JP2015171788A

JP2015171788A - 光学フィルム用転写積層体

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Publication number: JP2015171788A
Application number: JP2014048795A
Authority: JP
Inventors: 貴之嶋田; Takayuki Shimada; 章伸牛山; Akinobu Ushiyama
Original assignee: Dai Nippon Printing Co Ltd
Current assignee: Dai Nippon Printing Co Ltd
Priority date: 2014-03-12
Filing date: 2014-03-12
Publication date: 2015-10-01
Anticipated expiration: 2034-03-12
Also published as: JP6394009B2

Abstract

【課題】光学フィルムを、転写層を有する光学フィルム用転写積層体を用いて作製する際に、支持体基材の剥離不良を抑制し、被転写体に対する転写層の転写不良の発生を防止することができる光学フィルム用転写積層体を提供する。
【解決手段】本発明に係る光学フィルム用転写積層体は、転写層を有する光学フィルム用転写積層体であって、表面に易接着処理がされていないポリエチレンテレフタレートからなる支持体基材１１と、配向膜１２と、位相差層１３とがこの順で積層されてなり、配向膜１２の支持体基材１１との界面における、全反射測定法による波数８１０ｃｍ^−１の赤外線吸収ピークをＰ１、波数１７３０ｃｍ^−１の赤外線吸収ピークをＰ２としたときの比Ｐ１／Ｐ２が０．１５以上である。
【選択図】図２

Description

本発明は、転写層を有する光フィルム用転写積層体に関する。

近年、フラットパネルディスプレイ等に適用される光学フィルムは、位相差層により透過光に所望の位相差を付与して所望する光学特性を確保するものが提供されている（例えば、特許文献１参照）。この種の光学フィルムは、透明フィルム等による基材の表面に配向膜が作製され、この配向膜の配向規制力により液晶材料を配向させた状態で硬化して位相差層が作製される。このような位相差層に適用される液晶材料は、通常、正の波長分散特性を備えているものの、近年、逆分散特性による液晶材料が提案されている（例えば、特許文献２、３参照）。ここで、逆分散特性とは、短波長側ほど透過光における位相差が小さい波長分散特性であり、より具体的に、４５０ｎｍの波長におけるリタデーション（Ｒ４５０）と、５５０ｎｍの波長におけるリタデーション（Ｒ５５０）との関係が、Ｒ４５０＜Ｒ５５０である。

また、画像表示パネルにおいては、Ａプレート、Ｃプレート等を利用して視野角特性、色味等の種々の光学特性を改善する方法が提案されており、例えば特許文献４には、Ａプレート、Ｃプレートを使用したＩＰＳ液晶表示装置の光学補償に係る工夫が提案されている。ここで、光学補償とは、黒表示の際に直線偏光板からの斜め方向の光漏れを低減する構成である。また、Ｃプレートは、ｎｘ＝ｎｙ＜ｎｚ又はｎｘ＝ｎｙ＞ｎｚで表され、ｎｘ＝ｎｙ＜ｎｚは正のＣプレートであり、ｎｘ＝ｎｙ＞ｎｚは負のＣプレートである。また、Ａプレートは、ｎｘ＞ｎｙ＝ｎｚ又はｎｚ＝ｎｘ＞ｎｙで表され、ｎｘ＞ｎｙ＝ｎｚは正のＡプレートであり、ｎｚ＝ｎｘ＞ｎｙは負のＡプレートである。なお、ｎｘ、ｎｙ（ｎｘ≧ｎｙ）は面内方向の屈折率であり、ｎｚは厚さ方向の屈折率である。

これらの光学フィルムのうち、正のＡプレートは、位相差層に適用される正の波長分散特性による液晶材料、逆分散特性による液晶材料を使用して、それぞれ正の波長分散特性、逆分散特性により作製することができる。また、正のＣプレートにおいては、いわゆるＣプレート用の液晶材料による塗工液を塗布して乾燥硬化させることにより作製することができる。また、バーチカル・アライメント（ＶＡ）液晶表示装置等では、垂直配向膜により液晶材料を垂直方向に配向させており、ＶＡ液晶に関する垂直配向膜の工夫が種々提案されている。

