JP2015103468A - Method for producing transparent conductive film - Google Patents

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Junichi Inoue
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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a method for producing a transparent conductive film that can produce a transparent conductive film having a sufficiently improved conductivity.SOLUTION: A method for producing a transparent conductive film containing metal nanowires and/or carbon nanotubes comprises a compression treatment step for subjecting the transparent conductive film to a compression treatment. In the compression treatment step, at least one of rollers used in the compression treatment is an elastic roller having a rubber hardness of 75-100°, and the compression treatment is performed at a surface pressure of 2.9 MPa (30 kg/cm).

Description

本発明は、透明導電膜の製造方法に関する。   The present invention relates to a method for producing a transparent conductive film.

表示パネルの表示面に設けられる透明導電膜、さらには表示パネルの表示面側に配置される情報入力装置の透明導電膜等の光透過性が要求される透明導電膜には、インジウムスズ酸化物（ＩＴＯ）のような金属酸化物が用いられてきた。しかしながら、金属酸化物を用いた透明導電膜は、真空環境下においてスパッタ成膜されるため製造コストがかかるものであり、また曲げやたわみなどの変形によって割れや剥離が発生し易いものであった。   A transparent conductive film provided on the display surface of the display panel, and a transparent conductive film such as a transparent conductive film of an information input device arranged on the display surface side of the display panel, such as a transparent conductive film, includes indium tin oxide. Metal oxides such as (ITO) have been used. However, transparent conductive films using metal oxides are expensive to produce because they are sputtered in a vacuum environment, and cracks and delamination are likely to occur due to deformation such as bending and deflection. .

そこで、金属酸化物を用いた透明導電膜に代えて、塗布や印刷による成膜が可能で、しかも曲げやたわみに対する耐性も高い金属ナノワイヤーやカーボンナノチューブを用いた透明導電膜が検討されている。金属ナノワイヤーやカーボンナノチューブを用いた透明導電膜は、レアメタルであるインジウムを使わない次世代の透明導電膜としても注目されている（例えば、特許文献１及び２、並びに非特許文献１参照）。   Therefore, instead of a transparent conductive film using a metal oxide, a transparent conductive film using metal nanowires or carbon nanotubes that can be formed by coating or printing and has high resistance to bending and bending has been studied. . Transparent conductive films using metal nanowires and carbon nanotubes are also attracting attention as next-generation transparent conductive films that do not use indium, which is a rare metal (see, for example, Patent Documents 1 and 2 and Non-Patent Document 1).

金属ナノワイヤーを用いた透明導電膜を製造するのに好適な方法として特許文献３が知られている。この特許文献３に記載の方法は、基体上に複数の金属ナノワイヤーを投入して（金属ナノワイヤーは液体中に分散されている）、該液体を乾燥することにより、基体上に金属ナノワイヤーネットワーク層（複数の金属ナノワイヤーが網状につながった層）を形成するようにしている。また、この特許文献３では、基体上に複数の金属ナノワイヤーを投入して、金属ナノワイヤーを液体中に分散させ、該液体を乾燥することにより、基体上に金属ナノワイヤーネットワーク層を形成し、該金属ナノワイヤーネットワーク層上にマトリクス材を投入し、該マトリクス材を硬化してマトリクスとすることで、前記マトリクスと該マトリクスに埋め込まれた金属ナノワイヤーを含む導電層を形成するようにしている。また、特許文献３には、ロール・トゥ・ロール工程にて行うことが記載されている。   Patent Document 3 is known as a suitable method for producing a transparent conductive film using metal nanowires. In the method described in Patent Document 3, a plurality of metal nanowires are placed on a substrate (the metal nanowires are dispersed in a liquid), and the liquid is dried, whereby the metal nanowires are formed on the substrate. A network layer (a layer in which a plurality of metal nanowires are connected in a network) is formed. Moreover, in this patent document 3, a metal nanowire network layer is formed on a base | substrate by throwing several metal nanowires on a base | substrate, disperse | distributing a metal nanowire in a liquid, and drying this liquid. The matrix material is put on the metal nanowire network layer, and the matrix material is cured to form a matrix, thereby forming a conductive layer including the matrix and metal nanowires embedded in the matrix. Yes. Patent Document 3 describes that a roll-to-roll process is performed.

さらに、上述した特許文献３に記載の透明導電膜の製造方法を改善したものであって、導電性を向上させた透明導電膜を製造する方法が提案されている（例えば、特許文献４参照）。   Furthermore, the manufacturing method of the transparent conductive film of patent document 3 mentioned above is improved, Comprising: The method of manufacturing the transparent conductive film which improved electroconductivity is proposed (for example, refer patent document 4). .

しかしながら、金属ナノワイヤーやカーボンナノチューブを用いて、ノートパソコンやスマートフォン等に適用可能な程度に導電性が十分向上された透明導電膜を製造する方法については、未だ開発されておらず、その開発が強く望まれていた。   However, a method for producing a transparent conductive film having sufficiently improved conductivity to the extent that it can be applied to a notebook computer, a smartphone or the like using metal nanowires or carbon nanotubes has not yet been developed. It was strongly desired.

特表２０１０−５０７１９９号公報Special table 2010-507199 特表２０１０−５２５５２６号公報Special table 2010-525526 gazette 米国特許出願公開第２００７／００７４３１６号明細書US Patent Application Publication No. 2007/0074316 特開２０１１−９０８７８号公報JP 2011-90878 A

「ＡＣＳ Ｎａｎｏ」２０１０年,ＶＯＬ．４，ＶＯＬ．５，ｐ．２９５５−２９６３“ACS Nano” 2010, VOL. 4, VOL. 5, p. 2955-2963

本発明は、従来における前記諸問題を解決し、以下の目的を達成することを課題とする。即ち、導電性が十分に向上された透明導電膜を製造することができる透明導電膜の製造方法を提供することを目的とする。   An object of the present invention is to solve the above-described problems and achieve the following objects. That is, it aims at providing the manufacturing method of the transparent conductive film which can manufacture the transparent conductive film in which electroconductivity was fully improved.

本発明者は、前記目的を達成すべく鋭意検討を行った結果、透明導電膜を加圧処理する加圧処理工程において、（ｉ）加圧処理に使用するロールの少なくとも１つを所定のゴム硬度の弾性ロールとし、且つ、所定の面圧で加圧処理すること、又は、（ｉｉ）加圧処理に使用するロールをすべて金属ロールとし、且つ、所定の面圧で加圧処理するにより、導電性が十分に向上された透明導電膜を製造できることを見出し、本発明の完成に至った。   As a result of intensive studies to achieve the above object, the present inventor, as a result of the pressure treatment process for pressure-treating the transparent conductive film, (i) at least one of the rolls used for the pressure treatment is treated with a predetermined rubber By making the elastic roll of hardness and pressurizing with a predetermined surface pressure, or (ii) By using all the rolls used for the pressurizing process as metal rolls and pressing with a predetermined surface pressure, It has been found that a transparent conductive film with sufficiently improved conductivity can be produced, and the present invention has been completed.

本発明は、本発明者らによる前記知見に基づくものであり、前記課題を解決するための手段としては以下の通りである。即ち、
＜１＞ 金属ナノワイヤー及びカーボンナノチューブの少なくともいずれかを含む透明導電膜の製造方法において、前記透明導電膜を加圧処理する加圧処理工程を含み、前記加圧処理工程において、前記加圧処理に使用するロールの少なくとも１つをゴム硬度が７５°〜１００°の弾性ロールとし、且つ、面圧２．９ＭＰａ（３０ｋｇ/ｃｍ２）以上で加圧処理することを特徴とする透明導電膜の製造方法である。
該＜１＞に記載の透明導電膜の製造方法では、透明導電膜を加圧処理する加圧処理工程において、使用するロールの少なくとも１つが所定のゴム硬度の弾性ロールとされ、且つ、所定の面圧で加圧処理される。その結果、導電性が十分に向上された透明導電膜が得られる。
＜２＞ 前記加圧処理工程において、線幅５．０ｍｍ以下で処理する前記＜１＞に記載の透明導電膜の製造方法である。
＜３＞ 前記加圧処理工程において、プレスロールとして直径２００ｍｍ未満の金属ロールを用いる前記＜１＞から＜２＞のいずれかに記載の透明導電膜の製造方法である。
＜４＞ 前記加圧処理工程において、バックロールとして直径２００ｍｍ以上の弾性ロールを用いる前記＜１＞から＜３＞のいずれかに記載の透明導電膜の製造方法である。
＜５＞ 金属ナノワイヤー及びカーボンナノチューブの少なくともいずれかを含む透明導電膜の製造方法において、前記透明導電膜を加圧処理する加圧処理工程を含み、前記加圧処理工程において、前記加圧処理に使用するロールをすべて金属ロールとし、且つ、面圧５．７ＭＰａ（５８ｋｇ/ｃｍ２）以上で加圧処理することを特徴とする透明導電膜の製造方法である。
該＜５＞に記載の透明導電膜の製造方法では、透明導電膜を加圧処理する加圧処理工程において、加圧処理に使用するロールがすべて金属ロールとされ、且つ、所定の面圧で加圧処理される。その結果、導電性が十分に向上された透明導電膜が得られる。
＜６＞ 前記加圧処理工程において、線幅０．５０ｍｍ以下で処理する前記＜５＞に記載の透明導電膜の製造方法である。 The present invention is based on the above findings by the present inventors, and means for solving the above problems are as follows. That is,
<1> In the manufacturing method of the transparent conductive film containing at least any one of metal nanowire and a carbon nanotube, it includes the pressurization process process which pressurizes the said transparent conductive film, In the said pressurization process process, the said pressurization process A transparent conductive film characterized in that at least one of the rolls used in the above is an elastic roll having a rubber hardness of 75 ° to 100 ° and is subjected to a pressure treatment at a surface pressure of 2.9 MPa (30 kg / cm 2 ) or more. It is a manufacturing method.
In the method for producing a transparent conductive film according to <1>, in the pressure treatment step of pressure-treating the transparent conductive film, at least one of the rolls to be used is an elastic roll having a predetermined rubber hardness, Pressurization is performed with surface pressure. As a result, a transparent conductive film with sufficiently improved conductivity is obtained.
<2> The method for producing a transparent conductive film according to <1>, wherein the pressure treatment step is performed with a line width of 5.0 mm or less.
<3> The method for producing a transparent conductive film according to any one of <1> to <2>, wherein a metal roll having a diameter of less than 200 mm is used as a press roll in the pressure treatment step.
<4> The method for producing a transparent conductive film according to any one of <1> to <3>, wherein an elastic roll having a diameter of 200 mm or more is used as a back roll in the pressure treatment step.
<5> In the manufacturing method of the transparent conductive film containing at least any one of metal nanowire and a carbon nanotube, the pressurization process process which pressurizes the said transparent conductive film is included, In the said pressurization process process, the said pressurization process All the rolls used in the above are metal rolls, and the pressure treatment is performed at a surface pressure of 5.7 MPa (58 kg / cm 2 ) or more.
In the method for producing a transparent conductive film according to <5>, in the pressure treatment step of pressure-treating the transparent conductive film, all of the rolls used for the pressure treatment are metal rolls, and at a predetermined surface pressure. Pressurized. As a result, a transparent conductive film with sufficiently improved conductivity is obtained.
<6> The method for producing a transparent conductive film according to <5>, wherein the pressure treatment step is performed with a line width of 0.50 mm or less.

本発明によれば、従来における前記諸問題を解決し、前記目的を達成することができ、導電性が十分に向上された透明導電膜を製造することができる透明導電膜の製造方法を提供することができる。   According to the present invention, there is provided a method for producing a transparent conductive film, which can solve the above-mentioned problems and can achieve the above-described object and can produce a transparent conductive film with sufficiently improved conductivity. be able to.

図１は、本発明の透明導電膜の製造方法における加圧処理工程を説明するための模式図である（その１）。FIG. 1 is a schematic diagram for explaining a pressure treatment step in the method for producing a transparent conductive film of the present invention (part 1). 図２は、本発明の透明導電膜の製造方法における加圧処理工程を説明するための模式図である（その２）。FIG. 2: is a schematic diagram for demonstrating the pressurization process process in the manufacturing method of the transparent conductive film of this invention (the 2). 図３は、本発明の透明導電膜の製造方法における加圧処理工程の面圧及び線幅を説明するための図である。FIG. 3 is a diagram for explaining the surface pressure and the line width in the pressure treatment step in the method for producing a transparent conductive film of the present invention.

（透明導電膜の製造方法）
本発明の透明導電膜の製造方法は、少なくとも加圧処理工程を含み、さらに、必要に応じて適宜選択した、分散液調製工程、塗布工程、乾燥工程、加熱硬化処理工程等のその他の工程を含む。 (Method for producing transparent conductive film)
The method for producing a transparent conductive film of the present invention includes at least a pressure treatment step, and further includes other steps such as a dispersion preparation step, a coating step, a drying step, and a heat curing treatment step, which are appropriately selected as necessary. Including.

＜加圧処理工程＞
前記加圧処理工程は、透明導電膜を加圧処理する工程である。 <Pressure treatment process>
The pressure treatment step is a step of pressure-treating the transparent conductive film.

＜＜透明導電膜＞＞
前記透明導電膜は、少なくとも、金属ナノワイヤー及びカーボンナノチューブの少なくともいずれかを含んでなり、さらに必要に応じて、透明樹脂材料（バインダー）、分散剤、その他の成分を含有してなる。
前記透明導電膜は、例えば、金属ナノワイヤー及びカーボンナノチューブの少なくともいずれかを含んでなる分散液を調製し（分散液調製工程）、前記調製された分散液を基材上に塗布し（塗布工程）、前記分散液中の溶剤を乾燥除去させ（乾燥工程）、その後、加熱硬化処理を行う（加熱硬化処理工程）ことにより得られる。 << Transparent conductive film >>
The transparent conductive film includes at least one of metal nanowires and carbon nanotubes, and further includes a transparent resin material (binder), a dispersant, and other components as necessary.
The transparent conductive film, for example, prepares a dispersion liquid containing at least one of metal nanowires and carbon nanotubes (dispersion liquid preparation process), and applies the prepared dispersion liquid on a substrate (application process) ), The solvent in the dispersion is dried and removed (drying step), and then heat-cured (heat-cured treatment).

−透明導電膜の厚み−
前記透明導電膜の厚みとしては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができるが、０．１μｍ〜５００μｍが好ましく、１μｍ〜１００μｍがより好ましく、１０μｍ〜５０μｍが特に好ましい。
前記透明導電膜の厚みが、０．１μｍ未満であると、充分な導電性が得られないことがあり、５００μｍを超えると、充分な金属ナノワイヤー又はカーボンナノチューブのネットワークを形成しないことに加え、透明性が悪化することがある。一方、前記透明導電膜の厚みが、前記より好ましい範囲内又は前記特に好ましい範囲内であると、金属ナノワイヤー又はカーボンナノチューブのネットワーク形成の点で有利である。 -Thickness of transparent conductive film-
There is no restriction | limiting in particular as thickness of the said transparent conductive film, Although it can select suitably according to the objective, 0.1 micrometer-500 micrometers are preferable, 1 micrometer-100 micrometers are more preferable, and 10 micrometers-50 micrometers are especially preferable.
If the thickness of the transparent conductive film is less than 0.1 μm, sufficient conductivity may not be obtained, and if it exceeds 500 μm, in addition to not forming a sufficient network of metal nanowires or carbon nanotubes, Transparency may deteriorate. On the other hand, when the thickness of the transparent conductive film is within the more preferable range or the particularly preferable range, it is advantageous in terms of forming a network of metal nanowires or carbon nanotubes.

