JP2015166770A - Ultra violet radiation apparatus and method of manufacturing optical film - Google Patents

Ultra violet radiation apparatus and method of manufacturing optical film Download PDF

Info

Publication number
JP2015166770A
JP2015166770A JP2014040765A JP2014040765A JP2015166770A JP 2015166770 A JP2015166770 A JP 2015166770A JP 2014040765 A JP2014040765 A JP 2014040765A JP 2014040765 A JP2014040765 A JP 2014040765A JP 2015166770 A JP2015166770 A JP 2015166770A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
light
film
optical film
ultraviolet
curable resin
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
JP2014040765A
Other languages
Japanese (ja)
Inventor
政典 福田
Masanori Fukuda
政典 福田
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Dai Nippon Printing Co Ltd
Original Assignee
Dai Nippon Printing Co Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Dai Nippon Printing Co Ltd filed Critical Dai Nippon Printing Co Ltd
Priority to JP2014040765A priority Critical patent/JP2015166770A/en
Publication of JP2015166770A publication Critical patent/JP2015166770A/en
Pending legal-status Critical Current

Links

Images

Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To increase the radiation amount of ultraviolet rays by effectively avoiding reduction in reliability and accuracy regarding an optical film such as a pattern phase difference film.SOLUTION: Disclosed is an ultraviolet radiation apparatus which is used for manufacturing an optical film 1 equipped with an optical functional layer 4 made of ultraviolet curable resin. The ultraviolet curable resin has a peak of light quantity distribution only in the wavelength band in which the ultraviolet curable resin efficiently reacts. From a light source 10 in which light quantity is distributed in the neighboring band with this wavelength band as the center, ultraviolet rays are emitted which are used for curing of the ultraviolet curable resin.

Description

本発明は、パッシブ方式による3次元画像表示装置に係るパターン位相差フィルム等の光学フィルムの製造に関するものである。   The present invention relates to the production of an optical film such as a pattern retardation film according to a passive three-dimensional image display device.

近年、パッシブ方式により3次元画像を表示する画像表示装置が提供されている。ここで図10は、液晶表示パネルを使用したパッシブ方式の画像表示装置を示す概略図である。パッシブ方式の画像表示装置は、垂直方向又は水平方向(この図10の例では、垂直方向)に連続する液晶表示パネルの画素を、順次交互に、右目用及び左目用に割り当て、それぞれ右目用及び左目用の画像データで駆動し、これにより右目用の画像と左目用の画像とを同時に表示する。また液晶表示パネルのパネル面(視聴者側面)にパターン位相差フィルムを配置し、右目用の画素及び左目用の画素からの直線偏光による出射光を、右目用及び左目用で方向の異なる円偏光に変換する。これによりパッシブ方式では、対応する偏光フィルタを備えてなる眼鏡を装着して、右目用の画像と左目用の画像とをそれぞれ選択的に視聴者の右目及び左目に提供し、3次元画像を表示する。   In recent years, an image display device that displays a three-dimensional image by a passive method has been provided. Here, FIG. 10 is a schematic view showing a passive type image display apparatus using a liquid crystal display panel. The passive-type image display device sequentially assigns pixels of the liquid crystal display panel that are continuous in the vertical direction or the horizontal direction (vertical direction in the example of FIG. 10) for the right eye and the left eye, respectively. Driving with the image data for the left eye, thereby displaying the image for the right eye and the image for the left eye simultaneously. In addition, a pattern retardation film is arranged on the panel surface (viewer side) of the liquid crystal display panel so that the light emitted from the right-eye pixel and the left-eye pixel is linearly polarized light having different directions for the right-eye and left-eye. Convert to As a result, in the passive method, glasses equipped with corresponding polarizing filters are worn, and a right-eye image and a left-eye image are selectively provided to the viewer's right and left eyes, respectively, and a three-dimensional image is displayed. To do.

このためパターン位相差フィルムは、液晶表示パネルにおける画素の設定に対応して、遅相軸方向(屈折率が最大となる方向)が直交する2種類の帯状領域が順次交互に形成される。なおここでこの隣接する帯状領域の遅相軸方向は、通常、水平方向に対して、+45度と−45度の組み合わせ、又は0度と+90度の組み合わせが採用される。なおこの図10の例では、通常の画像表示装置における呼称に習って画面の長辺方向を水平方向として示す。   Therefore, in the pattern retardation film, two types of band-like regions in which the slow axis direction (direction in which the refractive index is maximized) are orthogonal to each other are sequentially formed corresponding to the setting of the pixels in the liquid crystal display panel. Here, the slow axis direction of the adjacent band-like regions is usually a combination of +45 degrees and −45 degrees or a combination of 0 degrees and +90 degrees with respect to the horizontal direction. In the example of FIG. 10, the long side direction of the screen is shown as the horizontal direction in accordance with the name in the normal image display apparatus.

このパッシブ方式は、応答速度の遅い画像表示装置でも適用することができ、さらにパターン位相差フィルムと円偏光メガネとを用いた簡易な構成で3次元表示することができる。なおパッシブ方式の画像表示装置では、図10の例による垂直方向に代えて、水平方向に連続する画素を順次交互に右目用及び左目用に振り分ける方法も採用される。   This passive method can also be applied to an image display device having a slow response speed, and can display three-dimensionally with a simple configuration using a pattern retardation film and circularly polarized glasses. In the passive type image display device, a method of sequentially assigning pixels consecutive in the horizontal direction to the right eye and the left eye instead of the vertical direction in the example of FIG. 10 is also employed.

このパッシブ方式に係るパターン位相差フィルムは、画素の割り当てに対応して透過光に位相差を与えるパターン状の位相差層が必要である。このパターン位相差フィルムに関して、特許文献1には、配向規制力を制御した光配向層をガラス基板上に形成し、この光配向層により液晶の配列をパターンニングして位相差層を作製する方法が開示されている。また特許文献2には、レーザーの照射によりロール版の周側面に微細な凹凸形状を形成し、この凹凸形状を転写してパターン状に配向規制力を制御した配向層を作製する方法が開示されている。   The pattern phase difference film according to this passive method requires a pattern-like phase difference layer that gives a phase difference to transmitted light corresponding to the allocation of pixels. With respect to this pattern retardation film, Patent Document 1 discloses a method of forming a retardation layer by forming a photo-alignment layer on a glass substrate with controlled orientation regulating force and patterning the alignment of liquid crystals with this photo-alignment layer. Is disclosed. Further, Patent Document 2 discloses a method of forming an alignment layer in which a fine uneven shape is formed on the peripheral side surface of a roll plate by laser irradiation, and the uneven shape is transferred to control the alignment regulating force in a pattern shape. ing.

また特許文献3には、長尺フィルム材に光配向膜を作成し、この光配向膜の配向規制力により液晶をパターンニングして位相差層を作成することによりパターン位相差フィルムを作成する構成が開示されている。より具体的に、この特許文献3に開示の構成では、透明フィルム材に光配向膜の塗工液を塗工した後、偏光露光技術によりストライプ状に配向規制力を備えた光配向膜を作成する。またこの光配向膜の上に、紫外線硬化性の液晶材料による位相差層の塗工液を塗工した後、光配向膜の配向規制力によりこの液晶材料を配向させた状態で紫外線の照射により硬化させ、これにより位相差層を作成する。   Patent Document 3 discloses a configuration in which a photo-alignment film is formed on a long film material, and a liquid crystal is patterned by the alignment regulating force of the photo-alignment film to form a retardation layer, thereby creating a pattern retardation film. Is disclosed. More specifically, in the configuration disclosed in Patent Document 3, after applying a coating liquid of a photo-alignment film on a transparent film material, a photo-alignment film having an alignment regulating force in a stripe shape is created by a polarization exposure technique. To do. In addition, a coating liquid for a retardation layer made of an ultraviolet curable liquid crystal material is applied onto the photo-alignment film, and then the liquid crystal material is aligned by the alignment regulating force of the photo-alignment film, and then irradiated with ultraviolet rays. Curing is performed, thereby forming a retardation layer.