さて、このような光学フィルムは、例えば、直線偏光板としての機能を担う直線偏光板等の光学機能層に転写される転写層を有した光学フィルム用転写積層体を用いた転写法により作製される。転写法とは、例えば所定の基材の上に所望とする層を形成する場合に、その所望とする層を直接基材上に形成するのではなく、一旦、離型性の支持体（支持体基材）上に剥離可能にその層を積層形成して転写積層体を作製した後、工程や需要等に応じて、その支持体上に形成した層を、最終的に積層すべき基材（被転写基材）上に接着、積層し、その後、支持体を剥離除去することにより、所定の基材上に所望とする層を形成する方法である。このような転写法によって光学フィルムを作製することにより、全体の厚みが薄い光学フィルムを提供することができると考えられる。なお、転写法により作製された光学フィルムは、例えば特許文献５、特許文献６に記載されている。

しかしながら、上述のように光学フィルムを転写によって作製した場合、転写積層体を被転写体上に転写するに際して、転写積層体が転写されるべき部分の端部で切り離されず、被転写体上の転写積層体の側に余分な転写積層体の部分が残ってしまう、いわゆる泣き別れ（転写不良）が生じることがある。

特開平１０−６８８１６号公報米国特許第８１１９０２６号明細書特表２０１０−５２２８９２号公報特表２００６−５２０００８号公報特開２００５−４９８６５号公報特開２００７−１５６２３４号公報

本発明は、このような実情に鑑みて提案されたものであり、光学フィルムを、転写層を有する光学フィルム用転写積層体を用いて作製する際に、支持体基材の剥離不良を抑制し、被転写体に対する転写層の転写不良の発生を防止することができる光学フィルム用転写積層体を提供することを目的とする。

本発明者は、上述した課題を解決するために鋭意検討を重ねた。その結果、光学フィルム用転写積層体において、支持体基材上に積層する配向膜について全反射測定法により測定した、波数８１０ｃｍ^−１における赤外線吸収ピークをＰ１、波数１７３０ｃｍ^−１における赤外線吸収ピークをＰ２としたときの比Ｐ１／Ｐ２が所定の値以上となるように形成することで、支持体基材の剥離不良を抑制し、転写積層体の転写不良の発生を効果的に抑制できることを見出した。すなわち、本発明は、以下のものを提供する。

（１）本発明は、転写層を有する光学フィルム用転写積層体であって、表面に易接着処理がされていないポリエチレンテレフタレートからなる支持体基材と、配向膜と、位相差層とがこの順で積層されてなり、前記配向膜の前記支持体基材との界面における、全反射測定法による波数８１０ｃｍ^−１の赤外線吸収ピークをＰ１、波数１７３０ｃｍ^−１の赤外線吸収ピークをＰ２としたときの比Ｐ１／Ｐ２が０．１５以上であることを特徴とする光学フィルム用転写積層体である。

（２）また本発明は、（１）の発明において、前記配向膜の厚みが３μｍ以上であり、前記支持体基材を剥離速度３００ｍｍ／ｍｉｎで剥離したときの剥離強度が、１８０ｍＮ／５０ｍｍ以下であることを特徴とする光学フィルム用転写積層体である。

（３）また本発明は、（１）又は（２）の発明において、前記配向膜は、垂直配向膜から構成されることを特徴とする光学フィルム用転写積層体である。

（４）また本発明は、（１）乃至（３）の何れかの発明において、前記転写層が、逆分散延伸フィルムからなる１／４波長分の位相差を付与する光学機能層に転写されることを特徴とする光学フィルム用転写積層体である。

本発明に係る光学フィルム用転写積層体によれば、支持体基材の剥離不良を抑制し、被転写体に対する転写積層体の転写不良の発生を効果的に防止することができる。

光学フィルム用転写積層体の一例を示す断面模式図である。配向膜の膜厚［μｍ］に対する、全反射測定法による波数８１０ｃｍ^−１付近における赤外線吸収ピークＰ１、波数１７３０ｃｍ^−１付近における赤外線吸収ピークＰ２の比「Ｐ１／Ｐ２」との関係を表すグラフ図である。図２にて示した硬化反応率に対応する配向膜の膜厚［μｍ］に対する支持体基材の剥離強度［ｍＮ／５０ｍｍ］（剥離速度３００ｍｍ／ｍｉｎで剥離したときの剥離強度）についての測定結果を示すグラフ図である。光学フィルム用転写積層体の作製工程の流れを示すフロー図である。光学フィルム用転写積層体を用いて転写法により光学フィルムを作製する流れを説明するための図である。

以下、本発明に係る光学フィルム用転写積層体の具体的な実施形態（以下、「本実施の形態」という）について、以下の順で詳細に説明する。なお、本発明は、以下の実施形態に限定されるものではなく、本発明の要旨を変更しない範囲で種々の変更が可能である。
１．光学フィルム用転写積層体の構成
２．配向膜について
３．光学フィルム用転写積層体の製造方法
４．光学フィルム用転写積層体を用いた光学フィルムの製造方法

