JP2015111081A - Alignment device, and thin film forming device - Google Patents

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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a device that improves the accuracy of alignment between a substrate and an alignment object to which alignment and vacuum processing are repeatedly performed.SOLUTION: An alignment device determines the optimal intensity of illumination for each alignment object 7 and the alignment distance to an imaging device 13, and stores in association with identification marks of the alignment objects 7. The alignment device determines and stores the intensity of illumination and alignment distance from the identification marks during the alignment; and photographs the object alignment marks with the imaging device 13 with the determined intensity of illumination and alignment distance to perform the alignment. The capability of the alignment in the optimal conditions improves the accuracy of the alignment.

Description

本発明は、位置合装置の技術分野にかかり、特に、基板と位置合せする位置合対象物を繰り返し使用する位置合装置と、その位置合装置が設けられた薄膜形成装置に関する。   The present invention relates to a technical field of an alignment apparatus, and more particularly to an alignment apparatus that repeatedly uses an alignment object to be aligned with a substrate and a thin film forming apparatus provided with the alignment apparatus.

複数の搬送トレイにそれぞれ基板を配置し、搬送トレイを搬送して基板表面に薄膜を形成するインライン方式では、基板と搬送トレイとを位置合せする際に、照明装置で搬送トレイやマスクと基板とを照明し、撮像装置でアラインメントマークを撮像し、画像解析によって基板と搬送トレイやマスクとの間の相対的な位置合せが行われている。   In the in-line method in which a substrate is arranged on each of a plurality of transfer trays and a thin film is formed on the surface of the substrate by transferring the transfer tray, when aligning the substrate and the transfer tray, the lighting device uses the transfer tray, mask, and substrate. The alignment mark is imaged by an imaging device, and relative alignment between the substrate and the transfer tray or mask is performed by image analysis.

しかしながら、搬送トレイやマスクは繰り返し使用されるため、表面粗さや表面の色等の表面状態が、搬送トレイやマスク毎に異なってしまう。
また、搬送トレイやマスク毎に、厚さや歪み方等の作成時の機械的精度が異なってしまう。
However, since the transport tray and the mask are repeatedly used, the surface condition such as the surface roughness and the surface color is different for each transport tray and mask.
In addition, the mechanical accuracy at the time of creating the thickness, distortion method, and the like differs for each transport tray and mask.

そのため、搬送トレイやマスクを撮像装置によって観察したときに位置、高さ、マスクの見え方、明るさが違うため、撮像装置によって得られる画像の鮮明さが異なり、搬送トレイやマスク毎に、位置合精度が異なってしまう。   For this reason, the position, height, mask appearance, and brightness are different when the transport tray or mask is observed with the imaging device, so that the sharpness of the image obtained by the imaging device is different. The accuracy will be different.

下記引用特許文献のように、位置合せの際に、照度や距離を測定し、基準値となるように制御する技術は見られるが、位置合せの度に照度や距離を測定することは処理時間が長くなり、望ましいものと言うことはできない。
搬送トレイやマスク等、基板との間で位置合せが繰り返し行われる位置合対象物と基板との位置合せを精度良く行うことができる技術が求められている。
As in the following cited patent document, there is a technique for measuring the illuminance and distance at the time of alignment and controlling it to be a reference value, but measuring the illuminance and distance at each alignment is a processing time. Cannot be said to be desirable.
There is a need for a technique capable of accurately performing alignment between an alignment target object such as a transfer tray and a mask, which is repeatedly aligned with the substrate, and the substrate.

特開2010−25669号公報JP 2010-25669 A

本発明は、上記従来技術の課題を解決するために創作されたものであり、位置合せと真空処理とが繰り返し行われる位置合対象物と基板との位置合せ精度を向上させる技術を提供する。   The present invention was created to solve the above-described problems of the prior art, and provides a technique for improving the alignment accuracy between an alignment object and a substrate in which alignment and vacuum processing are repeatedly performed.

