JP2015135519A - Optically variable security device and method - Google Patents

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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To provide an optically variable security device.SOLUTION: Provided is a security device comprising at least first and second superposed optically variable effect generating structures (3-5, 3'-5'). Each of the structures has a surface relief microstructure. The second optically variable effect generating structure is viewable through the first structure.

Description

本発明は、セキュリティ・デバイス及びそのようなセキュリティ・デバイスを製造する方法に関する。このようなセキュリティ・デバイスは、証券(documents)、前払式証票(tokens of value)及びその他の物品のセキュリティを保護するために用いられる。   The present invention relates to a security device and a method for manufacturing such a security device. Such security devices are used to protect the security of documents, tokens of value, and other items.

慣例的に、このような証券が金融取引において用いられており、銀行券、小切手、債券、トラベラーズチェック、及びバウチャーの形態をとる。より最近では、安全な証券及びセキュリティ・デバイスそれ自体を用いて商品及び/又はサービスに信頼性を付与している。セキュリティ・デバイスは、ソフトウエア、娯楽メディア、高価値の消費財、及び日用消費財(fast moving consumer goods)などの商品に付随する包装、ラベル、及び証明書に適用されている。   Traditionally, such securities are used in financial transactions and take the form of banknotes, checks, bonds, traveler's checks, and vouchers. More recently, secure securities and security devices themselves have been used to provide confidence in goods and / or services. Security devices are applied to packaging, labels, and certificates associated with commodities such as software, entertainment media, high value consumer goods, and fast moving consumer goods.

現代的な応用でも従来からある応用でも、本質的な問題は依然として同じであり、一般人にも容易に認識でき、偽造に対して安全な認証手段を提供するということである。光学的可変デバイスの使用が、これらの基準を満たす特に効果的な方法であることが見出された。さらに、セキュリティ・デバイスの作製に関わる技術の範囲が広ければ広いほど、偽造がしにくくなるということが一般に認められている。熱的に活性化される転写構造(例えば、ホット・ホイル)又は(圧力を加えて適用される)ラベル・デバイスとして機能させることを意図した、多数の回折光学的可変識別デバイス(DOVID)は、その製造のために光物理学、材料科学、化学、エンボス加工、変換、そして多くの場合、印刷技術における専門的な知識を必要とする。   In both modern and traditional applications, the essential problem remains the same: it is easily recognized by the general public and provides a secure means of counterfeiting. The use of optically variable devices has been found to be a particularly effective way to meet these criteria. Furthermore, it is generally accepted that the wider the range of technologies involved in the production of security devices, the harder it is to forge. A number of diffractive optically variable identification devices (DOVIDs) intended to function as thermally activated transfer structures (eg hot foils) or label devices (applied under pressure) are: Its manufacture requires specialized knowledge in photophysics, materials science, chemistry, embossing, transformation, and often printing technology.

DOVIDをセキュリティ・デバイスとして用いることは近年ますます拡がっており、したがって、その基礎をなす構成部分の技術/科学は、偽造者であろうものにとってますますアクセス可能となっている。これは特には、攻撃が組織犯罪として行われる場合である。これに対して、ホログラフィック産業では、次第に、その再現に特殊機器の非常に大きな設備投資と厳しい生産/製造管理を必要とする、ますますより複雑で公然の、秘密の、及び機械読み取り可能な特徴をDOVIDに含めるようにまでなっている。   The use of DOVID as a security device has become increasingly widespread in recent years, and thus the underlying component technology / science is increasingly accessible to those who may be counterfeiters. This is especially the case when the attack is carried out as an organized crime. In contrast, the holographic industry increasingly requires increasingly large capital investments and strict production / manufacturing controls for special equipment to reproduce, increasingly complex, open, secret and machine readable Features are included in the DOVID.

本発明の第1様態によれば、セキュリティ・デバイスは少なくとも第1及び第2の重ね合わせた光学的可変効果発生構造を含み、各構造は表面レリーフ・ミクロ構造を有し、該第2の光学的可変効果発生構造は該第1の構造を通して見ることができる。   According to a first aspect of the invention, the security device includes at least first and second superimposed optical variable effect generating structures, each structure having a surface relief microstructure, the second optical The variable effect generating structure can be seen through the first structure.

本発明の第2様態によれば、セキュリティ・デバイスを製造する方法は、各構造が表面レリーフ・ミクロ構造を有する、少なくとも第1及び第2の重ね合わせた光学的可変効果発生構造を設けることを含み、それにより該第2の光学的可変効果発生構造は該第1の構造を通して見ることができる。   According to a second aspect of the invention, a method of manufacturing a security device comprises providing at least first and second superimposed optical variable effect generating structures, each structure having a surface relief microstructure. So that the second optical variable effect generating structure can be seen through the first structure.

容易に認証可能であるが偽造することが非常に難しい、新しいタイプのセキュリティ・デバイスが考案された。これは、その又はそれぞれの下にある構造が、1つ又は複数の上にある構造を通して見ることができるよう構成された2つ(以上)の重ね合わせた光学的可変効果発生構造を設けることを伴う。   A new type of security device has been devised that can be easily authenticated but very difficult to counterfeit. This is to provide two (or more) superimposed optically variable effect generating structures configured so that the structure underneath or each of them can be viewed through one or more underlying structures. Accompany.

もっとも、積層した体積ホログラムが、重ね合わせた層の数によって決まる幾つかの波長で再生される複合構造を作製する目的で、従来技術、例えば、ヨーロッパ特許第576173号明細書及び米国特許第5606433号明細書において公知である。具体的に、これが必要とされるのは、体積ホログラムがBragg反射によって機能し、それゆえ、特定の色の波長及び入射角の入射光を再生するだけであるからである。   However, the prior art, for example, European Patent No. 576173 and US Pat. No. 5,606,433, is intended to produce a composite structure in which the laminated volume hologram is reproduced at several wavelengths determined by the number of layers superimposed. Known in the specification. Specifically, this is required because volume holograms function by Bragg reflection and therefore only regenerate incident light of a specific color wavelength and angle of incidence.

本発明は、DOVID中に存在する回折又はホログラフィック画像の視覚的な精巧さ、セキュリティ及び差別化を高める。   The present invention enhances the visual sophistication, security and differentiation of diffractive or holographic images present in DOVID.

現在、安全なOVDの製造には、ますます複雑化するマーケット需要と、ローエンドな作成技術(例えば、低スペックのドット・マトリックス及び干渉マスキング法)を用いて偽造者よりも一歩先を行かなければならないという二重の重圧が存在している。その結果、作成プロバイダーは、一次ミクロ構造のマスタリング段階で、いくつかの相補的な作成技術を組み合わせるか(最もよく用いられるのは、ドット・マトリックス画像を古典的な3D又は2D/3Dホログラムに重ねるものである)、あるいはまた、異なる技術を用いて生成した画像成分を機械的に再結合して最終的な複合画像を構築することに、限定された努力を払ってきた。   Currently, safe OVD production must be one step ahead of counterfeiters using increasingly complex market demands and low-end production techniques (eg, low-spec dot matrix and interference masking methods). There is a double pressure of not becoming. As a result, the creation provider combines several complementary creation techniques at the mastering stage of the primary microstructure (most commonly used to overlay the dot-matrix image on a classic 3D or 2D / 3D hologram Alternatively, limited efforts have been made to mechanically recombine image components generated using different techniques to construct the final composite image.

本発明は、画像発生的又は機械読み取り可能であることができる2つ以上の別々に配向した光学的可変ミクロ構造(OVM)を単一の膜アセンブリに結合する新しいデバイス及び方法を提供する。基本的に、この方法は、2つ以上の光学的/干渉計的に結合していないミクロ構造サブアセンブリを重ね合わすか又は積層することを伴う。   The present invention provides new devices and methods for combining two or more separately oriented optically variable microstructures (OVMs) that can be image-generating or machine-readable into a single film assembly. Basically, this method involves superposing or laminating two or more optical / interferometric uncoupled microstructure subassemblies.

好ましい例では、第1のOVMレリーフ(OVM1)を画定する一番上の又は第1のOVMサブアセンブリは、反射増強層でしっかりと被覆されており、これは次のいずれかの形態をとることができる:
1)(実質的に脱金属化されている実質的領域若しくは透明な窓を備えた)不連続反射金属コーティング、又は
2)厚さを最適化したHRI材料(例えば、ZnS、TiO2)の連続透明コーティング。
In a preferred example, the top or first OVM subassembly that defines the first OVM relief (OVM1) is tightly coated with a reflection enhancing layer, which takes one of the following forms: Can:
1) a discontinuous reflective metal coating (with a substantially demetallated substantial area or transparent window), or 2 ) a continuous thickness-optimized HRI material (eg ZnS, TiO 2 ) Transparent coating.

