JP2015125819A - マイクロ波処理装置 - Google Patents
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Abstract
【課題】装置のサイズおよびコストを低減するとともに、効率がよいマイクロ波処理装置を提供する。
【解決手段】指定された周波数のマイクロ波を発生するマイクロ波発生手段(マイクロ波発生部11)と、複数の選択部(サーキュレータ15−1〜15−(n−1))が直列に接続されて構成され、それぞれが異なる所定の周波数のマイクロ波を選択して出力し、それ以外の周波数のマイクロ波を通過させて後段の選択部に供給する選択手段と、選択手段を構成する各選択部によって選択されて出力されるマイクロ波をそれぞれ入力し、当該マイクロ波により被処理物を処理する複数のマイクロ波処理手段(マイクロ波処理部16−1b〜16−nb)と、マイクロ波発生手段が発生するマイクロ波の周波数を制御することにより、被処理物の処理をさせる制御手段(制御部12)と、を有する。
【選択図】図1
【解決手段】指定された周波数のマイクロ波を発生するマイクロ波発生手段(マイクロ波発生部11)と、複数の選択部(サーキュレータ15−1〜15−(n−1))が直列に接続されて構成され、それぞれが異なる所定の周波数のマイクロ波を選択して出力し、それ以外の周波数のマイクロ波を通過させて後段の選択部に供給する選択手段と、選択手段を構成する各選択部によって選択されて出力されるマイクロ波をそれぞれ入力し、当該マイクロ波により被処理物を処理する複数のマイクロ波処理手段(マイクロ波処理部16−1b〜16−nb)と、マイクロ波発生手段が発生するマイクロ波の周波数を制御することにより、被処理物の処理をさせる制御手段(制御部12)と、を有する。
【選択図】図1
Description
本発明は、マイクロ波処理装置に関するものである。
マイクロ波を用いて被処理物内にプラズマ励起したり、マイクロ波を用いて被処理物を加熱する場合、プラズマの状態を一定に保ったり、温度を一定に保つために、マイクロ波をパルス状に供給することが行われている。このようなパルス状のマイクロ波を供給する場合、パルス幅は数μs〜数msと短パルスである場合が多い。従来は、マグネトロンを用いて単一周波数のパルスが生成されることが行われていた。
特許文献1には、プラズマを生成するマイクロ波をパルス変調し、周波数とデューティ比を一定にすることで反応性ガスの分解を制御し、高精度にエッチングする技術が開示されている。
特許文献2には、プラズマを生成するマイクロ波をパルス変調してラジカルを制御するとともに、プラズマの不安定性を抑えてイオン温度を低下させる技術が開示されている。
ところで、従来、複数(n台)のマイクロ波処理部において、マイクロ波電力P[W]によって処理を行う場合、図6に示すように、n台のマグネトロン102−1〜102−nを準備し、これらのマグネトロン102−1〜102−nによって発生されたマイクロ波をマイクロ波処理部106−1〜106−nに供給する方法と、図7に示すように、マグネトロン102で発生されたマイクロ波を電力分配器110によってn分配し、マイクロ波処理部106−1〜106−nに供給する方法がある。なお、図6および図7において、サーキュレータ103と無反射終端抵抗器104は、アイソレータを構成し、マイクロ波処理部106−1〜106−nによって反射されたマイクロ波を吸収し、反射されたマイクロ波がマグネトロン102,102−1〜102−nに入射されることを防ぐ。また、チューナ105−1〜105−nは、マイクロ波処理部106−1〜106−nのインピーダンスを調整し、反射による損失を低減する機能を有する。
図6の例では、マグネトロン102−1〜102−nからは、図8(A)に示すように、出力パワーPを有するパルス状のマイクロ波が所定の時間間隔τで出力される。図8(B)に示すように、このようなパルス状のマイクロ波は、出力パワーPを有するパルス状のマイクロ波としてマイクロ波処理部106−1〜106−nに対してそれぞれ供給される。一方、図7の例では、マグネトロン102からは、図9(A)に示すように、出力パワーP×nを有するパルス状のマイクロ波が所定の時間間隔τで出力される。このようなマイクロ波は電力分配器110でn分配され、図9(B)に示すように、出力パワーPを有するパルス状のマイクロ波としてマイクロ波処理部106−1〜106−nに対してそれぞれ供給される。
図6に示す方法では、n台のマグネトロン102−1〜102−nおよび無反射終端抵抗器104−1〜104−nを有するサーキュレータ103−1〜103−nを準備する必要があり、設備が大型化するとともに、コストが高くつくという問題点がある。
また、図7に示す方法では、電力分配器110として導波管型の分配器を用いる場合、電力分配器110のサイズが大型化するという問題点がある。そこで、電子式な切り替え構造(MESFET(Metal-Semiconductor Field Effect Transistor)やPINダイオードを利用)を用いた高速な切り替え器を使用して、時分割によってマイクロ波を分配する方法も想定されるが、これらのデバイスは、許容電力が数W程度と低く、マイクロ波によるプラズマ処理や熱処理といった分野には利用することが困難である。もちろん、電子的な切り換えではなく、高電力に対応した導波管型のスイッチも存在するが、機械的な切り替え構造であるため、切り替え速度には限界がある。また、マイクロ波処理部106−1〜106−n内に効率よくマイクロ波を給電するためには、反射係数(進行波と反射波の比)が小さい必要があるが、切り替え過程において反射係数が悪化するという問題点がある。また、反射波が無反射終端抵抗器に吸収されて利用されておらず効率が悪いという問題点がある。
本発明は、以上の点に鑑みてなされたものであり、装置のサイズおよびコストを低減するとともに、効率がよいマイクロ波処理装置を提供することを目的としている。
