JP2015133480A - Adhesive film for coverlay, coverlay, wiring board and method of manufacturing electronic apparatus - Google Patents

Adhesive film for coverlay, coverlay, wiring board and method of manufacturing electronic apparatus Download PDF

Info

Publication number
JP2015133480A
JP2015133480A JP2014247993A JP2014247993A JP2015133480A JP 2015133480 A JP2015133480 A JP 2015133480A JP 2014247993 A JP2014247993 A JP 2014247993A JP 2014247993 A JP2014247993 A JP 2014247993A JP 2015133480 A JP2015133480 A JP 2015133480A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
group
wiring board
coverlay
adhesive film
fluorine
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Granted
Application number
JP2014247993A
Other languages
Japanese (ja)
Other versions
JP6507607B2 (en
Inventor
細田 朋也
Tomoya Hosoda
朋也 細田
西 栄一
Eiichi Nishi
栄一 西
佐々木 徹
Toru Sasaki
徹 佐々木
松岡 康彦
Yasuhiko Matsuoka
康彦 松岡
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
AGC Inc
Original Assignee
Asahi Glass Co Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Asahi Glass Co Ltd filed Critical Asahi Glass Co Ltd
Priority to JP2014247993A priority Critical patent/JP6507607B2/en
Publication of JP2015133480A publication Critical patent/JP2015133480A/en
Application granted granted Critical
Publication of JP6507607B2 publication Critical patent/JP6507607B2/en
Active legal-status Critical Current
Anticipated expiration legal-status Critical

Links

Landscapes

  • Non-Metallic Protective Coatings For Printed Circuits (AREA)
  • Manufacture Of Macromolecular Shaped Articles (AREA)
  • Adhesive Tapes (AREA)
  • Adhesives Or Adhesive Processes (AREA)

Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To provide an adhesive film for coverlay exhibiting excellent peel strength retention rate between a substrate and wiring and a protective film even if exposed to high temperature environment repeatedly, while reducing discoloration of the protective film, and to provide a coverlay, a wiring board, and a method of manufacturing an electronic apparatus.SOLUTION: An adhesive film for coverlay is capable of molten molding, and contains a fluorine-containing copolymer (A) having at least one kind of functional group selected from a group consisting of a carbonyl radical-containing group, a hydroxy group, an epoxy group and an isocyanate group.

Description

本発明は、カバーレイ用接着フィルム、カバーレイ、配線板、及び電子機器の製造方法に関する。   The present invention relates to a coverlay adhesive film, a coverlay, a wiring board, and a method for manufacturing an electronic device.

近年、自動車の車載用電子機器における電源の供給又は電気信号の伝達には、従来から用いられてきた電線の束からなるワイヤーハーネスに代わり、フレキシブルプリント配線板(以下、「FPC」という。)が用いられるようになっている(特許文献1)。該FPCは、ワイヤーハーネスに比べ軽く、薄く、構造材に沿わせて配線を行うことができることから、自動車部品の軽量化及びモジュール化、並びに自動車内部の省スペース化を可能とする。
FPC等の配線板においては、ポリイミド等を主成分とする基板上に形成された銅等からなる配線は、各種原料からなる保護フィルムにより被覆され保護されている。保護フィルムは、通常、接着剤により配線が形成された基板上に、該配線を覆うように貼着される。
In recent years, a flexible printed wiring board (hereinafter referred to as “FPC”) is used for power supply or electric signal transmission in an in-vehicle electronic device of an automobile, instead of a wire harness composed of a bundle of electric wires conventionally used. (Patent Document 1). Since the FPC is lighter and thinner than a wire harness and can be wired along a structural material, it is possible to reduce the weight and modularity of automobile parts and save space inside the automobile.
In a wiring board such as an FPC, a wiring made of copper or the like formed on a substrate mainly composed of polyimide or the like is covered and protected by a protective film made of various raw materials. The protective film is usually attached to a substrate on which wiring is formed with an adhesive so as to cover the wiring.

しかし、車載用電子機器に用いられるFPCは、150℃程度の高温環境に繰り返し晒されるため、長期間使用により接着剤が劣化しやすい。接着剤が劣化すると、その接着力が低下し、保護フィルムが基板から剥れるため、保護フィルムによる配線保護機能が低下する。
また、車載用電子機器以外のデバイス、例えば、高速処理を行うことができるCPUを有するノートパソコンやスーパーコンピュータ等においても、さらなる小型化、軽量化を図るためFPCが用いられることが増えている。CPUが発する熱により、FPCは高温環境に繰り返し晒されるため、車載用電子機器と同様に、保護フィルムによる配線保護機能が低下する。
However, FPCs used in in-vehicle electronic devices are repeatedly exposed to a high temperature environment of about 150 ° C., so that the adhesive is likely to deteriorate due to long-term use. When the adhesive is deteriorated, the adhesive strength is reduced and the protective film is peeled off from the substrate, so that the wiring protection function by the protective film is lowered.
In addition, devices other than in-vehicle electronic devices, such as notebook personal computers and supercomputers having a CPU capable of performing high-speed processing, are increasingly used for further miniaturization and weight reduction. Since the FPC is repeatedly exposed to a high temperature environment due to the heat generated by the CPU, the wiring protection function by the protective film is reduced as in the case of the in-vehicle electronic device.

これまで、FPCにおける接着剤の劣化に起因する保護フィルムによる配線保護機能の低下に対処するため、接着剤の改良がなされてきている。
例えば、特許文献2には、所定の化学構造を有するポリイミドシロキサンに、少なくとも2つの第1級アミノ基を官能基として有するアミノ化合物を反応させて架橋構造を形成させたポリイミド樹脂が、金属配線との接着力を低下させない接着剤層を形成できることが開示されている。
Up to now, the adhesive has been improved in order to cope with the decrease in the wiring protection function by the protective film resulting from the deterioration of the adhesive in the FPC.
For example, Patent Document 2 discloses a polyimide resin in which a crosslinked structure is formed by reacting an amino compound having at least two primary amino groups as functional groups with polyimidesiloxane having a predetermined chemical structure, It is disclosed that it is possible to form an adhesive layer that does not reduce the adhesive strength of the adhesive.

特開2006−5134号公報JP 2006-5134 A 国際公開第2011/077917号International Publication No. 2011/077917

しかし、大気中、150℃、1000時間の長期耐熱性試験においては、特許文献2に記載のポリイミド樹脂からなる接着剤層により接着された基板及び配線と保護フィルムとの間の剥離強度保持率は、充分ではない。また、高温環境で繰り返し使用すると、該接着剤層は保護フィルムの変色を引き起こしやすい。
そこで、本発明は、高温環境に繰り返し晒されても、基板及び配線と保護フィルムとの間の剥離強度保持率に優れ、かつ、保護フィルムの変色が少ないカバーレイ用接着フィルム、カバーレイ、配線板、及び電子機器の製造方法を提供することを目的とする。
However, in the long-term heat resistance test at 150 ° C. and 1000 hours in the atmosphere, the peel strength retention rate between the substrate and the wiring and the protective film bonded by the adhesive layer made of the polyimide resin described in Patent Document 2 is It ’s not enough. Further, when repeatedly used in a high temperature environment, the adhesive layer tends to cause discoloration of the protective film.
Therefore, the present invention provides a coverlay adhesive film, a coverlay, and a wiring that are excellent in the peel strength retention ratio between the substrate and the wiring and the protective film and are less subject to discoloration even when repeatedly exposed to a high temperature environment. It is an object of the present invention to provide a method for manufacturing a board and an electronic device.

本発明は、以下の[1]〜[11]の構成を有するカバーレイ用接着フィルム、カバーレイ、配線板、及び電子機器の製造方法である。
[1]溶融成形が可能であり、カルボニル基含有基、ヒドロキシ基、エポキシ基、及びイソシアネート基からなる群から選択される少なくとも1種の官能基を有する含フッ素共重合体(A)を含む、カバーレイ用接着フィルム。
[2]前記含フッ素共重合体(A)が、炭素原子間にカルボニル基を含む炭化水素基、カーボネート基、カルボキシル基、ハロホルミル基、アルコキシカルボニル基、及び酸無水物残基からなる群から選択される少なくとも1種の官能基を有する、[1]に記載のカバーレイ用接着フィルム。
[3]前記官能基の含有量が、前記含フッ素共重合体(A)の主鎖炭素数1×10個に対して10〜60000個である、[1]又は[2]に記載のカバーレイ用接着フィルム。
[4]前記含フッ素共重合体(A)の融点が、260〜320℃である、[1]〜[3]のいずれかに記載のカバーレイ用接着フィルム。
[5]保護フィルム上に、[1]〜[4]のいずれかに記載のカバーレイ用接着フィルムが積層されてなる、カバーレイ。
[6]基板と配線と[1]〜[4]のいずれかに記載のカバーレイ用接着フィルムと保護フィルムとを備え、前記基板上に、前記配線、前記カバーレイ用接着フィルム及び前記保護フィルムがこの順で積層されてなる、配線板。
[7]前記配線板を、大気中、温度150℃で1000時間処理した際に、JIS Z8730に準拠した、処理前後の配線板(ただし、配線が無い領域)の色差ΔE(透過)が、2.0以下であることを特徴とする、[6]に記載の配線板。
[8]前記配線板を、大気中、温度150℃で1000時間処理した際に、JIS Z8730に準拠した、処理前後の配線板のカバーレイ用接着フィルムの色差ΔE(反射)が、5.0以下であることを特徴とする、[6]又は[7]に記載の配線板。
[9]車載パワートレインの車載用電子機器用である、[6]〜[8]のいずれかに記載の配線板。
[10]前記車載パワートレインが、ヘッドランプ基板、トランスミッション又はエンジンである、[9]に記載の配線板。
[11][6]〜[10]のいずれかに記載の配線板を備える電子機器の製造方法であって、前記配線板を260℃以上の高温環境下に曝す工程を有することを特徴とする、電子機器の製造方法。
The present invention is a method for manufacturing a coverlay adhesive film, a coverlay, a wiring board, and an electronic device having the following configurations [1] to [11].
[1] A fluorine-containing copolymer (A) that can be melt-molded and has at least one functional group selected from the group consisting of a carbonyl group-containing group, a hydroxy group, an epoxy group, and an isocyanate group, Adhesive film for coverlay.
[2] The fluorine-containing copolymer (A) is selected from the group consisting of a hydrocarbon group containing a carbonyl group between carbon atoms, a carbonate group, a carboxyl group, a haloformyl group, an alkoxycarbonyl group, and an acid anhydride residue. The coverlay adhesive film according to [1], which has at least one functional group.
[3] The content of the functional group according to [1] or [2], wherein the content of the functional group is 10 to 60000 with respect to 1 × 10 6 main chain carbon atoms of the fluorine-containing copolymer (A). Adhesive film for coverlay.
[4] The coverlay adhesive film according to any one of [1] to [3], wherein the fluorine-containing copolymer (A) has a melting point of 260 to 320 ° C.
[5] A coverlay obtained by laminating the coverlay adhesive film according to any one of [1] to [4] on a protective film.
[6] A coverlay adhesive film and a protective film according to any one of [1] to [4], comprising the substrate, the wiring, and the wiring, the coverlay adhesive film, and the protective film on the substrate. Is a wiring board that is laminated in this order.
[7] When the wiring board is treated in the atmosphere at a temperature of 150 ° C. for 1000 hours, the color difference ΔE (transmission) of the wiring board before and after treatment (where no wiring is present) in accordance with JIS Z8730 is 2 The wiring board according to [6], which is 0.0 or less.
[8] When the wiring board is treated in the atmosphere at a temperature of 150 ° C. for 1000 hours, the color difference ΔE (reflection) of the adhesive film for coverlay of the wiring board before and after the treatment according to JIS Z8730 is 5.0. The wiring board according to [6] or [7], wherein:
[9] The wiring board according to any one of [6] to [8], which is for in-vehicle electronic equipment for in-vehicle powertrain.
[10] The wiring board according to [9], wherein the in-vehicle power train is a headlamp board, a transmission, or an engine.
[11] A method for manufacturing an electronic device comprising the wiring board according to any one of [6] to [10], comprising a step of exposing the wiring board to a high temperature environment of 260 ° C. or higher. , Manufacturing method of electronic equipment.

本発明によれば、高温環境に繰り返し晒されても、基板及び配線と保護フィルムとの間の剥離強度保持率に優れ、かつ、保護フィルムの変色が少ないカバーレイ用接着フィルム、カバーレイ、配線板、及び電子機器の製造方法を提供することができる。   According to the present invention, even when repeatedly exposed to a high temperature environment, the adhesive film for coverlay, the coverlay, and the wiring having excellent peel strength retention between the substrate and the wiring and the protective film and less discoloration of the protective film A plate and an electronic device manufacturing method can be provided.

本明細書において「構成単位」とは、モノマーが重合することによって形成された該モノマーに基づく構成単位を意味する。構成単位は、重合反応によって直接形成された単位であってもよく、重合体を処理することによって該単位の一部が別の構造に変換された単位であってもよい。
また、「モノマー」とは、重合性不飽和結合、すなわち重合反応性の炭素−炭素二重結合を有する化合物を意味する。また、「フッ素モノマー」とは、分子内にフッ素原子を有するモノマーを意味し、「非含フッ素モノマー」とは、分子内にフッ素原子を有しないモノマーを意味する。
In the present specification, the “structural unit” means a structural unit based on the monomer formed by polymerization of the monomer. The structural unit may be a unit directly formed by a polymerization reaction, or may be a unit in which a part of the unit is converted into another structure by treating the polymer.
The term “monomer” means a compound having a polymerizable unsaturated bond, that is, a polymerization-reactive carbon-carbon double bond. The “fluorine monomer” means a monomer having a fluorine atom in the molecule, and the “non-fluorine-containing monomer” means a monomer having no fluorine atom in the molecule.

<カバーレイ用接着フィルム>
本発明のカバーレイ用接着フィルムは、溶融成形が可能であり、カルボニル基含有基、ヒドロキシ基、エポキシ基、及びイソシアネート基からなる群から選択される少なくとも1種の官能基を有する含フッ素共重合体(A)を含む。
<Adhesive film for coverlay>
The coverlay adhesive film of the present invention can be melt-molded and has a fluorine-containing copolymer having at least one functional group selected from the group consisting of a carbonyl group-containing group, a hydroxy group, an epoxy group, and an isocyanate group. Includes coalescence (A).

[含フッ素共重合体(A)]
含フッ素共重合体(A)は、溶融成形が可能である。また、含フッ素共重合体(A)は、カルボニル基含有基、ヒドロキシ基、エポキシ基、及びイソシアネート基からなる群から選択される少なくとも1種の官能基(以下、「官能基(I)」という。)を有する。
[Fluorine-containing copolymer (A)]
The fluorine-containing copolymer (A) can be melt-molded. The fluorine-containing copolymer (A) is at least one functional group selected from the group consisting of a carbonyl group-containing group, a hydroxy group, an epoxy group, and an isocyanate group (hereinafter referred to as “functional group (I)”). .)

