JP2015122876A - Semiconductor device - Google Patents

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    • H01L2924/13055Insulated gate bipolar transistor [IGBT]

Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a semiconductor device which can stably detect a temperature of a semiconductor element.SOLUTION: A semiconductor device comprises: an element substrate on which a semiconductor element is formed; a first substrate bonded to the element substrate from one surface side of the element substrate; a second substrate bonded to the element substrate from the other surface side of the element substrate; a first temperature sensor provided on the first substrate; and a second temperature sensor provided on the second substrate.

Description

本発明は、温度センサを備えた半導体装置に関する。   The present invention relates to a semiconductor device provided with a temperature sensor.

パワー半導体素子をモジュール化したパワーモジュールでは、一般に、高電流および高電圧に起因したパワー半導体素子からの発熱によるモジュールの温度上昇に対策が施される。モジュールに放熱構造を採用するとともに温度センサを配置して、温度管理や温度に応じた動作制御を行うことが多い。   In a power module in which a power semiconductor element is modularized, measures are generally taken against the temperature rise of the module due to heat generated from the power semiconductor element due to high current and high voltage. In many cases, the module employs a heat dissipation structure and a temperature sensor is provided to control the temperature and control the operation according to the temperature.

特許文献1には、プリント基板に半田付けされるパワーモジュールのプリント基板側と反対側面に、放熱用のアルミ板およびヒートシンクが取り付けられた構成が開示されている。パワーモジュールとプリント基板との間隙において、プリント基板上に温度検出素子が設けられる。   Patent Document 1 discloses a configuration in which a heat radiating aluminum plate and a heat sink are attached to the side opposite to the printed board side of a power module soldered to the printed board. In the gap between the power module and the printed board, a temperature detection element is provided on the printed board.

特許文献2には、配線基板上に設けられたパワーモジュールに第1の温度センサが内蔵され、金属面と接触したパワーモジュールの放熱面側に第2の温度センサが設けられた構成が開示されている。   Patent Document 2 discloses a configuration in which a first temperature sensor is built in a power module provided on a wiring board, and a second temperature sensor is provided on the heat radiation surface side of the power module in contact with a metal surface. ing.

特許文献3には、金属ケース上に3相インバータ回路のスイッチング素子を構成するIGBT(Insulated Gate Bipolar Transistor)と当該IGBTに近接した温度センサとが設けられるとともに、金属ケースの反実装面に冷却フィンが設けられた構成が開示されている。   In Patent Document 3, an IGBT (Insulated Gate Bipolar Transistor) constituting a switching element of a three-phase inverter circuit and a temperature sensor close to the IGBT are provided on a metal case, and a cooling fin is provided on the non-mounting surface of the metal case. A configuration in which is provided is disclosed.

特許文献4には、2つの半導体スイッチング素子を備えるパワー回路部において、温度の高い方の半導体スイッチング素子に設けられた温度測定素子のみについて配線を接続し、温度測定用端子の数を削減するようにした構成が開示されている。   In Patent Document 4, in a power circuit unit including two semiconductor switching elements, wiring is connected only to temperature measuring elements provided in the semiconductor switching element having a higher temperature, so that the number of temperature measuring terminals is reduced. The configuration described above is disclosed.

特許文献5には、インバータからなるIGBTモジュールにおいて、ヒートシンクの上に配置されたバスバーと金属板との間にこれらをコレクタ電極配線、エミッタ電極配線とするIGBT素子が設けられた構成が開示されている。当該金属板の上にさらに温度センサが配置されている。   Patent Document 5 discloses a configuration in which an IGBT element including a collector electrode wiring and an emitter electrode wiring is provided between a bus bar and a metal plate arranged on a heat sink in an IGBT module including an inverter. Yes. A temperature sensor is further disposed on the metal plate.

特開2010−124570号公報JP 2010-124570 A 特開2010−226782号公報JP 2010-226782 A 特開2000−083383号公報JP 2000-083383 A 特開2011−243909号公報JP 2011-243909 A 特許第4695041号公報Japanese Patent No. 4695041

しかしながら、半導体素子の温度を検出する温度センサを備えた従来の半導体装置では、半導体素子を他の部材と接合している接合部に発生する熱ストレスが大きい。従って、熱ストレスによって当該接合部にクラックや材質の変性などが発生するなどして、半導体素子から温度センサへの熱経路の熱抵抗が増大してしまうと、温度センサが温度を適切に検出することができなくなる。特にパワーモジュールではパワー半導体が扱う電流や電圧が大きいため、それだけ熱ストレスが大きくなって熱経路の熱抵抗が増大しやすい。   However, in a conventional semiconductor device provided with a temperature sensor that detects the temperature of a semiconductor element, thermal stress generated at a joint where the semiconductor element is joined to another member is large. Therefore, if the thermal resistance of the heat path from the semiconductor element to the temperature sensor increases due to the occurrence of cracks or material modification at the joint due to thermal stress, the temperature sensor appropriately detects the temperature. I can't do that. In particular, in the power module, since the current and voltage handled by the power semiconductor are large, the thermal stress increases and the thermal resistance of the heat path tends to increase.

本発明は、半導体素子の温度を安定して検出することのできる半導体装置を提供するものである。   The present invention provides a semiconductor device capable of stably detecting the temperature of a semiconductor element.

本発明は、半導体素子が形成されている素子基板と、前記素子基板に前記素子基板の一方面側から接合された第1の基板と、前記素子基板に前記素子基板の他方面側から接合された第2の基板と、前記第1の基板に設けられた第1の温度センサと、前記第2の基板に設けられた第2の温度センサとを備えている半導体装置である。   The present invention includes an element substrate on which a semiconductor element is formed, a first substrate bonded to the element substrate from one side of the element substrate, and the element substrate bonded to the other side of the element substrate. The semiconductor device includes a second substrate, a first temperature sensor provided on the first substrate, and a second temperature sensor provided on the second substrate.

