JP2015136786A - 積層リングの製造方法 - Google Patents
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Abstract
【課題】本発明は、積層リングの製造の継続を安定させることができる積層リングの製造方法を提供することを課題とする。【解決手段】本発明に係る積層リングの製造方法は、最内層用又は最外層用のリンググループに区分けされたリングを選定起点として複数のリングセットを抽出するリング選定工程Ｓ６と、選定起点となったリングが属する最内層用又は最外層用のリンググループを第１優先リンググループに特定し、第１優先リンググループの各階級で最も大きい階級を第１優先階級に特定し、複数のリングセットを第１優先階級に属しているリングを含むものに限定する優先払い出し限定工程Ｓ７と、リングセットを構成するリングが属する階級の余剰度数を足し合わせて総和を算出し、余剰度数の総和が最も大きいリングセットで積層リングを製造することを決定するリングセット決定工程Ｓ８と、を有することを特徴とする。【選択図】図１１
Description
本発明は、積層リングの製造方法に関する。
車両に搭載される無段変速機（以下、「ＣＶＴ」という）のベルトには、積層リングが使用されている。この積層リングは、周長の異なる金属リング（以下、単に「リング」という）を重ね合わせることで構成され、例えば１２層などの積層構造になっている。
また、積層リングの各層を構成するリングは、入荷時に測定によりリングの周長値が求められ、この周長値に基づいて、例えば、第１層用のリンググループ、第２層用のリンググループ、・・・第Ｎ層用のリンググループなどに区分けされて保管されている。
また、積層リングの各層を構成するリングは、入荷時に測定によりリングの周長値が求められ、この周長値に基づいて、例えば、第１層用のリンググループ、第２層用のリンググループ、・・・第Ｎ層用のリンググループなどに区分けされて保管されている。
ところで、リングは、各リンググループにリングの周長や径について設計値が設定されているものの、一般的に製造上の誤差が生じ、リンググループ毎に設計値を中心にある程度のばらつきがある。
そして、各リンググループからリングを無作為に選択すると、たとえば、第１層用リングの周長と第２層用リングの周長との差が大きく、第１層用リングと第２層用リングとの隙間が所定の許容範囲（以下、「クリアランス要件」という）を超えるおそれがある。
このため、リングのサイズデータを参照することで、クリアランス要件を満たすリングをリンググループの中から選定している。
そして、各リンググループからリングを無作為に選択すると、たとえば、第１層用リングの周長と第２層用リングの周長との差が大きく、第１層用リングと第２層用リングとの隙間が所定の許容範囲（以下、「クリアランス要件」という）を超えるおそれがある。
このため、リングのサイズデータを参照することで、クリアランス要件を満たすリングをリンググループの中から選定している。
また、クリアランス要件を満たすリングを各リンググループから選定するリング選定工程は、つぎのようになっている。
最初に、積層リングの最内層を構成する第１層用のリンググループ（以下、「最内層用のリンググループ」という場合がある）、又は積層リングの最外層を構成する第Ｎ層用のリンググループ（以下、「最外層用のリンググループ」という場合がある）から、一つのリングを抽出し、そのリングを選定起点に設定する。
仮に、最内層用のリンググループのリングを選定起点に設定した場合、そのリングを基準に、最内層（第１層）に隣り合う第２層用のリンググループの中から、クリアランス要件を満たす第２層用リングを全て選定する。
つぎに、選定された第２層用リングのそれぞれを基準に、第２層に隣り合う第３層用のリンググループの中から、クリアランス要件を満たす第３層用リングを全て選定する。
このようにして、最内層用リングを起点として、外側に向かって順に隣り合うリンググループからリングを選定していくことで、全てのリンググループからリングを選定し、クリアランス要件を満たすリングの組（以下、リングセットという）が抽出される。
なお、最外層用リングが選定起点となった場合には、最外層から内側に向かって順に選定していく。
最初に、積層リングの最内層を構成する第１層用のリンググループ（以下、「最内層用のリンググループ」という場合がある）、又は積層リングの最外層を構成する第Ｎ層用のリンググループ（以下、「最外層用のリンググループ」という場合がある）から、一つのリングを抽出し、そのリングを選定起点に設定する。
仮に、最内層用のリンググループのリングを選定起点に設定した場合、そのリングを基準に、最内層（第１層）に隣り合う第２層用のリンググループの中から、クリアランス要件を満たす第２層用リングを全て選定する。
つぎに、選定された第２層用リングのそれぞれを基準に、第２層に隣り合う第３層用のリンググループの中から、クリアランス要件を満たす第３層用リングを全て選定する。
このようにして、最内層用リングを起点として、外側に向かって順に隣り合うリンググループからリングを選定していくことで、全てのリンググループからリングを選定し、クリアランス要件を満たすリングの組（以下、リングセットという）が抽出される。
なお、最外層用リングが選定起点となった場合には、最外層から内側に向かって順に選定していく。
さらに、下記特許文献１では、一つの積層リングを製造した後であっても、残されたリングで所定の規格要件を満たすリングセットを多く抽出できるようにし、積層リングの製造の継続を安定させるという観点から、リングセットの優先払い出し限定工程を行っている。
なお、優先払い出し限定工程とは、クリアランス要件を含む全ての規格要件を満した複数のリングセットの中から、第１優先リンググループの第１優先階級に属するリングを含むリングセットに限定する工程である。
なお、優先払い出し限定工程とは、クリアランス要件を含む全ての規格要件を満した複数のリングセットの中から、第１優先リンググループの第１優先階級に属するリングを含むリングセットに限定する工程である。
ここで、第１優先リンググループと第１優先階級との特定は、つぎのようにして決定している。
まず、各リンググループを複数の階級に区分けするとともに、各リンググループの各階級で保管されていることが望ましいリングの在庫数（以下、「目標度数」という）を予め設定する。
つぎに、各リンググループの各階級で実際に保管しているリングの在庫数（以下、「在庫度数」という）を算出する。
そして、在庫度数から目標度数を引き、各リンググループの各階級で余剰となっているリング数（以下、「余剰度数」という）を算出している。
つぎに、各リンググループで各階級の余剰度数を足し合わせて余剰度数の総和を求め、全てのリンググループの中で余剰度数の総和が最も大きいリンググループを第１優先リンググループに特定し、さらに、その第１優先リンググループの中で余剰度数が最も大きい階級を第１払い出し優先階級に特定している。
まず、各リンググループを複数の階級に区分けするとともに、各リンググループの各階級で保管されていることが望ましいリングの在庫数（以下、「目標度数」という）を予め設定する。
つぎに、各リンググループの各階級で実際に保管しているリングの在庫数（以下、「在庫度数」という）を算出する。
そして、在庫度数から目標度数を引き、各リンググループの各階級で余剰となっているリング数（以下、「余剰度数」という）を算出している。
つぎに、各リンググループで各階級の余剰度数を足し合わせて余剰度数の総和を求め、全てのリンググループの中で余剰度数の総和が最も大きいリンググループを第１優先リンググループに特定し、さらに、その第１優先リンググループの中で余剰度数が最も大きい階級を第１払い出し優先階級に特定している。
しかしながら、上記特定方法では、最内層用のリンググループ及び最外層用のリンググループが第１優先リンググループに特定されない場合がある。
このため、最内層用及び最外層用のリンググループ以外のリンググループの余剰度数を減らすために選定されたリングセットに、最内層又は最外層用のリンググループで目標度数よりも在庫度数が下回り、リングの在庫数が不足している階級のリングが含まれる場合がある。
そして、最内層又は最外層用のリンググループは、リング選定工程でリングを選定する際の選定起点になるリンググループであるところ、在庫数が不足している階級からリングが払い出されると、リング選定工程で抽出されるリングセット数の減少を招き、積層リングの製造の継続を不安定にさせるおそれがある。
このため、最内層用及び最外層用のリンググループ以外のリンググループの余剰度数を減らすために選定されたリングセットに、最内層又は最外層用のリンググループで目標度数よりも在庫度数が下回り、リングの在庫数が不足している階級のリングが含まれる場合がある。
そして、最内層又は最外層用のリンググループは、リング選定工程でリングを選定する際の選定起点になるリンググループであるところ、在庫数が不足している階級からリングが払い出されると、リング選定工程で抽出されるリングセット数の減少を招き、積層リングの製造の継続を不安定にさせるおそれがある。
そこで、本発明は、前記する背景に鑑みて創案された発明であって、積層リングの製造の継続を安定させることができる積層リングの製造方法を提供することを課題とする。
前記課題を解決するための手段として、本発明に係る積層リングの製造方法は、入荷されたリングを周長値に基づいて各層用のリンググループに区分けして保管し、各層用のリンググループからリングを選定して積層リングを製造する積層リングの製造方法であって、最内層用のリンググループ又は最外層用のリンググループに区分けされたリングを選定起点とし、順に隣り合うリンググループからクリアランス要件を満たすリングを選定して複数のリングセットを抽出するリング選定工程と、前記選定起点となったリングが属する前記最内層用のリンググループ又は前記最外層用のリンググループを第１優先リンググループに特定するとともに、目標度数分布と在庫度数分布とに基づいて前記第１優先リンググループの各階級で余剰となっているリング数である余剰度数を算出して最も大きい階級を前記第１優先階級に特定し、前記複数のリングセットを前記第１優先階級に属しているリングを含むものに限定する優先払い出し限定工程と、前記優先払い出し限定工程により限定されたリングセット毎に、前記目標度数分布と前記在庫度数分布とに基づいて、前記リングセットを構成するリングが属する階級の前記余剰度数を足し合わせて総和を算出し、前記余剰度数の総和が最も大きいリングセットで前記積層リングを製造することを決定するリングセット決定工程と、前記リングセット決定工程で決定されたリングセットを構成する複数リングを積層して積層リングを製造する積層工程と、を有することを特徴とする。
