JP2015118089A - Defect detection device and method for polarization film - Google Patents

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ヨン,ホ チェ
ヒョン,パク チェ
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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a defect detection device and method for a polarization film.SOLUTION: The defect detection device 100 for a polarization film includes: a receiving unit 110 for receiving an inspection result for a polarization film inspected by an automatic optical inspection machine; and a detection unit 130 for analyzing the inspection result and detecting the defect of the polarization film. On the basis of two or more parameters of the defect type (Defect Type), delta X (Dx), delta Y (Dy), area (Area), density (Density), size (Size), peak (Peak), and thickness (Thickness), the detection unit determines that the defect form of the polarization film is at least one of the bonded foreign matter, bonded air bubble, foreign matter, bright point, scratch, association bright point, and one string.

Description

本発明は、偏光フィルムの欠陥検出装置及び方法に係り、さらに詳しくは、自動光学検査機の検査結果を用いて、リアルタイムで生産される偏光フィルムの不良を自動的に検出するシステム及び方法に関する。   The present invention relates to a polarizing film defect detection apparatus and method, and more particularly, to a system and method for automatically detecting defects in a polarizing film produced in real time using inspection results of an automatic optical inspection machine.

LCD光学材料として用いられる偏光フィルムを生産するメーカーにおいては、高速で生産される製品の実時間検査のためにインライン(IN−LINE)自動光学検査システム(Automated Optical Inspection System、以下、「自動光学検査機」と称する。)を利用している。一般に、インライン自動光学検査機は、欠陥の発生個所にインキを付けたりバーコードマーキングを施したりし、後続工程においてインキを付けたりバーコードマーキングを施したりした個所を廃棄したりこれに対するさらなる検査を行ったりしている。   Manufacturers that produce polarizing films used as LCD optical materials have an in-line (IN-LINE) Automatic Optical Inspection System (hereinafter referred to as “Automatic Optical Inspection”) for real-time inspection of products produced at high speed. It is called “machine”). In general, an inline automatic optical inspection machine applies ink or barcode marking to the location where a defect occurs, and discards or further inspects the location where ink or barcode marking was applied in the subsequent process. Have gone.

しかしながら、前記欠陥が特定の時点に集中して連続して発生した場合や、微細欠陥など実際に欠陥が発生したか否かが不明である場合には、前記自動光学検査機の過負荷及びハードウェア性能の問題によって前記全ての欠陥の発生個所に漏れなくマーキングを施すことができないという不都合がある。なお、欠陥の発生個所にマーキングが施されていない製品は、後続工程において不良品として認識されずに顧客社まで出市されてしまうような状況に陥る虞がある。この理由から、後続工程においては、検査員が製品を最終的に目視で検査しているが、このような目視による検査作業には、高コスト、手間がかかるという問題点がある。   However, when the defect occurs continuously at a specific point in time, or when it is unclear whether a defect such as a fine defect has actually occurred, overload and hardware of the automatic optical inspection machine There is an inconvenience that it is impossible to mark all occurrences of the defect without omission due to a problem of wear performance. In addition, there is a possibility that a product that is not marked at a location where a defect occurs may be marketed to a customer company without being recognized as a defective product in a subsequent process. For this reason, in the subsequent process, an inspector finally visually inspects the product. However, such visual inspection work has a problem of high cost and labor.

さらに、従来の技術においては、偏光フィルム円盤内で検出された欠陥数のみを用いた欠陥発生率の情報しか取得することができなかったため、欠陥の流出(すなわち、欠陥の発生個所へのマーキング漏れ)可能性を考慮することができないという問題点がある。   Furthermore, in the prior art, only information on the defect occurrence rate using only the number of defects detected in the polarizing film disk could be obtained, so that the outflow of defects (that is, the marking leakage to the location where the defect occurred) ) There is a problem that the possibility cannot be considered.

一方、それぞれが複数のメモリセルを有するチップが複数形成される半導体ウェーハの致命的な不良を自動的に抽出する不良解析システム及び方法が提案されているが(例えば、下記の特許文献1参照)、前記不良解析システム及び方法においては、単にX、Y方向性の不良のみを考慮して良否を判別しているため、接合異物、接合気泡、異物、輝点、スクラッチ、群集性輝点、一糸などの様々な欠陥を精度よく判別することができないという問題がある。   On the other hand, there has been proposed a failure analysis system and method for automatically extracting a fatal failure of a semiconductor wafer on which a plurality of chips each having a plurality of memory cells are formed (see, for example, Patent Document 1 below). In the defect analysis system and method, since the quality is determined only by considering only the defects in the X and Y directions, the joined foreign matter, the joined bubble, the foreign matter, the bright spot, the scratch, the crowded bright spot, and the single thread There is a problem that various defects such as these cannot be accurately identified.

大韓民国公開特許第2000−0077024号公報Korean Published Patent No. 2000-0077024

本発明は上述した問題点を解消するために案出されたものであり、その目的は、自動光学検査機の検査結果を用いて、リアルタイムで生産される偏光フィルムの不良を自動的に検出することのできる装置及び方法を提供することである。   The present invention has been devised to solve the above-described problems, and its purpose is to automatically detect defects in a polarizing film produced in real time using the inspection results of an automatic optical inspection machine. It is to provide an apparatus and method that can.

本発明の他の目的は、接合異物、接合気泡、異物、輝点、スクラッチ、群集性輝点、一糸などの偏光フィルムの様々な欠陥を精度よく判別することのできる偏光フィルムの欠陥検出装置及び方法を提供することである。   Another object of the present invention is to provide a defect detection apparatus for a polarizing film capable of accurately discriminating various defects of a polarizing film such as bonded foreign particles, bonded bubbles, foreign particles, bright spots, scratches, crowding bright spots, and single yarns, and the like. Is to provide a method.

上述した目的を達成するために、本発明は、自動光学検査機で検査された偏光フィルムに対する検査結果を受信する受信部と、前記検査結果を分析して偏光フィルムの欠陥を検出する検出部と、を備え、前記検出部は、欠陥タイプ(Defect Type)、デルタX(Dx)、デルタY(Dy)、領域(Area)、密度(Density)、サイズ(Size)、ピーク(Peak)、厚さ(Thickness)のうちの2つ以上のパラメータに基づいて、前記偏光フィルムの欠陥形態が、接合異物、接合気泡、異物、輝点、スクラッチ、群集性輝点、一糸のうちの少なくともいずれか一つであると判別することを特徴とする偏光フィルムの欠陥検出装置を提供する。   In order to achieve the above-described object, the present invention includes a receiving unit that receives an inspection result for a polarizing film inspected by an automatic optical inspection machine, and a detection unit that analyzes the inspection result and detects a defect in the polarizing film. The detection unit includes a defect type (Defect Type), a Delta X (Dx), a Delta Y (Dy), an area (Area), a density (Density), a size (Size), a peak (Peak), and a thickness. Based on two or more parameters of (Thickness), the defect form of the polarizing film is at least one of a joined foreign matter, a joined bubble, a foreign matter, a bright spot, a scratch, a crowded bright spot, and a single thread. A polarizing film defect detection device is provided which is characterized as follows.