本発明によれば、半導体素子の温度を安定して検出することのできる半導体装置を提供することができる。   ADVANTAGE OF THE INVENTION According to this invention, the semiconductor device which can detect the temperature of a semiconductor element stably can be provided.

本発明の実施形態に係る半導体装置の構成を示す断面図であり、(a)は一方の接合部が異常を発生した場合の熱の伝達を示す図、(b)は他方の接合部が異常を発生した場合の熱の伝達を示す図It is sectional drawing which shows the structure of the semiconductor device which concerns on embodiment of this invention, (a) is a figure which shows heat transfer when one junction part generate | occur | produces abnormality, (b) is the other junction part abnormal. Diagram showing heat transfer 本発明の実施形態に係る半導体装置の回路構成を示す回路図The circuit diagram showing the circuit composition of the semiconductor device concerning the embodiment of the present invention 本発明の実施形態に係る半導体装置が備える一方の実装基板の構成を示す平面図The top view which shows the structure of one mounting board with which the semiconductor device which concerns on embodiment of this invention is equipped 本発明の実施形態に係る半導体装置の第1の断面構成を示す断面図Sectional drawing which shows the 1st cross-sectional structure of the semiconductor device which concerns on embodiment of this invention 本発明の実施形態に係る半導体装置の第2の断面構成を示す断面図Sectional drawing which shows the 2nd cross-sectional structure of the semiconductor device which concerns on embodiment of this invention 本発明の実施形態に係る比較例の半導体装置の構成を示す断面図Sectional drawing which shows the structure of the semiconductor device of the comparative example which concerns on embodiment of this invention

本発明の実施形態について図面を用いて説明すれば以下の通りである。   Embodiments of the present invention will be described below with reference to the drawings.

図2に、本実施形態に係る半導体装置1の構成例が備える回路の回路図を示す。当該半導体装置1は、ここでは3相インバータ回路を備えたパワーモジュールである。当該3相インバータ回路は、IGBT11〜16およびダイオード21〜26を備えている。スイッチング素子としての1つのIGBTに、還流ダイオードとしての1つのダイオードが並列接続されてなるスイッチ回路が、UVW相の各上相と各下相との分だけ設けられている。IGBT11とダイオード21とを備えたスイッチ回路SU1がU相の上相アームを、IGBT12とダイオード22とを備えたスイッチ回路SU2がU相の下相アームを、それぞれ構成している。IGBT13とダイオード23とを備えたスイッチ回路SV1がV相の上相アームを、IGBT14とダイオード24とを備えたスイッチ回路SV2がV相の下相アームを、それぞれ構成している。IGBT15とダイオード25とを備えたスイッチ回路SW1がW相の上相アームを、IGBT16とダイオード26とを備えたスイッチ回路SW2がW相の下相アームを、それぞれ構成している。半導体装置1のUVWの3相出力により、例えば発電電動機2が駆動される。   FIG. 2 shows a circuit diagram of a circuit included in the configuration example of the semiconductor device 1 according to the present embodiment. Here, the semiconductor device 1 is a power module including a three-phase inverter circuit. The three-phase inverter circuit includes IGBTs 11 to 16 and diodes 21 to 26. A switch circuit in which one IGBT as a freewheeling diode is connected in parallel to one IGBT as a switching element is provided for each of the upper and lower phases of the UVW phase. The switch circuit SU1 including the IGBT 11 and the diode 21 constitutes the U-phase upper phase arm, and the switch circuit SU2 including the IGBT 12 and the diode 22 constitutes the U-phase lower phase arm. The switch circuit SV1 including the IGBT 13 and the diode 23 configures the V-phase upper phase arm, and the switch circuit SV2 including the IGBT 14 and the diode 24 configures the V-phase lower phase arm. The switch circuit SW1 including the IGBT 15 and the diode 25 configures the W-phase upper phase arm, and the switch circuit SW2 including the IGBT 16 and the diode 26 configures the W-phase lower phase arm. For example, the generator motor 2 is driven by the UVW three-phase output of the semiconductor device 1.