前記発明に係る積層リングの製造方法によれば、クリアランス要件を満たす複数のリングセットは、第１優先リンググループの第１優先階級に属しているリング、言い換えれば余剰となっている階級のリングが含まれているものに限定される。
そして、第１優先リンググループに特定される最内層用のリンググループ又は最外層用のリンググループでは、余剰となっている階級のリングが払いだされるようになり、在庫数が不足している階級のリングが払いだされる事態が回避される。
この結果、一つの積層リングを製造したとしても、リング選定工程で抽出されるリングセット数の減少が抑制され、積層リングの製造の継続を安定させることができる。
また、リングセット決定工程で、余剰となっているリング数の総和が最も大きいリングセットで積層リングが製造されるため、各リンググループで余剰となっているリングが比較的多く払いだされる。このため、第１優先リンググループ以外のリンググループで、目標度数よりも在庫度数が下回っている階級のリングが払いだされる可能性が低くなり、リング選定工程で抽出されるリングセット数の減少をさらに抑制することができる。
そして、第１優先リンググループに特定される最内層用のリンググループ又は最外層用のリンググループでは、余剰となっている階級のリングが払いだされるようになり、在庫数が不足している階級のリングが払いだされる事態が回避される。
この結果、一つの積層リングを製造したとしても、リング選定工程で抽出されるリングセット数の減少が抑制され、積層リングの製造の継続を安定させることができる。
また、リングセット決定工程で、余剰となっているリング数の総和が最も大きいリングセットで積層リングが製造されるため、各リンググループで余剰となっているリングが比較的多く払いだされる。このため、第１優先リンググループ以外のリンググループで、目標度数よりも在庫度数が下回っている階級のリングが払いだされる可能性が低くなり、リング選定工程で抽出されるリングセット数の減少をさらに抑制することができる。
また、前記優先払い出し限定工程は、さらに、前記目標度数分布と前記在庫度数分布とに基づいて、前記第１優先リンググループを除く全てのリンググループ毎に前記余剰度数の総和を算出し、前記余剰度数の総和が最も大きいリンググループを第２優先リンググループに特定するとともに、前記第２優先リンググループの中で前記余剰度数が最も大きい階級を第２優先階級に特定し、前記リング選定工程により抽出された前記複数のリングセットを前記第１優先階級に属しているリングと前記第２優先階級に属しているリングとの両方を含むものに限定することが好ましい。
前記構成によれば、リングセットが第２優先リンググループで余剰となっている階級のリングを含むように限定されるため、その第２優先リンググループでリングの在庫数が不足している階級のリングが払いだされる事態が回避される。
このため、リング選定工程で抽出されるリングセット数の減少をさらに抑制し、積層リングの製造の継続を安定させることができる。
このため、リング選定工程で抽出されるリングセット数の減少をさらに抑制し、積層リングの製造の継続を安定させることができる。
また、前記優先払い出し限定工程は、前記第１優先階級の特定又は第２優先階級の特定で、前記第１優先階級の候補又は前記第２優先階級の候補が複数ある場合、最初に探索された方を前記第１優先階級又は前記第２優先階級に設定する探索工程を含み、前記探索工程は、前記リンググループで目標度数が最も大きい階級である基準階級に対し、前記リンググループで在庫度数が最も大きい階級である比較階級が大きいか否かを判定し、前記基準階級よりも前記比較階級が大きいときに、大きい階級から小さい階級の方に向かって前記第１優先階級の候補又は前記第２優先階級の候補を前記探索し、前記基準階級よりも前記比較階級が小さいときに、小さい階級から大きい階級の方に向かって前記第１優先階級の候補又は前記第２優先階級の候補を探索することが好ましい。
前記構成によれば、目標度数分布の基準階級を基準として、在庫となっているリングが多く存在している階級側から第１優先階級又は第２優先階級が選定されるようになる。このため、目標度数分布の基準階級を基準として、大きい階級側又は小さい階級側に偏ってリングが存在することが解消される。
また、探索方向を開始する階級が第１２階級又は第１階級であり、目標度数の平均値から大きく離れた階級が第１優先階級又は第２優先階級に選定され易いようになっている。
また、探索方向を開始する階級が第１２階級又は第１階級であり、目標度数の平均値から大きく離れた階級が第１優先階級又は第２優先階級に選定され易いようになっている。
また、前記リング選定工程前に、前記入荷されたリングを周長値に基づいて各層用のリンググループに区分けして保管する保管工程を有し、前記保管工程は、前記入荷されたリングを測定して前記リングの周長値を取得する測定工程と、前記リングの周長値に基づいて、入荷されたリングを前記各層用のリンググループに区分けするとともに、前記リンググループの各階級に区分けする区分け工程と、各リンググループの階級毎に前記入荷されたリング数である入荷度数を示す入荷度数分布を算出する入荷度数分布算出工程と、全てのリンググループの同一階級における前記入荷度数の平均値を算出して各階級の平均入荷度数を算出する平均入荷度数算出工程と、前記目標度数分布により各リンググループの各階級に設定された目標度数の値を前記平均入荷度数に変更する目標度数変更工程と、を有することが好ましい。
前記構成によれば、目標度数を入荷されたリングの平均入荷度数に変更するため、目標度数が入荷されたリングの実情に対応するようになり、在庫度数の分布と目標度数の分布とが大きく異なるという事態が解消される。
また、各階級の目標度数が全てのリンググループで統一される。このため、各階級のリングの在庫数が各層の間で統一され、リング選定工程で抽出されるリングセット数の減少を抑制することができる。
また、各階級の目標度数が全てのリンググループで統一される。このため、各階級のリングの在庫数が各層の間で統一され、リング選定工程で抽出されるリングセット数の減少を抑制することができる。
また、前記優先払い出し限定工程後であって、前記リングセット決定工程前に、前記リングの保管期間が所定の保管期間以上のリングを含んでいるものに限定する保管期間限定工程を有していることが好ましい。
前記構成によれば、保管期間が所定以上のリングを含むリングセットに限定されるため、所定の保管期間を経過して破棄されるリングを減少させることができる。
また、前記保管工程は、前記測定工程後の後に、前記リングの周長値に基づいて、所定の保管条件に適合しているか否かを判断する保管条件適合判断工程と、前記所定の保管条件に適合していないと判断された場合に、保管庫に保管することなく前記入荷されたリングを除外する除外工程と、前記所定の保管条件に適合していると判断された場合に、前記リングの周長値に基づいて、入荷されたリングを前記各層用のリンググループに区分けするとともに、前記リンググループの各階級に区分けする前記区分け工程と、を有し、前記所定の保管条件は、入荷されたリングが前記所定の規格要件を満たしてリングセットに選定される可能性を有していることが好ましい。
前記構成によれば、規格要件を満たし難いリングを除外することで、保管庫にリングを保管できるスペースの確保することができる。
また、規格要件を満たし難いリングを除外することで、リング選定工程で選定対象を減少させることができる。
また、規格要件を満たし難いリングを除外することで、リング選定工程で選定対象を減少させることができる。
本発明によれば、積層リングの製造の継続を安定させることができる積層リングの製造方法を提供することができる。
つぎに本発明の実施形態について図面を参照しながら説明する。
最初に、ＣＶＴに用いられるベルト１について説明する。
図１（ａ）、（ｂ）に示すように、ベルト１は、円環状の一対の積層リング３、３と、一対の積層リング３、３の間に介在する複数のエレメント２と、を備えている。
エレメント２は、積層リング３に係合するための切り欠きが左右両端に形成された略Ｈ字状の板部材である。そして、複数のエレメント２は、一対の積層リング３、３に沿って環状に配列されており、複数のエレメント２の両端が一対の積層リング３、３に係合している。なお、図１では、説明の都合上、一部のエレメント２が省略されている。
また、積層リング３は、複数（Ｎ個）の薄肉な無端帯状の金属製のリング４１，４２，４３，…，４Ｎを厚み方向に重ね合わせることで組み立てられたものである。
最初に、ＣＶＴに用いられるベルト１について説明する。
図１（ａ）、（ｂ）に示すように、ベルト１は、円環状の一対の積層リング３、３と、一対の積層リング３、３の間に介在する複数のエレメント２と、を備えている。
エレメント２は、積層リング３に係合するための切り欠きが左右両端に形成された略Ｈ字状の板部材である。そして、複数のエレメント２は、一対の積層リング３、３に沿って環状に配列されており、複数のエレメント２の両端が一対の積層リング３、３に係合している。なお、図１では、説明の都合上、一部のエレメント２が省略されている。
また、積層リング３は、複数（Ｎ個）の薄肉な無端帯状の金属製のリング４１，４２，４３，…，４Ｎを厚み方向に重ね合わせることで組み立てられたものである。
尚、以下の説明では、積層リング３を構成するリング４１，４２，４３，…，４Ｎのそれぞれを特に区別する必要が無いときは、それらを総称的にリング４と称する。
積層リング３を構成する複数のリング４を、最も内側の層から順に第１層、第２層、…、第Ｎ層と称する。
一つの積層リング３を構成する複数のリング４１〜４Ｎの組（セット）をリングセットと称する。
また、一対の積層リング３、３のそれぞれを構成する二つのリングセットをペアリングセットと称する。
積層リング３を構成する複数のリング４を、最も内側の層から順に第１層、第２層、…、第Ｎ層と称する。
一つの積層リング３を構成する複数のリング４１〜４Ｎの組（セット）をリングセットと称する。
また、一対の積層リング３、３のそれぞれを構成する二つのリングセットをペアリングセットと称する。
（積層リングの製造方法）
積層リング３の製造方法は、複数のリング４から所定の規格要件を満たすリング４を選定して一対の積層リング３、３を製造するものである。
図２に示すように、積層リング３の製造方法は、入荷されたリング４を周長値に基づいて各層用のリンググループに区分けして保管する保管工程Ｓ１と、製造指令が出された場合に保管されている複数のリング４から所定の規格要件を満たすリング４を選定して一対の積層リング３、３を製造する積層リング製造工程Ｓ５とを有している。
