreover, when this solid was washed with 500 mL of water and the solid was separated again by pressure filtration, the pH of the filtrate was 1 or less and the filtration time was within 10 minutes. After washing, the obtained solid was dried at 110 ° C. overnight to obtain catalyst B (montmorillonite containing titanium ions between layers).

実施例3
熱電対、マグネチックスターラー、ガス供給ライン及びガス排出ラインを備えたSUS316製反応器(容量:200mL)に、実施例1で得られた触媒Aを0.30g、シクロヘキシルアミン(和光純薬工業(株)製)を1.49g、及びアセトニトリル(和光純薬工業(株)製)を6.99g入れ、反応器内の気相部を窒素ガスで置換した後、密閉し、反応器内の気相部に酸素と窒素との混合ガス(酸素濃度:7体積%)を導入して反応器内の圧力を0.95MPa(ゲージ圧)とした。次いで、撹拌しながら反応器内の温度を86℃に昇温した。このときの反応器内の圧力は1.15MPa(ゲージ圧)であった。次いで、撹拌を継続しながら86℃で4時間保温した後、冷却した。得られた反応混合物にメタノールを加えて希釈した後、濾過し、得られた濾液を分析したところ、シクロヘキシルアミンの転化率は1.3%であり、シクロヘキサノンオキシムの選択率は75.1%であった。
Example 3
In a reactor made of SUS316 (capacity: 200 mL) equipped with a thermocouple, a magnetic stirrer, a gas supply line, and a gas discharge line, 0.30 g of the catalyst A obtained in Example 1 and cyclohexylamine (Wako Pure Chemical Industries, Ltd. ( Co., Ltd.) and 1.99 g of acetonitrile (manufactured by Wako Pure Chemical Industries, Ltd.) were added, and the gas phase in the reactor was replaced with nitrogen gas, then sealed, and the gas in the reactor was sealed. A gas mixture of oxygen and nitrogen (oxygen concentration: 7% by volume) was introduced into the phase part to adjust the pressure in the reactor to 0.95 MPa (gauge pressure). Next, the temperature in the reactor was raised to 86 ° C. while stirring. The pressure in the reactor at this time was 1.15 MPa (gauge pressure). Next, the mixture was kept at 86 ° C. for 4 hours while continuing stirring, and then cooled. The obtained reaction mixture was diluted with methanol and then filtered, and the obtained filtrate was analyzed. The conversion of cyclohexylamine was 1.3% and the selectivity of cyclohexanone oxime was 75.1%. there were.

Claims (9)

下記工程(1)〜(5)、
(1):層状ケイ酸塩、酸、金属元素化合物を混合する工程、
(2):工程(1)で得られた混合物を70℃〜170℃で熱処理する工程、
(3):工程(2)で得られた熱処理した混合物から固体を分離する工程、
(4):工程(3)で分離された固体を洗浄液のpHを4以下に保って洗浄する工程、
(5):工程(4)で得られた固体を乾燥する工程、
を含むことを特徴とする層状ケイ酸塩触媒の製造方法。
The following steps (1) to (5),
(1): a step of mixing a layered silicate, an acid, and a metal element compound,
(2): a step of heat-treating the mixture obtained in step (1) at 70 ° C. to 170 ° C.,
(3): a step of separating the solid from the heat-treated mixture obtained in step (2),
(4): a step of washing the solid separated in step (3) while keeping the pH of the washing liquid at 4 or less,
(5): a step of drying the solid obtained in step (4),
A process for producing a layered silicate catalyst comprising:
工程(1)で用いる層状ケイ酸塩がスメクタイトである請求項1に記載の製造方法。 The production method according to claim 1, wherein the layered silicate used in the step (1) is smectite. 工程(1)で用いる酸が、無機酸である請求項1及び2に記載の製造方法 The production method according to claim 1 or 2, wherein the acid used in step (1) is an inorganic acid. 工程(1)で用いる金属元素化合物が、第4属金属元素の化合物、第5属金属元素の化合物、第6属金属元素の化合物およびゲルマニウム化合物からなる群より選ばれる少なくとも一種の化合物である請求項1〜3記載の製造方法。 The metal element compound used in step (1) is at least one compound selected from the group consisting of compounds of Group 4 metal elements, compounds of Group 5 metal elements, compounds of Group 6 metal elements, and germanium compounds. The manufacturing method of claim | item 1-3. 工程(2)の熱処理を、1〜20時間行う請求項1〜4のいずれかに記載の方法 The method according to any one of claims 1 to 4, wherein the heat treatment in the step (2) is performed for 1 to 20 hours. 工程(3)において工程(2)で得られた固体を濾過によって分離する請求項1〜5のいずれかに記載の方法。 The method according to any one of claims 1 to 5, wherein in step (3), the solid obtained in step (2) is separated by filtration. 工程(4)において、洗浄液を濾過によって分離する請求項1〜6のいずれかに記載の方法。 The method according to claim 1, wherein in step (4), the cleaning liquid is separated by filtration. 工程(5)の乾燥温度が0℃〜600℃である請求項1〜7のいずれかに記載の方法
The method according to any one of claims 1 to 7, wherein the drying temperature in step (5) is from 0C to 600C.
請求項1〜8のいずれかに記載の方法により層状ケイ酸塩触媒を製造し、この層状ケイ酸塩触媒の存在下、式(I)
Figure 2016008164