−金属ナノワイヤー−
前記金属ナノワイヤーは、金属を用いて構成されたものであって、ｎｍオーダーの径を有する微細なワイヤーである。
前記金属ナノワイヤーの構成元素としては、金属元素である限り、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、Ａｇ、Ａｕ、Ｎｉ、Ｃｕ、Ｐｄ、Ｐｔ、Ｒｈ、Ｉｒ、Ｒｕ、Ｏｓ、Ｆｅ、Ｃｏ、Ｓｎ、Ａｌ、Ｔｌ、Ｚｎ、Ｎｂ、Ｔｉ、Ｉｎ、Ｗ、Ｍｏ、Ｃｒ、Ｆｅ、Ｖ、Ｔａ、などが挙げられる。これらは、１種単独で使用してもよいし、２種以上を併用してもよい。
これらの中でも、ＡｇやＣｕが、導電性が高い点で、好ましい。 -Metal nanowires-
The metal nanowire is made of metal and is a fine wire having a diameter on the order of nm.
The constituent element of the metal nanowire is not particularly limited as long as it is a metal element, and can be appropriately selected according to the purpose. For example, Ag, Au, Ni, Cu, Pd, Pt, Rh, Ir, Examples include Ru, Os, Fe, Co, Sn, Al, Tl, Zn, Nb, Ti, In, W, Mo, Cr, Fe, V, Ta, and the like. These may be used individually by 1 type and may use 2 or more types together.
Among these, Ag and Cu are preferable in terms of high conductivity.

前記金属ナノワイヤーの平均短軸径としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができるが、１ｎｍ超５００ｎｍ以下が好ましく、１０ｎｍ〜１００ｎｍがより好ましい。
前記金属ナノワイヤーの平均短軸径が、１ｎｍ以下であると、金属ナノワイヤーの導電率が劣化して、該金属ナノワイヤーを含む透明導電膜が導電膜として機能しにくいことがあり、５００ｎｍを超えると、前記金属ナノワイヤーを含む透明導電膜の全光線透過率やヘイズ（Ｈａｚｅ）が劣化することがある。一方、前記金属ナノワイヤーの平均短軸径が前記より好ましい範囲内であると、前記金属ナノワイヤーを含む透明導電膜の導電性が高く、且つ透明性が高い点で有利である。 There is no restriction | limiting in particular as an average short axis diameter of the said metal nanowire, Although it can select suitably according to the objective, More than 1 nm and 500 nm or less are preferable, and 10 nm-100 nm are more preferable.
When the average minor axis diameter of the metal nanowire is 1 nm or less, the conductivity of the metal nanowire deteriorates, and the transparent conductive film containing the metal nanowire may not function as a conductive film. If it exceeds, the total light transmittance and haze of the transparent conductive film containing the metal nanowires may deteriorate. On the other hand, when the average minor axis diameter of the metal nanowire is within the more preferable range, it is advantageous in that the transparent conductive film including the metal nanowire has high conductivity and high transparency.

前記金属ナノワイヤーの平均長軸長としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができるが、１μｍ超且つ１０００μｍ以下が好ましく、１０μｍ〜３００μｍがより好ましい。
前記金属ナノワイヤーの平均長軸長が、１μｍ以下であると、金属ナノワイヤー同士がつながりにくく、該金属ナノワイヤーを含む透明導電膜が導電膜として機能しにくいことがあり、１０００μｍを超えると、前記金属ナノワイヤーを含む透明導電膜の全光線透過率やヘイズ（Ｈａｚｅ）が劣化したり、透明導電膜を形成する際に用いる分散液における金属ナノワイヤーの分散性が劣化することがある。一方、前記金属ナノワイヤーの平均長軸長が前記より好ましい範囲内であると、前記金属ナノワイヤーを含む透明導電膜の導電性が高く、且つ透明性が高い点で有利である。
なお、金属ナノワイヤーの平均短軸径及び平均長軸長は、走査型電子顕微鏡により測定可能な、数平均短軸径及び数平均長軸長である。より具体的には、金属ナノワイヤーを少なくとも１００本以上測定し、電子顕微鏡写真から画像解析装置を用いて、それぞれのナノワイヤーの投影径及び投影面積を算出する。投影径を、短軸径とした。また、下記式に基づき、長軸長を算出した。
長軸長＝投影面積／投影径
平均短軸径は、短軸径の算術平均値とした。平均長軸長は、長軸長の算術平均値とした。 There is no restriction | limiting in particular as an average major axis length of the said metal nanowire, Although it can select suitably according to the objective, More than 1 micrometer and 1000 micrometers or less are preferable, and 10 micrometers-300 micrometers are more preferable.
When the average major axis length of the metal nanowires is 1 μm or less, the metal nanowires are not easily connected to each other, and the transparent conductive film containing the metal nanowires may not function as a conductive film. The total light transmittance and haze of the transparent conductive film containing the metal nanowire may be deteriorated, or the dispersibility of the metal nanowire in the dispersion used when forming the transparent conductive film may be deteriorated. On the other hand, when the average major axis length of the metal nanowire is within the more preferable range, it is advantageous in that the transparent conductive film including the metal nanowire has high conductivity and high transparency.
The average minor axis diameter and the average major axis length of the metal nanowires are the number average minor axis diameter and the number average major axis length that can be measured with a scanning electron microscope. More specifically, at least 100 metal nanowires are measured, and the projected diameter and projected area of each nanowire are calculated from an electron micrograph using an image analyzer. The projected diameter was the minor axis diameter. Further, the major axis length was calculated based on the following formula.
Long axis length = projected area / projected diameter The average minor axis diameter was an arithmetic average value of minor axis diameters. The average major axis length was the arithmetic average value of the major axis length.

さらに、前記金属ナノワイヤーは、金属ナノ粒子が数珠状に繋がってワイヤー形状を有しているものでもよい。この場合、前記金属ナノワイヤーの長さは限定されない。   Further, the metal nanowire may have a wire shape in which metal nanoparticles are connected in a bead shape. In this case, the length of the metal nanowire is not limited.

前記金属ナノワイヤーの目付量としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができるが、０．００１ｇ／ｍ2〜１．０００ｇ／ｍ2が好ましく、０．００３ｇ／ｍ２〜０．３ｇ／ｍ２がより好ましい。
前記金属ナノワイヤーの目付量が、０．００１ｇ／ｍ2未満であると、金属ナノワイヤーが十分に金属ナノワイヤー層中に存在せず、透明導電膜の導電性が劣化することがあり、１．０００ｇ／ｍ2を超えると、透明導電膜の全光線透過率やヘイズ（Ｈａｚｅ）が劣化することがある。一方、前記金属ナノワイヤーの目付量が前記より好ましい範囲内であると、透明導電膜の導電性が高く、且つ透明性が高い点で有利である。 The weight per unit area of the metal nanowires is not particularly limited and may be appropriately selected depending on the intended purpose, but is preferably 0.001g / m 2 ~1.000g / m 2 , 0.003g / m 2 ~ 0.3 g / m 2 is more preferable.
When the basis weight of the metal nanowire is less than 0.001 g / m 2 , the metal nanowire is not sufficiently present in the metal nanowire layer, and the conductivity of the transparent conductive film may be deteriorated. If it exceeds .000 g / m 2 , the total light transmittance and haze of the transparent conductive film may deteriorate. On the other hand, when the basis weight of the metal nanowire is within the more preferable range, it is advantageous in that the conductivity of the transparent conductive film is high and the transparency is high.

−金属ナノワイヤーネットワーク−
なお、前記金属ナノワイヤーネットワークとは、複数の金属ナノワイヤーが互いに網状に連結されて形成されたネットワーク構造を意味する。前記金属ナノワイヤーネットワークは、後述する加圧処理を経ることにより形成される。 -Metal nanowire network-
The metal nanowire network means a network structure formed by connecting a plurality of metal nanowires to each other in a network. The said metal nanowire network is formed by passing through the pressurization process mentioned later.

−カーボンナノチューブ−
前記カーボンナノチューブとしては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、従来の合成法で合成されるものでもよく、また、市販のものであってもよい。
前記カーボンナノチューブの合成法としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、アーク放電法、レーザー蒸発法、熱ＣＶＤ法、などが挙げられる。
前記カーボンナノチューブとしては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、単層カーボンナノチューブ（ＳＷＮＴ）であってもよく、多層カーボンナノチューブ（ＭＷＮＴ）であってもよい。但し、前記単層カーボンナノチューブが好ましい。
前記カーボンナノチューブとしては、金属性と半導体性のカーボンナノチューブの混合物であってよく、また、また選択的に分離された半導体性カーボンナノチューブであってもよい。 -Carbon nanotube-
There is no restriction | limiting in particular as said carbon nanotube, According to the objective, it can select suitably, The thing synthesize | combined by the conventional synthesis method may be sufficient, and a commercially available thing may be used.
There is no restriction | limiting in particular as the synthesis | combining method of the said carbon nanotube, According to the objective, it can select suitably, For example, an arc discharge method, a laser evaporation method, a thermal CVD method etc. are mentioned.
There is no restriction | limiting in particular as said carbon nanotube, According to the objective, it can select suitably, A single-walled carbon nanotube (SWNT) may be sufficient, and a multi-walled carbon nanotube (MWNT) may be sufficient. However, the single-walled carbon nanotube is preferable.
The carbon nanotube may be a mixture of metallic and semiconducting carbon nanotubes, or may be a selectively separated semiconducting carbon nanotube.

−カーボンナノチューブネットワーク−
前記カーボンナノチューブネットワークとは、複数のカーボンナノチューブが互いに網状に連結されて形成されたネットワーク構造を意味する。前記カーボンナノチューブネットワークは、後述する加圧処理を経ることにより形成される。 -Carbon nanotube network-
The carbon nanotube network means a network structure formed by connecting a plurality of carbon nanotubes in a network. The carbon nanotube network is formed through a pressure treatment described later.

−透明樹脂材料（バインダー）−
前記透明樹脂材料（バインダー）は、前記金属ナノワイヤー、及び／又は、前記カーボンナノチューブを分散させるものである。
前記透明樹脂材料（バインダー）としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、既知の透明な、天然高分子樹脂、合成高分子樹脂、などが挙げられ、熱可塑性樹脂であってもよく、また、熱、光、電子線、放射線で硬化する熱（光）硬化性樹脂であってもよい。これらは、１種単独で使用してもよいし、２種以上を併用してもよい。
前記熱可塑性樹脂としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、ポリ塩化ビニル、塩化ビニル−酢酸ビニル共重合体、ポリメチルメタクリレート、ニトロセルロース、塩素化ポリエチレン、塩素化ポリプロピレン、フッ化ビニリデン、エチルセルロース、ヒドロキシプロピルメチルセルロース、ポリビニルアルコール、ポリビニルピロリドン、などが挙げられる。
前記熱（光）硬化性樹脂としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、メラミンアクリレート、ウレタンアクリレート、イソシアネート、エポキシ樹脂、ポリイミド樹脂、アクリル変性シリケート等のシリコン樹脂、アジド基やジアジリン基などの感光基を主鎖及び側鎖の少なくともいずれかに導入したポリマー、などが挙げられる。 -Transparent resin material (binder)-
The transparent resin material (binder) is for dispersing the metal nanowires and / or the carbon nanotubes.
There is no restriction | limiting in particular as said transparent resin material (binder), According to the objective, it can select suitably, For example, a known transparent natural polymer resin, synthetic polymer resin, etc. are mentioned, Thermoplastic It may be a resin, or may be a heat (light) curable resin that is cured by heat, light, electron beam, or radiation. These may be used individually by 1 type and may use 2 or more types together.
The thermoplastic resin is not particularly limited and may be appropriately selected depending on the intended purpose. For example, polyvinyl chloride, vinyl chloride-vinyl acetate copolymer, polymethyl methacrylate, nitrocellulose, chlorinated polyethylene, chlorine Polypropylene, vinylidene fluoride, ethylcellulose, hydroxypropylmethylcellulose, polyvinyl alcohol, polyvinylpyrrolidone, and the like.
The thermosetting (photo) curable resin is not particularly limited and may be appropriately selected depending on the intended purpose. Examples thereof include silicon resins such as melamine acrylate, urethane acrylate, isocyanate, epoxy resin, polyimide resin, and acrylic-modified silicate. And a polymer in which a photosensitive group such as an azide group or a diazirine group is introduced into at least one of a main chain and a side chain.

−分散剤−
前記分散剤としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、ポリビニルピロリドン（ＰＶＰ）；ポリエチレンイミン等のアミノ基含有化合物；スルホ基（スルホン酸塩含む）、スルホニル基、スルホンアミド基、カルボン酸基（カルボン酸塩含む）、アミド基、リン酸基（リン酸塩、リン酸エステル含む）、フォスフィノ基、シラノール基、エポキシ基、イソシアネート基、シアノ基、ビニル基、チオール基、カルビノール基等の官能基を有する化合物で金属に吸着可能なもの；などが挙げられる。これらは、1種単独で使用してもよいし、２種以上を併用してもよい。
前記分散剤を、前記金属ナノワイヤー又は前記カーボンナノチューブの表面に吸着させてもよい。これにより、前記金属ナノワイヤー又は前記カーボンナノチューブの分散性を向上させることができる。 -Dispersant-
The dispersant is not particularly limited and may be appropriately selected depending on the intended purpose. Examples thereof include polyvinyl pyrrolidone (PVP); amino group-containing compounds such as polyethyleneimine; sulfo groups (including sulfonates) and sulfonyl groups. , Sulfonamide group, carboxylic acid group (including carboxylate), amide group, phosphate group (including phosphate and phosphate ester), phosphino group, silanol group, epoxy group, isocyanate group, cyano group, vinyl group, A compound having a functional group such as a thiol group or a carbinol group, which can be adsorbed to a metal; These may be used alone or in combination of two or more.
The dispersant may be adsorbed on the surface of the metal nanowire or the carbon nanotube. Thereby, the dispersibility of the said metal nanowire or the said carbon nanotube can be improved.

−その他の成分−
前記その他の成分としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、界面活性剤、粘度調整剤、硬化促進触媒、可塑性、酸化防止剤や硫化防止剤等の安定剤、などが挙げられる。 -Other ingredients-
The other components are not particularly limited and may be appropriately selected depending on the intended purpose. For example, surfactants, viscosity modifiers, curing accelerators, plasticity, stabilizers such as antioxidants and sulfidizing agents, and the like. , Etc.

−分散液−
前記分散液は、少なくとも、金属ナノワイヤー及び／又はカーボンナノチューブを含有してなり、さらに必要に応じて、透明樹脂材料（バインダー）、溶剤、分散剤、その他の成分、などを含有してなる。ここで、金属ナノワイヤー、カーボンナノチューブ、透明樹脂材料（バインダー）、分散剤、その他の成分は、前述した通りである。 -Dispersion-
The dispersion liquid contains at least metal nanowires and / or carbon nanotubes, and further contains a transparent resin material (binder), a solvent, a dispersant, and other components as necessary. Here, the metal nanowire, the carbon nanotube, the transparent resin material (binder), the dispersant, and other components are as described above.

