JP2015182879A - Substrate transportation processing device - Google Patents

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酒井 博史
Hiroshi Sakai
博史 酒井
豊治 寺田
Toyoji Terada
豊治 寺田
誠樹 森
Seiki Mori
誠樹 森
誠治 寺師
Seiji Terashi
誠治 寺師
和紀 前田
Kazunori Maeda
和紀 前田
正晃 河杉
Masaaki Kawasugi
正晃 河杉
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PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a substrate transportation processing device which can perform stable substrate processing by suppressing the disturbance of tension which is generated at each substrate which travels between substrate processing rolls in a plurality of rows, in a substrate processing device using roll-to-roll.SOLUTION: A substrate transportation processing device continuously transports a thin-steel long-length substrate by making it pass a substrate processing part, and processes a surface of the substrate in transportation. The substrate processing part has a main roll part and a sub-roll part which form a substrate parallel-traveling part by the bridging of the substrate a plurality of times, the sub-roll part is arranged so as to rotate around a rotating shaft which has an angle at which the sub-roll part is brought into a relationship which is twisted with respect to the rotating shaft of the main roll part, and a tension roll which abuts on the substrate parallel-traveling part, and adjusts the tension of the substrate is arranged between the main roll part and the sub-roll part. The tension roll is independently arranged at each of a plurality of substrates of the substrate parallel-traveling part, and can individually adjust the tension of each substrate of the substrate parallel-traveling part.

Description

本発明は、搬送中の薄板長尺体の基材上に処理を行う基材搬送処理装置に関するものである。   The present invention relates to a base material transport processing apparatus that performs processing on a base material of a thin long plate being transported.

基材上に所定の処理を行う基材処理装置として、例えば、基材上に薄膜を形成する製膜装置(基材処理装置)では、スパッタやCVD法などによりチャンバ内で枚葉の基材を固定した状態で基材上に薄膜を形成するものが知られており、このような製膜装置により、例えば太陽電池モジュール、有機EL等が形成されている。   As a substrate processing apparatus that performs a predetermined process on a substrate, for example, in a film forming apparatus (substrate processing apparatus) that forms a thin film on a substrate, a single-wafer substrate is formed in a chamber by sputtering, CVD, or the like. It is known that a thin film is formed on a base material in a state where is fixed, and for example, a solar cell module, an organic EL, and the like are formed by such a film forming apparatus.

最近では、基材を無駄なく使用できること、製膜処理速度が各製膜チャンバでの製膜レートに依存しないというメリットが得られることから、ロールトゥロールタイプの搬送製膜装置(基材搬送処理装置)が開発されている。このロールトゥロールタイプの搬送製膜装置は、例えば図8に示すように、送出リールBと、巻取リールCと、複数の製膜処理部Dとを備えており、送出リールBに巻回された基材Aが複数の製膜処理部Dを通過することにより基材A上に所定の薄膜が順次製膜される。そして、最終的に巻取リールCに巻き取られることにより、すべての製膜処理が完了した製膜基材Aが巻回された状態で形成されるようになっている。   Recently, the advantage is that the substrate can be used without waste, and the film forming process speed does not depend on the film forming rate in each film forming chamber. Equipment) has been developed. For example, as shown in FIG. 8, the roll-to-roll type transport film forming apparatus includes a delivery reel B, a take-up reel C, and a plurality of film forming units D. A predetermined thin film is sequentially formed on the base material A by the base material A having passed through the plurality of film forming processing units D. Then, by finally being wound on the take-up reel C, the film-forming substrate A for which all film-forming processes have been completed is formed in a wound state.

この製膜処理部Dは、製膜処理が行われるチャンバD1と、このチャンバD1内に配置されるロール部D2とを有している。このロール部D2は、図9(a)に示すように、円筒形状の主ロール部Fと副ロール部Gとを有している。主ロール部Fは、その回転軸f(主ロール軸)が基材Aの搬送方向に対して垂直に配置されており、副ロール部Gは、その回転軸g(副ロール軸)が主ロール部Fの回転軸fに対してねじれの関係になる所定角度に傾斜させて配置されており、例えばネルソンロールとして構成されている。すなわち、副ロール軸方向に延びる円筒形状の副ロール部Gは、その全体が所定角度傾斜させた状態で、主ロール部F及び副ロール部Gの外周面がそれぞれ対向するように配置されている。   This film forming process part D has a chamber D1 in which a film forming process is performed, and a roll part D2 disposed in the chamber D1. This roll part D2 has the cylindrical main roll part F and the sub roll part G, as shown to Fig.9 (a). The main roll part F has a rotation axis f (main roll axis) arranged perpendicular to the conveying direction of the substrate A, and the sub roll part G has a rotation axis g (sub roll axis) as the main roll. For example, it is configured as a Nelson roll so as to be inclined at a predetermined angle that is in a torsional relationship with respect to the rotation axis f of the portion F. That is, the cylindrical secondary roll portion G extending in the secondary roll axial direction is disposed so that the outer peripheral surfaces of the main roll portion F and the secondary roll portion G are opposed to each other with the whole inclined at a predetermined angle. .

この主ロール部Fと副ロール部Gに、基材Aが複数回交互に架け渡されることにより、主ロール部Fと副ロール部Gとの間を基材Aが所定間隔で複数列走行するようになっている。そして、基材Aが複数列走行する部分には、製膜材料供給部Hが対向して配置されており、この製膜材料供給部Hから原料ガスが供給されることにより、基材A上に所定厚さの薄膜が形成されるようになっている(例えば、特許文献1参照)。そして、製膜材料供給部Hに備えられた熱源(不図示)と主ロール部Fと副ロール部Gとの間に設置される熱源(不図示)とによって原料ガスと基材Aとが熱せられることにより、所定の製膜温度下で製膜できるようになっている。   The base material A travels between the main roll portion F and the sub roll portion G in a plurality of rows at a predetermined interval by the base material A being alternately bridged between the main roll portion F and the sub roll portion G a plurality of times. It is like that. And the film-forming material supply part H is arrange | positioned facing the part which the base material A drive | works in multiple rows, By supplying raw material gas from this film-forming material supply part H, on the base material A A thin film having a predetermined thickness is formed on the substrate (for example, see Patent Document 1). The source gas and the base material A are heated by a heat source (not shown) provided in the film forming material supply unit H and a heat source (not shown) installed between the main roll unit F and the sub roll unit G. As a result, the film can be formed at a predetermined film forming temperature.

特開2013−139621号公報JP 2013-139621 A

しかし、上記製膜搬送装置では、製膜処理が安定しないという問題があった。すなわち、主ロール部Fの回転軸fに対して副ロール部Gの回転軸gがねじれの関係にあるため、主ロール部Fと副ロール部Gとの距離が基材並走部の中央部分と軸方向端部で僅かに異なることから、基材並走部の各基材Aに掛かる張力が異なってしまう。その結果、図9(b)に示すように、基材Aの走行姿勢が乱れ(基材Aが紙面上方向に変位)、製膜処理が安定しないという問題があった。   However, the film forming and conveying apparatus has a problem that the film forming process is not stable. That is, since the rotation axis g of the sub roll part G is twisted with respect to the rotation axis f of the main roll part F, the distance between the main roll part F and the sub roll part G is the central part of the base material parallel running part. Therefore, the tension applied to each base material A of the base material parallel running portion is different. As a result, as shown in FIG. 9B, there is a problem that the running posture of the base material A is disturbed (the base material A is displaced upward in the drawing), and the film forming process is not stable.

