JP2015220130A - Optical microscopy device - Google Patents
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Abstract
Description
本発明は、試料に荷電粒子線を照射して試料の顕微画像つまり観察像を得る荷電粒子線装置に用いられ、試料表面の光学像を撮像するための光学顕微装置に関する。 The present invention relates to an optical microscope for use in a charged particle beam apparatus that obtains a microscopic image of a sample, that is, an observation image, by irradiating the sample with a charged particle beam and captures an optical image of the sample surface.
試料に荷電粒子線を照射して得られる信号に基づいて観察像を得る荷電粒子線装置としては、電子線を用いた走査型電子顕微鏡(SEM)や、走査型透過電子顕微鏡(STEM)がある。走査型電子顕微鏡は、観察対象である試料に電子線を照射した際に発生する二次電子や反射電子を検出することにより、試料表面の顕微画像を得るために使用され、走査型透過電子顕微鏡は、試料上を走査させながら電子線を透過させて試料中で散乱、回析された電子に基づいて試料内部の顕微画像を得るために使用される。いずれの電子顕微鏡も、数万倍以上の高倍率を有している。 Examples of the charged particle beam apparatus that obtains an observation image based on a signal obtained by irradiating a sample with a charged particle beam include a scanning electron microscope (SEM) using an electron beam and a scanning transmission electron microscope (STEM). . A scanning electron microscope is used to obtain a microscopic image of a sample surface by detecting secondary electrons and reflected electrons generated when an electron beam is irradiated on a sample to be observed. Is used to obtain a microscopic image inside the sample based on electrons scattered and diffracted in the sample by transmitting an electron beam while scanning the sample. All electron microscopes have a high magnification of several tens of thousands of times.
このような荷電粒子線装置には、電子線の照射により得られる顕微画像の部位ないし領域が試料の中のどの部分かを確認する必要があるため、荷電粒子線装置よりも低倍率の光学顕微鏡が併設される。特許文献1に記載された拡大観察装置は、試料室が設けられた真空容器つまりチャンバーとしての胴部を有し、試料室内の試料の顕微画像を取得するための高倍率の電子線撮像装置と、試料の光学画像を撮像する低倍率の光学撮像装置とが胴部に設けられており、光学撮像装置の対物レンズは試料に電子線が照射される部位に対向している。 In such a charged particle beam apparatus, since it is necessary to confirm which part or region of the microscopic image obtained by electron beam irradiation is in the sample, an optical microscope with a lower magnification than the charged particle beam apparatus Is attached. The magnification observation apparatus described in Patent Document 1 includes a vacuum vessel provided with a sample chamber, that is, a body as a chamber, and a high-magnification electron beam imaging device for acquiring a microscopic image of the sample in the sample chamber; A low-magnification optical imaging device that captures an optical image of the sample is provided on the body, and an objective lens of the optical imaging device faces a portion where the sample is irradiated with an electron beam.
特許文献2に記載された検査計測装置は、試料室が設けられた真空容器としてのチャンバーを有し、X,Yの2軸方向に移動自在のウエハホルダが試料室に配置されている。チャンバー内には、試料に向けて電子線を照射する電子光学系と、二次電子線を検出する検出器とが設けられ、さらに、光学顕微鏡部がチャンバー内に設けられている。観察対象の試料は、電子線が照射される位置と、光学顕微鏡部に対向する位置とに、ステージにより移動される。 The inspection and measurement apparatus described in Patent Document 2 has a chamber as a vacuum container provided with a sample chamber, and a wafer holder that is movable in two X- and Y-axis directions is disposed in the sample chamber. In the chamber, an electron optical system that irradiates an electron beam toward the sample, a detector that detects a secondary electron beam, and an optical microscope unit are provided in the chamber. The sample to be observed is moved by the stage to a position where the electron beam is irradiated and a position facing the optical microscope unit.
