JP2015137224A - Manufacturing method of strengthened glass plate - Google Patents

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Katsuaki Miyatani
克明 宮谷
直己 上村
Naomi Uemura
直己 上村
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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a manufacturing method of strengthened glass plate with higher strength.SOLUTION: A manufacturing method of strengthened glass plate comprises a chemical strengthening step of strengthening glass plate chemically, and a polishing after strengthening step of polishing the surface of the glass plate after the chemical strengthening step. A suede pad having a foaming resin layer is used in the polishing after strengthening step.

Description

本発明は、強化ガラス板の製造方法に関する。   The present invention relates to a method for producing a tempered glass sheet.

スマートフォンなどの携帯電話やPDAなどの携帯機器において、ディスプレイを保護するため、カバーガラスが用いられる。近年、携帯機器の薄型化・軽量化への技術が要求され、カバーガラスの軽量化及び薄板化が進行している。一般的に、ガラス板が薄くなると強度が低下するため、従来よりも強度の高いカバーガラスが求められる。また、カバーガラス以外でも、より高強度のガラス板が求められている。ガラス板の強度不足を補う方法として、ガラス板をイオン交換法などにより化学強化する技術が開発されている。化学強化により、ガラス板の表面に圧縮応力層を形成することで、撓みを抑え、また破損しにくいガラス板を提供出来る。   In a mobile phone such as a smartphone or a portable device such as a PDA, a cover glass is used to protect the display. In recent years, technology for reducing the thickness and weight of portable devices has been demanded, and cover glass has been reduced in weight and thickness. In general, when the glass plate is thinned, the strength is lowered. Therefore, a cover glass having higher strength than before is required. Further, a glass plate having a higher strength is demanded other than the cover glass. As a method for compensating for the lack of strength of the glass plate, a technique for chemically strengthening the glass plate by an ion exchange method or the like has been developed. By forming a compressive stress layer on the surface of the glass plate by chemical strengthening, it is possible to provide a glass plate that suppresses bending and is not easily damaged.

特許文献1には、化学強化後に平均粒径が80nm以下のコロイダルシリカを含むスラリーを用いて研磨する強化後研磨工程を行うことで、より高強度でかつ軽量である強化ガラス板を提供する方法が開示されている。   Patent Document 1 discloses a method of providing a tempered glass plate that is stronger and lighter by performing a post-strengthening polishing step in which polishing is performed using a slurry containing colloidal silica having an average particle size of 80 nm or less after chemical strengthening. Is disclosed.

特開2012−218995号公報JP 2012-218995 A

しかしながら、カバーガラス等に用いられるガラス板においては、その主表面に外部より大きい応力をうけるため、より高強度であることが要求される。   However, a glass plate used for a cover glass or the like is required to have a higher strength because its main surface is subjected to a greater stress than the outside.

そこで、本発明では、より高強度な強化ガラス板について、その製造方法を提供することを目的とする。   Therefore, an object of the present invention is to provide a method for producing a tempered glass sheet having higher strength.

本発明は、以下の態様を提供するものである。
(1) ガラス板を化学強化する化学強化工程と、
該化学強化工程後に、前記ガラス板の表面を研磨する強化後研磨工程と、を備える強化ガラス板の製造方法であって、
前記強化後研磨工程では、スエードパッドが用いられることを特徴とする強化ガラス板の製造方法。
(2) 両面研磨装置のサンギヤとリングギヤとの間で遊星歯車運動を行うガラス板用キャリアに強化ガラス板を保持させ、前記ガラス板用キャリアに保持された強化ガラス板を上定盤と下定盤に取り付けた研磨パッドの間に挟み、砥粒を含有する研磨液を供給しながら研磨することで強化ガラス板を製造する、強化ガラス板の製造方法であって、
前記研磨パッドは、スエードパッドであることを特徴とする強化ガラス板の製造方法。
(3) 前記スエードパッドは、バフ処理されていることを特徴とする(1)又は(2)に記載の強化ガラス板の製造方法。
(4) 前記スエードパッドは、不織布上に積層されていることを特徴とする(1)〜(3)のいずれかに記載の強化ガラス板の製造方法。
(5) 砥粒は、平均粒子直径が0.2〜1.5μmの酸化セリウムを50%以上含む砥粒であることを特徴とする(1)〜(4)のいずれかに記載の強化ガラス板の製造方法。
The present invention provides the following aspects.
(1) a chemical strengthening process for chemically strengthening a glass plate;
A post-strengthening polishing step of polishing the surface of the glass plate after the chemical strengthening step, and a method for producing a strengthened glass plate,
In the post-strengthening polishing step, a suede pad is used.
(2) A tempered glass plate is held by a glass plate carrier that performs planetary gear motion between a sun gear and a ring gear of a double-side polishing apparatus, and the tempered glass plate held by the glass plate carrier is used as an upper surface plate and a lower surface plate. A method for producing a tempered glass plate, which is sandwiched between polishing pads attached to and manufactured by polishing while supplying a polishing liquid containing abrasive grains,
The method for producing a tempered glass sheet, wherein the polishing pad is a suede pad.
(3) The method for producing a tempered glass sheet according to (1) or (2), wherein the suede pad is buffed.
(4) The said suede pad is laminated | stacked on the nonwoven fabric, The manufacturing method of the tempered glass board in any one of (1)-(3) characterized by the above-mentioned.
(5) The tempered glass according to any one of (1) to (4), wherein the abrasive grains are abrasive grains containing 50% or more of cerium oxide having an average particle diameter of 0.2 to 1.5 μm. A manufacturing method of a board.

本発明の強化ガラス板の製造方法によれば、高強度の強化ガラス板を製造することができる。   According to the method for producing a tempered glass sheet of the present invention, a high-strength tempered glass sheet can be produced.