下方のOVMサブアセンブリは、選択的に脱金属化することができる(又は、反射HRI材料を備えた)反射不透明層又は金属で被覆された第2のOVMレリーフ(OVM2)を画定する。   The lower OVM subassembly defines a reflective Opaque layer or metal-coated second OVM relief (OVM2) that can be selectively demetalized (or with a reflective HRI material).

提案されるDOVIDの所望の外観は、そのDOVIDが1つの複雑な単一金属化OVMであるようなものであり、このOVMのミクロ構造は、2つの別々の作成プロセスを重ね合わせることによって生成されるようであることに注意すべきである。作成プロセスは、DOVIDが単に互いに積層された2つの別々のミクロ構造層から構成されているとは見えないように選ぶべきである。   The desired appearance of the proposed DOVID is such that the DOVID is one complex single metallized OVM, and this OVM microstructure is generated by superimposing two separate creation processes. It should be noted that it seems. The creation process should be chosen so that it does not appear that the DOVID is simply composed of two separate microstructured layers laminated together.

今日まで、ホログラフィック産業では、主要な作成プロバイダーのそれぞれが、画像を生成する光学的可変ミクロ構造(OVM)を製造するのに利用できる、限られた数の作成技術の1つに専門化する傾向があった。このような作成技術の例としては、古典的な二段階レインボー・ホログラフィー、ドット・マトリックス・インターフェロメトリー、リソグラフィック・インターフェロメトリー、及びe−ビーム・リソグラフィーがある。   To date, in the holographic industry, each of the major production providers specializes in one of the limited number of production techniques available to produce optically variable microstructures (OVM) that produce images. There was a trend. Examples of such fabrication techniques include classic two-step rainbow holography, dot matrix interferometry, lithographic interferometry, and e-beam lithography.

2つの明確に異なる作成技術、例えば、e−ビーム・リソグラフィーと二段階レインボー・ホログラフィーを用いてOVM1とOVM2を作製することが好ましい。   It is preferred to make OVM1 and OVM2 using two distinctly different fabrication techniques, such as e-beam lithography and two-step rainbow holography.

更なる実施態様では、光学的ミクロ構造の1つが体積Bragg平面として存在し、したがって、関連する光学的可変層は体積ホログラムとして機能する。体積ホログラムの例は、ヨーロッパ特許第516173号明細書及び同第5606433号明細書に見出すことができる。物理的には、このミクロ構造は、局所的に屈折率が変化した(増強又は低減された)平面領域の周期的分布として存在し、各層がその層を通して伝播する光の一部を散乱させる。ある特定の波長(例えば、オリジナルの記録波長又はそれに近い波長)及び入射角(オリジナルの参照ビーム記録角度又はそれに近い角度)の光がこの層を通って伝播すると、その場合、各平面から散乱/反射される部分振幅のすべてが同位相になり、建設的に干渉する。このことはBragg効果として知られている。   In a further embodiment, one of the optical microstructures exists as a volume Bragg plane, and thus the associated optical variable layer functions as a volume hologram. Examples of volume holograms can be found in EP 516173 and US Pat. No. 5,606,433. Physically, this microstructure exists as a periodic distribution of planar regions with locally altered (increased or reduced) refractive index, with each layer scattering some of the light propagating through that layer. When light of a certain wavelength (eg, at or near the original recording wavelength) and incident angle (at or near the original reference beam recording angle) propagates through this layer, then it is scattered / scattered from each plane. All of the reflected partial amplitudes are in phase and interfere constructively. This is known as the Bragg effect.

ミクロ構造は体積的かつ多平面的な性質のものであるから、反射強化コーティングの必要(又は利益)がないということは言うまでもない。しかしながら、通例、体積ホログラムから得られた画像が、基材によって後方散乱された光と競合しなくてもよいようにすることを確実にするため、基材に接着されることになる体積ホログラムの側は暗色の不透明膜(典型的には黒)で被覆される。もっとも当然ながら、不透明な着色剤を接着剤又は接着層に加えてもよい。フォトポリマー層及びそれに関連したPET支持層の厚さ(例えば、デュポンのOmnidex(登録商標)材料の場合、それぞれ15μm及び50μm)のため、複合アセンブリ(OVM1+OVM2)は、必然的にホット・スタンプ・デバイス又は熱的ロールオン・デバイスとしてではなく、ダイカットラベルとして適用されることが理解されるであろう。   It goes without saying that the microstructure is of a volume and multi-planar nature so that there is no need (or benefit) of a reflection enhancing coating. However, to ensure that the image obtained from the volume hologram does not have to compete with the light backscattered by the substrate, typically the volume hologram that will be adhered to the substrate. The side is covered with a dark opaque film (typically black). Of course, opaque colorants may be added to the adhesive or adhesive layer. Due to the thickness of the photopolymer layer and the associated PET support layer (eg 15 μm and 50 μm for DuPont's Omnidex® material, respectively), the composite assembly (OVM1 + OVM2) inevitably requires a hot stamp device. Or it will be understood that it is applied as a die-cut label rather than as a thermal roll-on device.

デバイスは、保護されるべき基材又は物品に2つの異なる方法で適用することができる。第一に、キャリヤーホイルからの熱活性化転写(例えば、ホット・ホイリング/スタンピング、ロールオン等)、又は非熱活性化接着剤を利用したラベルとしての適用である。本発明によるセキュリティ・デバイスを適用できる基材又は物品の例としては、銀行券、小切手、債券、トラベラーズチェック、スタンプ、認証証書、高価値の包装財及びバウチャーがある。   The device can be applied in two different ways to the substrate or article to be protected. First, heat activated transfer from a carrier foil (eg, hot-wheeling / stamping, roll-on, etc.) or application as a label utilizing non-heat activated adhesives. Examples of substrates or articles to which the security device according to the present invention can be applied include banknotes, checks, bonds, traveler's checks, stamps, authentication certificates, high value packaging goods and vouchers.

次に、本発明によるデバイス及び方法のいくつかの例が、添付図面を参照して説明される。   Several examples of devices and methods according to the present invention will now be described with reference to the accompanying drawings.

熱転写の実施態様に関する第1の例の断面図であり、転写プロセスが完了する前の状態を示している。It is sectional drawing of the 1st example regarding the embodiment of thermal transfer, and shows the state before the transfer process is completed. 転写後の図1aの例を示す。Fig. 2 shows an example of Fig. La after transfer. 図1aに示す第1OVMの第1の例を示す。2 shows a first example of the first OVM shown in FIG. 図1aに示す第1OVMの第2の例を示す。2 shows a second example of the first OVM shown in FIG. 図1aに示す第2OVMの概略断面図である。FIG. 2 is a schematic cross-sectional view of the second OVM shown in FIG. 2つのOVM構造を互いに積層する際の一連の段階を示す。Figure 2 shows a series of steps in stacking two OVM structures together. 2つのOVM構造を互いに積層する際の一連の段階を示す。Figure 2 shows a series of steps in stacking two OVM structures together. 図4aと類似の図であるが、UVランプの使用を示している。FIG. 4b is similar to FIG. 4a but shows the use of a UV lamp. 図5の例の変形態様である。It is a modification of the example of FIG. ラベル・デバイスの例の概略断面図である。It is a schematic sectional drawing of the example of a label device. 各層を順次製造して転写ホイルを作製することによって形成されるデバイスを示す。Fig. 4 shows a device formed by sequentially manufacturing each layer to produce a transfer foil. 層を順次設けることによって形成されるラベル・デバイスの概略断面図を示す。Figure 2 shows a schematic cross-sectional view of a label device formed by sequentially providing layers. 更なる例を示す。Further examples are shown. 更なる例を示す。Further examples are shown. 更なる例を示す。Further examples are shown. 更なる例を示す。Further examples are shown. 更なる例を示す。Further examples are shown.

[熱転写デバイス]
まず、デバイス/発明が熱転写構造として機能できるようにするために必要な層アセンブリを製造する方法を説明する(図1a及び1b参照)。
[Thermal transfer device]
First, the method of manufacturing the layer assembly necessary to allow the device / invention to function as a thermal transfer structure will be described (see FIGS. 1a and 1b).