前記分散液の分散手法としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、攪拌、超音波分散、ビーズ分散、混錬、ホモジナイザー処理、加圧分散処理、などが好適に挙げられる。   The dispersion method of the dispersion is not particularly limited and may be appropriately selected depending on the purpose. For example, stirring, ultrasonic dispersion, bead dispersion, kneading, homogenizer treatment, pressure dispersion treatment, and the like are preferable. It is mentioned in.

前記分散液中の金属ナノワイヤー及び／又はカーボンナノチューブの配合量としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができるが、前記分散液の質量を１００質量部とした場合、０．０１質量部〜１０．００質量部が好ましい。
前記金属ナノワイヤー及び／又はカーボンナノチューブの配合量が、０．０１質量部未満であると、最終的に得られる透明導電膜において金属ナノワイヤー及び／又はカーボンナノチューブに十分な目付量（０．００１ｇ／ｍ２〜１．０００ｇ／ｍ２）が得られないことがあり、１０．００質量部を超えると、金属ナノワイヤー及び／又はカーボンナノチューブの分散性が劣化することがある。 There is no restriction | limiting in particular as a compounding quantity of the metal nanowire and / or carbon nanotube in the said dispersion liquid, Although it can select suitably according to the objective, When the mass of the said dispersion liquid is 100 mass parts, it is 0. 0.01 parts by mass to 10.00 parts by mass are preferable.
When the blending amount of the metal nanowires and / or carbon nanotubes is less than 0.01 parts by mass, the basis weight (0.001 g) sufficient for the metal nanowires and / or carbon nanotubes in the finally obtained transparent conductive film. / M 2 to 1.000 g / m 2 ) may not be obtained, and if it exceeds 10.00 parts by mass, the dispersibility of the metal nanowires and / or the carbon nanotubes may deteriorate.

−溶剤−
前記溶剤としては、金属ナノワイヤー、及び／又は、カーボンナノチューブが分散するものである限り、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、水；メタノール、エタノール、ｎ−プロパノール、ｉ−プロパノール、ｎ−ブタノール、ｉ−ブタノール、ｓｅｃ−ブタノール、ｔｅｒｔ−ブタノール等のアルコール；シクロヘキサノン、シクロペンタノン、アノン等のケトン；Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド（ＤＭＦ）等のアミド；ジメチルスルホキシド（ＤＭＳＯ）等のスルフィド；などが挙げられる。これらは、１種単独で使用してもよいし、２種以上を併用してもよい。 -Solvent-
There is no restriction | limiting in particular as long as a metal nanowire and / or a carbon nanotube disperse | distribute as said solvent, According to the objective, it can select suitably, For example, water; methanol, ethanol, n-propanol , I-propanol, n-butanol, i-butanol, sec-butanol, tert-butanol and other alcohols; cyclohexanone, cyclopentanone, anone and other ketones; N, N-dimethylformamide (DMF) and other amides; dimethyl sulfoxide Sulfides such as (DMSO); and the like. These may be used individually by 1 type and may use 2 or more types together.

前記分散液を用いて形成される分散膜の乾燥ムラやクラックを抑えるため、分散液には、さらに高沸点溶剤を添加してもよい。これにより、分散液からの溶剤の蒸発速度をコントロールすることができる。
前記高沸点溶剤としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、ブチルセロソルブ、ジアセトンアルコール、ブチルトリグリコール、プロピレングリコールモノメチルエーテル、プロピレングリコールモノエチルエーテル、エチレングリコールモノエチルエーテル、エチレングリコールモノプロピルエーテル、エチレングリコールモノイソプロピルエーテル、ジエチレングリコールモノブチルエーテル、ジエチレングリコールモノエチルエーテル、ジエチレングリコールモノメチルエーテルジエチレングリコールジエチルエーテル、ジプロピレングリコールモノメチルエーテル、トリプロピレングリコールモノメチルエーテル、プロピレングリコールモノブチルエーテル、プロピレングリコールイソプロピルエーテル、ジプロピレングリコールイソプロピルエーテル、トリプロピレングリコールイソプロピルエーテル、メチルグリコール、などが挙げられる。
これらは、１種単独で使用してもよいし、２種以上を併用してもよい。 In order to suppress drying unevenness and cracks in the dispersion film formed using the dispersion, a high boiling point solvent may be further added to the dispersion. Thereby, the evaporation rate of the solvent from the dispersion can be controlled.
The high boiling point solvent is not particularly limited and may be appropriately selected depending on the intended purpose. For example, butyl cellosolve, diacetone alcohol, butyl triglycol, propylene glycol monomethyl ether, propylene glycol monoethyl ether, ethylene glycol monoethyl Ether, ethylene glycol monopropyl ether, ethylene glycol monoisopropyl ether, diethylene glycol monobutyl ether, diethylene glycol monoethyl ether, diethylene glycol monomethyl ether diethylene glycol diethyl ether, dipropylene glycol monomethyl ether, tripropylene glycol monomethyl ether, propylene glycol monobutyl ether, propylene glycol isopropyl A Le, dipropylene glycol isopropyl ether, tripropylene glycol isopropyl ether, methyl glycol, and the like.
These may be used individually by 1 type and may use 2 or more types together.

また、前記分散剤を前記分散液に対して添加する場合は、最終的に得られる透明導電膜の導電性が劣化しない程度の添加量にすることが好ましい。これにより、前記分散剤を、透明導電膜の導電性が劣化しない程度の量で金属ナノワイヤー及び／又はカーボンナノチューブに吸着させることができる。   Moreover, when adding the said dispersing agent with respect to the said dispersion liquid, it is preferable to make it the addition amount of the grade which the electroconductivity of the transparent conductive film finally obtained does not deteriorate. Thereby, the said dispersing agent can be made to adsorb | suck to a metal nanowire and / or a carbon nanotube in the quantity which is the extent which the electroconductivity of a transparent conductive film does not deteriorate.

−基材−
前記基材としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができるが、無機材料、プラスチック材料等の可視光に対して透過性を有する材料で構成された透明基材が好ましい。前記透明基材は、透明導電膜を有する透明電極に必要とされる膜厚を有しており、例えばフレキシブルな屈曲性を実現できる程度に薄膜化されたフィルム状（シート状）、または適度の屈曲性と剛性を実現できる程度の膜厚を有する基板状であることとする。
前記無機材料としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、石英、サファイア、ガラス、などが挙げられる。
前記プラスチック材料としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、トリアセチルセルロース（ＴＡＣ）、ポリエステル（ＴＰＥＥ）、ポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）、ポリエチレンナフタレート（ＰＥＮ）、ポリイミド（ＰＩ）、ポリアミド（ＰＡ）、アラミド、ポリエチレン（ＰＥ）、ポリアクリレート、ポリエーテルスルフォン、ポリスルフォン、ポリプロピレン（ＰＰ）、ジアセチルセルロース、ポリ塩化ビニル、アクリル樹脂（ＰＭＭＡ）、ポリカーボネート（ＰＣ）、エポキシ樹脂、尿素樹脂、ウレタン樹脂、メラミン樹脂、シクロオレフィンポリマー（ＣＯＰ）、などの公知の高分子材料が挙げられる。斯かるプラスチック材料を用いて透明基材を構成した場合、生産性の観点から透明基材の膜厚を５μｍ〜５００μｍとすることが好ましいが、この範囲に特に限定されるものではない。 -Base material-
There is no restriction | limiting in particular as said base material, Although it can select suitably according to the objective, The transparent base material comprised with the material which has transparency with respect to visible light, such as an inorganic material and a plastic material, is preferable. The transparent substrate has a film thickness required for a transparent electrode having a transparent conductive film. For example, a film (sheet) thinned to such an extent that flexible flexibility can be realized, or an appropriate amount It is assumed that the substrate has a film thickness sufficient to realize flexibility and rigidity.
There is no restriction | limiting in particular as said inorganic material, According to the objective, it can select suitably, For example, quartz, sapphire, glass, etc. are mentioned.
There is no restriction | limiting in particular as said plastic material, According to the objective, it can select suitably, For example, a triacetyl cellulose (TAC), polyester (TPEE), a polyethylene terephthalate (PET), a polyethylene naphthalate (PEN), a polyimide (PI), polyamide (PA), aramid, polyethylene (PE), polyacrylate, polyether sulfone, polysulfone, polypropylene (PP), diacetyl cellulose, polyvinyl chloride, acrylic resin (PMMA), polycarbonate (PC), epoxy Known polymer materials such as resin, urea resin, urethane resin, melamine resin, and cycloolefin polymer (COP) can be used. When a transparent base material is configured using such a plastic material, the film thickness of the transparent base material is preferably 5 μm to 500 μm from the viewpoint of productivity, but is not particularly limited to this range.

＜＜加圧処理＞＞
前記加圧処理では、例えば、図１及び図２に示すように、基材１０と基材１０上に形成された透明導電膜２０とからなる被加圧体３０が、プレスロール（第１ロール）４０とバックロール（第２ロール）５０とで構成されたロール対６０により挟持されて加圧される。
図３は、本発明の透明導電膜の製造方法における加圧処理工程での、面圧及び線幅を説明するための図であり、透明導電膜２０（被加圧体３０）をプレスロール（第１ロール）４０側から視た図である。図３において、ロール対６０により挟持されて加圧された領域が被加圧部Ｘであり、この被加圧部Ｘにかかる圧力が面圧であり、被加圧部Ｘの幅が線幅Ａである。 << Pressure treatment >>
In the pressurizing process, for example, as shown in FIGS. 1 and 2, a pressed body 30 including a base material 10 and a transparent conductive film 20 formed on the base material 10 is a press roll (first roll). ) 40 and a roll pair 60 constituted by a back roll (second roll) 50 and is pressed.
FIG. 3 is a diagram for explaining the surface pressure and the line width in the pressure treatment step in the method for producing a transparent conductive film of the present invention, and the transparent conductive film 20 (pressurized body 30) is pressed into a press roll ( (First roll) FIG. In FIG. 3, the area sandwiched and pressed by the roll pair 60 is the pressurized part X, the pressure applied to the pressurized part X is the surface pressure, and the width of the pressurized part X is the line width. A.

前記加圧処理に使用するロールとしては、（ｉ）少なくとも１つが所定のゴム硬度の弾性ロールであるか、又は、（ｉｉ）すべてが金属ロールである限り、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができる。
前記加圧処理に使用するロールの種類に応じて、前記加圧処理における面圧、線幅、加圧（荷重）及び搬送速度が所定値に調整される。
また、前記加圧処理において、透明導電膜を加圧するために、「ニップロール」又は「ピンチロール」を使用してもよい。 The roll used for the pressure treatment is not particularly limited as long as (i) at least one is an elastic roll having a predetermined rubber hardness, or (ii) all are metal rolls, depending on the purpose. It can be selected appropriately.
The surface pressure, line width, pressure (load), and conveyance speed in the pressure treatment are adjusted to predetermined values according to the type of roll used for the pressure treatment.
Moreover, in the said pressurization process, in order to pressurize a transparent conductive film, you may use a "nip roll" or a "pinch roll".

図１及び図２に示されるように、プレスロール４０及びバックロール５０は、１回又は複数回、透明導電膜２０の表面を回転してもよい。   As shown in FIGS. 1 and 2, the press roll 40 and the back roll 50 may rotate the surface of the transparent conductive film 20 once or a plurality of times.

前記加圧処理の後処理として加熱されてもよい。透明導電膜は、例えば、８０℃〜２５０℃で１０分間以下、より好ましくは、１００℃〜１６０℃で１０秒間〜２分間加熱される。透明導電膜は、基材の種類に応じて、２５０℃より高い温度に加熱することもでき、４００℃の温度まで加熱することができる。例えば、ガラス基材は、３５０℃〜４００℃の範囲の温度で熱処理可能である。しかしながら、より高い温度（例えば、２５０℃を超える温度）での後処理は、窒素又は希ガスのような非酸化性雰囲気の存在を必要とする可能性がある。   Heating may be performed as a post-treatment of the pressure treatment. The transparent conductive film is heated, for example, at 80 ° C. to 250 ° C. for 10 minutes or less, more preferably at 100 ° C. to 160 ° C. for 10 seconds to 2 minutes. The transparent conductive film can be heated to a temperature higher than 250 ° C. depending on the type of substrate, and can be heated to a temperature of 400 ° C. For example, the glass substrate can be heat-treated at a temperature in the range of 350 ° C to 400 ° C. However, post-treatment at higher temperatures (eg, temperatures above 250 ° C.) may require the presence of a non-oxidizing atmosphere such as nitrogen or a noble gas.

前記加熱は、オンライン又はオフラインのいずれかで行われることができる。例えば、オフライン処理において、透明導電膜は、所定温度に設定されたオーブン中に所定時間設置することができる。透明導電膜をこのような方法で加熱すると、透明導電膜の導電性を向上させることができる。   The heating can be performed either online or offline. For example, in the off-line process, the transparent conductive film can be placed in an oven set at a predetermined temperature for a predetermined time. When the transparent conductive film is heated by such a method, the conductivity of the transparent conductive film can be improved.

前記加圧処理において熱を付与することが必要な場合は、ロールが加熱（ロール温調）されてもよい。前記ロールは、好ましくは３０℃〜２００℃、より好ましくは４０℃〜１００℃に加熱される。   When it is necessary to apply heat in the pressurizing process, the roll may be heated (roll temperature control). The roll is preferably heated to 30 ° C to 200 ° C, more preferably 40 ° C to 100 ° C.

−（ｉ）弾性ロールを含む場合−
以下、前記加圧処理に使用するロールの少なくとも１つが弾性ロールである場合、例えば、プレスロール及びバックロールのうちの一方がゴムロールであり、他方が金属ロールである場合（「スチールｔｏゴム」の場合）、について説明する。
ここで、「スチールｔｏゴム」の場合とは、「プレスロール（第１ロール）が金属ロールであり、バックロール（第２ロール）がゴムロールである場合」のみならず、「プレスロール（第１ロール）がゴムロールであり、バックロール（第２ロール）が金属ロールである場合」をも含む。
なお、前記加圧処理に使用するロールの少なくとも１つが弾性ロールである場合、基材が、例えば、プラスチック板基材、ガラス基材、であっても挟持可能であり、前記加圧処理に使用するロールのすべてが金属ロールである場合よりも、挟持可能な基材の適用範囲が大きい。 -(I) When an elastic roll is included-
Hereinafter, when at least one of the rolls used for the pressure treatment is an elastic roll, for example, when one of the press roll and the back roll is a rubber roll and the other is a metal roll ("steel to rubber" Case).
Here, the case of “steel to rubber” includes not only “when the press roll (first roll) is a metal roll and the back roll (second roll) is a rubber roll” but also “press roll (first roll). The case where the roll) is a rubber roll and the back roll (second roll) is a metal roll.
In addition, when at least one of the rolls used for the pressure treatment is an elastic roll, the substrate can be sandwiched even if it is, for example, a plastic plate substrate or a glass substrate, and is used for the pressure treatment. The applicable range of the base material that can be sandwiched is larger than when all of the rolls to be performed are metal rolls.