特許文献3には荷電粒子線の写像投影光学系が記載されている。この光学系は、試料室が設けられた真空容器としてのチャンバーを有し、試料室に設けられたX,Yの2軸方向に移動自在に試料が配置される。照射用荷電粒子線を試料に照射する照射光学系が設けられた1次コラムと、試料から放出された観察用荷電粒子線を電子ビーム検出器に照射する写像投影光学系が設けられた2次コラムとがチャンバーに設けられている。顕微画像の光学画像を撮像するために、光学顕微鏡の対物レンズが2次コラム内に組み込まれている。観察対象の試料は、特許文献2に記載された検査計測装置と同様に、電子線が照射される位置と、光学顕微鏡の対物レンズに対向する位置とに、ステージにより移動される。
特許文献1に記載されるように、光学撮像装置の対物レンズを電子線が照射される部位に対向して配置すると、試料を移動させることなく、顕微画像を取り込むと同時に光学画像を撮像することができる。これに対し、特許文献2,3に記載されるように、予め光学顕微鏡部により電子線の照射領域を確認後、目的の視野にステージを移動するが、ステージを機械的に移動するために何回かの微調整が必要となる。このように視野探しに時間が掛かっている。視野にステージを移動するために、顕微画像と光学画像とを同時に得ることができなかった。
As described in Patent Document 1, when the objective lens of the optical imaging device is arranged to face a portion irradiated with an electron beam, a microscopic image is captured and an optical image is simultaneously captured without moving the sample. Can do. On the other hand, as described in
上述した従来の荷電粒子線装置においては、顕微画像の部位に光を照射して光学顕微鏡により光学画像を撮像するために、光源が荷電粒子線装置の外部に配置されている。特許文献1に記載された拡大観察装置においては、ファイバにより光源に接続された照明部から試料台に照明光を照射している。また、特許文献2に記載された光学顕微鏡部は、チャンバー内に配置されたCCDカメラを有し、CCDカメラにより撮像される部位には、チャンバーに取り付けられた光源からの光が照射される。さらに、特許文献3に記載された写像投影光学系においては、外部に配置された光源からの光をファイバにより試料に照射するようにしている。
In the conventional charged particle beam apparatus described above, a light source is disposed outside the charged particle beam apparatus in order to irradiate light on a portion of a microscopic image and capture an optical image with an optical microscope. In the magnifying observation apparatus described in Patent Document 1, illumination light is irradiated onto a sample stage from an illumination unit connected to a light source by a fiber. Moreover, the optical microscope part described in Patent Document 2 has a CCD camera arranged in a chamber, and light from a light source attached to the chamber is irradiated to a part imaged by the CCD camera. Furthermore, in the mapping projection optical system described in
このように、光源および対物レンズを真空容器としてのチャンバーの外側に配置する方式では、試料に照射されて試料から反射した照明光が充分に光学撮像装置の対物レンズに入らず、明るい光学画像を撮像することができないという課題がある。特に、光学撮像装置を電子線が照射される部位に対向させると、電子線撮像装置と試料との間の距離が狭いので、外部に光源は配置した構造では、照明光が充分に試料に照射されないという課題がある。 As described above, in the method in which the light source and the objective lens are arranged outside the chamber as a vacuum vessel, the illumination light irradiated on the sample and reflected from the sample does not sufficiently enter the objective lens of the optical imaging device, and a bright optical image is obtained. There is a problem that imaging cannot be performed. In particular, when the optical imaging device is opposed to the part to which the electron beam is irradiated, the distance between the electron beam imaging device and the sample is narrow. Therefore, in the structure where the light source is arranged outside, the illumination light is sufficiently irradiated to the sample. There is a problem that is not done.
本発明の目的は、荷電粒子線が照射されて顕微画像が取り込まれる部位の光学画像を、試料を移動させることなく、鮮明に明るく撮像し得るようにすることにある。 An object of the present invention is to make it possible to take a clear and bright image of an optical image of a site where a microscopic image is captured by irradiation with a charged particle beam without moving the sample.
本発明の光学顕微装置は、大気圧以下の圧力に調圧される試料室を有し、前記試料室内に試料台が設けられる真空容器と、前記真空容器に設けられ、前記試料台に配置された試料に荷電粒子線を照射する粒子線照射系と、粒子線が照射された観察部位からの二次粒子線により顕微画像を検出する顕微画像検出系と、前記観察部位に対向して前記真空容器に設けられ、前記観察部位の光学画像を撮像する光学撮像系と、前記試料室内に配置され、前記観察部位を照明する照明用光源と、を有する。 The optical microscope of the present invention has a sample chamber regulated to a pressure equal to or lower than atmospheric pressure, a vacuum vessel in which a sample stage is provided in the sample chamber, a vacuum vessel provided in the vacuum vessel, and disposed on the sample stand A particle beam irradiation system for irradiating the sample with a charged particle beam, a microscopic image detection system for detecting a microscopic image with a secondary particle beam from the observation site irradiated with the particle beam, and the vacuum facing the observation site An optical imaging system that is provided in the container and captures an optical image of the observation site; and an illumination light source that is disposed in the sample chamber and illuminates the observation site.
