JP2015204410A - Metal base printed wiring board and method for manufacturing the same - Google Patents
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Abstract
Description
本発明は、金属ベースプリント配線板及びその製造方法に関するものである。 The present invention relates to a metal-based printed wiring board and a method for manufacturing the same.
近年、半導体素子であるLED(Light Emitting Diode)ランプは、さまざまな分野で使用されており、10mAから1A以上で駆動させるものまで、幅広い用途で用いられている。低電流駆動のものはインジケータや表示器などに使用され、大電流駆動のものは主に照明器具などの光源として使用されている。LEDランプは使用条件(実装基板、実装密度、環境温度など)により高温での動作が必要になる場合もあり、特に大電力タイプのLEDランプに関してはLEDランプ単体の発熱が大きいため、熱の影響が大きくなる。そのためLEDランプの性能を充分に引き出すためには、LEDランプの放熱設計が必須となる。 2. Description of the Related Art In recent years, LED (Light Emitting Diode) lamps, which are semiconductor elements, have been used in various fields, and are used in a wide range of applications from 10 mA to 1 A or more. Those driven at a low current are used for indicators and displays, and those driven at a high current are mainly used as a light source for lighting fixtures. The LED lamp may need to operate at a high temperature depending on the usage conditions (mounting board, mounting density, environmental temperature, etc.). Especially for high-power type LED lamps, the LED lamp alone generates a large amount of heat, so the influence of heat. Becomes larger. Therefore, in order to fully draw out the performance of the LED lamp, the heat dissipation design of the LED lamp is essential.
放熱設計技術の1つとして、基板と、前記基板上に形成された熱伝導性に優れるダイヤモンドライクカーボン(以下、「DLC」という。)膜と、前記DLC膜上に形成され、前記DLC膜の膜厚よりも薄い薄膜と、半導体素子を有し、前記薄膜上に接合された半導体薄膜とを備えたことを特徴とする光プリントヘッドが提案されている(例えば、特許文献1参照。) As one of the heat radiation design techniques, a substrate, a diamond-like carbon (hereinafter referred to as “DLC”) film having excellent thermal conductivity formed on the substrate, a DLC film formed on the DLC film, There has been proposed an optical print head comprising a thin film thinner than a film thickness and a semiconductor thin film having a semiconductor element and bonded onto the thin film (see, for example, Patent Document 1).
上記の光プリントヘッドは、基板の上に設けたDLC膜上に、分極性が高い薄膜を形成して半導体薄膜を接合するようにしており、対向する半導体薄膜の表面と分極性が高い薄膜の表面との間に分子間力(特に、ファンデルワールス力または水素結合力)による引力が働き、高い接合強度が得られるものがある。しかし、分子間力を発現させるためには、DLC膜上の分極性が高い薄膜と半導体膜の両材料間を極めて近くまで接近させる必要があり、そのためには両材料の表面の凹凸を無くし平坦な表面を形成する技術が必要となるため、基材の形状に制約を受ける点と、平坦な表面を形成できる材料に制限される点で汎用性が乏しいという欠点があった。 In the above optical print head, a thin film having high polarizability is formed on a DLC film provided on a substrate so that the semiconductor thin film is bonded to the surface of the opposing semiconductor thin film. There are some which have an attractive force due to intermolecular force (particularly van der Waals force or hydrogen bonding force) between the surface and high bonding strength. However, in order to develop the intermolecular force, it is necessary to bring the materials of the highly polarizable thin film on the DLC film and the semiconductor film close to each other very closely. Since a technique for forming a smooth surface is required, there is a drawback that versatility is poor in that it is restricted by the shape of the base material and is limited to a material that can form a flat surface.
本発明が解決しようとする課題は、放熱性に優れ、LEDランプ等の発熱する半導体素子を実装する基板として種々の用途に用いることができる配線を有した金属ベースプリント配線板を提供することである。さらには、前記金属ベースプリント配線板の製造方法を提供することである。 The problem to be solved by the present invention is to provide a metal-based printed wiring board having wiring that is excellent in heat dissipation and can be used for various applications as a substrate for mounting a heat-generating semiconductor element such as an LED lamp. is there. Furthermore, it is providing the manufacturing method of the said metal base printed wiring board.
本発明者らは、上記の課題を解決すべく鋭意研究した結果、DLC層が設けられた金属基材に、密着層として高分子層(A)を設け、その上にめっき下地層(B)として導電性インクで配線パターンの下地を形成し、そのめっき下地層(B)に金属めっきを施すことで金属配線を形成した金属ベースプリント配線板が、LEDランプ等の発熱する半導体素子を実装する基板として種々の用途に用いることができ、放熱性に優れることを見出し、本発明を完成した。 As a result of diligent research to solve the above problems, the present inventors have provided a polymer layer (A) as an adhesion layer on a metal substrate provided with a DLC layer, and a plating underlayer (B) thereon. A metal base printed wiring board in which a metal wiring is formed by forming a base of a wiring pattern with a conductive ink and applying a metal plating to the plating base layer (B) mounts a semiconductor element that generates heat such as an LED lamp. It was found that the substrate can be used in various applications and has excellent heat dissipation, and the present invention has been completed.
すなわち、本発明は、金属基材上にダイヤモンドライクカーボン層が設けられた基材のダイヤモンドライクカーボン層上に、高分子層(A)と、導電性インクを用いて形成しためっき下地層(B)と、金属めっき層(C)とを順次積層したことを特徴とする金属ベースプリント配線板及びその製造方法を提供するものである。 That is, the present invention relates to a polymer layer (A) and a plating base layer (B) formed using a conductive ink on a diamond-like carbon layer of a base material provided with a diamond-like carbon layer on a metal base material. And a metal plating layer (C) are sequentially laminated, and a metal base printed wiring board and a method for manufacturing the same are provided.
本発明の金属ベースプリント配線板は、放熱性に優れる金属基板上に、放熱性に優れる絶縁層としてDLC層が設けられた金属基材に対して、基材の表面が平坦ではなく凹凸がある場合においても密着性に優れる配線が形成できる。従って、例えば、LEDランプ等の発熱する半導体素子を実装する基板として、住宅用LED照明や自動車内装用LED照明、自動車ヘッドランプ用LEDランプ、屋外灯光用LEDランプ等に使用される金属ベースプリント配線板として用いることができる。また、表面実装型LED、多数のLEDチップを基板に直接実装した構造のチップオンボード型LEDに使用される金属ベースプリント配線板として好適に用いることができる。一方、本発明の金属ベースプリント配線板は、LEDランプ以外の用途にも用いることができ、例えば、産業用電子機器として、トランジスタおよびダイオードモジュール、ステッピングおよびサーボモーターなど、自動車電装として、電動パワーステアリングコントローラー、ハイブリッド電気自動車用DC−DCコンバーター、電源として、通信用電源、OA機器用電源、半導体各機器のAC−DCコンバンター、DC−DCコンバーター、家電機器として、オーディオ用アンプ、エアコン用インバーター等の金属ベースプリント配線板としても用いることができる。 The metal-based printed wiring board according to the present invention has a substrate surface that is not flat but uneven as compared to a metal substrate in which a DLC layer is provided as an insulating layer with excellent heat dissipation on a metal substrate with excellent heat dissipation. Even in this case, a wiring having excellent adhesion can be formed. Therefore, for example, as a substrate for mounting a semiconductor element that generates heat, such as an LED lamp, a metal-based printed wiring used for LED lighting for houses, LED lighting for automobile interiors, LED lamps for automobile headlamps, outdoor lamps, etc. It can be used as a plate. Further, it can be suitably used as a metal-based printed wiring board used in surface-mounted LEDs and chip-on-board LEDs having a structure in which a large number of LED chips are directly mounted on a substrate. On the other hand, the metal-based printed wiring board of the present invention can also be used for applications other than LED lamps. For example, as an electronic device for automobiles such as transistors and diode modules, steppings and servo motors as industrial electronic devices, electric power steering Controllers, DC-DC converters for hybrid electric vehicles, power supplies for communications, power supplies for OA equipment, AC-DC converters for semiconductor devices, DC-DC converters, household appliances such as audio amplifiers, inverters for air conditioners, etc. It can also be used as a metal-based printed wiring board.
本発明の金属ベースプリント配線板は、金属基材上にダイヤモンドライクカーボン層が設けられた基材のダイヤモンドライクカーボン層上に、高分子層(A)と、導電性インクを用いて形成しためっき下地層(B)と、金属めっき層(C)とを順次積層したものである。 The metal-based printed wiring board of the present invention is a plating formed using a polymer layer (A) and a conductive ink on a diamond-like carbon layer of a base material provided with a diamond-like carbon layer on a metal base material. A base layer (B) and a metal plating layer (C) are sequentially laminated.
前記金属基材としては、本発明の金属ベースプリント配線板が、折り曲げ可能な柔軟性を求められる用途に用いられる場合、柔軟でフレキシブルな金属薄膜を用いることが好ましい。具体的には、シート状の金属を用いることが好ましい。 As the metal substrate, when the metal base printed wiring board of the present invention is used for an application where bending flexibility is required, it is preferable to use a flexible and flexible metal thin film. Specifically, it is preferable to use a sheet-like metal.