上記課題を解決するために、本発明は、基板アラインメントマークが設けられた基板と、対象物アラインメントマークが設けられた位置合対象物とを位置合せする位置合せ工程を行う位置合装置であって、各前記位置合対象物には、前記位置合対象物と一対一に対応した識別標識がそれぞれ設けられており、当該位置合装置は、前記位置合装置に配置された前記基板の前記基板アラインメントマークと、複数の前記位置合対象物の中から前記位置合装置に配置された前記位置合対象物の前記対象物アラインメントマークとを撮像する撮像装置と、撮像された前記基板アラインメントマークの画像である基板マーク像と、撮像された前記対象物アラインメントマークの画像である対象物マーク像との間の相対位置から、前記基板と前記位置合対象物とを相対的に移動させて前記位置合せ工程を行う制御装置と、前記位置合せ工程の際に前記対象物アラインメントマークを照明する照明装置と、前記識別標識を検出する検出装置と、を有し、予め、前記照明装置が発光して前記対象物アラインメントマークを照明して前記位置合せ工程を行う際に、前記位置合対象物が前記照明装置によって照明されるべき照明強度の値が前記位置合対象物毎に求められ、前記識別標識から、前記識別標識に対応した前記照明強度が求められる照明関係が設けられており、前記制御装置は、前記位置合せ工程を行う前に、前記位置合せ工程が行われる前記位置合対象物の前記識別標識を検出し、検出した前記識別標識から前記照明強度を求め、求めた前記照明強度で前記照明装置を発光させて、前記位置合せ工程を行うように構成された位置合装置である。
本発明は、予め、前記位置合せ工程を行うときに、前記撮像装置と前記位置合対象物とが離間すべき距離である位置合距離の大きさが、前記位置合対象物毎に求められ、前記識別標識から、前記識別標識に対応した前記位置合距離を求められる距離関係が設けられており、前記制御装置は、前記位置合せ工程を行う前に、検出された前記識別標識から前記位置合距離を求め、前記撮像装置と前記位置合対象物とを求められた前記位置合距離離間させて前記位置合せ工程を行うように構成された位置合装置である。
本発明は、基板アラインメントマークが設けられた基板と、対象物アラインメントマークが設けられた位置合対象物とを位置合せする位置合せ工程を行う位置合装置であって、各前記位置合対象物には、前記位置合対象物と一対一に対応した識別標識がそれぞれ設けられており、当該位置合装置は、前記位置合装置に配置された前記基板の前記基板アラインメントマークと、複数の前記位置合対象物の中から前記位置合装置に配置された前記位置合対象物の前記対象物アラインメントマークとを撮像する撮像装置と、撮像された前記基板アラインメントマークの画像である基板マーク像と、撮像された前記対象物アラインメントマークの画像である対象物マーク像との間の相対位置から、前記基板と前記位置合対象物とを相対的に移動させて前記位置合せ工程を行う制御装置と、前記位置合せ工程の際に前記対象物アラインメントマークを照明する照明装置と、前記識別標識を検出する検出装置と、を有し、予め、前記位置合せ工程を行うときに、前記撮像装置と前記位置合対象物とが離間すべき距離である位置合距離の大きさが、前記位置合対象物毎に求められ、前記識別標識から、前記識別標識に対応した前記位置合距離を求められる距離関係が設けられており、前記制御装置は、前記位置合せ工程を行う前に、前記位置合せ工程が行われる前記位置合対象物の前記識別標識を検出し、検出した前記識別標識から前記位置合距離を求め、前記撮像装置と前記位置合対象物とを求めた前記位置合距離離間させて前記位置合せ工程を行うように構成された位置合装置である。
本発明は、前記識別標識は、前記撮像装置によって撮像できる位置に設けられ、前記検出装置は前記撮像装置で構成され、撮像された前記識別標識の画像である識別像から、前記識別標識が求められるように構成された位置合装置である。
本発明は、前記位置合対象物は、前記基板が配置されるトレイである位置合装置である。
本発明は、前記位置合対象物は、貫通孔から成る窓部を有し、前記基板の表面に配置されるマスクである位置合装置である。
本発明は、上記記載の位置合装置と、真空槽内に配置され、薄膜材料の微粒子を放出する成膜源と、前記位置合せ工程が行われた前記基板と前記位置合対象物とから成る搬送対象物を移動させる搬送装置とを有し、前記位置合対象物は前記成膜源と対面され、前記搬送対象物中の前記基板に前記微粒子が到達し、前記基板に薄膜が形成される薄膜形成工程が行われる薄膜形成装置である。
本発明は、前記位置合対象物を前記位置合装置に搬送する第二例の搬送装置を有し、前記薄膜形成工程が行われた前記搬送対象物は、前記基板と前記位置合対象物に分離され、分離された前記位置合対象物は、前記第二例の搬送装置によって前記位置合装置に戻され、前記薄膜形成工程が行われていない前記基板と、戻された前記位置合対象物とに、前記位置合せ工程が行われるように構成された薄膜形成装置である。
In order to solve the above problems, the present invention is an alignment apparatus that performs an alignment process for aligning a substrate provided with a substrate alignment mark and an alignment object provided with an object alignment mark. Each alignment object is provided with an identification mark corresponding to the alignment object on a one-to-one basis, and the alignment apparatus includes the substrate alignment of the substrate disposed in the alignment apparatus. An image pickup device for picking up an image of the mark and the object alignment mark of the alignment object arranged in the alignment apparatus from a plurality of the alignment objects; and an image of the imaged substrate alignment mark From the relative position between a certain board mark image and an object mark image which is an image of the imaged object alignment mark, the substrate and the alignment pair A control device that moves the object relative to perform the alignment step, an illumination device that illuminates the object alignment mark during the alignment step, and a detection device that detects the identification mark. In addition, when the alignment process is performed by illuminating the object alignment mark by emitting light from the illuminating device in advance, the value of the illumination intensity with which the alignment object is to be illuminated by the illuminating device is the position An illumination relationship is provided for each target object and the illumination intensity corresponding to the identification mark is obtained from the identification mark, and the control device performs the alignment before performing the alignment step. Detecting the identification mark of the positioning object in which a step is performed, obtaining the illumination intensity from the detected identification mark, causing the illumination device to emit light at the obtained illumination intensity, and A configuration position coupling device to perform the allowed steps.
In the present invention, when the alignment step is performed in advance, the size of the alignment distance, which is the distance between the imaging device and the alignment object, is obtained for each alignment object, A distance relationship for obtaining the alignment distance corresponding to the identification mark is provided from the identification mark, and the control device detects the alignment position from the detected identification mark before performing the alignment step. The positioning device is configured to perform the positioning step by obtaining a distance and separating the imaging device and the positioning target object from the obtained positioning distance.
The present invention is an alignment apparatus for performing an alignment process for aligning a substrate provided with a substrate alignment mark and an alignment object provided with an object alignment mark, and each alignment object Each of which is provided with a one-to-one identification mark corresponding to the alignment object, and the alignment apparatus includes the substrate alignment mark of the substrate disposed in the alignment apparatus, and a plurality of the alignment marks. An imaging device that images the object alignment mark of the alignment object arranged in the alignment apparatus from among the objects, and a substrate mark image that is an image of the captured substrate alignment mark Further, the substrate and the alignment target object are relatively moved from a relative position between the target mark image which is an image of the target object alignment mark. A control device that performs the alignment step, an illumination device that illuminates the object alignment mark during the alignment step, and a detection device that detects the identification mark, and the alignment step is performed in advance. When performing, the size of the alignment distance, which is the distance between the imaging device and the alignment object, is determined for each alignment object, and the identification mark corresponds to the identification mark. A distance relationship for obtaining the alignment distance is provided, and the control device detects and detects the identification mark of the alignment object on which the alignment step is performed before performing the alignment step. The alignment device is configured to perform the alignment step by determining the alignment distance from the identification mark and separating the alignment distance between the imaging device and the alignment object.
In the present invention, the identification mark is provided at a position where the imaging device can capture an image, the detection device is configured by the imaging device, and the identification mark is obtained from an identification image that is an image of the captured identification mark. It is the alignment apparatus comprised so that it might be.
The present invention is the alignment apparatus, wherein the alignment object is a tray on which the substrate is arranged.
The present invention is the alignment apparatus, wherein the alignment object is a mask having a window portion formed of a through hole and disposed on the surface of the substrate.
The present invention comprises the alignment apparatus described above, a film forming source that is disposed in a vacuum chamber and emits fine particles of a thin film material, the substrate on which the alignment step has been performed, and the alignment object. A transfer device that moves the transfer object, the alignment object faces the film forming source, the fine particles reach the substrate in the transfer object, and a thin film is formed on the substrate A thin film forming apparatus in which a thin film forming process is performed.
This invention has the conveyance apparatus of the 2nd example which conveys the said alignment object to the said alignment apparatus, and the said conveyance object in which the said thin film formation process was performed is the said board | substrate and the said alignment object. The alignment object separated and separated is returned to the alignment apparatus by the transfer device of the second example, and the substrate on which the thin film forming step has not been performed and the alignment object returned. And a thin film forming apparatus configured to perform the alignment step.

表面状態が異なる複数の位置合対象物について、鮮明な画像が得られる最適な発光強度を求めておき、位置合せの際に各位置合対象物に対応した照度で照明すると、撮像装置の撮像結果から各位置合対象物と基板とを正確に位置合せをすることができる。   For a plurality of alignment objects with different surface states, the optimum light emission intensity for obtaining a clear image is obtained, and when illuminating with the illuminance corresponding to each alignment object at the time of alignment, the imaging result of the imaging device Thus, each alignment object and the substrate can be accurately aligned.

