JP2015089923A - Method of producing inorganic compound - Google Patents
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Abstract
Description
本発明は、無機EL素子の製造に用いられる無機化合物を製造する製造方法に関する。 The present invention relates to a manufacturing method for manufacturing an inorganic compound used for manufacturing an inorganic EL element.
近年、軽量・薄型の面発光型素子として、EL素子(エレクトロルミネッセンス素子)が注目されている。EL素子は、高精細、高コントラスト、応答速度が速いといった特徴があることから、液晶ディスプレイ用バックライト、各種インテリア用照明装置、車載用表示装置などに用いられている。 In recent years, EL elements (electroluminescence elements) have attracted attention as light-weight and thin surface-emitting elements. Since EL elements have such features as high definition, high contrast, and high response speed, they are used in backlights for liquid crystal displays, various interior lighting devices, in-vehicle display devices, and the like.
EL素子は大別すると、有機EL素子と無機EL素子とがある。また、無機EL素子には、無機蛍光体粒子をバインダ中に分散させた蛍光体層を用いる分散型無機EL素子と、無機蛍光体からなる薄膜を用いる薄膜型無機EL素子とがある。このような無機EL素子にあっては、無機蛍光体として、例えば硫化亜鉛系(ZnS系)の無機化合物が用いられている。 The EL elements are roughly classified into organic EL elements and inorganic EL elements. Inorganic EL elements include a dispersion-type inorganic EL element that uses a phosphor layer in which inorganic phosphor particles are dispersed in a binder, and a thin-film inorganic EL element that uses a thin film made of an inorganic phosphor. In such an inorganic EL element, for example, a zinc sulfide-based (ZnS-based) inorganic compound is used as the inorganic phosphor.
無機化合物(無機蛍光体)を製造する方法としては、無機組成物にイリジウム元素などをドーピングする方法がある。例えば、特許文献1には、化合物半導体(ZnS等)とイリジウム元素とを含む無機組成物を、火薬類であるTNT(トリニトロトルエン)と共に密閉容器内に入れた状態で、その密閉容器内のTNTを加熱・爆破させること(ドーピング処理)により無機複合物(無機化合物)を製造するという方法が提案されている。
As a method for producing an inorganic compound (inorganic phosphor), there is a method of doping an inorganic composition with an iridium element or the like. For example,
また、特許文献2においても、密閉容器内で発熱分解性化合物(TNT等)を熱分解させることにより蛍光体を製造する方法が提案されている。
ところで、上記した特許文献1のように、TNTを用いて加熱処理(ドーピング処理)を行うと、TNTの反応残渣物であるカーボンが無機化合物に混在してしまうため、発光効率が悪くなる。つまり、カーボンによる黒色汚染により光吸収が生じて発光強度が低下する。また、無機化合物にカーボンが混在していると、EL素子作製時における成膜処理(蒸着等)が不安定になる等の影響が残る。
By the way, when a heat treatment (doping treatment) is performed using TNT as in
なお、特許文献2には、蛍光体に付着したカーボン(反応残渣物)を取り除く方法として、酸素が混在する雰囲気下で蛍光体を焼成してカーボンを酸化・消失させるという方法が提案されているが、こうした方法では、目的物であるZnS等の化合物半導体も酸化されてしまうので発光効率が損なわれる。
In
本発明はそのような実情を考慮してなされたものであり、その目的は、発光強度の強い無機化合物(無機蛍光体)を製造する方法を提供することにある。 The present invention has been made in view of such circumstances, and an object thereof is to provide a method for producing an inorganic compound (inorganic phosphor) having high emission intensity.
まず、TNTにはカーボンが含まれているため、TNTを用いて上記加熱処理(ドーピング処理)を行うとカーボンの残渣物が生成されてしまう。そこで、本発明の発明者は、カーボンを含まない高エネルギ物質として、硝酸ヒドラジン(HN)に着目し、その硝酸ヒドラジンを用いて上記した無機組成物の加熱処理(ドーピング処理)を行ったところ、TNTを用いた場合よりも発光強度が高い無機蛍光体(無機化合物)を製造できることを見出した。ただし、硝酸ヒドラジン((NH2)2HNO3)は分解時において下記に示すような反応により酸素が発生する。 First, since carbon is contained in TNT, a carbon residue is generated when the above heat treatment (doping treatment) is performed using TNT. Therefore, the inventor of the present invention pays attention to hydrazine nitrate (HN) as a high-energy substance not containing carbon, and when the inorganic composition is heated (doping treatment) using the hydrazine nitrate, It has been found that an inorganic phosphor (inorganic compound) having a higher emission intensity than when TNT is used can be produced. However, hydrazine nitrate ((NH 2 ) 2 HNO 3 ) generates oxygen by the following reaction during decomposition.
H5N3O3 ⇒ 2.5H2O+1.5N2+0.5O2
このため、高エネルギ物質として硝酸ヒドラジンを使用した場合、反応の際の雰囲気(密閉容器内の雰囲気)が酸素雰囲気となり、その酸素からの反応により反応副生成物(例えば硫酸バリウム)が生成されてしまう。こうした反応副生成物が無機化合物に含まれていると、EL素子作製時における成膜処理(蒸着等)が不安定になり、無機EL素子の生産性が低下する。
H 5 N 3 O 3 ⇒ 2.5H 2 O + 1.5
For this reason, when hydrazine nitrate is used as a high-energy substance, the atmosphere during the reaction (the atmosphere in the sealed container) becomes an oxygen atmosphere, and a reaction byproduct (for example, barium sulfate) is generated by the reaction from the oxygen. End up. When such a reaction by-product is contained in the inorganic compound, the film formation process (evaporation or the like) at the time of manufacturing the EL element becomes unstable, and the productivity of the inorganic EL element is lowered.