また、主ロール部Fと副ロール部Gとの距離が構造的に等しくなるようにした場合であっても、製膜材料供給部Hに備えられた熱源及びロール部D2と副ロール部Gとの間に設置される熱源の影響を受けることにより、基材並走部の基材Aの熱膨張に伴って、それぞれの基材Aの周長が不規則に変化してそれぞれの基材Aの張力が異なり、上記同様、製膜処理が安定しないという問題があった。   Further, even when the distance between the main roll part F and the sub roll part G is structurally equal, the heat source and the roll part D2 and the sub roll part G provided in the film forming material supply part H As a result of the influence of the heat source installed between the base materials A, the peripheral length of each base material A changes irregularly with the thermal expansion of the base material A of the base material parallel running portion. As described above, there was a problem that the film forming process was not stable.

本発明は上記問題を鑑みてなされたものであり、ロールトゥロールを用いた基材搬送処理装置において、基材を処理するチャンバ内に対向して配置されるロール間を複数列で走行する基材それぞれに生じる張力の乱れを抑えることにより、安定した基材処理を行うことができる基材搬送処理装置を提供することを目的としている。   The present invention has been made in view of the above problems, and in a base material transport processing apparatus using a roll-to-roll, a base that travels in a plurality of rows between rolls disposed facing each other in a chamber for processing the base material. It aims at providing the base material conveyance processing apparatus which can perform the stable base material processing by suppressing disorder of tension which arises in each material.

上記課題を解決するために本発明の基材搬送処理装置は、薄板長尺体の基材を送出リール部から巻取リール部に基材処理部を通過させて連続的に搬送し、前記基材処理部により搬送中の基材に所定の処理を行って、基材の表面を処理する基材搬送処理装置であって、前記基材処理部は、互いに対向して配置され前記基材が複数回架け渡されることにより基材並走部を形成する主ロール部と副ロール部とを有しており、前記副ロール部は、前記主ロール部の回転軸とねじれの関係になる角度を有する回転軸回りに回転するように配置されており、前記主ロール部と前記副ロール部との間には、前記基材並走部に当接して基材の張力を調節するテンションロールが設けられており、前記テンションロールは、前記基材並走部の複数の基材それぞれに独立して設けられ、前記基材並走部それぞれの基材の張力を個別に調節できることを特徴としている。   In order to solve the above-described problems, the base material transport processing apparatus of the present invention continuously transports a thin plate-shaped base material from the delivery reel unit to the take-up reel unit through the base material processing unit, and A base material transport processing device for processing a surface of a base material by performing a predetermined process on the base material being transported by a material processing unit, wherein the base material processing units are arranged to face each other and the base material is It has a main roll part and a sub roll part that form a base material parallel running part by being spanned a plurality of times, and the sub roll part has an angle that is a relation between the rotation axis of the main roll part and a twist. A tension roll is provided between the main roll portion and the sub roll portion to adjust the tension of the base material in contact with the base material parallel running portion. Each of the plurality of base materials of the base material parallel running section. Provided independently, it is characterized by individually controlled tension of the base material parallel running portions each substrate.

上記基材搬送処理装置によれば、基材並走部を形成する主ロール部と副ロール部との間にテンションロールが基材並走部の複数の基材それぞれに独立して設けられており、このテンションロールが基材並走部のそれぞれの基材の張力を個別に調節できるため、複数列で走行する基材それぞれに生じる張力の乱れを抑えることができる。したがって、基材並走部のそれぞれの基材の走行姿勢を安定させることができるため安定した基材処理を行うことができる。   According to the substrate transport processing apparatus, tension rolls are independently provided on each of the plurality of substrates of the substrate parallel running portion between the main roll portion and the sub roll portion forming the substrate parallel running portion. And since this tension roll can adjust the tension | tensile_strength of each base material of a base material parallel running part separately, disorder of the tension | tensile_strength which arises in each base material which drive | works in multiple rows | lines can be suppressed. Therefore, since the running posture of each base material of the base material parallel running portion can be stabilized, stable base material processing can be performed.

具体的な様態としては、前記基材処理部では、製膜処理が行われる構成としてもよい。   As a specific aspect, the base material processing unit may be configured to perform a film forming process.

この構成によれば、ロール間を複数列で走行する基材それぞれに生じる張力の乱れを抑えることにより、基材上に安定した製膜を形成することができる。   According to this configuration, it is possible to form a stable film formation on the base material by suppressing the disturbance of the tension generated in each base material traveling between the rolls in a plurality of rows.

また、前記副ロール部は、前記基材並走部の基材に応じた複数の個別ロールを有しており、前記複数の個別ロールは、前記主ロールの回転軸方向と平行に配列されており、それぞれの個別ロールの回転軸が前記主ロール部の回転軸とねじれの関係になる角度に設定されている構成にしてもよい。   Further, the sub-roll part has a plurality of individual rolls corresponding to the base material of the base material parallel running part, and the plurality of individual rolls are arranged in parallel with the rotation axis direction of the main roll. In addition, the rotation axis of each individual roll may be set to an angle that is in a torsional relationship with the rotation axis of the main roll portion.

この構成によれば、副ロール部が複数の個別ロールを有しており、これらの個別ロールが上記構成を備える構成にすることで、主ロール部と副ロール部との距離が中央部分と軸方向端部とで異なる問題が解消され、軸方向においてロール間の距離の違いから生じる基材に掛かる張力の問題は構造的に解消される。しかし、この構造であっても製膜温度を維持するための熱による影響によりそれぞれの基材に掛かる張力が異なる問題について完全に解消することが困難であるが、上述のテンションロールがそれぞれの基材の張力を個別に調節できるため、熱の問題が生じる場合であっても複数列で走行する基材それぞれに生じる張力の乱れを抑えることができる。すなわち、それぞれの基材にかかる張力を確実に調整することができるため、安定した製膜処理をすることができる。   According to this configuration, the sub-roll unit has a plurality of individual rolls, and these individual rolls have the above-described configuration, so that the distance between the main roll unit and the sub-roll unit is the center portion and the axis. The problem that differs between the end portions in the direction is solved, and the problem of the tension applied to the base material resulting from the difference in the distance between the rolls in the axial direction is solved structurally. However, even with this structure, it is difficult to completely eliminate the problem that the tension applied to each base material is different due to the influence of heat for maintaining the film forming temperature. Since the tension of the material can be adjusted individually, even if a thermal problem occurs, it is possible to suppress the tension disturbance occurring in each of the base materials traveling in a plurality of rows. That is, since the tension applied to each base material can be reliably adjusted, a stable film forming process can be performed.

本発明の基材搬送処理装置によれば、ロールトゥロールを用いた基材搬送処理装置において、複数列で走行するそれぞれの基材に生じる張力の乱れを抑えることにより、安定した基材処理を行うことができる。   According to the base material transport processing apparatus of the present invention, in the base material transport processing apparatus using roll-to-roll, stable base material processing can be performed by suppressing disturbance of tension generated in each base material traveling in a plurality of rows. It can be carried out.

