JP2015172530A - Semiconductor device and manufacturing method of the same - Google Patents

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昭久 青山
Akihisa Aoyama
昭久 青山
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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To efficiently implement a test of ICs by arranging test pads less than the number of terminals with multiple pins and narrow pitches on a film in the IC having a COF mounted.SOLUTION: Short circuit wire shunting a terminal with multiple pins/narrow pitches every plural terminals and one test pad for each short circuit wire are configured to be disposed outside a cut line on a film. In an IC, a switch is provided that can control so that only one terminal out of all the terminals is independently connected to an internal circuit for each of the plurality of terminals to be externally shunted, and the other terminals are blocked from the internal circuit. The plurality of terminals to be shunted by the same short circuit wire are connected to the internal circuit by every one terminal and measure an electric characteristic via a corresponding short circuit wire and test pad, which implements a test of the IC.

Description

本発明は、半導体装置およびその製造方法に関し、特に、高精細な表示パネルに接続可能な表示ドライバIC(Integrated Circuit)のような多ピン・狭ピッチの端子を有する半導体チップがCOF(Chip On Film)実装された半導体装置に好適に利用できるものである。   The present invention relates to a semiconductor device and a manufacturing method thereof, and more particularly, a semiconductor chip having a multi-pin, narrow-pitch terminal such as a display driver IC (Integrated Circuit) that can be connected to a high-definition display panel is a COF (Chip On Film). It can be suitably used for a mounted semiconductor device.

近年、スマートフォンやタブレットなどの中小型の携帯端末においても、表示パネルの高精細化の傾向が顕著である。液晶(LCD:Liquid Crystal Display)やOLED(Organic Light-Emitting Diode)などの表示パネルは、一般に複数の走査線(ゲート線とも言う)と複数の信号線(ソース線とも言う)を有し、それらが交差する各点に表示素子を備える。表示パネルの精細度は、1画面当たりの走査線の数(ライン数)と1ライン当たりの表示素子の数(画素数)によって規定され、高精細化に伴ってゲート線の数とソース線の数は増加する。表示ドライバICは、表示パネルの1辺に1個又は複数個実装され、ソース線を並列に駆動する。   In recent years, the trend toward higher definition of display panels is also remarkable in small and medium portable terminals such as smartphones and tablets. A display panel such as a liquid crystal display (LCD) or an organic light-emitting diode (OLED) generally has a plurality of scanning lines (also referred to as gate lines) and a plurality of signal lines (also referred to as source lines). A display element is provided at each point where. The definition of a display panel is defined by the number of scanning lines per screen (number of lines) and the number of display elements per line (number of pixels). As the definition becomes higher, the number of gate lines and the number of source lines The number increases. One or more display driver ICs are mounted on one side of the display panel, and drive the source lines in parallel.

表示ドライバICの実装方法には、表示パネルのガラス基板上に例えばフリップチップ実装する、COG(Chip On Glass)と呼ばれる実装方法と、表示パネルに接続するフィルム状のフレキシブル配線基板の上に実装する、COF(Chip On Film)と呼ばれる実装方法がある。表示ドライバICの良品選別のためのテストは、COG実装のために表示ドライバICをベアチップ出荷するときには、ウェハ状態で実施され、COF実装の場合には、COGと同様のウェハ状態でテストに加えて、リール状のフレキシブル配線基板に実装された時点でもテストが実施される場合が多い。COF配線と表示ドライバICとの電気的な導通状態をテストすることにより、COF実装に起因する不良品を選別するためである。   The display driver IC is mounted on the glass substrate of the display panel by flip chip mounting, for example, a mounting method called COG (Chip On Glass), or on a film-like flexible wiring substrate connected to the display panel. There is a mounting method called COF (Chip On Film). A test for selecting non-defective products of the display driver IC is performed in a wafer state when the display driver IC is shipped as a bare chip for COG mounting, and in the case of COF mounting, in addition to the test in a wafer state similar to COG. In many cases, the test is performed even when mounted on a reel-like flexible wiring board. This is because defective products resulting from COF mounting are selected by testing the electrical continuity between the COF wiring and the display driver IC.

特許文献1には、電気的特性評価のためのテストパッドを有するCOFパッケージが開示されている。特許文献2には、多ピン・狭ピッチが要求されるCOF等の半導体装置において、プローブカードを用いて行う検査の方法、及びその検査に適する半導体装置が開示されている。特許文献3には、テストパッド部での配線の局所的な細りをなくしたCOF基板が開示されている。特許文献4には、COFが接続される表示パネル基板上にテスト端子を設けた、表示装置が開示されている。   Patent Document 1 discloses a COF package having a test pad for evaluating electrical characteristics. Patent Document 2 discloses an inspection method using a probe card in a semiconductor device such as a COF that requires a large number of pins and a narrow pitch, and a semiconductor device suitable for the inspection. Patent Document 3 discloses a COF substrate that eliminates local thinning of wiring in a test pad portion. Patent Document 4 discloses a display device in which a test terminal is provided on a display panel substrate to which a COF is connected.

特開2002−313847号公報JP 2002-313847 A 特開2002−196036号公報JP 2002-196036 A 特開2010−010375号公報JP 2010-010375 A 特開2012−226058号公報JP 2012-226058 A

特許文献1、2、3及び4について本発明者が検討した結果、以下のような新たな課題があることがわかった。   As a result of examination of Patent Documents 1, 2, 3, and 4, the inventors have found that there are the following new problems.

高精細の表示パネルに接続される表示ドライバICのような多ピン・狭ピッチの端子を有する半導体チップでは、COF実装後に実施すべき、ソース線を駆動する端子のような多ピン・狭ピッチの端子を対象とするテストが困難であることがわかった。表示ドライバICなどの半導体チップの端子に対するテストは、特許文献1や特許文献2に示されるように、半導体チップの端子と導通する配線を介してCOFのフィルム上に設けられたテストパッドに、プローブカード等の探針(プローブ)を接触させて実施する。このとき、多ピン・狭ピッチの端子を対象とする場合には、特許文献2に開示される技術を採用すると、同文献の図1〜図3に示されるように、テストパッドをフィルム上に分散して配置し、探針が互いに接触しない範囲で、複数回のステップに分けて測定を行う。半導体チップの端子からテストパッドへの配線とテストパッドの配置は、例えば特許文献3に示されるような形状とすることができる。   In a semiconductor chip having a multi-pin, narrow-pitch terminal such as a display driver IC connected to a high-definition display panel, the multi-pin, narrow-pitch, such as a terminal for driving a source line, should be implemented after COF mounting. It was found that testing for terminals was difficult. As shown in Patent Document 1 and Patent Document 2, a test for a terminal of a semiconductor chip such as a display driver IC is performed by applying a probe to a test pad provided on a COF film via a wiring that is electrically connected to the terminal of the semiconductor chip. This is done by contacting a probe such as a card. At this time, when a multi-pin, narrow-pitch terminal is targeted, if the technique disclosed in Patent Document 2 is adopted, the test pad is placed on the film as shown in FIGS. The measurement is performed in a plurality of steps within a range in which the probes are arranged in a dispersed manner and the probes do not contact each other. The wiring from the terminal of the semiconductor chip to the test pad and the arrangement of the test pad can be shaped as shown in Patent Document 3, for example.

表示パネルの高精細化が進むに伴って、駆動されるソース線の数は増加し、その端子は表示ドライバICの1辺に配列されるため、著しく多ピン・狭ピッチ化が進行することとなる。例えばフルハイビジョンでは、RGBをマルチプレックスしたとしても、ソース線の数は1080本となる。COFの有効エリアが60mmの場合、1端子毎にテストパッドを配置するには、テストパッド1個当たりに許されるピッチは55.6μm(60mm÷1080)となる。これに対して通常COFで許されるテストパッドは、最小でも90μmであり、1080個ものテストパッドを1列に配列することはできない。このように半導体チップの端子が多ピン・狭ピッチ化したとき、特許文献3に示されるように、複数列のテストパッドを並べて配置することとなり、許容されるテストパッドの大きさによっては、その列の数は非常に多くなる。また、特許文献2に示されるように、テストを複数のステップの測定に分けて実施することとなるため、テスト時間が長くなる。そこで、コスト面の制約によって十分な数のテストパッドをフィルム上に配置することができないなどの理由により、COF実装状態ではテストを完結することができないときには、特許文献4に示されるように、COFが実装された表示パネルの基板上にテストパッドを設けてテストを実施することとなる。しかし、その場合には、COF実装段階での検出されなかった不良が、表示パネルへの実装後に判明することとなるため、表示パネルの歩留まりを必要以上に低下させる恐れがある。   As the display panel becomes higher in definition, the number of source lines to be driven increases and its terminals are arranged on one side of the display driver IC. Become. For example, in full high vision, even if RGB is multiplexed, the number of source lines is 1080. In the case where the effective area of the COF is 60 mm, in order to arrange the test pads for each terminal, the pitch allowed per test pad is 55.6 μm (60 mm ÷ 1080). On the other hand, the test pad normally allowed by COF is 90 μm at the minimum, and as many as 1080 test pads cannot be arranged in a row. Thus, when the terminals of the semiconductor chip are multi-pin and narrow pitch, as shown in Patent Document 3, a plurality of rows of test pads will be arranged side by side, depending on the size of the test pads allowed, The number of columns is very large. Further, as shown in Patent Document 2, the test is performed by dividing the measurement into a plurality of steps, so that the test time becomes long. Therefore, when the test cannot be completed in the COF mounting state because a sufficient number of test pads cannot be arranged on the film due to cost constraints, as shown in Patent Document 4, the COF The test is performed by providing a test pad on the substrate of the display panel on which is mounted. However, in that case, a defect that has not been detected in the COF mounting stage is found after mounting on the display panel, which may reduce the yield of the display panel more than necessary.

本発明の目的は、多ピン・狭ピッチの端子の半導体チップのCOF実装された状態での良品選別テストを、当該端子の数よりも少ない数のテストパッドを用いて、適切に実施することができるような、半導体チップ及びそのテスト方法を提供することである。   An object of the present invention is to appropriately carry out a non-defective product selection test in a state where a multi-pin, narrow-pitch terminal semiconductor chip is mounted on a COF, using a smaller number of test pads than the number of the terminals. It is to provide a semiconductor chip and a test method thereof that can be used.

このような課題を解決するための手段を以下に説明するが、その他の課題と新規な特徴は、本明細書の記述及び添付図面から明らかになるであろう。   Means for solving such problems will be described below, but other problems and novel features will become apparent from the description of the present specification and the accompanying drawings.

一実施の形態によれば、下記の通りである。   According to one embodiment, it is as follows.

すなわち、多ピン・狭ピッチの端子を複数個毎に短絡する短絡配線と、短絡配線毎に1個のテストパッドを、フィルム上のカットラインの外側に配置する。半導体チップには、外部で短絡される複数の端子毎に、全ての端子が1個ずつ、その端子のみが内部回路と接続され、且つ、他の端子が内部回路から遮断されるように制御可能なスイッチを設ける。同じ短絡配線によって短絡される複数の端子について1端子毎に内部回路に接続して、対応する短絡配線とテストパッドを介して電気的特性を測定することにより、その半導体チップのテストを実施する。短絡配線とテストパッドは、前記テストの後に、カットラインの位置で切り離す。   That is, a short-circuit wiring that short-circuits a plurality of terminals having multiple pins and narrow pitches and one test pad for each short-circuit wiring are arranged outside the cut line on the film. The semiconductor chip can be controlled so that, for each of a plurality of terminals that are short-circuited externally, all the terminals are connected to the internal circuit, and other terminals are disconnected from the internal circuit. Provide an appropriate switch. A plurality of terminals that are short-circuited by the same short-circuit wiring are connected to an internal circuit for each terminal, and the electrical characteristics are measured through the corresponding short-circuit wiring and test pads, thereby testing the semiconductor chip. The short-circuit wiring and the test pad are cut off at the cut line after the test.

前記一実施の形態によって得られる効果を簡単に説明すれば下記のとおりである。   The effect obtained by the one embodiment will be briefly described as follows.

すなわち、COF実装された半導体チップにおいて、多ピン・狭ピッチの端子の端子数よりも少ないテストパッドをフィルム上に配置して、効率良く当該半導体チップのテストを実施することができる。   That is, in a semiconductor chip mounted with COF, the test of the semiconductor chip can be efficiently performed by disposing test pads on the film that are smaller than the number of terminals of multi-pin, narrow pitch terminals.

図1は、本発明が適用される電子機器の一例である表示及び入力装置の全体的な構成を示すブロック図である。FIG. 1 is a block diagram showing an overall configuration of a display and input device as an example of an electronic apparatus to which the present invention is applied. 図2は、表示パネル2と、表示パネルコントローラを構成する表示ドライバIC4と、ホストプロセッサ6を搭載する基板61の接続例を示す斜視図である。FIG. 2 is a perspective view showing a connection example of the display panel 2, the display driver IC 4 constituting the display panel controller, and the substrate 61 on which the host processor 6 is mounted. 図3は、本発明に係る、半導体チップがCOF実装された半導体装置の構成例を概略的に示す、模式図である。FIG. 3 is a schematic diagram schematically showing a configuration example of a semiconductor device in which a semiconductor chip according to the present invention is COF-mounted. 図4は、本発明に係る半導体装置の、半導体チップ内の回路構成と、フィルム上の配線や電極の配置例を示す、より詳細な模式図である。FIG. 4 is a more detailed schematic diagram showing a circuit configuration in a semiconductor chip and an arrangement example of wirings and electrodes on a film of the semiconductor device according to the present invention. 図5は、本発明の半導体装置の製造方法の一例を示す、フロー図である。FIG. 5 is a flowchart showing an example of a method for manufacturing a semiconductor device of the present invention. 図6は、プローブテストにおける、半導体装置の断面を示す説明図である。FIG. 6 is an explanatory view showing a cross section of the semiconductor device in the probe test. 図7は、チップ実装工程における、半導体装置の断面を示す説明図である。FIG. 7 is an explanatory view showing a cross section of the semiconductor device in the chip mounting process. 図8は、COF実装状態でのテストにおける、半導体装置の断面を示す説明図である。FIG. 8 is an explanatory diagram showing a cross section of a semiconductor device in a test in a COF mounted state. 図9は、基板実装工程後における断面を示す説明図である。FIG. 9 is an explanatory view showing a cross section after the substrate mounting process. 図10は、表示ドライバICの詳細な構成例を示すブロック図である。FIG. 10 is a block diagram illustrating a detailed configuration example of the display driver IC. 図11は、実施形態2に係る半導体装置の、半導体チップ内の回路構成と、フィルム上の配線や電極の配置例を示す、より詳細な模式図である。FIG. 11 is a more detailed schematic diagram showing a circuit configuration in a semiconductor chip and an example of arrangement of wirings and electrodes on a film of the semiconductor device according to the second embodiment. 図12は、テスト回路の構成を示す論理ブロック図である。FIG. 12 is a logic block diagram showing the configuration of the test circuit. 図13は、COF実装状態でのテストにおける、テスト回路の動作を示す真理値表の説明図である。FIG. 13 is an explanatory diagram of a truth table showing the operation of the test circuit in the test in the COF mounted state. 図14は、プローブテストにおける、テスト回路の動作を示す真理値表の説明図である。FIG. 14 is an explanatory diagram of a truth table showing the operation of the test circuit in the probe test. 図15は、実施形態3に係る半導体装置の、半導体チップ内の回路構成と、フィルム上の配線や電極の配置例を示す、より詳細な模式図である。FIG. 15 is a more detailed schematic diagram showing a circuit configuration in a semiconductor chip and an example of arrangement of wirings and electrodes on a film of the semiconductor device according to the third embodiment. 図16は、実施形態4に係る半導体装置の、半導体チップ内の回路構成と、フィルム上の配線や電極の配置例を示す、より詳細な模式図である。FIG. 16 is a more detailed schematic diagram showing a circuit configuration in a semiconductor chip and an example of arrangement of wirings and electrodes on a film of the semiconductor device according to the fourth embodiment.

1.実施の形態の概要
先ず、本願において開示される代表的な実施の形態について概要を説明する。代表的な実施の形態についての概要説明で括弧を付して参照する図面中の参照符号はそれが付された構成要素の概念に含まれるものを例示するに過ぎない。
1. First, an outline of a typical embodiment disclosed in the present application will be described. Reference numerals in the drawings referred to in parentheses in the outline description of the representative embodiments merely exemplify what are included in the concept of the components to which the reference numerals are attached.