≪１．光学フィルム用転写積層体の構成≫
図１は、本実施の形態に係る光学フィルム用転写積層体１の一例を模式的に示す断面図である。図１に示すように、光学フィルム用転写積層体１は、ポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）からなる支持体基材１１と、配向膜１２と、位相差層（液晶層）１３とがこの順で積層されてなるものである。

光学フィルム用転写積層体１は、例えば、直線偏光板の光学機能層や、逆分散延伸フィルム等からなる、透過光に１／４波長分の位相差を付与する光学機能層などに転写される転写層、すなわち位相差層１３と、配向膜１２とを含む転写層を有する光学フィルム用転写積層体である。この光学フィルム用転写積層体１では、例えば、位相差層１３上に逆分散延伸フィルム等の高分子フィルムを粘着剤を介して貼合することで転写層を転写し、さらに直線偏光板を貼合させることによって、所定の光学フィルムを作製することができる。このとき、その光学フィルムの作製に際しては、光学フィルム用転写積層体１に逆分散延伸フィルム等の基材に転写層を転写した後に、離型性を有する支持体基材１１のみが剥離される。

本実施の形態に係る光学フィルム用転写積層体１では、支持体基材１１上に積層される配向膜１２について、その配向膜１２の支持体基材１１との界面における、全反射測定法による波数８１０ｃｍ^−１付近での赤外線吸収ピークをＰ１、波数１７３０ｃｍ^−１付近での赤外線吸収ピークをＰ２としたときの比「Ｐ１／Ｐ２」が０．１５以上であることを特徴としている。

ここで、配向膜１２の支持体基材１１との界面において、全反射測定法により赤外線スペクトル測定したとき、波数８１０ｃｍ^−１付近における赤外線吸収ピーク（Ｐ１）は、紫外線照射による反応で消失する炭素−炭素二重結合（Ｃ＝Ｃ）のピークを示す。また、波数１７３０ｃｍ^−１付近における赤外線吸収ピーク（Ｐ２）は、紫外線照射による反応で消失しないエステル結合のピークを示す。したがって、これらのピークＰ１、Ｐ２における比「Ｐ１／Ｐ２」は、配向膜の硬化反応率、つまり配向膜における硬化度合いに相当するものとして表すことができる。

そして、光学フィルム用転写積層体１では、そのＰ１、Ｐ２の比「Ｐ１／Ｐ２」が０．１５以上であり、このような光学フィルム用転写積層体１によれば、支持体基材１１の剥離強度を弱めることができるようになる。これにより、支持体基材１１の剥離不良を効果的に抑制でき、被転写体に対する転写積層体の転写不良の発生を防止することができる。

＜１−１．支持体基材＞
支持体基材１１は、配向膜１２を支持する機能を有し、長尺に形成された、ポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）からなるフィルム材である。

この支持体基材１１は、光学フィルム用転写積層体１において離型性支持体として機能し、転写層をなす配向膜１２及び位相差層１３を支持するものであるとともに、その表面にコロナ放電処理やプラズマ処理等の公知の易接着処理がなされておらず、配向膜１２に対して剥離可能な程度の接着力を有するものである。

支持体基材１１の厚みとしては、特に限定されないが、例えば２０μｍ〜２００μｍの範囲内とすることが好ましい。支持体基材１１の厚さが２０μｍ未満であると、光学フィルム用転写積層体として最低限必要な自己支持性を付与できない場合があり好ましくない。一方で、厚さが２００μｍを超えると、光学フィルム用転写積層体が長尺状である場合に、長尺状の光学フィルム用転写積層体を裁断加工して枚葉の光学フィルム用転写積層体とするにあたって、加工屑が増加したり、裁断刃の磨耗が早くなってしまうことがあり好ましくない。

＜１−２．配向膜＞
配向膜１２は、上述した支持体基材１１上に配向膜用組成物（配向膜組成物）を塗工して硬化させることによって得られ、配向規制力を発現する。ここで、配向規制力とは、配向膜１２上に重合性液晶化合物（液晶材料）からなる層（位相差層１３）を形成したとき、その液晶化合物を所定の方向に配列（配向）させる機能をいう。

