JP2015163862A - 光断層画像撮像装置および光断層画像撮像装置を用いたヒト肌の計測方法 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】光断層画像撮像装置1を、400nm〜800nmに亘る波長域を少なくとも含む光を射出する単一の光源11および、光源11から射出された光から可視域の任意の波長域を切り出してスペクトル成形をするスペクトル成形部12を有し、スペクトル成形された低コヒーレント光L0を射出する光源部10と、低コヒーレント光L0を測定光L1と参照光L2とに分割する光分割部3と、測定光L1を測定対象にライン状に照射する照射光学系20と、測定光L1が測定対象Sに照射されたときの測定対象からの反射光L3と参照光L2とを重ね合わせる合波部4と、干渉光L4を分光検出する干渉光検出部30と、検出された干渉光を周波数解析することにより測定対象の二次元光断層画像を取得する断層画像取得部40とを備えたものとする。
【選択図】図1
Description
Δz=2×ln(2)/π×λ2/Δλ
で与えられるため、使用する光源の波長幅Δλを大きくすること、及び光源の中心波長λを小さくすることで高分解能化することができる(ここで、λは光源の中心波長、Δλは光源の波長幅、Δzは深さ方向の分解能を指す。)。近年、深さ分解能の高性能化のために、可視から近赤外の波長域全体を使ったOCTの開発が行われてきた(非特許文献1)。非特許文献1では、深さ分解能がサブμmオーダーまで到達している。また、他の公知例(特許文献3)では、深さ方向の高分解能化を達成するために、共焦点顕微鏡とOCTを組み合わせて内視鏡用途に小型化した方式が報告されている。
光源部から射出された低コヒーレント光を測定光と参照光とに分割する光分割部と、
測定光を測定対象にライン状に照射する測定光照射光学系と、
測定光が測定対象に照射されたときの測定対象からの反射光と参照光とを重ね合わせる合波部と、
合波部により合波された反射光と参照光との干渉光を分光検出する干渉光検出部と、
干渉光検出部により検出された干渉光を周波数解析することにより測定対象の二次元光断層画像を取得する断層画像取得部とを有する。
スペクトル成形部においては、1つの色だけでなく、複数の色を同時に透過させてもよい。
光源が射出する光は、スーパーコンティニューム光とすることができる。
ヒト肌に対して、測定光を照射し、
干渉光を分光検出し、
干渉光を周波数解析することによりヒトの肌の分光断層画像を取得し、
分光断層画像を画像表示装置に表示し、分光検出した干渉光からヒト肌の表面もしくは内部の光学的特長を求めて画像表示装置に表示するヒト肌の計測方法である。
塗布前および塗布後の分光断層画像および光学的特長をそれぞれ画像表示装置に表示することができることが好ましい。
図1は、本発明の実施形態に係る光断層画像撮像装置1の全体構成を模式的に示した図である。
図1に示すように、本実施形態の光断層画像撮像装置1は低コヒーレント光L0を射出する光源部10と、光源部10から射出された低コヒーレント光L0を測定光L1と参照光L2とに分割する光分割部3と、測定光L1を測定対象S(ここでは、ヒト肌)にライン状に照射する測定光照射光学系20と、測定光L1が測定対象Sに照射されたときの測定対象Sからの反射光L3と参照光L2とを重ね合わせる合波部4と、合波部4により合波された反射光L3と参照光L2との干渉光L4を分光検出する干渉光検出部30と、干渉光検出部30により検出された干渉光を周波数解析することにより測定対象の二次元分光断層画像を取得する断層画像取得部40と、二次元分光断層画像を表示する画像表示装置50を有する。
なお、測定光照射光学系20には、図示していない偏光子、ズームレンズ等の他の光学系を備えていてもよい。
合波部4は、反射部材6により反射された参照光L2と測定対象Sからの反射光L3とを合波し干渉光検出部側に射出するものであり、既述の通り、本実施形態において、合波部4は光分割部3を兼ねる石英板により構成されている。
分光器31としては様々な公知の技術を用いることができ、例えば、回折格子等により構成することができる。光検出器32は、例えばCCDあるいはフォトダイオード等の受光素子が二次元状に配列した二次元光センサから構成される。また、干渉光L4をビームスプリッターなどで分けて、分岐した光に対してそれぞれ分光器やCCDを複数台設置し、分光情報を同時に測定する方法も考えられる。
シリンドリカルレンズ26は、測定光照射光学系20中に配置されたライン状照射を行うためのシリンドリカルレンズ21に対して円筒の長さ方向の軸が直交するように配置されるy方向の対物用レンズである。
また、カラーフィルタで白色光源から射出された光を分光するよう構成されているので、任意の波長域の光を簡易に取り出して断層画像を取得することができる。
さらには、可視光は近赤外光に比べて波長が短いため、断層画像の深さ分解能が高いメリットが挙げられる。近赤外光では深さ分解能の観点で観測困難な、皮膚の角質層、薄膜などの評価が可能となる。
被験者の肌(ヒト肌)に対して、測定光を照射し、測定光と参照光との干渉光を分光検出し、干渉光を周波数解析することによりヒト肌の分光断層画像を取得し、また、分光検出した干渉光からヒト肌の表面もしくは内部の光学的特長を求める。そして、分光断層画像および光学的特長を画像表示装置に表示させる。画像と光学的特長とを画像表示装置に同時に表示させてもよいし、逐次表示させてもよい。