上記課題を解決するために、本発明は、指定された周波数のマイクロ波を発生するマイクロ波発生手段と、複数の選択部が直列に接続されて構成され、それぞれの選択部は、前記マイクロ波発生手段によって発生されたマイクロ波のうち、それぞれが異なる所定の周波数のマイクロ波を選択して出力し、それ以外の周波数のマイクロ波を通過させて後段の選択部に供給する選択手段と、前記選択手段を構成する各選択部によって選択されて出力されるマイクロ波をそれぞれ入力し、当該マイクロ波により被処理物を処理する複数のマイクロ波処理手段と、前記マイクロ波発生手段が発生するマイクロ波の周波数を制御することにより、前記複数のマイクロ波処理手段のそれぞれにおいて前記被処理物の処理をさせる制御手段と、を有することを特徴とする。
このような構成によれば、1つのマイクロ波発生手段で複数のマイクロ波処理手段に対応することができるため、装置のサイズおよびコストを低減するとともに、効率がよいマイクロ波処理装置を得ることができる。
このような構成によれば、1つのマイクロ波発生手段で複数のマイクロ波処理手段に対応することができるため、装置のサイズおよびコストを低減するとともに、効率がよいマイクロ波処理装置を得ることができる。
また、本発明は、前記制御手段は、前記選択部のそれぞれに対応する周波数のマイクロ波を、所定の順序でパルス状に繰り返し出力するように、前記マイクロ波発生手段を制御することを特徴とする。
このような構成によれば、時分割制御によって複数の被処理物を効率良く処理することが可能になる。
このような構成によれば、時分割制御によって複数の被処理物を効率良く処理することが可能になる。
また、本発明は、前記選択部は、所定の周波数帯のマイクロ波を通過させて前記マイクロ波処理手段に供給するバンドパスフィルタと、前記マイクロ波発生手段または前段の選択部から出力されたマイクロ波を前記バンドパスフィルタに供給するとともに、前記バンドパスフィルタによって反射されたマイクロ波を後段の選択部に供給するサーキュレータと、を有することを特徴とする。
このような構成によれば、バンドパスフィルタとサーキュレータを用いて効率よい選択部を構成することができる。
なお、本発明はさらに、前記バンドパスフィルタと前記マイクロ波処理手段の間に配置され、前記バンドパスフィルタを通過した周波数帯のマイクロ波が前記マイクロ波処理手段によって反射されることを低減するように前記マイクロ波処理手段のインピーダンスを調整するチューナを有するように構成してもよい。このような構成により、反射ロスを低減することができる。
このような構成によれば、バンドパスフィルタとサーキュレータを用いて効率よい選択部を構成することができる。
なお、本発明はさらに、前記バンドパスフィルタと前記マイクロ波処理手段の間に配置され、前記バンドパスフィルタを通過した周波数帯のマイクロ波が前記マイクロ波処理手段によって反射されることを低減するように前記マイクロ波処理手段のインピーダンスを調整するチューナを有するように構成してもよい。このような構成により、反射ロスを低減することができる。
また、本発明は、前記選択部は、所定の周波数帯のマイクロ波を反射し、それ以外の周波数帯のマイクロ波を通過させて後段の選択部に供給するバンドストップフィルタと、前記マイクロ波発生手段または前段の選択部から出力されたマイクロ波を前記バンドストップフィルタに供給するとともに、前記バンドストップフィルタによって反射されたマイクロ波を前記マイクロ波処理手段に供給するサーキュレータと、を有することを特徴とする。
このような構成によれば、バンドストップフィルタとサーキュレータを用いて効率よい選択部を構成することができる。
なお、本発明はさらに、前記サーキュレータと前記マイクロ波処理手段の間に配置され、前記バンドストップフィルタによって反射された周波数帯のマイクロ波が前記マイクロ波処理手段によって反射されることを低減するように前記マイクロ波処理手段のインピーダンスを調整するチューナを有するように構成してもよい。このような構成により、反射ロスを低減することができる。
このような構成によれば、バンドストップフィルタとサーキュレータを用いて効率よい選択部を構成することができる。
なお、本発明はさらに、前記サーキュレータと前記マイクロ波処理手段の間に配置され、前記バンドストップフィルタによって反射された周波数帯のマイクロ波が前記マイクロ波処理手段によって反射されることを低減するように前記マイクロ波処理手段のインピーダンスを調整するチューナを有するように構成してもよい。このような構成により、反射ロスを低減することができる。
また、本発明は、前記マイクロ波処理手段は、所定の周波数帯のマイクロ波によって共振する特性を有する共振型マイクロ波処理手段であり、前記選択部は、前記共振型マイクロ波処理手段の前段に接続され、前記共振型マイクロ波処理手段が、前記所定の周波数帯のマイクロ波で共振するように前記共振型マイクロ波処理手段のインピーダンスを調整するチューナと、前記マイクロ波発生手段または前段の選択部から出力されたマイクロ波を前記チューナに供給するとともに、前記チューナによって反射されたマイクロ波を後段の選択部に供給するサーキュレータと、を有することを特徴とする。
このような構成によれば、共振型マイクロ波処理手段を使用することを前提とし、チューナとサーキュレータを用いて、周波数の選択性(Q値)が向上するとともに、反射ロスを低減することができ、効率よい選択部を構成することができる。
このような構成によれば、共振型マイクロ波処理手段を使用することを前提とし、チューナとサーキュレータを用いて、周波数の選択性(Q値)が向上するとともに、反射ロスを低減することができ、効率よい選択部を構成することができる。
また、本発明は、前記マイクロ波発生手段と、初段の前記選択部の間には、無反射終端器を有するアイソレータが配置されていることを特徴とする。
このような構成によれば、反射するマイクロ波がマイクロ波発生手段に入力され、マイクロ波発生手段に悪影響を与えることを防止できる。
このような構成によれば、反射するマイクロ波がマイクロ波発生手段に入力され、マイクロ波発生手段に悪影響を与えることを防止できる。
また、本発明は、前記制御手段は、前記マイクロ波発生手段が発生するマイクロ波の出力時間および出力パワーの少なくとも一方を制御することを特徴とする。
このような構成によれば、被処理物の状態に応じて、印加するマイクロ波のパワーを調整することができる。