また、厚みや歪み方等の機械的な状態が異なる複数の位置合対象物について、鮮明な画像が得られる位置合対象物と撮像装置との間の撮像位置を求めておき、位置合せの際に、各位置合対象物に対応された撮像位置で撮像すると、各位置合対象物と基板とを正確に位置合せをすることができる。   In addition, for a plurality of alignment objects having different mechanical states such as thickness and distortion, an imaging position between the alignment object and the imaging device from which a clear image can be obtained is obtained. In addition, if an image is captured at an imaging position corresponding to each positioning object, each positioning object and the substrate can be accurately aligned.

本発明の位置合装置と、薄膜形成装置を説明するための図The figure for demonstrating the alignment apparatus of this invention, and a thin film formation apparatus その薄膜形成装置の平面図Plan view of the thin film forming apparatus

図1、2の符号3は、本発明の薄膜形成装置を示している。
図1は内部を示す断面図、図2は真空槽間の接続を示す平面図である。
この薄膜形成装置3は、複数の真空槽111〜115を有している。
各真空槽111〜115には、真空排気装置42が接続されており、各真空槽111〜115の内部は真空雰囲気にされている。
この薄膜形成装置3の前段には、他の真空処理装置の真空槽11Aが配置されており、その前段の真空槽11Aの内部も真空雰囲気にされている。
Reference numeral 3 in FIGS. 1 and 2 represents a thin film forming apparatus of the present invention.
FIG. 1 is a sectional view showing the inside, and FIG. 2 is a plan view showing connections between vacuum chambers.
The thin film forming apparatus 3 has a plurality of vacuum chambers 11 1 to 11 5 .
Each vacuum chamber 11 1 to 11 5, the vacuum evacuation device 42 is connected, inside of each vacuum chamber 11 1 to 11 5 is in a vacuum atmosphere.
A vacuum tank 11A of another vacuum processing apparatus is disposed in the front stage of the thin film forming apparatus 3, and the inside of the vacuum tank 11A in the front stage is also in a vacuum atmosphere.

複数の真空槽111〜115は直列に接続されており、前段の真空槽11Aと、薄膜形成装置3の先頭の真空槽111との間には、ゲートバルブ41Aが設けられており、ゲートバルブ41Aを開け、前段の真空槽11Aの内部に配置された基板に、ゲートバルブ41Aを通過させて、薄膜形成装置3の先頭の真空槽111の内部に搬入する。 The plurality of vacuum chambers 11 1 to 11 5 are connected in series, and a gate valve 41A is provided between the preceding vacuum chamber 11A and the front vacuum chamber 11 1 of the thin film forming apparatus 3, The gate valve 41A is opened, and the gate valve 41A is passed through the substrate disposed inside the preceding vacuum chamber 11A, and carried into the front vacuum chamber 11 1 of the thin film forming apparatus 3.

先頭の真空槽111には、位置合装置28が設けられており、搬入された基板は、先ず、位置合装置28に配置される。
薄膜形成装置3の位置合装置28では、真空槽111の内部に、基板保持装置22が設けられており、搬入された基板は、基板保持装置22に配置される。図1の符号4は、基板保持装置22に配置された基板を示している。
The first vacuum chamber 111 is provided with an alignment device 28, and the substrate that has been loaded is first placed in the alignment device 28.
In the alignment device 28 of the thin film forming apparatus 3, a substrate holding device 22 is provided inside the vacuum chamber 11 1 , and the loaded substrate is placed on the substrate holding device 22. Reference numeral 4 in FIG. 1 indicates a substrate disposed on the substrate holding device 22.

先頭の真空槽111の内部又は外部には先頭の真空槽111の内部を照明する照明装置12が配置されている。ここでは、照明装置12は、先頭の真空槽111の内部に設けられている。
薄膜形成装置3には、基板4との間で位置合せがされる位置合対象物7が配置されている。
The head of the internal or external of the vacuum chamber 11 first illumination device 12 is arranged to illuminate the interior of the head of the vacuum chamber 11 1. Here, the illuminating device 12 is provided inside the top vacuum chamber 11 1 .
In the thin film forming apparatus 3, an alignment object 7 that is aligned with the substrate 4 is disposed.

薄膜形成装置3では、基板保持装置22の下方位置に、載置台24が配置されており、載置台24上には、基板4が配置される搬送トレイが配置されている。この薄膜形成装置3では、符号6が搬送トレイを示しており、基板保持装置22の上方位置に、マスク保持装置26が配置されており、マスク保持装置26上には、基板4にパターニングされた薄膜を形成するマスクが配置されている。この薄膜形成装置3では、マスクが位置合対象物7になっている。   In the thin film forming apparatus 3, a mounting table 24 is disposed below the substrate holding device 22, and a transport tray on which the substrate 4 is disposed is disposed on the mounting table 24. In this thin film forming apparatus 3, reference numeral 6 indicates a transport tray. A mask holding device 26 is disposed above the substrate holding device 22, and the substrate 4 is patterned on the mask holding device 26. A mask for forming a thin film is disposed. In the thin film forming apparatus 3, the mask is the alignment object 7.

薄膜形成装置3に用いられる位置合対象物7には、対象物アラインメントマークがそれぞれ設けられており、また、基板保持装置22に配置される基板4には、基板アラインメントマークが設けられている。
位置合装置28には、一台又は複数台の撮像装置(カメラ)13と、カメラ移動装置23とが設けられており、先頭の真空槽111の外部には、コンピュータ等の制御装置10が設けられている。
The alignment object 7 used in the thin film forming apparatus 3 is provided with an object alignment mark, and the substrate 4 arranged on the substrate holding device 22 is provided with a substrate alignment mark.
The positioning device 28 is provided with one or a plurality of imaging devices (cameras) 13 and a camera moving device 23, and a control device 10 such as a computer is provided outside the top vacuum chamber 11 1. Is provided.

撮像装置13は、カメラ移動装置23に取り付けられており、撮像装置13はカメラ移動装置23の動作によって、先頭の真空槽111に対して移動できるようにされている。
撮像装置13とカメラ移動装置23とは、制御装置10に接続されており、カメラ移動装置23は、制御装置10から入力される信号によって、撮像装置13を移動させ、撮像装置13は、移動された位置で撮像された画像を制御装置10に出力するようにされている。
The imaging device 13 is attached to a camera moving device 23, and the imaging device 13 can be moved relative to the leading vacuum chamber 11 1 by the operation of the camera moving device 23.
The imaging device 13 and the camera moving device 23 are connected to the control device 10, and the camera moving device 23 moves the imaging device 13 according to a signal input from the control device 10, and the imaging device 13 is moved. The image captured at the selected position is output to the control device 10.