(溶融成形可能)
含フッ素共重合体(A)は、溶融成形が可能なものである。「溶融成形が可能」であるとは、溶融流動性を示すことを意味する。
含フッ素共重合体(A)において、該含フッ素共重合体(A)の融点よりも20℃以上高い温度(通常、372℃が採用される。)における溶融流れ速度(Melt Flow Rate:以下、「MFR」という。)は、0.1〜1000g/10分が好ましく、0.5〜100g/10分がより好ましく、1〜30g/10分がさらに好ましく、5〜20g/10分が最も好ましい。
MFRが前記下限値以上であれば、該含フッ素共重合体(A)の成形加工性や、該含フッ素共重合体(A)を用いて形成されたカバーレイ用接着フィルムは、表面平滑性、外観性に優れ、前記上限値以下であれば、該含フッ素共重合体(A)を含有するカバーレイ用接着フィルムは、機械強度に優れる。
MFRの値は、含フッ素共重合体(A)の分子量の指標にもなり、MFRが速いと分子量が小さく、MFRが遅いと分子量が大きいことを示す。含フッ素共重合体(A)のMFR及び分子量は、含フッ素共重合体(A)の製造条件によって調整できる。例えば、モノマーの重合時に重合時間を短縮すると、MFRが大きくなる傾向にある。
(Moldable)
The fluorine-containing copolymer (A) can be melt-molded. “Melting is possible” means exhibiting melt fluidity.
In the fluorinated copolymer (A), the melt flow rate (Melt Flow Rate: hereinafter) at a temperature 20 ° C. or higher (usually 372 ° C. is adopted) higher than the melting point of the fluorinated copolymer (A). "MFR") is preferably 0.1 to 1000 g / 10 minutes, more preferably 0.5 to 100 g / 10 minutes, further preferably 1 to 30 g / 10 minutes, and most preferably 5 to 20 g / 10 minutes. .
If the MFR is equal to or greater than the lower limit, the processability of the fluorinated copolymer (A) and the coverlay adhesive film formed using the fluorinated copolymer (A) have surface smoothness. If it is excellent in appearance and not more than the above upper limit value, the coverlay adhesive film containing the fluorine-containing copolymer (A) is excellent in mechanical strength.
The value of MFR also serves as an index of the molecular weight of the fluorinated copolymer (A). When the MFR is fast, the molecular weight is small, and when the MFR is slow, the molecular weight is large. The MFR and molecular weight of the fluorinated copolymer (A) can be adjusted according to the production conditions of the fluorinated copolymer (A). For example, if the polymerization time is shortened during the polymerization of the monomer, the MFR tends to increase.

(官能基(I))
含フッ素共重合体(A)は、官能基(I)を有する。
官能基(I)を有することで、カバーレイ用接着フィルムと保護フィルムとの間の密着性が向上する。これは、官能基(I)が、ポリイミドが有する官能基、例えば、カルボニル基との間で化学的な相互作用が生じることによるものと推定される。
含フッ素共重合体(A)が有する官能基(I)は、1種でもよく、2種以上でもよい。
含フッ素共重合体(A)は、官能基(I)の中でも、カルボニル基含有基を有するものが好ましい。
(Functional group (I))
The fluorine-containing copolymer (A) has a functional group (I).
By having the functional group (I), the adhesion between the coverlay adhesive film and the protective film is improved. This is presumed to be due to the chemical interaction between the functional group (I) and the functional group of the polyimide, such as a carbonyl group.
The functional group (I) possessed by the fluorinated copolymer (A) may be one type or two or more types.
Among the functional groups (I), the fluorine-containing copolymer (A) preferably has a carbonyl group-containing group.

また、含フッ素共重合体(A)は、官能基(I)を、主鎖末端に有していてもよく、側鎖に有していてもよく、これら両方に有していてもよい。
主鎖末端基としての官能基(I)としては、アルコキシカルボニル基、カーボネート基、ヒドロキシ基、カルボキシル基、フルオロホルミル基、酸無水物残基等が好ましい。これらの官能基は、含フッ素共重合体(A)の製造時に用いられるラジカル重合開始剤及び連鎖移動剤等を適宜選択することにより導入できる。
なお、本明細書において主鎖とは、鎖式化合物の主要な炭素鎖であり、一般に、炭素数が最大となる幹にあたる部分を指す。
Moreover, the fluorine-containing copolymer (A) may have the functional group (I) at the main chain terminal, may be included in the side chain, or may be included in both of them.
As the functional group (I) as the main chain terminal group, an alkoxycarbonyl group, a carbonate group, a hydroxy group, a carboxyl group, a fluoroformyl group, an acid anhydride residue and the like are preferable. These functional groups can be introduced by appropriately selecting a radical polymerization initiator, a chain transfer agent and the like used in the production of the fluorine-containing copolymer (A).
In the present specification, the main chain is a main carbon chain of the chain compound, and generally indicates a portion corresponding to a trunk having the maximum number of carbon atoms.

含フッ素共重合体(A)中の官能基(I)の含有量は、含フッ素共重合体(A)の主鎖炭素数1×10個に対し10〜60000個が好ましく、100〜50000個がより好ましく、100〜10000個がさらに好ましく、300〜5000個が特に好ましい。
官能基(I)の含有量が前記下限値以上であれば、カバーレイ用接着フィルムと保護フィルムとの間の密着性がより優れたものとなり、前記上限値以下であれば、低い加工温度で保護フィルムとの密着性をより高められる。
前記官能基(I)の含有量は、核磁気共鳴(NMR)分析、赤外吸収スペクトル分析等の方法により、測定できる。例えば、特開2007−314720号公報に記載のように赤外吸収スペクトル分析等の方法を用いて、含フッ素共重合体(A)を構成する全構成単位中の官能基(I)を有する構成単位の割合(モル%)を求め、該割合から、官能基(I)の含有量を算出することができる。
The content of the functional group (I) in the fluorinated copolymer (A) is preferably 10 to 60000 with respect to 1 × 10 6 main chain carbon atoms of the fluorinated copolymer (A), and preferably 100 to 50000. Are more preferable, 100-10000 are further more preferable, and 300-5000 are especially preferable.
If the content of the functional group (I) is not less than the above lower limit value, the adhesion between the coverlay adhesive film and the protective film will be more excellent, and if it is not more than the above upper limit value, at a low processing temperature. Adhesion with the protective film can be further enhanced.
The content of the functional group (I) can be measured by methods such as nuclear magnetic resonance (NMR) analysis and infrared absorption spectrum analysis. For example, a structure having a functional group (I) in all the structural units constituting the fluorine-containing copolymer (A) using a method such as infrared absorption spectrum analysis as described in JP-A-2007-314720 The unit ratio (mol%) is obtained, and the content of the functional group (I) can be calculated from the ratio.

以下、官能基(I)の中でも、カルボニル基含有基について詳述する。
カルボニル基含有基は、構造中にカルボニル基(−C(=O)−)を含む基であり、例えば、炭素原子間にカルボニル基を含む炭化水素基、カーボネート基、カルボキシル基、ハロホルミル基、アルコキシカルボニル基、酸無水物残基等が挙げられる。
炭素原子間にカルボニル基を含む炭化水素基の炭化水素基としては、例えば、炭素数2〜8のアルキレン基等が挙げられる。
カーボネート基としては、パーオキシカーボネート基(−O−C(=O)−O−O−C(=O)−O−)等が挙げられる。
ハロホルミル基は、−C(=O)−X(Xはハロゲン原子である。)で表される。ハロホルミル基におけるハロゲン原子としては、フッ素原子、塩素原子等が挙げられ、フッ素原子が好ましい。すなわち、ハロホルミル基としてはフルオロホルミル基(カルボニルフルオリド基ともいう。)が好ましい。
アルコキシカルボニル基におけるアルコキシ基は、炭素数1〜8のアルコキシ基が好ましく、メトキシ基又はエトキシ基が特に好ましい。
酸無水物残基としては、酸無水物残基と重合性不飽和結合とを有するモノマー(以下、「AMモノマー」という。)により形成される基が挙げられ、具体的には、無水イタコン酸(以下、「IAH」という。)、無水シトラコン酸(以下、「CAH」という。)、5−ノルボルネン−2,3−ジカルボン酸無水物(以下、「NAH」という。)、無水マレイン酸により形成される基等が挙げられる。中でも、IAH、CAH及びNAHからなる群から選ばれる1種以上により形成される基が好ましく、IAH又はCAHにより形成される基がより好ましい。
Hereinafter, among the functional groups (I), the carbonyl group-containing group will be described in detail.
The carbonyl group-containing group is a group containing a carbonyl group (—C (═O) —) in the structure. For example, a hydrocarbon group containing a carbonyl group between carbon atoms, a carbonate group, a carboxyl group, a haloformyl group, an alkoxy group. A carbonyl group, an acid anhydride residue, etc. are mentioned.
Examples of the hydrocarbon group of the hydrocarbon group containing a carbonyl group between carbon atoms include alkylene groups having 2 to 8 carbon atoms.
Examples of the carbonate group include a peroxycarbonate group (—O—C (═O) —O—O—C (═O) —O—) and the like.
The haloformyl group is represented by —C (═O) —X 0 (X 0 is a halogen atom). Examples of the halogen atom in the haloformyl group include a fluorine atom and a chlorine atom, and a fluorine atom is preferable. That is, the haloformyl group is preferably a fluoroformyl group (also referred to as a carbonyl fluoride group).
The alkoxy group in the alkoxycarbonyl group is preferably an alkoxy group having 1 to 8 carbon atoms, and particularly preferably a methoxy group or an ethoxy group.
Examples of the acid anhydride residue include a group formed by a monomer having an acid anhydride residue and a polymerizable unsaturated bond (hereinafter referred to as “AM monomer”), and specifically, itaconic anhydride. (Hereinafter referred to as “IAH”), citraconic anhydride (hereinafter referred to as “CAH”), 5-norbornene-2,3-dicarboxylic anhydride (hereinafter referred to as “NAH”), and maleic anhydride. And the like. Among these, a group formed by one or more selected from the group consisting of IAH, CAH and NAH is preferable, and a group formed by IAH or CAH is more preferable.

カルボニル基含有基を有する含フッ素共重合体の具体例としては、テトラフルオロエチレン(以下、「TFE」という。)に基づく構成単位(a1)と、酸無水物残基と重合性不飽和結合とを有する環状炭化水素モノマーに基づく構成単位(a2)と、含フッ素モノマー(ただし、TFEを除く。)に基づく構成単位(a3)とを含有する共重合体(以下、「含フッ素共重合体(A1)」という。)が挙げられる。
ここで、構成単位(a2)が有する酸無水物残基が、官能基(I)に相当する。
以下、含フッ素共重合体(A1)の各構成単位について詳述する。
Specific examples of the fluorine-containing copolymer having a carbonyl group-containing group include a structural unit (a1) based on tetrafluoroethylene (hereinafter referred to as “TFE”), an acid anhydride residue, and a polymerizable unsaturated bond. A copolymer containing a structural unit (a2) based on a cyclic hydrocarbon monomer having a structural unit (a3) based on a fluorine-containing monomer (excluding TFE) (hereinafter referred to as “fluorinated copolymer ( A1) ")).
Here, the acid anhydride residue of the structural unit (a2) corresponds to the functional group (I).
Hereinafter, each structural unit of a fluorine-containing copolymer (A1) is explained in full detail.

(含フッ素共重合体(A1))
構成単位(a1):
構成単位(a1)は、TFEに基づく構成単位である。
(Fluorine-containing copolymer (A1))
Structural unit (a1):
The structural unit (a1) is a structural unit based on TFE.

構成単位(a2):
構成単位(a2)を形成する酸無水物残基と重合性不飽和結合とを有する環状炭化水素モノマーとしては、IAH、CAH、NAH、無水マレイン酸等が挙げられる。これらは、1種単独で用いても、2種以上用いてもよい。
上記の中でも、IAH、CAH、NAHからなる群から選ばれる1種以上が好ましい。IAH、CAH、NAHからなる群から選ばれる1種以上を用いると、無水マレイン酸を用いた場合に必要となる特殊な重合方法(特開平11−193312号公報参照。)を用いることなく、酸無水物残基を含有する含フッ素共重合体(A)を容易に製造できる。
IAH、CAH、NAHの中でも、保護フィルムとの密着性がより優れる点から、NAHが好ましい。
Structural unit (a2):
Examples of the cyclic hydrocarbon monomer having an acid anhydride residue forming the structural unit (a2) and a polymerizable unsaturated bond include IAH, CAH, NAH, maleic anhydride and the like. These may be used alone or in combination of two or more.
Among the above, at least one selected from the group consisting of IAH, CAH, and NAH is preferable. When at least one selected from the group consisting of IAH, CAH, and NAH is used, the acid can be used without using a special polymerization method (see JP-A-11-19312) required when maleic anhydride is used. The fluorine-containing copolymer (A) containing an anhydride residue can be easily produced.
Among IAH, CAH, and NAH, NAH is preferable because it is more excellent in adhesion to the protective film.

構成単位(a3):
構成単位(a3)を形成する含フッ素モノマーとしては、重合性二重結合を1つ有する含フッ素化合物が好ましく、例えば、フッ化ビニル、フッ化ビニリデン(以下、「VdF」という。)、トリフルオロエチレン、クロロトリフルオロエチレン(以下、「CTFE」という。)、ヘキサフルオロプロピレン(以下、「HFP」という。)等のフルオロオレフィン(ただし、TFEを除く。)、CF=CFORf1(ただし、Rf1は炭素数1〜10で炭素原子間に酸素原子を含んでもよいペルフルオロアルキル基。)、CF=CFORf2SO(ただし、Rf2は炭素数1〜10で炭素原子間に酸素原子を含んでもよいペルフルオロアルキレン基、Xはハロゲン原子又は水酸基。)、CF=CFORf3CO(ただし、Rf3は炭素数1〜10で炭素原子間に酸素原子を含んでもよいペルフルオロアルキレン基、Xは水素原子又は炭素数3以下のアルキル基。)、CF=CF(CFOCF=CF(ただしpは1又は2。)、CH=CX(CF(ただし、Xは水素原子又はフッ素原子、qは2から10の整数、Xは水素原子又はフッ素原子。)、及びペルフルオロ(2−メチレン−4−メチル−1、3−ジオキソラン)等が挙げられる。
これら含フッ素モノマーの中でも、VdF、CTFE、HFP、CF=CFORf1、及びCH=CX(CFからなる群から選ばれる少なくとも1種が好ましく、CF=CFORf1、HFPがより好ましい。
CF=CFORf1としては、CF=CFOCFCF、CF=CFOCFCFCF、CF=CFOCFCFCFCF、CF=CFO(CFF等が挙げられ、CF=CFOCFCFCF(以下、「PPVE」という。)が好ましい。
CH=CX(CFとしては、CH=CH(CFF、CH=CH(CFF、CH=CH(CFF、CH=CF(CFH、CH=CF(CFH等が挙げられ、CH=CH(CFF、又はCH=CH(CFFが好ましい。
Structural unit (a3):
The fluorine-containing monomer that forms the structural unit (a3) is preferably a fluorine-containing compound having one polymerizable double bond, and examples thereof include vinyl fluoride, vinylidene fluoride (hereinafter referred to as “VdF”), and trifluoro. Fluoroolefins (excluding TFE) such as ethylene, chlorotrifluoroethylene (hereinafter referred to as “CTFE”), hexafluoropropylene (hereinafter referred to as “HFP”), CF 2 = CFOR f1 (where RFE f1 is a perfluoroalkyl group having 1 to 10 carbon atoms and may contain an oxygen atom between carbon atoms.), CF 2 = CFOR f2 SO 2 X 1 (wherein R f2 is an oxygen atom having 1 to 10 carbon atoms and an oxygen atom between carbon atoms) contain atoms which may perfluoroalkylene group, X 1 is a halogen atom or a hydroxyl group.), CF 2 = CFOR f3 CO X 2 (provided that, R f3 is also good perfluoroalkylene group contain an oxygen atom between carbon atoms at 1 to 10 carbon atoms, X 2 is a hydrogen atom or an alkyl group having 3 or less carbon atoms.), CF 2 = CF ( CF 2 ) p OCF = CF 2 (where p is 1 or 2), CH 2 = CX 3 (CF 2 ) q X 4 (where X 3 is a hydrogen atom or a fluorine atom, q is an integer of 2 to 10, X 4 is a hydrogen atom or a fluorine atom.) And perfluoro (2-methylene-4-methyl-1,3-dioxolane).
Among these fluorine-containing monomers, at least one selected from the group consisting of VdF, CTFE, HFP, CF 2 = CFOR f1 , and CH 2 = CX 3 (CF 2 ) q X 4 is preferable, CF 2 = CFOR f1 , HFP is more preferred.
As CF 2 = CFOR f1 , CF 2 = CFOCF 2 CF 3 , CF 2 = CFOCF 2 CF 2 CF 3 , CF 2 = CFOCF 2 CF 2 CF 2 CF 3 , CF 2 = CFO (CF 2 ) 8 F, etc. CF 2 = CFOCF 2 CF 2 CF 3 (hereinafter referred to as “PPVE”) is preferable.
As CH 2 = CX 3 (CF 2 ) q X 4 , CH 2 = CH (CF 2 ) 2 F, CH 2 = CH (CF 2 ) 3 F, CH 2 = CH (CF 2 ) 4 F, CH 2 ═CF (CF 2 ) 3 H, CH 2 ═CF (CF 2 ) 4 H and the like, and CH 2 ═CH (CF 2 ) 4 F or CH 2 ═CH (CF 2 ) 2 F are preferable.