両面研磨装置の概略構成図である。It is a schematic block diagram of a double-side polishing apparatus. 両面研磨装置において研磨パッド間に挟持された強化ガラス板の模式図である。It is a schematic diagram of the tempered glass board clamped between the polishing pads in the double-side polishing apparatus. カバーガラスの製造方法のフローを説明するフロー図である。It is a flowchart explaining the flow of the manufacturing method of a cover glass. 研磨パッドの断面の写真を示す図であり、(a)はスエードパッドであり、(b)は不織布パッドであり、(c)は硬質ウレタンパッドである。It is a figure which shows the photograph of the cross section of a polishing pad, (a) is a suede pad, (b) is a nonwoven fabric pad, (c) is a hard urethane pad. 研磨パッドの表面の写真を示す図であり、(a)はスエードパッドであり、(b)は不織布パッドであり、(c)は硬質ウレタンパッドである。It is a figure which shows the photograph of the surface of a polishing pad, (a) is a suede pad, (b) is a nonwoven fabric pad, (c) is a hard urethane pad. 強度試験の方法を説明するための概略図である。It is the schematic for demonstrating the method of an intensity | strength test. 強化後研磨された強化ガラス板の原子力間顕微鏡写真を示す図であり、(a)はスエードパッドと不織布パッドの二層構造のパッドで研磨された強化ガラス板であり、(b)はスエードパッドで研磨された強化ガラス板であり、(c)は不織布パッドで研磨された強化ガラス板であり、(d)は硬質ウレタンパッドで研磨された強化ガラス板である。It is a figure which shows the atomic force microscope photograph of the tempered glass board grind | polished after reinforcement | strengthening, (a) is a tempered glass board grind | polished with the pad of the two-layer structure of a suede pad and a nonwoven fabric pad, (b) is a suede pad (C) is a tempered glass plate polished with a non-woven pad, and (d) is a tempered glass plate polished with a hard urethane pad.

以下、本発明の強化ガラス板の製造方法の一実施形態について図面を参照して説明する。
本発明の強化ガラス板の製造方法は、ガラス板を化学強化する化学強化工程と、該化学強化工程後に、前記ガラス板の表面を研磨する強化後研磨工程と、を備える。
Hereinafter, an embodiment of a method for producing a tempered glass sheet of the present invention will be described with reference to the drawings.
The manufacturing method of the tempered glass board of this invention is equipped with the chemical strengthening process which chemically strengthens a glass plate, and the post-strengthening grinding | polishing process which grind | polishes the surface of the said glass plate after this chemical strengthening process.

[化学強化工程]
化学強化工程では、ガラスの表面をイオン交換し、圧縮応力が残留する表面層を形成させる。具体的には、ガラスの表面をイオン交換することにより、ガラスに含まれる小さなイオン半径のイオン(例えば、Liイオン、Naイオン)が、大きなイオン半径のイオン(例えば、Kイオン)に置換される。これにより、ガラスの表面に圧縮応力が残留し、ガラスの強度が向上する。
[Chemical strengthening process]
In the chemical strengthening step, the surface of the glass is ion-exchanged to form a surface layer in which compressive stress remains. Specifically, by ion exchange on the surface of the glass, ions having a small ion radius (for example, Li ions and Na ions) contained in the glass are replaced with ions having a large ion radius (for example, K ions). . Thereby, compressive stress remains on the surface of the glass, and the strength of the glass is improved.

化学強化用のガラス板の組成は、化学強化をすることができれば、特に限定されない。好ましいガラス板の組成としては、例えば、酸化物基準のモル%表示で、SiO:50〜80%、Al:2〜25%、LiO:0〜10%、NaO:0〜18%、KO:0〜10%、MgO:0〜15%、CaO:0〜5%及びZrO:0〜5%を含むガラスである。 The composition of the glass plate for chemical strengthening is not particularly limited as long as it can be chemically strengthened. Preferred composition of the glass plate, for example, by mol% based on oxides, SiO 2: 50~80%, Al 2 O 3: 2~25%, Li 2 O: 0~10%, Na 2 O: 0~18%, K 2 O: 0~10 %, MgO: 0~15%, CaO: 0~5% and ZrO 2: a glass containing 0 to 5%.

他にも、酸化物基準のモル%表示で、SiO:50〜74%、Al:1〜10%、NaO:6〜14%、KO:3〜11%、MgO:2〜15%、CaO:0〜6%及びZrO:0〜5%を含み、SiO及びAlの含有量の合計が75%以下、NaO及びKOの含有量の合計が12〜25%、MgO及びCaOの含有量の合計が7〜15%であるガラス、SiO:68〜80%、Al:4〜10%、NaO:5〜15%、KO:0〜1%、MgO:4〜15%及びZrO:0〜1%を含むガラス、SiO:67〜75%、Al:0〜4%、NaO:7〜15%、KO:1〜9%、MgO:6〜14%及びZrO:0〜1.5%を含み、SiO及びAlの含有量の合計が71〜75%、NaO及びKOの含有量の合計が12〜20%であり、CaOを含有する場合、その含有量が1%未満であるガラスを使用することが好ましい。 Besides, by mol% based on oxides, SiO 2: 50~74%, Al 2 O 3: 1~10%, Na 2 O: 6~14%, K 2 O: 3~11%, MgO : 2~15%, CaO: 0~6% and ZrO 2: comprises 0-5%, the total content of SiO 2 and Al 2 O 3 is 75% or less, the content of Na 2 O and K 2 O total from 12 to 25% of glass total content of MgO and CaO is 7~15%, SiO 2: 68~80% , Al 2 O 3: 4~10%, Na 2 O: 5~15 %, K 2 O: 0 to 1%, MgO: 4 to 15% and ZrO 2 : Glass containing 0 to 1%, SiO 2 : 67 to 75%, Al 2 O 3 : 0 to 4%, Na 2 O : 7~15%, K 2 O: 1~9%, MgO: 6~14% and ZrO 2: comprises 0 to 1.5%, SiO 2 and l 2 total content of O 3 is 71-75%, the sum is 12 to 20% content of Na 2 O and K 2 O, when containing CaO, the content is less than 1% It is preferable to use glass.

