JP2015197910A - Manufacturing method of touch panel - Google Patents
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Abstract
Description
本発明は、タッチパネルの製造方法に関する。 The present invention relates to a method for manufacturing a touch panel.
静電容量方式のタッチスクリーンは、一定のパターンを有する複数の電極を含み、タッチ入力によって静電容量の変化が生成される複数のノードが上記複数の電極によって定義される。2次元平面に分布する複数のノードは、タッチ入力によって自己静電容量(Self−Capacitance)または結合静電容量(Mutual−Capacitance)の変化を生成し、複数のノードで生成される静電容量の変化に加重平均計算法などを適用してタッチ入力の座標を計算することができる。 The capacitive touch screen includes a plurality of electrodes having a certain pattern, and a plurality of nodes where a change in capacitance is generated by a touch input is defined by the plurality of electrodes. A plurality of nodes distributed in a two-dimensional plane generates a change in self-capacitance (Self-Capacitance) or combined capacitance (Mutual-Capacitance) by touch input, and the capacitance generated by the plurality of nodes is changed. The coordinates of the touch input can be calculated by applying a weighted average calculation method or the like to the change.
一般に、タッチパネルでは、タッチを認識するセンシング電極をITO(Indium Tin Oxide、インジウム‐スズ酸化物)で形成した。しかし、ITOの場合、原料であるインジウム(Indium)が希土類金属で高価であるため価格競争力が落ちる上、10年以内に枯渇すると予想されるため需給が円滑ではないという問題がある。 In general, in a touch panel, a sensing electrode for recognizing a touch is formed of ITO (Indium Tin Oxide, indium-tin oxide). However, in the case of ITO, indium (Indium), which is a raw material, is a rare earth metal and is expensive, the price competitiveness is lowered, and it is expected that the material will be depleted within 10 years, so that there is a problem that supply and demand is not smooth.
上記のような理由で不透明な導体線を用いて電極を形成しようとする研究が行われており、導体線で形成される電極にはITOや伝導性高分子に比べて電気伝導度に優れ、需給が円滑であるという長所がある。 For the reasons described above, research has been conducted to form an electrode using an opaque conductor wire, and the electrode formed of the conductor wire is superior in electrical conductivity compared to ITO or a conductive polymer, There is an advantage that supply and demand is smooth.
但し、導体線をタッチスクリーン用電極として用いる場合、金属の特有の色相による光反射が発生して、導体線がユーザーに容易に視認されるという問題点がある。 However, when a conductor wire is used as an electrode for a touch screen, there is a problem that light reflection occurs due to a unique hue of metal, and the conductor wire is easily visually recognized by the user.
本発明の課題は、導体線を形成する金属を黒化処理して導体線の不可視性を増加することができるタッチパネルの製造方法を提供することにある。 The subject of this invention is providing the manufacturing method of the touchscreen which can increase the invisibility of a conductor line by blackening the metal which forms a conductor line.
本発明の一形態によるタッチパネルの製造方法は、基板に設けられるフォトレジストの一部領域を露光及び現像してマスクパターンを形成する段階と、上記マスクパターン及び上記マスクパターン間の空間として定義される溝部の表面に第1黒化膜を形成する段階と、上記第1黒化膜及び上記溝部から上面が平坦になるように金属膜を形成する段階と、上記金属膜を酸化処理する段階と、上記マスクパターンを剥離する段階と、を含むことができる。 A touch panel manufacturing method according to an embodiment of the present invention is defined as a step of exposing and developing a partial region of a photoresist provided on a substrate to form a mask pattern, and a space between the mask pattern and the mask pattern. Forming a first black film on the surface of the groove, forming a metal film so that an upper surface is flat from the first black film and the groove, and oxidizing the metal film; Peeling off the mask pattern.
上記第1黒化膜を形成する段階は省略されることができる。 The step of forming the first blackening film can be omitted.
上記第1黒化膜を形成する段階は、真空蒸着方式を用いて上記第1黒化膜を形成することができる。 In the step of forming the first black film, the first black film may be formed using a vacuum deposition method.
上記真空蒸着方式は、スパッタリング(Sputtering)方式を含むことができる。 The vacuum deposition method may include a sputtering method.
上記金属膜を形成する段階は、フィル(fill)めっき方式を用いて上記金属膜を形成することができる。 The step of forming the metal film may form the metal film using a fill plating method.
