JP2015166184A - 透明導電性フィルムおよびタッチパネル - Google Patents
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Abstract
Description
ΔE={(ΔL*)2+(Δa*)2+(Δb*)2}0.5
で表される値のことである。
各層の屈折率は、アタゴ社製のアッベ屈折率計を用い、各種測定面に対して測定光(ナトリウムD線)を入射させるようにして、該屈折計に示される規定の測定方法により測定を行った。
フィルム基材、透明基体、ハードコート層、粘着剤層等の1μm以上の厚みを有するものに関しては、ミツトヨ製マイクロゲージ式厚み計にて測定を行った。ハードコート層、粘着剤層等の直接厚みを計測することが困難な層については、各層を設けた基材の総厚みを測定し、基材の厚みを差し引くことで膜厚を算出した。
日立ハイテク社製の分光光度計「U−4100」(商品名)の積分球測定モードを用いて、ITO膜への入射角を2度として、波長380〜780nmの領域におけるパターン部とパターン開口部の直下の反射率を5nm間隔で測定した。次いで、パターン部とパターン開口部の直下の平均反射率を算出し、これらの平均反射率の値からパターン部とパターン開口部の直下との間の反射率差ΔRを算出した。なお、前記測定は、透明導電性フィルム(サンプル)の裏面側(PETフィルム側)に黒色スプレーを用いて遮光層を形成し、サンプルの裏面からの反射や裏面側からの光の入射が殆どない状態で測定を行った。また、D65光源を用いて、パターン部及びパターン開口部の直下のそれぞれの反射光のL*、a*及びb*を算出し、以下の式を用いてパターン部の反射光とパターン開口部の直下の反射光の色差ΔEを算出した。
ΔE={(ΔL*)2+(Δa*)2+(Δb*)2}0.5
(誘電体層の形成)
厚み25μmのポリエチレンテレフタレートフィルム(以下、PETフィルムという)からなる透明フィルム基材(屈折率n1=1.65)の一方の面に、メラミン樹脂:アルキド樹脂:有機シラン縮合物の重量比2:2:1が熱硬化型樹脂組成物を塗布し、その後、乾燥、硬化させて、膜厚d21が20nmの第1の誘電体層を形成した。第1の誘電体層の屈折率n1は1.54であった。
次に、第2の誘電体層上に、アルゴンガス98%と酸素ガス2%とからなる0.4Paの雰囲気中で、酸化インジウム97重量%、酸化スズ3重量%の焼結体材料を用いた反応性スパッタリング法により、厚み23nmのITO膜(屈折率n3=2.00)を形成して、透明導電性フィルムを得た。
透明導電性フィルムの透明導電層に、ストライプ状にパターン化されているフォトレジストを塗布し、乾燥硬化した後、25℃、5重量%の塩酸(塩化水素水溶液)に、1分間浸漬して、ITO膜のエッチングを行った。その後、フォトレジストを除去した。
ITO膜のエッチングを行った後、140℃で90分間の加熱処理を行って、ITO膜を結晶化した。
実施例1と同様にして、PETフィルムの一方の面に第1の誘電体層、第2の誘電体層およびITO膜を形成して、透明導電性フィルムを得た。
透明導電性フィルムの透明導電層に、ストライプ状にパターン化されているフォトレジストを塗布し、乾燥硬化した後、25℃、5重量%の塩酸に、1分間浸漬して、ITO膜のエッチングを行った。
ITO膜のエッチングを行った後、引き続きフォトレジストを積層したまま、45℃、2重量%の水酸化ナトリウム水溶液に、3分間浸漬して、第2の誘電体層のエッチングを行い、その後、フォトレジストを除去した。
ITO膜および第2の誘電体層をパターン化した後、140℃で90分間の加熱処理を行って、ITO膜を結晶化した。
実施例3および実施例4においては、それぞれ実施例1および実施例2と同様にして、パターン部とパターン開口部とを有する透明導電性フィルムを作製した。ただし、実施例3および実施例4においては、第1の誘電体層の厚みd21を35nm、第2の誘電体層の厚みd22を5nmとした点において、実施例1および実施例2とは異なっていた。
実施例5および実施例6においては、それぞれ実施例1および実施例2と同様にして、パターン部とパターン開口部とを有する透明導電性フィルムを作製した。ただし、実施例5および実施例6においては、第1の誘電体層の厚みd21を30nm、第2の誘電体層の厚みd22を15nmとした点において、実施例1および実施例2とは異なっていた。
比較例1においては、実施例1と同様にして、パターン部とパターン開口部とを有する透明導電性フィルムを作製した。ただし、比較例1においては、第1の誘電体層の厚みd21を45nm、第2の誘電体層の厚みd22を10nmとした点において、実施例1とは異なっていた。