ガラス板は、フロート法、フュージョンダウンドロー法、スリットダウンドロー法、リドロー法などの方法により作製される。   The glass plate is produced by a method such as a float method, a fusion down draw method, a slit down draw method, or a redraw method.

また、ガラス板の厚みは、用途によって異なるが、携帯電話などのカバーガラス用途の場合、通常、0.2mm〜2.5mm程度であり、好ましくは、0.3mm〜0.7mmである。   Moreover, although the thickness of a glass plate changes with uses, in the case of cover glass uses, such as a mobile telephone, it is about 0.2 mm-2.5 mm normally, Preferably, it is 0.3 mm-0.7 mm.

イオン交換による化学強化を施した強化ガラス板は、その表面に欠陥が発生する。また、最大で1μm程度の微細な凹凸が残留することがある。ガラスに力が作用する場合、前述の欠陥や微細な凹凸が存在する箇所に応力が集中し、理論強度よりも小さな力でも割れることがある。そのため、本発明では、化学強化後のガラス板の表面に存在する、欠陥及び微細な凹凸を有する層(欠陥層と呼ぶ)を除去する。なお、欠陥が存在する欠陥層の厚さは、化学強化の条件にもよるが、通常、0.01〜0.5μmである。   A tempered glass plate subjected to chemical strengthening by ion exchange has defects on its surface. In addition, fine irregularities of up to about 1 μm may remain. When force acts on the glass, stress concentrates on the above-described defects and fine irregularities and may break even with a force smaller than the theoretical strength. Therefore, in the present invention, a layer (referred to as a defect layer) having defects and fine irregularities present on the surface of the chemically strengthened glass plate is removed. In addition, although the thickness of the defect layer in which a defect exists is based also on the conditions of chemical strengthening, it is 0.01-0.5 micrometer normally.

[強化後研磨工程]
欠陥及び微細な凹凸を含む欠陥層を除去する方法としては、図1及び図2に示す両面研磨装置12により研磨を行う方法が挙げられる。
[Polishing post-strengthening process]
Examples of a method for removing a defect layer including defects and fine irregularities include a method of polishing using a double-side polishing apparatus 12 shown in FIGS. 1 and 2.

両面研磨装置12には、図1に示すように、ガラス板30(図2参照)を設置可能なガラス板用キャリア10がサンギヤ13、リングギヤ14間にセットされる。サンギヤ13、リングギヤ14及びガラス板用キャリア10の外周面に形成されたギヤ部は、遊星歯車機構を構成し、サンギヤ13、リングギヤ14を所定の回転比率で回転駆動することにより、ガラス板用キャリア10が自転しながらサンギヤ13の周りを公転する遊星歯車運動を行う。   As shown in FIG. 1, a glass plate carrier 10 on which a glass plate 30 (see FIG. 2) can be installed is set between the sun gear 13 and the ring gear 14 in the double-side polishing apparatus 12. The gear part formed in the outer peripheral surface of the sun gear 13, the ring gear 14, and the glass plate carrier 10 constitutes a planetary gear mechanism, and the sun gear 13 and the ring gear 14 are rotationally driven at a predetermined rotation ratio, whereby the glass plate carrier. The planetary gear motion that revolves around the sun gear 13 is performed while 10 rotates.

このとき、ガラス板用キャリア10は、ギヤ部10aの内側のガラス板保持部10bに形成されたガラス板保持孔11にガラス板30を保持した状態で、図2に示すように、ガラス板30と対向する面に研磨パッド16、18が装着された上定盤15と下定盤(図示せず)との間に狭持され、ガラス板30が所定の研磨荷重で押圧されている。そして、研磨パッド16、18とガラス板用キャリア10、ガラス板30との間には砥粒を含有する研磨液(研磨スラリー)が供給され、上定盤15と下定盤とが相対回転することでガラス板用キャリア10に保持されたガラス板の両主平面が同時に研磨される。   At this time, the glass plate carrier 10 holds the glass plate 30 in the glass plate holding hole 11 formed in the glass plate holding portion 10b inside the gear portion 10a, as shown in FIG. Is sandwiched between an upper surface plate 15 and a lower surface plate (not shown) on which polishing pads 16 and 18 are mounted, and the glass plate 30 is pressed with a predetermined polishing load. A polishing liquid (abrasive slurry) containing abrasive grains is supplied between the polishing pads 16 and 18 and the glass plate carrier 10 and the glass plate 30, and the upper surface plate 15 and the lower surface plate rotate relative to each other. Thus, both main planes of the glass plate held by the glass plate carrier 10 are simultaneously polished.

研磨パッド16、18は、スエードパッドである。スエードパッドは、発砲樹脂層をPET等の基材に貼り付けたものであり、4.5mm厚に積層した硬度がショアA硬度で45〜95である。発砲樹脂層は典型的には(軟質)ポリウレタンである。スエードパッドは、発砲樹脂層の表面がバフ(バフィング)処理されることで発砲樹脂層が開口したバフ処理スエードパッドであってもよく、発砲樹脂層の表面がバフ処理されずに発砲樹脂層が開口していないバフ未処理スエードパッドであってもよい。図4(a)にはバフ未処理スエードパッドの断面の写真、図5(a)にはバフ処理スエードパッドの表面の写真が示されている。   The polishing pads 16 and 18 are suede pads. The suede pad is obtained by attaching a foamed resin layer to a base material such as PET, and the hardness of the 4.5 mm thick laminated layer is 45 to 95 in Shore A hardness. The foamed resin layer is typically (soft) polyurethane. The suede pad may be a buffed suede pad in which the foamed resin layer is opened by buffing the surface of the foamed resin layer. The surface of the foamed resin layer is not buffed and the foamed resin layer is not buffed. It may be an untreated buffed untreated suede pad. FIG. 4A shows a cross-sectional photograph of the unbuffed suede pad, and FIG. 5A shows a photograph of the surface of the buffed suede pad.