真空容器内に配置された試料の顕微画像を得るための観察部位には、光学撮像系が対向して配置されており、顕微画像の光学画像は光学撮像系により直接撮像される。観察部位には真空容器内に配置された照明用光源の光が直接照射されるので、光学撮像系により鮮明な明るい光学画像を撮像することができる。 An optical imaging system is arranged opposite to an observation site for obtaining a microscopic image of the sample arranged in the vacuum vessel, and the optical image of the microscopic image is directly taken by the optical imaging system. Since the observation site is directly irradiated with the light from the illumination light source disposed in the vacuum vessel, a clear and bright optical image can be captured by the optical imaging system.
以下、本発明の実施の形態を図面に基づいて詳細に説明する。図1に示されるように、光学顕微装置10は、試料室11が設けられたチャンバーつまり真空容器12を有しており、試料室11は、図示しない真空ポンプにより大気圧以下の圧力つまり真空圧に調圧される。真空容器12には、ウエハ等の試料Wが配置される試料台13が設けられている。試料台13は、水平面つまり水平方向のX,Y2軸方向に試料Wを移動自在に支持する。
Hereinafter, embodiments of the present invention will be described in detail with reference to the drawings. As shown in FIG. 1, the
真空容器12には、粒子線照射系としての電子線照射系21が設けられている。電子線照射系21はコラム22を有し、コラム22の基端部には荷電粒子としての電子線を照射する電子線源23が設けられている。コラム22内には、コンデンサーレンズ24、およびスキャン用偏向器25等が設けられており、これらにより電子線照射系21が構成されており、電子線源23から発した電子線は、試料Wの観察部位に走査されて照射される。
The
観察部位に電子線を照射することにより、試料から放出された二次粒子線つまり二次電子線を検出するために、真空容器12には電子線検出器26が設けられている。電子線検出器26は観察部位の顕微画像を検出するための顕微画像検出系を構成しており、電子線検出器26からの検出信号に基づいて、高倍率の顕微画像が得られる。
In order to detect the secondary particle beam emitted from the sample, that is, the secondary electron beam by irradiating the observation site with the electron beam, the
試料Wの観察部位の光学画像を撮像するために、真空容器12には光学撮像系31が設けられている。光学撮像系31は、試料Wの観察部位に対向して配置される第1の光学素子32を有し、第1の光学素子32は、真空圧に調圧される真空容器12の試料室11に設けられている。真空容器12には透光性の部材からなる覗き窓33が設けられており、覗き窓33は、第1の光学素子32からの画像光を透過させるとともに、真空容器12を閉塞して真空圧に調圧される試料室11と真空容器12の外部とを閉塞する。
In order to capture an optical image of the observation region of the sample W, the
真空容器12の外部には、観察部位の光学画像を撮像する撮像器34が設けられており、撮像器34と覗き窓33との間には、第1の光学素子32からの画像光を撮像器34の結像面に結像させる第2の光学素子35が設けられている。撮像器34からの検出信号に基づいて、顕微画像よりも低倍率の光学画像が得られる。光学撮像系31の光軸Oは、電子線照射系21の電子線軸Sに交差しており、電子線が照射される試料Wの観察部位の光学画像を直接撮像することができる。
An
コラム22の先端は試料Wに接近しており、電子線軸Sが試料Wに対してほぼ垂直となっているのに対し、光軸Oはコラム22の先端との干渉を避けるために、試料Wの表面に対して角度θ傾斜している。光学撮像系31により鮮明な明るい光学画像を撮像するために、照明用光源36が真空容器12内の試料室11に配置されている。照明用光源36は、LEDであり、試料台13よりも上側つまり顕微画像検出系側つまり顕微画像検出系を構成するコラム22側に寄せて試料室11に配置されている。照明用光源36としてのLEDの数は、1つでも良く、複数でも良い。図1に示されるように、照明用光源36を試料室11内に配置すると、照明用光源36を試料Wに接近させることができるので、観察部位を明るく照明することができる。