本発明の一実施形態における搬送製膜装置(基材搬送処理装置)を示す図である。It is a figure which shows the conveyance film forming apparatus (base material conveyance processing apparatus) in one Embodiment of this invention. 上記搬送製膜装置(基材搬送処理装置)の製膜処理部を拡大した図である。It is the figure which expanded the film forming process part of the said conveyance film forming apparatus (base material conveyance processing apparatus). 製膜用ロールの概略図であり、図2におけるA方向から見た図である。It is the schematic of the roll for film forming, and is the figure seen from the A direction in FIG. 製膜用ロールの概略図であり、図2におけるB方向から見た図である。It is the schematic of the roll for film forming, and is the figure seen from the B direction in FIG. 副ロール部の概略断面図であり、(a)は、副ロール部を副ロール軸に直交する方向から見た断面図であり、(b)は、副ロール部を副ロール軸方向から見た断面図である。It is a schematic sectional drawing of a sub roll part, (a) is a sectional view which looked at a sub roll part from the direction orthogonal to a sub roll axis, and (b) looked at a sub roll part from the sub roll axis direction. It is sectional drawing. 製膜用ロールにおけるテンションロールを示す概略図である。It is the schematic which shows the tension roll in the roll for film forming. (a)は、太陽電池モジュールを示す図であり、(b)は太陽電池セルを示す図である。(A) is a figure which shows a solar cell module, (b) is a figure which shows a photovoltaic cell. 従来の搬送製膜装置を示す図である。It is a figure which shows the conventional conveyance film forming apparatus. 従来のネルソンロールを示す図である。It is a figure which shows the conventional Nelson roll.

次に、本発明の搬送製膜装置の実施の形態について説明する。ここで、図1は、本実施形態における搬送製膜装置(基材搬送処理装置)全体を示す概略図であり、図2は、製膜処理部の主要構成を示す図である。なお、本実施形態では、基材搬送処理装置として基材に製膜処理を行う搬送製膜装置を例に説明する。そして、搬送製膜装置の対象として、太陽電池モジュールの製膜形成に適用した例として説明することとする。   Next, an embodiment of the transport film forming apparatus of the present invention will be described. Here, FIG. 1 is a schematic diagram illustrating the entire transport film forming apparatus (base material transport processing apparatus) in the present embodiment, and FIG. 2 is a diagram illustrating a main configuration of a film forming processing unit. In the present embodiment, a transport film forming apparatus that performs a film forming process on a base material will be described as an example of the base material transport processing apparatus. Then, as an object of the transport film forming apparatus, it will be described as an example applied to film formation of a solar cell module.

図1及び図2に示すように、搬送製膜装置は、送出リール部10と、巻取リール部20と、製膜処理部(基材処理部)30とを有しており、送出リール部10に巻回された基材2が製膜処理部30を通過することにより基材2上に太陽電池セル4を形成する表面処理が行われ(製膜処理が行われ)、巻取リール部20に巻き取られることにより、ロール状の太陽電池セル母材4’が形成される。すなわち、送出リール部10から巻取リール部20に基材2が連続的に搬送される、いわゆるロール トゥ ロールにより、基材2上に太陽電池に必要な薄膜が積層されて太陽電池セル母材4’が形成される。この太陽電池セル母材4’は、後工程である切断工程により、図7(b)に示す短冊状の太陽電池セル4が形成され、さらに接合工程を経ることにより、太陽電池セル4同士が短手方向に配列して接合された太陽電池モジュール1が形成される(図7(a))。   As shown in FIGS. 1 and 2, the transport film forming apparatus includes a delivery reel unit 10, a take-up reel unit 20, and a film formation processing unit (base material processing unit) 30. When the base material 2 wound around 10 passes through the film forming treatment section 30, surface treatment for forming the solar cells 4 on the base material 2 is performed (film forming treatment is performed), and the take-up reel section By being wound around 20, a roll-shaped solar cell base material 4 ′ is formed. That is, a thin film necessary for a solar cell is laminated on the base material 2 by a so-called roll-to-roll, in which the base material 2 is continuously conveyed from the delivery reel unit 10 to the take-up reel unit 20, and the solar cell base material 4 'is formed. In this solar cell base material 4 ′, the strip-shaped solar cells 4 shown in FIG. 7B are formed by the subsequent cutting step, and further, the solar cells 4 are bonded to each other through a joining step. The solar cell modules 1 are arranged and joined in the short direction (FIG. 7A).

なお、本実施形態では、送出リール部10側を上流側とし、基材2が処理される後工程側、すなわち、巻取リール部20側を下流側として説明を進めることにする。   In the present embodiment, the description will proceed with the delivery reel unit 10 side as the upstream side and the subsequent process side where the substrate 2 is processed, that is, the take-up reel unit 20 side as the downstream side.

送出リール部10は、基材2を下流側に供給するためのものである。送出リール部10は、基材2を巻き付ける送出ロール11を有しており、この送出ロール11を駆動制御することにより基材2を送り出すことができるようになっている。すなわち、図示しない制御装置により送出ロール11の回転が制御されることにより、基材2の送出量を増加及び減少させることができる。具体的には、基材2が下流側から引張力を受けた状態で送出ロール11を回転させることにより基材2が下流側に送り出され、適宜、送出ロール11にブレーキをかけることにより基材2が撓むことなく一定速度で送り出されるようになっている。   The delivery reel unit 10 is for supplying the substrate 2 to the downstream side. The delivery reel unit 10 includes a delivery roll 11 around which the base material 2 is wound, and the base material 2 can be sent out by controlling the drive of the delivery roll 11. That is, by controlling the rotation of the delivery roll 11 by a control device (not shown), the delivery amount of the base material 2 can be increased and decreased. Specifically, the base material 2 is sent to the downstream side by rotating the delivery roll 11 while the base material 2 receives a tensile force from the downstream side, and the base material 2 is appropriately braked to apply the brake to the base material. 2 is sent out at a constant speed without bending.

ここで、基材2は、薄板の長尺体であり、厚み0.01mm〜0.2mm 幅5mm〜50mmの平板形状を有する長尺体が適用される。また、材質として、特に限定しないが、ステンレス、銅等が好適に用いられる。   Here, the base material 2 is a thin plate long body, and a long body having a flat plate shape with a thickness of 0.01 mm to 0.2 mm and a width of 5 mm to 50 mm is applied. Moreover, although it does not specifically limit as a material, Stainless steel, copper, etc. are used suitably.

巻取リール部20は、供給された基材2を巻き取るものである。巻取リール部20は、送出リール部10と同様に、巻取ロール21を有しており、この巻取ロール21を駆動制御することにより基材2を巻き取ることができるようになっている。すなわち、図示しない制御装置により巻取ロール21の回転が制御されることにより、基材2の巻取量を増加及び減少させることができる。具体的には、巻取ロール21の回転が調節されることにより、送り出された基材2が撓むのを抑えつつ、逆に基材2が必要以上の張力がかからないように巻き取られるようになっている。そして、本実施形態では、送出リール部10を出た基材2が一定速度で搬送され、巻取リール部20に巻き取られるように駆動制御されている。なお、これら送出リール部10と巻取リール部20は、真空環境を形成するチャンバー(破線で示す)内に配置されている。   The take-up reel unit 20 takes up the supplied base material 2. The take-up reel unit 20 has a take-up roll 21 as in the case of the delivery reel unit 10, and the base material 2 can be taken up by controlling the drive of the take-up roll 21. . That is, the amount of winding of the base material 2 can be increased and decreased by controlling the rotation of the winding roll 21 by a control device (not shown). Specifically, by adjusting the rotation of the take-up roll 21, it is possible to prevent the substrate 2 that has been sent out from being bent, and the substrate 2 is wound so that it does not receive excessive tension. It has become. In this embodiment, the base material 2 that has exited the delivery reel unit 10 is transported at a constant speed and is controlled to be taken up by the take-up reel unit 20. The delivery reel unit 10 and the take-up reel unit 20 are arranged in a chamber (shown by a broken line) that forms a vacuum environment.