従来、このような位相差層の硬化に供する紫外線の照射には、高圧水銀ランプによる光源、高圧水銀ランプと同様のスペクトルを有する無電極ランプ等による光源が使用されていた。   Conventionally, a light source using a high-pressure mercury lamp, an electrodeless lamp having a spectrum similar to that of the high-pressure mercury lamp, or the like has been used for the irradiation of ultraviolet rays used for curing the retardation layer.

ところで光源による紫外線の照射量を増大すると、配向膜に対する位相差層の密着強度を増大させることができ、信頼性を向上することができる。しかしながらこのように紫外線の照射量が増大すると、位相差層自体劣化し、却って信頼性が低下する問題がある。また基材である透明フィルム材が熱により損傷して信頼性が低下し、さらに熱収縮してパターン位相差フィルムの作製精度が著しく低下する問題もある。なお従来のパターン位相差フィルムの製造工程では、このような熱による透明フィルム材の損傷、熱収縮を防止するために、内部に冷却用の液体を循環させて周側面に接触するフィルム材を冷却する冷却ロールにフィルム材を巻き付けて紫外線を照射しているものの、紫外線の照射量を増大させると、この構成でも実用上未だ不十分な問題がある。   By the way, when the irradiation amount of the ultraviolet rays by the light source is increased, the adhesion strength of the retardation layer to the alignment film can be increased, and the reliability can be improved. However, when the irradiation amount of ultraviolet rays increases in this way, there is a problem that the retardation layer itself deteriorates and the reliability decreases. Moreover, the transparent film material which is a base material is damaged by heat and reliability is lowered, and further, there is a problem that the production accuracy of the pattern retardation film is remarkably lowered due to heat shrinkage. In the manufacturing process of the conventional pattern retardation film, in order to prevent such damage to the transparent film material due to heat and heat shrinkage, the film material contacting the peripheral side surface is cooled by circulating a cooling liquid inside. Although a film material is wound around the cooling roll to irradiate ultraviolet rays, there is still a problem that is practically insufficient even with this configuration when the irradiation amount of ultraviolet rays is increased.

特開2005−49865号公報JP 2005-49865 A 特開2010−152296号公報JP 2010-152296 A 特開2014−10358号公報JP 2014-10358 A

本発明は、このような実情に鑑みて提案されたものであり、パターン位相差フィルム等の光学フィルムに関して、信頼性、精度の低下を有効に回避して、紫外線の照射量を増大させることができるようにする。   The present invention has been proposed in view of such circumstances, and for optical films such as pattern retardation films, it is possible to effectively avoid a decrease in reliability and accuracy and increase the amount of ultraviolet irradiation. It can be so.

(1) 紫外線硬化性樹脂による光学機能層を備えた光学フィルムの製造に使用する紫外線照射装置において、
前記紫外線硬化性樹脂が効率良く反応する波長帯域にのみ光量分布のピークを有し、当該波長帯域を中心とした近傍帯域にのみに光量が分布している光源から、前記紫外線硬化性樹脂の硬化に供する紫外線を射出する。
(1) In an ultraviolet irradiation device used for manufacturing an optical film having an optical functional layer made of an ultraviolet curable resin,
Curing of the ultraviolet curable resin from a light source having a peak of light amount distribution only in a wavelength band in which the ultraviolet curable resin reacts efficiently, and in which a light amount is distributed only in a nearby band centered on the wavelength band Inject ultraviolet light for use.

(1)によれば、短波長成分による光学機能層の損傷を有効に回避することができ、また長波長成分による基材の熱損傷、熱収縮を防止することができ、その結果、信頼性、精度の劣化を有効に回避して紫外線の照射量を増大させることができる。   According to (1), damage to the optical functional layer due to the short wavelength component can be effectively avoided, and thermal damage and thermal shrinkage of the base material due to the long wavelength component can be prevented. As a result, reliability is improved. Therefore, it is possible to effectively avoid the deterioration of accuracy and increase the irradiation amount of ultraviolet rays.

(2) (1)において、前記光源が、複数の発光ダイオードである。   (2) In (1), the light source is a plurality of light emitting diodes.

(2)によれば、より具体的構成により紫外線照射装置を構成することができる。   According to (2), the ultraviolet irradiation device can be configured with a more specific configuration.

(3) (2)において、
前記光学フィルムの基材を幅方向に横切るように、前記複数の発光ダイオードが、列状に配置され、
前記光学フィルムの基材の長手方向に、前記列状の配置が複数設けられる。
(3) In (2),
The plurality of light emitting diodes are arranged in a row so as to cross the substrate of the optical film in the width direction,
A plurality of the row-like arrangements are provided in the longitudinal direction of the substrate of the optical film.

(3)によれば、均一かつ十分な光量分布により紫外線を照射することができる。   According to (3), it is possible to irradiate ultraviolet rays with a uniform and sufficient light amount distribution.

(4) (3)において、前記発光ダイオードが千鳥に配置された。   (4) In (3), the light emitting diodes are arranged in a staggered manner.

(4)によれば、一段と均一な光量分布により紫外線を照射することができる。   According to (4), it is possible to irradiate ultraviolet rays with a more uniform light amount distribution.

(5) 紫外線硬化性樹脂による光学機能層を備えた光学フィルムの製造方法において、
前記紫外線硬化性樹脂が効率良く反応する波長帯域にのみ光量分布のピークを有し、当該波長帯域を中心とした近傍帯域にのみに光量が分布している光源から、前記紫外線硬化性樹脂の硬化に供する紫外線を射出する。
(5) In the method for producing an optical film having an optical functional layer made of an ultraviolet curable resin,
Curing of the ultraviolet curable resin from a light source having a peak of light amount distribution only in a wavelength band in which the ultraviolet curable resin reacts efficiently, and in which a light amount is distributed only in a nearby band centered on the wavelength band Inject ultraviolet light for use.

(5)によれば、短波長成分による光学機能層の損傷を有効に回避することができ、また長波長成分による基材の熱損傷、熱収縮を防止することができ、その結果、信頼性、精度の劣化を有効に回避して紫外線の照射量を増大させることができる。   According to (5), damage to the optical functional layer due to the short wavelength component can be effectively avoided, and thermal damage and thermal shrinkage of the substrate due to the long wavelength component can be prevented, and as a result, reliability Therefore, it is possible to effectively avoid the deterioration of accuracy and increase the irradiation amount of ultraviolet rays.

(6) (5)において、前記光源が、複数の発光ダイオードである。   (6) In (5), the light source is a plurality of light emitting diodes.

(6)によれば、より具体的構成により紫外線照射装置を構成することができる。   According to (6), the ultraviolet irradiation device can be configured with a more specific configuration.

(7) (6)において、
前記光学フィルムの基材を幅方向に横切るように、前記複数の発光ダイオードが、列状に配置され、
前記光学フィルムの基材の長手方向に、前記列状の配置が複数設けられる。
(7) In (6),
The plurality of light emitting diodes are arranged in a row so as to cross the substrate of the optical film in the width direction,
A plurality of the row-like arrangements are provided in the longitudinal direction of the substrate of the optical film.

(7)によれば、均一かつ十分な光量分布により紫外線を照射することができる。   According to (7), it is possible to irradiate ultraviolet rays with a uniform and sufficient light amount distribution.

(8) (7)において、前記発光ダイオードが千鳥に配置された。   (8) In (7), the light emitting diodes are arranged in a staggered manner.

(8)によれば、一段と均一な光量分布により紫外線を照射することができる。   According to (8), it is possible to irradiate ultraviolet rays with a more uniform light amount distribution.

(9) (5)、(6)、(7)、又は(8)において、
前記光学フィルムが、パターン位相差フィルムであり、
前記光学機能層が、透過光に与える位相差が異なる2つの帯状の領域が順次交互に設けられた位相差層である。
(9) In (5), (6), (7), or (8),
The optical film is a pattern retardation film,
The optical functional layer is a phase difference layer in which two band-like regions having different phase differences to transmitted light are alternately provided.