ここでは、撮像装置13は先頭の真空槽111の外部に配置されており、撮像装置13は、カメラ移動装置23によって移動された位置で、先頭の真空槽111に設けられた透明な窓18を介して、位置合装置28に配置された位置合対象物7と基板4とに設けられた対象物アラインメントマークと基板アラインメントマークとを撮像できるように配置されている。 Here, the imaging device 13 is disposed outside the leading vacuum chamber 11 1 , and the imaging device 13 is a transparent window provided in the leading vacuum chamber 11 1 at a position moved by the camera moving device 23. 18, the alignment object 7 provided in the alignment device 28 and the substrate alignment mark provided on the substrate 4 and the substrate alignment mark are arranged so as to be imaged.

撮像装置13によって撮像される画像には、基板4のうちの基板アラインメントマークを含む部分と、位置合対象物7の対象物アラインメントマークを含む部分とが含まれており、撮像された画像には、対象物アラインメントマークの画像である対象物マーク像と、基板アラインメントマークの画像である基板マーク像とが含まれている。   The image captured by the imaging device 13 includes a portion of the substrate 4 that includes the substrate alignment mark and a portion of the alignment target object 7 that includes the object alignment mark, and the captured image includes The object mark image, which is an image of the object alignment mark, and the substrate mark image, which is an image of the substrate alignment mark, are included.

制御装置10に、撮像装置13から出力された対象物マーク像と基板マーク像とを含む画像が入力されると、制御装置10は、撮像した際の実際の位置合対象物7と基板4との間の相対位置を求める。
制御装置10には、基板4と位置合対象物7との間の予め設定された相対位置である基準位置が記憶されており、求められた相対位置と記憶された基準位置とを比較し、基準位置に対する相対位置の誤差角度、誤差量、誤差方向等の位置誤差を求める。
When an image including the object mark image and the substrate mark image output from the imaging device 13 is input to the control device 10, the control device 10 detects the actual alignment target object 7 and the substrate 4 when imaged. Find the relative position between.
The control device 10 stores a reference position that is a preset relative position between the substrate 4 and the alignment object 7, and compares the obtained relative position with the stored reference position. A position error such as an error angle, an error amount, and an error direction of a relative position with respect to the reference position is obtained.

位置合対象物7と、基板4との間の相対位置は変更できるように構成されている。
位置合装置28では、マスク保持装置26が位置合対象物(マスク)7を水平面内での平行移動及び回転移動と、上下方向での昇降移動とをさせるようにされており、位置合対象物7と基板4との間の水平面内での相対関係と、上下方向の距離とを変更できるようにされている。
The relative position between the alignment object 7 and the substrate 4 can be changed.
In the alignment device 28, the mask holding device 26 is configured to cause the alignment object (mask) 7 to translate and rotate in a horizontal plane and to move up and down in the vertical direction. The relative relationship in the horizontal plane between the substrate 7 and the substrate 4 and the distance in the vertical direction can be changed.

制御装置10は、位置合対象物7と基板4との間を離間させた状態で、求めた位置誤差を無くすように、相対移動装置によって位置合対象物7と基板4とを相対移動させ、位置合せを行う。
図1の符号29は、相対移動装置を模式的に示しており、薄膜形成装置3では、相対移動装置29は、マスク保持装置26を移動させることで、マスクである位置合対象物7を水平面内で直線移動と回転移動をさせ、位置合対象物7を先頭の真空室111内で移動させている。
The control device 10 relatively moves the alignment object 7 and the substrate 4 by the relative movement device so as to eliminate the obtained position error in a state where the alignment object 7 and the substrate 4 are separated from each other. Perform alignment.
Reference numeral 29 in FIG. 1 schematically shows a relative movement device. In the thin film forming apparatus 3, the relative movement device 29 moves the mask holding device 26 to move the alignment object 7, which is a mask, to the horizontal plane. by rotational movement and linear movement in the inner, it is moved to the position if the object 7 at the beginning of the vacuum chamber 11 inside 1.

各真空槽111〜115の間には、ゲートバルブ411〜414が設けられており、真空槽111〜115間で位置合対象物7を移動させる際には、ゲートバルブ411〜414は空けられる。
位置合せ後、基板4と位置合対象物7とは二番目以降の真空槽112〜115を順番に移動して、基板4や、位置合対象物7の表面に薄膜が形成された後、位置合対象物7は、形成された薄膜が剥離されない状態で位置合装置28に戻され、再度の位置合せが行われる。
Between each vacuum chamber 11 1 to 11 5, a gate valve 41 1-41 4 is provided, when moving the position if the object 7 between the vacuum chamber 11 1 to 11 5, a gate valve 41 1-41 4 is emptied.
After alignment, the substrate 4 and the alignment object 7 move in order through the second and subsequent vacuum chambers 11 2 to 11 5 , and a thin film is formed on the surface of the substrate 4 and the alignment object 7. The alignment object 7 is returned to the alignment device 28 in a state where the formed thin film is not peeled off, and alignment is performed again.

このように位置合せと移動がされる基板4は、先頭の真空槽111の外部から一枚ずつ搬入される。それに対し、位置合対象物7は、真空槽111〜115以外の場所に複数個準備されており、撮像装置13によって得られる対象物マーク像の画像は、鮮明度が位置合対象物7毎に異なる。 The substrates 4 thus aligned and moved are carried one by one from the outside of the top vacuum chamber 11 1 . On the other hand, a plurality of alignment objects 7 are prepared in places other than the vacuum chambers 11 1 to 11 5 , and the image of the object mark image obtained by the imaging device 13 has a definition of the alignment object 7. Different for each.

そのため、各位置合対象物7毎に撮像装置13によって鮮明な対象物マーク像が得られる条件を求めるために、先ず、各位置合対象物7は、基板4との間で位置合せが行われる前に、各位置合対象物7は位置合装置28に配置され、位置合対象物(マスク)7は、基板4との位置合せの際に配置されるマスク保持装置26に配置される。   Therefore, in order to obtain conditions for obtaining a clear object mark image by the imaging device 13 for each alignment object 7, first, each alignment object 7 is aligned with the substrate 4. Before, each alignment object 7 is arranged in the alignment device 28, and the alignment object (mask) 7 is arranged in the mask holding device 26 arranged in alignment with the substrate 4.

そして、その状態で照明装置12に通電して発光させ、生成された照射光によって位置合対象物7を照明しながら、撮像装置13によって対象物アラインメントマークを撮像し、対象物マーク像を得る。   In this state, the illumination device 12 is energized to emit light, and the object alignment mark is imaged by the imaging device 13 while illuminating the alignment object 7 with the generated irradiation light, thereby obtaining an object mark image.