製膜処理部(基材処理部)30は、基材2上に太陽電池に必要な薄膜を形成する(製膜する)ためのものであり、本実施形態では、複数の製膜処理部30が設けられている。具体的には、送出リール部10と巻取リール部20との間に複数の製膜処理部30が直線状に配置されており、送出リール部10から送り出された基材2が各製膜処理部30を走行して通過することにより基材2上に順次薄膜が形成される。すなわち、基材2側から下部電極層3a、光電変換層3b、上部電極層3c等の薄膜がこの順に製膜され、太陽電池セル母材4’が形成される(図7(b)参照)。   The film formation processing unit (base material processing unit) 30 is for forming (forming a film) a thin film necessary for the solar cell on the base material 2, and in the present embodiment, a plurality of film formation processing units 30. Is provided. Specifically, a plurality of film forming units 30 are arranged in a straight line between the delivery reel unit 10 and the take-up reel unit 20, and the base material 2 sent out from the delivery reel unit 10 is formed into each film forming unit. A thin film is sequentially formed on the base material 2 by running through the processing unit 30 and passing therethrough. That is, thin films such as a lower electrode layer 3a, a photoelectric conversion layer 3b, and an upper electrode layer 3c are formed in this order from the base material 2 side to form a solar cell base material 4 ′ (see FIG. 7B). .

これら製膜処理部30は、CVD、スパッタ、又は蒸着装置で構成されており、図2に示すように、チャンバー31と、このチャンバー31に収容される製膜用ロール(基材処理用ロール)5と材料供給部6とを有している。チャンバー31は、その内部を真空環境に保つものである。そして、真空環境に保たれたチャンバー31内に材料供給部6から特定の原料ガス(薄膜を形成する材料)が供給されることにより基材2上に所定の薄膜が形成される。チャンバー31には、入口部31aと出口部31bが形成されており、上流側から搬送される基材2が入口部31aからチャンバー31内に供給され、チャンバー31内で製膜処理された後、出口部31bを通じて下流側に搬送される。これら入口部31aと出口部31bとは、基材2が通過可能にシールされており、基材2が搬送により走行した場合でも、各チャンバー31は各薄膜を形成するのに適切な真空度に保たれているようになっている。   These film formation processing units 30 are configured by a CVD, sputtering, or vapor deposition apparatus. As shown in FIG. 2, as shown in FIG. 2, a chamber 31 and a film formation roll (base material treatment roll) accommodated in the chamber 31. 5 and a material supply unit 6. The chamber 31 maintains the inside in a vacuum environment. A predetermined thin film is formed on the substrate 2 by supplying a specific source gas (material for forming a thin film) from the material supply unit 6 into the chamber 31 maintained in a vacuum environment. The chamber 31 is formed with an inlet portion 31a and an outlet portion 31b. After the base material 2 conveyed from the upstream side is supplied into the chamber 31 from the inlet portion 31a and subjected to film formation in the chamber 31, It is conveyed downstream through the outlet 31b. The inlet portion 31a and the outlet portion 31b are sealed so that the base material 2 can pass therethrough, and even when the base material 2 travels by conveyance, each chamber 31 has a vacuum degree appropriate for forming each thin film. It is supposed to be kept.

材料供給部6は、基材2上に薄膜を形成するための材料を供給するためのものである。材料供給部6は、薄膜の原材料である原料ガスを噴出する噴出部(不図示)を有している。そして、噴出部から噴出した原料ガスがプラズマ雰囲気で分解され基材2上に堆積することにより所定の薄膜が形成される。この材料供給部6は、噴出部が基材並走部2aと対向した状態で設けられている。図2の例では、主ロール部51の外周面51aに形成された基材並走部2aと対向した状態で設けられている。具体的には、基材並走部2aの複数の基材2に対して1つの材料供給部6が共通に設けられており、これら基材並走部2aの複数の基材2に対向する位置に配置されて設けられている。これにより、これら複数の基材2に所定の薄膜が形成される。   The material supply unit 6 is for supplying a material for forming a thin film on the substrate 2. The material supply unit 6 has an ejection unit (not shown) that ejects a raw material gas that is a raw material of the thin film. Then, the raw material gas ejected from the ejection part is decomposed in the plasma atmosphere and deposited on the base material 2 to form a predetermined thin film. The material supply unit 6 is provided in a state where the ejection unit faces the base material parallel running unit 2a. In the example of FIG. 2, it is provided in a state facing the base material parallel running portion 2 a formed on the outer peripheral surface 51 a of the main roll portion 51. Specifically, one material supply unit 6 is provided in common with respect to the plurality of base materials 2 of the base material parallel running portion 2a, and faces the plurality of base materials 2 of the base material parallel running portions 2a. It is arranged at a position. Thereby, a predetermined thin film is formed on the plurality of base materials 2.

製膜用ロール5は、材料供給部6に対向して配置され、基材2を複数列並んだ状態の基材並走部2aを形成するためのものである。ここで、図3、図4は、製膜用ロール5の概略図であり、図3は、図2におけるA方向から見た図であり、図4は、図2におけるB方向から見た図である。製膜用ロール5は、主ロール部51と副ロール部52とを有しており、これらが所定の距離をおいて対向して配置されている。そして、この主ロール部51及び副ロール部52に基材2が交互に架け渡され、1本の基材2が軸方向に所定間隔をおいて複数列並んだ状態の基材並走部2aを形成して走行している。   The film-forming roll 5 is disposed to face the material supply unit 6 and forms the base material parallel running part 2a in a state where a plurality of base materials 2 are arranged. Here, FIG. 3 and FIG. 4 are schematic views of the film-forming roll 5, FIG. 3 is a view seen from the A direction in FIG. 2, and FIG. 4 is a view seen from the B direction in FIG. It is. The film-forming roll 5 has a main roll portion 51 and a sub-roll portion 52, which are arranged facing each other at a predetermined distance. Then, the base material 2 is alternately bridged between the main roll portion 51 and the sub roll portion 52, and the base material parallel running portion 2a in a state where one base material 2 is arranged in a plurality of rows at predetermined intervals in the axial direction. Running to form.

主ロール部51は、基材2の搬送方向に対して直交する状態で配置されるロールである。主ロール部51は、一方向に延びる主ロール軸53(主ロール部51の回転軸)を有しており、この主ロール軸53が上流側から搬送される基材2の搬送方向と直交する状態で配置されている。この主ロール部51は、図示しないサーボモータが連結されており、サーボモータを駆動制御することにより主ロール軸53を軸回りに回転及び停止できるようになっている。   The main roll unit 51 is a roll arranged in a state orthogonal to the conveyance direction of the base material 2. The main roll unit 51 has a main roll shaft 53 (rotation axis of the main roll unit 51) extending in one direction, and the main roll shaft 53 is orthogonal to the transport direction of the base material 2 transported from the upstream side. Arranged in a state. The main roll portion 51 is connected to a servo motor (not shown), and the main roll shaft 53 can be rotated and stopped about the axis by driving and controlling the servo motor.