各構成単位の含有量:
含フッ素共重合体(A)は、構成単位(a1)と構成単位(a2)と構成単位(a3)との合計モル量に対して、構成単位(a1)が50〜99.89モル%で、構成単位(a2)が0.01〜5モル%で、構成単位(a3)が0.1〜49.99モル%であることが好ましく、構成単位(a1)が50〜99.4モル%で、構成単位(a2)が0.1〜3モル%で、構成単位(a3)が0.5〜49.9モル%であることがより好ましく、構成単位(a1)が50〜98.9モル%で、構成単位(a2)が0.1〜2モル%で、構成単位(a3)が1〜49.9モル%であることが特に好ましい。
各構成単位の含有量が前記範囲内であると、含フッ素共重合体(A)が耐熱性、耐薬品性に優れ、これを含むカバーレイ用接着フィルムが高温での弾性率に優れる。
特に、構成単位(a2)の含有量が前記範囲内であると、含フッ素共重合体(A)の有する酸無水物残基の量が適切な量となり、保護フィルムとの間の密着性に優れる。
構成単位(a3)の含有量が前記範囲内であると、含フッ素共重合体(A)は成形性に優れ、これを含むカバーレイ用接着フィルムが耐ストレスクラック性等の機械物性により優れる。
Content of each structural unit:
In the fluorine-containing copolymer (A), the structural unit (a1) is 50 to 99.89 mol% with respect to the total molar amount of the structural unit (a1), the structural unit (a2), and the structural unit (a3). The structural unit (a2) is preferably 0.01 to 5 mol%, the structural unit (a3) is preferably 0.1 to 49.99 mol%, and the structural unit (a1) is 50 to 99.4 mol%. It is more preferable that the structural unit (a2) is 0.1 to 3 mol%, the structural unit (a3) is 0.5 to 49.9 mol%, and the structural unit (a1) is 50 to 98.9. It is particularly preferable that the structural unit (a2) is 0.1 to 2 mol% and the structural unit (a3) is 1 to 49.9 mol%.
When the content of each structural unit is within the above range, the fluorinated copolymer (A) is excellent in heat resistance and chemical resistance, and the adhesive film for coverlay including this is excellent in elastic modulus at high temperature.
In particular, when the content of the structural unit (a2) is within the above range, the amount of the acid anhydride residue of the fluorine-containing copolymer (A) becomes an appropriate amount, and the adhesion to the protective film is improved. Excellent.
When the content of the structural unit (a3) is within the above range, the fluorinated copolymer (A) is excellent in moldability, and the coverlay adhesive film containing this is excellent in mechanical properties such as stress crack resistance.

各構成単位の含有量は、含フッ素共重合体(A)の溶融NMR分析、フッ素含有量分析及び赤外吸収スペクトル分析等により算出できる。
なお、含フッ素共重合体(A)が構成単位(a1)と構成単位(a2)と構成単位(a3)とからなる場合、構成単位(a2)の含有量が、構成単位(a1)と構成単位(a2)と構成単位(a3)との合計モル量に対して0.01モル%とは、該含フッ素共重合体(A)中の構成単位(a1)と構成単位(a2)と構成単位(a3)部分の酸無水物残基の含有量が含フッ素共重合体(A)中の構成単位(a1)と構成単位(a2)と構成単位(a3)部分の主鎖炭素数1×10個に対して100個であることに相当する。また、構成単位(a2)の含有量が、構成単位(a1)と構成単位(a2)と構成単位(a3)との合計モル量に対して5モル%とは、該含フッ素共重合体(A)中の酸無水物残基の含有量が含フッ素共重合体(A)の主鎖炭素数1×10個に対して50000個であることに相当する。
構成単位(a2)を有する含フッ素共重合体(A)には、酸無水物残基と重合性不飽和結合とを有する環状炭化水素モノマーが一部加水分解し、その結果、酸無水物残基に対応するジカルボン酸(イタコン酸、シトラコン酸、5−ノルボルネン−2,3−ジカルボン酸、マレイン酸等。)に基づく構成単位が含まれる場合がある。該ジカルボン酸に基づく構成単位が含まれる場合、該構成単位の含有量は、構成単位(a2)に含まれるものとする。
The content of each structural unit can be calculated by melting NMR analysis, fluorine content analysis, infrared absorption spectrum analysis, and the like of the fluorine-containing copolymer (A).
When the fluorine-containing copolymer (A) is composed of the structural unit (a1), the structural unit (a2), and the structural unit (a3), the content of the structural unit (a2) is the same as that of the structural unit (a1) and the structural unit. 0.01 mol% with respect to the total molar amount of the unit (a2) and the structural unit (a3) means the structural unit (a1), the structural unit (a2) and the structural unit in the fluorine-containing copolymer (A). The content of the acid anhydride residue in the unit (a3) portion is the number of main chain carbon atoms of the structural unit (a1), the structural unit (a2) and the structural unit (a3) in the fluorine-containing copolymer (A) 1 × This is equivalent to 100 for 10 6 . The content of the structural unit (a2) is 5 mol% with respect to the total molar amount of the structural unit (a1), the structural unit (a2), and the structural unit (a3). This corresponds to the content of the acid anhydride residue in A) being 50,000 with respect to 1 × 10 6 main chain carbon atoms of the fluorine-containing copolymer (A).
In the fluorine-containing copolymer (A) having the structural unit (a2), a cyclic hydrocarbon monomer having an acid anhydride residue and a polymerizable unsaturated bond is partially hydrolyzed, resulting in an acid anhydride residue. A structural unit based on a dicarboxylic acid corresponding to a group (itaconic acid, citraconic acid, 5-norbornene-2,3-dicarboxylic acid, maleic acid, etc.) may be included. When the structural unit based on this dicarboxylic acid is contained, content of this structural unit shall be contained in a structural unit (a2).

構成単位(a4):
含フッ素共重合体(A1)は、上述の構成単位(a1)〜(a3)に加えて、非含フッ素モノマー(ただし、酸無水物残基と重合性不飽和結合とを有する環状炭化水素モノマーを除く。)に基づく構成単位(a4)を有していてもよい。
構成単位(a4)を形成する非含フッ素モノマー(ただし、酸無水物残基と重合性不飽和結合とを有する環状炭化水素モノマーを除く。)としては、重合性二重結合を1つ有する非含フッ素化合物が好ましく、例えば、エチレン、プロピレン等の炭素数3以下のオレフィン、酢酸ビニル等のビニルエステル等が挙げられる。
これらは、1種単独で用いても、2種以上用いてもよい。
中でも、エチレン、プロピレン、酢酸ビニルが好ましく、エチレンが特に好ましい。
Structural unit (a4):
The fluorinated copolymer (A1) is a non-fluorinated monomer (however, a cyclic hydrocarbon monomer having an acid anhydride residue and a polymerizable unsaturated bond) in addition to the structural units (a1) to (a3). The structural unit (a4) based on the above may be included.
As the non-fluorine-containing monomer forming the structural unit (a4) (excluding a cyclic hydrocarbon monomer having an acid anhydride residue and a polymerizable unsaturated bond), a non-fluorinated monomer having one polymerizable double bond is used. Fluorine-containing compounds are preferred, and examples thereof include olefins having 3 or less carbon atoms such as ethylene and propylene, and vinyl esters such as vinyl acetate.
These may be used alone or in combination of two or more.
Among these, ethylene, propylene, and vinyl acetate are preferable, and ethylene is particularly preferable.

含フッ素共重合体(A)が構成単位(a4)を有する場合、構成単位(a4)の含有量は、構成単位(a1)と構成単位(a2)と構成単位(a3)の合計量に対して5〜90モル%が好ましく、5〜80モル%がより好ましく、10〜65モル%が最も好ましい。   When the fluorine-containing copolymer (A) has the structural unit (a4), the content of the structural unit (a4) is based on the total amount of the structural unit (a1), the structural unit (a2), and the structural unit (a3). 5 to 90 mol% is preferable, 5 to 80 mol% is more preferable, and 10 to 65 mol% is most preferable.

含フッ素共重合体(A1)の具体例:
含フッ素共重合体(A1)としては、TFE/PPVE/NAH共重合体、TFE/PPVE/IAH共重合体、TFE/PPVE/CAH共重合体、TFE/HFP/IAH共重合体、TFE/HFP/CAH共重合体、TFE/VdF/IAH共重合体、TFE/VdF/CAH共重合体、TFE/CH=CH(CFF/IAH/エチレン共重合体、TFE/CH=CH(CFF/CAH/エチレン共重合体、TFE/CH=CH(CFF/IAH/エチレン共重合体、TFE/CH=CH(CFF/CAH/エチレン共重合体等が挙げられる。
Specific examples of the fluorine-containing copolymer (A1):
Examples of the fluorine-containing copolymer (A1) include TFE / PPVE / NAH copolymer, TFE / PPVE / IAH copolymer, TFE / PPVE / CAH copolymer, TFE / HFP / IAH copolymer, TFE / HFP. / CAH copolymer, TFE / VdF / IAH copolymer, TFE / VdF / CAH copolymer, TFE / CH 2 ═CH (CF 2 ) 4 F / IAH / ethylene copolymer, TFE / CH 2 ═CH (CF 2 ) 4 F / CAH / ethylene copolymer, TFE / CH 2 ═CH (CF 2 ) 2 F / IAH / ethylene copolymer, TFE / CH 2 ═CH (CF 2 ) 2 F / CAH / ethylene A copolymer etc. are mentioned.

(含フッ素共重合体(A)の融点)
含フッ素共重合体(A)の融点は、260〜320℃が好ましく、280〜320℃がより好ましく、290〜315℃がさらに好ましく、295〜310℃が最も好ましい。含フッ素共重合体(A)の融点が前記下限値以上であれば耐熱性に優れ、前記上限値以下であれば、成形性に優れる。
含フッ素共重合体(A)の融点は、当該含フッ素共重合体(A)を構成する構成単位の種類や含有割合、分子量等によって調整できる。例えば、後述する構成単位(a1)の割合が多くなるほど、融点が上がる傾向にある。
(Melting point of fluorine-containing copolymer (A))
The melting point of the fluorinated copolymer (A) is preferably 260 to 320 ° C, more preferably 280 to 320 ° C, further preferably 290 to 315 ° C, and most preferably 295 to 310 ° C. If the melting point of the fluorinated copolymer (A) is not less than the lower limit, the heat resistance is excellent, and if it is not more than the upper limit, the moldability is excellent.
Melting | fusing point of a fluorine-containing copolymer (A) can be adjusted with the kind of the structural unit which comprises the said fluorine-containing copolymer (A), a content rate, molecular weight, etc. For example, the melting point tends to increase as the proportion of the structural unit (a1) described later increases.

[カバーレイ用接着フィルムの製造方法]
カバーレイ用接着フィルムは、常法により製造できる。例えば、含フッ素共重合体(A)、及び必要により添加剤を配合して混練して含フッ素樹脂組成物とし、押出成形、インフレーション成形等の公知の成形法によりフィルム状に成形することにより製造できる。
また、カバーレイ用接着フィルムの表面、例えば、保護フィルムと接する面は、保護フィルムとの接着性を高めるために、表面処理が施されてもよい。表面処理方法は、特に限定されず、コロナ放電処理、プラズマ処理等の公知の表面処理方法が挙げられる。
また、カバーレイ用接着フィルムの厚みは、特に限定されず、例えば、5〜100μmが好ましい。
[Method for producing coverlay adhesive film]
The coverlay adhesive film can be produced by a conventional method. For example, a fluorine-containing copolymer (A) and, if necessary, an additive are blended and kneaded to obtain a fluorine-containing resin composition, which is produced by molding into a film by a known molding method such as extrusion molding or inflation molding. it can.
Moreover, the surface of the adhesive film for coverlay, for example, the surface in contact with the protective film, may be subjected to a surface treatment in order to improve the adhesion to the protective film. The surface treatment method is not particularly limited, and examples thereof include known surface treatment methods such as corona discharge treatment and plasma treatment.
Moreover, the thickness of the adhesive film for coverlays is not specifically limited, For example, 5-100 micrometers is preferable.

(含フッ素共重合体(A))
含フッ素共重合体(A)は、常法により製造できる。
官能基(I)を有する含フッ素共重合体(A)の製造方法としては、例えば、(1)重合反応で含フッ素共重合体(A)を製造する際に、官能基(I)を有するモノマーを使用する方法(以下、「方法(1)」という。)、(2)官能基(I)を有するラジカル重合開始剤や連鎖移動剤を用いて、重合反応で含フッ素共重合体(A)を製造する方法(以下、「方法(2)」という。)、(3)官能基(I)を有しない含フッ素共重合体を加熱して、該含フッ素共重合体を部分的に熱分解することで、反応性官能基(例えば、カルボニル基)を生成させ、官能基(I)を有する含フッ素共重合体(A)を得る方法、(4)官能基(I)を有しない含フッ素共重合体に、官能基(I)を有するモノマーをグラフト重合して、該含フッ素共重合体に官能基(I)を導入する方法等が挙げられる。
中でも、接着力向上の点から、方法(1)が好ましい。
(Fluorine-containing copolymer (A))
The fluorine-containing copolymer (A) can be produced by a conventional method.
As a manufacturing method of the fluorine-containing copolymer (A) which has a functional group (I), for example, when manufacturing a fluorine-containing copolymer (A) by (1) polymerization reaction, it has a functional group (I). A method using a monomer (hereinafter referred to as “method (1)”), (2) a fluorine-containing copolymer (A) by a polymerization reaction using a radical polymerization initiator or a chain transfer agent having a functional group (I). ) (Hereinafter referred to as “method (2)”), (3) the fluorine-containing copolymer having no functional group (I) is heated to partially heat the fluorine-containing copolymer. A method of obtaining a fluorine-containing copolymer (A) having a functional group (I) by generating a reactive functional group (for example, a carbonyl group) by decomposing, and (4) containing no functional group (I). The fluorine-containing copolymer is graft-polymerized with a monomer having a functional group (I) to form the fluorine-containing copolymer. A method in which introducing a functional group (I).
Among these, the method (1) is preferable from the viewpoint of improving the adhesive strength.

