JP2015168601A - Glass substrate, touch panel sensor substrate, and image display device with coordinate detection function - Google Patents

Glass substrate, touch panel sensor substrate, and image display device with coordinate detection function Download PDF

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保浩 檜林
Yasuhiro Hinokibayashi
保浩 檜林
了嗣 加藤
Akitsugu Katou
了嗣 加藤
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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a glass substrate excellent in impact resistance without reducing productivity, a cover glass-integrated touch panel sensor substrate using the glass substrate, and an image display device with a coordinate detection function, which mounts the touch panel sensor substrate.SOLUTION: A transparent glass substrate 1 has a chemically reinforced layer 2 on top and back surfaces, and a DLC film 3 formed at an end cross section of the substrate. The touch panel sensor substrate includes a display region having transparent electrodes in at least an X-axis direction and a Y-axis direction, and a decorative frame region for blocking light in an outer periphery of the display region, both formed on one surface of the glass substrate 1.

Description

本発明は、電子機器用カバーガラスのガラス基板、電子機器用画像表示装置、電子機器、および電子機器用カバーガラスのガラス基板の強化方法に関するものである。   The present invention relates to a glass substrate for a cover glass for an electronic device, an image display device for an electronic device, an electronic device, and a method for strengthening the glass substrate for the cover glass for an electronic device.

近年、携帯電話機や、携帯情報端末などの電子機器の操作部にはタッチパネルが採用されている。位置検出を行うタッチパネルセンサーには、フィルムタイプとガラスタイプがある。フィルムタイプには、軽量・割れにくい、製造コストが安い、柔軟性があるので他の表示装置やカバーガラスと貼り合せる際に気泡を除去し易く貼り合せ易いというメリットがあるものの、フィルムの光透過率がガラスに比べて低いことや、フィルム上に形成された配線パターンの位置精度がガラスに比べて劣るので、配線を覆う額縁部が大きくなり、表示エリアが狭くなるという問題、表面の平滑性の差により、ガラスタイプより見栄えが悪いという問題がある。そのため、高精細で低消費電力が要求されるスマートフォンやタブレットコンピュータ等の携帯端末等の小型品では、ガラスタイプが多く使用されている。(特許文献1参照)   In recent years, a touch panel has been adopted as an operation unit of an electronic device such as a mobile phone or a portable information terminal. Touch panel sensors that perform position detection include a film type and a glass type. The film type is lightweight, hard to break, inexpensive to manufacture, and flexible, so it has the merit that it is easy to remove bubbles when bonding with other display devices and cover glass, but the light transmission of the film The rate is low compared to glass, and the position accuracy of the wiring pattern formed on the film is inferior to glass, so the frame area covering the wiring becomes large and the display area becomes narrow, the surface smoothness Due to the difference, there is a problem that it looks worse than the glass type. Therefore, many glass types are used in small products such as mobile terminals such as smartphones and tablet computers that require high definition and low power consumption. (See Patent Document 1)

携帯電話などで使用されているタッチパネルセンサーは、一般的に大型ガラス基板上に額縁部、金属配線、X方向用及びY方向用の2層の透明電極、2層の透明電極間の層間絶縁層、表面の保護層が多面付けで形成された後、1ピースごとの個片基板に断裁されている。なおタッチパネルセンサーには周辺部の配線などを隠すための遮光性の高い材料からなる額縁部が形成される。この額縁部には、機器のデザインに応じて様々な色や模様を施すことができる。白や黒色などの色や模様を施した額縁部を形成することが一般的である。   Touch panel sensors used in cellular phones, etc. are generally a frame portion, metal wiring, two layers of transparent electrodes for X and Y directions, and an interlayer insulation layer between two layers of transparent electrodes on a large glass substrate. After the protective layer on the surface is formed by multiple imposition, it is cut into individual substrates for each piece. Note that the touch panel sensor is formed with a frame portion made of a highly light-shielding material for hiding surrounding wiring and the like. Various colors and patterns can be applied to the frame portion according to the design of the device. It is common to form a frame with a color or pattern such as white or black.

しかしながら、これらの方法で額縁部を形成しても断裁時に額縁部の外周部を断裁する場合や、断裁により額縁部のハガレが発生し、バックライトからの光漏れが発生する。そのため、断裁後の個片基板に遮光性を有するインキで遮光層を再度形成している。個片に断裁されたタッチパネルセンサーは、破損防止のためのカバーガラスと、透明粘着シート(Optical Clear Adhesive;OCA)等を介して貼り合わせて使用するのが一般的である。なおカバーガラスには、デザイン性や周辺部の配線などを隠すために遮光性の高い材料からなる額縁部6が形成することができる。   However, even if the frame portion is formed by these methods, the outer peripheral portion of the frame portion is cut at the time of cutting, or the frame portion is peeled off by cutting, and light leakage from the backlight occurs. Therefore, the light shielding layer is formed again on the individual substrates after cutting with ink having light shielding properties. The touch panel sensor cut into individual pieces is generally used by being bonded through a cover glass for preventing breakage, a transparent adhesive sheet (OCA), or the like. In addition, the frame part 6 which consists of material with high light-shielding property can be formed in a cover glass, in order to hide design property, the wiring of a peripheral part, etc.

カバーガラスはタッチパネルセンサーの最表面に配置される前面板であり、SiOと、Alと、LiOおよびNaOから選択される少なくとも1種類のアルカリ金属酸化物を含むアルミノシリケートガラスを強化処理したものが一般的に用いられる。 The cover glass is a front plate disposed on the outermost surface of the touch panel sensor, and an aluminosilicate containing at least one alkali metal oxide selected from SiO 2 , Al 2 O 3 , Li 2 O and Na 2 O. Glass that is tempered is generally used.

ガラスの強化処理には、ガラス表面を軟化点付近まで加熱した後に急冷する物理強化(風冷強化)とガラス内部のアルカリイオンをより粒径の大きいアルカリイオンに交換する化学強化とがあるが、携帯電話に使用される1mm以下の薄板では表面と内部の温度差がつきにくいために物理強化は不適であり、化学強化が一般的に利用されている。   The glass strengthening treatment includes physical strengthening (air cooling strengthening) that rapidly cools after heating the glass surface to near the softening point and chemical strengthening that replaces alkali ions inside the glass with alkali ions having a larger particle size. A thin plate of 1 mm or less used for a cellular phone is not suitable for physical strengthening because the temperature difference between the surface and the inside is difficult to be applied, and chemical strengthening is generally used.

ガラスの化学強化は、ガラス転移点以下の溶融塩にガラスを浸漬することにより、ガラス内部のアルカリイオンをよりイオン半径の大きなアルカリイオンと交換することにより、イオン半径の違いで圧縮応力をガラス表面に発生させる方法である。ガラス表面に圧縮応力を発生させることにより、ガラス表面に発生したキズに引っ張り応力が集中することを防ぐためにガラスの強度が向上する。   The chemical strengthening of glass involves immersing the glass in a molten salt below the glass transition point, and replacing the alkali ions inside the glass with alkali ions having a larger ionic radius, thereby reducing the compressive stress due to the difference in ionic radius. It is a method to generate. By generating compressive stress on the glass surface, the strength of the glass is improved in order to prevent tensile stress from concentrating on the scratches generated on the glass surface.

しかしながら化学強化されたガラスは、断裁の際に強度から断裁しにくいこと、及び大きな圧縮応力に起因して不規則に割れてしまうために断裁が困難であるという問題点がある。そのため、強化処理前の大型ガラス基板を小型のガラス基板に切断した後、強化処理を行ない、焼成後、小型の強化ガラス基板を得るという方法が提案されている(特許文献2)。   However, chemically tempered glass has problems that it is difficult to cut due to strength during cutting, and that it is difficult to cut because it breaks irregularly due to a large compressive stress. For this reason, a method has been proposed in which a large glass substrate before the tempering treatment is cut into a small glass substrate, followed by a tempering treatment, and after firing, a small tempered glass substrate is obtained (Patent Document 2).

近年、薄膜・軽量化のためにカバーガラス自体にタッチパネルセンサーを形成する所謂カバーガラス一体型タッチパネルが広がりつつある。しかしながらカバーガラス一体型タッチパネルにおいて、強化ガラスを用いたカバーガラスを断裁する必要があるために歩留りが低下するという問題がある。   In recent years, so-called cover glass integrated touch panels in which a touch panel sensor is formed on the cover glass itself to reduce the thickness and weight have been spreading. However, in the cover glass integrated touch panel, there is a problem in that the yield decreases because it is necessary to cut the cover glass using tempered glass.

また、特許文献2に記載の方法を用いても、額縁部や配線材料などが強化処理液(溶融塩)に対する耐薬品性及び約300℃以上の耐熱性が必要となるため、カバーガラス一体型タッチパネルへの適用は困難である。そのため、カバーガラスを断裁、化学強化後に額縁部や配線材料を形成する方法も提案されているが、個片基板上にタッチパネルセンサーを形成するための新規の設備投資が必要であることや生産性が低下する問題がある。   Further, even if the method described in Patent Document 2 is used, the frame portion and the wiring material and the like need to have chemical resistance against the tempering treatment liquid (molten salt) and heat resistance of about 300 ° C. or more. It is difficult to apply to a touch panel. For this reason, a method of cutting the cover glass and forming the frame part and wiring material after chemical strengthening has also been proposed. However, it is necessary to invest in new equipment to form a touch panel sensor on an individual substrate and productivity. There is a problem that decreases.

また、別の対策としてフッ酸を含む1種以上の混合液で大型強化ガラスをエッチングによって切断することが提案されている。エッチングで断裁することで切断時の破損やカレットが生じることはない。しかし、化学強化されているのはガラスの表裏のみのため、切断後の個片基板の端面が化学強化されていない。そのため切断後の個片基板の端面は、ガラス強度が低いため端面を基点にガラス破損が生じてしまう。(特許文献3、4参照)   As another countermeasure, it has been proposed to cut large tempered glass by etching with one or more mixed liquids containing hydrofluoric acid. Cutting by etching does not cause breakage or cullet at the time of cutting. However, since only the front and back surfaces of the glass are chemically strengthened, the end surfaces of the individual substrates after cutting are not chemically strengthened. Therefore, the end face of the individual substrate after cutting has a low glass strength, and thus glass breakage occurs with the end face as a base point. (See Patent Documents 3 and 4)

特許文献6には、ガラス端面にポリシラザンを含む保護膜を形成することにより緻密なシリカ層を形成してガラス強度を向上させる提案がなされている。しかし、ガラス端部への傷が入ってしまえば強度低下を引き起こす状況に変わりなく、ガラス端面への衝撃や加傷に対する保護膜としては不十分であった。   In Patent Document 6, a proposal is made to improve the glass strength by forming a dense silica layer by forming a protective film containing polysilazane on the glass end face. However, if the glass edge is damaged, it does not change to a situation that causes a decrease in strength, and is insufficient as a protective film against impact and damage to the glass edge.

特開2009−69321号公報JP 2009-69321 A 特開2011−164508号公報JP 2011-164508 A 特開2012−236764号公報JP 2012-236664 A 特開2006−282492号公報JP 2006-282492 A 特開2012−148957号公報JP 2012-148957 A 特開平11−322367号公報JP-A-11-322367

本発明の目的は、生産性を低下させること無く耐衝撃性に優れたガラス基板及びそれを用いたカバーガラス一体型タッチパネルセンサー基板、さらにはそれを搭載した座標検出機能付き画像表示装置を提供することである。   An object of the present invention is to provide a glass substrate excellent in impact resistance without lowering productivity, a cover glass integrated touch panel sensor substrate using the same, and an image display device with a coordinate detection function mounted thereon. That is.

本発明は、上記事情に鑑みてなされたものであり、請求項1に係る発明は、透明な表裏に化学強化処理層を有し、且つ、その端部断面にDLC膜が形成されて成ることを特徴とするガラス基板である。   This invention is made | formed in view of the said situation, and the invention which concerns on Claim 1 has a chemical strengthening process layer in the transparent front and back, and a DLC film is formed in the edge part cross section. It is the glass substrate characterized by these.

