JP2015227964A - 光デバイス - Google Patents
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Abstract
【課題】グラフェンを利用した光デバイスにおいて、より小型化が可能な状態でより高速な動作ができるようにする。
【解決手段】光制御導波路101と、入力光入力導波路102と、制御光入力導波路103と、信号光出力導波路104とを備える。光制御導波路101は、コア111に接して形成されたグラフェンからなる炭素層105を備える。光制御導波路101が、多モード導波路から構成されている。
【選択図】 図1
【解決手段】光制御導波路101と、入力光入力導波路102と、制御光入力導波路103と、信号光出力導波路104とを備える。光制御導波路101は、コア111に接して形成されたグラフェンからなる炭素層105を備える。光制御導波路101が、多モード導波路から構成されている。
【選択図】 図1
Description
本発明は、光変調や光スイッチなどの光制御を可能とするグラフェンを用いた光デバイスに関する。
光と電気とを変換することができる素子に用いられる光半導体材料には、数多くの元素が知られている。光半導体材料は、一般的にII−VI半導体材料、III−V族半導体材料、IV族半導体材料に分類することが可能である。これらの中でも、光通信分野においては、光応用技術(シリコンフォトニクス技術)に適用可能なシリコン・ゲルマニウム等に代表されるIV族半導体材料が、注目されている。IV族半導体材料を用いた光応用技術は、大量生産が可能かつ小型・集積化など優れた利点を有することから、チップ間光インターコネクションに代表される極短距離光通信から、中・長距離光通信まで幅広い応用が検討されている。
また、近年では、炭素材料、特にナノカーボンと呼ばれるカーボンナノチューブやグラフェンを用いた光通信の応用技術開発が盛んに行われている(非特許文献1参照)。例えば、グラフェンは、高キャリア移動度、光波長無依存性、高光非線形性などに利点を持ち、従来の材料と一線を画す光デバイスを実現可能である(非特許文献2参照)。
例えば、シリコンなどをはじめとする半導体材料を用いた微小光回路は、導波路コア材料とクラッド材料との屈折率差(Δn=約2.5)が非常に大きいことから、クラッド周囲へのエバネッセント波(漏れ出し電界)が大きくなる。このため、グラフェンと高い相互作用が得られることから、上述した微小光回路にグラフェンを組み合わせた変調器や受光器などに応用する報告例がある。グラフェンを組み合わせた構成としては、電気制御型のグラフェン装荷型光スイッチもしくは光変調器が想定される。
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しかしながら、上述した電気制御型のグラフェン装荷型光スイッチ(もしくは光変調器)では、金属電極とグラフェン間のコンタクト抵抗が大きく、RC時定数によってその動作はグラフェンの非常に高いキャリア移動度を生かすことができず、わずか1GHz程度の低周波動作に制限されるものとなる。
また、従来のグラフェン装荷型光スイッチ(もしくは光変調器)では、相互作用長が原理的に数100μm程度となり(非特許文献1では250μm)、あまり小型多ができない。チップ内の光インターコネクション用途では、100μmよりさらに小型できることが望ましい。
このように、従来のグラフェンを利用した光デバイスでは、高速な動作や小型化が制限されるという問題があった。
本発明は、以上のような問題点を解消するためになされたものであり、グラフェンを利用した光デバイスにおいて、より小型化が可能な状態でより高速な動作ができるようにすることを目的とする。
本発明に係る光デバイスは、コアに接して形成されたグラフェンからなる炭素層を備える光制御導波路と、光制御導波路に入力光を入力する入力光入力導波路と、光制御導波路に制御ポンプ光を入力する制御光入力導波路と、光制御導波路より制御ポンプ光で制御された信号光を出力する信号光出力導波路とを備え、制御ポンプ光は入力光より短波長とされている。
上記光デバイスにおいて、光制御導波路は、多モード導波路から構成すればよい。
上記光デバイスにおいて、光制御導波路、入力光入力導波路、および信号光出力導波路は、1つの光導波路から構成し、制御光入力導波路は、入力光入力導波路に光結合した構成としてもよい。
上記光デバイスにおいて、光制御導波路は、リング導波路から構成し、入力光入力導波路、信号光出力導波路、および制御光入力導波路は、リング導波路に光結合する直線導波路から構成してもよい。