また、基材上に軟質下地層を取り付け、さらにその上にバフ処理スエードパッド又はバフ未処理スエードパッドを取り付けることで2層構造を有する2層スエードパッドとしてもよい。軟質下地層は、不職布パッド、織布パッド等が挙げられ、不織布パッドが好ましい。スエードパッドとしては、バフ処理スエードパッドが好ましく、2層スエードパッドがさらに好ましい。   Moreover, it is good also as a 2 layer suede pad which has a 2 layer structure by attaching a soft base layer on a base material, and also attaching a buff process suede pad or a buff non-processed suede pad on it. Examples of the soft underlayer include unemployed cloth pads and woven cloth pads, and nonwoven cloth pads are preferable. The suede pad is preferably a buffed suede pad, and more preferably a two-layer suede pad.

スエードパッドは、硬質ウレタンパッドの厚さ(典型的には1.5mm〜2.0mm)に比べて薄く、典型的には0.3mm〜0.9mm程度の厚さを有する。また、パッド表面に形成される溝深さについても、硬質ウレタンパッドの溝深さ(典型的には1.2mm〜1.7mm)に比べて浅く、典型的には0.2mm〜0.8mm程度の厚さを有する。   The suede pad is thinner than the thickness of the hard urethane pad (typically 1.5 mm to 2.0 mm), and typically has a thickness of about 0.3 mm to 0.9 mm. Also, the groove depth formed on the pad surface is shallower than that of the hard urethane pad (typically 1.2 mm to 1.7 mm), typically 0.2 mm to 0.8 mm. Have a thickness of about.

ガラス板用キャリア10はプリプレグを複数枚積層することで製作される。プリプレグの材質については特に限定されるものではなく、目的とするガラス板用キャリア10の変形量等によって選択することができる。例えば、基材としてはガラス繊維布、ガラス繊維不織布、アラミド繊維不織布、ポリエステル繊維布等を用い、これにエポキシ樹脂、フェノール樹脂、不飽和ポリエステル樹脂、ポリイミド樹脂等の樹脂を含浸させた物を用いることができる。   The glass plate carrier 10 is manufactured by laminating a plurality of prepregs. The material of the prepreg is not particularly limited, and can be selected depending on the amount of deformation of the target glass plate carrier 10 or the like. For example, a glass fiber cloth, a glass fiber nonwoven cloth, an aramid fiber nonwoven cloth, a polyester fiber cloth or the like is used as a base material, and a material impregnated with an epoxy resin, a phenol resin, an unsaturated polyester resin, a polyimide resin or the like is used. be able to.

また、用いるプリプレグは一種類に限定されず異なる材料のプリプレグを積層してもよい。積層したプリプレグを、プレス機で加圧、加熱することにより、ガラス板用キャリア10が作製される。   Moreover, the prepreg to be used is not limited to one type, and prepregs of different materials may be laminated. The laminated prepreg is pressurized and heated with a press to produce the glass plate carrier 10.

研磨液(研磨スラリー)は、例えば、コロイダルシリカ、酸化セリウムなどの希土類酸化物、酸化ジルコニウム、酸化アルミニウム、酸化マグネシウム、酸化ケイ素、炭化ケイ素、酸化マンガン、酸化鉄、ダイヤモンド、窒化ホウ素及びジルコンなどの、公知の砥粒を含むスラリーが用いられる。砥粒は、1種類を単独で使用しても良く、2種類以上を併用して使用してもよく、平均粒子直径が0.2〜1.5μmの酸化セリウムを50%以上含むことが好ましい。   The polishing liquid (polishing slurry) includes, for example, rare earth oxides such as colloidal silica and cerium oxide, zirconium oxide, aluminum oxide, magnesium oxide, silicon oxide, silicon carbide, manganese oxide, iron oxide, diamond, boron nitride and zircon. A slurry containing known abrasive grains is used. Abrasive grains may be used alone or in combination of two or more, and preferably contain 50% or more of cerium oxide having an average particle diameter of 0.2 to 1.5 μm. .

[その他の工程]
本発明の強化ガラス板の製造方法は、化学強化する工程の前に、ガラス板の表面に存在する傷(クラック)やガラス板の撓みや凹みを除去する、その他の工程を含んでも良い。化学強化処理の前に、ガラス板の表面のクラックを除去する方法としては、前述の欠陥層を除去する工程と同様に、ガラス板の表面を研磨する方法が挙げられる。
[Other processes]
The manufacturing method of the tempered glass plate of the present invention may include other steps of removing scratches (cracks) existing on the surface of the glass plate and bending or dents of the glass plate before the step of chemically strengthening. As a method of removing the cracks on the surface of the glass plate before the chemical strengthening treatment, a method of polishing the surface of the glass plate can be mentioned as in the above-described step of removing the defective layer.

次に、本発明の強化ガラス板の製造方法の一例としてカバーガラスの製造方法について図3を参照しながら説明する。
カバーガラスの製造方法は、先ず、フロート法等により製造されたガラス板を切断し所定のガラス素板を採板する(S1)。続いて、所望のカバーガラスのサイズにあうように切断処理され、端面の面取り処理が行われる(S2)。続いて、両面研磨装置12を用いてガラス板の表面を研磨(強化前研磨)してクラックを除去する(S3)。
Next, a cover glass manufacturing method will be described with reference to FIG. 3 as an example of a method for manufacturing a tempered glass sheet of the present invention.
In the cover glass manufacturing method, first, a glass plate manufactured by a float method or the like is cut to obtain a predetermined glass base plate (S1). Then, it cuts so that it may meet the size of a desired cover glass, and the chamfering process of an end surface is performed (S2). Subsequently, the surface of the glass plate is polished (pre-strengthening polishing) using the double-side polishing apparatus 12 to remove cracks (S3).