また、上述した目的を達成するために、本発明は、自動光学検査機で検査された偏光フィルムに対する検査結果を受信するステップと、前記検査結果を分析して偏光フィルムの欠陥を検出するステップと、を含み、前記欠陥を検出するステップでは、欠陥タイプ(Defect Type)、デルタX(Dx)、デルタY(Dy)、領域(Area)、密度(Density)、サイズ(Size)、ピーク(Peak)、厚さ(Thickness)のうちの2つ以上のパラメータに基づいて、前記偏光フィルムの欠陥形態が、接合異物、接合気泡、異物、輝点、スクラッチ、群集性輝点、一糸のうちの少なくともいずれか一つであると判別することを特徴とする偏光フィルムの欠陥検出方法を提供する。   In order to achieve the above-described object, the present invention includes a step of receiving an inspection result for a polarizing film inspected by an automatic optical inspection machine, and a step of analyzing the inspection result to detect a defect in the polarizing film. In the step of detecting the defect, defect type (Defect Type), Delta X (Dx), Delta Y (Dy), Area (Area), Density (Size), Size (Size), Peak (Peak) Based on two or more parameters of thickness (Thickness), the polarizing film has a defect form of at least one of a joined foreign matter, a joined bubble, a foreign matter, a bright spot, a scratch, a crowded bright spot, and a single thread. The present invention provides a method for detecting a defect in a polarizing film, characterized in that it is discriminated as a single one.

本発明に係る偏光フィルムの欠陥検出装置及び方法によれば、自動光学検査機の検査結果を用いて、リアルタイムで生産される偏光フィルムの不良を自動的に検出することができる。特に、欠陥タイプ(Defect Type)、デルタX(Dx)、デルタY(Dy)、領域(Area)、密度(Density)、サイズ(Size)、ピーク(Peak)、厚さ(Thickness)などに基づいて、偏光フィルムの欠陥形態が、接合異物、接合気泡、異物、輝点、スクラッチ、群集性輝点、一糸などであると精度よく判別することができる。   According to the apparatus and method for detecting a defect in a polarizing film according to the present invention, it is possible to automatically detect a defect in a polarizing film produced in real time using the inspection result of an automatic optical inspection machine. In particular, based on defect type (Defect Type), Delta X (Dx), Delta Y (Dy), Area (Area), Density (Size), Size (Peak), Thickness (Thickness), etc. In addition, it is possible to accurately determine that the defect form of the polarizing film is a bonded foreign material, a bonded bubble, a foreign material, a bright spot, a scratch, a crowded bright spot, a single thread, or the like.

また、これにより、作業員(運転員)による不良の分析過程をなくし、しかも、欠陥要因を即座で判別することにより、偏光フィルムの不良発生区間を短縮することができる。   In addition, this eliminates the failure analysis process by the operator (operator), and by immediately determining the cause of the defect, it is possible to shorten the defect occurrence section of the polarizing film.

本発明において採用可能な自動光学検査機の一例を示す構成図である。It is a block diagram which shows an example of the automatic optical inspection machine employable in this invention. 本発明の一実施形態に係る偏光フィルムの欠陥検出装置の構成図である。It is a block diagram of the defect detection apparatus of the polarizing film which concerns on one Embodiment of this invention. 本発明の一実施形態に係る接合異物検出アルゴリズムを示す図である。It is a figure which shows the joining foreign material detection algorithm which concerns on one Embodiment of this invention. 本発明の一実施形態に係る接合気泡検出アルゴリズムを示す図である。It is a figure which shows the joining bubble detection algorithm which concerns on one Embodiment of this invention. 本発明の一実施形態に係る異物検出アルゴリズムを示す図である。It is a figure which shows the foreign material detection algorithm which concerns on one Embodiment of this invention. 本発明の一実施形態に係る輝点検出アルゴリズムを示す図である。It is a figure which shows the bright spot detection algorithm which concerns on one Embodiment of this invention. 本発明の一実施形態に係るスクラッチ検出アルゴリズムを示す図である。It is a figure which shows the scratch detection algorithm which concerns on one Embodiment of this invention. 本発明の一実施形態に係る群集性輝点検出アルゴリズムを示す図である。It is a figure which shows the crowding bright spot detection algorithm which concerns on one Embodiment of this invention. 本発明の一実施形態に係る一糸検出アルゴリズムを示す図である。It is a figure which shows the single thread detection algorithm which concerns on one Embodiment of this invention.

以下、添付図面に基づき、本発明に係る偏光フィルムの欠陥検出装置及び方法について詳細に説明する。   Hereinafter, a polarizing film defect detection apparatus and method according to the present invention will be described in detail with reference to the accompanying drawings.

まず、本発明の理解への一助となるために、自動光学検査機について簡略に説明する。図1は、偏光フィルムに対する欠陥検査を行う自動光学検査機の一例を示す図である。   First, in order to help understanding of the present invention, an automatic optical inspection machine will be briefly described. FIG. 1 is a diagram illustrating an example of an automatic optical inspection machine that performs defect inspection on a polarizing film.

製作された偏光フィルムは、クルクル巻いて円盤状にして保存するが、このような偏光フィルム円盤は、欠陥の検査に際して繰出部(図示せず)から繰出されてローラ12によって所定の進行方向に搬送される。このとき、偏光フィルム10の搬送速度はエンコーダ11などの速度感知装置によって感知されて、今後欠陥発生個所の情報を生成するのに用いられる。   The produced polarizing film is wound and stored in a disk shape. Such a polarizing film disk is fed out from a feeding portion (not shown) when inspected for defects and is conveyed by a roller 12 in a predetermined traveling direction. Is done. At this time, the conveyance speed of the polarizing film 10 is sensed by a speed sensing device such as the encoder 11 and is used to generate information on a defect occurrence point in the future.

このとき、前記自動光学検査機は、少なくとも一つの照明装置21と、これに対応する少なくとも一つの撮像装置22と、を有する光学装置20を備えることにより、前記搬送中の偏光フィルムに対する光学映像を取得することができる。   At this time, the automatic optical inspection machine includes an optical device 20 having at least one illumination device 21 and at least one imaging device 22 corresponding to the illumination device 21, so that an optical image of the polarizing film being conveyed can be displayed. Can be acquired.

光学装置20の構成及び設計方式は、前記自動光学検査機を用いて検出しようとする欠陥の項目(すなわち、種類及び内容)に応じて異なるが、一般に、自動光学検査機においては、偏光フィルムに対する透過検査、反射検査、偏光遮断検査(いわゆる、交差検査)などを行う。   The configuration and design method of the optical device 20 vary depending on the defect item (that is, type and content) to be detected using the automatic optical inspection machine. Performs transmission inspection, reflection inspection, polarization blocking inspection (so-called cross inspection), and the like.

このため、光学装置20は、検査しようとする欠陥項目に応じて反射照明とこれに対応する撮像装置、透過照明とこれに対応する撮像装置などを選択的にまたは並列的に駆動することにより、様々な欠陥類型を検出するための光学映像を取得するように設計される。   For this reason, the optical device 20 selectively or in parallel drives the reflected illumination and the imaging device corresponding thereto, the transmission illumination and the imaging device corresponding thereto according to the defect item to be inspected, It is designed to acquire optical images for detecting various defect types.

そして、このように光学装置20を介して取得した光学映像は映像分析/検査装置40に転送され、映像分析/検査装置40は、転送された光学映像に対する分析を行うことにより、偏光フィルムに存在する様々な欠陥を検出する。なお、映像分析/検査装置40は、検出された欠陥に関するデータ(以下、「検査結果データ」と称する。)を生成してこれを格納する。   The optical image acquired through the optical device 20 in this way is transferred to the image analysis / inspection device 40, and the image analysis / inspection device 40 performs analysis on the transferred optical image to thereby exist in the polarizing film. Detect various defects. The video analysis / inspection apparatus 40 generates data related to the detected defect (hereinafter referred to as “inspection result data”) and stores it.