−−弾性ロール−−
前記弾性ロールのゴム硬度としては、７５°〜１００°である限り、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができるが、８０°〜１００°が好ましく、９０°〜１００°がより好ましい。
前記弾性ロールのゴム硬度が、７５°未満であると、加圧不足によって、金属ナノワイヤー又はカーボンナノチューブの接触不良となり充分な抵抗値が得られない。
また、前記弾性ロールのゴム硬度が、８０°未満であると、金属ナノワイヤー又はカーボンナノチューブの充分なネットワーク形成を得るために設定圧力を大きくする必要がある。一方、前記弾性ロールのゴム硬度が、前記より好ましい範囲内であると、金属ナノワイヤー又はカーボンナノチューブのネットワーク形成による導電性の向上の点で有利である。
前記ゴム硬度は、ショアＡ硬度を意味し、計測器としてのＪＩＳ Ｋ ６２５３デユロメータを用いて測定することができる。
前記弾性ロールを用いることにより、基材の自重、温度変化、透明導電膜層の歪曲、などによって、基材にカールが発生した場合であっても、加圧均一性を維持することができる。 -Elastic roll-
The rubber hardness of the elastic roll is not particularly limited as long as it is 75 ° to 100 °, and can be appropriately selected according to the purpose, but is preferably 80 ° to 100 °, more preferably 90 ° to 100 °. preferable.
If the rubber hardness of the elastic roll is less than 75 °, contact failure of metal nanowires or carbon nanotubes due to insufficient pressurization, and a sufficient resistance value cannot be obtained.
Further, if the rubber hardness of the elastic roll is less than 80 °, it is necessary to increase the set pressure in order to obtain a sufficient network formation of metal nanowires or carbon nanotubes. On the other hand, if the rubber hardness of the elastic roll is within the more preferable range, it is advantageous in terms of improving the conductivity by forming a network of metal nanowires or carbon nanotubes.
The rubber hardness means Shore A hardness and can be measured by using a JIS K 6253 durometer as a measuring instrument.
By using the elastic roll, it is possible to maintain the pressure uniformity even when the substrate is curled due to its own weight, temperature change, distortion of the transparent conductive film layer, or the like.

前記弾性ロールの直径としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができるが、３０ｍｍ〜１，０００ｍｍが好ましく、４０ｍｍ〜５００ｍｍがより好ましく、５０ｍｍ〜３００ｍｍが特に好ましい。
前記弾性ロールの直径が、３０ｍｍ未満であると、金属ロールへのゴム巻きが難しく、弾性ロール作製が困難となることがあり、１，０００ｍｍを超えると、ロールの取扱いが困難となることがある。一方、前記弾性ロールの直径が、前記より好ましい範囲内又は前記特に好ましい範囲内であると、ロール製作及び取扱いの点で有利である。 There is no restriction | limiting in particular as a diameter of the said elastic roll, Although it can select suitably according to the objective, 30 mm-1,000 mm are preferable, 40 mm-500 mm are more preferable, 50 mm-300 mm are especially preferable.
When the diameter of the elastic roll is less than 30 mm, it is difficult to wind the rubber around the metal roll, and it may be difficult to produce the elastic roll, and when it exceeds 1,000 mm, it may be difficult to handle the roll. . On the other hand, when the diameter of the elastic roll is within the more preferable range or the particularly preferable range, it is advantageous in terms of roll production and handling.

前記弾性ロールの材質としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、主成分がクロロプレン重合体のゴム、アクリロニトリルブタジエンゴム（ＮＢＲ）、エチレン−プロピレン−ジエンゴム（ＥＰＤＭ）等のゴム；樹脂；などが挙げられる。これらは、１種単独で使用してもよいし、２種以上を併用してもよい。
これらの中でも、高硬度であり、且つ、対溶剤性を有するゴムが好ましい。
なお、前記加圧処理において、ロール温調が必要な場合は、前記弾性ロールの材質を、ゴムではなく、樹脂とすることが好ましい。 There is no restriction | limiting in particular as a material of the said elastic roll, According to the objective, it can select suitably, For example, the main component is chloroprene polymer rubber, acrylonitrile butadiene rubber (NBR), ethylene-propylene-diene rubber (EPDM). Such as rubber; resin; and the like. These may be used individually by 1 type and may use 2 or more types together.
Among these, rubber having high hardness and solvent resistance is preferable.
In addition, in the said pressurization process, when roll temperature control is required, it is preferable that the material of the said elastic roll is not rubber | gum but resin.

−−金属ロール−−
前記金属ロールの金属としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、ステンレス（ＳＵＳ）等の一般的な金属が挙げられる。ここで、前記金属は、例えば、ハードクロムめっき加工されていてもよい。
これらの中でも、加工性及び耐溶剤性の高い金属が好ましい。 --- Metal roll--
There is no restriction | limiting in particular as a metal of the said metal roll, According to the objective, it can select suitably, For example, common metals, such as stainless steel (SUS), are mentioned. Here, the metal may be subjected to, for example, hard chrome plating.
Among these, a metal with high workability and solvent resistance is preferable.

前記金属ロールの直径としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができるが、３０ｍｍ〜１，０００ｍｍが好ましく、４０ｍｍ〜５００ｍｍがより好ましく、５０ｍｍ〜３００ｍｍが特に好ましい。
前記金属ロールの直径が、３０ｍｍ未満であると、ロールの製作が困難となることがあり、１，０００ｍｍを超えると、ロールの取扱いが困難となることがある。一方、前記金属ロールの直径が、前記より好ましい範囲内又は前記特に好ましい範囲内であると、ロール製作及び取扱いの点で有利である。 There is no restriction | limiting in particular as a diameter of the said metal roll, Although it can select suitably according to the objective, 30 mm-1,000 mm are preferable, 40 mm-500 mm are more preferable, 50 mm-300 mm are especially preferable.
If the diameter of the metal roll is less than 30 mm, it may be difficult to produce the roll, and if it exceeds 1,000 mm, handling of the roll may be difficult. On the other hand, when the diameter of the metal roll is within the more preferable range or the particularly preferable range, it is advantageous in terms of roll production and handling.

前記加圧処理工程において、プレスロール（第１ロール）として直径２００ｍｍ未満の金属ロールを用いることが好ましく、また、バックロール（第２ロール）として直径２００ｍｍ以上の弾性ロールを用いることが好ましい。
前記加圧処理工程において、プレスロール（第１ロール）として直径２００ｍｍ未満の金属ロールを用い、且つ、バックロール（第２ロール）として直径２００ｍｍ以上の弾性ロールを用いることで、クッション作用を大きくして、好適に圧を逃がすことができる。 In the pressure treatment step, a metal roll having a diameter of less than 200 mm is preferably used as the press roll (first roll), and an elastic roll having a diameter of 200 mm or more is preferably used as the back roll (second roll).
In the pressure treatment step, the cushioning action is increased by using a metal roll having a diameter of less than 200 mm as the press roll (first roll) and using an elastic roll having a diameter of 200 mm or more as the back roll (second roll). Thus, the pressure can be suitably released.

−−面圧−−
前記面圧としては、２．９ＭＰａ（３０ｋｇ/ｃｍ２）以上である限り、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができるが、２．９ＭＰａ〜１１．８ＭＰａ（３０ｋｇ/ｃｍ２〜１２０ｋｇ/ｃｍ２）が好ましく、３．８ＭＰａ〜１０．５ＭＰａ（３９ｇ/ｃｍ２〜１０７ｋｇ/ｃｍ２）がより好ましい。
前記面圧が、２．９ＭＰａ（３０ｋｇ/ｃｍ２）未満であると、面圧不足によって充分な金属ナノワイヤーのネットワーク形成が得られない。
前記面圧が、１１．８ＭＰａ（１２０ｋｇ/ｃｍ２）を超えると、抵抗値は充分に下がるが、一方で加圧時に基材が破損することがある。一方、前記面圧が、前記より好ましい範囲内であると、金属ナノワイヤーのネットワーク形成及び基材取扱いの点で有利である。
なお、前記面圧は、装置内の圧力センサー（ロードセル）により、測定される。 -Surface pressure-
The surface pressure is not particularly limited as long as it is 2.9 MPa (30 kg / cm 2 ) or more, and can be appropriately selected according to the purpose, but is 2.9 MPa to 11.8 MPa (30 kg / cm 2 to 30 kg / cm 2 ). 120 kg / cm 2 ) is preferable, and 3.8 MPa to 10.5 MPa (39 g / cm 2 to 107 kg / cm 2 ) is more preferable.
If the surface pressure is less than 2.9 MPa (30 kg / cm 2 ), sufficient metal nanowire network formation cannot be obtained due to insufficient surface pressure.
When the surface pressure exceeds 11.8 MPa (120 kg / cm 2 ), the resistance value decreases sufficiently, but the substrate may be damaged during pressurization. On the other hand, when the surface pressure is within the more preferable range, it is advantageous in terms of network formation of metal nanowires and substrate handling.
The surface pressure is measured by a pressure sensor (load cell) in the apparatus.

−−線幅−−
前記線幅としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができるが、５．０ｍｍ以下が好ましく、０．２０ｍｍ〜０．５０ｍｍがより好ましい。
前記線幅が、５．０ｍｍを超えると、充分な面圧を得られないことがある。一方、前記線幅が、前記より好ましい範囲内であると、金属ナノワイヤーのネットワーク形成に必要十分な面圧を得ることができる点で有利である。 --Line width--
There is no restriction | limiting in particular as said line | wire width, Although it can select suitably according to the objective, 5.0 mm or less is preferable and 0.20 mm-0.50 mm are more preferable.
If the line width exceeds 5.0 mm, sufficient surface pressure may not be obtained. On the other hand, when the line width is within the more preferable range, it is advantageous in that a surface pressure necessary and sufficient for forming a network of metal nanowires can be obtained.

−−加圧（荷重）−−
前記加圧（荷重）としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができるが、０．２ｋＮ〜５０ｋＮが好ましく、０．４ｋＮ〜３０ｋＮがより好ましい。
前記加圧（荷重）が、０．２ｋＮ未満であると、十分な面圧を得られないことがあり、５０ｋＮを超えると、加圧時に基材が破損することがある。一方、前記加圧（荷重）が、前記より好ましい範囲内であると、金属ナノワイヤーのネットワーク形成及び基材取扱いの点で有利である。
なお、前記加圧（荷重）は、装置内の圧力センサー（ロードセル）により、測定される。 --- Pressure (load)-
There is no restriction | limiting in particular as said pressurization (load), Although it can select suitably according to the objective, 0.2 kN-50 kN are preferable, and 0.4 kN-30 kN are more preferable.
If the pressurization (load) is less than 0.2 kN, a sufficient surface pressure may not be obtained, and if it exceeds 50 kN, the substrate may be damaged during pressurization. On the other hand, when the pressurization (load) is within the more preferable range, it is advantageous in terms of network formation of metal nanowires and substrate handling.
The pressurization (load) is measured by a pressure sensor (load cell) in the apparatus.

−−搬送速度−−
前記搬送速度としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができるが、０．１ｍ/ｍｉｎ〜１０ｍ/ｍｉｎが好ましく、０．５ｍ/ｍｉｎ〜５ｍ/ｍｉｎがより好ましい。
前記搬送速度が、０．１ｍ/ｍｉｎ未満であると、生産性が著しく悪くなることがあり、１０ｍ/ｍｉｎを超えると、平盤処理の場合に取扱いが困難になることがある。一方、前記加圧（荷重）が、前記より好ましい範囲内であると、金属ナノワイヤーのネットワーク形成及び基材取扱いの点で有利である。 --Conveying speed--
There is no restriction | limiting in particular as said conveyance speed, Although it can select suitably according to the objective, 0.1 m / min-10 m / min are preferable and 0.5 m / min-5 m / min are more preferable.
If the conveying speed is less than 0.1 m / min, productivity may be significantly deteriorated, and if it exceeds 10 m / min, handling may be difficult in the case of flat plate processing. On the other hand, when the pressurization (load) is within the more preferable range, it is advantageous in terms of network formation of metal nanowires and substrate handling.

−（ｉｉ）ロールがすべて金属ロールである場合−
以下、前記加圧処理に使用するロールのすべてが金属ロールである場合、例えば、プレスロール及びバックロールの両方が金属ロールである場合（「スチールｔｏスチール」の場合）、について説明する。
−−金属ロール−−
前記金属ロールの金属としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、ステンレス（ＳＵＳ）等の一般的な金属が挙げられる。ここで、前記金属は、例えば、ハードクロムめっき加工されていてもよい。
これらの中でも、加工性及び耐溶剤性の高い金属が好ましい。 -(Ii) When all rolls are metal rolls-
Hereinafter, a case where all of the rolls used for the pressure treatment are metal rolls, for example, a case where both the press roll and the back roll are metal rolls (in the case of “steel to steel”) will be described.
--- Metal roll--
There is no restriction | limiting in particular as a metal of the said metal roll, According to the objective, it can select suitably, For example, common metals, such as stainless steel (SUS), are mentioned. Here, the metal may be subjected to, for example, hard chrome plating.
Among these, a metal with high workability and solvent resistance is preferable.

前記金属ロールの直径としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができるが、３０ｍｍ〜１，０００ｍｍが好ましく、４０ｍｍ〜５００ｍｍがより好ましく、５０ｍｍ〜３００ｍｍが特に好ましい。
前記金属ロールの直径が、３０ｍｍ未満であると、ロールの製作が困難となることがあり、１，０００ｍｍを超えると、ロールの取扱いが困難になることがある。一方、前記金属ロールの直径が、前記より好ましい範囲内又は前記特に好ましい範囲内であると、ロール作製及び取扱いの点で有利である。 There is no restriction | limiting in particular as a diameter of the said metal roll, Although it can select suitably according to the objective, 30 mm-1,000 mm are preferable, 40 mm-500 mm are more preferable, 50 mm-300 mm are especially preferable.
If the diameter of the metal roll is less than 30 mm, it may be difficult to produce the roll, and if it exceeds 1,000 mm, handling of the roll may be difficult. On the other hand, when the diameter of the metal roll is within the more preferable range or the particularly preferable range, it is advantageous in terms of roll production and handling.

−−面圧−−
前記面圧としては、５．７ＭＰａ（５８ｋｇ/ｃｍ２）以上である限り、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができるが、５．７ＭＰａ〜５０．０ＭＰａ（５８ｋｇ/ｃｍ２〜５０９ｋｇ/ｃｍ２）が好ましく、８．８ＭＰａ〜４０．０ＭＰａ（９０ｋｇ/ｃｍ２〜４０８ｋｇ/ｃｍ２）がより好ましい。
前記面圧が、５．７ＭＰａ（５８ｋｇ/ｃｍ２）未満であると、面圧不足によって充分な金属ナノワイヤーのネットワーク形成が得られない。
また、前記面圧が、５０．０ＭＰａ（５０９ｋｇ/ｃｍ２）を超えると、抵抗値は充分に下がるが、一方で加圧時に基材が破損することがある。一方、前記面圧が、前記より好ましい範囲内であると、金属ナノワイヤーのネットワーク形成及び基材取扱いの点で有利である。
なお、前記面圧は、装置内の圧力センサー（ロードセル）により、測定される。 -Surface pressure-
The surface pressure is not particularly limited as long as it is 5.7 MPa (58 kg / cm 2 ) or more, and can be appropriately selected according to the purpose, but is 5.7 MPa to 50.0 MPa (58 kg / cm 2 to 58 kg / cm 2 ). 509 kg / cm 2 ) is preferable, and 8.8 MPa to 40.0 MPa (90 kg / cm 2 to 408 kg / cm 2 ) is more preferable.
When the surface pressure is less than 5.7 MPa (58 kg / cm 2 ), sufficient metal nanowire network formation cannot be obtained due to insufficient surface pressure.
Moreover, when the said surface pressure exceeds 50.0 MPa (509 kg / cm < 2 >), although resistance value falls sufficiently, on the other hand, a base material may be damaged at the time of pressurization. On the other hand, when the surface pressure is within the more preferable range, it is advantageous in terms of network formation of metal nanowires and substrate handling.
The surface pressure is measured by a pressure sensor (load cell) in the apparatus.