[OVM1サブアセンブリの製造]
典型的に16〜50μmのPETであるキャリヤー層1の上に、典型的に0.01〜0.1μm厚さのワックス剥離層2が適用され、続いて熱成形可能なラッカー層3が典型的に1〜2μmの厚さに適用される。次いで、熱成形可能な層3に光学的ミクロ構造4がエンボス加工される。次いで、この光学的ミクロ構造が反射増強層5で被覆される。この適用には、2つのタイプの反射増強層が適切である。
[Manufacture of OVM1 subassembly]
On top of a carrier layer 1, typically 16-50 μm PET, a wax release layer 2, typically 0.01-0.1 μm thick, is applied, followed by a thermoformable lacquer layer 3. Applied to a thickness of 1-2 μm. The optical microstructure 4 is then embossed in the thermoformable layer 3. This optical microstructure is then covered with a reflection enhancement layer 5. Two types of reflection enhancing layers are suitable for this application.

第1のオプション(図2a)は、(例えば、約0.2〜0.6μmの厚さに堆積されるZnS、TiO2、ZrO2である)誘電材料の透明な高屈折率(HRI)層でミクロ構造4を真空被覆することである。 The first option (FIG. 2a) is a transparent high refractive index (HRI) layer of dielectric material (eg ZnS, TiO 2 , ZrO 2 deposited to a thickness of about 0.2-0.6 μm). The microstructure 4 is vacuum-coated.

第2のオプション(図2b)は、まず本質的に不透明なアルミニウム層5Aでミクロ構造4を真空被覆し、次いでOVM区域の領域5Bを選択的に脱金属化することであり、これはミクロ構造の画像に合わせて行うことができる。脱金属化は、通例、プリントマスクとエッチのアプローチを用いること、又はエッチ液を直接プリントすることにより達成される。   The second option (FIG. 2b) is to first vacuum coat the microstructure 4 with an essentially opaque aluminum layer 5A and then selectively demetallize the region 5B of the OVM area, which is the microstructure. Can be made to fit the image. Demetallization is typically accomplished by using a print mask and etch approach or by printing the etchant directly.

OPP(二軸延伸ポリプロピレン)キャリヤー1を用いることにより、エンボス用ラッカーの存在を必要としなくなることに注目すべきである。光学的ミクロ構造は、OPPに直接エンボス加工することができる。OVM1サブアセンブリ製造プロセスの残りの部分は変わらないままである。   It should be noted that the use of OPP (biaxially oriented polypropylene) carrier 1 eliminates the need for the embossing lacquer. The optical microstructure can be embossed directly into the OPP. The rest of the OVM1 subassembly manufacturing process remains unchanged.

[OVM2サブアセンブリの製造]
キャリヤー1’と剥離層2’を備えたOVM1に類似の第2のホイル・アセンブリが製造される(図3)。剥離層2’はOVM1の剥離層2よりも弱く又はゆるくなっている(2つのサブアセンブリの結合を容易にするため)。ラッカー層3’がさらに設けられる。次いで、このホイル構造に第2の光学的可変ミクロ構造4’がエンボス加工され、不透明な反射性金属コーティング5’(典型的に30〜60nm厚さのアルミニウム)がコーティングされる。
[Manufacture of OVM2 subassembly]
A second foil assembly similar to OVM 1 with carrier 1 ′ and release layer 2 ′ is produced (FIG. 3). The release layer 2 'is weaker or looser than the release layer 2 of the OVM 1 (to facilitate the joining of the two subassemblies). A lacquer layer 3 'is further provided. The foil structure is then embossed with a second optically variable microstructure 4 'and coated with an opaque reflective metal coating 5' (typically 30-60 nm thick aluminum).

次に、サブアセンブリは、重量が数g/m2の光学的に透明な接着層又は積層6で被覆される。この接着層6に好適な材料は、COATES UV CC E50などのUV硬化性接着剤、及び例えば、アクリル/イソシアネート硬化性ウレタンをベースとする自己硬化性接着剤である。 The subassembly is then covered with an optically clear adhesive layer or laminate 6 weighing a few g / m 2 . Suitable materials for this adhesive layer 6 are UV curable adhesives such as COATES UV CC E50 and self-curing adhesives based on, for example, acrylic / isocyanate curable urethanes.

[2つのサブアセンブリの積層]
次に、2つのサブアセンブリOVM1とOVM2を互いに積層しなければならない。これには、2つのサブアセンブリを1対の積層用ニップ・ローラー20に通すことにより、OVM2サブアセンブリの転写可能な層(即ち、剥離層より下の層3’〜6)をOVM1サブアセンブリの背面に転写し(図4a、4b)、次いでOVM2のキャリヤー1’をはがすことが必要である。
[Lamination of two subassemblies]
Next, the two subassemblies OVM1 and OVM2 must be stacked together. This involves passing the two subassemblies through a pair of lamination nip rollers 20 to transfer the transferable layer of the OVM2 subassembly (ie, layers 3'-6 below the release layer) of the OVM1 subassembly. It is necessary to transfer to the back (FIGS. 4a, 4b) and then peel off the carrier 1 ′ of OVM2.

積層用接着剤6がUV硬化性組成物である場合、複合ホイル・アセンブリはニップ・ローラー20に通す直前にUVで照射することができ、UV源21は必ず複合アセンブリのOVM1側にある(図5)。あるいはまた、積層体のOVM1側のニップ・ローラー20’は、UV光を透過する材料で製造することができ、UV源21がその円周の内側に配置される(図6)。   If the laminating adhesive 6 is a UV curable composition, the composite foil assembly can be irradiated with UV just before passing through the nip roller 20 and the UV source 21 is always on the OVM 1 side of the composite assembly (see FIG. 5). Alternatively, the nip roller 20 ′ on the OVM 1 side of the laminate can be made of a material that transmits UV light, and the UV source 21 is placed inside the circumference (FIG. 6).

最後に、複合アセンブリの背面をDLRH RK14などの熱活性化接着剤9で被覆し(被覆重量1.5〜3g/m2)、次いでそれを巻き戻す。これでスリッチングとホット・スタンピングが可能になる。 Finally, the back of the composite assembly is coated with a heat activated adhesive 9 such as DLRH RK14 (coating weight 1.5-3 g / m 2 ) and then it is rewound. This will allow for thickening and hot stamping.

ホット・スタンピング・ホイルに関して、きれいに破れて剥離するのを助けるために、転写アセンブリの合計厚さは7〜8μm以下であることが好ましい。ロールオン・ストライプの用途に関しては、これは10μmまで増やすことができる。   For hot stamping foil, the total thickness of the transfer assembly is preferably 7-8 μm or less to help clean tear and peel. For roll-on stripe applications this can be increased to 10 μm.

使用においては、図1aに示す構造体を有価証券などのような基材10と接触させ、ホット・スタンピング・ダイなどを用いて接着剤9を熱活性化する。活性化の後、ワックス剥離層2が存在する結果としてキャリヤー1がはがされ、図1bに示すようにデバイスが基材10に固定された状態で残される。   In use, the structure shown in FIG. 1a is brought into contact with a substrate 10 such as securities and the adhesive 9 is thermally activated using a hot stamping die or the like. After activation, the carrier 1 is peeled off as a result of the presence of the wax release layer 2, leaving the device secured to the substrate 10 as shown in FIG. 1b.

上記の構成をさらに変更してラベル・デバイスを形成することができる。このようなデバイスの構造が図7に示されている。ワックス剥離層2が今度はOVM1サブアセンブリに存在せず、キャリヤー1が透明であるということを除いて、その構造は本質的に変わらないままである。典型的にはPVC又はOPPを用いる場合に、キャリヤーとエンボス層を1つの材料/層に一体化することも可能である。   The above configuration can be further modified to form a label device. The structure of such a device is shown in FIG. The structure of the wax release layer 2 remains essentially unchanged except that the wax release layer 2 is not present in the OVM1 subassembly and the carrier 1 is transparent. It is also possible to integrate the carrier and embossing layer into one material / layer, typically when using PVC or OPP.

このようなラベル・デバイスの製造は、ホット・スタンピング製品と2つの点で異なる。OVM1の製造の際、ワックス剥離層2は存在せず、エンボス用ラッカー3は前述のように任意選択である。第二に、熱活性化接着剤9が感圧接着剤9’で置き換わる。NA1197(National Adhesives)などの好適な感圧接着剤を10〜15g/m2の被覆重量で適用すべきである。 The manufacture of such a label device differs from hot stamping products in two respects. During the production of the OVM 1, the wax release layer 2 is not present and the embossing lacquer 3 is optional as described above. Second, the heat activated adhesive 9 is replaced with a pressure sensitive adhesive 9 '. A suitable pressure sensitive adhesive such as NA 1197 (National Adhesives) should be applied at a coating weight of 10-15 g / m 2 .

