JP2015096636A - Component producing method and surface treatment method - Google Patents

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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To form a chemical coating of good quality on the surface of magnesium lithium alloy.SOLUTION: A component producing method comprises a step of exposing a surface 10a of base material 10 of magnesium lithium alloy to first acid 12 which does not comprise fluorine, and a step of fluorinating the surface 10a after exposed to second acid 13 to form a chemical coating 10x.

Description

本発明は、部品の製造方法及び表面処理方法に関する。   The present invention relates to a component manufacturing method and a surface treatment method.

携帯電話やノートPC(Personal Computer)等のモバイル端末においては、軽量化のために樹脂やアルミニウム合金を材料とする筐体が使用されている。アルミニウム合金は、樹脂よりも強度が高いというメリットはあるものの、樹脂よりも重いという欠点がある。   In mobile terminals such as mobile phones and notebook PCs (Personal Computers), a casing made of resin or aluminum alloy is used for weight reduction. Aluminum alloys have the advantage of being stronger than resins, but have the disadvantage of being heavier than resins.

そこで、アルミニウム合金よりも軽量な合金としてマグネシウムリチウム合金が注目されつつある。マグネシウムリチウム合金は、主成分であるマグネシウムに少量のリチウムを添加してなり、高強度かつ軽量という特徴がある。   Therefore, a magnesium lithium alloy is attracting attention as an alloy that is lighter than an aluminum alloy. Magnesium lithium alloys are characterized by high strength and light weight by adding a small amount of lithium to magnesium, which is the main component.

但し、反応性が高いマグネシウムを含むマグネシウムリチウム合金は、アルミニウム合金と比較して大気中で容易に酸化してしまうため、取扱いが難しい。酸化を防止するために、マグネシウムリチウム合金の表面に化成皮膜を形成することも考えられるが、耐腐食性や塗料の密着性等と両立し得る良質な化成皮膜を形成するのは難しい。   However, a magnesium lithium alloy containing highly reactive magnesium is difficult to handle because it is easily oxidized in the atmosphere as compared with an aluminum alloy. In order to prevent oxidation, it may be possible to form a chemical conversion film on the surface of the magnesium lithium alloy, but it is difficult to form a high-quality chemical conversion film that is compatible with corrosion resistance, paint adhesion, and the like.

特開2003−328188号公報JP 2003-328188 A 特開2011−58075号公報JP 2011-58075 A

部品の製造方法及び表面処理方法において、マグネシウムリチウム合金の表面に良質な化成皮膜を形成することを目的とする。   In a component manufacturing method and a surface treatment method, an object is to form a high-quality chemical conversion film on the surface of a magnesium lithium alloy.

以下の開示の一観点によれば、フッ素を含まない第1の酸に、マグネシウムリチウム合金の母材の表面を曝す工程と、前記第1の酸に前記表面を曝した後、フッ素を含む第2の酸に前記表面を曝す工程と、前記第2の酸に前記表面を曝した後、前記表面をフッ化して化成皮膜を形成する工程とを有する部品の製造方法が提供される。   According to one aspect of the following disclosure, the step of exposing the surface of the base material of the magnesium lithium alloy to a first acid not containing fluorine, and the step of exposing the surface to the first acid and then There is provided a method for producing a component, comprising: exposing the surface to a second acid; and exposing the surface to the second acid and then fluorinating the surface to form a chemical conversion film.

以下の開示によれば、フッ素を含まない第1の酸でマグネシウムリチウム合金の表面の遊離リチウムを除去しておくことで、マグネシウムリチウム合金の表面をフッ化して化成皮膜を形成するときに、遊離リチウムに起因した粉が発生するのを防止できる。   According to the following disclosure, when free lithium on the surface of the magnesium lithium alloy is removed with a first acid that does not contain fluorine, the surface of the magnesium lithium alloy is fluorinated to form a chemical conversion film. Generation of powder due to lithium can be prevented.

また、フッ素を含む第2の酸にマグネシウムリチウム合金の表面を曝すことにより当該表面にマグネシウムのフッ化物が形成され、このフッ化物によって化成皮膜の成長が促され、膜厚が厚く耐腐食性に優れた化成皮膜を形成することができる。   Further, by exposing the surface of the magnesium lithium alloy to a second acid containing fluorine, magnesium fluoride is formed on the surface, and this fluoride promotes the growth of the chemical conversion film. An excellent chemical conversion film can be formed.

図1は、本願発明者が検討したマグネシウムリチウム合金に対する表面処理方法のフローチャートである。FIG. 1 is a flowchart of a surface treatment method for a magnesium lithium alloy investigated by the present inventors. 図2は、試験片の表面を観察して得られた図(その1)である。FIG. 2 is a diagram (part 1) obtained by observing the surface of the test piece. 図3は、試験片の表面を観察して得られた図(その2)である。FIG. 3 is a diagram (part 2) obtained by observing the surface of the test piece. 図4は、試験片の表面を観察して得られた図(その3)である。FIG. 4 is a diagram (part 3) obtained by observing the surface of the test piece. 図5は、本実施形態で製造する部品の一例を示す斜視図である。FIG. 5 is a perspective view showing an example of a component manufactured in the present embodiment. 図6は、本実施形態に係る部品の製造方法のフローチャートである。FIG. 6 is a flowchart of the component manufacturing method according to the present embodiment. 図7は、本実施形態の工程S6について説明するための模式断面図である。FIG. 7 is a schematic cross-sectional view for explaining step S6 of the present embodiment. 図8は、本実施形態の工程S2について説明するための模式断面図である。FIG. 8 is a schematic cross-sectional view for explaining the step S2 of the present embodiment. 図9は、本実施形態の工程S3について説明するための模式断面図である。FIG. 9 is a schematic cross-sectional view for explaining step S3 of the present embodiment. 図10は、本実施形態の工程S4について説明するための模式断面図である。FIG. 10 is a schematic cross-sectional view for explaining step S4 of the present embodiment. 図11(a)、(b)は、本実施形態において、部品に対して行う加工の一例を示す模式断面図である。11A and 11B are schematic cross-sectional views showing an example of processing performed on a component in the present embodiment. 図12は、本願発明者が行った調査の結果について示す図である。FIG. 12 is a diagram showing the results of an investigation conducted by the present inventor.