半導体装置1は、図4、図5に示されるように、半導体素子が形成されている素子基板10が、回路基板からなる2枚の実装基板に挟持されるように当該実装基板に接続された構成を備えている。素子基板10は例えばチップ基板の形態をとる。ここでは、一例として、素子基板10に形成されている半導体素子を、1対のIGBTおよびダイオードを含む前記スイッチ回路とする。またここでは、素子基板10の一方の表面には、絶縁構造を経て引き出されたIGBTのコレクタ電極とダイオードのカソード電極とが接続されてなる第1の電極が例えばパッド状に形成されている。さらに、素子基板10の他方の表面には、絶縁構造を経て取り出されたIGBTのエミッタ電極とダイオードのアノード電極とが接続されてなる第2の電極が例えばパッド状に形成されている。IGBTのゲート電極は、例えばエミッタ電極側の表面といった一方の表面に別途分離して引き出されている。2枚の実装基板のうち、一方はIGBTのコレクタ側となる素子基板10の一方面側に接合される第1の基板であり、他方はIGBTのエミッタ側となる素子基板10の他方面側に接合される第2の基板である。以下では、第1の基板を「コレクタ側基板」と称し、図4、図5ではコレクタ側基板BD1として示す。また、第2の基板を「エミッタ側基板」と称し、図4、図5ではエミッタ側基板BD2として示す。このように、半導体装置1は、素子基板10で発生した熱を両側に配置した基板から放熱する両面放熱構造をとる。   As shown in FIGS. 4 and 5, the semiconductor device 1 is connected to the mounting substrate so that the element substrate 10 on which the semiconductor element is formed is sandwiched between two mounting substrates formed of circuit boards. It has a configuration. The element substrate 10 takes the form of a chip substrate, for example. Here, as an example, the semiconductor element formed on the element substrate 10 is the switch circuit including a pair of IGBTs and diodes. Further, here, on one surface of the element substrate 10, a first electrode is formed in a pad shape, for example, in which a collector electrode of an IGBT drawn out through an insulating structure and a cathode electrode of a diode are connected. Further, on the other surface of the element substrate 10, a second electrode formed by connecting the emitter electrode of the IGBT taken out through the insulating structure and the anode electrode of the diode is formed in a pad shape, for example. The gate electrode of the IGBT is separately drawn out to one surface such as the surface on the emitter electrode side. Of the two mounting substrates, one is a first substrate bonded to one side of the element substrate 10 which is the collector side of the IGBT, and the other is on the other side of the element substrate 10 which is the emitter side of the IGBT. It is the 2nd board | substrate joined. Hereinafter, the first substrate is referred to as a “collector side substrate”, and is illustrated as a collector side substrate BD1 in FIGS. The second substrate is referred to as an “emitter side substrate”, and is shown as an emitter side substrate BD2 in FIGS. As described above, the semiconductor device 1 has a double-sided heat dissipation structure that dissipates heat generated in the element substrate 10 from the substrates disposed on both sides.

図3に、上記2枚の実装基板のうちコレクタ側基板BD1を平面視した場合の素子およびパターンの配置図を示す。   FIG. 3 shows a layout of elements and patterns when the collector-side substrate BD1 is viewed in plan among the two mounting substrates.

コレクタ側基板BD1は、例えば図4、図5に示すように、絶縁樹脂板51の表裏それぞれに銅板52が積層された構成を備えている。エミッタ側基板BD2も同様の構成をとる。   For example, as shown in FIGS. 4 and 5, the collector-side substrate BD <b> 1 has a configuration in which copper plates 52 are laminated on the front and back sides of the insulating resin plate 51. The emitter side substrate BD2 has the same configuration.

コレクタ側基板BD1において、銅板52は電極や配線のパターンに加工されている。コレクタ側基板BD1の3相インバータ回路が実装される側の面において、銅板52は、正電極100、U相電極110、V相電極130、W相電極150、配線パターン32、および、配線パターン33に絶縁分離加工されている。これらの電極や配線のパターンの位置は特に限定されるものではなく、それぞれが図示しない引回し配線により外部の電源に接続される。また、コレクタ側基板BD1上に温度センサ31が設けられている。温度センサ31は、後述するように、コレクタ側基板BD1から温度センサ31に伝達される熱を検出することによる温度測定を行う。   In the collector-side substrate BD1, the copper plate 52 is processed into an electrode or wiring pattern. On the surface on which the three-phase inverter circuit of the collector-side substrate BD1 is mounted, the copper plate 52 is composed of the positive electrode 100, the U-phase electrode 110, the V-phase electrode 130, the W-phase electrode 150, the wiring pattern 32, and the wiring pattern 33. Insulated and separated. The positions of these electrode and wiring patterns are not particularly limited, and each is connected to an external power source by a lead wiring (not shown). Further, a temperature sensor 31 is provided on the collector side substrate BD1. As will be described later, the temperature sensor 31 performs temperature measurement by detecting heat transmitted from the collector-side substrate BD1 to the temperature sensor 31.

ここでは、正電極100が、領域101、103、105のそれぞれを、一列に分離して並ぶよう包含するパターンとなっている。正電極100の当該パターンは領域101、102、103の並ぶ方向に延伸するような矩形状をなす。領域101はU相の上相のスイッチ回路が接続された領域、領域102はV相の上相のスイッチ回路が接続された領域103、領域103はW相の上相のスイッチ回路が接続された領域105である。   Here, the pattern is such that the positive electrode 100 includes each of the regions 101, 103, and 105 so as to be separated and arranged in a line. The pattern of the positive electrode 100 has a rectangular shape extending in the direction in which the regions 101, 102, and 103 are arranged. Area 101 is an area where an upper-phase switch circuit of the U phase is connected, area 102 is an area 103 where the upper-phase switch circuit of the V-phase is connected, and area 103 is connected to an upper-phase switch circuit of the W-phase Region 105.

またここでは、U相電極110、V相電極130、W相電極150は一列に絶縁分離して並ぶよう配置されている。U相電極110、V相電極130、W相電極150は、正電極100の矩形パターンが延伸する方向に平行に並んでいる。U相電極110はU相の下相のスイッチ回路が接続された領域102を、V相電極130はV相の下相のスイッチ回路が接続された領域104を、W相電極150はW相の下相のスイッチ回路が接続された領域106をそれぞれ有している。領域102、104、106もU相電極110、V相電極130、W相電極150の並ぶ方向に一列に並んでいる。   Further, here, the U-phase electrode 110, the V-phase electrode 130, and the W-phase electrode 150 are arranged so as to be insulated and separated in a line. The U-phase electrode 110, the V-phase electrode 130, and the W-phase electrode 150 are arranged in parallel to the direction in which the rectangular pattern of the positive electrode 100 extends. The U-phase electrode 110 is in the region 102 to which the U-phase lower phase switch circuit is connected, the V-phase electrode 130 is in the region 104 to which the V-phase lower phase switch circuit is connected, and the W-phase electrode 150 is in the W-phase. Each has a region 106 to which a lower phase switch circuit is connected. The regions 102, 104, and 106 are also arranged in a line in the direction in which the U-phase electrode 110, the V-phase electrode 130, and the W-phase electrode 150 are arranged.

