JP2015174886A - Pressure-sensitive adhesive film, production method of pressure-sensitive adhesive film, and production method of organic electroluminescent element using pressure-sensitive adhesive film - Google Patents
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Abstract
Description
本発明は、粘着フィルム、粘着フィルムの製造方法並びに粘着フィルムを用いた有機エレクトロルミネッセンス素子の製造方法に関する。 The present invention relates to a pressure-sensitive adhesive film, a method for producing a pressure-sensitive adhesive film, and a method for producing an organic electroluminescence element using the pressure-sensitive adhesive film.
有機エレクトロルミネッセンス( 以下「有機EL」と称する場合がある)素子は、発光する化合物を含有する発光層を陰極と陽極とで挟んだ構造を有し、発光層に電子及び正孔を注入して再結合させることにより励起子(エキシトン)を生成させ、このエキシトンが失活する際の光の放出(蛍光、燐光)を利用して発光する素子であり、数V 〜 数十V 程度の電圧で発光が可能であり、さらに、自己発光型であるために視野角に富み、視認性が高く、薄膜型の完全固体素子であるために省スペース性、携帯性に優れるなどの観点から注目されている。そして、基板上に上記有機E L 素子を形成した有機ELパネルは、表示デバイス、ディスプレイ、各種発光光源として使用することができる。
現在、有機ELパネルの中でも、特に折り曲げ可能なフレキシブルディスプレイが注目されている。フレキシブルディスプレイとするためには、有機EL素子を形成する基板としてフレキシブル性を有するものを使用することが必要である。さらに、有機EL素子に使用される発光層 (有機発光体)や、電子、正孔輸送材料などの有機固体は一般的に水分や酸素に対して極めて不安定であり、有機EL素子内に存在する水分や酸素はもちろんのこと、素子の外部から侵入する水分や酸素によって劣化し、いわゆるダークスポットの成長や光透過度の低下の他、発光効率の著しい低下を引き起こしてしまうと言う問題があるため、基板には高いガスバリア性を有することが必要とされる。
さらに、有機EL素子は、駆動期間の長期化に伴って、素子内に侵入した水分の影響を受け、所謂ダークスポットの形成が懸念されるほか、輝度や発光効率等の発光特性が徐々に低下する懸念を有している。このため、有機EL素子では、素子内の水分を除去し、さらに密閉した状態で使用する必要があるが、このような電子デバイスを封止により完全に密閉することは困難である。
An organic electroluminescence (hereinafter sometimes referred to as “organic EL”) element has a structure in which a light-emitting layer containing a light-emitting compound is sandwiched between a cathode and an anode, and electrons and holes are injected into the light-emitting layer. It is an element that generates excitons (excitons) by recombination and emits light by using light emission (fluorescence, phosphorescence) when the excitons are deactivated, and has a voltage of several V to several tens V. It is capable of emitting light, and also has a wide viewing angle because it is self-luminous, has high visibility, and is a thin-film type completely solid element, so it attracts attention from the viewpoints of space saving and portability. Yes. And the organic EL panel which formed the said organic EL element on the board | substrate can be used as a display device, a display, and various light emission light sources.
At present, among organic EL panels, a flexible display that can be folded is attracting attention. In order to obtain a flexible display, it is necessary to use a substrate having flexibility as a substrate on which the organic EL element is formed. Furthermore, light emitting layers (organic light emitters) used in organic EL elements and organic solids such as electrons and hole transport materials are generally extremely unstable with respect to moisture and oxygen and are present in organic EL elements. In addition to the moisture and oxygen to be used, it is deteriorated by moisture and oxygen entering from the outside of the device, and there is a problem that the luminous efficiency is remarkably lowered in addition to so-called dark spot growth and light transmittance reduction. Therefore, the substrate is required to have a high gas barrier property.
Furthermore, organic EL elements are affected by moisture that has penetrated into the element as the driving period becomes longer, and there is concern about the formation of so-called dark spots, and the light emission characteristics such as luminance and light emission efficiency gradually decrease. Have concerns. For this reason, in an organic EL element, it is necessary to remove moisture in the element and use it in a sealed state, but it is difficult to completely seal such an electronic device by sealing.
また、有機EL素子と同様、盛んに開発が進められている電子デバイスとして、液晶表示素子が知られている。液晶表示素子は、離間して配置された一対の基板間に液晶が挟持された構成を有する。液晶表示素子は、基板間の液晶が水分の影響を受けて表示不良を発生させる懸念があるため、有機EL素子と同様、外部から素子内に水分が侵入することを抑えた密閉状態での使用が求められる。 Similarly to organic EL elements, liquid crystal display elements are known as electronic devices that are being actively developed. The liquid crystal display element has a configuration in which liquid crystal is sandwiched between a pair of substrates that are spaced apart. Since the liquid crystal display element may cause a display defect due to the influence of moisture on the liquid crystal between the substrates, it is used in a sealed state in which moisture is prevented from entering the element from the outside like the organic EL element. Is required.
そこで、あらかじめ電子デバイス内に特定の有機金属化合物からなる乾燥材料を配置し、この乾燥材料に水分を捕獲させることで電子デバイス内を低湿度環境に保つ技術が知られている(例えば、特許文献1参照)。 Therefore, a technique is known in which a dry material made of a specific organometallic compound is arranged in advance in an electronic device, and the inside of the electronic device is maintained in a low humidity environment by capturing moisture in the dry material (for example, Patent Documents). 1).
しかし、このような乾燥材料は特定の有機金属化合物を主成分としているため、空気中での取り扱いが困難であることから湿度等が厳密に制御された密閉空間で取り扱うことが必要であった。また乾燥材料の加工性を向上させるため加える添加剤等も厳密に水分管理されたものでなければならず、溶剤、レベリング剤等の水分管理が難しい物質を加えると乾燥機能を損なう恐れがあった。 However, since such a dry material has a specific organometallic compound as a main component, it is difficult to handle it in the air, so that it is necessary to handle it in a sealed space in which humidity and the like are strictly controlled. In addition, additives to be added to improve the processability of dry materials must be strictly controlled in moisture, and adding substances that are difficult to control moisture, such as solvents and leveling agents, may impair the drying function. .
このように空気中での取り扱いや水分への耐性が向上すれば、乾燥材料の加工性が向上する。例えば、乾燥材料を粘着層形成用組成物に加えることで、乾燥機能を有した粘着層形成用組成物の製造が可能であり、乾燥機能を有した粘着層形成用組成物を有機ELの製造で使用されるフィルム上に塗工することが可能となれば、有機エレクトロルミネッセンス装置の製造に好適な粘着フィルムを簡便に製造することができるようになる。 Thus, if the handling in air and the tolerance to moisture are improved, the processability of the dried material is improved. For example, by adding a drying material to the adhesive layer forming composition, it is possible to produce an adhesive layer forming composition having a drying function, and producing an adhesive layer forming composition having a drying function as an organic EL. If it becomes possible to apply | coat on the film used by (1), the adhesive film suitable for manufacture of an organic electroluminescent apparatus will be able to be manufactured simply.
本発明は、以上のような問題に鑑みてなされたものである。本発明は、以上のような問題に鑑みてなされたものである。すなわち、本発明の課題は、有機EL素子および液晶表示素子等の電子デバイスにおいて、素子内の水分を除去することを目的とした有機EL素子の製造に用いられる粘着フィルム、粘着フィルムの製造方法を提供することにある。 The present invention has been made in view of the above problems. The present invention has been made in view of the above problems. That is, an object of the present invention is to provide a pressure-sensitive adhesive film and a method for manufacturing a pressure-sensitive adhesive film used for manufacturing an organic EL element for the purpose of removing moisture in the element in electronic devices such as organic EL elements and liquid crystal display elements. It is to provide.
上記課題を解決するためになされた発明は、
フィルム上に粘着層形成用組成物を塗工して製造される粘着フィルムであって、粘着層形成用組成物が下記成分を含むことを特徴とする粘着フィルムによって達成される。
(A)加水分解しうる構造を有する化合物と、
(B)酸発生剤および塩基発生剤から選ばれる少なくとも1種の化合物
さらに、(C)溶剤または(D)レベリング剤の少なくともいずれか一方を含む粘着層形成用組成物を塗工して製造されることを特徴とする粘着フィルムによって達成される。
前記化合物(A)が、式(A1−1)で表される構造部位を有する化合物および式(A1−2)で表される化合物から選ばれる少なくとも1種の化合物(A1)、カルボン酸無水物(A2)、ならびに式(A3−1)で表される化合物および式(A3−2)で表される化合物から選ばれる少なくとも1種の化合物(A3)からなる群から選択される少なくとも1種であり、
前記化合物(B)が、酸発生剤である粘着層形成用組成物を塗工して製造されることを特徴とする請求項1から請求項3のいずれか一項に記載の粘着フィルムによって達成される。
The invention made to solve the above problems is
A pressure-sensitive adhesive film produced by applying a pressure-sensitive adhesive layer forming composition on a film, wherein the pressure-sensitive adhesive layer forming composition includes the following components.
(A) a compound having a hydrolyzable structure;
(B) At least one compound selected from an acid generator and a base generator Furthermore, it is manufactured by applying a composition for forming an adhesive layer containing at least one of (C) a solvent or (D) a leveling agent. It is achieved by an adhesive film characterized in that.
The compound (A) is at least one compound (A1) selected from a compound having a structural moiety represented by the formula (A1-1) and a compound represented by the formula (A1-2), a carboxylic acid anhydride (A2) and at least one selected from the group consisting of at least one compound (A3) selected from the compound represented by formula (A3-1) and the compound represented by formula (A3-2) Yes,
The said compound (B) is manufactured by applying the composition for adhesion layer formation which is an acid generator, It achieves with the adhesion film as described in any one of Claims 1-3 characterized by the above-mentioned. Is done.
[式(A1−1)中、R1〜R5は、それぞれ独立に水素原子または炭素数1〜18の有機基であり、R6およびR7は、それぞれ独立に水素原子、水酸基または炭素数1〜18の有機基であり、R3、R4およびR7は、これらが直接結合する炭素原子と一緒になって環状構造を形成していてもよく、nは0または1〜18の整数であり、*は結合位を示し;式(A1−2)中、R1は水素原子または炭素数1〜18の有機基であり;R8はそれぞれ独立に炭素数3〜10の有機基である。] [In Formula (A1-1), R 1 to R 5 are each independently a hydrogen atom or an organic group having 1 to 18 carbon atoms, and R 6 and R 7 are each independently a hydrogen atom, a hydroxyl group or a carbon number. An organic group of 1 to 18, R 3 , R 4 and R 7 may form a cyclic structure together with the carbon atom to which they are directly bonded, and n is an integer of 0 or 1 to 18 * Represents a bonding position; in Formula (A1-2), R 1 is a hydrogen atom or an organic group having 1 to 18 carbon atoms; R 8 is each independently an organic group having 3 to 10 carbon atoms; is there. ]
[式(A3−1)および(A3−2)中、Xは、ケイ素原子、チタン原子またはジルコニウム原子であり;R1は、(メタ)アクリロイル基、オキシラニル基、オキセタニル基、3,4−エポキシシクロヘキシル基、メルカプト基およびイソシアネート基から選ばれる少なくとも1種の基を有する有機基、炭素数1〜6のアルキル基、炭素数3〜12のシクロアルキル基、フェニル基、またはベンジル基であり;R2は、水素原子、置換基を有してもよい炭素数1〜20のアルキル基、置換基を有してもよい炭素数3〜12のシクロアルキル基、置換基を有してもよい炭素数6〜14の芳香族炭化水素基、(メタ)アクリロイルオキシ基、グリシドキシ基、オキシラニル基、オキセタニル基、3,4−エポキシシクロヘキシル基、またはメルカプト基であり; pは0〜6の整数であり; rは0〜2の整数であり、sは1〜30の整数である。]
さらに、(1)フィルム上に粘着層形成用組成物を塗工する工程、(2)加熱する工程法を含む粘着フィルムの製造方法によって達成される。
[In the formulas (A3-1) and (A3-2), X represents a silicon atom, a titanium atom or a zirconium atom; R 1 represents a (meth) acryloyl group, an oxiranyl group, an oxetanyl group, a 3,4-epoxy. An organic group having at least one group selected from a cyclohexyl group, a mercapto group, and an isocyanate group, an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms, a cycloalkyl group having 3 to 12 carbon atoms, a phenyl group, or a benzyl group; R 2 represents a hydrogen atom, an optionally substituted alkyl group having 1 to 20 carbon atoms, an optionally substituted cycloalkyl group having 3 to 12 carbon atoms, and an optionally substituted carbon. Aromatic hydrocarbon group of formulas 6 to 14, (meth) acryloyloxy group, glycidoxy group, oxiranyl group, oxetanyl group, 3,4-epoxycyclohexyl group, or Be a mercapto group; p is an integer of Less than six; r is an integer of 0 to 2, s is an integer of 1 to 30. ]
Furthermore, it is achieved by a method for producing an adhesive film including (1) a step of applying a composition for forming an adhesive layer on a film, and (2) a heating method.
本発明は、本発明は、以上のような問題に鑑みてなされたものである。本発明は、以上のような問題に鑑みてなされたものである。すなわち、本発明の課題は、有機EL素子および液晶表示素子等の電子デバイスにおいて、素子内の水分を除去することを目的とした有機EL素子の製造に用いられる粘着フィルム、粘着フィルムの製造方法を提供することにある。 The present invention has been made in view of the above problems. The present invention has been made in view of the above problems. That is, an object of the present invention is to provide a pressure-sensitive adhesive film and a method for manufacturing a pressure-sensitive adhesive film used for manufacturing an organic EL element for the purpose of removing moisture in the element in electronic devices such as an organic EL element and a liquid crystal display element. It is to provide.
本発明の粘着フィルム、粘着フィルム製造に用いる粘着層形成用組成物、および粘着フィルムを用いて製造される有機エレクトロルミネッセンス素子について説明する。 The pressure-sensitive adhesive film of the present invention, the pressure-sensitive adhesive layer forming composition used for manufacturing the pressure-sensitive adhesive film, and the organic electroluminescence element manufactured using the pressure-sensitive adhesive film will be described.
[粘着層形成用組成物]
本発明の粘着層形成用組成物は、加水分解しうる構造を有する化合物(A)と、酸発生剤および塩基発生剤から選ばれる少なくとも1種の化合物(B)とを含有する。また、前記粘着層形成用組成物は、重合性化合物(C)を更に含有することが好ましい。さらに溶剤、レベリング剤等を含むことでフィルム上への塗工性が向上することから好ましく用いられる。
[Adhesive layer forming composition]
The composition for forming an adhesive layer of the present invention contains a compound (A) having a hydrolyzable structure and at least one compound (B) selected from an acid generator and a base generator. Moreover, it is preferable that the said composition for adhesion layer formation further contains a polymeric compound (C). Furthermore, it is preferably used because it contains a solvent, a leveling agent and the like, so that the coating property on the film is improved.
以下の説明において、化合物(A)および化合物(B)を、それぞれ水分捕獲剤(A)および酸・塩基発生剤(B)ともいい、また水分捕獲剤(A)、酸・塩基発生剤(B)および重合性化合物(C)を、それぞれ成分(A)、成分(B)および成分(C)ともいう。特に言及しない限り、その他の例においても同様である。また、式(i)で表される化合物(iは式番号である)を、化合物(i)ともいう。 In the following description, the compound (A) and the compound (B) are also referred to as a water trapping agent (A) and an acid / base generator (B), respectively, and the water trapping agent (A) and the acid / base generator (B). ) And the polymerizable compound (C) are also referred to as a component (A), a component (B), and a component (C), respectively. The same applies to other examples unless otherwise specified. In addition, the compound represented by formula (i) (i is a formula number) is also referred to as compound (i).
[水分捕獲剤(A)]
水分捕獲剤(A)は、例えば酸または塩基の存在下で加水分解しうる構造を有する化合物である。水分捕獲剤(A)としては、例えば、式(A1−1)で表される構造部位を有する化合物および式(A1−2)で表される化合物から選ばれる少なくとも1種の化合物(A1)、カルボン酸無水物(A2)、ならびに式(A3−1)で表される化合物および式(A3−2)で表される化合物から選ばれる少なくとも1種の化合物(A3)が挙げられる。これらの化合物(A1)〜(A3)は各々1種単独で用いてもよく、2種以上を併用してもよい。以下の説明において、化合物(A1)〜(A3)を、それぞれ水分捕獲剤(A1)〜(A3)ともいう。
[Moisture capture agent (A)]
The moisture trapping agent (A) is a compound having a structure that can be hydrolyzed in the presence of an acid or a base, for example. As the moisture capturing agent (A), for example, at least one compound (A1) selected from a compound having a structural moiety represented by the formula (A1-1) and a compound represented by the formula (A1-2), Carboxylic anhydride (A2), and at least one compound (A3) selected from a compound represented by formula (A3-1) and a compound represented by formula (A3-2) can be mentioned. Each of these compounds (A1) to (A3) may be used alone or in combination of two or more. In the following description, the compounds (A1) to (A3) are also referred to as moisture trapping agents (A1) to (A3), respectively.
[水分捕獲剤(A1)]
水分捕獲剤(A1)は、式(A1−1)で表される構造部位を有する化合物、および式(A1−2)で表される化合物から選ばれる少なくとも1種の化合物である。水分捕獲剤(A1)は、中性および塩基性条件下においては水との反応性が低く安定であるが、酸の存在下では加水分解反応を容易に起こす。
[Moisture capture agent (A1)]
The moisture capturing agent (A1) is at least one compound selected from a compound having a structural moiety represented by the formula (A1-1) and a compound represented by the formula (A1-2). The moisture trapping agent (A1) is stable with low reactivity with water under neutral and basic conditions, but easily causes hydrolysis reaction in the presence of an acid.
式(A1−1)中、R1〜R5は、それぞれ独立に水素原子または炭素数1〜18の有機基であり;R6およびR7は、それぞれ独立に水素原子、水酸基または炭素数1〜18の有機基であり;R3、R4およびR7は、これらが直接結合する炭素原子と一緒になって環状構造を形成していてもよく;nは0または1〜18の整数であり;*は結合位を示す。式(A1−2)中、R1は水素原子または炭素数1〜18の有機基であり;R8はそれぞれ独立に炭素数3〜10の有機基である。 In formula (A1-1), R 1 to R 5 are each independently a hydrogen atom or an organic group having 1 to 18 carbon atoms; R 6 and R 7 are each independently a hydrogen atom, a hydroxyl group or 1 carbon atom. R 3 , R 4 and R 7 may be combined with the carbon atom to which they are directly bonded to form a cyclic structure; n is 0 or an integer of 1 to 18; Yes; * indicates a bond position. In formula (A1-2), R1 is a hydrogen atom or an organic group having 1 to 18 carbon atoms; R8 is independently an organic group having 3 to 10 carbon atoms.