配向膜１２は、紫外線硬化性樹脂を主原料として含有する材料により構成されている。また、配向膜１２は、特に限定されるものではないが、例えば、位相差層１３における液晶化合物の分子の分子軸をホメオトロピック配向（垂直配向）させる垂直配向膜により構成することができる。

配向膜１２を構成する紫外線硬化性樹脂としては、紫外線の照射により硬化させることができるものであれば特に限定されないが、例えば、アクリレート系、メタクリレート系等の単量体、プレポリマー、或いはこれらの混合物にアセトフェノン、ベンゾフェノン、芳香族ヨードニウム等の光重合開始剤を添加したものを用いることができる。より具体的には、ペンタエリスリトール多官能アクリレート、ジペンタエリスリトール多官能アクリレート、ペンタエリスリトール多官能メタクリレート、ジペンタエリスリトール多官能メタクリレート等の一般的に使用される樹脂を用いることができ、或いはこれらに光重合開始剤を混合させたものを用いることができる。

配向膜組成物中に用いる溶媒（希釈溶媒）としては、配向材料を所望の濃度に溶解できるものであれば特に限定されるものでなく、例えば、ベンゼン、ヘキサン等の炭化水素系溶媒、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、シクロヘキサノン（ＣＨＮ）等のケトン系溶媒、テトラヒドロフラン、１，２−ジメトキシエタン、プロピレングリコールモノエチルエーテル（ＰＧＭＥ）等のエーテル系溶媒、クロロホルム、ジクロロメタン等のハロゲン化アルキル系溶媒、酢酸メチル、酢酸エチル、酢酸ブチル、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート（ＰＧＭＥＡ）等のエステル系溶媒、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド等のアミド系溶媒、ジメチルスルホキシド等のスルホキシド系溶媒、シクロヘキサン等のアノン系溶媒、メタノール、エタノール、イソプロピルアルコール等のアルコール系溶媒を例示することができる。また、溶媒は、１種類であってもよいし、２種類以上の溶媒の混合溶媒であってもよい。

このような、垂直配向膜等からなる配向膜１２は、上述したような材料を含有する配向膜組成物による塗工液を支持体基材１１に塗布して乾燥し、紫外線を照射して硬化させることで作製される。このようにして作製された硬化物により配向膜１２が構成される。

ここで、本実施の形態に係る光学フィルム用転写積層体１においては、その配向膜１２について、配向膜１２の支持体基材１１との界面における、全反射測定法による波数８１０ｃｍ^−１での赤外線吸収ピークをＰ１、波数１７３０ｃｍ^−１での赤外線吸収ピークをＰ２としたときの比「Ｐ１／Ｐ２」が０．１５以上であることを特徴としている。詳しくは後述するように、このような配向膜１２を有する光学フィルム用転写積層体１によれば、支持体基材１１の剥離強度を弱めることができるようになり、転写に際して、支持体基材１１の剥離不良を効果的に抑制することができ、被転写体に対する転写積層体の転写不良の発生を防止することができる。

＜１−３．位相差層（液晶層）＞
位相差層（液晶層）１３は、重合性液晶組成物を含有する。この重合性液晶組成物は、液晶性を示し分子内に重合性官能基を有する液晶化合物（棒状化合物）を含有する。

液晶化合物は、屈折率異方性を有し、規則的に配列することにより所望の位相差性を付与する機能を有する。液晶化合物としては、例えば、ネマチック相、スメクチック相等の液晶相を示す材料が挙げられるが、他の液晶相を示す液晶化合物と比較して規則的に配列させることが容易である点で、ネマチック相の液晶性を示す材料を用いることが好ましい。ネマチック相を示す液晶化合物としては、メソゲン両端にスペーサを有する材料であることが好ましい。メソゲン両端にスペーサを有する液晶化合物は、柔軟性に優れるため、位相差フィルム１を透明性に優れたものにすることができる。

また、上述した配向膜１２を垂直配向膜からなるものとし、液晶化合物をホメオトロピック配向させる場合には、ホメオトロピック配向を形成することができるホメオトロピック液晶材料であれば特に限定されない。なお、ホメオトロピック液晶材料としては、垂直配向膜を使用することなく、ホメオトロピック配向を形成できるものと、垂直配向膜を使用することによりホメオトロピック配向を形成できるものとを挙げることができるが、本実施の形態においては、どちらであっても好適に用いることができる。

