JP2015136372A - Electrostatic atomization device - Google Patents

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山口 友宏
Tomohiro Yamaguchi
友宏 山口
純平 大江
Junpei Oe
純平 大江
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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To provide an electrostatic atomization device having a simplified structure for attaining high heat radiation efficiency.SOLUTION: The electrostatic atomization device includes: an atomization electrode for generating charged fine particle water under electric discharge; a cooling structure for cooling the atomization electrode and generating dew condensation on the atomization electrode; and a base plate to mount the cooling structure on. The cooling structure includes a first thermoelectric element having a first cooling part connected to the atomization electrode, and a first heat radiation part for emitting heat generated resulting from cooling the atomization electrode. The base plate includes a first conductor area electrically connected to the first heat radiation part.

Description

本発明は、帯電した微粒子水を生成する静電霧化装置に関する。   The present invention relates to an electrostatic atomizer that generates charged fine particle water.

静電霧化装置は、放電下で帯電した微粒子水を生成する。生成された微粒子水は、脱臭や除菌といった用途に好適である。   The electrostatic atomizer generates fine particle water charged under discharge. The produced fine particle water is suitable for uses such as deodorization and sterilization.

静電霧化装置は、霧化電極と、霧化電極を冷却する熱電素子と、回路基板と、を有する(特許文献1を参照)。霧化電極は、棒状の突出部と、突出部よりも幅広の基台部と、を含む。幅広の基台部は、熱電素子上での安定的な霧化電極の固定を可能にする。   The electrostatic atomizer includes an atomization electrode, a thermoelectric element that cools the atomization electrode, and a circuit board (see Patent Document 1). The atomization electrode includes a rod-shaped protrusion and a base portion wider than the protrusion. The wide base portion enables stable fixation of the atomizing electrode on the thermoelectric element.

特開2011−67770号公報JP 2011-67770 A

上述の静電霧化装置の熱電素子は、基台部に接触する冷却端部と、冷却端部とは反対側の放熱端部と、熱電素子へ電力を供給するための通電部材を含む。冷却端部は、低温になる一方で、放熱端部は高温になる。通電部材の使用の結果、静電霧化装置は、構造的に複雑になる。   The thermoelectric element of the above-described electrostatic atomizer includes a cooling end that contacts the base, a heat radiating end opposite to the cooling end, and a current-carrying member for supplying power to the thermoelectric element. While the cooling end is cold, the heat dissipation edge is hot. As a result of the use of the energizing member, the electrostatic atomizer is structurally complex.

特許文献1によれば、通電部材は、放熱の役割も担う。しかしながら、通電部材の周囲の空間の大きさといった設計的な制限によって、通電部材の大きさや形状の変更は制約される。したがって、従来の静電霧化装置は、小型化、簡素化や放熱性の調整等が容易ではないという課題を有していた。   According to Patent Document 1, the energizing member also plays a role of heat dissipation. However, changes in the size and shape of the energizing member are restricted by design limitations such as the size of the space around the energizing member. Therefore, the conventional electrostatic atomizer has the subject that size reduction, simplification, adjustment of heat dissipation, etc. are not easy.

本発明は、小型化、簡略化や放熱性の調整等を容易に達成できる静電霧化装置を提供することを目的とする。   An object of this invention is to provide the electrostatic atomizer which can achieve size reduction, simplification, heat dissipation adjustment, etc. easily.

本発明の一局面に係る静電霧化装置は、帯電した微粒子水を放電下で生成する霧化電極と、前記霧化電極を冷却し、前記霧化電極に結露を生じさせる冷却構造と、前記冷却構造が取り付けられる基板と、を備える。前記冷却構造は、前記霧化電極に接続される第1冷却部と、前記霧化電極に対する冷却に起因して生じた熱を放出する第1放熱部と、を有する第1熱電素子を含む。前記基板は、前記第1放熱部に電気的に接続される第1導体領域を含む。   An electrostatic atomization apparatus according to one aspect of the present invention includes an atomization electrode that generates charged fine particle water under discharge, a cooling structure that cools the atomization electrode and causes condensation on the atomization electrode, And a substrate to which the cooling structure is attached. The cooling structure includes a first thermoelectric element having a first cooling part connected to the atomizing electrode and a first heat radiating part for releasing heat generated due to cooling of the atomizing electrode. The substrate includes a first conductor region electrically connected to the first heat radiating part.

上記構成によれば、第1導体領域は、第1放熱部に電気的に接続されるので、基板は、熱電素子への電力供給機能を有するだけでなく、熱電素子からの放熱を促すこともできる。したがって、静電霧化装置は、熱電素子の通電及び放熱を、簡素化された構造で達成することができる。   According to the above configuration, since the first conductor region is electrically connected to the first heat dissipation portion, the substrate not only has a function of supplying power to the thermoelectric element, but also promotes heat dissipation from the thermoelectric element. it can. Therefore, the electrostatic atomizer can achieve energization and heat dissipation of the thermoelectric element with a simplified structure.

上記構成において、前記基板は、前記第1導体領域が形成される主面を含んでもよい。前記霧化電極は、前記主面と交差する中心軸に沿って延びる電極棒であってもよい。前記電極棒は、前記主面から前記中心軸に沿って延びる周面を含んでもよい。前記第1冷却部は、前記周面に対向してもよい。   In the above configuration, the substrate may include a main surface on which the first conductor region is formed. The atomizing electrode may be an electrode rod extending along a central axis intersecting the main surface. The electrode rod may include a peripheral surface extending from the main surface along the central axis. The first cooling unit may face the peripheral surface.

上記構成によれば、第1冷却部は、周面に対向するので、従来技術と比べて、基板と電極棒の先端との間の距離は短くなる。したがって、静電霧化装置は、小型化される。   According to the said structure, since a 1st cooling part opposes a surrounding surface, the distance between a board | substrate and the front-end | tip of an electrode rod becomes short compared with a prior art. Therefore, the electrostatic atomizer is downsized.

上記構成において、前記冷却構造は、前記霧化電極に接続される第2冷却部と、前記冷却に起因して生じた熱を放出する第2放熱部と、を有する第2熱電素子を含んでもよい。前記第1放熱部、前記第1冷却部、前記第2冷却部及び前記第2放熱部は、前記中心軸と交差し、且つ、前記主面に沿って延びる直線上に整列してもよい。   In the above configuration, the cooling structure may include a second thermoelectric element having a second cooling unit connected to the atomizing electrode and a second heat radiating unit that releases heat generated due to the cooling. Good. The first heat radiating portion, the first cooling portion, the second cooling portion, and the second heat radiating portion may be aligned on a straight line that intersects the central axis and extends along the main surface.

上記構成によれば、第1冷却部及び第2冷却部は、霧化電極に接続されるので、霧化電極は効率的に冷却される。第1放熱部、第1冷却部、第2冷却部及び第2放熱部は、中心軸と交差し、且つ、主面に沿って延びる直線上に整列するので、第1放熱部は、第2放熱部から大きく離間する。この結果、第1放熱部及び第2放熱部からの放熱の効率は、高いレベルを維持することができる。   According to the said structure, since a 1st cooling part and a 2nd cooling part are connected to the atomization electrode, the atomization electrode is cooled efficiently. The first heat dissipating part, the first cooling part, the second cooling part, and the second heat dissipating part are aligned on a straight line that intersects the central axis and extends along the main surface. Largely separated from the heat dissipation part. As a result, the efficiency of heat radiation from the first heat radiation part and the second heat radiation part can be maintained at a high level.

上記構成において、静電霧化装置は、前記霧化電極に対向する環状電極と、前記環状電極を保持する保持部と、前記保持部を前記基板上の所定位置において位置決めする位置決定部と、を有する保持構造と、を更に備えてもよい。前記基板は、前記第1導体領域が形成される主面を含んでもよい。前記霧化電極は、前記主面と交差する中心軸に沿って延びる電極棒であってもよい。前記所定位置において、前記環状電極は、前記中心軸と同軸に配置されてもよい。   In the above configuration, the electrostatic atomizer includes an annular electrode facing the atomizing electrode, a holding unit that holds the annular electrode, and a position determination unit that positions the holding unit at a predetermined position on the substrate, And a holding structure having The substrate may include a main surface on which the first conductor region is formed. The atomizing electrode may be an electrode rod extending along a central axis intersecting the main surface. In the predetermined position, the annular electrode may be arranged coaxially with the central axis.

上記構成によれば、保持部は、位置決定部によって、基板上の所定位置において位置決めされるので、環状電極は、電極棒の中心軸と同軸に配置される。環状電極と電極棒との同軸関係の結果、環状電極と電極棒との間で、帯電した微粒子水の生成に対して適切な放電が生じやすくなる。   According to the above configuration, the holding portion is positioned at a predetermined position on the substrate by the position determining portion, so that the annular electrode is arranged coaxially with the central axis of the electrode rod. As a result of the coaxial relationship between the annular electrode and the electrode rod, an appropriate discharge is likely to occur between the annular electrode and the electrode rod for the generation of charged particulate water.

上記構成において、前記第1熱電素子は、前記第1冷却部と前記第1放熱部との間において前記基板に形成された開口領域を跨いでもよい。   The said structure WHEREIN: The said 1st thermoelectric element may straddle the opening area | region formed in the said board | substrate between the said 1st cooling part and the said 1st thermal radiation part.

上記構成によれば、開口領域は、第1放熱部から第1冷却部への基板を通じた熱エネルギの移動を生じにくくすることができる。この結果、静電霧化装置は、高い放熱効率及び高い冷却効率の下で、帯電した微粒子水を生成することができる。   According to the above configuration, the opening region can make it difficult for heat energy to move through the substrate from the first heat radiating unit to the first cooling unit. As a result, the electrostatic atomizer can generate charged particulate water under high heat dissipation efficiency and high cooling efficiency.

上記構成において、前記開口領域は、前記霧化電極を部分的に取り囲んでもよい。   In the above configuration, the opening region may partially surround the atomizing electrode.

上記構成によれば、開口領域は、霧化電極を部分的に取り囲むので、第1放熱部から第1冷却部への基板を通じた熱エネルギの移動は生じにくくなる。この結果、静電霧化装置は、高い放熱効率及び高い冷却効率の下で、帯電した微粒子水を生成することができる。   According to the said structure, since an opening area | region partially surrounds the atomization electrode, the movement of the heat energy through a board | substrate from a 1st thermal radiation part to a 1st cooling part becomes difficult to occur. As a result, the electrostatic atomizer can generate charged particulate water under high heat dissipation efficiency and high cooling efficiency.

上記構成において、前記基板は、前記第1導体領域が形成される主面を含んでもよい。前記霧化電極は、前記基板に形成された開口部に挿入される挿入部を含んでもよい。   In the above configuration, the substrate may include a main surface on which the first conductor region is formed. The atomizing electrode may include an insertion portion that is inserted into an opening formed in the substrate.

上記構成によれば、霧化電極は、開口部への挿入部の挿入によって、基板に適切に固定される。   According to the said structure, the atomization electrode is suitably fixed to a board | substrate by insertion of the insertion part to an opening part.

上記構成において、前記基板は、前記第1導体領域から離間した第2導体領域を含んでもよい。前記第1冷却部は、前記第2導体領域に接続されてもよい。   The said structure WHEREIN: The said board | substrate may contain the 2nd conductor area | region spaced apart from the said 1st conductor area | region. The first cooling unit may be connected to the second conductor region.

上記構成によれば、第1冷却部が接続される第2導体領域は、第1導体領域から離間しているので、第1放熱部から第1冷却部への熱エネルギの移動は生じにくくなる。   According to the above configuration, since the second conductor region to which the first cooling unit is connected is separated from the first conductor region, it is difficult for heat energy to move from the first heat radiating unit to the first cooling unit. .

上記構成において、前記冷却構造は、前記霧化電極に接続される第2冷却部と、前記冷却に起因して生じた熱を放出する第2放熱部と、を有する第2熱電素子を含んでもよい。前記第2導体領域は、前記第1冷却部に半田によって接続される第1接続部と、前記第2冷却部に半田によって接続される第2接続部と、を含んでもよい。前記第1接続部及び前記第2接続部は、前記霧化電極と前記冷却構造との間でセルフアライメント効果を生じさせるように配置されてもよい。   In the above configuration, the cooling structure may include a second thermoelectric element having a second cooling unit connected to the atomizing electrode and a second heat radiating unit that releases heat generated due to the cooling. Good. The second conductor region may include a first connection part connected to the first cooling part by solder and a second connection part connected to the second cooling part by solder. The first connection part and the second connection part may be arranged to generate a self-alignment effect between the atomizing electrode and the cooling structure.

上記構成によれば、第1接続部及び第2接続部は、霧化電極と冷却構造との間でセルフアライメント効果を生じさせるように配置されるので、霧化電極及び冷却構造は、対して高い位置的精度の下で、基板に取り付けられる。   According to the said structure, since a 1st connection part and a 2nd connection part are arrange | positioned so that a self-alignment effect may be produced between an atomization electrode and a cooling structure, an atomization electrode and a cooling structure are It is attached to the substrate under high positional accuracy.

上記構成において、前記霧化電極は、前記基板に形成された開口部上に配置されてもよい。   The said structure WHEREIN: The said atomization electrode may be arrange | positioned on the opening part formed in the said board | substrate.

上記構成によれば、第1冷却部及び第2冷却部からの冷却作用を受けやすい位置において、開口部が基板に形成されるので、基板は、不必要に冷却されない。したがって、霧化電極は、第1冷却部及び第2冷却部によって効率的に冷却される。加えて、不必要な半田は、開口部を通じて除去され得る。   According to the above configuration, since the opening is formed in the substrate at a position where the cooling action is easily received from the first cooling unit and the second cooling unit, the substrate is not unnecessarily cooled. Therefore, the atomization electrode is efficiently cooled by the first cooling unit and the second cooling unit. In addition, unwanted solder can be removed through the openings.