前記金属基材の形状がフィルム状またはシート状の場合、フィルム状またはシート状の基材の厚さは、通常、1〜5,000μm程度であることが好ましく、1〜300μm程度の厚さであることがより好ましい。また、本発明の金属ベースプリント配線板を屈曲性が求められるものに用いる場合には、前記金属基材として、1〜200μm程度の厚さのフィルム状のものを用いることが好ましい。 When the shape of the metal substrate is a film or sheet, the thickness of the film or sheet is usually preferably about 1 to 5,000 μm, and about 1 to 300 μm. More preferably. Moreover, when using the metal base printed wiring board of this invention for the thing by which a flexibility is calculated | required, it is preferable to use the film-form thing of thickness about 1-200 micrometers as said metal base material.
また、前記金属基材は、後述する配線や、配線の下地となるめっき下地層(B)や、さらにその下部に密着性を付与するために設ける高分子層(A)との密着性を向上するため、必要に応じて、その表面を水や有機溶剤、界面活性剤等で洗浄処理、機械研磨や化学エッチング等による表面の凹凸化処理、シランカップリング剤等による前処理等により処理をしたものを用いることができる。 In addition, the metal base material has improved adhesion to the wiring described later, the plating base layer (B) that is the base of the wiring, and the polymer layer (A) provided to provide adhesion to the lower part of the metal base material. Therefore, as necessary, the surface was treated by washing with water, organic solvent, surfactant, etc., surface roughening by mechanical polishing, chemical etching, etc., pretreatment with silane coupling agent, etc. Things can be used.
本発明では、前記金属基材上に絶縁層としてDLC層を設ける。DLC層は、金属基材に対し、固体の炭素からスパッタリングや陰極アーク放電を利用して成膜する方法(PVD法)、メタン、エチレン、ベンゼン等の炭化水素系ガスをプラズマ化して成膜する方法(CVD法)、またはこれらのプロセスを組み合わせた方法で形成することができる。 In the present invention, a DLC layer is provided as an insulating layer on the metal substrate. The DLC layer is formed on a metal substrate by forming a film from solid carbon using sputtering or cathodic arc discharge (PVD method), or by converting a hydrocarbon gas such as methane, ethylene, or benzene into plasma. It can be formed by a method (CVD method) or a method combining these processes.
前記DLC層は、本発明の金属ベースプリント配線板の絶縁層として機能させるため、その膜厚は、0.05〜10μmの範囲であることが好ましい。さらに、前記DLC層の膜厚は、放熱性に優れる点から、0.05〜3μmの範囲であることがより好ましい。 Since the DLC layer functions as an insulating layer of the metal base printed wiring board of the present invention, the film thickness is preferably in the range of 0.05 to 10 μm. Furthermore, the film thickness of the DLC layer is more preferably in the range of 0.05 to 3 μm from the viewpoint of excellent heat dissipation.
また、前記DLC層の表面は、後述する高分子層(A)との密着性をより向上するため、例えば、コロナ放電処理法等のプラズマ放電処理法;紫外線処理法等の乾式処理法;水、酸性またはアルカリ性薬液、有機溶剤等を用いた湿式処理法によって、表面処理されていてもよい。 The surface of the DLC layer is further improved in adhesion with the polymer layer (A) described later, for example, a plasma discharge treatment method such as a corona discharge treatment method; a dry treatment method such as an ultraviolet treatment method; water Surface treatment may be performed by a wet treatment method using an acidic or alkaline chemical solution, an organic solvent, or the like.
次に、本発明では、前記DLC層上に後述する配線との密着性を付与するために高分子層(A)が設ける。高分子層(A)を形成する高分子としては、例えば、ウレタン樹脂、、ビニル樹脂、アクリル樹脂、ウレタン−アクリル複合樹脂、エポキシ樹脂、イミド樹脂、アミド樹脂、メラミン樹脂、フェノール樹脂、ポリビニルアルコール、ポリビニルピロリドン等の各種樹脂が挙げられる。 Next, in the present invention, a polymer layer (A) is provided on the DLC layer in order to provide adhesion to the wiring described later. Examples of the polymer forming the polymer layer (A) include urethane resin, vinyl resin, acrylic resin, urethane-acrylic composite resin, epoxy resin, imide resin, amide resin, melamine resin, phenol resin, polyvinyl alcohol, Various resins such as polyvinylpyrrolidone can be mentioned.
前記高分子として用いる樹脂の中でも、ウレタン樹脂、アクリル樹脂、ウレタン−アクリル複合樹脂が好ましく、ポリエーテル構造を有するウレタン樹脂、ポリカーボネート構造を有するウレタン樹脂、ポリエステル構造を有するウレタン樹脂、アクリル樹脂、及び、ウレタン−アクリル複合樹脂からなる群より選ばれる1種以上の樹脂がより好ましい。また、ウレタン−アクリル複合樹脂は、密着性、導電性に優れた配線パターンが得られるのでさらに好ましい。 Among the resins used as the polymer, urethane resin, acrylic resin, urethane-acrylic composite resin are preferable, urethane resin having polyether structure, urethane resin having polycarbonate structure, urethane resin having polyester structure, acrylic resin, and One or more resins selected from the group consisting of urethane-acrylic composite resins are more preferable. A urethane-acrylic composite resin is more preferable because a wiring pattern having excellent adhesion and conductivity can be obtained.
また、後述するめっき下地層(B)を形成するための導電性インク中に、反応性官能基[Y]を有する化合物(b1)を含有する場合、前記高分子層(A)を形成する高分子は、反応性官能基[Y]との反応性を有する官能基[X]を有する化合物(a1)であることが好ましい。前記反応性官能基[X]を有する化合物(a1)としては、例えば、アミノ基、アミド基、アルキロールアミド基、カルボキシル基、無水カルボキシル基、カルボニル基、アセトアセチル基、エポキシ基、脂環エポキシ基、オキセタン環、ビニル基、アリル基、(メタ)アクリロイル基、(ブロック化)イソシアネート基、(アルコキシ)シリル基等を有する化合物、シルセスキオキサン化合物などが挙げられる。 Moreover, when the conductive ink for forming the plating underlayer (B) described later contains the compound (b1) having a reactive functional group [Y], the high polymer layer (A) is formed. The molecule is preferably a compound (a1) having a functional group [X] having reactivity with the reactive functional group [Y]. Examples of the compound (a1) having the reactive functional group [X] include an amino group, an amide group, an alkylolamide group, a carboxyl group, an anhydrous carboxyl group, a carbonyl group, an acetoacetyl group, an epoxy group, and an alicyclic epoxy. Group, oxetane ring, vinyl group, allyl group, (meth) acryloyl group, (blocked) isocyanate group, (alkoxy) silyl group-containing compound, silsesquioxane compound and the like.
特に、後述するめっき下地層(B)を形成するための導電性インク中の前記反応性官能基[Y]を有する化合物(b1)が、後述する塩基性窒素原子含有基を有する化合物(b1)の場合、前記高分子層(A)を形成する高分子は、反応性官能基[X]として、カルボキシル基、カルボニル基、アセトアセチル基、エポキシ基、脂環エポキシ基、アルキロールアミド基、イソシアネート基、ビニル基、(メタ)アクリロイル基、アリル基であることが、最終的に得られる前記金属層と前記第二絶縁保護層との密着性を向上できるので好ましい。 In particular, the compound (b1) having the reactive functional group [Y] in the conductive ink for forming the plating underlayer (B) described later is a compound (b1) having a basic nitrogen atom-containing group described later. In this case, the polymer that forms the polymer layer (A) includes, as the reactive functional group [X], a carboxyl group, a carbonyl group, an acetoacetyl group, an epoxy group, an alicyclic epoxy group, an alkylolamide group, an isocyanate. Group, vinyl group, (meth) acryloyl group, and allyl group are preferable because adhesion between the finally obtained metal layer and the second insulating protective layer can be improved.
前記高分子層(A)は、前記DLC層上の全面に薄膜として設けられていてもよいが、金属基板の放熱性を最大限発揮させるという観点から、前記高分子層(A)は最終的に得られる配線パターンの下部に同じパターンとして設け、配線以外の部分はDLC層が露出していることが好ましく、言い換えると、前記高分子層(A)は、後述するめっき下地層(B)と同じパターンで形成することが好ましい。 The polymer layer (A) may be provided as a thin film on the entire surface of the DLC layer, but the polymer layer (A) is finally used from the viewpoint of maximizing the heat dissipation of the metal substrate. It is preferable that the DLC layer is exposed in the lower part of the wiring pattern obtained in the same manner, and that the part other than the wiring is exposed. In other words, the polymer layer (A) has a plating base layer (B) described later. It is preferable to form with the same pattern.
前記高分子層(A)を形成する高分子を前記DLC層の表面に塗布する際には、前記高分子を溶媒中に溶解又は分散したものを用いる。塗布する方法としては、例えば、グラビア方式、コーティング方式、スクリーン方式、ローラー方式、ロータリー方式、スプレー方式等が挙げられる。 When the polymer for forming the polymer layer (A) is applied to the surface of the DLC layer, the polymer is dissolved or dispersed in a solvent. Examples of the application method include a gravure method, a coating method, a screen method, a roller method, a rotary method, and a spray method.
前記高分子層(A)を、前記めっき下地層(B)と同じパターンで形成する方法としては、高分子層(A)を形成する高分子のインクを印刷してパターンを形成する方法が挙げられ、印刷方法としては、例えば、インクジェット印刷法、反転印刷法、フレキソ印刷法、スクリーン印刷法、グラビア印刷法、グラビアオフセット印刷法等が挙げられる。これらの印刷法の中でも、パターンの変更に容易に対応できるインクジェット印刷法が好ましい。 Examples of the method for forming the polymer layer (A) in the same pattern as the plating base layer (B) include a method of forming a pattern by printing a polymer ink for forming the polymer layer (A). Examples of the printing method include an inkjet printing method, a reverse printing method, a flexographic printing method, a screen printing method, a gravure printing method, and a gravure offset printing method. Among these printing methods, an inkjet printing method that can easily cope with a pattern change is preferable.