このような構成によれば、被処理物の状態に応じて、印加するマイクロ波のパワーを調整することができる。
本発明によれば、装置のサイズおよびコストを低減するとともに、効率がよいマイクロ波処理装置を提供することが可能になる。
次に、本発明の実施形態について説明する。
(A)本発明の第1実施形態の構成の説明
図1は、本発明の第1実施形態に係るマイクロ波処理装置の構成例を示す図である。この図1に示すように、マイクロ波処理装置10は、マイクロ波発生部11、制御部12、サーキュレータ13、無反射終端抵抗器14、サーキュレータ15−1〜15−(n−1)、および、マイクロ波処理モジュール16−1〜16−nを有している。
図1は、本発明の第1実施形態に係るマイクロ波処理装置の構成例を示す図である。この図1に示すように、マイクロ波処理装置10は、マイクロ波発生部11、制御部12、サーキュレータ13、無反射終端抵抗器14、サーキュレータ15−1〜15−(n−1)、および、マイクロ波処理モジュール16−1〜16−nを有している。
ここで、マイクロ波発生部11は、VCO(Voltage Controlled Oscillator)11aと増幅部11bを有しており、制御部12によって指定された周波数のマイクロ波を発生して出力する。マイクロ波発生部11から出力されるマイクロ波は、例えば、ISM(Industry-Science-Medical)バンドと呼ばれる2.45GHz付近の周波数を有している。VCO11aは、制御部12から供給される制御電圧に対応する周波数のマイクロ波を発生して出力する。なお、PLL(Phase Locked Loop)を用いることで、出力される信号の周波数を高い精度で安定させるようにしてもよい。増幅部11bは、例えば、半導体増幅器によって構成され、VCO11aから出力される2.45GHz帯域の信号を、制御部12の指定する利得で増幅して出力する。
制御部12は、例えば、CPU(Central Processing Unit)、ROM(Read Only Memory)、および、RAM(Random Access Memory)を有し、センサ部16−1c〜16−ncから出力される情報に基づいて、マイクロ波発生部11のVCO11aおよび増幅部11bを制御する。
サーキュレータ13は、マイクロ波発生部11から入力されるマイクロ波をサーキュレータ15−1に出力するとともに、サーキュレータ15−1から入力されるマイクロ波(反射波)を無反射終端抵抗器14に出力する。無反射終端抵抗器14は、サーキュレータ13から供給されるマイクロ波を反射することなく終端する(熱に変換する)。
サーキュレータ15−1は、前段のサーキュレータ13から入力されるマイクロ波をマイクロ波処理モジュール16−1に出力するとともに、マイクロ波処理モジュール16−1から入力されるマイクロ波(反射波)を後段のサーキュレータ15−2に出力する。サーキュレータ15−2〜15−nもサーキュレータ15−1と同様の機能を有する。
マイクロ波処理モジュール16−1〜16−nは、バンドパスフィルタ(以下、「BPF」(Band Pass Filter)と称する)16−1a〜16−na、マイクロ波処理部16−1b〜16−nb、センサ部16−1c〜16−nc、および、チューナ16−1d〜16−ndを有しており、サーキュレータ15−1〜15−nからそれぞれ供給されるマイクロ波によって、被処理物に対して処理を施す。ここで、BPF16−1a〜16−naは、それぞれ異なる周波数f1〜fnを中心とする所定の帯域幅のマイクロ波を通過し、それ以外の帯域については反射する。例えば、BPF16−1は、f1を中心周波数とし、所定の帯域幅(例えば、数MHz)を有するマイクロ波を通過させてマイクロ波処理部16−1bに供給し、それ以外の帯域については反射してサーキュレータ15−1に供給する。なお、BPF16−2〜16−nも周波数f2〜fnについて同様の動作を行う。マイクロ波処理部16−1bは、例えば、マイクロ波が外部に漏洩しないように金属製の筐体によって構成され、内部に被処理物である、気体、液体、固体等が配置される。被処理物の具体例としては、例えば、焼結処理を施す被処理物であるセラミックスや、プラズマによって表面改質する被処理物である樹脂や、エッチング処理を施す被処理物である半導体基板がある。もちろん、これら以外を被処理物としてもよい。センサ部16−1c〜16−ncは、例えば、温度センサ等によって構成され、マイクロ波処理部16−1b〜16−nb内の温度または被処理物の温度を検出し、制御部12に供給する。チューナ16−1d〜16−ndは、マイクロ波処理部16−1b〜16−nbのインピーダンスを調整することで、反射による損失を低減する機能を有し、例えば、スタブチューナ(導波管型または同軸型)またはE/Hチューナ(導波管型)等によって構成される。
(B)本発明の第1実施形態の動作の説明
つぎに、第1実施形態の動作について説明する。マイクロ波処理部16−1b〜16−nbに対して被処理物がそれぞれ配置され、制御部12に対して処理を開始する指示がなされると、制御部12は動作を開始する。制御部12は、VCO11aに対して、周波数f1〜fnのパルス状のマイクロ波を所定の順序で繰り返し発生するように指示する。この結果、VCO11aはパルス状のマイクロ波を出力し、増幅部11bは制御部12が指定する所定の利得で増幅して出力する。これにより、増幅部11bは、図2(A)に示すように、出力パワーがPであり、時間幅がτのパルス形状を有する周波数f1〜fnのマイクロ波を、f1〜fnの順番で繰り返し出力する。より詳細には、例えば、周波数がf1のマイクロ波を出力する場合、制御部12は、周波数f1に対応する制御電圧V1をVCO11aに対して供給する。この結果、VCO11aは、周波数f1のマイクロ波を生成して増幅部11bに供給する。周波数f2〜fnのマイクロ波についても上述と同様の動作によって発生される。なお、VCO11aは、約2.45GHzを中心にプラスマイナス20〜50MHz程度の範囲の周波数の信号を出力可能であるので、一例として、2.45GHz−20MHz〜2.45GHz+20MHzの周波数帯域をn分割し、それぞれの中心周波数をf1〜fnに割り当てることができる。また、出力時間τとしては数μs〜数ms程度の範囲とすることができ、出力パワーPとしては、数mW〜数百W程度の範囲とすることができる。もちろん、以上の数値は一例であって、これ以外の数値に設定してもよい。