対象物マーク像の鮮明さは、位置合対象物7が照明装置12によって照明される強さによって変化するため、制御装置10は、照明装置12によって位置合対象物7が照明される光の強さである照明強度を変化させて各位置合対象物7を撮像し、対象物マーク像が鮮明に得られるときの照明装置12による光の強さである照明強度を、各位置合対象物7毎に求める。ここでは、対象物マーク像が最も鮮明に得られたときの照明強度を求める。   Since the sharpness of the object mark image varies depending on the intensity with which the alignment object 7 is illuminated by the illumination device 12, the control device 10 determines the intensity of the light with which the alignment object 7 is illuminated by the illumination device 12. Each alignment object 7 is imaged by changing the illumination intensity, and the illumination intensity, which is the intensity of light by the illuminating device 12 when the object mark image is clearly obtained, is set to each alignment object 7. Ask every time. Here, the illumination intensity when the object mark image is most clearly obtained is obtained.

照明装置12は、通電量によって発光強度を変更することで、照明強度を変更できるときは、照明強度に代え、通電量を照明強度として記憶してもよいし、照明装置12に設けられたシャッター等によって、照明装置12の発光強度を一定にしたまま、位置合対象物7の照明強度が変更できるときは、照明強度に代え、シャッターの開度等を照明強度として記憶してもよい。   When the illumination intensity can be changed by changing the light emission intensity according to the energization amount, the illumination device 12 may store the energization amount as the illumination intensity instead of the illumination intensity, or a shutter provided in the illumination device 12 For example, when the illumination intensity of the alignment object 7 can be changed while the emission intensity of the illumination device 12 is kept constant, the opening degree of the shutter or the like may be stored as the illumination intensity instead of the illumination intensity.

各位置合対象物7には、位置合対象物7毎に異なる識別標識が撮像装置13によって撮像できる位置に設けられている。
各位置合対象物7毎に、照明強度を求める際には、照明強度を求める位置合対象物7の識別標識も撮像され、撮像された識別標識の画像である識別像が求められている。
Each alignment object 7 is provided with a different identification mark for each alignment object 7 at a position where it can be imaged by the imaging device 13.
When obtaining the illumination intensity for each alignment object 7, the identification mark of the alignment object 7 for which the illumination intensity is obtained is also imaged, and an identification image that is an image of the imaged identification mark is obtained.

制御装置10には、記憶装置17が接続されており、位置合対象物7毎に求められた照明強度は、識別像から得られた識別標識と対応付け、識別標識から、識別標識で特定される位置合対象物7の照明強度を求める照明関係を作成して、記憶装置17に記憶させる。   A storage device 17 is connected to the control device 10, and the illumination intensity obtained for each positioning object 7 is associated with the identification mark obtained from the identification image, and is identified by the identification mark from the identification mark. An illumination relationship for obtaining the illumination intensity of the alignment object 7 is created and stored in the storage device 17.

また、対象物マーク像の鮮明さは、撮像される際の位置合対象物7と撮像装置13との間の距離によって変化する。
位置合装置28は、撮像装置13と、位置合対象物7との間の上下方向の距離を、移動装置によって変更できるように構成されており、ここではカメラ移動装置23が、撮像装置13と位置合対象物7との間の距離を変更する移動装置となり、対象物アラインメントマークを撮像する際に、撮像装置13と位置合対象物7との間の距離を変更することができる。
Further, the sharpness of the object mark image changes depending on the distance between the alignment object 7 and the imaging device 13 when the object is imaged.
The positioning device 28 is configured so that the distance in the vertical direction between the imaging device 13 and the positioning object 7 can be changed by the moving device. Here, the camera moving device 23 is connected to the imaging device 13. The moving device changes the distance between the alignment object 7 and the distance between the imaging device 13 and the alignment object 7 can be changed when imaging the object alignment mark.

各位置合対象物7毎に撮像装置13によって鮮明な対象物マーク像が得られる条件を求めるために、位置合装置28に配置された位置合対象物7と撮像装置13と間の距離を変更しながら撮像装置13によって対象物アラインメントマークを撮像し、鮮明な対象物マーク像が得られたときの距離を位置合距離として求める。   In order to obtain a condition for obtaining a clear object mark image by the imaging device 13 for each positioning object 7, the distance between the positioning object 7 arranged in the positioning device 28 and the imaging device 13 is changed. Then, the object alignment mark is imaged by the imaging device 13, and the distance when a clear object mark image is obtained is obtained as the alignment distance.

ここでは、最も鮮明な対象物マーク像が得られたときの距離を位置合距離とし、識別像から得られた識別標識に対応付け、識別標識から、識別標識で特定される位置合対象物7の位置合距離を求められる距離関係を作成して記憶装置17に記憶させる。   Here, the distance when the clearest object mark image is obtained is defined as the alignment distance, and is associated with the identification mark obtained from the identification image, and the alignment object 7 specified by the identification mark is identified from the identification mark. The distance relationship for obtaining the position alignment distance is created and stored in the storage device 17.

載置台24を上下方向に移動可能に構成し、載置台24を移動装置として、基板4を位置合対象物7とし、移動装置によって位置合対象物7を上下方向に移動させ、撮像装置13と位置合対象物7との間の距離を変更し、位置合距離を求めるようにしてもよい。   The mounting table 24 is configured to be movable in the vertical direction, the mounting table 24 is used as a moving device, the substrate 4 is used as a positioning object 7, and the positioning device 7 is moved in the vertical direction by the moving device. The distance to the alignment object 7 may be changed to obtain the alignment distance.

各位置合対象物7に対して、照明強度と位置合距離の両方を求めるときには、先ず、照明強度を求め、次に、その照明強度で各位置合対象物7が照明されるようにして、位置合距離を求めることができるし、先に位置合距離を求めた後、照明強度を求めてもよい。   When determining both the illumination intensity and the alignment distance for each alignment object 7, first determine the illumination intensity, and then illuminate each alignment object 7 with the illumination intensity, The alignment distance can be obtained, or the illumination intensity can be obtained after obtaining the alignment distance first.

また、先ず、設定された位置合距離で照明強度を求めた後、求めた照明強度で位置合距離を求めることと、求めた位置合距離で照明強度を求めることとを繰り返し行って、正確な照明強度と位置合距離を求めることができる。   First, after obtaining the illumination intensity at the set position distance, repeatedly obtaining the position distance with the obtained illumination intensity and obtaining the illumination intensity at the obtained position distance, The illumination intensity and the alignment distance can be obtained.