(式中、RおよびR2は、それぞれ独立に水素原子、置換基を有していてもよい炭化水素基、または置換基を有していてもよい複素環基を表すか、あるいは、RおよびR2は互いにその末端で結合して、RおよびR2が結合している炭素原子とともに環を形成している。ただし、RとR2は同時に水素原子を表すことはない。)
で示される第一級アミンを分子状酸素で酸化することを特徴とする式(II)
Figure 2016008164
(式中、RおよびR2は、前記と同じ意味を表す。)
で示されるオキシム化合物の製造方法。
A layered silicate catalyst is produced by the method according to any one of claims 1 to 8, and in the presence of this layered silicate catalyst, the compound of formula (I)
Figure 2016008164

(Wherein R 1 and R 2 each independently represents a hydrogen atom, a hydrocarbon group which may have a substituent, or a heterocyclic group which may have a substituent, or R 1 1 and R 2 are bonded to each other at their ends to form a ring together with the carbon atom to which R 1 and R 2 are bonded, provided that R 1 and R 2 do not represent a hydrogen atom at the same time. )
A primary amine represented by the formula (II) is oxidized with molecular oxygen
Figure 2016008164
(Wherein R 1 and R 2 represent the same meaning as described above.)
The manufacturing method of the oxime compound shown by these.
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* Cited by examiner, † Cited by third party
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CN107118125A (en) * 2017-06-29 2017-09-01 湘潭大学 A kind of preparation method of cyclohexanone oxime

Citations (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH1157492A (en) * 1997-08-14 1999-03-02 Nippon Oil Co Ltd Photocatalyst complex oxide and its preparation
JP2000001310A (en) * 1998-06-11 2000-01-07 Mitsubishi Chemicals Corp Production of chemically treated ion-exchangable layered silicate particles and their use
JP2001354715A (en) * 2000-06-12 2001-12-25 Japan Polychem Corp Olefin polymerization catalyst and method for producing polymer by using the same
JP2003020304A (en) * 2001-07-09 2003-01-24 Japan Polychem Corp Catalyst component for olefin polymerization, catalyst for olefin polymerization, and method of manufacturing catalyst component for olefin polymerization
JP2004043352A (en) * 2002-07-11 2004-02-12 Asahi Kasei Chemicals Corp Method for producing cyclic aliphatic oxime
JP2013189414A (en) * 2012-03-15 2013-09-26 Sumitomo Chemical Co Ltd Method for producing oxime

Patent Citations (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH1157492A (en) * 1997-08-14 1999-03-02 Nippon Oil Co Ltd Photocatalyst complex oxide and its preparation
JP2000001310A (en) * 1998-06-11 2000-01-07 Mitsubishi Chemicals Corp Production of chemically treated ion-exchangable layered silicate particles and their use
JP2001354715A (en) * 2000-06-12 2001-12-25 Japan Polychem Corp Olefin polymerization catalyst and method for producing polymer by using the same
JP2003020304A (en) * 2001-07-09 2003-01-24 Japan Polychem Corp Catalyst component for olefin polymerization, catalyst for olefin polymerization, and method of manufacturing catalyst component for olefin polymerization
JP2004043352A (en) * 2002-07-11 2004-02-12 Asahi Kasei Chemicals Corp Method for producing cyclic aliphatic oxime
JP2013189414A (en) * 2012-03-15 2013-09-26 Sumitomo Chemical Co Ltd Method for producing oxime

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN107118125A (en) * 2017-06-29 2017-09-01 湘潭大学 A kind of preparation method of cyclohexanone oxime

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