配線パターン32、33は、正電極100と、U相電極110、V相電極130、W相電極150の並びとの間の領域に配置されている。配線パターン32は接続パッド領域32aを有している。接続パッド領域32aは温度センサ(第1の温度センサ)31が接続される領域である。接続パッド領域32aはコレクタ側基板BD1の中央部に設けられている。配線パターン32と配線パターン33とは、温度センサ31に通電を行うための互いに異なる極性の電極配線である。図3では、温度センサ31の下面電極と接続パッド領域32aとがダイボンディングや半田付けにより接続されるとともに、温度センサ31の上面電極と配線パターン33とがワイヤ41により接続されている状態が示されている。   The wiring patterns 32 and 33 are arranged in a region between the positive electrode 100 and the arrangement of the U-phase electrode 110, the V-phase electrode 130, and the W-phase electrode 150. The wiring pattern 32 has a connection pad region 32a. The connection pad region 32a is a region to which the temperature sensor (first temperature sensor) 31 is connected. The connection pad region 32a is provided at the center of the collector side substrate BD1. The wiring pattern 32 and the wiring pattern 33 are electrode wirings having different polarities for energizing the temperature sensor 31. FIG. 3 shows a state in which the lower surface electrode of the temperature sensor 31 and the connection pad region 32a are connected by die bonding or soldering, and the upper surface electrode of the temperature sensor 31 and the wiring pattern 33 are connected by a wire 41. Has been.

図4に、図3における領域103、領域104、温度センサ31を通るM−M線で半導体装置1を切断した場合の矢視断面図を示す。また、図5に、図3における領域101、領域103、領域105を通るN−N線で半導体装置1を切断した場合の矢視断面図を示す。   FIG. 4 is a cross-sectional view taken along the arrow line when the semiconductor device 1 is cut along the line MM passing through the region 103, the region 104, and the temperature sensor 31 in FIG. FIG. 5 is a cross-sectional view taken along the arrow when the semiconductor device 1 is cut along an NN line passing through the region 101, the region 103, and the region 105 in FIG.

図4および図5に示すように、コレクタ側基板BD1とエミッタ側基板BD2とは対向配置されている。3相インバータ回路の各スイッチ回路が形成された素子基板10が、コレクタ側基板BD1とエミッタ側基板BD2とに挟持される位置に配置されている。素子基板10の一方側の表面に取り出された前記第1の電極は、接合部C1によってコレクタ側基板BD1に接合されるとともに、素子基板10の他方側の表面に取り出された前記第2の電極は、接合部C2によってエミッタ側基板BD2に接合されている。ここでは、接合部C1は半田付け部h1から構成され、接合部C2は半田付け部h2、スペーサg、半田付け部h3が素子基板10側からエミッタ側基板C2側へ向かって順に配置された状態に構成されている。このように、接合部C1、C2はそれぞれ接合材からなる。接合部C1、C2のそれぞれについて、接合箇所ごとに異なる構成であってもよいが、ここでは図示の便宜上、図4および図5に示す全ての接合箇所で同じ構成であるとする。   As shown in FIGS. 4 and 5, the collector-side substrate BD1 and the emitter-side substrate BD2 are disposed to face each other. The element substrate 10 on which each switch circuit of the three-phase inverter circuit is formed is arranged at a position sandwiched between the collector side substrate BD1 and the emitter side substrate BD2. The first electrode taken out on the surface on one side of the element substrate 10 is joined to the collector-side substrate BD1 by the joint portion C1, and the second electrode taken out on the surface on the other side of the element substrate 10. Are joined to the emitter-side substrate BD2 by the joint C2. Here, the joining portion C1 is composed of the soldering portion h1, and the joining portion C2 is a state in which the soldering portion h2, the spacer g, and the soldering portion h3 are sequentially arranged from the element substrate 10 side toward the emitter side substrate C2 side. It is configured. Thus, each of the joint portions C1 and C2 is made of a joining material. Each of the joint portions C1 and C2 may have a different configuration for each joint location, but here, for convenience of illustration, it is assumed that all joint locations shown in FIGS. 4 and 5 have the same configuration.