比較例2においては、実施例1と同様にして、パターン部とパターン開口部とを有する透明導電性フィルムを作製した。ただし、比較例2においては、第1の誘電体層の厚みd21を30nm、第2の誘電体層の厚みd22を30nmとした点において、実施例1とは異なっていた。
比較例3においては、実施例1と同様にして、パターン部とパターン開口部とを有する透明導電性フィルムを作製した。ただし、比較例3においては、第1の誘電体層の厚みd21を40nm、第2の誘電体層の厚みd22を30nmとした点において、実施例1とは異なっていた。
比較例4においては、実施例1と同様にして、パターン部とパターン開口部とを有する透明導電性フィルムを作製した。ただし、比較例4においては、第1の誘電体層が下記のように形成された点、および第2の誘電体層の厚みd22を35nmとした点において、実施例1とは異なっていた。
厚み25μmのPETフィル基材(屈折率n1=1.65)の一方の面に、第1の誘電体層として、膜厚20nmのシリコン錫酸化物をスパッタリング法により形成した。この第1の誘電体層の屈折率は1.70であった。
2 誘電体層
21、22 誘電体層
5 透明基体
6 ハードコート層
9 セパレータ
100、110 透明導電性フィルム
101、102 透明導電性フィルム
111〜114 透明導電性フィルム
121、122 透明導電性フィルム
131 透明導電性フィルム
P パターン部
O パターン開口部
Claims (15)
- 透明フィルム基材上に、第1の誘電体層、第2の誘電体層、および透明導電層をこの順に有し、
第1の誘電体層の厚みd21が第2の誘電体層の厚みd22より大きく、
第1の誘電体層の厚みd21が8〜40nmであり、第2の誘電体層の厚みd22が3〜25nmであり、
第1の誘電体層の厚みd21と第2の誘電体層の厚みd22との厚み差d21−d22が3〜30nmである、透明導電性フィルム。 - 少なくとも透明導電層がパターン化されており、透明導電層を有していないパターン開口部と、透明導電層を有するパターン部とを有する、請求項1に記載の透明導電性フィルム。
- 第2の誘電体層が、透明導電層と同様にパターン化されている、請求項2に記載の透明導電性フィルム。
- パターン部に白色光を照射した際の反射光と、パターン開口部の直下に白色光を照射した際の反射光との反射率差ΔRが1%以下であり、かつ色差ΔEが6.7以下である、請求項2または3に記載の透明導電性フィルム。
- 第1の誘電体層の屈折率が、第2の誘電体層の屈折率よりも大きい、請求項1〜4のいずれか1項に記載の透明導電性フィルム。
- 第1の誘電体層がウェットコーティングにより形成されたものである、請求項1〜5のいずれか1項に記載の透明導電性フィルム。
- 第2の誘電体層がウェットコーティングにより形成されたものである、請求項1〜6のいずれか1項に記載の透明導電性フィルム。
- 透明フィルム基材の屈折率n1、第1の誘電体層の屈折率n21、第2の誘電体層の屈折率n22、および透明導電層の屈折率n3が、n22<n21<n1<n3の関係を満たす、請求項1〜7のいずれか1項に記載の透明導電性フィルム。
- 透明導電層の屈折率n3と第2の誘電体層の屈折率n22との差n3−n22が、0.1以上である、請求項1〜8のいずれかに記載の透明導電性フィルム。
- 第1の誘電体層の屈折率n21が1.5〜1.7であり、第2の誘電体層の屈折率n22が1.4〜1.5である、請求項1〜9のいずれか1項に記載の透明導電性フィルム。
- パターン部の光学厚みの合計と、パターン開口部の光学厚みの合計の差が、35nm〜90nmである、請求項2〜10のいずれか1項に記載の透明導電性フィルム。
- 少なくとも片面に透明導電層が配置されるように、透明な粘着剤層を介して、請求項1〜11のいずれかに記載の透明導電性フィルムが少なくとも2枚積層されている、透明導電性フィルム。
- 片面に透明導電層が配置されるように、請求項1〜12のいずれかに記載の透明導電性フィルムの片面に、透明な粘着剤層を介して透明基体が貼り合わされている、透明導電性フィルム。
- 請求項1〜13のいずれか1項に記載の透明導電性フィルムを備えるタッチパネル。
- 投影型静電容量方式、またはマトリックス型の抵抗膜方式である、請求項14に記載のタッチパネル。
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