このとき、前記検査結果データに基づく欠陥の発生個所はマーキングシステム30に転送され、前記マーキングシステム30のマーキング制御部32は、マーキング手段31を制御することにより、前記欠陥の発生個所に対応して前記偏光フィルムに欠陥のマーキングを施す。   At this time, the occurrence location of the defect based on the inspection result data is transferred to the marking system 30, and the marking control unit 32 of the marking system 30 controls the marking means 31 to correspond to the occurrence location of the defect. A defect is marked on the polarizing film.

また、前記検査結果データは、出力装置50、表示装置60などに転送されてその結果が出力され、管理者のサーバ70に転送されて格納及び管理される。   The inspection result data is transferred to the output device 50, the display device 60, etc., and the result is output, transferred to the administrator server 70, and stored and managed.

上述したように欠陥検査の終わった偏光フィルムは、巻取部(図示せず)により再びクルクル巻かれることにより、元の円盤状に保存される。   As described above, the polarizing film that has been subjected to the defect inspection is stored in the original disk shape by being wound again by a winding unit (not shown).

自動光学検査機の検査結果データは、一般に、データベースまたはエクセルなどのファイル形式で格納される。自動光学検査機は、個別の偏光フィルム円盤LOTに対する検査結果として、欠陥の明るさ、幅、長さ、サイズ(面積)、形状(円形性/線形性)、検出光学群(投射/反射/偏光遮断)など様々なデータを生成して格納する。   The inspection result data of the automatic optical inspection machine is generally stored in a file format such as a database or Excel. The automatic optical inspection machine has defect brightness, width, length, size (area), shape (circularity / linearity), detection optical group (projection / reflection / polarization) as inspection results for individual polarizing film disks LOT. Generate and store various data such as blocking.

このとき、前記検査結果データの転送には、多数のユーザーまたは管理者の接近性を確保するために、ファイル転送プロトコル(FTP:file transfer protocol)が用いられる。このように転送された検査結果データは、本発明に係る偏光フィルムの欠陥検出装置内の格納部に格納され、分析フォーマットの一元化のためにデータ変換部を介して所定の共通フォーマットに変換される。ここで、前記共通フォーマットは、データ言語であるマーク付け言語、例えば、拡張可能なマーク付け言語(XML:Extensible Markup Language)、ハイパーテキストマーク付け言語(HTML:Hypertext Markup Language)などである。このため、今後、データ分析は、変換されたXMLなどで行われる。   At this time, a file transfer protocol (FTP) is used for transferring the inspection result data in order to ensure the accessibility of a large number of users or administrators. The inspection result data transferred in this way is stored in the storage unit in the polarizing film defect detection apparatus according to the present invention, and is converted into a predetermined common format via the data conversion unit for unifying the analysis format. . Here, the common format is a mark language that is a data language, for example, an extensible markup language (XML), a hypertext markup language (HTML), or the like. Therefore, in the future, data analysis will be performed with converted XML or the like.

但し、上述したような検査結果データの変換は、ライン別に検査機格納データ形式が異なる場合があることを前提として、異機種の検査機から取得されたデータ分析のために一元化された共通フォーマットに変換するためのものであるが、これとは異なり、検査機の格納データ形式がいずれも同様である場合にはデータの変換過程は省略可能である。なお、それぞれの格納データ形式が異なる場合にもそれぞれのデータ形式に合わせてデータ分析を行うことができるため、このような場合にも省略可能であるということはいうまでもない。   However, the conversion of the inspection result data as described above is made into a common format for analyzing data acquired from different types of inspection machines, assuming that the inspection machine storage data format may be different for each line. In contrast to this, if the stored data format of the inspection machine is the same, the data conversion process can be omitted. It should be noted that even if the stored data formats are different, data analysis can be performed in accordance with the respective data formats, and it goes without saying that it can be omitted in such cases.

以下、図2から図9に基づき、本発明に係る偏光フィルムの欠陥検出装置及び方法について説明する。参考までに、本発明に係る偏光フィルムの欠陥検出装置は、上述した映像分析/検査装置40そのもの若しくはその一部により実現されてもよく、または、別途の装置により実現されてもよい。   Hereinafter, based on FIGS. 2 to 9, the polarizing film defect detection apparatus and method according to the present invention will be described. For reference, the polarizing film defect detection apparatus according to the present invention may be realized by the video analysis / inspection apparatus 40 described above or a part thereof, or may be realized by a separate apparatus.

図2は、本発明の一実施形態に係る偏光フィルムの欠陥検出装置の構成図である。図2を参照すると、本発明の一実施形態に係る偏光フィルムの欠陥検出装置100は、受信部110と、格納部120と、検出部130と、報知部140などを備える。   FIG. 2 is a configuration diagram of a polarizing film defect detection apparatus according to an embodiment of the present invention. Referring to FIG. 2, a polarizing film defect detection apparatus 100 according to an embodiment of the present invention includes a receiving unit 110, a storage unit 120, a detection unit 130, a notification unit 140, and the like.

まず、受信部110は、自動光学検査機で検査された偏光フィルムに関する検査結果データを受信する。なお、格納部120は、前記受信された検査結果データを格納する。   First, the receiving unit 110 receives inspection result data regarding a polarizing film inspected by an automatic optical inspection machine. The storage unit 120 stores the received inspection result data.

ここで、検査結果データは、上述したように、自動光学検査機の検査結果を示すデータであり、本発明の好適な実施形態の場合、欠陥タイプ(Defect Type)、デルタX(Dx)、デルタY(Dy)、領域(Area)、密度(Density)、サイズ(Size)、ピーク(Peak)、厚さ(Thickness)などに関する情報を含む。   Here, as described above, the inspection result data is data indicating the inspection result of the automatic optical inspection machine. In the case of the preferred embodiment of the present invention, defect type (Defect Type), Delta X (Dx), Delta Information on Y (Dy), area (Area), density (Density), size (Size), peak (Peak), thickness (Thickness), and the like is included.

参考までに、下記表1は、欠陥タイプ(Defect Type)、デルタX(Dx)、デルタY(Dy)、領域(Area)、密度(Density)、サイズ(Size)、ピーク(Peak)、厚さ(Thickness)に対するパラメータの定義を示すものである。   For reference, Table 1 below shows defect type (Defect Type), Delta X (Dx), Delta Y (Dy), Area (Area), Density (Size), Size (Size), Peak (Peak), and Thickness. The definition of the parameter for (Thickness) is shown.