−−線幅−−
前記線幅としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができるが、０．５０ｍｍ以下が好ましく、０．０５ｍｍ〜０．４５ｍｍがより好ましく、０．１０ｍｍ〜０．４０ｍｍが特に好ましい。
前記線幅が、０．５０ｍｍを超えると、面圧が不十分となることがある。一方、前記線幅が、前記より好ましい範囲内又は前記特に好ましい範囲内であると、面圧の点で有利である。 --Line width--
The line width is not particularly limited and may be appropriately selected depending on the intended purpose, but is preferably 0.50 mm or less, more preferably 0.05 mm to 0.45 mm, and particularly preferably 0.10 mm to 0.40 mm. preferable.
If the line width exceeds 0.50 mm, the surface pressure may be insufficient. On the other hand, it is advantageous in terms of surface pressure when the line width is within the more preferable range or the particularly preferable range.

−−加圧（荷重）−−
前記加圧（荷重）としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができるが、０．１ｋＮ〜１０．０ｋＮが好ましく、０．２ｋＮ〜５．０ｋＮがより好ましく、０．４ｋＮ〜３．０ｋＮが特に好ましい。
前記加圧（荷重）が、０．１ｋＮ未満であると、十分な面圧を得られないことがあり１０．０ｋＮを超えると、加圧時に基材が破損することがある。一方、前記加圧（荷重）が、前記より好ましい範囲内又は前記特に好ましい範囲内であると、金属ナノワイヤーのネットワーク形成及び基材取扱いの点で有利である。
なお、前記加圧（荷重）は、装置内の圧力センサー（ロードセル）により、測定される。 --- Pressure (load)-
There is no restriction | limiting in particular as said pressurization (load), Although it can select suitably according to the objective, 0.1 kN-10.0 kN are preferable, 0.2 kN-5.0 kN are more preferable, 0.4 kN -3.0 kN is particularly preferred.
If the pressure (load) is less than 0.1 kN, sufficient surface pressure may not be obtained. If it exceeds 10.0 kN, the substrate may be damaged during pressurization. On the other hand, when the pressurization (load) is within the more preferable range or the particularly preferable range, it is advantageous in terms of forming a metal nanowire network and handling the substrate.
The pressurization (load) is measured by a pressure sensor (load cell) in the apparatus.

−−搬送速度−−
前記搬送速度としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができるが、０．１ｍ/ｍｉｎ〜１０ｍ/ｍｉｎが好ましく、０．５ｍ/ｍｉｎ〜５ｍ/ｍｉｎがより好ましい。
前記搬送速度が、０．１ｍ/ｍｉｎ未満であると、生産性が著しく悪くなることがあり、１０ｍ/ｍｉｎを超えると、平盤処理の場合に取扱いが困難になることがある。一方、前記加圧（荷重）が、前記より好ましい範囲内であると、金属ナノワイヤー又はカーボンナノチューブのネットワーク形成及び基材取扱いの点で有利である。 --Conveying speed--
There is no restriction | limiting in particular as said conveyance speed, Although it can select suitably according to the objective, 0.1 m / min-10 m / min are preferable and 0.5 m / min-5 m / min are more preferable.
If the conveying speed is less than 0.1 m / min, productivity may be significantly deteriorated, and if it exceeds 10 m / min, handling may be difficult in the case of flat plate processing. On the other hand, when the pressure (load) is within the more preferable range, it is advantageous in terms of network formation of metal nanowires or carbon nanotubes and handling of the substrate.

＜分散液調製工程＞
前記分散液調製工程は、金属ナノワイヤー及びカーボンナノチューブの少なくともいずれかを含んでなる分散液を調製する工程である。ここで、金属ナノワイヤー、カーボンナノチューブ、分散液は、前述した通りである。 <Dispersion preparation process>
The dispersion preparation step is a step of preparing a dispersion containing at least one of metal nanowires and carbon nanotubes. Here, the metal nanowire, the carbon nanotube, and the dispersion liquid are as described above.

＜塗布工程＞
前記塗布工程は、前記調製された分散液を基材上に塗布する工程である。ここで、分散液、基材は、前述した通りである。
前記塗布の方法としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、コイルバーによる塗布、アプリケーターによる塗布、スリットダイによる塗布、スピンコーターによる塗布、などが挙げられる。 <Application process>
The coating step is a step of coating the prepared dispersion on a substrate. Here, the dispersion and the base material are as described above.
The application method is not particularly limited and may be appropriately selected depending on the intended purpose. Examples thereof include application using a coil bar, application using an applicator, application using a slit die, application using a spin coater, and the like.

＜乾燥工程＞
前記乾燥工程は、前記分散液中の溶剤を乾燥除去させる工程である。ここで、分散液、溶剤は、前述した通りである。
前記乾燥としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、ドライヤーの熱風による乾燥、ホットプレート乾燥、オーブン乾燥、ＩＲ乾燥、などが挙げられる。 <Drying process>
The drying step is a step of drying and removing the solvent in the dispersion. Here, the dispersion liquid and the solvent are as described above.
There is no restriction | limiting in particular as said drying, According to the objective, it can select suitably, For example, drying by the hot air of a dryer, hotplate drying, oven drying, IR drying, etc. are mentioned.

＜加熱硬化処理工程＞
前記加熱硬化処理工程は、加熱硬化処理を行う工程である。
前記加熱硬化処理における加熱温度としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができるが、６０℃〜１４０℃が好ましく、８０℃〜１２０℃がより好ましく、約１２０℃が特に好ましい。
前記加熱硬化処理における加熱温度が、６０℃未満であると、乾燥に要する時間が長くなり作業性が悪化することがあり、１４０℃を超えると、基材のガラス転移温度（Ｔｇ）の兼ね合いで基材が歪曲することがある。一方、前記加熱硬化処理における加熱温度が、前記より好ましい範囲内又は前記特に好ましい温度であると、金属ナノワイヤーのネットワーク形成の点で有利である。
前記加熱硬化処理における加熱時間としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができるが、１分間〜３０分間が好ましく、２分間〜１０分間がより好ましく、約５分間が特に好ましい。
前記加熱硬化処理における加熱時間が、１分間未満であると、乾燥が不十分なことがあり、３０分間を超えると、作業性が悪化することがある。一方、前記加熱硬化処理における加熱時間が、前記より好ましい範囲内又は前記特に好ましい時間であると、金属ナノワイヤー又はカーボンナノチューブのネットワーク形成及び作業性の点で有利である。 <Heat curing process>
The heat curing process is a process for performing a heat curing process.
There is no restriction | limiting in particular as heating temperature in the said thermosetting process, Although it can select suitably according to the objective, 60 to 140 degreeC is preferable, 80 to 120 degreeC is more preferable, About 120 degreeC is especially preferable. .
When the heating temperature in the heat curing treatment is less than 60 ° C., the time required for drying may become long and workability may deteriorate, and when it exceeds 140 ° C., the balance with the glass transition temperature (Tg) of the substrate The substrate may be distorted. On the other hand, when the heating temperature in the heat curing treatment is within the more preferable range or the particularly preferable temperature, it is advantageous in terms of forming a metal nanowire network.
There is no restriction | limiting in particular as the heat time in the said heat-hardening process, Although it can select suitably according to the objective, 1 minute-30 minutes are preferable, 2 minutes-10 minutes are more preferable, About 5 minutes are especially preferable. .
When the heating time in the heat curing treatment is less than 1 minute, drying may be insufficient, and when it exceeds 30 minutes, workability may be deteriorated. On the other hand, when the heating time in the heat curing treatment is within the more preferable range or the particularly preferable time, it is advantageous in terms of network formation and workability of metal nanowires or carbon nanotubes.

次に、実施例及び比較例を挙げて本発明をより具体的に説明するが、本発明は下記実施例に制限されるものではない。   EXAMPLES Next, although an Example and a comparative example are given and this invention is demonstrated more concretely, this invention is not restrict | limited to the following Example.

（実施例１）
＜銀ナノワイヤーインク（分散液）の作製＞
下記の配合にて、銀ナノワイヤーインクを作製した。
（１）金属ナノワイヤー：銀ナノワイヤー（Ｓｅａｓｈｅｌｌ Ｔｅｃｈｎｏｌｏｇｙ社製、ＡｇＮＷ−２５、平均径２５ｎｍ、平均長さ２３μｍ）：配合量０．０５質量部
（２）バインダー：ヒドロキシプロピルメチルセルロース（アルドリッチ社製、２％水溶液の２０℃における粘度８０ｃＰ〜１２０ｃＰ（文献値））：配合量０．１５質量部
（３）溶媒：（ｉ）水：配合量８９．８０質量部、（ｉｉ）エタノール：配合量１０．００質量部 Example 1
<Preparation of silver nanowire ink (dispersion)>
A silver nanowire ink was prepared with the following composition.
(1) Metal nanowire: Silver nanowire (manufactured by Seashell Technology, AgNW-25, average diameter 25 nm, average length 23 μm): compounding amount 0.05 part by mass (2) binder: hydroxypropyl methylcellulose (manufactured by Aldrich, Viscosity at 20 ° C. of 2% aqueous solution 80 cP to 120 cP (reference value)): blending amount 0.15 parts by mass (3) solvent: (i) water: blending amount 89.80 parts by mass, (ii) ethanol: blending amount 10 0.00 parts by mass

＜銀ナノワイヤー透明導電膜の作製＞
以下の手順で、銀ナノワイヤー透明導電膜を作製した。
まず、作製した銀ナノワイヤーインク（分散液）を、コイルバー（番手１０）で透明基材（ＰＥＴ：東レ株式会社製、Ｕ３４、膜厚１２５μｍ）上に塗布して銀ナノワイヤー分散膜を形成した。ここで、銀ナノワイヤーの目付量を約０．０１ｇ／ｍ２とした。
次いで、大気中において、塗布面にドライヤーで熱風をあて、銀ナノワイヤー分散膜中の溶媒を乾燥除去した。
その後、オーブン中で１２０℃５分間の加熱硬化処理を行い、銀ナノワイヤー透明導電膜を作製した。 <Preparation of silver nanowire transparent conductive film>
A silver nanowire transparent conductive film was prepared by the following procedure.
First, the produced silver nanowire ink (dispersion) was applied onto a transparent substrate (PET: U34, film thickness 125 μm) with a coil bar (counter 10) to form a silver nanowire dispersion film. . Here, the basis weight of the silver nanowire was set to about 0.01 g / m 2 .
Next, in the atmosphere, hot air was applied to the coated surface with a dryer to remove the solvent in the silver nanowire-dispersed film by drying.
Thereafter, a heat curing treatment at 120 ° C. for 5 minutes was performed in an oven to produce a silver nanowire transparent conductive film.

＜銀ナノワイヤー透明導電膜の加圧処理＞
作製した銀ナノワイヤー透明導電膜に対して、円柱状のプレスロール（第１ロール）及びバックロール（第２ロール）を備えるカレンダー処理装置（図１及び図２参照）を使用して、加圧処理（カレンダー処理）を行った。加圧処理（カレンダー処理）の際、プレスロール（第１ロール）をスチール（製造会社名：宮川ローラー）製ロール（直径１００ｍｍ、幅３００ｍｍ）とし、バックロール（第２ロール）をゴム硬度が１００°のＮＢＲゴム（製造会社名：宮川ローラー）製ロール（直径２００ｍｍ、幅３００ｍｍ）とし、加圧（荷重）を５０ｋＮとし、線幅（ニップ幅）を２．０ｍｍとし、面圧を１０．５ＭＰａ（１０７ｋｇ／ｃｍ２）とし、搬送速度を１ｍ／ｍｉｎとし、ロール温度を常温２０℃〜２５℃（加温なし）とした。 <Pressure treatment of silver nanowire transparent conductive film>
Pressurizing the produced silver nanowire transparent conductive film using a calendar processing device (see FIGS. 1 and 2) having a cylindrical press roll (first roll) and a back roll (second roll). Processing (calendar processing) was performed. During the pressure treatment (calendar treatment), the press roll (first roll) is a steel (manufacturer name: Miyagawa roller) roll (diameter 100 mm, width 300 mm), and the back roll (second roll) has a rubber hardness of 100. ° NBR rubber (manufacturer name: Miyagawa roller) roll (diameter 200 mm, width 300 mm), pressurization (load) 50 kN, line width (nip width) 2.0 mm, surface pressure 10.5 MPa (107 kg / cm 2 ), the conveyance speed was 1 m / min, and the roll temperature was 20 ° C. to 25 ° C. (no heating).

＜抵抗値の測定＞
加圧処理した銀ナノワイヤー透明導電膜の抵抗値を、以下のように測定した。銀ナノワイヤー分散膜表面に、手動式非破壊抵抗測定器（ナプソン株式会社製、ＥＣ−８０Ｐ）の測定プローブを接触させて、透明導電膜（銀ナノワイヤー層）表面上の任意の１２箇所で抵抗値測定を行い、その平均値を抵抗値とした。抵抗値は、８３Ω／□であった。測定結果を表１に示す。 <Measurement of resistance value>
The resistance value of the pressure-treated silver nanowire transparent conductive film was measured as follows. A measurement probe of a manual nondestructive resistance measuring instrument (manufactured by Napson Co., Ltd., EC-80P) is brought into contact with the surface of the silver nanowire dispersion film, and at any 12 positions on the surface of the transparent conductive film (silver nanowire layer). The resistance value was measured, and the average value was taken as the resistance value. The resistance value was 83Ω / □. The measurement results are shown in Table 1.

＜導電性の評価＞
以下の評価基準に基づき、導電性の評価を行った。評価結果を表１に示す。
○：抵抗値が１５０Ω／□未満
△：抵抗値が１５０Ω／□以上４００Ω／□未満
×：抵抗値が４００Ω／□以上 <Evaluation of conductivity>
The conductivity was evaluated based on the following evaluation criteria. The evaluation results are shown in Table 1.
○: Resistance value is less than 150Ω / □ Δ: Resistance value is 150Ω / □ or more and less than 400Ω / □ ×: Resistance value is 400Ω / □ or more

（実施例２）
実施例１において、加圧（荷重）を５０ｋＮ、面圧１０．５ＭＰａ（１０７ｋｇ／ｃｍ２）の加圧処理条件で加圧処理する代わりに、加圧（荷重）４０ｋＮ、面圧８．４ＭＰａ（８６ｋｇ／ｃｍ２）の加圧処理条件で加圧処理したこと以外は、実施例１と同様に、銀ナノワイヤー透明導電膜を作製し、作製した銀ナノワイヤー透明導電膜を加圧処理し、加圧処理した銀ナノワイヤー透明導電膜の抵抗値を測定し、導電性の評価を行った。結果を表１に示す。 (Example 2)
In Example 1, instead of applying pressure (load) under the pressure treatment conditions of 50 kN and surface pressure of 10.5 MPa (107 kg / cm 2 ), pressure (load) of 40 kN and surface pressure of 8.4 MPa ( 86 kg / cm 2 ) A silver nanowire transparent conductive film was produced in the same manner as in Example 1 except that the pressure treatment was performed under pressure treatment conditions of 86 kg / cm 2 ), and the produced silver nanowire transparent conductive film was subjected to pressure treatment. The resistance value of the pressure-treated silver nanowire transparent conductive film was measured, and the conductivity was evaluated. The results are shown in Table 1.