以上説明したことにより、本発明によれば、グラフェンを利用した光デバイスにおいて、より小型化が可能な状態でより高速な動作ができるようになるという優れた効果が得られる。
以下、本発明の実施の形態について図を参照して説明する。
[実施の形態1]
はじめに、本発明の実施の形態1について図1を用いて説明する。図1は、本発明の実施の形態1における光デバイスの構成を示す構成図である。この光デバイスは、光制御導波路101と、入力光入力導波路102と、制御光入力導波路103と、信号光出力導波路104とを備える。ここで、光制御導波路101は、コア111に接して形成されたグラフェンからなる炭素層105を備える。実施の形態1では、光制御導波路101が、多モード導波路から構成されている。なお、図1では、光制御導波路101を構成するコア111、入力光入力導波路102を構成するコア121、制御光入力導波路103を構成するコア131、信号光出力導波路104を構成するコア141を示し、クラッドは省略している。
はじめに、本発明の実施の形態1について図1を用いて説明する。図1は、本発明の実施の形態1における光デバイスの構成を示す構成図である。この光デバイスは、光制御導波路101と、入力光入力導波路102と、制御光入力導波路103と、信号光出力導波路104とを備える。ここで、光制御導波路101は、コア111に接して形成されたグラフェンからなる炭素層105を備える。実施の形態1では、光制御導波路101が、多モード導波路から構成されている。なお、図1では、光制御導波路101を構成するコア111、入力光入力導波路102を構成するコア121、制御光入力導波路103を構成するコア131、信号光出力導波路104を構成するコア141を示し、クラッドは省略している。
上記構成とした実施の形態1における光デバイスでは、入力光は、入力光入力導波路102を導波して光制御導波路101に入力し、制御ポンプ光は、制御光入力導波路103を導波して光制御導波路101に入力する。入力光が入力されている光制御導波路101に、制御ポンプ光が入力され、入力された制御ポンプ光の光強度が所定のしきい値を超えると、炭素層105における光吸収が抑制され、光制御導波路101の透過率が上昇する。
例えば、制御ポンプ光のピーク強度を100MW/cm2とすればよい(非特許文献3参照)。この結果、光制御導波路101に入力された入力光は、信号光出力導波路104へと導波され、信号光出力導波路104より信号光として出力される。このように、信号光出力導波路104には、光制御導波路101より制御ポンプ光で制御された信号光が出力される。例えば、所望とする波長の連続光を入力光とし、任意の時間波形を持ったパルス光を制御ポンプ光とすれば、入力光を変調した出力光を出力することができる。なお、制御ポンプ光は、入力光より短波長とされていることが重要である。
上述したように、本発明では、グラフェンからなる炭素層105を利用しているところに第1の特徴がある。さらに、本発明では、光スイッチングなどの制御原理は、従来の電圧によるフェルミ制御ではなく、グラフェンの可飽和吸収特性のみを利用するところに第2の特徴がある。グラフェンの吸光特性は、入射光の強度が閾値を上回ったところで飽和することが確認されており、この非線形光学的な挙動が、可飽和吸収性と呼ばれている。このようなグラフェンの特性は、伝導帯から価電子帯への励起状態が飽和することに由来する。
このように、本発明では、電圧制御などを用いていないため、従来課題とされていたグラフェンと制御用金属のコンタクト抵抗による周波数帯域のRC時定数律速が回避できる。また、非線形光吸収である過飽和吸収は、相互作用長が数10μm程度と短くできるため、より小型化が可能となる。ここで、所望の状態に変調された出力光のみを得るためには、制御ポンプ光を選択的に除去する波長フィルタが、信号光出力導波路またはこの後段に備え付けられていることが望ましい。方向性結合器、MMI(Multi-Mode Interference)カプラ、ブラッグ反射グレーティングなどをモノリシックに集積できる他、外部に誘電体多層膜を設けて除去することも可能である。
次に、炭素層の形成について説明する。炭素層は、コアの加工中もしくは加工後に、グラフェンを成膜することで形成できる。例えば、遷移金属であるCuやNiなどより構成した金属基板の上にグラフェンを気相成長により成膜し、この後、金属基板を除去し、形成されていたグラフェンを、コアの上に転写すればよい。