請求項2に係る発明は、請求項1に記載のガラス基板の一方の面に、少なくともX軸方
向及びY軸方向の透明電極を有する表示領域と、前記表示領域の外周を遮光する加飾額縁領域とが形成されていることを特徴とするタッチパネルセンサー基板である。
The invention according to claim 2 is a display area having transparent electrodes in at least the X-axis direction and the Y-axis direction on one surface of the glass substrate according to claim 1, and a decorative frame that shields the outer periphery of the display area. An area is formed on the touch panel sensor substrate.

請求項3に係る発明は、透明基板の一方の面に、少なくともX軸方向及びY軸方向の透明電極を有する表示領域と、前記表示領域の外周を遮光する加飾額縁領域とを形成し、さらにその上に請求項1に記載のガラス基板を積層したことを特徴とするタッチパネルセンサー基板である。   The invention which concerns on Claim 3 forms the display area | region which has a transparent electrode of an X-axis direction and a Y-axis direction at least on one surface of a transparent substrate, and the decoration frame area which light-shields the outer periphery of the said display area | region, Furthermore, the glass substrate of Claim 1 was laminated | stacked on it, It is a touchscreen sensor board | substrate characterized by the above-mentioned.

請求項4に係る発明は、請求項2または3に記載のタッチパネルセンサー基板を搭載したことを特徴とする座標検出機能付き表示装置である。   The invention according to claim 4 is a display device with a coordinate detection function, characterized in that the touch panel sensor substrate according to claim 2 or 3 is mounted.

本発明の請求項1に係る発明によれば、ガラス基板の表裏の耐衝撃強度は化学強化処理層で補え、且つ、その端部断面にDLC膜を形成することで、化学強化処理がされていない断面の耐衝撃強度を向上することができる。特に小型のタッチパネルセンサー基板などは、一般的には生産効率の面から大型のガラス基板に複数の単位タッチパネルセンサーを形成し、その後、個々の単位タッチパネルセンサー基板に切断するため、表裏に比べて切断面の強度が劣るという問題があった。このような問題に対して、本発明は切断面に前記DLC膜を形成することで、断面の耐衝撃強度の向上とコスト低減の両方を満たすことができる。   According to the first aspect of the present invention, the impact strength of the front and back surfaces of the glass substrate is supplemented by the chemical strengthening treatment layer, and the DLC film is formed on the end cross section of the glass substrate, so that the chemical strengthening treatment is performed. It is possible to improve the impact resistance of the cross section that is not present. In particular, small touch panel sensor substrates, etc. are generally cut from the front and back to form multiple unit touch panel sensors on a large glass substrate and then cut into individual unit touch panel sensor substrates in terms of production efficiency. There was a problem that the strength of the surface was inferior. With respect to such a problem, the present invention can satisfy both the improvement of the impact strength of the cross section and the cost reduction by forming the DLC film on the cut surface.

また、請求項2に係る発明によれば、請求項1に記載のガラス基板の一方の面に、少なくともX軸方向及びY軸方向の透明電極を有する表示領域と、前記表示領域の外周を遮光する加飾額縁領域とを形成することで、表裏の強度に加えて、端部断面がDLC膜で補強された耐衝撃強度に優れるタッチパネルセンサー基板を提供することができる。   According to the invention of claim 2, the display area having at least the X-axis and Y-axis transparent electrodes on one surface of the glass substrate of claim 1 and the outer periphery of the display area are shielded from light. By forming the decorative frame region to be performed, it is possible to provide a touch panel sensor substrate having excellent impact strength in which the end cross section is reinforced with a DLC film in addition to the front and back strength.

また、請求項3に係る発明によれば、透明基板の一方の面に、少なくともX軸方向及びY軸方向の透明電極を有する表示領域と、前記表示領域の外周を遮光する加飾額縁領域とを形成したその上に、請求項1に記載のガラス基板を積層することで、表裏の強度に加えて、端部断面がDLC膜で補強された耐衝撃強度に優れるタッチパネルセンサー基板を提供することができる。   Moreover, according to the invention which concerns on Claim 3, on one side of a transparent substrate, the display area which has a transparent electrode of an X-axis direction and a Y-axis direction at least, The decoration frame area which light-shields the outer periphery of the said display area, A glass substrate according to claim 1 is laminated thereon, and in addition to the strength of the front and back, an end cross section is reinforced with a DLC film to provide a touch panel sensor substrate excellent in impact strength. Can do.

また、請求項4に係る発明によれば、請求項2または3に記載のタッチパネルセンサー基板を搭載することで、耐衝撃強度に優れた操作部を有する座標検出機能付き表示装置の提供ができる。   Moreover, according to the invention which concerns on Claim 4, the display apparatus with a coordinate detection function which has an operation part excellent in impact strength strength can be provided by mounting the touch-panel sensor board | substrate of Claim 2 or 3.

本発明のガラス基板の断面概略図を示す。The cross-sectional schematic of the glass substrate of this invention is shown. 図1のガラス基板を用いたタッチパネルセンサー基板の断面概略図を示す。The cross-sectional schematic of the touch-panel sensor board | substrate using the glass substrate of FIG. 1 is shown. 図1のガラス基板を用いたタッチパネルセンサー基板の断面概略図を示す。The cross-sectional schematic of the touch-panel sensor board | substrate using the glass substrate of FIG. 1 is shown. (a)タッチパネルセンサー基板の断面概略図を示す。 (b)タッチパネルセンサー基板の平面概略図を示す。(A) The cross-sectional schematic of a touch-panel sensor board | substrate is shown. (B) A schematic plan view of a touch panel sensor substrate is shown.

以下、図に基づき本発明を詳細に説明する。   Hereinafter, the present invention will be described in detail with reference to the drawings.

本発明は、表裏に化学強化処理層を有し、且つ、その端部断面にDLC膜が形成されて成る透明なガラス基板であって、このガラス基板の一方の面に少なくともX軸方向及びY軸方向の透明電極を有する表示領域と、前記表示領域の外周を遮光する加飾額縁領域とを形成して成るタッチパネルセンサー基板やその上に積層するカバーガラスとして用いるこ
とが好ましい。
The present invention is a transparent glass substrate having a chemically strengthened treatment layer on the front and back and having a DLC film formed on the end cross section thereof, and at least the X-axis direction and Y It is preferably used as a touch panel sensor substrate formed by forming a display region having an axial transparent electrode and a decorative frame region that shields the outer periphery of the display region, and a cover glass laminated thereon.

また、本発明に係るタッチパネルセンサー基板を、LCD、PDP、無機および有機エレクトロルミネッセンスディスプレイ、FED、など画面が平坦なディスプレイに具備し、特に小型の携帯電話などの座標検出機能付き表示装置として提供することができる。   In addition, the touch panel sensor substrate according to the present invention is provided in a flat display such as an LCD, PDP, inorganic and organic electroluminescence display, FED, etc., and is provided as a display device with a coordinate detection function, such as a small mobile phone. be able to.

図1に示すように、本発明のガラス基板1は表裏が化学強化処理層2を有し、断面にDLC膜3が形成されてなることを特徴とする。以下、本発明に係るガラス基板1について説明する。   As shown in FIG. 1, the glass substrate 1 of the present invention is characterized in that the front and back have a chemically strengthened layer 2 and a DLC film 3 is formed in a cross section. Hereinafter, the glass substrate 1 which concerns on this invention is demonstrated.

前記ガラス基板1の化学強化処理層2は、1種類以上のアルカリ金属を含むガラス基板を、1種類以上のアルカリ金属を含む溶融塩と接触させてイオン交換処理するイオン交換処理工程を経つことにより得られる。   The chemical strengthening treatment layer 2 of the glass substrate 1 is subjected to an ion exchange treatment process in which a glass substrate containing one or more kinds of alkali metals is brought into contact with a molten salt containing one or more kinds of alkali metals to perform an ion exchange treatment. can get.

前記化学強化処理層2を施すのに用いることができるガラス基板は、フロート法、スリットダウンドロー法、フュージョンダウンドロー法、リドロー法などの方法により作製され、イオン交換処理が可能なアルカリ金属酸化物を含むガラス材料であれば如何様なガラス材料でも利用できる。   The glass substrate that can be used to apply the chemical strengthening treatment layer 2 is an alkali metal oxide that can be produced by a float method, a slit down draw method, a fusion down draw method, a redraw method, etc., and that can be subjected to an ion exchange treatment. Any glass material can be used as long as it contains glass.

例えば、SiOと、Alと、LiOおよびNaOから選択される少なくとも1種類のアルカリ金属酸化物を含むアルミノシリケートガラス、もしくは、フロート法等を利用したガラス基板の作製に用いられるソーダライムガラスなど、公知のガラス材料を用いることが好適である。 For example, for producing an aluminosilicate glass containing at least one alkali metal oxide selected from SiO 2 , Al 2 O 3 , Li 2 O and Na 2 O, or a glass substrate using a float method or the like. It is preferable to use a known glass material such as soda lime glass.

前記イオン交換処理工程で形成される圧縮応力層は、ガラス基板を構成するガラス材料に元々含まれるアルカリ金属の一部を、よりイオン半径の大きなアルカリ金属を含む溶融塩と接触させて形成された層である。たとえば、ガラス基板を構成するガラス材料に元々含まれるアルカリ金属がLiであれば、Na、K等に置換され、ガラス基板を構成するガラス材料に元々含まれるアルカリ金属がNaであれば、K等に置換される。溶融塩の組成および温度、ならびに、浸漬時間は、板状ガラスのガラス組成や、板状ガラスの表層部分に形成する圧縮応力層の厚み等に応じて適宜選択できる。   The compressive stress layer formed in the ion exchange treatment step was formed by bringing a part of an alkali metal originally contained in a glass material constituting a glass substrate into contact with a molten salt containing an alkali metal having a larger ion radius. Is a layer. For example, if the alkali metal originally contained in the glass material constituting the glass substrate is Li, it is replaced with Na, K, etc., and if the alkali metal originally contained in the glass material constituting the glass substrate is Na, K etc. Is replaced by The composition and temperature of the molten salt, and the immersion time can be appropriately selected according to the glass composition of the sheet glass, the thickness of the compression stress layer formed on the surface layer portion of the sheet glass, and the like.

たとえば、板状ガラスのガラス組成が、上述したアルミノシリケートガラスやソーダライムガラスであれば、溶融塩の組成および温度、ならびに、浸漬時間としては、一般的には、下記に例示する範囲から選択することが好ましい。溶融塩の組成として硝酸カリウム、または、硝酸カリウムと硝酸ナトリウムとの混塩などが好ましく、溶融塩の温度は、300℃〜500℃で3分〜600分浸漬することで強化層が形成される。   For example, if the glass composition of the plate glass is the above-mentioned aluminosilicate glass or soda lime glass, the composition and temperature of the molten salt and the immersion time are generally selected from the ranges exemplified below. It is preferable. The composition of the molten salt is preferably potassium nitrate or a mixed salt of potassium nitrate and sodium nitrate, and the temperature of the molten salt is immersed at 300 to 500 ° C. for 3 to 600 minutes to form a reinforcing layer.

次に、本発明のガラス基板1上にタッチパネルセンサーを形成する方法について具体的に説明する。   Next, a method for forming a touch panel sensor on the glass substrate 1 of the present invention will be specifically described.

図2、3は前記ガラス基板1を用いて作製したタッチパネルセンサー基板の断面概略図を示している。図2はカバーガラス一体型タッチパネルセンサー基板、図3はカバーガラスとして組み込まれたタッチパネルセンサー基板の一実施形態を示している。   2 and 3 are schematic cross-sectional views of a touch panel sensor substrate manufactured using the glass substrate 1. FIG. 2 shows an embodiment of a cover glass integrated touch panel sensor substrate, and FIG. 3 shows an embodiment of a touch panel sensor substrate incorporated as a cover glass.

図2に示すバーガラス一体型タッチパネルセンサー基板4は、前記ガラス基板1の一方の面に、少なくともX軸方向及びY軸方向の透明電極を有する表示領域と、前記表示領域の外周を遮光する加飾額縁領域とに区分されている。   The bar glass integrated touch panel sensor substrate 4 shown in FIG. 2 includes a display area having transparent electrodes in at least the X-axis direction and the Y-axis direction on one surface of the glass substrate 1 and a shield that shields the outer periphery of the display area. It is divided into a decorative frame area.