本実施形態の説明に先立ち、本願発明者が検討した事項について説明する。   Prior to the description of the present embodiment, items studied by the inventor will be described.

マグネシウムリチウム合金の表面に化成皮膜を形成する方法としては、例えば、当該表面をフッ化する方法がある。この方法について、図1を参照しながら説明する。   As a method of forming a chemical conversion film on the surface of the magnesium lithium alloy, for example, there is a method of fluorinating the surface. This method will be described with reference to FIG.

図1は、本願発明者が検討したマグネシウムリチウム合金に対する表面処理方法のフローチャートである。   FIG. 1 is a flowchart of a surface treatment method for a magnesium lithium alloy investigated by the present inventors.

まず、最初の工程S1において、温度が75℃の強アルカリ水溶液(ミリオン化学株式会社製GF MG-15SX)にマグネシウムリチウム合金の試験片を5分間浸漬することにより、その試験片の表面を脱脂した。なお、この例では、試験片として短辺の長さが25mmで長辺の長さが50mmの矩形状のLZ91の板を用いた。LZ91は、リチウムが9%、亜鉛が1%、マグネシウムが90%のマグネシウムリチウム合金である。また、強アルカリ水溶液には添加剤としてミリオン化学株式会社製のGF F21を添加した。   First, in the first step S1, the surface of the test piece was degreased by immersing the test piece of magnesium lithium alloy in a strong alkaline aqueous solution (GF MG-15SX manufactured by Million Chemical Co., Ltd.) having a temperature of 75 ° C. for 5 minutes. . In this example, a rectangular LZ91 plate having a short side length of 25 mm and a long side length of 50 mm was used as a test piece. LZ91 is a magnesium lithium alloy containing 9% lithium, 1% zinc, and 90% magnesium. Further, GF F21 manufactured by Million Chemical Co., Ltd. was added as an additive to the strong alkaline aqueous solution.

次に、工程S2に移り、温度が40℃の酸に上記の試験片を1分間浸漬することにより、試験片の表面に形成されたマグネシウムやリチウムの自然酸化膜をエッチングして除去し、試験片の表面を清浄化した。このように表面を清浄化する工程は活性化とも呼ばれる。   Next, the process proceeds to step S2, and the natural oxide film of magnesium or lithium formed on the surface of the test piece is etched and removed by immersing the test piece in an acid having a temperature of 40 ° C. for 1 minute. The surface of the piece was cleaned. This process of cleaning the surface is also called activation.

この例では、フッ酸を含有するミリオン化学株式会社製のGF MG-109を上記の酸として使用した。このようにフッ素を含む酸を使用することで、試験片中のマグネシウムがフッ化され、活性化の後の試験片の表面にはマグネシウムのフッ化物が形成されることになる。   In this example, GF MG-109 manufactured by Million Chemical Co. containing hydrofluoric acid was used as the acid. By using an acid containing fluorine in this way, magnesium in the test piece is fluorinated, and magnesium fluoride is formed on the surface of the test piece after activation.

続いて、工程S3に移り、上記の活性化で試験片の表面に発生した残渣を除去するために、温度が60℃の強アルカリ水溶液(ミリオン化学株式会社製GF MG-15SX)に試験片を2分間浸漬した。この工程で除去される残渣はスマットと呼ばれる黒色物質であり、この工程はデスマット処理とも呼ばれる。   Subsequently, the process proceeds to step S3, and in order to remove the residue generated on the surface of the test piece by the above activation, the test piece is placed in a strong alkaline aqueous solution (GF MG-15SX manufactured by Million Chemical Co., Ltd.) having a temperature of 60 ° C. Soaked for 2 minutes. The residue removed in this step is a black material called smut, and this step is also called desmut treatment.

そして、工程S4に移り、フッ素を含む化成処理液に上記の試験片を浸漬した。この例では、化成処理液としてミリオン化学株式会社製のGR MC-1600を使用すると共に、その化成処理液の温度を60℃に維持しつつ、化成処理液に試験片を2.5分間浸漬した。   And it moved to process S4 and said test piece was immersed in the chemical conversion liquid containing a fluorine. In this example, GR MC-1600 manufactured by Million Chemical Co., Ltd. was used as the chemical conversion treatment solution, and the test piece was immersed in the chemical conversion treatment solution for 2.5 minutes while maintaining the temperature of the chemical conversion treatment solution at 60 ° C. .

この化成処理により、試験片の材料であるマグネシウムがフッ化して、試験片の表面にフッ素を含む化成皮膜が形成される。この例では工程S2で試験片の表面から自然酸化膜を除去したことで、当該表面がフッ化するのが自然酸化膜で妨げられず、十分な厚さの化成皮膜を形成することができる。   By this chemical conversion treatment, magnesium which is a material of the test piece is fluorinated, and a chemical conversion film containing fluorine is formed on the surface of the test piece. In this example, by removing the natural oxide film from the surface of the test piece in step S2, the natural oxide film does not prevent the surface from being fluorinated, and a chemical film having a sufficient thickness can be formed.

更に、工程S2では自然酸化膜を除去するためにフッ素を含む酸を用いたため、化成皮膜を形成する前には試験片の表面に予めマグネシウムのフッ化物が生成された状態となり、このフッ化物によって化成皮膜の成長を促すことができる。   Furthermore, in step S2, since an acid containing fluorine is used to remove the natural oxide film, magnesium fluoride is generated in advance on the surface of the test piece before the chemical conversion film is formed. The growth of the chemical conversion film can be promoted.