(9)によれば、パターン位相差フィルムに関して、信頼性、精度の低下を有効に回避して、紫外線の照射量を増大させ、配向膜と位相差層との密着力を増大させることができる。   According to (9), regarding the pattern retardation film, it is possible to effectively avoid a decrease in reliability and accuracy, increase the irradiation amount of ultraviolet rays, and increase the adhesion between the alignment film and the retardation layer. .

本発明によれば、パターン位相差フィルム等の光学フィルムに関して、信頼性、精度の低下を有効に回避して、紫外線の照射量を増大させることができる。   ADVANTAGE OF THE INVENTION According to this invention, regarding optical films, such as a pattern phase difference film, the fall of reliability and precision can be avoided effectively and the irradiation amount of an ultraviolet-ray can be increased.

本発明の第1実施形態に係るパターン位相差フィルムの説明に供する図である。It is a figure where it uses for description of the pattern phase difference film which concerns on 1st Embodiment of this invention. 図1のパターン位相差フィルムの製造工程を示すフローチャートである。It is a flowchart which shows the manufacturing process of the pattern phase difference film of FIG. 図1のパターン位相差フィルムの露光工程の説明に供する図である。It is a figure where it uses for description of the exposure process of the pattern phase difference film of FIG. 図1のパターン位相差フィルムの露光工程の他の例の説明に供する図である。It is a figure where it uses for description of the other example of the exposure process of the pattern phase difference film of FIG. 図1のパターン位相差フィルムの露光工程の図3及び図4の例とは異なる例の説明に供する図である。It is a figure where it uses for description of the example different from the example of FIG.3 and FIG.4 of the exposure process of the pattern phase difference film of FIG. 高圧水銀ランプの出射光のスペクトラム解析結果を示す特性曲線図である。It is a characteristic curve figure which shows the spectrum analysis result of the emitted light of a high pressure mercury lamp. 紫外線を射出する発光ダイオードにおける出射光のスペクトラムを示す特性曲線図である。It is a characteristic curve figure which shows the spectrum of the emitted light in the light emitting diode which inject | emits an ultraviolet-ray. 発光ダイオードの配置の説明に供する図である。It is a figure where it uses for description of arrangement | positioning of a light emitting diode. 発光ダイオードの他の配置の説明に供する図である。It is a figure where it uses for description of other arrangement | positioning of a light emitting diode. パッシブ方式による3次元画像表示の説明に供する図である。It is a figure where it uses for description of the three-dimensional image display by a passive system.

以下、図面を参照しながら本発明の実施形態を詳述する。   Hereinafter, embodiments of the present invention will be described in detail with reference to the drawings.

〔第1実施形態〕
図1は、本発明の第1実施形態に係る画像表示装置に適用されるパターン位相差フィルムを示す図である。この第1実施形態に係る画像表示装置は、垂直方向(図1においては左右方向が対応する方向である)に連続する液晶表示パネルの画素が、順次交互に、右目用の画像を表示する右目用画素、左目用の画像を表示する左目用画素に振り分けられて、それぞれ右目用及び左目用の画像データで駆動される。これにより画像表示装置は、右目用の画像を表示する帯状の領域と、左目用の画像を表示する帯状の領域とに表示画面が交互に区分され、右目用の画像と左目用の画像とを同時に表示する。この画像表示装置は、この液晶表示パネルのパネル面(視聴者側面)に、パターン位相差フィルム1が配置され、このパターン位相差フィルム1により右目用及び左目用の画素からの出射光にそれぞれ対応する位相差を与える。これによりこの画像表示装置は、パッシブ方式により所望の立体画像を表示する。
[First Embodiment]
FIG. 1 is a diagram showing a pattern retardation film applied to the image display device according to the first embodiment of the present invention. In the image display device according to the first embodiment, the pixels of the liquid crystal display panel that are continuous in the vertical direction (the left-right direction is the corresponding direction in FIG. 1) sequentially and alternately display the right-eye image. The pixels are assigned to the left-eye pixels for displaying the left-eye image and the left-eye image, and are driven by the right-eye and left-eye image data, respectively. As a result, the image display device alternately divides the display screen into a band-like region for displaying an image for the right eye and a band-like region for displaying an image for the left eye, so that the image for the right eye and the image for the left eye are divided. Display at the same time. In this image display device, a pattern phase difference film 1 is disposed on the panel surface (viewer side surface) of the liquid crystal display panel, and the pattern phase difference film 1 corresponds to light emitted from right-eye and left-eye pixels, respectively. To give the phase difference. Thereby, this image display apparatus displays a desired three-dimensional image by a passive method.

ここでパターン位相差フィルム1は、TAC(トリアセチルセルロース)、アクリル、シクロオレフィンポリマー等の透明フィルムからなる基材2の一方の面上に、配向層3、位相差層4、感圧粘着剤による粘着剤層5、セパレータフィルム6が順次設けられる。パターン位相差フィルム1は、セパレータフィルム6を引き剥がして粘着剤層5を露出させた後、この粘着剤層5により液晶表示パネルに係る直線偏光板に貼り付けられる。パターン位相差フィルムは、その後、この直線偏光板と一体に画像表示パネルのパネル面に貼り付けられることにより、画像表示パネルのパネル面に配置される。なお基材2は、種々の透明フィルム材を広く適用することができるものの、光学的等方性に優れ、光学的特性に優れたTACのフィルム材を適用することが好ましい。粘着剤層5は、例えばアクリル系粘着剤等、この種の光学フィルムの貼り合せに使用する各種の粘着剤を適用することができる。セパレータフィルム6は、この実施形態では、後工程での透過光による光学特性の検査の妨げにならないように、透明であって、かつ配向性の小さなフィルムが適用される。より具体的に、ポリエチレンフィルム、PET(Polyethylene terephthalate)フィルム等を適用することができる。   Here, the pattern retardation film 1 has an orientation layer 3, a retardation layer 4, and a pressure-sensitive adhesive on one surface of a substrate 2 made of a transparent film such as TAC (triacetylcellulose), acrylic, and cycloolefin polymer. A pressure-sensitive adhesive layer 5 and a separator film 6 are sequentially provided. The pattern retardation film 1 is peeled off the separator film 6 to expose the pressure-sensitive adhesive layer 5, and is then attached to the linear polarizing plate according to the liquid crystal display panel by the pressure-sensitive adhesive layer 5. Thereafter, the pattern retardation film is disposed on the panel surface of the image display panel by being attached to the panel surface of the image display panel integrally with the linear polarizing plate. Although various transparent film materials can be widely applied to the base material 2, it is preferable to apply a TAC film material that is excellent in optical isotropy and excellent in optical characteristics. For the pressure-sensitive adhesive layer 5, various pressure-sensitive adhesives used for bonding of this type of optical film, such as an acrylic pressure-sensitive adhesive, can be applied. In this embodiment, the separator film 6 is a transparent film having a small orientation so as not to hinder the inspection of optical characteristics by transmitted light in a subsequent process. More specifically, a polyethylene film, a PET (Polyethylene terephthalate) film, or the like can be applied.

パターン位相差フィルム1は、屈折率異方性を保持した状態で固化(硬化)された液晶材料により位相差層4が形成され、この液晶材料の配向を配向層3の配向規制力によりパターンニングする。なおこの液晶分子の配向を図1では細長い楕円により誇張して示す。このパターンニングにより、パターン位相差フィルム1は、液晶表示パネルにおける画素の割り当てに対応して、一定の幅により、右目用の領域Aと左目用の領域Bとが順次交互に帯状に形成され、右目用及び左目用の画素からの出射光にそれぞれ対応する位相差を与える。   In the pattern retardation film 1, a retardation layer 4 is formed of a liquid crystal material that is solidified (cured) while maintaining refractive index anisotropy, and the alignment of the liquid crystal material is patterned by the alignment regulating force of the alignment layer 3. To do. In FIG. 1, the orientation of the liquid crystal molecules is exaggerated by an elongated ellipse. By this patterning, the pattern phase difference film 1 is formed in a band shape alternately with the right-eye area A and the left-eye area B sequentially with a certain width corresponding to the pixel assignment in the liquid crystal display panel. A phase difference corresponding to each light emitted from the right-eye pixel and the left-eye pixel is given.