より具体的には、図4に示すように、ガラス基板1にX軸方向の透明電極11及びY軸
方向の透明電極12、それぞれの交差点13、14でのジャンパ配線と絶縁層15、前記透明電極からの引き出し配線16が形成され、前記透明電極からなる表示領域5と、その外周(特に引き出し配線部)を遮光する加飾額縁領域6が区分された構成からなる。
More specifically, as shown in FIG. 4, the transparent electrode 11 in the X-axis direction and the transparent electrode 12 in the Y-axis direction on the glass substrate 1, the jumper wiring and the insulating layer 15 at the respective intersections 13 and 14, the transparent The lead-out wiring 16 from the electrode is formed, and the display region 5 made of the transparent electrode and the decorative frame region 6 that shields the outer periphery (particularly the lead-out wiring portion) are divided.

タッチパネルセンサー基板1は、液晶パネルや有機ELパネル等の表示デバイス8と組み合わせて用いられ、座標検出機能付き表示装置を構成する部材の一つである。タッチパネルセンサー基板1は、X方向に延びる複数の電極及びY方向に延びる複数の電極を有し、指が接触または近接した電極の静電容量変化を検出することによって、指の接触位置の座標を特定する。   The touch panel sensor substrate 1 is used in combination with a display device 8 such as a liquid crystal panel or an organic EL panel, and is one member constituting a display device with a coordinate detection function. The touch panel sensor substrate 1 has a plurality of electrodes extending in the X direction and a plurality of electrodes extending in the Y direction, and detects the change in the capacitance of the electrode in contact with or close to the finger, thereby determining the coordinates of the finger contact position. Identify.

図3は前記ガラス基板1をカバーガラスとして用いた場合のタッチパネルセンサー基板4の断面概略図を示している。具体的には、ガラスまたは樹脂からなる透明基板1´の一方の面上に、少なくともX軸方向及びY軸方向の透明電極を有する表示領域と、前記表示領域の外周を遮光する加飾額縁領域とが形成されたタッチパネルセンサー基板4の上に、さらに前記ガラス基板1を積層してカバーガラスとして用いることができる。この場合、加飾額縁領域をカバーガラスに形成することもできる。   FIG. 3 shows a schematic cross-sectional view of the touch panel sensor substrate 4 when the glass substrate 1 is used as a cover glass. Specifically, on one surface of a transparent substrate 1 ′ made of glass or resin, a display area having at least X-axis direction and Y-axis direction transparent electrodes, and a decorative frame area that shields the outer periphery of the display area Further, the glass substrate 1 can be further laminated on the touch panel sensor substrate 4 on which is formed and used as a cover glass. In this case, the decorative frame region can be formed on the cover glass.

前記加飾額縁領域は1層以上の層から形成され、タッチパネルセンサー基板1にデザイン性を付与すると共に、タッチパネルセンサー基板1の周縁部に設けられる引き出し配線16を隠す役割を果たす。センサーの断線を回避するため、形状は順テーパーが好ましい。順テーパーとは、テーパー部の角度が0°〜90°の範囲のことを示す。形成方法としては、フォトリソ、スクリーン印刷などから選択できる。   The decorative frame region is formed of one or more layers, and imparts design to the touch panel sensor substrate 1 and plays a role of hiding the lead-out wiring 16 provided on the peripheral edge of the touch panel sensor substrate 1. In order to avoid disconnection of the sensor, the shape is preferably a forward taper. The forward taper indicates that the angle of the tapered portion is in the range of 0 ° to 90 °. The forming method can be selected from photolithography, screen printing, and the like.

なお、前記加飾額縁領域の平面形状は、本実施形態のような矩形枠状に限定されず、ハート型、たまご型、丸型など、任意である。また、額縁部の外周縁形状(外形)と内周縁形状(表示領域の形状)とは相似であっても良いし、非相似でも良い。   Note that the planar shape of the decorative frame region is not limited to the rectangular frame shape as in the present embodiment, and may be any shape such as a heart shape, an egg shape, or a round shape. Also, the outer peripheral shape (outer shape) and inner peripheral shape (display area shape) of the frame portion may be similar or dissimilar.

前記加飾額縁領域を形成するための材料としては、隠蔽性(遮光性)を有する着色材を含む感光性樹脂組成物が好ましい。前記着色材としては、染料や有機顔料、無機顔料を好適に使用することができる。以下、感光性樹脂組成物についてより詳細に説明する。   As a material for forming the decorative frame region, a photosensitive resin composition containing a colorant having a concealing property (light shielding property) is preferable. As the colorant, dyes, organic pigments, and inorganic pigments can be preferably used. Hereinafter, the photosensitive resin composition will be described in more detail.

前記着色材としては、カーボンブラック、チタンブラック、アニリンブラック、アントラキノン系黒色顔料、ペリレン系黒色顔料、具体的にはC.I.ピグメントブラック1、6、7、12、20、31、32などを用いることができるが、価格、遮光性の点からカーボンブラックが好ましい。また、カーボンブラックは、樹脂などで表面処理されていても構わない。ここで、黒色顔料系レジストとは、溶媒に溶解させた樹脂中にカーボンブラックやチタンブラックなどの黒色顔料を分散させたものをいい、黒色顔料系レジストの光硬化物とは、当該黒色顔料系レジストをフォトリソグラフィー法の露光処理を行うことによって硬化させたものをいう。   Examples of the colorant include carbon black, titanium black, aniline black, anthraquinone black pigment, perylene black pigment, specifically C.I. I. Pigment black 1, 6, 7, 12, 20, 31, 32, etc. can be used, but carbon black is preferred from the viewpoint of price and light shielding properties. Carbon black may be surface-treated with a resin or the like. Here, the black pigment resist refers to a resin in which a black pigment such as carbon black or titanium black is dispersed in a resin dissolved in a solvent. The photocured product of the black pigment resist refers to the black pigment resist. The resist is hardened by performing exposure processing by a photolithography method.

黒色顔料系レジストに含有されるカーボンブラックとしては、例えば、三菱化学社製#260、#25、#30、#32、#33、#40、#44、#45、#45L、#47、#50、#52、MA7、MA8、MA11、MA100、MA100R、MA100S、MA220、MA230、DEGUSSA社製 Printex A、Printex L、Printex P、Printex 30、Printex 35、Printex 40、Printex 45、Printex 55、Printex 60、Printex 300、Printex 350、Special Black 4、Special Black 350、Special Black 550等が挙げられる。また、公知の方法にて表面を樹脂等で修飾しているカーボンブラックを使用しても構わない。カーボンブラックは、1種を単独で使用しても、2種以上を混合して使用してもよい。カーボンブラックとしては、感度の点から、フタル酸ジブチル(以下、「DBP」という。)の吸油量が120ml/100g以下のものが好ましく、DBP吸油量は少ないほど好ましい。   Examples of carbon black contained in the black pigment-based resist include, for example, Mitsubishi Chemical Corporation # 260, # 25, # 30, # 32, # 33, # 40, # 44, # 45, # 45L, # 47, # 50, # 52, MA7, MA8, MA11, MA100, MA100R, MA100S, MA220, MA230, manufactured by DEGUSSA, Printex A, Printex L, Printex P, Printex 30, Printex 35, Printex 40, Printex 45, Printex 45, Printex 45, Printr 45 , Printex 300, Printex 350, Special Black 4, Special Black 350, Special Black 550, and the like. Carbon black whose surface is modified with a resin or the like by a known method may be used. Carbon black may be used individually by 1 type, or 2 or more types may be mixed and used for it. The carbon black preferably has an oil absorption of dibutyl phthalate (hereinafter referred to as “DBP”) of 120 ml / 100 g or less from the viewpoint of sensitivity, and the smaller the DBP oil absorption, the more preferable.

さらに、カーボンブラックの平均1次粒子径は、20〜300nmであることが好ましい。平均1次粒子径が20nm未満のカーボンブラックは、高濃度に分散させることが困難であり、経時安定性の良好な感光性黒色色材が得られ難く、300nmより大きいカーボンブラックを用いると、ブラックマトリックスの形状不良を招く恐れがあるためである。   Furthermore, it is preferable that the average primary particle diameter of carbon black is 20-300 nm. Carbon black having an average primary particle size of less than 20 nm is difficult to disperse at a high concentration, and it is difficult to obtain a photosensitive black color material having good stability over time. This is because the shape of the matrix may be deteriorated.

黒色色材中のカーボンブラックの含有量は、組成物の固形分を基準として0.5〜60重量%であることが好ましく、10〜50重量%であることがより好ましい。カーボンブラックの含有量が60重量%より多い場合はアライメント光源が透過せず露光時のアライメントが不可能になるだけでなく、分散安定性が得られ難く、感度の低下を招き、ブラックマトリックスの形成が困難になる可能性がある。カーボンブラックの含有量が0.5重量%より少ない場合は可視光の隠蔽性が低くなり、前面板の黒色の額縁部として用いた場合に、配線部分などの遮光性が低く、透けて見えてしまう。酸化チタンとしては公知のものを使用でき、また酸化チタンの他に窒化チタン、窒酸化チタンも好適に用いられる。   The carbon black content in the black color material is preferably 0.5 to 60% by weight, more preferably 10 to 50% by weight, based on the solid content of the composition. When the carbon black content is more than 60% by weight, the alignment light source does not transmit and alignment at the time of exposure becomes impossible, and dispersion stability is difficult to obtain, resulting in a decrease in sensitivity and formation of a black matrix. Can be difficult. When the content of carbon black is less than 0.5% by weight, the concealability of visible light is low, and when used as the black frame part of the front plate, the light shielding property of the wiring part etc. is low, and it can be seen through. End up. A well-known thing can be used as a titanium oxide, In addition to a titanium oxide, titanium nitride and titanium oxynitride are also used suitably.

また、本実施形態の遮光材料に用いられる顔料は、黒色顔料以外の2種類以上の顔料の混合物を用いても良い。例として、カラーフィルタの着色透明層を形成する際に用いられる顔料で、C.I.ピグメントレッド1、2、3、4、5、6、7、8、9、10、11、12、14、41、48:1、48:2、48:3、48:4、57:1、81、81:1、81:2、81:3、81:4、97、122、123、146、149、166、168、169、176、177、178、179、180、184、185、187、192、200、202、208、210、215、216、217、220、223、224、226、227、228、240、242、246、254、255、264、270、272、273、274,276、277、278、279、280、281、282、283、284、285、286、287などに代表される赤色(RED)系顔料と、C.I.ピグメントブルー15、15:1、15:2、15:3、15:4、15:6、16、22、60、64、80などに代表される青色(BLUE)系顔料とを少なくとも混合することにより、擬似的に黒色としたものが挙げられる。また赤色および紫色を呈する塩基性染料、酸性染料やそれら染料の造塩化合物を用いることもできる。   Moreover, the pigment used for the light-shielding material of the present embodiment may be a mixture of two or more types of pigments other than black pigments. As an example, a pigment used in forming a colored transparent layer of a color filter, C.I. I. Pigment Red 1, 2, 3, 4, 5, 6, 7, 8, 9, 10, 11, 12, 14, 41, 48: 1, 48: 2, 48: 3, 48: 4, 57: 1, 81, 81: 1, 81: 2, 81: 3, 81: 4, 97, 122, 123, 146, 149, 166, 168, 169, 176, 177, 178, 179, 180, 184, 185, 187, 192,200,202,208,210,215,216,217,220,223,224,226,227,228,240,242,246,254,255,264,270,272,273,274,276, Red (RED) pigments typified by 277, 278, 279, 280, 281, 282, 283, 284, 285, 286, 287, and the like; I. At least a blue (BLUE) pigment typified by CI Pigment Blue 15, 15: 1, 15: 2, 15: 3, 15: 4, 15: 6, 16, 22, 60, 64, 80, etc. Therefore, a pseudo black color can be used. Further, basic dyes exhibiting red and purple, acidic dyes, and salt-forming compounds of these dyes can also be used.