また、積層リング３の製造方法は、一対の積層リング３、３を製造した後であっても、残されたリング４で所定の規格要件を満たすペアリングセットを抽出することができるようにして、積層リング３の製造の継続を安定させることを目的としている。
このため、本実施形態の積層リング製造工程Ｓ５では、複数のペアリングセットの中から一つのペアリングセットを無造作に選択することなく、リング４の在庫度数分布と目標度数分布とを用いて一つのペアリングセットに決定している。
以下、リング４の在庫度数分布と目標度数分布とについて説明する。
積層リング３の製造方法は、複数のリング４から所定の規格要件を満たすリング４を選定して一対の積層リング３、３を製造するものである。
図２に示すように、積層リング３の製造方法は、入荷されたリング４を周長値に基づいて各層用のリンググループに区分けして保管する保管工程Ｓ１と、製造指令が出された場合に保管されている複数のリング４から所定の規格要件を満たすリング４を選定して一対の積層リング３、３を製造する積層リング製造工程Ｓ５とを有している。
また、積層リング３の製造方法は、一対の積層リング３、３を製造した後であっても、残されたリング４で所定の規格要件を満たすペアリングセットを抽出することができるようにして、積層リング３の製造の継続を安定させることを目的としている。
このため、本実施形態の積層リング製造工程Ｓ５では、複数のペアリングセットの中から一つのペアリングセットを無造作に選択することなく、リング４の在庫度数分布と目標度数分布とを用いて一つのペアリングセットに決定している。
以下、リング４の在庫度数分布と目標度数分布とについて説明する。
（在庫度数分布）
図３に示すように、在庫度数分布とは、保管工程Ｓ１により保管されて在庫となっているリング４の在庫数（以下、「在庫度数」という）が、各リンググループの各階級にどのように分布しているのかを示すものである。たとえば、本実施形態の第１層用のリンググループでは、第３階級の在庫度数が４で、第４階級の在庫度数が８となっている（図３参照）。
なお、階級は、区分けされてリンググループ毎に有しているリング４の周長値の幅をさらに所定値で線引きして区分けしたものであり、階級を示す数値が大きいほどその階級に属するリング４の周長が長い。
また、本実施形態では、説明の都合上、一つのリンググループを１２の階級に区分けされているとともに、その第６、７階級を区分けする周長値が各リンググループのリング４の設計値として説明する。
図３に示すように、在庫度数分布とは、保管工程Ｓ１により保管されて在庫となっているリング４の在庫数（以下、「在庫度数」という）が、各リンググループの各階級にどのように分布しているのかを示すものである。たとえば、本実施形態の第１層用のリンググループでは、第３階級の在庫度数が４で、第４階級の在庫度数が８となっている（図３参照）。
なお、階級は、区分けされてリンググループ毎に有しているリング４の周長値の幅をさらに所定値で線引きして区分けしたものであり、階級を示す数値が大きいほどその階級に属するリング４の周長が長い。
また、本実施形態では、説明の都合上、一つのリンググループを１２の階級に区分けされているとともに、その第６、７階級を区分けする周長値が各リンググループのリング４の設計値として説明する。
（目標度数分布）
図３に示すように、目標度数分布とは、在庫として保管されているのが望ましいリング４の在庫数（以下、「目標度数」という）が、各リンググループの各階級にどのように分布しているのかを示すものである。たとえば、実施形態の第１層用のリンググループでは、第３階級の目標度数が２で、第４階級の目標度数が３となっている（図３参照）。
また、目標度数分布を構成する各階級の目標度数は、後記する更新工程Ｓ３で変更可能となっているとともに、目標度数の初期値に関し、以下の理由から、全階級のうち設計値が属する階級（本実施形態では６、７階級。図３参照）の目標度数が最も大きくなっている。
図３に示すように、目標度数分布とは、在庫として保管されているのが望ましいリング４の在庫数（以下、「目標度数」という）が、各リンググループの各階級にどのように分布しているのかを示すものである。たとえば、実施形態の第１層用のリンググループでは、第３階級の目標度数が２で、第４階級の目標度数が３となっている（図３参照）。
また、目標度数分布を構成する各階級の目標度数は、後記する更新工程Ｓ３で変更可能となっているとともに、目標度数の初期値に関し、以下の理由から、全階級のうち設計値が属する階級（本実施形態では６、７階級。図３参照）の目標度数が最も大きくなっている。
一般に、リング４の周長値は設計値を中心にある程度ばらつくという性質を有しているものの、入荷されるリング４の多くが、各リンググループで設計値が属する階級又はその階級に近い階級に区分けされる。このため、各リンググループの設計値が属する階級に区分けされたリング４を用いて、後記するクリアランス要件を満たすリングセットを多く抽出することができる。
そして、積層リング３の製造の継続を安定させたいという観点からすると、リングセットに選定される可能性が高いリング４を在庫として多く残し、リングセットに選定される可能性が小さい階級、つまり、設計値が属する階級から大きく離れている階級に属するリング４を積極的に払い出すことが好ましい。
以上の観点から、目標度数の初期値は、全階級のうち設計値が属する階級（本実施形態では、６、７階級）の目標度数が最も高く設定され、その階級から離れるにつれて目標度数が小さくなるように設定されている。
そして、積層リング３の製造の継続を安定させたいという観点からすると、リングセットに選定される可能性が高いリング４を在庫として多く残し、リングセットに選定される可能性が小さい階級、つまり、設計値が属する階級から大きく離れている階級に属するリング４を積極的に払い出すことが好ましい。
以上の観点から、目標度数の初期値は、全階級のうち設計値が属する階級（本実施形態では、６、７階級）の目標度数が最も高く設定され、その階級から離れるにつれて目標度数が小さくなるように設定されている。
（余剰度数）
そのほか、本実施形態において、各階級で目標度数を超えて保管されているリング４の数を余剰度数という。たとえば、本実施形態の第１層用のリンググループは、第３階級の余剰度数が２個で、第４階級の余剰度数が５個となっている（図３参照）。
そのほか、本実施形態において、各階級で目標度数を超えて保管されているリング４の数を余剰度数という。たとえば、本実施形態の第１層用のリンググループは、第３階級の余剰度数が２個で、第４階級の余剰度数が５個となっている（図３参照）。
以上、在庫度数分布と在庫度数分布と余剰度数について説明したが、これらをどのように用いているかについては後述するとして、つぎに、本実施形態の積層リングの製造方法で使用する積層リング製造システム１０の構成について簡単に説明する。
（積層リング製造システム１０）
図４に示すように、積層リング製造システム１０は、入庫されたリング４を測定する測定装置１１と、入庫されたリング４を各リンググループ別に分類して保管する保管庫１２と、保管庫１２から出庫されたリングセットを積層させて積層リング３を製造する積層装置１３と、前記各機器に動作指令を行う制御装置１４と、データを記憶するデータベース１５と、を有している。また、データベース１５には、各リンググループの在庫度数分布と、各リンググループの目標度数分布とが主に記憶されている。
図４に示すように、積層リング製造システム１０は、入庫されたリング４を測定する測定装置１１と、入庫されたリング４を各リンググループ別に分類して保管する保管庫１２と、保管庫１２から出庫されたリングセットを積層させて積層リング３を製造する積層装置１３と、前記各機器に動作指令を行う制御装置１４と、データを記憶するデータベース１５と、を有している。また、データベース１５には、各リンググループの在庫度数分布と、各リンググループの目標度数分布とが主に記憶されている。
つぎに、保管工程Ｓ１について説明する。
（保管工程Ｓ１）
図５で示すように、保管工程Ｓ１は、複数のリング４が入荷された場合、リング４の検査等を行う検査工程Ｓ２と、入荷された複数のリング４の全てが検査工程Ｓ２を終了した場合、目標度数の更新を行う更新工程Ｓ３と、を有している。
図５で示すように、保管工程Ｓ１は、複数のリング４が入荷された場合、リング４の検査等を行う検査工程Ｓ２と、入荷された複数のリング４の全てが検査工程Ｓ２を終了した場合、目標度数の更新を行う更新工程Ｓ３と、を有している。
（検査工程Ｓ２）
図６で示すように、検査工程Ｓ２は、リング４が入荷されることで開始し（ｓｔａｒｔ）、入荷されたリング４の周長値等を測定する測定工程Ｓ２１と、測定されたリング４が保管条件を満たしているか否かを判断する保管条件適合判断工程Ｓ２２と、保管条件に適合しないと判断された場合（Ｓ２２で「Ｎｏ」の場合）にリング４を除外する除外工程Ｓ２３と、保管条件に適合すると判断された場合（Ｓ２２で「Ｙｅｓ」の場合）に、リング４の各リンググループ・各階級に区分けをする区分け工程Ｓ２４と、保管庫１２に入庫させる入庫工程Ｓ２５と、を有している。
図６で示すように、検査工程Ｓ２は、リング４が入荷されることで開始し（ｓｔａｒｔ）、入荷されたリング４の周長値等を測定する測定工程Ｓ２１と、測定されたリング４が保管条件を満たしているか否かを判断する保管条件適合判断工程Ｓ２２と、保管条件に適合しないと判断された場合（Ｓ２２で「Ｎｏ」の場合）にリング４を除外する除外工程Ｓ２３と、保管条件に適合すると判断された場合（Ｓ２２で「Ｙｅｓ」の場合）に、リング４の各リンググループ・各階級に区分けをする区分け工程Ｓ２４と、保管庫１２に入庫させる入庫工程Ｓ２５と、を有している。
（測定工程Ｓ２１）
測定工程Ｓ２１は、測定装置１１で入荷されたリング４の周長及び板厚の測定を行い、入荷されたリング４の周長値、板厚値を取得する工程である。また、測定装置１１により取得されたリング４の周長値、板厚値のデータは、制御装置１４に転送されてデータベース１５に記憶される。
測定工程Ｓ２１は、測定装置１１で入荷されたリング４の周長及び板厚の測定を行い、入荷されたリング４の周長値、板厚値を取得する工程である。また、測定装置１１により取得されたリング４の周長値、板厚値のデータは、制御装置１４に転送されてデータベース１５に記憶される。
（保管条件適合判断工程Ｓ２２及び除外工程Ｓ２３）
保管条件適合判断工程Ｓ２２は、リング４の周長値、板厚値に基づき、入荷されたリング４が所定の保管条件を満たしているか否かの判断を行う工程である。
ここで、保管条件を満たすは、入荷されたリング４が規格要件を満たしてリングセットに選定される可能性があることを指し、具体的には以下の第１〜第３条件を満たすことをいう。