そこで、本発明の発明者は、硝酸ヒドラジンを用いても加熱処理時における密閉容器内を還元雰囲気にすることについて検討したところ、硝酸ヒドラジンに飽水ヒドラジン(HH)を混合し、その硝酸ヒドラジンと飽水ヒドラジンとの混合比を選択することで、加熱処理時における密閉容器内を還元雰囲気にすることが可能であることを新たに見出し、本発明を発明するに至った。 Therefore, the inventors of the present invention have studied about making the inside of a sealed container in a reducing atmosphere at the time of heat treatment even when hydrazine nitrate is used. As a result, hydrazine nitrate is mixed with saturated hydrazine (HH), and the hydrazine nitrate is mixed with hydrazine nitrate. By selecting a mixing ratio with saturated hydrazine, it was newly found out that the inside of a sealed container at the time of heat treatment can be made a reducing atmosphere, and the present invention was invented.
すなわち、本発明は、無機EL素子の製造に用いられる無機化合物を製造する方法において、化合物半導体を含む無機組成物、及び、硝酸ヒドラジンと飽水ヒドラジンとを混合した高エネルギ物質を密閉容器内に封入した状態で、当該密閉容器内の高エネルギ物質を加熱により熱分解させることを技術的特徴としている。 That is, the present invention provides a method for producing an inorganic compound used for producing an inorganic EL device, wherein an inorganic composition containing a compound semiconductor and a high-energy substance obtained by mixing hydrazine nitrate and saturated hydrazine are contained in a sealed container. A technical feature is that the energetic substance in the sealed container is thermally decomposed by heating in the sealed state.
本発明によれば、カーボンを含まない硝酸ヒドラジンと飽水ヒドラジンとを混合した高エネルギ物質を用いて無機組成物(化合物半導体を含有)に高温・高圧を印加して無機化合物を製造しているので、その無機化合物(無機蛍光体)に、発光を阻害するカーボン残渣物が混在することがなくなる。これによって無機化合物の発光強度を強くすることができる。 According to the present invention, an inorganic compound is produced by applying high temperature and high pressure to an inorganic composition (containing a compound semiconductor) using a high-energy substance obtained by mixing hydrazine nitrate not containing carbon and saturated hydrazine. Therefore, the inorganic compound (inorganic phosphor) does not contain a carbon residue that inhibits light emission. Thereby, the emission intensity of the inorganic compound can be increased.
しかも、高エネルギ物質を構成する硝酸ヒドラジンと飽水ヒドラジンとの混合比を選択することにより、密閉容器内で高エネルギ物質が分解する際の当該密閉容器内の雰囲気を還元雰囲気にすることが可能であるので、無機EL素子の製造に用いる無機化合物に副生成物(例えば硫酸バリウム)が含まれないようにすることができる。これにより、EL素子作製時における成膜処理(蒸着等)を安定して行うことができる。 In addition, by selecting the mixing ratio of hydrazine nitrate and saturated hydrazine constituting the high energy substance, the atmosphere in the sealed container when the high energy substance decomposes in the sealed container can be reduced. Therefore, it is possible to prevent the by-product (for example, barium sulfate) from being included in the inorganic compound used for manufacturing the inorganic EL element. Thereby, the film-forming process (evaporation etc.) at the time of EL element production can be performed stably.
さらに、硝酸ヒドラジン及び飽水ヒドラジンは、火薬類取締法第1章第2条に定義されている火薬類ではないので、運搬時・保管時・製造時などにおいて火薬類取締法に則って取り扱う必要がなく、取り扱い性が良好である。
Furthermore, hydrazine nitrate and saturated hydrazine are not explosives as defined in
なお、火薬類取締法第1章第2条において、「火薬類」とは、「火薬」、「爆薬」、「火工品」のことを言うと定義されている。そして、「火薬」とは「推進的爆発の用途に供せられる火薬であって経済産業省令で定めるもの」、「爆薬」とは「破壊的爆発の用途に供せられる爆薬であって経済産業省令で定めるもの」と定義されている。このように、火薬類取締法第1章第2条では、推進的爆発や破壊的爆発に供する物が「火薬類」と定義されており、硝酸ヒドラジン及び飽水ヒドラジンは、こうした用途に用いないので「火薬類」ではないと言える。
Note that “explosives” is defined as “explosives”, “explosives”, and “pyrotechnics” in
本発明によれば、発光強度の強い無機化合物を製造することができる。 According to the present invention, an inorganic compound having high emission intensity can be produced.
以下、本発明の実施形態を図面に基づいて説明する。 Hereinafter, embodiments of the present invention will be described with reference to the drawings.
[製造装置]
まず、本発明の無機化合物の製造方法を実現する製造装置について図1を参照して説明する。
[manufacturing device]
First, the manufacturing apparatus which implement | achieves the manufacturing method of the inorganic compound of this invention is demonstrated with reference to FIG.