パターン位相差フィルム1は、光配向材料により光配向材料層が作製された後、いわゆる光配向の手法によりこの光配向材料層に直線偏光による紫外線を照射し、これにより光配向の手法を適用して配向層3が形成される。ここでこの光配向材料層に照射する紫外線は、その偏光の方向が右目用の領域(第1の領域)Aと左目用の領域(第2の領域)Bとで90度異なるように設定され、これにより位相差層4に設けられる液晶材料に関して、右目用の領域Aと左目用の領域Bとで対応する向きに液晶分子を配向させ、透過光に対応する位相差を与える。なお光配向材料は、光配向の手法を適用可能な各種の材料を適用することができるものの、この実施形態では、例えば光2量化型の材料を使用する。なおこの光2量化型の材料については、「M.Schadt, K.Schmitt, V. Kozinkov and V. Chigrinov : Jpn. J. Appl.Phys., 31, 2155 (1992)」、「M. Schadt, H. Seiberle and A. Schuster : Nature, 381, 212 (1996)」等に開示されているものを用いることができる。   After the photo-alignment material layer is produced from the photo-alignment material, the pattern retardation film 1 is irradiated with ultraviolet rays by linearly polarized light by a so-called photo-alignment method, and thereby the photo-alignment method is applied. Thus, the alignment layer 3 is formed. Here, the ultraviolet rays applied to the photo-alignment material layer are set so that the direction of polarization differs between the right-eye region (first region) A and the left-eye region (second region) B by 90 degrees. Thus, with respect to the liquid crystal material provided in the retardation layer 4, liquid crystal molecules are aligned in the corresponding directions in the right-eye region A and the left-eye region B, and a phase difference corresponding to transmitted light is given. Although various materials to which the photo-alignment technique can be applied can be applied as the photo-alignment material, in this embodiment, for example, a light dimerization type material is used. The light dimerization type material is described in “M. Schadt, K. Schmitt, V. Kozinkov and V. Chigrinov: Jpn. J. Appl. Phys., 31, 2155 (1992)”, “M. Schadt, H. Seiberle and A. Schuster: Nature, 381, 212 (1996) "can be used.

さらにこの実施形態において、パターン位相差フィルム1は、基材2の他方の面に、反射防止層7、保護フィルム8が順次設けられる。ここで反射防止層7は、外光の写り込みによる視認性の劣化を防止するための防眩性ハードコート層と、いわゆるクリア系反射防止表面材の塗布により白っぽさを低減してコントラストを向上させる低反射層との積層により構成され、これによりこの実施形態では透明感を確保して反射率を低減し、高品位の画像を表示する。   Furthermore, in this embodiment, the anti-reflection layer 7 and the protective film 8 are sequentially provided on the other surface of the substrate 2 in the pattern retardation film 1. Here, the antireflection layer 7 has a contrast by reducing the whitishness by applying an antiglare hard coat layer for preventing visibility deterioration due to reflection of external light and a so-called clear antireflection surface material. In this embodiment, transparency is ensured, the reflectance is reduced, and a high-quality image is displayed.

保護フィルム8は、生産過程、搬送過程等において、パターン位相差フィルム1の傷つきを防止するために配置される。保護フィルム8は、この実施形態では、後工程での透過光による光学特性の検査の妨げにならないように、透明であって、かつ配向性の小さなフィルムが適用される。より具体的に、ポリエチレンフィルム、PET(Polyethylene terephthalate)フィルム等を適用することができる。   The protective film 8 is disposed in order to prevent the pattern retardation film 1 from being damaged in the production process, the conveyance process, and the like. In this embodiment, the protective film 8 is made of a transparent and small-orientation film so as not to hinder the inspection of the optical characteristics by transmitted light in a subsequent process. More specifically, a polyethylene film, a PET (Polyethylene terephthalate) film, or the like can be applied.

〔位相差層〕
位相差層4は、重合性液晶組成物を含有する。この重合性液晶組成物は、液晶性を示し分子内に重合性官能基を有する液晶化合物(以下、「棒状化合物」ともいう。)のほか、アンチブロッキング剤等を含有させることができる。
(Retardation layer)
The retardation layer 4 contains a polymerizable liquid crystal composition. This polymerizable liquid crystal composition can contain an antiblocking agent and the like in addition to a liquid crystal compound exhibiting liquid crystallinity and having a polymerizable functional group in the molecule (hereinafter also referred to as “rod-like compound”).

棒状化合物は、屈折率異方性を有し、配向層3の配向規制力により規則的に配列することにより、所望の位相差性を付与する機能を有する。棒状化合物として、例えば、ネマチック相、スメクチック相等の液晶相を示す材料が挙げられるが、他の液晶相を示す液晶化合物と比較して規則的に配列させることが容易である点で、ネマチック相を示す棒状化合物を用いることがより好ましい。   The rod-shaped compound has a refractive index anisotropy, and has a function of imparting a desired phase difference by arranging regularly by the alignment regulating force of the alignment layer 3. Examples of the rod-like compound include materials exhibiting a liquid crystal phase such as a nematic phase and a smectic phase, but the nematic phase is easier to arrange regularly than liquid crystal compounds exhibiting other liquid crystal phases. It is more preferable to use the rod-shaped compound shown.

本実施形態において用いられる棒状化合物の具体例としては、例えば、下記式(1)〜(16)で表される化合物を例示できる。   Specific examples of the rod-shaped compound used in the present embodiment include compounds represented by the following formulas (1) to (16).

Figure 2015166770
Figure 2015166770

〔製造工程〕
図2は、このパターン位相差フィルム1の製造工程を示すフローチャートである。パターン位相差フィルム1の製造工程は、ロールに巻き取った長尺フィルムにより基材2が提供され、反射防止層作成工程SP2において、基材2の表面処理により、基材2に防眩性ハードコート層、低反射層が順次作成されて反射防止層7が作成される。なお低反射層にあっては、防眩性ハードコート層、低反射層に係る各種の構成を広く適用することができる。製造工程では、このようにして反射防止層を作成してなる基材が、一旦、ロールに巻き取られてパターン位相差フィルム1に係る原反として次工程に供給される。
〔Manufacturing process〕
FIG. 2 is a flowchart showing manufacturing steps of the pattern retardation film 1. In the manufacturing process of the pattern retardation film 1, the base material 2 is provided by a long film wound around a roll. In the antireflection layer creation process SP 2, the base material 2 is subjected to surface treatment so that the base material 2 is antiglare hard. A coating layer and a low reflection layer are sequentially formed to form the antireflection layer 7. In the low reflection layer, various configurations relating to the antiglare hard coat layer and the low reflection layer can be widely applied. In the manufacturing process, the base material formed with the antireflection layer in this manner is once wound up by a roll and supplied to the next process as a raw material related to the pattern retardation film 1.