第１に、入荷されたリング４の周長値、板厚値が過去に保管庫１２に保管された履歴があるリング４の周長値、板厚値に該当すること、第２に、入荷されたリング４の周長値、板厚値が過去に保管庫に保管されて積層リング３として積層された履歴があるリングの周長値、板厚値に該当すること、第３に、入荷されたリング４が現在の在庫となっているリング４に対して、規格要件を満たして組み立てることができるリング４に該当すること、である。
本実施形態では、制御装置１４が、データベースに記録されている履歴記録と、リング４の周長値、板厚値のデータとを参照しながら、保管条件を満たすか否かについて判定し、保管条件を満たさないと判定した場合、警告音を発するように構成されている。
そして、入荷されたリング４が所定の保管条件を満たさずに警告音が発せられた場合（Ｓ２２で「Ｎｏ」の場合）、作業者が入荷されたリング４を取り除き（Ｓ２３）、リング４の検査工程Ｓ２が終了する（Ｅｎｄ）。
保管条件適合判断工程Ｓ２２は、リング４の周長値、板厚値に基づき、入荷されたリング４が所定の保管条件を満たしているか否かの判断を行う工程である。
ここで、保管条件を満たすは、入荷されたリング４が規格要件を満たしてリングセットに選定される可能性があることを指し、具体的には以下の第１〜第３条件を満たすことをいう。
第１に、入荷されたリング４の周長値、板厚値が過去に保管庫１２に保管された履歴があるリング４の周長値、板厚値に該当すること、第２に、入荷されたリング４の周長値、板厚値が過去に保管庫に保管されて積層リング３として積層された履歴があるリングの周長値、板厚値に該当すること、第３に、入荷されたリング４が現在の在庫となっているリング４に対して、規格要件を満たして組み立てることができるリング４に該当すること、である。
本実施形態では、制御装置１４が、データベースに記録されている履歴記録と、リング４の周長値、板厚値のデータとを参照しながら、保管条件を満たすか否かについて判定し、保管条件を満たさないと判定した場合、警告音を発するように構成されている。
そして、入荷されたリング４が所定の保管条件を満たさずに警告音が発せられた場合（Ｓ２２で「Ｎｏ」の場合）、作業者が入荷されたリング４を取り除き（Ｓ２３）、リング４の検査工程Ｓ２が終了する（Ｅｎｄ）。
（区分け工程Ｓ２４）
区分け工程Ｓ２４は、保管条件適合判断工程Ｓ２２で保管条件に適合すると判断された場合（Ｓ２２で「Ｙｅｓ」の場合）に、データベース１５に記録されたリング４の周長値、板厚値のデータとを参照し、制御装置１４が入荷されたリング４がいずれのリンググループ・階級に属するかを決定する工程である。
区分け工程Ｓ２４は、保管条件適合判断工程Ｓ２２で保管条件に適合すると判断された場合（Ｓ２２で「Ｙｅｓ」の場合）に、データベース１５に記録されたリング４の周長値、板厚値のデータとを参照し、制御装置１４が入荷されたリング４がいずれのリンググループ・階級に属するかを決定する工程である。
（入庫工程Ｓ２５）
入庫工程Ｓ２５は、入荷されたリング４を区分け工程Ｓ２４により決められたリンググループに対応させながら保管庫１２に入庫させる。
本実施形態では、測定装置１１に載置されたリング４がコンベアで搬送されて、保管庫１２に入庫されるように制御装置が制御するようになっている。
また、保管庫１２に入庫された場合に、制御装置は、入庫したリング４に保管番号を付すとともに、保管番号にサイズデータ（周長値、板厚値）と区分けデータ（Ｎ（層），ｎ（階級））と入庫日データ（年月日）を関連付けてデータベースに記憶し、この入庫工程Ｓ２５の終了により、検査工程Ｓ２が終了する（Ｅｎｄ）。
入庫工程Ｓ２５は、入荷されたリング４を区分け工程Ｓ２４により決められたリンググループに対応させながら保管庫１２に入庫させる。
本実施形態では、測定装置１１に載置されたリング４がコンベアで搬送されて、保管庫１２に入庫されるように制御装置が制御するようになっている。
また、保管庫１２に入庫された場合に、制御装置は、入庫したリング４に保管番号を付すとともに、保管番号にサイズデータ（周長値、板厚値）と区分けデータ（Ｎ（層），ｎ（階級））と入庫日データ（年月日）を関連付けてデータベースに記憶し、この入庫工程Ｓ２５の終了により、検査工程Ｓ２が終了する（Ｅｎｄ）。
また、入荷された複数のリング４それぞれに対して検査工程Ｓ２が終了した場合に、つぎの更新工程Ｓ３を行う。
（更新工程Ｓ３）
更新工程Ｓ３は、目標度数分布を構成する各階級の目標度数を更新する工程であり、図７に示すように、入荷度数分布算出工程Ｓ３１と、平均入荷度数算出工程Ｓ３２と、目標度数変更工程Ｓ３３と、を有している。
更新工程Ｓ３は、目標度数分布を構成する各階級の目標度数を更新する工程であり、図７に示すように、入荷度数分布算出工程Ｓ３１と、平均入荷度数算出工程Ｓ３２と、目標度数変更工程Ｓ３３と、を有している。
（入荷度数分布算出工程Ｓ３１）
入荷度数分布算出工程Ｓ３１は、入荷されたリング４の区分けデータ（Ｎ（層），ｎ（階級））に基づき、各リンググループの各階級に入荷されたリング４の数（以下、「入荷度数」という）を算出する。
これにより、下記表１に示すように、各リンググループの入荷度数分布に関する情報を取得する。そして、入荷度数分布により、例えば、比較的小さい階級の入荷度数が大きいため、周長値が設計値よりも小さいリング４が多く入荷されているという傾向を把握し、今後も、引き続き周長値が設計値よりも小さいリング４が今後も入荷されるだろうという予測を立てることができる。
入荷度数分布算出工程Ｓ３１は、入荷されたリング４の区分けデータ（Ｎ（層），ｎ（階級））に基づき、各リンググループの各階級に入荷されたリング４の数（以下、「入荷度数」という）を算出する。
これにより、下記表１に示すように、各リンググループの入荷度数分布に関する情報を取得する。そして、入荷度数分布により、例えば、比較的小さい階級の入荷度数が大きいため、周長値が設計値よりも小さいリング４が多く入荷されているという傾向を把握し、今後も、引き続き周長値が設計値よりも小さいリング４が今後も入荷されるだろうという予測を立てることができる。
（平均入荷度数算出工程Ｓ３２及び目標度数変更工程Ｓ３３）
平均入荷度数算出工程Ｓ３２は、全てのリンググループを対象として同一階級毎の入荷度数の平均値（以下、「平均入荷度数」という。また、上記表１においては、太い線で囲まれた範囲を参照。）を算出する。なお、本実施形態の例によれば、算出された平均入荷度数に関し、最も大きい値が第４階級であり、その第４階級から階級が離れるほど平均入荷度数が小さくなっている。
平均入荷度数算出工程Ｓ３２は、全てのリンググループを対象として同一階級毎の入荷度数の平均値（以下、「平均入荷度数」という。また、上記表１においては、太い線で囲まれた範囲を参照。）を算出する。なお、本実施形態の例によれば、算出された平均入荷度数に関し、最も大きい値が第４階級であり、その第４階級から階級が離れるほど平均入荷度数が小さくなっている。
目標度数変更工程Ｓ３３は、各リンググループの各階級に設定されている目標度数の値を平均入荷度数の値に変更する工程である。
また、本実施形態では、制御装置１４がデータベース１５に記憶されている各リンググループの各階級の目標度数の値を平均入荷度数の値に変更することで、各リンググループの各階級の目標度数が入荷されたリング４の傾向に対応したものとなり、更新工程Ｓ３が終了する（Ｅｎｄ）。
この結果、図８に示すように、更新前の第１層用のリンググループの目標度数分布は、第６、７階級の目標度数が最も大きくなっていたが、更新後の目標度数分布では、第４階級の目標度数が最も大きい。
そして、第１層用のリンググループの更新前の目標度数分布では、余剰度数が５で最も余剰度数が大きい階級が第４階級であったが（図３参照）、更新後の目標度数分布によれば、第４階級の余剰度数が０となり（図８参照）、リング４が余剰であるとみなされる階級が変更される。
さらに、目標度数変更工程Ｓ３３では、各リンググループの目標度数に対して入荷されたリング４の平均入荷度数の値に変更しているため、図９に示すように、各層用のリンググループの目標度数が階級毎に統一される。
また、本実施形態では、制御装置１４がデータベース１５に記憶されている各リンググループの各階級の目標度数の値を平均入荷度数の値に変更することで、各リンググループの各階級の目標度数が入荷されたリング４の傾向に対応したものとなり、更新工程Ｓ３が終了する（Ｅｎｄ）。
この結果、図８に示すように、更新前の第１層用のリンググループの目標度数分布は、第６、７階級の目標度数が最も大きくなっていたが、更新後の目標度数分布では、第４階級の目標度数が最も大きい。
そして、第１層用のリンググループの更新前の目標度数分布では、余剰度数が５で最も余剰度数が大きい階級が第４階級であったが（図３参照）、更新後の目標度数分布によれば、第４階級の余剰度数が０となり（図８参照）、リング４が余剰であるとみなされる階級が変更される。
さらに、目標度数変更工程Ｓ３３では、各リンググループの目標度数に対して入荷されたリング４の平均入荷度数の値に変更しているため、図９に示すように、各層用のリンググループの目標度数が階級毎に統一される。
ここで、目標度数変更工程Ｓ３３において、更新するために用いた値の対象が、入荷度数分布算出工程Ｓ３１で算出された各リンググループの入荷度数でなく、平均入荷度数算出工程Ｓ３２で算出された平均入荷度数である理由について、例を挙げて説明する。
また、例として、第２層用以外のリンググループで入荷されたリングが最も多い階級が第４階級、第２層用のリンググループで入荷されたリング４が最も多い階級が第９階級であり、最も多い階級がリンググループ毎に異なる場合を挙げる。
上記した例の場合の入荷度数をそのまま目標度数に設定すると、図１０に示すように、第２層用以外の各リンググループの目標度数が第４階級付近で大きくなり、一方で、第２層の目標度数が第９階級付近で大きくなる。
この結果、第２層用以外の各リンググループでは第４階級付近に属するリングが在庫として多く保管され、第２層で第９階級付近に属するリングが在庫として多く保管される。
そして、リングを選定してリングセットを抽出するときに、第２層用以外のリンググループで第４階級付近に属する多くのリングと、第２層用の各リンググループで多く在庫として保管されている第９階級の多くのリングとは、大きく階級が異なるため、所定の規格要件を満たさないおそれがある。
このため、各リンググループから第４階級付近に属するリングを選定してリングセットを抽出しても、第２層の第４階級付近のリングの在庫数が少ないため、抽出されるリングセットも少なくなる。
以上から、本実施形態では、入荷されたリング４の傾向を反映させつつ、リングセット数の減少を抑制するため、平均入荷度数算出工程Ｓ３２で算出した平均入荷度数を目標度数として用いて、各層で設定される目標度数を統一している（図９参照）。