この例の製造装置は、密閉容器1、加熱炉2、及び、ガスバーナ3などを備えている。
The manufacturing apparatus of this example includes an
密閉容器1は、内容量が100mLのステンレス製容器であって、容器本体11と蓋体12とを備えている。容器本体11は、外径がφ100mm、高さが170mm(内径がφ40mm、内高さが120mm)の円筒容器であって上部のみが開口されている。蓋体12は、外径がφ100mm(容器本体1と同じ)、高さが40mmの円筒体である。この蓋体12を容器本体1に六角穴付きボルト13を用いて締結することにより密閉容器1の内部を密閉状態にすることができる。
The sealed
加熱炉2は耐熱煉瓦等で構成されており、内部に密閉容器1を収容することができる。加熱炉2の下方にはガスバーナ3が配置されており、このガスバーナ3によって加熱炉2内に収容した密閉容器1を加熱することができる。
The
そして、この例の製造装置を用いて無機化合物(無機蛍光体)を製造する場合、(i)容器本体11の内部に化合物半導体(無機組成物)及びドーピング剤等を混合した原材料Mを投入し、その原材料Mの上部に、硝酸ヒドラジンと飽水ヒドラジンとを混合した高エネルギ物質(液体)Eを投入する。(ii)容器本体11の開口部を蓋体12にて閉鎖することにより、密閉容器1の内部に原材料Mと高エネルギ物質Eとを封入する。(iii)原材料Mと高エネルギ物質Eとを封入した密閉容器1を加熱炉2の内部に配置し、この状態でガスバーナ3により密閉容器1を加熱する。
And when manufacturing an inorganic compound (inorganic fluorescent substance) using the manufacturing apparatus of this example, (i) The raw material M which mixed the compound semiconductor (inorganic composition), the doping agent, etc. in the inside of the container
このようにして密閉容器1を加熱すると、当該密閉容器1内の高エネルギ物質Eが熱分解して原材料Mに高温・高圧が印加される(ドーピング処理)。こうした処理により無機EL素子の製造に用いられる無機化合物(無機蛍光体)を製造することができる。
When the sealed
そして、このようにして製造された無機化合物を、ITO(Indium Tin Oxide)等の透明電極が形成されたガラス基板上に成膜することによって無機EL素子を作製することができる。なお、成膜方法としては、EB(イオンビーム)蒸着法、スパッタリング法、イオンプレーティング法、フラッシュ法などを挙げることができる。 And an inorganic EL element is producible by forming into a film on the glass substrate in which transparent electrodes, such as ITO (Indium Tin Oxide), were formed in this way. Examples of the film forming method include EB (ion beam) vapor deposition, sputtering, ion plating, and flash.
次に、無機化合物の製造に用いる[化合物半導体]、[賦活剤]、[焼結助剤]、及び、[高エネルギ物質]について説明する。 Next, [compound semiconductor], [activator], [sintering aid], and [high energy substance] used in the production of the inorganic compound will be described.
[化合物半導体]
化合物半導体としては、硫化亜鉛(ZnS)、酸化亜鉛(ZnO)、セレン化亜鉛(ZnSe)、テルル化亜鉛(ZnTe)、硫化カドミウム(Cds)、セレン化カドミウム(CdSe)、酸化ストロンチウム(SrO)、硫化ストロンチウム(SrS)、セレン化ストロンチウム(SeSr)、テルル化ストロンチウム(SrTe)などのII-VI族化合物半導体を挙げることができる。本発明の実施例では、化合物半導体として、硫化亜鉛(ZnS)を用いる。
[Compound semiconductor]
Compound semiconductors include zinc sulfide (ZnS), zinc oxide (ZnO), zinc selenide (ZnSe), zinc telluride (ZnTe), cadmium sulfide (Cds), cadmium selenide (CdSe), strontium oxide (SrO), Examples include II-VI group compound semiconductors such as strontium sulfide (SrS), strontium selenide (SeSr), and strontium telluride (SrTe). In the embodiment of the present invention, zinc sulfide (ZnS) is used as the compound semiconductor.
また、化合物半導体としては、窒化ガリウム(GaN)、リン化ガリウム(GaP)、砒化ガリウム(GaAs)、窒化インジウム(InN)、リン化インジウム(InP)、砒化インジウム(InAs)などのIII-V族化合物半導体を挙げることができる。 As compound semiconductors, III-V groups such as gallium nitride (GaN), gallium phosphide (GaP), gallium arsenide (GaAs), indium nitride (InN), indium phosphide (InP), indium arsenide (InAs), etc. A compound semiconductor can be mentioned.
また、これらII-VI族化合物半導体や、III-V族化合物半導体のほか、I-V族化合物半導体、I-VI族化合物半導体、I-VII族化合物半導体、II-IV族化合物半導体、II-V族化合物半導体、II-VII族化合物半導体III-VI族化合物半導体などの化合物半導体を用いてもよい。 In addition to these II-VI compound semiconductors and III-V compound semiconductors, group IV compound semiconductors, group I-VI compound semiconductors, group I-VII compound semiconductors, group II-IV compound semiconductors, group II-V A compound semiconductor such as a compound semiconductor or a II-VII group compound semiconductor or a III-VI group compound semiconductor may be used.
[賦活剤]
賦活剤は、上記化合物半導体にドーピングすることで発光中心となるものである。賦活剤としては、マンガン、銅、銀、金、イリジウム、イットリウム、ユーロピウム、プラセオジウム、テルビウムなどを挙げることができる。本発明の実施例では、賦活剤として、硫酸マンガン(MnSO4)、塩化イリジウム(IrCl3)を用いる。
[Activator]
The activator becomes a light emission center by doping the compound semiconductor. Examples of the activator include manganese, copper, silver, gold, iridium, yttrium, europium, praseodymium, and terbium. In the examples of the present invention, manganese sulfate (MnSO 4 ) and iridium chloride (IrCl 3 ) are used as activators.
[焼結助剤]
焼結助剤は、融点を有する無機化合物であって、溶融することで上記賦活剤のドーピングを速やかに行うとともに、蛍光体母材の粒成長を促して結晶性の向上を促進するものである。焼結助剤としては、酸化亜鉛(ZnO)、酸化カドミウム(CdO)などの酸化物、塩化ナトリウム(NaCl)、塩化リチウム(LiCl)などのアルカリ金属ハロゲン化物、塩化マグネシウム(MgCl2)、フッ化バリウム(BaF2)などのアルカリ土類金属ハロゲン化物を挙げることができる。本発明の実施例では、焼結助剤として、酸化亜鉛(ZnO)、フッ化バリウム(BaF2)、塩化マグネシウム(MgCl2)、塩化ナトリウム(NaCl)を用いる。
[Sintering aid]
The sintering aid is an inorganic compound having a melting point, and when the melt is melted, the above activator is rapidly doped, and the crystal growth is promoted by promoting grain growth of the phosphor base material. . As sintering aids, oxides such as zinc oxide (ZnO) and cadmium oxide (CdO), alkali metal halides such as sodium chloride (NaCl) and lithium chloride (LiCl), magnesium chloride (MgCl 2 ), fluoride Alkaline earth metal halides such as barium (BaF 2 ) can be mentioned. In the embodiment of the present invention, zinc oxide (ZnO), barium fluoride (BaF 2 ), magnesium chloride (MgCl 2 ), and sodium chloride (NaCl) are used as sintering aids.