Figure 2015118089
Figure 2015118089

表1を参照すると、デルタX(Dx)は、欠陥として認識された領域のX軸(偏光フィルムの幅方向)サイズを示し、デルタY(Dy)は、欠陥として認識された領域のY軸(偏光フィルムの長手方向)サイズを示す。前記デルタX(Dx)とデルタY(Dy)はピクセルを基準として設定し、例えば、欠陥として認識された領域のX軸ピクセルの数にX軸空間解像度(X軸ピクセルの実際のサイズ)を乗算し、欠陥として認識された領域のY軸ピクセルの数にY軸空間解像度(Y軸ピクセルの実際のサイズ)を乗算して決定する。領域(Area)は、欠陥として認識された総領域を示す。前記領域(Area)も同様にピクセルを基準として設定し、例えば、欠陥として認識された総ピクセルの数にピクセルの実際の単位面積を乗算して決定する。密度(Density)は、欠陥として認識された領域のX軸及びY軸の全体の四角形面積に実際に欠陥として認識された領域が占める割合、すなわち、Area×100/(Dx×Dy)を示す。サイズ(Size)は欠陥のサイズを示すが、本発明の一実施形態においては、デルタX(Dx)とデルタY(Dy)の平均をとって欠陥のサイズを推定する。ピーク(Peak)は、欠陥として認識された部分の明るさの最高値/最低値と周りの平均明るさとの差分を示す。参考までに、前記明るさは、モニター上に表示されるときに黒色を0のデジタル値、白色を255のデジタル値に換算して0〜255の値で表示することができる。厚さ(Thickness)は欠陥の厚さを示すが、本発明の一実施形態においては、Area/(√Dx+Dy)に基づいて欠陥の厚さを推定する。欠陥タイプ(Defect Type)は、黒欠陥(黒点)、白欠陥(白点)、黒白欠陥(凹凸状)に分けられ、黒欠陥(黒点)は、基準陰影(Gray)よりも低い(暗い)欠陥を意味し、白欠陥(白点)は、基準陰影(Gray)よりも高い(明るい)欠陥を意味し、黒白欠陥(凹凸状)は、基準陰影(Gray)よりも高くて低い部分を含む欠陥を意味する。 Referring to Table 1, Delta X (Dx) indicates the X-axis (width direction of the polarizing film) size of the region recognized as a defect, and Delta Y (Dy) indicates the Y-axis ( The longitudinal direction) size of a polarizing film is shown. The delta X (Dx) and the delta Y (Dy) are set with reference to a pixel, and for example, the number of X-axis pixels in an area recognized as a defect is multiplied by an X-axis spatial resolution (actual size of the X-axis pixel). Then, it is determined by multiplying the number of Y-axis pixels in the area recognized as a defect by the Y-axis spatial resolution (actual size of the Y-axis pixels). The area (Area) indicates the total area recognized as a defect. Similarly, the area (Area) is set based on a pixel, and is determined by multiplying the total number of pixels recognized as defects by the actual unit area of the pixel, for example. The density (Density) indicates the ratio of the area actually recognized as the defect to the entire square area of the X axis and the Y axis of the area recognized as the defect, that is, Area × 100 / (Dx × Dy). Although the size (Size) indicates the size of the defect, in one embodiment of the present invention, the size of the defect is estimated by taking the average of delta X (Dx) and delta Y (Dy). The peak (Peak) indicates a difference between the maximum value / minimum value of the brightness of the portion recognized as a defect and the surrounding average brightness. For reference, when the brightness is displayed on a monitor, black can be converted to a digital value of 0 and white can be converted to a digital value of 255 and displayed as a value from 0 to 255. Although the thickness (Thickness) indicates the thickness of the defect, in one embodiment of the present invention, the thickness of the defect is estimated based on Area / (√Dx 2 + Dy 2 ). The defect type (Defect Type) is divided into a black defect (black spot), a white defect (white spot), and a black and white defect (uneven shape), and the black defect (black spot) is lower (darker) than the reference shadow (Gray). The white defect (white point) means a defect that is higher (brighter) than the reference shadow (Gray), and the black and white defect (irregularity) is a defect that includes a portion that is higher and lower than the reference shadow (Gray). Means.

検出部130は、前記検査結果データを分析して偏光フィルムの欠陥を検出する。これに関し、図3から図9は、本発明の実施形態に係る検出アルゴリズムを示すものであるが、以下では、図3から図9を参照して前記検出部130で行われる本発明に係る偏光フィルムの欠陥検出方法について説明する。   The detection unit 130 analyzes the inspection result data to detect a defect in the polarizing film. In this regard, FIGS. 3 to 9 show a detection algorithm according to an embodiment of the present invention. Hereinafter, the polarization according to the present invention performed by the detection unit 130 with reference to FIGS. 3 to 9 will be described. A film defect detection method will be described.

図3は、本発明の一実施形態に係る接合異物検出アルゴリズムを示す図である。   FIG. 3 is a diagram illustrating a bonded foreign object detection algorithm according to an embodiment of the present invention.

図3を参照すると、ステップS310において、検出部130は、欠陥タイプ(Defect Type)が凹凸状(黒白欠陥)であるか否かを判断し、欠陥タイプ(Defect Type)が凹凸状(黒白欠陥)ではない場合にスキップ(Skip)する。もし、欠陥タイプ(Defect Type)が凹凸状(黒白欠陥)である場合、ステップS320において、検出部130は、サイズ(Size)が300μm以上であるか否かを判断し、サイズ(Size)が300μm以上ではない場合にスキップ(Skip)する。そして、もし、サイズ(Size)が300μm以上である場合は、ステップS330において、検出部130は、当該偏光フィルムの欠陥形態が接合異物であると判別する。   Referring to FIG. 3, in step S <b> 310, the detection unit 130 determines whether the defect type (Defective Type) is uneven (black and white defect), and the defect type (Defective Type) is uneven (black and white defect). If not, skip. If the defect type (Defect Type) is uneven (black and white defect), in step S320, the detection unit 130 determines whether the size (Size) is 300 μm or more, and the size (Size) is 300 μm. If not, skip (Skip). If the size (Size) is 300 μm or more, in step S330, the detection unit 130 determines that the defect form of the polarizing film is a bonded foreign material.

図4は、本発明の一実施形態に係る接合気泡検出アルゴリズムを示す図である。   FIG. 4 is a diagram illustrating a bonded bubble detection algorithm according to an embodiment of the present invention.

図4を参照すると、ステップS410において、検出部130は、欠陥タイプ(Defect Type)が黒点(黒欠陥)であるか否かを判断し、欠陥タイプ(Defect Type)が黒点(黒欠陥)ではない場合にスキップ(Skip)する。もし、欠陥タイプ(Defect Type)が黒点(黒欠陥)である場合は、ステップS420において、検出部130は、サイズ(Size)が100μm以上540μm未満であるか否かを判断し、サイズ(Size)が100μm以上540μm未満ではない場合にスキップ(Skip)する。もし、サイズ(Size)が100μm以上540μm未満である場合は、ステップS430において、検出部130は、領域(Area)が90μm以上1140μm以下であるか否かを判断し、領域(Area)が90μm以上1140μm以下ではない場合にスキップ(Skip)する。もし、領域(Area)が90μm以上1140μm以下である場合は、ステップS440において、検出部130は、デルタX(Dx)が120μm以上780μm以下であるか否かを判断し、デルタX(Dx)が120μm以上780μm以下ではない場合にスキップ(Skip)する。もし、デルタX(Dx)が120μm以上780μm以下である場合、ステップS450において、検出部130は、デルタY(Dy)が210μm以下であるか否かを判断し、デルタY(Dy)が210μm以下ではない場合にスキップ(Skip)する。もし、デルタY(Dy)が210μm以下である場合、ステップS460において、検出部130は、厚さ(Thickness)が66μm未満であるか否かを判断し、厚さ(Thickness)が66μm未満ではない場合にスキップ(Skip)する。もし、厚さ(Thickness)が66μm未満である場合、ステップS470において、検出部130は、ピーク(Peak)が20未満であるか否かを判断し、ピーク(Peak)が20未満ではない場合にスキップ(Skip)する。もし、ピーク(Peak)が20未満である場合、ステップS480において、検出部130は、当該偏光フィルムの欠陥形態が接合気泡であると判別する。 Referring to FIG. 4, in step S410, the detection unit 130 determines whether or not the defect type (Defective Type) is a black point (black defect), and the defect type (Defective Type) is not a black point (black defect). Skip (Skip). If the defect type (Defect Type) is a black dot (black defect), in step S420, the detection unit 130 determines whether the size (Size) is 100 μm or more and less than 540 μm, and the size (Size). Is skipped when it is not 100 μm or more and less than 540 μm. If, when the size (Size) is less than or 100μm 540μm, in step S430, the detection unit 130 includes an area (Area), it is judged whether or not 90 [mu] m 2 or more 1140 microns 2 or less, the area (Area) is when 90 [mu] m 2 or more 1140 microns 2 not less skipped (skip). If, when the area (Area) is 90 [mu] m 2 or more 1140 microns 2 or less, in step S440, the detection unit 130 determines whether the delta X (Dx) is 120μm or more 780μm or less, Delta X (Dx ) Is not 120 μm or more and 780 μm or less, skipping. If the delta X (Dx) is not less than 120 μm and not more than 780 μm, in step S450, the detection unit 130 determines whether the delta Y (Dy) is not more than 210 μm, and the delta Y (Dy) is not more than 210 μm. If not, skip. If the delta Y (Dy) is 210 μm or less, in step S460, the detection unit 130 determines whether the thickness (Thickness) is less than 66 μm, and the thickness (Thickness) is not less than 66 μm. Skip (Skip). If the thickness (Thickness) is less than 66 μm, in step S470, the detection unit 130 determines whether or not the peak (Peak) is less than 20, and if the peak (Peak) is not less than 20, Skip (Skip). If the peak is less than 20, in step S480, the detection unit 130 determines that the defect form of the polarizing film is a bonded bubble.