前記インクジェット印刷法には、一般にインクジェットプリンターといわれるものを用いることができる。インクジェットプリンターの具体例としては、例えば、「コニカミノルタEB100、XY100」(コニカミノルタIJ株式会社製)、「ダイマティックス・マテリアルプリンターDMP−3000、DMP−2831」(富士フィルム株式会社製)等が挙げられる。 In the ink jet printing method, what is generally called an ink jet printer can be used. Specific examples of the ink jet printer include, for example, “Konica Minolta EB100, XY100” (manufactured by Konica Minolta IJ Co., Ltd.), “Dimatics Material Printer DMP-3000, DMP-2831” (manufactured by Fuji Film Co., Ltd.), and the like. Can be mentioned.
また、高精細な前記高分子層(A)のパターンを作製する場合には、細線の印刷精度に優れる反転印刷法が好ましい。 Moreover, when producing a high-definition pattern of the polymer layer (A), a reverse printing method that is excellent in fine line printing accuracy is preferable.
反転印刷法としては、凸版反転印刷法、凹版反転印刷法が知られており、例えば、各種ブランケットの表面に前記導電性インクを塗布し、非画線部が突出した版と接触させ、前記非画線部に対応する導電性インクを前記版の表面に選択的に転写することによって、前記ブランケット等の表面に前記パターンを形成し、次いで、前記パターンを、前記第二絶縁保護層の上(表面)に転写する方法が挙げられる。 As the reversal printing method, a letterpress reversal printing method and an intaglio reversal printing method are known.For example, the conductive ink is applied to the surface of various blankets, and is brought into contact with a plate from which a non-image portion protrudes. The pattern is formed on the surface of the blanket or the like by selectively transferring the conductive ink corresponding to the image area to the surface of the plate, and then the pattern is formed on the second insulating protective layer ( And a method of transferring to the surface).
前記高分子層(A)を形成する高分子を前記DLC層の表面に塗布または印刷した後、その塗布層に含まれる溶媒を除去する方法としては、例えば、乾燥機を用いて乾燥させ、前記溶媒を揮発させる方法が一般的である。乾燥温度としては、前記溶媒を揮発させることが可能で、かつ支持体である前記金属基材や前記DLC層に悪影響を与えない範囲の温度に設定することが好ましい。 As a method of removing the solvent contained in the coating layer after coating or printing the polymer forming the polymer layer (A) on the surface of the DLC layer, for example, drying using a dryer, A method of volatilizing the solvent is common. The drying temperature is preferably set to a temperature within which the solvent can be volatilized and does not adversely affect the metal substrate or the DLC layer as a support.
前記高分子を用いて形成する高分子層(A)の厚さは、前記DLC層と後述するめっき下地層(B)との密着性をより向上できることから、5〜5,000nmの範囲が好ましく、最終的に得られる配線の放熱性に優れる点から、10〜200nmの範囲がより好ましい。 The thickness of the polymer layer (A) formed using the polymer is preferably in the range of 5 to 5,000 nm because the adhesion between the DLC layer and the plating underlayer (B) described later can be further improved. The range of 10 to 200 nm is more preferable from the viewpoint of excellent heat dissipation of the finally obtained wiring.
次に、本発明では、配線パターンを形成するために導電性インクを用いて形成しためっき下地層(B)を用いる。導電性インクは、めっき層の下地としてパターンを作製するために使用されるが、その上に形成する金属めっき層との密着性や、金属めっき時のめっき析出性に優れることから、導電性物質(b2)として金属ナノ粒子を含有するものが好ましい。さらに、前記金属ナノ粒子は、前記高分子層(A)との密着性に優れることから、高分子分散剤により分散された金属ナノ粒子であることが好ましい。 Next, in this invention, in order to form a wiring pattern, the plating base layer (B) formed using the conductive ink is used. Conductive ink is used to create a pattern as the base of the plating layer, but it has excellent adhesion to the metal plating layer formed on it and plating deposition during metal plating. (B2) is preferably one containing metal nanoparticles. Furthermore, since the said metal nanoparticle is excellent in adhesiveness with the said polymer layer (A), it is preferable that it is the metal nanoparticle disperse | distributed with the polymer dispersing agent.
前記高分子分散剤は、金属ナノ粒子に配位する官能基を有する高分子が好ましい。前記官能基としては、例えば、カルボキシル基、アミノ基、シアノ基、アセトアセチル基、リン原子含有基、チオール基、チオシアナト基、グリシナト基等が挙げられる。 The polymer dispersant is preferably a polymer having a functional group that coordinates to metal nanoparticles. Examples of the functional group include a carboxyl group, an amino group, a cyano group, an acetoacetyl group, a phosphorus atom-containing group, a thiol group, a thiocyanato group, and a glycinato group.
前記金属ナノ粒子としては、遷移金属またはその化合物が挙げられ、前記遷移金属の中でもイオン性の遷移金属が好ましい。前記イオン性の遷移金属としては、例えば、銅、銀、金、ニッケル、パラジウム、白金、コバルト等の金属やこれら金属の複合体が挙げられる。これらの金属ナノ粒子は、1種で用いることも2種以上併用することもできる。また、これらの金属ナノ粒子の中でも、特に酸化劣化などの取り扱い上の問題点が少ないことやコストの面から、銀ナノ粒子が好ましい。 Examples of the metal nanoparticles include transition metals or compounds thereof, and ionic transition metals are preferable among the transition metals. Examples of the ionic transition metal include metals such as copper, silver, gold, nickel, palladium, platinum, and cobalt, and composites of these metals. These metal nanoparticles can be used alone or in combination of two or more. Among these metal nanoparticles, silver nanoparticles are preferable from the viewpoints of handling problems such as oxidative degradation and cost.
また、前記導電性インクに含まれる導電性物質(b2)は、金属ナノ粒子に代えて、めっき核剤を用いることもできる。その場合には、前記遷移金属の酸化物、有機物によって表面被覆された金属等を用いることができる。これらのめっき核剤は、1種で用いることも2種以上併用することもできる。 Moreover, the electroconductive substance (b2) contained in the said electroconductive ink can replace with a metal nanoparticle, and can also use a plating nucleating agent. In that case, an oxide of the transition metal, a metal whose surface is coated with an organic substance, or the like can be used. These plating nucleating agents can be used alone or in combination of two or more.
前記遷移金属の酸化物は、通常、不活性(絶縁)な状態であるが、例えば、ジメチルアミノボラン等の還元剤を用いて処理することによって金属を露出させ、活性(導電性)を付与することができる。 The transition metal oxide is usually in an inactive (insulating) state. For example, the metal is exposed by treatment with a reducing agent such as dimethylaminoborane to impart activity (conductivity). be able to.
また、前記有機物によって表面被覆された金属としては、乳化重合法等によって形成した樹脂粒子(有機物)中に金属を内在させたものが挙げられる。これらは、通常、不活性(絶縁)な状態であるが、例えば、レーザー等を用いて前記有機物を除去することによって、金属を露出させ、活性(導電性)を付与することできる。 In addition, examples of the metal whose surface is coated with the organic substance include those in which a metal is contained in resin particles (organic substance) formed by an emulsion polymerization method or the like. These are usually in an inactive (insulating) state. However, for example, by removing the organic substance using a laser or the like, the metal can be exposed to impart activity (conductivity).
前記導電性物質(b2)としては、1〜100nm程度の平均粒子径を有する粒子状のものを用いることが好ましく、1〜50nmの平均粒子径を有するものを用いることが、マイクロメートルオーダーの平均粒子径を有する導電性物質を用いる場合と比較して、微細な導電性パターンが形成でき、後述する焼成後の抵抗値をより低下できることからより好ましい。なお、本発明において、平均粒子径は、前記導電性物質(b2)を分散良溶媒にて希釈し、動的光散乱法により測定した体積平均値である。この測定にはマイクロトラック社製「ナノトラックUPA」を用いることができる。 As the conductive substance (b2), a particulate material having an average particle diameter of about 1 to 100 nm is preferably used, and an average particle diameter of 1 to 50 nm is preferably used. Compared to the case where a conductive substance having a particle size is used, it is more preferable because a fine conductive pattern can be formed and the resistance value after firing described later can be further reduced. In the present invention, the average particle diameter is a volume average value measured by a dynamic light scattering method after diluting the conductive substance (b2) with a dispersion good solvent. For this measurement, “Nanotrack UPA” manufactured by Microtrack Corporation can be used.
前記高分子層(A)が、前記反応性官能基[X]を有する高分子である場合には、前記めっき下地層(B)を形成する導電性インクとしては、高分子層(A)とめっき下地層(B)との密着性をさらに向上させるため、反応性官能基[Y]を有する化合物(b1)及び前記導電性物質(b2)を含有するものが好ましい。 When the polymer layer (A) is a polymer having the reactive functional group [X], the conductive ink for forming the plating base layer (B) includes the polymer layer (A) and In order to further improve the adhesion with the plating underlayer (B), those containing the compound (b1) having a reactive functional group [Y] and the conductive substance (b2) are preferable.