[高エネルギ物質]
上述したように、高エネルギ物質として硝酸ヒドラジンを用いて無機組成物の加熱処理(ドーピング処理)を行うと、TNTを用いた場合よりも発光強度が高い蛍光体を作製することができる(後述する[実施例]及び[比較例]参照)。しかしながら、高エネルギ物質として硝酸ヒドラジンのみを使用した場合、反応の際の雰囲気(密閉容器内の雰囲気)が酸素雰囲気となるため、反応副生成物(硫酸バリウム)が生成されてしまう(下記の生成メカニズム参照)。そこで、本発明では、硝酸ヒドラジンに飽水ヒドラジンを混合し、その硝酸ヒドラジンと飽水ヒドラジンとの混合比を選択することで、高エネルギ物質の酸素バランス(OB)をマイナスにして、加熱処理時における密閉容器1内を還元雰囲気にする。
[High energy materials]
As described above, when heat treatment (doping treatment) of the inorganic composition is performed using hydrazine nitrate as a high-energy substance, a phosphor having higher emission intensity than that using TNT can be manufactured (described later). See [Example] and [Comparative Example]). However, when only hydrazine nitrate is used as a high-energy substance, the atmosphere during the reaction (the atmosphere in the sealed container) becomes an oxygen atmosphere, so that a reaction by-product (barium sulfate) is generated (the following generation) See mechanism). Therefore, in the present invention, by mixing saturated hydrazine with hydrazine nitrate and selecting the mixing ratio of the hydrazine nitrate and saturated hydrazine, the oxygen balance (OB) of the high energy substance is made negative, and the heat treatment is performed. The inside of the sealed
−反応副生成物(硫酸バリウム)の生成メカニズム−
上記したように、硝酸ヒドラジンは分解時において酸素が生成されるので、その酸素から下記のような反応が起こり、硫酸バリウム(BaSO4)が生成される。なお、硫酸バリウムは水に不溶であるため、水洗い処理では除去することはできない。
-Mechanism of reaction by-product (barium sulfate)-
As described above, since hydrazine nitrate generates oxygen during decomposition, the following reaction occurs from the oxygen, and barium sulfate (BaSO 4 ) is generated. Since barium sulfate is insoluble in water, it cannot be removed by washing with water.
ZnS+2O2 ⇒ZnSO4
BaF2+SO4 2- ⇒BaSO4↓+2F-
[高エネルギ物質の酸素バランス]
次に、高エネルギ物質の酸素バランスについて説明する。
ZnS + 2O 2 ⇒ZnSO 4
BaF 2 + SO 4 2- ⇒BaSO 4 ↓ + 2F -
[Oxygen balance of high energy substances]
Next, the oxygen balance of the high energy material will be described.
まず、硝酸ヒドラジン((NH2)2HNO3)は、分解時において上記したような反応[H5N3O3 ⇒ 2.5H2O+1.5N2+0.5O2]を示し、酸素バランスは+8.4%である。 First, hydrazine nitrate ((NH 2 ) 2 HNO 3 ) exhibits the reaction [H 5 N 3 O 3 ⇒2.5H 2 O + 1.5N 2 + 0.5O 2 ] as described above during decomposition, and the oxygen balance is + 8.4%.
一方、飽水ヒドラジン((NH2)2H2O)は、分解時において下記のような反応を示し、酸素バランスは−63.9%である。 On the other hand, saturated hydrazine ((NH 2 ) 2 H 2 O) exhibits the following reaction during decomposition, and the oxygen balance is -63.9%.
H6N2O ⇒ 3H2O+N2−1.5O2
なお、化合物CaHbNcOdの酸素バランス(OB)は一般的に下記の式によって求められる。
H 6 N 2 O ⇒ 3H 2 O + N 2 -1.5O 2
The oxygen balance (OB) of the compound C a H b N c O d is generally determined by the following formula.
OB%=[−1600/分子量]×(2a+(b/2)−d)
ただし、a=炭素、b=水素、c=窒素、d=酸素、対象物の分子量(HN=95.06、HH=50.06)
ここで、硝酸ヒドラジンと飽水ヒドラジンとを混合した高エネルギ物質(HN/HH)において、硝酸ヒドラジンの重量比をX重量%とすると、その硝酸ヒドラジンがX重量%である場合の高エネルギ物質の酸素バランス(OB)は、
OB=+8.4×(X/100)+(−63.9)×{(100−X)/100)} ・・(1)
と表すことができる。このように高エネルギ物質(HN/HH)の酸素バランスは硝酸ヒドラジンの重量比(HN重量比)に比例する。そのHN重量比(重量%)と酸素バランスとの関係をグラフで表すと、図2に示すような直線のグラフとなる。
OB% = [− 1600 / molecular weight] × (2a + (b / 2) −d)
However, a = carbon, b = hydrogen, c = nitrogen, d = oxygen, the molecular weight of the object (HN = 95.06, HH = 50.06)
Here, in the high energy substance (HN / HH) in which hydrazine nitrate and saturated hydrazine are mixed, when the weight ratio of hydrazine nitrate is X wt%, the high energy substance in the case where the hydrazine nitrate is X wt% Oxygen balance (OB)
OB = + 8.4 × (X / 100) + (− 63.9) × {(100−X) / 100)} (1)
It can be expressed as. Thus, the oxygen balance of the high energy substance (HN / HH) is proportional to the weight ratio of hydrazine nitrate (HN weight ratio). When the relationship between the HN weight ratio (% by weight) and the oxygen balance is represented by a graph, a linear graph as shown in FIG. 2 is obtained.