上記構成において、静電霧化装置は、前記冷却構造を作動させるための電力を出力する出力部と、前記電力を、前記出力部から前記冷却構造へ伝達するためのコネクタと、を更に備えてもよい。前記冷却構造は、前記霧化電極に接続される第2冷却部と、前記冷却に起因して生じた熱を放出する第2放熱部と、を有する第2熱電素子を含んでもよい。前記第1導体領域は、前記第1放熱部に接続される第1放熱領域と、前記第2放熱部に接続される第2放熱領域と、を含んでもよい。前記コネクタは、前記第1放熱領域と前記第2放熱領域とに接続されてもよい。   In the above configuration, the electrostatic atomizer further includes an output unit that outputs electric power for operating the cooling structure, and a connector for transmitting the electric power from the output unit to the cooling structure. Also good. The cooling structure may include a second thermoelectric element having a second cooling unit connected to the atomizing electrode and a second heat radiating unit that releases heat generated due to the cooling. The first conductor region may include a first heat dissipation region connected to the first heat dissipation portion and a second heat dissipation region connected to the second heat dissipation portion. The connector may be connected to the first heat dissipation area and the second heat dissipation area.

上記構成によれば、冷却構造へ電力を供給するための構造的に簡素な回路が構築される。   According to the above configuration, a structurally simple circuit for supplying power to the cooling structure is constructed.

上記構成において、静電霧化装置は、前記冷却構造を作動させるための電力を出力する出力部と、前記電力を、前記出力部から前記冷却構造へ伝達するためのワイヤ構造と、を更に備えてもよい。前記冷却構造は、前記霧化電極に接続される第2冷却部と、前記冷却に起因して生じた熱を放出する第2放熱部と、を有する第2熱電素子を含んでもよい。前記第1導体領域は、前記第1放熱部に接続される第1放熱領域と、前記第2放熱部に接続される第2放熱領域と、を含んでもよい。前記ワイヤ構造は、前記出力部と前記第1放熱領域とに接続される第1ワイヤと、前記出力部と前記第2放熱領域とに接続される第2ワイヤと、を含んでもよい。   In the above configuration, the electrostatic atomizer further includes an output unit that outputs electric power for operating the cooling structure, and a wire structure for transmitting the electric power from the output unit to the cooling structure. May be. The cooling structure may include a second thermoelectric element having a second cooling unit connected to the atomizing electrode and a second heat radiating unit that releases heat generated due to the cooling. The first conductor region may include a first heat dissipation region connected to the first heat dissipation portion and a second heat dissipation region connected to the second heat dissipation portion. The wire structure may include a first wire connected to the output unit and the first heat dissipation region, and a second wire connected to the output unit and the second heat dissipation region.

上記構成によれば、第1放熱領域に伝達された熱エネルギは、第1ワイヤからも放出される。第2放熱領域に伝達された熱エネルギは、第2ワイヤからも放出される。したがって、静電霧化装置は、高い放熱効率の下で、帯電した微粒子水を生成することができる。   According to the above configuration, the thermal energy transmitted to the first heat radiation area is also released from the first wire. The thermal energy transmitted to the second heat radiation area is also released from the second wire. Therefore, the electrostatic atomizer can produce charged fine particle water under high heat dissipation efficiency.

本発明に係る静電霧化装置は、小型化、簡略化や放熱性の調整等を容易に達成できる点において有利である。   The electrostatic atomizer according to the present invention is advantageous in that it can easily achieve miniaturization, simplification, adjustment of heat dissipation, and the like.

第1実施形態の静電霧化装置の概念的なブロック図である。It is a notional block diagram of the electrostatic atomizer of a 1st embodiment. 第2実施形態の静電霧化装置の概略的な斜視図である。It is a schematic perspective view of the electrostatic atomizer of 2nd Embodiment. セルフアライメント効果を得るための半田位置の設計を表す概念図である。It is a conceptual diagram showing the design of the solder position for obtaining the self-alignment effect. 第3実施形態の静電霧化装置の概略的な斜視図である。It is a schematic perspective view of the electrostatic atomizer of 3rd Embodiment. 図4に示される静電霧化装置の電極棒の周りのプリント基板の概略的な拡大平面図である。It is a schematic enlarged plan view of the printed circuit board around the electrode rod of the electrostatic atomizer shown in FIG. 図4に示される静電霧化装置の概略的な拡大平面図である。FIG. 5 is a schematic enlarged plan view of the electrostatic atomizer shown in FIG. 4. 第4実施形態の静電霧化装置の概略的な断面図である。It is a schematic sectional drawing of the electrostatic atomizer of 4th Embodiment. 図6に示される静電霧化装置の電極棒が取り付けられる領域の周りにおけるプリント基板の概略的な拡大斜視図である。FIG. 7 is a schematic enlarged perspective view of a printed circuit board around a region to which an electrode rod of the electrostatic atomizer shown in FIG. 6 is attached. 第5実施形態の静電霧化装置の概略的な断面図である。It is a schematic sectional drawing of the electrostatic atomizer of 5th Embodiment. 図8に示される静電霧化装置のプリント基板に取り付けられる電極棒の概略的な斜視図である。It is a schematic perspective view of the electrode bar attached to the printed circuit board of the electrostatic atomizer shown by FIG. 第6実施形態の静電霧化装置の概略的な斜視図である。It is a schematic perspective view of the electrostatic atomizer of 6th Embodiment. 図10に示される静電霧化装置の拡大平面図である。It is an enlarged plan view of the electrostatic atomizer shown by FIG. 第7実施形態の静電霧化装置の概略的な斜視図である。It is a schematic perspective view of the electrostatic atomizer of 7th Embodiment. 図12に示される静電霧化装置の拡大平面図である。It is an enlarged plan view of the electrostatic atomizer shown by FIG. 第8実施形態の静電霧化装置の電力供給経路を表す概略的なブロック図である。It is a schematic block diagram showing the electric power supply path | route of the electrostatic atomizer of 8th Embodiment. 第9実施形態の静電霧化装置の概略的な展開斜視図である。It is a general | deployment perspective view of the electrostatic atomizer of 9th Embodiment. 図15Aに示される静電霧化装置の概略的な斜視図である。It is a schematic perspective view of the electrostatic atomizer shown by FIG. 15A. 図15Aに示される静電霧化装置の他の概略的な斜視図である。FIG. 15B is another schematic perspective view of the electrostatic atomizer shown in FIG. 15A. 第10実施形態の静電霧化装置の概略的な平面図である。It is a schematic plan view of the electrostatic atomizer of 10th Embodiment. 第11実施形態の静電霧化装置の概略的な展開斜視図である。It is a general | schematic expansion | deployment perspective view of the electrostatic atomizer of 11th Embodiment. 図17に示される静電霧化装置の保持枠によって保持された環状電極の概略的な斜視図である。It is a schematic perspective view of the annular electrode held by the holding frame of the electrostatic atomizer shown in FIG. 第12実施形態の静電霧化装置の概略的な展開斜視図である。It is a general | schematic expansion | deployment perspective view of the electrostatic atomizer of 12th Embodiment.

添付の図面を参照して、静電霧化装置に関する様々な実施形態が以下に説明される。静電霧化装置は、以下の説明によって、明確に理解可能である。「上」、「下」、「左」や「右」といった方向を表す用語は、単に、説明の明瞭化を目的とする。したがって、これらの用語は、限定的に解釈されるべきものではない。   Various embodiments relating to electrostatic atomizers are described below with reference to the accompanying drawings. The electrostatic atomizer can be clearly understood by the following description. The terms representing directions such as “up”, “down”, “left” and “right” are merely for the purpose of clarifying the explanation. Accordingly, these terms should not be construed as limiting.

<第1実施形態>
図1は、第1実施形態の静電霧化装置100の概念的なブロック図である。図1を参照して、静電霧化装置100が説明される。
<First Embodiment>
FIG. 1 is a conceptual block diagram of the electrostatic atomizer 100 of the first embodiment. With reference to FIG. 1, the electrostatic atomizer 100 is demonstrated.

静電霧化装置100は、霧化電極200と、冷却構造300と、基板400と、を備える。冷却構造300は、熱電素子310を含む。熱電素子310は、一般的に市販されるものであってもよい。本実施形態の原理は、熱電素子310の詳細な構造によっては何ら限定されない。   The electrostatic atomizer 100 includes an atomization electrode 200, a cooling structure 300, and a substrate 400. The cooling structure 300 includes a thermoelectric element 310. The thermoelectric element 310 may be generally commercially available. The principle of this embodiment is not limited at all by the detailed structure of the thermoelectric element 310.

熱電素子310は、冷却部311と放熱部312とを含む。冷却部311は、霧化電極200に接触してもよい。代替的に、冷却部311は、半田によって霧化電極200に接続されてもよい。冷却部311と霧化電極200との間での熱エネルギ及び電気エネルギの伝達が生ずるならば、冷却部311と霧化電極200との間の接続技術は、本実施形態の原理を何ら限定しない。本実施形態において、第1熱電素子は、熱電素子310によって例示される。第1冷却部は、冷却部311によって例示される。第1放熱部は、放熱部312によって例示される。   Thermoelectric element 310 includes a cooling unit 311 and a heat dissipation unit 312. The cooling unit 311 may contact the atomizing electrode 200. Alternatively, the cooling unit 311 may be connected to the atomizing electrode 200 by solder. If the transfer of thermal energy and electrical energy between the cooling unit 311 and the atomizing electrode 200 occurs, the connection technology between the cooling unit 311 and the atomizing electrode 200 does not limit the principle of this embodiment at all. . In the present embodiment, the first thermoelectric element is exemplified by the thermoelectric element 310. The first cooling unit is exemplified by the cooling unit 311. The first heat radiating portion is exemplified by the heat radiating portion 312.

熱電素子310が取り付けられる基板400は、導体領域410を含む。導体領域410は、放熱部312に接触してもよい。代替的に、導体領域410は、半田によって、放熱部312に接続されてもよい。導体領域410と放熱部312との間での熱エネルギ及び電気エネルギの伝達が生ずるならば、導体領域410と放熱部312との間の接続技術は、本実施形態の原理を何ら限定しない。本実施形態において、第1導体領域は、導体領域410によって例示される。   The substrate 400 to which the thermoelectric element 310 is attached includes a conductor region 410. The conductor region 410 may be in contact with the heat radiating part 312. Alternatively, the conductor region 410 may be connected to the heat radiating part 312 with solder. As long as thermal energy and electrical energy are transmitted between the conductor region 410 and the heat radiating unit 312, the connection technique between the conductor region 410 and the heat radiating unit 312 does not limit the principle of this embodiment. In the present embodiment, the first conductor region is exemplified by the conductor region 410.

熱電素子310は、導体領域410を通じて伝達された電力を受ける。この結果、冷却部311は、非常に低温になる。一方、放熱部312は、非常に高温になる。   Thermoelectric element 310 receives power transmitted through conductor region 410. As a result, the cooling unit 311 has a very low temperature. On the other hand, the heat radiation part 312 becomes very high temperature.

上述の如く、冷却部311は、霧化電極200に接続される。したがって、霧化電極200は、冷却部311によって冷却される。この結果、霧化電極200に結露が生ずる。結露の結果、霧化電極200に結露水が付着する。静電霧化装置100が霧化電極200を用いて、放電を生じさせると、帯電した微粒子水が生成される。放電を利用した微粒子水の生成技術として、既知の様々な技術が利用されてもよい。本実施形態の原理は、放電発生技術によっては何ら限定されない。   As described above, the cooling unit 311 is connected to the atomizing electrode 200. Therefore, the atomization electrode 200 is cooled by the cooling unit 311. As a result, condensation occurs on the atomizing electrode 200. As a result of the dew condensation, dew condensation water adheres to the atomizing electrode 200. When the electrostatic atomizer 100 generates discharge using the atomizing electrode 200, charged fine particle water is generated. Various known techniques may be used as a technique for generating particulate water using electric discharge. The principle of this embodiment is not limited at all by the discharge generation technique.

上述の如く、放熱部312は、導体領域410に接続される。放熱部312は、霧化電極200に対する冷却に起因して生じた熱を放出する。熱は、放熱部312から導体領域410へ伝達される。   As described above, the heat radiating portion 312 is connected to the conductor region 410. The heat radiating unit 312 releases heat generated due to cooling of the atomizing electrode 200. Heat is transferred from the heat radiating portion 312 to the conductor region 410.

導体領域410は、基板400の広い面積を占めてもよい。この場合、導体領域410は、効率的に放熱することができる。   The conductor region 410 may occupy a large area of the substrate 400. In this case, the conductor region 410 can efficiently dissipate heat.

<第2実施形態>
第1実施形態の静電霧化装置は、1つの熱電素子を備える。代替的に、静電霧化装置は、複数の熱電素子を備えてもよい。静電霧化装置に組み込まれる熱電素子の数は、静電霧化装置の原理を何ら限定しない。第2実施形態において、一対の熱電素子を有する静電霧化装置が説明される。尚、第2実施形態の静電霧化装置は、第1実施形態に関連して説明された静電霧化装置の設計原理に基づいて構築されている。
Second Embodiment
The electrostatic atomizer of 1st Embodiment is provided with one thermoelectric element. Alternatively, the electrostatic atomizer may comprise a plurality of thermoelectric elements. The number of thermoelectric elements incorporated in the electrostatic atomizer does not limit the principle of the electrostatic atomizer. In the second embodiment, an electrostatic atomizer having a pair of thermoelectric elements is described. In addition, the electrostatic atomizer of 2nd Embodiment is constructed | assembled based on the design principle of the electrostatic atomizer demonstrated in relation to 1st Embodiment.

図2は、第2実施形態の静電霧化装置100Aの概略的な斜視図である。図1及び図2を参照して、静電霧化装置100Aが説明される。   FIG. 2 is a schematic perspective view of the electrostatic atomizer 100A of the second embodiment. With reference to FIG.1 and FIG.2, 100 A of electrostatic atomizers are demonstrated.