製造工程では、この次工程に係る続く配向層作成工程SP3において、光配向膜に係る塗工液がダイ等により塗布された後、乾燥、焼成され、これにより光配向材料層が作製される。続いてこの配向層作成工程SP3は、露光工程により紫外線を照射して光配向層が作製される。ここで露光工程では、マスクを使用した直線偏光による紫外線の照射により、右目用領域又は左目用領域に対応する領域を選択的に露光処理した後、偏光方向が直交する直線偏光による紫外線を全面に照射することにより、実行される。なお、光配向膜が2度目の偏光照射により書き換え可能な特性を有するものを用いる場合、直線偏光による紫外線を全面に照射したのち、マスクを使用して偏光方向が直交する直線偏光を右目用領域又は左目用領域に対応する領域に選択的に露光することにより実行することもできる。またマスクを使用した直線偏光による紫外線の照射により右目用領域又は左目用領域に対応する領域を選択的に露光処理した後、マスクを半ピッチ分ずらした位置に配置し、左目用領域又は右目用領域に対応する領域に選択的に露光処理をすることにより実行することもできる。この場合、2度目の偏光照射により書き換え可能な材料も、書き換え不可能な材料もいずれも用いることができる。   In the manufacturing process, in the subsequent alignment layer creating process SP3 related to the next process, the coating liquid related to the photo-alignment film is applied by a die or the like, and then dried and baked, whereby the photo-alignment material layer is manufactured. Subsequently, in this alignment layer creation step SP3, a photo-alignment layer is formed by irradiating ultraviolet rays in the exposure step. Here, in the exposure process, after selectively exposing the region corresponding to the right-eye region or the left-eye region by irradiating the ultraviolet light with the linearly polarized light using the mask, the ultraviolet light due to the linearly polarized light whose polarization direction is orthogonal to the entire surface. It is executed by irradiating. When the photo-alignment film has a property that can be rewritten by the second polarized light irradiation, the entire surface is irradiated with the linearly polarized ultraviolet light, and then the linearly polarized light whose polarization direction is orthogonal using the mask is used. Alternatively, it can be executed by selectively exposing the area corresponding to the left eye area. In addition, after selectively exposing the region corresponding to the right eye region or the left eye region by irradiation with ultraviolet rays by linearly polarized light using a mask, the mask is arranged at a position shifted by a half pitch, and the left eye region or the right eye region It can also be executed by selectively performing an exposure process on an area corresponding to the area. In this case, both the material that can be rewritten by the second polarized irradiation and the material that cannot be rewritten can be used.

続いてこの製造工程は、位相差層作製工程SP4において、ダイ等により液晶材料の塗工液を塗工、乾燥させた後、紫外線の照射によりこの液晶材料を硬化させ、位相差層4が作製される。製造工程は、続く保護フィルム配置工程SP5において、保護フィルム8が配置される。また続く粘着剤層作成工程SP6において、粘着剤層5、セパレータフィルム6を配置する。また続く切断工程SP7において、所望の大きさに切り出してパターン位相差フィルム1が作製される。この製造工程は、続く検査工程SP8において、欠陥、外観等が検査される。   Subsequently, in the manufacturing step SP4 of the retardation layer, the liquid crystal material coating liquid is applied and dried with a die or the like, and then the liquid crystal material is cured by irradiation with ultraviolet rays, whereby the retardation layer 4 is manufactured. Is done. In the manufacturing process, the protective film 8 is arranged in the subsequent protective film arrangement process SP5. In the subsequent pressure-sensitive adhesive layer creation step SP6, the pressure-sensitive adhesive layer 5 and the separator film 6 are disposed. Further, in the subsequent cutting step SP7, the pattern retardation film 1 is produced by cutting into a desired size. In this manufacturing process, defects, appearance, and the like are inspected in the subsequent inspection process SP8.

図3は、書き換え不可能な光配向膜材料を用いた場合の露光工程の詳細を示す図である。この製造工程は、右目用の領域A又は光目用の領域Bに対応する部位を遮光したマスク16を介して、直線偏光による紫外線(偏光紫外線)を照射することにより、遮光されていない側の、左目用の領域B又は右目用の領域Aについて、光配向材料膜を所望の方向に配向させる(図3(A))。これによりこの製造工程は、1回目の露光処理を実行する。続いてこの製造工程は、1回目の露光処理とは偏光方向が90度異なる直線偏光により全面に紫外線を照射し、これにより1回目の露光処理で未露光の右目用領域A又は左目用領域Bを露光処理し、右目用の領域A又は光目用の領域Bについて、光配向材料膜を所望の方向に配向させる(図3(B))。これによりこの製造工程では、2回の露光処理により、右目用の領域Aと左目用の領域Bとを順次露光処理して配向層3を作製する。   FIG. 3 is a diagram showing details of an exposure process in the case of using a non-rewritable photo-alignment film material. This manufacturing process is performed by irradiating ultraviolet rays (polarized ultraviolet rays) by linearly polarized light through a mask 16 that shields a portion corresponding to the region A for the right eye or the region B for the light eye. In the left eye region B or the right eye region A, the photo-alignment material film is oriented in a desired direction (FIG. 3A). Thereby, this manufacturing process executes the first exposure process. Subsequently, this manufacturing process irradiates the entire surface with ultraviolet rays by linearly polarized light having a polarization direction different from that of the first exposure process by 90 degrees, and thereby the unexposed right-eye area A or left-eye area B in the first exposure process. Then, the photo-alignment material film is oriented in a desired direction in the right-eye region A or the light-eye region B (FIG. 3B). Thus, in this manufacturing process, the alignment layer 3 is produced by sequentially exposing the right eye region A and the left eye region B by two exposure processes.

図4は、書き換え可能な光配向膜材料を用いた場合の露光工程の他の例の詳細を示す図である。この製造工程は直線偏光により全面に紫外線を照射し光配向材料膜を所望の方向に配向させる(図4(A))。これによりこの製造工程は、1回目の露光処理を実行する。続いてこの製造工程は、右目用の領域A又は光目用の領域Bに対応する部位を遮光したマスク16を介して、1回目の露光処理とは偏光方向が90度異なる直線偏光による紫外線(偏光紫外線)を照射することにより、遮光されていない側の、左目用の領域B又は右目用の領域Aについて、光配向材料膜を所望の方向に配向させる(図4(B))。これによりこの製造工程では、2回の露光処理により、右目用の領域Aと左目用の領域Bとを順次露光処理して配向層3を作製する。   FIG. 4 is a diagram showing details of another example of the exposure process when a rewritable photo-alignment film material is used. In this manufacturing process, the entire surface is irradiated with ultraviolet rays by linearly polarized light to align the photo-alignment material film in a desired direction (FIG. 4A). Thereby, this manufacturing process executes the first exposure process. Subsequently, this manufacturing process includes ultraviolet rays (linearly polarized light) whose polarization direction is 90 degrees different from that of the first exposure process through the mask 16 that shields the portion corresponding to the region A for the right eye or the region B for the light eye. By irradiating polarized ultraviolet light), the photo-alignment material film is oriented in a desired direction in the region B for the left eye or the region A for the right eye that is not shielded (FIG. 4B). Thus, in this manufacturing process, the alignment layer 3 is produced by sequentially exposing the right eye region A and the left eye region B by two exposure processes.

図5は、書き換え可能、不可能いずれの配向膜材料を用いた場合にも用いることができる露光工程の詳細を示す図である。この製造工程は、右目用の領域A又は光目用の領域Bに対応する部位を遮光したマスク16を介して、直線偏光による紫外線(偏光紫外線)を照射することにより、遮光されていない側の、左目用の領域B又は右目用の領域Aについて、光配向材料膜を所望の方向に配向させる(図5(A))。これによりこの製造工程は、1回目の露光処理を実行する。続いてこの製造工程は、半ピッチ分ずらした位置に配置したマスク16を介して1回目の露光処理とは偏光方向が90度異なる直線偏光による紫外線(偏光紫外線)を照射することにより、遮光されていない側の、左目用の領域B又は右目用の領域Aについて、光配向材料膜を所望の方向に配向させる(図5(B))。これによりこの製造工程では、2回の露光処理により、右目用の領域Aと左目用の領域Bとを順次露光処理して配向層3を作製する。   FIG. 5 is a diagram showing the details of the exposure process that can be used when both rewritable and impossible alignment film materials are used. This manufacturing process is performed by irradiating ultraviolet rays (polarized ultraviolet rays) by linearly polarized light through a mask 16 that shields a portion corresponding to the region A for the right eye or the region B for the light eye. In the left eye region B or the right eye region A, the photo-alignment material film is oriented in a desired direction (FIG. 5A). Thereby, this manufacturing process executes the first exposure process. Subsequently, this manufacturing process is shielded by irradiating ultraviolet rays (polarized ultraviolet rays) with linearly polarized light having a polarization direction different by 90 degrees from the first exposure process through the mask 16 arranged at a position shifted by a half pitch. For the left eye region B or the right eye region A, the photo-alignment material film is oriented in a desired direction (FIG. 5B). Thus, in this manufacturing process, the alignment layer 3 is produced by sequentially exposing the right eye region A and the left eye region B by two exposure processes.