つぎに、第1実施形態の動作について説明する。マイクロ波処理部16−1b〜16−nbに対して被処理物がそれぞれ配置され、制御部12に対して処理を開始する指示がなされると、制御部12は動作を開始する。制御部12は、VCO11aに対して、周波数f1〜fnのパルス状のマイクロ波を所定の順序で繰り返し発生するように指示する。この結果、VCO11aはパルス状のマイクロ波を出力し、増幅部11bは制御部12が指定する所定の利得で増幅して出力する。これにより、増幅部11bは、図2(A)に示すように、出力パワーがPであり、時間幅がτのパルス形状を有する周波数f1〜fnのマイクロ波を、f1〜fnの順番で繰り返し出力する。より詳細には、例えば、周波数がf1のマイクロ波を出力する場合、制御部12は、周波数f1に対応する制御電圧V1をVCO11aに対して供給する。この結果、VCO11aは、周波数f1のマイクロ波を生成して増幅部11bに供給する。周波数f2〜fnのマイクロ波についても上述と同様の動作によって発生される。なお、VCO11aは、約2.45GHzを中心にプラスマイナス20〜50MHz程度の範囲の周波数の信号を出力可能であるので、一例として、2.45GHz−20MHz〜2.45GHz+20MHzの周波数帯域をn分割し、それぞれの中心周波数をf1〜fnに割り当てることができる。また、出力時間τとしては数μs〜数ms程度の範囲とすることができ、出力パワーPとしては、数mW〜数百W程度の範囲とすることができる。もちろん、以上の数値は一例であって、これ以外の数値に設定してもよい。
サーキュレータ13は、増幅部11bから出力されたマイクロ波をサーキュレータ15−1に対して出力する。サーキュレータ15−1は、サーキュレータ13から出力された周波数f1のマイクロ波をBPF16−1aに対して供給する。BPF16−1aは、周波数f1のマイクロ波を通過し、それ以外の帯域については反射する。いまの例では、VCO11aからは周波数f1のマイクロ波が出力されているので、周波数f1のマイクロ波はBPF16−1aを通過し、マイクロ波処理部16−1bに供給される。マイクロ波処理部16−1bに供給されたマイクロ波は、図示しない被処理物に照射され、被処理物を熱加工したり、あるいは、被処理物をプラズマ処理したりする。この結果、被処理物が所望の状態に処理される。なお、チューナ16−1dは、前述したように、インピーダンスの調整を行うことで、マイクロ波処理部16−1bにおけるマイクロ波の反射による損失を低減するため、処理の効率が向上する。チューナ16−2d〜16−ndも同様の機能を有する。
つぎに、制御部12は、制御電圧V2をVCO11aに供給し、周波数f2の信号を出力させる。VCO11aから出力された周波数f2のマイクロ波は増幅部11bで増幅された後、サーキュレータ13に供給される。サーキュレータ13は、増幅部11bから出力された周波数f2のマイクロ波をサーキュレータ15−1に出力する。サーキュレータ15−1は、サーキュレータ13から出力された信号をBPF16−1aに出力する。前述のように、BPF16−1aは、周波数f1のマイクロ波は通過させ、それ以外については反射するので、周波数f2の信号は通過せずに反射されてサーキュレータ15−1に戻される。サーキュレータ15−1は、周波数f2のマイクロ波をサーキュレータ15−2に出力する。サーキュレータ15−2は、周波数f2のマイクロ波をBPF16−2aに出力する。BPF16−2aは、周波数f2のマイクロ波は通過させ、それ以外は反射するので、サーキュレータ15−2から供給された周波数f2のマイクロ波は、チューナ16−2dを介してマイクロ波処理部16−2bに供給され、図示しない被処理物に対して照射される。
同様の動作は、周波数f3〜fnについても実行され、例えば、周波数f3のマイクロ波は、BPF16−1a,16−2aによって反射され、図示しないBPF16−3aを通過し、チューナ16−3dを介してマイクロ波処理部16−3bに供給され、図示しない被処理物に照射される。同様に、周波数f(n−1)のマイクロ波は、BPF16−(n−1)aを通過し、チューナ16−(n−1)dを介してマイクロ波処理部16−(n−1)bに格納される被処理物に照射され、周波数fnのマイクロ波は、BPF16−naを通過し、チューナ16−ndを介してマイクロ波処理部16−nbに格納される被処理物に照射される。なお、サーキュレータ13には、サーキュレータ15−1〜15−nを介して反射波が入力されるが、このような反射波は、サーキュレータ13に接続された無反射終端抵抗器14によって熱に変換される。
以上の動作により、マイクロ波発生部11は図2(A)に示すように、出力パワーがPであり、出力時間がτであり、周波数がf1〜fnであるパルス状のマイクロ波を発生して出力する。このようなマイクロ波は、サーキュレータ15−1〜15−n、BPF16−1a〜16−na、および、チューナ16−1d〜16−ndによって構成される選択部によって、周波数f1〜fnの順に選択され、マイクロ波処理部16−1b〜16−nbにそれぞれ供給され、被処理物に照射される。なお、サーキュレータ15−1〜15−n、BPF16−1a〜16−na、および、チューナ16−1d〜16−ndによって構成される選択部は損失が少ないことから、図2(A)に示す出力パワーがPであるマイクロ波は、ほとんど減衰することなく、図2(B)に示すように、出力パワーがPであるマイクロ波として、マイクロ波処理部16−1b〜16−1nに供給される。
なお、以上の説明では、マイクロ波発生部11は、図2(A)に示すように、出力パワーと出力時間が一定のマイクロ波を出力するようにしたが、例えば、センサ部16−1c〜16−ncによって検出された情報(例えば、マイクロ波処理部16−1b〜16−nb内の温度を示す情報、被処理物の温度を示す情報、または、プラズマの状態を示す情報)に基づいて、周波数毎に出力パワーと出力時間を可変制御するようにしてもよい。例えば、制御部12は、VCO11aに電圧を印加する時間を調整することで、出力時間を制御する(変化させる)ことができる。また、制御部12は、増幅部11bの利得を調整することで、出力パワーを制御する(変化させる)ことができる。