図5は、本発明の一実施形態に係る異物検出アルゴリズムを示す図である。   FIG. 5 is a diagram illustrating a foreign object detection algorithm according to an embodiment of the present invention.

図5を参照すると、ステップS510において、検出部130は、欠陥タイプ(Defect Type)が黒点(黒欠陥)であるか否かを判断し、欠陥タイプ(Defect Type)が黒点(黒欠陥)ではない場合にスキップ(Skip)する。もし、欠陥タイプ(Defect Type)が黒点(黒欠陥)である場合、ステップS520において、検出部130は、サイズ(Size)が160μm以下であるか否かを判断し、サイズ(Size)が160μm以下ではない場合にスキップ(Skip)する。もし、サイズ(Size)が160μm以下である場合、ステップS530において、検出部130は、領域(Area)が300μm以下であるか否かを判断し、領域(Area)が300μm以下ではない場合にスキップ(Skip)する。もし、領域(Area)が300μm以下である場合、ステップS540において、検出部130は、デルタX(Dx)が150μm以下であるか否かを判断し、デルタX(Dx)が150μm以下ではない場合にスキップ(Skip)する。もし、デルタX(Dx)が150μm以下である場合、ステップS550において、検出部130は、当該偏光フィルムの欠陥形態が異物であると判別する。 Referring to FIG. 5, in step S510, the detection unit 130 determines whether or not the defect type (Defective Type) is a black point (black defect), and the defect type (Defective Type) is not a black point (black defect). Skip (Skip). If the defect type (Defect Type) is a black dot (black defect), in step S520, the detection unit 130 determines whether the size (Size) is 160 μm or less, and the size (Size) is 160 μm or less. If not, skip. If the size (Size) is less than 160 .mu.m, in step S530, the detection unit 130 determines whether an area (Area) is 300 [mu] m 2 or less, when the area (Area) is not 300 [mu] m 2 or less Skip to (Skip). If the area (Area) is 300 μm 2 or less, in step S540, the detection unit 130 determines whether or not the delta X (Dx) is 150 μm or less, and the delta X (Dx) is not 150 μm or less. Skip (Skip). If the delta X (Dx) is 150 μm or less, in step S550, the detection unit 130 determines that the defect form of the polarizing film is a foreign substance.

図6は、本発明の一実施形態に係る輝点検出アルゴリズムを示す図である。   FIG. 6 is a diagram showing a bright spot detection algorithm according to an embodiment of the present invention.

図6を参照すると、ステップS610において、検出部130は、欠陥タイプ(Defect Type)が白点(白欠陥)であるか否かを判断し、欠陥タイプ(Defect Type)が白点(白欠陥)ではない場合にスキップ(Skip)する。もし、欠陥タイプ(Defect Type)が白点(白欠陥)である場合、ステップS620において、検出部130は、ピーク(Peak)が16以上であるか否かを判断し、ピーク(Peak)が16以上ではない場合にスキップ(Skip)する。もし、ピーク(Peak)が16以上である場合、ステップS630において、検出部130は、デルタY(Dy)が450μm以下であるか否かを判断し、デルタY(Dy)が450μm以下ではない場合にスキップ(Skip)する。もし、デルタY(Dy)が450μm以下である場合、ステップS640において、検出部130は、当該偏光フィルムの欠陥形態が輝点であると判別する。   Referring to FIG. 6, in step S610, the detection unit 130 determines whether or not the defect type (Defective Type) is a white point (white defect), and the defect type (Defective Type) is a white point (white defect). If not, skip. If the defect type (Defect Type) is a white point (white defect), in step S620, the detection unit 130 determines whether or not the peak (Peak) is 16 or more, and the peak (Peak) is 16. If not, skip (Skip). If the peak (Peak) is 16 or more, in step S630, the detection unit 130 determines whether or not the delta Y (Dy) is 450 μm or less, and the delta Y (Dy) is not 450 μm or less. Skip to (Skip). If the delta Y (Dy) is 450 μm or less, in step S640, the detection unit 130 determines that the defect form of the polarizing film is a bright spot.

図7は、本発明の一実施形態に係るスクラッチ検出アルゴリズムを示す図である。   FIG. 7 is a diagram illustrating a scratch detection algorithm according to an embodiment of the present invention.

図7を参照すると、ステップS710において、検出部130は、欠陥タイプ(Defect Type)が白点(白欠陥)であるか否かを判断し、欠陥タイプ(Defect Type)が白点(白欠陥)ではない場合にスキップ(Skip)する。もし、欠陥タイプ(Defect Type)が白点(白欠陥)である場合、ステップS720において、検出部130は、デルタX(Dx)が105μm以下であるか否かを判断し、デルタX(Dx)が105μm以下ではない場合にスキップ(Skip)する。もし、デルタX(Dx)が105μm以下である場合、ステップS730において、検出部130は、デルタY(Dy)が150μm以上であるか否かを判断し、デルタY(Dy)が150μm以上ではない場合にスキップ(Skip)する。もし、デルタY(Dy)が150μm以上である場合、ステップS740において、検出部130は、ピーク(Peak)が50以下であるか否かを判断し、ピーク(Peak)が50以下ではない場合にスキップ(Skip)する。もし、ピーク(Peak)が50以下である場合、ステップS750において、検出部130は、当該偏光フィルムの欠陥形態がスクラッチであると判別する。   Referring to FIG. 7, in step S <b> 710, the detection unit 130 determines whether or not the defect type (Defective Type) is a white point (white defect), and the defect type (Defective Type) is a white point (white defect). If not, skip. If the defect type (Defect Type) is a white point (white defect), in step S720, the detection unit 130 determines whether or not the delta X (Dx) is 105 μm or less, and the delta X (Dx). Skip if it is not less than 105 μm. If the delta X (Dx) is 105 μm or less, in step S730, the detection unit 130 determines whether the delta Y (Dy) is 150 μm or more, and the delta Y (Dy) is not 150 μm or more. Skip (Skip). If the delta Y (Dy) is 150 μm or more, in step S740, the detection unit 130 determines whether or not the peak (Peak) is 50 or less, and if the peak (Peak) is not 50 or less. Skip (Skip). If the peak is 50 or less, in step S750, the detection unit 130 determines that the defect form of the polarizing film is a scratch.