〔位相差層作成工程〕
位相差層作成工程では、ダイ等により液晶材料の塗工液を塗工、乾燥させた後、紫外線照射装置からの紫外線の照射によりこの液晶材料を硬化させて位相差層を作成する。ここで位相差層は、透過光に所望の位相差を付与する光学機能層である。この実施形態では、この液晶材料の硬化に供する紫外線の光源が、この液晶材料を効率良く硬化させることが可能な、入射光量に対してこの液晶材料に係る紫外線硬化性樹脂が効率良く反応する波長帯域(以下、高効率反応波長帯域と呼ぶ)にのみ光量分布のピークを有し、この高効率反応波長帯域を含む高効率反応波長帯域を中心とした近傍帯域(高効率反応波長帯域より長波長側及び短波長側にそれぞれ10nm拡大した帯域である)にのみに光量が分布している光源であり、その結果、近傍帯域より長波長側及び短波長側に光量が分布していない光源が適用される。
[Phase difference layer creation process]
In the retardation layer forming step, a liquid crystal material coating solution is applied and dried with a die or the like, and then the liquid crystal material is cured by irradiation with ultraviolet rays from an ultraviolet irradiation device to form a retardation layer. Here, the retardation layer is an optical functional layer that imparts a desired retardation to transmitted light. In this embodiment, a wavelength at which an ultraviolet light source for curing the liquid crystal material can efficiently cure the liquid crystal material, and the ultraviolet curable resin according to the liquid crystal material reacts efficiently with respect to the amount of incident light. A band with a light intensity distribution peak only in the band (hereinafter referred to as the high-efficiency reaction wavelength band). Is a light source in which the amount of light is distributed only to the side and the short wavelength side), and as a result, a light source in which the amount of light is not distributed to the longer wavelength side and the shorter wavelength side than the neighboring band is applied. Is done.

すなわち図6は、従来の光源に使用される高圧水銀ランプについて、出射光のスペクトラム解析結果を示す特性曲線図であり、ピーク光量に対する相対的な光量により各スペクトラム値を示すものである。紫外線硬化性樹脂の高効率反応波長帯域は、波長350nm〜390nmの帯域であり、この波長帯域外の入射光については、効率良く硬化を図ることが困難になる。この波長帯域外の入射光のうち、この帯域に係る近傍帯域より長波長側(波長400nm以上)の入射光量が増大すると、パターン位相差フィルムは、熱により基材が損傷し、さらには熱収縮が大きくなる。またこの近傍帯域より短波長(波長340nm以下)の入射光量が増大すると、位相差層が損傷を受けることになる。   That is, FIG. 6 is a characteristic curve diagram showing a spectrum analysis result of emitted light for a high-pressure mercury lamp used in a conventional light source, and shows each spectrum value by the relative light quantity with respect to the peak light quantity. The high-efficiency reaction wavelength band of the ultraviolet curable resin is a wavelength band of 350 nm to 390 nm, and it is difficult to efficiently cure incident light outside this wavelength band. Among incident light outside this wavelength band, if the amount of incident light on the longer wavelength side (wavelength 400 nm or more) is increased from the neighboring band related to this band, the pattern retardation film will damage the substrate due to heat, and further heat shrink Becomes larger. Further, when the amount of incident light having a shorter wavelength (wavelength of 340 nm or less) than this near band is increased, the retardation layer is damaged.

図6に示すように、高圧水銀ランプの出射光は、このような紫外線硬化性樹脂の高効率反応波長帯域より長波長、短波長のスペクトラム成分を充分に備えており、これにより紫外線の照射量の増大により配向膜に対する位相差層の密着強度を増大させる場合にあっては、位相差層自体劣化し、透明フィルム材が熱により損傷し、さらには透明フィルム材が熱収縮して作製精度が著しく低下する。   As shown in FIG. 6, the light emitted from the high-pressure mercury lamp is sufficiently provided with spectrum components having longer and shorter wavelengths than the high-efficiency reaction wavelength band of such an ultraviolet curable resin. In the case where the adhesion strength of the retardation layer to the alignment film is increased by increasing the thickness of the retardation film, the retardation layer itself deteriorates, the transparent film material is damaged by heat, and further, the transparent film material shrinks by heat and the production accuracy is increased. It drops significantly.

特にこのような熱による基材の損傷、熱収縮は、基材の厚みが薄くなって、厚さ25μm以下となると著しく、その結果、パターン位相差フィルムの厚みを薄くすることが困難になる。   In particular, the damage and heat shrinkage of the substrate due to such heat are remarkable when the thickness of the substrate is reduced to 25 μm or less, and as a result, it is difficult to reduce the thickness of the pattern retardation film.

しかしながらこの実施形態のように、高効率反応波長帯域にのみ光量分布のピークを有し、かつ高効率反応波長帯域を中心とした近傍帯域にのみ光量が分布している光源を適用する場合にあっては、このような熱による基材の損傷、熱収縮を防止し、さらに位相差層の劣化を防止して、効率良く位相差層を作成することができ、その結果、紫外線の照射量の増大により配向膜と位相差層の密着力を強化する場合でも、信頼性の劣化を有効に回避することができる。また発熱を小さくすることができることにより、冷却ロールを使用しなくても紫外線の照射により位相差層を作成することができ、製造設備を簡略化することができる。また厚みが25μm以下の透明フィルム材を基材に適用することもでき、その結果、パターン位相差フィルムの厚みを薄くすることができる。   However, there is a case where a light source having a light amount distribution peak only in the high-efficiency reaction wavelength band and having a light amount distribution only in a nearby band centering on the high-efficiency reaction wavelength band is applied as in this embodiment. Therefore, it is possible to prevent the damage of the base material and the heat shrinkage due to such heat, and further prevent the retardation layer from deteriorating, and efficiently create the retardation layer. Even when the adhesion between the alignment film and the retardation layer is enhanced by the increase, it is possible to effectively avoid the deterioration of reliability. Further, since the heat generation can be reduced, the retardation layer can be formed by irradiation with ultraviolet rays without using a cooling roll, and the manufacturing equipment can be simplified. In addition, a transparent film material having a thickness of 25 μm or less can be applied to the substrate, and as a result, the thickness of the pattern retardation film can be reduced.

より具体的に、この実施の形態では、紫外線を出射する発光ダイオードを使用して紫外線照射用の光源を作成する。図7は、この種の発光ダイオードからの出射光のスペクトラムを示す特性曲線図である。この図7によれば、高効率反応波長帯域にのみ光量分布のピークを有し、かつ当該波長帯域を中心とした近傍帯域より長波長側及び短波長側では光量分布の無いことが判る。   More specifically, in this embodiment, a light source for ultraviolet irradiation is created using a light emitting diode that emits ultraviolet light. FIG. 7 is a characteristic curve diagram showing a spectrum of light emitted from this type of light emitting diode. According to FIG. 7, it can be seen that there is a peak in the light amount distribution only in the high-efficiency reaction wavelength band, and there is no light amount distribution on the longer wavelength side and the shorter wavelength side than the neighboring band centered on the wavelength band.

しかしながらパターン位相差フィルムの製造工程では、長尺フィルム材を搬送しながら紫外線の照射により位相差層を作製するのに対し、発光ダイオードは、点光源であり、これにより基材の全面に均一な光量により紫外線を照射することが困難になる恐れがある。また高圧水銀ランプ等に比して光量が少なく、これにより照射に供する紫外線の光量が不足する恐れもある。   However, in the manufacturing process of the pattern retardation film, the retardation layer is produced by irradiating ultraviolet rays while conveying a long film material, whereas the light emitting diode is a point light source, which makes it uniform over the entire surface of the substrate. It may be difficult to irradiate ultraviolet rays depending on the amount of light. In addition, the amount of light is smaller than that of a high-pressure mercury lamp or the like, and there is a possibility that the amount of ultraviolet light used for irradiation is insufficient.