この後は、工程S5に移り、高温槽において温度を80℃、加熱時間を10分とする条件で試験片の表面の水分を蒸散させ、試験片を乾燥させた。   Then, it moved to process S5, the water | moisture content on the surface of the test piece was evaporated in the high temperature tank on the conditions which made temperature 80 degreeC and heating time 10 minutes, and dried the test piece.

以上により、試験片に対する表面処理を終了する。   Thus, the surface treatment for the test piece is completed.

本願発明者は、上記の化成皮膜の表面を観察した。その結果、化成皮膜の表面に多量の粉が析出していることを確認した。マグネシウムリチウム合金の筐体に化成皮膜を形成する場合に粉が析出すると、粉が原因でアース用の導電性テープを筐体の表面に貼付できなかったり、経年劣化によって筐体から導電テープが剥がれる等の不都合が生じるので、なるべく粉を析出させないようにするのが好ましい。   The inventor of the present application observed the surface of the chemical conversion film. As a result, it was confirmed that a large amount of powder was deposited on the surface of the chemical conversion film. If powder deposits when forming a chemical conversion film on a magnesium lithium alloy housing, the conductive tape for grounding cannot be applied to the surface of the housing due to the powder, or the conductive tape is peeled off from the housing due to deterioration over time. Therefore, it is preferable to prevent the powder from precipitating as much as possible.

本願発明者は、粉の発生原因を特定するため、上記の活性化(工程S2)、デスマット処理(工程S3)、及び化成皮膜の形成(工程S4)の各々を終了した時点で試験片の表面を観察した。   In order to identify the cause of the generation of the powder, the inventor of the present application completed the activation (step S2), desmut treatment (step S3), and formation of the chemical conversion film (step S4) at the time when the surface of the test piece was finished. Was observed.

その結果を図2に示す。   The result is shown in FIG.

図2において、「外観」は試験片の外観を示す。また、粉の発生状況を確認するために、試験片の表面に透明な接着テープを貼付して粉を採取した後、黒色の台紙に接着テープを貼付した状態で接着テープをスキャナーで読み取った。そして、これにより取得した画像ファイルの輝度値をフォトレタッチソフトで取得した。   In FIG. 2, “appearance” indicates the appearance of the test piece. Moreover, in order to confirm the generation | occurence | production state of powder, after sticking a transparent adhesive tape on the surface of a test piece and extract | collecting powder | flour, the adhesive tape was read with the scanner in the state which stuck the adhesive tape on the black mount. And the brightness value of the image file acquired by this was acquired with photo retouching software.

図2における「輝度値」は、このようにフォトレタッチソフトで取得した値を示し、「輝度値」が80以上の場合に「粉の発生」があると判断した。これは、外観から判断して粉の存在が明らかなときの輝度値が80以上であるためである。   “Luminance value” in FIG. 2 indicates the value obtained by the photo retouching software as described above, and when “luminance value” is 80 or more, it is determined that “powder generation” is present. This is because the brightness value is 80 or more when the presence of powder is obvious from the appearance.

また、図2の「基準値」は、工程S1〜工程S5を行っていない未処理の試験片の「輝度値」を示す。   In addition, “reference value” in FIG. 2 indicates “luminance value” of an untreated test piece that has not been subjected to steps S1 to S5.

更に、図2においける「テープ」は、上記のようにスキャナーで読み取った接着テープの画像を示す。   Further, “tape” in FIG. 2 indicates an image of the adhesive tape read by the scanner as described above.

図2に示すように、粉は、活性化(工程S2)と化成皮膜の形成(工程S4)で発生している。その原因について本願発明者は以下のように考察する。   As shown in FIG. 2, the powder is generated by activation (step S2) and formation of a chemical conversion film (step S4). The inventor considers the cause as follows.

マグネシウムリチウム合金では、全てのリチウムがマグネシウムの格子点に存在しているとは限らず、格子点から離れて遊離した遊離リチウムが存在する。その遊離リチウムが活性化(工程S2)のときにフッ素を含む酸に曝されるとフッ化リチウムや酸化リチウムが生成され、これらが粉として析出すると考えられる。   In a magnesium lithium alloy, not all lithium is present at the lattice points of magnesium, and there is free lithium separated from the lattice points. When the free lithium is activated (step S2) and exposed to an acid containing fluorine, lithium fluoride and lithium oxide are produced, which are considered to precipitate as powder.

その粉は、デスマット処理(工程S3)によって除去されたかのように見える。   The powder appears to have been removed by the desmutting process (step S3).

但し、デスマット処理においては、活性化(工程S2)のときに析出した粉のうち、試験片の表面近傍の粉のみが除去され、当該表面から深い部位にある粉は除去されないと考えられる。   However, in the desmut treatment, it is considered that only the powder in the vicinity of the surface of the test piece is removed from the powder deposited at the time of activation (step S2), and the powder in a deep part from the surface is not removed.

そして、化成皮膜の形成(工程S4)において、デスマット処理で除去しきれなかった粉が再び析出したものと考えられる。   And, in the formation of the chemical conversion film (step S4), it is considered that the powder that could not be removed by the desmut treatment was deposited again.

このような粉を低減するため、本願発明者は、上記の化成皮膜の形成(工程S4)の後に超音波洗浄で試験片を洗浄した。   In order to reduce such powder, the inventor of the present application cleaned the test piece by ultrasonic cleaning after the formation of the chemical conversion film (step S4).

図3は、超音波洗浄後の試験片の表面を観察して得られた図である。なお、図3では、図2で説明した各試験片の画像も併記してある。   FIG. 3 is a diagram obtained by observing the surface of the test piece after ultrasonic cleaning. In FIG. 3, images of the test pieces described in FIG. 2 are also shown.