また、例として、第２層用以外のリンググループで入荷されたリングが最も多い階級が第４階級、第２層用のリンググループで入荷されたリング４が最も多い階級が第９階級であり、最も多い階級がリンググループ毎に異なる場合を挙げる。
上記した例の場合の入荷度数をそのまま目標度数に設定すると、図１０に示すように、第２層用以外の各リンググループの目標度数が第４階級付近で大きくなり、一方で、第２層の目標度数が第９階級付近で大きくなる。
この結果、第２層用以外の各リンググループでは第４階級付近に属するリングが在庫として多く保管され、第２層で第９階級付近に属するリングが在庫として多く保管される。
そして、リングを選定してリングセットを抽出するときに、第２層用以外のリンググループで第４階級付近に属する多くのリングと、第２層用の各リンググループで多く在庫として保管されている第９階級の多くのリングとは、大きく階級が異なるため、所定の規格要件を満たさないおそれがある。
このため、各リンググループから第４階級付近に属するリングを選定してリングセットを抽出しても、第２層の第４階級付近のリングの在庫数が少ないため、抽出されるリングセットも少なくなる。
以上から、本実施形態では、入荷されたリング４の傾向を反映させつつ、リングセット数の減少を抑制するため、平均入荷度数算出工程Ｓ３２で算出した平均入荷度数を目標度数として用いて、各層で設定される目標度数を統一している（図９参照）。
つぎに、保管工程Ｓ１の後の工程である積層リング製造工程Ｓ５について説明する。
（積層リング製造工程Ｓ５）
図１１に示すように、積層リング製造工程Ｓ５は、積層リング３の製造指令を受けることで開始（Ｓｔａｒｔ）し、保管庫１２に保管された複数のリング４から所定の規格要件を満たすリングセットを複数抽出するペアリングセット抽出工程Ｓ６と、抽出された複数のペアリングセットを更に限定する優先払い出し限定工程Ｓ７と、限定された複数のペアリングセットの中から一つのペアリングセットに決定するリングセット決定工程８と、決定されたペアリングセットに含まれるリングを積層させる積層工程Ｓ９と、を有している。
図１１に示すように、積層リング製造工程Ｓ５は、積層リング３の製造指令を受けることで開始（Ｓｔａｒｔ）し、保管庫１２に保管された複数のリング４から所定の規格要件を満たすリングセットを複数抽出するペアリングセット抽出工程Ｓ６と、抽出された複数のペアリングセットを更に限定する優先払い出し限定工程Ｓ７と、限定された複数のペアリングセットの中から一つのペアリングセットに決定するリングセット決定工程８と、決定されたペアリングセットに含まれるリングを積層させる積層工程Ｓ９と、を有している。
（ペアリングセット抽出工程Ｓ６）
図１２に示すように、ペアリングセット抽出工程Ｓ６は、複数のリング４に組み合せることで所定の規格要件を満たすペアリングセットを抽出する工程であり、リング選定工程Ｓ６１と、トータルクリアランス要件判定工程Ｓ６２と、ペアリング間周長差要件選定工程Ｓ６３と、を有している。
ここで、所定の規格要件は、クリアランス要件と、トータルクリアランス要件と、ペアリングセット間の周長差要件とである。
クリアランス要件とは、積層リング３を構成する各層において隣り合うリング４同士の半径の差が所定値以内であることである。
トータルクリアランス要件とは、全層分のリング４間のクリアランスを足し合わせた総和が所定値以内であることである。
ペアリング間の周長差要件とは、一方の積層リング３ａと他方の積層リング３ｂとの内周側の周長値が所定値以内にあること、言い換えれば、ペアリングセットを構成する一方のリングセットの第１層用のリングの周長値と、他方のリングセットの第１層用のリングの周長値とが所定値以内にあることである。
図１２に示すように、ペアリングセット抽出工程Ｓ６は、複数のリング４に組み合せることで所定の規格要件を満たすペアリングセットを抽出する工程であり、リング選定工程Ｓ６１と、トータルクリアランス要件判定工程Ｓ６２と、ペアリング間周長差要件選定工程Ｓ６３と、を有している。
ここで、所定の規格要件は、クリアランス要件と、トータルクリアランス要件と、ペアリングセット間の周長差要件とである。
クリアランス要件とは、積層リング３を構成する各層において隣り合うリング４同士の半径の差が所定値以内であることである。
トータルクリアランス要件とは、全層分のリング４間のクリアランスを足し合わせた総和が所定値以内であることである。
ペアリング間の周長差要件とは、一方の積層リング３ａと他方の積層リング３ｂとの内周側の周長値が所定値以内にあること、言い換えれば、ペアリングセットを構成する一方のリングセットの第１層用のリングの周長値と、他方のリングセットの第１層用のリングの周長値とが所定値以内にあることである。
（リング選定工程Ｓ６１）
リング選定工程Ｓ６１は、リング４を各リンググループから選定することで、クリアランス要件を満たすリングセットを抽出するための工程であり、具体的には以下の工程により行われる。
最初に、最内層用のリンググループ又は最外層用のリンググループに属する一つのリング４を選定起点として設定する。なお、本実施形態では、最内層（第１層）用のリンググループに属するリングが選定起点として設定されたものとして説明する。
最内層（第１層）用のリング４に隣り合う第２層用のリンググループのリング４全てに対し、クリアランス要件を満たすか否かの判定を行う。なお、クリアランス要件を満たすか否かの判定対象である第２層用のリング４は、第１層のリング４と同一階級のリング４に限定されずに、全ての階級のリング４に対して実施する。
つぎに、クリアランス要件を満たした第２層用の複数のリング４を基準として、隣り合う第３層用のリンググループのリング４全てに対し、クリアランス要件を満たすか否かの判定を行う。
このように、クリアランス要件を満たした内側のリング４を基準として外側に隣り合うリンググループの中からクリアランス要件を満たすリング４を順に探していくことで、一つのリング４に対して、クリアランス要件を満たすリングセットを複数抽出することができる。
また、リング選定工程Ｓ６１は、最内層用のリンググループに属するリング４全て、又は最外層用のリンググループに属するリング４全てを対象として行う。
なお、最外層用のリンググループに属するリングを選定起点とした場合には、クリアランス要件を満たした外側のリンググループのリング４を基準として、内側に隣り合うリンググループのリング４でクリアランス要件を満たすものを順に探していくことで、リングセットを抽出する。
リング選定工程Ｓ６１は、リング４を各リンググループから選定することで、クリアランス要件を満たすリングセットを抽出するための工程であり、具体的には以下の工程により行われる。
最初に、最内層用のリンググループ又は最外層用のリンググループに属する一つのリング４を選定起点として設定する。なお、本実施形態では、最内層（第１層）用のリンググループに属するリングが選定起点として設定されたものとして説明する。
最内層（第１層）用のリング４に隣り合う第２層用のリンググループのリング４全てに対し、クリアランス要件を満たすか否かの判定を行う。なお、クリアランス要件を満たすか否かの判定対象である第２層用のリング４は、第１層のリング４と同一階級のリング４に限定されずに、全ての階級のリング４に対して実施する。
つぎに、クリアランス要件を満たした第２層用の複数のリング４を基準として、隣り合う第３層用のリンググループのリング４全てに対し、クリアランス要件を満たすか否かの判定を行う。
このように、クリアランス要件を満たした内側のリング４を基準として外側に隣り合うリンググループの中からクリアランス要件を満たすリング４を順に探していくことで、一つのリング４に対して、クリアランス要件を満たすリングセットを複数抽出することができる。
また、リング選定工程Ｓ６１は、最内層用のリンググループに属するリング４全て、又は最外層用のリンググループに属するリング４全てを対象として行う。
なお、最外層用のリンググループに属するリングを選定起点とした場合には、クリアランス要件を満たした外側のリンググループのリング４を基準として、内側に隣り合うリンググループのリング４でクリアランス要件を満たすものを順に探していくことで、リングセットを抽出する。
（トータルクリアランス要件判定工程Ｓ６２、ペアリング間周長差要件選定工程Ｓ６３）
トータルクリアランス要件判定工程Ｓ６２は、リング選定工程Ｓ６１で抽出されたリングセット毎に、複数のリング４間の全てのクリアランスを足し合わせた総和が所定値以内にあるか否かを判定し、要件を満たしているものだけを抽出することを行う。
また、ペアリング間周長差要件選定工程Ｓ６３は、トータルクリアランス要件判定工程Ｓ６２の要件を満たした複数のリングセット同士で周長差要件を満たす組み合せを選定し、複数のペアリングセットを抽出する。
以上より、ペアリングセット抽出工程Ｓ６が終了し、所定の規格要件を満たすペアリングセットが複数抽出されることとなる。
トータルクリアランス要件判定工程Ｓ６２は、リング選定工程Ｓ６１で抽出されたリングセット毎に、複数のリング４間の全てのクリアランスを足し合わせた総和が所定値以内にあるか否かを判定し、要件を満たしているものだけを抽出することを行う。
また、ペアリング間周長差要件選定工程Ｓ６３は、トータルクリアランス要件判定工程Ｓ６２の要件を満たした複数のリングセット同士で周長差要件を満たす組み合せを選定し、複数のペアリングセットを抽出する。
以上より、ペアリングセット抽出工程Ｓ６が終了し、所定の規格要件を満たすペアリングセットが複数抽出されることとなる。
（優先払い出し限定工程Ｓ７）
優先払い出し限定工程Ｓ７は、ペアリングセット抽出工程Ｓ６で抽出された複数のペアリングセットの中から、優先的に払い出したいリング４を含むリングセットに限定するための工程である。
図１３に示すように、優先払い出し限定工程Ｓ７は、払い出し指数設定工程Ｓ７１と、第１優先リンググループ・階級特定工程Ｓ７２と、第２優先リンググループ・階級特定工程Ｓ７３と、限定工程Ｓ７４と、を有している。
優先払い出し限定工程Ｓ７は、ペアリングセット抽出工程Ｓ６で抽出された複数のペアリングセットの中から、優先的に払い出したいリング４を含むリングセットに限定するための工程である。
図１３に示すように、優先払い出し限定工程Ｓ７は、払い出し指数設定工程Ｓ７１と、第１優先リンググループ・階級特定工程Ｓ７２と、第２優先リンググループ・階級特定工程Ｓ７３と、限定工程Ｓ７４と、を有している。
（払い出し指数設定工程Ｓ７１）
払い出し指数設定工程Ｓ７１は、各リンググループの各階級で余剰度数を算出し、算出された余剰度数をその階級の払い出し指数を設定する工程である。