この場合、先ず、設定された照明強度で位置合距離を求めた後、求めた位置合距離で照明強度を求めることと、求めた照明強度で位置合距離を求めることとを繰り返し行って正確な照明強度と位置合距離を求めることができる。   In this case, first, after obtaining the alignment distance with the set illumination intensity, the illumination intensity is obtained with the obtained alignment distance, and the alignment distance is obtained with the obtained illumination intensity to be accurate. The illumination intensity and the alignment distance can be obtained.

基板4へ薄膜を形成する際には、先ず、先頭の真空槽111内に搬入された基板4と、先頭の真空槽111内に位置する位置合対象物7を位置合装置28に配置し、撮像装置13によって対象物マーク像を求め、求めた照明強度で位置合対象物7が照明されるように照明装置12を設定し、撮像装置13と位置合対象物7との間の距離を位置合距離にし、撮像装置13で基板アラインメントマークと対象物アラインメントマークとを撮像し、距離誤差が所定値よりも小さくなるように、基板4と位置合対象物7との間の位置合せを行う。 In forming a thin film to the substrate 4 is first placed with the substrate 4 carried into the beginning of the vacuum chamber 11 1, the position if the object 7 located at the top of the vacuum chamber 11 1 to a position coupling device 28 Then, the object mark image is obtained by the imaging device 13, the illumination device 12 is set so that the alignment object 7 is illuminated with the obtained illumination intensity, and the distance between the imaging device 13 and the alignment object 7 is set. , And the substrate alignment mark and the object alignment mark are imaged by the imaging device 13, and the alignment between the substrate 4 and the alignment object 7 is performed so that the distance error is smaller than a predetermined value. Do.

位置合せの際には、基板4の下方に位置する載置台24上に、搬送トレイ6が配置されており、位置合対象物7であるマスクと基板4とが位置合せされると、水平方向の相対位置を維持しながら密着され、搬送トレイ6に配置され、反転室である二番目の真空槽112に移動されて、互いに固定されて搬送対象物36が構成された後、上下が反転され、成膜室である三番目の真空槽113に移動され、搬送装置43上に配置される。符号37、4Aは、反転されて搬送装置43に配置された搬送対象物と基板とを示している。 At the time of alignment, the transfer tray 6 is disposed on the mounting table 24 positioned below the substrate 4. When the mask which is the alignment object 7 and the substrate 4 are aligned, the horizontal direction Are placed on the transport tray 6 and moved to the second vacuum chamber 112 which is a reversing chamber, and fixed to each other to form the transport object 36, and then upside down. Then, it is moved to the third vacuum chamber 11 3 , which is a film forming chamber, and placed on the transfer device 43. Reference numerals 37 and 4 </ b> A indicate a conveyance object and a substrate that are reversed and arranged in the conveyance device 43.

この状態の搬送対象物37は、位置合対象物7が下端に位置し、基板4Aと搬送トレイ6とが、この順序で位置合対象物7上に配置されており、搬送対象物37は搬送装置43によって搬送され、位置合対象物7が成膜源25と対面すると、薄膜材料微粒子は、位置合対象物7の開口を通過し、基板4A表面にパターニングされた薄膜を形成する。   The conveyance object 37 in this state is such that the alignment object 7 is located at the lower end, the substrate 4A and the conveyance tray 6 are arranged on the alignment object 7 in this order, and the conveyance object 37 is conveyed When the alignment object 7 is conveyed by the apparatus 43 and faces the film forming source 25, the thin film material fine particles pass through the opening of the alignment object 7 and form a patterned thin film on the surface of the substrate 4A.

次いで、搬送対象物37は、出口側反転室である四番目の真空槽114内に搬入され、反転されて分離され、分離された基板4Bは五番目の真空槽115から次段の真空槽11Bに移動される。 Then, the transport object 37 is carried into the fourth vacuum chamber 11 4 is an outlet-side reversing chamber is separated is inverted, the separated substrate 4B is fifth next stage of the vacuum from the vacuum chamber 11 5 It is moved to the tank 11B.

先頭〜五番目の真空槽111〜115の側方には、細長の搬送室である六番目の真空槽116が配置されており、六番目の真空槽116の一端と、他端は、ゲートバルブ415、416によって、五番目の真空槽115と先頭の真空槽111にそれぞれ接続されている。
このゲートバルブ415、416は開けられており、分離された位置合対象物7と搬送トレイ6は、六番目の真空槽116内に搬入され、移動される。
On the side of the top-fifth vacuum chamber 11 1 to 11 5 are arranged sixth vacuum chamber 11 6 is a transfer chamber elongate, one end of the sixth vacuum chamber 11 6, the other end Are connected to the fifth vacuum chamber 11 5 and the first vacuum chamber 11 1 by gate valves 41 5 and 41 6 , respectively.
The gate valves 41 5 and 41 6 are opened, and the separated positioning object 7 and the transport tray 6 are carried into the sixth vacuum chamber 11 6 and moved.

六番目の真空槽116の途中には、ゲートバルブ417を介してマスクストッカー室45が接続されており、そのゲートバルブ417は開けた状態で、六番目の真空槽116内を搬送中の位置合対象物7の一部をマスクストッカー室45に搬入させると共に、表面が洗浄された位置合対象物7をマスクストッカー室45から六番目の真空槽116内に搬入し、六番目の真空槽116内に配置された第二の搬送装置によって搬送トレイ6と共に、位置合対象物7を六番目の真空槽116の内部を移動させ、先頭の真空槽111内に戻して搬入すると、位置合対象物7と搬送トレイ6とは、位置合装置28に戻され、位置合装置28に配置される。 In the middle of the sixth vacuum chamber 11 6, is connected to the mask stocker chamber 45 through the gate valve 41 7, while the gate valve 41 7 to drilled, conveying the sixth vacuum chamber 11 6 the location portion of the case the object 7 in conjunction is transported to the mask stocker chamber 45, the position if the object 7 which surface is cleaned carried from the mask stocker chamber 45 sixth vacuum chamber 11 6, sixth together with the conveying tray 6 by the second conveying device disposed in the vacuum chamber 11 in 6 of the position if the object 7 is moved inside the sixth vacuum chamber 11 6, back to the beginning of the vacuum chamber 11 in 1 When carried in, the alignment object 7 and the transport tray 6 are returned to the alignment device 28 and arranged in the alignment device 28.

位置合装置28に配置された位置合対象物7は、識別標識が撮像され、識別像から求められた識別標識が照明関係と位置関係とに照合され、照明強度と位置合距離とが求められ、搬入された基板4との間で位置合せが行われる。
このように、薄膜形成装置3の位置合装置28では、最適な照明強度と位置合距離によって位置合対象物7の対象物アラインメントマークが撮像されるから、鮮明な対象物マーク像が得られる。
The positioning object 7 arranged in the positioning device 28 is imaged with an identification mark, the identification mark obtained from the identification image is collated with the lighting relationship and the positional relationship, and the illumination intensity and the positioning distance are obtained. Alignment is performed with the loaded substrate 4.
As described above, the alignment device 28 of the thin film forming apparatus 3 captures the object alignment mark of the alignment object 7 with the optimum illumination intensity and alignment distance, so that a clear object mark image is obtained.