[別の製造方法]
別のアプローチでは、2つのサブアセンブリは、別々に製造した後に接着して一緒にするというやり方をとらない。そうではなく、完全なアセンブリが各層を逐次的に適用及び処理することで製造され、ホット・ホイル用途については図8、及びラベル用途については図9に示す構造を結果として得る。これらについて以下でさらに詳しく説明する。
[Another manufacturing method]
In another approach, the two subassemblies do not take the approach of being glued together after being manufactured separately. Rather, the complete assembly is manufactured by applying and processing each layer sequentially, resulting in the structure shown in FIG. 8 for hot foil applications and FIG. 9 for label applications. These are described in more detail below.

[ホット・ホイル]
上述のように、OVM1サブアセンブリは層1から5を用いて製造される(図2a)。次いで、反射増強層5(HRI又はデメット(demet))の背面にエンボス用ラッカー11がグラビア・コーティングにより適用され、次いで、第2の光学的ミクロ構造4’がエンボス加工される(図8)。このエンボス用ラッカー11は、第1の光学的可変ミクロ構造4を支持するラッカー3よりも相当に低いガラス転移温度(Tg)を有することが好ましい。別のアプローチは、エンボス用ラッカーではなくてUV硬化性モノマー組成物を用いることである。その場合、第2の光学的可変レリーフは、UV硬化性モノマーに鋳造して硬化させることができる。このような方法は、米国特許第4,758,296号明細書により詳細に記載されている。次に、第2の光学的可変レリーフ4’が、アルミニウム5’などの金属で真空被覆され(アルミニウムの典型的な厚さは30〜60nm)、次いで、熱活性化接着剤9(例えば、DLRH RK14)で被覆される。次いで、最終製品を基材10に適用できる状態で巻き戻す。
[Hot foil]
As mentioned above, the OVM1 subassembly is manufactured using layers 1 to 5 (FIG. 2a). The embossing lacquer 11 is then applied by gravure coating on the back of the reflection enhancement layer 5 (HRI or demet) and then the second optical microstructure 4 ′ is embossed (FIG. 8). The embossing lacquer 11 preferably has a glass transition temperature (T g ) considerably lower than that of the lacquer 3 that supports the first optically variable microstructure 4. Another approach is to use a UV curable monomer composition rather than an embossing lacquer. In that case, the second optically variable relief can be cast into a UV curable monomer and cured. Such a method is described in more detail in US Pat. No. 4,758,296. Next, the second optically variable relief 4 ′ is vacuum coated with a metal such as aluminum 5 ′ (a typical thickness of aluminum is 30-60 nm) and then heat activated adhesive 9 (eg, DLRH). RK14). The final product is then rewound in a state where it can be applied to the substrate 10.

[ラベル]
ラベルの製造に関して2つのアプローチが確認された。第1のアプローチ(図9)は、ワックス剥離層2がOVM1アセンブリになく、熱活性化接着剤9ではなくて感圧接着剤9’が用いられるという点だけが熱活性化転写構造と異なっている。
[label]
Two approaches have been identified for the production of labels. The first approach (FIG. 9) differs from the heat activated transfer structure only in that the wax release layer 2 is not in the OVM 1 assembly and a pressure sensitive adhesive 9 'is used instead of the heat activated adhesive 9. Yes.

別のアプローチとして(図示せず)、光学的に透明なポリマー膜(典型的に25〜100μm厚さ)を用いて、それが好適な熱可塑特性(適切なガラス転移温度など)を有する場合に、その下面と称されるところのものに光学的ミクロ構造を直接エンボス加工する。好適なポリマーとしては、ポリプロピレン、PVCがあるが、ポリエステルはガラス転移温度が高いのであまり好適でない。好適でない熱可塑特性を有するポリマーにはポリエステルがあり、又はより詳しくは液晶ポリマーは、その下面がエンボス加工の前に好適な熱可塑性膜若しくはラッカー(1〜5μm厚さ)で被覆されることが必要である。   Another approach (not shown) is to use an optically clear polymer film (typically 25-100 μm thick) where it has suitable thermoplastic properties (such as a suitable glass transition temperature). The optical microstructure is directly embossed on what is referred to as its lower surface. Suitable polymers include polypropylene and PVC, but polyester is less preferred due to its high glass transition temperature. Polyesters with unfavorable thermoplastic properties include polyesters, or more specifically, liquid crystal polymers can be coated on the bottom with a suitable thermoplastic film or lacquer (1-5 μm thick) before embossing. is necessary.

ラッカーにOVM1のミクロ構造がエンボス加工され、次に、そのミクロ構造に実質的に不透明な金属層が真空蒸着される。10〜100nm、特には30〜60nmの厚さで被覆するのが通常である。典型的にはアルミニウムが用いられるが,銅又は任意のはっきりと色のついた合金を用いることもできる。次いで、この金属層は、必要に応じて選択的に脱金属化することができる。   The lacquer is embossed with an OVM1 microstructure, and then a substantially opaque metal layer is vacuum deposited on the microstructure. It is usual to coat with a thickness of 10 to 100 nm, in particular 30 to 60 nm. Aluminum is typically used, but copper or any clearly colored alloy can also be used. This metal layer can then be selectively demetallated as needed.

次いで、OVM2サブアセンブリが、10〜20g/m2の感圧接着剤で被覆されたグラシン紙の上に積層される。次に、OVM2サブアセンブリの上面が、光学的に透明な積層用接着剤で被覆される(この接着剤は、前述の通り、熱、UV又は自己硬化性であることができる)。最後に、熱又はUV光の作用を介して積層用接着剤を活性化させながら、OVM1サブアセンブリが、ニップへの通過により(そのキャリヤーから)OVM2サブアセンブリの上面に転写される。 The OVM2 subassembly is then laminated onto glassine paper coated with 10-20 g / m 2 of pressure sensitive adhesive. The top surface of the OVM2 subassembly is then coated with an optically clear laminating adhesive (this adhesive can be heat, UV or self-curing as described above). Finally, the OVM1 subassembly is transferred to the top surface of the OVM2 subassembly (from its carrier) by passing through the nip while activating the laminating adhesive through the action of heat or UV light.

[印刷又はコーティングの付加的な強化]
適切な層に又はその層間に追加の材料を取り込むことによって、デバイスをさらに強化できることが理解されるであろう。ヨーロッパ特許第497837号明細書に記載されている全ての実施態様はその参照により本明細書に含まれる。ヨーロッパ特許第497837号明細書に記載されている様々な強化方法を、OVM1又はOVM2におけるミクロ構造と反射増強層の間に取り入れることができる。
[Additional enhancement of printing or coating]
It will be appreciated that the device can be further enhanced by incorporating additional materials into or between the appropriate layers. All embodiments described in European Patent No. 497837 are hereby incorporated by reference. Various reinforcement methods described in EP 497837 can be incorporated between the microstructure and the reflection enhancement layer in OVM1 or OVM2.

これに加えて、染料又は顔料を積層用接着剤に組み込むこともできる。このような顔料は着色又は発光作用(リン光性及び蛍光性)を提供することができる。このような材料はセキュリティ産業において周知であり、ストークス又はアンチストークス・シフトを示す材料を用いることが周知である。最後に、フォトクロミック材料及びサーモクロミック材料など、他の光学的に可変な材料を積層用接着剤で用いることができる。   In addition, dyes or pigments can be incorporated into the laminating adhesive. Such pigments can provide coloring or luminescent effects (phosphorescence and fluorescence). Such materials are well known in the security industry and it is well known to use materials that exhibit Stokes or anti-Stokes shift. Finally, other optically variable materials such as photochromic materials and thermochromic materials can be used in the laminating adhesive.

前に述べたように、本発明は、その光学的に可変の発生効果が、1つの光学的効果発生ミクロ構造に由来するようであるミクロ構造の2つ以上の表面/層から構成される積層構造を作り出す。   As previously mentioned, the present invention is a laminate composed of two or more surfaces / layers of a microstructure whose optically variable generation effect appears to be derived from a single optical effect generation microstructure. Create structure.