つぎに、図3を参照して、第1実施形態において実行される処理の流れについて説明する。図3に示すフローチャートの処理が開始されると、以下のステップが実行される。
ステップS10では、制御部12は、処理回数をカウントする変数iに初期値である“0”を代入する。
ステップS11では、制御部12は、処理回数をカウントする変数iの値を“1”インクリメントする。この結果、初回の処理では、変数iの値は“1”となる。
ステップS12では、制御部12は、第i番目の制御対象となるマイクロ波処理部を特定する。例えば、変数iの値が“1”である場合には、マイクロ波処理部16−1bが処理対象として特定される。
ステップS13では、制御部12は、ステップS12で特定した制御対象のセンサ部の出力を取得する。例えば、変数iの値が“1”である場合には、マイクロ波処理部16−1bのセンサ部16−1cの出力が取得される。
ステップS14では、制御部12は、ステップS13で取得したセンサ部の出力を参照し、被処理物の状態を推定する。例えば、被処理物に対して熱加工を施す場合には、センサ部の出力に基づいて被処理物の温度を推定する。また、被処理物に対してプラズマ処理を施す場合には、プラズマの電子密度や温度から被処理物の状態を推定する。
ステップS15では、制御部12は、ステップS14で推定した被処理物の状態に応じて、出力パワーPと、出力時間τを算出する。例えば、被処理物の温度が目標温度よりも低い場合には、出力パワーPおよび出力時間τの少なくとも一方を増加させ、被処理物の温度が目標温度よりも高い場合には、出力パワーPおよび出力時間τの少なくとも一方を減少させる。なお、パルス波形のデューティ比を一定に保つ必要がある場合には、出力パワーPのみを変化させるようにしてもよい。また、必要に応じて、所定の周波数のマイクロ波については、出力しないようにしてもよい。
ステップS16では、制御部12は、VCO11aに出力させる周波数をfiに設定する。より詳細には、例えば、i=1である場合には、制御部12は、VCO11aに周波数f1のマイクロ波を出力させるために、制御電圧をV1に設定する。
ステップS17では、制御部12は、ステップS15で算出した出力パワーPに応じて、増幅部11bの利得を設定する。より詳細には、出力パワーPの値が大きい場合には、利得を大きく設定し、出力パワーPの値が小さい場合には、利得を小さく設定する。なお、必要な出力パワーPと利得の関係を示すテーブルを用いて、出力パワーを利得に変換するようにしてもよい。
ステップS18では、制御部12は、VCO11aに対してステップS16で設定した周波数のマイクロ波を出力させる。このようにして出力されたマイクロ波は、増幅部11bによって、ステップS17で設定された利得に応じて増幅された後、サーキュレータ13に対して出力される。
ステップS19では、制御部12は、周波数fiのマイクロ波の出力を開始してから、ステップS15で算出した出力時間τが経過したか否かを判定し、出力時間τが経過したと判定した場合(ステップS19:Yes)にはステップS20に進み、それ以外の場合(ステップS19:No)にはステップS18に戻って同様の処理を繰り返す。この処理により、マイクロ波の出力時間がτになるように調整される。
ステップS20では、制御部12は、全ての処理部の制御が完了したか否かを判定し、終了したと判定した場合(ステップS20:Yes)にはステップS21に進み、それ以外の場合(ステップS20:No)にはステップS11に戻って同様の処理を繰り返す。より詳細には、マイクロ波処理部16−1b〜16−nbの全てに対する制御が完了した場合(i=nとなった場合)には、全ての処理部に対する処理が完了したと判定してステップS21に進み、それ以外の場合(i<nの場合)にはステップS11に戻って前述の場合と同様の処理を繰り返す。
ステップS21では、制御部12は、制御を終了するか否かを判定し、終了しないと判定した場合(ステップS21:No)にはステップS10に戻って前述の場合と同様の処理を繰り返し、それ以外の場合(ステップS21:No)には処理を終了する。より詳細には、処理を継続すると判定した場合には、ステップS10,S11に進み、i=1に戻って同様の処理が繰り返される。
以上の処理によれば、センサ部16−1c〜16−ncの出力に基づいて、被処理物が目標の状態になるように、制御が実行される。
(C)本発明の第2実施形態の構成の説明
つぎに、本発明の第2実施形態について説明する。図4は、本発明の第2実施形態の構成例を示す図である。なお、図4において、図1と対応する部分には同一の符号を付してその説明を省略する。図4では、図1と比較すると、マイクロ波処理モジュール16−1〜16−nからBPF16−1a〜16−naが除外され、サーキュレータ15−1〜15−(n−1)が、伝送方向が異なるサーキュレータ15−n〜15−2に置換され、サーキュレータ15−n〜15−2の後段にバンドストップフィルタ(以下、「BSF」(Band Stop Filter)と称する)17−(n−1)〜17−1が追加されている。これら以外の構成は、図1の場合と同様である。
つぎに、本発明の第2実施形態について説明する。図4は、本発明の第2実施形態の構成例を示す図である。なお、図4において、図1と対応する部分には同一の符号を付してその説明を省略する。図4では、図1と比較すると、マイクロ波処理モジュール16−1〜16−nからBPF16−1a〜16−naが除外され、サーキュレータ15−1〜15−(n−1)が、伝送方向が異なるサーキュレータ15−n〜15−2に置換され、サーキュレータ15−n〜15−2の後段にバンドストップフィルタ(以下、「BSF」(Band Stop Filter)と称する)17−(n−1)〜17−1が追加されている。これら以外の構成は、図1の場合と同様である。
(D)本発明の第2実施形態の動作の説明
つぎに、第2実施形態の動作について説明する。第2実施形態では、マイクロ波発生部11および制御部12の動作は、第1実施形態の場合と同様であるが、サーキュレータ15−n〜15−2およびBSF17−(n−1)〜17−1の動作が異なっている。以下では、異なっている部分を中心に説明する。