前記化合物(b1)が有する反応性官能基[Y]は、前記反応性官能基[X]との結合に関与するものであり、具体例としては、アミノ基、アミド基、アルキロールアミド基、カルボキシル基、無水カルボキシル基、カルボニル基、アセトアセチル基、エポキシ基、脂環エポキシ基、オキセタン環、ビニル基、アリル基、(メタ)アクリロイル基、(ブロック化)イソシアネート基、(アルコキシ)シリル基等を有する化合物、シルセスキオキサン化合物等が挙げられる。 The reactive functional group [Y] possessed by the compound (b1) is involved in bonding with the reactive functional group [X]. Specific examples include an amino group, an amide group, an alkylolamide group, Carboxyl group, anhydrous carboxyl group, carbonyl group, acetoacetyl group, epoxy group, alicyclic epoxy group, oxetane ring, vinyl group, allyl group, (meth) acryloyl group, (blocked) isocyanate group, (alkoxy) silyl group, etc. The compound which has these, a silsesquioxane compound, etc. are mentioned.
特に、前記高分子層(A)との密着性をより向上させるため、前記反応性官能基[Y]が塩基性窒素原子含有基であることが好ましい。 In particular, in order to further improve the adhesion to the polymer layer (A), the reactive functional group [Y] is preferably a basic nitrogen atom-containing group.
前記塩基性窒素原子含有基を有する化合物中の塩基性窒素原子含有基としては、例えばイミノ基、1級アミノ基、2級アミノ基等が挙げられる。 Examples of the basic nitrogen atom-containing group in the compound having a basic nitrogen atom-containing group include an imino group, a primary amino group, and a secondary amino group.
また、1分子中に複数の塩基性窒素原子含有基を有する化合物(b1)を用いることで、前記塩基性窒素原子含有基の一方は、前記めっき下地層(B)のパターンを形成した際に、前記高分子層(A)を形成する高分子が有する前記反応性官能基[X]との結合に関与し、他方は、前記めっき下地層(B)中に含まれる銀等の前記導電性物質(b2)との相互作用に寄与し、最終的に得られる後述の金属めっき層と前記DLC層との密着性をさらに向上できるため好ましい。 Further, by using the compound (b1) having a plurality of basic nitrogen atom-containing groups in one molecule, one of the basic nitrogen atom-containing groups is formed when the pattern of the plating base layer (B) is formed. , Involved in the binding with the reactive functional group [X] of the polymer forming the polymer layer (A), the other being the conductive material such as silver contained in the plating base layer (B) This is preferable because it contributes to the interaction with the substance (b2) and can further improve the adhesion between the metal plating layer to be finally obtained and the DLC layer.
前記塩基性窒素原子含有基を有する化合物(b1)は、前記導電性物質(b2)の分散安定性、及び後述する第二絶縁保護層との密着性をより向上できることから、ポリアルキレンイミン、または、オキシエチレン単位を含むポリオキシアルキレン構造を有するポリアルキレンイミンが好ましい。 Since the compound (b1) having a basic nitrogen atom-containing group can further improve the dispersion stability of the conductive substance (b2) and the adhesion to the second insulating protective layer described later, the polyalkyleneimine, or A polyalkyleneimine having a polyoxyalkylene structure containing an oxyethylene unit is preferred.
前記を有するポリアルキレンイミンとしては、ポリエチレンイミンとポリオキシアルキレンとが、直鎖状の結合したものであってもよく、前記ポリエチレンイミンからなる主鎖に対して、その側鎖に前記ポリオキシアルキレンがグラフトしたものであってもよい。 The polyalkyleneimine having the above may be a linear bond of polyethyleneimine and polyoxyalkylene, and the polyoxyalkylene is present in the side chain of the main chain composed of polyethyleneimine. May be grafted.
前記ポリオキシアルキレン構造を有するポリアルキレンイミンの具体例としては、ポリエチレンイミンとポリオキシエチレンとのブロック共重合体、ポリエチレンイミンの主鎖中に存在するイミノ基の一部にエチレンオキサイドを付加反応させてポリオキシエチレン構造を導入したもの、ポリアルキレンイミンが有するアミノ基と、ポリオキシエチレングリコールが有する水酸基と、エポキシ樹脂が有するエポキシ基とを反応させたもの等が挙げられる。 Specific examples of the polyalkyleneimine having the polyoxyalkylene structure include a block copolymer of polyethyleneimine and polyoxyethylene, and an addition reaction of ethylene oxide with a part of imino group present in the main chain of polyethyleneimine. Examples thereof include those obtained by introducing a polyoxyethylene structure, those obtained by reacting an amino group possessed by polyalkyleneimine, a hydroxyl group possessed by polyoxyethylene glycol, and an epoxy group possessed by an epoxy resin.
前記ポリアルキレンイミンの市販品としては、株式会社日本触媒製の「エポミン(登録商標)PAOシリーズ」の「PAO2006W」、「PAO306」、「PAO318」、「PAO718」等が挙げられる。 Examples of the commercially available polyalkyleneimine include “PAO2006W”, “PAO306”, “PAO318”, “PAO718” and the like of “Epomin (registered trademark) PAO series” manufactured by Nippon Shokubai Co., Ltd.
前記ポリアルキレンイミンの数平均分子量は、3,000〜30,000の範囲が好ましい。 The number average molecular weight of the polyalkyleneimine is preferably in the range of 3,000 to 30,000.
前記化合物(b1)が有する反応性官能基[Y]が、カルボキシル基、アミノ基、シアノ基、アセトアセチル基、リン原子含有基、チオール基、チオシアナト基、グリシナト基等である場合は、これらの官能基は金属ナノ粒子と配位する官能基としても機能するため、前記化合物(b1)は金属ナノ粒子の高分子分散剤としても用いることができる。 When the reactive functional group [Y] of the compound (b1) is a carboxyl group, an amino group, a cyano group, an acetoacetyl group, a phosphorus atom-containing group, a thiol group, a thiocyanato group, a glycinato group, or the like, Since the functional group also functions as a functional group that coordinates with the metal nanoparticles, the compound (b1) can also be used as a polymer dispersant for the metal nanoparticles.
前記導電性インクは、後述する各種印刷方式での印刷適性を付与するため、溶媒を用いて適正な粘度にすることが好ましい。前記溶媒としては、例えば、蒸留水、イオン交換水、純水、超純水等の水性媒体;アルコール溶剤、エーテル溶剤、ケトン溶剤、エステル溶剤等の有機溶剤が挙げられる。 The conductive ink preferably has an appropriate viscosity using a solvent in order to impart printability in various printing methods described later. Examples of the solvent include aqueous media such as distilled water, ion-exchanged water, pure water, and ultrapure water; and organic solvents such as alcohol solvents, ether solvents, ketone solvents, and ester solvents.
前記アルコール溶剤またはエーテル溶剤としては、例えば、メタノール、エタノール、n−プロパノール、イソプロピルアルコール、n−ブタノール、イソブチルアルコール、sec−ブタノール、tert−ブタノール、ヘプタノール、ヘキサノール、オクタノール、ノナノール、デカノール、ウンデカノール、ドデカノール、トリデカノール、テトラデカノール、ペンタデカノール、ステアリルアルコール、アリルアルコール、シクロヘキサノール、テルピネオール、ターピネオール、ジヒドロターピネオール、2−エチル−1,3−ヘキサンジオール、エチレングリコール、ジエチレングリコール、トリエチレングリコール、ポリエチレングリコール、プロピレングリコール、ジプロピレングリコール、1,2−ブタンジオール、1,3−ブタンジオール、1,4−ブタンジオール、2,3−ブタンジオール、グリセリン、エチレングリコールモノメチルエーテル、エチレングリコールモノエチルエーテル、エチレングリコールモノブチルエーテル、ジエチレングリコールモノエチルエーテル、ジエチレングリコールモノメチルエーテル、ジエチレングリコールモノブチルエーテル、テトラエチレングリコールモノブチルエーテル、プロピレングリコールモノメチルエーテル、ジプロピレングリコールモノメチルエーテル、トリプロピレングリコールモノメチルエーテル、プロピレングリコールモノプロピルエーテル、ジプロピレングリコールモノプロピルエーテル、プロピレングリコールモノブチルエーテル、ジプロピレングリコールモノブチルエーテル、トリプロピレングリコールモノブチルエーテル等が挙げられる。 Examples of the alcohol solvent or ether solvent include methanol, ethanol, n-propanol, isopropyl alcohol, n-butanol, isobutyl alcohol, sec-butanol, tert-butanol, heptanol, hexanol, octanol, nonanol, decanol, undecanol, and dodecanol. , Tridecanol, tetradecanol, pentadecanol, stearyl alcohol, allyl alcohol, cyclohexanol, terpineol, terpineol, dihydroterpineol, 2-ethyl-1,3-hexanediol, ethylene glycol, diethylene glycol, triethylene glycol, polyethylene glycol, Propylene glycol, dipropylene glycol, 1,2-butanediol, 1, -Butanediol, 1,4-butanediol, 2,3-butanediol, glycerin, ethylene glycol monomethyl ether, ethylene glycol monoethyl ether, ethylene glycol monobutyl ether, diethylene glycol monoethyl ether, diethylene glycol monomethyl ether, diethylene glycol monobutyl ether, tetra Ethylene glycol monobutyl ether, propylene glycol monomethyl ether, dipropylene glycol monomethyl ether, tripropylene glycol monomethyl ether, propylene glycol monopropyl ether, dipropylene glycol monopropyl ether, propylene glycol monobutyl ether, dipropylene glycol monobutyl ether, tripropylene Recall mono-butyl ether, and the like.