この図2のグラフにおいて、HN重量比が100重量%である場合(高エネルギ物質が硝酸ヒドラジンのみで構成されている場合)は、その酸素バランスは上記した値(+8.4%)である。また、HN重量比が0重量%である場合(高エネルギ物質が飽水ヒドラジンのみで構成されている場合)は、その酸素バランスは上記した値(−63.9%)である。 In the graph of FIG. 2, when the HN weight ratio is 100% by weight (when the high-energy substance is composed only of hydrazine nitrate), the oxygen balance is the above value (+ 8.4%). When the HN weight ratio is 0% by weight (when the high-energy substance is composed only of saturated hydrazine), the oxygen balance is the above value (−63.9%).
また、例えば、図2に示すように、HN重量比が63.5重量%であり、飽水ヒドラジンの重量比(HH重量比)が36.5重量%である場合(HN:HH=63.5:36.5、後述する[実施例1−1]及び[実施例2−1]の場合)は、上記(1)から酸素バランスは−18.0%となる(OB=+8.4×0.635+(−63.9)×0.365=−18.0%)。 Further, for example, as shown in FIG. 2, the HN weight ratio is 63.5 wt%, and the saturated water hydrazine weight ratio (HH weight ratio) is 36.5 wt% (HN: HH = 63. 5: 36.5, in the case of [Example 1-1] and [Example 2-1] described later), the oxygen balance is -18.0% from the above (1) (OB = + 8.4 ×). 0.635 + (− 63.9) × 0.365 = −18.0%).
また、例えば、図2に示すように、HN重量比が55.0重量%であり、HH重量比が45.0重量%である場合(HN:HH=55.0:45.0、後述する[実施例2−2]の場合)は、上記(1)から酸素バランスは−24.1%となる(OB=+8.4×0.55+(−63.9)×0.45=−24.1%)。 For example, as shown in FIG. 2, when the HN weight ratio is 55.0 wt% and the HH weight ratio is 45.0 wt% (HN: HH = 55.0: 45.0, which will be described later. In the case of [Example 2-2], the oxygen balance is −24.1% from the above (1) (OB = + 8.4 × 0.55 + (− 63.9) × 0.45 = −24). .1%).
なお、図2及び上記(1)式から、HN重量比を88重量%以下に制御すると、高エネルギ物質(HN/HH)の酸素バランスをマイナスにすることが可能であることが判る。 2 and the above equation (1), it can be seen that the oxygen balance of the high energy substance (HN / HH) can be made negative by controlling the HN weight ratio to 88 wt% or less.
本発明の実施例を比較例とともに説明する。 Examples of the present invention will be described together with comparative examples.
[実施例1−1]
<原材料M>
化合物半導体として硫化亜鉛(ZnS)を用いる。また、賦活剤として、硫酸マンガン(MnSO4)、塩化イリジウム(IrCl3)、焼結助剤として、酸化亜鉛(ZnO)、フッ化バリウム(BaF2)、塩化マグネシウム(MgCl2)、塩化ナトリウム(NaCl)を用いる。そして、これらZnS、MnSO4、ZnO、BaF2、MgCl2、IrCl3、NaClを、下記の表1に示す重量%で混合したものを原材料Mとした。
[Example 1-1]
<Raw material M>
Zinc sulfide (ZnS) is used as the compound semiconductor. Further, as an activator, manganese sulfate (MnSO 4 ), iridium chloride (IrCl 3 ), and as a sintering aid, zinc oxide (ZnO), barium fluoride (BaF 2 ), magnesium chloride (MgCl 2 ), sodium chloride ( NaCl). A raw material M was prepared by mixing these ZnS, MnSO 4 , ZnO, BaF 2 , MgCl 2 , IrCl 3 , and NaCl at a weight percentage shown in Table 1 below.
<高エネルギ物質>
硝酸ヒドラジン63.5重量%と、飽水ヒドラジン36.5重量%とを混合したもの(HN/HH)を高エネルギ物質Eとした。
<High energy materials>
A high energy substance E was prepared by mixing 63.5% by weight of hydrazine nitrate and 36.5% by weight of saturated hydrazine (HN / HH).
<無機化合物の作製>
上記した重量比(重量%)で混合した原材料M:68.0gと、高エネルギ物質E:20gとを、図1に示す密閉容器1内に封入し、その密閉容器1を加熱炉2内に収容した状態で、ガスバーナ3により密閉容器1を加熱し当該密閉容器1内の高エネルギ物質Eを熱分解させる処理(ドーピング処理)を行って無機化合物(青色蛍光体)を作製した。加熱は密閉容器1内の温度が約200℃になるまで加熱し続け、反応の終了は密閉容器1内部の圧力の上昇をモニターすることで確認を行った。次に、密閉容器1の冷却及びガス抜きを行い、その後に無機化合物を密閉容器1から取り出して水洗浄を行った。
<Preparation of inorganic compounds>
The raw material M: 68.0 g and the high energy substance E: 20 g mixed at the above weight ratio (% by weight) are sealed in the sealed
以上の処理により作製した無機化合物についてPL(フォトルミネッセンス)強度を測定した。PL強度は、He−Cdレーザから励起波長325nmの光を無機化合物に照射し、その蛍光を、分光器:USB4000(オーシャンオプティクス社製)を用いて測定した。その結果を図3に示す。なお、図3においては、下記の[比較例1−2]で作製した無機化合物のPL強度を「1」とした相対強度で表している。 PL (photoluminescence) intensity | strength was measured about the inorganic compound produced by the above process. The PL intensity was measured by irradiating an inorganic compound with light having an excitation wavelength of 325 nm from a He—Cd laser, and using a spectroscope: USB4000 (manufactured by Ocean Optics). The result is shown in FIG. In addition, in FIG. 3, it represents with the relative intensity | strength which made PL intensity | strength of the inorganic compound produced by the following [comparative example 1-2] "1".