重合方式としては、塊状重合方式、フッ化炭化水素、塩化炭化水素、フッ化塩化炭化水素、アルコール、炭化水素等の有機溶媒を使用する溶液重合方式、水性媒体と必要に応じて適当な有機溶剤とを使用する懸濁重合方式、水性媒体と乳化剤とを使用する乳化重合方式等が挙げられる。中でも、溶液重合方式が好ましい。   As polymerization methods, bulk polymerization methods, solution polymerization methods using organic solvents such as fluorinated hydrocarbons, chlorinated hydrocarbons, fluorinated chlorohydrocarbons, alcohols, hydrocarbons, aqueous media and appropriate organic solvents as required And suspension polymerization method using an aqueous medium, and emulsion polymerization method using an aqueous medium and an emulsifier. Among these, the solution polymerization method is preferable.

ラジカル重合開始剤:
ラジカル重合開始剤としては、その半減期が10時間である温度が、0〜100℃である開始剤が好ましく、20〜90℃である開始剤がより好ましい。
具体例としては、アゾビスイソブチロニトリル等のアゾ化合物、イソブチリルペルオキシド、オクタノイルペルオキシド、ベンゾイルペルオキシド、ラウロイルペルオキシド等の非フッ素系ジアシルペルオキシド、ジイソプロピルペルオキシジカ−ボネート等のペルオキシジカーボネート、tert−ブチルペルオキシピバレート、tert−ブチルペルオキシイソブチレート、tert−ブチルペルオキシアセテート等のペルオキシエステル、(Z(CFCOO)(ここで、Zは水素原子、フッ素原子又は塩素原子であり、rは1〜10の整数である。)で表される化合物等の含フッ素ジアシルペルオキシド、過硫酸カリウム、過硫酸ナトリウム、過硫酸アンモニウム等の無機過酸化物等が挙げられる。
Radical polymerization initiator:
As the radical polymerization initiator, an initiator whose half-life is 10 hours is preferably 0 to 100 ° C, and more preferably an initiator whose temperature is 20 to 90 ° C.
Specific examples include azo compounds such as azobisisobutyronitrile, non-fluorine diacyl peroxides such as isobutyryl peroxide, octanoyl peroxide, benzoyl peroxide and lauroyl peroxide, peroxydicarbonates such as diisopropylperoxydicarbonate, tert - butyl peroxypivalate, tert- butylperoxy isobutyrate, tert- butyl peroxy ester peroxy acetate, etc., 2 (where (Z (CF 2) r COO ), Z represents a hydrogen atom, a fluorine atom or a chlorine atom , R is an integer of 1 to 10.) Fluorine-containing diacyl peroxide such as a compound represented by formula (I), inorganic peroxides such as potassium persulfate, sodium persulfate, and ammonium persulfate.

連鎖移動剤:
重合時には、含フッ素共重合体(A)の溶融粘度を制御するために、連鎖移動剤を使用することも好ましい。
連鎖移動剤としては、メタノール、エタノール等のアルコール、1,3−ジクロロ−1,1,2,2,3−ペンタフルオロプロパン、1,1−ジクロロ−1−フルオロエタン等のクロロフルオロハイドロカーボン、ペンタン、ヘキサン、シクロヘキサン等のハイドロカーボン等が挙げられる。
Chain transfer agent:
In the polymerization, it is also preferable to use a chain transfer agent in order to control the melt viscosity of the fluorinated copolymer (A).
Chain transfer agents include alcohols such as methanol and ethanol, chlorofluorohydrocarbons such as 1,3-dichloro-1,1,2,2,3-pentafluoropropane, 1,1-dichloro-1-fluoroethane, Examples thereof include hydrocarbons such as pentane, hexane, and cyclohexane.

ラジカル重合開始剤及び連鎖移動剤のうち一方又は両方は、官能基(I)を有する化合物を用いてもよい。これにより、製造される含フッ素共重合体(A)の主鎖末端に、官能基(I)を導入することができる(上述の方法(2))。
このようなラジカル重合開始剤としては、ジ−n−プロピルペルオキシジカーボネート、ジイソプロピルペルオキシカーボネート、t−ブチルペルオキシイソプロピルカーボネート、ビス(4−t−ブチルシクロヘキシル)ペルオキシジカーボネート、ジ−2−エチルヘキシルペルオキシジカーボネート等が挙げられる。また、このような連鎖移動剤としては、酢酸、無水酢酸、酢酸メチル、エチレングリコール、プロピレングリコール等が挙げられる。
One or both of the radical polymerization initiator and the chain transfer agent may be a compound having a functional group (I). Thereby, functional group (I) can be introduce | transduced into the principal chain terminal of the fluorine-containing copolymer (A) manufactured (the above-mentioned method (2)).
Examples of such radical polymerization initiators include di-n-propyl peroxydicarbonate, diisopropyl peroxycarbonate, t-butyl peroxyisopropyl carbonate, bis (4-t-butylcyclohexyl) peroxydicarbonate, di-2-ethylhexyl peroxydi. And carbonate. Examples of such chain transfer agents include acetic acid, acetic anhydride, methyl acetate, ethylene glycol, propylene glycol and the like.

有機溶媒:
溶液重合方式で使用される有機溶媒としては、ペルフルオロカーボン、ヒドロフルオロカーボン、クロロヒドロフルオロカーボン、ヒドロフルオロエーテル等が用いられる。これらの化合物の炭素数は、4〜12が好ましい。
ペルフルオロカーボンの具体例としては、ペルフルオロシクロブタン、ペルフルオロペンタン、ペルフルオロヘキサン、ペルフルオロシクロペンタン、ペルフルオロシクロヘキサン等が挙げられる。
ヒドロフルオロカーボンの具体例としては、1−ヒドロペルフルオロヘキサン等が挙げられる。
クロロヒドロフルオロカーボンの具体例としては、1,3−ジクロロ−1,1,2,2,3−ペンタフルオロプロパン等が挙げられる。
ヒドロフルオロエーテルの具体例としては、メチルペルフルオロブチルエーテル、2,2,2−トリフルオロエチル2,2,1,1−テトラフルオロエチルエーテル等が挙げられる。
Organic solvent:
As the organic solvent used in the solution polymerization method, perfluorocarbon, hydrofluorocarbon, chlorohydrofluorocarbon, hydrofluoroether, or the like is used. These compounds preferably have 4 to 12 carbon atoms.
Specific examples of the perfluorocarbon include perfluorocyclobutane, perfluoropentane, perfluorohexane, perfluorocyclopentane, and perfluorocyclohexane.
Specific examples of the hydrofluorocarbon include 1-hydroperfluorohexane and the like.
Specific examples of the chlorohydrofluorocarbon include 1,3-dichloro-1,1,2,2,3-pentafluoropropane.
Specific examples of the hydrofluoroether include methyl perfluorobutyl ether and 2,2,2-trifluoroethyl 2,2,1,1-tetrafluoroethyl ether.

重合条件:
重合条件は特に限定されず、重合温度は0〜100℃が好ましく、20〜90℃がより好ましい。重合圧力は0.1〜10MPaが好ましく、0.5〜3MPaがより好ましい。重合時間は1〜30時間が好ましい。
上述の構成単位(a2)を有する含フッ素共重合体(A1)を重合する場合、酸無水物残基と重合性不飽和結合とを有する環状炭化水素モノマーの重合中の濃度は、全モノマーに対して0.01〜5モル%が好ましく、0.1〜3モル%がより好ましく、0.1〜2モル%が最も好ましい。酸無水物残基と重合性不飽和結合とを有する環状炭化水素モノマーの重合中の濃度が前記下限値以上であれば、含フッ素共重合体(A1)中の構成単位(a2)の含有量を充分に高めることができ、基材、配線及び保護フィルムとの接着性を高められる。一方、前記上限値以下であれば、重合が適切な速度に維持されやすい。
重合中、酸無水物残基と重合性不飽和結合とを有する環状炭化水素モノマーが消費されるに従って、消費された量を連続的又は断続的に重合槽内に該モノマーを供給し、該モノマーの濃度を前記範囲内に維持することが好ましい。
Polymerization conditions:
The polymerization conditions are not particularly limited, and the polymerization temperature is preferably 0 to 100 ° C, more preferably 20 to 90 ° C. The polymerization pressure is preferably from 0.1 to 10 MPa, more preferably from 0.5 to 3 MPa. The polymerization time is preferably 1 to 30 hours.
When the fluorine-containing copolymer (A1) having the structural unit (a2) is polymerized, the concentration of the cyclic hydrocarbon monomer having an acid anhydride residue and a polymerizable unsaturated bond during the polymerization is the same as that for all monomers. On the other hand, 0.01-5 mol% is preferable, 0.1-3 mol% is more preferable, and 0.1-2 mol% is the most preferable. If the concentration during polymerization of the cyclic hydrocarbon monomer having an acid anhydride residue and a polymerizable unsaturated bond is not less than the lower limit, the content of the structural unit (a2) in the fluorinated copolymer (A1) Can be sufficiently increased, and adhesion to the substrate, wiring and protective film can be enhanced. On the other hand, if it is below the said upper limit, superposition | polymerization will be easy to be maintained at a suitable speed | rate.
As the cyclic hydrocarbon monomer having an acid anhydride residue and a polymerizable unsaturated bond is consumed during the polymerization, the consumed amount is continuously or intermittently supplied into the polymerization tank, and the monomer is supplied. It is preferable to maintain the concentration within the above range.

(添加剤)
カバーレイ用接着フィルムは、本発明による作用効果を損なわない範囲で、添加剤を含有してもよい。
添加剤としては、誘電率や誘電正接が低い無機フィラーが好ましい。該無機フィラーとしては、シリカ、クレー、タルク、炭酸カルシウム、マイカ、珪藻土、アルミナ、酸化亜鉛、酸化チタン、酸化カルシウム、酸化マグネシウム、酸化鉄、酸化錫、酸化アンチモン、水酸化カルシウム、水酸化マグネシウム、水酸化アルミニウム、塩基性炭酸マグネシウム、炭酸マグネシウム、炭酸亜鉛、炭酸バリウム、ドーソナイト、ハイドロタルサイト、硫酸カルシウム、硫酸バリウム、珪酸カルシウム、モンモリロナイト、ベントナイト、活性白土、セピオライト、イモゴライト、セリサイト、ガラス繊維、ガラスビーズ、シリカ系バルーン、カーボンブラック、カーボンナノチューブ、カーボンナノホーン、グラファイト、炭素繊維、ガラスバルーン、炭素バーン、木粉、ホウ酸亜鉛等が挙げられる。
無機フィラーは1種単独で用いてもよく、2種以上を併用してもよい。
(Additive)
The coverlay adhesive film may contain an additive as long as the effects of the present invention are not impaired.
As an additive, an inorganic filler having a low dielectric constant and dielectric loss tangent is preferable. Examples of the inorganic filler include silica, clay, talc, calcium carbonate, mica, diatomaceous earth, alumina, zinc oxide, titanium oxide, calcium oxide, magnesium oxide, iron oxide, tin oxide, antimony oxide, calcium hydroxide, magnesium hydroxide, Aluminum hydroxide, basic magnesium carbonate, magnesium carbonate, zinc carbonate, barium carbonate, dosonite, hydrotalcite, calcium sulfate, barium sulfate, calcium silicate, montmorillonite, bentonite, activated clay, sepiolite, imogolite, sericite, glass fiber, Examples thereof include glass beads, silica-based balloons, carbon black, carbon nanotubes, carbon nanohorns, graphite, carbon fibers, glass balloons, carbon burns, wood powder, zinc borate and the like.
An inorganic filler may be used individually by 1 type, and may use 2 or more types together.

無機フィラーは、多孔質でも非多孔質でもよい。誘電率や誘電正接がさらに低い点で、多孔質であることが好ましい。
無機フィラーは、含フッ素共重合体(A)への分散性の向上のために、シランカップリング剤やチタネートカップリング剤等の表面処理剤による表面処理が施されてもよい。
無機フィラーを含有する場合、カバーレイ用接着フィルム中の無機フィラーの含有量は、含フッ素共重合体(A)に対して0.1〜100質量%が好ましく、0.1〜60質量%がより好ましい。
The inorganic filler may be porous or non-porous. A porous material is preferable in that the dielectric constant and dielectric loss tangent are lower.
The inorganic filler may be subjected to a surface treatment with a surface treatment agent such as a silane coupling agent or a titanate coupling agent in order to improve dispersibility in the fluorine-containing copolymer (A).
When the inorganic filler is contained, the content of the inorganic filler in the coverlay adhesive film is preferably 0.1 to 100% by mass, and 0.1 to 60% by mass with respect to the fluorinated copolymer (A). More preferred.

<カバーレイ>
カバーレイは、保護フィルム上に、上述のカバーレイ用接着フィルムが積層されてなる。
また、カバーレイは、カバーレイ用接着フィルム側の表面を保護するため、カバーレイ用接着フィルム側にセパレータが積層されていてもよい。なお、セパレータとしては、例えば、紙、PETフィルム等が挙げられる。セパレータを用いれば、カバーレイはロール状にでき、搬送しやすくなる。
<Coverlay>
The coverlay is formed by laminating the above-mentioned adhesive film for coverlay on a protective film.
Moreover, in order for the coverlay to protect the surface of the coverlay adhesive film side, a separator may be laminated on the coverlay adhesive film side. Examples of the separator include paper and PET film. If a separator is used, a coverlay can be made into a roll shape and it will become easy to convey.

[保護フィルム]
保護フィルムの材質は、絶縁性、柔軟性を有するものが好ましい。そのような保護フィルムとしては、例えば、ポリイミド系フィルム、ポリエーテルイミド系フィルム、ポリアミドイミド系フィルム、ポリエステル系フィルム等が挙げられる。中でも、耐熱性の観点から、ポリイミド系フィルムが好ましい。
以下、ポリイミド系フィルムについて詳述する。
[Protective film]
The material of the protective film is preferably one having insulating properties and flexibility. Examples of such a protective film include a polyimide film, a polyetherimide film, a polyamideimide film, and a polyester film. Among these, a polyimide film is preferable from the viewpoint of heat resistance.
Hereinafter, the polyimide film will be described in detail.

(ポリイミド系フィルム)
ポリイミド:
ポリイミド系フィルムを構成するポリイミドは、特に限定されず、熱可塑性を有しないポリイミドでも、熱可塑性ポリイミドでもよい。
ポリイミドの好適例としては、芳香族ポリイミドが挙げられる。中でも、芳香族多価カルボン酸二無水物と芳香族ジアミンとの縮重合で製造される全芳香族ポリイミドが好ましい。
(Polyimide film)
Polyimide:
The polyimide which comprises a polyimide-type film is not specifically limited, The polyimide which does not have thermoplasticity, or a thermoplastic polyimide may be sufficient.
A preferred example of polyimide is aromatic polyimide. Among these, wholly aromatic polyimides produced by condensation polymerization of aromatic polycarboxylic dianhydrides and aromatic diamines are preferred.