続いて、化学強化が行われる(S4)。例えば、400℃〜450℃のKNO溶融塩に1時間〜10時間浸漬することにより化学強化が施される。また、化学強化後に、ガラス板に付着する溶融塩などの付着物などを除去する目的で、水で洗浄することが好ましい。 Subsequently, chemical strengthening is performed (S4). For example, chemical strengthening is performed by immersing in KNO 3 molten salt at 400 ° C. to 450 ° C. for 1 hour to 10 hours. Moreover, after chemical strengthening, it is preferable to wash with water for the purpose of removing deposits such as molten salt adhering to the glass plate.

続いて、両面研磨装置12を用いてガラス板の表面を研磨(強化後研磨)して化学強化によりガラス板の表面に形成された欠陥層を除去する(S5)。最後に、ガラス板の周縁部に遮光性を有する黒色層等が印刷され(S6)、カバーガラスが製造される。   Subsequently, the surface of the glass plate is polished (polished after strengthening) using the double-side polishing apparatus 12, and the defect layer formed on the surface of the glass plate by chemical strengthening is removed (S5). Finally, a black layer having a light shielding property or the like is printed on the peripheral edge of the glass plate (S6), and the cover glass is manufactured.

本発明の特徴である、スエードパッドは、強化後研磨(S5)に適用する限り、強化前研磨(S3)に適用してもよい。   The suede pad, which is a feature of the present invention, may be applied to pre-strengthening polishing (S3) as long as it is applied to post-strengthening polishing (S5).

以下に、実施例などにより本発明を具体的に説明するが、本発明はこれらの例によって限定されるものではない。   EXAMPLES The present invention will be specifically described below with reference to examples, but the present invention is not limited to these examples.

全ての実施例及び比較例において、フロート法により成形した後に切断して得た縦300mm×横225mm×厚さ0.56mmの平板ガラスを用いた。使用した平板ガラスの組成は、酸化物基準のモル%表示で、SiO:64%、Al:8%、MgO:11%、NaO:12.5%、ZrO:0.5%であった。 In all Examples and Comparative Examples, flat glass having a length of 300 mm, a width of 225 mm, and a thickness of 0.56 mm obtained by molding after the float method was used. The composition of the flat glass used was expressed in terms of mol% on the basis of oxide, SiO 2 : 64%, Al 2 O 3 : 8%, MgO: 11%, Na 2 O: 12.5%, ZrO 2 : 0.00. It was 5%.

以下の実施例および比較例では、次の各工程を適宜組み合わせて行った。   In the following examples and comparative examples, the following steps were appropriately combined.

(化学強化)
平板ガラスを、KNO溶融塩に浸漬し、イオン交換処理した後、室温付近まで冷却することにより化学強化する。このとき、KNO溶融塩の温度は435℃とし、浸漬時間は4時間とする。得られた化学強化ガラス(以下、強化ガラスと呼ぶ。)は水洗いし、次の酸化セリウム研磨又はコロイダルシリカ研磨工程に供する。強化後の強化ガラスは、表面圧縮応力(CS)が700±50MPa、圧縮応力層深さ(DOL)が18±2μmであった。
(Chemical strengthening)
The flat glass is immersed in KNO 3 molten salt, subjected to ion exchange treatment, and then chemically strengthened by cooling to near room temperature. At this time, the temperature of the KNO 3 molten salt is 435 ° C., and the immersion time is 4 hours. The obtained chemically tempered glass (hereinafter referred to as tempered glass) is washed with water and subjected to the subsequent cerium oxide polishing or colloidal silica polishing step. The tempered glass after tempering had a surface compressive stress (CS) of 700 ± 50 MPa and a compressive stress layer depth (DOL) of 18 ± 2 μm.

(酸化セリウム研磨)
研磨スラリーとして、平均粒子直径(d50)が1μmの酸化セリウムを水に分散させてスラリーを作製し、得られたスラリーを用いて、強化ガラスを約2.0μm研磨する。この平均粒子直径(d50)が1μmの酸化セリウムを水に分散させたスラリーには、最大で10μm程度の酸化セリウムの粒子が存在している。
(Cerium oxide polishing)
As a polishing slurry, cerium oxide having an average particle diameter (d50) of 1 μm is dispersed in water to produce a slurry, and the tempered glass is polished by about 2.0 μm using the obtained slurry. In the slurry in which cerium oxide having an average particle diameter (d50) of 1 μm is dispersed in water, cerium oxide particles having a maximum of about 10 μm are present.

(コロイダルシリカ研磨)
研磨スラリーとして、平均粒子直径(d50)が80nmのコロイダルシリカ(コンポール80;フジミインコーポレーテッド社製)を水に分散させてスラリーを作製し、得られたスラリーを用いて、強化ガラスを約2.0μm研磨する。
(Colloidal silica polishing)
As a polishing slurry, colloidal silica (Compol 80; manufactured by Fujimi Incorporated) having an average particle diameter (d50) of 80 nm is dispersed in water to prepare a slurry. Polish 0 μm.

[実施例1]
前記化学強化工程により平板ガラスを強化した後、強化ガラスにコロイダルシリカ研磨を行った。研磨パッドとして、不織布パッドをPET基材に貼り付け、さらに不織布パッド上に発砲樹脂層の表面がバフ処理されたバフ処理スエードパッドを貼り付け、不織布パッドとバフ処理スエードパッドの2層構造を有する2層スエードパッドを用いた。
[Example 1]
After strengthening the flat glass by the chemical strengthening step, colloidal silica polishing was performed on the strengthened glass. As a polishing pad, a non-woven pad is affixed to a PET substrate, and a buffed suede pad with a buffed surface of the foamed resin layer is affixed on the non-woven pad, and has a two-layer structure of a non-woven pad and a buffed suede pad. A two-layer suede pad was used.