図3に示すように、超音波洗浄により輝度値が低下し、粉が除去されることが確認できる。   As shown in FIG. 3, it can be confirmed that the ultrasonic cleaning reduces the luminance value and removes the powder.

その一方で、超音波洗浄により化成皮膜の色彩がまだらとなってしまっている。これは、超音波洗浄によるダメージで化成皮膜の一部が剥離したためである。このように化成皮膜が剥離すると、化成皮膜でマグネシウムリチウム合金を保護することができず、マグネシウムリチウム合金の耐腐食性が低下してしまう。   On the other hand, the color of the chemical conversion film is mottled by ultrasonic cleaning. This is because a part of the chemical conversion film peeled off due to damage caused by ultrasonic cleaning. When the chemical film peels in this way, the magnesium lithium alloy cannot be protected by the chemical film, and the corrosion resistance of the magnesium lithium alloy decreases.

よって、超音波洗浄は化成皮膜の洗浄には不向きである。   Therefore, ultrasonic cleaning is not suitable for cleaning the chemical conversion film.

次に、本願発明者は、粉が最初に発生する活性化の工程S2に着目した。工程S2においては前述のようにフッ素を含む酸を用いており、そのフッ素が遊離リチウムと反応して形成されたフッ化リチウムが粉の発生要因の一つであると考えられる。   Next, the inventor of the present application paid attention to the activation step S2 in which powder is first generated. In step S2, as described above, an acid containing fluorine is used, and lithium fluoride formed by reacting the fluorine with free lithium is considered to be one of the generation factors of the powder.

そこで、本願発明者は、フッ素を含む酸に代えて、硝酸系の酸を用いて工程S2の活性化を行った。硝酸系の酸として、この例ではオリオン化学株式会社製のGF MG-109を用いた。この酸にはフッ素は含まれていない。   Therefore, the inventor of the present application activated Step S2 using a nitric acid-based acid instead of the fluorine-containing acid. In this example, GF MG-109 manufactured by Orion Chemical Co., Ltd. was used as the nitric acid. This acid does not contain fluorine.

そして、活性化(工程S2)、デスマット処理(工程S3)、及び化成皮膜の形成(工程S4)の各々を終了した時点で試験片の表面を観察した。   Then, the surface of the test piece was observed when the activation (step S2), the desmut treatment (step S3), and the formation of the chemical conversion film (step S4) were completed.

図4は、このようにして各工程を行った後の試験片の表面を観察して得られた図である。   FIG. 4 is a diagram obtained by observing the surface of the test piece after performing each step in this manner.

図4に示すように、活性化の工程S2において硝酸系の酸を用いることで、当該工程S2で粉が発生するのを抑制できる。これは、硝酸系の酸にはフッ素が含まれていないため、遊離リチウムとフッ素が反応して粉の原因であるフッ化リチウムが生成されないためであると考えられる。   As shown in FIG. 4, the generation of powder in the step S2 can be suppressed by using a nitric acid acid in the activation step S2. This is presumably because the nitric acid does not contain fluorine, so that free lithium and fluorine react with each other so that lithium fluoride that causes powder is not generated.

但し、このようにフッ素を含まない酸を用いると、活性化の工程S2において試験片のマグネシウムがフッ化されず、活性化後の試験片の表面にマグネシウムのフッ化物が形成されない。マグネシウムのフッ化物は前述のように化成皮膜の成長を促す役割を担うため、このようにマグネシウムのフッ化物が存在しないと化成皮膜の成長が不十分となり、化成皮膜の膜厚が薄くなってしまう。よって、この場合も化成皮膜でマグネシウムリチウム合金を保護することができず、マグネシウムリチウム合金の耐腐食性が低下してしまう。   However, when such an acid containing no fluorine is used, the magnesium of the test piece is not fluorinated in the activation step S2, and magnesium fluoride is not formed on the surface of the test piece after activation. Magnesium fluoride plays a role in promoting the growth of the chemical conversion film as described above. Therefore, if there is no magnesium fluoride, the growth of the chemical conversion film becomes insufficient and the film thickness of the chemical conversion film becomes thin. . Therefore, also in this case, the magnesium lithium alloy cannot be protected by the chemical conversion film, and the corrosion resistance of the magnesium lithium alloy is lowered.

以下に、化成皮膜の剥離や薄膜化を伴わずに粉の発生を抑制することができる本実施形態について説明する。   Below, this embodiment which can suppress generation | occurrence | production of powder | flour without peeling or thinning of a chemical film is demonstrated.

(本実施形態)
本実施形態では、以下のようにしてマグネシウムリチウム合金を材料とする部品を製造する。
(This embodiment)
In the present embodiment, a part made of a magnesium lithium alloy is manufactured as follows.

図5は、本実施形態で製造する部品の一例を示す斜視図である。   FIG. 5 is a perspective view showing an example of a component manufactured in the present embodiment.

この部品10は、LZ91等のマグネシウムリチウム合金を材料とする母材の一例であって、例えば電子機器の筐体である。部品10が組み付けられる電子機器は特に限定されない。例えば、ノート型PC、タブレットPC、携帯電話、及びスマートフォン等のモバイル端末に部品10を組み付け得る。   This component 10 is an example of a base material made of a magnesium lithium alloy such as LZ91, and is, for example, a casing of an electronic device. The electronic device to which the component 10 is assembled is not particularly limited. For example, the component 10 can be assembled to a mobile terminal such as a notebook PC, a tablet PC, a mobile phone, and a smartphone.

その部品10の表面を保護したり、表面と塗料との密着性を向上させたりするために、本実施形態では以下のようにして部品10に対して表面処理を行うことで、当該表面に化成皮膜を形成する。   In order to protect the surface of the component 10 and improve the adhesion between the surface and the paint, in this embodiment, the surface of the component 10 is subjected to surface treatment in the following manner to form the surface. Form a film.