〔1〕<COF実装された半導体チップ(IC)>
本願において開示される代表的な実施の形態は、フィルム(7)と、前記フィルム上に印刷された導体(20)による配線(8、11)と、前記配線に電気的に接続される複数の端子(S6n〜S6n−5)を有し前記フィルム上に実装された半導体チップ(4)とを備える半導体装置(21)であって、以下のように構成される。
[1] <Semiconductor chip (IC) mounted with COF>
A typical embodiment disclosed in the present application includes a film (7), wirings (8, 11) by conductors (20) printed on the film, and a plurality of electrical connections to the wirings. A semiconductor device (21) including terminals (S6n to S6n-5) and a semiconductor chip (4) mounted on the film, and configured as follows.

前記フィルム上の、前記半導体チップが実装される領域の外側に、前記配線が他の基板に電気的に接続されるための接続領域(11_0〜11_5)と、前記フィルム上の、前記接続領域のさらに外側であって、前記接続領域と切り離し可能な領域に、前記複数の端子のうちの所定数の端子を電気的に短絡する短絡配線(8_1と8_2;8_3と8_4;8_5と8_6)と、前記短絡配線に電気的に接続され当該短絡配線1本に対して少なくとも1個設けられたテストパッド(9_1と9_2)とを備える。   Outside the region where the semiconductor chip is mounted on the film, the connection region (11_0 to 11_5) for the wiring to be electrically connected to another substrate, and the connection region on the film Short-circuit wiring (8_1 and 8_2; 8_3 and 8_4; 8_5 and 8_6) that electrically short-circuits a predetermined number of the terminals among the plurality of terminals in a region that is further outside and separable from the connection region; At least one test pad (9_1 and 9_2) is provided which is electrically connected to the short-circuit wiring and provided for one short-circuit wiring.

前記半導体チップは、前記所定数の端子のそれぞれと前記半導体チップの内部回路(12、13)との電気的な接続を遮断可能な遮断スイッチ(14、15)を有する。   The semiconductor chip includes a cutoff switch (14, 15) that can cut off an electrical connection between each of the predetermined number of terminals and an internal circuit (12, 13) of the semiconductor chip.

これにより、半導体チップの多ピン・狭ピッチの端子を対象とする、COF実装された状態でのテストを、当該端子の数よりも少ない数のテストパッドを用いて、適切に実施することができる。前記スイッチを制御して前記所定数の端子を、1個のテストパッドに1個ずつ順次、電気的に接続して測定を行うことができるため、当該所定数の端子につき1個のテストパッドを設ければ足りるからである。   Thereby, the test in the state where the multi-pin, narrow-pitch terminals of the semiconductor chip are mounted in the COF mounting state can be appropriately performed using a smaller number of test pads than the number of the terminals. . Since the switch can be controlled and the predetermined number of terminals can be sequentially electrically connected to one test pad one by one, measurement can be performed. This is because it is sufficient.

〔2〕<交互に異なる短絡配線=テストパッドに接続>
項1において、前記複数の端子から対応する接続領域への配線のうち互いに隣接する配線(S6nとS6n−1,S6n−2とS6n−3,S6n−4とS6n−5からの配線)は、互いに異なる短絡配線(8_1と8_2)に接続される。
[2] <Alternating short-circuit wiring = Connect to test pad>
In item 1, wirings adjacent to each other among the wirings from the plurality of terminals to the corresponding connection regions (wirings from S6n and S6n-1, S6n-2 and S6n-3, S6n-4 and S6n-5) are: They are connected to different short-circuit lines (8_1 and 8_2).

これにより、引き出し配線(各端子から他の基板に電気的に接続されるための接続領域への配線。以下同じ)が互いに隣接する端子間のオープン/ショートテストを実施することができる。   Thereby, an open / short test can be performed between terminals adjacent to each other for lead wiring (wiring from each terminal to a connection region for electrical connection to another substrate; the same applies hereinafter).

〔3〕<隣接する複数の端子を短絡する短絡配線>
項1において、同じ短絡配線に接続される前記所定数の端子(短絡配線8_3に接続されるS6nとS6n−1とS6n−2と、短絡配線8_4に接続されるS6n−3とS6n−4とS6n−5)は、当該端子から対応する接続領域への配線が互いに隣接する。
[3] <Short-circuit wiring for short-circuiting a plurality of adjacent terminals>
In item 1, the predetermined number of terminals connected to the same short-circuit wiring (S6n, S6n-1 and S6n-2 connected to the short-circuit wiring 8_3, S6n-3 and S6n-4 connected to the short-circuit wiring 8_4, In S6n-5), the wiring from the terminal to the corresponding connection region is adjacent to each other.

これにより、半導体チップの各端子からの引き出し配線と全ての短絡配線とテストパッドとを、フィルム上の単一の配線層を用いて形成することができ、COF基板のコストを低減することができる。さらに、COF実装状態において、各端子のオープンテストは実施可能であり、異なる短絡配線に接続される隣接端子間のショートテストも実施可能である。   Thereby, the lead-out wiring from each terminal of the semiconductor chip, all the short-circuit wirings, and the test pad can be formed by using a single wiring layer on the film, and the cost of the COF substrate can be reduced. . Furthermore, in the COF mounting state, an open test of each terminal can be performed, and a short test between adjacent terminals connected to different short-circuit wirings can also be performed.

〔4〕<隣接する3個の端子のうち両端を短絡する短絡配線>
項1において、接続領域への配線が互いに隣接する3個の端子のうち、両端の端子が同じ短絡配線に接続され、他の1個の端子は開放される(互いに隣接するS6n,S6n−1,S6n−2のうち両端のS6nとS6n−2が短絡配線8_5で短絡され、互いに隣接するS6n−3,S6n−4,S6n−5のうち両端のS6n―3とS6n−5が短絡配線8_6で短絡される)。
[4] <Short-circuit wiring for short-circuiting both ends of three adjacent terminals>
In item 1, among the three terminals adjacent to each other in the wiring to the connection region, the terminals at both ends are connected to the same short-circuited wiring, and the other one terminal is opened (S6n, S6n-1 adjacent to each other). , S6n-2, S6n and S6n-2 at both ends are short-circuited by a short-circuit wiring 8_5, and S6n-3 and S6n-5 at both ends of S6n-3, S6n-4, S6n-5 adjacent to each other are short-circuited wiring 8_6. Is short-circuited).

これにより、半導体チップの各端子からの引き出し配線と全ての短絡配線とテストパッドとを、フィルム上の単一の配線層を用いて形成することができ、COF基板のコストを低減することができる。さらに、COF実装状態において、同じ短絡配線の両端の端子のオープンテストと、異なる短絡配線に接続される隣接端子間のショートテストが実施可能であり、同じ短絡配線の両端の端子とそれに挟まれる端子とのショートテストは、半導体チップの内部回路を使った簡易ショートテストによって代替して実施することができる。   Thereby, the lead-out wiring from each terminal of the semiconductor chip, all the short-circuit wirings, and the test pad can be formed by using a single wiring layer on the film, and the cost of the COF substrate can be reduced. . Furthermore, in the COF mounting state, it is possible to perform an open test of terminals at both ends of the same short-circuit wiring and a short test between adjacent terminals connected to different short-circuit wiring, and terminals between both terminals of the same short-circuit wiring and terminals sandwiched between them. The short test can be implemented by a simple short test using an internal circuit of a semiconductor chip.

〔5〕<探針を間引いたプローブテストとの共通化>
項4において、前記半導体チップは、前記3個の端子を内部で互いに電気的に短絡可能な、短絡スイッチ(PIN0,PIN1)をさらに備える。
[5] <Common with probe test with thinned probe>
In Item 4, the semiconductor chip further includes a short-circuit switch (PIN0, PIN1) capable of electrically short-circuiting the three terminals.

これにより、半導体チップのプローブテストにおいて、前記所定数の端子のうち1個の端子にのみ探針を備えるプローブカードを用いて、前記所定数の端子すべてについてのテストを実施することができる。さらに、この時に遮断スイッチを制御するために必要なテスト回路は、項1におけるCOF実装された状態でのテストと共通のテスト回路を使用することができる。   Thereby, in the probe test of the semiconductor chip, it is possible to perform a test on all the predetermined number of terminals by using a probe card having a probe only on one of the predetermined number of terminals. Further, as a test circuit necessary for controlling the cutoff switch at this time, a test circuit common to the test in the state where the COF is mounted in the item 1 can be used.

〔6〕<表示ドライバIC>
項1から項5のうちのいずれか1項において、前記半導体チップは表示ドライバIC(4)であり、前記複数の端子は、接続される表示パネル(2)のソース電極を駆動するソース出力端子(S6n〜S6n−5)である。
[6] <Display driver IC>
Item 6. The device according to any one of Items 1 to 5, wherein the semiconductor chip is a display driver IC (4), and the plurality of terminals are source output terminals for driving source electrodes of a connected display panel (2). (S6n to S6n-5).

前記半導体チップは、内部回路として複数の正極側ソースアンプ(AP1〜AP3)と複数の負極側ソースアンプ(AN1〜AN3)と、前記遮断スイッチとして動作可能なそれぞれ複数の第1、第2、第3及び第4スイッチ(APnOD,APnEV,ANnOD,ANnEV、但しn=1〜3)を備える。   The semiconductor chip includes a plurality of positive-side source amplifiers (AP1 to AP3) and a plurality of negative-side source amplifiers (AN1 to AN3) as internal circuits, and a plurality of first, second, and second elements operable as the cutoff switches. 3 and a fourth switch (APnOD, APnEV, ANnOD, ANnEV, where n = 1 to 3).

互いに隣接する2個ずつの前記ソース出力端子(S6n−5とS6n−4、S6n−3とS6n−2、S6n−1とS6n)は、それぞれ第1及び第2スイッチ(AP1ODとAP1EV,AP2ODとAP2EV,AP3ODとAP3EV)を介して1個の正極側ソースアンプ(AP1,AP2,AP3)と接続され、それぞれ第3及び第4スイッチ(AN1ODとAN1EV,AN2ODとAN2EV,AN3ODとAN3EV)を介して1個の負極側ソースアンプ(AN1,AN2,AN3)と接続される。   Two adjacent source output terminals (S6n-5 and S6n-4, S6n-3 and S6n-2, S6n-1 and S6n) are connected to the first and second switches (AP1OD and AP1EV, AP2OD, respectively). Connected to one positive side source amplifier (AP1, AP2, AP3) via AP2EV, AP3OD and AP3EV), and via third and fourth switches (AN1OD and AN1EV, AN2OD and AN2EV, AN3OD and AN3EV), respectively. It is connected to one negative side source amplifier (AN1, AN2, AN3).

これにより、本発明を表示ドライバICに適用することができる。ドット反転駆動のための、ストレート/クロススイッチ(第1〜第4スイッチ)は、COF実装状態でのテストにおいて、遮断スイッチとして動作可能なように構成することができ、テスト目的にのみ使用されるスイッチを搭載することによるオーバーヘッドを防止することができる。   Thereby, the present invention can be applied to the display driver IC. The straight / cross switches (first to fourth switches) for dot inversion driving can be configured to operate as a cut-off switch in the test in the COF mounted state, and are used only for the test purpose. It is possible to prevent the overhead caused by mounting the switch.

〔7〕<COF実装されたICの、テスティングを含む製造方法>
本願において開示される代表的な実施の形態は、フィルム(7)と、前記フィルム上に印刷された導体(20)による複数の配線(8、11)及び複数のテストパッド(9)と、前記複数の配線に電気的に接続される複数の端子を有し前記フィルム上に実装された半導体チップ(4)とを備える半導体装置(21)の製造方法であって、以下のように構成される。
[7] <Method for manufacturing COF-mounted IC including testing>
A typical embodiment disclosed in the present application includes a film (7), a plurality of wirings (8, 11) and a plurality of test pads (9) by a conductor (20) printed on the film, A method of manufacturing a semiconductor device (21) comprising a semiconductor chip (4) having a plurality of terminals electrically connected to a plurality of wirings and mounted on the film, and configured as follows: .

前記半導体チップを前記フィルム上に実装するチップ実装工程(S34)と、前記テストパッドのうちの少なくとも1個のテストパッド(9)に探針(92)を接触させて前記半導体チップの端子の電気的特性を測定する実装テスト(S37)とを含む。前記チップ実装工程は、前記複数の端子のそれぞれに前記複数の配線を電気的に接続する工程(S35)を含む。   A chip mounting step (S34) for mounting the semiconductor chip on the film, and a probe (92) is brought into contact with at least one test pad (9) of the test pads to thereby electrically connect the terminals of the semiconductor chip. And an implementation test (S37) for measuring the physical characteristics. The chip mounting step includes a step (S35) of electrically connecting the plurality of wirings to each of the plurality of terminals.

前記フィルムは、前記半導体チップが実装される領域の外側に、前記配線が他の配線(22)に物理的かつ電気的に接続されるための接続領域(11)を有し、前記接続領域のさらに外側であって、前記接続領域と切り離し可能な領域に、前記複数の端子のうちの所定数の端子を互いに電気的に短絡する短絡配線(8)を有し、前記短絡配線1本に対して少なくとも1個のテストパッド(9)が電気的に接続される。   The film has a connection region (11) for physically and electrically connecting the wiring to another wiring (22) outside the region where the semiconductor chip is mounted. Furthermore, it has a short circuit wiring (8) for electrically short-circuiting a predetermined number of the terminals among the plurality of terminals in a region that is outside and separable from the connection region, And at least one test pad (9) is electrically connected.

前記半導体チップは、前記短絡配線によって互いに短絡される複数の端子(S6n〜S6n−5)を、個々に内部回路(12、13)から電気的に遮断可能な遮断スイッチ(14、15)を備える。   The semiconductor chip includes a cutoff switch (14, 15) capable of electrically disconnecting a plurality of terminals (S6n to S6n-5) that are short-circuited to each other by the short-circuit wiring from the internal circuit (12, 13) individually. .

前記実装テストは、前記短絡配線によって互いに短絡される前記複数の端子のうちの1個の端子以外の端子を対応する内部回路から前記遮断スイッチによって電気的に遮断するとともに、当該端子と当該端子に対応する内部回路とを電気的に接続して、当該内部回路の電気的特性を対応するテストパッドを介して測定する工程を含む。   In the mounting test, terminals other than one of the plurality of terminals short-circuited by the short-circuit wiring are electrically disconnected from the corresponding internal circuit by the cutoff switch, and the terminals and the terminals are connected to each other. Electrically connecting a corresponding internal circuit and measuring an electrical characteristic of the internal circuit via a corresponding test pad.

これにより、多ピン・狭ピッチの端子を持つ半導体チップがCOF実装された半導体装置21の製造方法において、多ピン・狭ピッチの端子を対象とする、COF実装された状態でのテスト(S37)を、当該端子の数よりも少ない数のテストパッドを用いて、適切に実施することができる。前記スイッチを制御して前記所定数の端子を1個のテストパッドに1個ずつ順次、電気的に接続して測定を行うことができるため、当該所定数の端子につき1個のテストパッドを設ければ足りるからである。   Thus, in the method of manufacturing the semiconductor device 21 in which the semiconductor chip having the multi-pin / narrow-pitch terminals is COF-mounted, the test in the COF-mounted state for the multi-pin / narrow-pitch terminals (S37). Can be appropriately implemented using a smaller number of test pads than the number of the terminals. Since the switch can be controlled and the predetermined number of terminals can be electrically connected to one test pad one by one in order, measurement can be performed, so one test pad is provided for the predetermined number of terminals. That is enough.

〔8〕<交互に異なる短絡配線=テストパッドに接続>
項7において、前記半導体チップは、各端子毎に保護ダイオード(16)を有し、前記複数の端子から対応する接続領域への配線のうち互いに隣接する配線(S6nとS6n−1,S6n−2とS6n−3,S6n−4とS6n−5からの配線)は、互いに異なる短絡配線(8_1と8_2)に接続される。
[8] <Alternating short-circuit wiring = Connect to test pad>
In item 7, the semiconductor chip has a protection diode (16) for each terminal, and wirings adjacent to each other (S6n and S6n-1, S6n-2) among the wirings from the plurality of terminals to the corresponding connection region. And S6n-3, wirings from S6n-4 and S6n-5) are connected to different short-circuiting wirings (8_1 and 8_2).