（実施例３）
実施例１において、加圧（荷重）を５０ｋＮ、面圧１０．５ＭＰａ（１０７ｋｇ／ｃｍ２）の加圧処理条件で加圧処理する代わりに、加圧（荷重）３０ｋＮ、面圧６．３ＭＰａ（６４ｋｇ／ｃｍ２）の加圧処理条件で加圧処理したこと以外は、実施例１と同様に、銀ナノワイヤー透明導電膜を作製し、作製した銀ナノワイヤー透明導電膜を加圧処理し、加圧処理した銀ナノワイヤー透明導電膜の抵抗値を測定し、導電性の評価を行った。結果を表１に示す。 (Example 3)
In Example 1, instead of performing pressure treatment under a pressure treatment condition of a pressure (load) of 50 kN and a surface pressure of 10.5 MPa (107 kg / cm 2 ), a pressure (load) of 30 kN and a surface pressure of 6.3 MPa ( 64 kg / cm 2 ) A silver nanowire transparent conductive film was produced in the same manner as in Example 1 except that the pressure treatment was performed under a pressure treatment condition of 64 kg / cm 2 ). The resistance value of the pressure-treated silver nanowire transparent conductive film was measured, and the conductivity was evaluated. The results are shown in Table 1.

（実施例４）
実施例１において、ゴム硬度１００°のＮＢＲゴム（製造会社名：宮川ローラー）製バックロール、線幅２．０ｍｍ、面圧を１０．５ＭＰａ（１０７ｋｇ／ｃｍ２）の加圧処理条件で加圧処理する代わりに、ゴム硬度９８°のＮＢＲゴム（製造会社名：宮川ローラー）製バックロール、線幅２．５ｍｍ、面圧７．３ＭＰａ（７４ｋｇ／ｃｍ２）の加圧処理条件で加圧処理したこと以外は、実施例１と同様に、銀ナノワイヤー透明導電膜を作製し、作製した銀ナノワイヤー透明導電膜を加圧処理し、加圧処理した銀ナノワイヤー透明導電膜の抵抗値を測定し、導電性の評価を行った。結果を表１に示す。 Example 4
In Example 1, a back roll made of NBR rubber (manufacturer name: Miyagawa Roller) having a rubber hardness of 100 °, a line width of 2.0 mm, and a surface pressure of 10.5 MPa (107 kg / cm 2 ) were pressed. Instead of the treatment, pressurization treatment is performed under the condition of a back roll made of NBR rubber (manufacturer name: Miyagawa Roller) with a rubber hardness of 98 °, a line width of 2.5 mm, and a surface pressure of 7.3 MPa (74 kg / cm 2 ). Except what was done, like Example 1, a silver nanowire transparent conductive film was produced, the produced silver nanowire transparent conductive film was pressurized, and the resistance value of the pressure-treated silver nanowire transparent conductive film was determined. Measured and evaluated for conductivity. The results are shown in Table 1.

（実施例５）
実施例４において、加圧（荷重）を５０ｋＮ、面圧７．３ＭＰａ（７４ｋｇ／ｃｍ２）の加圧処理条件で加圧処理する代わりに、加圧（荷重）４０ｋＮ、面圧５．８ＭＰａ（５９ｋｇ／ｃｍ２）の加圧処理条件で加圧処理したこと以外は、実施例４と同様に、銀ナノワイヤー透明導電膜を作製し、作製した銀ナノワイヤー透明導電膜を加圧処理し、加圧処理した銀ナノワイヤー透明導電膜の抵抗値を測定し、導電性の評価を行った。結果を表１に示す。 (Example 5)
In Example 4, instead of pressurizing under a pressurizing process condition of pressurization (load) of 50 kN and surface pressure of 7.3 MPa (74 kg / cm 2 ), pressurization (load) of 40 kN and surface pressure of 5.8 MPa ( 59 kg / cm 2 ) A silver nanowire transparent conductive film was produced in the same manner as in Example 4 except that the pressure treatment was performed under pressure treatment conditions of 59 kg / cm 2 ). The resistance value of the pressure-treated silver nanowire transparent conductive film was measured, and the conductivity was evaluated. The results are shown in Table 1.

（実施例６）
実施例４において、加圧（荷重）を５０ｋＮ、面圧７．３ＭＰａ（７４ｋｇ／ｃｍ２）の加圧処理条件で加圧処理する代わりに、加圧（荷重）３０ｋＮ、面圧４．４ＭＰａ（４５ｋｇ／ｃｍ２）の加圧処理条件で加圧処理したこと以外は、実施例４と同様に、銀ナノワイヤー透明導電膜を作製し、作製した銀ナノワイヤー透明導電膜を加圧処理し、加圧処理した銀ナノワイヤー透明導電膜の抵抗値を測定し、導電性の評価を行った。結果を表１に示す。 (Example 6)
In Example 4, instead of pressurizing under a pressurizing process condition of pressurization (load) of 50 kN and surface pressure of 7.3 MPa (74 kg / cm 2 ), pressurization (load) of 30 kN and surface pressure of 4.4 MPa ( 45 kg / cm 2 ) A silver nanowire transparent conductive film was produced in the same manner as in Example 4 except that the pressure treatment was performed under a pressure treatment condition of 45 kg / cm 2 ). The resistance value of the pressure-treated silver nanowire transparent conductive film was measured, and the conductivity was evaluated. The results are shown in Table 1.

（実施例７）
実施例４において、加圧（荷重）を５０ｋＮ、面圧７．３ＭＰａ（７４ｋｇ／ｃｍ２）の加圧処理条件で加圧処理する代わりに、加圧（荷重）２０ｋＮ、面圧２．９ＭＰａ（３０ｋｇ／ｃｍ２）の加圧処理条件で加圧処理したこと以外は、実施例４と同様に、銀ナノワイヤー透明導電膜を作製し、作製した銀ナノワイヤー透明導電膜を加圧処理し、加圧処理した銀ナノワイヤー透明導電膜の抵抗値を測定し、導電性の評価を行った。結果を表１に示す。 (Example 7)
In Example 4, instead of pressurizing under a pressurizing process condition of pressurization (load) of 50 kN and surface pressure of 7.3 MPa (74 kg / cm 2 ), pressurization (load) of 20 kN and surface pressure of 2.9 MPa ( 30 kg / cm 2 ) A silver nanowire transparent conductive film was produced in the same manner as in Example 4 except that the pressure treatment was performed under a pressure treatment condition of 30 kg / cm 2 ). The resistance value of the pressure-treated silver nanowire transparent conductive film was measured, and the conductivity was evaluated. The results are shown in Table 1.

（実施例８）
実施例１において、ゴム硬度１００°のＮＢＲゴム（製造会社名：宮川ローラー）製バックロール、線幅２．０ｍｍ、面圧を１０．５ＭＰａ（１０７ｋｇ／ｃｍ２）の加圧処理条件で加圧処理する代わりに、ゴム硬度８０°のＮＢＲゴム（製造会社名：宮川ローラー）製バックロール、線幅３．０ｍｍ、面圧５．６ＭＰａ（５７ｋｇ／ｃｍ２）の加圧処理条件で加圧処理したこと以外は、実施例１と同様に、銀ナノワイヤー透明導電膜を作製し、作製した銀ナノワイヤー透明導電膜を加圧処理し、加圧処理した銀ナノワイヤー透明導電膜の抵抗値を測定し、導電性の評価を行った。結果を表１に示す。 (Example 8)
In Example 1, a back roll made of NBR rubber (manufacturer name: Miyagawa Roller) having a rubber hardness of 100 °, a line width of 2.0 mm, and a surface pressure of 10.5 MPa (107 kg / cm 2 ) were pressed. Instead of the treatment, pressurization treatment was performed under the condition of a back roll made of NBR rubber (manufacturer name: Miyagawa Roller) with a rubber hardness of 80 °, a line width of 3.0 mm, and a surface pressure of 5.6 MPa (57 kg / cm 2 ). Except what was done, like Example 1, a silver nanowire transparent conductive film was produced, the produced silver nanowire transparent conductive film was pressurized, and the resistance value of the pressure-treated silver nanowire transparent conductive film was determined. Measured and evaluated for conductivity. The results are shown in Table 1.

（実施例９）
実施例８において、加圧（荷重）を５０ｋＮ、面圧５．６ＭＰａ（５７ｋｇ／ｃｍ２）の加圧処理条件で加圧処理する代わりに、加圧（荷重）４０ｋＮ、面圧４．４ＭＰａ（４５ｋｇ／ｃｍ２）の加圧処理条件で加圧処理したこと以外は、実施例８と同様に、銀ナノワイヤー透明導電膜を作製し、作製した銀ナノワイヤー透明導電膜を加圧処理し、加圧処理した銀ナノワイヤー透明導電膜の抵抗値を測定し、導電性の評価を行った。結果を表１に示す。 Example 9
In Example 8, instead of pressurizing (loading) under the pressurizing conditions of 50 kN and surface pressure of 5.6 MPa (57 kg / cm 2 ), pressurizing (load) of 40 kN and surface pressure of 4.4 MPa ( 45 kg / cm 2 ) A silver nanowire transparent conductive film was produced in the same manner as in Example 8 except that the pressure treatment was performed under a pressure treatment condition of 45 kg / cm 2 ). The resistance value of the pressure-treated silver nanowire transparent conductive film was measured, and the conductivity was evaluated. The results are shown in Table 1.

（実施例１０）
実施例８において、加圧（荷重）を５０ｋＮ、面圧５．６ＭＰａ（５７ｋｇ／ｃｍ２）の加圧処理条件で加圧処理する代わりに、加圧（荷重）３０ｋＮ、面圧３．３ＭＰａ（３４ｋｇ／ｃｍ２）の加圧処理条件で加圧処理したこと以外は、実施例８と同様に、銀ナノワイヤー透明導電膜を作製し、作製した銀ナノワイヤー透明導電膜を加圧処理し、加圧処理した銀ナノワイヤー透明導電膜の抵抗値を測定し、導電性の評価を行った。結果を表１に示す。 (Example 10)
In Example 8, instead of pressurizing under a pressurizing process condition of pressurization (load) of 50 kN and surface pressure of 5.6 MPa (57 kg / cm 2 ), pressurization (load) of 30 kN and surface pressure of 3.3 MPa ( 34 kg / cm 2 ) A silver nanowire transparent conductive film was produced in the same manner as in Example 8 except that the pressure treatment was performed under a pressure treatment condition of 34 kg / cm 2 ). The resistance value of the pressure-treated silver nanowire transparent conductive film was measured, and the conductivity was evaluated. The results are shown in Table 1.

（比較例１）
実施例８において、加圧（荷重）を５０ｋＮ、面圧５．６ＭＰａ（５７ｋｇ／ｃｍ２）の加圧処理条件で加圧処理する代わりに、加圧（荷重）２０ｋＮ、面圧２．３ＭＰａ（２３ｋｇ／ｃｍ２）の加圧処理条件で加圧処理したこと以外は、実施例８と同様に、銀ナノワイヤー透明導電膜を作製し、作製した銀ナノワイヤー透明導電膜を加圧処理し、加圧処理した銀ナノワイヤー透明導電膜の抵抗値を測定し、導電性の評価を行った。結果を表１に示す。 (Comparative Example 1)
In Example 8, instead of pressurizing under a pressurizing process condition of pressurizing (load) of 50 kN and surface pressure of 5.6 MPa (57 kg / cm 2 ), pressurizing (load) of 20 kN and surface pressure of 2.3 MPa ( 23 kg / cm 2 ) A silver nanowire transparent conductive film was prepared in the same manner as in Example 8 except that the pressure treatment was performed under a pressure treatment condition of 23 kg / cm 2 ). The resistance value of the pressure-treated silver nanowire transparent conductive film was measured, and the conductivity was evaluated. The results are shown in Table 1.

（比較例２）
実施例１において、ゴム硬度１００°のＮＢＲゴム（製造会社名：宮川ローラー）製バックロール、線幅２．０ｍｍ、面圧を１０．５ＭＰａ（１０７ｋｇ／ｃｍ２）の加圧処理条件で加圧処理する代わりに、ゴム硬度７０°のＮＢＲゴム（製造会社名：宮川ローラー）製バックロール、線幅８．０ｍｍ、面圧１．７ＭＰａ（１７ｋｇ／ｃｍ２）の加圧処理条件で加圧処理したこと以外は、実施例１と同様に、銀ナノワイヤー透明導電膜を作製し、作製した銀ナノワイヤー透明導電膜を加圧処理し、加圧処理した銀ナノワイヤー透明導電膜の抵抗値を測定し、導電性の評価を行った。結果を表１に示す。 (Comparative Example 2)
In Example 1, a back roll made of NBR rubber (manufacturer name: Miyagawa Roller) having a rubber hardness of 100 °, a line width of 2.0 mm, and a surface pressure of 10.5 MPa (107 kg / cm 2 ) were pressed. Instead of the treatment, the pressure treatment is performed under the pressure treatment conditions of a back roll made of NBR rubber (manufacturer name: Miyagawa roller) with a rubber hardness of 70 °, a line width of 8.0 mm, and a surface pressure of 1.7 MPa (17 kg / cm 2 ). Except what was done, like Example 1, a silver nanowire transparent conductive film was produced, the produced silver nanowire transparent conductive film was pressurized, and the resistance value of the pressure-treated silver nanowire transparent conductive film was determined. Measured and evaluated for conductivity. The results are shown in Table 1.

（比較例３）
比較例２において、加圧（荷重）を５０ｋＮ、面圧１．７ＭＰａ（１７ｋｇ／ｃｍ２）の加圧処理条件で加圧処理する代わりに、加圧（荷重）２０ｋＮ、面圧０．６９ＭＰａ（７ｋｇ／ｃｍ２）の加圧処理条件で加圧処理したこと以外は、比較例２と同様に、銀ナノワイヤー透明導電膜を作製し、作製した銀ナノワイヤー透明導電膜を加圧処理し、加圧処理した銀ナノワイヤー透明導電膜の抵抗値を測定し、導電性の評価を行った。結果を表１に示す。 (Comparative Example 3)
In Comparative Example 2, instead of applying pressure (load) under the pressure treatment conditions of 50 kN, surface pressure of 1.7 MPa (17 kg / cm 2 ), pressure (load) of 20 kN, surface pressure of 0.69 MPa ( 7 kg / cm 2 ) A silver nanowire transparent conductive film was produced in the same manner as in Comparative Example 2 except that the pressure treatment was performed under a pressure treatment condition of 7 kg / cm 2 ). The resistance value of the pressure-treated silver nanowire transparent conductive film was measured, and the conductivity was evaluated. The results are shown in Table 1.