図6は、本実施形態に係る部品の製造方法のフローチャートである。なお、図6においては、図1と同一のステップには図1におけるのと同じ符号を付してある。   FIG. 6 is a flowchart of the component manufacturing method according to the present embodiment. In FIG. 6, the same steps as those in FIG. 1 are denoted by the same reference numerals as those in FIG.

まず、最初の工程S1において、温度が75℃の強アルカリ水溶液(ミリオン化学株式会社製GF MG-15SX)に上記の部品10を5分間浸漬することにより、部品10の表面を脱脂する。なお、強アルカリ水溶液に添加剤としてミリオン化学株式会社製GF F21を添加してもよい。   First, in the first step S1, the surface of the component 10 is degreased by immersing the component 10 in a strong alkaline aqueous solution (GF MG-15SX manufactured by Million Chemical Co., Ltd.) having a temperature of 75 ° C. for 5 minutes. Note that GF F21 manufactured by Million Chemical Co., Ltd. may be added as an additive to the strong alkaline aqueous solution.

次に、工程S6に移る。図7は、工程S6について説明するための模式断面図である。   Next, the process proceeds to step S6. FIG. 7 is a schematic cross-sectional view for explaining step S6.

本工程では、図7に示すように、液槽11に溜められたフッ素を含まない第1の酸12に複数の部品10を浸漬することにより、部品10の表面10aを第1の酸12に曝し、表面10aを僅かにエッチングする。   In this step, as shown in FIG. 7, by immersing a plurality of components 10 in the first acid 12 that does not contain fluorine stored in the liquid tank 11, the surface 10 a of the component 10 is made into the first acid 12. Expose and slightly etch the surface 10a.

第1の酸12は、フッ素を含まなければ特に限定されない。この例では、硝酸系の酸であるミリオン化学株式会社製のGF MG-1091を第1の酸12として使用する。また、第1の酸12の温度は例えば40℃であり、第1の酸12に部品10を浸漬する時間は例えば1分である。   The first acid 12 is not particularly limited as long as it does not contain fluorine. In this example, GF MG-1091 manufactured by Million Chemical Co., which is a nitric acid, is used as the first acid 12. The temperature of the first acid 12 is, for example, 40 ° C., and the time for immersing the component 10 in the first acid 12 is, for example, 1 minute.

これにより、表面10aの自然酸化膜が第1の酸12でエッチングされ、表面10aにマグネシウムリチウム合金の清浄面が露出する。   As a result, the natural oxide film on the surface 10a is etched with the first acid 12, and the clean surface of the magnesium lithium alloy is exposed on the surface 10a.

更に、表面10aに存在する遊離リチウムも第1の酸12に溶解するため、本工程を行うことで表面10aに存在する遊離リチウムの量が低減する。   Furthermore, since the free lithium present on the surface 10a is also dissolved in the first acid 12, the amount of free lithium present on the surface 10a is reduced by performing this step.

なお、このように複数の部品10を一括して処理するのに代えて、一つの部品10のみを第1の酸12に浸漬してもよい。これについては後述の各工程でも同様である。   In addition, instead of processing the plurality of components 10 at once as described above, only one component 10 may be immersed in the first acid 12. The same applies to each step described later.

次に、図6の工程S2に移る。図8は、工程S2について説明するための模式断面図である。   Next, the process proceeds to step S2 in FIG. FIG. 8 is a schematic cross-sectional view for explaining step S2.

本工程では、図8に示すように、表面10aを活性化させるために、液槽11に溜められたフッ素を含む第2の酸13に部品10を浸漬する。   In this step, as shown in FIG. 8, the component 10 is immersed in the second acid 13 containing fluorine stored in the liquid tank 11 in order to activate the surface 10a.

第2の酸13としては、フッ酸を含むミリオン化学株式会社製GF MG-109がある。また、第2の酸13の温度は例えば40℃であり、第2の酸13に部品10を浸漬する時間は例えば1分である。   As the second acid 13, there is GF MG-109 manufactured by Million Chemical Co., which contains hydrofluoric acid. The temperature of the second acid 13 is, for example, 40 ° C., and the time for immersing the component 10 in the second acid 13 is, for example, 1 minute.

これにより、部品10の表面10aが第2の酸13に曝されて更に清浄化されると共に、表面10aに表出しているマグネシウムリチウム合金のマグネシウムがフッ化して、表面10aにマグネシウムのフッ化物が形成される。   Thereby, the surface 10a of the component 10 is exposed to the second acid 13 to be further cleaned, and magnesium of the magnesium lithium alloy exposed on the surface 10a is fluorinated, and magnesium fluoride is formed on the surface 10a. It is formed.

ここで、本実施形態では工程S6において表面10aから遊離リチウムを予め除去しているため、当該表面10aにおいて遊離リチウムが第2の酸13でフッ化するのを防止できる。その結果、粉の原因となる遊離リチウムのフッ化物が形成され難くなり、図1の例と比較して粉の量を低減することができる。   Here, in this embodiment, since free lithium is previously removed from the surface 10a in step S6, free lithium can be prevented from being fluorinated by the second acid 13 on the surface 10a. As a result, fluoride of free lithium that causes powder is hardly formed, and the amount of powder can be reduced as compared with the example of FIG.

次に、図6の工程S3に移る。図9は、工程S3について説明するための模式断面図である。   Next, the process proceeds to step S3 in FIG. FIG. 9 is a schematic cross-sectional view for explaining step S3.

本工程では、図9に示すように、強アルカリ水溶液14に部品10を浸漬することにより、部品10に対してデスマット処理を行う。強アルカリ水溶液14としては、例えば、ミリオン化学株式会社製GF MG-15SXがある。   In this step, as shown in FIG. 9, the part 10 is immersed in a strong alkaline aqueous solution 14 to perform a desmut treatment on the part 10. Examples of the strong alkaline aqueous solution 14 include GF MG-15SX manufactured by Million Chemical Co., Ltd.