そこでこの実施形態では、複数の発光ダイオードを使用して紫外線の照射に供する光源を構成するようにして、長尺フィルム材を幅方向の横切る方向に、この複数の発光ダイオードを順次配列して列状に配置し、また長尺フィルム材の長手方向にこの列状の配置を複数列設けるようにし、これにより基材の全面に均一な光量により、かつ十分な光量により紫外線を照射する。   Therefore, in this embodiment, a plurality of light emitting diodes are used to form a light source for ultraviolet irradiation, and the plurality of light emitting diodes are sequentially arranged in a direction crossing the long film material in the width direction. In addition, a plurality of rows of the row-like arrangements are provided in the longitudinal direction of the long film material, so that the entire surface of the substrate is irradiated with ultraviolet rays with a uniform amount of light and with a sufficient amount of light.

図8は、基材2に対する発光ダイオード10の配置を示す図である。この実施形態では、基材2を幅方向に横切るように順次一定間隔により発光ダイオード10を配置することにより、発光ダイオード10を列状に配置し、この列状の配置を基材2の長手方向に2列設ける。またこの列状の配置に係る発光ダイオード10間の一定間隔を小さくすることにより、基材2の幅方向における光量分布のバラつきを充分に小さくする。   FIG. 8 is a diagram showing the arrangement of the light emitting diodes 10 with respect to the base material 2. In this embodiment, the light emitting diodes 10 are sequentially arranged at regular intervals so as to cross the base material 2 in the width direction, so that the light emitting diodes 10 are arranged in a row. Two rows are provided. Further, by reducing the constant interval between the light emitting diodes 10 according to this row arrangement, the variation in the light amount distribution in the width direction of the substrate 2 is sufficiently reduced.

なおこのような発光ダイオード10を密に配置して光量の均一化を図る代わりに、図9に示すように、連続する列の配置を基材2の幅方向に、発光ダイオード10の配置間隔の1/2の間隔だけシフトさせることにより、発光ダイオード10を千鳥に配置して光量を均一化してもよい。またこのような発光ダイオード10の配列に加えて、例えば光量分布を制御する各種の部材を、発光ダイオード10の出射光の光路上に配置して、光量分布をさらに均一化してもよい。なおこのような部材は、出射光を散乱させる光拡散板、基材2の幅方向に出射光のビーム径を拡大させるレンズ等である。   Instead of densely arranging the light emitting diodes 10 to make the light quantity uniform, as shown in FIG. 9, the arrangement of the continuous rows is arranged in the width direction of the substrate 2 and the arrangement interval of the light emitting diodes 10 is changed. By shifting the distance by 1/2, the light emitting diodes 10 may be arranged in a staggered manner to make the light quantity uniform. In addition to the arrangement of the light emitting diodes 10, for example, various members for controlling the light amount distribution may be arranged on the optical path of the emitted light of the light emitting diodes 10 to further uniform the light amount distribution. Such a member is a light diffusing plate that scatters the emitted light, a lens that expands the beam diameter of the emitted light in the width direction of the substrate 2, or the like.

この実施形態によれば、パターン位相差フィルムの位相差層に係る光学機能層に関して、硬化に供する紫外線の光源を、紫外線硬化性樹脂が効率良く反応する波長帯域にのみ光量分布のピークを有し、当該波長帯域を中心とした近傍帯域にのみに光量が分布している光源を適用することにより、短波長成分による光学機能層の損傷を有効に回避することができ、また長波長成分による基材の熱損傷、熱収縮を防止することができ、その結果、信頼性、精度の劣化を有効に回避して紫外線の照射量を増大させることができる。   According to this embodiment, with respect to the optical functional layer related to the retardation layer of the pattern retardation film, the ultraviolet light source used for curing has a light amount distribution peak only in the wavelength band in which the ultraviolet curable resin reacts efficiently. By applying a light source in which the amount of light is distributed only in the vicinity band centered on the wavelength band, damage to the optical functional layer due to the short wavelength component can be effectively avoided, and the base due to the long wavelength component can be avoided. It is possible to prevent thermal damage and thermal shrinkage of the material, and as a result, it is possible to effectively avoid deterioration of reliability and accuracy and increase the irradiation amount of ultraviolet rays.

〔第2実施形態〕
この実施形態では、パターン位相差フィルム1を直線偏光板の保護フィルムとして使用して、直線偏光板の製造工程、さらには画像表示パネルの貼り付け工程における直線偏光板の傷つきを防止する。このためこの実施形態では、直線偏光板の製造工程において、直線偏光板の基材に、パターン位相差フィルムが貼り付けられた後、直線偏光板が作製される。なお切断前の直線偏光板に貼り付けるようにして、切断工程における傷付き防止するようにしてもよい。この実施形態では、この直線偏光板との一体化に係る工程が異なる点を除いて、第1実施形態と同一に構成される。
[Second Embodiment]
In this embodiment, the pattern retardation film 1 is used as a protective film for the linear polarizing plate to prevent the linear polarizing plate from being damaged in the manufacturing process of the linear polarizing plate and further in the attaching process of the image display panel. For this reason, in this embodiment, in the manufacturing process of the linearly polarizing plate, the linearly polarizing plate is manufactured after the pattern retardation film is attached to the base material of the linearly polarizing plate. In addition, you may make it affix on the linear polarizing plate before cutting | disconnection, and may prevent a damage | wound in a cutting process. This embodiment has the same configuration as that of the first embodiment except that the process for integration with the linearly polarizing plate is different.

この実施形態のように直線偏光板の保護フィルムとしてパターン位相差フィルムを機能させる場合でも、第1実施形態と同様の効果を得ることができる。   Even when the pattern retardation film is caused to function as a protective film for the linearly polarizing plate as in this embodiment, the same effect as in the first embodiment can be obtained.

〔第3実施形態〕
この実施形態では、反射防止層7の作成に供する光源に、第1実施形態について上述した紫外線照射装置を適用する。すなわちこの実施形態では、紫外線硬化性樹脂によるハードコート層用組成物の塗工液を塗工して乾燥させた後、紫外線を照射してハードコート層としての機能を担う光学機能層が作製される。またさらに同様の紫外線硬化性樹脂の塗工、乾燥、紫外線照射による硬化により、低反射層としての機能を担う光学機能層が作製され、このハードコート層、低反射層との積層により反射防止層が作製される。この実施形態では、ハードコート層、低反射層の作成に供する紫外線の照射の1方又は双方に、第1実施形態について上述した紫外線照射装置が適用される。
[Third Embodiment]
In this embodiment, the ultraviolet irradiation device described above with respect to the first embodiment is applied to the light source used for creating the antireflection layer 7. That is, in this embodiment, an optical functional layer that functions as a hard coat layer is prepared by irradiating with ultraviolet rays after applying and drying a coating liquid of a composition for hard coat layer using an ultraviolet curable resin. The Furthermore, by applying the same UV curable resin, drying, and curing by UV irradiation, an optical functional layer that functions as a low reflection layer is produced, and an antireflection layer is formed by laminating with the hard coat layer and the low reflection layer. Is produced. In this embodiment, the ultraviolet irradiation apparatus described above with respect to the first embodiment is applied to one or both of the ultraviolet irradiation used for forming the hard coat layer and the low reflection layer.

この実施形態では、ハードコート層、低反射層に係る紫外線硬化性樹脂の硬化に適用するようにしても、第1実施形態と同様の効果を得ることができる。   In this embodiment, the same effects as those of the first embodiment can be obtained even when applied to the curing of the ultraviolet curable resin relating to the hard coat layer and the low reflection layer.

〔他の実施形態〕
以上、本発明の実施に好適な具体的な構成を詳述したが、本発明は、本発明の趣旨を逸脱しない範囲で、上述の実施形態の構成を種々に変更することができる。
[Other Embodiments]
As mentioned above, although the specific structure suitable for implementation of this invention was explained in full detail, this invention can change the structure of the above-mentioned embodiment variously in the range which does not deviate from the meaning of this invention.