前記ケトン溶剤としては、例えば、アセトン、シクロヘキサノン、メチルエチルケトン等が挙げられる。また、前記エステル溶剤としては、例えば、酢酸エチル、酢酸ブチル、3―メトキシブチルアセテート、3−メトキシ−3−メチル−ブチルアセテート等が挙げられる。さらに、その他の有機溶剤として、トルエン等の炭化水素溶剤、特に炭素原子数8以上の炭化水素溶剤が挙げられる。 Examples of the ketone solvent include acetone, cyclohexanone, methyl ethyl ketone, and the like. Examples of the ester solvent include ethyl acetate, butyl acetate, 3-methoxybutyl acetate, 3-methoxy-3-methyl-butyl acetate and the like. Furthermore, other organic solvents include hydrocarbon solvents such as toluene, particularly hydrocarbon solvents having 8 or more carbon atoms.
前記炭素原子数8以上の炭化水素溶剤としては、例えば、オクタン、ノナン、デカン、ドデカン、トリデカン、テトラデカン、シクロオクタン、キシレン、メシチレン、エチルベンゼン、ドデシルベンゼン、テトラリン、トリメチルベンゼンシクロヘキサン等の非極性溶剤が挙げられ、他の溶媒と必要に応じて組み合わせて用いることができる。さらに、混合溶剤であるミネラルスピリット、ソルベントナフサ等の溶媒を併用することもできる。 Examples of the hydrocarbon solvent having 8 or more carbon atoms include nonpolar solvents such as octane, nonane, decane, dodecane, tridecane, tetradecane, cyclooctane, xylene, mesitylene, ethylbenzene, dodecylbenzene, tetralin, and trimethylbenzenecyclohexane. Can be used in combination with other solvents as necessary. Furthermore, a solvent such as mineral spirit or solvent naphtha, which is a mixed solvent, can be used in combination.
前記導電性インクは、例えば、前記高分子分散剤と、前記導電性物質と、必要に応じて前記溶媒とを混合することによって製造することができる。具体的には、ポリアルキレンイミン鎖と、親水性セグメントと、疎水性セグメントとを有する化合物を分散した媒体中に、予め調製した前記導電性物質のイオン溶液を加え、該金属イオンを還元することによって製造することができる。 The conductive ink can be produced, for example, by mixing the polymer dispersant, the conductive substance, and, if necessary, the solvent. Specifically, an ion solution of the conductive substance prepared in advance is added to a medium in which a compound having a polyalkyleneimine chain, a hydrophilic segment, and a hydrophobic segment is dispersed, and the metal ions are reduced. Can be manufactured by.
また、前記導電性インクには、水性媒体、有機溶剤等の溶媒中における導電性物質の分散安定性、被塗布面への濡れ性を向上するために、必要に応じて、界面活性剤、消泡剤、レオロジー調整剤等を加えてもよい。 In addition, the conductive ink may contain a surfactant, an erasing agent, or the like, if necessary, in order to improve the dispersion stability of the conductive substance in a solvent such as an aqueous medium or an organic solvent and the wettability to the coated surface. Foaming agents, rheology modifiers, etc. may be added.
本発明では前記高分子層(A)の上に前記導電性インクを印刷してめっき下地層(B)からなるパターンを形成するが、前記導電性インクを印刷する方法としては、例えば、インクジェット印刷法、反転印刷法、フレキソ印刷法、スクリーン印刷法、グラビア印刷法、グラビアオフセット印刷法等が挙げられる。これらの印刷法の中でも、パターンの変更に容易に対応できるインクジェット印刷法が好ましい。 In the present invention, the conductive ink is printed on the polymer layer (A) to form a pattern comprising the plating base layer (B). As a method for printing the conductive ink, for example, inkjet printing is used. Method, reverse printing method, flexographic printing method, screen printing method, gravure printing method, gravure offset printing method and the like. Among these printing methods, an inkjet printing method that can easily cope with a pattern change is preferable.
前記インクジェット印刷法には、一般にインクジェットプリンターといわれるものを用いることができる。具体的には、「コニカミノルタEB100、XY100」(コニカミノルタIJ株式会社製)、「ダイマティックス・マテリアルプリンターDMP−3000、DMP−2831」(富士フィルム株式会社製)等が挙げられる。 In the ink jet printing method, what is generally called an ink jet printer can be used. Specifically, “Konica Minolta EB100, XY100” (manufactured by Konica Minolta IJ Co., Ltd.), “Dimatics Material Printer DMP-3000, DMP-2831” (manufactured by Fuji Film Co., Ltd.) and the like can be mentioned.
また、高精細な金属層のパターンを作製する場合には、細線の印刷精度に優れる反転印刷法が好ましい。 Further, in the case of producing a high-definition metal layer pattern, a reversal printing method excellent in fine line printing accuracy is preferable.
反転印刷法としては、凸版反転印刷法、凹版反転印刷法が知られており、例えば、各種ブランケットの表面に前記導電性インクを塗布し、非画線部が突出した版と接触させ、前記非画線部に対応する導電性インクを前記版の表面に選択的に転写させることによって、前記ブランケット等の表面に前記パターンを形成し、次いで、前記パターンを、前記第二絶縁保護層の上(表面)に転写させる方法が挙げられる。 As the reversal printing method, a letterpress reversal printing method and an intaglio reversal printing method are known.For example, the conductive ink is applied to the surface of various blankets, and is brought into contact with a plate from which a non-image portion protrudes. The pattern is formed on the surface of the blanket or the like by selectively transferring the conductive ink corresponding to the image area to the surface of the plate, and then the pattern is formed on the second insulating protective layer ( And a method of transferring to the surface).
次に、前記導電性インクで、めっき下地としてのパターンを形成するために前記導電性インクを塗布した後に行う焼成工程は、前記導電性インク中に含まれる導電性物質同士を密着し接合することで導電性を有するめっき下地パターンを形成するために行う。前記焼成は、80〜300℃の温度範囲で、1〜200分程度行うことが好ましい。ここで、前記第二絶縁保護層との密着性に優れためっき下地パターンを得るためには、前記焼成の温度を100〜200℃の範囲にすることがより好ましい。 Next, the baking step performed after applying the conductive ink to form a pattern as a plating base with the conductive ink is to adhere and bond the conductive substances contained in the conductive ink. In order to form a plating base pattern having conductivity. The firing is preferably performed at a temperature range of 80 to 300 ° C. for about 1 to 200 minutes. Here, in order to obtain a plating base pattern having excellent adhesion to the second insulating protective layer, it is more preferable to set the firing temperature in the range of 100 to 200 ° C.
前記焼成は大気中で行っても良いが、導電性物質のすべてが酸化することを防止するため、焼成工程の一部または全部を還元雰囲気下で行ってもよい。 Although the firing may be performed in the air, part or all of the firing step may be performed in a reducing atmosphere in order to prevent all of the conductive material from being oxidized.
また、前記焼成工程は、例えば、オーブン、熱風式乾燥炉、赤外線乾燥炉、レーザー照射、マイクロウェーブ、光照射(フラッシュ照射装置)等を用いて行うことができる。 Moreover, the said baking process can be performed using oven, a hot-air drying furnace, an infrared drying furnace, laser irradiation, a microwave, light irradiation (flash irradiation apparatus) etc., for example.
上記のような方法により、前記導電性インクを用いて形成された前記めっき下地層(B)からなるパターンは、前記パターン中に80〜99.9質量%の範囲で導電性物質を含有し、0.1〜20質量%の範囲で高分子分散剤を含有するものであることが好ましい。 The pattern consisting of the plating base layer (B) formed using the conductive ink by the method as described above contains a conductive substance in the range of 80 to 99.9% by mass in the pattern, It is preferable that the polymer dispersant is contained in the range of 0.1 to 20% by mass.
前記導電性インクを用いて形成しためっき下地層(B)厚さは、低抵抗で導電性に優れた導電性パターンを形成できることから、50〜2,000nmの範囲が好ましい。 The thickness of the plating base layer (B) formed using the conductive ink is preferably in the range of 50 to 2,000 nm because a conductive pattern having low resistance and excellent conductivity can be formed.
本発明の配線を構成する金属めっき層(C)の形成方法としては、例えば、電解めっき法、無電解めっき法等の湿式めっき法が挙げられ、これらのめっき法を2つ以上組み合わせてめっき層を形成してもよい。 Examples of the method for forming the metal plating layer (C) constituting the wiring of the present invention include wet plating methods such as an electrolytic plating method and an electroless plating method, and a plating layer obtained by combining two or more of these plating methods. May be formed.
前記めっき法の中でも、前記めっき下地層(B)のパターンと、前記めっき法で形成しためっき層との密着性がより向上し、また、導電性に優れたパターンが得られることから、電解めっき法、無電解めっき法等の湿式めっき法が好ましく、生産性や得られる金属膜の力学的特性に優れることから、電解めっき法がより好ましい。 Among the plating methods, since the adhesion between the pattern of the plating base layer (B) and the plating layer formed by the plating method is further improved, and a pattern having excellent conductivity is obtained, electrolytic plating is performed. A wet plating method such as an electroless plating method or an electroless plating method is preferable, and an electrolytic plating method is more preferable because of excellent productivity and mechanical properties of the obtained metal film.
前記無電解めっき法は、例えば、前記めっき下地層(B)のパターンを構成する導電性物質に、無電解めっき液を接触させることで、無電解めっき液中に含まれる銅金属を析出させ金属皮膜からなる無電解めっき層(被膜)を形成する方法である。 In the electroless plating method, for example, an electroless plating solution is brought into contact with a conductive material constituting the pattern of the plating base layer (B), thereby depositing copper metal contained in the electroless plating solution. This is a method of forming an electroless plating layer (film) comprising a film.