静電霧化装置100Aは、電極棒200Aと、第1熱電素子320と、第2熱電素子330と、プリント基板400Aと、を備える。第1熱電素子320及び第2熱電素子330は、一般的に市販されるものであってもよい。本実施形態の原理は、第1熱電素子320及び第2熱電素子330の詳細な構造によっては何ら限定されない。第1熱電素子320及び第2熱電素子330の組は、図1を参照して説明された冷却構造300に対応する。   The electrostatic atomizer 100A includes an electrode rod 200A, a first thermoelectric element 320, a second thermoelectric element 330, and a printed board 400A. The first thermoelectric element 320 and the second thermoelectric element 330 may be generally commercially available. The principle of the present embodiment is not limited by the detailed structure of the first thermoelectric element 320 and the second thermoelectric element 330. The set of the first thermoelectric element 320 and the second thermoelectric element 330 corresponds to the cooling structure 300 described with reference to FIG.

第1熱電素子320は、第1冷却端321と第1放熱端322とを含む。第1冷却端321は、電極棒200Aに接触してもよい。代替的に、第1冷却端321は、半田によって電極棒200Aに接続されてもよい。第1冷却端321と電極棒200Aとの間での熱エネルギ及び電気エネルギの伝達が生ずるならば、第1冷却端321と電極棒200Aとの間の接続技術は、本実施形態の原理を何ら限定しない。第1熱電素子320は、図1を参照して説明された熱電素子310に対応する。第1冷却端321は、図1を参照して説明された冷却部311に対応する。第1放熱端322は、図1を参照して説明された放熱部312に対応する。   The first thermoelectric element 320 includes a first cooling end 321 and a first heat radiating end 322. The first cooling end 321 may contact the electrode rod 200A. Alternatively, the first cooling end 321 may be connected to the electrode bar 200A by solder. If the transfer of thermal energy and electrical energy between the first cooling end 321 and the electrode rod 200A occurs, the connection technique between the first cooling end 321 and the electrode rod 200A does not change the principle of this embodiment. Not limited. The first thermoelectric element 320 corresponds to the thermoelectric element 310 described with reference to FIG. The first cooling end 321 corresponds to the cooling unit 311 described with reference to FIG. The first heat radiating end 322 corresponds to the heat radiating part 312 described with reference to FIG.

第2熱電素子330は、第2冷却端331と第2放熱端332とを含む。第2冷却端331は、電極棒200Aに接触してもよい。代替的に、第2冷却端331は、半田によって電極棒200Aに接続されてもよい。第2冷却端331と電極棒200Aとの間での熱エネルギ及び電気エネルギの伝達が生ずるならば、第2冷却端331と電極棒200Aとの間の接続技術は、本実施形態の原理を何ら限定しない。本実施形態において、第2冷却部は、第2冷却端331によって例示される。第2放熱部は、第2放熱端332によって例示される。   The second thermoelectric element 330 includes a second cooling end 331 and a second heat radiating end 332. The second cooling end 331 may contact the electrode bar 200A. Alternatively, the second cooling end 331 may be connected to the electrode bar 200A by solder. If the transfer of thermal energy and electrical energy between the second cooling end 331 and the electrode rod 200A occurs, the connection technology between the second cooling end 331 and the electrode rod 200A does not change the principle of this embodiment. Not limited. In the present embodiment, the second cooling unit is exemplified by the second cooling end 331. The second heat radiating portion is exemplified by the second heat radiating end 332.

第1熱電素子320及び第2熱電素子330は、BiTe系のペルチエ素子であってもよい。第1熱電素子320及び第2熱電素子330のうち一方は、P型の熱電材料から形成されてもよい。第1熱電素子320及び第2熱電素子330のうち他方は、N型の熱電材料から形成されてもよい。   The first thermoelectric element 320 and the second thermoelectric element 330 may be BiTe Peltier elements. One of the first thermoelectric element 320 and the second thermoelectric element 330 may be formed of a P-type thermoelectric material. The other of the first thermoelectric element 320 and the second thermoelectric element 330 may be formed of an N-type thermoelectric material.

第1熱電素子320、第2熱電素子330及び電極棒200Aが取り付けられるプリント基板400Aは、上面420と、第1放熱領域430と、第2放熱領域440と、を含む。第1放熱領域430及び第2放熱領域440は、上面420に形成される。第1放熱領域430及び第2放熱領域440は、優れた熱伝導特性と優れた導電率とを有する材料から形成される。第1放熱領域430及び第2放熱領域440は、一般的なプリント基板の製造に用いられるプリント技術によって作成された薄膜層であってもよい。この場合、第1放熱領域430及び第2放熱領域440を形成する銅箔の面積、形状や厚みといった設計パラメータの変更によって、第1放熱領域430及び第2放熱領域440の放熱特性は、容易に且つ適切に調整される。したがって、第1放熱領域430及び第2放熱領域440の設計(面積、形状や厚さといったパラメータの設定)は、静電霧化装置100Aに要求される性能や他の要求事項に応じて調整されてもよい。尚、本実施形態の原理は、第1放熱領域430及び第2放熱領域440の形成技術によっては何ら限定されない。   The printed circuit board 400A to which the first thermoelectric element 320, the second thermoelectric element 330, and the electrode rod 200A are attached includes an upper surface 420, a first heat radiation area 430, and a second heat radiation area 440. The first heat radiation area 430 and the second heat radiation area 440 are formed on the upper surface 420. The first heat radiating region 430 and the second heat radiating region 440 are formed of a material having excellent heat conduction characteristics and excellent conductivity. The first heat radiation area 430 and the second heat radiation area 440 may be thin film layers created by a printing technique used for manufacturing a general printed circuit board. In this case, the heat dissipation characteristics of the first heat dissipation region 430 and the second heat dissipation region 440 can be easily achieved by changing design parameters such as the area, shape, and thickness of the copper foil that forms the first heat dissipation region 430 and the second heat dissipation region 440. And adjusted appropriately. Therefore, the design (setting parameters such as area, shape, and thickness) of the first heat dissipation region 430 and the second heat dissipation region 440 is adjusted according to the performance required for the electrostatic atomizer 100A and other requirements. May be. Note that the principle of the present embodiment is not limited at all by the formation technology of the first heat dissipation region 430 and the second heat dissipation region 440.

プリント基板400Aは、図1を参照して説明された基板400に対応する。第1放熱領域430及び第2放熱領域440の組は、図1を参照して説明された導体領域410に対応する。本実施形態において、主面は、上面420によって例示される。   The printed circuit board 400A corresponds to the circuit board 400 described with reference to FIG. The set of the first heat radiation area 430 and the second heat radiation area 440 corresponds to the conductor area 410 described with reference to FIG. In the present embodiment, the main surface is exemplified by the upper surface 420.

第1放熱領域430は、第1放熱端322に接触してもよい。代替的に、第1放熱領域430は、半田によって、第1放熱端322に接続されてもよい。第1放熱領域430と第1放熱端322との間での熱エネルギ及び電気エネルギの伝達が生ずるならば、第1放熱領域430と第1放熱端322との間の接続技術は、本実施形態の原理を何ら限定しない。   The first heat dissipation area 430 may contact the first heat dissipation end 322. Alternatively, the first heat dissipation region 430 may be connected to the first heat dissipation end 322 by solder. If the transmission of thermal energy and electrical energy between the first heat radiation region 430 and the first heat radiation end 322 occurs, the connection technique between the first heat radiation region 430 and the first heat radiation end 322 is the present embodiment. The principle of is not limited at all.

第2放熱領域440は、第2放熱端332に接触してもよい。代替的に、第2放熱領域440は、半田によって、第2放熱端332に接続されてもよい。第2放熱領域440と第2放熱端332との間での熱エネルギ及び電気エネルギの伝達が生ずるならば、第2放熱領域440と第2放熱端332との間の接続技術は、本実施形態の原理を何ら限定しない。   The second heat radiation region 440 may contact the second heat radiation end 332. Alternatively, the second heat radiation area 440 may be connected to the second heat radiation end 332 by solder. If transmission of thermal energy and electrical energy between the second heat radiation region 440 and the second heat radiation end 332 occurs, the connection technology between the second heat radiation region 440 and the second heat radiation end 332 is the present embodiment. The principle of is not limited at all.

本実施形態において、第1放熱領域430、第1熱電素子320、電極棒200A、第2熱電素子330及び第2放熱領域440は、第1熱電素子320及び第2熱電素子330の動作に利用される電力の供給するための回路を形成する。第1冷却端321及び第2冷却端331は、電力供給下で、非常に低温になる。一方、第1放熱端322及び第2放熱端332は、非常に高温になる。   In the present embodiment, the first heat dissipation area 430, the first thermoelectric element 320, the electrode rod 200A, the second thermoelectric element 330, and the second heat dissipation area 440 are used for the operation of the first thermoelectric element 320 and the second thermoelectric element 330. Forming a circuit for supplying power. The first cooling end 321 and the second cooling end 331 are very low temperature under power supply. On the other hand, the first heat radiating end 322 and the second heat radiating end 332 are very hot.

上述の如く、第1冷却端321及び第2冷却端331は、電極棒200Aに接続される。したがって、電極棒200Aは、第1冷却端321によって冷却される。この結果、電極棒200Aに結露が生ずる。結露の結果、電極棒200Aに結露水が付着する。静電霧化装置100Aが電極棒200Aを用いて、放電を生じさせると、帯電した微粒子水が生成される。放電を利用した微粒子水の生成技術として、既知の様々な技術が利用されてもよい。本実施形態の原理は、放電発生技術によっては何ら限定されない。電極棒200Aは、図1を参照して説明された霧化電極200に対応する。   As described above, the first cooling end 321 and the second cooling end 331 are connected to the electrode rod 200A. Accordingly, the electrode rod 200A is cooled by the first cooling end 321. As a result, condensation occurs on the electrode rod 200A. As a result of the dew condensation, dew condensation water adheres to the electrode rod 200A. When the electrostatic atomizer 100A generates discharge using the electrode rod 200A, charged fine particle water is generated. Various known techniques may be used as a technique for generating particulate water using electric discharge. The principle of this embodiment is not limited at all by the discharge generation technique. The electrode rod 200A corresponds to the atomizing electrode 200 described with reference to FIG.

上述の如く、第1放熱端322は、第1放熱領域430に接続される。第1放熱端322は、電極棒200Aに対する冷却に起因して生じた熱を放出する。熱は、第1放熱端322から第1放熱領域430へ伝達される。   As described above, the first heat radiating end 322 is connected to the first heat radiating region 430. The first heat radiating end 322 releases heat generated due to cooling of the electrode rod 200A. Heat is transferred from the first heat radiating end 322 to the first heat radiating region 430.

上述の如く、第2放熱端332は、第2放熱領域440に接続される。第2放熱端332は、電極棒200Aに対する冷却に起因して生じた熱を放出する。熱は、第2放熱端332から第2放熱領域440へ伝達される。   As described above, the second heat radiating end 332 is connected to the second heat radiating region 440. The second heat radiating end 332 releases heat generated due to the cooling of the electrode rod 200A. Heat is transferred from the second heat radiating end 332 to the second heat radiating region 440.

図2は、上面420に略直交する中心線CLを示す。電極棒200Aは、中心線CLに沿って上面420から延びる。本実施形態において、中心軸は、中心線CLによって例示される。尚、中心軸は、上面420に対して直角でなくともよい。中心軸と上面420との間の角度は、静電霧化装置の設計及び/又は静電霧化装置が組み込まれる様々な装置の設計に応じて適切に決定されてもよい。   FIG. 2 shows a center line CL that is substantially orthogonal to the top surface 420. The electrode rod 200A extends from the upper surface 420 along the center line CL. In the present embodiment, the center axis is exemplified by the center line CL. The central axis may not be perpendicular to the upper surface 420. The angle between the central axis and the top surface 420 may be appropriately determined depending on the design of the electrostatic atomizer and / or the design of the various devices in which the electrostatic atomizer is incorporated.

電極棒200Aは、基台210とロッド220とを含む。基台210は、上面420に据え付けられる。ロッド220は、基台210から中心線CLに沿って上方に延びる。基台210は、ロッド220よりも太いので、電極棒200Aは、プリント基板400Aに安定的に据え付けられる。電極棒200Aは、真鍮、アルミニウム、銅、タングステンやチタンといった金属材料から形成されてもよい。代替的に、電極棒200Aは、高い導電率を有する樹脂材料やカーボン材料といった材料から形成されてもよい。   The electrode rod 200 </ b> A includes a base 210 and a rod 220. The base 210 is installed on the upper surface 420. The rod 220 extends upward from the base 210 along the center line CL. Since the base 210 is thicker than the rod 220, the electrode bar 200A is stably installed on the printed circuit board 400A. The electrode rod 200A may be formed of a metal material such as brass, aluminum, copper, tungsten, or titanium. Alternatively, the electrode rod 200A may be formed of a material such as a resin material or a carbon material having high conductivity.

基台210は、上面420から中心線CLに沿って延びる周面211を含む。第1冷却端321及び第2冷却端331は、周面211に対向する。周面211が、第1冷却端321及び第2冷却端331に半田によって接続されるならば、周面211は、ニッケルやスズといった鍍金材料に覆われてもよい。この場合、基台210は、半田によって、第1冷却端321及び第2冷却端331に適切に接続される。代替的に、周面211は、金や白金といった良好な耐食特性を有する鍍金材料によって覆われてもよい。電極棒200Aの表面処理は、本実施形態の原理を何ら限定しない。   Base 210 includes a peripheral surface 211 extending from upper surface 420 along center line CL. The first cooling end 321 and the second cooling end 331 are opposed to the peripheral surface 211. If the peripheral surface 211 is connected to the first cooling end 321 and the second cooling end 331 by soldering, the peripheral surface 211 may be covered with a plating material such as nickel or tin. In this case, the base 210 is appropriately connected to the first cooling end 321 and the second cooling end 331 by solder. Alternatively, the peripheral surface 211 may be covered with a plating material having good corrosion resistance such as gold or platinum. The surface treatment of the electrode rod 200A does not limit the principle of this embodiment at all.