ポリイミドは、一般的に、多価カルボン酸二無水物(又はその誘導体)とジアミンとの反応(重縮合)によって、ポリアミック酸(ポリイミド前駆体)を経由して得られる。
ポリイミド、特に、芳香族ポリイミドは、その剛直な主鎖構造により溶媒等に対して不溶であり、また不融である。そのため、まず、多価カルボン酸二無水物とジアミンとの反応により、有機溶媒に可溶なポリイミド前駆体(ポリアミック酸、又はポリアミド酸)を合成し、このポリアミック酸の段階で様々な方法で成形加工が行われる。その後、ポリアミック酸を加熱又は化学的な方法で脱水反応させて環化(イミド化)し、ポリイミドを得る。
A polyimide is generally obtained via a polyamic acid (polyimide precursor) by a reaction (polycondensation) between a polyvalent carboxylic dianhydride (or a derivative thereof) and a diamine.
Polyimide, particularly aromatic polyimide, is insoluble and insoluble in solvents due to its rigid main chain structure. Therefore, first, a polyimide precursor (polyamic acid or polyamic acid) that is soluble in an organic solvent is synthesized by a reaction between a polycarboxylic dianhydride and a diamine, and then molded by various methods at the polyamic acid stage. Processing is performed. Thereafter, the polyamic acid is dehydrated by heating or a chemical method to cyclize (imidize) to obtain polyimide.

芳香族多価カルボン酸二無水物:
芳香族多価カルボン酸二無水物の具体例としては、例えば、ピロメリット酸二無水物、3,3’,4,4’−ベンゾフェノンテトラカルボン酸二無水物、2,2’,3,3’−ベンゾフェノンテトラカルボン酸二無水物、3,3’,4,4’−ビフェニルテトラカルボン酸二無水物、2,2’,3,3’−ビフェニルテトラカルボン酸二無水物、2,2−ビス(2,3−ジカルボキシフェニル)プロパン二無水物、ビス(3,4−ジカルボキシフェニル)エーテル二無水物、ビス(3,4−ジカルボキシフェニル)スルホン二無水物、1,1−ビス(2,3−ジカルボキシフェニル)エタン二無水物、ビス(2,3−ジカルボキシフェニル)メタン二無水物、ビス(3,4−ジカルボキシフェニル)メタン二無水物、2,2−ビス(3,4−ジカルボキシルフェニル)−1,1,1,3,3,3−ヘキサフルオロプロパン二無水物、2,3,6,7−ナフタレンテトラカルボン酸二無水物、1,4,5,8−ナフタレンテトラカルボン酸二無水物、1,2,5,6−ナフタレンテトラカルボン酸二無水物、1,2,3,4−ベンゼンテトラカルボン酸二無水物、3,4,9,10−ペリレンテトラカルボン酸二無水物、2,3,6,7−アントラセンテトラカルボン酸二無水物、1,2,7,8−フェナントレンテトラカルボン酸二無水物等が挙げられる。
また、非芳香族系の多価カルボン酸二無水物であるエチレンテトラカルボン酸二無水物、シクロペンタンテトラカルボン酸二無水物も、芳香族系のものと遜色なく用いることができる。
これらは単独又は2種以上混合して用いられる。
Aromatic polycarboxylic dianhydrides:
Specific examples of the aromatic polyvalent carboxylic dianhydride include, for example, pyromellitic dianhydride, 3,3 ′, 4,4′-benzophenone tetracarboxylic dianhydride, 2,2 ′, 3,3 '-Benzophenonetetracarboxylic dianhydride, 3,3', 4,4'-biphenyltetracarboxylic dianhydride, 2,2 ', 3,3'-biphenyltetracarboxylic dianhydride, 2,2- Bis (2,3-dicarboxyphenyl) propane dianhydride, bis (3,4-dicarboxyphenyl) ether dianhydride, bis (3,4-dicarboxyphenyl) sulfone dianhydride, 1,1-bis (2,3-dicarboxyphenyl) ethane dianhydride, bis (2,3-dicarboxyphenyl) methane dianhydride, bis (3,4-dicarboxyphenyl) methane dianhydride, 2,2-bis ( 3,4-dicarboki Ruphenyl) -1,1,1,3,3,3-hexafluoropropane dianhydride, 2,3,6,7-naphthalenetetracarboxylic dianhydride, 1,4,5,8-naphthalenetetracarboxylic acid Dianhydride, 1,2,5,6-naphthalenetetracarboxylic dianhydride, 1,2,3,4-benzenetetracarboxylic dianhydride, 3,4,9,10-perylenetetracarboxylic dianhydride Products, 2,3,6,7-anthracenetetracarboxylic dianhydride, 1,2,7,8-phenanthrenetetracarboxylic dianhydride, and the like.
Further, ethylene tetracarboxylic dianhydride and cyclopentane tetracarboxylic dianhydride, which are non-aromatic polyvalent carboxylic dianhydrides, can be used as well as aromatic ones.
These are used individually or in mixture of 2 or more types.

芳香族ジアミン:
芳香族ジアミンの具体例としては、例えば、m−フェニレンジアミン、o−フェニレンジアミン、p−フェニレンジアミン、m−アミノベンジルアミン、p−アミノベンジルアミン、4,4’−ジアミノジフェニルエーテル、3,3’−ジアミノジフェニルエーテル、3,4’−ジアミノジフェニルエーテル、ビス(3−アミノフェニル)スルフィド、(3−アミノフェニル)(4−アミノフェニル)スルフィド、ビス(4−アミノフェニル)スルフィド、ビス(3−アミノフェニル)スルフィド、(3−アミノフェニル)(4−アミノフェニル)スルホキシド、ビス(3−アミノフェニル)スルホン、(3−アミノフェニル)(4−アミノフェニル)スルホン、ビス(4−アミノフェニル)スルホン、3,3’−ジアミノベンゾフェノン、3,4’−ジアミノベンゾフェノン、4,4’−ジアミノベンゾフェノン、3,3’−ジアミノジフェニルメタン、3,4’−ジアミノジフェニルメタン、4,4’−ジアミノジフェニルメタン、ビス〔4−(3−アミノフェノキシ)フェニル〕メタン、ビス〔4−(4−アミノフェノキシ)フェニル〕メタン、1,1−ビス〔4−(3−アミノフェノキシ)フェニル〕エタン、1,1−ビス〔4−(4−アミノフェノキシ)フェニル〕−エタン、1,2−ビス〔4−(3−アミノフェノキシ)フェニル〕エタン、1,2−ビス〔4−(4−アミノフェノキシ)フェニル〕エタン、2,2−ビス〔4−(3−アミノフェノキシ)フェニル〕プロパン、2,2−ビス〔4−(4−アミノフェノキシ)フェニル〕プロパン、2,2−ビス〔4−(3−アミノフェノキシ)フェニル〕ブタン、2,2−ビス〔3−(3−アミノフェノキシ)フェニル〕−1,1,1,3,3,3−ヘキサフルオロプロパン、2,2−ビス〔4−(4−アミノフェノキシ)フェニル〕−1,1,1,3,3,3−ヘキサフルオロプロパン、1,3−ビス(3−アミノフェノキシ)ベンゼン、1,3−ビス(4−アミノフェノキシ)ベンゼン、1,4−ビス(3−アミノフェノキシ)ベンゼン、1,4−ビス(4−アミノフェノキシ)ベンゼン、4,4’−ビス(3−アミノフェノキシ)ビフェニル、4,4’−ビス(4−アミノフェノキシ)ビフェニル、ビス〔4−(3−アミノフェノキシ)フェニル〕ケトン、ビス〔4−(4−アミノフェノキシ)フェニル〕ケトン、ビス〔4−(3−アミノフェノキシ)フェニル〕スルフィド、ビス〔4−(4−アミノフェノキシ)フェニル〕スルフィド、ビス〔4−(3−アミノフェノキシ)フェニル〕スルホキシド、ビス〔4−(4−アミノフェノキシ)フェニル〕スルホキシド、ビス〔4−(3−アミノフェノキシ)フェニル〕スルホン、ビス〔4−(4−アミノフェノキシ)フェニル〕スルホン、ビス〔4−(3−アミノフェノキシ)フェニル〕エーテル、ビス〔4−(4−アミノフェノキシ)フェニル〕エーテル、1,4−ビス〔4−(3−アミノフェノキシ)ベンゾイル〕ベンゼン、1,3−ビス〔4−(3−アミノフェノキシ)ベンゾイル〕ベンゼン、4,4’−ビス〔3−(4−アミノフェノキシ)ベンゾイル〕ジフェニルエーテル、4,4’−ビス〔3−(3−アミノフェノキシ)ベンゾイル〕ジフェニルエーテル、4,4’−ビス〔4−(4−アミノ−α,α−ジメチルベンジル)フェノキシ〕ベンゾフェノン、4,4’−ビス〔4−(4−アミノ−α,α−ジメチルベンジル)フェノキシ〕ジフェニルスルホン、ビス〔4−{4−(4−アミノフェノキシ)フェノキシ}フェニル〕スルホン、1,4−ビス〔4−(4−アミノフェノキシ)フェノキシ〕−α,α−ジメチルベンジル〕ベンゼン、1,3−ビス〔4−(4−アミノフェノキシ)−α,α−ジメチルベンジル〕ベンゼン等が挙げられる。
これらは単独又は2種以上を混合して使用される。
Aromatic diamine:
Specific examples of the aromatic diamine include, for example, m-phenylenediamine, o-phenylenediamine, p-phenylenediamine, m-aminobenzylamine, p-aminobenzylamine, 4,4′-diaminodiphenyl ether, 3,3 ′. -Diaminodiphenyl ether, 3,4'-diaminodiphenyl ether, bis (3-aminophenyl) sulfide, (3-aminophenyl) (4-aminophenyl) sulfide, bis (4-aminophenyl) sulfide, bis (3-aminophenyl) ) Sulfide, (3-aminophenyl) (4-aminophenyl) sulfoxide, bis (3-aminophenyl) sulfone, (3-aminophenyl) (4-aminophenyl) sulfone, bis (4-aminophenyl) sulfone, 3 , 3'-Diaminobenzophenone, 3,4 '-Diaminobenzophenone, 4,4'-diaminobenzophenone, 3,3'-diaminodiphenylmethane, 3,4'-diaminodiphenylmethane, 4,4'-diaminodiphenylmethane, bis [4- (3-aminophenoxy) phenyl] methane Bis [4- (4-aminophenoxy) phenyl] methane, 1,1-bis [4- (3-aminophenoxy) phenyl] ethane, 1,1-bis [4- (4-aminophenoxy) phenyl]- Ethane, 1,2-bis [4- (3-aminophenoxy) phenyl] ethane, 1,2-bis [4- (4-aminophenoxy) phenyl] ethane, 2,2-bis [4- (3-amino Phenoxy) phenyl] propane, 2,2-bis [4- (4-aminophenoxy) phenyl] propane, 2,2-bis [4- (3-aminophenyl) Noxy) phenyl] butane, 2,2-bis [3- (3-aminophenoxy) phenyl] -1,1,1,3,3,3-hexafluoropropane, 2,2-bis [4- (4- Aminophenoxy) phenyl] -1,1,1,3,3,3-hexafluoropropane, 1,3-bis (3-aminophenoxy) benzene, 1,3-bis (4-aminophenoxy) benzene, 1, 4-bis (3-aminophenoxy) benzene, 1,4-bis (4-aminophenoxy) benzene, 4,4′-bis (3-aminophenoxy) biphenyl, 4,4′-bis (4-aminophenoxy) Biphenyl, bis [4- (3-aminophenoxy) phenyl] ketone, bis [4- (4-aminophenoxy) phenyl] ketone, bis [4- (3-aminophenoxy) phenyl] sulfur Bis [4- (4-aminophenoxy) phenyl] sulfide, bis [4- (3-aminophenoxy) phenyl] sulfoxide, bis [4- (4-aminophenoxy) phenyl] sulfoxide, bis [4- (3 -Aminophenoxy) phenyl] sulfone, bis [4- (4-aminophenoxy) phenyl] sulfone, bis [4- (3-aminophenoxy) phenyl] ether, bis [4- (4-aminophenoxy) phenyl] ether, 1,4-bis [4- (3-aminophenoxy) benzoyl] benzene, 1,3-bis [4- (3-aminophenoxy) benzoyl] benzene, 4,4′-bis [3- (4-aminophenoxy) ) Benzoyl] diphenyl ether, 4,4′-bis [3- (3-aminophenoxy) benzoyl] diphenyl ether 4,4′-bis [4- (4-amino-α, α-dimethylbenzyl) phenoxy] benzophenone, 4,4′-bis [4- (4-amino-α, α-dimethylbenzyl) phenoxy] Diphenylsulfone, bis [4- {4- (4-aminophenoxy) phenoxy} phenyl] sulfone, 1,4-bis [4- (4-aminophenoxy) phenoxy] -α, α-dimethylbenzyl] benzene, 1, Examples include 3-bis [4- (4-aminophenoxy) -α, α-dimethylbenzyl] benzene.
These are used individually or in mixture of 2 or more types.

(添加剤)
保護フィルムは、本発明による作用効果を損なわない範囲で、添加剤を含有してもよい。
添加剤としては、誘電率や誘電正接が低い無機フィラーが好ましい。該無機フィラーとしては、カバーレイ用接着フィルムの説明で挙げたものと同様のものが挙げられる。
無機フィラーは1種単独で用いてもよく、2種以上を併用してもよい。
(Additive)
The protective film may contain an additive as long as the effects of the present invention are not impaired.
As an additive, an inorganic filler having a low dielectric constant and dielectric loss tangent is preferable. As this inorganic filler, the thing similar to what was mentioned by description of the adhesive film for coverlays is mentioned.
An inorganic filler may be used individually by 1 type, and may use 2 or more types together.

無機フィラーは、多孔質でも非多孔質でもよい。誘電率や誘電正接がさらに低い点で、多孔質であることが好ましい。
無機フィラーは、ポリイミドへの分散性の向上のために、シランカップリング剤やチタネートカップリング剤等の表面処理剤による表面処理が施されてもよい。
無機フィラーを含有する場合、保護フィルム中の無機フィラーの含有量は、ポリイミドに対して0.1〜100質量%が好ましく、0.1〜60質量%がより好ましい。
The inorganic filler may be porous or non-porous. A porous material is preferable in that the dielectric constant and dielectric loss tangent are lower.
The inorganic filler may be subjected to a surface treatment with a surface treatment agent such as a silane coupling agent or a titanate coupling agent in order to improve dispersibility in polyimide.
When it contains an inorganic filler, 0.1-100 mass% is preferable with respect to a polyimide, and, as for content of the inorganic filler in a protective film, 0.1-60 mass% is more preferable.

(保護フィルムの厚み)
保護フィルムの厚みは、特に限定されず、例えば、5〜100μmが好ましい。
(Protective film thickness)
The thickness of a protective film is not specifically limited, For example, 5-100 micrometers is preferable.

[カバーレイの製造方法]
カバーレイは、通常、セパレータ上に、カバーレイ用接着フィルムと保護フィルムを順次積層し、圧着して製造するが、この限りではない。例えば、後述する配線板の作製まで連続して作製する場合、カバーレイは、配線を形成した基板上に、該配線を覆うように、カバーレイ用接着フィルムと保護フィルムを順次積層し、圧着して製造できる。
用いるカバーレイ用接着フィルム、保護フィルム及びセパレータ等は、上記「カバーレイ用接着フィルム」及び「カバーレイ」の項で説明したものと同様である。
なお、保護フィルムの表面、例えば、カバーレイ用接着フィルムと接する面は、バーレイ用接着フィルムとの接着性を高めるために、表面処理が施されてもよい。表面処理方法としては特に限定されず、コロナ放電処理、プラズマ処理等の公知の表面処理方法等が挙げられる。
[Coverlay manufacturing method]
The coverlay is usually manufactured by sequentially laminating an adhesive film for a coverlay and a protective film on a separator and press-bonding them, but this is not restrictive. For example, in the case of continuous production until the production of a wiring board to be described later, the coverlay is formed by sequentially laminating a coverlay adhesive film and a protective film on the substrate on which the wiring is formed so as to cover the wiring. Can be manufactured.
The coverlay adhesive film, the protective film, the separator, and the like used are the same as those described in the above section “Coverlay adhesive film” and “Coverlay”.
In addition, the surface of the protective film, for example, the surface in contact with the coverlay adhesive film, may be subjected to a surface treatment in order to enhance the adhesion to the Burlay adhesive film. The surface treatment method is not particularly limited, and examples thereof include known surface treatment methods such as corona discharge treatment and plasma treatment.