The tip of the
光学顕微装置10は制御ユニット41を有し、制御ユニット41から電子線源23に電力が供給されるとともに、照明用光源36に電力が供給される。制御ユニット41には電子線検出器26の検出信号が送られるとともに、撮像器34の検出信号が送られる。制御ユニット41には、顕微画像を表示する顕微画像表示部42と、光学画像を表示する光学画像表示部43とが接続されている。制御ユニット41は、検出信号を演算するマイクロプロセッサと、演算子やマップデータ等が格納されるメモリとを有しており、電子線検出器26からの検出信号に基づいて、高倍率の顕微画像を演算し、演算された顕微画像は顕微画像表示部42に表示される。また、制御ユニット41は、撮像器34からの検出信号に基づいて、顕微画像よりも低倍率の光学画像を演算し、演算された光学画像は光学画像表示部43に表示される。
The
顕微画像表示部42と光学画像表示部43を隣接して配置された別々のディスプレイに表示したり、同一のディスプレイに両方の画像を表示したりすると、顕微画像と光学画像とを同時に表示して両方の画像を比較することができる。したがって、電子線を照射すべき観察部位を位置決めする際には、作業者は、光学画像表示部43に表示される光学画像を目視しながら、試料台13を移動操作することにより、観察部位の位置を容易に設定することができる。位置決めされた観察部位の顕微画像を得るには、電子線源23から電子線を試料Wに照射し、その二次電子線を電子線検出器26により検出する。検出された信号に基づいて、顕微画像表示部42には顕微画像が表示される。作業者は、顕微画像と光学画像とを両方の表示部を比較することができ、観察部位の変更操作等を容易に行うことができる。
When the microscopic
図2は図1に示した光学撮像系31の一例における結像光路を示す概略図であり、図4は図2に示した結像光路を形成する光学撮像系31の具体的構造を示す概略図である。
2 is a schematic diagram showing an imaging optical path in an example of the
図2に示す光学撮像系31は、第1の光学素子32と第2の光学素子35がいずれもレンズにより構成されている。試料Wの観察部位から反射した画像光は、試料室11内に配置された対物レンズとしての第1のレンズ32aを透過した後に、アパーチャ37により絞られて、覗き窓33を透過する。覗き窓33を透過した画像光は、真空容器12の外部つまり大気中に配置された結像レンズとしての第2のレンズ35aにより、撮像器34の結像面38に光学画像が結像される。第1のレンズ32aは真空状態となる試料室11にさらされるので、単一レンズにより形成することが好ましい。第2のレンズ35aは大気圧にさらされるので、複合レンズにより形成することができる。
In the
撮像器34は図2において矢印で示すように、揺動自在となっており、結像面38に対する画像光の入射角αが可変となっている。対物レンズとしての第1のレンズ32aの光軸Oは、試料Wに対して角度θ傾斜しており、第1のレンズ32aからの画像光は、観察部位を傾斜した方向からの画像となっている。したがって、結像面38を光軸Oに対して直角とすると、結像面38には傾斜した方向からの観察部位の画像が結像されることになるが、結像面38に対する画像光の入射角を変化させることにより、結像面38には観察部位を正面側から観察した場合にほぼ対応する光学画像が結像される。
As shown by the arrow in FIG. 2, the
図3(A)は試料Wの観察部位に形成されたテストパターンとしての観察部位画像を示す。図3(B)は光軸Oに対する入射角αを90°とし、図3(C)は入射角αを45°とし、図3(D)は入射角αを21°とした場合における結像面の光学画像を示す。 FIG. 3A shows an observation site image as a test pattern formed on the observation site of the sample W. FIG. 3 (B) shows an incident angle α with respect to the optical axis O of 90 °, FIG. 3 (C) shows an incident angle α of 45 °, and FIG. 3 (D) shows an image formed when the incident angle α is 21 °. An optical image of the surface is shown.