[実施例2]
前記化学強化工程により平板ガラスを強化した後、強化ガラスに酸化セリウム研磨を行った。研磨パッドとして、不織布パッドをPET基材に貼り付け、さらに不織布パッド上に発砲樹脂層の表面がバフ処理されたバフ処理スエードパッドを貼り付け、不織布パッドとバフ処理スエードパッドの2層構造を有する2層スエードパッドを用いた。
[Example 2]
After strengthening the flat glass by the chemical strengthening step, the tempered glass was polished with cerium oxide. As a polishing pad, a non-woven pad is affixed to a PET substrate, and a buffed suede pad with a buffed surface of the foamed resin layer is affixed on the non-woven pad, and has a two-layer structure of a non-woven pad and a buffed suede pad. A two-layer suede pad was used.

[実施例3]
前記化学強化工程により平板ガラスを強化した後、強化ガラスに酸化セリウム研磨を行った。研磨パッドとして、表面がバフ処理された発砲樹脂層をPET基材に貼り付けたバフ処理スエードパッドを用いた。
[Example 3]
After strengthening the flat glass by the chemical strengthening step, the tempered glass was polished with cerium oxide. As a polishing pad, a buffed suede pad in which a foamed resin layer whose surface was buffed was attached to a PET substrate was used.

[実施例4]
前記化学強化工程により平板ガラスを強化した後、強化ガラスに酸化セリウム研磨を行った。研磨パッドとして、表面がバフ処理されていない発砲樹脂層をPET基材に貼り付けたバフ未処理スエードパッドを用いた。
[Example 4]
After strengthening the flat glass by the chemical strengthening step, the tempered glass was polished with cerium oxide. As the polishing pad, a buffed untreated suede pad in which a foamed resin layer whose surface was not buffed was attached to a PET substrate was used.

[比較例1]
前記化学強化工程により平板ガラスを強化した後、強化ガラスに酸化セリウム研磨を行った。研磨パッドとして、不織布をPET基材に貼り付けた不織布パッドを用いた。
[Comparative Example 1]
After strengthening the flat glass by the chemical strengthening step, the tempered glass was polished with cerium oxide. As the polishing pad, a non-woven pad in which a non-woven fabric was bonded to a PET substrate was used.

[比較例2]
前記化学強化工程により平板ガラスを強化した後、強化ガラスに酸化セリウム研磨を行った。研磨パッドとして、硬質ウレタンをPET基材に貼り付けた硬質ウレタンパッドを用いた。
[Comparative Example 2]
After strengthening the flat glass by the chemical strengthening step, the tempered glass was polished with cerium oxide. As the polishing pad, a hard urethane pad in which hard urethane was attached to a PET substrate was used.

実施例及び比較例における各研磨処理の条件を、表1に示す。   Table 1 shows the conditions of each polishing treatment in Examples and Comparative Examples.

[評価方法]
以下、評価方法を説明する。各実施例と比較例に関し、研磨処理後に下記のBall on Ring試験を行った。図6に、本発明で用いた強度試験を説明するための概略図を示す。
[Evaluation method]
Hereinafter, the evaluation method will be described. For each of the examples and comparative examples, the following Ball on Ring test was performed after the polishing treatment. FIG. 6 is a schematic diagram for explaining the strength test used in the present invention.

《Ball on Ring試験》
Ball on Ring(BOR)試験では、強化ガラス板1を水平に載置した状態で、SUS304製の加圧治具2を用いて強化ガラス板1を加圧し、強化ガラス板1の強度を測定した。図6において、SUS304製の受け治具3の上に、サンプルとなる強化ガラス板1が水平に設置されている。強化ガラス板1の上方には、強化ガラス板1を加圧するための、加圧治具2が設置されている。
《Ball on Ring test》
In the Ball on Ring (BOR) test, the tempered glass plate 1 was pressed with a pressurizing jig 2 made of SUS304 while the tempered glass plate 1 was placed horizontally, and the strength of the tempered glass plate 1 was measured. . In FIG. 6, a tempered glass plate 1 as a sample is horizontally installed on a receiving jig 3 made of SUS304. A pressurizing jig 2 for pressurizing the tempered glass plate 1 is installed above the tempered glass plate 1.

本実施の形態においては、実施例及び比較例の研磨処理後に得られた強化ガラスを50mm角に切断後、上方から、強化ガラス板1の中央領域を加圧した。なお、試験条件は下記の通りである。
サンプルの厚み:0.56(mm)
加圧治具2の下降速度:1.0(mm/min)
この時、ガラスが破壊された際の、破壊荷重(単位N)をBOR強度とし、20回の測定値の範囲を表1に示した。なお、実施例1については、20回の測定の平均値である。
In this Embodiment, the center area | region of the tempered glass board 1 was pressurized from upper direction after cut | disconnecting the tempered glass obtained after the grinding | polishing process of an Example and a comparative example into a 50 mm square. The test conditions are as follows.
Sample thickness: 0.56 (mm)
Lowering speed of the pressure jig 2: 1.0 (mm / min)
At this time, the breaking load (unit N) when the glass was broken was defined as the BOR strength, and Table 1 shows a range of measured values for 20 times. In addition, about Example 1, it is an average value of 20 measurements.

BOR強度の結果から、同じ研磨パッドである2層スエードパッドを用いた実施例1、2を比較すると、砥粒の平均粒子直径(d50)が顕著に小さい実施例1において、BOR強度が高い結果となった。これは、平均粒子直径(d50)が大きく異なる砥粒で研磨した場合、強化ガラス板の表面粗さが大きく異なるためと考えられる。ただし、砥粒の平均粒子直径(d50)が小さいと、同じ研磨量を研磨しようとすると、その分、研磨時間が長くなってしまう。   From the results of BOR strength, when Examples 1 and 2 using a two-layer suede pad, which is the same polishing pad, are compared, in Example 1 in which the average particle diameter (d50) of the abrasive grains is remarkably small, BOR strength is high. It became. This is presumably because the surface roughness of the tempered glass plate is greatly different when polished with abrasive grains having greatly different average particle diameters (d50). However, if the average particle diameter (d50) of the abrasive grains is small, an attempt to polish the same polishing amount will increase the polishing time accordingly.