液晶化合物は、上述したように分子内に重合性官能基を有する重合性液晶化合物である。重合性官能基を有することにより、液晶化合物を重合して固定することが可能になるため、配列安定性に優れ、位相差性の経時変化が生じにくくなる。また、重合性液晶化合物は、分子内に三次元架橋可能な重合性官能基を有することがより好ましい。三次元架橋可能な重合性官能基を有することで、配列安定性をより一層高めることができる。なお、「三次元架橋」とは、液晶性分子を互いに三次元に重合して、網目（ネットワーク）構造の状態にすることをいう。

重合性官能基としては、例えば、紫外線、電子線等の電離放射線、あるいは熱の作用によって重合するものを挙げることができる。これら重合性官能基としては、ラジカル重合性官能基、カチオン重合性官能基等が挙げられる。ラジカル重合性官能基の代表例としては、少なくとも１つの付加重合可能なエチレン性不飽和二重結合を持つ官能基が挙げられ、例えば、置換基を有する若しくは有さないビニル基、アクリレート基（アクリロイル基、メタクリロイル基、アクリロイルオキシ基、メタクリロイルオキシ基を包含する総称）等が挙げられる。また、カチオン重合性官能基の具体例としては、エポキシ基等が挙げられる。その他、重合性官能基としては、イソシアネート基、不飽和３重結合等が挙げられる。その中でも、プロセス上の点から、エチレン性不飽和二重結合を持つ官能基が好適に用いられる。

重合性液晶化合物の量としては、配向膜１２上に塗工する塗工方法に応じて、位相差層形成用塗工液（液晶組成物）の粘度を所望の値に調整できるものであれば特に限定されないが、例えば、液晶組成物中の量として５〜４０質量部程度の範囲内とすることができる。なお、重合性液晶化合物は、１種単独で又は２種以上を混合して用いることができる。

上述した液晶化合物は、通常、溶媒（希釈溶媒）に溶かされている。溶媒としては、液晶化合物等を均一に分散できるものであれば特に限定されるものではなく、例えば、ベンゼン、ヘキサン等の炭化水素系溶媒、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、シクロヘキサノン（ＣＨＮ）等のケトン系溶媒、テトラヒドロフラン、１，２−ジメトキシエタン、プロピレングリコールモノエチルエーテル（ＰＧＭＥ）等のエーテル系溶媒、クロロホルム、ジクロロメタン等のハロゲン化アルキル系溶媒、酢酸メチル、酢酸エチル、酢酸ブチル、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート（ＰＧＭＥＡ）等のエステル系溶媒、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド等のアミド系溶媒、ジメチルスルホキシド等のスルホキシド系溶媒、シクロヘキサン等のアノン系溶媒、メタノール、エタノール、イソプロピルアルコール等のアルコール系溶媒を例示することができるが、これらに限られるものではない。また、溶媒は、１種類であってもよく、２種類以上の溶媒の混合溶媒であってもよい。

溶媒の量としては、特に限定されるものではなく、例えば液晶化合物１００質量部に対して６６〜９００質量部程度とすることができる。溶媒の量が６６質量部未満であると、液晶化合物を均一に溶かすことができない可能性があり好ましくない。一方で、９００質量部を超えると、溶媒の一部が残存し、信頼性が低下する可能性、及び均一に塗工できない可能性があり好ましくない。

その他、液晶組成物には、上述した液晶化合物の配列秩序を害するものでなければ、必要に応じて他の化合物を含んでもよい。例えば、重合禁止剤、可塑剤、界面活性剤、及びシランカップリング剤等を挙げることができる。

上述したような液晶組成物を配向膜１２上に塗工して形成される位相差層１３の厚さとしては、特に限定されるものでないが、適切な配向性能を得るためには、５００〜２０００ｎｍ程度であることが好ましい。

≪２．配向膜について≫
上述したように、本実施の形態に係る光学フィルム用転写積層体１においては、その配向膜１２が、その配向膜１２の支持体基材１１との界面における、全反射測定法による波数８１０ｃｍ^−１付近での赤外線吸収ピークをＰ１、波数１７３０ｃｍ^−１付近での赤外線吸収ピークをＰ２としたときの比「Ｐ１／Ｐ２」が０．１５以上となるように形成されていることを特徴としている。

配向膜１２の支持体基材１１との界面において赤外線スペクトル測定したとき、波数８１０ｃｍ^−１付近における赤外線吸収ピーク（Ｐ１）は、紫外線照射による反応で消失する炭素−炭素二重結合（Ｃ＝Ｃ）のピークを示す。また、波数１７３０ｃｍ^−１付近における赤外線吸収ピーク（Ｐ２）は、紫外線照射による反応で消失しないエステル結合のピークを示す。