なお、水分捕獲剤(A1)に係る各式の説明において、特に言及しない限り、
「炭素数1〜18の有機基」としては、例えば、例えば、メチル、エチル、n−プロピル、イソプロピル、n−ブチル、イソブチル、t−ブチル、ペンチル、ヘキシル、ヘプチル、n−オクチル、2−エチルヘキシル、デシル、ドデシル、オクタデシル等の直鎖状または分岐鎖状の炭素数1〜18のアルキル基、好ましくは炭素数1〜6のアルキル基;シクロヘキシル、メチルシクロヘキシル等の炭素数3〜12のシクロアルキル基;シクロヘキシルメチル、シクロヘキシルエチル等の炭素数4〜18のシクロアルキル基置換アルキル基;フェニル基;フェニル置換されたアルキル基(例:ベンジル基、フェネチル基)等の炭素数7〜18のアラルキル基;これらの基の一部が酸素原子で置換されてなる基(以下「酸素原子置換基」ともいう);ビニル基、アリル基、(メタ)アクリロイルオキシ基、オキシラニル基、オキセタニル基、グリシジル基;カルボキシル基が挙げられ、また、下記式g1〜g7で表される基を挙げることもでき;
「炭素数3〜10の有機基」としては、例えば、“ビニル基、アリル基、(メタ)アクリロイルオキシ基、オキシラニル基、オキセタニル基およびグリシジル基”から選ばれる少なくとも1種の基を有する炭素数3〜10の有機基が挙げられ、また、下記式g1〜g7で表される基を挙げることもできる。
In addition, in description of each formula which concerns on a moisture capture agent (A1), unless otherwise mentioned,
Examples of the “organic group having 1 to 18 carbon atoms” include, for example, methyl, ethyl, n-propyl, isopropyl, n-butyl, isobutyl, t-butyl, pentyl, hexyl, heptyl, n-octyl, 2-ethylhexyl. , Decyl, dodecyl, octadecyl or the like linear or branched alkyl group having 1 to 18 carbon atoms, preferably an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms; cycloalkyl having 3 to 12 carbon atoms such as cyclohexyl or methylcyclohexyl A cycloalkyl group-substituted alkyl group having 4 to 18 carbon atoms such as cyclohexylmethyl or cyclohexylethyl; a phenyl group; an aralkyl group having 7 to 18 carbon atoms such as a phenyl-substituted alkyl group (eg, benzyl group or phenethyl group); A group in which a part of these groups is substituted with an oxygen atom (hereinafter also referred to as “oxygen atom substituent”); ; Vinyl group, an allyl group, (meth) acryloyloxy group, oxiranyl group, oxetanyl group, a glycidyl group; include carboxyl group, also can be a group represented by the following formula G1 to G7;
Examples of the “organic group having 3 to 10 carbon atoms” include carbon atoms having at least one group selected from “vinyl group, allyl group, (meth) acryloyloxy group, oxiranyl group, oxetanyl group and glycidyl group”. The organic group of 3-10 is mentioned, Moreover, group represented by the following formula g1-g7 can also be mentioned.
上記式g1〜g74中、*は結合位を示す。 In the above formulas g1 to g74, * represents a bonding position.
酸素原子置換基としては、例えば、メトキシメチル、エトキシメチル、プロポキシメチル、ブトキシメチル等のアルコキシアルキル基;アセトキシメチル、アセトキシエチル等のアルカノイルオキシアルキル基;フェノキシメチル、フェノキシエチル等のアリールオキシアルキル基;メトキシ等のアルコキシ基;フェノキシ等のアリールオキシ基;ヒドロキシメチル等のヒドロキシアルキル基が挙げられる。 Examples of the oxygen atom substituent include alkoxyalkyl groups such as methoxymethyl, ethoxymethyl, propoxymethyl, and butoxymethyl; alkanoyloxyalkyl groups such as acetoxymethyl and acetoxyethyl; aryloxyalkyl groups such as phenoxymethyl and phenoxyethyl; An alkoxy group such as methoxy; an aryloxy group such as phenoxy; and a hydroxyalkyl group such as hydroxymethyl.
式(A1−1)中、R2、R3、R4、R5、R6およびR7で表される基の炭素数の合計(nが0である場合、R2〜R5で表される基の炭素数の合計)は、吸水能力と溶解性の観点から、好ましくは0〜18、より好ましくは0〜12である。 In formula (A1-1), the total number of carbon atoms of the groups represented by R 2 , R 3 , R 4 , R 5 , R 6 and R 7 (when n is 0, the group is represented by R 2 to R 5 . The total number of carbon atoms of the groups to be formed is preferably 0 to 18, more preferably 0 to 12, from the viewpoint of water absorption ability and solubility.
また、R3、R4およびR7(n=0の場合は、R3およびR4)は、これらが直接結合する炭素原子と一緒になって環状構造を形成していてもよい。環状構造としては、例えば、シクロヘキサン環、シクロペンタン環が挙げられる。 R 3 , R 4 and R 7 (when n = 0, R 3 and R 4 ) may be combined with the carbon atom to which they are directly bonded to form a cyclic structure. Examples of the cyclic structure include a cyclohexane ring and a cyclopentane ring.
式(A1−1)中、R1は、水素原子または炭素数1〜6のアルキル基であることが好ましく、水素原子であることがより好ましい。 In Formula (A1-1), R 1 is preferably a hydrogen atom or an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms, and more preferably a hydrogen atom.
式(A1−1)中、R2〜R5は、それぞれ独立に水素原子、上述した、炭素数1〜18のアルキル基、炭素数3〜12のシクロアルキル基、炭素数4〜18のシクロアルキル基置換アルキル基、フェニル基、炭素数7〜18のアラルキル基、酸素原子置換基であることが好ましく、水素原子または炭素数1〜6のアルキル基であることがより好ましく、水素原子であることがより好ましい。 In formula (A1-1), R 2 to R 5 each independently represent a hydrogen atom, the above-described alkyl group having 1 to 18 carbon atoms, a cycloalkyl group having 3 to 12 carbon atoms, or a cyclohexane having 4 to 18 carbon atoms. It is preferably an alkyl group-substituted alkyl group, a phenyl group, an aralkyl group having 7 to 18 carbon atoms, or an oxygen atom substituent, more preferably a hydrogen atom or an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms, and a hydrogen atom. It is more preferable.
式(A1−1)中、R6〜R7は、それぞれ独立に水素原子、水酸基、上述した、炭素数1〜18のアルキル基、炭素数3〜12のシクロアルキル基、炭素数4〜18のシクロアルキル基置換アルキル基、フェニル基、炭素数7〜18のアラルキル基、酸素原子置換基、ビニル基、アリル基、(メタ)アクリロイルオキシ基、オキシラニル基、オキセタニル基、グリシジル基、カルボキシル基、上記式g1〜g7で表される基であることが好ましく、水素原子、水酸基、炭素数1〜6のアルキル基または上記式g1〜g2で表される基であることがより好ましい。 In formula (A1-1), R 6 to R 7 each independently represent a hydrogen atom, a hydroxyl group, the above-described alkyl group having 1 to 18 carbon atoms, a cycloalkyl group having 3 to 12 carbon atoms, or 4 to 18 carbon atoms. A cycloalkyl group-substituted alkyl group, a phenyl group, an aralkyl group having 7 to 18 carbon atoms, an oxygen atom substituent, a vinyl group, an allyl group, a (meth) acryloyloxy group, an oxiranyl group, an oxetanyl group, a glycidyl group, a carboxyl group, It is preferably a group represented by the above formulas g1 to g7, and more preferably a hydrogen atom, a hydroxyl group, an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms, or a group represented by the above formulas g1 to g2.
R1〜R7は、水分捕獲剤としての吸水能力および他の成分との相溶性の観点から、上記原子または基が好ましい。 R 1 to R 7 are preferably the above atoms or groups from the viewpoint of water absorption ability as a moisture trapping agent and compatibility with other components.
式(A1−1)中、nは0または1〜18の整数であり、好ましくは0または1であり、より好ましくは1である。nが2以上の整数である場合、R6およびR7はそれぞれ同一でも異なっていてもよい。 In formula (A1-1), n is 0 or an integer of 1 to 18, preferably 0 or 1, and more preferably 1. When n is an integer of 2 or more, R 6 and R 7 may be the same or different.
式(A1−2)中、R1は水素原子または炭素数1〜6のアルキル基であることが好ましく、R8はそれぞれ独立に上記式g1〜g7で表される基であることが好ましい。
《式(A1−1)で表される構造部位を有する化合物》
式(A1−1)で表される構造部位を有する化合物としては、例えば、下記式で表される化合物が挙げられる。この化合物の具体例としては、後述する式(A1−i)、式(A1−ii)、式(A1−iii)で表される化合物が挙げられる。
In formula (A1-2), R 1 is preferably a hydrogen atom or an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms, and R 8 is preferably independently a group represented by the above formulas g1 to g7.
<< Compound having a structural moiety represented by the formula (A1-1) >>
As a compound which has a structure part represented by a formula (A1-1), the compound represented by a following formula is mentioned, for example. Specific examples of this compound include compounds represented by the following formula (A1-i), formula (A1-ii), and formula (A1-iii).
式中、Aは、式(A1−1)で表される構造部位であり;Yは、1分子中にp個(p≧2)の水酸基を有する、後述する水酸基含有化合物(a3)から、m個(2≦m≦p)の水酸基を除いた残基であり;mは2〜pの整数である。 In the formula, A is a structural moiety represented by the formula (A1-1); Y is a hydroxyl group-containing compound (a3) described later having p (p ≧ 2) hydroxyl groups in one molecule; Residues excluding m (2 ≦ m ≦ p) hydroxyl groups; m is an integer of 2 to p.
式(A1−1)で表される構造部位を有する化合物としては、例えば、以下に説明するオルトエステル(a1)と多価アルコール(a2)と水酸基含有化合物(a3)とを反応させて得られる化合物が挙げられる。
オルトエステル(a1)
オルトエステル(a1)は、式(a1)で表される化合物である。
Examples of the compound having a structural moiety represented by the formula (A1-1) are obtained by reacting an ortho ester (a1), a polyhydric alcohol (a2), and a hydroxyl group-containing compound (a3) described below. Compounds.
Orthoester (a1)
The ortho ester (a1) is a compound represented by the formula (a1).
式(a1)中、R1は水素原子または炭素数1〜18の有機基であり;3個のRaはそれぞれ独立に炭素数1〜18の有機基である。前記有機基としては、上述した、直鎖状または分岐鎖状の炭素数1〜18のアルキル基、炭素数3〜12のシクロアルキル基、炭素数4〜18のシクロアルキル基置換アルキル基が好ましく、直鎖状または分岐鎖状の炭素数1〜6のアルキル基がより好ましい。 In the formula (a1), R 1 is a hydrogen atom or an organic group having 1 to 18 carbon atoms; each of three Ras is independently an organic group having 1 to 18 carbon atoms. The organic group is preferably a linear or branched alkyl group having 1 to 18 carbon atoms, a cycloalkyl group having 3 to 12 carbon atoms, or a substituted alkyl group having 4 to 18 carbon atoms. A linear or branched alkyl group having 1 to 6 carbon atoms is more preferable.
オルトエステル(a1)としては、例えば、オルトギ酸メチル、オルトギ酸エチル、オルトギ酸プロピル、オルトギ酸ブチル、オルト酢酸メチル、オルト酢酸エチル、オルトプロピオン酸メチル、オルトプロピオン酸エチル、オルト酪酸メチル、オルト酪酸エチルが挙げられる。これらの中でも、オルトギ酸メチル、オルトギ酸エチル、オルト酢酸メチル、オルト酢酸エチルが好ましい。 Examples of the orthoester (a1) include methyl orthoformate, ethyl orthoformate, propyl orthoformate, butyl orthoformate, methyl orthoacetate, ethyl orthoacetate, methyl orthopropionate, ethyl orthopropionate, methyl orthobutyrate, orthobutyric acid. Ethyl is mentioned. Among these, methyl orthoformate, ethyl orthoformate, methyl orthoacetate, and ethyl orthoacetate are preferable.
オルトエステル(a1)は1種単独で用いてもよく、2種以上を併用してもよい。
多価アルコール(a2)
多価アルコール(a2)としては、例えば、1分子中に水酸基を2個以上有する化合物が挙げられ、式(a2−1)で表される化合物が好ましい。具体的には、1分子中に水酸基を2個有するα−グリコール、α−グリコール以外の1分子中に水酸基を2個以上有する化合物が挙げられる。
Orthoester (a1) may be used individually by 1 type, and may use 2 or more types together.
Polyhydric alcohol (a2)
As a polyhydric alcohol (a2), the compound which has 2 or more of hydroxyl groups in 1 molecule is mentioned, for example, The compound represented by a formula (a2-1) is preferable. Specific examples include α-glycol having two hydroxyl groups in one molecule and a compound having two or more hydroxyl groups in one molecule other than α-glycol.
式(a2−1)中、R2〜R5は、それぞれ独立に水素原子または炭素数1〜18の有機基である。R6およびR7は、それぞれ独立に水素原子、水酸基または炭素数1〜18の有機基である。R3、R4およびR7は、これらが直接結合する炭素原子と一緒になって環状構造を形成していてもよい。式(a2−1)中のR2〜R7は、式(A1−1)中の同一記号と同義であり、好適例も式(A1−1)での説明と同様である。 In formula (a2-1), R 2 to R 5 are each independently a hydrogen atom or an organic group having 1 to 18 carbon atoms. R 6 and R 7 are each independently a hydrogen atom, a hydroxyl group, or an organic group having 1 to 18 carbon atoms. R 3 , R 4 and R 7 may be combined with the carbon atom to which they are directly bonded to form a cyclic structure. R2 to R7 in the formula (a2-1) are synonymous with the same symbols in the formula (A1-1), and preferred examples are also the same as those described in the formula (A1-1).
式(a2−1)中、nは0または1〜18の整数であり、好ましくは0または1であり、より好ましくは1である。nが2以上の整数である場合、R6およびR7はそれぞれ同一でも異なっていてもよい。 In formula (a2-1), n is 0 or an integer of 1 to 18, preferably 0 or 1, and more preferably 1. When n is an integer of 2 or more, R6 and R7 may be the same or different.
nが0であるα−グリコールが好ましい。α−グリコールは、隣接した2つの水酸基を有する。したがって、オルトエステルとα−グリコールとの反応が効率良く進行して、水分捕獲剤の製造に好適となる。 α-glycol in which n is 0 is preferred. α-Glycol has two adjacent hydroxyl groups. Therefore, the reaction between the ortho ester and α-glycol proceeds efficiently, which is suitable for the production of a moisture trapping agent.
α−グリコールとしては、例えば、エチレングリコール、1,2−プロピレングリコール、1,2−ブチレングリコール、2,3−ブチレングリコール、1,2−ヘキサンジオール、1,2−ドデカンジオール、1,2−ジヒドロキシシクロヘキサン、ピナコール、長鎖アルキルモノエポキシドの加水分解物;グリセリンモノアセテート(α体)、グリセリンモノステアレート(α体)等の脂肪酸モノグリセリド(α体);3−エトキシプロパン−1,2−ジオール、3−フェノキシプロパン−1,2−ジオールが挙げられる。これらの中でも、エチレングリコール、1,2−プロピレングリコール、1,2−ヘキサンジオールが好ましい。 Examples of α-glycol include ethylene glycol, 1,2-propylene glycol, 1,2-butylene glycol, 2,3-butylene glycol, 1,2-hexanediol, 1,2-dodecanediol, 1,2- Hydrolyzate of dihydroxycyclohexane, pinacol, long chain alkyl monoepoxide; fatty acid monoglyceride (α form) such as glycerin monoacetate (α form), glycerin monostearate (α form); 3-ethoxypropane-1,2-diol , 3-phenoxypropane-1,2-diol. Among these, ethylene glycol, 1,2-propylene glycol, and 1,2-hexanediol are preferable.
nが1である化合物が特に好ましい。前記化合物は、上述したα−グリコールと同様に近接した2つまたは3つ以上の水酸基を有する。したがって、オルトエステルと前記化合物との反応が効率良く進行して、水分捕獲剤の製造に好適となる。 A compound in which n is 1 is particularly preferred. The said compound has two or three or more hydroxyl groups which adjoined like the alpha-glycol mentioned above. Therefore, the reaction between the ortho ester and the compound proceeds efficiently, which is suitable for the production of a moisture trapping agent.
nが1である化合物としては、例えば、ネオペンチルグリコール、2−メチル−1,3−プロパンジオール、2−メチル−2,4−ペンタンジオール、3−メチル−1,3−ブタンジオール、2−エチル−1,3−ヘキサンジオール、2,2−ジエチル−1,3−プロパンジオール、2,2,4−トリメチル−1,3−ペンタンジオール、2−ブチル−2−エチル−1,3−プロパンジオール、(2−アリルオキシメチル)−2−エチルプロパン−1,3−ジオール、2−(ヒドロキシメチル)−2−エチルプロパン−1,3−ジオール、グリセリン、2−フェノキシプロパン−1,3−ジオール、2−メチル−2−フェニルプロパン−1,3−ジオール、1,3−プロピレングリコール、1,3−ブチレングリコール、ジメチロールプロピオン酸、ジメチロールブタン酸、2−エチル−1,3−オクタンジオール、1,3−ジヒドロキシシクロヘキサン;グリセリンモノアセテート(β体)、グリセリンモノステアレート(β体)等の脂肪酸モノグリセリド(β体)が挙げられる。これらの中でも、ネオペンチルグリコール、2−メチル−1,3−プロパンジオール、2−メチル−2,4−ペンタンジオール、3−メチル−1,3−ブタンジオール、2−エチル−1,3−ヘキサンジオール、2,2−ジエチル−1,3−プロパンジオール、2,2,4−トリメチル−1,3−ペンタンジオール、2−ブチル−2−エチル−1,3−プロパンジオール、(2−アリルオキシメチル)−2−エチルプロパン−1,3−ジオール、2−(ヒドロキシメチル)−2−エチルプロパン−1,3−ジオール、グリセリンが特に好ましい。 Examples of the compound in which n is 1 include neopentyl glycol, 2-methyl-1,3-propanediol, 2-methyl-2,4-pentanediol, 3-methyl-1,3-butanediol, 2- Ethyl-1,3-hexanediol, 2,2-diethyl-1,3-propanediol, 2,2,4-trimethyl-1,3-pentanediol, 2-butyl-2-ethyl-1,3-propane Diol, (2-allyloxymethyl) -2-ethylpropane-1,3-diol, 2- (hydroxymethyl) -2-ethylpropane-1,3-diol, glycerin, 2-phenoxypropane-1,3-diol Diol, 2-methyl-2-phenylpropane-1,3-diol, 1,3-propylene glycol, 1,3-butylene glycol, dimethylolpropylene Acid, dimethylolbutanoic acid, 2-ethyl-1,3-octanediol, 1,3-dihydroxycyclohexane; fatty acid monoglycerides (β form) such as glycerin monoacetate (β form) and glycerin monostearate (β form) Is mentioned. Among these, neopentyl glycol, 2-methyl-1,3-propanediol, 2-methyl-2,4-pentanediol, 3-methyl-1,3-butanediol, 2-ethyl-1,3-hexane Diol, 2,2-diethyl-1,3-propanediol, 2,2,4-trimethyl-1,3-pentanediol, 2-butyl-2-ethyl-1,3-propanediol, (2-allyloxy Particularly preferred are methyl) -2-ethylpropane-1,3-diol, 2- (hydroxymethyl) -2-ethylpropane-1,3-diol, and glycerin.
水酸基含有化合物(a3)
水酸基含有化合物(a3)は、1分子中に2個以上の水酸基を有する化合物である。
Hydroxyl-containing compound (a3)
The hydroxyl group-containing compound (a3) is a compound having two or more hydroxyl groups in one molecule.
水酸基含有化合物(a3)が1分子中に2個以上の水酸基を有する化合物である場合、例えば、式(a2−1)で表される化合物等のように、多価アルコール(a2)の中から水酸基含有化合物(a3)を選択して使用することもできる。その場合、水酸基含有化合物(a3)として選択される化合物は、多価アルコール(a2)として選択された化合物以外の化合物が選択されることが好ましい。 When the hydroxyl group-containing compound (a3) is a compound having two or more hydroxyl groups in one molecule, for example, from the polyhydric alcohol (a2) such as a compound represented by the formula (a2-1) A hydroxyl group-containing compound (a3) can also be selected and used. In that case, it is preferable that the compound selected as the hydroxyl group-containing compound (a3) is selected from compounds other than the compound selected as the polyhydric alcohol (a2).
水酸基含有化合物(a3)としては、例えば、1分子中に2個の水酸基を有する化合物、および1分子中に3個以上、好ましくは3個〜40個の水酸基を有する化合物が挙げられる。 Examples of the hydroxyl group-containing compound (a3) include a compound having 2 hydroxyl groups in one molecule and a compound having 3 or more, preferably 3 to 40 hydroxyl groups in one molecule.