図8は、本発明の一実施形態に係る群集性輝点検出アルゴリズムを示す図である。   FIG. 8 is a diagram showing a crowding bright spot detection algorithm according to an embodiment of the present invention.

図8を参照すると、ステップS810において、検出部130は、欠陥タイプ(Defect Type)が白点(白欠陥)であるか否かを判断し、欠陥タイプ(Defect Type)が白点(白欠陥)ではない場合にスキップ(Skip)する。もし、欠陥タイプ(Defect Type)が白点(白欠陥)である場合、ステップS820において、検出部130は、デルタX(Dx)とデルタY(Dy)との差分が45μm以上であるか否かを判断し、デルタX(Dx)とデルタY(Dy)との差分が45μm以上ではない場合にスキップ(Skip)する。もし、デルタX(Dx)とデルタY(Dy)との差分が45μm以上である場合、ステップS830において、検出部130は、ピーク(Peak)が16以上であるか否かを判断し、ピーク(Peak)が16以上ではない場合にスキップ(Skip)する。もし、ピーク(Peak)が16以上である場合、ステップS840において、検出部130は、デルタX(Dx)が420μm以下であるか否かを判断し、デルタX(Dx)が420μm以下ではない場合にスキップ(Skip)する。もし、デルタX(Dx)が420μm以下である場合、ステップS850において、検出部130は、デルタY(Dy)が1260μm以下であるか否かを判断し、デルタY(Dy)が1260μm以下ではない場合にスキップ(Skip)する。もし、デルタY(Dy)が1260μm以下である場合、ステップS860において、検出部130は、密度(Density)が7.5以下であるか否かを判断し、密度(Density)が7.5以下ではない場合にスキップ(Skip)する。もし、密度(Density)が7.5以下である場合、ステップS870において、検出部130は、当該偏光フィルムの欠陥形態が群集性輝点であると判別する。   Referring to FIG. 8, in step S810, the detection unit 130 determines whether the defect type (Defective Type) is a white point (white defect), and the defect type (Defective Type) is a white point (white defect). If not, skip. If the defect type (Defect Type) is a white point (white defect), in step S820, the detection unit 130 determines whether or not the difference between delta X (Dx) and delta Y (Dy) is 45 μm or more. If the difference between delta X (Dx) and delta Y (Dy) is not 45 μm or more, skip (Skip). If the difference between the delta X (Dx) and the delta Y (Dy) is 45 μm or more, in step S830, the detection unit 130 determines whether or not the peak (Peak) is 16 or more. Skip if the Peak is not 16 or more. If the peak (Peak) is 16 or more, in step S840, the detection unit 130 determines whether or not the delta X (Dx) is 420 μm or less, and the delta X (Dx) is not 420 μm or less. Skip to (Skip). If the delta X (Dx) is 420 μm or less, in step S850, the detection unit 130 determines whether the delta Y (Dy) is 1260 μm or less, and the delta Y (Dy) is not 1260 μm or less. Skip (Skip). If the delta Y (Dy) is 1260 μm or less, in step S860, the detection unit 130 determines whether the density (Density) is 7.5 or less, and the density (Density) is 7.5 or less. If not, skip. If the density is 7.5 or less, in step S870, the detection unit 130 determines that the defect form of the polarizing film is a crowded bright spot.

図9は、本発明の一実施形態に係る一糸検出アルゴリズムを示す図である。   FIG. 9 is a diagram showing a single thread detection algorithm according to an embodiment of the present invention.

図9を参照すると、ステップS910において、検出部130は、ピーク(Peak)が50以上であるか否かを判断し、ピーク(Peak)が50以上ではない場合にスキップ(Skip)する。もし、ピーク(Peak)が50以上である場合、ステップS920において、検出部130は、密度(Density)が6.75以下であるか否かを判断し、密度(Density)が6.75以下ではない場合にスキップ(Skip)する。もし、密度(Density)が6.75以下である場合、ステップS930において、検出部130は、厚さ(Thickness)が42μm以上であるか否かを判断し、厚さ(Thickness)が42μm以上ではない場合にスキップ(Skip)する。もし、厚さ(Thickness)が42μm以上である場合、ステップS940において、検出部130は、デルタX(Dx)が150μm以上であるか否かを判断し、デルタX(Dx)が150μm以上ではない場合にスキップ(Skip)する。もし、デルタX(Dx)が150μm以上である場合、ステップS950において、検出部130は、当該偏光フィルムの欠陥形態が一糸であると判別する。   Referring to FIG. 9, in step S <b> 910, the detection unit 130 determines whether or not the peak is 50 or more, and skips when the peak is not 50 or more. If the peak is 50 or more, in step S920, the detection unit 130 determines whether the density (Density) is 6.75 or less, and if the density (Density) is 6.75 or less. If not, skip. If the density is 6.75 or less, in step S930, the detection unit 130 determines whether the thickness (Thickness) is 42 μm or more, and if the thickness (Thickness) is 42 μm or more. If not, skip. If the thickness (Thickness) is 42 μm or more, in step S940, the detection unit 130 determines whether or not the delta X (Dx) is 150 μm or more, and the delta X (Dx) is not 150 μm or more. Skip (Skip). If the delta X (Dx) is 150 μm or more, in step S950, the detection unit 130 determines that the defect form of the polarizing film is one yarn.

一方、本発明の好適な実施形態によれば、前記検出部130は、接合異物、接合気泡、異物、輝点、スクラッチ、群集性輝点、一糸のうちのいずれか一つの欠陥形態を検出できずにスキップ(Skip)した場合、他の欠陥形態を見出すために再検出を行う。   On the other hand, according to a preferred embodiment of the present invention, the detection unit 130 can detect a defect form of any one of a joined foreign matter, a joined bubble, a foreign matter, a bright spot, a scratch, a crowded bright spot, and a single yarn. If it is skipped without skipping, redetection is performed to find another defect form.

例えば、検出部130は、接合異物検出アルゴリズムを行ったところ、接合異物を検出できずにスキップ(Skip)した場合、接合気泡検出アルゴリズムを行う。そして、もし、接合気泡検出アルゴリズムを行ったところ、接合気泡を検出できずにスキップ(Skip)した場合、再び異物検出アルゴリズムを行い、様々な欠陥形態に対して検出を行う。   For example, the detection unit 130 performs the bonded bubble detection algorithm when the bonded foreign object detection algorithm is performed and skipped without detecting the bonded foreign material. If the bonding bubble detection algorithm is performed and the bonding bubble cannot be detected and is skipped, the foreign object detection algorithm is performed again to detect various defect forms.

図2に戻ると、報知部140は、前記検出部130で検出された欠陥形態を出力装置(例えば、ディスプレイ、欠陥報知装置など)を介して外部に報知して、偏光フィルムを検収する作業員(運転員)が欠陥形態を即座で把握できるようにしてそれに対応する欠陥要因を速やかに除去できるようにする。   Returning to FIG. 2, the notification unit 140 notifies the outside of the defect form detected by the detection unit 130 via an output device (for example, a display, a defect notification device, etc.) and detects the polarizing film. The (operator) can immediately grasp the defect form so that the corresponding defect factor can be quickly removed.