前記実装テストは、オープンテストとショートテストとを含む。前記オープンテストでは、前記短絡配線によって互いに短絡される前記複数の端子のうちの1個の端子以外の端子を対応する内部回路から前記遮断スイッチによって電気的に遮断するとともに、当該端子に接続される保護ダイオードの順方向特性を、対応するテストパッドを介して測定する。前記ショートテストでは、前記複数の端子から対応する接続領域への配線が互いに隣接する端子を前記遮断スイッチによって対応する内部回路から電気的に遮断するとともに、互いに異なる電位を印加して端子間電流の有無を測定する。   The implementation test includes an open test and a short test. In the open test, a terminal other than one of the plurality of terminals short-circuited by the short-circuit wiring is electrically disconnected from the corresponding internal circuit by the cutoff switch and connected to the terminal. The forward characteristic of the protection diode is measured via the corresponding test pad. In the short test, the terminals adjacent to each other from the plurality of terminals to the corresponding connection region are electrically disconnected from the corresponding internal circuit by the cutoff switch, and different currents are applied by applying different potentials to each other. Measure presence or absence.

これにより、実装テスト(S37)において、引き出し配線が互いに隣接する端子間のオープン/ショートテストを実施することができる。   As a result, in the mounting test (S37), an open / short test can be performed between the terminals where the lead wires are adjacent to each other.

〔9〕<隣接する複数の端子を短絡する短絡配線>
項7において、同じ短絡配線に接続される前記所定数の端子(短絡配線8_3に接続されるS6nとS6n−1とS6n−2と、短絡配線8_4に接続されるS6n−3とS6n−4とS6n−5)は、当該端子から対応する接続領域への配線が互いに隣接する。
[9] <Short-circuit wiring for short-circuiting a plurality of adjacent terminals>
In the item 7, the predetermined number of terminals connected to the same short-circuit wiring (S6n, S6n-1 and S6n-2 connected to the short-circuit wiring 8_3, S6n-3 and S6n-4 connected to the short-circuit wiring 8_4, In S6n-5), the wiring from the terminal to the corresponding connection region is adjacent to each other.

これにより、半導体チップの各端子からの引き出し配線と全ての短絡配線とテストパッドとを、フィルム上の単一の配線層を用いて形成することができ、COF基板のコストを低減することができる。さらに、実装テスト(S37)において、各端子のオープンテストは実施可能であり、異なる短絡配線に接続される隣接端子間のショートテストも実施可能である。   Thereby, the lead-out wiring from each terminal of the semiconductor chip, all the short-circuit wirings, and the test pad can be formed by using a single wiring layer on the film, and the cost of the COF substrate can be reduced. . Furthermore, in the mounting test (S37), an open test of each terminal can be performed, and a short test between adjacent terminals connected to different short-circuit wirings can also be performed.

〔10〕<隣接する3個の端子のうち両端を短絡する短絡配線>
項7において、接続領域への配線が互いに隣接する3個の端子のうち、両端の端子が同じ短絡配線に接続され、他の1個の端子は開放される(互いに隣接するS6n,S6n−1,S6n−2のうち両端のS6nとS6n−2が短絡配線8_5で短絡され、互いに隣接するS6n−3,S6n−4,S6n−5のうち両端のS6n―3とS6n−5が短絡配線8_6で短絡される)。
[10] <Short-circuit wiring for short-circuiting both ends of three adjacent terminals>
In item 7, among the three terminals adjacent to each other in the wiring to the connection region, the terminals at both ends are connected to the same short-circuited wiring, and the other one terminal is opened (S6n, S6n-1 adjacent to each other). , S6n-2, S6n and S6n-2 at both ends are short-circuited by a short-circuit wiring 8_5, and S6n-3 and S6n-5 at both ends of S6n-3, S6n-4, S6n-5 adjacent to each other are short-circuited wiring 8_6. Is short-circuited).

これにより、半導体チップの各端子からの引き出し配線と全ての短絡配線とテストパッドとを、フィルム上の単一の配線層を用いて形成することができ、COF基板のコストを低減することができる。さらに、実装テスト(S37)において、同じ短絡配線の両端の端子のオープンテストと、異なる短絡配線に接続される隣接端子間のショートテストが実施可能である。   Thereby, the lead-out wiring from each terminal of the semiconductor chip, all the short-circuit wirings, and the test pad can be formed by using a single wiring layer on the film, and the cost of the COF substrate can be reduced. . Furthermore, in the mounting test (S37), it is possible to perform an open test of terminals at both ends of the same short-circuit wiring and a short test between adjacent terminals connected to different short-circuit wirings.

〔11〕<簡易ショートテスト>
項10において、前記実装テストは、簡易ショートテストを含む。前記簡易ショートテストでは、前記隣接する3個ずつの端子のうち、両端の端子(S6nとS6n−2、S6n−3とS6n−5)とそれに挟まれる端子(S6n−1、S6n−4)に、それぞれに対応する内部回路から異なる電位を印加し、当該内部回路に電源を供給する電源回路の消費電流を測定する。
[11] <Simple short test>
In item 10, the mounting test includes a simple short test. In the simple short test, among the adjacent three terminals, terminals at both ends (S6n and S6n-2, S6n-3 and S6n-5) and terminals sandwiched between them (S6n-1 and S6n-4) are used. Then, different potentials are applied from the corresponding internal circuits, and the current consumption of the power supply circuit that supplies power to the internal circuits is measured.

これにより、同じ短絡配線の両端の端子とそれに挟まれる端子とのショートテストは、半導体チップの内部回路を使った簡易ショートテストによって代替して実施することができる。   As a result, the short test between the terminals at both ends of the same short-circuit wiring and the terminals sandwiched between them can be performed by a simple short test using the internal circuit of the semiconductor chip.

〔12〕<探針を間引いたプローブテストとの共通化>
項7において、前記チップ実装工程の前に、前記半導体チップをウェハ状態で検査する、プローブテスト(S32)をさらに含む。
[12] <Common with probe test with thinned probe>
Item 7 further includes a probe test (S32) for inspecting the semiconductor chip in a wafer state before the chip mounting step.

前記半導体チップは、前記所定数の端子を、内部で互いに電気的に短絡可能な、短絡スイッチ(PIN0,PIN1)をさらに備え、前記プローブテストにおいて、前記所定数の端子のうち1個の端子を除く他の端子への探針の接触を省略する。   The semiconductor chip further includes a shorting switch (PIN0, PIN1) capable of electrically short-circuiting the predetermined number of terminals inside each other, and in the probe test, one of the predetermined number of terminals is connected to the semiconductor chip. Omit contact of the probe with the other terminals.

これにより、半導体チップのプローブテスト(S32)において、前記所定数の端子のうち1個の端子にのみ探針を備えるプローブカードを用いて、前記所定数の端子すべてについてのテストを実施することができる。さらに、この時に遮断スイッチを制御するために必要なテスト回路は、項1におけるCOF実装された状態での実装テスト(S37)と共通のテスト回路を使用することができる。   Thereby, in the probe test (S32) of the semiconductor chip, a test can be performed for all the predetermined number of terminals using a probe card having a probe only in one of the predetermined number of terminals. it can. Further, the test circuit necessary for controlling the cutoff switch at this time can use the same test circuit as the mounting test (S37) in the state where the COF is mounted in Item 1.

〔13〕<表示ドライバIC>
項7から項12のうちのいずれか1項において、前記半導体チップは表示ドライバIC(4)であり、前記複数の端子は、接続される表示パネル(2)のソース電極を駆動するソース出力端子(S6n〜S6n−5)である。
[13] <Display driver IC>
In any one of Items 7 to 12, the semiconductor chip is a display driver IC (4), and the plurality of terminals are source output terminals for driving source electrodes of the connected display panel (2). (S6n to S6n-5).

前記半導体チップは、内部回路として複数の正極側ソースアンプ(AP1〜AP3)と複数の負極側ソースアンプ(AN1〜AN3)と、前記遮断スイッチとして動作可能なそれぞれ複数の第1、第2、第3及び第4スイッチ(APnOD,APnEV,ANnOD,ANnEV、但しn=1〜3)を備える。   The semiconductor chip includes a plurality of positive-side source amplifiers (AP1 to AP3) and a plurality of negative-side source amplifiers (AN1 to AN3) as internal circuits, and a plurality of first, second, and second elements operable as the cutoff switches. 3 and a fourth switch (APnOD, APnEV, ANnOD, ANnEV, where n = 1 to 3).

互いに隣接する2個ずつの前記ソース出力端子(S6n−5とS6n−4、S6n−3とS6n−2、S6n−1とS6n)は、それぞれ第1及び第2スイッチ(AP1ODとAP1EV,AP2ODとAP2EV,AP3ODとAP3EV)を介して1個の正極側ソースアンプ(AP1,AP2,AP3)と接続され、それぞれ第3及び第4スイッチ(AN1ODとAN1EV,AN2ODとAN2EV,AN3ODとAN3EV)を介して1個の負極側ソースアンプ(AN1,AN2,AN3)と接続される。   Two adjacent source output terminals (S6n-5 and S6n-4, S6n-3 and S6n-2, S6n-1 and S6n) are connected to the first and second switches (AP1OD and AP1EV, AP2OD, respectively). Connected to one positive side source amplifier (AP1, AP2, AP3) via AP2EV, AP3OD and AP3EV), and via third and fourth switches (AN1OD and AN1EV, AN2OD and AN2EV, AN3OD and AN3EV), respectively. It is connected to one negative side source amplifier (AN1, AN2, AN3).

これにより、本発明に係る半導体装置の製造方法を表示ドライバICに適用することができる。ドット反転駆動のための、ストレート/クロススイッチ(第1〜第4スイッチ)は、COF実装状態でのテスト(実装テストS37)において、遮断スイッチとして動作可能なように構成することができ、テスト目的にのみ使用されるスイッチを搭載することによるオーバーヘッドを防止することができる。   Thereby, the manufacturing method of the semiconductor device according to the present invention can be applied to the display driver IC. The straight / cross switch (first to fourth switches) for dot inversion driving can be configured to operate as a cut-off switch in the test (mounting test S37) in the COF mounted state. It is possible to prevent the overhead caused by mounting a switch that is used only for the switch.

2.実施の形態の詳細
実施の形態について更に詳述する。
2. Details of Embodiments Embodiments will be further described in detail.

〔実施形態1〕
図1には本発明が適用される表示及び入力装置100の全体的な構成が例示される。同図に示される表示及び入力装置100は本発明に係る電子機器の一例であり、例えばPDA(Personal Digital Assistant)や携帯電話機などの携帯端末の一部を構成し、タッチパネル(TP)1、表示パネル(DP)2、タッチパネルコントローラ(TPC)3、表示パネルコントローラ(DPC)4、サブプロセッサ(SMPU)5、及びホストプロセッサ(HMPU)6を備える。タッチパネルコントローラ3及び表示パネルコントローラ4は、更に必要に応じてサブプロセッサ5を含めて、1個の半導体チップに形成し、又は例えばマルチチップモジュールとして1個のパッケージに搭載して、単一の半導体装置101,102として実現することができる。例えば、タッチパネルコントローラ3及び表示パネルコントローラ4を1チップのIC101として実装することにより、表示パネル2とタッチパネル1が積層され一体として構成された、例えばインセルタイプの表示・タッチパネルに接続され、表示駆動とタッチセンス制御を互いに連携させることが容易になる。また、さらにサブプロセッサ(SMPU)5が同一チップ102に集積されることにより、表示駆動とタッチセンス制御を互いに連携させることがさらに容易になり、外付けされるホストプロセッサ(HMPU)6の負担を軽減することができる。
Embodiment 1
FIG. 1 illustrates the overall configuration of a display and input device 100 to which the present invention is applied. A display and input device 100 shown in the figure is an example of an electronic apparatus according to the present invention, and constitutes a part of a portable terminal such as a PDA (Personal Digital Assistant) or a mobile phone, and includes a touch panel (TP) 1 and a display. A panel (DP) 2, a touch panel controller (TPC) 3, a display panel controller (DPC) 4, a sub processor (SMPU) 5, and a host processor (HMPU) 6 are provided. The touch panel controller 3 and the display panel controller 4 are further formed as a single semiconductor chip including a sub-processor 5 as necessary, or mounted on a single package as, for example, a multi-chip module, to form a single semiconductor. The devices 101 and 102 can be realized. For example, by mounting the touch panel controller 3 and the display panel controller 4 as a one-chip IC 101, the display panel 2 and the touch panel 1 are stacked and integrated, for example, connected to an in-cell type display / touch panel, It becomes easy to coordinate touch sense control with each other. Further, by further integrating the sub processor (SMPU) 5 on the same chip 102, it becomes easier to coordinate display driving and touch sense control with each other, and the burden on the external host processor (HMPU) 6 is increased. Can be reduced.

タッチパネル1はマルチタッチ検出を可能にする相互容量方式のタッチパネルであって、複数の駆動電極(Y電極)と複数の検出電極(X電極)によって形成された複数の交差部を備える。交差部には容量成分(交差容量)が形成されている。タッチパネルコントローラ3は駆動電極に順次駆動パルスを供給し、これによって検出電極から順次得られる信号に基づいて、各交差部における容量成分の変動に応じた検出データを得る。サブシステム用のマイクロプロセッサであるサブプロセッサ(SMPU)5はタッチパネル1の駆動を制御し、タッチパネルコントローラ3が取得した検出データから、タッチの状態や座標を検出する処理を行う。例えば、検出データに対してディジタルフィルタ演算を行い、これによってノイズが除去されたデータに基づいて容量変動が生じた交差部の位置座標を演算する。要するに、交差部のどの位置で浮遊容量が変化したか、即ち、交差部のどの位置で指が近接したか(タッチされたか、接触イベントが発生したか)を示すために、接触イベントが発生したときの位置座標を演算する。   The touch panel 1 is a mutual capacitive touch panel that enables multi-touch detection, and includes a plurality of intersections formed by a plurality of drive electrodes (Y electrodes) and a plurality of detection electrodes (X electrodes). A capacitance component (cross capacitance) is formed at the intersection. The touch panel controller 3 sequentially supplies drive pulses to the drive electrodes, and thereby obtains detection data corresponding to fluctuations in capacitance components at each intersection based on signals sequentially obtained from the detection electrodes. A sub processor (SMPU) 5 that is a microprocessor for the sub system controls the driving of the touch panel 1 and performs a process of detecting a touch state and coordinates from detection data acquired by the touch panel controller 3. For example, a digital filter operation is performed on the detected data, and the position coordinates of the intersection where the capacity variation has occurred are calculated based on the data from which noise has been removed. In short, a touch event occurred to indicate where the stray capacitance changed at the intersection, that is, where the finger approached (touched or touch event occurred) at the intersection. Calculate the position coordinates.

タッチパネル1は透過性(透光性)の電極や誘電体膜を用いて構成され、例えば表示パネル2の表示面に重ねて配置される。タッチパネル1と表示パネル2は、一体として実装されたインセル構成でも良いし、タッチパネル1と上面に設置されるカバーガラスとが一体化されたカバーガラス一体構成であってもよい。   The touch panel 1 is configured using a transmissive (translucent) electrode or a dielectric film, and is disposed, for example, on the display surface of the display panel 2. The touch panel 1 and the display panel 2 may have an in-cell configuration that is mounted integrally, or may have a cover glass integrated configuration in which the touch panel 1 and a cover glass installed on the upper surface are integrated.

ホストプロセッサ(HMPU)6は表示データを生成し、表示パネルコントローラ4はホストプロセッサ6から受け取った表示データを表示パネル2に表示するための表示制御を行う。ホストプロセッサ6は、接触イベントが発生したときの位置座標のデータをサブプロセッサ5から取得し、表示パネル2における位置座標のデータと表示パネルコントローラ4に与えて表示させた表示画面との関係から、タッチパネル1の操作による入力を解析する。   The host processor (HMPU) 6 generates display data, and the display panel controller 4 performs display control for displaying the display data received from the host processor 6 on the display panel 2. The host processor 6 obtains the position coordinate data when the contact event occurs from the sub-processor 5, and from the relationship between the position coordinate data on the display panel 2 and the display screen displayed on the display panel controller 4, Analyzes input by operating the touch panel 1.