例えば、よく知られたSOI(Silicon on Insulator)基板を利用し、図2の断面図に示すように、基板201の上の埋め込み絶縁層202上のSOI層をパターニングし、コア203を形成する。埋め込み絶縁層202が、下部クラッド層となる。一方で、前述したように、金属基板の上にグラフェンを成長しておき、金属基板を除去して転写することで、コア203の上の所定の箇所に、炭素層205を形成する(表面装荷型)。
また、コア材量を堆積してコア203を形成する場合、形成途中にグラフェンを転写することで、図3に示すように、コア203の途中に、炭素層206を挾んだ構成とすることができる(サンドイッチ型)。どちらも、コア材料とクラッド材料との間の屈折率差が十分大きければ、光スイッチングなどの光制御機能に必要な相互作用は得られる。
また、グラフェンの形成技術として、よく知られているように、SiC基板の加熱によりCのみを選択的に析出させるグラフェン成長法が存在する。このグラフェン形成では、炭素層がコアに接触する構成を、前述した転写プロセスを必要とせずに形成可能である。この場合、図4に示すように、SiCからなるコア203aの表面にグラフェンからなる炭素層204を形成することになる。ただし、下部クラッド層202aを形成した基板201aを用意し、下部クラッド層202aの上に、炭化シリコン層を貼り合わせる工程が必要となる。貼り合わせたSiC層の表面をグラフェンとし、この後でパターニングして、コア203a,炭素層204とする。
ところで、本発明では、制御ポンプ光を導入により入力光の制御を行っているため、キャリア発生による光吸収(2光子吸収による自由キャリア吸収)が発生する条件となっている。例えば、シリコンは、自身の非線形性が大きく、高強度の光パワーを入力することでキャリアが発生し、光強度の減衰を誘起することから、グラフェンの非線形現象である可飽和吸収効果と相殺される場合が発生する。この光吸収は、入力光の制御には好ましくない。従って、コア材料は、Siを用いてもよいが、SiOx、SiN、SiON、SiCなどの、材料屈折率(1.6〜2.5程度)は高いが、入力強度に対する線形性が低い材料である方が望ましい。
[実施の形態2]
次に、本発明の実施の形態2について、図5を用いて説明する。図5は、本発明の実施の形態2における光デバイスの構成を示す構成図である。この光デバイスは、光制御導波路301と、入力光入力導波路302と、制御光入力導波路303と、信号光出力導波路304とを備える。ここで、光制御導波路301は、コア311に接して形成されたグラフェンからなる炭素層305を備える。
次に、本発明の実施の形態2について、図5を用いて説明する。図5は、本発明の実施の形態2における光デバイスの構成を示す構成図である。この光デバイスは、光制御導波路301と、入力光入力導波路302と、制御光入力導波路303と、信号光出力導波路304とを備える。ここで、光制御導波路301は、コア311に接して形成されたグラフェンからなる炭素層305を備える。
実施の形態2では、光制御導波路301、入力光入力導波路302、および信号光出力導波路304が、1つの光導波路から構成されている。また、制御光入力導波路303は、入力光入力導波路302に光結合している。制御光入力導波路303は、屈曲して入力光入力導波路302に近設する方向性結合器331aを備え、方向性結合器331aで入力光入力導波路302に光結合している。また、実施の形態2では、制御ポンプ光を分離する分離導波路306を備える。分離導波路306は、方向性結合器361aで入力光入力導波路302に光結合している。
なお、図5では、光制御導波路301を構成するコア311、入力光入力導波路302を構成するコア321、制御光入力導波路303を構成するコア331、信号光出力導波路304を構成するコア341、分離導波路306を構成するコア361を示し、クラッドは省略している。
上記構成とした実施の形態2における光デバイスでは、入力光(連続光)は、入力光入力導波路302を導波して光制御導波路301に入力し、制御ポンプ光(パルス光)は、制御光入力導波路303を導波し、方向性結合器331aで光結合して光制御導波路301に入力する。入力光が入力されている光制御導波路301に、制御ポンプ光が入力され、入力された制御ポンプ光の光強度が所定のしきい値を超えると、炭素層305における光吸収が抑制され、光制御導波路301の透過率が上昇する。この結果、光制御導波路301に入力された入力光は、信号光出力導波路304へと導波され、信号光出力導波路304より出力光として出力される。このように、信号光出力導波路304には、光制御導波路301より制御ポンプ光で制御された信号光が出力される。