また、本実施形態では、赤色系顔料と青色系顔料とに加え、さらに黄色(YELLOW)系顔料を加えてもよい。黄色系顔料は可視光の低波長領域、すなわち波長500nm以下の光を吸収することが知られている(例えば、塩治孜著(昭和40年)「印刷インキ教室」(日本印刷新聞社)P170〜173)。赤色系顔料と青色系顔料とに黄色系顔料を加えることにより、黄色系顔料が低波長可視光を吸収し、より黒色に近くすることができる。   In this embodiment, in addition to the red pigment and the blue pigment, a yellow (YELLOW) pigment may be added. It is known that yellow pigments absorb light in the low wavelength region of visible light, that is, light having a wavelength of 500 nm or less (for example, “Shoji Shiji (1965)“ Printing Ink Class ”(Nihon Printing Shimbun) P170. 173). By adding a yellow pigment to a red pigment and a blue pigment, the yellow pigment absorbs low-wavelength visible light and can be made closer to black.

黄色(YELLOW)系顔料の例としては、C.I.ピグメントイエロー1、2、3、4、5、6、10、12、13、14、15、16、17、18、20、24、31、32、34、35、35:1、36、36:1、37、37:1、40、42、43、53、55、60、61、62、63、65、73、74、77、81、83、86、93、94、95、97、98、100、101、104、106、108、109、110、113、114、115、116、117、118、119、120、123、125、126、127、128、129、137、138、139、144、146、147、148、150、151、152、153、154、155、156、161、162、164、166、167、168、169、170、171、172、173、174、175、176、177、179、180、181、182、185、187、188、193、194、198、199、213、214、218、219、220、221が挙げられる。また黄色を呈する塩基性染料、酸性染料やそれら染料の造塩化合物を併用することもできる。   Examples of yellow (YELLOW) pigments include C.I. I. Pigment Yellow 1, 2, 3, 4, 5, 6, 10, 12, 13, 14, 15, 16, 17, 18, 20, 24, 31, 32, 34, 35, 35: 1, 36, 36: 1, 37, 37: 1, 40, 42, 43, 53, 55, 60, 61, 62, 63, 65, 73, 74, 77, 81, 83, 86, 93, 94, 95, 97, 98, 100, 101, 104, 106, 108, 109, 110, 113, 114, 115, 116, 117, 118, 119, 120, 123, 125, 126, 127, 128, 129, 137, 138, 139, 144, 146, 147, 148, 150, 151, 152, 153, 154, 155, 156, 161, 162, 164, 166, 167, 168, 169, 170, 171, 172, 173, 17 , It includes the 175,176,177,179,180,181,182,185,187,188,193,194,198,199,213,214,218,219,220,221. Further, basic dyes exhibiting yellow, acidic dyes and salt-forming compounds of these dyes can be used in combination.

また、紫色(Violet)系顔料を加えてもよく、紫色系顔料を加えることにより、波長550nm付近の光を吸収し易く、より光学濃度(OD値)の高い黒色とすることができる。   In addition, a violet pigment may be added, and by adding a violet pigment, it is easy to absorb light in the vicinity of a wavelength of 550 nm, and black having a higher optical density (OD value) can be obtained.

紫色(Violet)系顔料としては、例えば、C.I.ピグメントバイオレット1、19、23、27、29、30、32、37、40、42、50が挙げられる。   Examples of violet pigments include C.I. I. Pigment violet 1, 19, 23, 27, 29, 30, 32, 37, 40, 42, 50.

さらに橙色(Orange)系顔料や緑色(Green)系顔料等の顔料を加えてもよい。橙色顔料としては、例えばC.I.ピグメントオレンジ36、43、51、55、59、61、71、73等が挙げられる。緑色顔料としては、例えばC.I.ピグメントグリーン7、10、36、37、58等の緑色顔料が挙げられる。   Further, a pigment such as an orange pigment or a green pigment may be added. Examples of the orange pigment include C.I. I. Pigment orange 36, 43, 51, 55, 59, 61, 71, 73, and the like. Examples of the green pigment include C.I. I. And green pigments such as CI Pigment Green 7, 10, 36, 37, and 58.

黒色の額縁以外にも白、ピンク、青などどんな色を用いても良い。例として酸化チタン、酸化亜鉛、弁柄、キナクリドン、ピランスロン、ペリレン、ウルトラマリンブルー、プルシアンブルー、コバルトブルー、スマルトブルー、セルリアンブルー、コバルトクロムブルー、アズライト、インディゴブルー、インダンスレンブルーなど好適に用いられる。   In addition to the black picture frame, any color such as white, pink or blue may be used. For example, titanium oxide, zinc oxide, petal, quinacridone, pyranthrone, perylene, ultramarine blue, Prussian blue, cobalt blue, smalto blue, cerulean blue, cobalt chrome blue, azurite, indigo blue, indanthrene blue, etc. It is done.

前記感光性樹脂組成物を作製するために、顔料を分散させるための分散剤、界面活性剤を用いてもよい。分散剤としては、界面活性剤、顔料の中間体、染料の中間体、ソルスパース等が使用され、顔料に吸着する性質を有する顔料親和性部位と、顔料担体と相溶性のある部位とを有し、顔料に吸着して顔料担体への分散を安定化する働きをするものである。   In order to produce the photosensitive resin composition, a dispersant or a surfactant for dispersing the pigment may be used. Surfactants, pigment intermediates, dye intermediates, Solsperse, and the like are used as the dispersant, and have a pigment affinity part having a property of adsorbing to the pigment and a part compatible with the pigment carrier. It functions to adsorb to the pigment and stabilize dispersion in the pigment carrier.

具体的には、ポリウレタン、ポリアクリレートなどのポリカルボン酸エステル、不飽和ポリアミド、ポリカルボン酸、ポリカルボン酸(部分)アミン塩、ポリカルボン酸アンモニウム塩、ポリカルボン酸アルキルアミン塩、ポリシロキサン、長鎖ポリアミノアマイドリン酸塩、水酸基含有ポリカルボン酸エステルや、これらの変性物、ポリ(低級アルキレンイミン)と遊離のカルボキシル基を有するポリエステルとの反応により形成されたアミドやその塩などの油性分散剤、(メタ)アクリル酸−スチレン共重合体、(メタ)アクリル酸−(メタ)アクリル酸エステル共重合体、スチレン−マレイン酸共重合体、ポリビニルアルコール、ポリビニルピロリドンなどの水溶性樹脂や水溶性高分子化合物、ポリエステル系、変性ポリアクリレート系、エチレンオキサイド/プロピレンオキサイド付加化合物、燐酸エステル系等が用いられ、これらは単独でまたは2種以上を混合して用いることができる。   Specifically, polycarboxylic acid esters such as polyurethane and polyacrylate, unsaturated polyamide, polycarboxylic acid, polycarboxylic acid (partial) amine salt, polycarboxylic acid ammonium salt, polycarboxylic acid alkylamine salt, polysiloxane, long Oil-based dispersants such as chain polyaminoamide phosphates, hydroxyl group-containing polycarboxylic acid esters, their modified products, amides formed by the reaction of poly (lower alkyleneimines) and polyesters having free carboxyl groups, and salts thereof , (Meth) acrylic acid-styrene copolymer, (meth) acrylic acid- (meth) acrylic acid ester copolymer, styrene-maleic acid copolymer, polyvinyl alcohol, polyvinylpyrrolidone, and other water-soluble resins Molecular compound, polyester, modified polyacrylate , Ethylene oxide / propylene oxide addition compound, phosphate ester-based and the like are used, they can be used alone or in admixture of two or more.

分散剤の添加量は特に限定されるものではないが、顔料の配合量100重量%に対して、1〜10重量%とすることが好ましい。また、着色組成物は、遠心分離、焼結フィルター、メンブレンフィルタ等の手段にて、5μm以上の粗大粒子、好ましくは1μm以上の粗大粒子、さらに好ましくは0.5μm以上の粗大粒子および混入した塵の除去を行うことが好ましい。   Although the addition amount of a dispersing agent is not specifically limited, It is preferable to set it as 1 to 10 weight% with respect to 100 weight% of compounding quantities of a pigment. In addition, the coloring composition is obtained by means of centrifugal separation, sintering filter, membrane filter or the like, coarse particles of 5 μm or more, preferably coarse particles of 1 μm or more, more preferably coarse particles of 0.5 μm or more and mixed dust. Is preferably removed.

前記界面活性剤としては、ポリオキシエチレンアルキルエーテル硫酸塩、ドデシルベンゼンスルホン酸ナトリウム、スチレン−アクリル酸共重合体のアルカリ塩、アルキルナフタリンスルホン酸ナトリウム、アルキルジフェニルエーテルジスルホン酸ナトリウム、ラウリル硫酸モノエタノールアミン、ラウリル硫酸トリエタノールアミン、ラウリル硫酸ア
ンモニウム、ステアリン酸モノエタノールアミン、ステアリン酸ナトリウム、ラウリル硫酸ナトリウム、スチレン−アクリル酸共重合体のモノエタノールアミン、ポリオキシエチレンアルキルエーテルリン酸エステルなどのアニオン性界面活性剤;ポリオキシエチレンオレイルエーテル、ポリオキシエチレンラウリルエーテル、ポリオキシエチレンノニルフェニルエーテル、ポリオキシエチレンアルキルエーテルリン酸エステル、ポリオキシエチレンソルビタンモノステアレート、ポリエチレングリコールモノラウレートなどのノニオン性界面活性剤;アルキル4級アンモニウム塩やそれらのエチレンオキサイド付加物などのカオチン性界面活性剤;アルキルジメチルアミノ酢酸ベタインなどのアルキルベタイン、アルキルイミダゾリンなどの両性界面活性剤が挙げられ、これらは単独でまたは2種以上を混合して用いることができる。
Examples of the surfactant include polyoxyethylene alkyl ether sulfate, sodium dodecylbenzenesulfonate, alkali salt of styrene-acrylic acid copolymer, sodium alkylnaphthalenesulfonate, sodium alkyldiphenyletherdisulfonate, monoethanolamine laurylsulfate, Anionic surfactants such as triethanolamine lauryl sulfate, ammonium lauryl sulfate, monoethanolamine stearate, sodium stearate, sodium lauryl sulfate, monoethanolamine of styrene-acrylic acid copolymer, polyoxyethylene alkyl ether phosphate Polyoxyethylene oleyl ether, polyoxyethylene lauryl ether, polyoxyethylene nonylphenyl ether, polyoxye Nonionic surfactants such as lenalkyl ether phosphates, polyoxyethylene sorbitan monostearate, and polyethylene glycol monolaurate; chaotic surfactants such as alkyl quaternary ammonium salts and their ethylene oxide adducts; alkyldimethyl Examples include alkylbetaines such as aminoacetic acid betaine and amphoteric surfactants such as alkylimidazoline, and these can be used alone or in admixture of two or more.

前記感光性樹脂組成物には、以下に例示するような、光重合モノマー、光重合開始剤、増感剤、多官能チオール、紫外線吸収剤および重合禁止剤をさらに含んでもよい。   The photosensitive resin composition may further contain a photopolymerization monomer, a photopolymerization initiator, a sensitizer, a polyfunctional thiol, an ultraviolet absorber, and a polymerization inhibitor as exemplified below.

光重合性モノマーとしては、トリメチロールプロパントリ(メタ)アクリレート、ペンタエリスリトールトリ(メタ)アクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサ(メタ)アクリレート、エチレンオキサイド変性トリメチロールプロパントリ(メタ)アクリレート、プロピレンオキサイド変性トリメチロールプロパントリ(メタ)アクリレート等の各種アクリル酸エステル及びメタクリル酸エステル等が挙げられる。   Photopolymerizable monomers include trimethylolpropane tri (meth) acrylate, pentaerythritol tri (meth) acrylate, dipentaerythritol hexa (meth) acrylate, ethylene oxide modified trimethylolpropane tri (meth) acrylate, propylene oxide modified trimethylol Examples thereof include various acrylic esters and methacrylic esters such as propane tri (meth) acrylate.