つぎに、第2実施形態の動作について説明する。第2実施形態では、マイクロ波発生部11および制御部12の動作は、第1実施形態の場合と同様であるが、サーキュレータ15−n〜15−2およびBSF17−(n−1)〜17−1の動作が異なっている。以下では、異なっている部分を中心に説明する。
マイクロ波発生部11から周波数fnのパルス状のマイクロ波が出力されると、サーキュレータ13を介してサーキュレータ15−nに供給される。サーキュレータ15−nは、サーキュレータ13から供給されたマイクロ波をBSF17−(n−1)に供給する。BSF17−(n−1)は、サーキュレータ15−nから供給されたマイクロ波のうち、周波数fnのマイクロ波については反射し、それ以外については通過させる。いまの例では、周波数fnのマイクロ波が供給されていることから、BSF17−(n−1)は入力されたマイクロ波を反射し、サーキュレータ15−nに供給する。サーキュレータ15−nは、BSF17−(n−1)によって反射されたマイクロ波をチューナ16−ndを介してマイクロ波処理部16−nbに供給する。この結果、マイクロ波処理部16−nbに格納されている図示しない被処理物に対してマイクロ波が照射される。なお、チューナ16−ndは、前述したように、インピーダンスの調整を行うことで、マイクロ波処理部16−nbにおけるマイクロ波の反射による損失を低減するため、処理の効率が向上する。
つぎに、マイクロ波発生部11から周波数がf(n−1)のマイクロ波が出力されると、このマイクロ波はBSF17−(n−1)を通過して、図示しないサーキュレータ15−(n−1)に供給される。サーキュレータ15−(n−1)は、図示しない後段のBSF17−(n−2)に対してマイクロ波を供給する。BSF17−(n−2)は、周波数f(n−1)のマイクロ波は反射することから、反射されたマイクロ波はサーキュレータ15−(n−1)を介して、図示しないマイクロ波処理部16−(n−1)に供給される。同様の動作は、周波数f(n−2)〜f1のマイクロ波に対しても実行され、マイクロ波処理部16−(n−2)b〜16−1bにそれぞれ格納されている被処理物に対してマイクロ波が照射される。なお、制御部12において実行される処理は、図3の場合と同様である。
以上に説明したように、第2実施形態によれば、図2に示すように、周波数f1〜fnのパルス状のマイクロ波を発生し、サーキュレータ15−n〜15―2、BSF17−(n−1)〜17−1、および、チューナ16−1d〜16−ndによって所定の周波数を選択し、マイクロ波処理部16−1b〜16−nbに格納された被処理物に対してマイクロ波を照射して処理することができる。この結果、前述した第1実施形態と同様の効果を得ることができる。
(E)本発明の第3実施形態の構成の説明
つぎに、第3実施形態について説明する。図5は、本発明の第3実施形態の構成例を示す図である。おな、図5において、図1と対応する部分には同一の符号を付してその説明を省略する。図5では、図1と比較すると、マイクロ波処理モジュール16−1〜16−nのBPF16−1a〜16−naが除外され、マイクロ波処理部16−1b〜16−nbが共振型マイクロ波処理部16−1e〜16−neに置換されている。これら以外の構成は、図1の場合と同様である。ここで、共振型マイクロ波処理部16−1e〜16−neは、それぞれ周波数f1〜fnにおいて共振するように設定されている。例えば、共振型マイクロ波処理部16−1eは、周波数f1において共振するように調整されている。なお、チューナ16−1d〜16−ndは、共振型マイクロ波処理部16−1e〜16−neが周波数f1〜fnにおいてそれぞれ共振するようにインピーダンスを調整するとともに、共振のQ値が高くなるように調整する。また、チューナ16−1d〜16−ndは、前述の場合と同様に、反射による損失を低減する機能も有する。
つぎに、第3実施形態について説明する。図5は、本発明の第3実施形態の構成例を示す図である。おな、図5において、図1と対応する部分には同一の符号を付してその説明を省略する。図5では、図1と比較すると、マイクロ波処理モジュール16−1〜16−nのBPF16−1a〜16−naが除外され、マイクロ波処理部16−1b〜16−nbが共振型マイクロ波処理部16−1e〜16−neに置換されている。これら以外の構成は、図1の場合と同様である。ここで、共振型マイクロ波処理部16−1e〜16−neは、それぞれ周波数f1〜fnにおいて共振するように設定されている。例えば、共振型マイクロ波処理部16−1eは、周波数f1において共振するように調整されている。なお、チューナ16−1d〜16−ndは、共振型マイクロ波処理部16−1e〜16−neが周波数f1〜fnにおいてそれぞれ共振するようにインピーダンスを調整するとともに、共振のQ値が高くなるように調整する。また、チューナ16−1d〜16−ndは、前述の場合と同様に、反射による損失を低減する機能も有する。
(F)本発明の第3実施形態の動作の説明
つぎに、第3実施形態の動作について説明する。第3実施形態では、マイクロ波発生部11および制御部12の動作は、第1実施形態の場合と同様であるが、チューナ16−1d〜16−ndおよび共振型マイクロ波処理部16−1e〜16−neの動作が異なっている。以下では、異なっている部分を中心に説明する。
つぎに、第3実施形態の動作について説明する。第3実施形態では、マイクロ波発生部11および制御部12の動作は、第1実施形態の場合と同様であるが、チューナ16−1d〜16−ndおよび共振型マイクロ波処理部16−1e〜16−neの動作が異なっている。以下では、異なっている部分を中心に説明する。
マイクロ波発生部11から周波数f1のパルス状のマイクロ波が出力されると、サーキュレータ13を介してサーキュレータ15−1に供給される。サーキュレータ15−1は、入力された周波数f1のマイクロ波をチューナ16−1dに出力する。チューナ16−1dは、共振型マイクロ波処理部16−1eの共振周波数がf1になるようにインピーダンスを調整するので、サーキュレータ15−1から供給された周波数f1のマイクロ波は、反射されずに共振型マイクロ波処理部16−1eに入射され、被処理物に照射される。