例えば、TE偏光をCW光の入力光として入力光入力導波路302より導入し、TM偏光を制御ポンプ光として制御光入力導波路303に導入する。方向性結合器331aは、TE偏光とTM偏光の結合効率が異なる状態とされた偏波方向性結合器である(非特許文献4参照)。各々導入された入力光および制御ポンプ光は、方向性結合器3301aにより合波され、光制御導波路301に導入される。光制御導波路301に導入された合波光は、炭素層305の存在により非線形スイッチング(光制御)を受けた後、方向性結合器361aで、制御ポンプ光が分離される。方向性結合器361aも、TE偏光とTM偏光の結合効率が異なる状態とされている。上記構成とした実施の形態2によれば、制御性よく、かつ、非常に小型な光スイッチが構成可能である。
[実施の形態3]
次に、本発明の実施の形態3について説明する。図6は、本発明の実施の形態3における光デバイスの構成を示す構成図である。この光デバイスは、光制御導波路401と、入力光入力導波路402と、制御光入力導波路403と、信号光出力導波路404とを備える。ここで、光制御導波路401は、リングコア411に接して形成されたグラフェンからなる炭素層405を備える。
次に、本発明の実施の形態3について説明する。図6は、本発明の実施の形態3における光デバイスの構成を示す構成図である。この光デバイスは、光制御導波路401と、入力光入力導波路402と、制御光入力導波路403と、信号光出力導波路404とを備える。ここで、光制御導波路401は、リングコア411に接して形成されたグラフェンからなる炭素層405を備える。
実施の形態3では、光制御導波路401が、リング導波路から構成され、入力光入力導波路402、信号光出力導波路404、および制御光入力導波路403が、リング導波路に光結合する直線導波路から構成されている。ここでは、制御光入力導波路403および信号光出力導波路404を1つの直線導波路から構成している。実施の形態3は、リング共振器構造とした例であり、特に、デュアルバスのリング共振器を例にしている。炭素層405は、リング状とされているリングコア411の一部に形成されている。
なお、図6では、光制御導波路401を構成するリングコア411、入力光入力導波路402を構成するコア421、制御光入力導波路403を構成するコア431、信号光出力導波路404を構成するコア441を示し、クラッドは省略している。
上記構成とした実施の形態3における光デバイスでは、入力光は、入力光入力導波路402を導波し、光制御導波路401との近設部により構成される方向性結合器で、光制御導波路401の方向と、信号光出力導波路404の方向とに分岐される。光制御導波路401に分岐された入力光は、リング導波路とされている光制御導波路401で、炭素層405の形成部を経由する。この入力光は、光制御導波路401を周回して導波するなかで、炭素層405の形成部を複数回経由し、経由するごとに減衰される(リング共振器のQ値低下を招く)。このため、制御光入力導波路403の延長部との近設部により構成される方向性結合器で分岐されて「Drop」ポートに出力される光(出力光)はわずかとなる。
上述したように入力光が入力されている状態で、光強度の制御ポンプ光を制御光入力導波路403に導入すると、光制御導波路401との近設部により構成される方向性結合器で光制御導波路401の方向に分岐されて炭素層405に到達する。このようにして制御ポンプ光が入力された炭素層405においては、可飽和吸収特性を示し、入力光の減衰が抑制される(リング共振器のQ値が上昇する)。この結果、「Drop」ポートへの出力光の透過強度が増加するようになる。また、制御ポンプ光も、光制御導波路401を周回して導波するなかで、炭素層405の形成部を複数回経由するので、より効果的に過飽和吸収の状態が得られる。
このように、実施の形態3によれば、リング導波路を用いているので、実施例1、2と比較して、わずかな光量(制御ポンプ光)で十分な可飽和吸収性が得られる。なお、リング導波路においては、炭素層を設けているので、光吸収とともに、屈折率(実部)の変化も同時に発生すると予想され、共振ピークの条件も変化すると予想される。屈折率(実部)の変化量が小さい場合は、上記効果を無視できるが、大きい場合は異なる共振次数を用いて可飽和吸収効果を誘起する前後で同一波長にピークが現れるよう設計することが可能である。
[実施の形態4]
ところで、グラフェンは、製造の過程で、不要な不純物が導入されることが知られている。このような場合、次に説明する構成とすることで、炭素層におけるフェルミレベルを調整可能とすればよい。以下、炭素層におけるフェルミレベルを可変とした実施の形態4における光デバイスについて、図7,図8を用いて説明する。図7は、本発明の実施の形態4における光デバイスの構成を示す構成図である。また、図8は、本発明の実施の形態4における光デバイスの一部構成を示す断面図である。