制御装置10は、撮像装置13から入力された対象物マーク像と基板マーク像との相対的位置から、撮像した際の実際の基板4と位置合対象物7との相対的位置と、予め設定された基板4と位置合対象物7との相対的位置との間の誤差角度、誤差量、誤差方向等の位置合誤差を正確に求めることができる。   The control device 10 sets in advance a relative position between the actual substrate 4 and the alignment target object 7 when the image is taken from the relative position between the object mark image and the substrate mark image input from the imaging device 13. It is possible to accurately obtain a positioning error such as an error angle, an error amount, an error direction, etc. between the relative position of the substrate 4 and the positioning object 7.

なお、上記薄膜形成装置3では、撮像装置13によって識別標識の形状を撮像して得られた識別像から、識別標識を検出して位置合対象物を区別していたが、異なる磁気パターンによって識別標識を構成させ、識別標識の磁気パターンを認識して、識別標識を検出すること等、識別標識を撮像せずに、識別標識を検出することもできる。但し、コストの面からは、識別像から識別標識を検出することが望ましい。
なお、上記例では、マスクを位置合対象物7としたが、搬送トレイ6を、位置合対象物7として、基板4との間で位置合せを行う装置も本発明に含まれる。
In the thin film forming apparatus 3, the identification mark is detected from the identification image obtained by imaging the shape of the identification mark by the imaging device 13, and the alignment target is distinguished. It is also possible to detect the identification mark without imaging the identification mark, for example, by configuring the label, recognizing the magnetic pattern of the identification mark, and detecting the identification mark. However, in terms of cost, it is desirable to detect the identification mark from the identification image.
In the above example, the alignment target 7 is used as the mask. However, an apparatus for positioning the conveyance tray 6 with the substrate 4 as the alignment target 7 is also included in the present invention.

3‥‥薄膜形成装置
4、4A、4B‥‥基板
7‥‥位置合対象物(マスク)
6‥‥搬送トレイ
10‥‥制御装置
111〜116‥‥真空槽
12‥‥照明装置
13‥‥撮像装置
17‥‥記憶装置
25‥‥成膜源
28‥‥位置合装置
29‥‥相対移動装置
3. Thin film forming apparatus 4, 4A, 4B ... Substrate 7 ... Positioning object (mask)
6 ... Tray 10 ... Control device 11 1 to 11 6 ... Vacuum chamber 12 ... Illumination device 13 ... Imaging device 17 ... Storage device 25 ... Deposition source 28 ... Positioning device 29 ... Relative Mobile device

Claims (8)

