JP2015506581A5 - - Google Patents

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  1. 2重チャンバガス放電レーザ光源であって、
    ハロゲンを含むレージング媒体ガスを包含するレーザチャンバを有する主発振器と、
    ハロゲンを含むレージング媒体ガスを包含するレーザチャンバを有する増幅器と、
    規則的な間隔で発生する注入機会にレーザチャンバにおいて補給スキームを実行するコントローラを含むガス補給システムと、を備え
    前記補給スキームは、
    前記注入機会後に前記チャンバ内のハロゲンガスの望ましい量をもたらすと推定されるある量の非ハロゲン含有ガスとある量の前記ハロゲン含有ガスとを各注入機会に選択された前記レーザチャンバ内に注入する段階と、
    Mが予め決定された数である場合に各M注入の後に、前記チャンバ内の圧力を調節し、レーザの作動の長さに起因する前記レーザの効率のあらゆる変化を補償する段階と、を含む、2重チャンバガス放電レーザ光源。
  2. 前記チャンバ内の前記圧力を調節し、前記レーザの前記効率のあらゆる変化を補償する段階は、
    前記チャンバ内へのガスの各注入中の前記レーザの前記効率を示す前記選択されたレーザチャンバの作動パラメータを測定する段階と、
    前記レーザによって発射されたショットの回数に対する前記測定された作動パラメータの変化の比率を推定する段階と、
    各注入機会中に圧力の変化を測定する段階と、
    前記チャンバ内の前記圧力の変化に対する前記測定された作動パラメータの前記変化の比率を決定する段階と、を含み、かつ
    各M注入の後に、
    前記M注入にわたる前記作動パラメータの前記変化を推定する段階と、
    前記M注入にわたる前記作動パラメータの前記変化を逆にするのに適切である前記チャンバ内の圧力を推定する段階と
    前記チャンバ内の前記圧力を前記推定された圧力に調節する段階と、を更に含む、請求項1に記載の2重チャンバガス放電レーザ光源。
  3. 注入機会のための前記規則的な間隔は、経過時間及びショットカウントの一方又は両方を含むファクタによって決定される請求項1に記載の2重チャンバガス放電レーザ光源。
  4. 前記選択されたレーザチャンバは前記増幅器レーザチャンバであり、前記作動パラメータは前記増幅器レーザチャンバ内の放電電圧である、又は
    前記選択されたレーザチャンバは前記主発振器レーザチャンバであり、前記作動パラメータは前記主発振器と前記増幅器との間の放電タイミング差である、又は
    前記選択されたレーザチャンバは前記主発振器レーザチャンバであり、前記作動パラメータはレーザ光源の帯域幅である、又は
    前記選択されたレーザチャンバは前記主発振器レーザチャンバであり、前記作動パラメータはE95である、請求項2に記載の2重チャンバガス放電レーザ光源。
  5. 前記Mの値は約50約200である請求項1に記載の2重チャンバガス放電レーザ光源。
  6. 注入機会後の前記チャンバ内の前記ハロゲンガスの量をモデル化する段階が、前記注入機会後かつ直後の注入機会前の選択された時点で前記チャンバ内の前記ハロゲンガスの量をモデル化する段階を更に含む請求項1に記載の2重チャンバガス放電レーザ光源。
  7. ハロゲンを含むレージング媒体ガスを包含するレーザチャンバを各々が有する主発振器及び増幅器を有する2重チャンバガス放電レーザ光源内のガスを補給する方法であって、
    規則的な間隔で発生する複数の注入機会を選択する段階と、
    前記注入機会後に前記チャンバ内のハロゲンガスの望ましい量をもたらすと推定されるある量の非ハロゲン含有ガスとある量の前記ハロゲン含有ガスとを各注入機会に選択された前記レーザチャンバ内に注入する段階と、
    Mが予め決定された数である場合に各M注入の後に、前記チャンバ内の圧力を調節し、レーザの作動の長さに起因する前記レーザの効率のあらゆる変化を補償する段階と、を含む方法。
  8. 前記チャンバ内の前記圧力を調節し、前記レーザの前記効率のあらゆる変化を補償する段階は、
    前記チャンバ内へのガスの各注入中の前記レーザの前記効率を示す前記選択されたレーザチャンバの作動パラメータを測定する段階と、
    前記レーザによって発射されたショットの回数に対する前記測定された作動パラメータの変化の比率を推定する段階と、
    各注入機会中に圧力の変化を測定する段階と、
    前記チャンバ内の前記圧力の変化に対する前記測定された作動パラメータの前記変化の比率を決定する段階と、を含み、かつ
    各M注入の後に、
    前記M注入にわたる前記作動パラメータの前記変化を推定する段階と、
    前記M注入にわたる前記作動パラメータの前記変化を逆にするのに適切である前記チャンバ内の圧力を推定する段階と
    前記チャンバ内の前記圧力を前記推定された圧力に調節する段階と、を更に含む、請求項に記載のガスを補給する方法。
  9. 前記複数の注入機会を選択する段階は、経過時間及びショットカウントの一方又は両方を含むファクタに基づいて前記規則的な間隔を選択する段階を更に含む請求項に記載のガスを補給する方法。
  10. 前記選択されたレーザチャンバは前記増幅器レーザチャンバであり、前記作動パラメータは前記増幅器レーザチャンバ内の放電電圧である、又は
    前記選択されたレーザチャンバは前記主発振器レーザチャンバであり、前記作動パラメータは前記主発振器と前記増幅器との間の放電タイミング差である、又は