また、余剰度数とは、前記したように目標度数を超えるリング４の在庫数であり、たとえば、在庫度数が目標度数を大きく超えている場合には、余剰度数が大きくなり、払い出し指数が大きくなる。
具体的に、本実施形態の払い出し指数設定工程Ｓ７１では、制御装置１４がデータベース１５に記憶されているデータを基に以下の処理を行う。
まず、データベース１５に記憶されているリング４の区分けデータ[Ｎ（層），ｎ（階級）]に基づき、各リンググループの各階級で在庫となっている在庫度数を算出する。
つぎに、在庫度数から目標度数を引いて、各リンググループの各階級の余剰度数を算出する。
以下、各リンググループにおける階級毎の余剰度数を表にしたものを以下の表２に示す。なお、余剰在庫リング数が“０”の場合とは、その階級で在庫となっているリング数が目標度数以下の場合である。
払い出し指数設定工程Ｓ７１は、各リンググループの各階級で余剰度数を算出し、算出された余剰度数をその階級の払い出し指数を設定する工程である。
また、余剰度数とは、前記したように目標度数を超えるリング４の在庫数であり、たとえば、在庫度数が目標度数を大きく超えている場合には、余剰度数が大きくなり、払い出し指数が大きくなる。
具体的に、本実施形態の払い出し指数設定工程Ｓ７１では、制御装置１４がデータベース１５に記憶されているデータを基に以下の処理を行う。
まず、データベース１５に記憶されているリング４の区分けデータ[Ｎ（層），ｎ（階級）]に基づき、各リンググループの各階級で在庫となっている在庫度数を算出する。
つぎに、在庫度数から目標度数を引いて、各リンググループの各階級の余剰度数を算出する。
以下、各リンググループにおける階級毎の余剰度数を表にしたものを以下の表２に示す。なお、余剰在庫リング数が“０”の場合とは、その階級で在庫となっているリング数が目標度数以下の場合である。
（第１優先リンググループ・第１優先階級特定工程Ｓ７２）
第１優先リンググループ・第１優先階級特定工程Ｓ７２は、リング選定工程Ｓ６１で選定起点に設定したリング４が属する層を第１優先リンググループに特定し、さらに前工程で算出した余剰度数分布表に基づき、第１優先リンググループの中で払い出し指数が最も大きい階級を第１優先階級に特定する。
第１優先リンググループの特定に関し、本実施形態では、最内層（第１層）用のリンググループに属するリング４を選定起点としているため、第１層用のリンググループが第１優先リンググループに特定される。なお、リング選定工程Ｓ６１で選定起点となるリング４の属するリンググループが最外層（第Ｎ層）の場合には、第Ｎ層用のリンググループが第１優先リンググループに特定される。
第１優先階級の特定に関し、本実施形態では、表２に示すように、第１優先リンググループに属する第６、７、９、１０階級のそれぞれの払い出し指数が３を示し、払い出し指数が最も大きい階級が複数存在している。このように、第１優先階級の候補が複数ある場合には、つぎの探索工程Ｓ７７により特定する。
第１優先リンググループ・第１優先階級特定工程Ｓ７２は、リング選定工程Ｓ６１で選定起点に設定したリング４が属する層を第１優先リンググループに特定し、さらに前工程で算出した余剰度数分布表に基づき、第１優先リンググループの中で払い出し指数が最も大きい階級を第１優先階級に特定する。
第１優先リンググループの特定に関し、本実施形態では、最内層（第１層）用のリンググループに属するリング４を選定起点としているため、第１層用のリンググループが第１優先リンググループに特定される。なお、リング選定工程Ｓ６１で選定起点となるリング４の属するリンググループが最外層（第Ｎ層）の場合には、第Ｎ層用のリンググループが第１優先リンググループに特定される。
第１優先階級の特定に関し、本実施形態では、表２に示すように、第１優先リンググループに属する第６、７、９、１０階級のそれぞれの払い出し指数が３を示し、払い出し指数が最も大きい階級が複数存在している。このように、第１優先階級の候補が複数ある場合には、つぎの探索工程Ｓ７７により特定する。
（探索工程Ｓ７７）
図１４に示すように、探索工程Ｓ７７は、最初に第１層用のリンググループの目標度数分布の基準階級と在庫度数分布の比較階級を決定する（Ｓ７７１）。
ここで、目標度数分布の基準階級とは、第１層用のリンググループで目標度数が最も大きい階級を示し、本実施形態では、第４階級が基準階級になる（図８参照）。
一方で、在庫度数分布の比較階級とは、第１層用のリンググループで在庫度数が最も大きい階級を示す。
なお、目標度数が最も大きい階級が複数ある場合、又は在庫度数が最も大きい階級が複数ある場合には、階級の値（たとえば、第６階級は「６」、第７階級は「７」）の平均値（「６．５」）が基準階級、又は比較階級となる。
図８に示すように、本実施形態において、在庫度数が最も多い階級は、第６階級と第７階級で複数あるため、これらの平均値である第６．５階級が比較階級となる。
図１４に示すように、探索工程Ｓ７７は、最初に第１層用のリンググループの目標度数分布の基準階級と在庫度数分布の比較階級を決定する（Ｓ７７１）。
ここで、目標度数分布の基準階級とは、第１層用のリンググループで目標度数が最も大きい階級を示し、本実施形態では、第４階級が基準階級になる（図８参照）。
一方で、在庫度数分布の比較階級とは、第１層用のリンググループで在庫度数が最も大きい階級を示す。
なお、目標度数が最も大きい階級が複数ある場合、又は在庫度数が最も大きい階級が複数ある場合には、階級の値（たとえば、第６階級は「６」、第７階級は「７」）の平均値（「６．５」）が基準階級、又は比較階級となる。
図８に示すように、本実施形態において、在庫度数が最も多い階級は、第６階級と第７階級で複数あるため、これらの平均値である第６．５階級が比較階級となる。
つぎに在庫度数分布の比較階級が目標度数分布の基準階級よりも大きいか否かを判定する（Ｓ７７２）。
そして、在庫度数分布の比較階級が目標度数分布の基準階級よりも大きい場合（Ｓ７７２の「Ｙｅｓ」の場合）、探索方向を階級の大きい第１２階級から第１階級の方向に決定する（Ｓ７７３）。
一方で、在庫度数分布の比較階級が目標度数分布の基準階級よりも小さい場合（Ｓ７７２の「Ｎｏ」の場合）には、探索方向を階級の小さい第１階級から第１２階級の方向に決定する（Ｓ７７４）。
そして、決定された探索方向に探索し、第１優先階級の複数の候補のうちが最初に探索された方を第１優先階級に設定し（Ｓ７７５）、探索工程Ｓ７７を終了する（Ｅｎｄ）。
そして、在庫度数分布の比較階級が目標度数分布の基準階級よりも大きい場合（Ｓ７７２の「Ｙｅｓ」の場合）、探索方向を階級の大きい第１２階級から第１階級の方向に決定する（Ｓ７７３）。
一方で、在庫度数分布の比較階級が目標度数分布の基準階級よりも小さい場合（Ｓ７７２の「Ｎｏ」の場合）には、探索方向を階級の小さい第１階級から第１２階級の方向に決定する（Ｓ７７４）。
そして、決定された探索方向に探索し、第１優先階級の複数の候補のうちが最初に探索された方を第１優先階級に設定し（Ｓ７７５）、探索工程Ｓ７７を終了する（Ｅｎｄ）。
本実施形態では、在庫度数分布の比較階級である第６．５階級が、目標度数分布の基準階級である第４階級よりも大きいため（Ｓ７７２の「Ｙｅｓ」の場合）、探索方向が階級の大きい第１２階級から第１階級の方向（図８に図示される矢印Ａを参照）となる。
この結果、第１優先階級の複数の候補のうち、第１０階級が最初に探索されて、第１０階級が第１優先階級に設定される。
なお、在庫度数分布の比較階級が目標度数分布の基準階級よりも小さいとした場合（Ｓ７７２の「Ｎｏ」の場合）、探索方向が第１階級から第１２階級の方向（図８に図示される矢印Ｂを参照）となる。この結果、第１優先階級の複数の候補のうち、第６階級が最初に探索されて、第６階級が第１優先階級に設定される。
この結果、第１優先階級の複数の候補のうち、第１０階級が最初に探索されて、第１０階級が第１優先階級に設定される。
なお、在庫度数分布の比較階級が目標度数分布の基準階級よりも小さいとした場合（Ｓ７７２の「Ｎｏ」の場合）、探索方向が第１階級から第１２階級の方向（図８に図示される矢印Ｂを参照）となる。この結果、第１優先階級の複数の候補のうち、第６階級が最初に探索されて、第６階級が第１優先階級に設定される。
以上の探索工程Ｓ７７によれば、目標度数分布の基準階級を基準として、在庫となっているリング４が多く存在している階級側から第１優先階級が選定されるようになる。このため、目標度数分布の基準階級を基準として、大きい階級側又は小さい階級側に偏ってリング４が存在することが解消される。
また、探索方向を開始する階級が第１２階級又は第１階級であり、目標度数の平均値から大きく離れた階級が第１優先階級に設定されるようになる。
また、探索方向を開始する階級が第１２階級又は第１階級であり、目標度数の平均値から大きく離れた階級が第１優先階級に設定されるようになる。
（第２優先リンググループ・第２優先階級特定工程Ｓ７３）
第２優先リンググループ・第２優先階級特定工程Ｓ７３は、第１優先リンググループ以外のリンググループにおいて、余剰在庫リング度数が大きいリンググループを特定するための工程であり、第２優先リンググループ特定工程と、第２優先階級特定工程と、を有している。
第２優先リンググループ・第２優先階級特定工程Ｓ７３は、第１優先リンググループ以外のリンググループにおいて、余剰在庫リング度数が大きいリンググループを特定するための工程であり、第２優先リンググループ特定工程と、第２優先階級特定工程と、を有している。
（第２優先リンググループ特定工程）
第２優先リンググループ特定工程は、第１優先リンググループ以外のリンググループそれぞれで、各階級に設定された払い出し指数を足し合わせ、払い出し指数の総和が最も大きいリンググループを第２優先リンググループに設定することを行う。
第２優先リンググループ特定工程は、第１優先リンググループ以外のリンググループそれぞれで、各階級に設定された払い出し指数を足し合わせ、払い出し指数の総和が最も大きいリンググループを第２優先リンググループに設定することを行う。
（第２優先階級特定工程）
第２優先階級特定工程は、第２優先リンググループの中で、払い出し指数が最も大きい階級を第２優先階級に設定する工程であり、第２優先リンググループ・階級特定工程Ｓ７３が終了する。
なお、第２優先リンググループにおいて、払い出し指数の総和が最も大きい階級が複数ある場合には、前記した探索工程Ｓ７７により第２優先階級を決定する。
第２優先階級特定工程は、第２優先リンググループの中で、払い出し指数が最も大きい階級を第２優先階級に設定する工程であり、第２優先リンググループ・階級特定工程Ｓ７３が終了する。
なお、第２優先リンググループにおいて、払い出し指数の総和が最も大きい階級が複数ある場合には、前記した探索工程Ｓ７７により第２優先階級を決定する。