したがって、これらのピークＰ１、Ｐ２による比「Ｐ１／Ｐ２」は、配向膜の硬化反応率、つまり配向膜における硬化度合いに相当するものとなる。具体的には、比「Ｐ１／Ｐ２」の値が小さいほど、配向膜１２の支持体基材１１との界面における硬化反応率が高く硬化度合いが大きい（硬化が進んでいる）ことを示し、一方で、比「Ｐ１／Ｐ２」の値が大きいほど、配向膜１２の支持体基材１１との界面における硬化反応率が低く硬化度合いが小さい（硬化が進んでいない、未硬化な状態が存在する）ことを示す。

ここで、図２は、配向膜の膜厚［μｍ］に対する、上述したピークＰ１、Ｐ２の比「Ｐ１／Ｐ２」との関係を表すグラフ図である。すなわち、配向膜における硬化反応率の膜厚（配向膜厚）依存性についてのグラフである。なお、この図２のグラフ図に示す関係は、配向膜の支持体基材との界面に対して、赤外線分光装置（日本分光株式会社製、ＦＴ−ＩＲ（６１０））を使用して全反射測定法（ＡＴＲ法）によりＩＲ測定したときの結果に基づくものである。

この図２に示すように、配向膜の膜厚が厚くなるほど、配向膜の支持体基材との界面における、硬化反応率に相当する比「Ｐ１／Ｐ２」の値が大きくなっていることが分かる。つまり、配向膜の膜厚が厚くなるほど、配向膜の支持体基材との界面において、硬化が進行しておらず未硬化な状態を含んでいることが分かる。

そして、本実施の形態に係る光学フィルム用転写積層体１では、そのＰ１、Ｐ２の比「Ｐ１／Ｐ２」が０．１５以上である。このように、光学フィルム用転写積層体１では、配向膜の支持体基材１１との界面における比「Ｐ１／Ｐ２」で表される配向膜１２の硬化反応率が０．１５以上であることで、その界面に未硬化な状態が含まれるようになると考えられる。すると、このことにより、その配向膜１２と支持体基材１１との密着性が低下し、支持体基材１１の剥離強度を効果的に弱めることができるようになる。そして、これにより、支持体基材１１の剥離不良を効果的に抑制することができ、被転写体に対する転写積層体の転写不良を防止することができる。

具体的に、図３に、図２にて示した硬化反応率に対応する配向膜の膜厚［μｍ］に対する支持体基材１１の剥離強度［ｍＮ／５０ｍｍ］（剥離速度３００ｍｍ／ｍｉｎで剥離したときの剥離強度）についての測定結果を示す。なお、この図３に示す結果は、幅５０ｍｍのサンプルを用い、株式会社エーアンドデイ製のテンシロン（ＲＴＧ−１３１０）を使用して支持体基材の剥離強度を測定したときの結果である。

この図３の結果に示されるように、配向膜の膜厚が厚くなるほど、すなわち、配向膜の支持体基材との界面における硬化反応率の値が大きくなるほど、支持体基材の剥離強度が有効に弱められることが明確に分かる。より具体的には、例えば、上述した比「Ｐ１／Ｐ２」の値がおよそ０．２以上となる、配向膜の膜厚３μｍ以上（図２を参照）では、支持体基材を剥離速度３００ｍｍ／ｍｉｎで剥離したときの剥離強度が１８０ｍＮ／５０ｍｍ以下となる。

≪３．光学フィルム用転写積層体の製造方法≫
次に、光学フィルム用転写積層体の製造方法について説明する。図４は、光学フィルム用転写積層体１の製造工程の流れを示すフロー図である。なお、以下の製造方法の説明では、配向膜１２が垂直配向膜により構成される場合を例に挙げて説明するが、これに限られない。

図４に示すように、光学フィルム用転写積層体１の製造においては、先ず、ロールに巻き取った長尺フィルムからＰＥＴフィルムからなる支持体基材１１が提供される（Ｓ１）。

次に、配向膜形成工程（Ｓ２）において、ロールから繰り出した支持体基材１１上に垂直配向膜の塗工液（配向膜組成物）を塗工し、紫外線照射により硬化させる処理を施す。これにより支持体基材１１上に垂直配向膜を作製し、配向膜１２を形成する。