OVM1とOVM2は、それぞれ単一の作成技術、例えば、古典的ホログラフィーによって生成できることに注目すべきである。しかしながら、ミクロ構造のそれぞれは、2つ以上の異なる作成技術を用いて別々に生成して、それゆえ、それ自体非常に安全に作製することが可能である。したがって、原理的には、OVM1とOVM2により発生する光学的に可変の効果を表面上単一のミクロ構造に視覚的に統合することによって、独自の光学的外観を有するデバイスを作り出すことができ、偽造者も非常に熟練したホログラファーでもそれを再現することはひどく困難であると考えるであろう。   It should be noted that OVM1 and OVM2 can each be generated by a single production technique, eg, classical holography. However, each of the microstructures can be generated separately using two or more different fabrication techniques and can therefore be created very safely per se. Thus, in principle, a device with a unique optical appearance can be created by visually integrating the optically variable effects generated by OVM1 and OVM2 into a single microstructure on the surface, Even counterfeiters and highly skilled holographers will find it difficult to reproduce.

好ましい実施態様では、OVM1は、完全に透明な高屈折率(HRI)誘電材料5(典型的には、すべて約2の屈折率を有するZnS、TiO2又はZrO2)で以って、約4分の1波長の光学的厚さ(即ち、屈折率が2では約100nm)でしっかりと被覆されるが、鏡のように滑らかな界面とは対照的に、回折レリーフ上のHRI層の厚さは決定的に重要ではない。この好ましい実施態様では、HRIの反射率は(例えば、明るさがせいぜい6分の1程度の)不透明に近いアルミニウム膜と比べた場合に相対的に低いので、OVM1はOVM2に比べて本質的に高い回折輝度を有することが重要である。即ち、OVM1は回折光の拡散が最小であり、深さ効果が全くないような純粋な格子構造から構成されるべきである。この場合においてOVM1を生成するのに好適な作成方法は、ドット・マトリックス・インターフェロメトリー、リソグラフィック・インターフェロメトリー及びe−ビーム・リソグラフィーである(リソグラフィック・インターフェロメトリー及びe−ビーム・リソグラフィーは、Kinegram(登録商標)及びExelgram(登録商標)などの作成技術を含む)。OVM2は、好ましくは、ある形態の真珠光沢又は事実上/見かけの深さ効果を発生させるべきであり、その効果は、OVM1により発生する光学的可変効果とコントラストを成しかつ相補的である。したがって、OVM2は、古典的ホログラム(モデル、2D−3D)、ゼロ次回折デバイス(ZOD)、又は最も低い高調波で作用するフレネル構造(回折と反射のハイブリッド効果)であることが好ましい。輝度をバランスさせるため、さらに着色剤又は染料を積層用接着剤に組み込んで、OVM2からの再生にスペクトルでフィルターをかける(色をつける)ことができる。 In a preferred embodiment, OVM 1 is about 4 with a fully transparent high refractive index (HRI) dielectric material 5 (typically ZnS, TiO 2 or ZrO 2 all having a refractive index of about 2 ). The thickness of the HRI layer on the diffractive relief, as opposed to a mirror-smooth interface, which is tightly coated with an optical thickness of 1 / wavelength (ie, about 100 nm for a refractive index of 2) Is not critical. In this preferred embodiment, OVM1 is inherently less than OVM2 because the reflectivity of HRI is relatively low when compared to a nearly opaque aluminum film (eg, at most 1/6 the brightness). It is important to have a high diffraction brightness. That is, the OVM 1 should be composed of a pure grating structure that has minimal diffusion of diffracted light and no depth effect. The preferred fabrication methods for generating OVM1 in this case are dot matrix interferometry, lithographic interferometry and e-beam lithography (lithographic interferometry and e-beam lithography). Includes production techniques such as Kinegram (R) and Exelgram (R). OVM2 should preferably generate some form of iridescence or virtually / apparent depth effect, which contrasts and is complementary to the optical variable effect generated by OVM1. Therefore, OVM2 is preferably a classical hologram (model, 2D-3D), zero-order diffractive device (ZOD), or Fresnel structure (diffractive and reflective hybrid effect) acting at the lowest harmonic. In order to balance the brightness, further colorants or dyes can be incorporated into the laminating adhesive and the regeneration from OVM2 can be spectrally filtered (colored).

第2の好ましい実施態様は以下の通りである。一様に透明なHRI反射増強層5は、アルミニウムの選択的に金属化されたコーティングで置き換えられ(図2b)、それゆえ、OVM1は必ずしも本質的に非常に明るい必要はない。したがって、OVM1は、(上の実施態様におけるOVM2のような)拡散的な回折、並びに(上の実施態様におけるOVM1のような)非拡散的な回折を生ずる作成技術により得ることができる。一般に、選択的な金属化がOVM1により提供される画像パターンと合っていることが特に望ましい。   A second preferred embodiment is as follows. The uniformly transparent HRI reflection enhancement layer 5 is replaced with a selectively metallized coating of aluminum (FIG. 2b), so the OVM 1 does not necessarily have to be very bright in nature. Thus, OVM1 can be obtained by fabrication techniques that produce diffractive diffraction (such as OVM2 in the above embodiment) as well as non-diffusive diffraction (such as OVM1 in the above embodiment). In general, it is particularly desirable that the selective metallization matches the image pattern provided by OVM1.

2つのこのような例は次のようなものである:
1. OVM1とOVM2は相補的なZODである。例えば、OVM1の背面で、金属化は透明な周囲の上にDe La Rueヘッドの形に設けることができる。OVM1は、垂直に向いたときに緑色の真珠光沢を再生し、水平に向いたときに褐色を再生するよう製造することができる。一方で、OVM2は、垂直に向いたときに褐色を再生し、水平に向いたときに緑色を再生するよう設けることができる。それゆえ、デバイス全体は、垂直に向いたときには褐色の背景上に緑色のヘッドという外観を有し、水平に向いたときには緑色の背景上に褐色のヘッドという外観を有する。この単純なスワップオーバー(swap-over)効果は強力な認証特徴である。
2. Kinegram(登録商標)及びExelgram(登録商標)並びに他の形態の干渉及び非干渉型のリソグラフィーで生成される回折式光学的可変デバイスの設計者らは、しばしば、製造の観点から、基本的な格子構造の配向(方位角)を±90°変えることにより容易に直交画像を作り出すことができるという事実を利用している。垂直配向では第1のグラフィック画像が回折されて観察者の眼に入り、他方、デバイスを(その面に直角な軸のまわりで)90°回転させると、第2のグラフィック画像が生成され(水平配向)、回折され又は中継されて観察者の眼に入る。この直交画像の切り替えは非常に強力な特徴である。
Two such examples are as follows:
1. OVM1 and OVM2 are complementary ZODs. For example, on the back of the OVM 1, the metallization can be provided in the form of a De La Rue head on a transparent perimeter. OVM1 can be manufactured to regenerate green pearl luster when oriented vertically and brown when oriented horizontally. On the other hand, the OVM 2 can be provided to reproduce brown when oriented vertically and to reproduce green when oriented horizontally. Therefore, the entire device has the appearance of a green head on a brown background when facing vertically and the appearance of a brown head on a green background when facing horizontally. This simple swap-over effect is a strong authentication feature.
2. Designers of diffractive optically variable devices generated with Kinegram (R) and Exelgram (R) and other forms of interferometric and incoherent lithography often have basic gratings from a manufacturing standpoint. It utilizes the fact that orthogonal images can be easily created by changing the orientation (azimuth) of the structure by ± 90 °. In the vertical orientation, the first graphic image is diffracted into the viewer's eye, while rotating the device 90 ° (about an axis perpendicular to the plane) produces a second graphic image (horizontal Orientation), diffracted or relayed into the viewer's eyes. This orthogonal image switching is a very powerful feature.

それとは対照的に、古典的な二段階レインボーホログラムでは、配向(方位角)を変えることができる能力は抑制されており、真に直交する画像を作り出すことは困難である。それゆえ、本発明の幾つかの例についての重要な態様は、OVM1とOVM2が古典的ホログラフィーで作り出される直交ホログラフィック画像を含むという設計の特徴である。もっとも当然ながら、ミクロ構造のどちらか又はその両方は、他の作成技術(例えば、ドット−マトリックス・オーバーレイ)を含むこともできる。   In contrast, in classic two-stage rainbow holograms, the ability to change orientation (azimuth) is suppressed and it is difficult to create a truly orthogonal image. Therefore, an important aspect for some examples of the present invention is the design feature that OVM1 and OVM2 contain orthogonal holographic images created by classical holography. Of course, either or both of the microstructures can include other fabrication techniques (eg, dot-matrix overlay).