ところで、グラフェンは、製造の過程で、不要な不純物が導入されることが知られている。このような場合、次に説明する構成とすることで、炭素層におけるフェルミレベルを調整可能とすればよい。以下、炭素層におけるフェルミレベルを可変とした実施の形態4における光デバイスについて、図7,図8を用いて説明する。図7は、本発明の実施の形態4における光デバイスの構成を示す構成図である。また、図8は、本発明の実施の形態4における光デバイスの一部構成を示す断面図である。
実施の形態4においては、前述した実施の形態3における炭素層405を、リングコア411に接して形成された第1グラフェン505aと、第1グラフェン505aの上に絶縁層504を介して形成された第2グラフェン505bとから構成した炭素層505とすればよい。第1グラフェン505aには配線511aを接続し、第2グラフェン505bには配線511bを接続し、電圧が印加可能とされていればよい。絶縁層504は、例えば、SiO2またはAl2O3から構成すればよい。
第1グラフェン505aと第2グラフェン505bとの間に印加する電圧の変化により、炭素層505におけるフェルミレベルが調整可能である。フェルミレベルを制御することは、炭素層505における吸収係数を制御できることに相当し、この光デバイスにおけるQ値と消光比の最適化が可能となる。
以上に説明したように、本発明によれば、グラフェンからなる炭素層を備えて入力光を入力する光制御導波路に、制御ポンプ光を入力するようにしたので、グラフェンを利用した光デバイスにおいて、より小型化が可能な状態でより高速な動作ができるようになる。
なお、本発明は以上に説明した実施の形態に限定されるものではなく、本発明の技術的思想内で、当分野において通常の知識を有する者により、多くの変形および組み合わせが実施可能であることは明白である。例えば、光導波路は、フォトニック結晶から構成することも可能である。フォトニック結晶を構成している周期的に配置された孔部を埋めた領域を形成し、ここにグラフェンを接して設ければよい。フォトニック結晶を活用した共振構造や群速度制御を行うことにより、更に効率よく所望の効果を得られる。
また、素子構造としては、実施の形態1で示した多モード干渉カプラ型、実施の形態2で示した偏光方向性結合器型、実施の形態3,4で示したリング共振器型に限らす、方向性結合器型、十字交差型などであってもよい。
また、導波路コア材料に関しては、既に挙げたSi、SiOx、SiN、SiON、SiCの他に、所望の光波長に対して透明であれば、Ge、InP、SiO2、GaAs、PMMAなどから構成することもできる。また、炭素層は、単層のグラフェンに限るものではない。炭素層を構成するグラフェンの層数に関しては、多層化による更なる高感度化が可能であり、炭素層を複数層のグラフェンから構成してもよい。
101…光制御導波路、102…入力光入力導波路、103…制御光入力導波路、104…信号光出力導波路、105…炭素層、111,121,131,141…コア。
Claims (4)
- コアに接して形成されたグラフェンからなる炭素層を備える光制御導波路と、
前記光制御導波路に入力光を入力する入力光入力導波路と、
前記光制御導波路に制御ポンプ光を入力する制御光入力導波路と、
前記光制御導波路より制御ポンプ光で制御された信号光を出力する信号光出力導波路と
を備え、
前記制御ポンプ光は前記入力光より短波長とされていることを特徴とする光デバイス。 - 請求項1記載の光デバイスにおいて、
前記光制御導波路は、多モード導波路から構成されていることを特徴とする光デバイス。 - 請求項1記載の光デバイスにおいて、
前記光制御導波路、前記入力光入力導波路、および前記信号光出力導波路は、1つの光導波路から構成され、
前記制御光入力導波路は、前記入力光入力導波路に光結合している
ことを特徴とする光デバイス。 - 請求項1記載の光デバイスにおいて、
前記光制御導波路は、リング導波路から構成され、
前記入力光入力導波路、信号光出力導波路、および制御光入力導波路は、前記リング導波路に光結合する直線導波路から構成されている
ことを特徴とする光デバイス。
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CN111965848A (zh) * | 2020-08-07 | 2020-11-20 | 国网山东省电力公司青岛供电公司 | 一种光控光开关及其工作方法 |
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