ロッド220は、基台210から上方に延びる胴部221と、胴部221の上端に形成された頭部222と、を含む。基台210は、第1冷却端321と第2冷却端331とによって挟まれるので、電極棒200Aは、効果的に冷却される。この結果、電極棒200Aに結露が生ずる。静電霧化装置100Aは、頭部222に強い電界を生じさせる。結露の結果、電極棒200Aに付着した結露水は、強い電界によって、頭部222に引き寄せられ、テイラーコーンを形成する。その後の放電によって、結露水は、帯電された微粒子水に変換される。   The rod 220 includes a body part 221 that extends upward from the base 210 and a head part 222 that is formed at the upper end of the body part 221. Since the base 210 is sandwiched between the first cooling end 321 and the second cooling end 331, the electrode bar 200A is effectively cooled. As a result, condensation occurs on the electrode rod 200A. The electrostatic atomizer 100 </ b> A generates a strong electric field at the head 222. As a result of the condensation, the condensed water adhering to the electrode rod 200A is attracted to the head portion 222 by a strong electric field to form a Taylor cone. Subsequent discharge converts the condensed water into charged fine particle water.

電極棒200Aは、プリント基板400Aに直接的に接続されるので、中心線CLに沿う方向の寸法(すなわち、厚さ寸法)は小さい。したがって、静電霧化装置100Aは、小型化され得る。   Since the electrode bar 200A is directly connected to the printed circuit board 400A, the dimension along the center line CL (that is, the thickness dimension) is small. Therefore, the electrostatic atomizer 100A can be miniaturized.

図2は、中心線CLに直交する直線ALを示す。直線ALは、上面420に沿って描かれている。図2に示される如く、第1放熱端322、第1冷却端321、電極棒200A、第2冷却端331及び第2放熱端332は、直線AL上に整列している。これらのうち第1放熱端322は、第2放熱端332から最も離れている。したがって、静電霧化装置100Aは、高い放熱効率の下で、帯電した微粒子水を生成することができる。   FIG. 2 shows a straight line AL orthogonal to the center line CL. The straight line AL is drawn along the upper surface 420. As shown in FIG. 2, the first heat radiating end 322, the first cooling end 321, the electrode rod 200 </ b> A, the second cooling end 331, and the second heat radiating end 332 are aligned on a straight line AL. Of these, the first heat radiating end 322 is farthest from the second heat radiating end 332. Therefore, the electrostatic atomizer 100A can generate charged fine particle water under high heat dissipation efficiency.

<第3実施形態>
基板に取り付けられる霧化電極の位置的な精度は、放電に影響を与える。霧化電極が、半田によって、基板に固定されるならば、セルフアライメント効果の下で霧化電極の位置が適切に調整され得る。セルフアライメント効果は、複数の半田付位置間での溶融した半田の表面張力のバランスによって得られる。第3実施形態において、セルフアライメント効果の下で適切に位置調整された霧化電極を有する静電霧化装置が説明される。
<Third Embodiment>
The positional accuracy of the atomizing electrode attached to the substrate affects the discharge. If the atomizing electrode is fixed to the substrate with solder, the position of the atomizing electrode can be adjusted appropriately under the self-alignment effect. The self-alignment effect is obtained by balancing the surface tension of the molten solder between a plurality of soldering positions. In 3rd Embodiment, the electrostatic atomizer which has the atomization electrode appropriately positioned under the self-alignment effect is described.

図3は、セルフアライメント効果を得るための半田位置の設計を表す概念図である。図2及び図3を参照してセルフアライメント効果を得るための半田位置に関する設計原理が説明される。   FIG. 3 is a conceptual diagram showing the design of a solder position for obtaining a self-alignment effect. The design principle regarding the solder position for obtaining the self-alignment effect will be described with reference to FIGS.

図3は、基板の表面SSと、表面SS内に描かれた仮想円VCと、仮想円VCの中心点CPと、を示す。仮想円VCによって囲まれた領域は、図2を参照して説明された電極棒200Aの配置領域として考えられてもよい。中心点CPは、上面420と中心線CLの交点として考えられてもよい。   FIG. 3 shows the surface SS of the substrate, the virtual circle VC drawn in the surface SS, and the center point CP of the virtual circle VC. The area surrounded by the virtual circle VC may be considered as the arrangement area of the electrode rod 200A described with reference to FIG. The center point CP may be considered as an intersection of the upper surface 420 and the center line CL.

図3は、仮想円VC上に均等に分配された6つの点P1〜P6を更に示す。6つの点P1〜P6は、半田接続される部位を意味する。尚、「均等」との用語は、数学的に精密な円弧の分割を意味していない。セルフアライメント効果が生ずるのに十分な精度の下で、6つの点P1〜P6が仮想円VC上に分配されていればよい。   FIG. 3 further shows six points P1 to P6 evenly distributed on the virtual circle VC. Six points P1 to P6 mean parts to be soldered. The term “equal” does not mean mathematically precise arc division. It is only necessary that the six points P1 to P6 are distributed on the virtual circle VC with sufficient accuracy for the self-alignment effect to occur.

6つの点P1〜P6のうちいくつかは、霧化電極、冷却構造及び基板間の接続に利用される接続点として選択されてもよい。残りの点は、霧化電極と基板との間の接続に利用される接続点として選択されてもよい。図2を参照して説明された静電霧化装置100Aのように、2つの熱電素子が利用されるならば、6つの点P1〜P6のうち2つが霧化電極、冷却構造及び基板間の接続に利用される接続点として選択される。残りの4つの点は、霧化電極と基板との間の接続に利用される接続点として選択される。   Some of the six points P1 to P6 may be selected as connection points used for connection between the atomizing electrode, the cooling structure, and the substrate. The remaining points may be selected as connection points utilized for the connection between the atomizing electrode and the substrate. If two thermoelectric elements are used as in the electrostatic atomizer 100A described with reference to FIG. 2, two of the six points P1 to P6 are between the atomization electrode, the cooling structure, and the substrate. It is selected as a connection point used for connection. The remaining four points are selected as connection points used for the connection between the atomization electrode and the substrate.

セルフアライメント効果を得るための接続点は、6つに限られない。接続点の数は、熱電素子の数、霧化電極と基板との間の接続強度に対する要求や他の設計事項に応じて適切に設定される。4つの接続点が利用されるならば、仮想円VCに内接する正方形の頂点が接続点として設定される。3つの接続点が利用されるならば、仮想円VCに内接する正三角形の頂点が接続点として設定される。すなわち、設計者は、接続点の数に対応する頂点数を有する正多角形を描き、正多角形の重心位置を霧化電極の中心軸の位置に設定し、且つ、頂点の位置を接続点として設定してもよい。   The number of connection points for obtaining the self-alignment effect is not limited to six. The number of connection points is appropriately set according to the number of thermoelectric elements, requirements for connection strength between the atomizing electrode and the substrate, and other design matters. If four connection points are used, a square vertex inscribed in the virtual circle VC is set as the connection point. If three connection points are used, the vertices of an equilateral triangle inscribed in the virtual circle VC are set as connection points. That is, the designer draws a regular polygon having the number of vertices corresponding to the number of connection points, sets the center of gravity of the regular polygon to the position of the central axis of the atomization electrode, and sets the position of the vertex to the connection point. May be set as

図4は、第3実施形態の静電霧化装置100Bの概略的な斜視図である。図1、図3及び図4を参照して、静電霧化装置100Bが説明される。第2実施形態及び第3実施形態の間で共通して用いられる符号は、当該共通の符号が付された要素が、第2実施形態と同一の機能を有することを意味する。したがって、第2実施形態の説明は、これらの要素に援用される。   FIG. 4 is a schematic perspective view of the electrostatic atomizer 100B of the third embodiment. The electrostatic atomizer 100B is demonstrated with reference to FIG.1, FIG3 and FIG.4. A symbol used in common between the second embodiment and the third embodiment means that an element to which the common symbol is attached has the same function as that of the second embodiment. Therefore, description of 2nd Embodiment is used for these elements.

第2実施形態と同様に、静電霧化装置100Bは、電極棒200Aと、第1熱電素子320と、第2熱電素子330と、を備える。静電霧化装置100Bは、プリント基板400Bを更に備える。プリント基板400Bは、図1を参照して説明された基板400に対応する。   Similar to the second embodiment, the electrostatic atomizer 100 </ b> B includes an electrode bar 200 </ b> A, a first thermoelectric element 320, and a second thermoelectric element 330. The electrostatic atomizer 100B further includes a printed circuit board 400B. The printed circuit board 400B corresponds to the circuit board 400 described with reference to FIG.

第2実施形態と同様に、プリント基板400Bは、上面420と、第1放熱領域430と、第2放熱領域440と、を含む。プリント基板400Bは、電極棒200Aから離間した第2導体領域(後述される)を更に備える。第2導体領域は、図3を参照して説明された設計原理にしたがって形成される。第2導体領域は、電極棒200Aとプリント基板400Bとの半田接続、第1熱電素子320、電極棒200A及びプリント基板400B間の半田接続並びに第2熱電素子330、電極棒200A及びプリント基板400B間の半田接続に利用されるので、第2導体領域は、電極棒200Aの周囲に形成される。   Similar to the second embodiment, the printed circuit board 400 </ b> B includes an upper surface 420, a first heat dissipation region 430, and a second heat dissipation region 440. The printed circuit board 400B further includes a second conductor region (described later) spaced from the electrode rod 200A. The second conductor region is formed according to the design principle described with reference to FIG. The second conductor region includes solder connection between the electrode bar 200A and the printed board 400B, solder connection between the first thermoelectric element 320, the electrode bar 200A and the printed board 400B, and between the second thermoelectric element 330, the electrode bar 200A and the printed board 400B. Therefore, the second conductor region is formed around the electrode rod 200A.

図5Aは、電極棒200Aの周りのプリント基板400Bの概略的な拡大平面図である。図5Bは、電極棒200A周りの静電霧化装置100Bの概略的な拡大平面図である。図3乃至図5Bを参照して、静電霧化装置100Bが更に説明される。   FIG. 5A is a schematic enlarged plan view of the printed circuit board 400B around the electrode rod 200A. FIG. 5B is a schematic enlarged plan view of the electrostatic atomizer 100B around the electrode rod 200A. The electrostatic atomizer 100B is further demonstrated with reference to FIG. 3 thru | or FIG. 5B.

プリント基板400Bは、4つの導体領域451〜454を備える。4つの導体領域451〜454は、上述の第2導体領域として用いられる。4つの導体領域451〜454それぞれは、第1放熱領域430及び第2放熱領域440から離間している。   The printed circuit board 400B includes four conductor regions 451 to 454. The four conductor regions 451 to 454 are used as the second conductor region described above. Each of the four conductor regions 451 to 454 is separated from the first heat dissipation region 430 and the second heat dissipation region 440.

図5Aは、仮想円VCを示す。仮想円VCは、電極棒200Aの配置領域を示す。4つの導体領域451〜454の位置は、仮想円VCに内接する正方形の頂点それぞれに略対応する。   FIG. 5A shows a virtual circle VC. A virtual circle VC indicates an arrangement area of the electrode rod 200A. The positions of the four conductor regions 451 to 454 substantially correspond to the vertices of the square inscribed in the virtual circle VC.

図5A及び図5Bは、XY座標を示す。「X軸方向」との用語は、電極棒200A、第1熱電素子320及び第2熱電素子330が整列する方向を意味する。「Y軸方向」との用語は、X軸に略直交する方向を意味する。   5A and 5B show XY coordinates. The term “X-axis direction” means a direction in which the electrode rod 200A, the first thermoelectric element 320, and the second thermoelectric element 330 are aligned. The term “Y-axis direction” means a direction substantially orthogonal to the X-axis.

導体領域451,452の組は、X軸方向に整列する。導体領域453,454の組は、Y軸方向に整列する。導体領域451,452それぞれにおいて溶融された半田の表面張力のバランスは、セルフアライメント効果の下で、電極棒200Aの位置をX軸方向に適切に調整する。導体領域453,454それぞれにおいて溶融された半田の表面張力のバランスは、セルフアライメント効果の下で、電極棒200Aの位置をY軸方向に適切に調整する。   A set of conductor regions 451 and 452 is aligned in the X-axis direction. A set of conductor regions 453 and 454 is aligned in the Y-axis direction. The balance of the surface tension of the melted solder in each of the conductor regions 451 and 452 appropriately adjusts the position of the electrode bar 200A in the X-axis direction under the self-alignment effect. The balance of the surface tension of the melted solder in each of the conductor regions 453 and 454 appropriately adjusts the position of the electrode bar 200A in the Y-axis direction under the self-alignment effect.

導体領域451は、電極棒200A、第1冷却端321及びプリント基板400Bの間の半田接続に利用される。導体領域452は、電極棒200A、第2冷却端331及びプリント基板400Bの間の半田接続に利用される。導体領域453,454の組は、電極棒200Aとプリント基板400Bとの間の接続に利用される。本実施形態において、第1接続部は、導体領域451によって例示される。第2接続部は、導体領域452によって例示される。   The conductor region 451 is used for solder connection among the electrode rod 200A, the first cooling end 321 and the printed circuit board 400B. The conductor region 452 is used for solder connection among the electrode rod 200A, the second cooling end 331, and the printed circuit board 400B. A set of conductor regions 453 and 454 is used for connection between the electrode bar 200A and the printed circuit board 400B. In the present embodiment, the first connection portion is exemplified by the conductor region 451. The second connection portion is exemplified by the conductor region 452.

<第4実施形態>
熱電素子は、霧化電極だけでなく、霧化電極の周囲の基板の領域をも冷却する。基板の冷却に利用されるエネルギは、霧化電極への冷却効率の悪化を意味する。第4実施形態において、霧化電極に対する冷却効率を向上させる技術が説明される。
<Fourth embodiment>
The thermoelectric element cools not only the atomizing electrode, but also the area of the substrate around the atomizing electrode. The energy used for cooling the substrate means deterioration of the cooling efficiency for the atomizing electrode. In 4th Embodiment, the technique which improves the cooling efficiency with respect to the atomization electrode is demonstrated.