OVM2の体積ホログラムを利用する更なる例が図10に示されている。それは本質的に下方アセンブリ(OVM2)から構成され、このアセンブリはMylar(登録商標)PET支持層に設けられたフォトポリマーBragg又は体積ホログラム層を含み、その支持層は保護物品の基材に接着される。上方アセンブリ(OVM1)は、透明な高屈折率コーティングで真空被覆され、次いで下方アセンブリ(即ち、フォトポリマー)の上面に転写−積層又は接着されたOVM1ミクロ構造をエンボス加工したラッカー又は熱可塑性材料から構成される。このアセンブリは、そのままの状態では透明又は少なくとも半透明であり、それゆえ、基材上にある任意の印刷又は写真の情報を見ることができる。所望であれば、着色剤は、接着剤に加えることができるか又は支持層(PET)と接着剤の間にある着色した(場合によって不透明な)プライマー層に加えることができる。   A further example utilizing the OVM2 volume hologram is shown in FIG. It consists essentially of a lower assembly (OVM2), which includes a photopolymer Bragg or volume hologram layer provided on a Mylar® PET support layer that is adhered to the substrate of the protective article. The The upper assembly (OVM1) is from a lacquer or thermoplastic material embossed with an OVM1 microstructure that is vacuum coated with a transparent high refractive index coating and then transferred-laminated or adhered to the upper surface of the lower assembly (ie, photopolymer) Composed. This assembly is transparent or at least translucent as it is, so that any printed or photographic information on the substrate can be viewed. If desired, the colorant can be added to the adhesive or can be added to a colored (optionally opaque) primer layer between the support layer (PET) and the adhesive.

このアセンブリの製造方法は以下の通りである:
1)OVM2サブアセンブリの製造
1)まず、体積ホログラムが光重合性層30に記録され、次いで、得られたBragg構造が光(典型的には化学線又はUV)への曝露によって安定化又は硬化される。次いで任意選択で、ホログラムをその後の加熱処理にさらして、その輝度又は再生効率を高めることができる。10〜200μm厚さの支持層32の露出表面には、連続的な着色不透明コーティングの外観を有することができるか又は(接着強度を低下させないよう表面の大部分を覆う)印刷された着色パターンとして提供することができるプライマー・コーティング(図示せず)を任意選択で設けることができる。あるいはまた、支持層に染料を組み込んで不透明性及び/又は色を与えることができる。硬化した後、光重合プロセスが酸素により害されるのを防ぐ最上部の保護シート又は層(典型的には弱く接着した20μmのPET)は除去してもよいし、2つのサブアセンブリを最終的に積層するまで保持してもよい。
2)次いで、体積ホログラムが接着剤(感圧)をコーティングしたグラシン剥離紙に積層される。即ち、接着剤は支持層と接触している。接着剤は、PET支持層32と非常に強い結合を形成し、かつ化学的な攻撃に耐性のあるタイプであるべきである。それとは別に、剥離剤をコーティングしたキャリヤー38(典型的にはポリエステル、厚さが12〜50μm、特には25μm)に設けた熱可塑性又はラッカー層36(0.5〜5μm厚さ)に、OVM1表面レリーフ・ミクロ構造34をエンボス加工することによってOVM1サブアセンブリを作製する。あるいはまた、キャリヤー38は、透明な反射増強層(HRI)40又は半透明反射増強層(例えば、OVM1により提供される光学的に可変の画像と合っていても、合っていなくてもよい部分的金属化)で真空被覆することができる。最後に、この構造は、熱活性化(ホット−スタンピング)できるか、圧力活性化できるか又はUV硬化接着剤であることができる積層用接着剤又は接着層42で被覆される。
3)最後に、OVM2サブアセンブリのフォトポリマー表面30上に(剥離可能なキャリヤーと向かい合って)OVM1サブアセンブリを転写する。積層プロセスの間、OVM1とOVM2によって提供される画像が所定の空間的関係又は正確な重ね合わせを維持するということは、重要なセキュリティ・デザインの特徴である場合がある。同様に、OVM1の反射増強層40が選択的な金属化という形をとる場合、この金属化は、OVM1及び/又はOVM2により提供される光学的効果で得られる画像にぴったり合っていることが望ましい場合がある。最後に、その場合、画像又はホログラムの連続シート又はウェブは、ラベル・ユニットに型抜きすることができ、不要になったマトリックスが剥ぎ取られる。得られたラベルは、通常の転写プロセスにより感圧接着剤44を介して基材46に接着することができる。
The manufacturing method for this assembly is as follows:
1) Manufacture of OVM2 subassembly 1) First, a volume hologram is recorded in the photopolymerizable layer 30, and then the resulting Bragg structure is stabilized or cured by exposure to light (typically actinic radiation or UV) Is done. Optionally, the hologram can then be subjected to subsequent heat treatment to increase its brightness or reproduction efficiency. The exposed surface of the 10-200 μm thick support layer 32 can have the appearance of a continuous colored opaque coating or as a printed colored pattern (covering most of the surface so as not to reduce the adhesive strength) A primer coating (not shown) that can be provided can optionally be provided. Alternatively, dyes can be incorporated into the support layer to provide opacity and / or color. After curing, the top protective sheet or layer (typically weakly bonded 20 μm PET) that prevents the photopolymerization process from being harmed by oxygen may be removed and the two subassemblies ultimately You may hold | maintain until it laminates | stacks.
2) The volume hologram is then laminated to glassine release paper coated with an adhesive (pressure sensitive). That is, the adhesive is in contact with the support layer. The adhesive should be of a type that forms a very strong bond with the PET support layer 32 and is resistant to chemical attack. Alternatively, a thermoplastic or lacquer layer 36 (0.5-5 μm thick) provided on a release agent-coated carrier 38 (typically polyester, thickness 12-50 μm, in particular 25 μm) is coated with OVM1 The OVM1 subassembly is made by embossing the surface relief microstructure 34. Alternatively, the carrier 38 may or may not match a transparent reflection enhancement layer (HRI) 40 or a translucent reflection enhancement layer (eg, an optically variable image provided by OVM1). Metallization) can be vacuum coated. Finally, the structure is coated with a laminating adhesive or adhesive layer 42 that can be heat activated (hot-stamping), pressure activated or UV curable adhesive.
3) Finally, transfer the OVM1 subassembly onto the photopolymer surface 30 of the OVM2 subassembly (facing the peelable carrier). It may be an important security design feature that the images provided by OVM1 and OVM2 maintain a predetermined spatial relationship or precise overlay during the lamination process. Similarly, if the OVM1's reflection enhancement layer 40 takes the form of selective metallization, it is desirable that this metallization closely match the image obtained with the optical effects provided by OVM1 and / or OVM2. There is a case. Finally, in that case, a continuous sheet or web of images or holograms can be stamped into a label unit, and the matrix that is no longer needed is stripped off. The resulting label can be adhered to the substrate 46 via the pressure sensitive adhesive 44 by a normal transfer process.