(圧着方法)
圧着方法は、特に限定されないが、密着性を向上させる観点から、熱プレス装置等を用いて熱圧着する方法が好ましい。
熱圧着する際の温度は295〜420℃が好ましく、300〜400℃がより好ましい。温度が前記下限値以上であれば、密着性をさらに向上させることができ、一方、前記上限値以下であれば、熱安定性に優れる。
また、圧力は0.3〜30MPaが好ましく、0.5〜20MPaがより好ましく、1〜10MPaが最も好ましい。また、圧着時間は3〜240分が好ましく、5〜120分がより好ましく、10〜80分が最も好ましい。
また、熱プレスは、プレス板、ロール等を用いて行うことができる。プレス板としては、ステンレス鋼板が好ましい。
(Crimping method)
The method for pressure bonding is not particularly limited, but from the viewpoint of improving the adhesion, a method of heat pressure bonding using a hot press apparatus or the like is preferable.
The temperature during thermocompression bonding is preferably 295 to 420 ° C, more preferably 300 to 400 ° C. If temperature is more than the said lower limit, adhesiveness can be improved further, and if it is below the said upper limit, it is excellent in thermal stability.
The pressure is preferably 0.3 to 30 MPa, more preferably 0.5 to 20 MPa, and most preferably 1 to 10 MPa. The crimping time is preferably 3 to 240 minutes, more preferably 5 to 120 minutes, and most preferably 10 to 80 minutes.
Moreover, a hot press can be performed using a press board, a roll, etc. The press plate is preferably a stainless steel plate.

<配線板>
本発明の配線板は、上述のカバーレイを備えている限り、その構成は特に制限されない。例えば、本発明の配線板の好ましい形態は、少なくとも、基板と配線と上述のカバーレイ用接着フィルムと保護フィルムとを備え、前記基板上に、前記配線、前記カバーレイ用接着フィルム及び前記保護フィルムがこの順で積層されている。
また、配線板は、単層配線板でもよく、多層配線板でもよい。
配線は、主として、銅から形成される。
基板の材質は、特に限定されない。例えば、FPCの場合は、上記保護フィルムと同様の材質を用いることが好ましく、ポリイミド系フィルムであることが好ましい。
<Wiring board>
As long as the wiring board of this invention is provided with the above-mentioned coverlay, the structure in particular is not restrict | limited. For example, a preferred embodiment of the wiring board of the present invention includes at least a substrate, wiring, the above-described coverlay adhesive film, and a protective film, and the wiring, the coverlay adhesive film, and the protective film on the substrate. Are stacked in this order.
The wiring board may be a single-layer wiring board or a multilayer wiring board.
The wiring is mainly formed from copper.
The material of the substrate is not particularly limited. For example, in the case of FPC, it is preferable to use the same material as the protective film, and a polyimide film is preferable.

本発明の配線板は、配線板を、大気中、温度150℃で1000時間処理した際に、JIS Z8730に準拠した、処理前後の配線板(ただし、配線が無い領域)の色差ΔE(透過)が、2.0以下であることが好ましく、1.8以下がより好ましく、1.6以下がさらに好ましい。
本発明の配線板は、配線板を、大気中、温度150℃で1000時間処理した際に、JIS Z8730に準拠した、処理前後の配線板のカバーレイ用接着フィルムの色差ΔE(反射)が、5.0以下であることが好ましく、4.5以下がより好ましく、3.0以下がさらに好ましい。
When the wiring board of the present invention is processed in the atmosphere at a temperature of 150 ° C. for 1000 hours, the color difference ΔE (transmission) of the wiring board before and after processing (where no wiring is present) conforming to JIS Z8730. Is preferably 2.0 or less, more preferably 1.8 or less, and even more preferably 1.6 or less.
When the wiring board of the present invention is processed in the atmosphere at a temperature of 150 ° C. for 1000 hours, the color difference ΔE (reflection) of the adhesive film for the cover lay of the wiring board before and after the treatment, in accordance with JIS Z8730, It is preferably 5.0 or less, more preferably 4.5 or less, and even more preferably 3.0 or less.

[配線板の製造方法]
配線板の製造方法は、特に限定されず、例えば、銅張積層板等の金属張積層板の金属箔を化学エッチング等の方法で所定のパターンに回路加工して、基板上に配線を形成し、その後その回路(配線)上の必要な部分にカバーレイを積層し、例えば、熱プレス装置等を用いて熱圧着する方法等が挙げられる。
また、上述したとおり、配線を形成した基板上に、カバーレイ用接着フィルムと保護フィルムを順次積層し、その後まとめて熱圧着する方法によっても構わない。
熱圧着する際の圧着条件及び熱プレスの詳細は、上述のカバーレイの製造方法における圧着方法と同様である。
[Method of manufacturing a wiring board]
The method of manufacturing the wiring board is not particularly limited. For example, a metal foil of a metal-clad laminate such as a copper-clad laminate is processed into a predetermined pattern by a method such as chemical etching to form a wiring on the substrate. Then, a method of laminating a cover lay on a necessary portion on the circuit (wiring) and then thermocompression bonding using a hot press apparatus or the like can be mentioned.
Further, as described above, the coverlay adhesive film and the protective film may be sequentially laminated on the substrate on which the wiring is formed, and then may be thermocompression bonded together.
The details of the pressure bonding conditions and the heat press at the time of thermocompression bonding are the same as those in the above-described method for manufacturing the coverlay.

[配線板の用途]
本発明の配線板の用途は、特に限定されず、例えば、FPC等が挙げられる。具体的には、大気中、150℃、1000時間の長期耐熱性試験における、基板及び配線と保護フィルムとの間の剥離強度保持率に優れる点から、車載パワートレインの車載用電子機器やコンピュータ等に好適に使用することができる。中でも、ヘッドランプ基板、トランスミッション又はエンジンの車載用電子機器として使用することが好ましい。
[Application of wiring board]
The use of the wiring board of this invention is not specifically limited, For example, FPC etc. are mentioned. Specifically, in the long-term heat resistance test at 150 ° C. for 1000 hours in the atmosphere, the peel strength retention rate between the substrate and wiring and the protective film is excellent. Can be suitably used. Especially, it is preferable to use it as an in-vehicle electronic device for a headlamp substrate, a transmission or an engine.

<電子機器の製造方法>
本発明の配線板を備える電子機器の製造は、上述の配線板の用途毎に、公知の方法により行えばよい。
電子機器の製造方法は、配線板を260℃以上の高温環境下に曝す工程を有していてもよい。配線板を260℃以上の高温環境下に曝す工程を有していても、配線板が本発明のカバーレイ用接着フィルムを有するため、カバーレイ用接着フィルムと、基材、配線及び保護フィルムとの間の接着性、密着性が損なわれることがない。したがって、本発明の配線板は、該配線板を260℃以上の高温環境下に曝す工程を要する種々の電子機器の製造に、好適に用いることができる。
<Method for manufacturing electronic device>
Manufacture of an electronic device including the wiring board of the present invention may be performed by a known method for each use of the above-described wiring board.
The method for manufacturing an electronic device may include a step of exposing the wiring board to a high temperature environment of 260 ° C. or higher. Even if it has the process of exposing the wiring board to a high temperature environment of 260 ° C. or higher, since the wiring board has the coverlay adhesive film of the present invention, the coverlay adhesive film, the substrate, the wiring, and the protective film The adhesion and adhesion between the two are not impaired. Therefore, the wiring board of this invention can be used suitably for manufacture of the various electronic devices which require the process of exposing this wiring board to a 260 degreeC or more high temperature environment.

<本発明による作用効果>
本発明のカバーレイ用接着フィルムは、官能基(I)を有する含フッ素共重合体(A)を含む。含フッ素共重合体(A)が官能基(I)を有するため、本発明のカバーレイ用接着フィルムは、基材、配線及び保護フィルムとの接着性に優れている。
また、本発明のカバーレイ用接着フィルムは、優れた柔軟性と熱可塑性を有するため、本発明の配線板において、配線間(基板上に配線が形成されていない領域)等の凹部を充填でき、該凹部に空隙が生じるのを抑えることができる。そのため、本発明のカバーレイ用接着フィルムは、基板及び配線と保護フィルムとを高い密着度で貼着させることができる。
また、電子機器の製造方法において、配線板を260℃以上の高温環境下に曝す工程を有していても、配線板がカバーレイ用接着フィルムを有するため、カバーレイ用接着フィルムと、基材、配線及び保護フィルムとの間の接着性、密着性が損なわれることがない。
<Operational effects of the present invention>
The adhesive film for coverlay of this invention contains the fluorine-containing copolymer (A) which has functional group (I). Since the fluorine-containing copolymer (A) has the functional group (I), the coverlay adhesive film of the present invention is excellent in adhesiveness to the substrate, wiring and protective film.
In addition, since the coverlay adhesive film of the present invention has excellent flexibility and thermoplasticity, in the wiring board of the present invention, it is possible to fill recesses such as between the wirings (regions where no wiring is formed on the substrate). , The formation of voids in the recess can be suppressed. Therefore, the coverlay adhesive film of the present invention can adhere the substrate, wiring and protective film with high adhesion.
Further, in the method of manufacturing an electronic device, even if the wiring board has a step of exposing it to a high temperature environment of 260 ° C. or higher, the wiring board has the cover lay adhesive film, and therefore the cover lay adhesive film and the substrate The adhesion and adhesion between the wiring and the protective film are not impaired.

以上により、本発明によれば、高温環境に繰り返し晒されても、基板及び配線と保護フィルムとの間の剥離強度保持率に優れたカバーレイ用接着フィルム、カバーレイ、配線板、及び電子機器の製造方法を提供することができる。具体的には、大気中、150℃、1000時間の長期耐熱性試験において、基板及び配線と保護フィルムとの間の剥離強度保持率に優れる。
また、本発明のカバーレイ用接着フィルムは、高温環境で繰り返し使用しても、保護フィルムの変色が生じにくい。
As described above, according to the present invention, the adhesive film for coverlay, the coverlay, the wiring board, and the electronic device, which are excellent in the peel strength retention ratio between the substrate and the wiring and the protective film, even when repeatedly exposed to a high temperature environment The manufacturing method of can be provided. Specifically, in a long-term heat resistance test at 150 ° C. for 1000 hours in the atmosphere, the peel strength retention rate between the substrate and wiring and the protective film is excellent.
Moreover, even if it uses repeatedly the adhesive film for coverlays of this invention in a high temperature environment, discoloration of a protective film does not arise easily.

以下、実施例により本発明をさらに詳しく説明する。ただし、本発明は、以下の実施例に限定されるものではない。   Hereinafter, the present invention will be described in more detail with reference to examples. However, the present invention is not limited to the following examples.

<測定方法>
[含フッ素共重合体の共重合組成]
共重合組成を溶融NMR分析、フッ素含有量分析及び赤外吸収スペクトル分析により求めた。
<Measurement method>
[Copolymerization composition of fluorine-containing copolymer]
The copolymer composition was determined by melt NMR analysis, fluorine content analysis and infrared absorption spectrum analysis.

[含フッ素共重合体における官能基(I)の含有量]
以下の赤外吸収スペクトル分析によって、含フッ素共重合体における官能基(I)を有するモノマー(NAH)に基づく構成単位の割合を求めた。
含フッ素共重合体をプレス成形して200μmのフィルムを得た。赤外吸収スペクトルにおいて、含フッ素共重合体中のNAHに基づく構成単位における吸収ピークはいずれも1778cm−1に現れる。該吸収ピークの吸光度を測定し、NAHのモル吸光係数20810L/(mol・cm)を用いて、NAHに基づく構成単位の割合a(モル%)を求めた。
含フッ素共重合体の主鎖炭素数1×10個に対する官能基(I)(酸無水物基)の個数は、式「a×10/100」(個)により求められる。
[Content of Functional Group (I) in Fluorinated Copolymer]
The proportion of structural units based on the monomer (NAH) having a functional group (I) in the fluorine-containing copolymer was determined by the following infrared absorption spectrum analysis.
The fluorine-containing copolymer was press-molded to obtain a 200 μm film. In the infrared absorption spectrum, any absorption peak in the structural unit based on NAH in the fluorine-containing copolymer appears at 1778 cm −1 . The absorbance of the absorption peak was measured, and the ratio a (mol%) of the structural unit based on NAH was determined using a molar absorption coefficient of NAH of 20810 L / (mol · cm).
The number of the fluorine-containing copolymer backbone number 1 × 10 6 cells for functional group carbon (I) (acid anhydride group) is obtained by the formula "a × 10 6/100" (number).

[含フッ素共重合体の融点(℃)]
セイコー電子社製の示差走査熱量計(DSC装置)を用い、含フッ素共重合体(A)を10℃/分の速度で昇温したときの融解ピークを記録し、極大値に対応する温度(℃)を融点(Tm)とした。
[Melting point of fluorine-containing copolymer (° C)]
Using a differential scanning calorimeter (DSC apparatus) manufactured by Seiko Electronics Co., Ltd., the melting peak when the fluorine-containing copolymer (A) was heated at a rate of 10 ° C./min was recorded, and the temperature corresponding to the maximum value ( ° C.) was defined as the melting point (Tm).

[含フッ素共重合体のMFR(g/10分)]
テクノセブン社製メルトインデクサーを用い、融点より20℃以上高い温度である372℃、5kg荷重下で直径2mm、長さ8mmのノズルから、10分間(単位時間)に流出する含フッ素共重合体の質量(g)を測定し、その値をMFR(g/10分)とした。
[MFR of fluorinated copolymer (g / 10 min)]
Fluoropolymer that flows out for 10 minutes (unit time) from a nozzle with a diameter of 2 mm and a length of 8 mm under a load of 372 ° C. and 5 kg under a load of 372 ° C., which is 20 ° C. higher than the melting point, using a melt indexer manufactured by Techno Seven The mass (g) was measured and the value was defined as MFR (g / 10 min).

[剥離強度(N/10mm)]
基板及び配線とカバーレイとの間の剥離強度を測定するため配線板を長さ100mm、幅10mmの大きさに切断し、試験フィルムを作製した。試験フィルムの長さ方向の一端から50mmの位置まで銅箔とカバーレイを剥離した。次いで、試験フィルムの長さ方向の一端から50mmの位置を中央にして、引張り試験機(オリエンテック社製)を用いて、引張り速度50mm/分で90度剥離し、最大荷重を剥離強度(N/10mm)とした。剥離強度が大きいほど、基板及び配線とカバーレイとの間の密着性が優れていることを示す。
なお、上記測定において、剥離強度が0.2N/10mm以下であった場合は、測定値のバラツキが大きく、この場合の剥離強度の結果は全て0.2N/10mm以下と表記した。
[Peel strength (N / 10mm)]
In order to measure the peel strength between the substrate and the wiring and the coverlay, the wiring board was cut into a size of 100 mm in length and 10 mm in width to prepare a test film. The copper foil and the coverlay were peeled from one end in the length direction of the test film to a position of 50 mm. Next, the test film is peeled 90 degrees at a tensile speed of 50 mm / min using a tensile tester (Orientec Co., Ltd.) centered at a position 50 mm from one end in the length direction of the test film, and the maximum load is peel strength (N / 10 mm). It shows that the adhesiveness between a board | substrate and wiring, and a coverlay is excellent, so that peeling strength is large.
In the above measurement, when the peel strength was 0.2 N / 10 mm or less, the variation in the measured value was large, and the results of the peel strength in this case were all expressed as 0.2 N / 10 mm or less.