図6は、第4実施形態の静電霧化装置100Cの概略的な断面図である。図6を参照して、静電霧化装置100Cが説明される。第3実施形態及び第4実施形態の間で共通して用いられる符号は、当該共通の符号が付された要素が、第3実施形態と同一の機能を有することを意味する。したがって、第3実施形態の説明は、これらの要素に援用される。   FIG. 6 is a schematic cross-sectional view of the electrostatic atomizer 100C of the fourth embodiment. With reference to FIG. 6, the electrostatic atomizer 100C will be described. The code used in common between the third embodiment and the fourth embodiment means that the element to which the common code is attached has the same function as that of the third embodiment. Therefore, description of 3rd Embodiment is used for these elements.

第3実施形態と同様に、静電霧化装置100Cは、電極棒200Aと、第1熱電素子320と、第2熱電素子330と、を備える。静電霧化装置100Cは、プリント基板400Cを更に備える。プリント基板400Cは、図1を参照して説明された基板400に対応する。   Similar to the third embodiment, the electrostatic atomizer 100 </ b> C includes an electrode rod 200 </ b> A, a first thermoelectric element 320, and a second thermoelectric element 330. The electrostatic atomizer 100C further includes a printed circuit board 400C. The printed circuit board 400C corresponds to the circuit board 400 described with reference to FIG.

図7は、電極棒200Aが取り付けられる領域の周りにおけるプリント基板400Cの概略的な拡大斜視図である。図6及び図7を参照して、静電霧化装置100Cが更に説明される。   FIG. 7 is a schematic enlarged perspective view of the printed circuit board 400C around a region where the electrode bar 200A is attached. The electrostatic atomizer 100C will be further described with reference to FIGS.

第3実施形態と同様に、プリント基板400Cは、上面420と、第1放熱領域430と、第2放熱領域440と、導体領域451〜454と、を含む。プリント基板400Cには、開口部460が形成される。電極棒200Aは、開口部460上に設置される。基台210は、開口部460を塞ぐ。   Similar to the third embodiment, the printed circuit board 400C includes an upper surface 420, a first heat radiation region 430, a second heat radiation region 440, and conductor regions 451 to 454. An opening 460 is formed in the printed circuit board 400C. The electrode rod 200 </ b> A is installed on the opening 460. The base 210 closes the opening 460.

プリント基板400Cに開口部460が形成されるので、プリント基板400Cの冷却のために第1熱電素子320及び第2熱電素子330が消費する電力は少なくなる。したがって、電極棒200Aは、効率的に冷却される。   Since the opening 460 is formed in the printed circuit board 400C, the power consumed by the first thermoelectric element 320 and the second thermoelectric element 330 for cooling the printed circuit board 400C is reduced. Therefore, the electrode rod 200A is efficiently cooled.

導体領域451〜454は、開口部460に隣接する。電極棒200A、第1熱電素子320及び第2熱電素子330の半田接続に利用された半田の一部は、開口部460内に現れることもある。開口部460内に現れた余剰の半田は、開口部460を介して除去されてもよい。余剰の半田が除去されるので、プリント基板400Cに対する電極棒200Aの取付精度は向上する。加えて、余剰の半田の落下によって引き起こされる様々な不具合は生じにくくなる。   The conductor regions 451 to 454 are adjacent to the opening 460. Part of the solder used for solder connection of the electrode rod 200 </ b> A, the first thermoelectric element 320, and the second thermoelectric element 330 may appear in the opening 460. Excess solder that appears in the opening 460 may be removed through the opening 460. Since excess solder is removed, the mounting accuracy of the electrode rod 200A with respect to the printed circuit board 400C is improved. In addition, various problems caused by dropping of excess solder are less likely to occur.

<第5実施形態>
基板に形成された開口部は、霧化電極の固定に利用されてもよい。第5実施形態において、開口部を利用した霧化電極の固定技術が説明される。
<Fifth Embodiment>
The opening formed in the substrate may be used for fixing the atomizing electrode. In the fifth embodiment, an atomizing electrode fixing technique using an opening will be described.

図8は、第5実施形態の静電霧化装置100Dの概略的な断面図である。図1及び図8を参照して、静電霧化装置100Dが説明される。第4実施形態及び第5実施形態の間で共通して用いられる符号は、当該共通の符号が付された要素が、第4実施形態と同一の機能を有することを意味する。したがって、第4実施形態の説明は、これらの要素に援用される。   FIG. 8 is a schematic cross-sectional view of the electrostatic atomizer 100D of the fifth embodiment. With reference to FIG.1 and FIG.8, electrostatic atomizer 100D is demonstrated. The code | symbol used in common between 4th Embodiment and 5th Embodiment means that the element to which the said common code | symbol was attached | subjected has the same function as 4th Embodiment. Therefore, description of 4th Embodiment is used for these elements.

第4実施形態と同様に、静電霧化装置100Dは、第1熱電素子320と、第2熱電素子330と、プリント基板400Cと、を備える。静電霧化装置100Dは、電極棒200Dを更に備える。電極棒200Dは、図1を参照して説明された霧化電極200に対応する。   Similarly to the fourth embodiment, the electrostatic atomizer 100D includes a first thermoelectric element 320, a second thermoelectric element 330, and a printed circuit board 400C. The electrostatic atomizer 100D further includes an electrode rod 200D. The electrode rod 200D corresponds to the atomizing electrode 200 described with reference to FIG.

図9は、プリント基板400Cに取り付けられる電極棒200Dの概略的な斜視図である。図8及び図9を参照して、電極棒200Dが説明される。   FIG. 9 is a schematic perspective view of an electrode bar 200D attached to the printed circuit board 400C. The electrode rod 200D will be described with reference to FIGS.

第4実施形態と同様に、電極棒200Dは、基台210とロッド220とを含む。電極棒200Dは、基台210から下方の突出する突出部230を更に含む。突出部230は、プリント基板400Cに形成された開口部460に挿入される。本実施形態において、挿入部は、突出部230によって例示される。   Similar to the fourth embodiment, the electrode rod 200 </ b> D includes a base 210 and a rod 220. The electrode rod 200 </ b> D further includes a protrusion 230 that protrudes downward from the base 210. The protrusion 230 is inserted into the opening 460 formed in the printed circuit board 400C. In the present embodiment, the insertion portion is exemplified by the protrusion 230.

突出部230の断面が開口部460と形状的に略一致するならば、電極棒200Dは、半田なしでプリント基板400Cに固定されてもよい。代替的に、本実施形態の原理は、第3実施形態に関連して説明された半田接続技術とともに利用されてもよい。突出部230が開口部460に挿入された後に、基台210が、プリント基板400C、第1熱電素子320及び第2熱電素子330に半田によって接続されるならば、電極棒200Dは、プリント基板400Cに強固に固定される。   If the cross section of the protrusion 230 substantially matches the shape of the opening 460, the electrode rod 200D may be fixed to the printed circuit board 400C without solder. Alternatively, the principles of this embodiment may be utilized with the solder connection technique described in connection with the third embodiment. If the base 210 is connected to the printed circuit board 400C, the first thermoelectric element 320, and the second thermoelectric element 330 by soldering after the protrusion 230 is inserted into the opening 460, the electrode bar 200D is connected to the printed circuit board 400C. It is firmly fixed to.

<第6実施形態>
熱エネルギは、高温領域から低温領域へ向かう。したがって、熱エネルギは、放熱部から冷却部へ流れやすい。放熱部から冷却部への熱エネルギの移動は、霧化電極に対する冷却効率を低下させることもある。第6実施形態において、放熱部から冷却部への熱エネルギの移動を低減させるための技術が説明される。
<Sixth Embodiment>
Thermal energy goes from the high temperature region to the low temperature region. Therefore, heat energy tends to flow from the heat radiating part to the cooling part. The movement of thermal energy from the heat radiating part to the cooling part may reduce the cooling efficiency for the atomizing electrode. In 6th Embodiment, the technique for reducing the movement of the thermal energy from a thermal radiation part to a cooling part is demonstrated.

図10は、第6実施形態の静電霧化装置100Eの概略的な斜視図である。図1及び図10を参照して、静電霧化装置100Eが説明される。第4実施形態及び第6実施形態の間で共通して用いられる符号は、当該共通の符号が付された要素が、第4実施形態と同一の機能を有することを意味する。したがって、第4実施形態の説明は、これらの要素に援用される。   FIG. 10 is a schematic perspective view of an electrostatic atomizer 100E according to the sixth embodiment. The electrostatic atomizer 100E is demonstrated with reference to FIG.1 and FIG.10. The code | symbol used in common between 4th Embodiment and 6th Embodiment means that the element to which the said common code | symbol was attached | subjected has the same function as 4th Embodiment. Therefore, description of 4th Embodiment is used for these elements.

第4実施形態と同様に、静電霧化装置100Eは、電極棒200Aと、第1熱電素子320と、第2熱電素子330と、を備える。静電霧化装置100Eは、プリント基板400Eを更に備える。プリント基板400Eは、図1を参照して説明された基板400に対応する。   Similarly to the fourth embodiment, the electrostatic atomizer 100E includes an electrode rod 200A, a first thermoelectric element 320, and a second thermoelectric element 330. The electrostatic atomizer 100E further includes a printed circuit board 400E. The printed circuit board 400E corresponds to the circuit board 400 described with reference to FIG.

図11は、電極棒200Aの周りにおける静電霧化装置100Eの拡大平面図である。図10及び図11を参照して、静電霧化装置100Eが更に説明される。   FIG. 11 is an enlarged plan view of the electrostatic atomizer 100E around the electrode rod 200A. The electrostatic atomizer 100E is further demonstrated with reference to FIG.10 and FIG.11.

第4実施形態と同様に、プリント基板400Eは、上面420と、第1放熱領域430と、第2放熱領域440と、導体領域451〜454と、を含む。プリント基板400Eには、第1開口領域471及び第2開口領域472が形成される。第1開口領域471は、第1冷却端321と第1放熱端322との間に形成される。第2開口領域472は、第2冷却端331と第2放熱端332との間に形成される。したがって、電極棒200Aが設置される領域は、第1開口領域471と第2開口領域472との間に挟まれる。   Similar to the fourth embodiment, the printed circuit board 400E includes an upper surface 420, a first heat dissipation region 430, a second heat dissipation region 440, and conductor regions 451 to 454. A first opening region 471 and a second opening region 472 are formed in the printed circuit board 400E. The first opening region 471 is formed between the first cooling end 321 and the first heat radiating end 322. The second opening region 472 is formed between the second cooling end 331 and the second heat radiating end 332. Therefore, the region where the electrode bar 200A is installed is sandwiched between the first opening region 471 and the second opening region 472.

第1熱電素子320は、第1開口領域471を跨ぐ。この結果、第1冷却端321は、電極棒200Aに近接する。第1放熱端322は、第1放熱領域430に接触する。第1冷却端321は、第3実施形態に関連して説明された如く、半田によって、導体領域451に固定される。同様に、第1放熱端322は、第1放熱領域430に、半田によって固定される。本実施形態において、開口領域は、第1開口領域471によって例示される。   The first thermoelectric element 320 straddles the first opening region 471. As a result, the first cooling end 321 is close to the electrode rod 200A. The first heat radiating end 322 contacts the first heat radiating region 430. As described in relation to the third embodiment, the first cooling end 321 is fixed to the conductor region 451 by solder. Similarly, the first heat radiating end 322 is fixed to the first heat radiating region 430 by solder. In the present embodiment, the opening area is exemplified by the first opening area 471.

第1開口領域471が存在するので、第1放熱端322からの放熱に起因する熱エネルギは、第1冷却端321に向かいにくくなる。したがって、第1冷却端321は、電極棒200Aを効率的に冷却することができる。   Since the first opening region 471 exists, the heat energy resulting from the heat radiation from the first heat radiating end 322 is less likely to go to the first cooling end 321. Therefore, the first cooling end 321 can efficiently cool the electrode rod 200A.

第2熱電素子330は、第2開口領域472を跨ぐ。この結果、第2冷却端331は、電極棒200Aに近接する。第2放熱端332は、第2放熱領域440に接触する。第2冷却端331は、第3実施形態に関連して説明された如く、半田によって、導体領域452に固定される。同様に、第2放熱端332は、第2放熱領域440に、半田によって固定される。   The second thermoelectric element 330 straddles the second opening region 472. As a result, the second cooling end 331 is close to the electrode rod 200A. The second heat radiating end 332 is in contact with the second heat radiating region 440. As described in relation to the third embodiment, the second cooling end 331 is fixed to the conductor region 452 by solder. Similarly, the second heat radiating end 332 is fixed to the second heat radiating region 440 with solder.

第2開口領域472が存在するので、第2放熱端332からの放熱に起因する熱エネルギは、第2冷却端331に向かいにくくなる。したがって、第2冷却端331は、電極棒200Aを効率的に冷却することができる。   Since the second opening region 472 exists, the thermal energy resulting from the heat radiation from the second heat radiating end 332 is less likely to go to the second cooling end 331. Therefore, the second cooling end 331 can efficiently cool the electrode rod 200A.

<第7実施形態>
導体領域は、高い熱伝導率を有するので、導体領域として利用される基板の領域は全体的に高温になりやすい。したがって、霧化電極が設置される領域は、導体領域として利用される領域から可能な限り熱的に隔離されることが好ましい。第7実施形態において、霧化電極が設置される領域を熱的に隔離するための技術が説明される。
<Seventh embodiment>
Since the conductor region has a high thermal conductivity, the region of the substrate used as the conductor region tends to be hot as a whole. Therefore, it is preferable that the region where the atomizing electrode is installed is thermally isolated as much as possible from the region used as the conductor region. In 7th Embodiment, the technique for thermally isolating the area | region where an atomization electrode is installed is demonstrated.