第2の実施態様が図11に示されているが、これは本質的に、OVM1サブアセンブリの構成に関して前の実施の形態と異なっている。具体的に言うと、OVM1は転写可能なラッカーにエンボス加工されるのではなく、その代わり、剥離コーティングされていない支持/キャリヤー層48に直接エンボス加工されている。構成のステップは以下の通りである:
[OVM2サブアセンブリの製造]
1)上で述べた通り。
2)当てはまらない。即ち、今度は、接着剤をコーティングしたグラシン紙又は剥離シート46への積層は2つのサブアセンブリが一体化された後で行われる。
[OVM1サブアセンブリの製造]
3)OVM1ミクロ構造を支持/キャリヤー層48(例えば、PVC、ポリカーボネート、OPP又はあまり適切でないがPET、10〜100μm厚さ)に直接エンボス加工するか、又はエンボス加工可能なラッカーで被覆されたキャリヤー層に、今度は剥離層を省いてエンボス加工する。キャリヤーは12〜50μm、好ましくは12〜25μmの典型的な厚さ範囲を有する。
4)次に、反射増強層36(HRI又は部分金属化)を真空コーティングする。
5)次に、積層用接着剤42(熱活性化、圧力活性化、又はUV硬化するもの)をコーティングする。
6)次に、2つのサブアセンブリは、OVM2サブアセンブリのフォトポリマー側が、OVM1サブアセンブリの接着又は積層用接着剤と接触するよう配向した状態で、1対のニップ・ローラーに通すことにより互いに積層される。先に、2つの表面レリーフ・ミクロ構造を含むアセンブリの製造を説明した際、積層用接着剤が熱活性化されるか又は(例えば、UV硬化された)フォトポリマー架橋を介して作用する場合に関する特定の積層プロセス/システムについて説明したので、ここでは繰り返さない。任意選択で、PET支持層32は、着色プライマー層を連続コーティング又はパターニングされた不連続コーティングとして設けることもできる。最後に、この複合構造は、接着剤44(感圧)をコーティングしたグラシン紙46に積層して、前と同様に型抜き等することができる。
7)この段階で構成オプションがあることにも注意すべきである(それはフォトポリマー・ホログラム層が支持層に弱く接着している場合に実行できる)。積層した後、体積ホログラム支持層をはがすことができる。次いで、複合アセンブリが接着剤をコーティングしたグラシン紙に積層される。UV硬化材料は、多くの場合、接着が困難であるので、特別な調合の感圧接着剤を開発するか、又は体積ホログラムと接着剤の間に中間のプライマー層を設けることが必要な場合がある。
A second embodiment is shown in FIG. 11, which essentially differs from the previous embodiment with respect to the configuration of the OVM1 subassembly. Specifically, OVM 1 is not embossed into a transferable lacquer, but instead is directly embossed into a support / carrier layer 48 that is not release coated. The configuration steps are as follows:
[Manufacture of OVM2 subassembly]
1) As described above.
2) Not applicable. That is, this time, the lamination to the adhesive-coated glassine paper or release sheet 46 is performed after the two subassemblies are integrated.
[Manufacture of OVM1 subassembly]
3) Emboss OVM1 microstructure directly to support / carrier layer 48 (eg PVC, polycarbonate, OPP or less suitable PET, 10-100 μm thick) or carrier coated with embossable lacquer The layer is now embossed without the release layer. The carrier has a typical thickness range of 12-50 μm, preferably 12-25 μm.
4) Next, the reflective enhancement layer 36 (HRI or partially metallized) is vacuum coated.
5) Next, the laminating adhesive 42 (which is heat activated, pressure activated or UV cured) is coated.
6) The two subassemblies are then laminated together by passing them through a pair of nip rollers with the photopolymer side of the OVM2 subassembly oriented to contact the adhesive or laminating adhesive of the OVM1 subassembly. Is done. Earlier, when describing the fabrication of an assembly comprising two surface relief microstructures, it relates to the case where the laminating adhesive is thermally activated or acts via (e.g., UV cured) photopolymer crosslinking. Having described a particular lamination process / system, it will not be repeated here. Optionally, the PET support layer 32 may be provided with a colored primer layer as a continuous coating or a patterned discontinuous coating. Finally, this composite structure can be laminated on glassine paper 46 coated with adhesive 44 (pressure sensitive) and die-cut as before.
7) It should also be noted that there are configuration options at this stage (which can be done if the photopolymer hologram layer is weakly adhered to the support layer). After lamination, the volume hologram support layer can be peeled off. The composite assembly is then laminated to an adhesive coated glassine paper. UV curable materials are often difficult to bond, so it may be necessary to develop specially formulated pressure sensitive adhesives or to provide an intermediate primer layer between the volume hologram and the adhesive is there.

2つのデバイスを積層して一緒にする必要なく、複合デバイスを構築することも可能である(図12)。この場合には、体積ホログラム30と下地の支持層32とから成るOVM2サブアセンブリを選びとり、その体積ホログラムの表面をエンボス加工可能な熱可塑性又はUV重合性コーティング50で被覆する。次いで、熱及び圧力の作用により、このコーティングに適切な表面レリーフ構造をエンボス加工する。あるいはまた、表面レリーフは、鋳造及び硬化技術を用いて形成することもできる。OVM1の表面レリーフ構造をトップコート又はワニス52により保護することができる場合、その時には、表面レリーフに反射増強層、例えば、HRI又は部分的金属化を設ける必要がある。   It is also possible to build a composite device without having to stack the two devices together (FIG. 12). In this case, an OVM2 subassembly comprising a volume hologram 30 and an underlying support layer 32 is selected and the surface of the volume hologram is coated with an embossable thermoplastic or UV polymerizable coating 50. A surface relief structure suitable for this coating is then embossed by the action of heat and pressure. Alternatively, the surface relief can be formed using casting and curing techniques. If the surface relief structure of OVM1 can be protected by a topcoat or varnish 52, then it is necessary to provide the surface relief with a reflection enhancing layer, such as HRI or partial metallization.

最後に、体積ホログラム(OVM2)支持層に接着剤44を直接的に又は先のように接着剤をコーティングした剥離シート46に積層することによって間接的に設ける。   Finally, the adhesive 44 is provided directly on the volume hologram (OVM2) support layer or indirectly by being laminated on the release sheet 46 coated with the adhesive as described above.

第2の実施態様を製造するために提案された構成方法は、銀行券(紙及びポリマー)、セキュリティ・ラベル等に組み込むためのホログラフィック・スレッドとして用いるのに好適な層アセンブリを作製するのに利用することもできることが理解されるであろう。本質的に、それは最終的な接着剤コートの提供を削除することを意味する。2つの可能なスレッド構造が図13と図14に示されているが、この2つは、前者(図13)ではフォトポリマーのPET支持層32が外側に向いた層の1つとして保持されているのに対し、後者(図14)ではフォトポリマー30が外側に向いた層の1つになっているという点で区別される。   The proposed construction method for manufacturing the second embodiment is for making a layer assembly suitable for use as a holographic thread for incorporation into banknotes (paper and polymer), security labels, etc. It will be understood that it can also be used. In essence, it means eliminating the provision of the final adhesive coat. Two possible thread structures are shown in FIGS. 13 and 14, which in the former (FIG. 13) have the photopolymeric PET support layer 32 held as one of the outwardly facing layers. In contrast, the latter (FIG. 14) is distinguished in that the photopolymer 30 is one of the outwardly facing layers.

図13では、アセンブリ全体の厚さが45μm以下であることが望ましく、それゆえ、2つの外側に向いたポリマー支持層の個々の厚さは10〜15μm程度であることが好ましく、フォトポリマー・ホログラム層は10〜20μmであることが好ましい。同じ全体厚さの制限は図14の構造にも当てはまるが、体積ホログラム支持層がなくなっているので、これはより容易に達成される。   In FIG. 13, it is desirable that the thickness of the entire assembly be 45 μm or less, and therefore the individual thicknesses of the two outwardly facing polymer support layers are preferably on the order of 10-15 μm. The layer is preferably 10-20 μm. The same overall thickness limitation applies to the structure of FIG. 14, but this is more easily accomplished because the volume hologram support layer is missing.

最後に、本発明のコンセプトは、視覚的に統合された画像というコンセプト、例えば、回折又はホログラフィック表面レリーフ画像と、体積/Braggホログラムとの組み合わせによって得られるものであって、アセンブリの細かい構成ではないということを強調しておかなければならない。即ち、例えば、記載された実施態様の幾つかにおいては、体積ホログラムとその支持層の順序を逆転させて、体積ホログラムが基材に最も近く、支持層がOVM1サブアセンブリに最も近くなるようにすることが望ましい場合もある。また、PETを支持層としてあげたが、それは、所望の光学的/機械的性質を有する任意の光学ポリマー材料で代用することもできる。   Finally, the concept of the present invention is obtained by a visually integrated image concept, such as a combination of diffractive or holographic surface relief images and volume / Bragg holograms. It must be stressed that there is no. Thus, for example, in some of the described embodiments, the order of the volume hologram and its support layer is reversed so that the volume hologram is closest to the substrate and the support layer is closest to the OVM1 subassembly. Sometimes it is desirable. Also, although PET has been mentioned as a support layer, it can be substituted with any optical polymer material having the desired optical / mechanical properties.

層の厚さ及び被覆重量について明記した数値は、決して包括的であるとして予想されるものではなく、したがって、本発明のコンセプトに従って機能するが、本明細書で明記したものの範囲外である層の厚さや組成を有する構造は、依然として本発明の範囲内にあるとみなされる。   The numerical values specified for the layer thickness and coating weight are not to be expected as inclusive, and therefore function in accordance with the concepts of the present invention but are outside the scope specified herein. Structures having thicknesses and compositions are still considered to be within the scope of the present invention.