また、X線回折装置:RINT2200(株式会社リガク製)を用い、X線回折法[θ−2θ法、ターゲット:Cu、管電圧:40kV、管電流:30mA]によって、上記無機化合物のX線回折ピーク(XRDピーク)を測定した。そのX線回折結果を図4に示す。 In addition, X-ray diffraction of the above inorganic compound was performed using an X-ray diffractometer: RINT2200 (manufactured by Rigaku Corporation) by an X-ray diffraction method [θ-2θ method, target: Cu, tube voltage: 40 kV, tube current: 30 mA]. The peak (XRD peak) was measured. The X-ray diffraction results are shown in FIG.
[比較例1−1]
上記した[実施例1−1]において、高エネルギ物質として硝酸ヒドラジン(20g)のみを用いたこと以外は、[実施例1−1]と同じとして無機化合物(青色蛍光体)を作製した。
[Comparative Example 1-1]
In [Example 1-1] described above, an inorganic compound (blue phosphor) was produced in the same manner as [Example 1-1] except that only hydrazine nitrate (20 g) was used as the high-energy substance.
このようにして作製した無機化合物(比較例1−1)のPL強度を上記した[実施例1−1]と同じ方法で測定した。その結果を図3に示す。また、上記した[実施例1−1]と同じ方法で無機化合物(比較例1−1)のX線回折ピークを測定した。そのX線回折結果を図4に示す。 The PL intensity of the inorganic compound thus produced (Comparative Example 1-1) was measured by the same method as [Example 1-1] described above. The result is shown in FIG. Moreover, the X-ray diffraction peak of the inorganic compound (Comparative Example 1-1) was measured by the same method as in [Example 1-1] described above. The X-ray diffraction results are shown in FIG.
[比較例1−2]
上記した[実施例1−1]において、高エネルギ物質としてTNT(20g)を用いたこと以外は、[実施例1−1]と同じとして無機化合物(青色蛍光体)を作製した。
[Comparative Example 1-2]
In [Example 1-1] described above, an inorganic compound (blue phosphor) was produced in the same manner as [Example 1-1] except that TNT (20 g) was used as the high-energy substance.
このようにして作製した無機化合物(比較例1−2)のPL強度を上記した[実施例1−1]と同じ方法で測定した。その結果を図3に示す。また、上記した[実施例1−1]と同じ方法で無機化合物(比較例1−2)のX線回折ピークを測定した。そのX線回折結果を図4に示す。 The PL intensity of the inorganic compound thus produced (Comparative Example 1-2) was measured by the same method as [Example 1-1] described above. The result is shown in FIG. Moreover, the X-ray-diffraction peak of the inorganic compound (Comparative Example 1-2) was measured by the same method as [Example 1-1] mentioned above. The X-ray diffraction results are shown in FIG.
[評価1]
<外観検査>
上記[実施例1−1]で作製した無機化合物、上記[比較例1−1]及び[比較例1−2]の各例で作製した無機化合物について、目視にて観察したところ、[実施例1−1]及び[比較例1−1]の無機化合物は白色であり、カーボンによる汚染はなかった。一方、[比較例1−2]の無機化合物については黒色であり、カーボンによる汚染が確認できた。
[Evaluation 1]
<Appearance inspection>
When the inorganic compound produced in the above [Example 1-1] and the inorganic compound produced in each example of the above [Comparative Example 1-1] and [Comparative Example 1-2] were visually observed, The inorganic compound of [1-1] and [Comparative Example 1-1] was white and was not contaminated by carbon. On the other hand, the inorganic compound of [Comparative Example 1-2] was black, and contamination with carbon could be confirmed.
<発光強度>
図3に示すPL強度測定結果から、高エネルギ物質として硝酸ヒドラジンと飽水ヒドラジンとの混合物(HN/HH)を用いた場合(実施例1−1)、TNTを用いた場合(比較例1−2)に対して約16倍の発光強度が得られることが判る。また、硝酸ヒドラジン単体の高エネルギ物質(HN)を用いた場合(比較例1−1)、TNTを用いた場合(比較例1−2)に対して約5倍の発光強度が得られることが判る。なお、硝酸ヒドラジンに飽水ヒドラジンを混合した場合、硝酸ヒドラジン単体の場合よりも高い発光強度が得られることも判る。
<Luminescence intensity>
From the PL intensity measurement results shown in FIG. 3, when a mixture of hydrazine nitrate and saturated hydrazine (HN / HH) is used as a high-energy substance (Example 1-1), when TNT is used (Comparative Example 1- It can be seen that the emission intensity is about 16 times that of 2). Further, when using a high energy substance (HN) of hydrazine nitrate alone (Comparative Example 1-1), a light emission intensity about 5 times as high as that using TNT (Comparative Example 1-2) can be obtained. I understand. It can also be seen that when saturated hydrazine is mixed with hydrazine nitrate, a higher emission intensity can be obtained than in the case of hydrazine nitrate alone.
以上の結果から、カーボンを含まない高エネルギ物質を用いることにより、カーボンの黒色汚染による発光吸収がなくなって、高い発光強度が得られることが確認できた。 From the above results, it was confirmed that by using a high-energy substance that does not contain carbon, emission absorption due to black contamination of carbon disappears and high emission intensity can be obtained.
<XRD評価>
図4に示すX線回折結果から判るように、上記[実施例1−1]、[比較例1−1]及び[比較例1−2]の各例で作製した全ての無機化合物において、硫化亜鉛(ZnS)のX線回折ピークが現れており、これにより、[実施例1−1]、[比較例1−1]及び[比較例1−2]の全てにおいて、ZnSをベースとした無機化合物(青色蛍光体)が作製できていることが確認できた。
<XRD evaluation>
As can be seen from the X-ray diffraction results shown in FIG. 4, in all the inorganic compounds prepared in each of the above [Example 1-1], [Comparative Example 1-1] and [Comparative Example 1-2], An X-ray diffraction peak of zinc (ZnS) appears, and thereby, in all of [Example 1-1], [Comparative example 1-1] and [Comparative example 1-2], an inorganic material based on ZnS It was confirmed that the compound (blue phosphor) was prepared.