次に、同じ研磨砥粒(酸化セリウム)を用いた実施例2〜4及び比較例1、2において、BOR強度を比較すると、比較例1(不織布パッド)、2(硬質ウレタンパッド)に比べて、スエードパッドを用いた実施例2〜4が高い結果となった。   Next, in Examples 2 to 4 and Comparative Examples 1 and 2 using the same abrasive grains (cerium oxide), the BOR strength is compared with that of Comparative Example 1 (nonwoven fabric pad) and 2 (hard urethane pad). Examples 2-4 using suede pads gave high results.

この結果について図4の断面写真と図5の表面写真を参照しながら考察すると、硬質ウレタンパッドでは、砥粒に含有される酸化セリウムの粒子(最大で10μm程度)よりも大きなポア(空孔)が存在するものの、硬質ウレタンパッド自体が硬いため、ポア以外の表面に、砥粒の逃げ場がなく、砥粒とガラス表面の接触がハードとなり、微小な傷が発生しやすいものと考えられる。そのため、BOR強度が低くなるものと考えられる。   Considering this result with reference to the cross-sectional photograph of FIG. 4 and the surface photograph of FIG. 5, the hard urethane pad has pores (holes) larger than the cerium oxide particles (up to about 10 μm) contained in the abrasive grains. However, since the hard urethane pad itself is hard, there is no escape area for the abrasive grains on the surface other than the pores, and the contact between the abrasive grains and the glass surface becomes hard, and it is considered that minute scratches are likely to occur. Therefore, it is considered that the BOR strength is lowered.

これに対し、スエードパッドでは、発砲樹脂層自体柔らかく弾性的に変形することができるため、砥粒とガラス表面の接触が極めてマイルドとなり、微小な傷が発生しづらいものと考えられる。特に、バフ処理スエードパッドにおいては、砥粒に含有される酸化セリウムの粒子(最大で10μm程度)よりも大きなポアが形成されるとともに、発砲樹脂層自体にも酸化セリウムの粒子の平均粒子直径(d50)と同程度の微小なポアが形成されるため、砥粒とガラス表面の接触が極めてマイルドとなり、微小な傷が発生しづらいものと考えられる。そのため、硬質ウレタンパッドに比べてBOR強度が高くなるものと考えられる。   On the other hand, in the suede pad, since the foamed resin layer itself can be deformed softly and elastically, the contact between the abrasive grains and the glass surface is extremely mild, and it is considered that minute scratches are difficult to occur. In particular, in the buffed suede pad, pores larger than the cerium oxide particles (up to about 10 μm) contained in the abrasive grains are formed, and the average particle diameter of the cerium oxide particles in the foamed resin layer itself ( Since micropores of the same level as d50) are formed, it is considered that the contact between the abrasive grains and the glass surface is extremely mild and it is difficult for microscopic scratches to occur. Therefore, it is considered that the BOR strength is higher than that of the hard urethane pad.

また、不織布パッドでは、酸化セリウムの粒子の平均粒子直径(d50)と同程度の微小なポアが形成されるものの、繊維の向きによっては砥粒に含有される酸化セリウムの粒子(最大で10μm程度)よりも繊維間距離が小さくなるため、繊維の向きでガラス表面との接触が変わる。砥粒とガラス表面の接触は、基本的にマイルドな接触となり、微小な傷が発生しづらいものと考えられる。そのため、硬質ウレタンパッドに比べてBOR強度が高くなるものと考えられる。   In addition, in the non-woven fabric pad, although pores as small as the average particle diameter (d50) of cerium oxide particles are formed, cerium oxide particles contained in the abrasive grains (up to about 10 μm depending on the fiber orientation) ), The distance between the fibers becomes smaller, and the contact with the glass surface changes depending on the direction of the fibers. The contact between the abrasive grains and the glass surface is basically a mild contact, and it is considered that minute scratches are difficult to occur. Therefore, it is considered that the BOR strength is higher than that of the hard urethane pad.

そこで、ガラス表面の状態がよければBOR強度が高くなるかどうかを検証するため、さらに実施例2、3及び比較例1、2について原子間力顕微鏡(AFM)を用いて表面粗さ(Ra)の測定をした。表面粗さ(Ra)の結果について表2に示し、実施例1、3及び比較例1、2におけるBOR強度と表面粗さ(Ra)の結果について順位付けしたものを表3に示した。   Therefore, in order to verify whether or not the BOR intensity is increased if the glass surface is good, the surface roughness (Ra) is further measured for each of Examples 2 and 3 and Comparative Examples 1 and 2 using an atomic force microscope (AFM). Was measured. The results of the surface roughness (Ra) are shown in Table 2, and the results of ranking the BOR strength and the surface roughness (Ra) in Examples 1 and 3 and Comparative Examples 1 and 2 are shown in Table 3.