図4に示すように、エミッタ側基板BD2が備えるコレクタ側基板BD1側の銅板52は、素子基板10が接合部C2を介して接合される電極や配線のパターンに加工されている。具体的には、エミッタ側基板BD2の当該銅板52は、負電極200、U相電極210、V相電極230、W相電極250、および、コレクタ側基板BD1の配線パターン32、33と同様の配線パターン(図示せず)に加工されている。負電極200は、コレクタ側基板BD1のU相電極110、V相電極130、W相電極150に対向して配置されており、これらUVW相の各電極に対して共通の負電極をなす。U相電極210はコレクタ側基板BD1のU相電極110に対向して、V相電極230はコレクタ側基板BD1のV相電極130に対向して、W相電極150はコレクタ側基板BD1のW相電極150に対向して、それぞれ配置されている。コレクタ側基板BD1の配線パターン32、33と同様の配線パターンは、負電極200とU相電極210、V相電極230、W相電極250の並びとの間の領域に配置されている。そして、コレクタ側基板BD1の接続パッド領域32aと同様に接続パッド領域42aが設けられている。また、接続パッド領域42aに接続されるようにして、エミッタ側基板BD2上に温度センサ(第2の温度センサ)41が設けられている。温度センサ41は、後述するように、エミッタ側基板BD2から温度センサ41に伝達される熱を検出することによる温度測定を行う。   As shown in FIG. 4, the copper plate 52 on the collector side substrate BD1 side included in the emitter side substrate BD2 is processed into an electrode or wiring pattern to which the element substrate 10 is bonded via the bonding portion C2. Specifically, the copper plate 52 of the emitter side substrate BD2 has the same wiring as the negative electrode 200, the U phase electrode 210, the V phase electrode 230, the W phase electrode 250, and the wiring patterns 32 and 33 of the collector side substrate BD1. It is processed into a pattern (not shown). The negative electrode 200 is disposed to face the U-phase electrode 110, the V-phase electrode 130, and the W-phase electrode 150 of the collector-side substrate BD1, and forms a common negative electrode for these UVW-phase electrodes. U-phase electrode 210 is opposed to U-phase electrode 110 of collector-side substrate BD1, V-phase electrode 230 is opposed to V-phase electrode 130 of collector-side substrate BD1, and W-phase electrode 150 is W-phase of collector-side substrate BD1. Opposite to the electrode 150, each is arranged. A wiring pattern similar to the wiring patterns 32 and 33 of the collector-side substrate BD1 is arranged in a region between the negative electrode 200 and the arrangement of the U-phase electrode 210, the V-phase electrode 230, and the W-phase electrode 250. And the connection pad area | region 42a is provided similarly to the connection pad area | region 32a of collector side board | substrate BD1. Further, a temperature sensor (second temperature sensor) 41 is provided on the emitter-side substrate BD2 so as to be connected to the connection pad region 42a. As will be described later, the temperature sensor 41 performs temperature measurement by detecting heat transferred from the emitter-side substrate BD2 to the temperature sensor 41.

U相上相のスイッチ回路SU1が形成された素子基板10は、接合部C1を介してコレクタ側基板BD1の正電極100に接続されているとともに、接合部C2を介してエミッタ側基板BD2のU相電極210に接続されている。U相下相のスイッチ回路SU2が形成された素子基板10は、接合部C1を介してコレクタ側基板BD1のU相電極110に接続されているとともに、接合部C2を介してエミッタ側基板BD2の負電極200に接続されている。   The element substrate 10 on which the U-phase upper-phase switch circuit SU1 is formed is connected to the positive electrode 100 of the collector-side substrate BD1 via the junction C1, and the U-side of the emitter-side substrate BD2 via the junction C2. It is connected to the phase electrode 210. The element substrate 10 on which the U-phase lower-phase switch circuit SU2 is formed is connected to the U-phase electrode 110 of the collector-side substrate BD1 via the junction C1, and the emitter-side substrate BD2 via the junction C2. Connected to the negative electrode 200.

V相上相のスイッチ回路SV1が形成された素子基板10は、接合部C1を介してコレクタ側基板BD1の正電極100に接続されているとともに、接合部C2を介してエミッタ側基板BD2のV相電極230に接続されている。V相下相のスイッチ回路SV2が形成された素子基板10は、接合部C1を介してコレクタ側基板BD1のV相電極130に接続されているとともに、接合部C2を介してエミッタ側基板BD2の負電極200に接続されている。   The element substrate 10 on which the V-phase upper-phase switch circuit SV1 is formed is connected to the positive electrode 100 of the collector-side substrate BD1 via the junction C1, and V of the emitter-side substrate BD2 via the junction C2. It is connected to the phase electrode 230. The element substrate 10 on which the V-phase lower-phase switch circuit SV2 is formed is connected to the V-phase electrode 130 of the collector-side substrate BD1 via the junction C1, and the emitter-side substrate BD2 via the junction C2. Connected to the negative electrode 200.

W相上相のスイッチ回路SW1が形成された素子基板10は、接合部C1を介してコレクタ側基板BD1の正電極100に接続されているとともに、接合部C2を介してエミッタ側基板BD2のW相電極250に接続されている。W相下相のスイッチ回路SW2が形成された素子基板10は、接合部C1を介してコレクタ側基板BD1のW相電極150に接続されているとともに、接合部C2を介してエミッタ側基板BD2の負電極200に接続されている。   The element substrate 10 on which the W-phase upper-phase switch circuit SW1 is formed is connected to the positive electrode 100 of the collector-side substrate BD1 through the junction C1, and the W of the emitter-side substrate BD2 through the junction C2. The phase electrode 250 is connected. The element substrate 10 on which the W-phase lower-phase switch circuit SW2 is formed is connected to the W-phase electrode 150 of the collector-side substrate BD1 via the junction C1, and the emitter-side substrate BD2 via the junction C2. Connected to the negative electrode 200.

上述した各電極間は図示しない封止樹脂で埋められることにより、半導体装置1の全体が一体化されている。これにより、半導体装置1は全体が例えばガラスエポキシ基板やセラミック基板のような形態にパッケージ化されている。   The entire semiconductor device 1 is integrated by filling the above-described electrodes with a sealing resin (not shown). Thus, the entire semiconductor device 1 is packaged in a form such as a glass epoxy substrate or a ceramic substrate.

次に、図1を用い、上記の構成の半導体装置1において、素子基板10の発熱により生じる熱ストレスで接合部C1またはC2に異常が発生した場合の温度検出動作を説明する。ここでは、説明の便宜上、接合部C1により接合されているコレクタ側基板BD1の電極を符号Aで、接合部C2により接合されているエミッタ側基板BD2の電極を符号Bで、それぞれ代表する。   Next, with reference to FIG. 1, a temperature detection operation in the case where an abnormality occurs in the junction C <b> 1 or C <b> 2 due to thermal stress caused by heat generation of the element substrate 10 in the semiconductor device 1 having the above configuration will be described. Here, for convenience of explanation, the electrode of the collector side substrate BD1 joined by the joint portion C1 is represented by the symbol A, and the electrode of the emitter side substrate BD2 joined by the joint portion C2 is represented by the symbol B.