また、主ロール部51は、略円筒形状を有しており、その外周面51aに沿って基材2が搬送される。具体的には、搬送された基材2が主ロール部51の外周面51aに沿って走行した後、副ロール部52を経て、再度主ロール部51の外周面51aに沿って走行するというように、主ロール部51と副ロール部52とに基材2が交互に架け渡されることにより、主ロール部51の外周面51aには基材2が軸方向に所定間隔で並んだ基材並走部2aが形成される。すなわち、主ロール部51が回転すると、主ロール部51の外周面51aには、1本の基材2が軸方向に複数列並んだ状態で走行するようになっている。   Moreover, the main roll part 51 has a substantially cylindrical shape, and the base material 2 is conveyed along the outer peripheral surface 51a. Specifically, after the conveyed base material 2 travels along the outer peripheral surface 51a of the main roll unit 51, it travels again along the outer peripheral surface 51a of the main roll unit 51 via the sub-roll unit 52. In addition, the base material 2 is alternately bridged between the main roll portion 51 and the sub roll portion 52, so that the base material 2 is aligned on the outer peripheral surface 51 a of the main roll portion 51 in the axial direction at a predetermined interval. A running portion 2a is formed. That is, when the main roll unit 51 rotates, the base material 2 travels on the outer peripheral surface 51a of the main roll unit 51 in a state where a plurality of rows are arranged in the axial direction.

副ロール部52は、主ロール部51に対向して配置されるロールである。副ロール部52は、副ロール軸54と、この副ロール軸54に設けられる個別ロール7とを有しており、個別ロール7が主ロール軸53に沿って複数個配列して設けられている。   The sub-roll unit 52 is a roll disposed to face the main roll unit 51. The sub-roll unit 52 includes a sub-roll shaft 54 and individual rolls 7 provided on the sub-roll shaft 54, and a plurality of individual rolls 7 are arranged along the main roll shaft 53. .

副ロール軸54は、後述するように一方向に延びる棒状部材で形成されている。この副ロール軸54は、上流側から搬送される基材2の搬送方向に対して直交する状態で配置されている。すなわち、副ロール軸54は、主ロール軸53に平行に設けられており、軸方向に亘って主ロール部51と等距離になるように配置されている。また、副ロール軸54は、駆動装置には連結されておらず固定して設けられている。したがって、副ロール軸54は、基材2の走行中であってもその軸回りに回転せず、主ロール軸53に対して平行な状態を保ったまま固定される。   The sub roll shaft 54 is formed of a rod-like member extending in one direction as will be described later. The sub roll shaft 54 is disposed in a state orthogonal to the transport direction of the base material 2 transported from the upstream side. That is, the sub roll shaft 54 is provided in parallel to the main roll shaft 53 and is disposed so as to be equidistant from the main roll portion 51 in the axial direction. Further, the sub roll shaft 54 is fixedly provided without being connected to the driving device. Therefore, the secondary roll shaft 54 does not rotate around its axis even while the substrate 2 is traveling, and is fixed while being kept parallel to the main roll shaft 53.

個別ロール7は、副ロール軸54に回転可能に設けられるロールである。ここで、図5は、副ロール部52の概略断面図であり、図5(a)は、副ロール部52を副ロール軸54に直交する方向から見た断面図であり、図5(b)は、副ロール部52を副ロール軸54方向から見た断面図である。図3〜図5に示すように、個別ロール7は、短尺に形成される小型のロールであり、副ロール軸54に複数配列して設けられている。そして、すべての個別ロール7は、その外周面7aが主ロール部51の外周面51aに対向する状態で設けられている。本実施形態では、個別ロール7は、副ロール軸54の延びる方向に所定間隔を置いて配置されており、それぞれの個別ロール7は、副ロール軸54に対して所定角度を有するように配置されている。具体的には、それぞれの個別ロール7は、その中心軸71(副ロール部52の回転軸)が副ロール軸54に対して同じ角度αを有するように配置されており、すべての個別ロール7は、主ロール部51(主ロール軸53)に対して一定の角度αを有する状態で配置されている。そして、副ロール軸54と主ロール軸53とが軸方向に亘って等距離に配置されているため、それぞれの個別ロール7は、主ロール部51に対して等距離に配置されている。   The individual roll 7 is a roll that is rotatably provided on the sub roll shaft 54. Here, FIG. 5 is a schematic cross-sectional view of the sub-roll portion 52, and FIG. 5 (a) is a cross-sectional view of the sub-roll portion 52 as viewed from a direction orthogonal to the sub-roll shaft 54, and FIG. ) Is a cross-sectional view of the sub roll portion 52 as viewed from the sub roll shaft 54 direction. As shown in FIGS. 3 to 5, the individual rolls 7 are small rolls formed in a short length, and are provided in a plurality on the secondary roll shaft 54. All the individual rolls 7 are provided in a state where the outer peripheral surface 7 a faces the outer peripheral surface 51 a of the main roll portion 51. In the present embodiment, the individual rolls 7 are arranged at a predetermined interval in the extending direction of the sub roll shaft 54, and each individual roll 7 is arranged to have a predetermined angle with respect to the sub roll shaft 54. ing. Specifically, each individual roll 7 is arranged so that the central axis 71 (the rotation axis of the sub roll portion 52) has the same angle α with respect to the sub roll axis 54, and all the individual rolls 7 are arranged. Are arranged in a state having a constant angle α with respect to the main roll portion 51 (main roll shaft 53). And since the sub roll axis | shaft 54 and the main roll axis | shaft 53 are arrange | positioned at equal distance over the axial direction, each individual roll 7 is arrange | positioned at equal distance with respect to the main roll part 51. FIG.

また、それぞれの個別ロール7は、それぞれの中心軸71回りに回転するように形成されている。具体的には、個別ロール7は、副ロール軸54に固定される内径ロール72と、この内径ロール72の外径側に嵌め込まれて設けられるベアリング73とを有しており、このベアリング73の外輪が内径ロール72に対して回転することにより、個別ロール7が中心軸71回りに回転できるようになっている。すなわち、すべての個別ロール7のベアリング73で形成される外周面7aが主ロール部51の外周面51aに対向するように配置され、それぞれの個別ロール7のベアリング73が主ロール部51に対して所定角度を有する状態で回転するようになっている。そして、主ロール部51及び副ロール部52に架け渡される基材2は、主ロール部51の外周面51aと個別ロール7のベアリング73とに架け渡されており、主ロール部51が駆動されることにより基材2が走行すると、基材2が個別ロール7のベアリング73に摺接しつつ走行することにより、それぞれの個別ロール7のベアリング73が自由に基材2の走行に合わせて従動回転するようになっている。   In addition, each individual roll 7 is formed to rotate around each central axis 71. Specifically, the individual roll 7 has an inner diameter roll 72 fixed to the sub-roll shaft 54 and a bearing 73 provided to be fitted on the outer diameter side of the inner diameter roll 72. When the outer ring rotates with respect to the inner diameter roll 72, the individual roll 7 can rotate around the central axis 71. That is, the outer peripheral surface 7 a formed by the bearings 73 of all the individual rolls 7 is disposed so as to face the outer peripheral surface 51 a of the main roll portion 51, and the bearings 73 of the individual rolls 7 are located with respect to the main roll portion 51. It rotates in the state which has a predetermined angle. And the base material 2 spanned by the main roll part 51 and the sub roll part 52 is spanned by the outer peripheral surface 51a of the main roll part 51, and the bearing 73 of the separate roll 7, and the main roll part 51 is driven. Thus, when the base material 2 travels, the base material 2 travels while being in sliding contact with the bearings 73 of the individual rolls 7, so that the bearings 73 of the individual rolls 7 are freely rotated in accordance with the travel of the base material 2. It is supposed to be.