前記無電解めっき液としては、例えば、銅と、還元剤と、水性媒体、有機溶剤等の溶媒とを含有するものが挙げられる。 Examples of the electroless plating solution include those containing copper, a reducing agent, and a solvent such as an aqueous medium or an organic solvent.
前記還元剤としては、例えば、ジメチルアミノボラン、次亜燐酸、次亜燐酸ナトリウム、ジメチルアミンボラン、ヒドラジン、ホルムアルデヒド、水素化ホウ素ナトリウム、フェノール等が挙げられる。 Examples of the reducing agent include dimethylaminoborane, hypophosphorous acid, sodium hypophosphite, dimethylamine borane, hydrazine, formaldehyde, sodium borohydride, phenol and the like.
また、前記無電解めっき液としては、必要に応じて、酢酸、蟻酸等のモノカルボン酸;マロン酸、コハク酸、アジピン酸、マレイン酸、フマール酸等のジカルボン酸化合物;リンゴ酸、乳酸、グリコール酸、グルコン酸、クエン酸等のヒドロキシカルボン酸化合物;グリシン、アラニン、イミノジ酢酸、アルギニン、アスパラギン酸、グルタミン酸等のアミノ酸化合物;イミノジ酢酸、ニトリロトリ酢酸、エチレンジアミンジ酢酸、エチレンジアミンテトラ酢酸、ジエチレントリアミンペンタ酢酸等のアミノポリカルボン酸化合物などの有機酸、またはこれらの有機酸の可溶性塩(ナトリウム塩、カリウム塩、アンモニウム塩等)、エチレンジアミン、ジエチレントリアミン、トリエチレンテトラミン等のアミン化合物等の錯化剤を含有するものを用いることができる。 In addition, as the electroless plating solution, if necessary, monocarboxylic acids such as acetic acid and formic acid; dicarboxylic acid compounds such as malonic acid, succinic acid, adipic acid, maleic acid, and fumaric acid; malic acid, lactic acid, glycol Hydroxycarboxylic acid compounds such as acid, gluconic acid and citric acid; amino acid compounds such as glycine, alanine, iminodiacetic acid, arginine, aspartic acid and glutamic acid; iminodiacetic acid, nitrilotriacetic acid, ethylenediaminediacetic acid, ethylenediaminetetraacetic acid, diethylenetriaminepentaacetic acid, etc. Containing complexing agents such as organic acids such as aminopolycarboxylic acid compounds or soluble salts of these organic acids (sodium salts, potassium salts, ammonium salts, etc.), amine compounds such as ethylenediamine, diethylenetriamine, and triethylenetetramine. It can be used for.
前記無電解めっき液は、20〜98℃の範囲で用いることが好ましい。 The electroless plating solution is preferably used in the range of 20 to 98 ° C.
前記電解めっき法は、例えば、前記めっき下地層(B)を構成する金属、または、前記無電解処理によって形成された無電解めっき層(被膜)の表面に、電解めっき液を接触した状態で通電することにより、前記電解めっき液中に含まれる銅等の金属を、カソードに設置した前記めっき下地層(B)を構成する導電性物質または前記無電解処理によって形成された無電解めっき層(被膜)の表面に析出させ、電解めっき層(金属被膜)を形成する方法である。 In the electrolytic plating method, for example, the metal constituting the plating base layer (B) or the surface of the electroless plating layer (coating) formed by the electroless treatment is energized with an electrolytic plating solution in contact with the surface. Thus, a metal such as copper contained in the electrolytic plating solution is converted into a conductive material constituting the plating base layer (B) placed on the cathode or the electroless plating layer (coating film) formed by the electroless treatment. ) To form an electrolytic plating layer (metal coating).
前記電解めっき液としては、例えば、銅の硫化物と、硫酸と、水性媒体とを含有するもの等が挙げられる。具体的には、硫酸銅と硫酸と水性媒体とを含有するものが挙げられる。 Examples of the electrolytic plating solution include those containing copper sulfide, sulfuric acid, and an aqueous medium. Specifically, what contains copper sulfate, sulfuric acid, and an aqueous medium is mentioned.
前記電解めっき液は、20〜98℃の範囲で用いることが好ましい。 The electrolytic plating solution is preferably used in the range of 20 to 98 ° C.
前記めっき処理の方法は、毒性の高い物質を用いることなく、作業性がよいため、電解めっき法が好ましい。また、電解めっきは、無電解めっきと比較して、めっき時間が短縮でき、めっきの膜厚の制御が容易であることから好ましい。 As the plating method, an electroplating method is preferable because workability is good without using a highly toxic substance. Electrolytic plating is preferable because it can reduce the plating time and control the film thickness of the plating as compared with electroless plating.
前記めっき層は、めっき層の上にさらに別の金属のめっき層が積層されていてもよく、例えば、銅めっき層の上にニッケルめっき層や金めっき層、スズめっき層を設けると銅めっき層表面の酸化劣化や腐食が防止できる。 The plating layer may be formed by laminating another metal plating layer on the plating layer. For example, when a nickel plating layer, a gold plating layer, or a tin plating layer is provided on the copper plating layer, the copper plating layer is provided. Prevents oxidative deterioration and corrosion of the surface.
前記めっき法で形成した金属めっき層(C)の厚さは、導電層としての導電性に優れることから、0.2〜30μmの範囲が好ましい。また、電解めっき法によりめっき層を形成する場合、その層の厚さは、めっき処理工程における処理時間、電流密度、めっき用添加剤の使用量等を制御することによって調整することができる。 The thickness of the metal plating layer (C) formed by the plating method is preferably in the range of 0.2 to 30 μm because it is excellent in conductivity as a conductive layer. Moreover, when forming a plating layer by an electroplating method, the thickness of the layer can be adjusted by controlling the processing time in a plating process, a current density, the usage-amount of the additive for plating, etc.
前記めっき法で形成する金属めっき層(C)の金属種としては、銅、ニッケル、金、銀などが挙げられるが、配線の導電性やコストの点から、銅が主成分であることが好ましい。 Examples of the metal species of the metal plating layer (C) formed by the plating method include copper, nickel, gold, and silver. From the viewpoint of wiring conductivity and cost, copper is preferably the main component. .
次に、本発明の金属ベースプリント配線板の製造方法について述べる。製造方法としては、例えば、DLC層が形成された金属基材の上に、前記高分子を塗布または印刷し、乾燥して高分子層(A)を形成し、前記高分子層(A)上に金属ナノ粒子を含有する導電性インクを印刷し、乾燥してめっき下地層(B)のパターンを形成し、前記めっき下地層(B)のパターン上に、電解めっきまたは無電解めっきを行って金属めっき層(C)を形成する方法が挙げられる。 Next, the manufacturing method of the metal base printed wiring board of this invention is described. As a manufacturing method, for example, the polymer is applied or printed on a metal substrate on which a DLC layer is formed, and dried to form a polymer layer (A). A conductive ink containing metal nanoparticles is printed on the substrate, dried to form a pattern of the plating base layer (B), and electrolytic plating or electroless plating is performed on the pattern of the plating base layer (B). The method of forming a metal plating layer (C) is mentioned.
前記DLC層の上に前記高分子層(A)を形成する方法としては、高分子を塗布または印刷する方法や、乾燥する方法は、上記で例示した方法で実施することができ、必要に応じて高分子を加熱硬化、紫外線で硬化させて高分子層(A)を形成することができる。 As a method of forming the polymer layer (A) on the DLC layer, a method of applying or printing a polymer and a method of drying can be carried out by the methods exemplified above. Then, the polymer layer can be formed by heating and curing the polymer with ultraviolet rays.
次に、前記高分子層(A)の上に、前記めっき下地層(B)を形成する方法は、金属ナノ粒子を含有する導電性インクを印刷してパターンを形成し、このパターンを上記で例示した方法で焼成することでめっき下地層(B)を形成することができる。 Next, the method for forming the plating base layer (B) on the polymer layer (A) is to form a pattern by printing a conductive ink containing metal nanoparticles, A plating base layer (B) can be formed by baking by the exemplified method.
次に、めっき下地層(B)のパターン上に、電解めっきまたは無電解めっきにより金属めっき層(C)を形成する方法は、前述で例示した湿式めっき法で実施することができ、特に、電解銅めっき法を用いることが、生産性や得られる金属膜の力学的特性、コスト面で優れることから好ましい。 Next, the method for forming the metal plating layer (C) on the pattern of the plating base layer (B) by electrolytic plating or electroless plating can be carried out by the wet plating method exemplified above. It is preferable to use a copper plating method because it is excellent in productivity, mechanical properties of the obtained metal film, and cost.
このようにして製造される本発明の金属ベースプリント配線板は、前述で例示した用途における金属ベースプリント配線板として用いることができる。 The metal base printed wiring board of the present invention thus manufactured can be used as a metal base printed wiring board in the applications exemplified above.
以下、実施例により本発明を詳細に説明する。 Hereinafter, the present invention will be described in detail by way of examples.
[導電性インク(1)の調製]
エチレングリコール30質量部と、イオン交換水70質量部との混合溶媒に、分散剤としてポリエチレンイミンにポリオキシエチレンが付加した化合物を用いて平均粒径20nmの銀粒子を分散させることによって、金属ナノ粒子と、反応性官能基として塩基性窒素原子含有基を有する高分子分散剤とを含有する金属ナノ粒子分散液を調製した。次いで、得られた金属ナノ粒子分散液に、イオン交換水及び界面活性剤を添加して、その粘度を10mPa・sに調整することによって、インクジェット印刷用の導電性インク(1)を調製した。
[Preparation of conductive ink (1)]
By dispersing silver particles having an average particle diameter of 20 nm in a mixed solvent of 30 parts by mass of ethylene glycol and 70 parts by mass of ion-exchanged water using a compound in which polyoxyethylene is added to polyethyleneimine as a dispersant, metal nano particles are dispersed. A metal nanoparticle dispersion containing particles and a polymer dispersant having a basic nitrogen atom-containing group as a reactive functional group was prepared. Next, ion-exchanged water and a surfactant were added to the obtained metal nanoparticle dispersion, and the viscosity was adjusted to 10 mPa · s to prepare a conductive ink (1) for inkjet printing.