光重合開始剤としては、4−フェノキシジクロロアセトフェノン、4−t−ブチル−ジクロロアセトフェノン、ジエトキシアセトフェノン、p−ジメチルアミノアセトフェノン、1−(4−イソプロピルフェニル)−2−ヒドロキシ−2−メチルプロパン−1−オン、1−ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトン、2−メチル−1−[4−(メチルチオ)フェニル]−2−モルフォリノプロパン−1−オン、2−ベンジル−2−ジメチルアミノ−1−(4−モルフォリノフェニル)−ブタン−1−オン、2−(ジメチルアミノ)−2−[(4−メチルフェニル)メチル]−1−[4−(4−モルホリニル)フェニル]−1−ブタノン等のアセトフェノン系化合物、ベンゾイン、ベンゾインメチルエーテル、ベンゾインエチルエーテル、ベンゾインイソプロピルエーテル、ベンジルジメチルケタール等のベンゾイン系化合物、ベンゾフェノン、ベンゾイル安息香酸、ベンゾイル安息香酸メチル、4−フェニルベンゾフェノン、ヒドロキシベンゾフェノン、アクリル化ベンゾフェノン、4−ベンゾイル−4’−メチルジフェニルサルファイド、3,3’,4,4’−テトラ(t−ブチルパーオキシカルボニル)ベンゾフェノン等のベンゾフェノン系化合物、チオキサントン、2−クロルチオキサントン、2−メチルチオキサントン、イソプロピルチオキサントン、2,4−ジイソプロピルチオキサントン、2,4−ジエチルチオキサントン等のチオキサントン系化合物、2,4,6−トリクロロ−s−トリアジン、2−フェニル−4,6−ビス(トリクロロメチル)−s−トリアジン、2−(p−メトキシフェニル)−4,6−ビス(トリクロロメチル)−s−トリアジン、2−(p−トリル)−4,6−ビス(トリクロロメチル)−s−トリアジン、2−ピペロニル−4,6−ビス(トリクロロメチル)−s−トリアジン、2,4−ビス(トリクロロメチル)−6−スチリル−s−トリアジン、2−(ナフト−1−イル)−4,6−ビス(トリクロロメチル)−s−トリアジン、2−(4−メトキシ−ナフト−1−イル)−4,6−ビス(トリクロロメチル)−s−トリアジン、2,4−トリクロロメチル−(ピペロニル)−6−トリアジン、2,4−トリクロロメチル(4’−メトキシスチリル)−6−トリアジン等のトリアジン系化合物、1,2−オクタンジオン,1−〔4−(フェニルチオ)フェニル−,2−(O−ベンゾイルオキシム)〕、O−(アセチル)−N−(1−フェニル−2−オキソ−2−(4’−メトキシ−ナフチル)エチリデン)ヒドロキシルアミン等のオキシムエステル系化合物、ビス(2,4,6−トリメチルベンゾイル)フェニルホスフィンオキサイド、2,4,6−トリメチルベンゾイル−ジフェニル−ホスフィンオキサイド等のホスフィン系化合物、2,2´−ビス(o−クロロフェニル)−4,5,4´,5´−テトラフェニル−1,2´−ビイミダゾール、2,2’−ビス(o−メトキシフェニル)−4,4’,5,5’−テトラフェニルビイミダゾール、2,2’−ビス(o−クロロフェニル)−4,4’,5,5’−テトラ(p−メチルフェニル)ビイミダゾール、等のイミダゾール系化合物、9,10−フェナンスレンキノン、カンファーキノン、エチルアントラキノン等のキノン系化合物、ボレート系化合物、カルバゾール系化合物、チタノセン系化合物等が挙げられる。   As photopolymerization initiators, 4-phenoxydichloroacetophenone, 4-t-butyl-dichloroacetophenone, diethoxyacetophenone, p-dimethylaminoacetophenone, 1- (4-isopropylphenyl) -2-hydroxy-2-methylpropane- 1-one, 1-hydroxycyclohexyl phenyl ketone, 2-methyl-1- [4- (methylthio) phenyl] -2-morpholinopropan-1-one, 2-benzyl-2-dimethylamino-1- (4- Acetophenones such as morpholinophenyl) -butan-1-one and 2- (dimethylamino) -2-[(4-methylphenyl) methyl] -1- [4- (4-morpholinyl) phenyl] -1-butanone Compound, benzoin, benzoin methyl ether, benzoin ethyl ether, ben Benzoin compounds such as inisopropyl ether and benzyldimethyl ketal, benzophenone, benzoylbenzoic acid, methyl benzoylbenzoate, 4-phenylbenzophenone, hydroxybenzophenone, acrylated benzophenone, 4-benzoyl-4'-methyldiphenyl sulfide, 3,3 Benzophenone compounds such as', 4,4'-tetra (t-butylperoxycarbonyl) benzophenone, thioxanthone, 2-chlorothioxanthone, 2-methylthioxanthone, isopropylthioxanthone, 2,4-diisopropylthioxanthone, 2,4-diethyl Thioxanthone compounds such as thioxanthone, 2,4,6-trichloro-s-triazine, 2-phenyl-4,6-bis (trichloromethyl) -s-triazine 2- (p-methoxyphenyl) -4,6-bis (trichloromethyl) -s-triazine, 2- (p-tolyl) -4,6-bis (trichloromethyl) -s-triazine, 2-piperonyl-4 , 6-Bis (trichloromethyl) -s-triazine, 2,4-bis (trichloromethyl) -6-styryl-s-triazine, 2- (naphth-1-yl) -4,6-bis (trichloromethyl) -S-triazine, 2- (4-methoxy-naphth-1-yl) -4,6-bis (trichloromethyl) -s-triazine, 2,4-trichloromethyl- (piperonyl) -6-triazine, 2, Triazine compounds such as 4-trichloromethyl (4′-methoxystyryl) -6-triazine, 1,2-octanedione, 1- [4- (phenylthio) phenyl-, 2- (O— Benzoyloxime)], O- (acetyl) -N- (1-phenyl-2-oxo-2- (4′-methoxy-naphthyl) ethylidene) hydroxylamine, and other oxime ester compounds, bis (2,4,6 -Phosphine compounds such as trimethylbenzoyl) phenylphosphine oxide, 2,4,6-trimethylbenzoyl-diphenyl-phosphine oxide, 2,2'-bis (o-chlorophenyl) -4,5,4 ', 5'-tetra Phenyl-1,2'-biimidazole, 2,2'-bis (o-methoxyphenyl) -4,4 ', 5,5'-tetraphenylbiimidazole, 2,2'-bis (o-chlorophenyl)- Imidazole compounds such as 4,4 ′, 5,5′-tetra (p-methylphenyl) biimidazole, 9,10-phenanthrene Non camphorquinone, quinone-based compounds such as ethyl anthraquinone, borate compounds, carbazole-based compounds, titanocene compounds, and the like.

これらの中でも、アセトフェノン系化合物、ホスフィン系化合物、及びオキシムエステル系化合物からなる群より選ばれる少なくとも1種類以上の光重合開始剤を含むことがより好ましい。   Among these, it is more preferable to include at least one photopolymerization initiator selected from the group consisting of acetophenone compounds, phosphine compounds, and oxime ester compounds.

これらの光重合開始剤は1種または必要に応じて任意の比率で2種以上混合して用いることができる。光重合開始剤の含有量は、着色剤100重量部に対して、1.0〜200重量部、好ましくは1.0〜150重量部の量で用いることができる。   These photopolymerization initiators can be used alone or in combination of two or more at any ratio as required. Content of a photoinitiator can be used in the quantity of 1.0-200 weight part with respect to 100 weight part of coloring agents, Preferably it is 1.0-150 weight part.

また、増感剤としては、例えばカルコン誘導体やジベンザルアセトン等に代表される不飽和ケトン類、ベンジルやカンファーキノン等に代表される1,2−ジケトン誘導体、ベンゾイン誘導体、フルオレン誘導体、ナフトキノン誘導体、アントラキノン誘導体、キサンテン誘導体、チオキサンテン誘導体、キサントン誘導体、チオキサントン誘導体、クマリン誘導体、ケトクマリン誘導体、シアニン誘導体、メロシアニン誘導体、オキソノ−ル誘導体等のポリメチン色素、アクリジン誘導体、アジン誘導体、チアジン誘導体、オキサジン誘導体、インドリン誘導体、アズレン誘導体、アズレニウム誘導体、スクアリリウム誘導体、ポルフィリン誘導体、テトラフェニルポルフィリン誘導体、トリアリールメタン誘導体、テトラベンゾポルフィリン誘導体、テトラピラジノポルフィラジン誘導体、フタロシアニン誘導体、テトラアザポルフィラジン誘導体、テトラキノキサリロポルフィラジン誘導体、ナフタロシアニン誘導体、サブフタロシアニン誘導体、ピリリウム誘導体、チオピリリウム誘導体、テトラフィリン誘導体、アヌレン誘導体、スピロピラン誘導体、スピロオキサジン誘導体、チオスピロピラン誘導体、金属アレーン錯体、有機ルテニウム錯体、ミヒラーケトン誘導体等が挙げられる。なお、本発明において誘導体とは、もとの化合物に対して、その化合物の一部を他の原子や官能基で置換、あるいは、酸化、還元するなどの改変がなされた化合物を意味する。誘導体は、構造上、もとの化合物の骨格の大部分を含有していればよく、もとの化合物の構造が類似しているだけで、全く異なる性質を示すものであってもよい。   Examples of the sensitizer include unsaturated ketones typified by chalcone derivatives and dibenzalacetone, 1,2-diketone derivatives typified by benzyl and camphorquinone, benzoin derivatives, fluorene derivatives, and naphthoquinone derivatives. Anthraquinone derivatives, xanthene derivatives, thioxanthene derivatives, xanthone derivatives, thioxanthone derivatives, coumarin derivatives, ketocoumarin derivatives, cyanine derivatives, merocyanine derivatives, oxonol derivatives and other polymethine dyes, acridine derivatives, azine derivatives, thiazine derivatives, oxazine derivatives, Indoline derivative, azulene derivative, azurenium derivative, squarylium derivative, porphyrin derivative, tetraphenylporphyrin derivative, triarylmethane derivative, tetrabenzoporphy Derivatives, tetrapyrazinoporphyrazine derivatives, phthalocyanine derivatives, tetraazaporphyrazine derivatives, tetraquinoxalyloporphyrazine derivatives, naphthalocyanine derivatives, subphthalocyanine derivatives, pyrylium derivatives, thiopyrylium derivatives, tetraphyrin derivatives, annulene derivatives, spiropyran derivatives And spirooxazine derivatives, thiospiropyran derivatives, metal arene complexes, organoruthenium complexes, Michler's ketone derivatives, and the like. In the present invention, a derivative means a compound in which a part of the compound is modified with another atom or functional group, or is modified or oxidized or reduced with respect to the original compound. The derivative only needs to contain most of the skeleton of the original compound in terms of structure, and the derivative may exhibit completely different properties only by having a similar structure of the original compound.

さらに具体例には、大河原信ら編、「色素ハンドブック」(1986年、講談社)、大河原信ら編、「機能性色素の化学」(1981年、シーエムシー)、池森忠三朗ら編、「特殊機能材料」(1986年、シーエムシー)に記載の増感剤が挙げられるがこれらに限定されるものではない。また、その他、紫外から近赤外域にかけての光に対して吸収を示す増感剤を含有させることもできる。   Specific examples include Okawara Nobu et al., “Dye Handbook” (1986, Kodansha), Okawara Nobu et al., “Functional Dye Chemistry” (1981, CMC), Ikemori Chusaburo et al., “Special Examples include, but are not limited to, sensitizers described in “Functional Materials” (1986, CMC). In addition, a sensitizer that absorbs light from the ultraviolet region to the near infrared region can also be contained.