デスマット処理の条件は特に限定されない。この例では、強アルカリ水溶液14の温度を60℃にすると共に、その強アルカリ水溶液14に部品10を2分間浸漬する。   The conditions for the desmut treatment are not particularly limited. In this example, the temperature of the strong alkaline aqueous solution 14 is set to 60 ° C., and the component 10 is immersed in the strong alkaline aqueous solution 14 for 2 minutes.

このデスマット処理により、上記の工程S2や工程S6で発生したスマットが除去される。   By this desmut process, the smut generated in the above-described step S2 and step S6 is removed.

また、前述のように工程S2で発生する粉の量が低減されているため、その粉の大部分をこのデスマット処理で除去することができ、デスマット処理後に表面10aに取り残される粉の量は僅かとなる。   Further, since the amount of powder generated in step S2 is reduced as described above, most of the powder can be removed by this desmut treatment, and the amount of powder left on the surface 10a after the desmut treatment is small. It becomes.

次に、図6の工程S4に移る。図10は、工程S4について説明するための模式断面図である。   Next, the process proceeds to step S4 in FIG. FIG. 10 is a schematic cross-sectional view for explaining step S4.

本工程では、図10に示すように、液槽11に溜められたフッ素を含む化成処理液15に部品10を浸漬することにより表面10aのマグネシウムをフッ化して、当該表面10aにフッ素を含む化成皮膜10xを形成する。   In this step, as shown in FIG. 10, magnesium on the surface 10 a is fluorinated by immersing the component 10 in the chemical conversion solution 15 containing fluorine stored in the liquid tank 11, and the surface 10 a contains fluorine. A film 10x is formed.

フッ素を含む化成処理液15は特に限定されない。例えば、フッ酸、フッ化ナトリウム、フッ化水素酸、酸性フッ化ナトリウム、酸性フッ化カリウム、酸性フッ化アンモニウム、ケイフッ化水素酸とその塩、及びフッ化水素酸とその塩のいずれかを含む溶液を化成処理液15として使用し得る。本実施形態では化成処理液15としてミリオン化学株式会社製のGR MC-1600を使用する。   The chemical conversion treatment liquid 15 containing fluorine is not particularly limited. For example, any of hydrofluoric acid, sodium fluoride, hydrofluoric acid, sodium acid fluoride, potassium acid fluoride, ammonium acid fluoride, hydrofluoric acid and its salt, and hydrofluoric acid and its salt The solution can be used as the chemical conversion solution 15. In this embodiment, GR MC-1600 manufactured by Million Chemical Co., Ltd. is used as the chemical conversion treatment liquid 15.

その化成処理液15の温度は例えば60℃であり、化成処理液15に部品10を浸漬する時間は例えば2.5分である。   The temperature of the chemical conversion liquid 15 is, for example, 60 ° C., and the time for immersing the component 10 in the chemical conversion liquid 15 is, for example, 2.5 minutes.

ここで、上記のように工程S6において表面10aから自然酸化膜を予め除去してあるので、その自然酸化膜によって化成皮膜10xの成長が阻害されず、十分な厚さの化成皮膜10xを形成することができる。   Here, since the natural oxide film is previously removed from the surface 10a in the step S6 as described above, the growth of the chemical film 10x is not inhibited by the natural oxide film, and the chemical film 10x having a sufficient thickness is formed. be able to.

しかも、工程S2で表面10aに予め形成したマグネシウムのフッ化物によって化成皮膜10xの成長が促されるため、厚く耐腐食性に優れた化成皮膜10xを得ることができる。   Moreover, since the growth of the chemical conversion film 10x is promoted by the magnesium fluoride formed in advance on the surface 10a in the step S2, the chemical conversion film 10x that is thick and excellent in corrosion resistance can be obtained.

更に、前述のように工程S2において粉の発生が抑制されているので、化成皮膜10xの形成後にもその粉が現れ難くなる。   Furthermore, since generation | occurrence | production of the powder is suppressed in process S2 as mentioned above, the powder becomes difficult to appear even after formation of the chemical conversion film 10x.

なお、本工程で形成される化成皮膜10xの厚さは、最大でも1μm程度である。   In addition, the thickness of the chemical conversion film 10x formed at this process is about 1 micrometer at maximum.

次に、図6の工程S5に移り、高温槽において温度を80℃、加熱時間を10分とする条件で部品10の表面10aの水分を蒸散させ、表面10aを乾燥させる。   Next, the process proceeds to step S5 in FIG. 6, and moisture on the surface 10a of the component 10 is evaporated in a high-temperature bath under the conditions of a temperature of 80 ° C. and a heating time of 10 minutes, and the surface 10a is dried.

以上により、本実施形態に係る部品10の製造方法の基本工程を終了する。   Thus, the basic process of the method for manufacturing the component 10 according to the present embodiment is completed.

この後は、必要に応じて部品10に対して様々な加工を行う。図11(a)、(b)は、部品10に対して行う加工の一例を示す模式断面図である。   Thereafter, various processing is performed on the component 10 as necessary. FIGS. 11A and 11B are schematic cross-sectional views showing an example of processing performed on the component 10.

この例では、図11(a)に示すように、レーザの照射等により絶縁性の化成皮膜10xの一部Rを除去し、部品10の表面10aを露出させる。   In this example, as shown in FIG. 11A, a part R of the insulating chemical film 10x is removed by laser irradiation or the like, and the surface 10a of the component 10 is exposed.

そして、図11(b)に示すように、露出した表面10aにアース用の導電テープ21を貼付する。   And as shown in FIG.11 (b), the electrically conductive tape 21 for earthing is affixed on the exposed surface 10a.

導電テープ21は、例えば銅テープであって、回路基板等の電子部品22を導電性の部品10に電気的に接続することで、部品10を接地する役割を担う。   The conductive tape 21 is a copper tape, for example, and plays a role of grounding the component 10 by electrically connecting an electronic component 22 such as a circuit board to the conductive component 10.