[高分子層(A−1)用樹脂の製造]
攪拌機、還流冷却管、窒素導入管、温度計を備えた反応容器に、ポリカーボネートポリオール(1,4−シクロヘキサンジメタノールと炭酸エステルとを反応させて得られる酸基当量1000g/当量のポリカーボネートジオール)を100質量部、2,2―ジメチロールプロピオン酸9.7質量部、1,4−シクロヘキサンジメタノール5.5質量部、ジシクロヘキシルメタンジイソシアネート51.4質量部を、メチルエチルケトン111質量部の混合溶剤中で反応させることによって、分子末端にイソシアネート基を有するウレタンプレポリマーの有機溶剤溶液を得た。
[Manufacture of resin for polymer layer (A-1)]
Polycarbonate polyol (polycarbonate diol having an acid group equivalent of 1000 g / equivalent obtained by reacting 1,4-cyclohexanedimethanol and carbonate) in a reaction vessel equipped with a stirrer, a reflux condenser, a nitrogen inlet tube, and a thermometer. 100 parts by weight, 9.7 parts by weight of 2,2-dimethylolpropionic acid, 5.5 parts by weight of 1,4-cyclohexanedimethanol, 51.4 parts by weight of dicyclohexylmethane diisocyanate in a mixed solvent of 111 parts by weight of methyl ethyl ketone By making it react, the organic solvent solution of the urethane prepolymer which has an isocyanate group in the molecular terminal was obtained.
次いで、前記ウレタン樹脂の有機溶剤溶液にトリエチルアミンを7.3質量部加えることで、前記ウレタン樹脂が有するカルボキシル基の一部または全部を中和し、さらに水355質量部を加え十分に攪拌することにより、ウレタン樹脂の水性分散液を得た。 Next, 7.3 parts by mass of triethylamine is added to the organic solvent solution of the urethane resin to neutralize part or all of the carboxyl groups of the urethane resin, and 355 parts by mass of water is further added and sufficiently stirred. Thus, an aqueous dispersion of urethane resin was obtained.
次いで、前記水性分散液に、25質量%のエチレンジアミン水溶液を4.3質量部加え、攪拌することによって、粒子状のポリウレタン樹脂を鎖伸長させ、次いでエージング・脱溶剤することによって、固形分濃度30質量%のウレタン樹脂の水性分散液を得た。 Next, 4.3 parts by mass of a 25% by mass ethylenediamine aqueous solution is added to the aqueous dispersion, and the particulate polyurethane resin is chain-extended by stirring, followed by aging / desolving, so that the solid content concentration is 30. An aqueous dispersion of mass% urethane resin was obtained.
攪拌機、還流冷却管、窒素導入管、温度計、単量体混合物滴下用滴下漏斗、重合触媒滴下用滴下漏斗を備えた反応容器に脱イオン水140質量部、前記で得たウレタン樹脂の水分散液100質量部を入れ、窒素を吹き込みながら80℃まで昇温した。80℃まで昇温した反応容器内に、攪拌下、メタクリル酸メチル60質量部、アクリル酸n−ブチル30質量部、N−n−ブトキシメチルアクリルアミド10質量部を含有する単量体混合物と、過硫酸アンモニウム水溶液(濃度:0.5質量%)20質量部を別々の滴下漏斗から、反応容器内温度を80±2℃に保ちながら120分間かけて滴下し重合した。 140 parts by mass of deionized water in a reaction vessel equipped with a stirrer, reflux condenser, nitrogen inlet tube, thermometer, dropping funnel for dropping the monomer mixture, dropping funnel for dropping the polymerization catalyst, water dispersion of the urethane resin obtained above 100 parts by mass of the liquid was added, and the temperature was raised to 80 ° C. while blowing nitrogen. In a reaction vessel heated to 80 ° C., a monomer mixture containing 60 parts by mass of methyl methacrylate, 30 parts by mass of n-butyl acrylate, and 10 parts by mass of Nn-butoxymethylacrylamide with stirring, 20 parts by mass of an aqueous ammonium sulfate solution (concentration: 0.5% by mass) was dropped from a separate dropping funnel over 120 minutes while maintaining the temperature in the reaction vessel at 80 ± 2 ° C. for polymerization.
滴下終了後、同温度にて60分間攪拌し、その後、前記反応容器内の温度を40℃に冷却し、ついで、不揮発分が20質量%になるように脱イオン水を添加した後、200メッシュ濾布で濾過することによって、反応性官能基としてカルボキシル基とN−n−ブトキシメチルアクリルアミド基を含有する高分子層(A−1)用樹脂を得た。 After completion of the dropwise addition, the mixture was stirred for 60 minutes at the same temperature, then the temperature in the reaction vessel was cooled to 40 ° C., and deionized water was added so that the nonvolatile content was 20% by mass, and then 200 mesh. By filtering with a filter cloth, a polymer layer (A-1) resin containing a carboxyl group and an Nn-butoxymethylacrylamide group as a reactive functional group was obtained.
[高分子層(A−1)用樹脂を含有するインクの調整]
前記高分子層(A−1)用樹脂の製造で得られた高分子層(A−1)用樹脂20質量部に、脱イオン水10質量部、エタノール40質量部、エチレングリコール30質量部を攪拌混合し、高分子層(A−1)用樹脂を含有するインクを得た。
[Preparation of ink containing resin for polymer layer (A-1)]
10 parts by mass of deionized water, 40 parts by mass of ethanol, and 30 parts by mass of ethylene glycol are added to 20 parts by mass of the resin for the polymer layer (A-1) obtained by the production of the resin for the polymer layer (A-1). By stirring and mixing, an ink containing a resin for the polymer layer (A-1) was obtained.
(実施例1)
膜厚2μmのDLC層が設けられたアルミ基材(縦20mm、横30mm、厚さ1mm)を用いた。DLC層の表面粗さは、原子間力顕微鏡で測定したところ、表面粗さRzが75nmであった。前記基材のDLC層の上に、上記で調整した高分子層(A−1)用樹脂を含有するインクを乾燥後の膜厚が0.1μmとなるようにDLC層の全面に塗布し、乾燥して高分子層(A−1)を形成した。
(Example 1)
An aluminum substrate (vertical 20 mm, horizontal 30 mm,
次に、上記方法で形成した高分子層(A−1)の上に、上記で得られた導電性インク(1)をインクジェットプリンター(コニカミノルタIJ株式会社製インクジェット試験機EB100、評価用プリンタヘッドKM512L、吐出量14pL)を用いて、線幅90μm、膜厚0.2μmのLEDランプ実装用配線パターンを印刷し、次いで120℃で20分間焼成することによって、導電性インク(1)からなるめっき下地層のパターンを形成した。 Next, on the polymer layer (A-1) formed by the above-described method, the conductive ink (1) obtained above is applied to an inkjet printer (an inkjet tester EB100 manufactured by Konica Minolta IJ Co., Ltd., an evaluation printer head). KM512L, discharge amount 14pL) is used to print an LED lamp mounting wiring pattern having a line width of 90 μm and a film thickness of 0.2 μm, followed by baking at 120 ° C. for 20 minutes, thereby plating with conductive ink (1) An underlayer pattern was formed.
次に、上記で得られた導電性インク(1)からなるめっき下地層を陰極に設定し、含リン銅を陽極に設定し、硫酸銅を含有する電解めっき液を用いて電流密度2A/dm2で10分間電解銅めっきを行うことによって、導電性インクからなる層の表面に、厚さ20μmの銅めっき層を積層した。前記電解銅めっき液としては、硫酸銅70g/リットル、硫酸200g/リットル、塩素イオン50mg/リットル、添加剤(奥野製薬工業(株)製「トップルチナSF−M」)5ml/リットルを使用した。 Next, the plating base layer made of the conductive ink (1) obtained above is set as a cathode, phosphorous copper is set as an anode, and the current density is 2 A / dm using an electrolytic plating solution containing copper sulfate. By performing electrolytic copper plating at 2 for 10 minutes, a copper plating layer having a thickness of 20 μm was laminated on the surface of the layer made of conductive ink. As the electrolytic copper plating solution, 70 g / liter of copper sulfate, 200 g / liter of sulfuric acid, 50 mg / liter of chloride ions, and 5 ml / liter of additives (“Top Lucina SF-M” manufactured by Okuno Pharmaceutical Co., Ltd.) were used.
次に、上記で得られたDLC層上に形成されたLEDランプ実装用銅配線パターンに、InGaN系白色LEDランプ(0.5Wタイプ)をはんだ付けし、放熱性評価用LED実装回路基板を作製した。 Next, an InGaN-based white LED lamp (0.5 W type) is soldered to the LED lamp mounting copper wiring pattern formed on the DLC layer obtained above to produce an LED mounting circuit board for heat dissipation evaluation. did.