また、図6、図7の比較から分かるように回折格子の格子数(溝本数)を大きくすることにより測定深度を深くすることができることが明らかであり、測定波長毎に回折格子の格子数を調整して最適な測定深度に最適化することが可能である。
このように、本発明では機械的に肌をガラス板に押し付けたり、マッチングオイルにつけたりすることなく、評価できるため、肌の自然な状態の評価を行うことが出来る。なお、本願発明の装置の測定対象はヒト肌に限るものではなく、薄膜材料等の厚み方向の材料分布情報を得るために用いることもできる。
すなわち、肌レプリカの表面的な見え方は、色材を使って人間を模しているものの、内部の光散乱特性は大きく異なっていると言える。このように肌レプリカを用いたのでは、化粧品塗布、及び経皮吸収製剤塗布前後の人肌の光学的な特徴や、健常、異常、及び改善した肌の特徴を正確に評価、診断することはできない。
図16は、35歳の肌色の被験者(日本人)の肌のファンデーションを未塗布の状態から、0.09mg/cm2、0.28mg/cm2、0.48mg/cm2と塗布したとき状態を本発明の分光断層画像撮影装置によって赤色波長を用いて撮像取得した分光断層画像である。図16においてAはファンデーション未塗布、Bは0.09mg/cm2塗布、Cは0.28mg/cm2塗布、Dは0.48mg/cm2塗布した状態で撮影した画像である。被験者の肌の所定領域を枠で区切って区画し、同一箇所に対しファンデーション未塗布の状態、各塗布量で塗布した状態で撮影した。塗布量は、パフにファンデーションを付け重さを測定し、枠内の肌に塗布した後、ファンデーションの重さを再度測定し、その質量差から算出した。
3 光分割部
4 合波部
6 反射部材(ミラー)
10 光源部
20 測定光照射光学系
21、25、26 シリンドリカルレンズ
30 干渉光検出部
31 分光部(回折格子)
32 二次元光検出器
40 断層画像取得部
50 画像表示装置
Claims (11)
- 400nm〜800nmに亘る波長域を少なくとも含む光を射出する単一の光源、および該光源から射出された光から可視域の任意の波長域を切り出して単一もしくは複数ピークをもつスペクトルに成形するスペクトル成形部を有し、該スペクトル成形された低コヒーレント光を射出する光源部と、
該光源部から射出された低コヒーレント光を測定光と参照光とに分割する光分割部と、
前記測定光を測定対象にライン状に照射する測定光照射光学系と、
前記測定光が前記測定対象に照射されたときの該測定対象からの反射光と前記参照光とを重ね合わせる合波部と、
該合波部により合波された前記反射光と前記参照光との干渉光を分光検出する干渉光検出部と、
該干渉光検出部により検出された前記干渉光を周波数解析することにより前記測定対象の二次元光断層画像を取得する断層画像取得部とを有する光断層画像撮像装置。 - 前記測定光照射光学系が、シリンドリカルレンズを備え、
前記合波部と前記干渉光検出部との間に、前記シリンドリカルレンズと直交配置されたシリンドリカルレンズを備えている請求項1記載の光断層画像撮像装置。 - 前記任意の波長域として互いに異なる波長域の光を用いて複数の光断層画像を取得し、該複数の光断層画像に基づいて前記測定対象中の構造を分析する分析部を備えている請求項1または2記載の光断層画像撮像装置。
- 前記スペクトル成形部により切り出す前記任意の波長域を設定し、該任意の波長域の光による光断層画像を取得する制御部をさらに備えている請求項1から3いずれか1項記載の光断層画像撮像装置。
- 前記スペクトル成形部が複数のカラーフィルタを備えている請求項1から4いずれか1項記載の光断層画像撮像装置。
- 前記光源が射出する前記光が、スーパーコンティニューム光である請求項1から5いずれか1項記載の光断層画像撮像装置。
- 前記光分割部が石英板からなり、該石英板の光入射面が前記光源部から射出された光の進行方向に対して垂直でない所定の角度で配置されており、
前記光源部から射出された低コヒーレント光のうち前記石英板を透過する透過光が前記参照光であり、前記光の進行方向と異なる方向に反射された反射光が前記測定光であり、
前記石英により生じる光分散を補償する分散補償機構をさらに備えている請求項1から6いずれか1項記載の光断層画像撮像装置。 - 前記参照光の光路上に減光フィルタを備えた請求項1から7いずれか1項記載の光断層画像撮像装置。
- 請求項1から8いずれか1項記載の光断層画像撮像装置を用い、
ヒト肌に対して、前記測定光を照射し、
前記干渉光を分光検出し、
該干渉光を周波数解析することにより前記ヒト肌の分光断層画像を取得し、
該分光断層画像を画像表示装置に表示し、分光検出した前記干渉光から前記ヒト肌の表面もしくは内部の光学的特長を求めて前記画像表示装置に表示するヒト肌の計測方法。 - 前記光学的特長として、前記ヒト肌の表面もしくは内部の任意箇所における反射光強度、あるいは反射光強度の深さ方向プロファイルを求める請求項9記載のヒト肌の計測方法。
- 前記ヒト肌に対する任意の化粧品もしくは医薬品の塗布前、および塗布後のそれぞれの場合の前記ヒト肌についての前記分光断層画像を取得し、前記光学的特長を求め、
前記塗布前および前記塗布後の前記分光断層画像および前記光学的特長をそれぞれ前記画像表示装置に表示する請求項9または10に記載のヒト肌の計測方法。
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