上記増感剤の中で、特に好適な増感剤としては、チオキサントン誘導体、ミヒラーケトン誘導体、カルバゾール誘導体が挙げられる。さらに具体的には、2,4−ジエチルチオキサントン、2−クロロチオキサントン、2,4−ジクロロチオキサントン、2−イソプロピルチオキサントン、4−イソプロピルチオキサントン、1−クロロ−4−プロポキシチオキサントン、4,4’−ビス(ジメチルアミノ)ベンゾフェノン、4,4’−ビス(ジエチルアミノ)ベンゾフェノン、4,4’−ビス(エチルメチルアミノ)ベンゾフェノン、N−エチルカルバゾール、3−ベンゾイル−N−エチルカルバゾール、3,6−ジベンゾイル−N−エチルカルバゾール等が用いられる。増感剤は、任意の比率で2種以上の増感剤を含んでいてもかまわない。増感剤の含有量は、光重合開始剤100重量部に対して、1.0〜100重量部の量で用いることができる。   Among the sensitizers, particularly preferred sensitizers include thioxanthone derivatives, Michler ketone derivatives, and carbazole derivatives. More specifically, 2,4-diethylthioxanthone, 2-chlorothioxanthone, 2,4-dichlorothioxanthone, 2-isopropylthioxanthone, 4-isopropylthioxanthone, 1-chloro-4-propoxythioxanthone, 4,4′-bis (Dimethylamino) benzophenone, 4,4′-bis (diethylamino) benzophenone, 4,4′-bis (ethylmethylamino) benzophenone, N-ethylcarbazole, 3-benzoyl-N-ethylcarbazole, 3,6-dibenzoyl- N-ethylcarbazole or the like is used. The sensitizer may contain two or more sensitizers in any ratio. The content of the sensitizer can be used in an amount of 1.0 to 100 parts by weight with respect to 100 parts by weight of the photopolymerization initiator.

そのほか、シランカップリング剤、消泡剤、シリカ、重合禁止剤。紫外線吸収剤など前記に記載した材料以外も添加して用いることができる。   In addition, silane coupling agents, antifoaming agents, silica, polymerization inhibitors. Materials other than those described above, such as ultraviolet absorbers, can be added and used.

次に、表示領域を形成するX,Y軸方向の透明電極11,12、ジャンパ配線、引き出し配線16、絶縁保護層について説明する。   Next, the transparent electrodes 11 and 12 in the X and Y axis directions, the jumper wiring, the lead wiring 16, and the insulating protective layer that form the display area will be described.

透明電極11は、X座標を検出するためのものである。透明電極は、電気伝導性と透明性とを有する材料を用いて、表示領域5内に形成されている。透明電極は、X方向及びY方向に間欠的かつ行列状に配列され、X方向に隣接するジャンパ配線に電気的に接続されている。透明電極11は、例えば、ITO(Indium Tin Oxide)によって形成される。   The transparent electrode 11 is for detecting the X coordinate. The transparent electrode is formed in the display region 5 using a material having electrical conductivity and transparency. The transparent electrodes are intermittently arranged in a matrix in the X direction and the Y direction, and are electrically connected to jumper wirings adjacent in the X direction. The transparent electrode 11 is made of, for example, ITO (Indium Tin Oxide).

透明電極12は、Y座標を検出するためのものであり、透明電極11と同一材料を用いて形成される。透明電極12は、Y方向に整列する透明電極の各列間をY方向に延び、第11の絶縁膜15上でジャンパ配線と立体交差している。   The transparent electrode 12 is for detecting the Y coordinate, and is formed using the same material as the transparent electrode 11. The transparent electrode 12 extends in the Y direction between each column of transparent electrodes aligned in the Y direction, and three-dimensionally intersects with the jumper wiring on the eleventh insulating film 15.

ジャンパ配線は、導電性を有する材料を用いて形成され、表示領域6内に、表示領域6の一辺と平行なX方向及びこれと直交するY方向に間欠的かつ行列状に配列されている。ジャンパ配線は、X方向に整列する透明電極11を接続するためのものである。   The jumper wiring is formed using a conductive material, and is arranged intermittently and in a matrix in the display area 6 in the X direction parallel to one side of the display area 6 and in the Y direction orthogonal thereto. The jumper wiring is for connecting the transparent electrodes 11 aligned in the X direction.

また、引き出し配線16は、加飾額縁領域6上に形成され、表示領域5の周縁部に位置するX軸及びY軸方向の透明電極に電気的に接続されている。前記引き出し配線16は一般に金属材料で形成され、例えば、Mo/Al/Mo(モリブデン/アルミニウム/モリブデン)の積層体等からなり、これ以外にAu(金)やAg(銀)、Ag合金等によって形成されても良い。   The lead-out wiring 16 is formed on the decorative frame region 6 and is electrically connected to the transparent electrodes in the X-axis and Y-axis directions located at the peripheral edge of the display region 5. The lead wiring 16 is generally formed of a metal material, and is made of, for example, a laminated body of Mo / Al / Mo (molybdenum / aluminum / molybdenum) or the like, and in addition, Au (gold), Ag (silver), Ag alloy, or the like. It may be formed.

次に、大型ガラス基板に形成された複数の単位タッチパネルセンサーを個々に切断する方法について説明する。   Next, a method for individually cutting a plurality of unit touch panel sensors formed on a large glass substrate will be described.

断裁をエッチングで行う場合、耐エッチング膜を形成する必要がある。耐エッチング膜形成工程では、タッチパネルセンサーが形成された少なくとも一方の面上、もしくは両面に耐エッチング膜を形成する。この耐エッチング膜は、通常、イオン交換処理済みの板状ガラスの両面に形成されるが、切断工程において、片面のみをエッチング溶液に接触させる場合には、当該片面にのみ耐エッチング膜が形成されていればよい。   When cutting by etching, it is necessary to form an etching resistant film. In the etching resistant film forming step, an etching resistant film is formed on at least one surface or both surfaces where the touch panel sensor is formed. This etching resistant film is usually formed on both surfaces of the ion-exchanged plate-like glass. However, when only one surface is brought into contact with the etching solution in the cutting step, the etching resistant film is formed only on the one surface. It only has to be.

このような耐エッチング膜としては、少なくともフッ酸水溶液に対して難溶性または不溶性を示すフォトリソを用いて保護膜を形成するか、剥離可能な保護シートを用いることが好ましい。耐エッチング膜としては、パターニング工程において、パターニング処理により部分的に除去可能であり、かつ、切断工程において用いるエッチング溶液に対しては溶解・除去されない性質を有するものであれば、適宜選択できる。この場合、パターニング工程においては、レジスト膜をフォトマスクによって露光処理と現像液による現像処理とによってパターニング処理し、切断工程においてエッチング溶液を利用して切断を行うことができる。   As such an etching resistant film, it is preferable to form a protective film using photolithography which is at least insoluble or insoluble in a hydrofluoric acid aqueous solution, or to use a peelable protective sheet. The etching resistant film can be appropriately selected as long as it can be partially removed by patterning in the patterning step and has a property that is not dissolved / removed in the etching solution used in the cutting step. In this case, in the patterning step, the resist film can be subjected to patterning processing by exposure processing using a photomask and development processing using a developer, and cutting can be performed using an etching solution in the cutting step.

かかる断裁には、ブレーク法、レーザーカット法、水ジェット流法を採用することができる。強化ガラスの切断方法として、より好ましくはイオン交換処理済みの板状ガラスのパターニングされた耐エッチング膜が設けられた面を、エッチング溶液に接触させてエッチングすることで、イオン交換処理済みの板状ガラスを小片に切断する。   For the cutting, a break method, a laser cut method, or a water jet flow method can be employed. As a method of cutting tempered glass, more preferably, the surface of the plate glass that has been subjected to the ion exchange treatment is provided with a patterned etching-resistant film, and is etched by bringing the surface into contact with the etching solution, thereby performing the plate exchange after the ion exchange treatment. Cut the glass into small pieces.

エッチング処理は、通常、板状ガラスをエッチング溶液に浸漬させて行う。エッチング溶液としては、少なくともフッ酸を含むものであれば特に限定されないが、必要に応じて、塩酸等のその他の酸や、界面活性剤等の各種の添加剤が添加されていてもよい。例えば、エッチング液として、フッ酸、フッ酸を主成分とする酸性溶液、フッ酸に硫酸、塩酸、リン酸、硝酸、ケイフッ酸のうちの少なくとも1つの酸を含む混酸の他、苛性ソーダや苛性カリ等のアルカリ類を使用することができる。また、エッチング温度は通常10℃〜80℃であり、好ましくは20℃〜40℃である。さらに、エッチング時間は、通常30秒〜30分であり、好ましくは1分〜10分である。これらのエッチングの条件は、使用するガラス基板の材質などに応じて、反応物が析出することのないように、適宜選択できるものである。   The etching process is usually performed by immersing plate glass in an etching solution. The etching solution is not particularly limited as long as it contains at least hydrofluoric acid, but other acids such as hydrochloric acid and various additives such as a surfactant may be added as necessary. For example, as an etchant, hydrofluoric acid, an acidic solution containing hydrofluoric acid as a main component, hydrofluoric acid containing sulfuric acid, hydrochloric acid, phosphoric acid, nitric acid, mixed acid containing at least one of silicic acid, caustic soda, caustic potash, etc. Alkalis can be used. Moreover, etching temperature is 10 to 80 degreeC normally, Preferably it is 20 to 40 degreeC. Further, the etching time is usually 30 seconds to 30 minutes, preferably 1 minute to 10 minutes. These etching conditions can be appropriately selected according to the material of the glass substrate to be used and the like so that no reactant is precipitated.

エッチングのみで断裁されない場合、エッチング後、大型強化ガラス基板にブレークバーを当てて応力を加える。その結果、大型強化ガラス基板は、単品サイズの個片に切断される。耐エッチング膜を除去する前に個片基板の外周端部に研磨を行ない、突部を除去した後、エッチングを行なう。また、エッチングには、エッチング工程と同様、フッ酸系エッチング液を用いたウエットエッチングを実施する。   When not cut only by etching, a stress is applied by applying a break bar to the large tempered glass substrate after etching. As a result, the large tempered glass substrate is cut into individual pieces. Before the etching resistant film is removed, the outer peripheral edge of the individual substrate is polished, and the protrusion is removed, and then etching is performed. Further, in the etching, wet etching using a hydrofluoric acid-based etching solution is performed as in the etching step.

次に、本発明に係る切断面へのDLC膜形成について、以下に説明する。   Next, DLC film formation on the cut surface according to the present invention will be described below.

DLC(Diamond−Like Carbon)膜とは、ダイヤモンドのSP3結合とグラファイト(黒鉛)のSP2結合の両方を併せ持つアモルファス構造の炭素を主成分とした物質で作られた薄膜の総称であり、プラズマCVD法,イオン化蒸着法,スパッタ法,アークイオンプレーティング法で成膜される。DLC膜は、ダイヤモンドの硬度とグラファイトの潤滑性を併せ持つために、ガラス端面に優れた耐擦傷性と耐衝撃性を付与することが可能である。   DLC (Diamond-Like Carbon) film is a general term for thin films made of carbon-based materials with an amorphous structure having both SP3 bonds of diamond and SP2 bonds of graphite (graphite). The film is formed by ionized vapor deposition, sputtering, and arc ion plating. Since the DLC film has both the hardness of diamond and the lubricity of graphite, it is possible to impart excellent scratch resistance and impact resistance to the glass end face.

DLC膜の膜厚としては、0.03乃至20μmが好適であり、より好ましくは0.1乃至2μmである。膜厚が0.03μmより薄いと十分な硬度を保つことが出来ず、20μmより厚いと密着性が低下する。この時、DLC膜の密着性を向上させるために下地層を形成しても良い。DLCの成膜後に耐エッチング膜を剥離することにより、図2に示すようにカバーガラス端面のみへのDLC膜の形成が可能となる。   The film thickness of the DLC film is preferably 0.03 to 20 μm, more preferably 0.1 to 2 μm. If the film thickness is less than 0.03 μm, sufficient hardness cannot be maintained, and if it is more than 20 μm, the adhesiveness decreases. At this time, an underlayer may be formed in order to improve the adhesion of the DLC film. By peeling off the etching resistant film after the DLC film is formed, the DLC film can be formed only on the end face of the cover glass as shown in FIG.