（限定工程Ｓ７４）
限定工程Ｓ７４は、規格要件を満たすペアリングセットの中から、優先的に払い出したいペアリングセットに絞る（限定する）ための工程である。
限定工程Ｓ７４では、最初に、ペアリングセット抽出工程Ｓ６で抽出された複数のペアリングセットの中から、第１優先リンググループ・階級特定工程Ｓ７２で特定された第１優先階級に属するリング４を含んでいるものに限定する。
ここで、ペアリングセットを構成する一対のリングセットのそれぞれが第１層用のリング４を含むため、一対のリングセットのそれぞれが第１優先階級に属しているリング４を含んでいる必要がある。
限定工程Ｓ７４は、規格要件を満たすペアリングセットの中から、優先的に払い出したいペアリングセットに絞る（限定する）ための工程である。
限定工程Ｓ７４では、最初に、ペアリングセット抽出工程Ｓ６で抽出された複数のペアリングセットの中から、第１優先リンググループ・階級特定工程Ｓ７２で特定された第１優先階級に属するリング４を含んでいるものに限定する。
ここで、ペアリングセットを構成する一対のリングセットのそれぞれが第１層用のリング４を含むため、一対のリングセットのそれぞれが第１優先階級に属しているリング４を含んでいる必要がある。
次に、限定工程Ｓ７４では、第１優先階級に属するリング４を含んでいるペアリングセットの中から、第２優先階級に属しているリング４を含んでいるものに限定し、優先払い出し限定工程Ｓ７が終了する。
ここで、例えば、第１優先階級が第１階級で、第２優先階級が第１２階級の場合など、第１優先階級に属するリング４を含んでいるペアリングセットの中に第２優先階級に属しているリング４を含んでいない場合がある。
このような場合には、第１優先階級に属するリング４を含むペアリングセットを優先的に払い出したいペアリングセットとし、第２優先階級に属しているリング４に限定することなく、優先払い出し限定工程Ｓ７を終了する。
ここで、例えば、第１優先階級が第１階級で、第２優先階級が第１２階級の場合など、第１優先階級に属するリング４を含んでいるペアリングセットの中に第２優先階級に属しているリング４を含んでいない場合がある。
このような場合には、第１優先階級に属するリング４を含むペアリングセットを優先的に払い出したいペアリングセットとし、第２優先階級に属しているリング４に限定することなく、優先払い出し限定工程Ｓ７を終了する。
以上の優先払い出し限定工程Ｓ７によれば、規格要件を満たすペアリングセットの中から、少なくとも第１優先リンググループの第１優先階級に属するリング４を含むペアリングセットのみに限定される。
そのため、ペアリングセットに選ばれて保管庫から払いだされるリング４は、最内層用又は最外層用のリンググループにおいて余剰在庫となっているリング４に限定されるようになる。
この結果、最内層用又は最外層用のリンググループでは、在庫度数が目標度数を下回る階級からリング４が選定されるおそれがなく、ペアリングセットの数の減少を図れる。
そのため、ペアリングセットに選ばれて保管庫から払いだされるリング４は、最内層用又は最外層用のリンググループにおいて余剰在庫となっているリング４に限定されるようになる。
この結果、最内層用又は最外層用のリンググループでは、在庫度数が目標度数を下回る階級からリング４が選定されるおそれがなく、ペアリングセットの数の減少を図れる。
（リングセット決定工程Ｓ８）
リングセット決定工程は、優先払い出し限定工程Ｓ７により限定された複数のペアリングセットの中から、一つのペアリングセットに決定するための工程であり、図１５に示すように、優先指数算出工程Ｓ８１と、優先指数比較工程Ｓ８２と、を有している。
リングセット決定工程は、優先払い出し限定工程Ｓ７により限定された複数のペアリングセットの中から、一つのペアリングセットに決定するための工程であり、図１５に示すように、優先指数算出工程Ｓ８１と、優先指数比較工程Ｓ８２と、を有している。
（優先指数算出工程Ｓ８１）
優先指数算出工程Ｓ８１は、優先払い出し限定工程Ｓ７により限定された複数のペアリングセットのそれぞれの優先指数を求める。
ここで、優先指数とは、ペアリングセットを構成する各層用のリング４が属する階級に設定された払い出し指数の総和である。
よって、下記の表３に示すように、ペアリングセットがリングセットＮｏ．１とリングセットＮｏ．４との組み合わせてなる場合、リングセットＮｏ．１の払い出し指数の総和である２６と、リングセットＮｏ．４の払い出し指数の総和である２２とを足し合わせてなる４８が優先指数となる。
優先指数算出工程Ｓ８１は、優先払い出し限定工程Ｓ７により限定された複数のペアリングセットのそれぞれの優先指数を求める。
ここで、優先指数とは、ペアリングセットを構成する各層用のリング４が属する階級に設定された払い出し指数の総和である。
よって、下記の表３に示すように、ペアリングセットがリングセットＮｏ．１とリングセットＮｏ．４との組み合わせてなる場合、リングセットＮｏ．１の払い出し指数の総和である２６と、リングセットＮｏ．４の払い出し指数の総和である２２とを足し合わせてなる４８が優先指数となる。
つぎに、優先指数比較工程Ｓ８２は、複数のペアリングセットの中で、優先指数が最も大きいペアリングセットを一つ選定する。
これによれば、払い出し指数が大きい階級に属するリング４が選定され易くなり、保管庫に保管されるリング４を目標度数に近づけることができる。
そして、ペアリングセットが一つ選定されることで、積層リング３の製造に用いられるリング４が決定し、リングセット決定工程Ｓ８が終了する。
これによれば、払い出し指数が大きい階級に属するリング４が選定され易くなり、保管庫に保管されるリング４を目標度数に近づけることができる。
そして、ペアリングセットが一つ選定されることで、積層リング３の製造に用いられるリング４が決定し、リングセット決定工程Ｓ８が終了する。
（積層工程Ｓ９）
積層工程Ｓ９は、リングセット決定工程Ｓ８で選定されたペアリングセットを構成する各層のリング４を保管庫１２から積層装置１３にコンベアで搬送し、積層装置１３でリング４を重ね合わせて積層リング３を製造されて、積層リング製造工程Ｓ５の全ての工程が終了する。
積層工程Ｓ９は、リングセット決定工程Ｓ８で選定されたペアリングセットを構成する各層のリング４を保管庫１２から積層装置１３にコンベアで搬送し、積層装置１３でリング４を重ね合わせて積層リング３を製造されて、積層リング製造工程Ｓ５の全ての工程が終了する。
上記する実施形態に係る積層リング３の製造方法によれば、積層リング３に決定されたペアリングセットを構成する最内層用又は最外層用のリングは、目標度数を超えて余剰となっている階級のリングである。
このため、最内層用又は最外層用のリンググループの中で在庫数が不足している階級のリング４が払いだされる事態が回避されて、リング選定工程で抽出することができるリングセット数が減少することを抑制し、積層リングの製造の継続を安定させることができる。
このため、最内層用又は最外層用のリンググループの中で在庫数が不足している階級のリング４が払いだされる事態が回避されて、リング選定工程で抽出することができるリングセット数が減少することを抑制し、積層リングの製造の継続を安定させることができる。
以上、実施形態に係る積層リング３の製造方法について説明したが、本発明は実施形態で説明した例に限定されない。
実施形態に係る優先払い出し限定工程Ｓ７では、第２優先リンググループ・階級特定工程Ｓ７３により、第２優先階級を特定し、リングセット特定工程Ｓ７４で、第２優先階級に属するリング４が含まれるペアリングセットに限定するように構成されているが、本発明はこれに限定されない。
たとえば、第２優先リンググループ・階級特定工程Ｓ７３で第２優先階級を特定した後に、その第２優先階級の払い出し指数を例えば２倍にして、払い出し指数に重みづけするようにしてもよい。
これによれば、優先指数算出工程Ｓ８１で算出されるペアリングセットの優先指数に反映され、優先指数比較工程Ｓ８２で優先指数が最も大きいペアリングセットに選定されて保管庫から払いだされる可能性が高くなるからである。
なお、上記払い出し指数に重みづけを行う場合には、リングセット特定工程Ｓ７４において、第２優先階級に属するリング４が含まれるペアリングセットに限定しなくてもよい。
実施形態に係る優先払い出し限定工程Ｓ７では、第２優先リンググループ・階級特定工程Ｓ７３により、第２優先階級を特定し、リングセット特定工程Ｓ７４で、第２優先階級に属するリング４が含まれるペアリングセットに限定するように構成されているが、本発明はこれに限定されない。
たとえば、第２優先リンググループ・階級特定工程Ｓ７３で第２優先階級を特定した後に、その第２優先階級の払い出し指数を例えば２倍にして、払い出し指数に重みづけするようにしてもよい。
これによれば、優先指数算出工程Ｓ８１で算出されるペアリングセットの優先指数に反映され、優先指数比較工程Ｓ８２で優先指数が最も大きいペアリングセットに選定されて保管庫から払いだされる可能性が高くなるからである。
なお、上記払い出し指数に重みづけを行う場合には、リングセット特定工程Ｓ７４において、第２優先階級に属するリング４が含まれるペアリングセットに限定しなくてもよい。
また、実施形態では、優先払い出し限定工程Ｓ７後にリングセット決定工程Ｓ８を行っているが、変形例として、優先払い出し限定工程Ｓ７後であってリングセット決定工程Ｓ８前に、保管期間限定工程を行ってもよい。
この保管期間限定工程とは、優先払い出し限定工程Ｓ７により限定された複数のペアリングセットの中から、保管庫１２にリング４を保管している期間が所定の保管期間以上のリング４を含んでいるものに限定することを行う工程である。
当該工程によれば、保管期間が所定以上のリング４を含むリングセットに限定されるため、所定の保管期間を経過して破棄されるリング４を減少させることができる。
この保管期間限定工程とは、優先払い出し限定工程Ｓ７により限定された複数のペアリングセットの中から、保管庫１２にリング４を保管している期間が所定の保管期間以上のリング４を含んでいるものに限定することを行う工程である。
当該工程によれば、保管期間が所定以上のリング４を含むリングセットに限定されるため、所定の保管期間を経過して破棄されるリング４を減少させることができる。
また、実施形態の探索工程Ｓ７７では、第１優先リンググループに属する全ての階級を対象として探索しているが、本発明はこれに限定されるものでない。たとえば、探索工程Ｓ７７による探索範囲（階級）を限定し、その限定された範囲から第１優先階級を特定するようにしてもよい。
ここで、探索範囲を限定する方法としては、後記する探索範囲限定工程により目標度数分布における平均周長μ及び平均標準偏差σを算出し、第１優先階級がリングの平均周長μ±平均標準偏差３σの範囲外の階級から特定することが挙げられる。