その導電テープ21と部品10とは不図示の導電性接着剤で互いに接着されるが、本実施形態では上記のように化成皮膜10xの上に粉が殆ど発生していないので、導電テープ21の接着面にその粉が周り込み難い。よって、部品10と導電テープ21との接着力が粉で弱まるのが防止され、部品10と導電テープ21とを強固に接着することが可能となる。   The conductive tape 21 and the component 10 are bonded to each other with a conductive adhesive (not shown). In the present embodiment, almost no powder is generated on the chemical conversion film 10x as described above. The powder is difficult to wrap around the adhesive surface. Therefore, the adhesive force between the component 10 and the conductive tape 21 is prevented from being weakened by powder, and the component 10 and the conductive tape 21 can be firmly bonded.

次に、本願発明者が行った調査について、図12を参照しながら説明する。   Next, an investigation conducted by the present inventor will be described with reference to FIG.

図12は、本願発明者が行った調査の結果について示す図である。   FIG. 12 is a diagram showing the results of an investigation conducted by the inventor of the present application.

この調査では、本実施形態において粉の発生がどの程度抑制されるのかが調べられた。調査に際しては、図6のフローチャートに従い、マグネシウムリチウム合金の試験片の表面に化成皮膜を形成した。その試験片として、短辺の長さが25mmで長辺の長さが50mmの矩形状の板を使用した。また、試験片の材料はLZ91である。   In this investigation, it was examined how much the generation of powder is suppressed in this embodiment. In the investigation, a chemical conversion film was formed on the surface of the magnesium lithium alloy test piece according to the flowchart of FIG. As the test piece, a rectangular plate having a short side length of 25 mm and a long side length of 50 mm was used. The material of the test piece is LZ91.

なお、図12における「外観」、「テープ」、「輝度値」、「粉の発生」の各項目の意味は図2におけるのと同様である。   The meanings of the items “appearance”, “tape”, “luminance value”, and “occurrence of powder” in FIG. 12 are the same as those in FIG.

図12に示すように、本実施形態においても活性化(工程S2)の時点の輝度が95.1であり、工程S2において粉が発生しているように見える。これは、エッチング(工程S6)で除去しきれなかった遊離リチウムが、工程S2においてフッ化されて粉として現れたためと考えられる。   As shown in FIG. 12, the luminance at the time of activation (step S2) is 95.1 also in this embodiment, and it appears that powder is generated in step S2. This is probably because free lithium that could not be removed by etching (step S6) was fluorinated in step S2 and appeared as powder.

但し、工程S6においては、粉の発生原因である表面10aの遊離リチウムの大部分が除去されているので、工程S2で発生する粉の総量は図2の例よりも少ないと考えられる。   However, since most of the free lithium on the surface 10a, which is the cause of powder generation, is removed in step S6, the total amount of powder generated in step S2 is considered to be less than in the example of FIG.

図12によれば、その粉は、デスマット処理(工程S3)により取り除かれており、その後に化成皮膜の形成(工程S4)を行っても再び析出していない。これは、前述のように工程S2で発生した粉の総量が少なく、その粉の殆どがデスマット処理で除去されたためと考えられる。   According to FIG. 12, the powder is removed by the desmut treatment (step S3), and is not deposited again even after the formation of the chemical conversion film (step S4). This is probably because the total amount of powder generated in step S2 was small as described above, and most of the powder was removed by the desmut treatment.

この結果により、本実施形態のように工程S2で活性化を行う前に工程S6のエッチングを行うことが、化成皮膜に現れる粉を低減するのに有効であることが確認できた。   From this result, it was confirmed that performing the etching in the step S6 before the activation in the step S2 as in the present embodiment is effective in reducing the powder appearing in the chemical conversion film.

以上説明したように、本実施形態によれば、工程S6においてフッ素を含まない第1の酸12で部品10の表面10aの遊離リチウムを除去しておく。これにより、工程S4でフッ素を含む第2の酸13で表面10aをフッ化して化成皮膜10xを形成するときに、遊離リチウムに起因した粉が表面10a現れるのを防止できる。   As described above, according to the present embodiment, free lithium on the surface 10a of the component 10 is removed with the first acid 12 that does not contain fluorine in step S6. Thereby, when the surface 10a is fluorinated with the second acid 13 containing fluorine in the step S4 to form the chemical conversion film 10x, it is possible to prevent the surface 10a from appearing due to free lithium.

更に、工程S2においてフッ素を含む第2の酸13に部品10の表面10aを曝すことにより当該表面10aにマグネシウムのフッ化物が形成される。このフッ化物によって工程S4において化成皮膜10xの成長が促され、膜厚が厚く耐腐食性に優れた化成皮膜10xを形成することができる。このように厚い化成皮膜10xは機械的に強固であり、その上に塗布される塗料との密着性も良好となる。   Further, by exposing the surface 10a of the component 10 to the second acid 13 containing fluorine in step S2, magnesium fluoride is formed on the surface 10a. This fluoride promotes the growth of the chemical conversion film 10x in step S4, and the chemical conversion film 10x having a large film thickness and excellent corrosion resistance can be formed. In this way, the thick chemical conversion film 10x is mechanically strong and has good adhesion to the paint applied thereon.

以上説明した各実施形態に関し、更に以下の付記を開示する。   The following additional notes are disclosed for each embodiment described above.