このように、それぞれの個別ロール7は、主ロール部51に対して等距離に配置されるとともに、所定の角度αに傾斜した状態で回転可能に配置されているため、それぞれの個別ロール7上を走行する基材2は、同じ張力が付加された状態で走行することが可能になる。すなわち、図3に示すように、副ロール軸54が主ロール軸53と平行であって、すべての個別ロール7の中心軸71が主ロール軸53に対してねじれの関係になる角度に傾斜させて設けられているため、個別ロール7の外周面7a上を走行する基材2が主ロール部51から最も離れる点P1〜P5は副ロール軸54上に配列され、P1〜P5は、主ロール部51と等距離に配置される。そして、これらP1〜P5と、基材2が主ロール部51の外周面51aに接する接点との距離k1〜k5は全て等しい関係(k1=・・・=k5)になる。これにより、主ロール部51と副ロール部52とに架け渡される基材2それぞれに負荷される張力は(基材並走部2aの基材2それぞれに負荷される張力は)、ほぼ均一な状態になる。そして、主ロール部51に対して所定角度有αする状態で走行するため、基材2が主ロール部51と副ロール部52とに架け渡されて走行させた場合でも、基材2が軸方向に移動することなく個別ロール7上の初期の走行位置を保った状態で安定して走行することができる。   In this way, each individual roll 7 is arranged at an equal distance from the main roll unit 51 and is arranged so as to be rotatable in a state inclined at a predetermined angle α. The base material 2 that travels can travel while being applied with the same tension. That is, as shown in FIG. 3, the secondary roll shaft 54 is inclined parallel to the main roll shaft 53 so that the central shaft 71 of all the individual rolls 7 is twisted with respect to the main roll shaft 53. The points P1 to P5 where the base material 2 traveling on the outer peripheral surface 7a of the individual roll 7 is farthest from the main roll portion 51 are arranged on the sub roll shaft 54, and P1 to P5 are the main rolls. It is arranged equidistant from the part 51. The distances k1 to k5 between P1 to P5 and the contact point at which the base material 2 contacts the outer peripheral surface 51a of the main roll portion 51 are all equal (k1 =... = K5). Thus, the tension applied to each of the base materials 2 spanned between the main roll portion 51 and the sub roll portion 52 (the tension applied to each of the base materials 2 of the base material parallel running portion 2a) is substantially uniform. It becomes a state. And since it travels in the state which has a predetermined angle alpha with respect to the main roll part 51, even when the base material 2 is run over the main roll part 51 and the sub roll part 52, the base material 2 is the axis. It is possible to travel stably while maintaining the initial travel position on the individual roll 7 without moving in the direction.

また、副ロール部52は、軸方向移動機構と傾斜調節機構を有している。ここで、軸方向移動機構は、副ロール部52を主ロール部51に対して軸方向に移動させるものであり、傾斜調節機構は、個別ロール7の傾斜角度を調節するものである。本実施形態では、図5に示すように、副ロール軸54が2本のシャフト54aで形成されており、このシャフト54aに個別ロール7が固定されている。この副ロール軸54は、その両端部分が支持台(不図示)に支持されている。支持台には、2本のシャフト54aを軸方向に移動させることができるようになっており、シャフト54aを2本共に軸方向に移動させたり(軸方向移動機構)、シャフト54aを1本ずつ相対的に移動させる(傾斜調節機構)という動作が可能になっている。   Moreover, the sub roll part 52 has an axial direction movement mechanism and an inclination adjustment mechanism. Here, the axial direction moving mechanism moves the sub roll part 52 in the axial direction with respect to the main roll part 51, and the inclination adjusting mechanism adjusts the inclination angle of the individual roll 7. In this embodiment, as shown in FIG. 5, the sub roll shaft 54 is formed of two shafts 54a, and the individual rolls 7 are fixed to the shafts 54a. Both ends of the sub roll shaft 54 are supported by a support base (not shown). Two shafts 54a can be moved in the axial direction on the support base, and both of the two shafts 54a can be moved in the axial direction (axial movement mechanism), or the shafts 54a can be moved one by one. The relative movement (tilt adjustment mechanism) is possible.

また、シャフト54aは、2本共に同じ形状の角柱状部材であり、個別ロール7の内径ロール72に設けられた貫通孔72aに挿通されている。そして、シャフト54aには長手方向に沿って等間隔でピン90が固定されており、このピン90と個別ロール7とが連結されている。したがって、軸方向移動機構により2本のシャフト54aが共に軸方向に移動すると、副ロール軸54に設けられたすべての個別ロール7が主ロール部51に対して主ロール軸53方向に移動することができる。   The two shafts 54 a are prismatic members having the same shape, and are inserted into through holes 72 a provided in the inner diameter roll 72 of the individual roll 7. And the pin 90 is being fixed to the shaft 54a at equal intervals along the longitudinal direction, and this pin 90 and the separate roll 7 are connected. Therefore, when the two shafts 54 a are both moved in the axial direction by the axial movement mechanism, all the individual rolls 7 provided on the sub roll shaft 54 are moved in the direction of the main roll shaft 53 with respect to the main roll portion 51. Can do.

また、個別ロール7の内径ロール72には、ピン90の直径よりも大径のピン孔が設けられており、このピン孔にシャフト54aに設けられたピン90が挿入されることによって連結されている。すなわち、ピン90がピン孔に挿入された状態では、ピン90に対して個別ロール7が回動できるようになっている。したがって、一方のシャフト54aを固定した状態で、他方のシャフト54aを軸方向に移動させると、個別ロール7は、ピン孔にピン90が挿通された状態で他方のシャフト54aの軸移動に追従して回動することにより、個別ロール7の傾斜角度を調節することができる。例えば、図5の状態から、左側のシャフト54aに対して右側のシャフト54aを紙面下向き方向に移動させることにより、2本のシャフト54aに対する個別ロール7の傾斜角度を大きくすることができ、紙面上向きに移動させることにより、個別ロール7の傾斜角度を小さくすることができる(傾斜調節機構)。   Further, the inner diameter roll 72 of the individual roll 7 is provided with a pin hole having a diameter larger than the diameter of the pin 90, and the pin 90 provided on the shaft 54a is inserted into the pin hole to be connected. Yes. That is, the individual roll 7 can be rotated with respect to the pin 90 in a state where the pin 90 is inserted into the pin hole. Therefore, when the other shaft 54a is moved in the axial direction with one shaft 54a fixed, the individual roll 7 follows the axial movement of the other shaft 54a with the pin 90 inserted in the pin hole. The tilt angle of the individual rolls 7 can be adjusted by rotating them. For example, from the state shown in FIG. 5, by moving the right shaft 54a downward with respect to the left shaft 54a, the inclination angle of the individual rolls 7 with respect to the two shafts 54a can be increased. The inclination angle of the individual roll 7 can be reduced (inclination adjusting mechanism).