ここで、探索範囲を限定する方法としては、後記する探索範囲限定工程により目標度数分布における平均周長μ及び平均標準偏差σを算出し、第１優先階級がリングの平均周長μ±平均標準偏差３σの範囲外の階級から特定することが挙げられる。
詳細に説明すると、探索範囲限定工程は、最初に、目標度数分布の作成の基礎となった入庫されたリングの周長値に基づき、リンググループ毎に区分けされたリング４の周長値の平均を算出して、リンググループ別の平均周長μ１を求める。そして、全てのリンググループ別の平均周長μ１を足し合わせ、その合計数をリンググループの総数で割り、リング全部の平均周長μを算出する。
つぎに、リンググループ別の平均周長μ１に基づき、リンググループ毎に、リンググループ別の標準偏差σ１を算出する。
なお、標準偏差σ１の導出は、リング毎に、リングの周長とそのリング４が属するリンググループ別の平均周長μ１との差分である偏差を求める。そして、リンググループ毎に、偏差の２乗した値を足し合わせ、その足し合わせたものの平方根を算出することで、標準偏差σ１を導出することができる。
そして、全てのリンググループ別の標準偏差σ１を足し合わせて、その合計数をリンググループの総数で割り、リンググループ全体の平均標準偏差σを算出する。
つぎに、リンググループ別の平均周長μ１に基づき、リンググループ毎に、リンググループ別の標準偏差σ１を算出する。
なお、標準偏差σ１の導出は、リング毎に、リングの周長とそのリング４が属するリンググループ別の平均周長μ１との差分である偏差を求める。そして、リンググループ毎に、偏差の２乗した値を足し合わせ、その足し合わせたものの平方根を算出することで、標準偏差σ１を導出することができる。
そして、全てのリンググループ別の標準偏差σ１を足し合わせて、その合計数をリンググループの総数で割り、リンググループ全体の平均標準偏差σを算出する。
これによれば、図１６に示すように、探索工程Ｓ７７の探索範囲は、平均周長μ−平均標準偏差３σの値が属する階級（図１６では第２階級）よりも小さい階級（第１階級）と、平均周長μ＋平均標準偏差３σの値が属する階級（図１６では第９階級）よりも大きい階級（第１０階級〜第１２階級）と限られた範囲になる。
そして、探索方向が階級の大きい第１２階級から第１階級の方向に決定された場合（Ｓ７７２の「Ｙｅｓ」の場合）、第１２階級から第１０階級までを探索し（図１６の矢印Ａ１参照）、つぎに第１階級を探索し（図１６の矢印Ａ２参照）、第１優先階級の複数の候補のうちが最初に探索された方を第１優先階級に特定するようになる（Ｓ７７５）。
そして、探索方向が階級の大きい第１２階級から第１階級の方向に決定された場合（Ｓ７７２の「Ｙｅｓ」の場合）、第１２階級から第１０階級までを探索し（図１６の矢印Ａ１参照）、つぎに第１階級を探索し（図１６の矢印Ａ２参照）、第１優先階級の複数の候補のうちが最初に探索された方を第１優先階級に特定するようになる（Ｓ７７５）。
また、上記する探索範囲限定工程において、リングの平均周長μ±平均標準偏差３σの範囲外に、第１優先階級の候補が無い場合、第１優先階級を特定できない。よって、探索範囲限定工程において、リングの平均周長μ±平均標準偏差３σの範囲外を探索して第１優先階級が特定できなかった場合に、平均周長μ±平均標準偏差２σの範囲外、平均周長μ±平均標準偏差σの範囲外と、探索範囲を次第に拡大させてもよい。
具体的には、図１６に示すように、リングの平均周長μ±平均標準偏差３σの範囲外を探索した後（矢印Ａ１、Ａ２参照）、平均周長μ±平均標準偏差２σの範囲外である第１２階級から第９階級と第２階級から第１階級とを大きい階級から順に探索する（矢印Ｂ１、Ｂ２参照）。
そして、第１優先階級の複数の候補が平均周長μ±平均標準偏差２σの範囲外に無い場合に、平均周長μ±平均標準偏差σの範囲外である第１２階級から第７階級と第３階級から第１階級とを大きい階級から順に探索するというものである（矢印Ｃ１、Ｃ２参照）。
以上、探索範囲限定工程によれば、平均周長μ１が属する階級に対して大きく離れた階級が第１優先階級に特定される確率を高めて、その大きく離れた階級に属するリング４を積極的に払い出すことが可能となる。
なお、探索範囲限定工程について、探索工程Ｓ７７を用いて第１優先階級の特定する例を挙げて説明したが、本発明はこれに限定されず、を探索工程Ｓ７７により第２優先階級を特定する場合にも探索範囲限定工程を適用してもよいものである。
そして、第１優先階級の複数の候補が平均周長μ±平均標準偏差２σの範囲外に無い場合に、平均周長μ±平均標準偏差σの範囲外である第１２階級から第７階級と第３階級から第１階級とを大きい階級から順に探索するというものである（矢印Ｃ１、Ｃ２参照）。
以上、探索範囲限定工程によれば、平均周長μ１が属する階級に対して大きく離れた階級が第１優先階級に特定される確率を高めて、その大きく離れた階級に属するリング４を積極的に払い出すことが可能となる。
なお、探索範囲限定工程について、探索工程Ｓ７７を用いて第１優先階級の特定する例を挙げて説明したが、本発明はこれに限定されず、を探索工程Ｓ７７により第２優先階級を特定する場合にも探索範囲限定工程を適用してもよいものである。
１ ベルト
２ エレメント
３（３ａ、３ｂ） 積層リング
４ リング
１０ 積層リング製造システム
１１ 測定装置
１２ 保管庫
１３ 積層装置
１４ 制御装置
１５ データベース
２ エレメント
３（３ａ、３ｂ） 積層リング
４ リング
１０ 積層リング製造システム
１１ 測定装置
１２ 保管庫
１３ 積層装置
１４ 制御装置
１５ データベース
Claims (6)
- 入荷されたリングを周長値に基づいて各層用のリンググループに区分けして保管し、各層用のリンググループからリングを選定して積層リングを製造する積層リングの製造方法であって、
最内層用のリンググループ又は最外層用のリンググループに区分けされたリングを選定起点とし、順に隣り合うリンググループからクリアランス要件を満たすリングを選定して複数のリングセットを抽出するリング選定工程と、
前記選定起点となったリングが属する前記最内層用のリンググループ又は前記最外層用のリンググループを第１優先リンググループに特定するとともに、目標度数分布と在庫度数分布とに基づいて前記第１優先リンググループの各階級で余剰となっているリング数である余剰度数を算出して最も大きい階級を前記第１優先階級に特定し、前記複数のリングセットを前記第１優先階級に属しているリングを含むものに限定する優先払い出し限定工程と、
前記優先払い出し限定工程により限定されたリングセット毎に、前記目標度数分布と前記在庫度数分布とに基づいて、前記リングセットを構成するリングが属する階級の前記余剰度数を足し合わせて総和を算出し、前記余剰度数の総和が最も大きいリングセットで前記積層リングを製造することを決定するリングセット決定工程と、
前記リングセット決定工程で決定されたリングセットを構成する複数のリングを積層して積層リングを製造する積層工程と、
を有することを特徴とする積層リングの製造方法。 - 前記優先払い出し限定工程は、
さらに、前記目標度数分布と前記在庫度数分布とに基づいて、前記第１優先リンググループを除く全てのリンググループ毎に前記余剰度数の総和を算出し、前記余剰度数の総和が最も大きいリンググループを第２優先リンググループに特定するとともに、前記第２優先リンググループの中で前記余剰度数が最も大きい階級を第２優先階級に特定し、
前記リング選定工程により抽出された前記複数のリングセットを前記第１優先階級に属しているリングと前記第２優先階級に属しているリングとの両方を含むものに限定することを特徴とする請求項１に記載の積層リングの製造方法。 - 前記優先払い出し限定工程は、前記第１優先階級の特定又は第２優先階級の特定で、前記第１優先階級の候補又は前記第２優先階級の候補が複数ある場合、最初に探索された方を前記第１優先階級又は前記第２優先階級に設定する探索工程を含み、
前記探索工程は、
前記リンググループで目標度数が最も大きい階級である基準階級に対し、前記リンググループで在庫度数が最も大きい階級である比較階級が大きいか否かを判定し、
前記基準階級よりも前記比較階級が大きいときに、大きい階級から小さい階級の方に向かって前記第１優先階級の候補又は前記第２優先階級の候補を前記探索し、
前記基準階級よりも前記比較階級が小さいときに、小さい階級から大きい階級の方に向かって前記第１優先階級の候補又は前記第２優先階級の候補を探索することを特徴とする請求項１又は請求項２に記載の積層リングの製造方法。 - 前記リング選定工程前に、前記入荷されたリングを周長値に基づいて各層用のリンググループに区分けして保管する保管工程を有し、
前記保管工程は、
前記入荷されたリングを測定して前記リングの周長値を取得する測定工程と、
前記リングの周長値に基づいて、入荷されたリングを前記各層用のリンググループに区分けするとともに、前記リンググループの各階級に区分けする区分け工程と、
各リンググループの階級毎に前記入荷されたリング数である入荷度数を示す入荷度数分布を算出する入荷度数分布算出工程と、
全てのリンググループの同一階級における前記入荷度数の平均値を算出して各階級の平均入荷度数を算出する平均入荷度数算出工程と、
前記目標度数分布により各リンググループの各階級に設定された目標度数の値を前記平均入荷度数に変更する目標度数変更工程と、
を有することを特徴とする請求項１乃至請求項３のいずれか１項に記載の積層リングの製造方法。 - 前記優先払い出し限定工程後であって、前記リングセット決定工程前に、
前記リングの保管期間が所定の保管期間以上のリングを含んでいるものに限定する保管期間限定工程を有していること
を特徴とする請求項１乃至請求項４のいずれか１項に記載の積層リングの製造方法。 - 前記保管工程は、前記測定工程後に、
前記リングの周長値に基づいて、所定の保管条件に適合しているか否かを判断する保管条件適合判断工程と、
前記所定の保管条件に適合していないと判断された場合に、保管庫に保管することなく前記入荷されたリングを除外する除外工程と、
前記所定の保管条件に適合していると判断された場合に、前記リングの周長値に基づいて、入荷されたリングを前記各層用のリンググループに区分けするとともに、前記リンググループの各階級に区分けする前記区分け工程と、
を有し、
前記所定の保管条件は、入荷されたリングが前記所定の規格要件を満たしてリングセットに選定される可能性を有していること
を特徴とする請求項４又は請求項５に記載の積層リングの製造方法。
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