次に、放熱性の評価として、前記放熱評価用LED実装回路基板に、LEDランプへの印加電流IF150mA、通電時間1000秒、周囲雰囲気温度25℃で自然対流のみの条件下で、赤外線サーモグラフィーにてLEDランプの表面温度を測定した結果、48℃であった。 Next, as an evaluation of heat dissipation, an infrared thermography was applied to the LED mounting circuit board for heat dissipation evaluation under the conditions of only natural convection at an applied current I F of 150 mA, an energization time of 1000 seconds, an ambient temperature of 25 ° C. As a result of measuring the surface temperature of the LED lamp at, it was 48 ° C.
(実施例2)
実施例1では、前記アルミ基材のDLC層の上に、上記で調整した高分子層(A−1)用樹脂を含有するインクを全面に塗布したが、実施例2では、高分子層(A−1)用樹脂を含有するインクをインクジェットプリンター(コニカミノルタIJ株式会社製インクジェット試験機EB100、評価用プリンタヘッドKM512L、吐出量14pL)を用いて、線幅100μm、膜厚0.1μmのLEDランプ実装用配線パターンと同じパターンを印刷し、乾燥して高分子層(A−1)のパターンを形成した。
(Example 2)
In Example 1, the ink containing the polymer layer (A-1) resin prepared above was applied on the entire surface of the DLC layer of the aluminum base material. In Example 2, the polymer layer ( A-1) Using an ink jet printer (ink jet tester EB100 manufactured by Konica Minolta IJ Co., Ltd., evaluation printer head KM512L, discharge amount 14 pL), the ink containing the resin for resin is an LED having a line width of 100 μm and a film thickness of 0.1 μm. The same pattern as the lamp mounting wiring pattern was printed and dried to form a pattern of the polymer layer (A-1).
次に、上記方法で形成した高分子層(A−1)のパターンの上に、上記で得られた導電性インク(1)をインクジェットプリンター(コニカミノルタIJ株式会社製インクジェット試験機EB100、評価用プリンタヘッドKM512L、吐出量14pL)を用いて、線幅90μm、膜厚0.2μmのLEDランプ実装用配線パターンを印刷し、次いで120℃で20分間焼成することによって、導電性インク(1)からなるめっき下地層のパターンを形成した。その後、実施例1と同様にして電解銅めっきを行い、さらに、LEDランプを実装して放熱評価用LED実装回路基板を作製し、LEDランプの放熱性を実施例1と同じ条件で実施し、赤外線サーモグラフィーにてLEDランプの表面温度を測定した結果、41℃であった。 Next, on the pattern of the polymer layer (A-1) formed by the above method, the conductive ink (1) obtained above is used as an ink jet printer (inkjet tester EB100 manufactured by Konica Minolta IJ Co., Ltd., for evaluation). From the conductive ink (1), a wiring pattern for LED lamp mounting having a line width of 90 μm and a film thickness of 0.2 μm was printed using a printer head KM512L and a discharge amount of 14 pL, and then baked at 120 ° C. for 20 minutes. The pattern of the plating base layer to be formed was formed. Thereafter, electrolytic copper plating is performed in the same manner as in Example 1, and further, an LED lamp is mounted to produce an LED mounted circuit board for heat dissipation evaluation, and the heat dissipation of the LED lamp is performed under the same conditions as in Example 1. It was 41 degreeC as a result of measuring the surface temperature of an LED lamp with the infrared thermography.
[比較用の接着剤用樹脂の製造]
攪拌機、温度計、還流冷却器、滴下装置、及び窒素導入管を備えた反応容器に、アジピン酸、テレフタル酸、及び3−メチル−1,5−ペンタンジオールから得られる数平均分子量が1006であるジオール414質量部、ジメチロールブタン酸8質量部、イソホロンジイソシアネート145質量部、及びトルエン40質量部を仕込み、窒素雰囲気下90℃で3時間反応させた。次いで、この反応溶液に、さらにトルエン300質量部を加えて、末端にイソシアネート基を有するウレタンプレポリマーの溶液を得た。
[Production of comparative resin for adhesive]
The number average molecular weight obtained from adipic acid, terephthalic acid, and 3-methyl-1,5-pentanediol is 1006 in a reaction vessel equipped with a stirrer, thermometer, reflux condenser, dropping device, and nitrogen introduction tube. A diol (414 parts by mass), dimethylolbutanoic acid (8 parts by mass), isophorone diisocyanate (145 parts by mass) and toluene (40 parts by mass) were charged and reacted at 90 ° C. for 3 hours in a nitrogen atmosphere. Next, 300 parts by mass of toluene was further added to the reaction solution to obtain a urethane prepolymer solution having an isocyanate group at the terminal.
次に、イソホロンジアミン27質量部、ジ−n−ブチルアミン3質量部、2−プロパノール342質量部及びトルエン576質量部を混合した混合物に、上記で得られたウレタンプレポリマーの溶液816質量部を添加し、70℃で3時間反応させてポリウレタンポリウレア樹脂の溶液を得た。これに、トルエン144質量部、及び2−プロパノール72質量部を加えて、ポリウレタンポリウレア樹脂の固形分30質量%である樹脂溶液を得た。 Next, 816 parts by mass of the urethane prepolymer solution obtained above was added to a mixture obtained by mixing 27 parts by mass of isophoronediamine, 3 parts by mass of di-n-butylamine, 342 parts by mass of 2-propanol, and 576 parts by mass of toluene. And reacted at 70 ° C. for 3 hours to obtain a polyurethane polyurea resin solution. To this, 144 parts by mass of toluene and 72 parts by mass of 2-propanol were added to obtain a resin solution having a solid content of 30% by mass of the polyurethane polyurea resin.
上記で得られた樹脂溶液100質量部、及びビスフェノールA型エポキシ樹脂(三菱化学株式会社製「JER828」)70質量部を攪拌混合し、接着層用樹脂を得た。 100 parts by mass of the resin solution obtained above and 70 parts by mass of a bisphenol A type epoxy resin (“JER828” manufactured by Mitsubishi Chemical Corporation) were stirred and mixed to obtain an adhesive layer resin.
(比較例1)
実施例1で用いたDLC層が設けられたアルミ基材の代わりに、DLC層が無いアルミ基材(縦20mm、横30mm、厚さ1mm)を用いた。前記アルミ基材の上に上記で得られた比較用の接着剤用樹脂を乾燥後の膜厚が30μmとなるように塗布し、乾燥して接着剤樹脂層を絶縁層として形成した。前記樹脂層の上に膜厚25μmの銅箔を貼り合わせ、ホットロールラミネータで加熱圧着した。
(Comparative Example 1)
Instead of the aluminum substrate provided with the DLC layer used in Example 1, an aluminum substrate (vertical 20 mm, horizontal 30 mm,
次に、前記で得られた銅箔付きアルミ基材の銅箔面を、フォトマスク・エッチング法で実施例1と同様の線幅90μm、銅膜厚20μmのLEDランプ実装用配線パターンを作製し、実施例1と同様にしてLEDランプを実装して放熱評価用LED実装回路基板を作製し、LEDランプの放熱性を実施例1と同じ条件で実施し、赤外線サーモグラフィーにてLEDランプの表面温度を測定した結果、63℃であった。 Next, an LED lamp mounting wiring pattern having a line width of 90 μm and a copper film thickness of 20 μm similar to that in Example 1 was prepared on the copper foil surface of the aluminum base with copper foil obtained above by a photomask etching method. The LED lamp is mounted in the same manner as in Example 1 to produce an LED mounted circuit board for heat dissipation evaluation. The heat dissipation of the LED lamp is performed under the same conditions as in Example 1, and the surface temperature of the LED lamp is measured by infrared thermography. It was 63 degreeC as a result of measuring.
上記の結果から、本発明の金属ベースプリント配線板は、LEDランプ等の発熱する半導体素子を実装した場合においても放熱性に優れ、半導体素子の温度上昇を抑制できることが確認できた。 From the above results, it was confirmed that the metal-based printed wiring board of the present invention has excellent heat dissipation even when a semiconductor element that generates heat such as an LED lamp is mounted, and can suppress an increase in temperature of the semiconductor element.
1・・・・金属基材
2・・・・ダイヤモンドライクカーボン層
3・・・・高分子層
4・・・・導電性インクを用いて形成した層
5・・・・金属めっき層
10・・・金属ベースプリント配線板
DESCRIPTION OF
Claims (11)
かつ、前記高分子層(A)が、反応性官能基[X]を有する化合物(a1)を含有する高分子からなる層であり、
前記反応性官能基[Y]と、前記反応性官能基[X]とを反応させることによって結合を形成したものである請求項3記載の金属ベースプリント配線板。 The conductive ink is a conductive ink containing a compound (b1) having a reactive functional group [Y] and a conductive substance (b2),
And the polymer layer (A) is a layer comprising a polymer containing the compound (a1) having a reactive functional group [X],
The metal-based printed wiring board according to claim 3, wherein a bond is formed by reacting the reactive functional group [Y] with the reactive functional group [X].
前記高分子層(A)上に金属ナノ粒子を含有する導電性インクを印刷し、乾燥してめっき下地層(B)のパターンを形成し、
前記めっき下地層(B)のパターン上に、電解めっきまたは無電解めっきにより金属めっき層(C)を形成することを特徴とする金属ベースプリント配線板の製造方法。 A polymer is applied or printed on a base material provided with a diamond-like carbon layer on a metal base material, and dried to form a polymer layer (A).
A conductive ink containing metal nanoparticles is printed on the polymer layer (A) and dried to form a pattern of the plating base layer (B).
A method for producing a metal-based printed wiring board, comprising forming a metal plating layer (C) on the pattern of the plating base layer (B) by electrolytic plating or electroless plating.
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