表3の結果から、実施例3(バフ処理スエードパッド)と比較例1(不織布パッド)を比較すると、比較例1(不織布パッド)の方が実施例3(バフ処理スエードパッド)に比べて表面粗さ(Ra)が小さいにもかかわらず、BOR強度では、実施例3(バフ処理スエードパッド)の方が比較例1(不織布パッド)よりもよい結果、即ち強度が高い結果となった。従って、必ずしも強化ガラスのBOR強度と表面粗さ(Ra)は一致せず、強化ガラスに対し、スエードパッドを用いることが、BOR強度を高めるために有効であることが実証された。これは、スエードパッドの穴を構成する壁の厚みが薄く、変形しやすい為、傷が入るような研磨の状態になりにくいからだと考えられる。   From the results of Table 3, when Example 3 (buffed suede pad) and Comparative Example 1 (nonwoven pad) are compared, Comparative Example 1 (nonwoven pad) is more surface than Example 3 (buffed suede pad). Despite the small roughness (Ra), the BOR strength was better in Example 3 (buffed suede pad) than in Comparative Example 1 (nonwoven fabric pad), that is, higher in strength. Therefore, the BOR strength and the surface roughness (Ra) of the tempered glass do not necessarily match, and it has been proved that using a suede pad for the tempered glass is effective for increasing the BOR strength. This is presumably because the wall constituting the hole of the suede pad is thin and easily deformed, so that it is difficult to be in a polished state in which scratches enter.

また、実施例2〜4の中では、BOR強度が高い順に、実施例2(不織布パッドとバフ処理スエードパッドの2層構造を有する2層スエードパッド)、実施例3(バフ処理スエードパッド)、実施例4(バフ未処理スエードパッド)となった。これについては、2層スエードパッドは、基板とスエードパッドとの間に不織布が介在するため、不織布の弾性により砥粒とガラス表面との接触がよりマイルドになるものと考えられる。また、上記したように、バフ処理スエードパッドは、バフ未処理スエードパッドに比較して、パッド表面にポアが存在するため、砥粒とガラス表面との接触がよりマイルドになるものと考えられる。   Moreover, in Examples 2-4, Example 2 (two-layer suede pad which has a two-layer structure of a nonwoven fabric pad and a buff processing suede pad), Example 3 (buff processing suede pad) in order with high BOR strength, Example 4 (unbuffed suede pad) was obtained. In this regard, in the two-layer suede pad, since the nonwoven fabric is interposed between the substrate and the suede pad, it is considered that the contact between the abrasive grains and the glass surface becomes milder due to the elasticity of the nonwoven fabric. In addition, as described above, the buffed suede pad has pores on the pad surface as compared to the unbuffed suede pad, and thus it is considered that the contact between the abrasive grains and the glass surface becomes milder.

なお、本発明は上述した実施形態に何ら限定されるものではなく、その要旨を逸脱しない範囲において種々の形態で実施し得るものである。
例えば、上記実施形態では、強化ガラス板の製造方法の一例としてカバーガラスの製造方法を例示したが、これに限らず、色々な用途のガラスに適用可能である。
The present invention is not limited to the embodiment described above, and can be implemented in various forms without departing from the gist of the present invention.
For example, in the said embodiment, although the manufacturing method of the cover glass was illustrated as an example of the manufacturing method of a tempered glass board, it is applicable not only to this but glass of various uses.

10 ガラス板用キャリア
10a ギヤ部
10b ガラス板保持部
11 ガラス板保持孔
12 両面研磨装置
13 サンギヤ
14 リングギヤ
15 上定盤
16 研磨パッド
18 研磨パッド
DESCRIPTION OF SYMBOLS 10 Glass plate carrier 10a Gear portion 10b Glass plate holding portion 11 Glass plate holding hole 12 Double-side polishing device 13 Sun gear 14 Ring gear 15 Upper surface plate 16 Polishing pad 18 Polishing pad

Claims (5)

ガラス板を化学強化する化学強化工程と、
該化学強化工程後に、前記ガラス板の表面を研磨する強化後研磨工程と、を備える強化ガラス板の製造方法であって、
前記強化後研磨工程では、スエードパッドが用いられることを特徴とする強化ガラス板の製造方法。
A chemical strengthening process to chemically strengthen the glass plate;
A post-strengthening polishing step of polishing the surface of the glass plate after the chemical strengthening step, and a method for producing a strengthened glass plate,
In the post-strengthening polishing step, a suede pad is used.
両面研磨装置のサンギヤとリングギヤとの間で遊星歯車運動を行うガラス板用キャリアに強化ガラス板を保持させ、前記ガラス板用キャリアに保持された強化ガラス板を上定盤と下定盤に取り付けた研磨パッドの間に挟み、砥粒を含有する研磨液を供給しながら研磨することで強化ガラス板を製造する、強化ガラス板の製造方法であって、
前記研磨パッドは、スエードパッドであることを特徴とする強化ガラス板の製造方法。
A tempered glass plate is held on a glass plate carrier that performs planetary gear motion between a sun gear and a ring gear of a double-side polishing apparatus, and the tempered glass plates held on the glass plate carrier are attached to an upper surface plate and a lower surface plate. A method for producing a tempered glass plate, which is produced by sandwiching between polishing pads and polishing while supplying a polishing liquid containing abrasive grains,
The method for producing a tempered glass sheet, wherein the polishing pad is a suede pad.
前記スエードパッドは、バフ処理されていることを特徴とする請求項1又は2に記載の強化ガラス板の製造方法。   The method of manufacturing a tempered glass sheet according to claim 1, wherein the suede pad is buffed. 前記スエードパッドは、不織布上に積層されていることを特徴とする請求項1〜3のいずれか1項に記載の強化ガラス板の製造方法。   The said suede pad is laminated | stacked on the nonwoven fabric, The manufacturing method of the tempered glass board of any one of Claims 1-3 characterized by the above-mentioned. 砥粒は、平均粒子直径が0.2〜1.5μmの酸化セリウムを50%以上含む砥粒であることを特徴とする請求項1〜4のいずれか1項に記載の強化ガラス板の製造方法。   The abrasive grains are abrasive grains containing 50% or more of cerium oxide having an average particle diameter of 0.2 to 1.5 µm, The tempered glass plate production according to any one of claims 1 to 4, Method.
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* Cited by examiner, † Cited by third party
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KR101641699B1 (en) * 2015-11-27 2016-07-22 삼광글라스 주식회사 Chemical Strengthening of Glass

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