(付記1) フッ素を含まない第1の酸に、マグネシウムリチウム合金の母材の表面を曝す工程と、
前記第1の酸に前記表面を曝した後、フッ素を含む第2の酸に前記表面を曝す工程と、
前記第2の酸に前記表面を曝した後、前記表面をフッ化して化成皮膜を形成する工程と、
を有することを特徴とする部品の製造方法。
(Additional remark 1) The process of exposing the surface of the base material of a magnesium lithium alloy to the 1st acid which does not contain a fluorine,
Exposing the surface to a second acid containing fluorine after exposing the surface to the first acid;
After exposing the surface to the second acid, fluorinating the surface to form a chemical conversion film;
A method for manufacturing a component, comprising:

(付記2) 前記第1の酸は、硝酸を含むことを特徴とする付記1に記載の部品の製造方法。   (Additional remark 2) The said 1st acid contains nitric acid, The manufacturing method of the components of Additional remark 1 characterized by the above-mentioned.

(付記3) 前記第2の酸は、フッ酸を含むことを特徴とする付記1又は付記2に記載の部品の製造方法。   (Additional remark 3) Said 2nd acid contains hydrofluoric acid, The manufacturing method of the components of Additional remark 1 or Additional remark 2 characterized by the above-mentioned.

(付記4) 前記化成皮膜を形成した後、前記化成皮膜の一部を除去して前記表面を露出させる工程と、
前記露出した表面に、アース用の導電テープを貼付する工程とを更に有することを特徴とする付記1乃至付記3のいずれかに記載の部品の製造方法。
(Appendix 4) After forming the chemical conversion film, removing a part of the chemical conversion film to expose the surface;
The method for manufacturing a component according to any one of appendix 1 to appendix 3, further comprising a step of attaching a grounding conductive tape to the exposed surface.

(付記5) 前記母材は、電子機器の筐体であることを特徴とする付記1乃至付記4のいずれかに記載の部品の製造方法。   (Additional remark 5) The said base material is a housing | casing of an electronic device, The manufacturing method of the components in any one of Additional remark 1 thru | or Additional remark 4 characterized by the above-mentioned.

(付記6) 前記第2の酸に前記表面を曝した後であって、前記化成皮膜を形成する前に、前記表面に対してデスマット処理を行う工程を更に有することを特徴とする付記1乃至付記5のいずれかに記載の部品の製造方法。   (Supplementary Note 6) The supplementary notes 1 to 3, further comprising a step of performing a desmut treatment on the surface after the surface is exposed to the second acid and before forming the chemical conversion film. The method for manufacturing a part according to any one of appendix 5.

(付記7) フッ素を含まない第1の酸に、マグネシウムリチウム合金の母材の表面を曝す工程と、
前記第1の酸に前記表面を曝した後、フッ素を含む第2の酸に前記表面を曝す工程と、
前記第2の酸に前記表面を曝した後、前記表面をフッ化して化成皮膜を形成する工程と、
を有することを特徴とする表面処理方法。
(Appendix 7) A step of exposing the surface of the base material of the magnesium lithium alloy to the first acid not containing fluorine;
Exposing the surface to a second acid containing fluorine after exposing the surface to the first acid;
After exposing the surface to the second acid, fluorinating the surface to form a chemical conversion film;
A surface treatment method characterized by comprising:

10…部品、10a…表面、10x…化成皮膜、11…液槽、12…第1の酸、13…第2の酸、14…強アルカリ水溶液、15…化成処理液、21…導電テープ、22…電子部品。 DESCRIPTION OF SYMBOLS 10 ... Parts, 10a ... Surface, 10x ... Chemical conversion film, 11 ... Liquid tank, 12 ... 1st acid, 13 ... 2nd acid, 14 ... Strong alkaline aqueous solution, 15 ... Chemical conversion treatment liquid, 21 ... Conductive tape, 22 ... electronic components.

Claims (5)

フッ素を含まない第1の酸に、マグネシウムリチウム合金の母材の表面を曝す工程と、
前記第1の酸に前記表面を曝した後、フッ素を含む第2の酸に前記表面を曝す工程と、
前記第2の酸に前記表面を曝した後、前記表面をフッ化して化成皮膜を形成する工程と、
を有することを特徴とする部品の製造方法。
Exposing the surface of the base material of the magnesium lithium alloy to the first acid not containing fluorine;
Exposing the surface to a second acid containing fluorine after exposing the surface to the first acid;
After exposing the surface to the second acid, fluorinating the surface to form a chemical conversion film;
A method for manufacturing a component, comprising:
前記化成皮膜を形成した後、前記化成皮膜の一部を除去して前記表面を露出させる工程と、
前記露出した表面に、アース用の導電テープを貼付する工程とを更に有することを特徴とする請求項1に記載の部品の製造方法。
After forming the chemical film, removing a part of the chemical film to expose the surface; and
The method for manufacturing a component according to claim 1, further comprising a step of attaching a conductive tape for grounding to the exposed surface.
前記母材は、電子機器の筐体であることを特徴とする請求項1又は請求項2に記載の部品の製造方法。   The method for manufacturing a component according to claim 1, wherein the base material is a casing of an electronic device. 前記第2の酸に前記表面を曝した後であって、前記化成皮膜を形成する前に、前記表面に対してデスマット処理を行う工程を更に有することを特徴とする請求項1乃至請求項3のいずれか1項に記載の部品の製造方法。   4. The method according to claim 1, further comprising a step of performing a desmut treatment on the surface after the surface is exposed to the second acid and before the chemical conversion film is formed. The manufacturing method of the components of any one of these. フッ素を含まない第1の酸に、マグネシウムリチウム合金の母材の表面を曝す工程と、
前記第1の酸に前記表面を曝した後、フッ素を含む第2の酸に前記表面を曝す工程と、
前記第2の酸に前記表面を曝した後、前記表面をフッ化して化成皮膜を形成する工程と、
を有することを特徴とする表面処理方法。
Exposing the surface of the base material of the magnesium lithium alloy to the first acid not containing fluorine;
Exposing the surface to a second acid containing fluorine after exposing the surface to the first acid;
After exposing the surface to the second acid, fluorinating the surface to form a chemical conversion film;
A surface treatment method characterized by comprising:
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