また、製膜用ロール5には、テンションロール55が設けられている。このテンションロール55は、基材並走部2aを形成する各基材2の張力を調節するものであり、主ロール部51と副ロール部52との間に設けられている。そして、テンションロール55は、各基材2それぞれに独立して当接し、それぞれの基材2の張力を個別に調節することができるようになっている。すなわち、上述の通り、この製膜用ロール5は、通常、それぞれの個別ロール7が、主ロール部51に対して等距離に配置されるとともに、個別ロール7の中心軸71が所定の角度に傾斜した状態で回転可能に配置されているため、各基材2にはそれぞれほぼ同じ張力が掛かる。しかし、材料供給部6から供給される原料ガスが、製膜処理に適した温度に維持されていることや、基材2を暖めるヒータが付けられている場合などでは、基材2が高温に曝されて熱膨張を生じることにより、基材並走部2aのそれぞれに基材2に掛かる張力が異なってしまい、製膜用ロール5において、基材2が安定して走行できず、製膜処理が安定しないという問題が生じる。そこで、テンションロール55がそれぞれの基材2の張力を調節することにより、基材2に掛かる張力を一定にして製膜処理を安定させることができる。   The film forming roll 5 is provided with a tension roll 55. The tension roll 55 adjusts the tension of each base material 2 that forms the base material parallel running portion 2 a, and is provided between the main roll portion 51 and the sub roll portion 52. The tension roll 55 abuts on each of the base materials 2 independently and can adjust the tension of each base material 2 individually. That is, as described above, in the film-forming roll 5, each individual roll 7 is usually arranged at an equal distance from the main roll portion 51, and the central axis 71 of the individual roll 7 is at a predetermined angle. Since each of the base materials 2 is arranged so as to be rotatable in an inclined state, substantially the same tension is applied to each base material 2. However, when the source gas supplied from the material supply unit 6 is maintained at a temperature suitable for the film forming process, or when a heater for heating the base material 2 is attached, the base material 2 is heated to a high temperature. Due to the thermal expansion caused by the exposure, the tension applied to the base material 2 differs in each of the base material parallel running portions 2a, and the base material 2 cannot travel stably in the film-forming roll 5, and the film is formed. There arises a problem that the processing is not stable. Therefore, the tension roll 55 adjusts the tension of each base material 2, whereby the tension applied to the base material 2 can be kept constant and the film forming process can be stabilized.

このテンションロール55は、基材2に当接するテンションロール本体551と、ウエイト部552とを有しており、基材並走部2aのそれぞれの基材2に独立して設けられている。具体的には、テンションロール本体551とウエイト部552とが支持部553で連結されており、支持部553を中心に回転できるように設けられている。   The tension roll 55 has a tension roll main body 551 that contacts the base material 2 and a weight portion 552, and is provided independently on each base material 2 of the base material parallel running portion 2a. Specifically, the tension roll main body 551 and the weight portion 552 are connected by a support portion 553, and are provided so as to be rotatable about the support portion 553.

テンションロール本体551は、略円筒形状のロールであり、基材2の走行方向に対して軸が直交する方向に配置され、その外周面が基材2の裏面を当接して支持している。すなわち、基材2が走行すると、テンションロール本体551が軸回りに回転できるようになっている。   The tension roll body 551 is a substantially cylindrical roll, and is arranged in a direction in which the axis is orthogonal to the traveling direction of the base material 2, and the outer peripheral surface abuts and supports the back surface of the base material 2. That is, when the base material 2 travels, the tension roll body 551 can rotate about the axis.

また、ウエイト部552は、テンションロール本体551を基材2に当接させるための錘である。このウエイト部552は、テンションロール本体551よりも重く設定されており、支持部553の回転をフリーにした状態では、ウエイト部552がテンションロール本体551よりも鉛直方向下側に位置するようになっている。   The weight portion 552 is a weight for bringing the tension roll body 551 into contact with the base material 2. The weight portion 552 is set to be heavier than the tension roll body 551, and the weight portion 552 is positioned below the tension roll body 551 in the vertical direction when the support portion 553 is free to rotate. ing.

テンションロール55は、ウエイト部552が鉛直方向最下位置にある場合(図6における2点鎖線の状態)には、テンションロール本体551の基材2と当接する部分の高さ位置が、基材2の正常な走行経路高さよりも高くなるように設けられている。そして、製膜処理を行う場合に基材2に当接させた状態(図6における破線の状態)では、支持部553を中心に回転させて、ウエイト部552が鉛直方向最下位よりも高い位置に変位させた状態でテンションロール本体551と基材2とを当接させる。これにより、基材2に掛かる張力を調節することができる。すなわち、温度の影響により基材2が熱膨張して伸びた場合には、基材2の張力が変化するが、重力の影響を受けたウエイト部552が鉛直方向最下位置に変位しようとすることにより、図6の実線で示すように、テンションロール本体551基材2側に変位して、基材2の伸びに対する張力の変化分を補うように張力を調節する。このような基材2の張力の調節が基材並走部2aのそれぞれの基材2に対して個別に行われる。したがって、製膜処理において熱などの影響により基材2に生じる張力の乱れが生じた場合でも、テンションロール55で各基材2毎に張力が調節されるため、基材並走部2aのそれぞれの基材2の走行姿勢が安定し、安定した製膜処理が可能になる。   When the weight roll 552 is at the lowest position in the vertical direction (the state indicated by the two-dot chain line in FIG. 6), the tension roll 55 has a height position at which the tension roll body 551 comes into contact with the base material 2. It is provided so that it may become higher than 2 normal driving path height. Then, in the state where the substrate 2 is brought into contact with the film forming process (the state of the broken line in FIG. 6), the weight portion 552 is positioned higher than the lowest position in the vertical direction by rotating around the support portion 553. The tension roll main body 551 and the base material 2 are brought into contact with each other in the state of being displaced in the direction. Thereby, the tension applied to the base material 2 can be adjusted. That is, when the base material 2 expands due to thermal influence, the tension of the base material 2 changes, but the weight portion 552 affected by gravity tends to be displaced to the lowest position in the vertical direction. As a result, as shown by the solid line in FIG. 6, the tension is adjusted so as to be displaced toward the tension roll body 551 base 2 and to compensate for the change in tension with respect to the elongation of the base 2. Such adjustment of the tension of the base material 2 is performed individually for each base material 2 of the base material parallel running portion 2a. Therefore, even when the tension disturbance generated in the base material 2 due to the influence of heat or the like occurs in the film forming process, the tension is adjusted for each base material 2 by the tension roll 55, so that each of the base material parallel running portions 2a. The running posture of the substrate 2 is stable, and a stable film forming process is possible.

なお、上記実施形態では、製膜用ロール5において、副ロール軸54が主ロール軸53に平行に設けられており、副ロール部52の個別ロール7の中心軸71が主ロール軸53に対してねじれの関係を有する所定角度αを有するものについて説明したが、主ロール軸53に対して副ロール軸がねじれの関係を有する所定角度に配置されたもの、すなわち、主ロール部51と副ロール部52とがネルソンロールであるものであってもよい。   In the above embodiment, in the film forming roll 5, the sub roll shaft 54 is provided in parallel to the main roll shaft 53, and the central axis 71 of the individual roll 7 of the sub roll portion 52 is relative to the main roll shaft 53. However, the main roll shaft 53 is arranged at a predetermined angle having a torsional relationship with respect to the main roll shaft 53, that is, the main roll portion 51 and the subroll. The part 52 may be a Nelson roll.