入射角αを90°、つまり結像面38を光軸Oに対して直角とすると、観察部位を傾斜した方向から観察した光学画像となるが、図3(A)に示した観察部位のテストパターン画像よりも図3において上下方向に潰れた光学画像となる。しかも、図3(B)(C)においては、上下両端部側のテストパターン線はぼやけた画像となった。
When the incident angle α is 90 °, that is, when the
これに対し、入射角αを21°とすると、図3(D)に示すように、全体的に焦点が合うようになり、かつ光学画像がテストパターンの観察部位画像よりも拡大された。このように、入射角αを変化させることにより、一種のズーミング作用として結像面38には光学画像が結像される。この拡大画像が得られる入射角αとしては、21°を基準として、±5°の範囲とすると、観察部位画像のテストパターンの焦点がぼやけることなく、画像の拡大効果が得られることが判明した。このように拡大効果が得られると、光学画像は観察部位の有無を観察するためであるので、観察部位を容易に検出することができる。
On the other hand, when the incident angle α is set to 21 °, as shown in FIG. 3D, the entire image comes into focus, and the optical image is enlarged more than the observation site image of the test pattern. In this way, by changing the incident angle α, an optical image is formed on the
照明用光源36として使用するLEDとしては、白色LED、青色LED、および赤色LED等を使用することができ、試料Wの観察画像の種類等に応じて、最適な色彩のLEDが選択される。また、照明用光源としてのLEDは、観察部位に対して照射角度を変更したり、観察部位に対する距離を変更したりすることができるように、図示しないホルダーに移動自在に装着される。
As the LED used as the
図4に示される光学撮像系31は鏡筒39を有しており、鏡筒39の先端部には第1のレンズ32aとアパーチャ37が組み込まれ、基端部には第2のレンズ35aが組み込まれている。鏡筒39内には覗き窓33が組み込まれており、鏡筒39の基端部側と先端部側は覗き窓33により閉塞つまり封止されている。鏡筒39は覗き窓33に近い部分で真空容器12に取り付けられ、鏡筒39と真空容器12との間はシール部材によりシールされる。
The
鏡筒39の先端部側は連通孔により真空容器12の試料室11に連通しており、第1のレンズ32aは大気圧以下に調圧された試料室11に圧力にさらされる。これに対して、第2のレンズ35aは外部の大気圧にさらされことになる。このため、鏡筒39のうち第1のレンズ32aと第2のレンズ35aとの間を密封構造とし、覗き窓33を使用しない構造とすると、大気圧状態での鏡筒39と真空容器12に取り付けられた状態での鏡筒39とで光軸Oのずれか発生することがあるが、上述のように、第1のレンズ32aを試料室11内の真空にさらすようにすると、光軸Oのずれ発生がなく、鮮明な光学画像を撮像することができる。
The front end portion of the
図5は試料の観察部位を照明する照明用光源36としてのLEDの特性線図であり、図5において横軸は、LEDの発光を開始させてからの経過時間を示し、縦軸はLEDを支持するための支持台の温度変化を示す。照明用光源36は大気圧よりも減圧された真空状態の試料室11内に配置されるので、LEDが発熱すると、その熱は空気を熱伝達媒体とした放熱が行われず、LEDは過加熱状態となると考えられた。しかし、図5に示すように、点灯開始から時間aが経過するまでは、支持台は温度T2まで大きく上昇したが、その後は大きな温度上昇はなく、通常の連続使用時間bを経過しても、定常温度T1をほぼ維持できることが判明した。定常温度においては、LEDの発光特性つまり発光照度には変化がなく、しかも、赤、青等のいずれの色彩を発光するLEDについても同様であった。
FIG. 5 is a characteristic diagram of an LED serving as an
したがって、画像を検出する時に真空状態に保持される試料室11内に照明用光源36としてLEDを配置しても、LEDは過度に加熱されることなく、所望の照度で、試料Wの近傍から試料Wの観察部位をLEDで直接照射することができた。観察部位を直接照明することができるので、光学撮像系31により鮮明な明るい光学画像を撮像することができる。
Therefore, even if an LED is arranged as the
図6は光学撮像系31の他の具体例を示す概略図である。この光学撮像系31は、真空容器12に一体に取り付けられる鏡筒部51を有し、鏡筒部51に設けられた開口部52には透明性材料からなる覗き窓33が取り付けられており、覗き窓33により鏡筒部51は内部と外部とが閉塞されている。鏡筒部51の内部には鏡筒部51よりも小径の鏡筒部53が装着されており、鏡筒部53には、第1のレンズ32aとアパーチャ37とが取り付けられている。図6に示される光学撮像系31は、鏡筒部51,53の構造を覗いて、図2および図4に示した場合と同様となっている。
FIG. 6 is a schematic diagram showing another specific example of the
図7は光学撮像系のさらに他の具体例を示す概略図である。この光学撮像系31は、第1の反射ミラー32bと第2の反射ミラー32cとを有しており、第1の反射ミラー32bは試料Wの観察部位に対向し、第2の反射ミラー32cは、第1の反射ミラー32bからの反射光を、覗き窓33を介して第2のレンズ35aに反射する。両方の反射ミラー32b,32cにより第1の光学素子32が構成される。特に、第1の反射ミラー32bは非点収差を少なくするためにトロイダルミラーが用いられている。この種のミラー型の光学撮像系においても、入射角αの角度を21°±5°の範囲に設定すると、観察部位の画像を拡大しつつ焦点が合った光学画像を得ることができた。
FIG. 7 is a schematic view showing still another specific example of the optical imaging system. The
本発明は前記実施の形態に限定されるものではなく、その要旨を逸脱しない範囲で種々変更可能である。実施の形態においては試料に電子線を照射して観察部位の顕微画像を得るようにしているが、本発明の光学顕微装置は、イオンビームを荷電粒子線として試料の観察部位の観察や検査などを行うための荷電粒子線装置にも適用することができる。また、SEMのみならず、STEMにも本発明を適用することができる。 The present invention is not limited to the above-described embodiment, and various modifications can be made without departing from the scope of the invention. In the embodiment, the sample is irradiated with an electron beam to obtain a microscopic image of the observation site. However, the optical microscope of the present invention uses an ion beam as a charged particle beam to observe or inspect the sample observation site. The present invention can also be applied to a charged particle beam apparatus for performing the above. Further, the present invention can be applied not only to SEM but also to STEM.