さらにタッチパネルの性能を向上させるために、ガラス切断後、個片となったタッチパネルは、黒色顔料を加えたインキをガラス端部と加飾層に塗布することで、エッチングによりガラス断裁部と加飾層の隙間からのバックライトからの光漏れを防止できる。また個片印刷の方法として任意の方法で問題ないが、スクリーン印刷で行なうことが望ましい。スクリーンメッシュは、150〜500メッシュであることが好ましい。   Furthermore, in order to improve the performance of the touch panel, the glass touch panel, which has been cut into pieces after being cut, is coated with a black pigment on the glass edge and the decorative layer. Light leakage from the backlight through the gap between layers can be prevented. Further, although there is no problem with any method as the method of individual piece printing, it is desirable to carry out by screen printing. The screen mesh is preferably 150 to 500 mesh.

以下に、実施例により本発明を具体的に説明するが、本発明はこれらの例によって限定されるものではない。   EXAMPLES The present invention will be specifically described below with reference to examples, but the present invention is not limited to these examples.

(実施例1)
ガラス基板として、ダウンドロー法により成形された縦400mm×横500mm×厚さ0.7mmの平板ガラスを用いた。このガラス基板の組成は、酸化物基準のモル%表示で、SiO:65%、Al:10%、MgO:10%、NaO:14.5%、ZrO:0.5%であった。次に、このガラス基板を、KNO溶融塩に温度400℃、4時間浸漬(イオン交換処理)した後、室温付近まで冷却して表裏に化学強化層を形成した。
Example 1
As the glass substrate, flat glass having a length of 400 mm, a width of 500 mm, and a thickness of 0.7 mm formed by a downdraw method was used. The composition of this glass substrate is expressed in terms of mol% based on oxide, SiO 2 : 65%, Al 2 O 3 : 10%, MgO: 10%, Na 2 O: 14.5%, ZrO 2 : 0.5 %Met. Next, this glass substrate was immersed in KNO 3 molten salt at a temperature of 400 ° C. for 4 hours (ion exchange treatment), and then cooled to near room temperature to form a chemically strengthened layer on both sides.

次に、表裏に化学強化層を有する前記ガラス基板を用いて、以下の方法にてタッチパネルセンサー基板を作製した。   Next, a touch panel sensor substrate was produced by the following method using the glass substrate having the chemically strengthened layers on the front and back sides.

<1.加飾層の形成>
前記ガラス基板の一方面の上に、後述する感光性加飾材料を仕上がり2.5μmとなるようにスピンコートにより塗布した。次に、減圧乾燥機にて溶剤分を除去したのち、プロキシミティー露光方式(超高圧水銀ランプ)にて露光した。ここで、露光用フォトマスクとしては石英ガラスにCr(クロム)でパターンを施したものを用いた。次に、アルカリ性現像液にて現像した。そして、230°C×20分の熱処理を行い、加飾層を形成した。
<1. Formation of decorative layer>
On one surface of the glass substrate, a photosensitive decorating material, which will be described later, was applied by spin coating to a finish of 2.5 μm. Next, after removing the solvent content with a vacuum dryer, exposure was performed by a proximity exposure system (ultra-high pressure mercury lamp). Here, as the exposure photomask, quartz glass patterned with Cr (chromium) was used. Next, it developed with the alkaline developing solution. And the heat processing of 230 degreeC x 20 minutes were performed, and the decoration layer was formed.

[アルカリ可溶性樹脂Aの合成]
反応容器に1−メトキシ−2−プロピルアセテート800重量部を入れ、容器に窒素ガスを注入しながら加熱して、下記モノマーおよび熱重合開始剤の混合物を滴下して重合反応を行った。以下、重量部を部と記す。
スチレン 40部
メタクリル酸 60部
メチルメタクリレート 55部
ベンジルメタクリレート 45部
アゾビスイソブチロニトリル 10部
1,4−ジメチルメルカプトベンゼン 3部
[Synthesis of alkali-soluble resin A]
The reaction vessel was charged with 800 parts by weight of 1-methoxy-2-propyl acetate, heated while injecting nitrogen gas into the vessel, and a mixture of the following monomer and thermal polymerization initiator was added dropwise to carry out a polymerization reaction. Hereinafter, parts by weight are referred to as parts.
Styrene 40 parts Methacrylic acid 60 parts Methyl methacrylate 55 parts Benzyl methacrylate 45 parts Azobisisobutyronitrile 10 parts 1,4-dimethylmercaptobenzene 3 parts

滴下後十分に加熱した後、アゾビスイソブチロニトリル2部を1−メトキシ−2−プロピルアセテート50部で溶解させたものを添加し、さらに反応を続けてアクリル樹脂の溶液を得た。この樹脂溶液に固形分が30重量%になるように1−メトキシ−2−プロピルアセテートを添加してアクリル樹脂溶液を調製し、アルカリ可溶性樹脂溶液とした。アクリル樹脂の重量平均分子量は、約20000であった。5μmフィルターで濾過後、感光性加飾材料に用いた。   After dripping, after heating sufficiently, what melt | dissolved 2 parts of azobisisobutyronitrile with 50 parts of 1-methoxy-2-propyl acetate was added, and reaction was further continued, and the solution of the acrylic resin was obtained. An acrylic resin solution was prepared by adding 1-methoxy-2-propylacetate to the resin solution so that the solid content was 30% by weight to obtain an alkali-soluble resin solution. The weight average molecular weight of the acrylic resin was about 20,000. After filtering with a 5 μm filter, it was used as a photosensitive decorative material.

[感光性加飾材料]
下記組成の混合物を均一に拡販混合した後、直径1mmのガラスビーズを用いて、サンドミルで5時間分散した後、5μmのフィルターで濾過して遮光剤の分散体を得た。
赤色顔料:C.I.ピグメントレッド254
(BASF社製「イルガーフォーレッド B−CF」) 50部
青色顔料:C.I.ピグメントブルー15:6
(東洋インキ社製、LIONOGEN BLUE 7706) 50部
分散剤(味の素ファインテクノ社製「アジスパーPB821」) 3.3部
アルカリ可溶性樹脂A 183部
その後、下記組成の混合物を均一になるように攪拌混合した後、5μmのフィルターで濾過して感光性加飾材料を得た。
上記分散体 233部
アルカリ可溶性樹脂A 173部
多官能重合性モノマー 50部
(東亜合成製「アロニックス M−400」)
光開始剤 25部
(チバ スペシャルティ ケミカルズ社製「イルガキュアー369」)
増感剤4,4’−ビス(ジエチルアミノ)ベンゾフェノン 5部
(保土ヶ谷化学工業社製「EAB−F」)
シクロヘキサノン 186部
プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート 333部
[Photosensitive decoration material]
A mixture having the following composition was spread and mixed uniformly, then dispersed with a sand mill for 5 hours using glass beads having a diameter of 1 mm, and then filtered with a 5 μm filter to obtain a dispersion of a light shielding agent.
Red pigment: C.I. I. Pigment Red 254
("ILGER FOR RED B-CF" manufactured by BASF) 50 parts Blue pigment: C.I. I. Pigment Blue 15: 6
(Toyo Ink Co., Ltd., LIONOGEN BLUE 7706) 50 parts Dispersant (Ajinomoto Fine Techno Co., Ltd. “Ajisper PB821”) 3.3 parts Alkali-soluble resin A 183 parts Thereafter, a mixture having the following composition was stirred and mixed to be uniform. Thereafter, the mixture was filtered through a 5 μm filter to obtain a photosensitive decorative material.
Dispersion 233 parts Alkali-soluble resin A 173 parts Multifunctional polymerizable monomer 50 parts ("Aronix M-400" manufactured by Toa Gosei)
Photoinitiator 25 parts ("Irgacure 369" manufactured by Ciba Specialty Chemicals)
Sensitizer 4,4'-bis (diethylamino) benzophenone 5 parts ("EAB-F" manufactured by Hodogaya Chemical Co., Ltd.)
186 parts cyclohexanone 333 parts propylene glycol monomethyl ether acetate

<2.ジャンパ配線の形成>
まず、DCマグネトロンスパッタ方式にて、170°Cにて加熱しながらスパッタする加熱スパッタによってITO膜を形成した。次に、一般的なノボラック系ポジレジストをスピンコートし、プレベーク後、露光したのち、アルカリ性現像液にてポジ現像を行った。ここで、露光はプロキシミティー露光方式(超高圧水銀ランプ)を使用し、露光用フォトマスクとしてはソーダガラスにCrでパターンを施したものを用いた。そして、シュウ酸((COOH)2)を主成分としたエッチング液を用いてエッチングし、ポジレジストを全面露光したのち、アルカリ性剥離液にてポジレジストを剥離して、ITO膜によりジャンパ配線を形成した。
<2. Jumper wiring formation>
First, an ITO film was formed by heat sputtering, in which sputtering was performed while heating at 170 ° C. by a DC magnetron sputtering method. Next, a general novolac positive resist was spin-coated, pre-baked, exposed, and then positively developed with an alkaline developer. Here, a proximity exposure system (ultra-high pressure mercury lamp) was used for exposure, and a soda glass patterned with Cr was used as a photomask for exposure. Then, etching is performed using an etching solution containing oxalic acid ((COOH) 2) as a main component, the entire surface of the positive resist is exposed, the positive resist is stripped with an alkaline stripping solution, and a jumper wiring is formed using an ITO film. did.

<3.絶縁膜の形成>
前記ジャンパ配線を形成したガラス基板面に、アクリル系絶縁材料をスピンコートにより塗布した。次に、プレベークして溶剤分を除去し、プロキシミティー露光方式(超高圧水銀ランプ)にて露光した。ここで、露光用フォトマスクとしては石英ガラスにCrでパターンを施したものを用いた。次に、アルカリ性現像液にて現像し、熱処理を行った。このようにして、ジャンパ配線上に絶縁膜を形成した。
<3. Formation of insulating film>
An acrylic insulating material was applied by spin coating on the glass substrate surface on which the jumper wiring was formed. Next, pre-baking was performed to remove the solvent, and exposure was performed by a proximity exposure system (super high pressure mercury lamp). Here, as a photomask for exposure, a quartz glass having a pattern made of Cr was used. Next, it developed with the alkaline developing solution and heat-processed. In this way, an insulating film was formed on the jumper wiring.

<4.引き出し配線の形成>
前記ガラス基板上に、DCマグネトロンスパッタ方式にて、真空中でMoの層、Alの層、Moの層を順次形成し、3層積層構造のMo/Al/Mo積層体を形成した。
<4. Formation of lead-out wiring>
On the glass substrate, a Mo layer, an Al layer, and a Mo layer were sequentially formed in vacuum by a DC magnetron sputtering method to form a three-layered Mo / Al / Mo laminated body.

次に、ノボラック系ポジレジストをスピンコートし、プレベーク後、露光したのち、アルカリ性現像液にてポジ現像を行った。ここで、露光はプロキシミティー露光方式(超高圧水銀ランプ)を使用し、露光用フォトマスクとしてはソーダガラスにCrでパターンを施したものを用いた。そして、燐酸・硝酸・酢酸の3成分系のエッチャント(エッチング液)にてエッチングし、ポジレジストを全面露光したのち、アルカリ性剥離液にてポジレジストを剥離して、金属材料からなる引き出し配線を形成した。   Next, a novolac positive resist was spin-coated, pre-baked, exposed, and then positively developed with an alkaline developer. Here, a proximity exposure system (ultra-high pressure mercury lamp) was used for exposure, and a soda glass patterned with Cr was used as a photomask for exposure. Etching with a phosphoric acid, nitric acid, and acetic acid ternary etchant (etching solution), exposing the entire positive resist, and then stripping the positive resist with an alkaline stripping solution to form a lead wiring made of a metal material did.