つぎに、マイクロ波発生部11から周波数f2のパルス状のマイクロ波が出力されると、サーキュレータ13を介してサーキュレータ15−1に供給される。サーキュレータ15−1は、入力された周波数f2のマイクロ波をチューナ16−1dに出力する。チューナ16−1dは、マイクロ波処理部16−1eの共振周波数がf1になるようにインピーダンスを調整するので、サーキュレータ15−1から供給された周波数f2のマイクロ波は、反射されてサーキュレータ15−1に供給される。サーキュレータ15−1は、チューナ16−1dによって反射されたマイクロ波をサーキュレータ15−2に供給する。サーキュレータ15−2は、入力された周波数f2のマイクロ波をチューナ16−2dに出力する。チューナ16−2dは、マイクロ波処理部16−2eの共振周波数がf2になるようにインピーダンスを調整するので、サーキュレータ15−2から供給された周波数f2のマイクロ波は、反射されずにマイクロ波処理部16−2eに入射され、被処理物に照射される。周波数f3〜fnのマイクロ波については、チューナ16−3d〜16−ndのそれぞれによって反射されることなく、マイクロ波処理部16−3e〜16−neに格納されている被処理物に対して照射される。なお、制御部12において実行される処理は、図3の場合と同様である。
以上に説明したように、第3実施形態によれば、図2に示すように、周波数f1〜fnのパルス状のマイクロ波を発生し、サーキュレータ15−1〜15―(n−1)およびチューナ16−1d〜16−ndによって所定の周波数を選択し、マイクロ波処理部16−1e〜16−neに格納された被処理物に対してマイクロ波を照射して処理することができる。この結果、前述した第1実施形態と同様の効果を得ることができる。
(G)変形実施形態の説明
以上の実施形態は一例であって、本発明が上述したような場合のみに限定されるものでないことはいうまでもない。例えば、以上の各実施形態では、VCO11aを用いるようにしたが、周波数可変機能を備えるものであれば、例えば、マグネトロン、クライストロン、ジャイロトロン、進行波管等の電子管を利用した発振器を用いるようにしてもよい。
以上の実施形態は一例であって、本発明が上述したような場合のみに限定されるものでないことはいうまでもない。例えば、以上の各実施形態では、VCO11aを用いるようにしたが、周波数可変機能を備えるものであれば、例えば、マグネトロン、クライストロン、ジャイロトロン、進行波管等の電子管を利用した発振器を用いるようにしてもよい。
また、以上の各実施形態では、VCO11aの周波数可変手法としてアナログ電圧制御を用いるが、デジタル制御にて周波数を変化させるようにしてもよい。
また、以上の各実施形態では、マイクロ波の伝送路については詳述していないが、大電力の伝送は導波管によるものが一般的であるが線路の種類は問わない。耐電力には限界があるが、同軸線路やマイクロストリップ線路などを用いるようにしてもよい。
また、図2では、パルス状のマイクロ波の出力パワーと、出力時間が周波数に拘わらず一定の場合を例に挙げて説明したが、出力パワーおよび出力時間が周波数毎に異なるようにしてもよい。具体的には、マイクロ波処理部16−1b〜16−nbまたは共振型マイクロ波処理部16−1e〜16−neに格納されている被処理物の状態に応じて、出力パワーおよび出力時間の少なくとも一方を変化させるようにしてもよい。また、マイクロ波のパルスを出力する必要がない場合には、特定の周波数のみ出力をキャンセルし、間隔を開けずにつぎの周波数のパルスを出力するようにしてもよい。例えば、周波数f2のパルスを出力する必要がない場合には、周波数f1のパルスを出力した後に、周波数f2のパルスを出力せずに、周波数f3のパルスを、間隔を開けずに出力するようにしてもよい。もちろん、他の周波数に対するパルスの頻度を一定に保つために、間隔を開けるようにしてもよい。
また、以上の実施形態では、周波数f1〜fnは、周波数軸上に一定間隔で並ぶ場合を例に挙げて説明したが、これらが一定間隔でなく、異なる間隔で並ぶようにしてもよい。例えば、後段のマイクロ波処理部に供給される周波数ほど間隔が広くなるように配置することで、前段におけるBPF等による損失の発生を抑制することができる。また、出力パワーについても、後段では前段における損失の影響を受けることから、後段のマイクロ波処理部に供給するマイクロ波のパワーを前段よりも大きく設定するようにしてもよい。
また、以上の各実施形態では、制御部12が一元的に制御を行うようにしたが、例えば、マイクロ波処理部16−1b〜16−nbまたは共振型マイクロ波処理部16−1e〜16−neに対して制御部をそれぞれ設け、それぞれの制御部が被処理物の状態を監視し、監視結果に基づいて、制御部12に対して所定の出力パワーおよび出力時間のマイクロ波の照射を要求するようにしてもよい。そのような構成によれば、図2に示すように、一定間隔のパルス照射ではなくなるが、各マイクロ波処理部16−1b〜16−nbまたは共振型マイクロ波処理部16−1e〜16−neからの要求に基づいて、マイクロ波が発生されることになる。
また、VCO11aの発振の過渡状態(発振開始および発振終了状態)においては、発振周波数が不安定になる場合が想定されるので、そのような場合には増幅部11bの利得を一時的に下げることで、このような不安定な周波数のマイクロ波が出力され、目的としないマイクロ波処理部において被処理物に照射されたり、損失となったりすることを防ぐようにしてもよい。
また、第1および第2の実施形態(図1,4)においては、サーキュレータとマイクロ波処理手段の間に、マイクロ波処理手段のインピーダンスを調整するチューナを設け、バンドパスフィルタまたはバンドストップフィルタにより反射されたマイクロ波が、マイクロ波処理手段によって反射されることを低減するように構成したが、このチューナは必ずしも設ける必要はない。
10,10A,10B マイクロ波処理装置
11 マイクロ波発生部(マイクロ波発生手段)
11a VCO
11b 増幅部
12 制御部(制御手段)
13 サーキュレータ(アイソレータの一部)
14 無反射終端抵抗器(アイソレータの一部)