ただし、硝酸ヒドラジン単体の高エネルギ物質(HN)を用いて作製した無機化合物(比較例1−1)には、硫酸バリウム(BaSO4)のX線回折ピーク(図4の破線矢印で示すピーク)が現れており、上記加熱処理(ドーピング処理)の際の反応副生成物である硫酸バリウムが生成されていることが確認できた。 However, an X-ray diffraction peak of barium sulfate (BaSO 4 ) (a peak indicated by a broken line arrow in FIG. 4) is used for an inorganic compound (Comparative Example 1-1) prepared using a high-energy substance (HN) of hydrazine nitrate alone. It was confirmed that barium sulfate, which is a reaction by-product during the heat treatment (doping treatment), was produced.
[実施例2−1]
上記した[実施例1−1]と同じ条件・処理で無機化合物を作製した。すなわち、高エネルギ物質として、硝酸ヒドラジン63.5重量%と飽水ヒドラジン36.5重量%とを混合したもの(HN:HH=63.5:36.5 酸素バランス=−18.0% 20g)を用いて無機化合物を作製した。このようにして作製した無機化合物[実施例2−1]のX線回折ピークを[実施例1−1]と同じ方法で測定した。そのX線回折結果を図5に示す。
[Example 2-1]
An inorganic compound was produced under the same conditions and treatment as in [Example 1-1] described above. That is, as a high energy substance, a mixture of hydrazine nitrate 63.5% by weight and saturated hydrazine 36.5% by weight (HN: HH = 63.5: 36.5 oxygen balance = 1-18% 20 g) An inorganic compound was prepared using The X-ray diffraction peak of the thus produced inorganic compound [Example 2-1] was measured by the same method as [Example 1-1]. The X-ray diffraction results are shown in FIG.
[実施例2−2]
上記した[実施例1−1]において、高エネルギ物質として、硝酸ヒドラジン55.0重量%と飽水ヒドラジン45.0重量%とを混合したもの(HN:HH=55.0:45.0 酸素バランス=−24.1% 20g)を用いたこと以外は、[実施例1−1]と同じとして無機化合物を作製した。このようにして作製した無機化合物[実施例2−2]のX線回折ピークを[実施例1−1]と同じ方法で測定した。そのX線回折結果を図5に示す。
[Example 2-2]
In [Example 1-1] described above, as a high-energy substance, a mixture of hydrazine nitrate 55.0% by weight and saturated hydrazine 45.0% by weight (HN: HH = 55.0: 45.0 oxygen) An inorganic compound was produced in the same manner as in [Example 1-1] except that balance = −24.1% 20 g) was used. The X-ray diffraction peak of the thus produced inorganic compound [Example 2-2] was measured by the same method as [Example 1-1]. The X-ray diffraction results are shown in FIG.
[比較例2−1]
上記した[実施例1−1]において、硝酸ヒドラジンの重量比が100重量%の高エネルギ物質(HN:HH=100:0 酸素バランス=+8.4% 20g)を用いたこと以外は、[実施例1−1]と同じとして無機化合物を作製した。このようにして作製した無機化合物[比較例2−1]のX線回折ピークを[実施例1−1]と同じ方法で測定した。そのX線回折結果を図5に示す。
[Comparative Example 2-1]
In the above [Example 1-1], except that a high energy substance (HN: HH = 100: 0 oxygen balance = + 8.4% 20 g) having a hydrazine nitrate weight ratio of 100% by weight was used, Inorganic compounds were prepared as in Example 1-1]. The X-ray diffraction peak of the inorganic compound thus produced [Comparative Example 2-1] was measured by the same method as in [Example 1-1]. The X-ray diffraction results are shown in FIG.
[評価2]
図5に示すX線回折結果から、[比較例2−1]で作製した無機化合物(青色蛍光体)(硝酸ヒドラジン単体の高エネルギ物質(HN)を用いて作製した無機化合物)のX線回折ピークには、硫酸バリウム(BaSO4)のピーク(図5の破線矢印で示すピーク)が現れており、上記加熱処理(ドーピング処理)の際の反応副生成物である硫酸バリウムが混在していることが判る。これに対し、[実施例2−1]及び[実施例2−2]で作製した無機化合物(青色蛍光体)(高エネルギ物質(HN/HH)を用いて作製した無機化合物)のX線回折ピークには、いずれも、硫酸バリウム(BaSO4)のピークは現れておらず、硫酸バリウムが存在していないことが判る。
[Evaluation 2]
From the X-ray diffraction results shown in FIG. 5, X-ray diffraction of the inorganic compound (blue phosphor) prepared in [Comparative Example 2-1] (inorganic compound prepared using a high-energy substance (HN) of hydrazine nitrate alone). In the peak, a barium sulfate (BaSO 4 ) peak (a peak indicated by a broken line arrow in FIG. 5) appears, and barium sulfate which is a reaction by-product in the heat treatment (doping treatment) is mixed. I understand that. In contrast, X-ray diffraction of the inorganic compound (blue phosphor) (inorganic compound prepared using a high energy substance (HN / HH)) prepared in [Example 2-1] and [Example 2-2]. In any of the peaks, no barium sulfate (BaSO 4 ) peak appears, and it can be seen that no barium sulfate is present.
[評価3]
[比較例2−1]で作製した無機化合物(青色蛍光体)を、ITO製透明電極が形成されたガラス基板上に1000nm成膜して発光層を作製した。成膜装置にはEB蒸着装置を用いた。また、成膜条件は、蒸着チャンバ内の真空度を8×10-6Torr(1.1×10-3Pa)、ガラス基板の温度を300℃とした。そして、成膜後、発光層の結晶性の向上のために600℃の温度で1時間のアニール処理を施した。
[Evaluation 3]
The inorganic compound (blue phosphor) produced in [Comparative Example 2-1] was formed to a thickness of 1000 nm on a glass substrate on which an ITO transparent electrode was formed to produce a light emitting layer. An EB vapor deposition apparatus was used as the film forming apparatus. The film forming conditions were such that the degree of vacuum in the vapor deposition chamber was 8 × 10 −6 Torr (1.1 × 10 −3 Pa) and the temperature of the glass substrate was 300 ° C. After the film formation, an annealing treatment was performed at a temperature of 600 ° C. for 1 hour in order to improve the crystallinity of the light emitting layer.