2個の水酸基を有する化合物としては、例えば、1,4−ブタンジオール、1,4−ジヒドロキシシクロヘキサン、1,5−ペンタンジオール、1,6−ヘキサンジオール、2,5−ヘキサンジオール、3−メチル−1,5−ペンタンジオール、1,4−ジメチロールシクロヘキサン、トリシクロデカンジメタノール、2,2−ジメチル−3−ヒドロキシプロピル−2,2−ジメチル−3−ヒドロキシプロピオネート[このものはヒドロキシピバリン酸とネオペンチルグリコールとのエステルに相当する]、ビスフェノールA、ビスフェノールF、ビス(4−ヒドロキシヘキシル)−2,2−プロパン、ビス(4−ヒドロキシヘキシル)メタン、3,9−ビス(1,1−ジメチル−2−ヒドロキシエチル)−2,4,8,10−テトラオキサスピロ[5,5]ウンデカン、ジエチレングリコール、トリエチレングリコール、テトラ以上のポリエチレングリコール、ジプロピレングリコール、トリプロピレングリコール、テトラ以上のポリプロピレングリコール、エチレンオキサイドとプロピレンオキサイドとを共重合してなる両末端に水酸基を有する共重合体、ポリカプロラクトンジオール等の両末端に水酸基を有する直鎖状ポリエステル、ポリカーボネートジオール、ジエポオキシドのカルボン酸付加物が挙げられる。 Examples of the compound having two hydroxyl groups include 1,4-butanediol, 1,4-dihydroxycyclohexane, 1,5-pentanediol, 1,6-hexanediol, 2,5-hexanediol, and 3-methyl. 1,5-pentanediol, 1,4-dimethylolcyclohexane, tricyclodecane dimethanol, 2,2-dimethyl-3-hydroxypropyl-2,2-dimethyl-3-hydroxypropionate [this is hydroxy Corresponds to an ester of pivalic acid and neopentyl glycol], bisphenol A, bisphenol F, bis (4-hydroxyhexyl) -2,2-propane, bis (4-hydroxyhexyl) methane, 3,9-bis (1 , 1-Dimethyl-2-hydroxyethyl) -2,4,8,10-tetraoxa Pyro [5,5] undecane, diethylene glycol, triethylene glycol, tetra or higher polyethylene glycol, dipropylene glycol, tripropylene glycol, tetra or higher polypropylene glycol, hydroxyl groups at both ends formed by copolymerization of ethylene oxide and propylene oxide A linear polyester having hydroxyl groups at both ends, such as a polycaprolactone diol, polycarbonate diol, and a diepoxide carboxylic acid adduct.
3個以上の水酸基を有する化合物としては、例えば、グリセリン、ジグリセリン、トリグリセリン、ペンタエリスリトール、ジペンタエリスリトール、ソルビトール、マンニット、トリメチロールエタン、トリメチロールプロパン、ジトリメチロールプロパン、トリス(2−ヒドロキシエチル)イソシアヌレート、グルコン酸、3個以上の水酸基を含有するポリマー(3個以上の水酸基を含有するポリエステル、ポリエーテル、アクリルポリマー、ケトン樹脂、フェノール樹脂、エポキシ樹脂、ウレタン樹脂、ポリ酢酸ビニルのケン化物であるポリビニルアルコール、グルコース等の天然糖類等)が挙げられる。 Examples of the compound having three or more hydroxyl groups include glycerin, diglycerin, triglycerin, pentaerythritol, dipentaerythritol, sorbitol, mannitol, trimethylolethane, trimethylolpropane, ditrimethylolpropane, tris (2-hydroxy). Ethyl) isocyanurate, gluconic acid, polymers containing 3 or more hydroxyl groups (polyesters containing 3 or more hydroxyl groups, polyethers, acrylic polymers, ketone resins, phenol resins, epoxy resins, urethane resins, polyvinyl acetates) Saponified polyvinyl alcohol, natural sugars such as glucose, etc.).
水酸基含有化合物(a3)としては、分子量が90〜100000、特に90〜5000の範囲内にある化合物が好ましい。また、水酸基含有化合物(a3)としては、水酸基価が20〜1850mgKOH/g、特に40〜1650mgKOH/gの範囲内にある化合物が好ましい。
反応比率
オルトエステル(a1)と多価アルコール(a2)と水酸基含有化合物(a3)とを反応させて、水分捕獲剤(A1)を製造する場合において、オルトエステル(a1)と多価アルコール(a2)と水酸基含有化合物(a3)との配合比率は、特に限定されるものではない。
As the hydroxyl group-containing compound (a3), a compound having a molecular weight in the range of 90 to 100,000, particularly 90 to 5,000 is preferable. The hydroxyl group-containing compound (a3) is preferably a compound having a hydroxyl value in the range of 20 to 1850 mgKOH / g, particularly 40 to 1650 mgKOH / g.
Reaction ratio In the case where the orthoester (a1), the polyhydric alcohol (a2), and the hydroxyl group-containing compound (a3) are reacted to produce the water scavenger (A1), the orthoester (a1) The mixing ratio of the hydric alcohol (a2) and the hydroxyl group-containing compound (a3) is not particularly limited.
例えば、水酸基含有化合物(a3)中の水酸基1モル当量に対して、オルトエステル(a1)の量が0.01〜10モル、好ましくは0.05〜5モル、より好ましくは0.1〜2モルの範囲内にあり、かつ、多価アルコール(a2)の量が0.01〜10モル、好ましくは0.05〜5モル、より好ましくは0.1〜2モルの範囲内にある割合で用いることが、分子量制御のし易さなどの面から適当である。なお、多価アルコール(a2)の中から水酸基含有化合物(a3)を選択する場合、水酸基含有化合物(a3)として選択される化合物は、多価アルコール(a2)として選択された化合物以外の化合物が選択される。 For example, the amount of the ortho ester (a1) is 0.01 to 10 mol, preferably 0.05 to 5 mol, more preferably 0.1 to 2 with respect to 1 mol equivalent of the hydroxyl group in the hydroxyl group-containing compound (a3). The ratio of the polyhydric alcohol (a2) in the range of 0.01 to 10 mol, preferably 0.05 to 5 mol, more preferably 0.1 to 2 mol. It is appropriate to use it from the viewpoint of easy control of the molecular weight. When the hydroxyl group-containing compound (a3) is selected from the polyhydric alcohol (a2), the compound selected as the hydroxyl group-containing compound (a3) is a compound other than the compound selected as the polyhydric alcohol (a2). Selected.
水分捕獲剤(A1)は、オルトエステル(a1)、多価アルコール(a2)および水酸基含有化合物(a3)の3成分を縮合反応させることによって得ることができる。例えば、上述の3成分を、必要に応じて有機溶剤およびギ酸等の酸触媒の存在下で、通常は室温〜250℃、好ましくは70〜200℃の範囲内の温度で、1時間〜20時間程度、加熱して縮合反応させることによって好適に製造することができる。また、以上の方法で得られた化合物が有する基を、公知の方法により他の基に変換してもよい。合成方法については、例えば、国際公開第01/021611号パンフレットを参考にすることができる。 The moisture trapping agent (A1) can be obtained by subjecting three components of an ortho ester (a1), a polyhydric alcohol (a2), and a hydroxyl group-containing compound (a3) to a condensation reaction. For example, the above-mentioned three components are usually used in the presence of an organic solvent and an acid catalyst such as formic acid, usually at room temperature to 250 ° C., preferably 70 to 200 ° C. for 1 hour to 20 hours. It can manufacture suitably by carrying out a condensation reaction by heating to the extent. Moreover, you may convert the group which the compound obtained by the above method has into another group by a well-known method. For the synthesis method, for example, International Publication No. 01/021611 pamphlet can be referred to.
このようにして、水酸基含有化合物(a3)中の水酸基が、オルトエステル(a1)と多価アルコール(a2)とから形成される5員環や6員環等によってブロックされた構造の水分捕獲剤(A1)を得ることができる。
式(A1−1)で表される構造部位を有する化合物の具体例
式(A1−1)で表される構造部位を有する化合物の具体例としては、例えば、式(A1−i)、式(A1−ii)、式(A1−iii)で表される化合物が挙げられる。
In this way, the water scavenger having a structure in which the hydroxyl group in the hydroxyl group-containing compound (a3) is blocked by a 5-membered ring or a 6-membered ring formed from the ortho ester (a1) and the polyhydric alcohol (a2). (A1) can be obtained.
Specific examples of the compound having the structural moiety represented by the formula (A1-1) Specific examples of the compound having the structural moiety represented by the formula (A1-1) include, for example, the formula (A1-i), the formula ( A1-ii) and compounds represented by the formula (A1-iii) are mentioned.
式(A1−i)中、Y1は、1分子中にp個(p=2〜6)の水酸基を有する化合物からm個(2≦m≦p)の水酸基を除いたm価の残基である。R1〜R7およびnは、式(A1−1)中のR1〜R7およびnと同義である。上記化合物は、例えば、式(a1)のオルトエステル、式(a2−1)の多価アルコール、および1分子中に2個〜6個の水酸基を有する化合物を原料として用いることで、合成することができる。 In formula (A1-i), Y1 is an m-valent residue obtained by removing m (2 ≦ m ≦ p) hydroxyl groups from a compound having p (p = 2 to 6) hydroxyl groups in one molecule. is there. R 1 to R 7 and n have the same meanings as R 1 to R 7 and n in formula (A1-1). The above compound is synthesized by using, for example, an orthoester of formula (a1), a polyhydric alcohol of formula (a2-1), and a compound having 2 to 6 hydroxyl groups in one molecule as raw materials. Can do.
式(A1−ii)中、Y2は、1分子中に2個の水酸基を有する化合物からその2個の水酸基を除いた2価の残基である。R1〜R7およびnは、式(A1−1)中のR1〜R7およびnと同義である。上記化合物は、例えば、式(a1)のオルトエステル、式(a2−1)の多価アルコール、および1分子中に2個の水酸基を有する化合物を原料として用いることで、合成することができる。 In the formula (A1-ii), Y2 is a divalent residue obtained by removing two hydroxyl groups from a compound having two hydroxyl groups in one molecule. R 1 to R 7 and n have the same meanings as R 1 to R 7 and n in formula (A1-1). The above compound can be synthesized by using, for example, an ortho ester of the formula (a1), a polyhydric alcohol of the formula (a2-1), and a compound having two hydroxyl groups in one molecule as raw materials.
式(A1−iii)中、Y3は、1分子中に4個の水酸基を有する化合物からその4個の水酸基を除いた4価の残基である。R1〜R7およびnは、式(A1−1)中のR1〜R7およびnと同義である。上記化合物は、例えば、式(a1)のオルトエステル、式(a2−1)の多価アルコール、および1分子中に4個の水酸基を有する化合物を原料として用いることで、合成することができる。(A1−2)としては、例えば、下記式で表される化合物が挙げられる。 In formula (A1-iii), Y 3 is a tetravalent residue obtained by removing four hydroxyl groups from a compound having four hydroxyl groups in one molecule. R 1 to R 7 and n have the same meanings as R 1 to R 7 and n in formula (A1-1). The above compound can be synthesized by using, for example, an ortho ester of the formula (a1), a polyhydric alcohol of the formula (a2-1), and a compound having four hydroxyl groups in one molecule as raw materials. Examples of (A1-2) include compounds represented by the following formula.
〈水分捕獲剤(A2)〉
水分捕獲剤(A2)は、カルボン酸無水物であり、例えば、モノカルボン酸の無水物、ジカルボン酸無水物およびテトラカルボン酸二無水物が挙げられる。水分捕獲剤(A2)は、中性条件下においては水との反応性が低く安定であるが、酸または塩基の存在下では加水分解反応を容易に起こす。
<Moisture capture agent (A2)>
The moisture trapping agent (A2) is a carboxylic acid anhydride, and examples thereof include monocarboxylic acid anhydrides, dicarboxylic acid anhydrides, and tetracarboxylic dianhydrides. The moisture scavenger (A2) is stable with low reactivity with water under neutral conditions, but easily causes a hydrolysis reaction in the presence of an acid or a base.
《モノカルボン酸の無水物》
モノカルボン酸の無水物としては、トリフルオロ酢酸無水物、安息香酸無水物、イサトイン酸無水物、イソペンタン酸無水物、イソ酪酸無水物、n−吉草酸無水物、クロトン酸無水物などが挙げられる。モノカルボン酸の無水物の炭素数は、加水分解により生成しうるカルボン酸の揮発性の観点から、好ましくは4〜20、より好ましくは4〜14である。
<Anhydride of monocarboxylic acid>
Examples of monocarboxylic acid anhydrides include trifluoroacetic anhydride, benzoic anhydride, isatoic anhydride, isopentanoic anhydride, isobutyric anhydride, n-valeric anhydride, crotonic anhydride, and the like. . The carbon number of the monocarboxylic acid anhydride is preferably 4 to 20, more preferably 4 to 14, from the viewpoint of the volatility of the carboxylic acid that can be generated by hydrolysis.
モノカルボン酸の無水物は1種単独で用いてもよく、2種以上を併用してもよい。 Monocarboxylic acid anhydrides may be used alone or in combination of two or more.
《ジカルボン酸無水物》
ジカルボン酸無水物としては、式(A2−1)で表される化合物が挙げられる。
<Dicarboxylic anhydride>
As the dicarboxylic acid anhydride, a compound represented by the formula (A2-1) can be given.
式(A2−1)中、Raは、2価の有機基、例えば脂肪族基、環式脂肪族基、単環式芳香族基、縮合多環式芳香族基、および“芳香族基が直接または架橋員(例:−O−、−CO−、−S−、−SO2−、アルキレン基、−C(CF3)2 −)により相互に連結された非縮合多環式芳香族基”から選ばれる2価の基である。Raの炭素数は、通常1〜30であるが、加水分解により生成しうるジカルボン酸の揮発性の観点から、好ましくは4〜30、より好ましくは6〜18である。 In formula (A2-1), Ra is a divalent organic group such as an aliphatic group, a cycloaliphatic group, a monocyclic aromatic group, a condensed polycyclic aromatic group, and an “aromatic group directly Or a non-condensed polycyclic aromatic group interconnected by a bridging member (eg, —O—, —CO—, —S—, —SO 2 —, an alkylene group, —C (CF 3 ) 2 — ) ” A divalent group selected from: The carbon number of Ra is usually 1-30, but preferably 4-30, more preferably 6-18, from the viewpoint of the volatility of the dicarboxylic acid that can be generated by hydrolysis.
ジカルボン酸無水物としては、例えば、脂肪族ジカルボン酸無水物、脂環式ジカルボン酸無水物、芳香族ジカルボン酸無水物が挙げられる。 Examples of the dicarboxylic acid anhydride include aliphatic dicarboxylic acid anhydrides, alicyclic dicarboxylic acid anhydrides, and aromatic dicarboxylic acid anhydrides.
脂肪族ジカルボン酸無水物としては、例えば、マロン酸、コハク酸、グルタル酸、アジピン酸、ピメリン酸、スベリン酸、アゼライン酸、セバシン酸等の脂肪族飽和ジカルボン酸の無水物;マレイン酸、フマル酸、イタコン酸、メサコン酸、シトラコン酸等の脂肪族不飽和ジカルボン酸の無水物が挙げられる。 Aliphatic dicarboxylic acid anhydrides include, for example, malonic acid, succinic acid, glutaric acid, adipic acid, pimelic acid, suberic acid, azelaic acid, sebacic acid and other aliphatic saturated dicarboxylic acid anhydrides; maleic acid, fumaric acid And anhydrides of aliphatic unsaturated dicarboxylic acids such as itaconic acid, mesaconic acid and citraconic acid.
脂環式ジカルボン酸無水物としては、例えば、ヘキサヒドロフタル酸、ヘキサヒドロイソフタル酸、ヘキサヒドロテレフタル酸、4−メチルシクロヘキサンジカルボン酸無水物等の脂環式ジカルボン酸の無水物が挙げられる。 Examples of the alicyclic dicarboxylic acid anhydride include alicyclic dicarboxylic acid anhydrides such as hexahydrophthalic acid, hexahydroisophthalic acid, hexahydroterephthalic acid, and 4-methylcyclohexanedicarboxylic acid anhydride.
芳香族ジカルボン酸無水物とは、少なくとも2つのカルボキシル基が、芳香族環に結合した有機化合物のジカルボン酸無水物のことを言う。芳香族ジカルボン酸無水物としては、例えば、フタル酸、2,3−ベンゾフェノンジカルボン酸、3,4−ベンゾフェノンジカルボン酸、2,3−ジカルボキシフェニルフェニルエーテル、3,4−ジカルボキシフェニルフェニルエーテル、2,3−ビフェニルジカルボン酸、3,4−ビフェニルジカルボン酸、2,3−ジカルボキシフェニルフェニルスルホン、3,4−ジカルボキシフェニルフェニルスルホン、2,3−ジカルボキシフェニルフェニルスルフィド、3,4−ジカルボキシフェニルフェニルスルフィド、1,2−ナフタレンジカルボン酸、2,3−ナフタレンジカルボン酸、1,8−ナフタレンジカルボン酸、1,2−アントラセンジカルボン酸、2,3−アントラセンジカルボン酸、1,9−アントラセンジカルボン酸等の芳香族ジカルボン酸の無水物が挙げられる。 An aromatic dicarboxylic acid anhydride refers to a dicarboxylic acid anhydride of an organic compound in which at least two carboxyl groups are bonded to an aromatic ring. Examples of the aromatic dicarboxylic acid anhydride include phthalic acid, 2,3-benzophenone dicarboxylic acid, 3,4-benzophenone dicarboxylic acid, 2,3-dicarboxyphenyl phenyl ether, 3,4-dicarboxyphenyl phenyl ether, 2,3-biphenyldicarboxylic acid, 3,4-biphenyldicarboxylic acid, 2,3-dicarboxyphenylphenylsulfone, 3,4-dicarboxyphenylphenylsulfone, 2,3-dicarboxyphenylphenylsulfide, 3,4- Dicarboxyphenyl phenyl sulfide, 1,2-naphthalenedicarboxylic acid, 2,3-naphthalenedicarboxylic acid, 1,8-naphthalenedicarboxylic acid, 1,2-anthracenedicarboxylic acid, 2,3-anthracenedicarboxylic acid, 1,9- Anthracene dicarboxylic acid, etc. Anhydrides of aromatic dicarboxylic acids.
ジカルボン酸無水物は1種単独で用いてもよく、2種以上を併用してもよい。
《テトラカルボン酸二無水物》
テトラカルボン酸二無水物としては、式(A2−2)で表される化合物が挙げられる。
A dicarboxylic acid anhydride may be used individually by 1 type, and may use 2 or more types together.
<< tetracarboxylic dianhydride >>
As the tetracarboxylic dianhydride, a compound represented by the formula (A2-2) can be given.
式(A2−2)中、Rbは、4価の有機基、例えば脂肪族基、環式脂肪族基、単環式芳香族基、縮合多環式芳香族基、および“芳香族基が直接または架橋員(例:−O−、−CO−、−S−、−SO2−、アルキレン基、−C(CF3)2 −)により相互に連結された非縮合多環式芳香族基”から選ばれる4価の基である。Rbの炭素数は、通常4〜100であるが、加水分解により生成しうるテトラカルボン酸の揮発性の観点から、好ましくは4〜30、より好ましくは4〜18である。 In the formula (A2-2), Rb represents a tetravalent organic group, for example, an aliphatic group, a cyclic aliphatic group, a monocyclic aromatic group, a condensed polycyclic aromatic group, and “the aromatic group is directly Or a non-condensed polycyclic aromatic group interconnected by a bridging member (eg, —O—, —CO—, —S—, —SO 2 —, an alkylene group, —C (CF 3 ) 2 — ) ” A tetravalent group selected from The carbon number of Rb is usually 4 to 100, but preferably 4 to 30 and more preferably 4 to 18 from the viewpoint of the volatility of the tetracarboxylic acid that can be generated by hydrolysis.
テトラカルボン酸二無水物としては、例えば、脂肪族テトラカルボン酸二無水物、脂環式テトラカルボン酸二無水物、芳香族テトラカルボン酸二無水物が挙げられる。 Examples of tetracarboxylic dianhydrides include aliphatic tetracarboxylic dianhydrides, alicyclic tetracarboxylic dianhydrides, and aromatic tetracarboxylic dianhydrides.