上記金属膜の厚さは上記フォトレジストの厚さによって決定されることができる。 The thickness of the metal film can be determined by the thickness of the photoresist.
上記溝部上に形成される金属膜の厚さは1〜5μmであることができる。 The metal film formed on the groove may have a thickness of 1 to 5 μm.
上記金属膜を酸化処理する段階は、上記マスクパターン上の金属膜が除去さされるのに十分な時間で行われることができる。 The step of oxidizing the metal film may be performed for a time sufficient to remove the metal film on the mask pattern.
上記マスクパターンを剥離する段階は、剥離液を用いて上記マスクパターンを剥離することができる。 In the step of peeling off the mask pattern, the mask pattern can be peeled off using a peeling solution.
上記金属膜は、銀(Ag)、アルミニウム(Al)、クロム(Cr)、ニッケル(Ni)、モリブデン(Mo)、及び銅(Cu)のいずれか一つの金属、またはこれらの合金で形成されることができる。 The metal film is made of any one of silver (Ag), aluminum (Al), chromium (Cr), nickel (Ni), molybdenum (Mo), and copper (Cu), or an alloy thereof. be able to.
上記第1黒化膜は、ブラックニッケル(Black Ni)で形成されることができる。 The first blackening film may be formed of black nickel.
本発明は、導体線を形成する金属を黒化処理して導体線の不可視性を増加させることができる。 The present invention can increase the invisibility of a conductor wire by blackening the metal forming the conductor wire.
また、マスクパターンの剥離前に、マスクパターン上の金属物質を除去することにより、製造工程を簡単にすることができ、タッチパネルの不良率を減らすことができる。 In addition, by removing the metal material on the mask pattern before peeling off the mask pattern, the manufacturing process can be simplified and the defect rate of the touch panel can be reduced.
以下では、添付の図面を参照し、本発明の好ましい実施形態について説明する。しかし、本発明の実施形態は様々な他の形態に変形されることができ、本発明の範囲は以下で説明する実施形態に限定されない。また、本発明の実施形態は、当該技術分野で平均的な知識を有する者に本発明をより完全に説明するために提供されるものである。したがって、図面における要素の形状及び大きさなどはより明確な説明のために誇張されることがある。 Hereinafter, preferred embodiments of the present invention will be described with reference to the accompanying drawings. However, the embodiments of the present invention can be modified in various other forms, and the scope of the present invention is not limited to the embodiments described below. In addition, the embodiments of the present invention are provided to more fully explain the present invention to those skilled in the art. Accordingly, the shape and size of elements in the drawings may be exaggerated for a clearer description.
図1は本発明の一実施形態によるタッチパネルを含む電子機器の外観を示した斜視図である。 FIG. 1 is a perspective view illustrating an appearance of an electronic device including a touch panel according to an embodiment of the present invention.
図1を参照すると、本実施形態による電子機器100は、画面を出力するためのディスプレイ装置110、入力部120、音声を出力するためのオーディオ部130、及びディスプレイ装置110と一体化されて形成されるタッチスクリーン装置を含むことができ、タッチスクリーン装置内にタッチパネルが含まれることができる。
Referring to FIG. 1, the
図1に示されているように、モバイル機器の場合、タッチスクリーン装置がディスプレイ装置と一体化されて備えられることが一般的であり、タッチスクリーン装置はディスプレイ装置が示す画面が透過できるほど高い光透過率を有さなければならない。したがって、タッチスクリーン装置は、PET(Polyethylene terephthalate)、PC(polycarbonate)、PES(polyethersulfone)、PI(polyimide)、PMMA(Polymethylmethacrylate)、COP(Cyclo−Olefin Polymers)などのフィルム、ソーダガラス(Soda glass)または強化ガラス(tempered glass)のような材質の透明な基板に電気伝導性を有する物質で電極を形成することで具現されることができる。タッチスクリーン装置のベゼル領域には電気伝導性物質で形成された電極と連結される配線パターンが配置され、配線パターンはベゼル領域によって視覚的に遮蔽される。 As shown in FIG. 1, in the case of a mobile device, a touch screen device is generally provided so as to be integrated with a display device, and the touch screen device has a light that is high enough to transmit a screen indicated by the display device. Must have transmittance. Accordingly, the touch screen device includes PET (Polyethylene terephthalate), PC (Polycarbonate), PES (Polyethersulfone), PI (Polyimide), PMMA (Polymethylmethacrylate), COP (Cyclo-Olefin Glass, etc.). Alternatively, it may be realized by forming an electrode with a material having electrical conductivity on a transparent substrate made of a material such as tempered glass. A wiring pattern connected to an electrode formed of an electrically conductive material is disposed in the bezel region of the touch screen device, and the wiring pattern is visually shielded by the bezel region.