このとき、本実施の形態においては、配向膜１２の支持体基材１１との界面における、全反射測定法による波数８１０ｃｍ^−１の赤外線吸収ピークをＰ１、波数１７３０ｃｍ^−１の赤外線吸収ピークをＰ２としたときの比Ｐ１／Ｐ２が０．１５以上となる膜厚となるように支持体基材１１上に塗工液を塗工し、配向膜１２を形成する。

次に、位相差層形成工程（Ｓ３）において、液晶化合物を含有する液晶組成物の塗工液（位相差層形成用塗工液）を、配向膜１２上に塗工する。その後、乾燥させて紫外線等の照射により硬化させることによって、位相差層（液晶層）１３を形成する。なお、紫外線照射処理に先立ち、位相差層１３の層厚を均一にするためのレベリング処理を施すようにしてもよい。

ここで、本実施の形態においては、上述したように、配向膜１２の支持体基材１１との界面における、波数８１０ｃｍ^−１での赤外線吸収ピークをＰ１、波数１７３０ｃｍ^−１での赤外線吸収ピークをＰ２としたときの比Ｐ１／Ｐ２で表される硬化反応率が０．１５以上となるように配向膜１２を形成している。このような配向膜１２においては、支持体基材１１とその配向膜１２との界面における剥離強度を有効に弱めることができるようになる。これにより、支持体基材１１の剥離不良を効果的に抑制することができ、被転写体に対する転写積層体の転写不良を防止することができる。

このようにして、支持体基材１１／配向膜１２／位相差層１３がこの順で積層されてなる積層体フィルムを製造し、得られたフィルムを巻き取りリール等で巻き取った後、所望の大きさに切り出す切断処理を行う。このような工程を経て、光学フィルム用転写積層体１が作製される。

なお、支持体基材１１上への配向膜組成物の塗工方法や、配向膜１２上への位相差層形成用塗工液の塗工方法としては、特に限定されるものではなく、例えば、ダイコート法、グラビアコート法、リバースコート法、ナイフコート法、ディップコート法、スプレーコート法、エアーナイフコート法、スピンコート法、ロールコート法、プリント法、浸漬引き上げ法、カーテンコート法、キャスティング法、バーコート法、エクストルージョンコート法、Ｅ型塗布方法等を用いることができる。

≪４．光学フィルム用転写積層体を用いた光学フィルムの作製方法≫
次に、上述した光学フィルム用転写積層体を用いて転写法により光学フィルムを作製する方法について説明する。図５は、本実施の形態に係る光学フィルム用転写積層体１を用いて、逆分散延伸フィルムからなる、透過光に１／４波長分の位相差を付与する光学機能層に光学フィルム用転写積層体１の転写層を転写して光学フィルムを作製する際の工程の流れを示す図である。なお、この図５は、フィルムの断面を示す図であり、各工程におけるフィルムの層構造について示しながら工程の流れを示す図である。また、フィルムの層構造についてはこれに限定されない。

先ず、図５（ａ）に示すように、ＰＥＴフィルムからなる支持体基材１１（離型性基材）上に、例えば垂直配向膜からなる配向膜１２を形成し、その配向膜１２上に液晶組成物を含有する位相差層形成用塗工液を塗工して位相差層（液相層）１３を形成し、光学フィルム用転写積層体１を作製する。ここで、上述したように、この光学フィルム用転写積層体１の作製においては、配向膜１２の支持体基材１１との界面における、全反射測定法による波数８１０ｃｍ^−１の赤外線吸収ピークをＰ１、波数１７３０ｃｍ^−１の赤外線吸収ピークをＰ２としたときの比Ｐ１／Ｐ２が０．１５以上となるように配向膜１２が構成されている。

次に、図５（ｂ）に示すように、作製した光学フィルム用転写積層体１の位相差層１３上に、例えばＵＶ接着剤等を含有する接着層２１を形成し、その接着層２１上に高分子フィルム（保護フィルム）２２を形成して、光学フィルム用転写積層体１を転写する。

接着層２１としては、紫外線硬化性樹脂、熱硬化性樹脂、感圧接着剤等、各種の接着剤を広く適用することができるが、その中でも、全体の厚みを薄くする観点から紫外線（ＵＶ）硬化性樹脂を適用してＵＶ接着層とすることが好ましく、この場合には、厚み１μｍ程度の接着層を作製することができる。なお、接着層２１には粘着層を適用してもよい。