<5.透明電極の形成>
まず、DCマグネトロンスパッタ方式にて、170°Cにて加熱しながらスパッタする加熱スパッタによってITO膜を形成した。次に、一般的なノボラック系ポジレジストをスピンコートし、プレベーク後、露光したのち、アルカリ性現像液にてポジ現像を行った。ここで、露光はプロキシミティー露光方式(超高圧水銀ランプ)を使用し、露光用フォトマスクとしては石英ガラスにCrでパターンを施したものを用いた。そして、シュウ酸を主成分としたエッチング液を用いてエッチングし、ポジレジストを全面露光したのち、アルカリ性剥離液にてポジレジストを剥離した。このようにして、ITO膜によりX軸及びY軸方向の透明電極を形成した。
<5. Formation of transparent electrode>
First, an ITO film was formed by heat sputtering, in which sputtering was performed while heating at 170 ° C. by a DC magnetron sputtering method. Next, a general novolac positive resist was spin-coated, pre-baked, exposed, and then positively developed with an alkaline developer. Here, a proximity exposure system (ultra-high pressure mercury lamp) was used for exposure, and a quartz glass pattern with Cr was used as an exposure photomask. And it etched using the etching liquid which has oxalic acid as a main component, and exposed the positive resist to the whole surface, Then, the positive resist was peeled with the alkaline peeling liquid. In this way, transparent electrodes in the X-axis and Y-axis directions were formed from the ITO film.

<6.絶縁保護膜の形成>
まず、アクリル系オーバーコート材料をスピンコートにより塗布した。次に、プレベークして溶剤分を除去し、プロキシミティー露光方式(超高圧水銀ランプ)にて露光した。ここで、露光用フォトマスクとしてはソーダライムガラスにCrでパターンを施したものを用いた。次に、アルカリ性現像液にて現像し、熱処理を行った。このようにして、絶縁保護膜を形成して、タッチパネルセンサーを製造し完成させた。
<6. Formation of insulating protective film>
First, an acrylic overcoat material was applied by spin coating. Next, pre-baking was performed to remove the solvent, and exposure was performed by a proximity exposure system (super high pressure mercury lamp). Here, as the photomask for exposure, a soda lime glass patterned with Cr was used. Next, it developed with the alkaline developing solution and heat-processed. In this way, an insulating protective film was formed, and a touch panel sensor was manufactured and completed.

<7.ガラス基板の断裁・研磨>
耐エッチング性を有するフッ素系シートに弱粘着性を付与した耐エッチング膜シートを、タッチパネルセンサーが形成されている面とタッチパネルセンサーと対向のガラス面の両面に貼り合わせた。
<7. Cutting and polishing of glass substrates>
The etching-resistant film sheet | seat which provided weak adhesiveness to the fluorine-type sheet | seat which has etching resistance was bonded together on both surfaces of the surface in which the touch panel sensor is formed, and the glass surface facing a touch panel sensor.

次に、上記貼り合わせ基板を、6重量%のフッ酸、4重量%の硫酸、12重量%の塩酸を含有するエッチング液に10分浸漬してエッチングを終了し、断裁位置に切断用の溝を形成した。   Next, the bonded substrate is immersed in an etching solution containing 6% by weight of hydrofluoric acid, 4% by weight of sulfuric acid, and 12% by weight of hydrochloric acid for 10 minutes to complete the etching, and a cutting groove is formed at the cutting position. Formed.

その後、上記ガラス基板にブレークバーを当てて応力を加え、単品サイズの個片に断裁した。さらに、個片基板の外周端部に研磨を行ない、突部を除去した後、前記エッチング工程と同様のエッチング液を用いて残渣をエッチングした。   Thereafter, a stress was applied to the glass substrate by applying a break bar, and the glass substrate was cut into individual pieces. Further, the outer peripheral edge of the individual substrate was polished to remove the protrusions, and then the residue was etched using the same etching solution as in the etching step.

<8.DLC膜の形成>
個片に断裁されたガラス基板を、耐エッチング膜を残したままで真空チャンバー中に投入し、炭化水素ガスを導入しながらイオン化蒸着法を行うことによってガラス端面へのDLCコーティングを行った後、耐エッチング膜を剥離した。この時のDLC膜厚は1.5μmであった。
<8. Formation of DLC film>
The glass substrate cut into pieces is put into a vacuum chamber while leaving an etching resistant film, and after performing DLC coating on the glass end face by performing ionization vapor deposition while introducing hydrocarbon gas, The etching film was peeled off. The DLC film thickness at this time was 1.5 μm.

<9.個片印刷による遮光層形成>
前記の方法でDLC膜の形成後、ピースごとに断裁した個片基板に額縁部と基板端面に遮光材料のスクリーン印刷を行うことによりタッチパネルセンサーを得た。遮光材料は、下記組成物を3本ロールにて3回分散を実施することにより得た。
[個片印刷用遮光材料]
カーボンブラック 40部
アクリル分散樹脂(日本化薬社製:ZFR−1124) 30部
消泡剤(ビックケミー社製:BYK−066N) 1部
溶剤:1−メトキシ−2−プロピルアセテート 19部
<9. Shading layer formation by individual printing>
After the DLC film was formed by the above method, a touch panel sensor was obtained by performing screen printing of a light shielding material on the frame portion and the end face of the substrate on the individual substrate cut for each piece. The light shielding material was obtained by dispersing the following composition three times with three rolls.
[Shading material for individual printing]
Carbon black 40 parts Acrylic dispersion resin (manufactured by Nippon Kayaku Co., Ltd .: ZFR-1124) 30 parts Antifoaming agent (BIC Chemie: BYK-066N) 1 part Solvent: 1-methoxy-2-propyl acetate 19 parts

(実施例2)
DLC膜厚を0.02μmとすること以外は、実施例1と同様にしてタッチパネルセンサー基板を作製した。
(Example 2)
A touch panel sensor substrate was produced in the same manner as in Example 1 except that the DLC film thickness was 0.02 μm.

(実施例3)
DLC膜厚を0.03μmとすること以外は、実施例1と同様にしてタッチパネルセンサー基板を作製した。
(Example 3)
A touch panel sensor substrate was produced in the same manner as in Example 1 except that the DLC film thickness was 0.03 μm.

(実施例4)
DLC膜厚を19.5μmとすること以外は、実施例1と同様にしてタッチパネルセンサー基板を作製した。
Example 4
A touch panel sensor substrate was produced in the same manner as in Example 1 except that the DLC film thickness was 19.5 μm.

(実施例5)
DLC膜厚を21.3μmとすること以外は、実施例1と同様にしてタッチパネルセンサー基板を作製した。
(Example 5)
A touch panel sensor substrate was produced in the same manner as in Example 1 except that the DLC film thickness was 21.3 μm.

(比較例1)
個片に断裁されたガラス基板の端部にDLC膜を形成しないこと以外は、実施例1と同様にしてタッチパネルセンサー基板を作製した。
(Comparative Example 1)
A touch panel sensor substrate was produced in the same manner as in Example 1 except that the DLC film was not formed on the edge of the glass substrate cut into pieces.

<タッチパネルセンサー基板の評価>
実施例1〜5および比較例1で得られたタッチパネルセンサー基板について、以下に記載の4点曲げ試験、振り子試験により耐衝撃性を評価した。結果を表1に示す。
<Evaluation of touch panel sensor substrate>
For the touch panel sensor substrates obtained in Examples 1 to 5 and Comparative Example 1, the impact resistance was evaluated by the following four-point bending test and pendulum test. The results are shown in Table 1.

[4点曲げ評価]
タッチパネルセンサー基板のガラス端面部にサンドペーパー(#400)にて250gで加傷を行った後、「JIS R 1601 ファインセラミックスの曲げ強さ試験方法」に準じて、4点曲げ試験によってガラス強度を測定した。加圧子を降下させる速度は10mm/分とした。このような強度測定をガラス基材20枚について行い、平均値を求めた。
[4-point bending evaluation]
The glass end face of the touch panel sensor substrate is scratched with 250 g of sandpaper (# 400), and then the glass strength is measured by a four-point bending test according to “JIS R 1601 Fine Ceramic Bending Strength Test Method”. It was measured. The speed at which the pressurizer was lowered was 10 mm / min. Such strength measurement was performed on 20 glass substrates, and an average value was obtained.

[振り子試験]
高さ30cmから重量30gの鋼球をつけた振り子を作製し、カバーガラスの端面に接触するように角度45度及び90度から落下させ、ガラス端面の外観を観察した。その結果、外観異常なし:○、外観異常あり:×とした。
[Pendulum test]
A pendulum with a steel ball having a height of 30 g and a weight of 30 g was prepared and dropped from 45 degrees and 90 degrees so as to contact the end face of the cover glass, and the appearance of the glass end face was observed. As a result, there was no appearance abnormality: ○, and there was appearance abnormality: x.

<比較結果>
表1よりいずれの実施例においても、4点曲げ試験におけるガラス強度及び振り子試験強度が向上している。しかし、実施例2においてはDLC膜の膜厚が十分でないために、他の実施例に比べてガラス強度が劣る結果となった。一方、実施例5においては振り子試験90度によりDLC膜の浮きが観察された。比較例において、4点曲げ試験では加傷による傷を起点に破損し、振り子試験では45度からチッピングが確認された。
<Comparison result>
As can be seen from Table 1, the glass strength and the pendulum test strength in the 4-point bending test are improved in any of the examples. However, in Example 2, since the film thickness of the DLC film was not sufficient, the glass strength was inferior compared to other examples. On the other hand, in Example 5, floating of the DLC film was observed by the pendulum test at 90 degrees. In the comparative example, the four-point bending test was damaged starting from scratches, and the pendulum test confirmed chipping from 45 degrees.

本発明は、携帯電話機や、携帯情報端末などの電子機器用の座標検出機能付き画像表示装置として利用することができる。   The present invention can be used as an image display device with a coordinate detection function for an electronic device such as a mobile phone or a portable information terminal.

1・・・ガラス基板
2・・・化学強化処理層
3・・・DLC膜
4・・・タッチパネルセンサー基板
5・・・表示領域
6・・・加飾額縁領域
7・・・X,Y軸方向の透明電極
8・・・液晶パネル
9・・・筐体
10・・座標検出機能付き画像表示装置
11・・X軸方向の透明電極
12・・Y軸方向の透明電極
13・・X軸方向の透明電極の接続部
14・・Y軸方向の透明電極の接続部
15・・絶縁層
16・・引き出し配線
DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 ... Glass substrate 2 ... Chemical strengthening process layer 3 ... DLC film 4 ... Touch panel sensor substrate 5 ... Display area 6 ... Decorated frame area 7 ... X, Y-axis direction Transparent electrode 8 ... liquid crystal panel 9 ... casing 10 ... image display device 11 with coordinate detection function ... transparent electrode 12 in X axis direction ... transparent electrode 13 in Y axis direction ... Transparent electrode connection part 14 .. Transparent electrode connection part 15 in the Y-axis direction .. Insulating layer 16..

Claims (4)

透明で表裏に化学強化処理層を有し、且つ、その端部断面にDLC膜が形成されて成ることを特徴とするガラス基板。   A glass substrate, which is transparent and has a chemically strengthened layer on both sides, and a DLC film is formed on the end cross section. 請求項1に記載のガラス基板の一方の面に、少なくともX軸方向及びY軸方向の透明電極を有する表示領域と、前記表示領域の外周を遮光する加飾額縁領域とが形成されていることを特徴とするタッチパネルセンサー基板。   A display area having at least a transparent electrode in the X-axis direction and the Y-axis direction and a decorative frame area that shields the outer periphery of the display area are formed on one surface of the glass substrate according to claim 1. Touch panel sensor board characterized by 透明基板の一方の面に、少なくともX軸方向及びY軸方向の透明電極を有する表示領域と、前記表示領域の外周を遮光する加飾額縁領域とを形成し、さらにその上に請求項1に記載のガラス基板を積層したことを特徴とするタッチパネルセンサー基板。   A display region having transparent electrodes in at least the X-axis direction and the Y-axis direction and a decorative frame region that shields the outer periphery of the display region are formed on one surface of the transparent substrate, and further on the display region. A touch panel sensor substrate, wherein the glass substrate described above is laminated. 請求項2または3に記載のタッチパネルセンサー基板を搭載したことを特徴とする座標検出機能付き画像表示装置。   An image display device with a coordinate detection function, wherein the touch panel sensor substrate according to claim 2 is mounted.
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