脂肪族および脂環式テトラカルボン酸二無水物としては、例えば、ブタンテトラカルボン酸二無水物、1,2,3,4−シクロブタンテトラカルボン酸二無水物、1,2−ジメチル−1,2,3,4−シクロブタンテトラカルボン酸二無水物、1,3−ジメチル−1,2,3,4−シクロブタンテトラカルボン酸二無水物、1,3−ジクロロ−1,2,3,4−シクロブタンテトラカルボン酸二無水物、1,2,3,4−テトラメチル−1,2,3,4−シクロブタンテトラカルボン酸二無水物、1,2,3,4−シクロペンタンテトラカルボン酸二無水物、1,2,4,5−シクロヘキサンテトラカルボン酸二無水物、3,3’,4,4’−ジシクロヘキシルテトラカルボン酸二無水物、2,3,5−トリカルボキシシクロペンチル酢酸二無水物、3,5,6−トリカルボキシノルボルナン−2−酢酸二無水物、2,3,4,5−テトラヒドロフランテトラカルボン酸二無水物、1,3,3a,4,5,9b−ヘキサヒドロ−5(テトラヒドロ−2,5−ジオキソ−3−フラニル)−ナフト[1,2−c]−フラン−1,3−ジオン、1,3,3a,4,5,9b−ヘキサヒドロ−5−メチル−5(テトラヒドロ−2,5−ジオキソ−3−フラニル)−ナフト[1,2−c]−フラン−1,3−ジオン、1,3,3a,4,5,9b−ヘキサヒドロ−5−エチル−5(テトラヒドロ−2,5−ジオキソ−3−フラニル)−ナフト[1,2−c]−フラン−1,3−ジオン、1,3,3a,4,5,9b−ヘキサヒドロ−7−メチル−5(テトラヒドロ−2,5−ジオキソ−3−フラニル)−ナフト[1,2−c]−フラン−1,3−ジオン、1,3,3a,4,5,9b−ヘキサヒドロ−7−エチル−5(テトラヒドロ−2,5−ジオキソ−3−フラニル)−ナフト[1,2−c]−フラン−1,3−ジオン、1,3,3a,4,5,9b−ヘキサヒドロ−8−メチル−5(テトラヒドロ−2,5−ジオキソ−3−フラニル)−ナフト[1,2−c]−フラン−1,3−ジオン、1,3,3a,4,5,9b−ヘキサヒドロ−8−エチル−5(テトラヒドロ−2,5−ジオキソ−3−フラニル)−ナフト[1,2−c]−フラン−1,3−ジオン、1,3,3a,4,5,9b−ヘキサヒドロ−5,8−ジメチル−5(テトラヒドロ−2,5−ジオキソ−3−フラニル)−ナフト[1,2−c]−フラン−1,3−ジオン、5−(2,5−ジオキソテトラヒドロフラル)−3−メチル−3−シクロヘキセン−1,2−ジカルボン酸二無水物、ビシクロ[2,2,2]−オクト−7−エン−2,3,5,6−テトラカルボン酸二無水物、式(T−1)および式(T−2)のそれぞれで表される化合物が挙げられる。 Examples of the aliphatic and alicyclic tetracarboxylic dianhydrides include butanetetracarboxylic dianhydride, 1,2,3,4-cyclobutanetetracarboxylic dianhydride, 1,2-dimethyl-1,2 , 3,4-cyclobutanetetracarboxylic dianhydride, 1,3-dimethyl-1,2,3,4-cyclobutanetetracarboxylic dianhydride, 1,3-dichloro-1,2,3,4-cyclobutane Tetracarboxylic dianhydride, 1,2,3,4-tetramethyl-1,2,3,4-cyclobutanetetracarboxylic dianhydride, 1,2,3,4-cyclopentanetetracarboxylic dianhydride 1,2,4,5-cyclohexanetetracarboxylic dianhydride, 3,3 ′, 4,4′-dicyclohexyltetracarboxylic dianhydride, 2,3,5-tricarboxycyclopentyl acetate Water, 3,5,6-tricarboxynorbornane-2-acetic acid dianhydride, 2,3,4,5-tetrahydrofurantetracarboxylic dianhydride, 1,3,3a, 4,5,9b-hexahydro- 5 (tetrahydro-2,5-dioxo-3-furanyl) -naphtho [1,2-c] -furan-1,3-dione, 1,3,3a, 4,5,9b-hexahydro-5-methyl- 5 (Tetrahydro-2,5-dioxo-3-furanyl) -naphtho [1,2-c] -furan-1,3-dione, 1,3,3a, 4,5,9b-hexahydro-5-ethyl- 5 (Tetrahydro-2,5-dioxo-3-furanyl) -naphtho [1,2-c] -furan-1,3-dione, 1,3,3a, 4,5,9b-hexahydro-7-methyl- 5 (tetrahydro-2,5-dioxo-3-fur Nyl) -naphtho [1,2-c] -furan-1,3-dione, 1,3,3a, 4,5,9b-hexahydro-7-ethyl-5 (tetrahydro-2,5-dioxo-3- Furanyl) -naphtho [1,2-c] -furan-1,3-dione, 1,3,3a, 4,5,9b-hexahydro-8-methyl-5 (tetrahydro-2,5-dioxo-3- Furanyl) -naphtho [1,2-c] -furan-1,3-dione, 1,3,3a, 4,5,9b-hexahydro-8-ethyl-5 (tetrahydro-2,5-dioxo-3- Furanyl) -naphtho [1,2-c] -furan-1,3-dione, 1,3,3a, 4,5,9b-hexahydro-5,8-dimethyl-5 (tetrahydro-2,5-dioxo-) 3-furanyl) -naphtho [1,2-c] -furan-1,3-dione 5- (2,5-dioxotetrahydrofural) -3-methyl-3-cyclohexene-1,2-dicarboxylic dianhydride, bicyclo [2,2,2] -oct-7-ene-2,3 , 5,6-tetracarboxylic dianhydride, compounds represented by formula (T-1) and formula (T-2), respectively.
式(T−1)および式(T−2)中、R1およびR3は、芳香環を有する2価の有機基であり;R2およびR4は、水素原子またはアルキル基であり、複数存在するR2およびR4は、それぞれ同一でも異なっていてもよい。 In Formula (T-1) and Formula (T-2), R 1 and R 3 are divalent organic groups having an aromatic ring; R 2 and R 4 are a hydrogen atom or an alkyl group, R 2 and R 4 present may be the same or different from each other.
芳香族テトラカルボン酸二無水物とは、少なくとも4つのカルボキシル基が芳香族環に結合した有機化合物のテトラカルボン酸無水物のことを言う。芳香族テトラカルボン酸二無水物としては、例えば、ピロメリット酸二無水物、3,3’,4,4’−ベンゾフェノンテトラカルボン酸二無水物、3,3’,4,4’−ジフェニルスルホンテトラカルボン酸二無水物、1,4,5,8−ナフタレンテトラカルボン酸二無水物、2,3,6,7−ナフタレンテトラカルボン酸二無水物、3,3’,4,4’−ビフェニルエーテルテトラカルボン酸二無水物、3,3’,4,4’−ジフェニルメタンテトラカルボン酸二無水物、3,3’,4,4’−ジメチルジフェニルシランテトラカルボン酸二無水物、3,3’,4,4’−テトラフェニルシランテトラカルボン酸二無水物、1,2,3,4−フランテトラカルボン酸二無水物、4,4’−ビス(3,4−ジカルボキシフェノキシ)ジフェニルスルフィド二無水物、4,4’−ビス(3,4−ジカルボキシフェノキシ)ジフェニルスルホン二無水物、4,4’−ビス(3,4−ジカルボキシフェノキシ)ジフェニルプロパン二無水物、3,3’,4,4’−パーフルオロイソプロピリデンジフタル酸二無水物、3,3’,4,4’−ビフェニルテトラカルボン酸二無水物、ビス(フタル酸)フェニルホスフィンオキサイド二無水物、p−フェニレン−ビス(トリフェニルフタル酸)二無水物、m−フェニレン−ビス(トリフェニルフタル酸)二無水物、ビス(トリフェニルフタル酸)−4,4’−ジフェニルエーテル二無水物、ビス(トリフェニルフタル酸)−4,4’−ジフェニルメタン二無水物、エチレングリコール−ビス(アンヒドロトリメリテート)、プロピレングリコール−ビス(アンヒドロトリメリテート)、1,4−ブタンジオール−ビス(アンヒドロトリメリテート)、1,6−ヘキサンジオール−ビス(アンヒドロトリメリテート)、1,8−オクタンジオール−ビス(アンヒドロトリメリテート)、2,2−ビス(4−ヒドロキシフェニル)プロパン−ビス(アンヒドロトリメリテート)、2,3,4,5−ピリジンテトラカルボン酸二無水物、2,6−ビス(3,4−ジカルボキシフェニル)ピリジン、下記式(T−3−1)〜(T−3−4)のそれぞれで表される化合物が挙げられる。 An aromatic tetracarboxylic dianhydride refers to a tetracarboxylic anhydride of an organic compound in which at least four carboxyl groups are bonded to an aromatic ring. Examples of the aromatic tetracarboxylic dianhydride include pyromellitic dianhydride, 3,3 ′, 4,4′-benzophenone tetracarboxylic dianhydride, and 3,3 ′, 4,4′-diphenyl sulfone. Tetracarboxylic dianhydride, 1,4,5,8-naphthalenetetracarboxylic dianhydride, 2,3,6,7-naphthalenetetracarboxylic dianhydride, 3,3 ′, 4,4′-biphenyl Ether tetracarboxylic dianhydride, 3,3 ′, 4,4′-diphenylmethane tetracarboxylic dianhydride, 3,3 ′, 4,4′-dimethyldiphenylsilane tetracarboxylic dianhydride, 3,3 ′ , 4,4′-Tetraphenylsilanetetracarboxylic dianhydride, 1,2,3,4-furantetracarboxylic dianhydride, 4,4′-bis (3,4-dicarboxyphenoxy) dipheny Sulfide dianhydride, 4,4′-bis (3,4-dicarboxyphenoxy) diphenylsulfone dianhydride, 4,4′-bis (3,4-dicarboxyphenoxy) diphenylpropane dianhydride, 3,3 ', 4,4'-perfluoroisopropylidenediphthalic dianhydride, 3,3', 4,4'-biphenyltetracarboxylic dianhydride, bis (phthalic acid) phenylphosphine oxide dianhydride, p- Phenylene-bis (triphenylphthalic acid) dianhydride, m-phenylene-bis (triphenylphthalic acid) dianhydride, bis (triphenylphthalic acid) -4,4′-diphenyl ether dianhydride, bis (triphenyl) Phthalic acid) -4,4'-diphenylmethane dianhydride, ethylene glycol-bis (anhydrotrimellitate), propylene glycol -Bis (anhydro trimellitate), 1,4-butanediol-bis (anhydro trimellitate), 1,6-hexanediol-bis (anhydro trimellitate), 1,8-octanediol-bis (Anhydro trimellitate), 2,2-bis (4-hydroxyphenyl) propane-bis (anhydro trimellitate), 2,3,4,5-pyridinetetracarboxylic dianhydride, 2,6- Examples thereof include bis (3,4-dicarboxyphenyl) pyridine and compounds represented by the following formulas (T-3-1) to (T-3-4).
トラカルボン酸二無水物は1種単独で用いてもよく、2種以上を併用してもよい。 Tracarboxylic dianhydride may be used individually by 1 type, and may use 2 or more types together.
〈水分捕獲剤(A3)〉
水分捕獲剤(A3)は、式(A3−1)で表される化合物および式(A3−2)で表される化合物から選ばれる少なくとも1種である。水分捕獲剤(A3)は、中性条件下においては水との反応性が低く安定であるが、酸または塩基の存在下では加水分解反応を容易に起こす。
<Moisture capture agent (A3)>
The moisture capturing agent (A3) is at least one selected from the compound represented by the formula (A3-1) and the compound represented by the formula (A3-2). The moisture trapping agent (A3) is stable with low reactivity with water under neutral conditions, but easily causes a hydrolysis reaction in the presence of an acid or a base.
式(A3−1)および(A3−2)中、Xは、ケイ素原子、チタン原子またはジルコニウム原子である。これらの中でも、ケイ素原子が好ましい。 In formulas (A3-1) and (A3-2), X represents a silicon atom, a titanium atom or a zirconium atom. Among these, a silicon atom is preferable.
式(A3−1)および(A3−2)中、R1は、“(メタ)アクリロイル基、オキシラニル基、オキセタニル基、3,4−エポキシシクロヘキシル基、メルカプト基およびイソシアネート基”から選ばれる少なくとも1つの基を有する有機基、炭素数1〜6のアルキル基、炭素数3〜12のシクロアルキル基、フェニル基、またはベンジル基である。 In formulas (A3-1) and (A3-2), R 1 is at least 1 selected from “(meth) acryloyl group, oxiranyl group, oxetanyl group, 3,4-epoxycyclohexyl group, mercapto group and isocyanate group”. An organic group having one group, an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms, a cycloalkyl group having 3 to 12 carbon atoms, a phenyl group, or a benzyl group.
式(A3−1)および(A3−2)中、R2は、水素原子、置換基を有してもよい炭素数1〜20のアルキル基、置換基を有してもよい炭素数3〜12のシクロアルキル基、置換基を有してもよい炭素数6〜14の芳香族炭化水素基、(メタ)アクリロイルオキシ基、グリシドキシ基、オキシラニル基、オキセタニル基、3,4−エポキシシクロヘキシル基、またはメルカプト基である。 In formulas (A3-1) and (A3-2), R 2 is a hydrogen atom, an alkyl group having 1 to 20 carbon atoms that may have a substituent, or 3 to 12 carbon atoms that may have a substituent. A cycloalkyl group, an optionally substituted aromatic hydrocarbon group having 6 to 14 carbon atoms, a (meth) acryloyloxy group, a glycidoxy group, an oxiranyl group, an oxetanyl group, a 3,4-epoxycyclohexyl group, or Mercapto group.
式(A3−1)および(A3−2)中、rは0〜2の整数であり;pは0〜6の整数であり、0〜3の整数が好ましく、0または3であることがより好ましい。sは1〜30の整数であり、1〜20の整数が好ましく、1〜10の整数がより好ましい。 In the formulas (A3-1) and (A3-2), r is an integer of 0 to 2; p is an integer of 0 to 6, preferably an integer of 0 to 3, more preferably 0 or 3. preferable. s is an integer of 1-30, the integer of 1-20 is preferable, and the integer of 1-10 is more preferable.
−(CH2)p−R2で表される基が複数ある場合はそれぞれ同一であっても異なっていてもよい。−OR1で表される基が複数ある場合はそれぞれ同一であっても異なっていてもよい。 When there are a plurality of groups represented by — (CH 2 ) p —R 2, they may be the same or different. When there are a plurality of groups represented by -OR1, they may be the same or different.
式(A3−1)および(A3−2)中のR1における前記有機基としては、例えば、下記式で表される基が挙げられる。下記式中、*は結合位を示し、R3は水素原子またはメチル基であり、R4は炭素数1〜3のアルキレン基であり、nは1〜3の整数である。 As said organic group in R < 1 > in Formula (A3-1) and (A3-2), group represented by a following formula is mentioned, for example. In the following formula, * represents a bond position, R 3 is a hydrogen atom or a methyl group, R 4 is an alkylene group having 1 to 3 carbon atoms, and n is an integer of 1 to 3.
式(A3−1)および(A3−2)中のR1におけるアルキル基は、直鎖状および分岐状のいずれでもよく、例えば、メチル、エチル、n−プロピル、イソプロピル、n−ブチル、イソブチル、t−ブチル、ペンチル、ヘキシルが挙げられ;シクロアルキル基としては、例えば、シクロヘキシルが挙げられる。 The alkyl group for R 1 in formulas (A3-1) and (A3-2) may be linear or branched, and examples thereof include methyl, ethyl, n-propyl, isopropyl, n-butyl, isobutyl, t-butyl, pentyl, hexyl; and cycloalkyl groups include, for example, cyclohexyl.
式(A3−1)および(A3−2)中のR2におけるアルキル基は、直鎖状および分岐状のいずれでもよい。前記アルキル基の炭素数は、1〜20であり、好ましくは1〜10であり、より好ましくは1〜6である。具体的には、R1において例示したアルキル基の他、n−ヘプチル基、n−オクチル基、2−エチルへキシル基、n−ノニル基、n−デシル基、n−ウンデシル基、n−ドデシル基、n−トリデシル基、n−テトラデシル基、n−ヘキサデシル基が挙げられる。式(A3−1)および(A3−2)中のR2におけるシクロアルキル基としては、例えば、シクロヘプチル基、シクロオクチル基が挙げられる。 The alkyl group for R 2 in formulas (A3-1) and (A3-2) may be either linear or branched. Carbon number of the said alkyl group is 1-20, Preferably it is 1-10, More preferably, it is 1-6. Specifically, in addition to the alkyl group exemplified for R1, n-heptyl group, n-octyl group, 2-ethylhexyl group, n-nonyl group, n-decyl group, n-undecyl group, n-dodecyl group , N-tridecyl group, n-tetradecyl group, n-hexadecyl group. Examples of the cycloalkyl group for R 2 in formulas (A3-1) and (A3-2) include a cycloheptyl group and a cyclooctyl group.
式(A3−1)および(A3−2)中のR2における芳香族炭化水素基としては、例えば、単環から3環式の芳香族炭化水素基が挙げられ、具体的には、フェニル基、トリル基、ナフチル基、アントリル基、フェナントリル基が挙げられる。これらの中でも、フェニル基、トリル基、ナフチル基が好ましく、フェニル基がより好ましい。 Examples of the aromatic hydrocarbon group for R 2 in formulas (A3-1) and (A3-2) include monocyclic to tricyclic aromatic hydrocarbon groups, specifically, a phenyl group , Tolyl group, naphthyl group, anthryl group, and phenanthryl group. Among these, a phenyl group, a tolyl group, and a naphthyl group are preferable, and a phenyl group is more preferable.
式(A3−1)および(A3−2)中のR2におけるアルキル基、シクロアルキル基および芳香族炭化水素基は置換基を有していてもよく、置換基としては、例えば、ハロゲン原子、水酸基、ニトロ基、シアノ基、炭素数1〜6のアルコキシ基が挙げられる。なお、置換基の位置および数は任意であり、置換基を2以上有する場合、その置換基は同一であっても異なっていてもよい。ハロゲン原子としては、フッ素原子、臭素原子、塩素原子およびヨウ素原子が挙げられ、これらの中でも、フッ素原子が好ましい。ハロゲン原子は、アルキル基、シクロアルキル基および芳香族炭化水素基の水素原子の一部または全部を置換することができるが、全て置換されているものが好ましい。ハロゲン置換アルキル基およびハロゲン置換シクロアルキル基の具体例としては、トリフルオロメチル基、パーフルオロエチル基、パーフルオロプロピル基、パーフルオロイソプロピル基、パーフルオロシクロプロピル基等のパーフルオロアルキル基およびパーフルオロシクロアルキル基が挙げられる。また、炭素数1〜6のアルコキシ基としては、例えば、メトキシ基、エトキシ基、n−プロポキシ基、iso−プロポキシ基が挙げられる。 The alkyl group, cycloalkyl group and aromatic hydrocarbon group in R 2 in formulas (A3-1) and (A3-2) may have a substituent, and examples of the substituent include a halogen atom, Examples include a hydroxyl group, a nitro group, a cyano group, and an alkoxy group having 1 to 6 carbon atoms. In addition, the position and number of substituents are arbitrary, and when it has two or more substituents, the substituents may be the same or different. Examples of the halogen atom include a fluorine atom, a bromine atom, a chlorine atom and an iodine atom, and among these, a fluorine atom is preferable. The halogen atom can substitute a part or all of the hydrogen atoms of the alkyl group, cycloalkyl group and aromatic hydrocarbon group, but preferably all are substituted. Specific examples of the halogen-substituted alkyl group and the halogen-substituted cycloalkyl group include perfluoroalkyl groups such as trifluoromethyl group, perfluoroethyl group, perfluoropropyl group, perfluoroisopropyl group, perfluorocyclopropyl group, and perfluoroalkyl groups. A cycloalkyl group is mentioned. Moreover, as a C1-C6 alkoxy group, a methoxy group, an ethoxy group, n-propoxy group, and iso-propoxy group are mentioned, for example.