    前記選択されたレーザチャンバは前記主発振器レーザチャンバであり、前記作動パラメータはエキシマレーザ光源の帯域幅である、又は
    前記選択されたレーザチャンバは前記主発振器レーザチャンバであり、前記作動パラメータはE95である、請求項に記載のガスを補給する方法。
  11. 前記Mの値は約50約200である請求項に記載のガスを補給する方法。
  12. 注入機会後の前記チャンバ内の前記ハロゲンガスの量をモデル化する段階が、前記注入機会後かつ直後の注入機会前の選択された時点で前記チャンバ内の前記ハロゲンガスの量をモデル化する段階を更に含む請求項に記載のガスを補給する方法。
  13. ハロゲンを含むレージング媒体ガスを包含するレーザチャンバを各々が有する主発振器及び増幅器を有する2重チャンバガス放電レーザ光源内のガスを補給する方法を実行するようにプロセッサによって実行可能であるプログラムを具現化した持続性コンピュータ可読媒体であって、
    前記方法は、
    規則的な間隔で発生する複数の注入機会を選択する段階と、
    前記注入機会後に前記チャンバ内のハロゲンガスの望ましい量をもたらすと推定されるある量の非ハロゲン含有ガスとある量の前記ハロゲン含有ガスとを各注入機会に選択された前記レーザチャンバ内に注入する段階と、
    前記チャンバ内へのガスの各注入中のレーザの効率を示す前記選択されたレーザチャンバの作動パラメータを測定する段階と、
    前記レーザによって発射されたショットの回数に対する前記測定された作動パラメータの変化の比率を推定する段階と、
    各注入機会中に圧力の変化を測定する段階と、
    前記チャンバ内の前記圧力の変化に対する前記測定された作動パラメータの前記変化の比率を決定する段階と、を含み、かつ
    各M注入の後に、
    前記M注入にわたる前記作動パラメータの前記変化を推定する段階と、
    前記M注入にわたる前記作動パラメータの前記変化を逆にするのに適切である前記チャンバ内の圧力を推定する段階と
    前記チャンバ内の前記圧力を前記推定された圧力に調節する段階と、を更に含む、持続性コンピュータ可読媒体。
  14. 前記ガス補給システム内の前記コントローラが実行する前記補給スキームは、各注入機会に前記選択されたレーザチャンバ内にある量の前記ハロゲンガスを注入する段階の前に、前記注入機会後に前記選択されたレーザチャンバ内に望ましい量のハロゲンガスをもたらす前記ハロゲンガスの量を推定する段階を更に含む、請求項1に記載の2重チャンバガス放電レーザ光源。
  15. 各注入機会に前記選択されたレーザチャンバ内にある量の前記ハロゲンガスを注入する段階の前に、前記注入機会後に前記選択されたレーザチャンバ内に望ましい量のハロゲンガスをもたらす前記ハロゲンガスの量を推定する段階を更に含む、請求項7に記載のガスを補給する方法。
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Families Citing this family (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN104283098B (zh) * 2013-07-11 2017-05-10 中国科学院大连化学物理研究所 一种横流气体机械调q脉冲激光器
WO2015097790A1 (ja) 2013-12-25 2015-07-02 ギガフォトン株式会社 エキシマレーザ装置及びエキシマレーザシステム
JP6568311B2 (ja) * 2016-05-09 2019-08-28 ギガフォトン株式会社 レーザ装置
CN115931631A (zh) 2018-06-13 2023-04-07 西默有限公司 气体监测系统
JP2024526151A (ja) * 2021-07-01 2024-07-17 サイマー リミテッド ライアビリティ カンパニー ガス放電ステージ用のガス制御装置

Family Cites Families (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP3864287B2 (ja) * 1996-03-14 2006-12-27 株式会社小松製作所 レーザ装置
US6965624B2 (en) * 1999-03-17 2005-11-15 Lambda Physik Ag Laser gas replenishment method
US6690704B2 (en) 2001-04-09 2004-02-10 Cymer, Inc. Control system for a two chamber gas discharge laser
US7741639B2 (en) * 2003-01-31 2010-06-22 Cymer, Inc. Multi-chambered excimer or molecular fluorine gas discharge laser fluorine injection control
JP4798687B2 (ja) * 2004-07-09 2011-10-19 株式会社小松製作所 狭帯域化レーザ装置
US7835414B2 (en) * 2007-02-26 2010-11-16 Cymer, Inc. Laser gas injection system

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