10 光学顕微装置
11 試料室
12 真空容器
13 試料台
21 電子線照射系
22 コラム
23 電子線源
24 コンデンサーレンズ
25 スキャン用偏向器
26 電子線検出器
31 光学撮像系
32 第1の光学素子
32a 第1のレンズ
32b 第1の反射ミラー
32c 第2の反射ミラー
33 覗き窓
34 撮像器
35 第2の光学素子
35a 第2のレンズ
36 照明用光源
37 アパーチャ
38 結像面
39 鏡筒
41 制御ユニット
42 顕微画像表示部
43 光学画像表示部
51 鏡筒部
52 開口部
53 鏡筒部
O 光軸
S 電子線軸
W 試料
DESCRIPTION OF
Claims (8)
前記真空容器に設けられ、前記試料台に配置された試料に荷電粒子線を照射する粒子線照射系と、
粒子線が照射された観察部位からの二次粒子線により顕微画像を検出する顕微画像検出系と、
前記観察部位に対向して前記真空容器に設けられ、前記観察部位の光学画像を撮像する光学撮像系と、
前記試料室内に配置され、前記観察部位を照明する照明用光源と、
を有する、
光学顕微装置。 A vacuum chamber having a sample chamber regulated to a pressure equal to or lower than atmospheric pressure, and a sample stage provided in the sample chamber;
A particle beam irradiation system for irradiating a charged particle beam to a sample provided in the vacuum vessel and disposed on the sample stage;
A microscopic image detection system for detecting a microscopic image by a secondary particle beam from an observation site irradiated with the particle beam;
An optical imaging system that is provided in the vacuum container so as to face the observation site and captures an optical image of the observation site;
An illumination light source disposed in the sample chamber and illuminating the observation site;
Having
Optical microscope.
前記光学撮像系は、
前記試料室内に前記観察部位に対向して配置される第1の光学素子と、
前記第1の光学素子からの画像光を透過させ、かつ前記真空容器を閉塞する覗き窓と、
前記真空容器の外部に配置され、前記観察部位の前記光学画像を撮像する撮像器と、
前記真空容器の外部に配置され、前記第1の光学素子からの前記画像光を前記撮像器の結像面に結像させる第2の光学素子と、
を有する、
光学顕微装置。 The optical microscope according to claim 1 or 2,
The optical imaging system is
A first optical element disposed in the sample chamber so as to face the observation site;
A viewing window that transmits image light from the first optical element and closes the vacuum vessel;
An imager that is disposed outside the vacuum vessel and captures the optical image of the observation site;
A second optical element that is disposed outside the vacuum vessel and forms an image of the image light from the first optical element on an imaging surface of the imaging device;
Having
Optical microscope.
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2014103449A JP6255305B2 (en) | 2014-05-19 | 2014-05-19 | Optical microscope |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2014103449A JP6255305B2 (en) | 2014-05-19 | 2014-05-19 | Optical microscope |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2015220130A true JP2015220130A (en) | 2015-12-07 |
JP6255305B2 JP6255305B2 (en) | 2017-12-27 |
Family
ID=54779340
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2014103449A Expired - Fee Related JP6255305B2 (en) | 2014-05-19 | 2014-05-19 | Optical microscope |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP6255305B2 (en) |
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