式(A3−1)および(A3−2)中のR2としては、炭素数1〜6のアルキル基およびハロゲン置換アルキル基、フェニル基、(メタ)アクリロイルオキシ基またはグリシドキシ基が好ましい。なお、同一分子内にR2が複数存在する場合、それらは同一であっても異なっていてもよい。 R 2 in formulas (A3-1) and (A3-2) is preferably an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms, a halogen-substituted alkyl group, a phenyl group, a (meth) acryloyloxy group or a glycidoxy group. In addition, when two or more R2 exists in the same molecule, they may be the same or different.
化合物(A3)の具体例としては、Xがケイ素原子であるシラン化合物が挙げられる。 Specific examples of the compound (A3) include silane compounds in which X is a silicon atom.
化合物(A3−1)において、
rが0かつsが1であるシラン化合物としては、例えば、ジメチルジメトキシシラン、ジブチルジメトキシシラン等の炭素数1〜20のアルキル基を2つ有するアルコキシシラン化合物;ジフェニルジメトキシシラン等の炭素数6〜14の芳香族炭化水素基を2つ有するアルコキシシラン化合物;3−メタクリロイルオキシプロピルメチルジメトキシシラン、3−メタクリロイルオキシプロピルエチルジメトキシシラン、3−メタクリロイルオキシプロピルメチルジエトキシシラン、3−アクリロイルオキシプロピルメチルジメトキシシラン、3−アクリロイルオキシプロピルエチルジメトキシシラン、3−アクリロイルオキシプロピルメチルジエトキシシラン等の(メタ)アクリロイルオキシ基と炭素数1〜20のアルキル基とを有するアルコキシシラン化合物;3−メタクリロイルオキシプロピルフェニルジメトキシシラン、3−メタクリロイルオキシプロピルフェニルジエトキシシラン、3−アクリロイルオキシプロピルフェニルジメトキシシラン、3−アクリロイルオキシプロピルフェニルジエトキシシラン等の(メタ)アクリロイルオキシ基と炭素数6〜14の芳香族炭化水素基とを有するアルコキシシラン化合物;3,3’−ジメタクリロイルオキシプロピルジメトキシシラン、3,3’−ジアクリロイルオキシプロピルジメトキシシラン等の(メタ)アクリロイルオキシ基を2つ有するアルコキシシラン化合物;3−グリシドキシプロピルメチルジメトキシシラン、3−グリシドキシプロピルエチルジメトキシシラン、3−グリシドキシプロピルメチルジエトキシシラン、3−グリシドキシプロピルエチルジエトキシシラン等のグリシドキシ基と炭素数1〜20のアルキル基とを有するアルコキシシラン化合物;3−グリシドキシプロピルフェニルジメトキシシラン、3−グリシドキシプロピルフェニルジエトキシシラン等のグリシドキシ基と炭素数6〜14の芳香族炭化水素基とを有するアルコキシシラン化合物が挙げられる。
In compound (A3-1),
Examples of the silane compound in which r is 0 and s is 1 include alkoxysilane compounds having two alkyl groups having 1 to 20 carbon atoms such as dimethyldimethoxysilane and dibutyldimethoxysilane; and 6 to 6 carbon atoms such as diphenyldimethoxysilane. 14 alkoxysilane compounds having two aromatic hydrocarbon groups; 3-methacryloyloxypropylmethyldimethoxysilane, 3-methacryloyloxypropylethyldimethoxysilane, 3-methacryloyloxypropylmethyldiethoxysilane, 3-acryloyloxypropylmethyldimethoxy An silane having a (meth) acryloyloxy group and an alkyl group having 1 to 20 carbon atoms, such as silane, 3-acryloyloxypropylethyldimethoxysilane, and 3-acryloyloxypropylmethyldiethoxysilane. Coxysilane compounds; (meth) acryloyloxy groups such as 3-methacryloyloxypropylphenyldimethoxysilane, 3-methacryloyloxypropylphenyldiethoxysilane, 3-acryloyloxypropylphenyldimethoxysilane, 3-acryloyloxypropylphenyldiethoxysilane, and carbon Alkoxysilane compounds having an aromatic hydrocarbon group of 6 to 14; 2 (meth) acryloyloxy groups such as 3,3′-dimethacryloyloxypropyldimethoxysilane and 3,3′-diaacryloyloxypropyldimethoxysilane One alkoxysilane compound; 3-glycidoxypropylmethyldimethoxysilane, 3-glycidoxypropylethyldimethoxysilane, 3-glycidoxypropylmethyldiethoxysilane Alkoxysilane compounds having a glycidoxy group such as 3-glycidoxypropylethyldiethoxysilane and an alkyl group having 1 to 20 carbon atoms; 3-glycidoxypropylphenyldimethoxysilane, 3-glycidoxypropylphenyldiethoxy Examples thereof include alkoxysilane compounds having a glycidoxy group such as silane and an aromatic hydrocarbon group having 6 to 14 carbon atoms.
rが1かつsが1であるシラン化合物としては、例えば、メチルトリメトキシシラン、メチルトリエトキシシラン、メチルトリ−iso−プロポキシシラン、メチルトリブトキシシラン、エチルトリメトキシシラン、エチルトリエトキシシラン、エチルトリ−iso−プロポキシシラン、エチルトリブトキシシラン、ブチルトリメトキシシラン、デシルトリメトキシシラン等の炭素数1〜20のアルキル基を1つ有するアルコキシシラン化合物;トリフルオロプロピルトリメトキシシラン等の炭素数1〜20のハロゲン置換アルキル基を1つ有するアルコキシシラン化合物;フェニルトリメトキシシラン、フェニルトリエトキシシラン等の炭素数6〜14の芳香族炭化水素基を1つ有するアルコキシシラン化合物;3−メタクリロイルオキシプロピルトリメトキシシラン、3−メタクリロイルオキシプロピルトリエトキシシラン、3−メタクリロイルオキシプロピルトリプロポキシシラン、3−アクリロイルオキシプロピルトリメトキシシラン、3−アクリロイルオキシプロピルトリエトキシシラン、3−アクリロイルオキシプロピルトリプロポキシシラン等の(メタ)アクリロイルオキシ基を1つ有するアルコキシシラン化合物が挙げられる。 Examples of the silane compound in which r is 1 and s is 1, include, for example, methyltrimethoxysilane, methyltriethoxysilane, methyltri-iso-propoxysilane, methyltributoxysilane, ethyltrimethoxysilane, ethyltriethoxysilane, ethyltri- alkoxysilane compounds having one alkyl group having 1 to 20 carbon atoms such as iso-propoxysilane, ethyltributoxysilane, butyltrimethoxysilane, and decyltrimethoxysilane; and 1 to 20 carbon atoms such as trifluoropropyltrimethoxysilane Alkoxysilane compounds having one halogen-substituted alkyl group, alkoxysilane compounds having one C6-C14 aromatic hydrocarbon group such as phenyltrimethoxysilane, phenyltriethoxysilane, etc .; 3-methacryloyloxy Propyltrimethoxysilane, 3-methacryloyloxypropyltriethoxysilane, 3-methacryloyloxypropyltripropoxysilane, 3-acryloyloxypropyltrimethoxysilane, 3-acryloyloxypropyltriethoxysilane, 3-acryloyloxypropyltripropoxysilane And alkoxysilane compounds having one (meth) acryloyloxy group.
rが2かつsが1であるシラン化合物としては、例えば、テトラメトキシシラン、テトラエトキシシラン、テトラ−n−プロポキシシラン、テトラ−iso−プロポキシシラン、テトラブトキシシラン、テトラフェノキシシラン、テトラベンジロキシシランが挙げられる。 Examples of the silane compound in which r is 2 and s is 1 include tetramethoxysilane, tetraethoxysilane, tetra-n-propoxysilane, tetra-iso-propoxysilane, tetrabutoxysilane, tetraphenoxysilane, and tetrabenzyloxysilane. Is mentioned.
化合物(A3−1)としては、さらに、以下に示す式(A3−i)および式(A3−ii)の化合物を挙げることができる。式(A3−i)および式(A3−ii)の化合物等は、下記式で例示されるように、テトラエトキシシランに、水酸基と重合性基(オキシラニル基、オキセタニル基、(メタ)アクリロイル基等)とを併せ持つ化合物をアルカリ存在下で反応させることにより得ることができる。 As compound (A3-1), the compounds of formula (A3-i) and formula (A3-ii) shown below can be further exemplified. The compounds of formula (A3-i) and formula (A3-ii), as exemplified by the following formula, have a hydroxyl group and a polymerizable group (oxiranyl group, oxetanyl group, (meth) acryloyl group, etc.) on tetraethoxysilane. ) Can be obtained by reacting in the presence of an alkali.
化合物(A3−1)としては、さらに、以下で示す式(A3−iii)および式(A3−iv)の化合物を挙げることができる。(A3−iii)および式(A3−iv)の化合物等は、下記式で示されるように、メトキシ基を有するシラン化合物に、水酸基と重合性基(オキシラニル基、オキセタニル基、(メタ)アクリロイル基等)とを併せ持つ化合物をアルカリ存在下で反応させることで得ることができる。 As compound (A3-1), the compounds of formula (A3-iii) and formula (A3-iv) shown below can be further exemplified. The compound of (A3-iii) and formula (A3-iv), as shown by the following formula, has a hydroxyl group and a polymerizable group (oxiranyl group, oxetanyl group, (meth) acryloyl group) on a silane compound having a methoxy group. Etc.) can be obtained by reacting in the presence of an alkali.
化合物(A3−1)としては、さらに式(A3−v)で表される化合物が挙げられる。 Examples of the compound (A3-1) further include a compound represented by the formula (A3-v).
(A3−v)
化合物(A3−2)としては、
3−メタクリロイルオキシプロピルジメチルメトキシシラン、3−メタクリロイルオキシプロピルジエチルエトキシシラン、3−メタクリロイルオキシプロピルジメチルエトキシシラン、3−アクリロイルオキシプロピルジメチルメトキシシラン、3−アクリロイルオキシプロピルジエチルメトキシシラン、3−アクリロイルオキシプロピルジメチルエトキシシラン等の(メタ)アクリロイルオキシ基を1つ有し、炭素数1〜20のアルキル基を2つ有するアルコキシシラン化合物;
3−メタクリロイルオキシプロピルジフェニルメトキシシラン、3−メタクリロイルオキシプロピルジフェニルエトキシシラン、3−アクリロイルオキシプロピルジフェニルメトキシシラン、3−アクリロイルオキシプロピルジフェニルエトキシシラン等の(メタ)アクリロイルオキシ基を1つ有し、炭素数6〜14の芳香族炭化水素基を2つ有するアルコキシシラン化合物;
3−グリシドキシプロピルジメチルメトキシシラン、3−グリシドキシプロピルジエチルメトキシシラン、3−グリシドキシプロピルジメチルエトキシシラン等のグリシドキシ基を1つ有し、炭素数1〜20のアルキル基を2つ有するアルコキシシラン化合物;
3−グリシドキシプロピルジフェニルメトキシシラン、3−グリシドキシプロピルジフェニルエトキシシラン等のグリシドキシ基を1つ有し、炭素数6〜14の芳香族炭化水素基を2つ有するシラン化合物
が挙げられる。
(A3-v)
As the compound (A3-2),
3-methacryloyloxypropyldimethylmethoxysilane, 3-methacryloyloxypropyldiethylethoxysilane, 3-methacryloyloxypropyldimethylethoxysilane, 3-acryloyloxypropyldimethylmethoxysilane, 3-acryloyloxypropyldiethylmethoxysilane, 3-acryloyloxypropyl An alkoxysilane compound having one (meth) acryloyloxy group such as dimethylethoxysilane and two alkyl groups having 1 to 20 carbon atoms;
It has one (meth) acryloyloxy group such as 3-methacryloyloxypropyldiphenylmethoxysilane, 3-methacryloyloxypropyldiphenylethoxysilane, 3-acryloyloxypropyldiphenylmethoxysilane, 3-acryloyloxypropyldiphenylethoxysilane, and carbon. An alkoxysilane compound having two aromatic hydrocarbon groups of formula 6-14;
It has one glycidoxy group such as 3-glycidoxypropyldimethylmethoxysilane, 3-glycidoxypropyldiethylmethoxysilane, 3-glycidoxypropyldimethylethoxysilane, and two alkyl groups having 1 to 20 carbon atoms. Having an alkoxysilane compound;
Examples thereof include silane compounds having one glycidoxy group such as 3-glycidoxypropyldiphenylmethoxysilane and 3-glycidoxypropyldiphenylethoxysilane and two aromatic hydrocarbon groups having 6 to 14 carbon atoms.
また、化合物(A3)の市販品で購入できるものとして、例えば、OXT−191(東亞合成社製)およびX−22−3000T(信越化学工業社製)等が挙げられる。
[化合物(B)]
本発明の粘着層形成用組成物は、酸発生剤および塩基発生剤から選ばれる少なくとも1種の化合物(B)を含有する。以下、酸発生剤および塩基発生剤をそれぞれ「酸発生剤(B1)」および「塩基発生剤(B2)」ともいう。
Moreover, as what can be purchased with the commercial item of a compound (A3), OXT-191 (made by Toagosei), X-22-3000T (made by Shin-Etsu Chemical Co., Ltd.), etc. are mentioned, for example.
[Compound (B)]
The composition for forming an adhesive layer of the present invention contains at least one compound (B) selected from an acid generator and a base generator. Hereinafter, the acid generator and the base generator are also referred to as “acid generator (B1)” and “base generator (B2)”, respectively.
本発明の粘着層形成用組成物が酸発生剤(B1)を含有する場合、水分捕獲剤(A)として、水分捕獲剤(A1)〜(A3)から選ばれる少なくとも1種が用いられる。本発明の粘着層形成用組成物が塩基発生剤(B2)を含有する場合、水分捕獲剤(A)として、水分捕獲剤(A2)〜(A3)から選ばれる少なくとも1種が用いられる。 When the composition for forming an adhesive layer of the present invention contains an acid generator (B1), at least one selected from water trapping agents (A1) to (A3) is used as the water trapping agent (A). When the composition for forming an adhesive layer of the present invention contains a base generator (B2), at least one selected from moisture trapping agents (A2) to (A3) is used as the moisture trapping agent (A).
酸発生剤(B1)としては、感放射線性酸発生剤および熱酸発生剤が挙げられ、感放射線性酸発生剤が好ましい。塩基発生剤(B2)としては、感放射線性塩基発生剤および熱塩基発生剤が挙げられ、感放射線性塩基発生剤が好ましい。 Examples of the acid generator (B1) include a radiation sensitive acid generator and a thermal acid generator, and a radiation sensitive acid generator is preferable. Examples of the base generator (B2) include a radiation sensitive base generator and a thermal base generator, and a radiation sensitive base generator is preferred.
感放射線性酸発生剤および感放射線塩基発生剤は、これらに放射線を照射することにより、それぞれ酸性活性物質および塩基性活性物質を放出することができる化合物と定義することができる。放出される酸性活性物質は、例えば、上述の水分捕獲剤(A)を加水分解反応させる際の触媒として作用する。放出される塩基性活性物質は、例えば、上述の水分捕獲剤(A2),(A3)を加水分解反応させる際の触媒として作用する。 A radiation-sensitive acid generator and a radiation-sensitive base generator can be defined as compounds capable of releasing an acidic active substance and a basic active substance, respectively, by irradiating them with radiation. The acidic active substance to be released acts as a catalyst when the above-described water trapping agent (A) is subjected to a hydrolysis reaction, for example. The basic active substance to be released acts as a catalyst when the above-described water capturing agents (A2) and (A3) are subjected to a hydrolysis reaction, for example.
感放射線性酸発生剤または感放射線性塩基発生剤を分解し、酸性活性物質のカチオンまたは塩基性活性物質のアニオンを発生するために照射する放射線としては、例えば、可視光線、紫外線、遠紫外線、X線および荷電粒子線が挙げられる。これらの放射線の中でも、一定のエネルギーレベルを有し、大きな硬化速度を達成可能であり、しかも照射装置が比較的安価かつ小型であることから、紫外線を使用することが好ましい。 Examples of the radiation irradiated to decompose the radiation-sensitive acid generator or the radiation-sensitive base generator and generate the cation of the acidic active substance or the anion of the basic active substance include, for example, visible light, ultraviolet light, far ultraviolet light, Examples include X-rays and charged particle beams. Among these radiations, it is preferable to use ultraviolet rays because they have a constant energy level, can achieve a high curing rate, and the irradiation device is relatively inexpensive and small.
本発明の粘着層形成用組成物において、成分(B)が酸発生剤(B1)である場合のその含有量は、成分(A)100質量部に対して、好ましくは0.1〜20質量部、より好ましくは0.5〜10質量部である。成分(B)の含有量を前記範囲とすることで、例えば放射線感度の優れた組成物を得ることができる。 In the composition for forming an adhesive layer of the present invention, the content when the component (B) is an acid generator (B1) is preferably 0.1 to 20 masses per 100 mass parts of the component (A). Part, more preferably 0.5 to 10 parts by mass. By setting the content of component (B) within the above range, for example, a composition having excellent radiation sensitivity can be obtained.
本発明の粘着層形成用組成物において、成分(B)が塩基発生剤(B2)である場合のその含有量は、成分(A)100質量部に対して、好ましくは0.1〜30質量部、より好ましくは1〜10質量部である。成分(B)の含有量を前記範囲とすることで、例えば放射線感度の優れた組成物を得ることができる。 In the composition for forming an adhesive layer of the present invention, the content when the component (B) is a base generator (B2) is preferably 0.1 to 30 mass with respect to 100 mass parts of the component (A). Part, more preferably 1 to 10 parts by mass. By setting the content of component (B) within the above range, for example, a composition having excellent radiation sensitivity can be obtained.
成分(B1),(B2)は各々1種単独で用いてもよく、2種以上を併用してもよい。 Each of the components (B1) and (B2) may be used alone or in combination of two or more.
〈酸発生剤(B1)〉
酸発生剤(B1)としては、例えば、ヨードニウム塩、スルホニウム塩、ホスホニウム塩等の光または熱カチオン硬化触媒、イミダゾール類、酸無水物等のアニオン硬化触媒を使用することができる。これらの中ではカチオン硬化触媒が好ましく、光カチオン硬化触媒がより好ましい。硬化速度が速いこと、また光を当てない限り重合反応が開始しないので、保存安定性が良好なためである。
<Acid generator (B1)>
As the acid generator (B1), for example, light or thermal cation curing catalysts such as iodonium salts, sulfonium salts, phosphonium salts, and anion curing catalysts such as imidazoles and acid anhydrides can be used. In these, a cationic curing catalyst is preferable and a photocationic curing catalyst is more preferable. This is because the curing rate is high and the polymerization reaction does not start unless light is applied, so that the storage stability is good.
具体的なカチオン硬化触媒としては、例えば、アルキル基またはアリール基で置換されたヨードニウム、スルホニウム、ホスホニウム等のカチオンと、SbF6 −、BF4 −、B(C6F5)4 ―、PF6 ―、P(Rf)nF(6−n) ―(Rfは、例えば炭素数1〜8のパーフルオロアルキル基;nは1〜3の整数)、CnF2n+1SO3 −(nは例えば1〜8の整数), N(SO2CF3)2 −、C(SO2CF3)3 ―等のアニオンとからなる塩が使用される。具体的には、CPI−100P、CPI101A、CPI−200K、CPI−210S等(以上、サンアプロ製)、サンエイドSI−150L、サンエイドSI−110L、サンエイドSI−60L、サンエイドSI−80L、サンエイドSI−100L等(以上、三新化学工業製)、ローディア製PI−2074、日本曹達製CI2920等のCIシリーズ、アデカ製オプトマーSP−150等のオプトマーSPシリーズ、CP−66等のオプトンCPシリーズ、和光純薬製WPAGシリーズおよびWPIシリーズ等が挙げられる。 Specific examples of the cation curing catalyst include cations such as iodonium, sulfonium, and phosphonium substituted with an alkyl group or an aryl group, and SbF 6 − , BF 4 − , B (C 6 F 5 ) 4 − , and PF 6. -, P (Rf) nF ( 6-n) - (Rf is, for example a perfluoroalkyl group having 1 to 8 carbon atoms; n is an integer of 1 to 3), C n F 2n + 1 SO 3 - (n is, for example, 1 An integer of ˜8), N (SO 2 CF 3 ) 2 — , C (SO 2 CF 3 ) 3 — and the like are used. Specifically, CPI-100P, CPI101A, CPI-200K, CPI-210S, etc. (above, manufactured by Sun Apro), Sun-Aid SI-150L, Sun-Aid SI-110L, Sun-Aid SI-60L, Sun-Aid SI-80L, Sun-Aid SI-100L (Above, manufactured by Sanshin Chemical Industry Co., Ltd.), CI series such as PI-2074 manufactured by Rhodia, CI2920 manufactured by Nippon Soda Co., Ltd. Examples include WPAG series and WPI series.