図1(a)に示すように、いずれか1つまたは複数の素子基板10の発熱に起因した熱ストレスで接合部C1にクラックや材質の変性が発生するなどして、接合部C1の熱抵抗が大きくなる異常が発生したとする。このとき、素子基板10で発生する熱流は接合部C1で遮断され、もしくは減少する。従って、発生した熱は接合部C1を介して、電極Aからコレクタ側基板BD1へは伝達されにくいが、矢印T1で示すように接合部C2を介して電極Bからエミッタ側基板BD2へは伝達されやすい。エミッタ側基板BD2においては、絶縁樹脂板51などの絶縁物や表裏の銅板52(前述の各電極や接続パッド領域42aを含む)などの導電体を介して、温度センサ41に伝達される。ここで、コレクタ側基板BD1とエミッタ側基板BD2との間の封止樹脂を介しての温度センサ41への熱伝達は、当該絶縁物および導電体中による熱伝達よりも十分に小さいとしている。   As shown in FIG. 1A, the thermal resistance of the junction C1 is caused by a crack or material modification in the junction C1 due to thermal stress caused by heat generation of any one or a plurality of element substrates 10. Suppose an abnormality occurs that increases. At this time, the heat flow generated in the element substrate 10 is blocked or reduced at the joint C1. Therefore, the generated heat is hardly transmitted from the electrode A to the collector side substrate BD1 through the junction C1, but as shown by the arrow T1, it is transmitted from the electrode B to the emitter side substrate BD2 through the junction C2. Cheap. In the emitter-side substrate BD2, the temperature is transmitted to the temperature sensor 41 via an insulator such as the insulating resin plate 51 and a conductor such as the front and back copper plates 52 (including the aforementioned electrodes and connection pad regions 42a). Here, heat transfer to the temperature sensor 41 via the sealing resin between the collector side substrate BD1 and the emitter side substrate BD2 is assumed to be sufficiently smaller than heat transfer through the insulator and the conductor.

これにより、接合部C1の熱抵抗が大きいときには、コレクタ側基板BD1に設けられた温度センサ31で素子基板10の温度検出を適切に行えなくても、エミッタ側基板BD2に設けられた温度センサ41で当該温度検出を適切に行うことができる。   Thereby, when the thermal resistance of the junction C1 is large, the temperature sensor 41 provided on the emitter-side substrate BD2 even if the temperature sensor 31 provided on the collector-side substrate BD1 cannot properly detect the temperature of the element substrate 10. Thus, the temperature detection can be appropriately performed.

また、図1(b)に示すように、いずれか1つまたは複数の素子基板10の発熱に起因した熱ストレスで接合部C2にクラックや材質の変性が発生するなどして、接合部C2の熱抵抗が大きくなる異常が発生したとする。このとき、素子基板10で発生する熱流は接合部C2で遮断され、もしくは減少する。従って、発生した熱は接合部C2を介して、電極Bからエミッタ側基板BD2へは伝達されにくいが、矢印T2で示すように接合部C1を介して電極Aからコレクタ側基板BD1へは伝達されやすい。コレクタ側基板BD1においては、絶縁樹脂板51などの絶縁物や表裏の銅板52(前述の各電極や接続パッド領域32aを含む)などの導電体を介して、温度センサ31に伝達される。ここで、コレクタ側基板BD1とエミッタ側基板BD2との間の封止樹脂を介しての温度センサ31への熱伝達は、当該絶縁物および導電体中による熱伝達よりも十分に小さいとしている。   In addition, as shown in FIG. 1B, cracks or material modification occurs in the joint C2 due to thermal stress caused by heat generation of any one or a plurality of element substrates 10, and the joint C2 Assume that an abnormality that increases the thermal resistance occurs. At this time, the heat flow generated in the element substrate 10 is blocked or reduced at the junction C2. Therefore, the generated heat is hardly transmitted from the electrode B to the emitter-side substrate BD2 through the junction C2, but as shown by the arrow T2, it is transmitted from the electrode A to the collector-side substrate BD1 through the junction C1. Cheap. In the collector-side substrate BD1, the temperature is transmitted to the temperature sensor 31 via an insulator such as the insulating resin plate 51 and a conductor such as the front and back copper plates 52 (including the above-described electrodes and connection pad regions 32a). Here, heat transfer to the temperature sensor 31 via the sealing resin between the collector side substrate BD1 and the emitter side substrate BD2 is assumed to be sufficiently smaller than heat transfer through the insulator and the conductor.

これにより、接合部C2の熱抵抗が大きいときには、エミッタ側基板BD2に設けられた温度センサ41で素子基板10の温度検出を適切に行えなくても、コレクタ側基板BD1に設けられた温度センサ31で当該温度検出を適切に行うことができる。以上のように、本実施形態によれば、半導体素子の温度を安定して検出することのできる半導体装置を提供することができる。   Thereby, when the thermal resistance of the junction C2 is large, the temperature sensor 31 provided on the collector-side substrate BD1 even if the temperature sensor 41 provided on the emitter-side substrate BD2 cannot properly detect the temperature of the element substrate 10. Thus, the temperature detection can be appropriately performed. As described above, according to this embodiment, it is possible to provide a semiconductor device that can stably detect the temperature of a semiconductor element.