図12は、第7実施形態の静電霧化装置100Fの概略的な斜視図である。図1及び図12を参照して、静電霧化装置100Fが説明される。第6実施形態及び第7実施形態の間で共通して用いられる符号は、当該共通の符号が付された要素が、第6実施形態と同一の機能を有することを意味する。したがって、第6実施形態の説明は、これらの要素に援用される。   FIG. 12 is a schematic perspective view of the electrostatic atomizer 100F of the seventh embodiment. With reference to FIG.1 and FIG.12, the electrostatic atomizer 100F is demonstrated. The code | symbol used in common between 6th Embodiment and 7th Embodiment means that the element to which the said common code | symbol was attached | subjected has the same function as 6th Embodiment. Therefore, description of 6th Embodiment is used for these elements.

第6実施形態と同様に、静電霧化装置100Fは、電極棒200Aと、第1熱電素子320と、第2熱電素子330と、を備える。静電霧化装置100Fは、プリント基板400Fを更に備える。プリント基板400Fは、図1を参照して説明された基板400に対応する。   Similarly to the sixth embodiment, the electrostatic atomizer 100F includes an electrode bar 200A, a first thermoelectric element 320, and a second thermoelectric element 330. The electrostatic atomizer 100F further includes a printed circuit board 400F. The printed circuit board 400F corresponds to the circuit board 400 described with reference to FIG.

第6実施形態と同様に、プリント基板400Fは、上面420と、第1放熱領域430と、第2放熱領域440と、を含む。以下の説明において、上面420は、第1領域421、第2領域422及び第3領域423に区分される。「第1領域421」との用語は、第1放熱領域430及び第2放熱領域440が形成される広い領域を意味する。「第2領域422」との用語は、電極棒200Aが固定される島領域を意味する。「第3領域423」との用語は、第1領域421と第2領域422との間で延びる橋梁領域を意味する。   Similar to the sixth embodiment, the printed circuit board 400 </ b> F includes an upper surface 420, a first heat dissipation region 430, and a second heat dissipation region 440. In the following description, the upper surface 420 is divided into a first region 421, a second region 422, and a third region 423. The term “first region 421” means a wide region where the first heat dissipation region 430 and the second heat dissipation region 440 are formed. The term “second region 422” means an island region to which the electrode rod 200A is fixed. The term “third region 423” means a bridge region extending between the first region 421 and the second region 422.

図13は、第2領域422の周りにおける静電霧化装置100Fの拡大平面図である。図12及び図13を参照して、静電霧化装置100Fが更に説明される。   FIG. 13 is an enlarged plan view of the electrostatic atomizer 100 </ b> F around the second region 422. With reference to FIG.12 and FIG.13, the electrostatic atomizer 100F is further demonstrated.

第6実施形態と同様に、導体領域451〜454を含む。プリント基板400Fには、略C字型の開口領域470が形成される。開口領域470は、第2領域422を部分的に取り囲む。したがって、第2領域422は、第3領域423のみを介して、第1領域421に接続される。   Similar to the sixth embodiment, conductor regions 451 to 454 are included. A substantially C-shaped opening region 470 is formed in the printed circuit board 400F. The open area 470 partially surrounds the second area 422. Therefore, the second area 422 is connected to the first area 421 only through the third area 423.

第6実施形態と同様に、第1熱電素子320は、開口領域470を跨ぐ。したがって、第1放熱端322から第1冷却端321への熱の移動は生じにくくなる。   Similar to the sixth embodiment, the first thermoelectric element 320 straddles the opening region 470. Therefore, heat transfer from the first heat radiating end 322 to the first cooling end 321 is less likely to occur.

第6実施形態と同様に、第2熱電素子330は、開口領域470を跨ぐ。したがって、第2放熱端332から第2冷却端331への熱の移動は生じにくくなる。   Similar to the sixth embodiment, the second thermoelectric element 330 straddles the opening region 470. Therefore, heat transfer from the second heat radiating end 332 to the second cooling end 331 is less likely to occur.

第1放熱端322が放出した熱エネルギは、第1放熱領域430へ伝達される。第2放熱端332が放出した熱エネルギは、第2放熱領域440へ伝達される。第1放熱領域430及び第2放熱領域440は、高い熱伝導率を有するので、第1領域421は全体的に高い温度になる。   The thermal energy released by the first heat radiating end 322 is transmitted to the first heat radiating region 430. The thermal energy released by the second heat radiating end 332 is transmitted to the second heat radiating region 440. Since the first heat radiating region 430 and the second heat radiating region 440 have high thermal conductivity, the first region 421 generally has a high temperature.

上述の如く、第2領域422は、第3領域423のみを介して、第1領域421に接続される。したがって、第1領域421から第2領域422への熱の移動は、第3領域423を経由するルートに略制限される。したがって、第1冷却端321及び第2冷却端331は、電極棒200Aを効率的に冷却することができる。   As described above, the second region 422 is connected to the first region 421 only through the third region 423. Therefore, the heat transfer from the first region 421 to the second region 422 is substantially limited to the route via the third region 423. Therefore, the first cooling end 321 and the second cooling end 331 can efficiently cool the electrode rod 200A.

<第8実施形態>
一対の放熱領域が、冷却構造への電力供給に利用されることは、静電霧化装置の構造的な簡素化に貢献する。第8実施形態において、一対の放電領域を利用した冷却構造への電力供給技術が説明される。
<Eighth Embodiment>
Utilization of the pair of heat radiation areas for power supply to the cooling structure contributes to structural simplification of the electrostatic atomizer. In the eighth embodiment, a technique for supplying power to a cooling structure using a pair of discharge regions will be described.

図14は、第8実施形態の静電霧化装置100Gの電力供給経路を表す概略的なブロック図である。図14を参照して、静電霧化装置100Gが説明される。第2実施形態及び第8実施形態の間で共通して用いられる符号は、当該共通の符号が付された要素が、第2実施形態と同一の機能を有することを意味する。したがって、第2実施形態の説明は、これらの要素に援用される。   FIG. 14 is a schematic block diagram showing a power supply path of the electrostatic atomizer 100G of the eighth embodiment. The electrostatic atomizer 100G is demonstrated with reference to FIG. The code used in common between the second embodiment and the eighth embodiment means that the element to which the common code is attached has the same function as that of the second embodiment. Therefore, description of 2nd Embodiment is used for these elements.

第2実施形態と同様に、静電霧化装置100Gは、電極棒200Aと、プリント基板400Aと、を備える。静電霧化装置100Gは、冷却構造300Gと、制御部500と、を更に備える。冷却構造300Gは、第1熱電素子320と、第2熱電素子330と、を含む。   Similar to the second embodiment, the electrostatic atomizer 100G includes an electrode bar 200A and a printed circuit board 400A. The electrostatic atomizer 100G further includes a cooling structure 300G and a controller 500. The cooling structure 300 </ b> G includes a first thermoelectric element 320 and a second thermoelectric element 330.

制御部500は、冷却構造300Gの適切な動作のために調整された電流を出力する。制御部500は、電極棒200A及び/又は冷却構造300Gの温度を検出するセンサを備えてもよい。制御部500は、センサからの出力に応じて、電流の大きさを調整する調整部を備えてもよい。本実施形態において、出力部は、制御部500によって例示される。電力は、制御部500から出力される電流によって例示される。   The controller 500 outputs a current adjusted for proper operation of the cooling structure 300G. The controller 500 may include a sensor that detects the temperature of the electrode rod 200A and / or the cooling structure 300G. The control unit 500 may include an adjustment unit that adjusts the magnitude of the current in accordance with the output from the sensor. In the present embodiment, the output unit is exemplified by the control unit 500. The power is exemplified by a current output from the control unit 500.

制御部500は、プリント基板400Aと一体的に形成されたプリント回路であってもよい。代替的に、制御部500は、プリント基板400Aとは別異に設けられた基板上に形成された制御回路であってもよい。本実施形態の原理は、制御部500の構造によっては何ら限定されない。   The control unit 500 may be a printed circuit formed integrally with the printed circuit board 400A. Alternatively, the control unit 500 may be a control circuit formed on a board provided separately from the printed board 400A. The principle of this embodiment is not limited at all by the structure of the control unit 500.

適切に調整された電流は、第1放熱領域430へ出力される。第1放熱領域430は、導電性の材料から形成されるので、電流は、第1放熱領域430に接触する第1放熱端322に入力される。第1冷却端321は、電極棒200Aに接続されるので、電流は、その後、第1冷却端321から電極棒200Aへ出力される。   The appropriately adjusted current is output to the first heat radiation area 430. Since the first heat dissipation region 430 is formed of a conductive material, current is input to the first heat dissipation end 322 that contacts the first heat dissipation region 430. Since the first cooling end 321 is connected to the electrode bar 200A, the current is then output from the first cooling end 321 to the electrode bar 200A.

電極棒200Aは、第2冷却端331に接続される。したがって、電流は、電極棒200Aから第2冷却端331へ入力される。第2放熱端332は、導電性材料から形成された第2放熱領域440に接続されるので、電流は、その後、第2放熱端332から放熱領域440へ出力される。最終的に、電流は、第2放熱領域440から制御部500へ戻る。   The electrode rod 200 </ b> A is connected to the second cooling end 331. Therefore, the current is input from the electrode rod 200 </ b> A to the second cooling end 331. Since the second heat radiating end 332 is connected to the second heat radiating region 440 made of a conductive material, the current is then output from the second heat radiating end 332 to the heat radiating region 440. Finally, the current returns from the second heat radiation area 440 to the control unit 500.

上述の如く、冷却構造300Gへ電力を供給するための回路は、容易に形成される。図14に示される電流の向きは、本実施形態の原理を何ら限定しない。電流の向きは、図14に示される方向とは反対であってもよい。本実施形態の原理は、第2実施形態乃至第7実施形態に関連して説明された様々な静電霧化装置に適用可能である。   As described above, a circuit for supplying power to the cooling structure 300G is easily formed. The direction of current shown in FIG. 14 does not limit the principle of this embodiment at all. The direction of the current may be opposite to the direction shown in FIG. The principle of the present embodiment is applicable to various electrostatic atomizers described in relation to the second to seventh embodiments.

<第9実施形態>
第8実施形態の原理は、一般的に入手可能なコネクタの使用を許容する。第9実施形態において、一般的に入手可能なコネクタを備える静電霧化装置が説明される。
<Ninth Embodiment>
The principle of the eighth embodiment allows the use of commonly available connectors. In the ninth embodiment, an electrostatic atomizer including a generally available connector is described.

図15Aは、第9実施形態の静電霧化装置100Hの概略的な展開斜視図である。図15Bは、静電霧化装置100Hの概略的な斜視図である。図15Cは、静電霧化装置100Hの他の概略的な斜視図である。図15A乃至図15Cを参照して、静電霧化装置100Hが説明される。第7実施形態及び第9実施形態の間で共通して用いられる符号は、当該共通の符号が付された要素が、第7実施形態と同一の機能を有することを意味する。したがって、第7実施形態の説明は、これらの要素に援用される。   FIG. 15A is a schematic exploded perspective view of the electrostatic atomizer 100H of the ninth embodiment. FIG. 15B is a schematic perspective view of the electrostatic atomizer 100H. FIG. 15C is another schematic perspective view of the electrostatic atomizer 100H. With reference to FIG. 15A thru | or FIG. 15C, the electrostatic atomizer 100H is demonstrated. The code | symbol used in common between 7th Embodiment and 9th Embodiment means that the element to which the said common code | symbol was attached | subjected has the same function as 7th Embodiment. Therefore, description of 7th Embodiment is used for these elements.

第7実施形態と同様に、静電霧化装置100Hは、電極棒200Aと、第1熱電素子320と、第2熱電素子330と、プリント基板400Fと、を備える。静電霧化装置100Hは、コネクタ600を更に備える。コネクタ600は、市販されるものであってもよい。   Similarly to the seventh embodiment, the electrostatic atomizer 100H includes an electrode rod 200A, a first thermoelectric element 320, a second thermoelectric element 330, and a printed board 400F. The electrostatic atomizer 100H further includes a connector 600. Connector 600 may be commercially available.

コネクタ600は、第1端子610と、第2端子620と、第1端子610及び第2端子620を保持する保持ブロック630と、を備える。保持ブロック630が、第1放熱領域430と第2放熱領域440との間の絶縁領域を跨ぐように、コネクタ600は、プリント基板400F上に設置される。この結果、第1端子610は、第1放熱領域430に接続される。第2端子620は、第2放熱領域440に接続される。   The connector 600 includes a first terminal 610, a second terminal 620, and a holding block 630 that holds the first terminal 610 and the second terminal 620. The connector 600 is installed on the printed circuit board 400F so that the holding block 630 straddles the insulating region between the first heat radiation region 430 and the second heat radiation region 440. As a result, the first terminal 610 is connected to the first heat dissipation region 430. The second terminal 620 is connected to the second heat dissipation area 440.

第1放熱領域430及び第2放熱領域440は、一般的な印刷技術の下で形成可能である。したがって、コネクタ600の形状(例えば、第1端子610及び第2端子620の位置)に併せて、第1放熱領域430及び第2放熱領域440が設計されてもよい。   The first heat radiation area 430 and the second heat radiation area 440 can be formed under a general printing technique. Therefore, the first heat radiation area 430 and the second heat radiation area 440 may be designed in accordance with the shape of the connector 600 (for example, the positions of the first terminal 610 and the second terminal 620).

コネクタ600は、制御回路(図示せず(第8実施形態に関連して説明された制御部))に接続されてもよい。この結果、第1熱電素子320及び第2熱電素子330を動作させるための電力は、コネクタ600を通じて、適切に供給される。   The connector 600 may be connected to a control circuit (not shown (a control unit described in connection with the eighth embodiment)). As a result, power for operating the first thermoelectric element 320 and the second thermoelectric element 330 is appropriately supplied through the connector 600.

<第10実施形態>
第9実施形態に関連して説明されたコネクタに代えて、ワイヤ構造が制御部と冷却構造との間の電気的な接続に利用されてもよい。ワイヤ構造が、高い熱伝導率を有するワイヤを用いて形成されるならば、ワイヤ構造も、静電霧化装置の高い放熱効率に寄与することになる。第10実施形態において、ワイヤ構造を備える静電霧化装置が説明される。
<Tenth Embodiment>
Instead of the connector described in relation to the ninth embodiment, a wire structure may be used for electrical connection between the control unit and the cooling structure. If the wire structure is formed using a wire having a high thermal conductivity, the wire structure will also contribute to the high heat dissipation efficiency of the electrostatic atomizer. In the tenth embodiment, an electrostatic atomizer having a wire structure is described.