配線板を、オーブン(タバイエスペック社製)を用いて、大気中、150℃、200時間又は1000時間の条件で熱処理した前後で、剥離強度(N/10mm)を求めた。
また、熱処理前の剥離強度に対する、熱処理後の剥離強度の割合を「剥離強度保持率(%)」とした。
The peel strength (N / 10 mm) was obtained before and after the wiring board was heat-treated in the atmosphere at 150 ° C. for 200 hours or 1000 hours using an oven (manufactured by Tabay Espec).
The ratio of the peel strength after the heat treatment to the peel strength before the heat treatment was defined as “peel strength retention rate (%)”.

[配線板の色差]
上記剥離強度における熱処理と同様にして行った熱処理前後の配線板について、JIS Z8730に準拠した、積分球方式の透過法、光源、視野角度がD65光10度視野により、配線板の色度(L値、a値、b値、Y.I値)を測定した。測定には、カラーメーター(スガ試験機社製)を用いた。また、測定は配線の無い領域について行った。
配線板の色差ΔE(透過)は、下記式(1)に従って算出した。配線板の色差ΔY.Iは、熱処理後のY.Iから熱処理前のY.Iを差引いて求めた。
ΔE=(Δa+Δb+ΔL1/2 ・・・(1)
式(1)中のΔa、Δb及びΔLは、それぞれ、未処理の配線板サンプルと、大気中、温度150℃、200時間又は1000時間の条件での処理後の配線板サンプルとのa値、b値、及びL値の差を示している。ΔEが小さいほど、変色が少ないことを意味する。
[Color difference of wiring board]
About the wiring board before and after the heat treatment performed in the same manner as the heat treatment in the peel strength, the chromaticity (L of the wiring board) is determined by the integrating sphere transmission method, the light source, and the viewing angle of D65 light 10 degrees in accordance with JIS Z8730. * Value, a * value, b * value, Y.I value). For the measurement, a color meter (manufactured by Suga Test Instruments Co., Ltd.) was used. Further, the measurement was performed on an area without wiring.
The color difference ΔE (transmission) of the wiring board was calculated according to the following formula (1). Color difference ΔY. I is Y. after heat treatment. I to Y before heat treatment. Obtained by subtracting I.
ΔE = (Δa 2 + Δb 2 + ΔL 2 ) 1/2 (1)
Δa, Δb, and ΔL in equation (1) are the a * values of the untreated wiring board sample and the wiring board sample after being treated in the atmosphere at a temperature of 150 ° C. for 200 hours or 1000 hours, respectively. , B * value, and L * value. A smaller ΔE means less discoloration.

[カバーレイ用接着フィルムの色差]
上記剥離強度における熱処理と同様にして行った熱処理前後の配線板から、各々剥離したカバーレイを用いて、熱処理前後のカバーレイ用接着フィルムの色度を測定した。具体的には、配線板から剥離したカバーレイのカバーレイ用接着フィルムの側より、JIS Z8730に準拠した、積分球方式の反射法、光源、視野角度がD65光10度視野により、色度(L値、a値、b値、Y.I値)を測定した。測定には、カラーメーター(スガ試験機社製)を用いた。
カバーレイ用接着フィルムの色差ΔE(反射)は、上記式(1)に従って算出した。配線板の色差ΔY.Iは、熱処理後のY.Iから熱処理前のY.Iを差引いて求めた。
[Color difference of adhesive film for coverlay]
The chromaticity of the adhesive film for coverlay before and after the heat treatment was measured using the coverlay peeled off from the wiring board before and after the heat treatment performed in the same manner as the heat treatment in the peel strength. Specifically, from the coverlay adhesive film side of the coverlay peeled off from the wiring board, the integrating sphere type reflection method, light source, and viewing angle in accordance with JIS Z8730 are chromaticity ( L * value, a * value, b * value, Y.I value). For the measurement, a color meter (manufactured by Suga Test Instruments Co., Ltd.) was used.
The color difference ΔE (reflection) of the coverlay adhesive film was calculated according to the above formula (1). Color difference ΔY. I is Y. after heat treatment. I to Y before heat treatment. Obtained by subtracting I.

[耐熱性試験]
配線板を炉内温度280℃に制御されたオーブンに1分間投入し、その後、サンプルを取り出し、目視により、熱による膨れ(発泡)の有無を観察した。
[Heat resistance test]
The wiring board was placed in an oven controlled at a furnace temperature of 280 ° C. for 1 minute, and then the sample was taken out and visually observed for the presence of swelling (foaming).

<製造例1>
構成単位(a1)を形成するモノマーとしてTFE(旭硝子社製)、構成単位(a2)を形成するモノマーとしてNAH(無水ハイミックス酸、日立化成社製)を、構成単位(a3)を形成するモノマーとしてPPVE(CF=CFO(CFF、ペルフルオロプロピルビニルエーテル、旭硝子社製)を用いて、含フッ素共重合体(A1−1)を製造した。
まず、369kgの1,3−ジクロロ−1,1,2,2,3−ペンタフルオロプロパン(AK225cb、旭硝子社製)(以下、「AK225cb」という。)と、30kgのPPVEとを、予め脱気された内容積430Lの撹拌機付き重合槽に仕込んだ。次いで、この重合槽内を加熟して50℃に昇温し、さらに50kgのTFEを仕込んだ後、当該重合槽内の圧力を0.89MPa/Gまで昇圧した。
さらに、(ペルフルオロブチリル)ペルオキシドを0.36質量%の濃度でAK225cbに溶解した重合開始剤溶液を調製し、重合槽中に当該重合開始剤溶液の3Lを1分間に6.25mLの速度にて連続的に添加しながら重合を行った。また、重合反応中における重合槽内の圧力が0.89MPa/Gを保持するようにTFEを連続的に仕込んだ。また、NAHを0.3質量%の濃度でAK225cbに溶解した溶液を、重合中に仕込むTFEこのモル数に対して0.1モル%に相当する量ずつ連続的に仕込んだ。
<Production Example 1>
TFE (manufactured by Asahi Glass Co., Ltd.) as the monomer that forms the structural unit (a1), NAH (hydromix acid anhydride, manufactured by Hitachi Chemical Co., Ltd.) as the monomer that forms the structural unit (a2), and monomer that forms the structural unit (a3) Fluoropolymer (A1-1) was produced using PPVE (CF 2 = CFO (CF 2 ) 3 F, perfluoropropyl vinyl ether, manufactured by Asahi Glass Co., Ltd.).
First, 369 kg of 1,3-dichloro-1,1,2,2,3-pentafluoropropane (AK225cb, manufactured by Asahi Glass Co., Ltd.) (hereinafter referred to as “AK225cb”) and 30 kg of PPVE are degassed in advance. The polymerization volume with a stirrer having an inner volume of 430 L was charged. Next, the inside of the polymerization tank was ripened and heated to 50 ° C., and further charged with 50 kg of TFE, the pressure in the polymerization tank was increased to 0.89 MPa / G.
Furthermore, a polymerization initiator solution in which (perfluorobutyryl) peroxide was dissolved in AK225cb at a concentration of 0.36% by mass was prepared, and 3 L of the polymerization initiator solution was added to the polymerization tank at a rate of 6.25 mL per minute. Polymerization was carried out while continuously adding. Further, TFE was continuously charged so that the pressure in the polymerization tank during the polymerization reaction was maintained at 0.89 MPa / G. A solution in which NAH was dissolved in AK225cb at a concentration of 0.3% by mass was continuously charged in an amount corresponding to 0.1 mol% with respect to the number of moles of TFE charged during the polymerization.

重合開始8時間後、32kgのTFEを仕込んだ時点で、重合槽内の温度を室温まで降温するとともに、圧力を常圧までパージした。得られたスラリをAK225cbと固液分離した後、150℃で15時間乾燥することにより、33kgの含フッ素共重合体(A1−1)を得た。得られた含フッ素共重合体(A1−1)の比重は2.15であった。
溶融NMR分析及び赤外吸収スペクトル分析の結果から、この含フッ素共重合体(A1−1)の共重合組成は、TFEに基づく構成単位(構成単位(a1))/NAHに基づく構成単位(構成単位(a2))/PPVEに基づく構成単位(構成単位(a3))=97.9/0.1/2.0(モル%)であった。また、この含フッ素共重合体(A1−1)の融点は300℃であり、MFRは17.6g/10分であった。
8 hours after the start of polymerization, when 32 kg of TFE was charged, the temperature in the polymerization tank was lowered to room temperature, and the pressure was purged to normal pressure. The obtained slurry was solid-liquid separated from AK225cb and dried at 150 ° C. for 15 hours to obtain 33 kg of a fluorinated copolymer (A1-1). The specific gravity of the obtained fluorine-containing copolymer (A1-1) was 2.15.
From the results of melt NMR analysis and infrared absorption spectrum analysis, the copolymer composition of this fluorinated copolymer (A1-1) is a structural unit based on TFE (structural unit (a1)) / a structural unit based on NAH (constituent Unit (a2)) / constituent unit based on PPVE (constituent unit (a3)) = 97.9 / 0.1 / 2.0 (mol%). Moreover, melting | fusing point of this fluorine-containing copolymer (A1-1) was 300 degreeC, and MFR was 17.6 g / 10min.

<製造例2>
含フッ素共重合体(A1−1)を、750mm巾コートハンガーダイを有する30mmφ単軸押出機を用いてダイ温度340℃で押出成形し、厚さ25μmのカバーレイ用接着フィルム(以下、「カバーレイ用接着フィルム1」という。)を得た。
<Production Example 2>
The fluorine-containing copolymer (A1-1) was extruded at a die temperature of 340 ° C. using a 30 mmφ single-screw extruder having a 750 mm wide coat hanger die, and a 25 μm thick adhesive film for coverlay (hereinafter referred to as “cover”). It was referred to as “Lay adhesive film 1”.

<製造例3>
含フッ素共重合体(A1−1)に替えてPFA−1(TFE/ペルフルオロ(アルキルビニルエーテル)共重合体、融点305℃、MFR13.6g/10分、旭硝子社製、製品名「Fluon PFA 73PT」)を用いた以外は、製造例2と同様の方法で行い、厚さ25μmのカバーレイ用接着フィルム(以下、「カバーレイ用接着フィルム2」という。)を得た。
<Production Example 3>
Instead of the fluorinated copolymer (A1-1), PFA-1 (TFE / perfluoro (alkyl vinyl ether) copolymer, melting point 305 ° C., MFR 13.6 g / 10 min, manufactured by Asahi Glass Co., Ltd., product name “Fluon PFA 73PT” ) Was used in the same manner as in Production Example 2 to obtain a coverlay adhesive film having a thickness of 25 μm (hereinafter referred to as “coverlay adhesive film 2”).

[実施例1]
基板としてのポリイミドフィルム(東レ・デュポン社製、製品名「カプトン」)、配線用の銅箔(厚み18μm、圧延銅箔)、カバーレイ用接着フィルム1、及び保護フィルムとしてのポリイミド系フィルム(宇部興産社製、製品名「ユーピレックス」、厚み25μm)を用いた。
まず、基板上に銅箔を積層して、化学エッチング法により銅の配線を形成し、その上に、カバーレイ用接着フィルム1、ポリイミド系フィルムをこの順に積層した。次いで、熱プレス装置(北川精機社製)を用いて、温度360℃、圧力1.5MPaの条件で、5分間熱プレスして、配線板1を作製した。
目視すると、配線板1の配線と保護フィルムとの間には空隙がほとんど無く、基板及び配線と保護フィルムとの間の密着度は高いように見えた。
また、配線板1を、オーブン(タバイエスペック社製)を用いて、大気中、150℃、1000時間の条件で熱処理した。
熱処理後、上記手順に従い、基板及び配線と保護フィルムとの間の剥離強度、並びに保護フィルムの色差を求めた。
[Example 1]
Polyimide film as substrate (product name “Kapton” manufactured by Toray DuPont), copper foil for wiring (thickness 18 μm, rolled copper foil), adhesive film 1 for coverlay, and polyimide film (Ube) as protective film Kosan Co., Ltd. product name “UPILEX”, thickness 25 μm) was used.
First, copper foil was laminated | stacked on the board | substrate, the copper wiring was formed by the chemical etching method, and the adhesive film 1 for coverlays and the polyimide-type film were laminated | stacked in this order on it. Next, using a hot press apparatus (manufactured by Kitagawa Seiki Co., Ltd.), hot pressing was performed for 5 minutes under the conditions of a temperature of 360 ° C. and a pressure of 1.5 MPa, thereby producing the wiring board 1.
When visually observed, there was almost no gap between the wiring of the wiring board 1 and the protective film, and the degree of adhesion between the substrate and the wiring and the protective film appeared to be high.
Moreover, the wiring board 1 was heat-processed on condition of 150 degreeC and 1000 hours in air | atmosphere using oven (made by Tabai Espec).
After the heat treatment, the peel strength between the substrate and wiring and the protective film and the color difference of the protective film were determined according to the above procedure.

[比較例1]
カバーレイ用接着フィルム1に替えてカバーレイ用接着フィルム2を用いる以外は、実施例1と同様の手順で、配線板2を作製した。
目視すると、配線板2の配線間には空隙が観察され、基板及び配線と保護フィルムとの間の密着度が低そうに見えた。
配線板2について、実施例1と同様に、基板及び配線と保護フィルムとの間の剥離強度、並びに保護フィルムの色差を求めた。
[Comparative Example 1]
A wiring board 2 was prepared in the same procedure as in Example 1 except that the coverlay adhesive film 2 was used instead of the coverlay adhesive film 1.
When visually observed, voids were observed between the wirings of the wiring board 2 and the degree of adhesion between the substrate and the wirings and the protective film seemed to be low.
About the wiring board 2, similarly to Example 1, the peeling strength between a board | substrate and wiring, and a protective film and the color difference of the protective film were calculated | required.

以上の結果、実施例1の基板及び配線と保護フィルムとの間の剥離強度は、比較例1に比べ高かった。
また、実施例1の保護フィルムの色差は、比較例1に比べ小さかった。
As a result, the peel strength between the substrate and wiring of Example 1 and the protective film was higher than that of Comparative Example 1.
Further, the color difference of the protective film of Example 1 was smaller than that of Comparative Example 1.

[実施例2]
基板としての25μmポリイミドフィルム(東レ・デュポン社製、製品名「カプトン」)、配線用の銅箔(厚み18μm、圧延銅箔)、カバーレイ用接着フィルム1、及び保護フィルムとしてのポリイミド系フィルム(東レ・デュポン社製、製品名「カプトン」、厚み25μm)を用いた。
まず、基板上に銅箔を積層して、化学エッチング法により銅の配線を形成し、その上に、カバーレイ用接着フィルム1、ポリイミド系フィルムをこの順に積層した。次いで、熱プレス装置(北川精機社製)を用いて、温度360℃、圧力1.5MPaの条件で、5分間熱プレスして、配線板3を作製した。なお、配線板3は、以下の試験に供するため、同じものを複数作製した。
[Example 2]
25 μm polyimide film (made by Toray DuPont, product name “Kapton”) as substrate, copper foil for wiring (thickness 18 μm, rolled copper foil), adhesive film 1 for coverlay, and polyimide film as protective film ( Toray DuPont, product name “Kapton”, thickness 25 μm) was used.
First, copper foil was laminated | stacked on the board | substrate, the copper wiring was formed by the chemical etching method, and the adhesive film 1 for coverlays and the polyimide-type film were laminated | stacked in this order on it. Next, using a hot press apparatus (manufactured by Kitagawa Seiki Co., Ltd.), hot pressing was performed for 5 minutes under the conditions of a temperature of 360 ° C. and a pressure of 1.5 MPa, thereby producing the wiring board 3. In addition, the same thing was produced for the wiring board 3 in order to use for the following tests.