特に制限されないが、ホストプロセッサ6には夫々図示を省略する、通信制御ユニット、画像処理ユニット、音声処理ユニット、及びその他アクセラレータなどが内蔵され或いは接続されることによって、例えば携帯端末が構成される。   Although not particularly limited, the host processor 6 includes, for example, a communication control unit, an image processing unit, an audio processing unit, and other accelerators, which are not shown, and thus, for example, a portable terminal is configured.

図2は、表示パネル2と、表示パネルコントローラを構成する表示ドライバIC4と、ホストプロセッサ6を搭載する基板61の接続例を示す斜視図である。表示パネル2とホストプロセッサ6を搭載する基板61は、表示ドライバIC4がCOF実装されたフィルム7によって接続される。フィルム7は、例えばポリイミドのフィルムであり、表面に印刷された銅(Cu)などによって配線が形成されている。複数の配線層と絶縁層が積層され、多層化されてもよい。表示ドライバIC4に代えて、タッチパネルコントローラ3と表示パネルコントローラ4が1チップに集積されたIC101、或いはさらにサブプロセッサ5を含めて1チップに集積されたIC102をCOF実装しても良い。表示ドライバIC4などの半導体チップは、端子であるパッド上に金(Au)などのバンプ(突起電極)を形成した上で、フリップチップ実装され、樹脂がアンダーフィルされて接着される。   FIG. 2 is a perspective view showing a connection example of the display panel 2, the display driver IC 4 constituting the display panel controller, and the substrate 61 on which the host processor 6 is mounted. The substrate 61 on which the display panel 2 and the host processor 6 are mounted is connected by a film 7 on which a display driver IC 4 is mounted by COF. The film 7 is, for example, a polyimide film, and wiring is formed by copper (Cu) printed on the surface. A plurality of wiring layers and insulating layers may be stacked to be multilayered. Instead of the display driver IC 4, the IC 101 in which the touch panel controller 3 and the display panel controller 4 are integrated on one chip, or the IC 102 in which the sub processor 5 is integrated on one chip may be COF-mounted. A semiconductor chip such as the display driver IC 4 is flip-chip mounted after bumps (projection electrodes) such as gold (Au) are formed on pads as terminals, and a resin is underfilled and bonded.

表示パネル2は、特に制限されないが例えばガラス基板23上に、横方向に形成されたゲート線(走査線)25と縦方向に形成されたソース線(信号線)24とが配線され、その交点部分には選択端子が対応するゲート線(走査線)に接続され、入力端子が対応するソース線(信号線)に接続された多数の表示セル(不図示)が配置される。ゲート線(走査線)25を駆動する回路(GIP:Gate In Panel)26は、ガラス基板23上に形成された薄膜トランジスタを用いた回路により構成される。ゲートドライバICをガラス基板23上にフリップチップ実装しても良い。表示パネル2は、表示素子として有機EL(OLED:organic electroluminescence display)を用いて構成しても良い。OLEDの場合には、ガラス基板に代えて、フィルムなどの可撓性基板23上に形成されることもできる。   Although the display panel 2 is not particularly limited, for example, a gate line (scanning line) 25 formed in the horizontal direction and a source line (signal line) 24 formed in the vertical direction are wired on the glass substrate 23, and an intersection thereof. In the portion, a large number of display cells (not shown) are arranged in which a selection terminal is connected to a corresponding gate line (scanning line) and an input terminal is connected to a corresponding source line (signal line). A circuit (GIP: Gate In Panel) 26 for driving the gate line (scanning line) 25 is configured by a circuit using a thin film transistor formed on the glass substrate 23. The gate driver IC may be flip-chip mounted on the glass substrate 23. The display panel 2 may be configured using an organic EL (OLED: organic electroluminescence display) as a display element. In the case of OLED, it can be formed on a flexible substrate 23 such as a film instead of the glass substrate.

表示パネル2上の配線及びホストプロセッサ6が実装される基板61の配線は、それぞれ表示ドライバIC4がCOF実装されたフィルム7の配線と、例えば異方性導電性フィルム(ACF:Anisotropic Conductive Film)を用いて、電気的に接続され機械的にも接着される。   For the wiring on the display panel 2 and the wiring of the substrate 61 on which the host processor 6 is mounted, the wiring of the film 7 on which the display driver IC 4 is mounted and the anisotropic conductive film (ACF: Anisotropic Conductive Film), for example, are used. Used to be electrically connected and mechanically bonded.

図3は、本発明に係る、半導体チップがCOF実装された半導体装置21の構成例を概略的に示す、模式図である。フィルム7はテープ状(或いはフィルム7がリールに巻き取られた状態を指すリール状とも言う)であり、両側には搬送のための送り穴27が設けられ、その内側の有効エリアに銅などで形成された配線が印刷されている。表示ドライバIC4が実装される領域から、配線が引き出され、ソース端子側には、表示パネル2と電気的に接続される接続領域11が形成され、その外側に短絡配線8とテストパッド9が、同じまたは互いに異なる配線層で形成されている。短絡配線8とテストパッド9については後段で詳述する。ホストプロセッサ6と接続される、入力端子側にも配線が引き出され、接続領域11とテストパッド9が形成されている。表示ドライバIC4が実装されている内側の部分が、カットライン10の位置で打ち抜かれ、表示パネル2とホストプロセッサ6が実装される基板61に接続される。   FIG. 3 is a schematic diagram schematically showing a configuration example of the semiconductor device 21 in which the semiconductor chip is COF-mounted according to the present invention. The film 7 has a tape shape (or a reel shape indicating that the film 7 is wound on a reel), and feed holes 27 for conveyance are provided on both sides, and an effective area inside thereof is made of copper or the like. The formed wiring is printed. Wiring is drawn out from the region where the display driver IC 4 is mounted, a connection region 11 electrically connected to the display panel 2 is formed on the source terminal side, and a short-circuit wiring 8 and a test pad 9 are formed outside thereof. They are formed of the same or different wiring layers. The short-circuit wiring 8 and the test pad 9 will be described in detail later. Wiring is also drawn out to the input terminal side connected to the host processor 6, and a connection region 11 and a test pad 9 are formed. The inner part on which the display driver IC 4 is mounted is punched at the position of the cut line 10 and connected to the substrate 61 on which the display panel 2 and the host processor 6 are mounted.

上述したように、表示ドライバIC4から表示パネル2へ配線されるソース線の数は、例えばフルハイビジョンでは、RGBをマルチプレックスしたとしても1080本となる。例えばCOFの有効エリアが60mmの場合、1端子毎にテストパッド9を配置する場合には、テストパッド1個当たりに許されるピッチは55.6μmとなる。これに対して通常COFで許されるテストパッドは、最小でも例えば90μmであり、1080個ものテストパッドを1列に配列することはできない。このため、従来技術によれば、テストパッドは、特許文献3に示されるように、半導体チップから順次離れる方向に複数列に並べて配置されることとなる。   As described above, the number of source lines wired from the display driver IC 4 to the display panel 2 is 1080 even if RGB is multiplexed in full high vision, for example. For example, when the effective area of the COF is 60 mm, when the test pad 9 is arranged for each terminal, the pitch allowed per test pad is 55.6 μm. On the other hand, the test pad normally permitted by COF is at least 90 μm, for example, and 1080 test pads cannot be arranged in a row. For this reason, according to the prior art, as shown in Patent Document 3, the test pads are arranged in a plurality of rows in a direction sequentially away from the semiconductor chip.

図4は、本発明に係る半導体装置の、半導体チップ4内の回路構成と、フィルム7上の配線や電極の配置例を示す、より詳細な模式図である。半導体チップ4は、端子(パッド)S6n〜S6n−5と、それぞれに接続される内部回路群13_0〜13_5を含む内部回路12と、それらの間の電気的な導通と遮断を制御するスイッチ15_0〜15_5を含む遮断スイッチ14とを備えている。本明細書では、個々の内部回路を指すときには符号13_0〜13_5を用い、内部回路全体を指すときには符号12を用い、個々のスイッチを指すときには符号15_0〜15_5を用い、遮断スイッチ全体を指すときには符号14を用いる。内部回路13_0〜13_5は、それぞれ、信号を出力する駆動回路、信号が入力される入力回路、或いは、双方向の信号を入出力可能な入出力回路である。端子S6n〜S6n−5は、半導体基板上に形成された金属配線層によって形成され、表面の絶縁膜が開口されたパッドである。特に制限されないが、多ピン・狭ピッチ化に対応するために千鳥配置されている。ここで千鳥配置とは、隣接するパッドがチップの辺に近い位置から遠い位置に、互い違い或いは順次ずらして配置されることを指し、バンプ形成領域が配線領域よりも大きいため、隣接するバンプ形成領域を互いにずらすことによってピッチを狭めることができる。   FIG. 4 is a more detailed schematic diagram showing a circuit configuration in the semiconductor chip 4 and an arrangement example of wirings and electrodes on the film 7 of the semiconductor device according to the present invention. The semiconductor chip 4 includes terminals (pads) S6n to S6n-5, an internal circuit 12 including internal circuit groups 13_0 to 13_5 connected to each of the terminals, and switches 15_0 to control electrical continuity and interruption between them. And a cut-off switch 14 including 15_5. In this specification, reference numerals 13_0 to 13_5 are used to indicate individual internal circuits, reference numerals 12 are used to indicate the entire internal circuit, reference numerals 15_0 to 15_5 are used to indicate individual switches, and reference numerals are used to indicate the entire cutoff switch. 14 is used. Each of the internal circuits 13_0 to 13_5 is a drive circuit that outputs a signal, an input circuit that receives a signal, or an input / output circuit that can input and output bidirectional signals. The terminals S6n to S6n-5 are pads formed by a metal wiring layer formed on a semiconductor substrate and having an insulating film on the surface opened. Although not particularly limited, the staggered arrangement is used to cope with the multi-pin and narrow pitch. Here, the staggered arrangement means that adjacent pads are arranged at a position far from the side of the chip, staggered or sequentially shifted, and since the bump formation area is larger than the wiring area, the adjacent bump formation area The pitch can be narrowed by shifting each other.

フィルム7上には、端子S6n〜S6n−5に対応する位置から外側に向かって配線が形成されており、その途中には、他の基板、例えば表示パネル2やホストプロセッサが実装される基板61と接続するための接続領域11_0〜11_5が設けられている。さらにその外側には、複数の端子からの配線を互いに短絡する短絡配線8_1と8_2が設けられ、それぞれにはテストパッド9_1と9_2が配線されている。接続領域11_0〜11_5はカットライン10の内側、短絡配線8_1〜8_2とテストパッド9_1〜9_2は、カットライン10の外側に配置される。カットライン10は、COFから送り穴などを実装前に切り離すために、フィルム7を打ち抜くための位置であって、物理的な構造物を指すものではない。   On the film 7, wirings are formed outward from positions corresponding to the terminals S6n to S6n-5, and another substrate, for example, the substrate 61 on which the display panel 2 and the host processor are mounted is provided in the middle. Connection regions 11_0 to 11_5 are provided for connection to the. Further, short-circuit wirings 8_1 and 8_2 for short-circuiting wirings from a plurality of terminals are provided on the outer side, and test pads 9_1 and 9_2 are respectively wired. The connection regions 11_0 to 11_5 are arranged inside the cut line 10, and the short-circuit wirings 8_1 to 8_2 and the test pads 9_1 to 9_2 are arranged outside the cut line 10. The cut line 10 is a position for punching out the film 7 in order to cut a feed hole or the like from the COF before mounting, and does not indicate a physical structure.

半導体チップ4が実装された後の実装テスト(S37)では、テストパッド9_1と9_2に半導体テスタの探針を接触させて、半導体チップ4の内部回路13_0〜13_5の電気的特性を測定する。内部回路13_0の特性を測定するために、スイッチ15_0をオンし、スイッチ15_1と15_2をオフすることによって、端子S6を介して内部回路13_0とテストパッド9_1とを電気的に接続するとともに、短絡配線8_1によってそのテストパッド9_1と導通している他の端子S6n−1とS6n−2を電気的に遮断することにより内部回路13_1と13_2を切り離す。次のステップにおいて、スイッチ15_1をオン、スイッチ15_0と15_2をオフして端子S6n−1と内部回路13_1のテストを行い、さらに次のステップにおいて、スイッチ15_2をオン、スイッチ15_0と15_1をオフして端子S6n−2と内部回路13_2のテストを行う。同様に、同じ短絡配線8_2によって短絡されている端子S6n−3〜S6n−5と内部回路13_3〜13_5は、スイッチ15_3〜15_5を使って、3ステップに分けてテストを行う。短絡配線8_1によって短絡されている端子S6n〜S6n−2と内部回路13_0〜13_2の3ステップのテストと、短絡配線8_2によって短絡されている端子S6n−3〜S6n−5と内部回路13_3〜13_5の3ステップのテストは、同時に並列して行われる。半導体チップ4の1辺に狭ピッチで配置される全ての端子を内部回路12からそれぞれ遮断することができるように遮断スイッチ14を設け、所定のk本(kは自然数)ずつの短絡する短絡配線8_1〜8_m(例えば、mは端子数÷kに相当する自然数)とそれぞれに接続されるテストパッド9_1〜9_mを設ければ、kステップずつ並行してテストを行うことにより、端子数の1/kの数のテストパッド9_1〜9_mを設けるだけで、当該全ての端子のCOF実装後のテストを実施することができる。短絡配線8_1と8_2、及び、テストパッド9_1と9_2は、COFが実装される前に、カットライン10の位置で切り離される。   In the mounting test (S37) after the semiconductor chip 4 is mounted, the probe of the semiconductor tester is brought into contact with the test pads 9_1 and 9_2, and the electrical characteristics of the internal circuits 13_0 to 13_5 of the semiconductor chip 4 are measured. In order to measure the characteristics of the internal circuit 13_0, by turning on the switch 15_0 and turning off the switches 15_1 and 15_2, the internal circuit 13_0 and the test pad 9_1 are electrically connected via the terminal S6, and short-circuit wiring is performed. The internal circuits 13_1 and 13_2 are disconnected by electrically cutting off the other terminals S6n-1 and S6n-2 that are electrically connected to the test pad 9_1 by 8_1. In the next step, the switch 15_1 is turned on, the switches 15_0 and 15_2 are turned off to test the terminal S6n-1 and the internal circuit 13_1, and in the next step, the switch 15_2 is turned on and the switches 15_0 and 15_1 are turned off. The terminal S6n-2 and the internal circuit 13_2 are tested. Similarly, the terminals S6n-3 to S6n-5 and the internal circuits 13_3 to 13_5 that are short-circuited by the same short-circuit wiring 8_2 are tested in three steps using the switches 15_3 to 15_5. Three-step test of the terminals S6n to S6n-2 and the internal circuits 13_0 to 13_2 that are short-circuited by the short-circuit wiring 8_1, and the terminals S6n-3 to S6n-5 and the internal circuits 13_3 to 13_5 that are short-circuited by the short-circuit wiring 8_2 The three-step test is performed in parallel at the same time. Short-circuit wiring that provides a cutoff switch 14 so that all terminals arranged at a narrow pitch on one side of the semiconductor chip 4 can be cut off from the internal circuit 12 and short-circuits by a predetermined number k (k is a natural number). 8_1 to 8_m (for example, m is a natural number corresponding to the number of terminals ÷ k) and test pads 9_1 to 9_m connected thereto are provided, and the test is performed in k steps in parallel, thereby reducing the number of terminals 1 / The test after COF mounting of all the terminals can be performed only by providing k test pads 9_1 to 9_m. The short-circuit wirings 8_1 and 8_2 and the test pads 9_1 and 9_2 are disconnected at the position of the cut line 10 before the COF is mounted.

図4では、互いに隣接する3端子を短絡するように短絡配線8_1と8_2を設ける例を示したが、短絡される端子の配置には特に制限はない。   FIG. 4 shows an example in which the short-circuit wirings 8_1 and 8_2 are provided so as to short-circuit three terminals adjacent to each other, but there is no particular limitation on the arrangement of the terminals to be short-circuited.

<製造方法>
図5は、本発明の半導体装置21の製造方法の一例を示す、フロー図であり、図6〜図9は、各工程における、半導体装置の断面を示す説明図である。
<Manufacturing method>
FIG. 5 is a flowchart showing an example of the method for manufacturing the semiconductor device 21 of the present invention, and FIGS. 6 to 9 are explanatory views showing cross sections of the semiconductor device in each step.