図16は、第10実施形態の静電霧化装置100Iの概略的な平面図である。図16を参照して、静電霧化装置100Iが説明される。第7実施形態及び第10実施形態の間で共通して用いられる符号は、当該共通の符号が付された要素が、第7実施形態と同一の機能を有することを意味する。したがって、第7実施形態の説明は、これらの要素に援用される。   FIG. 16 is a schematic plan view of an electrostatic atomizer 100I according to the tenth embodiment. The electrostatic atomizer 100I is demonstrated with reference to FIG. The code | symbol used in common between 7th Embodiment and 10th Embodiment means that the element to which the said common code | symbol was attached | subjected has the same function as 7th Embodiment. Therefore, description of 7th Embodiment is used for these elements.

第7実施形態と同様に、静電霧化装置100Iは、電極棒200Aと、第1熱電素子320と、第2熱電素子330と、プリント基板400Fと、を備える。静電霧化装置100Iは、ワイヤ構造650を更に備える。ワイヤ構造650は、第1ワイヤ651と第2ワイヤ652とを含む。第1ワイヤ651は、第1放熱領域430に接続される。第2ワイヤ652は、第2放熱領域440に接続される。   Similarly to the seventh embodiment, the electrostatic atomizer 100I includes an electrode rod 200A, a first thermoelectric element 320, a second thermoelectric element 330, and a printed board 400F. The electrostatic atomizer 100I further includes a wire structure 650. The wire structure 650 includes a first wire 651 and a second wire 652. The first wire 651 is connected to the first heat dissipation area 430. The second wire 652 is connected to the second heat radiation area 440.

第1ワイヤ651は、第1放熱領域430に接続される接続端653と、接続端653とは反対側の基端部654と、を含む。基端部654は、プリント基板400Fから離れた位置に存在してもよい。第1ワイヤ651は、基端部654において、制御回路(図示せず(第8実施形態に関連して説明された制御部))に接続されてもよい。第1ワイヤ651が、高い熱伝導率を有する線材(例えば、銅線)であるならば、第1放熱領域430だけでなく第1ワイヤ651からも熱エネルギは放出される。   The first wire 651 includes a connection end 653 connected to the first heat dissipation region 430 and a base end 654 on the opposite side of the connection end 653. The base end portion 654 may exist at a position away from the printed circuit board 400F. The first wire 651 may be connected to a control circuit (not shown (a control unit described in relation to the eighth embodiment)) at the base end 654. If the first wire 651 is a wire having a high thermal conductivity (for example, a copper wire), thermal energy is released not only from the first heat radiation area 430 but also from the first wire 651.

第2ワイヤ652は、第2放熱領域440に接続される接続端655と、接続端655とは反対側の基端部656と、を含む。基端部656は、プリント基板400Fから離れた位置に存在してもよい。第2ワイヤ652は、基端部656において、上述の制御回路に接続されてもよい。第2ワイヤ652が、高い熱伝導率を有する線材(例えば、銅線)であるならば、第2放熱領域440だけでなく第2ワイヤ652からも熱エネルギは放出される。   The second wire 652 includes a connection end 655 connected to the second heat dissipation region 440 and a base end 656 on the opposite side of the connection end 655. The base end portion 656 may exist at a position away from the printed circuit board 400F. The second wire 652 may be connected to the control circuit described above at the base end 656. If the second wire 652 is a wire having a high thermal conductivity (for example, a copper wire), heat energy is released not only from the second heat radiation region 440 but also from the second wire 652.

ワイヤ構造650は、第1熱電素子320及び第2熱電素子330への電力供給の役割だけでなく、第1熱電素子320及び第2熱電素子330からの熱の空中放出の役割も担うことができる。したがって、静電霧化装置100Iは、高い放熱効率の下で、帯電した微粒子水を生成することができる。   The wire structure 650 may serve not only to supply power to the first thermoelectric element 320 and the second thermoelectric element 330 but also to release heat from the first thermoelectric element 320 and the second thermoelectric element 330 in the air. . Therefore, the electrostatic atomizer 100I can generate charged particulate water under high heat dissipation efficiency.

<第11実施形態>
帯電した微粒子水は、霧化電極の先端部に集中した電界に起因して生じた放電現象の下で生成される。霧化電極の先端部に電界を集中させるために、霧化電極に対向して、環状電極が配置されることもある。霧化電極が、環状電極に対して同軸に配置されるならば、微粒子水の生成に適した放電が、霧化電極と環状電極との間に発生する。第11実施形態において、霧化電極と環状電極との間の同軸配置を可能にする技術が説明される。尚、「同軸」との用語は、霧化電極の中心軸と環状電極の中心との間の完全な一致を意味しない。「同軸」との用語は、霧化電極と環状電極との間で、霧化電極を中心とした略均等な放電を得るのに十分に、霧化電極の中心軸と環状電極の中心とが近接している状態を意味する。
<Eleventh embodiment>
The charged fine particle water is generated under a discharge phenomenon caused by an electric field concentrated on the tip of the atomizing electrode. In order to concentrate the electric field on the tip of the atomizing electrode, an annular electrode may be arranged opposite the atomizing electrode. If the atomizing electrode is arranged coaxially with respect to the annular electrode, a discharge suitable for the generation of particulate water is generated between the atomizing electrode and the annular electrode. In the eleventh embodiment, a technique for enabling a coaxial arrangement between the atomizing electrode and the annular electrode is described. It should be noted that the term “coaxial” does not mean a perfect match between the central axis of the atomizing electrode and the center of the annular electrode. The term “coaxial” means that the central axis of the atomizing electrode and the center of the annular electrode are sufficient between the atomizing electrode and the annular electrode to obtain a substantially uniform discharge centered on the atomizing electrode. It means the state of being close.

図17は、第11実施形態の静電霧化装置100Jの概略的な展開斜視図である。図17を参照して、静電霧化装置100Jが説明される。第9実施形態及び第11実施形態の間で共通して用いられる符号は、当該共通の符号が付された要素が、第9実施形態と同一の機能を有することを意味する。したがって、第9実施形態の説明は、これらの要素に援用される。   FIG. 17 is a schematic exploded perspective view of the electrostatic atomizer 100J of the eleventh embodiment. With reference to FIG. 17, the electrostatic atomizer 100J is demonstrated. The code | symbol used in common between 9th Embodiment and 11th Embodiment means that the element to which the said common code | symbol was attached | subjected has the same function as 9th Embodiment. Therefore, description of 9th Embodiment is used for these elements.

第9実施形態と同様に、静電霧化装置100Jは、電極棒200Aと、第1熱電素子320と、第2熱電素子330と、コネクタ600と、を備える。静電霧化装置100Jは、プリント基板400Jと、保持枠700と、環状電極800と、を更に備える。   Similarly to the ninth embodiment, the electrostatic atomizer 100J includes an electrode bar 200A, a first thermoelectric element 320, a second thermoelectric element 330, and a connector 600. The electrostatic atomizer 100J further includes a printed circuit board 400J, a holding frame 700, and an annular electrode 800.

第9実施形態と同様に、プリント基板400Jは、第1放熱領域430と第2放熱領域440とを含む。プリント基板400Jには、略C字型の開口領域470が形成されている。   Similar to the ninth embodiment, the printed circuit board 400 </ b> J includes a first heat dissipation region 430 and a second heat dissipation region 440. A substantially C-shaped opening region 470 is formed in the printed circuit board 400J.

開口領域470に加えて、プリント基板400Jには、4つの取付穴475〜478が形成されている。取付穴475〜478は、プリント基板400J上への保持枠700の取付に用いられる。   In addition to the opening region 470, four mounting holes 475 to 478 are formed in the printed circuit board 400J. The mounting holes 475 to 478 are used for mounting the holding frame 700 on the printed circuit board 400J.

保持枠700は、環状電極800を保持する枠部710と、枠部710から下方に突出する4つのボス715〜718と、を備える。ボス715は、取付穴475に挿入される。ボス716は、取付穴476に挿入される。ボス717は、取付穴477に挿入される。ボス718は、取付穴478に挿入される。したがって、ボス715〜718と一体的に形成された枠部710は、プリント基板400J上の所定の位置に位置決めされる。本実施形態において、保持構造は、保持枠700によって例示される。保持部は、枠部710によって例示される。位置決定部は、ボス715〜718によって例示される。尚、保持構造は、ボスと取付穴との嵌合構造に限定されない。保持構造は、環状の電極を基板上の所定位置に位置決めすることができる様々な構造を有してもよい。例えば、基板が凸部を有するならば、保持構造は、凸部に相補的な凹部を有してもよい。   The holding frame 700 includes a frame portion 710 that holds the annular electrode 800, and four bosses 715 to 718 that protrude downward from the frame portion 710. The boss 715 is inserted into the mounting hole 475. The boss 716 is inserted into the mounting hole 476. The boss 717 is inserted into the mounting hole 477. The boss 718 is inserted into the mounting hole 478. Therefore, the frame portion 710 formed integrally with the bosses 715 to 718 is positioned at a predetermined position on the printed circuit board 400J. In the present embodiment, the holding structure is exemplified by the holding frame 700. The holding part is exemplified by a frame part 710. The position determining unit is exemplified by bosses 715 to 718. The holding structure is not limited to the fitting structure between the boss and the mounting hole. The holding structure may have various structures that can position the annular electrode at a predetermined position on the substrate. For example, if the substrate has a convex portion, the holding structure may have a concave portion complementary to the convex portion.

図18は、保持枠700によって保持された環状電極800の概略的な斜視図である。図17及び図18を参照して、静電霧化装置100Jが更に説明される。   FIG. 18 is a schematic perspective view of the annular electrode 800 held by the holding frame 700. With reference to FIG.17 and FIG.18, the electrostatic atomizer 100J is further demonstrated.

環状電極800は、中心線CL1を中心に螺旋状に巻回された環状部810と、環状部810から延び、枠部710によって保持される保持線820と、を含む。図17には、電極棒200Aの中心線CLが示されている。ボス715〜718が、取付穴475〜478にそれぞれ挿入されると、中心線CL1は、中心線CLに一致する。若しくは、中心線CL1は、中心線CLに近接した位置に配置される。すなわち、取付穴475〜478へのボス715〜718の挿入によって、環状電極800と電極棒200Aとの同軸構造が形成されることになる。   The annular electrode 800 includes an annular portion 810 spirally wound around the center line CL <b> 1, and a holding line 820 that extends from the annular portion 810 and is held by the frame portion 710. FIG. 17 shows the center line CL of the electrode rod 200A. When the bosses 715 to 718 are inserted into the mounting holes 475 to 478, the center line CL1 coincides with the center line CL. Alternatively, the center line CL1 is arranged at a position close to the center line CL. That is, the coaxial structure of the annular electrode 800 and the electrode rod 200A is formed by inserting the bosses 715-718 into the mounting holes 475-478.

静電霧化装置100Jは、保持線820を通じて、環状電極800に高い電圧を印加する。この結果、環状部810と電極棒200Aとの間に、高い電位差が引き起こされる。高い電位差に起因して生じた放電によって、電極棒200Aの上端に集まる結露水は、帯電した微粒子水になる。   The electrostatic atomizer 100J applies a high voltage to the annular electrode 800 through the holding wire 820. As a result, a high potential difference is caused between the annular portion 810 and the electrode rod 200A. The condensed water that collects at the upper end of the electrode rod 200A due to the discharge generated due to the high potential difference becomes charged fine particle water.

<第12実施形態>
導体領域中に開口部が形成されるならば、熱電素子から放出された熱エネルギは、開口部を通じて、空気中に排出され得る。第12実施形態において、導体領域中に形成された開口部を有する静電霧化装置が説明される。
<Twelfth embodiment>
If an opening is formed in the conductor region, the thermal energy released from the thermoelectric element can be discharged into the air through the opening. In the twelfth embodiment, an electrostatic atomizer having an opening formed in a conductor region is described.

図19は、第12実施形態の静電霧化装置100Kの概略的な展開斜視図である。図1及び図19を参照して、静電霧化装置100Kが説明される。第7実施形態及び第12実施形態の間で共通して用いられる符号は、当該共通の符号が付された要素が、第7実施形態と同一の機能を有することを意味する。したがって、第7実施形態の説明は、これらの要素に援用される。   FIG. 19 is a schematic exploded perspective view of the electrostatic atomizer 100K of the twelfth embodiment. With reference to FIG.1 and FIG.19, the electrostatic atomizer 100K is demonstrated. The code | symbol used in common between 7th Embodiment and 12th Embodiment means that the element to which the said common code | symbol was attached | subjected has the same function as 7th Embodiment. Therefore, description of 7th Embodiment is used for these elements.

第7実施形態と同様に、静電霧化装置100Kは、電極棒200Aと、第1熱電素子320と、第2熱電素子330と、を備える。静電霧化装置100Kは、プリント基板400Kを更に備える。プリント基板400Kには、略C字型の開口領域470が形成されている。   Similar to the seventh embodiment, the electrostatic atomizer 100 </ b> K includes an electrode bar 200 </ b> A, a first thermoelectric element 320, and a second thermoelectric element 330. The electrostatic atomizer 100K further includes a printed circuit board 400K. A substantially C-shaped opening region 470 is formed in the printed circuit board 400K.

プリント基板400Kは、第1放熱領域430Kと第2放熱領域440Kとを含む。第1放熱領域430Kは、第1熱電素子320から放出された熱エネルギの放散の役割を担う。第2放熱領域440Kは、第2熱電素子330から放出された熱エネルギの放散の役割を担う。プリント基板400Kは、図1を参照して説明された基板400に対応する。第1放熱領域430K及び第2放熱領域440Kは、図1を参照して説明された導体領域410に対応する。   The printed circuit board 400K includes a first heat dissipation area 430K and a second heat dissipation area 440K. The first heat radiation area 430K plays a role of radiating the thermal energy emitted from the first thermoelectric element 320. The second heat radiating region 440K plays a role of radiating heat energy released from the second thermoelectric element 330. The printed circuit board 400K corresponds to the circuit board 400 described with reference to FIG. The first heat radiation area 430K and the second heat radiation area 440K correspond to the conductor area 410 described with reference to FIG.