15−1〜15−(n−1) サーキュレータ(選択部の一部)
16−1〜16−n マイクロ波処理モジュール
16−1a〜16−na BPF(選択部の一部)
16−1b〜16−nb マイクロ波処理部(マイクロ波処理手段)
16−1c〜16−nc センサ部
16−1d〜16−nd チューナ(選択部の一部)
16−1e〜16−ne 共振型マイクロ波処理部(共振型マイクロ波処理手段)
17−1〜17−(n−1) BSF(選択部の一部)
11 マイクロ波発生部(マイクロ波発生手段)
11a VCO
11b 増幅部
12 制御部(制御手段)
13 サーキュレータ(アイソレータの一部)
14 無反射終端抵抗器(アイソレータの一部)
15−1〜15−(n−1) サーキュレータ(選択部の一部)
16−1〜16−n マイクロ波処理モジュール
16−1a〜16−na BPF(選択部の一部)
16−1b〜16−nb マイクロ波処理部(マイクロ波処理手段)
16−1c〜16−nc センサ部
16−1d〜16−nd チューナ(選択部の一部)
16−1e〜16−ne 共振型マイクロ波処理部(共振型マイクロ波処理手段)
17−1〜17−(n−1) BSF(選択部の一部)
Claims (7)
- 指定された周波数のマイクロ波を発生するマイクロ波発生手段と、
複数の選択部が直列に接続されて構成され、それぞれの選択部は、前記マイクロ波発生手段によって発生されたマイクロ波のうち、それぞれが異なる所定の周波数のマイクロ波を選択して出力し、それ以外の周波数のマイクロ波を通過させて後段の選択部に供給する選択手段と、
前記選択手段を構成する各選択部によって選択されて出力されるマイクロ波をそれぞれ入力し、当該マイクロ波により被処理物を処理する複数のマイクロ波処理手段と、
前記マイクロ波発生手段が発生するマイクロ波の周波数を制御することにより、前記複数のマイクロ波処理手段のそれぞれにおいて前記被処理物の処理をさせる制御手段と、
を有することを特徴とするマイクロ波処理装置。 - 前記制御手段は、前記選択部のそれぞれに対応する周波数のマイクロ波を、所定の順序でパルス状に繰り返し出力するように、前記マイクロ波発生手段を制御することを特徴とする請求項1に記載のマイクロ波処理装置。
- 前記選択部は、
所定の周波数帯のマイクロ波を通過させて前記マイクロ波処理手段に供給するバンドパスフィルタと、
前記マイクロ波発生手段または前段の選択部から出力されたマイクロ波を前記バンドパスフィルタに供給するとともに、前記バンドパスフィルタによって反射されたマイクロ波を後段の選択部に供給するサーキュレータと、
を有することを特徴とする請求項1または2に記載のマイクロ波処理装置。 - 前記選択部は、
所定の周波数帯のマイクロ波を反射し、それ以外の周波数帯のマイクロ波を通過させて後段の選択部に供給するバンドストップフィルタと、
前記マイクロ波発生手段または前段の選択部から出力されたマイクロ波を前記バンドストップフィルタに供給するとともに、前記バンドストップフィルタによって反射されたマイクロ波を前記マイクロ波処理手段に供給するサーキュレータと、
を有することを特徴とする請求項1または2に記載のマイクロ波処理装置。 - 前記マイクロ波処理手段は、所定の周波数帯のマイクロ波によって共振する特性を有する共振型マイクロ波処理手段であり、
前記選択部は、
前記共振型のマイクロ波処理手段の前段に接続され、前記共振型マイクロ波処理手段が、前記所定の周波数帯のマイクロ波で共振するように前記共振型マイクロ波処理手段のインピーダンスを調整するチューナと、
前記マイクロ波発生手段または前段の選択部から出力されたマイクロ波を前記チューナに供給するとともに、前記チューナによって反射されたマイクロ波を後段の選択部に供給するサーキュレータと、
を有することを特徴とする請求項1または2に記載のマイクロ波処理装置。 - 前記マイクロ波発生手段と、初段の前記選択部の間には、無反射終端器を有するアイソレータが配置されていることを特徴とする請求項1乃至5のいずれか1項に記載のマイクロ波処理装置。
- 前記制御手段は、前記マイクロ波発生手段が発生するマイクロ波の出力時間および出力パワーの少なくとも一方を制御することを特徴とする請求項1乃至6のいずれか1項に記載のマイクロ波処理装置。
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JP2013267602A JP2015125819A (ja) | 2013-12-25 | 2013-12-25 | マイクロ波処理装置 |
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Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
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WO2019038941A1 (ja) * | 2017-08-25 | 2019-02-28 | シャープ株式会社 | 加熱調理器 |
WO2019038942A1 (ja) * | 2017-08-25 | 2019-02-28 | シャープ株式会社 | 加熱調理器 |
-
2013
- 2013-12-25 JP JP2013267602A patent/JP2015125819A/ja active Pending
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WO2019038942A1 (ja) * | 2017-08-25 | 2019-02-28 | シャープ株式会社 | 加熱調理器 |
JPWO2019038942A1 (ja) * | 2017-08-25 | 2020-09-17 | シャープ株式会社 | 加熱調理器 |
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JP7019703B2 (ja) | 2017-08-25 | 2022-02-15 | シャープ株式会社 | 加熱調理器 |
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