以上、本発明の実施形態を参照して本発明について詳細に説明したが、本発明が属する技術分野において通常の知識を有する者にとってこのような具体的な技術は単なる好適な実現例に過ぎず、これにより本発明の範囲が制限されないということはいうまでもない。例えば、上述したそれぞれの欠陥検出アルゴリズムにおいてこれを構成する個別のステップはその順序が変更されても同じ検出機能を行うことができ、且つ、それぞれの欠陥検出アルゴリズムはその順序が変更されても構わない。   As described above, the present invention has been described in detail with reference to the embodiment of the present invention. However, such a specific technique is merely a preferable implementation example for those having ordinary knowledge in the technical field to which the present invention belongs. Of course, this does not limit the scope of the present invention. For example, the individual steps constituting each defect detection algorithm described above can perform the same detection function even if the order is changed, and the order of each defect detection algorithm may be changed. Absent.

よって、本発明が属する技術分野において通常の知識を有する者であれば、前記内容に基づいて本発明の範囲内において様々な応用及び変形を行うことが可能であり、よって、本発明の実質的な範囲は添付の特許請求の範囲とその等価物によって定義されるべきである。   Therefore, a person who has ordinary knowledge in the technical field to which the present invention belongs can make various applications and modifications within the scope of the present invention based on the above contents. The scope should be defined by the appended claims and their equivalents.

100:偏光フィルムの欠陥検出装置
110:受信部
120:格納部
130:検出部
140:報知部
100: Polarization film defect detection device 110: reception unit 120: storage unit 130: detection unit 140: notification unit

Claims (20)