表示ドライバICなどの半導体チップ4は、半導体ウェハ製造工程S31によって製造される。半導体ウェハ製造工程S31は、例えば、公知のCMOS(Complementary Metal-Oxide-Semiconductor field effect transistor)半導体の製造技術であって、半導体チップ4は、シリコンなどの単一半導体基板(ウェハ)上に形成される。   The semiconductor chip 4 such as a display driver IC is manufactured by the semiconductor wafer manufacturing step S31. The semiconductor wafer manufacturing step S31 is, for example, a known complementary metal-oxide-semiconductor field effect transistor (CMOS) semiconductor manufacturing technique, and the semiconductor chip 4 is formed on a single semiconductor substrate (wafer) such as silicon. The

完成したウェハ状態で、プローブテストS32が実施される。図6は、プローブテストS32における、半導体装置の断面を示す説明図である。ウェハ状態の半導体チップ4の表面に形成された端子(パッド)72に探針91を接触させて、半導体テスタによって電気的特性のテストを行う。   The probe test S32 is performed in the completed wafer state. FIG. 6 is an explanatory diagram showing a cross section of the semiconductor device in the probe test S32. A probe 91 is brought into contact with a terminal (pad) 72 formed on the surface of the semiconductor chip 4 in a wafer state, and electrical characteristics are tested by a semiconductor tester.

次にダイシングS33により個片化される。この時点でプローブテストS32で発見された不良品は排除され、良品と判定された半導体チップ4のみが、チップ実装工程S34に送られる。図7は、チップ実装工程S34における、半導体装置21の断面を示す説明図である。半導体チップ4の端子(パッド)(不図示)には金(Au)などのバンプ(突起電極)71が形成され、基板であるフィルム7上の配線20にボンディングされる(S35)。その後、エポキシ系などの樹脂がアンダーフィルされて(S36)、半導体チップ4とフィルム7上の配線20との間の電気的な接続と、機械的な接着が完了する。   Next, it is separated into pieces by dicing S33. At this time, the defective product found in the probe test S32 is eliminated, and only the semiconductor chip 4 determined to be non-defective is sent to the chip mounting step S34. FIG. 7 is an explanatory view showing a cross section of the semiconductor device 21 in the chip mounting step S34. Bumps (projection electrodes) 71 such as gold (Au) are formed on terminals (pads) (not shown) of the semiconductor chip 4 and bonded to the wirings 20 on the film 7 as a substrate (S35). Thereafter, an epoxy resin or the like is underfilled (S36), and the electrical connection between the semiconductor chip 4 and the wiring 20 on the film 7 and the mechanical adhesion are completed.

次に実装テスト(S37)が行われる。図8は、COF実装状態でのテスト(実装テスト)S37における、半導体装置21の断面を示す説明図である。半導体チップ4の端子(パッド)は、バンプ71を介して配線20に接続され、その配線20によって接続領域11、短絡配線8、及びテストパッド9が形成されている。上述のように、接続領域11はカットライン10より内側、短絡配線8とテストパッド9はカットライン10よりも外側に形成される。探針92をテストパッド9に接触させ、半導体テスタによって電気的特性のテストを行う。ここで、図示は省略されているが、半導体チップ4の入力側の各端子には、それぞれ対応するテストパッドが設けられており、探針92によって半導体テスタと接続されている。半導体チップ4の入力側からテストコマンドや入力パターンが入力され、半導体チップ4の入力側及びソース電極側の各端子の電気的特性が測定される。   Next, a mounting test (S37) is performed. FIG. 8 is an explanatory diagram showing a cross section of the semiconductor device 21 in the test (mounting test) S37 in the COF mounting state. Terminals (pads) of the semiconductor chip 4 are connected to the wiring 20 through bumps 71, and the connection region 11, the short-circuit wiring 8, and the test pad 9 are formed by the wiring 20. As described above, the connection region 11 is formed inside the cut line 10, and the short-circuit wiring 8 and the test pad 9 are formed outside the cut line 10. The probe 92 is brought into contact with the test pad 9, and the electrical characteristics are tested by a semiconductor tester. Here, although not shown in the figure, each terminal on the input side of the semiconductor chip 4 is provided with a corresponding test pad, and is connected to the semiconductor tester by a probe 92. A test command and an input pattern are input from the input side of the semiconductor chip 4, and the electrical characteristics of each terminal on the input side and the source electrode side of the semiconductor chip 4 are measured.

実装テストS37で良品と判定されたCOFは、打ち抜き工程(S38)でカットライン10の外側が切り離され、表示パネル2やホストプロセッサ6が搭載される基板61などの他の基板に接続される。図9は、基板実装工程(S39)後における断面を示す説明図である。例えば、COF上の配線20は接続領域11において、表示パネル2のガラス基板23上の配線22と、異方性導電性フィルム(ACF)73などを用いて接続される。   The COF determined to be non-defective in the mounting test S37 is disconnected from the outside of the cut line 10 in the punching process (S38) and connected to another substrate such as the substrate 61 on which the display panel 2 and the host processor 6 are mounted. FIG. 9 is an explanatory view showing a cross section after the substrate mounting step (S39). For example, the wiring 20 on the COF is connected in the connection region 11 to the wiring 22 on the glass substrate 23 of the display panel 2 using an anisotropic conductive film (ACF) 73 or the like.

実装テストS37には、プローブテストS32で良品と判定されたチップのみが供給されているが、実装テストS37では、その後のダイシングS33とチップ実装工程S34で、不良に転じた初期故障や、半導体チップ4とフィルム7上の配線20との接触不良、フィルム7上の配線20の断線やショート不良が検出され得る。   Only chips that are determined to be non-defective in the probe test S32 are supplied to the mounting test S37. In the mounting test S37, however, an initial failure that has turned into a defect in the subsequent dicing S33 and the chip mounting step S34, or a semiconductor chip. 4 and the wiring 20 on the film 7, and the disconnection or short circuit of the wiring 20 on the film 7 can be detected.

〔実施形態2〕
本発明を液晶表示(LCD)パネルの表示ドライバIC4に適用した実施形態について、さらに詳しく説明する。
[Embodiment 2]
An embodiment in which the present invention is applied to a display driver IC 4 of a liquid crystal display (LCD) panel will be described in more detail.

図10は、表示ドライバIC4の詳細な構成例を示すブロック図である。表示ドライバIC4は、システムインターフェース40と外部表示インターフェース41とを備えて、ホストプロセッサ6から供給される表示データと制御コマンド等を受信し、走査電極ドライバ59を備えて表示パネル2のゲート線(走査線)を駆動するための制御信号を出力し、ソースアンプ回路12を備えて表示パネル2のソース線(信号線)を駆動するための信号を出力する。表示ドライバIC4は、コマンドレジスタ17とパラメータレジスタ18と不揮発性メモリ54を備える。ホストプロセッサ6から供給される制御コマンドに基づいて、コマンドレジスタ17とパラメータレジスタ18の値が設定される。パラメータレジスタ18に記憶される一部のパラメータは、内部に備える不揮発性メモリ54に記憶され、一旦電源供給が遮断された後、次に電源供給が再開したときに、パラメータレジスタ18に読み出されて再利用される。   FIG. 10 is a block diagram illustrating a detailed configuration example of the display driver IC 4. The display driver IC 4 includes a system interface 40 and an external display interface 41, receives display data and control commands supplied from the host processor 6, and includes a scan electrode driver 59 to display the gate line (scanning) of the display panel 2. A control signal for driving the line), and a signal for driving the source line (signal line) of the display panel 2 provided with the source amplifier circuit 12. The display driver IC 4 includes a command register 17, a parameter register 18, and a nonvolatile memory 54. Based on the control command supplied from the host processor 6, the values of the command register 17 and the parameter register 18 are set. Some parameters stored in the parameter register 18 are stored in the nonvolatile memory 54 provided inside, and are read out to the parameter register 18 when the power supply is resumed next after the power supply is once cut off. And reused.

外部表示インターフェース41は、例えば表示デバイスの標準的な通信インターフェースの1つである、MIPI−DSI(Mobile Industry Processor Interface Display Serial Interface)に準拠するインターフェースであり、表示データと垂直同期信号Vsyncや水平同期信号Hsyncが、ホストプロセッサ6から高速に供給される。受信された表示データは、ライトデータラッチ42を介してデータ圧縮回路43に入力され、データ圧縮が施された後に、フレームメモリ44に書き込まれる。フレームメモリ44はSRAM(Static Random Access Memory)で構成されており、書き込みアドレスと読み出しアドレスは、アドレスカウンタ55から供給される。フレームメモリ44から読み出された表示データは、ラッチ回路45を介してデータ展開回路46に入力されデータ展開された結果がバックライト制御回路56に送られる。表示データは、データ展開回路46から2段のラッチ回路47_1と47_2を介してソースアンプ回路12に入力される。ラッチ回路47_1はバックライト制御回路56によって制御されるラッチ回路であり、後段のラッチ回路47_2は、1ライン分のデータを並列に保持するラインラッチ回路である。ソースアンプ回路12は、1ライン分のデータを受信すると、それに対応するアナログ信号レベルを持つソース線駆動信号に変換して出力する。階調電圧発生回路58は、ガンマ補正回路57によって適切に補正された多階調のアナログ信号レベルを、ソースアンプ回路12に供給している。ソースアンプ回路12は、ラッチ回路47_2からディジタル値で供給される表示データに基づいて、階調電圧発生回路58から供給された多階調のアナログ信号レベルから1つのアナログ信号レベルを選択し、または複数階調のアナログ信号レベルから1つのアナログ信号レベルを生成し、ソース出力端子切替回路14を通して、S6n〜S6n−5等のソース出力端子に出力する。ソース出力端子切替回路14は、デコーダ19によって制御され、ドット反転駆動を行うための切替えと共に、プローブテストや実装テストでのテストのための切替えを行う。その構成と動作については、後段で詳述する。   The external display interface 41 is an interface conforming to MIPI-DSI (Mobile Industry Processor Interface Display Serial Interface), which is one of standard communication interfaces of display devices, for example, and is adapted to display data, vertical synchronization signal Vsync, and horizontal synchronization. The signal Hsync is supplied from the host processor 6 at high speed. The received display data is input to the data compression circuit 43 via the write data latch 42, and after being subjected to data compression, it is written to the frame memory 44. The frame memory 44 is configured by an SRAM (Static Random Access Memory), and a write address and a read address are supplied from an address counter 55. The display data read from the frame memory 44 is input to the data expansion circuit 46 via the latch circuit 45, and the result of the data expansion is sent to the backlight control circuit 56. The display data is input from the data development circuit 46 to the source amplifier circuit 12 via the two-stage latch circuits 47_1 and 47_2. The latch circuit 47_1 is a latch circuit controlled by the backlight control circuit 56, and the latter latch circuit 47_2 is a line latch circuit that holds data for one line in parallel. When the source amplifier circuit 12 receives data for one line, it converts it into a source line drive signal having an analog signal level corresponding to it and outputs it. The gradation voltage generation circuit 58 supplies the multi-gradation analog signal level appropriately corrected by the gamma correction circuit 57 to the source amplifier circuit 12. The source amplifier circuit 12 selects one analog signal level from the multi-gradation analog signal levels supplied from the gradation voltage generation circuit 58 based on the display data supplied as digital values from the latch circuit 47_2, or One analog signal level is generated from analog signal levels of a plurality of gradations, and is output to source output terminals such as S6n to S6n-5 through the source output terminal switching circuit 14. The source output terminal switching circuit 14 is controlled by the decoder 19 and performs switching for the test in the probe test and the mounting test as well as the switching for performing the dot inversion driving. The configuration and operation will be described in detail later.

外部表示インターフェース41に入力された垂直同期信号Vsyncや水平同期信号Hsyncなどの同期信号は、タイミング制御回路48に入力される。タイミング制御回路48には、クロック発生回路51によって生成された内部クロックが入力されている。タイミング制御回路48を始め表示ドライバIC4に内蔵される論理回路は、この内部クロックに同期して動作する。タイミング制御回路48は、タッチパネルコントローラ3を同期制御するための制御信号VOUTとHOUTを出力する他、内部のフレームメモリ44、データ展開回路46などに、各種のタイミング制御信号を供給する。表示ドライバIC4は内部基準電圧生成回路52を備えることにより、内部ロジック電源レギュレータ53を動作させて、内蔵される論理回路に対して安定した電源を供給する。液晶駆動レベル発生回路49は、電源昇圧回路や安定化電源回路を含んで構成され、表示ドライバIC4内の各種レベルの電源を生成して供給する。例えば、ゲート電極を駆動するゲートインパネル回路へ供給する電源やクロックその他の信号レベルが生成され、走査電極ドライバ59に供給される。   Synchronization signals such as a vertical synchronization signal Vsync and a horizontal synchronization signal Hsync input to the external display interface 41 are input to the timing control circuit 48. The internal clock generated by the clock generation circuit 51 is input to the timing control circuit 48. The logic circuit built in the display driver IC 4 including the timing control circuit 48 operates in synchronization with the internal clock. The timing control circuit 48 outputs control signals VOUT and HOUT for synchronously controlling the touch panel controller 3, and supplies various timing control signals to the internal frame memory 44, the data expansion circuit 46, and the like. The display driver IC 4 includes the internal reference voltage generation circuit 52, thereby operating the internal logic power supply regulator 53 to supply stable power to the built-in logic circuit. The liquid crystal drive level generation circuit 49 includes a power boosting circuit and a stabilized power supply circuit, and generates and supplies various levels of power in the display driver IC 4. For example, a power source, a clock, and other signal levels supplied to the gate-in-panel circuit that drives the gate electrode are generated and supplied to the scan electrode driver 59.

図11は、COF実装された表示ドライバIC4のIC内の回路構成と、フィルム7上の配線や電極の配置例を示す、より詳細な模式図である。表示ドライバIC4には、内部回路12であるソースアンプ回路12と、ソース出力端子切替回路14と、端子(パッド)毎に設けられた保護素子16と、6個のソース出力端子S6n〜S6n−5が示される。表示ドライバIC4は、例えばフルハイビジョンでRGBマルチプレックスされているとして、全体で1080個のソース出力端子S0〜S1079を有するが、これを6個ごとに図11のように構成することができる。即ちnは、n=0〜180の整数である。保護素子16としては、各ソース出力端子S6n〜S6n−5に、高電位側電源SVDDと低電位側電源SVSSそれぞれに向けて逆方向のダイオードが設けられている。   FIG. 11 is a more detailed schematic diagram showing a circuit configuration in the IC of the display driver IC 4 mounted with COF, and an arrangement example of wirings and electrodes on the film 7. The display driver IC 4 includes a source amplifier circuit 12, which is an internal circuit 12, a source output terminal switching circuit 14, a protection element 16 provided for each terminal (pad), and six source output terminals S6n to S6n-5. Is shown. The display driver IC 4 has 1080 source output terminals S0 to S1079 as a whole, for example, assuming that RGB is multiplexed in full high-definition, but this can be configured as shown in FIG. That is, n is an integer of n = 0 to 180. As the protection element 16, diodes in opposite directions are provided at the source output terminals S6n to S6n-5 toward the high potential side power supply SVDD and the low potential side power supply SVSS, respectively.

内部回路であるソースアンプ回路12は、ソース出力端子S6n〜S6n−5に対応して、AN3,AP3,AN2,AP2,AN1,AP1の6個を含んでいる。このうち、AP3とAP2とAP1の3個は共通電圧(Vcom)より高い正極側の信号を出力する正極側ソースアンプであり、他のAN3とAN2とAN1の3個は共通電圧(Vcom)より低い負極側の信号を出力する負極側ソースアンプであり、互いに隣接するソース出力端子S6n〜S6n−5に対して交互に配置される。   The source amplifier circuit 12 that is an internal circuit includes six elements AN3, AP3, AN2, AP2, AN1, and AP1 corresponding to the source output terminals S6n to S6n-5. Among these, three of AP3, AP2, and AP1 are positive side source amplifiers that output a signal on the positive side higher than the common voltage (Vcom), and the other three of AN3, AN2, and AN1 are from the common voltage (Vcom). A negative-side source amplifier that outputs a low negative-side signal, and is alternately arranged with respect to the source output terminals S6n to S6n-5 adjacent to each other.