半導体装置1の比較例として、図6に、素子基板が実装される1つの基板にのみ温度センサが設けられた構成の半導体装置を示す。ここでは、コレクタ側基板BD1に温度センサ31が設けられる一方、エミッタ側基板BD2には温度センサが設けられていない構成が示されている。接合部C1で熱抵抗が大きくなる異常が発生した場合に、コレクタ側基板BD1へは熱が伝達されにくいため、素子基板10の温度を温度センサ31により適切に検出することができない。また、このような比較例として、図6の構成からエミッタ側基板BD2および接合部C2を取り去ったような、素子基板10が1つの基板上に実装された構成の半導体装置も挙げられる。   As a comparative example of the semiconductor device 1, FIG. 6 shows a semiconductor device having a configuration in which a temperature sensor is provided only on one substrate on which an element substrate is mounted. Here, the temperature sensor 31 is provided on the collector-side substrate BD1, while the emitter-side substrate BD2 is not provided with a temperature sensor. When an abnormality that increases the thermal resistance occurs at the joint C1, heat is not easily transmitted to the collector-side substrate BD1, and thus the temperature of the element substrate 10 cannot be detected by the temperature sensor 31 appropriately. Further, as such a comparative example, a semiconductor device having a configuration in which the element substrate 10 is mounted on one substrate, in which the emitter-side substrate BD2 and the junction C2 are removed from the configuration of FIG.

なお、図4、図5においては、特に、素子基板10中にIGBTおよびダイオードが、一方の表面側から他方の表面側へと基板面に垂直な方向に電流が流れる縦型構造で構成されている。この場合に、素子基板10は、素子基板10を挟持する2つの基板(コレクタ側基板BD1、エミッタ側基板BD2)と、導電部どうしで接続される、回路接続された状態にある。従って、半田付け部を含む接合部C1、C2と併せて、素子基板と2枚の実装基板とは一般に熱抵抗の小さい状態に接合されている。しかしながら、本実施形態に係る半導体装置は、必ずしも素子基板と2枚の実装基板とが導電部どうしで接合される構成である必要はない。例えば、素子基板と2枚の実装基板とが少なくとも一方側で熱伝導率の高い接着剤を介して接合されるなど絶縁物を介した接合がなされていてもよい。従って、半導体素子が、素子基板10中に基板面に沿って電流が流れる横型構造で構成されていてもよい。また、半導体素子は他のパワー半導体素子であってもよいし、パワー半導体素子以外の素子でもよい。   4 and 5, in particular, the IGBT and the diode are formed in the element substrate 10 with a vertical structure in which current flows from one surface side to the other surface side in a direction perpendicular to the substrate surface. Yes. In this case, the element substrate 10 is in a circuit-connected state in which two conductive substrates (collector-side substrate BD1 and emitter-side substrate BD2) sandwiching the element substrate 10 are connected between the conductive portions. Therefore, the element substrate and the two mounting boards are generally joined together with a low thermal resistance, together with the joining parts C1 and C2 including the soldering part. However, the semiconductor device according to the present embodiment does not necessarily have a configuration in which the element substrate and the two mounting substrates are joined by the conductive portions. For example, the element substrate and the two mounting substrates may be bonded via an insulator, such as bonded at least on one side via an adhesive having high thermal conductivity. Therefore, the semiconductor element may be configured in a lateral structure in which a current flows in the element substrate 10 along the substrate surface. The semiconductor element may be another power semiconductor element or an element other than the power semiconductor element.

また、図4、図5においては、接合部C1どうしの構成と、接合部C2どうしの構成とが同様のものである。従って、半導体装置1に複数の素子基板10が実装されている場合に、素子基板10の発熱により接合部が熱抵抗が増大する異常を起こすにあたっては、複数の接合部C1で一斉に、または、複数の接合部C2で一斉に異常を起こしやすくなる。この場合に、温度センサ31で一斉に複数の接合部C1を介した適切な温度検出が不能になるか、温度センサ41で一斉に複数の接合部C2を介した適切な温度検出が不能になるかのいずれか一方の状態が出現しやすい。このことは、構成の異なる接合部C1と接合部C2とが同時に熱抵抗が増大する故障モードは起きにくいことを考慮すると、常にいずれか一方の温度センサは全ての素子基板の温度を適切に検出できることを意味している。また、このようなメカニズムにより、2つの温度センサは互いに異なる温度の検出動作を行う。従って、両温度センサの絶対値と相対値とを用いて、一方の温度センサの検出温度が所定温度よりも高く、他方の温度センサの検出温度が所定温度以下であるといった状態から、異常発熱の検出を行うことも可能である。   4 and 5, the configuration of the joint portions C1 and the configuration of the joint portions C2 are the same. Therefore, when a plurality of element substrates 10 are mounted on the semiconductor device 1, in order to cause an abnormality in which the heat resistance of the element substrate 10 increases the thermal resistance of the joints, It becomes easy to cause abnormality at the same time at the plurality of joints C2. In this case, the temperature sensor 31 cannot perform appropriate temperature detection via a plurality of joints C1 all at once, or the temperature sensor 41 cannot perform appropriate temperature detection via a plurality of joints C2 all at once. Either of these states tends to appear. In consideration of the fact that a failure mode in which the thermal resistance increases at the same time between the joint C1 and the joint C2 having different configurations is unlikely to occur, one of the temperature sensors always appropriately detects the temperature of all the element substrates. It means you can do it. Also, with such a mechanism, the two temperature sensors perform different temperature detection operations. Therefore, using the absolute value and relative value of both temperature sensors, the temperature detected by one temperature sensor is higher than the predetermined temperature and the temperature detected by the other temperature sensor is lower than the predetermined temperature. It is also possible to perform detection.