また、高分子フィルムとしては、特に限定されないが、例えば逆分散特性を備えた延伸フィルム（以下、「逆分散延伸フィルム２２」ともいう）を用いることができる。この逆分散延伸フィルム２２は、１軸方向に延伸、若しくは所望の方向に斜め延伸した、例えばＣＯＰ（シクロオレフィンポリマー）フィルムで形成されており、遅相軸が、直線偏光板の吸収軸に対して反時計回りにθ２度の角度をなすように配置され、透過光に１／４波長分の位相差を付与する１／４波長板用位相差層としての役割を担う。このような逆分散延伸フィルム２２を用いることにより、例えば、基材、１／４波長板用樹脂層、１／４波長板用配向膜の構成を省略することができので、光学フィルムの全体の層厚みを薄くすることができる。

逆分散延伸フィルム等の高分子フィルム２２を光学フィルム用転写積層体１に積層させて転写すると、次に、図５（ｃ）に示すように、光学フィルム用転写積層体１の支持体基材１１を剥離する。光学フィルム用転写積層体１は、このように他の基材（高分子フィルム等）に転写層（位相差層１３、配向膜１２）を転写するために、離型性支持体としての役割を担う支持体基材１１が剥離される。なお、支持体基材１１の剥離は、後述する直線偏光板を積層させた後に行うようにしてもよい。

そして、光学フィルム用転写積層体１の支持体基材１１を剥離すると、次に、図５（ｄ）に示すように、粘着剤層３１を備えた直線偏光板を積層する。

直線偏光板としては、ＴＡＣ（トリアセチルセルロース）等の透明フィルムからなる基材３４の下面側が鹸化処理された後、光学機能層が配置される。なお、基材３４は、ポリ（メタ）アクリル酸メチル、ポリ（メタ）アクリル酸ブチル、（メタ）アクリル酸メチル−（メタ）アクリル酸ブチル共重合体、（メタ）アクリル酸メチル−スチレン共重合体等のアクリル樹脂等の樹脂、ソーダ硝子、カリ硝子、鉛硝子、石英硝子等の硝子等を適用することもできる。

光学機能層は、直線偏光板としての光学的機能を担う部位であり、例えば、偏光子３３と、アクリル樹脂等からなる透明の保護フィルム（基材）３２とが順に積層されたものを用いることができる。このような直線偏光板を、粘着剤層３１を介して逆分散延伸フィルム等の高分子フィルム２２に貼り合わせる。

以上のような工程に基づき、光学フィルム用転写積層体１を用いて転写法により光学フィルムを作製することができる。特に、本実施の形態においては、光学フィルム用転写積層体１の配向膜１２を、上述のように例えば膜厚等を制御して構成させていることにより、その配向膜１２と支持体基材１１との界面における剥離強度を有効に弱めることができる。これにより、支持体基材１１の剥離不良を効果的に抑制することができ、被転写体に対する転写積層体の転写不良を防止することができ、生産性を高めることができる。

なお、上述したように、光学フィルム用転写積層体１において垂直配向膜からなる配向膜１２を有するものとし、その光学フィルム用転写積層体１の位相差層１３上に接着層２１を介して逆分散延伸フィルム２２を積層させ、その逆分散延伸フィルム２２上に、透明フィルムからなる基材３２，３４により挟持された偏光子３３を備える直線偏光板を設けることで、簡易に、且つ高い生産性でもって、逆分散特性による正のＣプレートを備えた光学フィルムを得ることができる。

１光学フィルム用転写積層体
１１支持体基材
１２配向膜
１３位相差層（液晶層）

Claims

転写層を有する光学フィルム用転写積層体であって、
表面に易接着処理がされていないポリエチレンテレフタレートからなる支持体基材と、配向膜と、位相差層とがこの順で積層されてなり、
前記配向膜の前記支持体基材との界面における、全反射測定法による波数８１０ｃｍ^−１の赤外線吸収ピークをＰ１、波数１７３０ｃｍ^−１の赤外線吸収ピークをＰ２としたときの比Ｐ１／Ｐ２が０．１５以上であることを特徴とする光学フィルム用転写積層体。
前記配向膜の厚みが３μｍ以上であり、
前記支持体基材を剥離速度３００ｍｍ／ｍｉｎで剥離したときの剥離強度が、１８０ｍＮ／５０ｍｍ以下であることを特徴とする請求項１に記載の光学フィルム用転写積層体。
前記配向膜は、垂直配向膜から構成されることを特徴とする請求項１又は２に記載の光学フィルム用転写積層体。
前記転写層が、逆分散延伸フィルムからなる１／４波長分の位相差を付与する光学機能層に転写されることを特徴とする請求項１乃至３の何れか１項に記載の光学フィルム用転写積層体。