ソース出力端子切替回路14は、負極側と正極側の1組のソースアンプAN3とAP3の出力を、ストレートに端子S6nとS6n−1にそれぞれ接続するか、クロスして端子S6n−1とS6nにそれぞれ接続するかを切替えることができる、所謂ストレート/クロス切替えスイッチとして機能する、4個のスイッチAN3EV,AN3OD,AP3EV,AP3ODを含む。他の2組のソースアンプAN2とAP2と、ソースアンプAN1とAP1にも、それぞれ対応する4個のスイッチAN2EV,AN2OD,AP2EV,AP2ODと、4個のスイッチAN1EV,AN1OD,AP1EV,AP1ODとが設けられている。ソース出力端子切替回路14は、さらに、隣接する端子S6nとS6n−1、端子S6n−1とS6n−2をそれぞれ短絡することができる、短絡スイッチPIN1−2とPIN0−2と、隣接する端子S6n−3とS6n−4、端子S6n−4とS6n−5をそれぞれ短絡することができる、短絡スイッチPIN1−1とPIN0−1とを備える。短絡スイッチPIN1−1〜2とPIN0−1〜2の動作については後述する。   The source output terminal switching circuit 14 connects the outputs of a pair of source amplifiers AN3 and AP3 on the negative electrode side and the positive electrode side straight to terminals S6n and S6n-1, or crosses them to terminals S6n-1 and S6n, respectively. It includes four switches AN3EV, AN3OD, AP3EV, and AP3OD that function as a so-called straight / cross changeover switch that can be switched for connection. Four other switches AN2EV, AN2OD, AP2EV, AP2OD and four switches AN1EV, AN1OD, AP1EV, AP1OD are also provided in the other two sets of source amplifiers AN2 and AP2 and source amplifiers AN1 and AP1, respectively. It has been. The source output terminal switching circuit 14 can further short-circuit adjacent terminals S6n and S6n-1, and terminals S6n-1 and S6n-2, respectively, and short-circuit switches PIN1-2 and PIN0-2, and adjacent terminal S6n. -3 and S6n-4 and terminals S6n-4 and S6n-5 are provided with short-circuit switches PIN1-1 and PIN0-1. The operation of the short-circuit switches PIN1-1 and PIN2 and PIN0-1 and PIN2 will be described later.

フィルム7上には、各ソース出力端子S6n〜S6n−5に接続され、表示パネル2の配線との接続領域11_0〜11_5へ引き出される配線が配置されている。さらに、カットライン10の外側には、端子S6nとS6n−2とS6n−4を短絡する短絡配線8_1と、端子S6n−1とS6n−3とS6n−5を短絡する短絡配線8_2と、短絡配線8_1と8_2にそれぞれ接続されるテストパッド9_1と9_2が配置されている。   On the film 7, wirings connected to the source output terminals S6n to S6n-5 and drawn to connection regions 11_0 to 11_5 with the wirings of the display panel 2 are arranged. Further, outside the cut line 10, a short-circuit wiring 8_1 that short-circuits the terminals S6n, S6n-2, and S6n-4, a short-circuit wiring 8_2 that short-circuits the terminals S6n-1, S6n-3, and S6n-5, and a short-circuit wiring Test pads 9_1 and 9_2 connected to 8_1 and 8_2, respectively, are arranged.

ソース出力端子切替回路14を制御するためのテスト回路について説明する。図12は、テスト回路の構成を示す論理ブロック図である。コマンドレジスタ17とパラメータレジスタ18とデコーダ19によって構成され、ソース出力端子切替回路14の各スイッチを制御するための制御信号を生成する。パラメータレジスタ18にはスイッチ制御信号T_SDEC_0/1Bが保持されており、同時に内部論理で生成されたドット反転駆動のための制御モード信号MODEEP/ENと共にデコーダ19に供給される。図14にはデコーダ19の真理値表が示され、図12にはその真理値表の論理を実現する論理回路の一例が示される。   A test circuit for controlling the source output terminal switching circuit 14 will be described. FIG. 12 is a logic block diagram showing the configuration of the test circuit. A command register 17, a parameter register 18, and a decoder 19, which generate control signals for controlling each switch of the source output terminal switching circuit 14. The parameter register 18 holds a switch control signal T_SDEC_0 / 1B and is simultaneously supplied to the decoder 19 together with a control mode signal MODEEEP / EN for dot inversion driving generated by internal logic. FIG. 14 shows a truth table of the decoder 19, and FIG. 12 shows an example of a logic circuit for realizing the logic of the truth table.

表示ドライバIC4の動作について説明する。   The operation of the display driver IC 4 will be described.

通常動作時には、正極側と負極側のソースアンプが各ソース端子を交互に駆動する、ドット反転駆動を行う。即ち、負極側ソースアンプAN3とAN2とAN1が偶数番のソース出力端子S6nとS6n−2とS6n−4を駆動し、正極側ソースアンプAP3とAP2とAP1が奇数番のソース出力端子S6n−1とS6n−3とS6n−5を駆動した後、同じラインの次の走査タイミングでは、逆に、負極側ソースアンプAN3とAN2とAN1が奇数番のソース出力端子S6n−1とS6n−3とS6n−5を駆動し、正極側ソースアンプAP3とAP2とAP1が偶数番のソース出力端子S6nとS6n−2とS6n−4を駆動する。図14に示される真理値表において、「通常」状態(T_SDEC[1:0]=00b)、MODEEP=1、MODEEN=0のとき、負極側ソースアンプが奇数番のソース出力端子を、正極側ソースアンプが偶数番のソース出力端子を、それぞれ駆動するように、ソース出力端子切替回路14が制御される。「通常」状態(T_SDEC[1:0]=00b)で、逆にMODEEP=0、MODEEN=1のとき、負極側ソースアンプが偶数番のソース出力端子を、正極側ソースアンプが奇数番のソース出力端子を、それぞれ駆動するように、ソース出力端子切替回路14が制御される。ここで、T_SDEC[1:0]は2ビットのディジタル値を表す信号であり、上述の「00b」は2進数2ビットの00を表す。本明細書では以下、同様に表記する。このように、コマンドレジスタ17にセットされるMODEEP/ENの値を切替えることによって、上述のドット反転駆動を行うことができる。   During normal operation, dot inversion driving is performed in which the source amplifiers on the positive and negative sides alternately drive the source terminals. That is, the negative side source amplifiers AN3, AN2, and AN1 drive the even-numbered source output terminals S6n, S6n-2, and S6n-4, and the positive side source amplifiers AP3, AP2, and AP1 are the odd-numbered source output terminals S6n-1. S6n-3 and S6n-5 are driven, and at the next scanning timing of the same line, on the contrary, the negative side source amplifiers AN3, AN2 and AN1 are odd-numbered source output terminals S6n-1, S6n-3 and S6n. -5 is driven, and the positive side source amplifiers AP3, AP2, and AP1 drive even-numbered source output terminals S6n, S6n-2, and S6n-4. In the truth table shown in FIG. 14, when “normal” state (T_SDEC [1: 0] = 00b), MODEP = 1, and MODEEN = 0, the negative side source amplifier sets the odd-numbered source output terminal to the positive side. The source output terminal switching circuit 14 is controlled so that the source amplifier drives the even-numbered source output terminals. In the “normal” state (T_SDEC [1: 0] = 00b), when MODEEP = 0 and MODEEN = 1, the negative-side source amplifier has an even-numbered source output terminal and the positive-side source amplifier has an odd-numbered source. The source output terminal switching circuit 14 is controlled so as to drive the output terminals. Here, T_SDEC [1: 0] is a signal representing a 2-bit digital value, and the above-mentioned “00b” represents binary 2-bit 00. In the present specification, the same applies hereinafter. As described above, the dot inversion driving described above can be performed by switching the value of MODEEEP / EN set in the command register 17.

次にプローブテスト32について説明する。プローブテスト32は、実施形態1において図5を引用して説明した通り、ウェハ状態で表示ドライバIC4のソース出力端子S6n〜S6n−5に探針91を接触させて行うテストである。表示ドライバIC4において、ソース出力端子は極めて多ピン且つ狭ピッチとなるため、また、半導体テスタが同時に測定することができる端子数にも制約があるため、全てのソース出力端子に同時に探針を接触させることは、物理的或いは経済的に現実的でない。そのため、本実施形態においては、3端子に対して1端子にのみ探針を接触させて、当該3端子に接続される内部回路のテストを行う。   Next, the probe test 32 will be described. As described with reference to FIG. 5 in the first embodiment, the probe test 32 is a test performed by bringing the probe 91 into contact with the source output terminals S6n to S6n-5 of the display driver IC4 in the wafer state. In the display driver IC4, the source output terminals have a very large number of pins and a narrow pitch, and the number of terminals that can be measured simultaneously by the semiconductor tester is limited. It is not realistic physically or economically. Therefore, in this embodiment, the probe is brought into contact with only one terminal with respect to the three terminals, and an internal circuit connected to the three terminals is tested.

図14に示される真理値表を用いることにより、端子S6n−2とS6n−5にのみ探針を接触させて行う、プローブテスト32のためのソース出力端子切替回路14の制御が可能となる。   By using the truth table shown in FIG. 14, it is possible to control the source output terminal switching circuit 14 for the probe test 32 performed by bringing the probe into contact with only the terminals S6n-2 and S6n-5.

「テスト」状態でMODEEP=1、MODEEN=0のとき、T_SDEC[1:0]=01bとすることにより、AN1ODとAP2EVのみがON、他のスイッチがOFFに制御され、端子S6n−5でソースアンプAN1の出力を測定することができ、端子S6n−2でソースアンプAP2の出力を測定することができる。T_SDEC[1:0]=10bとすることにより、AP1EVとPIN0−1,AN3ODとPIN0−2のみがON、他のスイッチがOFFに制御され、端子S6n−5でソースアンプAP1の出力を測定することができ、端子S6n−2でソースアンプAN3の出力を測定することができる。T_SDEC[1:0]=11bとすることにより、AN2ODとPIN0−1とPIN1−1,AP3EVとPIN0−2とPIN1−2のみがON、他のスイッチがOFFに制御され、端子S6n−5でソースアンプAN2の出力を測定することができ、端子S6n−2でソースアンプAP3の出力を測定することができる。   When MODEP = 1 and MODEEN = 0 in the “TEST” state, T_SDEC [1: 0] = 01b is set so that only AN1OD and AP2EV are ON and the other switches are OFF, and the source is connected to the terminal S6n-5. The output of the amplifier AN1 can be measured, and the output of the source amplifier AP2 can be measured at the terminal S6n-2. By setting T_SDEC [1: 0] = 10b, only AP1EV and PIN0-1, AN3OD and PIN0-2 are controlled to be ON, and the other switches are controlled to be OFF, and the output of the source amplifier AP1 is measured at the terminal S6n-5. The output of the source amplifier AN3 can be measured at the terminal S6n-2. By setting T_SDEC [1: 0] = 11b, only AN2OD, PIN0-1, PIN1-1, AP3EV, PIN0-2, and PIN1-2 are controlled to be ON, and other switches are controlled to be OFF, and terminal S6n-5 The output of the source amplifier AN2 can be measured, and the output of the source amplifier AP3 can be measured at the terminal S6n-2.

「階調テスト」状態でMODEEP=0、MODEEN=1のとき、T_SDEC[1:0]=01bとすることにより、AP1ODとAN1EVとAP2ODとAN2EVとAP3ODとAN3EVとのみがON、他のスイッチがOFFに制御され、端子S6n−5でソースアンプAP1の出力を測定することができ、端子S6n−2でソースアンプAN2の出力を測定することができる。他のソースアンプAN2,AP2,AP3,AN3の出力もそれぞれ端子S6n−4,S6n−3,S6n−1,S6nに出力されるが、探針が接触されていないので、測定することはできない。T_SDEC[1:0]=10bとすることにより、AN1EVとPIN0−1,AN3ODとPIN0−2、及び、AP2ODとAP3EVのみがON、他のスイッチがOFFに制御され、端子S6n−5でソースアンプAN1の出力を測定することができ、端子S6n−2でソースアンプAN3の出力を測定することができる。AP2ODとAP3EVがONに制御されているので、ソースアンプAP2とAP3の出力がそれぞれ端子S6n−3とS6nに出力されるが、探針が接触されていないので、測定することはできない。T_SDEC[1:0]=11bとすることにより、AN2ODとPIN0−1とPIN1−1,AP3EVとPIN0−2とPIN1−2のみがON、他のスイッチがOFFに制御され、端子S6n−5でソースアンプAP2の出力を測定することができ、端子S6n−2でソースアンプAP3の出力を測定することができる。   When MODEEP = 0 and MODEEN = 1 in the “gradation test” state, by setting T_SDEC [1: 0] = 01b, only AP1OD, AN1EV, AP2OD, AN2EV, AP3OD and AN3EV are ON, and other switches are The output of the source amplifier AP1 can be measured at the terminal S6n-5, and the output of the source amplifier AN2 can be measured at the terminal S6n-2. The outputs of the other source amplifiers AN2, AP2, AP3, AN3 are also output to the terminals S6n-4, S6n-3, S6n-1, and S6n, respectively, but cannot be measured because the probe is not in contact. By setting T_SDEC [1: 0] = 10b, only AN1EV and PIN0-1, AN3OD and PIN0-2, and AP2OD and AP3EV are controlled to be ON, and the other switches are controlled to be OFF, and the source amplifier is connected to terminal S6n-5 The output of AN1 can be measured, and the output of the source amplifier AN3 can be measured at the terminal S6n-2. Since AP2OD and AP3EV are controlled to be ON, the outputs of the source amplifiers AP2 and AP3 are output to the terminals S6n-3 and S6n, respectively, but cannot be measured because the probe is not in contact. By setting T_SDEC [1: 0] = 11b, only AN2OD, PIN0-1, PIN1-1, AP3EV, PIN0-2, and PIN1-2 are controlled to be ON, and other switches are controlled to be OFF, and terminal S6n-5 The output of the source amplifier AP2 can be measured, and the output of the source amplifier AP3 can be measured at the terminal S6n-2.

以上のように、プローブテストS32では、6個の端子S6n〜S6n−5について2個の端子S6n−5とS6n−2のみに探針を接触させることにより、対応する6個のソースアンプAP1,AN1,AP2,AN2,AP3,AN3全ての出力の電気的特性を測定することができる。   As described above, in the probe test S32, for the six terminals S6n to S6n-5, the probe is brought into contact with only the two terminals S6n-5 and S6n-2, thereby corresponding six source amplifiers AP1, The electrical characteristics of the outputs of all of AN1, AP2, AN2, AP3 and AN3 can be measured.

次に実装テストS37について説明する。実装テストS37は、実施形態1において図5を引用して説明した通り、表示ドライバIC4がCOF実装された状態で探針92をテストパッド9に接触させて行うテストである。   Next, the mounting test S37 will be described. The mounting test S37 is a test performed by bringing the probe 92 into contact with the test pad 9 in a state where the display driver IC 4 is COF mounted as described with reference to FIG. 5 in the first embodiment.

図13は、COF実装状態でのテスト(実装テスト)S37における、テスト回路の動作を示す真理値表の説明図である。デコーダ19は、プローブテストS32の場合と同じ動作を行う。ただし、MODEEP=1、MODEEN=0とし、PIN0−1とPIN0−2、PIN1−1とPIN1−2は常にOFFとされる。T_SDEC[1:0]=01bとすることにより、AN1ODとAP2EVのみがON、他のスイッチがOFFに制御され、端子S6n−5を介してテストパッド9_2でソースアンプAN1の出力を測定することができ、端子S6n−2を介してテストパッド9_1でソースアンプAP2の出力を測定することができる。T_SDEC[1:0]=10bとすることにより、AP1EVとAN3ODのみがON、他のスイッチがOFFに制御され、端子S6n−4を介してテストパッド9_1でソースアンプAP1の出力を測定することができ、端子S6n−1を介してテストパッド9_2でソースアンプAN3の出力を測定することができる。T_SDEC[1:0]=11bとすることにより、AN2ODとAP3EVのみがON、他のスイッチがOFFに制御され、端子S6n−3を介してテストパッド9_2でソースアンプAN2の出力を測定することができ、端子S6nを介してテストパッド9_1でソースアンプAP3の出力を測定することができる。   FIG. 13 is an explanatory diagram of a truth table showing the operation of the test circuit in the test (mounting test) S37 in the COF mounted state. The decoder 19 performs the same operation as in the case of the probe test S32. However, MODEEEP = 1 and MODEEN = 0, and PIN0-1 and PIN0-2, PIN1-1 and PIN1-2 are always OFF. By setting T_SDEC [1: 0] = 01b, only AN1OD and AP2EV are controlled to be ON, and other switches are controlled to be OFF, and the output of the source amplifier AN1 can be measured at the test pad 9_2 via the terminal S6n-5. The output of the source amplifier AP2 can be measured with the test pad 9_1 through the terminal S6n-2. By setting T_SDEC [1: 0] = 10b, only AP1EV and AN3OD are controlled to be ON, and other switches are controlled to be OFF, and the output of the source amplifier AP1 can be measured with the test pad 9_1 via the terminal S6n-4. The output of the source amplifier AN3 can be measured with the test pad 9_2 via the terminal S6n-1. By setting T_SDEC [1: 0] = 11b, only AN2OD and AP3EV are controlled to be ON, and other switches are controlled to be OFF, and the output of the source amplifier AN2 can be measured with the test pad 9_2 via the terminal S6n-3. The output of the source amplifier AP3 can be measured with the test pad 9_1 through the terminal S6n.