これらの酸発生剤(B1)の中でも、カチオン硬化触媒において、アニオンとしては反応性の点からB(C6F5)4 ―、P(Rf)nF(6−n) ―、N(SO2CF3)2 −、C(SO2CF3)3 ―が好ましく、カチオンとしては貯蔵安定性の点でアルキル基またはアリール基で置換されたスルホニウムカチオンが好ましい。 Among these acid generators (B1), in the cationic curing catalyst, the anion is B (C 6 F 5 ) 4 − , P (Rf) nF (6-n) − , N (SO 2 ) from the viewpoint of reactivity. CF 3 ) 2 — and C (SO 2 CF 3 ) 3 — are preferable, and the cation is preferably a sulfonium cation substituted with an alkyl group or an aryl group from the viewpoint of storage stability.
〈塩基発生剤(B2)〉
塩基発生剤(B2)としては、感放射線性塩基発生剤が好ましく、感放射線性塩基発生剤としては、放射線の照射によりアミン等の塩基を発生する化合物である限り、特に限定されない。感放射線性塩基発生剤としては、例えば、コバルト等の遷移金属錯体、オルトニトロベンジルカルバメート類、アシルオキシイミノ類、α,α−ジメチル−3,5−ジメトキシベンジルカルバメート類が挙げられる。
<Base generator (B2)>
The base generator (B2) is preferably a radiation-sensitive base generator, and the radiation-sensitive base generator is not particularly limited as long as it is a compound that generates a base such as an amine upon irradiation with radiation. Examples of the radiation sensitive base generator include transition metal complexes such as cobalt, orthonitrobenzyl carbamates, acyloxyiminos, and α, α-dimethyl-3,5-dimethoxybenzyl carbamates.
遷移金属錯体としては、例えば、ブロモペンタアンモニアコバルト過塩素酸塩、ブロモペンタメチルアミンコバルト過塩素酸塩、ブロモペンタプロピルアミンコバルト過塩素酸塩、ヘキサアンモニアコバルト過塩素酸塩、ヘキサメチルアミンコバルト過塩素酸塩、ヘキサプロピルアミンコバルト過塩素酸塩が挙げられる。 Transition metal complexes include, for example, bromopentammonium cobalt perchlorate, bromopentamethylamine cobalt perchlorate, bromopentapropylamine cobalt perchlorate, hexaammonia cobalt perchlorate, hexamethylamine cobalt perchlorate. Examples include chlorate and hexapropylamine cobalt perchlorate.
オルトニトロベンジルカルバメート類としては、例えば、[[(2−ニトロベンジル)オキシ]カルボニル]メチルアミン、[[(2−ニトロベンジル)オキシ]カルボニル]プロピルアミン、[[(2−ニトロベンジル)オキシ]カルボニル]ヘキシルアミン、[[(2−ニトロベンジル)オキシ]カルボニル]シクロヘキシルアミン、[[(2−ニトロベンジル)オキシ]カルボニル]アニリン、[[(2−ニトロベンジル)オキシ]カルボニル]ピペリジン、ビス[[(2−ニトロベンジル)オキシ]カルボニル]ヘキサメチレンジアミン、ビス[[(2−ニトロベンジル)オキシ]カルボニル]フェニレンジアミン、ビス[[(2−ニトロベンジル)オキシ]カルボニル]トルエンジアミン、ビス[[(2−ニトロベンジル)オキシ]カルボニル]ジアミノジフェニルメタン、ビス[[(2−ニトロベンジル)オキシ]カルボニル]ピペラジン、[[(2,6−ジニトロベンジル)オキシ]カルボニル]メチルアミン、[[(2,6−ジニトロベンジル)オキシ]カルボニル]プロピルアミン、[[(2,6−ジニトロベンジル)オキシ]カルボニル]ヘキシルアミン、[[(2,6−ジニトロベンジル)オキシ]カルボニル]シクロヘキシルアミン、[[(2,6−ジニトロベンジル)オキシ]カルボニル]アニリン、[[(2,6−ジニトロベンジル)オキシ]カルボニル]ピペリジン、ビス[[(2,6−ジニトロベンジル)オキシ]カルボニル]ヘキサメチレンジアミン、ビス[[(2,6−ジニトロベンジル)オキシ]カルボニル]フェニレンジアミン、ビス[[(2,6−ジニトロベンジル)オキシ]カルボニル]トルエンジアミン、ビス[[(2,6−ジニトロベンジル)オキシ]カルボニル]ジアミノジフェニルメタン、ビス[[(2,6−ジニトロベンジル)オキシ]カルボニル]ピペラジンが挙げられる。 Examples of orthonitrobenzyl carbamates include [[(2-nitrobenzyl) oxy] carbonyl] methylamine, [[(2-nitrobenzyl) oxy] carbonyl] propylamine, [[(2-nitrobenzyl) oxy]. Carbonyl] hexylamine, [[(2-nitrobenzyl) oxy] carbonyl] cyclohexylamine, [[(2-nitrobenzyl) oxy] carbonyl] aniline, [[(2-nitrobenzyl) oxy] carbonyl] piperidine, bis [ [(2-Nitrobenzyl) oxy] carbonyl] hexamethylenediamine, bis [[(2-nitrobenzyl) oxy] carbonyl] phenylenediamine, bis [[(2-nitrobenzyl) oxy] carbonyl] toluenediamine, bis [[ (2-Nitrobenzyl) oxy Carbonyl] diaminodiphenylmethane, bis [[(2-nitrobenzyl) oxy] carbonyl] piperazine, [[(2,6-dinitrobenzyl) oxy] carbonyl] methylamine, [[(2,6-dinitrobenzyl) oxy] carbonyl ] Propylamine, [[(2,6-dinitrobenzyl) oxy] carbonyl] hexylamine, [[(2,6-dinitrobenzyl) oxy] carbonyl] cyclohexylamine, [[(2,6-dinitrobenzyl) oxy] Carbonyl] aniline, [[(2,6-dinitrobenzyl) oxy] carbonyl] piperidine, bis [[(2,6-dinitrobenzyl) oxy] carbonyl] hexamethylenediamine, bis [[(2,6-dinitrobenzyl) Oxy] carbonyl] phenylenediamine, bis [ (2,6-dinitrobenzyl) oxy] carbonyl] toluenediamine, bis [[(2,6-dinitrobenzyl) oxy] carbonyl] diaminodiphenylmethane, bis [[(2,6-dinitrobenzyl) oxy] carbonyl] piperazine Can be mentioned.
アシルオキシイミノ類としては、例えば、プロピオニルアセトフェノンオキシム、プロピオニルベンゾフェノンオキシム、プロピオニルアセトンオキシム、ブチリルアセトフェノンオキシム、ブチリルベンゾフェノンオキシム、ブチリルアセトンオキシム、アジポイルアセトフェノンオキシム、アジポイルベンゾフェノンオキシム、アジポイルアセトンオキシム、アクロイルアセトフェノンオキシム、アクロイルベンゾフェノンオキシム、アクロイルアセトンオキシムが挙げられる。 Acyloxyiminos include, for example, propionyl acetophenone oxime, propionyl benzophenone oxime, propionyl acetone oxime, butyryl acetophenone oxime, butyryl benzophenone oxime, butyryl acetone oxime, adipoyl acetophenone oxime, adipoyl benzophenone oxime, adipoyl Acetone oxime, acryloyl acetophenone oxime, acryloyl benzophenone oxime, acryloyl acetone oxime may be mentioned.
感放射線性塩基発生剤のその他の例としては、2−ニトロベンジルシクロヘキシルカルバメート、O−カルバモイルヒドロキシアミドおよびO−カルバモイルヒドロキシアミドが特に好ましい。 As other examples of the radiation sensitive base generator, 2-nitrobenzylcyclohexyl carbamate, O-carbamoylhydroxyamide and O-carbamoylhydroxyamide are particularly preferable.
[溶剤(C)]
本発明の粘着層形成用組成物には、更に溶剤(C)を含有することが好ましい。溶剤は粘着層形成用組成物の粘度調整に用いることができ、粘着フィルム製造時の粘着層形成用組成物のフィルム基材への塗工性を向上することができる。
粘着層形成用組成物を前記基材上に塗工する方法は、特に限定されず、スピンコート法、ロールコート法、ダイコート法、ブレードコート法等により行うことができる。これらの方法により前記成膜材料溶液を、得られるフィルムが所望の膜厚になるように基材上に配した後、乾燥させることにより塗膜を得ることができる。乾燥温度は溶媒の種類等に応じて適宜選択することができるが、通常40℃以上250℃以下、好ましくは50℃以上200℃以下とすることができる。乾燥は一定温度下で行っても良いし段階的に温度を上昇させて行っても良い。乾燥時間は通常10秒間以上60分間以下、好ましくは30秒間以上30分間以下とすることができる。30秒以下であると、溶媒が多量に残って製品の信頼性に問題を生じる場合があり、30分以上であると工業生産性に適しない。
[Solvent (C)]
It is preferable that the composition for forming an adhesive layer of the present invention further contains a solvent (C). A solvent can be used for viscosity adjustment of the composition for adhesion layer formation, and can improve the coating property to the film base material of the composition for adhesion layer formation at the time of adhesive film manufacture.
The method for coating the adhesive layer forming composition on the substrate is not particularly limited, and can be performed by a spin coating method, a roll coating method, a die coating method, a blade coating method, or the like. A coating film can be obtained by arranging the film forming material solution on the base material so that the resulting film has a desired film thickness by these methods and then drying the solution. Although a drying temperature can be suitably selected according to the kind of solvent etc., it is 40 degreeC or more and 250 degrees C or less normally, Preferably it can be 50 degreeC or more and 200 degrees C or less. Drying may be performed at a constant temperature or may be performed by increasing the temperature stepwise. The drying time is usually 10 seconds to 60 minutes, preferably 30 seconds to 30 minutes. If it is 30 seconds or less, a large amount of solvent may remain, causing a problem in product reliability. If it is 30 minutes or more, it is not suitable for industrial productivity.
そのため、粘着フィルムの使用目的に合わせ、塗工性と乾燥性を考慮し、適宜溶剤種を選択することができる。このようにフィルム基板上に粘着層形成用組成物を塗工した粘着フィルムは、電子デバイスを効率よく量産する手法の一つであるロール・ツー・ロール方式によるプラスチック基板を使用したプロセスに好適に用いることができる。 Therefore, the solvent type can be appropriately selected in consideration of coating properties and drying properties in accordance with the purpose of use of the adhesive film. Thus, the pressure-sensitive adhesive film in which the composition for forming the pressure-sensitive adhesive layer is coated on the film substrate is suitable for a process using a roll-to-roll plastic substrate, which is one of the techniques for efficiently mass-producing electronic devices. Can be used.
このような溶剤としては、粘着層形成用組成物を構成する成分の性能を損なわない限り、特に制限なく使用することができる。溶剤の具体例としては、例えば、トルエン、キシレンなどの
芳香族系溶媒; メチルエチルケトン、アセトン、メチルイソブチルケトン、シクロヘキサノンなどのケトン系溶媒;ジエチルエーテル、イソプロピルエーテル、テトラヒドロフラン、ジオキサン、エチレングリコールジメチルエーテル、エチレングリコールジエチルエーテル、ジエチレングリコールジメチルエーテル、ジエチレングリコールジエチルエーテル、プロピレングリコールモノメチルエーテル、アニソール、フェネトールなどのエーテル系溶媒; 酢酸エチル、酢酸ブチル、酢酸イソプロピル、エチレングリコールジアセテートなどのエステル系溶媒;ジメチルホルムアミド、ジエチルホルムアミド、N − メチルピロリドンなどのアミド系溶媒; メチルセロソルブ、エチルセロソルブ、ブチルセロソルブなどのセロソルブ系溶媒;メタノール、エタノール、プロパノールなどのアルコール系溶媒; ジクロロメタン、クロロホルムなどのハロゲン系溶媒; などが挙げられる。
As such a solvent, as long as the performance of the component which comprises the composition for adhesion layer formation is not impaired, it can be especially used without a restriction | limiting. Specific examples of the solvent include, for example, toluene and xylene.
Aromatic solvents; ketone solvents such as methyl ethyl ketone, acetone, methyl isobutyl ketone, cyclohexanone; diethyl ether, isopropyl ether, tetrahydrofuran, dioxane, ethylene glycol dimethyl ether, ethylene glycol diethyl ether, diethylene glycol dimethyl ether, diethylene glycol diethyl ether, propylene glycol monomethyl ether Ether solvents such as ethyl acetate, butyl acetate, isopropyl acetate, ethylene glycol diacetate; amide solvents such as dimethylformamide, diethylformamide, N-methylpyrrolidone; methyl cellosolve, ethyl cellosolve , Cellosolve solvents such as butyl cellosolve Methanol, ethanol, alcohol solvents such as propanol; and the like; dichloromethane, halogenated solvents such as chloroform.
溶剤の乾燥性に起因する塗工ムラを抑制する場合には、下記に示すような高い沸点溶剤が好適に用いることができる。例えば、プロピレンカーボネート、エチレンカーボネート、ブチレンカーボネート、ベンゾニトリル、アセトニトリル、テトラヒドロフラン、2−メチルテトラヒドロフラン、γ−ブチロラクトン、ジオキソラン、4−メチルジオキソラン、N、N−ジメチルホルムアミド、ジメチルアセトアミド、ジメチルスルホキシド、ジオキサン、1,2−ジメトキシエタン、スルホラン、ジクロロエタン、クロロベンゼン、ニトロベンゼン、ジメチルカーボネート、メチルエチルカーボネート、ジエチルカーボネート、メチルプロピルカーボネート、メチルイソプロピルカーボネート、エチルブチルカーボネート、ジプロピルカーボネート、ジイソプロピルカーボネート、ジブチルカーボネート等。
これらの溶媒を単独で使用してもよく、また2 種以上を併用して使用してもよい。これらの溶媒のうち、エステル系溶媒、エーテル系溶媒、およびケトン系溶媒が好ましく使用される。
本発明において、粘着層形成用組成物には(A)加水分解しうる構造を有する化合物と、
(B)酸発生剤および塩基発生剤から選ばれる少なくとも1種の化合物を含むことから、
特に非プロトン性溶媒が好ましくも用いられる。
非プロトン性有機溶媒としては、N,N−ジメチルホルムアミド(DMF)、ジメチルスルホキシド、ヘキサメチルリン酸トリアミドなどの非プロトン性極性溶媒;ジエチルエーテル、テトラヒドロフラン(THF)、1,4−ジオキサン、メチルt−ブチルエーテル、ジメトキシエタン、エチレングリコール、ジメチルエーテル等のエーテル系溶媒;ベンゼン、トルエン、キシレンなどの芳香族炭化水素系溶媒;n−ペンタン、n−ヘキサンなどの炭化水素系溶媒;アセトニトリル、ブチロニトリルなどのニトリル系溶媒;酢酸エチル、酢酸ブチルなどのエステル系溶媒;アセトンなどのケトン系溶媒などが挙げられる。また、プロトン性溶媒としてはメタノール、エタノール、イソプロパノール、ブタノールなどのアルコール系溶媒;水などが挙げられる。これらは単独で用いてもよく、2種以上を併用しても良い。
In order to suppress coating unevenness due to the drying property of the solvent, a high boiling point solvent as shown below can be suitably used. For example, propylene carbonate, ethylene carbonate, butylene carbonate, benzonitrile, acetonitrile, tetrahydrofuran, 2-methyltetrahydrofuran, γ-butyrolactone, dioxolane, 4-methyldioxolane, N, N-dimethylformamide, dimethylacetamide, dimethylsulfoxide, dioxane, 1 , 2-dimethoxyethane, sulfolane, dichloroethane, chlorobenzene, nitrobenzene, dimethyl carbonate, methyl ethyl carbonate, diethyl carbonate, methyl propyl carbonate, methyl isopropyl carbonate, ethyl butyl carbonate, dipropyl carbonate, diisopropyl carbonate, dibutyl carbonate and the like.
These solvents may be used alone or in combination of two or more. Of these solvents, ester solvents, ether solvents, and ketone solvents are preferably used.
In the present invention, the adhesive layer forming composition (A) a compound having a hydrolyzable structure;
(B) Since it contains at least one compound selected from an acid generator and a base generator,
In particular, an aprotic solvent is preferably used.
Examples of aprotic organic solvents include aprotic polar solvents such as N, N-dimethylformamide (DMF), dimethyl sulfoxide, hexamethylphosphoric triamide; diethyl ether, tetrahydrofuran (THF), 1,4-dioxane, methyl t -Ether solvents such as butyl ether, dimethoxyethane, ethylene glycol and dimethyl ether; aromatic hydrocarbon solvents such as benzene, toluene and xylene; hydrocarbon solvents such as n-pentane and n-hexane; nitriles such as acetonitrile and butyronitrile Examples of the solvent include ester solvents such as ethyl acetate and butyl acetate; ketone solvents such as acetone. Examples of the protic solvent include alcohol solvents such as methanol, ethanol, isopropanol, and butanol; water and the like. These may be used alone or in combination of two or more.
[レベリング剤(D)]
フィルム上に塗工した粘着層形成用組成物の塗工ムラ防止(塗工面の均一化)や乾燥時のムラを低減させるためにはフィルム上の粘着層形成用組成物のレベリング性を向上させることが有効であり、レベリング性を向上させる一つの手段として、粘着層形成用組成物中にレベリング剤を添加することが有効である。
粘着層形成用組成物にレベリング剤を添加すると塗膜形成過程での表面張力変化を小さく、または低下させて熱対流を防止して膜の均一性を改良するという機構に基づいている(非特許文献1参照、コーティング用添加剤の最新技術、桐生春雄監修、シーエムシー、2001年)。目的とする塗布組成物中の溶剤、樹脂、各種添加剤との相溶性などにより最適なレベリング剤種は異なるが、非反応性レベリング剤または反応性レベリング剤を用いることができる。前記非反応性レベリング剤としては、特に制限されないが、例えば、フッ素系のレベリング剤およびシリコーン系のレベリング剤があげられる。前記反応性レベリング剤としては、特に制限されないが、例えば、フッ素系またはシリコーン系の骨格を有し、例えば、反応性重合基を有しているレベリング剤があげられる。
一般に、フッ素系レベリング剤はフルオロ脂肪族基と、例えば該活性剤を添加剤として使用したときに、コーティング用、成形材料用等の各種組成物に対する親和性に寄与する親媒性基とを同一分子内に有する化合物であり、このような化合物は、一般に、フルオロ脂肪族基を有するモノマーと親媒性基を有するモノマーとを共重合させて得ることができる。例えば、特許4474114号に記載されているフルオロ脂肪族基含有ポリマーは、レベリング剤として、本発明の高屈折率層形成用組成物に好ましく用いることができる。また特許4474114号の組成比違いとして、フルオロ脂肪族基含有の重合単位の比率が50〜70%の範囲のフルオロ脂肪族基含有ポリマーをレベリング剤として用いることもできる。また、特開平5−5868号公報、特開2012−252275号公報、特開2013−101274号公報、特開2009−120711号公報、特開2012−120980号公報、特開2006−227353号公報、国際公開公報WO2012/03959号公報に記載のレベリング剤を使用することができる。
[Leveling agent (D)]
In order to prevent uneven coating (uniformization of the coated surface) of the adhesive layer forming composition coated on the film and to reduce unevenness during drying, improve the leveling property of the adhesive layer forming composition on the film. It is effective to add a leveling agent to the adhesive layer forming composition as one means for improving the leveling property.