本発明によるタッチスクリーン装置は、静電容量方式によって動作することを仮定するため、所定のパターンを有する複数の電極を含むことができる。また、タッチスクリーン装置には、複数の電極で生成される静電容量の変化を検出するための静電容量感知回路や静電容量感知回路の出力信号をデジタル値に変換するアナログ−デジタル変換回路、デジタル値に変換されたデータを用いてタッチ入力を判断する演算回路などが含まれることができる。 The touch screen device according to the present invention may include a plurality of electrodes having a predetermined pattern in order to operate according to a capacitive method. Further, the touch screen device includes a capacitance sensing circuit for detecting a change in capacitance generated by a plurality of electrodes and an analog-digital conversion circuit that converts an output signal of the capacitance sensing circuit into a digital value. An arithmetic circuit that determines touch input using data converted into a digital value may be included.
図2は本発明の一実施形態によるタッチパネルを示した図面である。 FIG. 2 is a view illustrating a touch panel according to an embodiment of the present invention.
図2を参照すると、本実施形態によるタッチパネル200は、基板210、基板210上に設けられる電極部220、及び電極部220とそれぞれ連結される複数のバッドを含むパッド部230を含む。また、図2には示されていないが、電極部220とそれぞれ連結されるパッド部230は配線電極及びボンディングパッドによって基板210の一端に付着される回路基板の配線パターンと電気的に連結されることができる。回路基板にはコントローラ集積回路が実装されて、電極部220において生成される感知信号を検出し、タッチ入力を判断することができる。
Referring to FIG. 2, the
基板210は、電極部220が形成されるための透明な基板であることができる。上述のように、基板210は、PET(Polyethylene terephthalate)、PC(polycarbonate)、PES(polyethersulfone)、PI(polyimide)、PMMA(Polymethlymethacrylate)、COP(Cyclo−Olefin Polymers)などのフィルム、ソーダガラス(Soda glass)または強化ガラス(tempered glass)のような材質で形成されることができる。
The
電極部220は、X軸方向に延長される第1電極223、及びY軸方向に延長される第2電極226を含むことができる。第1電極223及び第2電極226は、基板210の両面に設けられたり、または異なる基板210に設けられて交差することができる。基板210の一面にともに設けられる場合は、第1電極223と第2電極226との交差地点に部分的に所定の絶縁層を形成することができる。なお、これとは異なって、第1電極223及び第2電極226は異なる基板に設けられて交差することもできる。
The
さらに、電極部220が形成される領域の他に、電極部220とそれぞれ連結されるパッド部230が設けられる領域には、一般に、不透明な金属物質で形成される配線を視覚的に遮蔽するための所定の印刷領域が基板210に形成されることができる。
Further, in addition to the region where the
電極部220と電気的に連結されるタッチ入力感知装置は、タッチ入力によって電極部220で生成される静電容量の変化を検出し、タッチ入力を感知する。第1電極223はコントローラ集積回路においてD1〜D8と定義されるチャンネルと連結されて所定の駆動信号の印加を受けることができ、第2電極226はS1〜S8と定義されるチャンネルと連結されて接触感知装置が感知信号を検出するのに用いられることができる。このとき、コントローラ集積回路は、第1電極223と第2電極226との間で生成される結合静電容量(mutual−capacitance)の変化を検出して感知信号を得ることができ、それぞれの第1電極223に順に駆動信号を印加し、第2電極226で同時に静電容量の変化を検出する方式で動作することができる。
The touch input sensing device electrically connected to the
チャンネルD1〜D8によって第1電極223に駆動信号が印加されると、駆動信号が印加された第1電極223と第2電極226との間で結合静電容量が生成される。タッチパネルに接触物体が接触されると、接触物体が接触した領域と隣接する第1電極223と第2電極226との間で生成される結合静電容量で静電容量の変化が生じる。上記静電容量の変化は、接触物体の面積に比例することができる。