本実施形態の実装テストS37では、各端子のショートテストとオープンテストも実施することができる。隣接する端子が異なる短絡配線に接続されているので、MODEEP=0、MODEEN=0として全ての端子を内部回路から切り離したHiZ状態にし、テストパッド9_1と9_2に異なる電位を印加して、隣接する端子間、隣接する配線間に流れる電流を測定する。MODEEP=0、MODEEN=0のとき、図14に示される真理値表の通り、スイッチAP1OD/EV,AN1OD/EV,AP2OD/EV,AN2OD/EV,AP3OD/EV,AN3OD/EV及びPIN0−1/2,PIN1−1/2はすべてOFFに制御され、各端子は内部のソースアンプから遮断された状態となる。各端子は内部回路が切り離された、HiZ状態であるから、隣接する端子間や配線間で短絡がなければ、テストパッド9_1と9_2の間に電流は流れない。このように、ショートテストを実施することができる。オープンテストも同様に、各端子を内部回路から遮断したHiZ状態で実施する。各端子に高電位側電源SVDDよりも保護ダイオードの順方向電圧分だけ高い電位を印加し、SVDDに向かって流れる電流を測定し、各端子に低電位側電源SVSSよりも保護ダイオードの順方向電圧分だけ低い電位を印加し、SVSSから端子に向かって流れる電流を測定する。オープンの端子がなければ、電流は保護ダイオード3個分の電流値となる。このように、各端子のオープン/ショートテストも合わせて実施することができる。本実施形態では、オープン/ショートテストについての説明を後半に記載したが、実際の実装テストS37では最初に実施される。オープン/ショートテストは比較的短時間で完了するため、早い段階で不良品をテスト対象から除外することができ、テスト時間全体を短縮することができるためである。   In the mounting test S37 of this embodiment, a short test and an open test of each terminal can also be performed. Since adjacent terminals are connected to different short-circuit wirings, MODEP = 0 and MODEEN = 0 are set to HiZ state in which all terminals are disconnected from the internal circuit, and different potentials are applied to the test pads 9_1 and 9_2 to be adjacent. Measure current flowing between terminals and between adjacent wires. When MODEEP = 0 and MODEEN = 0, as shown in the truth table shown in FIG. 14, switches AP1OD / EV, AN1OD / EV, AP2OD / EV, AN2OD / EV, AP3OD / EV, AN3OD / EV, and PIN0-1 / 2 and PIN 1-1 / 2 are all controlled to be OFF, and each terminal is disconnected from the internal source amplifier. Since each terminal is in a HiZ state in which the internal circuit is disconnected, no current flows between the test pads 9_1 and 9_2 unless there is a short circuit between adjacent terminals or wirings. In this way, a short test can be performed. Similarly, the open test is performed in a HiZ state in which each terminal is disconnected from the internal circuit. A potential higher than the high-potential power supply SVDD by the forward voltage of the protection diode is applied to each terminal, the current flowing toward SVDD is measured, and the forward voltage of the protection diode is applied to each terminal from the low-potential power supply SVSS. A potential lower than that is applied, and the current flowing from the SVSS toward the terminal is measured. If there is no open terminal, the current is the current value of three protection diodes. In this way, the open / short test of each terminal can be performed together. In the present embodiment, the description of the open / short test is described in the latter half, but the actual implementation test S37 is performed first. This is because the open / short test is completed in a relatively short time, so that defective products can be excluded from the test target at an early stage, and the entire test time can be shortened.

〔実施形態3〕
実施形態2に示した短絡配線の形成方法では、互いに隣接する配線を異なる短絡配線に接続するため、上述のように各端子についてオープン/ショートテストを実施することが可能となるが、フィルム7上の配線が少なくとも2層必要となる。
[Embodiment 3]
In the method for forming a short-circuit wiring shown in the second embodiment, since the adjacent wirings are connected to different short-circuit wirings, the open / short test can be performed on each terminal as described above. This wiring requires at least two layers.

図15は、実施形態3に係る半導体装置21の構成であって、COF実装された表示ドライバIC4のIC内の回路構成と、フィルム7上の配線や電極の配置例を示す、より詳細な模式図である。表示ドライバIC4は、図11に示される実施形態2の表示ドライバIC4と同じ構成であるので、説明を省略する。互いに隣接する端子S6nとS6n−1とS6n−2が同じ短絡配線8_3によって短絡されてテストパッド9_1に接続されており、互いに隣接する端子S6n−3とS6n−4とS6n−4が同じ短絡配線8_4によって短絡されてテストパッド9_2に接続されている。この回路構成をフィルム7上に実現するための配線は、互いに交差することがないので、単一の配線層で実現することができる。   FIG. 15 shows a configuration of the semiconductor device 21 according to the third embodiment, and is a more detailed schematic diagram showing a circuit configuration in the IC of the display driver IC 4 mounted with COF, and an arrangement example of wirings and electrodes on the film 7. FIG. The display driver IC 4 has the same configuration as the display driver IC 4 of the second embodiment shown in FIG. The adjacent terminals S6n, S6n-1, and S6n-2 are short-circuited by the same short-circuited wiring 8_3 and connected to the test pad 9_1, and the adjacent terminals S6n-3, S6n-4, and S6n-4 are the same short-circuited wiring Shorted by 8_4 and connected to the test pad 9_2. Since the wiring for realizing this circuit configuration on the film 7 does not cross each other, it can be realized by a single wiring layer.

COF実装状態でのテストは、上述の実施形態2と同様に実施することができる。MODEEP=1、MODEEN=0とし、PIN0−1とPIN0−2、PIN1−1とPIN1−2は常にOFFとされる。T_SDEC[1:0]=01bとすることにより、AN1ODとAP2EVのみがON、他のスイッチがOFFに制御され、端子S6n−5を介してテストパッド9_2でソースアンプAN1の出力を測定することができ、端子S6n−2を介してテストパッド9_1でソースアンプAP2の出力を測定することができる。T_SDEC[1:0]=10bとすることにより、AP1EVとAN3ODのみがON、他のスイッチがOFFに制御され、端子S6n−4を介してテストパッド9_2でソースアンプAP1の出力を測定することができ、端子S6n−1を介してテストパッド9_1でソースアンプAN3の出力を測定することができる。T_SDEC[1:0]=11bとすることにより、AN2ODとAP3EVのみがON、他のスイッチがOFFに制御され、端子S6n−3を介してテストパッド9_2でソースアンプAN2の出力を測定することができ、端子S6nを介してテストパッド9_1でソースアンプAP3の出力を測定することができる。また、オープンテストも実施形態2と同様に実施することができる。   The test in the COF mounting state can be performed in the same manner as in the second embodiment. MODEEEP = 1 and MODEEN = 0, and PIN0-1 and PIN0-2 and PIN1-1 and PIN1-2 are always OFF. By setting T_SDEC [1: 0] = 01b, only AN1OD and AP2EV are controlled to be ON, and other switches are controlled to be OFF, and the output of the source amplifier AN1 can be measured at the test pad 9_2 via the terminal S6n-5. The output of the source amplifier AP2 can be measured with the test pad 9_1 through the terminal S6n-2. By setting T_SDEC [1: 0] = 10b, only AP1EV and AN3OD are controlled to be ON, and other switches are controlled to be OFF, and the output of the source amplifier AP1 can be measured with the test pad 9_2 via the terminal S6n-4. The output of the source amplifier AN3 can be measured with the test pad 9_1 through the terminal S6n-1. By setting T_SDEC [1: 0] = 11b, only AN2OD and AP3EV are controlled to be ON, and other switches are controlled to be OFF, and the output of the source amplifier AN2 can be measured with the test pad 9_2 via the terminal S6n-3. The output of the source amplifier AP3 can be measured with the test pad 9_1 through the terminal S6n. Further, the open test can be performed similarly to the second embodiment.

〔実施形態4〕
図16は、実施形態4に係る半導体装置21の構成であって、COF実装された表示ドライバIC4のIC内の回路構成と、フィルム7上の配線や電極の配置例を示す、より詳細な模式図である。表示ドライバIC4は、図11に示される実施形態2の表示ドライバIC4と同じ構成であるので、説明を省略する。互いに隣接する端子S6nとS6n−1とS6n−2のうち両端のS6nとS6n−2が同じ短絡配線8_5によって短絡されてテストパッド9_1に接続されており、互いに隣接する端子S6n−3とS6n−4とS6n−4のうち両端のS6n−3とS6n−5が同じ短絡配線8_6によって短絡され、テストパッド9_2に接続されている。この回路構成をフィルム7上に実現するための配線は、図15に示される実施形態3の場合と同様に互いに交差することがないので、単一の配線層で実現することができる。
[Embodiment 4]
FIG. 16 is a configuration of the semiconductor device 21 according to the fourth embodiment, and is a more detailed schematic diagram illustrating a circuit configuration in the IC of the display driver IC 4 mounted with COF, and an arrangement example of wirings and electrodes on the film 7. FIG. The display driver IC 4 has the same configuration as the display driver IC 4 of the second embodiment shown in FIG. Of the adjacent terminals S6n, S6n-1, and S6n-2, S6n and S6n-2 at both ends are short-circuited by the same short-circuit wiring 8_5 and connected to the test pad 9_1, and adjacent terminals S6n-3 and S6n- 4 and S6n-4, S6n-3 and S6n-5 at both ends are short-circuited by the same short-circuit wiring 8_6 and connected to the test pad 9_2. Since the wiring for realizing this circuit configuration on the film 7 does not cross each other as in the case of the third embodiment shown in FIG. 15, it can be realized by a single wiring layer.

MODEEP=1、MODEEN=0とし、短絡スイッチPIN0−1とPIN0−2、PIN1−1とPIN1−2を適宜合わせて制御することによって、COF実装状態でのテストは、上述の実施形態2と同様に実施することができる。T_SDEC[1:0]=01bとすることにより、AN1ODとAP2EVのみがON、他のスイッチがOFFに制御され、端子S6n−5を介してテストパッド9_2でソースアンプAN1の出力を測定することができ、端子S6n−2を介してテストパッド9_1でソースアンプAP2の出力を測定することができる。T_SDEC[1:0]=10bとすることにより、AP1EVとAN3OD及びPIN0−1とPIN0−2のみがON、他のスイッチがOFFに制御され、端子S6n−5を介してテストパッド9_2でソースアンプAP1の出力を測定することができ、端子S6n−2を介してテストパッド9_1でソースアンプAN3の出力を測定することができる。T_SDEC[1:0]=11bとすることにより、AN2ODとAP3EVのみがON、他のスイッチがOFFに制御され、端子S6n−3を介してテストパッド9_2でソースアンプAN2の出力を測定することができ、端子S6nを介してテストパッド9_1でソースアンプAP3の出力を測定することができる。   By setting MODEE = 1 and MODEEN = 0, and controlling the short-circuit switches PIN0-1 and PIN0-2 and PIN1-1 and PIN1-2 as appropriate, the test in the COF mounted state is the same as in the second embodiment. Can be implemented. By setting T_SDEC [1: 0] = 01b, only AN1OD and AP2EV are controlled to be ON, and other switches are controlled to be OFF, and the output of the source amplifier AN1 can be measured at the test pad 9_2 via the terminal S6n-5. The output of the source amplifier AP2 can be measured with the test pad 9_1 through the terminal S6n-2. By setting T_SDEC [1: 0] = 10b, only AP1EV and AN3OD and PIN0-1 and PIN0-2 are controlled to be ON, and the other switches are controlled to be OFF, and the source amplifier is connected to the test pad 9_2 via the terminal S6n-5. The output of AP1 can be measured, and the output of the source amplifier AN3 can be measured with the test pad 9_1 via the terminal S6n-2. By setting T_SDEC [1: 0] = 11b, only AN2OD and AP3EV are controlled to be ON, and other switches are controlled to be OFF, and the output of the source amplifier AN2 can be measured with the test pad 9_2 via the terminal S6n-3. The output of the source amplifier AP3 can be measured with the test pad 9_1 through the terminal S6n.

端子S6n,S6n−2,S6n−3,S6n−5については、オープンテストも実施形態2と同様に実施することができるが、端子S6n−1とS6n−4については、オープンテストを実施することができない。一方、内部回路を利用した簡易ショートテストを実施することができる。ソース出力端子切替回路14を制御してストレート接続とし、短絡スイッチPIN0−1とPIN0−2、PIN1−1とPIN1−2を全てOFFとする。正極側ソースアンプAP1,AP2,AP3から奇数番のソース出力端子S6n−5,S6n−3,S6n−1に正の電圧を出力させ、負極側ソースアンプAN1,AN2,AN3は偶数番のソース出力端子S6n−4,S6n−2,S6nに負の電圧を出力させる。このとき、正極側ソースアンプAP1,AP2,AP3と負極側ソースアンプAN1,AN2,AN3を含む全てのソースアンプに流れる電流の電流値を測定することにより、簡易ショートテストを実施することができる。上述の短絡配線は、同じ電圧が出力される正極側または負極側のソースアンプの出力どうしが短絡されているので、短絡配線8_5と8_6には電流は流れない。短絡配線8_5と8_6に接続されない端子S6n−1とS6n−4は短絡配線に接続されていないので、この端子にも電流は流れない。即ち、隣接する端子及び配線間に故障に起因する短絡がない限り、全てのソースアンプに流れる電流の電流値は、表示ドライバIC4の内部で流れる電流のみである。そのため、その電流値が設計値に基づいて算出される許容値以内であれば、故障に起因する短絡はないもの判定することができる。このように、本実施形態4によれば、外部から電圧を印加するショートテストに代えて、内部回路を使った簡易ショートテストにより、隣接端子・配線間のショート故障の有無を判定することができる。   For the terminals S6n, S6n-2, S6n-3, and S6n-5, an open test can be performed in the same manner as in the second embodiment, but for the terminals S6n-1 and S6n-4, an open test is performed. I can't. On the other hand, a simple short test using an internal circuit can be performed. The source output terminal switching circuit 14 is controlled to make a straight connection, and the short-circuit switches PIN0-1 and PIN0-2 and PIN1-1 and PIN1-2 are all turned OFF. Positive voltages are output from the positive-side source amplifiers AP1, AP2, AP3 to the odd-numbered source output terminals S6n-5, S6n-3, S6n-1, and the negative-side source amplifiers AN1, AN2, AN3 output even-numbered source outputs. Negative voltages are output to the terminals S6n-4, S6n-2, and S6n. At this time, a simple short test can be performed by measuring the current values of the currents flowing through all the source amplifiers including the positive side source amplifiers AP1, AP2, AP3 and the negative side source amplifiers AN1, AN2, AN3. In the short-circuit wiring described above, since the outputs of the positive-side or negative-side source amplifiers that output the same voltage are short-circuited, no current flows through the short-circuit wirings 8_5 and 8_6. Since the terminals S6n-1 and S6n-4 that are not connected to the short-circuit lines 8_5 and 8_6 are not connected to the short-circuit line, no current flows through these terminals. That is, as long as there is no short circuit due to a failure between adjacent terminals and wiring, the current value of the current flowing through all the source amplifiers is only the current flowing inside the display driver IC 4. Therefore, if the current value is within the allowable value calculated based on the design value, it can be determined that there is no short circuit due to the failure. As described above, according to the fourth embodiment, it is possible to determine the presence or absence of a short-circuit failure between adjacent terminals and wires by a simple short test using an internal circuit instead of a short test in which a voltage is applied from the outside. .