Claims (31)

少なくとも第1及び第2の重ね合わせた光学的可変効果発生構造を含むセキュリティ・デバイスであって、各構造が表面レリーフ・ミクロ構造を有し、該第2の光学的可変効果発生構造が該第1の構造を通して見ることができる、セキュリティ・デバイス。   A security device comprising at least a first and a second superimposed optical variable effect generating structure, each structure having a surface relief microstructure, wherein the second optical variable effect generating structure is the first A security device that can be seen through one structure. 前記第1の光学的可変効果発生構造が不連続な金属層を含む、請求項1に記載のデバイス。   The device of claim 1, wherein the first optical variable effect generating structure includes a discontinuous metal layer. 前記第1の光学的可変効果発生構造が、高屈折率の誘電材料で形成された反射層を含む、請求項1に記載のデバイス。   The device of claim 1, wherein the first optical variable effect generating structure includes a reflective layer formed of a high refractive index dielectric material. 前記第1の光学的可変効果発生構造が、実質的に純粋な格子構造を高屈折率の誘電層と組み合わせて含み、前記第2の光学的可変効果発生構造が、古典的ホログラム、ゼロ次回折デバイス、又はフレネル構造のうち1つを含む、請求項3に記載のセキュリティ・デバイス。   The first optical variable effect generating structure includes a substantially pure grating structure in combination with a high refractive index dielectric layer, and the second optical variable effect generating structure includes a classical hologram, zero-order diffraction The security device of claim 3, comprising one of a device or a Fresnel structure. 前記第1及び第2の光学的可変効果発生構造が、相補的なゼロ次回折デバイスを含む、請求項1〜4の何れか1項に記載のデバイス。   The device according to claim 1, wherein the first and second optical variable effect generating structures comprise complementary zero-order diffractive devices. 前記第1及び第2の光学的可変効果発生構造が、典型的に古典的ホログラフィーによって作り出される直交ホログラフィック画像を発生させる、請求項1〜5の何れか1項に記載のデバイス。   6. A device according to any one of the preceding claims, wherein the first and second optical variable effect generating structures generate orthogonal holographic images, typically created by classical holography. 前記第2の光学的可変効果発生構造が不透明な反射層を含む、請求項1〜6の何れか1項に記載のデバイス。   The device according to claim 1, wherein the second optical variable effect generating structure includes an opaque reflective layer. 前記第1及び第2の光学的可変効果発生構造が互いに積層された、請求項1〜7の何れか1項に記載のデバイス。   The device according to claim 1, wherein the first and second optical variable effect generating structures are stacked on each other. 前記第1及び第2の表面レリーフ・ミクロ構造が異なるプロセスによって作り出された、請求項1〜8の何れか1項に記載のデバイス。   9. A device according to any preceding claim, wherein the first and second surface relief microstructures have been created by different processes. 前記第1及び第2の表面レリーフ・ミクロ構造が、ドット・マトリックス・インターフェロメトリー、リソグラフィック・インターフェロメトリー、e−ビーム・リソグラフィー、及び古典的なレインボー・リソグラフィーのうちの1つによって作り出された、請求項1〜9の何れか1項に記載のデバイス。   The first and second surface relief microstructures are created by one of dot matrix interferometry, lithographic interferometry, e-beam lithography, and classic rainbow lithography. The device according to any one of claims 1 to 9. 前記第1及び第2の光学的可変効果発生構造を支持するキャリヤー層をさらに含む、請求項1〜10の何れか1項に記載のデバイス。   The device according to claim 1, further comprising a carrier layer supporting the first and second optical variable effect generating structures. 前記キャリヤー層が、剥離層を介して前記第1及び第2の光学的可変効果発生構造に固定された、請求項11に記載のデバイス。   The device of claim 11, wherein the carrier layer is secured to the first and second optical variable effect generating structures via a release layer. 1つ又は複数の前記光学的可変効果発生構造がそれぞれのラッカー層に形成された、請求項1〜12の何れか1項に記載のデバイス。   The device according to claim 1, wherein one or more optically variable effect generating structures are formed in each lacquer layer. 前記光学的可変効果発生構造の少なくとも1つがポリマー材料に形成された、請求項1〜13の何れか1項に記載のデバイス。   The device according to claim 1, wherein at least one of the optical variable effect generating structures is formed in a polymer material. 前記デバイスを基材に固定できるよう接着剤層をさらに含む、請求項1〜14の何れか1項に記載のデバイス。   The device according to claim 1, further comprising an adhesive layer so that the device can be fixed to a substrate. 前記光学的可変効果発生構造の層又はその層間に提供する染料又は顔料をさらに含む、請求項1〜15の何れか1項に記載のデバイス。   16. A device according to any one of the preceding claims, further comprising a layer of the optical variable effect generating structure or a dye or pigment provided between the layers. 前記第1及び第2の光学的可変効果発生構造の間に設けられた1つ又は複数の追加の光学的可変効果発生構造をさらに含む、請求項1〜16の何れか1項に記載のデバイス。   17. A device according to any one of the preceding claims, further comprising one or more additional optical variable effect generating structures provided between the first and second optical variable effect generating structures. . セキュリティ・デバイスを製造する方法であって、各構造が表面レリーフ・ミクロ構造を有する、少なくとも第1及び第2の重ね合わせた光学的可変効果発生構造を設けることを含み、それにより該第2の光学的可変効果発生構造が該第1の構造を通して見ることができる、セキュリティ・デバイスを製造する方法。   A method of manufacturing a security device, comprising providing at least first and second superimposed optically variable effect generating structures, each structure having a surface relief microstructure, whereby the second A method of manufacturing a security device, wherein an optically variable effect generating structure is visible through the first structure. 各光学的可変効果発生構造が、対応する表面レリーフ・ミクロ構造をエンボス層にエンボス加工することによって形成される、請求項18に記載の方法。   19. The method of claim 18, wherein each optical variable effect generating structure is formed by embossing a corresponding surface relief microstructure into an embossed layer. 前記エンボス層がエンボス用ラッカー又はポリマーを含む、請求項19に記載の方法。   20. A method according to claim 19, wherein the embossing layer comprises an embossing lacquer or polymer. 各ミクロ構造が異なる作成プロセスから得られる、請求項18〜20の何れか1項に記載の方法。   21. A method according to any one of claims 18 to 20, wherein each microstructure is obtained from a different creation process. 前記作成プロセスが、ドット・マトリックス・インターフェロメトリー、リソグラフィック・インターフェロメトリー、e−ビーム・リソグラフィー、及び古典的なレインボー・リソグラフィーから選択される、請求項21に記載の方法。   The method of claim 21, wherein the creation process is selected from dot matrix interferometry, lithographic interferometry, e-beam lithography, and classical rainbow lithography. 前記第1の光学的可変効果発生構造の前記表面レリーフ・ミクロ構造に部分反射層を設けることをさらに含む、請求項18〜22の何れか1項に記載の方法。   23. The method of any one of claims 18-22, further comprising providing a partially reflective layer on the surface relief microstructure of the first optical variable effect generating structure. 前記部分反射層が、高屈折率の誘電材料又は不連続な金属化によって形成される、請求項23に記載の方法。   24. The method of claim 23, wherein the partially reflective layer is formed by a high refractive index dielectric material or discontinuous metallization. 前記第1及び第2の光学的可変効果発生構造が別々に製造され、次いで互いに接合される、請求項18〜24の何れか1項に記載の方法。   25. A method according to any one of claims 18 to 24, wherein the first and second optical variable effect generating structures are manufactured separately and then joined together. 前記第1及び第2の光学的可変効果発生構造が、中間の積層用接着剤によって互いに積層される(固定工程)、請求項25に記載の方法。   The method according to claim 25, wherein the first and second optical variable effect generating structures are laminated to each other by an intermediate laminating adhesive (fixing step). 前記積層用接着剤がUV硬化性であり、前記固定工程が、前記第1の光学的可変効果発生構造を通して該積層用接着剤にUV照射し、該接着剤を活性化することを含む、請求項26に記載の方法。   The laminating adhesive is UV curable, and the fixing step includes irradiating the laminating adhesive with UV through the first optical variable effect generating structure to activate the adhesive. Item 27. The method according to Item 26. 前記第1及び第2の光学的可変効果発生構造がキャリヤー上に設けられる、請求項18〜27の何れか1項に記載の方法。   28. A method according to any one of claims 18 to 27, wherein the first and second optical variable effect generating structures are provided on a carrier. 剥離層が、前記キャリヤーと前記第1及び第2の光学的可変効果発生構造との間に設けられる、請求項27に記載の方法。   28. The method of claim 27, wherein a release layer is provided between the carrier and the first and second optical variable effect generating structures. 請求項1〜17の何れか1項に記載のセキュリティ・デバイス、又は請求項18〜29の何れか1項に従って製造されたセキュリティ・デバイスを担持する有価証券。   A security device carrying a security device according to any one of claims 1 to 17, or a security device manufactured according to any one of claims 18 to 29. 銀行券などの有価証券を含む、請求項30に記載の証券。   32. The security of claim 30, including securities such as banknotes.
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