When a driving signal is applied to the
図3及び図4は図2の実施形態によるタッチパネルをより詳細に説明するための図面である。図3を参照すると、電極部220は、導体線で構成されることができ、電極部220を構成する導体線は網状またはメッシュ状に形成されることができる。導体線が網状またはメッシュ状に形成されることで、従来のITO(Indium−Tin Oxide)電極が存在する領域においてパターニング跡が現れる現象を減少させ、タッチパネルの透過性を向上させることができる。
3 and 4 are diagrams for explaining the touch panel according to the embodiment of FIG. 2 in more detail. Referring to FIG. 3, the
図3には電極部220を構成する導体線がひし形または四角形に形成されるように示されているが、これに限定されず、六角形、八角形、ダイアモンド形及び無定形(random)など、当業者が明白または容易に導出することができる範囲であればよい。また、図4に示されているように、直線状に形成されることもできる。
In FIG. 3, the conductor wire constituting the
図5は本発明の一実施形態によるタッチパネルの断面を概略的に示した図面である。図5を参照すると、電極部220を構成する導体線は基板の一面に所定のパターンで形成される金属層243、基板210への金属層243の積層面(金属層243の下面)と金属層243の側面に形成される第1黒化層245、及び金属層243の上面に形成される第2黒化層247を含むことができる。
FIG. 5 is a schematic view illustrating a cross section of a touch panel according to an embodiment of the present invention. Referring to FIG. 5, the conductor wire constituting the
金属層243は、銀(Ag)、アルミニウム(Al)、クロム(Cr)、ニッケル(Ni)、モリブデン(Mo)、銅(Cu)のいずれか一つの金属、またはこれらの合金で製造されることができる。このように、電極部220が金属で製造されることで、電極の抵抗値が減少し、伝導性及び検出感度が向上できる。
The
ただし、金属層243を上記金属物質で具現する場合、金属の特有の色相による光反射が発生して、金属層243がユーザーに容易に視認されるという問題点があるが、金属層243の下面及び側面に第1黒化層245を形成することにより、基板210の他面側からユーザーがタッチパネルをみたときに、タッチパネルの視認特性を改善させることができる。
However, when the
また、金属層243の上面に第2黒化層247を形成することにより、基板の一面側からユーザーがタッチパネルをみたときも、金属層243が視認されることを防止することができる。
Further, by forming the
図6aから図6fは本発明の一実施形態によるタッチパネルの製造方法を説明するために提供される図面である。以下では、図6aから図6fを参照して本実施形態によるタッチパネルの製造方法を説明する。 6a to 6f are views provided for explaining a method of manufacturing a touch panel according to an embodiment of the present invention. Hereinafter, the manufacturing method of the touch panel according to the present embodiment will be described with reference to FIGS. 6A to 6F.
本発明の一実施形態によるタッチパネルの製造方法は、基板210の一面にフォトレジストPRをコーティングすることから始まる(図6a)。その後、フォトレジストPRの所定の領域を露光及び現像してマスクパターンMPを形成するが(図6b)、上記所定の領域は図3及び図4に示される電極部の導体線を形成するための領域に対応することができる。 The method for manufacturing a touch panel according to an embodiment of the present invention starts with coating a photoresist PR on one surface of the substrate 210 (FIG. 6a). Thereafter, a predetermined region of the photoresist PR is exposed and developed to form a mask pattern MP (FIG. 6b). The predetermined region is used to form a conductor line of the electrode portion shown in FIGS. Can correspond to the area.