プリント基板400Kには、複数の放熱穴480が形成される。複数の放熱穴480の一部は、第1放熱領域430Kに形成される。残りの放熱穴480は、第2放熱領域440Kに形成される。第1放熱領域430K及び第2放熱領域440Kに対応して放熱穴480が形成されるので、熱は、第1放熱領域430K及び第2放熱領域440Kから空気中へ放出されやすくなる。したがって、静電霧化装置100Kは、高い放熱効率の下で、帯電した微粒子水を生成することができる。   A plurality of heat radiation holes 480 are formed in the printed circuit board 400K. A part of the plurality of heat dissipation holes 480 is formed in the first heat dissipation region 430K. The remaining heat radiation holes 480 are formed in the second heat radiation region 440K. Since the heat radiation holes 480 are formed corresponding to the first heat radiation area 430K and the second heat radiation area 440K, heat is easily released from the first heat radiation area 430K and the second heat radiation area 440K into the air. Therefore, the electrostatic atomizer 100K can generate charged fine particle water under high heat dissipation efficiency.

上述の様々な実施形態の原理は、静電霧化装置の用途に応じて、組み合わされてもよい。当業者は、上述の実施形態の開示に基づいて、様々な装置を構築可能である。例えば、放熱を促すためのリブやフィンの形成といった追加も、上述の実施形態の原理内で容易に行われる。   The principles of the various embodiments described above may be combined depending on the application of the electrostatic atomizer. Those skilled in the art can construct various apparatuses based on the disclosure of the above-described embodiment. For example, the addition of ribs and fins for promoting heat dissipation can be easily performed within the principle of the above-described embodiment.

本実施形態の原理は、放電を利用して、脱臭や殺菌といった有益な効果を生じさせる装置に好適に利用される。   The principle of the present embodiment is suitably used for an apparatus that produces a beneficial effect such as deodorization or sterilization using discharge.

100〜100K・・・・・・・・・・・静電霧化装置
200・・・・・・・・・・・・・・・・霧化電極
200A,200D・・・・・・・・・・電極棒
211・・・・・・・・・・・・・・・・周面
230・・・・・・・・・・・・・・・・突出部
300,300G・・・・・・・・・・・冷却構造
311・・・・・・・・・・・・・・・・冷却部
312・・・・・・・・・・・・・・・・放熱部
310・・・・・・・・・・・・・・・・熱電素子
320・・・・・・・・・・・・・・・・第1熱電素子
321・・・・・・・・・・・・・・・・第1冷却端
322・・・・・・・・・・・・・・・・第1放熱端
330・・・・・・・・・・・・・・・・第2熱電素子
331・・・・・・・・・・・・・・・・第2冷却端
332・・・・・・・・・・・・・・・・第2放熱端
400・・・・・・・・・・・・・・・・基板
410・・・・・・・・・・・・・・・・導体領域
420・・・・・・・・・・・・・・・・上面
430,430K・・・・・・・・・・・第1放熱領域
440,440K・・・・・・・・・・・第2放熱領域
451〜454・・・・・・・・・・・・導体領域
460・・・・・・・・・・・・・・・・開口部
470・・・・・・・・・・・・・・・・開口領域
471・・・・・・・・・・・・・・・・第1開口領域
472・・・・・・・・・・・・・・・・第2開口領域
500・・・・・・・・・・・・・・・・制御部
600・・・・・・・・・・・・・・・・コネクタ
650・・・・・・・・・・・・・・・・ワイヤ構造
651・・・・・・・・・・・・・・・・第1ワイヤ
652・・・・・・・・・・・・・・・・第2ワイヤ
700・・・・・・・・・・・・・・・・保持枠
710・・・・・・・・・・・・・・・・枠部
715〜718・・・・・・・・・・・・ボス
800・・・・・・・・・・・・・・・・環状電極
AL・・・・・・・・・・・・・・・・・直線
CL・・・・・・・・・・・・・・・・・中心線
100 to 100K ··········· electrostatic atomizer 200 ··············. ······································································································・ ・ ・ ・ Cooling structure 311 ・ ・ ・ ・ ・ ・ ・ ・ ・ ・ ・ Cooling unit 312 ・ ・ ・ ・ ・ ・ ・ ・ ・ ・ ・ Heat dissipation unit 310 ... thermoelectric element 320 ... 1st thermoelectric element 321 ... ... 1st cooling end 322 ... 1st thermal radiation end 330 ... 2nd thermoelectric element 331・ ・ ・ ・ ・ ・ ・ ・ ・ ・ ・ Second cooling end 332 ··································································· 2 Region 420 ··········································································· First heat dissipation region 440, 440K・ Second heat radiation area 451 to 454... Conductor area 460... ... Opening area 471 ... 1st opening area 472 ... 2nd Opening area 500 ... Control part 600 ... Connector 650 ... .... Wire structure 651 ... ... 1st wire 652 ... 2nd wire 700 ... Holding frame 710 ...・ ・ ・ ・ ・ ・ ・ ・ ・ ・ ・ Frame parts 715 to 718 ・ ・ ・ ・ ・ ・ ・ ・ ・ ・ ・ Boss 800 ・ ・ ・ ・ ・ ・ ・ ・ ・ ・ ・ Annular electrode AL・ ・ ・ ・ ・ ・ ・ ・ ・ ・ ・ ・ Line CL ・ ・ ・ ・ ・ ・ ・ ・ ・ ・ ・ Center line

Claims (12)

帯電した微粒子水を放電下で生成する霧化電極と、
前記霧化電極を冷却し、前記霧化電極に結露を生じさせる冷却構造と、
前記冷却構造が取り付けられる基板と、を備え、
前記冷却構造は、前記霧化電極に接続される第1冷却部と、前記霧化電極に対する冷却に起因して生じた熱を放出する第1放熱部と、を有する第1熱電素子を含み、
前記基板は、前記第1放熱部に電気的に接続される第1導体領域を含むことを特徴とする静電霧化装置。
An atomizing electrode that generates charged particulate water under discharge;
A cooling structure that cools the atomizing electrode and causes condensation on the atomizing electrode;
A substrate to which the cooling structure is attached,
The cooling structure includes a first thermoelectric element having a first cooling part connected to the atomizing electrode, and a first heat radiating part for releasing heat generated due to cooling of the atomizing electrode,
The electrostatic atomizer as claimed in claim 1, wherein the substrate includes a first conductor region electrically connected to the first heat radiating portion.
前記基板は、前記第1導体領域が形成される主面を含み、
前記霧化電極は、前記主面と交差する中心軸に沿って延びる電極棒であり、
前記電極棒は、前記主面から前記中心軸に沿って延びる周面を含み、
前記第1冷却部は、前記周面に対向することを特徴とする請求項1に記載の静電霧化装置。
The substrate includes a main surface on which the first conductor region is formed,
The atomizing electrode is an electrode bar extending along a central axis intersecting the main surface,
The electrode rod includes a peripheral surface extending from the main surface along the central axis,
The electrostatic atomizer according to claim 1, wherein the first cooling unit faces the peripheral surface.
前記冷却構造は、前記霧化電極に接続される第2冷却部と、前記冷却に起因して生じた熱を放出する第2放熱部と、を有する第2熱電素子を含み、
前記第1放熱部、前記第1冷却部、前記第2冷却部及び前記第2放熱部は、前記中心軸と交差し、且つ、前記主面に沿って延びる直線上に整列することを特徴とする請求項2に記載の静電霧化装置。
The cooling structure includes a second thermoelectric element having a second cooling part connected to the atomizing electrode and a second heat radiating part for releasing heat generated due to the cooling,
The first heat radiating portion, the first cooling portion, the second cooling portion, and the second heat radiating portion are aligned on a straight line that intersects the central axis and extends along the main surface. The electrostatic atomizer of Claim 2 to do.
前記霧化電極に対向する環状電極と、
前記環状電極を保持する保持部と、前記保持部を前記基板上の所定位置において位置決めする位置決定部と、を有する保持構造と、を更に備え、
前記基板は、前記第1導体領域が形成される主面を含み、
前記霧化電極は、前記主面と交差する中心軸に沿って延びる電極棒であり、
前記所定位置において、前記環状電極は、前記中心軸と同軸に配置されることを特徴とする請求項1に記載の静電霧化装置。
An annular electrode facing the atomizing electrode;
A holding structure having a holding portion for holding the annular electrode, and a position determining portion for positioning the holding portion at a predetermined position on the substrate,
The substrate includes a main surface on which the first conductor region is formed,
The atomizing electrode is an electrode bar extending along a central axis intersecting the main surface,
The electrostatic atomizer according to claim 1, wherein the annular electrode is arranged coaxially with the central axis at the predetermined position.
前記第1熱電素子は、前記第1冷却部と前記第1放熱部との間において前記基板に形成された開口領域を跨ぐことを特徴とする請求項1乃至4のいずれか1項に記載の静電霧化装置。   The said 1st thermoelectric element straddles the opening area | region formed in the said board | substrate between the said 1st cooling part and the said 1st thermal radiation part, The Claim 1 characterized by the above-mentioned. Electrostatic atomizer. 前記開口領域は、前記霧化電極を部分的に取り囲むことを特徴とする請求項5に記載の静電霧化装置。   The electrostatic atomizer according to claim 5, wherein the opening region partially surrounds the atomizing electrode. 前記基板は、前記第1導体領域が形成される主面を含み、
前記霧化電極は、前記基板に形成された開口部に挿入される挿入部を含むことを特徴とする請求項1に記載の静電霧化装置。
The substrate includes a main surface on which the first conductor region is formed,
The electrostatic atomizer according to claim 1, wherein the atomizing electrode includes an insertion portion that is inserted into an opening formed in the substrate.
前記基板は、前記第1導体領域から離間した第2導体領域を含み、
前記第1冷却部は、前記第2導体領域に接続されることを特徴とする請求項1又は2に記載の静電霧化装置。
The substrate includes a second conductor region spaced from the first conductor region;
The electrostatic atomizer according to claim 1, wherein the first cooling unit is connected to the second conductor region.
前記冷却構造は、前記霧化電極に接続される第2冷却部と、前記冷却に起因して生じた熱を放出する第2放熱部と、を有する第2熱電素子を含み、
前記第2導体領域は、前記第1冷却部に半田によって接続される第1接続部と、前記第2冷却部に半田によって接続される第2接続部と、を含み、
前記第1接続部及び前記第2接続部は、前記霧化電極と前記冷却構造との間でセルフアライメント効果を生じさせるように配置されることを特徴とする請求項8に記載の静電霧化装置。
The cooling structure includes a second thermoelectric element having a second cooling part connected to the atomizing electrode and a second heat radiating part for releasing heat generated due to the cooling,
The second conductor region includes a first connection portion connected to the first cooling portion by solder, and a second connection portion connected to the second cooling portion by solder,
The electrostatic mist according to claim 8, wherein the first connection part and the second connection part are arranged to generate a self-alignment effect between the atomization electrode and the cooling structure. Device.
前記霧化電極は、前記基板に形成された開口部上に配置されることを特徴とする請求項9に記載の静電霧化装置。   The electrostatic atomizer according to claim 9, wherein the atomizing electrode is disposed on an opening formed in the substrate. 前記冷却構造を作動させるための電力を出力する出力部と、
前記電力を、前記出力部から前記冷却構造へ伝達するためのコネクタと、を更に備え、
前記冷却構造は、前記霧化電極に接続される第2冷却部と、前記冷却に起因して生じた熱を放出する第2放熱部と、を有する第2熱電素子を含み、
前記第1導体領域は、前記第1放熱部に接続される第1放熱領域と、前記第2放熱部に接続される第2放熱領域と、を含み、
前記コネクタは、前記第1放熱領域と前記第2放熱領域とに接続されることを特徴とする請求項1又は2に記載の静電霧化装置。
An output unit for outputting electric power for operating the cooling structure;
A connector for transmitting the electric power from the output unit to the cooling structure;
The cooling structure includes a second thermoelectric element having a second cooling part connected to the atomizing electrode and a second heat radiating part for releasing heat generated due to the cooling,
The first conductor region includes a first heat dissipation region connected to the first heat dissipation portion, and a second heat dissipation region connected to the second heat dissipation portion,
The electrostatic atomizer according to claim 1, wherein the connector is connected to the first heat radiation area and the second heat radiation area.
前記冷却構造を作動させるための電力を出力する出力部と、
前記電力を、前記出力部から前記冷却構造へ伝達するためのワイヤ構造と、を更に備え、
前記冷却構造は、前記霧化電極に接続される第2冷却部と、前記冷却に起因して生じた熱を放出する第2放熱部と、を有する第2熱電素子を含み、
前記第1導体領域は、前記第1放熱部に接続される第1放熱領域と、前記第2放熱部に接続される第2放熱領域と、を含み、
前記ワイヤ構造は、前記出力部と前記第1放熱領域とに接続される第1ワイヤと、前記出力部と前記第2放熱領域とに接続される第2ワイヤと、を含むことを特徴とする請求項1又は2に記載の静電霧化装置。
An output unit for outputting electric power for operating the cooling structure;
A wire structure for transmitting the electric power from the output unit to the cooling structure;
The cooling structure includes a second thermoelectric element having a second cooling part connected to the atomizing electrode and a second heat radiating part for releasing heat generated due to the cooling,
The first conductor region includes a first heat dissipation region connected to the first heat dissipation portion, and a second heat dissipation region connected to the second heat dissipation portion,
The wire structure includes a first wire connected to the output unit and the first heat dissipation region, and a second wire connected to the output unit and the second heat dissipation region. The electrostatic atomizer of Claim 1 or 2.
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