基板アラインメントマークが設けられた基板と、対象物アラインメントマークが設けられた位置合対象物とを位置合せする位置合せ工程を行う位置合装置であって、
各前記位置合対象物には、前記位置合対象物と一対一に対応した識別標識がそれぞれ設けられており、
当該位置合装置は、
前記位置合装置に配置された前記基板の前記基板アラインメントマークと、複数の前記位置合対象物の中から前記位置合装置に配置された前記位置合対象物の前記対象物アラインメントマークとを撮像する撮像装置と、
撮像された前記基板アラインメントマークの画像である基板マーク像と、撮像された前記対象物アラインメントマークの画像である対象物マーク像との間の相対位置から、前記基板と前記位置合対象物とを相対的に移動させて前記位置合せ工程を行う制御装置と、
前記位置合せ工程の際に前記対象物アラインメントマークを照明する照明装置と、
前記識別標識を検出する検出装置と、
を有し、
予め、前記照明装置が発光して前記対象物アラインメントマークを照明して前記位置合せ工程を行う際に、前記位置合対象物が前記照明装置によって照明されるべき照明強度の値が前記位置合対象物毎に求められ、前記識別標識から、前記識別標識に対応した前記照明強度が求められる照明関係が設けられており、
前記制御装置は、前記位置合せ工程を行う前に、前記位置合せ工程が行われる前記位置合対象物の前記識別標識を検出し、検出した前記識別標識から前記照明強度を求め、
求めた前記照明強度で前記照明装置を発光させて、前記位置合せ工程を行うように構成された位置合装置。
An alignment apparatus for performing an alignment process for aligning a substrate provided with a substrate alignment mark and an alignment target provided with an object alignment mark,
Each alignment object is provided with an identification mark corresponding to the alignment object on a one-to-one basis,
The positioning device is
Imaging the substrate alignment mark of the substrate arranged in the alignment apparatus and the object alignment mark of the alignment object arranged in the alignment apparatus from among the plurality of alignment objects. An imaging device;
From the relative position between the substrate mark image that is the image of the imaged substrate alignment mark and the object mark image that is the image of the imaged object alignment mark, the substrate and the alignment object are A control device for performing the positioning step by relatively moving;
An illumination device that illuminates the object alignment mark during the alignment step;
A detection device for detecting the identification mark;
Have
When the alignment device is preliminarily illuminated to illuminate the object alignment mark and perform the alignment step, the value of the illumination intensity with which the alignment object is to be illuminated by the illumination device is the alignment object. It is obtained for each object, and from the identification mark, an illumination relationship is provided in which the illumination intensity corresponding to the identification mark is obtained,
The control device detects the identification mark of the alignment object on which the alignment step is performed before performing the alignment step, and determines the illumination intensity from the detected identification mark,
An alignment apparatus configured to perform the alignment step by causing the illumination apparatus to emit light at the determined illumination intensity.
予め、前記位置合せ工程を行うときに、前記撮像装置と前記位置合対象物とが離間すべき距離である位置合距離の大きさが、前記位置合対象物毎に求められ、前記識別標識から、前記識別標識に対応した前記位置合距離を求められる距離関係が設けられており、
前記制御装置は、前記位置合せ工程を行う前に、検出された前記識別標識から前記位置合距離を求め、前記撮像装置と前記位置合対象物とを求められた前記位置合距離離間させて前記位置合せ工程を行うように構成された請求項1記載の位置合装置。
In advance, when performing the alignment step, the size of the alignment distance, which is the distance between the imaging device and the alignment object, is determined for each alignment object, and is determined from the identification mark. , A distance relationship for obtaining the positional distance corresponding to the identification mark is provided,
The controller determines the alignment distance from the detected identification mark before performing the alignment step, and separates the imaging apparatus and the alignment object from the determined alignment distance to determine the alignment distance. The alignment apparatus according to claim 1, wherein the alignment apparatus is configured to perform an alignment process.
基板アラインメントマークが設けられた基板と、対象物アラインメントマークが設けられた位置合対象物とを位置合せする位置合せ工程を行う位置合装置であって、
各前記位置合対象物には、前記位置合対象物と一対一に対応した識別標識がそれぞれ設けられており、
当該位置合装置は、
前記位置合装置に配置された前記基板の前記基板アラインメントマークと、複数の前記位置合対象物の中から前記位置合装置に配置された前記位置合対象物の前記対象物アラインメントマークとを撮像する撮像装置と、
撮像された前記基板アラインメントマークの画像である基板マーク像と、撮像された前記対象物アラインメントマークの画像である対象物マーク像との間の相対位置から、前記基板と前記位置合対象物とを相対的に移動させて前記位置合せ工程を行う制御装置と、
前記位置合せ工程の際に前記対象物アラインメントマークを照明する照明装置と、
前記識別標識を検出する検出装置と、
を有し、
予め、前記位置合せ工程を行うときに、前記撮像装置と前記位置合対象物とが離間すべき距離である位置合距離の大きさが、前記位置合対象物毎に求められ、前記識別標識から、前記識別標識に対応した前記位置合距離を求められる距離関係が設けられており、
前記制御装置は、前記位置合せ工程を行う前に、前記位置合せ工程が行われる前記位置合対象物の前記識別標識を検出し、検出した前記識別標識から前記位置合距離を求め、
前記撮像装置と前記位置合対象物とを求めた前記位置合距離離間させて前記位置合せ工程を行うように構成された位置合装置。
An alignment apparatus for performing an alignment process for aligning a substrate provided with a substrate alignment mark and an alignment target provided with an object alignment mark,
Each alignment object is provided with an identification mark corresponding to the alignment object on a one-to-one basis,
The positioning device is
Imaging the substrate alignment mark of the substrate arranged in the alignment apparatus and the object alignment mark of the alignment object arranged in the alignment apparatus from among the plurality of alignment objects. An imaging device;
From the relative position between the substrate mark image that is the image of the imaged substrate alignment mark and the object mark image that is the image of the imaged object alignment mark, the substrate and the alignment object are A control device for performing the positioning step by relatively moving;
An illumination device that illuminates the object alignment mark during the alignment step;
A detection device for detecting the identification mark;
Have
In advance, when performing the alignment step, the size of the alignment distance, which is the distance between the imaging device and the alignment object, is determined for each alignment object, and is determined from the identification mark. , A distance relationship for obtaining the positional distance corresponding to the identification mark is provided,
The control device detects the identification mark of the alignment object on which the alignment step is performed before performing the alignment step, and obtains the alignment distance from the detected identification mark,
An alignment apparatus configured to perform the alignment step by separating the alignment distance obtained for the imaging device and the alignment object.
前記識別標識は、前記撮像装置によって撮像できる位置に設けられ、
前記検出装置は前記撮像装置で構成され、
撮像された前記識別標識の画像である識別像から、前記識別標識が求められるように構成された請求項1乃至請求項3のいずれか1項記載の位置合装置。
The identification mark is provided at a position where it can be imaged by the imaging device,
The detection device includes the imaging device,
The positioning device according to any one of claims 1 to 3, wherein the identification mark is obtained from an identification image that is an image of the imaged identification mark.
前記位置合対象物は、前記基板が配置されるトレイである請求項1乃至請求項4のいずれか1項記載の位置合装置。   The alignment apparatus according to any one of claims 1 to 4, wherein the alignment object is a tray on which the substrate is arranged. 前記位置合対象物は、貫通孔から成る窓部を有し、前記基板の表面に配置されるマスクである請求項1乃至請求項4のいずれか1項記載の位置合装置。   The alignment apparatus according to any one of claims 1 to 4, wherein the alignment object is a mask having a window portion including a through hole and disposed on a surface of the substrate. 請求項1乃至請求項6のいずれか1項記載の位置合装置と、
真空槽内に配置され、薄膜材料の微粒子を放出する成膜源と、
前記位置合せ工程が行われた前記基板と前記位置合対象物とから成る搬送対象物を移動させる搬送装置とを有し、
前記位置合対象物は前記成膜源と対面され、前記搬送対象物中の前記基板に前記微粒子が到達し、前記基板に薄膜が形成される薄膜形成工程が行われる薄膜形成装置。
The alignment apparatus according to any one of claims 1 to 6,
A film forming source that is disposed in a vacuum chamber and emits fine particles of a thin film material;
A transfer device that moves a transfer object composed of the substrate and the alignment object subjected to the alignment step;
The thin film forming apparatus in which the alignment target is faced to the film forming source, the fine particles reach the substrate in the transport target, and a thin film is formed on the substrate.
前記位置合対象物を前記位置合装置に搬送する第二例の搬送装置を有し、
前記薄膜形成工程が行われた前記搬送対象物は、前記基板と前記位置合対象物に分離され、
分離された前記位置合対象物は、前記第二例の搬送装置によって前記位置合装置に戻され、
前記薄膜形成工程が行われていない前記基板と、戻された前記位置合対象物とに、前記位置合せ工程が行われるように構成された請求項7記載の薄膜形成装置。
A transport device of a second example for transporting the positioning object to the positioning device;
The transport object subjected to the thin film forming step is separated into the substrate and the alignment object,
The separated positioning object is returned to the positioning device by the transport device of the second example,
The thin film forming apparatus according to claim 7, wherein the alignment step is performed on the substrate on which the thin film formation step has not been performed and the returned alignment target.
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Citations (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2000338683A (en) * 1999-05-28 2000-12-08 Nikon Corp Aligner and exposure method
US20030211409A1 (en) * 2002-05-10 2003-11-13 Christopher C. Nunes Through-the-lens alignment for photolithography
JP2012038794A (en) * 2010-08-04 2012-02-23 Nikon Corp Detection condition optimization method, program creation method, exposure device, and mark detection device
WO2012039383A1 (en) * 2010-09-22 2012-03-29 株式会社アルバック Vacuum processing apparatus and method for forming organic thin film

Patent Citations (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2000338683A (en) * 1999-05-28 2000-12-08 Nikon Corp Aligner and exposure method
US20030211409A1 (en) * 2002-05-10 2003-11-13 Christopher C. Nunes Through-the-lens alignment for photolithography
JP2012038794A (en) * 2010-08-04 2012-02-23 Nikon Corp Detection condition optimization method, program creation method, exposure device, and mark detection device
WO2012039383A1 (en) * 2010-09-22 2012-03-29 株式会社アルバック Vacuum processing apparatus and method for forming organic thin film

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