When a leveling agent is added to the adhesive layer forming composition, the surface tension change during the coating film formation process is reduced or reduced to prevent thermal convection and improve the film uniformity (non-patent) See reference 1, latest technology of coating additives, supervised by Haruo Kiryu, CMC, 2001). Although the optimum leveling agent type varies depending on the compatibility with the solvent, resin, and various additives in the target coating composition, a non-reactive leveling agent or a reactive leveling agent can be used. The non-reactive leveling agent is not particularly limited, and examples thereof include a fluorine-based leveling agent and a silicone-based leveling agent. The reactive leveling agent is not particularly limited, and examples thereof include a leveling agent having a fluorine-based or silicone-based skeleton and having a reactive polymerizable group, for example.
In general, the fluorine-based leveling agent has the same fluoroaliphatic group as the philic group that contributes to affinity for various compositions such as coatings and molding materials when the activator is used as an additive. Such a compound is generally obtained by copolymerizing a monomer having a fluoroaliphatic group and a monomer having a philic group. For example, the fluoroaliphatic group-containing polymer described in Japanese Patent No. 4474114 can be preferably used in the composition for forming a high refractive index layer of the present invention as a leveling agent. As a difference in composition ratio of Japanese Patent No. 4474114, a fluoroaliphatic group-containing polymer having a ratio of fluoroaliphatic group-containing polymerization units in the range of 50 to 70% can also be used as a leveling agent. JP-A-5-5868, JP-A-2012-252275, JP-A-2013-101274, JP-A-2009-120711, JP-A-2012-120980, JP-A-2006-227353, The leveling agent described in International Publication No. WO2012 / 03959 can be used.
前記レベリング剤(D)の配合量は、前記化合物(A)100質量部に対して、例えば、0.05〜2質量部の範囲である。前記レベリング剤を前記範囲とすることで、例えば、粘着層形成用組成物のフィルム基材への塗工性を向上することができる。好ましくは0.1〜1.5質量部の範囲であり、より好ましくは0.5〜1.25質量部の範囲である。 The amount of the leveling agent (D) is, for example, in the range of 0.05 to 2 parts by mass with respect to 100 parts by mass of the compound (A). By setting the leveling agent in the above range, for example, the coating property of the adhesive layer forming composition on the film substrate can be improved. Preferably it is the range of 0.1-1.5 mass part, More preferably, it is the range of 0.5-1.25 mass part.
[その他の添加剤につい]
本発明の粘着層形成用組成物は、更に重合性化合物(E)を含有することが好ましい。本発明の粘着層形成用組成物が重合性化合物(E)を含有することで、例えば、架橋反応性を高めることができる。そして、この組成物から形成される粘着層形成用組成物層・シール材の強度および基板との密着性を向上させることができる。
[About other additives]
It is preferable that the composition for forming an adhesive layer of the present invention further contains a polymerizable compound (E). When the composition for forming an adhesive layer of the present invention contains the polymerizable compound (E), for example, the crosslinking reactivity can be enhanced. And the intensity | strength of the adhesion layer forming composition layer and sealing material formed from this composition and adhesiveness with a board | substrate can be improved.
重合性化合物(E)は1種単独で用いてもよく、2種以上を併用してもよい。 A polymeric compound (E) may be used individually by 1 type, and may use 2 or more types together.
重合性化合物(E)としては、例えば、エポキシ基を有する化合物、オキセタニル基を有する化合物等の環状エーテル基を有する化合物;重合性二重結合を有する化合物が挙げられる。 Examples of the polymerizable compound (E) include compounds having a cyclic ether group such as a compound having an epoxy group and a compound having an oxetanyl group; and a compound having a polymerizable double bond.
エポキシ基を有する化合物としては、例えば、
単官能エポキシ化合物として、グリシジルエーテル、ブチルグリシジルエーテル、2−エチルヘキシルグリシジルエーテル、ステアリルグリシジルエーテル、ラウリルグリシジルエーテル、ブトキシポリエチレングリコールグリシジルエーテル、フェノールポリエチレングリコールグリシジルエーテル、アリルグリシジルエーテル、フェニルグリシジルエーテル、p−メチルフェニルグリシジルエーテル、p−エチルフェニルグリシジルエーテル、p−sec−ブチルフェニルグリシジルエーテル、p−tert−ブチルフェニルグリシジル等;
多官能エポキシ化合物として、
ビスフェノールAジグリシジルエーテル、ビスフェノールFジグリシジルエーテル、ビスフェノールSジグリシジルエーテル、水添ビスフェノールAジグリシジルエーテル、水添ビスフェノールFジグリシジルエーテル、水添ビスフェノールADジグリシジルエーテル等のビスフェノールのポリグリシジルエーテル;
1,4−ブタンジオールジグリシジルエーテル、1,6−ヘキサンジオールジグリシジルエーテル、グリセリントリグリシジルエーテル、トリメチロールプロパントリグリシジルエーテル、ポリエチレングリコールジグリシジルエーテル、ポリプロピレングリコールジグリシジルエーテル等の多価アルコールのポリグリシジルエーテル;
エチレングリコール、プロピレングリコール、グリセリン等の脂肪族多価アルコールに1種または2種以上のアルキレンオキサイドを付加することにより得られるポリエーテルポリオールの脂肪族ポリグリシジルエーテル;
3,4−エポキシシクロヘキシルメチル−3’,4’−エポキシシクロヘキサンカルボキシレート、2−(3,4−エポキシシクロヘキシル−5,5−スピロ−3,4−エポキシ)シクロヘキサン−メタ−ジオキサン、ビス(3,4−エポキシシクロヘキシルメチル)アジペート、ビス(3,4−エポキシ−6−メチルシクロヘキシルメチル)アジペート、3,4−エポキシ−6−メチルシクロヘキシル−3’,4’−エポキシ−6’−メチルシクロヘキサンカルボキシレート、メチレンビス(3,4−エポキシシクロヘキサン)、ジシクロペンタジエンジエポキサイド、エチレングリコールのジ(3,4−エポキシシクロヘキシルメチル)エーテル、エチレンビス(3,4−エポキシシクロヘキサンカルボキシレート)、ラクトン変性3,4−エポキシシクロヘキシルメチル−3’,4’−エポキシシクロヘキサンカルボキシレート等の3,4−エポキシシクロヘキシル基を有する化合物等
が挙げられる。
As a compound having an epoxy group, for example,
As monofunctional epoxy compounds, glycidyl ether, butyl glycidyl ether, 2-ethylhexyl glycidyl ether, stearyl glycidyl ether, lauryl glycidyl ether, butoxy polyethylene glycol glycidyl ether, phenol polyethylene glycol glycidyl ether, allyl glycidyl ether, phenyl glycidyl ether, p-methyl Phenyl glycidyl ether, p-ethylphenyl glycidyl ether, p-sec-butylphenyl glycidyl ether, p-tert-butylphenyl glycidyl and the like;
As a multifunctional epoxy compound,
Polyglycidyl ethers of bisphenols such as bisphenol A diglycidyl ether, bisphenol F diglycidyl ether, bisphenol S diglycidyl ether, hydrogenated bisphenol A diglycidyl ether, hydrogenated bisphenol F diglycidyl ether, hydrogenated bisphenol AD diglycidyl ether;
Polyhydric alcohols such as 1,4-butanediol diglycidyl ether, 1,6-hexanediol diglycidyl ether, glycerin triglycidyl ether, trimethylolpropane triglycidyl ether, polyethylene glycol diglycidyl ether, and polypropylene glycol diglycidyl ether Glycidyl ether;
Aliphatic polyglycidyl ethers of polyether polyols obtained by adding one or more alkylene oxides to aliphatic polyhydric alcohols such as ethylene glycol, propylene glycol and glycerin;
3,4-epoxycyclohexylmethyl-3 ′, 4′-epoxycyclohexanecarboxylate, 2- (3,4-epoxycyclohexyl-5,5-spiro-3,4-epoxy) cyclohexane-meta-dioxane, bis (3 , 4-epoxycyclohexylmethyl) adipate, bis (3,4-epoxy-6-methylcyclohexylmethyl) adipate, 3,4-epoxy-6-methylcyclohexyl-3 ′, 4′-epoxy-6′-methylcyclohexanecarboxy Rate, methylene bis (3,4-epoxycyclohexane), dicyclopentadiene diepoxide, di (3,4-epoxycyclohexylmethyl) ether of ethylene glycol, ethylene bis (3,4-epoxycyclohexanecarboxylate), lactone modified 3, 4-D Carboxymethyl epoxycyclohexylmethyl-3 ', compounds having a 4'-epoxycyclohexane carboxylate of the 3,4-epoxycyclohexyl group.
オキセタニル基を有する化合物としては、例えば、
単官能オキセタン化合物として、3−エチル−3−ヒドロキシメチルオキセタン(オキセタンアルコール)、2−エチルヘキシルオキセタン、3−エチル−3−(2−エチルヘキシロキシメチル)オキセタン、3−エチル−3−(ドデシロキシメチル)オキセタン、3−エチル−3−(オクタデシロキシメチル)オキセタン、3−エチル−3−(フェノキシメチル)オキセタン、3−エチル−3−ヒドロキシメチルオキセタン等;
多官能オキセタン化合物として、キシリレンビスオキセタン、1−ブトキシ−2,2−ビス〔(3−エチルオキセタン−3−イル)メトキシメチル〕ブタン、3−エチル−3{[(3−エチルオキセタン−3−イル)メトキシ]メチル}オキセタン、1,1,1−トリス〔(3−エチルオキセタン−3−イル)メトキシメチル〕プロパン等
が挙げられる。
As a compound having an oxetanyl group, for example,
Monofunctional oxetane compounds include 3-ethyl-3-hydroxymethyloxetane (oxetane alcohol), 2-ethylhexyloxetane, 3-ethyl-3- (2-ethylhexyloxymethyl) oxetane, 3-ethyl-3- (dode). Siloxymethyl) oxetane, 3-ethyl-3- (octadecyloxymethyl) oxetane, 3-ethyl-3- (phenoxymethyl) oxetane, 3-ethyl-3-hydroxymethyloxetane and the like;
As the polyfunctional oxetane compound, xylylene bisoxetane, 1-butoxy-2,2-bis [(3-ethyloxetane-3-yl) methoxymethyl] butane, 3-ethyl-3 {[(3-ethyloxetane-3 -Yl) methoxy] methyl} oxetane, 1,1,1-tris [(3-ethyloxetane-3-yl) methoxymethyl] propane and the like.
環状エーテル基を有する化合物としては、架橋反応性を高める観点から、これらの中で、エポキシ基を有する化合物が好ましく、多官能エポキシ化合物がより好ましく、多価アルコールのポリグリシジルエーテル、3,4−エポキシシクロヘキシル基を有する化合物がさらに好ましく、ポリエチレングリコールジグリシジルエーテル、ポリプロピレングリコールジグリシジルエーテル、3,4−エポキシシクロヘキシルメチル−3’,4’−エポキシシクロヘキサンカルボキシレートが特に好ましい。 Among these, from the viewpoint of enhancing the crosslinking reactivity, the compound having a cyclic ether group is preferably a compound having an epoxy group, more preferably a polyfunctional epoxy compound, a polyglycidyl ether of a polyhydric alcohol, 3,4- A compound having an epoxycyclohexyl group is more preferable, and polyethylene glycol diglycidyl ether, polypropylene glycol diglycidyl ether, and 3,4-epoxycyclohexylmethyl-3 ′, 4′-epoxycyclohexanecarboxylate are particularly preferable.
重合性二重結合を有する化合物としては、酸素原子を有する化合物が好ましく、(メタ)アクリレート化合物がより好ましい。(メタ)アクリレート化合物としては、例えば、単官能(メタ)アクリレート化合物、多官能(メタ)アクリレート化合物が挙げられる。 As the compound having a polymerizable double bond, a compound having an oxygen atom is preferable, and a (meth) acrylate compound is more preferable. As a (meth) acrylate compound, a monofunctional (meth) acrylate compound and a polyfunctional (meth) acrylate compound are mentioned, for example.
重合性二重結合を有する化合物としては、架橋反応性を高める観点から、これらの中で、多官能(メタ)アクリレート化合物が好ましく、多官能メタクリレート化合物がより好ましく、ポリエチレングリコールジメタクリレート、ポリプロピレングリコールジメタクリレートがさらに好ましく、ポリエチレングリコール#400ジメタクリレート、ポリプロピレングリコール#400ジメタクリレートが特に好ましい。 Among these, the compound having a polymerizable double bond is preferably a polyfunctional (meth) acrylate compound, more preferably a polyfunctional methacrylate compound, polyethylene glycol dimethacrylate, polypropylene glycol diene, from the viewpoint of enhancing crosslinking reactivity. Methacrylate is more preferable, and polyethylene glycol # 400 dimethacrylate and polypropylene glycol # 400 dimethacrylate are particularly preferable.
本発明の粘着層形成用組成物において、重合性化合物(E)を用いる場合のその含有量は、成分(A)100質量部に対して、10〜3000質量部が好ましく、50〜2000質量部がより好ましい。重合性化合物(E)の含有量を上記範囲とすることで、基板への粘着性を効果的に高めることができる。 In the composition for forming an adhesive layer of the present invention, the content when the polymerizable compound (E) is used is preferably 10 to 3000 parts by mass, and 50 to 2000 parts by mass with respect to 100 parts by mass of the component (A). Is more preferable. By making content of a polymeric compound (E) into the said range, the adhesiveness to a board | substrate can be improved effectively.
本発明の粘着層形成用組成物は、更にラジカル重合開始剤(F)を含有することができる。本発明の粘着層形成用組成物は、開始剤(F)を含有することで、例えば、上述の化学反応式に示す加水分解反応によって形成されたアルコール化合物(iii−1−1)および金属水酸化物(iii−1−2)が、前記組粘着層形成用組成物から形成される粘着層が効率良く固定化され、留まることが容易となる。 The composition for forming an adhesive layer of the present invention can further contain a radical polymerization initiator (F). The composition for forming an adhesive layer of the present invention contains an initiator (F), for example, an alcohol compound (iii-1-1) and metal water formed by the hydrolysis reaction shown in the above chemical reaction formula. It becomes easy for the oxide (iii-1-2) to be efficiently fixed and stay in the pressure-sensitive adhesive layer formed from the composition for forming a pressure-sensitive adhesive layer.
開始剤(F)は1種単独で用いてもよく、2種以上を併用してもよい。 An initiator (F) may be used individually by 1 type, and may use 2 or more types together.
開始剤(F)としては、例えば、アゾ化合物、過酸化物等の熱ラジカル重合開始剤;チオキサントン系化合物、アセトフェノン系化合物、ビイミダゾール系化合物、トリアジン系化合物、O−アシルオキシム系化合物、オニウム塩系化合物、ベンゾイン系化合物、ベンゾフェノン系化合物、α−ジケトン系化合物、多核キノン系化合物、アシルホスフィンオキサイド系化合物、イミドスルホナート系化合物等の光ラジカル重合開始剤が挙げられる。 Examples of the initiator (F) include thermal radical polymerization initiators such as azo compounds and peroxides; thioxanthone compounds, acetophenone compounds, biimidazole compounds, triazine compounds, O-acyloxime compounds, onium salts. And photoradical polymerization initiators such as benzene compounds, benzoin compounds, benzophenone compounds, α-diketone compounds, polynuclear quinone compounds, acylphosphine oxide compounds, and imide sulfonate compounds.
本発明の粘着において、ラジカル重合開始剤(D)を用いる場合のその含有量は、成分(A)100質量部に対して、0.05〜5質量部が好ましく、0.1〜2質量部がより好ましい。開始剤(D)の含有量を上記範囲とすることで、所望とするラジカル重合反応を速やかに進行させることができる。 In the adhesive of the present invention, the content when the radical polymerization initiator (D) is used is preferably 0.05 to 5 parts by mass, and 0.1 to 2 parts by mass with respect to 100 parts by mass of the component (A). Is more preferable. By making content of an initiator (D) into the said range, the desired radical polymerization reaction can be advanced rapidly.
また、粘着層形成用組成物にはその用途により、曲面接着性、再剥離性、解体性、放射線硬化性、感温性、緩衝性、高透明性、難燃性、帯電防止性、導電性、熱伝導性、耐ハンダ性、遮光性、低金属腐食性、近赤外線吸収性等が必要とされる、
これらの性能は、本発明の粘着層形成用組成物にその機能を有する化合物を添加することで、設計することができる。このような機能を有する化合物に関しては、非特許文献“月刊ディスプレイ、2013年11月号 粘着層形成用組成物に求められる機能・性能の動向、60ページから64ページ、((株)テクノタイムズ社)の記載を参考にすることができる。その他の添加剤としては、例えば着色剤、顔料などの粉体、界面活性剤、可塑剤、粘着性付与剤、低分子量ポリマー、表面平滑剤、レベリング剤、酸化防止剤、腐食防止剤、光安定剤、紫外線吸収剤、重合禁止剤、シランカップリング剤、無機または有機の充填剤、金属粉、粒子状、箔状物などを使用する用途に応じて適宜添加することができる。
In addition, the adhesive layer forming composition may have curved surface adhesiveness, removability, dismantling properties, radiation curable properties, temperature sensitivity, buffering properties, high transparency, flame retardancy, antistatic properties, electrical conductivity. , Thermal conductivity, solder resistance, light shielding, low metal corrosivity, near infrared absorption, etc. are required.
These performances can be designed by adding a compound having the function to the adhesive layer forming composition of the present invention. Regarding compounds having such functions, non-patent literature “Monthly Display, November 2013, Trends in Functions / Performance Required for Adhesive Layer-Forming Compositions”, pages 60 to 64, (Techno Times Co., Ltd.) Examples of other additives include powders such as colorants, pigments, surfactants, plasticizers, tackifiers, low molecular weight polymers, surface smoothing agents, and leveling agents. Depending on the use, antioxidants, corrosion inhibitors, light stabilizers, UV absorbers, polymerization inhibitors, silane coupling agents, inorganic or organic fillers, metal powders, particles, foils, etc. It can be added as appropriate.
本発明の粘着フィルムに用いるフィルム基板としては、
特に限定されるわけではないが、透明で光学的等方性を有するポリマーフィルム等が好ましい。斯かるポリマーフィルムの例としては、ポリエチレンやポリプロピレン等のポリオレフイン、ポリイミド、ポリアミドイミド、ポリアミド、ポリエーテルイミド、ポリエーテルエーテルケトン、ポリエーテルケトン、ポリケトンサルファイド、ポリエーテルスルフォン、ポリスルフォン、ポリフェニレンサルフアイド、ポリフェニレンオキサイド、ポリエチレンテレフタレート、ポリブチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレート、ポリアセタール、ポリカーボネート、ポリアリレート、アクリル樹脂、ポリビニルアルコール、ポリプロピレン、セルロース系ポリマース、エポキシ樹脂、フェノール樹脂、ノルボルネン系樹脂、イソブテン/N−メチルマレイミド共重合体とスチレン/アクリルニトリル共重合体の混合物等のフィルムを挙げることができる。中でも、ポリエチレン、ポリプロピレン、ポリエチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレート、セルロース系ポリマー、ノルボルネン系樹脂、イソブテン/N−メチルマレイミド共重合体とスチレン/アクリルニトリル共重合体の混合物等が特に好ましい。また、これらのポリマーフィルムに、親水化処理や疎水化処理、基材の溶解性を低減する処理等の表面処理を施したものを用いることもできる。
前記ポリマーフィルムの厚みは、通常1μm以上200μm以下とすることができ、好ましくは10μm以上150μm以下、特に好ましくは20μm以上100μm以下である。1μmより薄い場合はフィルムの強度が弱いために延伸あるいは収縮させた場合に延伸むらが生じるおそれがあるため好ましくない。200μm以上の場合は延伸において必要な張力が大きくなりすぎ工業生産には適さないおそれがあるため好ましくない。
As a film substrate used for the adhesive film of the present invention,
Although not particularly limited, a polymer film having transparency and optical isotropy is preferable. Examples of such polymer films include polyolefins such as polyethylene and polypropylene, polyimide, polyamideimide, polyamide, polyetherimide, polyetheretherketone, polyetherketone, polyketonesulfide, polyethersulfone, polysulfone, polyphenylenesulfide, Polyphenylene oxide, polyethylene terephthalate, polybutylene terephthalate, polyethylene naphthalate, polyacetal, polycarbonate, polyarylate, acrylic resin, polyvinyl alcohol, polypropylene, cellulose polymers, epoxy resin, phenol resin, norbornene resin, isobutene / N-methylmaleimide Films such as a mixture of polymer and styrene / acrylonitrile copolymer It can be mentioned. Among these, polyethylene, polypropylene, polyethylene terephthalate, polyethylene naphthalate, cellulose polymer, norbornene resin, a mixture of isobutene / N-methylmaleimide copolymer and styrene / acrylonitrile copolymer, and the like are particularly preferable. Moreover, what performed surface treatments, such as a hydrophilization process, a hydrophobization process, and the process which reduces the solubility of a base material, to these polymer films can also be used.