以上本発明者によってなされた発明を実施形態に基づいて具体的に説明したが、本発明はそれに限定されるものではなく、その要旨を逸脱しない範囲において種々変更可能であることは言うまでもない。   Although the invention made by the present inventor has been specifically described based on the embodiments, it is needless to say that the present invention is not limited thereto and can be variously modified without departing from the gist thereof.

例えば、表示ドライバICは主に液晶表示パネルに接続される場合について説明したが、OLEDを駆動するための表示ドライバICに変更することは可能である。また、図10に示される表示ドライバICの詳細な構成例では、フレームメモリ44を含み、さらにバックライト制御を含む場合についての構成例をしめしたが、それらを含まない簡易な構成にも、さらに他の機能を含む高機能の構成にも、適宜変更することができる。   For example, the case where the display driver IC is mainly connected to the liquid crystal display panel has been described, but the display driver IC can be changed to a display driver IC for driving the OLED. Further, in the detailed configuration example of the display driver IC shown in FIG. 10, the configuration example in the case of including the frame memory 44 and further including the backlight control is shown. It is possible to appropriately change to a highly functional configuration including other functions.

1 タッチパネル(TP)
2 表示パネル(DP)
3 タッチパネルコントローラ(TPC)
4 表示パネルコントローラ(DPC)
5 サブプロセッサ(SMPU)
6 ホストプロセッサ(HMPU)
7 フィルム
8 短絡配線
9 テストパッド
10 カットライン
11 接続領域
12、13 内部回路(ソースアンプ回路)
14、15 遮断スイッチ
16 保護素子
17 コマンドレジスタ
18 パラメータレジスタ
19 デコーダ
20 フィルム上の配線
21 半導体装置(半導体チップが実装されたCOF)
22 表示パネル2の配線
23 表示パネル2の基板
24 ソース線(信号線)
25 ゲート線(走査線)
26 ゲート駆動回路(GIP)
27 送り穴
S30 半導体装置(COF実装された半導体チップ)の製造工程
S31 半導体ウェハ製造工程
S32 プローブテスト工程
S33 ダイシング工程
S34 チップ実装工程
S35 ボンディング工程
S36 アンダーフィル工程
S37 実装テスト工程
S38 打ち抜き工程
S39 基板実装工程
40 システムインターフェース
41 外部表示インターフェース
42,45,47 ラッチ回路
43 データ圧縮回路
44 フレームメモリ
46 データ展開回路
48 タイミング制御回路
49 液晶駆動レベル発生回路
50 周期信号出力回路
51 クロック発生回路
52 内部基準電圧生成回路
53 内部ロジック電源レギュレータ
54 不揮発性メモリ
55 アドレスカウンタ
56 バックライト制御回路
57 γ補正回路
58 階調電圧発生回路
59 走査電極ドライバ
61 ホストプロセッサ(HMPU)が実装される基板
71 バンプ(突起電極)
72 端子(パッド)
73 異方性導電性フィルム(ACF)
91、92 探針
100 表示及び入力装置(電子機器)
101,102 半導体装置(IC、マルチチップモジュール)
1 Touch panel (TP)
2 Display panel (DP)
3 Touch panel controller (TPC)
4 Display panel controller (DPC)
5 Subprocessor (SMPU)
6 Host processor (HMPU)
7 Film 8 Short-circuit wiring 9 Test pad 10 Cut line 11 Connection area 12, 13 Internal circuit (source amplifier circuit)
14, 15 Cutoff switch 16 Protection element 17 Command register 18 Parameter register 19 Decoder 20 Wiring on film 21 Semiconductor device (COF on which semiconductor chip is mounted)
22 Wiring of display panel 2 23 Substrate of display panel 2 24 Source line (signal line)
25 Gate line (scanning line)
26 Gate drive circuit (GIP)
27 Feeding hole S30 Semiconductor device (COF-mounted semiconductor chip) manufacturing process S31 Semiconductor wafer manufacturing process S32 Probe test process S33 Dicing process S34 Chip mounting process S35 Bonding process S36 Underfill process S37 Mounting test process S38 Punching process S39 Substrate mounting Process 40 System interface 41 External display interface 42, 45, 47 Latch circuit 43 Data compression circuit 44 Frame memory 46 Data expansion circuit 48 Timing control circuit 49 Liquid crystal drive level generation circuit 50 Periodic signal output circuit 51 Clock generation circuit 52 Internal reference voltage generation Circuit 53 Internal logic power supply regulator 54 Non-volatile memory 55 Address counter 56 Backlight control circuit 57 γ correction circuit 58 Grayscale voltage generation Substrate 71 bumps circuit 59 scan electrode driver 61 host processor (HMPU) is mounted (protruding electrodes)
72 terminals (pads)
73 Anisotropic Conductive Film (ACF)
91, 92 Probe 100 Display and input device (electronic equipment)
101, 102 Semiconductor device (IC, multichip module)

Claims (13)

フィルムと、前記フィルム上に印刷された導体による配線と、前記配線に電気的に接続される複数の端子を有し前記フィルム上に実装された半導体チップとを備える半導体装置であって、
前記フィルム上の、前記半導体チップが実装される領域の外側に、前記配線が他の基板に電気的に接続されるための接続領域と、
前記フィルム上の、前記接続領域のさらに外側であって、前記接続領域と切り離し可能な領域に、前記複数の端子のうちの所定数の端子を電気的に短絡する短絡配線と、前記短絡配線に電気的に接続され当該短絡配線1本に対して少なくとも1個設けられたテストパッドとを備え、
前記半導体チップは、前記所定数の端子のそれぞれと前記半導体チップの内部回路との電気的な接続を遮断可能な遮断スイッチを有する、
半導体装置。
A semiconductor device comprising a film, a wiring formed by a conductor printed on the film, and a semiconductor chip having a plurality of terminals electrically connected to the wiring and mounted on the film,
On the film, outside the region where the semiconductor chip is mounted, a connection region for the wiring to be electrically connected to another substrate,
On the film, on the outer side of the connection region and in a region separable from the connection region, a short-circuit wiring that electrically short-circuits a predetermined number of the plurality of terminals, and the short-circuit wiring A test pad that is electrically connected and provided for at least one short-circuit wiring;
The semiconductor chip has a cut-off switch that can cut off an electrical connection between each of the predetermined number of terminals and an internal circuit of the semiconductor chip.
Semiconductor device.
請求項1において、前記複数の端子から対応する接続領域への配線のうち互いに隣接する配線は、互いに異なる短絡配線に接続される、
半導体装置。
In Claim 1, wiring adjacent to each other among the wiring from the plurality of terminals to the corresponding connection region is connected to different short-circuit wirings.
Semiconductor device.
請求項1において、同じ短絡配線に接続される前記所定数の端子は、当該端子から対応する接続領域への配線が互いに隣接する、
半導体装置。
In claim 1, the predetermined number of terminals connected to the same short-circuit wiring, the wiring from the terminal to the corresponding connection region are adjacent to each other,
Semiconductor device.
請求項1において、接続領域への配線が互いに隣接する3個の端子のうち、両端の端子が同じ短絡配線に接続され、他の1個の端子は開放される、
半導体装置。
In claim 1, among the three terminals adjacent to each other to the connection region, the terminals at both ends are connected to the same short-circuit wiring, and the other one terminal is opened.
Semiconductor device.
請求項4において、前記半導体チップは、前記3個の端子を内部で互いに電気的に短絡可能な、短絡スイッチをさらに備える、
半導体装置。
5. The semiconductor chip according to claim 4, further comprising a short-circuit switch capable of electrically short-circuiting the three terminals inside each other.
Semiconductor device.
請求項1から請求項5のうちのいずれか1項において、前記半導体チップは表示ドライバICであり、
前記複数の端子は、接続される表示パネルのソース電極を駆動するソース出力端子であり、
前記半導体チップは、内部回路として複数の正極側ソースアンプと複数の負極側ソースアンプと、前記遮断スイッチとして動作可能なそれぞれ複数の第1、第2、第3及び第4スイッチを備え、
互いに隣接する2個ずつの前記ソース出力端子は、それぞれ第1及び第2スイッチを介して1個の正極側ソースアンプと接続され、それぞれ第3及び第4スイッチを介して1個の負極側ソースアンプと接続される、
半導体装置。
The semiconductor chip according to any one of claims 1 to 5, wherein the semiconductor chip is a display driver IC.
The plurality of terminals are source output terminals that drive a source electrode of a display panel to be connected,
The semiconductor chip includes a plurality of positive-side source amplifiers and a plurality of negative-side source amplifiers as internal circuits, and a plurality of first, second, third, and fourth switches that can operate as the cutoff switches.
The two adjacent source output terminals are connected to one positive side source amplifier via the first and second switches, respectively, and one negative side source via the third and fourth switches, respectively. Connected to the amplifier,
Semiconductor device.
フィルムと、前記フィルム上に印刷された導体による複数の配線及び複数のテストパッドと、前記複数の配線に電気的に接続される複数の端子を有し前記フィルム上に実装された半導体チップとを備える半導体装置の製造方法であって、
前記半導体チップを前記フィルム上に実装するチップ実装工程と、前記テストパッドのうちの少なくとも1個のテストパッドに探針を接触させて前記半導体チップの端子の電気的特性を測定する実装テストとを含み、
前記チップ実装工程は、前記複数の端子のそれぞれに前記複数の配線を電気的に接続する工程を含み、
前記フィルムは、前記半導体チップが実装される領域の外側に、前記配線が他の配線に物理的かつ電気的に接続されるための接続領域を有し、前記接続領域のさらに外側であって、前記接続領域と切り離し可能な領域に、前記複数の端子のうちの所定数の端子を互いに電気的に短絡する短絡配線を有し、前記短絡配線1本に対して少なくとも1個のテストパッドが電気的に接続され、
前記半導体チップは、前記短絡配線によって互いに短絡される複数の端子を、個々に内部回路から電気的に遮断可能な遮断スイッチを備え、
前記実装テストは、前記短絡配線によって互いに短絡される前記複数の端子のうちの1個の端子以外の端子を対応する内部回路から前記遮断スイッチによって電気的に遮断するとともに、当該端子と当該端子に対応する内部回路とを電気的に接続して、当該内部回路の電気的特性を対応するテストパッドを介して測定する工程を含む、
半導体装置の製造方法。
A film, a plurality of wirings and a plurality of test pads by a conductor printed on the film, and a semiconductor chip having a plurality of terminals electrically connected to the plurality of wirings and mounted on the film A method for manufacturing a semiconductor device comprising:
A chip mounting process for mounting the semiconductor chip on the film; and a mounting test for measuring electrical characteristics of terminals of the semiconductor chip by bringing a probe into contact with at least one of the test pads. Including
The chip mounting step includes a step of electrically connecting the plurality of wirings to each of the plurality of terminals,
The film has a connection region for the wiring to be physically and electrically connected to another wiring outside the region where the semiconductor chip is mounted, and further outside the connection region, In the region separable from the connection region, a short-circuit wiring for electrically short-circuiting a predetermined number of the plurality of terminals is provided, and at least one test pad is electrically connected to the one short-circuit wiring. Connected,
The semiconductor chip includes a cutoff switch capable of electrically disconnecting a plurality of terminals short-circuited to each other by the short-circuit wiring from an internal circuit individually,
In the mounting test, terminals other than one of the plurality of terminals short-circuited by the short-circuit wiring are electrically disconnected from the corresponding internal circuit by the cutoff switch, and the terminals and the terminals are connected to each other. Electrically connecting a corresponding internal circuit and measuring an electrical characteristic of the internal circuit through a corresponding test pad,
A method for manufacturing a semiconductor device.
請求項7において、前記半導体チップは、各端子毎に保護ダイオードを有し、前記複数の端子から対応する接続領域への配線のうち互いに隣接する配線は、互いに異なる短絡配線に接続され、
前記実装テストは、前記短絡配線によって互いに短絡される前記複数の端子のうちの1個の端子以外の端子を対応する内部回路から前記遮断スイッチによって電気的に遮断するとともに、当該端子に接続される保護ダイオードの順方向特性を、対応するテストパッドを介して測定するオープンテストと、前記複数の端子から対応する接続領域への配線が互いに隣接する端子を前記遮断スイッチによって対応する内部回路から電気的に遮断するとともに、互いに異なる電位を印加して端子間電流の有無を測定するショートテストとを含む、
半導体装置の製造方法。
In Claim 7, the semiconductor chip has a protection diode for each terminal, wiring adjacent to each other among the wiring from the plurality of terminals to the corresponding connection region is connected to different short-circuit wiring,
In the mounting test, terminals other than one of the plurality of terminals that are short-circuited to each other by the short-circuit wiring are electrically disconnected from the corresponding internal circuit by the cutoff switch and connected to the terminals. An open test for measuring the forward characteristics of the protection diode through a corresponding test pad, and a terminal where wirings from the plurality of terminals to the corresponding connection region are adjacent to each other are electrically connected from the corresponding internal circuit by the cutoff switch. And a short test that measures the presence or absence of current between terminals by applying different potentials to each other,
A method for manufacturing a semiconductor device.
請求項7において、同じ短絡配線に接続される前記所定数の端子は、当該端子から対応する接続領域への配線が互いに隣接する、
半導体装置の製造方法。
In claim 7, the predetermined number of terminals connected to the same short-circuit wiring, the wiring from the terminal to the corresponding connection region are adjacent to each other,
A method for manufacturing a semiconductor device.
請求項7において、接続領域への配線が互いに隣接する3個の端子のうち、両端の端子が同じ短絡配線に接続され、他の1個の端子は開放される、
半導体装置の製造方法。
In claim 7, among the three terminals adjacent to each other to the connection region, the terminals at both ends are connected to the same short-circuit wiring, and the other one terminal is opened.
A method for manufacturing a semiconductor device.
請求項10において、前記実装テストは、前記隣接する3個の端子のうち、両端の端子とそれに挟まれる端子に、それぞれに対応する内部回路から異なる電位を印加し、当該内部回路に電源を供給する電源回路の消費電流を測定する、簡易ショートテストを含む、
半導体装置の製造方法。
11. The mounting test according to claim 10, wherein the mounting test is performed by applying different potentials from the corresponding internal circuits to the terminals at both ends and the terminals sandwiched between the adjacent three terminals, and supplying power to the internal circuits. Including a simple short test to measure the current consumption of the power supply circuit
A method for manufacturing a semiconductor device.
請求項7において、前記チップ実装工程の前に、前記半導体チップをウェハ状態で検査する、プローブテストをさらに含み、
前記半導体チップは、前記所定数の端子を、内部で互いに電気的に短絡可能な、短絡スイッチをさらに備え、
前記プローブテストにおいて、前記所定数の端子のうち1個の端子を除く他の端子への探針の接触を省略する、
半導体装置の製造方法。
The probe test according to claim 7, further comprising a probe test for inspecting the semiconductor chip in a wafer state before the chip mounting step.
The semiconductor chip further includes a short-circuit switch capable of electrically short-circuiting the predetermined number of terminals inside each other,
In the probe test, the contact of the probe with other terminals excluding one terminal of the predetermined number of terminals is omitted.
A method for manufacturing a semiconductor device.
請求項7から請求項12のうちのいずれか1項において、前記半導体チップは表示ドライバICであり、
前記複数の端子は、接続される表示パネルのソース電極を駆動するソース出力端子であり、
前記半導体チップは、内部回路として複数の正極側ソースアンプと複数の負極側ソースアンプと、前記遮断スイッチとして動作可能なそれぞれ複数の第1、第2、第3及び第4スイッチを備え、
互いに隣接する2個ずつの前記ソース出力端子は、それぞれ第1及び第2スイッチを介して1個の正極側ソースアンプと接続され、それぞれ第3及び第4スイッチを介して1個の負極側ソースアンプと接続される、
半導体装置の製造方法。
The semiconductor chip according to any one of claims 7 to 12, wherein the semiconductor chip is a display driver IC.
The plurality of terminals are source output terminals that drive a source electrode of a display panel to be connected,
The semiconductor chip includes a plurality of positive-side source amplifiers and a plurality of negative-side source amplifiers as internal circuits, and a plurality of first, second, third, and fourth switches that can operate as the cutoff switches.
The two adjacent source output terminals are connected to one positive side source amplifier via the first and second switches, respectively, and one negative side source via the third and fourth switches, respectively. Connected to the amplifier,
A method for manufacturing a semiconductor device.
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