（実施例１１）
実施例１において、ゴム硬度１００°のＮＢＲゴム（製造会社名：宮川ローラー）製バックロール、線幅２．０ｍｍ、面圧を１０．５ＭＰａ（１０７ｋｇ／ｃｍ２）の加圧処理条件で加圧処理する代わりに、ゴム硬度７５°のＮＢＲゴム（製造会社名：宮川ローラー）製バックロール、加圧（荷重）４５ｋＮ、線幅５．０ｍｍ、面圧３．８ＭＰａ（３９ｋｇ／ｃｍ２）の加圧処理条件で加圧処理したこと以外は、実施例１と同様に、銀ナノワイヤー透明導電膜を作製し、作製した銀ナノワイヤー透明導電膜を加圧処理し、加圧処理した銀ナノワイヤー透明導電膜の抵抗値を測定し、導電性の評価を行った。結果を表１に示す。 (Example 11)
In Example 1, a back roll made of NBR rubber (manufacturer name: Miyagawa Roller) having a rubber hardness of 100 °, a line width of 2.0 mm, and a surface pressure of 10.5 MPa (107 kg / cm 2 ) were pressed. Instead of processing, an NBR rubber (manufacturer name: Miyagawa roller) with a rubber hardness of 75 °, a pressure (load) of 45 kN, a line width of 5.0 mm, and a surface pressure of 3.8 MPa (39 kg / cm 2 ) A silver nanowire transparent conductive film was produced in the same manner as in Example 1 except that the pressure treatment was performed under pressure treatment conditions, and the silver nanowire transparent conductive film thus produced was subjected to pressure treatment and pressure-treated silver nanowires. The resistance value of the transparent conductive film was measured and the conductivity was evaluated. The results are shown in Table 1.

（実施例１２）
実施例１において、プレスロール（第１ロール）としてのスチール製ロールの直径を１００ｍｍとし、加圧（荷重）５０ｋＮ、線幅２．０ｍｍ、面圧１０．５ＭＰａ（１０７ｋｇ／ｃｍ２）の加圧処理条件で加圧処理する代わりに、プレスロール（第１ロール）としてのスチール製ロールの直径を２００ｍｍとし、加圧（荷重）４５ｋＮ、線幅２．２ｍｍ、面圧８．６ＭＰａ（８８ｋｇ／ｃｍ２）の加圧処理条件で加圧処理したこと以外は、実施例１と同様に、銀ナノワイヤー透明導電膜を作製し、作製した銀ナノワイヤー透明導電膜を加圧処理し、加圧処理した銀ナノワイヤー透明導電膜の抵抗値を測定し、導電性の評価を行った。結果を表１に示す。 (Example 12)
In Example 1, the diameter of a steel roll as a press roll (first roll) is 100 mm, pressurization (load) is 50 kN, line width is 2.0 mm, and surface pressure is 10.5 MPa (107 kg / cm 2 ). Instead of pressure treatment under the treatment conditions, the diameter of the steel roll as the press roll (first roll) is 200 mm, the pressure (load) is 45 kN, the line width is 2.2 mm, the surface pressure is 8.6 MPa (88 kg / cm 2 ) A silver nanowire transparent conductive film was produced in the same manner as in Example 1 except that the pressure treatment was performed under the pressure treatment conditions of 2 ), and the produced silver nanowire transparent conductive film was subjected to pressure treatment and pressure treatment. The resistance value of the obtained silver nanowire transparent conductive film was measured, and the conductivity was evaluated. The results are shown in Table 1.

（実施例１３）
実施例１において、加圧処理（カレンダー処理）の際、プレスロール（第１ロール）をスチール（製造会社名：宮川ローラー）製ロール（直径１００ｍｍ、幅３００ｍｍ）とし、バックロール（第２ロール）をゴム硬度が１００°のＮＢＲゴム（製造会社名：宮川ローラー）製ロール（直径２００ｍｍ、幅３００ｍｍ）とする代わりに、加圧処理（カレンダー処理）の際、プレスロール（第１ロール）をゴム硬度が１００°のＮＢＲゴム（製造会社名：宮川ローラー）製ロール（直径２００ｍｍ、幅３００ｍｍ）とし、バックロール（第２ロール）をスチール（製造会社名：宮川ローラー）製ロール（直径１００ｍｍ、幅３００ｍｍ）としたこと以外は、実施例１と同様に、銀ナノワイヤー透明導電膜を作製し、作製した銀ナノワイヤー透明導電膜を加圧処理し、加圧処理した銀ナノワイヤー透明導電膜の抵抗値を測定し、導電性の評価を行った。結果を表１に示す。 (Example 13)
In Example 1, during the pressure treatment (calendar treatment), the press roll (first roll) is a steel (manufacturer name: Miyagawa roller) roll (diameter 100 mm, width 300 mm), and the back roll (second roll). Instead of using a NBR rubber (manufacturer name: Miyagawa roller) roll (diameter 200 mm, width 300 mm) with a rubber hardness of 100 °, the press roll (first roll) is a rubber during pressure treatment (calendar treatment). A roll made of NBR rubber (manufacturer name: Miyagawa roller) with a hardness of 100 ° (diameter 200 mm, width 300 mm) and a back roll (second roll) made of steel (manufacturer name: Miyagawa roller) (diameter 100 mm, width) 300 mm), except that the silver nanowire transparent conductive film was produced in the same manner as in Example 1, and the produced silver nanowire transparent conductor was produced. The electric film was subjected to pressure treatment, and the resistance value of the pressure-treated silver nanowire transparent conductive film was measured to evaluate conductivity. The results are shown in Table 1.

（実施例１４）
実施例１において、加圧処理（カレンダー処理）の際、プレスロール（第１ロール）をスチール（製造会社名：宮川ローラー）製ロール（直径１００ｍｍ、幅３００ｍｍ）とし、バックロール（第２ロール）をゴム硬度が１００°のＮＢＲゴム（製造会社名：宮川ローラー）製ロール（直径２００ｍｍ、幅３００ｍｍ）とし、加圧（荷重）を５０ｋＮとし、線幅を２．０ｍｍとし、面圧を１０．５ＭＰａ（１０７ｋｇ／ｃｍ２）とする代わりに、加圧処理（カレンダー処理）の際、プレスロール（第１ロール）及びバックロール（第２ロール）をいずれもスチール（製造会社名：宮川ローラー）製ロール（直径４０ｍｍ、幅５５ｍｍ）とし、加圧（荷重）を１．５ｋＮとし、線幅を０．２０ｍｍとし、面圧を４０．０ＭＰａ（４０８ｋｇ／ｃｍ２）としたこと以外は、実施例１と同様に、銀ナノワイヤー透明導電膜を作製し、作製した銀ナノワイヤー透明導電膜を加圧処理し、加圧処理した銀ナノワイヤー透明導電膜の抵抗値を測定し、導電性の評価を行った。結果を表２に示す。 (Example 14)
In Example 1, during the pressure treatment (calendar treatment), the press roll (first roll) is a steel (manufacturer name: Miyagawa roller) roll (diameter 100 mm, width 300 mm), and the back roll (second roll). Is a roll made of NBR rubber (manufacturer name: Miyagawa Roller) with a rubber hardness of 100 ° (diameter 200 mm, width 300 mm), pressure (load) is 50 kN, line width is 2.0 mm, and surface pressure is 10. Instead of 5 MPa (107 kg / cm 2 ), the press roll (first roll) and the back roll (second roll) are both made of steel (manufacturer name: Miyagawa Roller) during pressure treatment (calendar treatment). Roll (diameter 40 mm, width 55 mm), pressure (load) 1.5 kN, line width 0.20 mm, surface pressure 40.0 MPa (408 kg / c m 2 ) A silver nanowire transparent conductive film was prepared in the same manner as in Example 1, except that the silver nanowire transparent conductive film was subjected to pressure treatment and pressure treatment. The resistance value of was measured and the conductivity was evaluated. The results are shown in Table 2.

（実施例１５）
実施例１４において、加圧（荷重）１．５ｋＮ、面圧４０．０ＭＰａ（４０８ｋｇ／ｃｍ２）の加圧処理条件で加圧処理する代わりに、加圧（荷重）１．０ｋＮ、面圧２６．７ＭＰａ（２７２ｋｇ／ｃｍ２）の加圧処理条件で加圧処理したこと以外は、実施例１４と同様に、銀ナノワイヤー透明導電膜を作製し、作製した銀ナノワイヤー透明導電膜を加圧処理し、加圧処理した銀ナノワイヤー透明導電膜の抵抗値を測定し、導電性の評価を行った。結果を表２に示す。 (Example 15)
In Example 14, instead of pressurizing under the pressurizing conditions of pressurization (load) 1.5 kN and surface pressure 40.0 MPa (408 kg / cm 2 ), pressurization (load) 1.0 kN, surface pressure 26 A silver nanowire transparent conductive film was produced in the same manner as in Example 14 except that the pressure treatment was performed under a pressure treatment condition of 0.7 MPa (272 kg / cm 2 ), and the produced silver nanowire transparent conductive film was pressurized. The resistance value of the processed and pressure-treated silver nanowire transparent conductive film was measured, and the conductivity was evaluated. The results are shown in Table 2.

（実施例１６）
実施例１４において、加圧（荷重）１．５ｋＮ、面圧４０．０ＭＰａ（４０８ｋｇ／ｃｍ２）の加圧処理条件で加圧処理する代わりに、加圧（荷重）０．７ｋＮ、面圧１８．６ＭＰａ（１９０ｋｇ／ｃｍ２）の加圧処理条件で加圧処理したこと以外は、実施例１４と同様に、銀ナノワイヤー透明導電膜を作製し、作製した銀ナノワイヤー透明導電膜を加圧処理し、加圧処理した銀ナノワイヤー透明導電膜の抵抗値を測定し、導電性の評価を行った。結果を表２に示す。 (Example 16)
In Example 14, instead of pressurizing under the pressurizing conditions of pressurization (load) 1.5 kN and surface pressure 40.0 MPa (408 kg / cm 2 ), pressurization (load) 0.7 kN, surface pressure 18 A silver nanowire transparent conductive film was produced in the same manner as in Example 14 except that the pressure treatment was performed under a pressure treatment condition of 6 MPa (190 kg / cm 2 ), and the produced silver nanowire transparent conductive film was pressurized. The resistance value of the processed and pressure-treated silver nanowire transparent conductive film was measured, and the conductivity was evaluated. The results are shown in Table 2.

（実施例１７）
実施例１４において、加圧（荷重）１．５ｋＮ、面圧４０．０ＭＰａ（４０８ｋｇ／ｃｍ２）の加圧処理条件で加圧処理する代わりに、加圧（荷重）０．４ｋＮ、面圧１０．７ＭＰａ（１０９ｋｇ／ｃｍ２）の加圧処理条件で加圧処理したこと以外は、実施例１４と同様に、銀ナノワイヤー透明導電膜を作製し、作製した銀ナノワイヤー透明導電膜を加圧処理し、加圧処理した銀ナノワイヤー透明導電膜の抵抗値を測定し、導電性の評価を行った。結果を表２に示す。 (Example 17)
In Example 14, instead of pressurizing under pressure (load) of 1.5 kN and surface pressure of 40.0 MPa (408 kg / cm 2 ), pressurization (load) of 0.4 kN and surface pressure of 10 A silver nanowire transparent conductive film was produced in the same manner as in Example 14 except that the pressure treatment was performed under a pressure treatment condition of 0.7 MPa (109 kg / cm 2 ), and the produced silver nanowire transparent conductive film was pressurized. The resistance value of the processed and pressure-treated silver nanowire transparent conductive film was measured, and the conductivity was evaluated. The results are shown in Table 2.

（実施例１８）
実施例１４において、加圧（荷重）１．５ｋＮ、面圧４０．０ＭＰａ（４０８ｋｇ／ｃｍ２）の加圧処理条件で加圧処理する代わりに、加圧（荷重）０．３ｋＮ、面圧７．７ＭＰａ（７９ｋｇ／ｃｍ２）の加圧処理条件で加圧処理したこと以外は、実施例１４と同様に、銀ナノワイヤー透明導電膜を作製し、作製した銀ナノワイヤー透明導電膜を加圧処理し、加圧処理した銀ナノワイヤー透明導電膜の抵抗値を測定し、導電性の評価を行った。結果を表２に示す。 (Example 18)
In Example 14, instead of pressurizing under the pressurizing conditions of pressurization (load) 1.5 kN and surface pressure 40.0 MPa (408 kg / cm 2 ), pressurization (load) 0.3 kN, surface pressure 7 A silver nanowire transparent conductive film was produced in the same manner as in Example 14 except that the pressure treatment was performed under a pressure treatment condition of 0.7 MPa (79 kg / cm 2 ), and the produced silver nanowire transparent conductive film was pressurized. The resistance value of the processed and pressure-treated silver nanowire transparent conductive film was measured, and the conductivity was evaluated. The results are shown in Table 2.

（実施例１９）
実施例１４において、加圧（荷重）１．５ｋＮ、面圧４０．０ＭＰａ（４０８ｋｇ／ｃｍ２）の加圧処理条件で加圧処理する代わりに、加圧（荷重）０．２ｋＮ、面圧５．７ＭＰａ（５８ｋｇ／ｃｍ２）の加圧処理条件で加圧処理したこと以外は、実施例１４と同様に、銀ナノワイヤー透明導電膜を作製し、作製した銀ナノワイヤー透明導電膜を加圧処理し、加圧処理した銀ナノワイヤー透明導電膜の抵抗値を測定し、導電性の評価を行った。結果を表２に示す。 (Example 19)
In Example 14, instead of pressurizing under pressure (load) of 1.5 kN and surface pressure of 40.0 MPa (408 kg / cm 2 ), pressurization (load) of 0.2 kN and surface pressure of 5 A silver nanowire transparent conductive film was produced in the same manner as in Example 14 except that the pressure treatment was performed under a pressure treatment condition of 0.7 MPa (58 kg / cm 2 ), and the produced silver nanowire transparent conductive film was pressurized. The resistance value of the processed and pressure-treated silver nanowire transparent conductive film was measured, and the conductivity was evaluated. The results are shown in Table 2.

（比較例４）
実施例１４において、加圧（荷重）１．５ｋＮ、面圧４０．０ＭＰａ（４０８ｋｇ／ｃｍ２）の加圧処理条件で加圧処理する代わりに、加圧（荷重）０．１ｋＮ、面圧２．６ＭＰａ（２７ｋｇ／ｃｍ２）の加圧処理条件で加圧処理したこと以外は、実施例１４と同様に、銀ナノワイヤー透明導電膜を作製し、作製した銀ナノワイヤー透明導電膜を加圧処理し、加圧処理した銀ナノワイヤー透明導電膜の抵抗値を測定し、導電性の評価を行った。結果を表２に示す。 (Comparative Example 4)
In Example 14, instead of pressurizing under pressure (load) of 1.5 kN and surface pressure of 40.0 MPa (408 kg / cm 2 ), pressurization (load) of 0.1 kN and surface pressure of 2 A silver nanowire transparent conductive film was produced in the same manner as in Example 14 except that the pressure treatment was performed under a pressure treatment condition of .6 MPa (27 kg / cm 2 ), and the produced silver nanowire transparent conductive film was pressurized. The resistance value of the processed and pressure-treated silver nanowire transparent conductive film was measured, and the conductivity was evaluated. The results are shown in Table 2.