The thickness of the polymer film can usually be 1 μm or more and 200 μm or less, preferably 10 μm or more and 150 μm or less, and particularly preferably 20 μm or more and 100 μm or less. When the thickness is less than 1 μm, the strength of the film is weak, so that stretching or shrinkage may cause uneven stretching. In the case of 200 μm or more, the tension necessary for stretching becomes too large, which is not suitable for industrial production.
次に、本発明の粘着層形成用組成物の製造方法について説明する。 Next, the manufacturing method of the composition for adhesion layer formation of this invention is demonstrated.
本発明の粘着層形成用組成物は、(A)加水分解しうる構造を有する化合物と、(B)酸発生剤および塩基発生剤から選ばれる少なくとも1種の化合物、必要に応じて(C)溶剤及び(D)レベリング剤物等を予め混合し、攪拌することによって製造することができる。(B)酸発生剤および塩基発生剤を混合した粘着層形成用組成物は、光照射により(A)成分の加水分解反応を進行するため、粘着層形成用組成物製造後は暗所に保存することが望ましい。 The composition for forming an adhesive layer of the present invention comprises (A) a compound having a hydrolyzable structure, (B) at least one compound selected from an acid generator and a base generator, and (C) if necessary. A solvent, (D) leveling agent, etc. can be mixed in advance and then stirred. (B) The composition for forming an adhesive layer in which an acid generator and a base generator are mixed proceeds with a hydrolysis reaction of the component (A) by light irradiation, and therefore is stored in a dark place after the preparation of the composition for forming an adhesive layer. It is desirable to do.
前記方法で得られた粘着層形成用組成物は、塗工作業性を損なうことなく、粘着層を形成可能であることから、各種粘着フィルムを構成する粘着層に使用することができる。 Since the adhesive layer forming composition obtained by the above method can form an adhesive layer without impairing the coating workability, it can be used for adhesive layers constituting various adhesive films.
前記粘着フィルムとしては、例えば偏光板や光学補償フィルム、位相差板等の光学部材の表面を保護するための表面保護フィルムや、ダイシング用フィルム、バックグラインドフィルム等に使用することができる。特に前記光学部材用の表面保護フィルムは、産業界からの要求性能を満たす粘着層を有することから好ましい。 As said adhesive film, it can be used for the surface protection film for protecting the surface of optical members, such as a polarizing plate, an optical compensation film, a phase difference plate, a film for dicing, a back grind film, etc., for example. In particular, the surface protective film for the optical member is preferable because it has an adhesive layer that satisfies performance requirements from the industry.
前記粘着フィルムは、例えばポリエチレンテレフタレート等のプラスチックからなるフィルムまたはシートの片面または両面に粘着層を有する。 The adhesive film has an adhesive layer on one or both sides of a film or sheet made of plastic such as polyethylene terephthalate.
かかる粘着フィルムの粘着層の厚みは特に制限はないが、1〜100μm好ましい。特に表面保護フィルムとして使用する場合には、5〜30μmが好ましい。 Although there is no restriction | limiting in particular in the thickness of the adhesion layer of this adhesion film, 1-100 micrometers is preferable. When using as a surface protection film especially, 5-30 micrometers is preferable.
表面保護フィルムに使用する場合には、フィルムとして更に高いレベルの帯電防止性を求められることから、前記プラスチック基材として帯電防止処理の施されたものを使用することが好ましい。 When used in a surface protective film, since a higher level of antistatic property is required as the film, it is preferable to use a plastic substrate that has been subjected to antistatic treatment.
前記プラスチック基材の片面又は両面に本発明の粘着層形成用組成物を塗工する方法としては、例えばロールコーター、グラビアコーター、リバースコーター、スプレーコーター、エアーナイフコーター、ダイコーター等を用いる方法が挙げられる。 Examples of the method for applying the adhesive layer forming composition of the present invention on one or both sides of the plastic substrate include a method using a roll coater, gravure coater, reverse coater, spray coater, air knife coater, die coater, etc. Can be mentioned.
また、前記プラスチック基材上に粘着層形成用組成物を塗工した後、その粘着層形成用組成物を乾燥させる方法としては、常温下で一定期間養生する方法であっても良いが、乾燥を促進する観点から30℃〜50℃の範囲で養生しても良い。 In addition, after applying the adhesive layer forming composition on the plastic substrate, the method for drying the adhesive layer forming composition may be a method of curing at room temperature for a certain period of time. It may be cured in the range of 30 ° C. to 50 ° C. from the viewpoint of promoting the heat treatment.
以下、本発明を実施例に基づいて更に具体的に説明するが、本発明はこれら実施例に限定されない。以下の実施例等の記載において、特に言及しない限り、「部」は「質量部」を示す。
(A)成分について
〔水分捕獲剤(A1)の合成〕
[合成例1]水分捕獲剤(A−1)の合成
撹拌機、冷却器、温度制御装置および溶剤回収装置を備えた反応装置に、オルトギ酸メチル53.0部、2−ブチル−2−エチル−1,3−プロパンジオール80.0部、ペンタエリスリトール17.0部および90wt%ギ酸水溶液0.5部を仕込み、アルコール交換反応により生成するメタノールを留去しながら約85℃に1時間保持した。その後、2時間かけて175℃まで昇温して46.5部のメタノールを回収し、無色透明で粘調のポリオルトエステルとして水分捕獲剤(A−1)を得た。
EXAMPLES Hereinafter, although this invention is demonstrated further more concretely based on an Example, this invention is not limited to these Examples. In the following description of Examples and the like, “part” means “part by mass” unless otherwise specified.
Component (A) [Synthesis of Moisture Capture Agent (A1)]
[Synthesis Example 1] Synthesis of moisture trapping agent (A-1) In a reaction apparatus equipped with a stirrer, a cooler, a temperature control device and a solvent recovery device, 53.0 parts of methyl orthoformate, 2-butyl-2-ethyl −1,3-propanediol 80.0 parts, pentaerythritol 17.0 parts and 90 wt% formic acid aqueous solution 0.5 part were charged, and maintained at about 85 ° C. for 1 hour while distilling off methanol produced by the alcohol exchange reaction. . Then, it heated up to 175 degreeC over 2 hours, and 46.5 parts of methanol was collect | recovered, and the water | moisture-content capture agent (A-1) was obtained as a colorless, transparent and viscous polyorthoester.
(A−1)
水分捕獲剤(A−2)として以下の構造の化合物を用いた。
(A-1)
A compound having the following structure was used as the moisture capturing agent (A-2).
OXT−191(東亞合成(株)製)
水分捕獲剤(A−3)として 、4−メチルシクロヘキサンジカルボン酸無水物(東京化成工業(株)製)を用いた。
(B)成分について
B−1:CPI−210S(サンアプロ(株)製)を用いた。
OXT-191 (manufactured by Toagosei Co., Ltd.)
4-Methylcyclohexanedicarboxylic anhydride (manufactured by Tokyo Chemical Industry Co., Ltd.) was used as the moisture trapping agent (A-3).
For component (B), B-1: CPI-210S (manufactured by San Apro Co., Ltd.) was used.
(X=特殊リン系アニオン)
重合性化合物(E)として下記構造の化合物を用いた。(E−1)とする。
(X = Special phosphorus anion)
A compound having the following structure was used as the polymerizable compound (E). (E-1).
[実施例1]
水分捕獲剤(A)として(A−1)23部、酸発生剤(B1)として(B−1)2部、溶剤(C)として酢酸ブチル50質量部、レベリング剤(D)として、(D−1)( 大日本インキ化学工業株式会社製、商品名「GRANDICPC−4100」)を2質量部、重合性化合物として(E−1)55部を容器に量り取り、遊星式攪拌機(あわとり練太郎、シンキー社)を用いて充分に混合し、粘着層形成用組成物を調製した。
[Example 1]
23 parts of (A-1) as the moisture scavenger (A), 2 parts of (B-1) as the acid generator (B1), 50 parts by weight of butyl acetate as the solvent (C), and (D) as the leveling agent (D) -1) Weigh 2 parts by weight (manufactured by Dainippon Ink and Chemicals, trade name “GRANDICPC-4100”) and 55 parts (E-1) as a polymerizable compound in a container, and stir in a planetary stirrer Taro, Shinky Co., Ltd.) was sufficiently mixed to prepare an adhesive layer forming composition.
[実施例2〜5および比較例1〜2]
実施例1において、各成分を表1に示す種類および配合量としたこと以外は実施例1と同様に操作して、粘着層形成用組成物を調製した。
表1に示した各成分は以下に示した化合物である。
溶剤(C)成分
C−1:酢酸ブチル
C−2:メチルエチルケトン
C−3:プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート
レベリング剤(D)成分
D−1: 大日本インキ化学工業株式会社製、商品名 「GRANDICPC−4100」
D−2:フッ素系界面活性剤 商品名 「メガファックF142D(以上、大日本インキ化学工業社)」
〔粘着フィルムの形成〕
上記粘着層形成用組成物を、隙間寸法135μmのバーコーター「E−789」(ヨシミツ精機社)を用いて、膜厚100μmのPETフィルム「T100−50」(三菱化学ポリエステルフィルム(株)製)上に塗布速度2cm/secにて塗布し、膜厚20μmの塗膜を形成した。塗膜の膜厚は、デプスゲージ547−251((株)ミツトヨ製)で測定した。得られた塗膜に対して、クリーンオーブン内にて80℃で1時間加熱することにより、PETフィルム上に粘着層を形成し、粘着フィルムを作成した。
[Examples 2-5 and Comparative Examples 1-2]
In Example 1, a composition for forming an adhesive layer was prepared in the same manner as in Example 1 except that the components and amounts shown in Table 1 were used.
Each component shown in Table 1 is the compound shown below.
Solvent (C) Component C-1: Butyl acetate C-2: Methyl ethyl ketone C-3: Propylene glycol monomethyl ether acetate leveling agent (D) Component D-1: Product name “GRANDICPC-4100” manufactured by Dainippon Ink & Chemicals, Inc. "
D-2: Fluorosurfactant Product name "Megafac F142D (above, Dainippon Ink and Chemicals)"
[Formation of adhesive film]
Using the bar coater “E-789” (Yoshimitsu Seiki Co., Ltd.) having a gap size of 135 μm, the above adhesive layer forming composition is a PET film “T100-50” (manufactured by Mitsubishi Chemical Polyester Film Co., Ltd.) having a film thickness of 100 μm. The coating was carried out at a coating speed of 2 cm / sec to form a coating film having a thickness of 20 μm. The film thickness of the coating film was measured with a depth gauge 547-251 (manufactured by Mitutoyo Corporation). The obtained coating film was heated in a clean oven at 80 ° C. for 1 hour to form an adhesive layer on the PET film, thereby producing an adhesive film.
[粘着力の測定方法]
前記方法で作成した粘着フィルムを基板に貼付したものを、JIS Z−0237に準じて180度剥離強度を測定した。前記剥離強度が、概ね0.15N/25mm以下であることが、実用上好ましい。
[Measurement method of adhesive strength]
A 180-degree peel strength was measured in accordance with JIS Z-0237 for the adhesive film prepared by the above method attached to a substrate. It is practically preferable that the peel strength is approximately 0.15 N / 25 mm or less.
[塗工作業性の評価方法]
本発明の粘着層形成用組成物を、30m/分の速度で、剥離処理した厚さ25μmのポリエチレンテレフタレートフィルム上に乾燥後の厚さが20μmになるようにロールコーターを用いて塗布した際の、粘着層形成用組成物の塗膜表面の平滑性を目視にて評価した。
[Coating workability evaluation method]
The composition for forming an adhesive layer of the present invention was applied at a rate of 30 m / min on a 25 μm-thick polyethylene terephthalate film subjected to a release treatment using a roll coater so that the thickness after drying was 20 μm. The smoothness of the coating film surface of the composition for forming an adhesive layer was visually evaluated.
○ : 良好(平滑な塗工面)
△ : 一部不良(塗工時にやや粘性不良あるが比較的平滑な塗工面)
× : 不良(塗工時に粘性不良あり、スジ引きが見られ平滑な塗工面とはいえない)
[有機EL素子の製造]
縦横25mm、厚さ0.7mmのガラス板に膜厚15nmのITO膜が幅2mmのパターンで形成されたガラス基板(旭硝子(株)製)上に、正孔注入材料としてポリ(3,4)エチレンジオキシチオフェン/ポリスチレンサルフォネイト(PEDOT/PSS)を含有する正孔注入層形成用塗液を3000rpmで50秒間スピンコートを行い、膜厚50nmの正孔注入層を形成した後、高純度窒素中、200℃で10分間加熱・乾燥を行った。ここで、正孔注入層形成用塗液としては、PEDOT/PSSを純水に固形分0.1質量%で溶解したものを用いた。正孔注入層上に、発光材料ポリフルオレン誘導体の1.0質量%溶液を2000rpmで50秒間スピンコートを行い、膜厚70nmの発光層を形成した後、60℃で10分間焼成した。発光層上に、10−5Paの圧力条件下、0.1nm/secの蒸着速度でLiFを10nm、0.1nm/secの蒸着速度でCaを20nm積層し、その上に20nm/secの蒸着速度でAlを100nm積層して陰極を形成した。
○: Good (smooth coated surface)
△: Partially defective (coating surface with relatively poor viscosity during coating but relatively smooth)
×: Defective (viscosity is poor at the time of coating, streaks are observed and it cannot be said that the coated surface is smooth)
[Manufacture of organic EL elements]
Poly (3,4) as a hole injection material on a glass substrate (manufactured by Asahi Glass Co., Ltd.) having an ITO film having a thickness of 15 nm formed on a glass plate having a length and width of 25 mm and a thickness of 0.7 mm and a pattern having a width of 2 mm. A coating solution for forming a hole injection layer containing ethylenedioxythiophene / polystyrene sulfonate (PEDOT / PSS) is spin-coated at 3000 rpm for 50 seconds to form a hole injection layer having a thickness of 50 nm, and then high purity. Heating and drying were performed at 200 ° C. for 10 minutes in nitrogen. Here, as the hole injection layer forming coating solution, a solution in which PEDOT / PSS was dissolved in pure water at a solid content of 0.1% by mass was used. On the hole injection layer, a 1.0 mass% solution of the light emitting material polyfluorene derivative was spin-coated at 2000 rpm for 50 seconds to form a light emitting layer having a thickness of 70 nm, and then baked at 60 ° C. for 10 minutes. On the light-emitting layer, LiF was deposited at a thickness of 10 nm and a deposition rate of 0.1 nm / sec at a deposition rate of 0.1 nm / sec under a pressure condition of 10-5 Pa, and Ca was deposited at a thickness of 20 nm. Then, 100 nm of Al was laminated to form a cathode.
次いで、得られた成膜済みガラス基板の周縁部に、シール剤を、ディスペンサーを用いて塗布し、厚さ100μmの塗膜を形成した。次いで、真空張り合わせ装置を用いて、成膜済みガラス基板へ縦横25mm、厚さ0.7mmの対向ガラス基板を前記塗膜を介して貼り合わせ、超高圧水銀灯(365nmにおける強度が100mW)を用いて30秒間紫外光を照射した後、80℃で30分間加熱することにより、前記塗膜を硬化させ、シール材を形成した。 Next, a sealant was applied to the peripheral edge of the obtained glass substrate with a film using a dispenser to form a coating film having a thickness of 100 μm. Next, using a vacuum laminating apparatus, a counter glass substrate having a length and width of 25 mm and a thickness of 0.7 mm is bonded to the film-formed glass substrate through the coating film, and an ultrahigh pressure mercury lamp (strength at 365 nm is 100 mW). After irradiating with ultraviolet light for 30 seconds, the coating film was cured by heating at 80 ° C. for 30 minutes to form a sealing material.
次いで、ガラス基板上に形成された有機EL層の上に、粘着フィルムを上記実施例で作成した粘着フィルムを貼り合わせた。
[耐湿性試験]
上記Bで[有機EL素子の製造]で得られた有機EL素子を85℃、85RH%の条件下にて500時間通電したときに発生したダークスポットの有機EL層上面の表面積に占める割合(%)を測定した。この割合が5%以下の場合、耐湿性が良好である、すなわちダークスポットの発生が抑制されていると判断した。
Subsequently, the adhesive film which produced the adhesive film in the said Example on the organic EL layer formed on the glass substrate was bonded together.
[Moisture resistance test]
Proportion (%) of the dark spot generated when the organic EL element obtained in [Production of organic EL element] in B is energized for 500 hours under the conditions of 85 ° C. and 85 RH% on the surface area of the organic EL layer. ) Was measured. When this ratio was 5% or less, it was judged that the moisture resistance was good, that is, the occurrence of dark spots was suppressed.
10 有機EL層
22 基板
24 封止部材
26 シール材
230 粘着フィルム
300 有機EL素子
231、232 支持材
DESCRIPTION OF SYMBOLS 10 Organic EL layer 22 Substrate 24 Sealing member 26 Sealing material 230 Adhesive film 300 Organic EL element 231 232 Support material
Claims (8)
(A)加水分解しうる構造を有する化合物と、
(B)酸発生剤および塩基発生剤から選ばれる少なくとも1種の化合物 A pressure-sensitive adhesive film produced by applying a pressure-sensitive adhesive on a film, wherein the pressure-sensitive adhesive contains the following components.
(A) a compound having a hydrolyzable structure;
(B) At least one compound selected from an acid generator and a base generator
前記化合物(B)が、酸発生剤である粘着剤を塗工して製造されることを特徴とする請求項1から請求項3のいずれか一項に記載の粘着フィルム。
[式(A1−1)中、R1〜R5は、それぞれ独立に水素原子または炭素数1〜18の有機基であり、R6およびR7は、それぞれ独立に水素原子、水酸基または炭素数1〜18の有機基であり、R3、R4およびR7は、これらが直接結合する炭素原子と一緒になって環状構造を形成していてもよく、nは0または1〜18の整数であり、*は結合位を示し;式(A1−2)中、R1は水素原子または炭素数1〜18の有機基であり;R8はそれぞれ独立に炭素数3〜10の有機基である。]
The pressure-sensitive adhesive film according to any one of claims 1 to 3, wherein the compound (B) is produced by applying a pressure-sensitive adhesive that is an acid generator.
[In Formula (A1-1), R 1 to R 5 are each independently a hydrogen atom or an organic group having 1 to 18 carbon atoms, and R 6 and R 7 are each independently a hydrogen atom, a hydroxyl group or a carbon number. An organic group of 1 to 18, R 3 , R 4 and R 7 may form a cyclic structure together with the carbon atom to which they are directly bonded, and n is an integer of 0 or 1 to 18 * Represents a bonding position; in Formula (A1-2), R 1 is a hydrogen atom or an organic group having 1 to 18 carbon atoms; R 8 is each independently an organic group having 3 to 10 carbon atoms; is there. ]
(1) フィルム上に粘着剤を塗工する工程、
(2) 加熱する工程 Production method of pressure-sensitive adhesive film having the following steps (1) A step of coating a pressure-sensitive adhesive on the film,
(2) Heating process
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