また、上記実施形態では、副ロール部52が個別ロール7を有する場合について説明したが、副ロール部52が主ロール部51同様、1つのロールで形成されており、主ロール部51と副ロール部52とがネルソンロールを構成するものであってもよい。これら場合には、構造上、熱の影響を受けずとも各基材2に掛かる張力が異なっているが、上述のテンションロール55を設けることにより各基材2に掛かる張力を一定にして製膜処理を安定させることができる。   Moreover, although the case where the sub roll part 52 had the individual roll 7 was demonstrated in the said embodiment, the sub roll part 52 is formed with one roll like the main roll part 51, and the main roll part 51 and a sub roll The part 52 may constitute a Nelson roll. In these cases, the tension applied to each base material 2 is different from that of the structure without being affected by heat. However, the above-described tension roll 55 is provided so that the tension applied to each base material 2 is kept constant. Processing can be stabilized.

また、上記実施形態では、製膜用ロール5が錘を用いることにより基材2に張力を付与して張力を調節する形態について説明したが、錘以外にもシリンダー機構、バネ機構により基材2に張力を付与して張力を調節するものであってもよい。   In the above embodiment, the film forming roll 5 uses the weight to apply tension to the base material 2 to adjust the tension. However, in addition to the weight, the base material 2 is controlled by a cylinder mechanism or a spring mechanism. It is also possible to adjust the tension by applying tension.

また、上記実施形態では、主ロール部51の外周面に形成された基材並走部2aに対向するように材料供給部6が設けられる例について説明したが、主ロール部51と副ロール部52との間に形成される基材並走部2aに対向するように材料供給部6が設けられるものであってもよい。   Moreover, although the said embodiment demonstrated the example in which the material supply part 6 was provided so that the base material parallel running part 2a formed in the outer peripheral surface of the main roll part 51 might be opposed, the main roll part 51 and the sub roll part The material supply unit 6 may be provided so as to face the base material parallel running unit 2 a formed between the base material parallel running unit 2 and the substrate 52.

また、上記実施形態では、製膜処理がCVDで行われる形態について説明したが、スパッタ、蒸着等、他の製膜処理方法で行われるものであってもよい。そして、基材2がドライ環境だけでなく、ウエット環境で処理されるものであってもよい。   In the above embodiment, the film forming process is performed by CVD. However, the film forming process may be performed by another film forming process such as sputtering or vapor deposition. And the base material 2 may be processed not only in a dry environment but also in a wet environment.

また、上記実施形態では、太陽電池を製造する例について説明したが、本発明の搬送製膜装置は、有機ELなど、いわゆるロール トゥ ロールにより、平板状の基材2を搬送させながら基材2上に薄膜を形成するあらゆる用途に対して適用することができる。   Moreover, although the said embodiment demonstrated the example which manufactures a solar cell, the conveyance film forming apparatus of this invention is the base material 2, conveying the flat base material 2 by what is called roll-to-roll, such as organic EL. It can be applied to any application for forming a thin film thereon.

また、上記実施形態では、基材搬送処理装置として搬送製膜装置を例に説明したが、この他にも、チャンバー内でアニール処理、プラズマ処理等、基材を搬送しつつ加熱等の処理が行われる基材搬送処理装置であってもよい。すなわち、基材2に加熱又は、冷却等の処理が行われることにより、基材2が熱伸び、熱収縮した場合であっても、複数列で走行する基材それぞれに生じる張力の乱れを抑え、それぞれの基材にかかる張力を確実に調整し、基材2に対する処理を安定して行うことができる。   Moreover, in the said embodiment, although the conveyance film forming apparatus was demonstrated to the example as a base material conveyance processing apparatus, processes, such as a heating, conveying a base material, such as annealing treatment and a plasma processing, are also carried out in a chamber. The base material conveyance processing apparatus performed may be sufficient. That is, even when the base material 2 is subjected to heat treatment or cooling treatment, even when the base material 2 is thermally stretched and contracted, the tension disturbance generated in each of the base materials traveling in a plurality of rows is suppressed. The tension applied to each base material can be reliably adjusted, and the base material 2 can be processed stably.

2 基材
2a 基材並走部
5 製膜用ロール
7 個別ロール
10 送出リール部
20 巻取リール部
30 製膜処理部(基材処理部)
51 主ロール部
52 副ロール部
53 主ロール軸
54 副ロール軸
55 テンションロール
71 中心軸(個別ロールの回転軸)
2 base material 2a base material parallel running part 5 roll for film formation 7 individual roll 10 delivery reel part 20 take-up reel part 30 film formation processing part (base material processing part)
51 Main Roll Part 52 Sub Roll Part 53 Main Roll Axis 54 Sub Roll Axis 55 Tension Roll 71 Center Axis (Rotary Axis of Individual Roll)

Claims (3)

薄板長尺体の基材を送出リール部から巻取リール部に基材処理部を通過させて連続的に搬送し、前記基材処理部により搬送中の基材に所定の処理を行って、基材の表面を処理する基材搬送処理装置であって、
前記基材処理部は、互いに対向して配置され前記基材が複数回架け渡されることにより基材並走部を形成する主ロール部と副ロール部とを有しており、
前記副ロール部は、前記主ロール部の回転軸とねじれの関係になる角度を有する回転軸回りに回転するように配置されており、
前記主ロール部と前記副ロール部との間には、前記基材並走部に当接して基材の張力を調節するテンションロールが設けられており、
前記テンションロールは、前記基材並走部の複数の基材それぞれに独立して設けられ、前記基材並走部それぞれの基材の張力を個別に調節できることを特徴とする基材搬送処理装置。
The thin plate long base material is continuously conveyed by passing the base material processing portion from the delivery reel portion to the take-up reel portion, and the base material processing portion performs predetermined processing on the base material processing portion, A substrate transport processing device for processing the surface of a substrate,
The base material processing part has a main roll part and a sub roll part that are arranged to face each other and form a base material parallel part by the base material being spanned multiple times,
The sub-roll part is disposed so as to rotate around a rotation axis having an angle that is a twist relationship with the rotation axis of the main roll part,
Between the main roll part and the sub roll part, a tension roll that adjusts the tension of the base material in contact with the base material parallel running part is provided,
The tension roll is provided independently for each of the plurality of base materials of the base material parallel portion, and the tension of the base material of each of the base material parallel portions can be individually adjusted. .
前記基材処理部では、製膜処理が行われることを特徴とする請求項1に記載の基材搬送処理装置。   The substrate transport processing apparatus according to claim 1, wherein a film forming process is performed in the substrate processing unit. 前記副ロール部は、前記基材並走部の基材に応じた複数の個別ロールを有しており、前記複数の個別ロールは、前記主ロールの回転軸方向と平行に配列されており、それぞれの個別ロールの回転軸が前記主ロール部の回転軸とねじれの関係になる角度に設定されていることを特徴とする請求項1又は2に記載の基材搬送処理装置。   The sub-roll part has a plurality of individual rolls corresponding to the base material of the base material parallel running part, and the plurality of individual rolls are arranged in parallel with the rotation axis direction of the main roll, The substrate transport processing apparatus according to claim 1 or 2, wherein the rotation axis of each individual roll is set to an angle that is in a torsional relationship with the rotation axis of the main roll portion.
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