続いて、マスクパターンMPの上面及び側面とマスクパターンMP間の空間として定義される溝部の表面に第1黒化膜245aを形成する(図6c)。このとき、第1黒化膜245aは、ブラックニッケル(Black Ni)をスパッタリング(Sputtering)方式、電子ビーム(E−Beam)方式のような真空蒸着方式を用いて蒸着することにより形成することができる。ここで、第1黒化膜245aのマスクパターンMPの上面からの厚さ、マスクパターンMPの側面からの厚さ、及び基板の一面からの厚さは同一であることができる。
Subsequently, a
次いで、基板210の一面側に銀(Ag)、アルミニウム(Al)、クロム(Cr)、ニッケル(Ni)、モリブデン(Mo)、銅(Cu)のいずれか一つの金属、またはこれらの合金をめっきして金属膜243aを形成する(図6d)。上記金属物質は、溝部を満たすようにめっきされて、金属膜243aの上面が平坦に形成されることができる。
Next, one surface of the
一例として、金属膜243aを形成するために、フィル(fill)めっき方式を用いることができる。これにより、溝部上に形成される金属膜243aの厚さがマスクパターンMP上に形成される金属膜243aの厚さよりさらに厚くてもよい。このとき、溝部上に形成される金属膜243aの厚さはマスクパターンMPの厚さ、または最初に基板210にコーティングされるフォトレジストPRの厚さによって決定されることができるため、溝部に形成される金属膜243aの厚さは1〜5μmで自由に設計されることができる。
For example, a fill plating method can be used to form the
金属膜243aを形成した後に、金属膜243aを酸化処理して第2黒化膜247aを形成する(図6e)。このとき、マスクパターンMP上に形成される金属膜243aが除去されるのに十分な時間で酸化処理が行われて、マスクパターンMP上に形成される金属膜243aが除去されることができる。
After forming the
黒化膜247aを形成した後に、マスクパターンMPを剥離して、図5のようにタッチパネルを製造することができる(図6f)。このとき、一例として、マスクパターンMPを剥離するために、フォトレジスト剥離液を用いることができる。
After forming the
マスクパターンMPを剥離するとき、マスクパターン上に金属膜が残存しないため洗浄工程などをさらに必要としないことから、製造工程を簡単にすることができ、タッチパネルの不良率を減らすことができる。 Since the metal film does not remain on the mask pattern when the mask pattern MP is peeled off, no further cleaning process or the like is required, so that the manufacturing process can be simplified and the defect rate of the touch panel can be reduced.
本発明の他の実施形態によると、第1黒化層245を製造するための工程、即ち、図6cに対応する工程が省略されることができる。このとき、金属膜243aは、マスクパターンの上面及び溝部の表面から上面が平坦になるように形成されることができる。後続する工程は、図6e及び図6fにおいて説明した工程と類似するため詳細な説明を省略する。
According to another embodiment of the present invention, the process for manufacturing the first blackened
以上、本発明の実施形態について詳細に説明したが、本発明の権利範囲はこれに限定されず、特許請求の範囲に記載された本発明の技術的思想から外れない範囲内で多様な修正及び変形が可能であるということは、当技術分野の通常の知識を有するものには明らかである。 Although the embodiment of the present invention has been described in detail above, the scope of the right of the present invention is not limited to this, and various modifications and modifications can be made without departing from the technical idea of the present invention described in the claims. It will be apparent to those of ordinary skill in the art that variations are possible.
210 基板
220 電極部
223 第1電極
226 第2電極
230 パッド部
243 金属層
245 第1黒化層
247 第2黒化層
PR フォトレジスト
MP マスクパターン
243a 金属膜
245a 第1黒化膜
247a 第2黒化膜
210
Claims (17)
前記マスクパターン及び前記マスクパターン間の空間として定義される溝部の表面に第1黒化膜を形成する段階と、
前記第1黒化膜及び前記溝部から上面が平坦になるように金属膜を形成する段階と、
前記金属膜を酸化処理する段階と、
前記マスクパターンを剥離する段階と、を含む、タッチパネルの製造方法。 Exposing and developing a partial region of the photoresist provided on the substrate to form a mask pattern;
Forming a first blackening film on a surface of a groove defined as a space between the mask pattern and the mask pattern;
Forming a metal film so that an upper surface is flat from the first blackening film and the groove;
Oxidizing the metal film;
Peeling the mask pattern. A method for manufacturing a touch panel.
前記マスクパターンの上面及び前記マスクパターン間の空間として定義される溝部の表面から上面が平坦になるように金属膜を形成する段階と、
前記金属膜を酸化処理する段階と、
前記マスクパターンを剥離する段階と、を含む、タッチパネルの製造方法。 Exposing and developing a partial region of the photoresist provided on the substrate to form a mask pattern;
Forming a metal film such that the upper surface is flat from the surface of the groove defined as the upper surface of the mask pattern and the space between the mask patterns;
Oxidizing the metal film;
Peeling the mask pattern. A method for manufacturing a touch panel.
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