このように、常にいずれか一方の温度センサが全ての素子基板の温度を適切に検出できると、各実装基板に設けられる温度センサは1つか素子基板の数よりも少ない数でよく、素子基板ごとに設ける必要がない。従って、2つ以上の素子基板10が半導体装置1の同一パッケージに実装される場合に、素子基板ごとに温度センサを設ける場合と比較して、センサの個数およびセンサ信号線の数を減少させることができる。また、パッケージ外へのセンサ信号線の取り出しが簡素化される。また、素子基板10の内部に温度センサを設けたり素子基板10の上に温度センサを積層するように設けたりする必要がなく、素子基板10および素子基板10の周囲の構成のサイズを小さくすることができる。以上により、小型化および低コスト化された半導体装置を提供することができる。   As described above, when one of the temperature sensors can always detect the temperature of all the element substrates appropriately, the number of temperature sensors provided on each mounting substrate may be one or less than the number of element substrates. There is no need to provide it. Therefore, when two or more element substrates 10 are mounted in the same package of the semiconductor device 1, the number of sensors and the number of sensor signal lines can be reduced as compared with the case where a temperature sensor is provided for each element substrate. Can do. In addition, the extraction of the sensor signal line out of the package is simplified. Further, it is not necessary to provide a temperature sensor inside the element substrate 10 or to stack a temperature sensor on the element substrate 10, and to reduce the size of the element substrate 10 and the configuration around the element substrate 10. Can do. As described above, a semiconductor device that is reduced in size and cost can be provided.

例えば、1つの温度センサに少なくとも2本の信号線が必要であるとしたとき、1パッケージに6チップの素子基板を実装して全てのチップに温度センサを配置すると、少なくとも12本の信号線が必要になる。これに対して、本実施形態で説明したように実装基板ごとに1つの温度センサを設ける場合には、1つの温度センサについて図3に配線パターン32、33で示したように2つの信号線を用いると、2枚の実装基板を合せて合計4つの信号線で済む。   For example, assuming that at least two signal lines are required for one temperature sensor, if a six-chip element substrate is mounted on one package and the temperature sensors are arranged on all the chips, at least 12 signal lines are provided. I need it. On the other hand, when one temperature sensor is provided for each mounting board as described in the present embodiment, two signal lines are provided for one temperature sensor as shown by the wiring patterns 32 and 33 in FIG. When used, a total of four signal lines are sufficient for the two mounting boards.

以上、本実施形態について説明した。
図2ではインバータ回路のパワーモジュールを例に挙げたが、コンバータ回路のパワーモジュールも典型的な例として挙げられる。また、図3では温度センサを実装基板の中央部に配置したが、任意の位置でよく、各素子基板から均等に離れた場所や特定の素子基板の近傍などに配置してもよい。また、上記例では温度センサをそれぞれ2つの実装基板が対向する側の面上に設けたが、これに限らず、各温度センサについて、2つの実装基板が対向する側の面上やその反対側の面上、実装基板の中など、実装基板の任意の部位に設けてもよい。
The present embodiment has been described above.
In FIG. 2, the power module of the inverter circuit is taken as an example, but the power module of the converter circuit is also given as a typical example. In FIG. 3, the temperature sensor is arranged at the center of the mounting board, but may be arranged at an arbitrary position, or may be arranged at a position evenly separated from each element board or near a specific element board. In the above example, the temperature sensors are provided on the surface on the side where the two mounting substrates face each other. However, the present invention is not limited thereto, and for each temperature sensor, the surface on the side where the two mounting substrates face each other or the opposite side. It may be provided on any part of the mounting substrate such as in the mounting substrate.

本発明は、パワーモジュールや温度特性を有する半導体装置等に適用可能である。   The present invention is applicable to power modules, semiconductor devices having temperature characteristics, and the like.

1 半導体装置
2 発電電動機
10 素子基板
11、12、13、14、15、16 IGBT
21、22、23、24、25、26 ダイオード
31、41 温度センサ
32、33 配線パターン
32a、42a 接続パッド領域
51 絶縁樹脂板
52 銅板
100 正電極
200 負電極
101、102、103、104、105、106 領域
110、210 U相電極
130、230 V相電極
150、250 W相電極
SU1、SU2、SV1、SV2、SW1、SW2 スイッチ回路
T1、T2 矢印
A、B 電極
BD1 コレクタ側基板
BD2 エミッタ側基板
C1、C2 接合部
h1、h2、h3 半田付け部
g スペーサ
DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 Semiconductor device 2 Generator motor 10 Element board | substrate 11, 12, 13, 14, 15, 16 IGBT
21, 22, 23, 24, 25, 26 Diode 31, 41 Temperature sensor 32, 33 Wiring pattern 32a, 42a Connection pad area 51 Insulating resin plate 52 Copper plate 100 Positive electrode 200 Negative electrode 101, 102, 103, 104, 105, 106 Region 110, 210 U phase electrode 130, 230 V phase electrode 150, 250 W phase electrode SU1, SU2, SV1, SV2, SW1, SW2 Switch circuit T1, T2 Arrow A, B Electrode BD1 Collector side substrate BD2 Emitter side substrate C1 , C2 Junction parts h1, h2, h3 Soldering part g Spacer

Claims (1)

半導体素子が形成されている素子基板と、
前記素子基板に前記素子基板の一方面側から接合された第1の基板と、
前記素子基板に前記素子基板の他方面側から接合された第2の基板と、
前記第1の基板に設けられた第1の温度センサと、
前記第2の基板に設けられた第2の温度センサとを備えている半導体装置。
An element substrate on which a semiconductor element is formed;
A first substrate bonded to the element substrate from one side of the element substrate;
A second substrate bonded to the element substrate from the other side of the element substrate;
A first temperature sensor provided on the first substrate;
And a second temperature sensor provided on the second substrate.
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