すなわち上述の実施形態では、パターン位相差フィルムの生産に本発明を適用する場合について述べたが、本発明はこれに限らず、例えば1/4位相差板、1/2位相差板、Aプレート、Cプレート等の、位相差層により透過光に所望の位相差を付与する光学フィルムにおいて、この位相差層として機能する光学機能層を紫外線硬化性樹脂により作製する場合に広く適用することができる。またハードコート層、低反射層として機能する光学機能層を備えた光学フィルムを生産する場合に広く適用することができる。またこのような位相差層、ハードコート層、低反射層以外の、各種の光学的機能を担う光学機能層を紫外線硬化性樹脂により作製して光学フィルムを作成する場合に広く適用することができる。   That is, in the above-described embodiment, the case where the present invention is applied to the production of the pattern retardation film has been described. However, the present invention is not limited thereto, and for example, a quarter retardation plate, a half retardation plate, and an A plate. In an optical film that imparts a desired retardation to transmitted light by a retardation layer, such as a C plate, it can be widely applied when an optical functional layer that functions as the retardation layer is made of an ultraviolet curable resin. . Further, it can be widely applied when producing an optical film provided with an optical functional layer functioning as a hard coat layer and a low reflection layer. In addition, it can be widely applied to the case where an optical functional layer having various optical functions other than such a retardation layer, a hard coat layer, and a low reflection layer is prepared from an ultraviolet curable resin to produce an optical film. .

1 パターン位相差フィルム
2 基材
3 配向層
4 位相差層
5 粘着剤層
6 セパレータフィルム
7 反射防止層
8 保護フィルム
10 発光ダイオード
DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 Pattern phase difference film 2 Base material 3 Orientation layer 4 Phase difference layer 5 Adhesive layer 6 Separator film 7 Antireflection layer 8 Protective film 10 Light emitting diode

Claims (9)

紫外線硬化性樹脂による光学機能層を備えた光学フィルムの製造に使用する紫外線照射装置において、
前記紫外線硬化性樹脂が効率良く反応する波長帯域にのみ光量分布のピークを有し、当該波長帯域を中心とした近傍帯域にのみに光量が分布している光源から、前記紫外線硬化性樹脂の硬化に供する紫外線を射出する
紫外線照射装置。
In the ultraviolet irradiation device used for the production of an optical film having an optical functional layer made of an ultraviolet curable resin,
Curing of the ultraviolet curable resin from a light source having a peak of light amount distribution only in a wavelength band in which the ultraviolet curable resin reacts efficiently, and in which a light amount is distributed only in a nearby band centered on the wavelength band Ultraviolet irradiation device that emits ultraviolet light for use in.
前記光源が、複数の発光ダイオードである
請求項1に記載の紫外線照射装置。
The ultraviolet irradiation device according to claim 1, wherein the light source is a plurality of light emitting diodes.
前記光学フィルムの基材を幅方向に横切るように、前記複数の発光ダイオードが、列状に配置され、
前記光学フィルムの基材の長手方向に、前記列状の配置が複数設けられた
請求項2に記載の紫外線照射装置。
The plurality of light emitting diodes are arranged in a row so as to cross the substrate of the optical film in the width direction,
The ultraviolet irradiation device according to claim 2, wherein a plurality of the row-like arrangements are provided in a longitudinal direction of the base material of the optical film.
前記発光ダイオードが千鳥に配置された
請求項3に記載の紫外線照射装置。
The ultraviolet irradiation device according to claim 3, wherein the light emitting diodes are arranged in a staggered manner.
紫外線硬化性樹脂による光学機能層を備えた光学フィルムの製造方法において、
前記紫外線硬化性樹脂が効率良く反応する波長帯域にのみ光量分布のピークを有し、当該波長帯域を中心とした近傍帯域にのみに光量が分布している光源から、前記紫外線硬化性樹脂の硬化に供する紫外線を射出する
光学フィルムの製造方法。
In the method for producing an optical film having an optical functional layer made of an ultraviolet curable resin,
Curing of the ultraviolet curable resin from a light source having a peak of light amount distribution only in a wavelength band in which the ultraviolet curable resin reacts efficiently, and in which a light amount is distributed only in a nearby band centered on the wavelength band A method for producing an optical film that emits ultraviolet rays for use in the manufacturing process.
前記光源が、複数の発光ダイオードである
請求項5に記載の光学フィルムの製造方法。
The method for producing an optical film according to claim 5, wherein the light source is a plurality of light emitting diodes.
前記光学フィルムの基材を幅方向に横切るように、前記複数の発光ダイオードが、列状に配置され、
前記光学フィルムの基材の長手方向に、前記列状の配置が複数設けられた
請求項6に記載の光学フィルムの製造方法。
The plurality of light emitting diodes are arranged in a row so as to cross the substrate of the optical film in the width direction,
The method for producing an optical film according to claim 6, wherein a plurality of the row-like arrangements are provided in a longitudinal direction of the base material of the optical film.
前記発光ダイオードが千鳥に配置された
請求項7に記載の光学フィルムの製造方法。
The method for producing an optical film according to claim 7, wherein the light emitting diodes are arranged in a staggered manner.
前記光学フィルムが、パターン位相差フィルムであり、
前記光学機能層が、透過光に与える位相差が異なる2つの帯状の領域が順次交互に設けられた位相差層である
請求項5、請求項6、請求項7、請求項8の何れかに記載の光学フィルムの製造方法。
The optical film is a pattern retardation film,
The optical functional layer is a retardation layer in which two strip-like regions having different retardations to transmitted light are provided alternately one after the other. The manufacturing method of the optical film of description.
JP2014040765A 2014-03-03 2014-03-03 Ultra violet radiation apparatus and method of manufacturing optical film Pending JP2015166770A (en)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2014040765A JP2015166770A (en) 2014-03-03 2014-03-03 Ultra violet radiation apparatus and method of manufacturing optical film

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2014040765A JP2015166770A (en) 2014-03-03 2014-03-03 Ultra violet radiation apparatus and method of manufacturing optical film

Publications (1)

Publication Number Publication Date
JP2015166770A true JP2015166770A (en) 2015-09-24

Family

ID=54257677

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2014040765A Pending JP2015166770A (en) 2014-03-03 2014-03-03 Ultra violet radiation apparatus and method of manufacturing optical film

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JP2015166770A (en)

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JP4547641B2 (en) Production method of retardation plate
JP4720947B2 (en) Manufacturing method of display device
KR101064585B1 (en) Adhesive film for photo-alignment film alignment treatment
EP3428694B1 (en) Optical body and light-emitting device
JP2015184438A (en) Patterned retardation film, optical film, image display device, and production method of patterned retardation film
JP2014115604A (en) Optical film, image display device and manufacturing method of optical film
US20160170109A1 (en) Display module
JP6008758B2 (en) Intermediate product of optical film, optical film, image display device, and method of manufacturing optical film
KR101445521B1 (en) Method for producing pattern phase difference film
JP2015166770A (en) Ultra violet radiation apparatus and method of manufacturing optical film
JP6064627B2 (en) Manufacturing method of optical film
JP6413369B2 (en) Diffraction grating, imaging device, display device, and method of manufacturing diffraction grating
JP2014170072A (en) Production method of optical film, optical film, optical film master sheet, and image display device
JP2014219596A (en) Production method of optical film
JP2017227914A (en) Exposure member and holding member for exposure mask
JP2015184437A (en) Production method of patterned retardation film and production method of optical film
JP2014182200A (en) Production method of optical film
JP6155767B2 (en) Pattern retardation film manufacturing method and pattern retardation film exposure apparatus
JP2013113938A (en) Patterned retardation film, image display device, mold for manufacturing patterned retardation film, and method for manufacturing patterned retardation film
JP2015184436A (en) Patterned retardation film, optical film, and image display device
JP2014153526A (en) Pattern phase difference film and image display unit
JP6427867B2 (en) Method for producing pattern retardation film
JP6136665B2 (en) Process for producing pattern retardation film, mask, and roll body of pattern retardation film
JP2015072346A (en) Production method of patterned retardation film
JP2015052693A (en) Manufacturing method for patterned retardation film, and protective film

Legal Events

Date Code Title Description
RD04 Notification of resignation of power of attorney

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A7424

Effective date: 20160928