（実施例２０）
実施例１において、加圧処理（カレンダー処理）の際、プレスロール（第１ロール）をスチール（製造会社名：宮川ローラー）製ロール（直径１００ｍｍ、幅３００ｍｍ）とし、バックロール（第２ロール）をゴム硬度が１００°のＮＢＲゴム（製造会社名：宮川ローラー）製ロール（直径２００ｍｍ、幅３００ｍｍ）とし、加圧（荷重）を５０ｋＮとし、線幅を２．０ｍｍとし、面圧を１０．５ＭＰａ（１０７ｋｇ／ｃｍ２）とする代わりに、加圧処理（カレンダー処理）の際、プレスロール（第１ロール）及びバックロール（第２ロール）をいずれもスチール（製造会社名：宮川ローラー）製ロール（直径１６０ｍｍ、幅３００ｍｍ）とし、加圧（荷重）を３．０ｋＮとし、線幅を０．５０ｍｍとし、面圧を２４．０ＭＰａ（２４５ｋｇ／ｃｍ２）としたこと以外は、実施例１と同様に、銀ナノワイヤー透明導電膜を作製し、作製した銀ナノワイヤー透明導電膜を加圧処理し、加圧処理した銀ナノワイヤー透明導電膜の抵抗値を測定し、導電性の評価を行った。結果を表２に示す。 (Example 20)
In Example 1, during the pressure treatment (calendar treatment), the press roll (first roll) is a steel (manufacturer name: Miyagawa roller) roll (diameter 100 mm, width 300 mm), and the back roll (second roll). Is a roll made of NBR rubber (manufacturer name: Miyagawa Roller) with a rubber hardness of 100 ° (diameter 200 mm, width 300 mm), pressure (load) is 50 kN, line width is 2.0 mm, and surface pressure is 10. Instead of 5 MPa (107 kg / cm 2 ), the press roll (first roll) and the back roll (second roll) are both made of steel (manufacturer name: Miyagawa Roller) during pressure treatment (calendar treatment). Roll (diameter: 160 mm, width: 300 mm), pressure (load): 3.0 kN, line width: 0.50 mm, surface pressure: 24.0 MPa (245 kg) Silver nanowire transparent conductive film prepared in the same manner as in Example 1 except that it was set to / cm 2 ), and the silver nanowire transparent conductive film thus prepared was subjected to pressure treatment and pressure treatment. The resistance value of the film was measured and the conductivity was evaluated. The results are shown in Table 2.

（実施例２１）
実施例２０において、加圧（荷重）３．０ｋＮ、面圧２４．０ＭＰａ（２４５ｋｇ／ｃｍ２）の加圧処理条件で加圧処理する代わりに、加圧（荷重）２．０ｋＮ、面圧１６．０ＭＰａ（１６３ｋｇ／ｃｍ２）の加圧処理条件で加圧処理したこと以外は、実施例２０と同様に、銀ナノワイヤー透明導電膜を作製し、作製した銀ナノワイヤー透明導電膜を加圧処理し、加圧処理した銀ナノワイヤー透明導電膜の抵抗値を測定し、導電性の評価を行った。結果を表２に示す。 (Example 21)
In Example 20, instead of pressurizing under pressure (load) of 3.0 kN and surface pressure of 24.0 MPa (245 kg / cm 2 ), pressurization (load) of 2.0 kN and surface pressure of 16 A silver nanowire transparent conductive film was produced in the same manner as in Example 20 except that the pressure treatment was performed under a pressure treatment condition of 0.0 MPa (163 kg / cm 2 ), and the produced silver nanowire transparent conductive film was pressurized. The resistance value of the processed and pressure-treated silver nanowire transparent conductive film was measured, and the conductivity was evaluated. The results are shown in Table 2.

（実施例２２）
実施例２０において、加圧（荷重）３．０ｋＮ、面圧２４．０ＭＰａ（２４５ｋｇ／ｃｍ２）の加圧処理条件で加圧処理する代わりに、加圧（荷重）１．６ｋＮ、面圧１２．８ＭＰａ（１３１ｋｇ／ｃｍ２）の加圧処理条件で加圧処理したこと以外は、実施例２０と同様に、銀ナノワイヤー透明導電膜を作製し、作製した銀ナノワイヤー透明導電膜を加圧処理し、加圧処理した銀ナノワイヤー透明導電膜の抵抗値を測定し、導電性の評価を行った。結果を表２に示す。 (Example 22)
In Example 20, instead of pressurizing under pressure (load) of 3.0 kN and surface pressure of 24.0 MPa (245 kg / cm 2 ), pressurization (load) of 1.6 kN and surface pressure of 12 A silver nanowire transparent conductive film was produced in the same manner as in Example 20 except that the pressure treatment was performed under a pressure treatment condition of 8 MPa (131 kg / cm 2 ), and the produced silver nanowire transparent conductive film was pressurized. The resistance value of the processed and pressure-treated silver nanowire transparent conductive film was measured, and the conductivity was evaluated. The results are shown in Table 2.

（実施例２３）
実施例２０において、加圧（荷重）３．０ｋＮ、面圧２４．０ＭＰａ（２４５ｋｇ／ｃｍ２）の加圧処理条件で加圧処理する代わりに、加圧（荷重）１．１ｋＮ、面圧８．８ＭＰａ（９０ｋｇ／ｃｍ２）の加圧処理条件で加圧処理したこと以外は、実施例２０と同様に、銀ナノワイヤー透明導電膜を作製し、作製した銀ナノワイヤー透明導電膜を加圧処理し、加圧処理した銀ナノワイヤー透明導電膜の抵抗値を測定し、導電性の評価を行った。結果を表２に示す。 (Example 23)
In Example 20, instead of pressurizing under pressure (load) of 3.0 kN and surface pressure of 24.0 MPa (245 kg / cm 2 ), pressurization (load) of 1.1 kN and surface pressure of 8 A silver nanowire transparent conductive film was produced in the same manner as in Example 20 except that the pressure treatment was performed under a pressure treatment condition of 8 MPa (90 kg / cm 2 ), and the produced silver nanowire transparent conductive film was pressurized. The resistance value of the processed and pressure-treated silver nanowire transparent conductive film was measured, and the conductivity was evaluated. The results are shown in Table 2.

（実施例２４）
実施例２０において、加圧（荷重）３．０ｋＮ、面圧２４．０ＭＰａ（２４５ｋｇ／ｃｍ２）の加圧処理条件で加圧処理する代わりに、加圧（荷重）０．９ｋＮ、面圧７．５ＭＰａ（７６ｋｇ／ｃｍ２）の加圧処理条件で加圧処理したこと以外は、実施例２０と同様に、銀ナノワイヤー透明導電膜を作製し、作製した銀ナノワイヤー透明導電膜を加圧処理し、加圧処理した銀ナノワイヤー透明導電膜の抵抗値を測定し、導電性の評価を行った。結果を表２に示す。 (Example 24)
In Example 20, instead of pressurizing under pressure (load) of 3.0 kN and surface pressure of 24.0 MPa (245 kg / cm 2 ), pressurization (load) of 0.9 kN and surface pressure of 7 A silver nanowire transparent conductive film was produced in the same manner as in Example 20 except that the pressure treatment was performed under a pressure treatment condition of 0.5 MPa (76 kg / cm 2 ), and the produced silver nanowire transparent conductive film was pressurized. The resistance value of the processed and pressure-treated silver nanowire transparent conductive film was measured, and the conductivity was evaluated. The results are shown in Table 2.

（比較例５）
実施例２０において、加圧（荷重）３．０ｋＮ、面圧２４．０ＭＰａ（２４５ｋｇ／ｃｍ２）の加圧処理条件で加圧処理する代わりに、加圧（荷重）０．７ｋＮ、面圧５．６ＭＰａ（５７ｋｇ／ｃｍ２）の加圧処理条件で加圧処理したこと以外は、実施例２０と同様に、銀ナノワイヤー透明導電膜を作製し、作製した銀ナノワイヤー透明導電膜を加圧処理し、加圧処理した銀ナノワイヤー透明導電膜の抵抗値を測定し、導電性の評価を行った。結果を表２に示す。 (Comparative Example 5)
In Example 20, instead of pressurizing under pressure (load) of 3.0 kN and surface pressure of 24.0 MPa (245 kg / cm 2 ), pressurization (load) of 0.7 kN and surface pressure of 5 A silver nanowire transparent conductive film was produced in the same manner as in Example 20 except that the pressure treatment was performed under a pressure treatment condition of .6 MPa (57 kg / cm 2 ), and the produced silver nanowire transparent conductive film was pressurized. The resistance value of the processed and pressure-treated silver nanowire transparent conductive film was measured, and the conductivity was evaluated. The results are shown in Table 2.

Figure 2015103468
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Figure 2015103468
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表１から、ゴム硬度７５°〜１００°の弾性ロールを含むロール対を用いて面圧２．９ＭＰａ（３０ｋｇ/ｃｍ２）以上で加圧処理した実施例１〜１３は、ゴム硬度７５°〜１００°の弾性ロールを含むロール対を用いて面圧２．９ＭＰａ（３０ｋｇ/ｃｍ２）以上で加圧処理することをしていない比較例１〜３と比較して、導電性が十分に向上されていることが分かる。
表２から、両方のロールとも金属ロールであるロール対を用いて面圧５．７ＭＰａ（５８ｋｇ/ｃｍ２）以上で加圧処理した実施例１４〜２４は、両方のロールとも金属ロールであるロール対を用いて面圧５．７ＭＰａ（５８ｋｇ/ｃｍ２）以上で加圧処理することをしていない比較例４及び５と比較して、導電性が十分に向上されていることが分かる。 From Table 1, Examples 1-13 which carried out the pressurization process by the surface pressure of 2.9 MPa (30 kg / cm < 2 >) or more using the roll pair containing the elastic roll of rubber hardness 75 degrees-100 degrees are rubber hardness 75 degrees- Compared with Comparative Examples 1 to 3 in which pressure treatment is not performed at a surface pressure of 2.9 MPa (30 kg / cm 2 ) or more using a roll pair including a 100 ° elastic roll, the conductivity is sufficiently improved. You can see that.
From Table 2, Examples 14-24 which carried out the pressure process by the surface pressure 5.7MPa (58kg / cm < 2 >) or more using the roll pair whose both rolls are metal rolls are rolls whose both rolls are metal rolls. It can be seen that the conductivity is sufficiently improved as compared with Comparative Examples 4 and 5 in which the pressure treatment at a surface pressure of 5.7 MPa (58 kg / cm 2 ) or more is not performed using a pair.

本発明の方法により製造された透明導電膜は、ノートパソコン、スマートフォン等の電子機器に用いられているインジウムスズ酸化物（ＩＴＯ）等の金属酸化物を用いた透明導電膜の代替物として、好適に利用可能である。   The transparent conductive film produced by the method of the present invention is suitable as an alternative to a transparent conductive film using a metal oxide such as indium tin oxide (ITO) used in electronic devices such as notebook computers and smartphones. Is available.

１０ 基材
２０ 透明導電膜
３０ 被加圧体
４０ プレスロール（第１ロール）
５０ バックロール（第２ロール）
６０ ロール対
Ａ 線幅
Ｘ 被加圧部 DESCRIPTION OF SYMBOLS 10 Base material 20 Transparent electrically conductive film 30 Pressurized object 40 Press roll (1st roll)
50 Back roll (second roll)
60 Roll vs. A Line width X Pressurized part

Claims (6)

金属ナノワイヤー及びカーボンナノチューブの少なくともいずれかを含む透明導電膜の製造方法において、
前記透明導電膜を加圧処理する加圧処理工程を含み、
前記加圧処理工程において、前記加圧処理に使用するロールの少なくとも１つをゴム硬度が７５°〜１００°の弾性ロールとし、且つ、面圧２．９ＭＰａ（３０ｋｇ/ｃｍ２）以上で加圧処理することを特徴とする透明導電膜の製造方法。 In the method for producing a transparent conductive film containing at least one of metal nanowires and carbon nanotubes,
A pressure treatment step of pressure-treating the transparent conductive film,
In the pressure treatment step, at least one of the rolls used in the pressure treatment is an elastic roll having a rubber hardness of 75 ° to 100 °, and is pressurized at a surface pressure of 2.9 MPa (30 kg / cm 2 ) or more. The manufacturing method of the transparent conductive film characterized by processing. 前記加圧処理工程において、線幅５．０ｍｍ以下で処理する請求項１に記載の透明導電膜の製造方法。   The manufacturing method of the transparent conductive film of Claim 1 processed in the said pressurization process process with the line width of 5.0 mm or less. 前記加圧処理工程において、プレスロールとして直径２００ｍｍ未満の金属ロールを用いる請求項１から２のいずれかに記載の透明導電膜の製造方法。   The method for producing a transparent conductive film according to claim 1, wherein a metal roll having a diameter of less than 200 mm is used as a press roll in the pressurizing process. 前記加圧処理工程において、バックロールとして直径２００ｍｍ以上の弾性ロールを用いる請求項１から３のいずれかに記載の透明導電膜の製造方法。   The method for producing a transparent conductive film according to any one of claims 1 to 3, wherein an elastic roll having a diameter of 200 mm or more is used as a back roll in the pressure treatment step. 金属ナノワイヤー及びカーボンナノチューブの少なくともいずれかを含む透明導電膜の製造方法において、
前記透明導電膜を加圧処理する加圧処理工程を含み、
前記加圧処理工程において、前記加圧処理に使用するロールをすべて金属ロールとし、且つ、面圧５．７ＭＰａ（５８ｋｇ/ｃｍ２）以上で加圧処理することを特徴とする透明導電膜の製造方法。 In the method for producing a transparent conductive film containing at least one of metal nanowires and carbon nanotubes,
A pressure treatment step of pressure-treating the transparent conductive film,
In the pressurizing process, the roll used for the pressurizing process is all a metal roll, and the pressurizing process is performed at a surface pressure of 5.7 MPa (58 kg / cm 2 ) or more. Method. 前記加圧処理工程において、線幅０．５０ｍｍ以下で処理する請求項５に記載の透明導電膜の製造方法。   The manufacturing method of the transparent conductive film of Claim 5 processed in the said pressurization process process by 0.50 mm or less of line | wire width.
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TWI602199B (en) * 2016-07-29 2017-10-11 Preparation method of silver-carbon composite aqueous solution, silver-carbon composite aqueous solution, silver-carbon composite unit, electric conductor, and preparation method of electric conductor
TWI629693B (en) * 2017-03-08 2018-07-11 南臺科技大學 Flexible, transparent and conductive membrane and method for fabricating the same
CN109080876B (en) * 2017-06-14 2023-01-17 张家港康得新光电材料有限公司 Product processing method using protective film

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Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN101160632B (en) * 2005-04-12 2011-09-28 住友金属矿山株式会社 Process for producing metal conductive film
JP2009059666A (en) * 2007-09-03 2009-03-19 Sumitomo Metal Mining Co Ltd Film with transparent conductive layer, flexible functional elements, and manufacturing methods therefor
JP2011076918A (en) * 2009-09-30 2011-04-14 Fujifilm Corp Method for producing conductive film
JP2011090878A (en) * 2009-10-22 2011-05-06 Fujifilm Corp Method of manufacturing transparent conductor
JP2013065450A (en) * 2011-09-16 2013-04-11 Fujifilm Corp Conductive member, method for manufacturing conductive member, touch panel, and solar cell

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