偏光フィルムの欠陥検出装置において、
自動光学検査機で検査された偏光フィルムに対する検査結果を受信する受信部と、
前記検査結果を分析して偏光フィルムの欠陥を検出する検出部と、
を備え、
前記検出部は、欠陥タイプ(Defect Type)、デルタX(Dx)、デルタY(Dy)、領域(Area)、密度(Density)、サイズ(Size)、ピーク(Peak)、厚さ(Thickness)のうちの2つ以上のパラメータに基づいて、前記偏光フィルムの欠陥形態が、接合異物、接合気泡、異物、輝点、スクラッチ、群集性輝点、一糸のうちの少なくともいずれか一つであると判別することを特徴とする装置。
In a polarizing film defect detection device,
A receiving unit for receiving the inspection result for the polarizing film inspected by the automatic optical inspection machine;
A detection unit for analyzing the inspection result and detecting a defect of the polarizing film;
With
The detection unit includes defect type (Defect Type), delta X (Dx), delta Y (Dy), area (Area), density (Density), size (Size), peak (Peak), and thickness (Thickness). Based on two or more of the parameters, it is determined that the defect form of the polarizing film is at least one of a joined foreign matter, a joined bubble, a foreign matter, a bright spot, a scratch, a crowded bright spot, and a single yarn. A device characterized by that.
前記検出部で検出された欠陥形態を出力装置を介して報知する報知部をさらに備えることを特徴とする請求項1に記載の装置。   The apparatus according to claim 1, further comprising a notifying unit that notifies the defect form detected by the detecting unit via an output device. 前記検出部は、欠陥タイプ(Defect Type)が凹凸状であり、且つ、サイズ(Size)が300μm以上である場合、前記偏光フィルムの欠陥形態が接合異物であると判別することを特徴とする請求項1又は請求項2に記載の装置。   The detection unit determines that the defect form of the polarizing film is a bonded foreign material when the defect type (defect type) is uneven and the size (size) is 300 μm or more. The apparatus of Claim 1 or Claim 2. 前記検出部は、欠陥タイプ(Defect Type)が黒点であり、サイズ(Size)が100μm以上540μm未満であり、領域(Area)が90μm以上1140μm以下であり、デルタX(Dx)が120μm以上780μm以下であり、デルタY(Dy)が210μm以下であり、厚さ(Thickness)が66μm未満であり、且つ、ピーク(Peak)が20未満である場合、前記偏光フィルムの欠陥形態が接合気泡であると判別することを特徴とする請求項1又は請求項2に記載の装置。 Wherein the detection unit is a defect types (Defect Type) black spot, the size (Size) of less than or 100μm 540μm, area (Area) is at 90 [mu] m 2 or more 1140 microns 2 or less, delta X (Dx) is more than 120μm When the thickness is 780 μm or less, the delta Y (Dy) is 210 μm or less, the thickness (Thickness) is less than 66 μm, and the peak (Peak) is less than 20, the defect form of the polarizing film is a bonding bubble. The apparatus according to claim 1, wherein the apparatus is determined to be present. 前記検出部は、欠陥タイプ(Defect Type)が黒点であり、サイズ(Size)が160μm以下であり、領域(Area)が300μm以下であり、且つ、デルタX(Dx)が150μm以下である場合、前記偏光フィルムの欠陥形態が異物であると判別することを特徴とする請求項1又は請求項2に記載の装置。 When the defect type (Detect Type) is a black spot, the size (Size) is 160 μm or less, the area (Area) is 300 μm 2 or less, and the delta X (Dx) is 150 μm or less. The apparatus according to claim 1, wherein the apparatus determines that the defect form of the polarizing film is a foreign substance. 前記検出部は、欠陥タイプ(Defect Type)が白点であり、ピーク(Peak)が16以上であり、且つ、デルタY(Dy)が450μm以下である場合、前記偏光フィルムの欠陥形態が輝点であると判別することを特徴とする請求項1又は請求項2に記載の装置。   When the defect type (Defect Type) is a white spot, the peak (Peak) is 16 or more, and the delta Y (Dy) is 450 μm or less, the detection unit has a bright spot as the defect form. The apparatus according to claim 1, wherein the apparatus is discriminated as being. 前記検出部は、欠陥タイプ(Defect Type)が白点であり、デルタX(Dx)が105μm以下であり、デルタY(Dy)が150μm以上であり、且つ、ピーク(Peak)が50以下である場合、前記偏光フィルムの欠陥形態がスクラッチであると判別することを特徴とする請求項1又は請求項2に記載の装置。   In the detection unit, the defect type (Defect Type) is a white point, the delta X (Dx) is 105 μm or less, the delta Y (Dy) is 150 μm or more, and the peak (Peak) is 50 or less. 3. The apparatus according to claim 1, wherein the apparatus determines that the defect form of the polarizing film is a scratch. 前記検出部は、欠陥タイプ(Defect Type)が白点であり、デルタX(Dx)とデルタY(Dy)との差分が45μm以上であり、ピーク(Peak)が16以上であり、デルタX(Dx)が420μm以下であり、デルタY(Dy)が1260μm以下であり、且つ、密度(Density)が7.5以下である場合、前記偏光フィルムの欠陥形態が群集性輝点であると判別することを特徴とする請求項1又は請求項2に記載の装置。   In the detection unit, the defect type (Defect Type) is a white point, the difference between Delta X (Dx) and Delta Y (Dy) is 45 μm or more, Peak (Peak) is 16 or more, and Delta X ( When Dx) is 420 μm or less, Delta Y (Dy) is 1260 μm or less, and the density (Density) is 7.5 or less, it is determined that the defect form of the polarizing film is a crowded bright spot. The apparatus according to claim 1 or 2, characterized in that 前記検出部は、ピーク(Peak)が50以上であり、密度(Density)が6.75以下であり、厚さ(Thickness)が42μm以上であり、且つ、デルタX(Dx)が150μm以上である場合、前記偏光フィルムの欠陥形態が一糸であると判別することを特徴とする請求項1又は請求項2に記載の装置。   The detection unit has a peak (Peak) of 50 or more, a density (Density) of 6.75 or less, a thickness (Thickness) of 42 μm or more, and a delta X (Dx) of 150 μm or more. 3. The apparatus according to claim 1, wherein the apparatus determines that the defect form of the polarizing film is a single yarn. 前記検出部は、接合異物、接合気泡、異物、輝点、スクラッチ、群集性輝点、一糸のうちのいずれか一つの欠陥形態を検出できずにスキップ(Skip)した場合、他の欠陥形態を再び検出することを特徴とする請求項1又は請求項2に記載の装置。   When the detection unit skips (Skip) any defect form among the joined foreign substance, the joined bubble, the foreign substance, the bright spot, the scratch, the crowding bright spot, and one yarn, and skips the other defect form. 3. The apparatus according to claim 1, wherein the detection is performed again. 偏光フィルム欠陥検出方法において、
自動光学検査機で検査された偏光フィルムに対する検査結果を受信するステップと、
前記検査結果を分析して偏光フィルムの欠陥を検出するステップと、
を含み、
前記欠陥を検出するステップでは、欠陥タイプ(Defect Type)、デルタX(Dx)、デルタY(Dy)、領域(Area)、密度(Density)、サイズ(Size)、ピーク(Peak)、厚さ(Thickness)のうちの2つ以上のパラメータに基づいて、前記偏光フィルムの欠陥形態が、接合異物、接合気泡、異物、輝点、スクラッチ、群集性輝点、一糸のうちの少なくともいずれか一つであると判別することを特徴とする方法。
In the polarizing film defect detection method,
Receiving an inspection result for a polarizing film inspected by an automatic optical inspection machine;
Analyzing the inspection results to detect defects in the polarizing film;
Including
In the step of detecting the defect, the defect type (Defect Type), Delta X (Dx), Delta Y (Dy), Area (Area), Density (Size), Size (Size), Peak (Peak), Thickness ( Based on two or more parameters of Thickness), the defect form of the polarizing film is at least one of a joined foreign matter, a joined bubble, a foreign matter, a bright spot, a scratch, a crowded bright spot, and a single thread. A method characterized by determining that there is.
前記検出された欠陥形態を出力装置を介して報知するステップをさらに含むことを特徴とする請求項11に記載の方法。   The method according to claim 11, further comprising notifying the detected defect form via an output device. 前記検出ステップでは、欠陥タイプ(Defect Type)が凹凸状であり、且つ、サイズ(Size)が300μm以上である場合、前記偏光フィルムの欠陥形態が接合異物であると判別することを特徴とする請求項11又は請求項12に記載の方法。   In the detection step, when the defect type (Defect Type) is uneven and the size (Size) is 300 μm or more, it is determined that the defect form of the polarizing film is a bonded foreign material. Item 13. The method according to item 11 or item 12. 前記検出ステップでは、欠陥タイプ(Defect Type)が黒点であり、サイズ(Size)が100μm以上540μm未満であり、領域(Area)が90μm以上1140μm以下であり、デルタX(Dx)が120μm以上780μm以下であり、デルタY(Dy)が210μm以下であり、厚さ(Thickness)が66μm未満であり、且つ、ピーク(Peak)が20未満である場合、前記偏光フィルムの欠陥形態が接合気泡であると判別することを特徴とする請求項11又は請求項12に記載の方法。 Wherein the detection step is a defect types (Defect Type) black spot, the size (Size) of less than or 100μm 540μm, area (Area) is at 90 [mu] m 2 or more 1140 microns 2 or less, delta X (Dx) is more than 120μm When the thickness is 780 μm or less, the delta Y (Dy) is 210 μm or less, the thickness (Thickness) is less than 66 μm, and the peak (Peak) is less than 20, the defect form of the polarizing film is a bonding bubble. The method according to claim 11 or 12, wherein it is determined that there is. 前記検出ステップでは、欠陥タイプ(Defect Type)が黒点であり、サイズ(Size)が160μm以下であり、領域(Area)が300μm以下であり、且つ、デルタX(Dx)が150μm以下である場合、前記偏光フィルムの欠陥形態が異物であると判別することを特徴とする請求項11又は請求項12に記載の方法。 In the detection step, the defect type (Defect Type) is a black spot, the size (Size) is 160 μm or less, the area (Area) is 300 μm 2 or less, and the delta X (Dx) is 150 μm or less. The method according to claim 11, wherein it is determined that the defect form of the polarizing film is a foreign matter. 前記検出ステップでは、欠陥タイプ(Defect Type)が白点であり、ピーク(Peak)が16以上であり、且つ、デルタY(Dy)が450μm以下である場合、前記偏光フィルムの欠陥形態が輝点であると判別することを特徴とする請求項11又は請求項12に記載の方法。   In the detection step, when the defect type (Defect Type) is a white spot, the peak (Peak) is 16 or more, and the delta Y (Dy) is 450 μm or less, the defect form of the polarizing film is a bright spot. The method according to claim 11, wherein the method is determined as follows. 前記検出ステップでは、欠陥タイプ(Defect Type)が白点であり、デルタX(Dx)が105μm以下であり、デルタY(Dy)が150μm以上であり、且つ、ピーク(Peak)が50以下である場合、前記偏光フィルムの欠陥形態がスクラッチであると判別することを特徴とする請求項11又は請求項12に記載の方法。   In the detection step, the defect type (Defect Type) is a white point, the delta X (Dx) is 105 μm or less, the delta Y (Dy) is 150 μm or more, and the peak (Peak) is 50 or less. The method according to claim 11, wherein the method determines that the defect form of the polarizing film is a scratch. 前記検出ステップでは、欠陥タイプ(Defect Type)が白点であり、デルタX(Dx)とデルタY(Dy)との差分が45μm以上であり、ピーク(Peak)が16以上であり、デルタX(Dx)が420μm以下であり、デルタY(Dy)が1260μm以下であり、且つ、密度(Density)が7.5以下である場合、前記偏光フィルムの欠陥形態が群集性輝点であると判別することを特徴とする請求項11又は請求項12に記載の方法。   In the detection step, the defect type (Defect Type) is a white point, the difference between Delta X (Dx) and Delta Y (Dy) is 45 μm or more, Peak (Peak) is 16 or more, and Delta X ( When Dx) is 420 μm or less, Delta Y (Dy) is 1260 μm or less, and Density is 7.5 or less, it is determined that the defect form of the polarizing film is a crowded bright spot. 13. A method according to claim 11 or claim 12 characterized in that. 前記検出ステップでは、ピーク(Peak)が50以上であり、密度(Density)が6.75以下であり、厚さ(Thickness)が42μm以上であり、且つ、デルタX(Dx)が150μm以上である場合、前記偏光フィルムの欠陥形態が一糸であると判別することを特徴とする請求項11又は請求項12に記載の方法。   In the detection step, the peak (Peak) is 50 or more, the density (Density) is 6.75 or less, the thickness (Thickness) is 42 μm or more, and the delta X (Dx) is 150 μm or more. 13. The method according to claim 11, wherein it is determined that the defect form of the polarizing film is a single thread. 前記検出ステップでは、接合異物、接合気泡、異物、輝点、スクラッチ、群集性輝点、一糸のうちのいずれか一つの欠陥形態を検出できずにスキップ(Skip)した場合、他の欠陥形態を再び検出することを特徴とする請求項11又は請求項12に記載の方法。   In the detection step, if any one of the defect forms of the joined foreign matter, the joined bubble, the foreign matter, the bright spot, the scratch, the crowded bright spot, and one thread is not detected and skipped, another defect form is selected. The method according to claim 11 or 12, wherein the detection is performed again.
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* Cited by examiner, † Cited by third party
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WO2022044390A1 (en) * 2020-08-31 2022-03-03 日東電工株式会社 Optical laminate inspection method
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