目視すると、配線板3の配線と保護フィルムの間には空隙がほとんど無く、基板及び配線と保護フィルムとの間の密着度は高いように見えた。
配線板3の耐熱性試験の結果、熱による膨れ(発泡)は散見されなかった。
熱処理前後の配線板3について、配線板(ただし、配線が無い領域)の色度を測定し、色差を求めた。また、熱処理前後の配線板3について、剥離強度を測定し、剥離強度保持率を求めた。表1に評価結果を示す。なお、表中「未処理」は、熱処理前の配線板3を用いた色度及び剥離強度の結果を示している。
When visually observed, there was almost no gap between the wiring of the wiring board 3 and the protective film, and the degree of adhesion between the substrate and the wiring and the protective film appeared to be high.
As a result of the heat resistance test of the wiring board 3, no swelling (foaming) due to heat was found.
With respect to the wiring board 3 before and after the heat treatment, the chromaticity of the wiring board (where no wiring is present) was measured to obtain the color difference. Moreover, about the wiring board 3 before and behind heat processing, peel strength was measured and the peel strength retention rate was calculated | required. Table 1 shows the evaluation results. In the table, “untreated” indicates the result of chromaticity and peel strength using the wiring board 3 before the heat treatment.

Figure 2015133480
Figure 2015133480

表1に示すように、配線板3の色差ΔE(透過)は、0.25と小さかった。
また、剥離強度保持率は、大気中、150℃、200時間の条件で95%、大気中、150℃、1000時間の条件で90%と高かった。
As shown in Table 1, the color difference ΔE (transmission) of the wiring board 3 was as small as 0.25.
Further, the peel strength retention was as high as 95% under the conditions of 150 ° C. and 200 hours in the air and 90% under the conditions of 150 ° C. and 1000 hours in the air.

また、熱処理前後の配線板3を用いて、カバーレイ用接着フィルム1の色度を測定し、色差を求めた。表2に評価結果を示す。なお、表中「未処理」は、熱処理前の配線板3を用いた色度の結果を示している。   Moreover, the chromaticity of the adhesive film 1 for coverlays was measured using the wiring board 3 before and after the heat treatment, and the color difference was obtained. Table 2 shows the evaluation results. In the table, “untreated” indicates the result of chromaticity using the wiring board 3 before the heat treatment.

Figure 2015133480
Figure 2015133480

表2に示すように、カバーレイ用接着フィルム1の色差ΔE(反射)は、2.93と小さかった。   As shown in Table 2, the color difference ΔE (reflection) of the coverlay adhesive film 1 was as small as 2.93.

本発明のカバーレイ用接着フィルムの用途は、特に限定されず、例えば、配線板等のカバーレイが挙げられる。
本発明のカバーレイの用途は、特に限定されず、例えば、配線板等が挙げられる。
本発明の配線板の用途は、特に限定されず、例えば、FPC等が挙げられる。具体的には、大気中、150℃、1000時間の長期耐熱性試験における、基板及び配線と保護フィルムとの間の剥離強度保持率に優れる点から、車載パワートレインの車載用電子機器やコンピュータ等に好適に使用することができる。中でも、ヘッドランプ基板、トランスミッション又はエンジンの車載用電子機器として使用することが好ましい。
The use of the adhesive film for coverlays of the present invention is not particularly limited, and examples thereof include coverlays such as wiring boards.
The use of the coverlay of this invention is not specifically limited, For example, a wiring board etc. are mentioned.
The use of the wiring board of this invention is not specifically limited, For example, FPC etc. are mentioned. Specifically, in the long-term heat resistance test at 150 ° C. for 1000 hours in the atmosphere, the peel strength retention rate between the substrate and wiring and the protective film is excellent. Can be suitably used. Especially, it is preferable to use it as an in-vehicle electronic device for a headlamp substrate, a transmission or an engine.

Claims (11)

溶融成形が可能であり、カルボニル基含有基、ヒドロキシ基、エポキシ基、及びイソシアネート基からなる群から選択される少なくとも1種の官能基を有する含フッ素共重合体(A)を含む、カバーレイ用接着フィルム。   Coverlay comprising a fluorine-containing copolymer (A) that can be melt-molded and has at least one functional group selected from the group consisting of a carbonyl group-containing group, a hydroxy group, an epoxy group, and an isocyanate group Adhesive film. 前記含フッ素共重合体(A)が、炭素原子間にカルボニル基を含む炭化水素基、カーボネート基、カルボキシル基、ハロホルミル基、アルコキシカルボニル基、及び酸無水物残基からなる群から選択される少なくとも1種の官能基を有する、請求項1に記載のカバーレイ用接着フィルム。   The fluorine-containing copolymer (A) is at least selected from the group consisting of a hydrocarbon group containing a carbonyl group between carbon atoms, a carbonate group, a carboxyl group, a haloformyl group, an alkoxycarbonyl group, and an acid anhydride residue. The adhesive film for coverlays of Claim 1 which has 1 type of functional groups. 前記官能基の含有量が、前記含フッ素共重合体(A)の主鎖炭素数1×10個に対して10〜60000個である、請求項1又は2に記載のカバーレイ用接着フィルム。 The adhesive film for coverlay according to claim 1 or 2, wherein the content of the functional group is 10 to 60000 with respect to 1 x 10 6 main chain carbon atoms of the fluorine-containing copolymer (A). . 前記含フッ素共重合体(A)の融点が、260〜320℃である、請求項1〜3のいずれか一項に記載のカバーレイ用接着フィルム。   The adhesive film for coverlay according to any one of claims 1 to 3, wherein a melting point of the fluorine-containing copolymer (A) is 260 to 320 ° C. 保護フィルム上に、請求項1〜4のいずれか一項に記載のカバーレイ用接着フィルムが積層されてなる、カバーレイ。   The coverlay by which the adhesive film for coverlays as described in any one of Claims 1-4 is laminated | stacked on a protective film. 基板と配線と請求項1〜4のいずれか一項に記載のカバーレイ用接着フィルムと保護フィルムとを備え、前記基板上に、前記配線、前記カバーレイ用接着フィルム及び前記保護フィルムがこの順で積層されてなる、配線板。   A coverlay adhesive film and a protective film according to any one of claims 1 to 4 are provided, and the wiring, the coverlay adhesive film, and the protective film are arranged in this order on the substrate. A wiring board that is laminated. 前記配線板を、大気中、温度150℃で1000時間処理した際に、JIS Z8730に準拠した、処理前後の配線板(ただし、配線が無い領域)の色差ΔE(透過)が、2.0以下であることを特徴とする、請求項6に記載の配線板。   When the wiring board is treated in the atmosphere at a temperature of 150 ° C. for 1000 hours, the color difference ΔE (transmission) of the wiring board before and after the treatment (where no wiring is present) conforming to JIS Z8730 is 2.0 or less. The wiring board according to claim 6, wherein: 前記配線板を、大気中、温度150℃で1000時間処理した際に、JIS Z8730に準拠した、処理前後の配線板のカバーレイ用接着フィルムの色差ΔE(反射)が、5.0以下であることを特徴とする、請求項6又は7に記載の配線板。   When the wiring board is treated in the atmosphere at a temperature of 150 ° C. for 1000 hours, the color difference ΔE (reflection) of the adhesive film for the cover lay of the wiring board before and after the treatment according to JIS Z8730 is 5.0 or less. The wiring board according to claim 6 or 7, characterized by the above. 車載パワートレインの車載用電子機器用である、請求項6〜8のいずれか一項に記載の配線板。   The wiring board as described in any one of Claims 6-8 which is an object for vehicle-mounted electronic devices of a vehicle-mounted power train. 前記車載パワートレインが、ヘッドランプ基板、トランスミッション又はエンジンである、請求項9に記載の配線板。   The wiring board according to claim 9, wherein the in-vehicle power train is a headlamp board, a transmission, or an engine. 請求項6〜10のいずれか一項に記載の配線板を備える電子機器の製造方法であって、
前記配線板を260℃以上の高温環境下に曝す工程を有することを特徴とする、電子機器の製造方法。
It is a manufacturing method of an electronic device provided with the wiring board as described in any one of Claims 6-10,
A method of manufacturing an electronic device, comprising a step of exposing the wiring board to a high temperature environment of 260 ° C. or higher.
JP2014247993A 2013-12-10 2014-12-08 Adhesive film for cover lay, cover lay, wiring board, and method of manufacturing electronic device Active JP6507607B2 (en)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2014247993A JP6507607B2 (en) 2013-12-10 2014-12-08 Adhesive film for cover lay, cover lay, wiring board, and method of manufacturing electronic device

Applications Claiming Priority (3)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2013255416 2013-12-10
JP2013255416 2013-12-10
JP2014247993A JP6507607B2 (en) 2013-12-10 2014-12-08 Adhesive film for cover lay, cover lay, wiring board, and method of manufacturing electronic device

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JP2015133480A true JP2015133480A (en) 2015-07-23
JP6507607B2 JP6507607B2 (en) 2019-05-08

Family

ID=53900448

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2014247993A Active JP6507607B2 (en) 2013-12-10 2014-12-08 Adhesive film for cover lay, cover lay, wiring board, and method of manufacturing electronic device

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JP6507607B2 (en)

Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPWO2017030190A1 (en) * 2015-08-20 2018-05-31 旭硝子株式会社 LAMINATED SUBSTRATE AND METHOD FOR MANUFACTURING THE SAME
KR20200100592A (en) 2017-12-19 2020-08-26 에이지씨 가부시키가이샤 Processed circuit board, multi-layer circuit board and circuit board manufacturing method with coverlay film, and film with adhesive layer

Citations (10)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH0372691A (en) * 1989-05-22 1991-03-27 Sumitomo Electric Ind Ltd Manufacture of flexible circuit board
JPH07228848A (en) * 1994-02-22 1995-08-29 Asahi Glass Co Ltd Weather-resistant adhesive composition
WO2001018142A1 (en) * 1999-09-08 2001-03-15 Daikin Industries, Ltd. Fluorochemical adhesive material and layered product obtained with the same
JP2003176394A (en) * 2001-12-11 2003-06-24 Daikin Ind Ltd Thermoplastic resin composition, laminated resin formed article, multilayer formed article and fluorine- containing resin formed article
WO2006067970A1 (en) * 2004-12-20 2006-06-29 Asahi Glass Company, Limited Laminate for flexible printed wiring boards
WO2006101237A1 (en) * 2005-03-25 2006-09-28 Nipro Corporation Freeze storage container and process for producing the same
JP2011051203A (en) * 2009-09-01 2011-03-17 Toyobo Co Ltd Multilayer polyimide film and printed wiring board
WO2011077917A1 (en) * 2009-12-22 2011-06-30 新日鐵化学株式会社 Polyimide resin, manufacturing method therefor, adhesive resin composition, coverlay film, and circuit board
JP2012071422A (en) * 2010-09-27 2012-04-12 Toppan Printing Co Ltd Functional substrate and method for producing the same, and touch panel including the functional substrate
JP2014032980A (en) * 2012-08-01 2014-02-20 Du Pont-Toray Co Ltd Method of attaching coverlay for high-frequency circuit board, and the coverlay

Patent Citations (10)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH0372691A (en) * 1989-05-22 1991-03-27 Sumitomo Electric Ind Ltd Manufacture of flexible circuit board
JPH07228848A (en) * 1994-02-22 1995-08-29 Asahi Glass Co Ltd Weather-resistant adhesive composition
WO2001018142A1 (en) * 1999-09-08 2001-03-15 Daikin Industries, Ltd. Fluorochemical adhesive material and layered product obtained with the same
JP2003176394A (en) * 2001-12-11 2003-06-24 Daikin Ind Ltd Thermoplastic resin composition, laminated resin formed article, multilayer formed article and fluorine- containing resin formed article
WO2006067970A1 (en) * 2004-12-20 2006-06-29 Asahi Glass Company, Limited Laminate for flexible printed wiring boards
WO2006101237A1 (en) * 2005-03-25 2006-09-28 Nipro Corporation Freeze storage container and process for producing the same
JP2011051203A (en) * 2009-09-01 2011-03-17 Toyobo Co Ltd Multilayer polyimide film and printed wiring board
WO2011077917A1 (en) * 2009-12-22 2011-06-30 新日鐵化学株式会社 Polyimide resin, manufacturing method therefor, adhesive resin composition, coverlay film, and circuit board
JP2012071422A (en) * 2010-09-27 2012-04-12 Toppan Printing Co Ltd Functional substrate and method for producing the same, and touch panel including the functional substrate
JP2014032980A (en) * 2012-08-01 2014-02-20 Du Pont-Toray Co Ltd Method of attaching coverlay for high-frequency circuit board, and the coverlay

Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPWO2017030190A1 (en) * 2015-08-20 2018-05-31 旭硝子株式会社 LAMINATED SUBSTRATE AND METHOD FOR MANUFACTURING THE SAME
KR20200100592A (en) 2017-12-19 2020-08-26 에이지씨 가부시키가이샤 Processed circuit board, multi-layer circuit board and circuit board manufacturing method with coverlay film, and film with adhesive layer

Also Published As

Publication number Publication date
JP6507607B2 (en) 2019-05-08

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JP6822523B2 (en) Adhesive film, flexible metal laminate, adhesive film manufacturing method, flexible metal laminate manufacturing method, flexible printed substrate and flexible printed substrate manufacturing method
JP6565936B2 (en) LAMINATED BOARD AND FLEXIBLE PRINTED BOARD MANUFACTURING METHOD
JP6977716B2 (en) Laminates, printed circuit boards, and methods for manufacturing laminates
JP6819579B2 (en) Materials for printed circuit boards, metal laminates, their manufacturing methods and printed circuit board manufacturing methods
US10729018B2 (en) Process for producing laminate and process for producing printed board
JP6330447B2 (en) Fluorine-containing copolymer composition, process for producing the same, and molded article
JP2019104843A (en) Resin composition, laminate, metal laminate and printed wiring board
US10304583B2 (en) Insulating tape for covering, and method for producing structure
JP6507607B2 (en) Adhesive film for cover lay, cover lay, wiring board, and method of manufacturing electronic device
WO2014189017A1 (en) Covering material for heat-resistant electric wires, method for producing same, and electric wire

Legal Events

Date Code Title Description
A621 Written request for application examination

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621

Effective date: 20170803

A977 Report on retrieval

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007

Effective date: 20180727

A131 Notification of reasons for refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131

Effective date: 20180807

A521 Request for written amendment filed

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523

Effective date: 20180926

A521 Request for written amendment filed

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A821

Effective date: 20180927

TRDD Decision of grant or rejection written
A01 Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01

Effective date: 20190305

A61 First payment of annual fees (during grant procedure)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61

Effective date: 20190318

R150 Certificate of patent or registration of utility model

Ref document number: 6507607

Country of ref document: JP

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250