このような処理にて作製した発光層(蒸着膜)について、上記した[実施例1]と同じ方法でX線回折ピークを測定したところ、硫酸バリウム(BaSO4)のピークが現れた。これに対し、[実施例2−1]及び[実施例2−2]で作製した無機化合物(青色蛍光体)を同条件でITO製透明電極上に1000nm成膜して発光層を作製し、上記した[実施例1]と同じ方法でX線回折ピークを測定したところ、いずれも、硫酸バリウム(BaSO4)のピークは現れなかった。 When the X-ray diffraction peak was measured for the light emitting layer (deposited film) produced by such treatment by the same method as in [Example 1], a barium sulfate (BaSO 4 ) peak appeared. On the other hand, the inorganic compound (blue phosphor) produced in [Example 2-1] and [Example 2-2] was formed to a thickness of 1000 nm on the ITO transparent electrode under the same conditions to produce a light emitting layer, When X-ray diffraction peaks were measured by the same method as in [Example 1], no barium sulfate (BaSO 4 ) peak appeared.
以上の結果(XRD評価)から、高エネルギ物質の酸素バランスをマイナスとすることにより、作製した無機化合物(青色蛍光体)及びその無機化合物を用いて成膜した発光層からは、反応副生成物が生成されないことが確認できた。
[まとめ]
以上の実施例及び比較例から、無機組成物(化合物半導体を含有)に高温・高圧を印加する高エネルギ物質として、カーボンを含まない硝酸ヒドラジンを用いて無機化合物(無機蛍光体)を作製することにより、カーボンを含むTNTを用いた場合と比較して、無機化合物の発光強度が大幅に向上することが確認できた。
From the above results (XRD evaluation), by making the oxygen balance of the high-energy substance negative, the produced inorganic compound (blue phosphor) and the light-emitting layer formed using the inorganic compound are reacted by-products. It was confirmed that was not generated.
[Summary]
From the above examples and comparative examples, an inorganic compound (inorganic phosphor) is produced using hydrazine nitrate not containing carbon as a high-energy substance that applies high temperature and high pressure to an inorganic composition (containing a compound semiconductor). Thus, it was confirmed that the emission intensity of the inorganic compound was significantly improved as compared with the case of using TNT containing carbon.
また、硝酸ヒドラジン単体の高エネルギ物質を用いた場合には、その高エネルギ物質の酸素バランスがプラスであり、加熱処理時の雰囲気(密閉容器内の雰囲気)が酸素雰囲気となるため、反応副生成物(硫酸バリウム)が生成される。これに対し、硝酸ヒドラジンに飽水ヒドラジンを混合し、その混合比を選択して高エネルギ物質の酸素バランスをマイナスとすること(加熱処理時の雰囲気を還元雰囲気とすること)により、反応副生成物が存在しない無機化合物(無機蛍光体)を製造できることが確認できた。 In addition, when a high-energy substance consisting of hydrazine nitrate alone is used, the oxygen balance of the high-energy substance is positive, and the atmosphere during the heat treatment (atmosphere in the sealed container) becomes an oxygen atmosphere. Product (barium sulfate) is produced. On the other hand, by mixing saturated hydrazine with hydrazine nitrate and selecting the mixing ratio to make the oxygen balance of the high-energy substance negative (by making the atmosphere during heat treatment a reducing atmosphere), a reaction by-product It was confirmed that an inorganic compound (inorganic phosphor) free from any product can be produced.
したがって、本発明の製造方法を用いて無機化合物(無機蛍光体)を製造することにより、発光強度が強くて反応副生成物(不純物)が存在しない無機化合物を得ることができる。さらに、無機化合物に反応副生成物が存在しないことから、EL素子作製時における成膜処理(蒸着等)を安定して行うことが可能となり、無機EL素子を効率よく生産することができる。 Therefore, by producing an inorganic compound (inorganic phosphor) using the production method of the present invention, it is possible to obtain an inorganic compound having high emission intensity and free of reaction by-products (impurities). Furthermore, since no reaction by-product is present in the inorganic compound, it is possible to stably perform a film formation process (evaporation or the like) at the time of manufacturing the EL element, and the inorganic EL element can be produced efficiently.
本発明は、無機EL素子の製造に用いる無機化合物(無機蛍光体)の発光強度を向上させるのに有効に利用することができる。 The present invention can be effectively used to improve the emission intensity of an inorganic compound (inorganic phosphor) used for manufacturing an inorganic EL element.
1 ステンレス製密閉容器
11 容器本体
12 蓋体
13 六角穴付きボルト
2 加熱炉
3 ガスバーナ
M 原材料(無機組成物)
E 高エネルギ物質
DESCRIPTION OF
E High energy materials
Claims (2)
化合物半導体を含む無機組成物、及び、硝酸ヒドラジンと飽水ヒドラジンとを混合した高エネルギ物質を密閉容器内に封入した状態で、当該密閉容器内の高エネルギ物質を加熱により熱分解させることを特徴とする無機化合物の製造方法。 A method for producing an inorganic compound used for producing an inorganic EL element,
An inorganic composition containing a compound semiconductor and a high energy substance mixed with hydrazine nitrate and saturated hydrazine sealed in a sealed container, and the high energy substance in the sealed container is thermally decomposed by heating. A method for producing an inorganic compound.
前記高エネルギ物質の硝酸ヒドラジンと飽水ヒドラジンとの混合比は、前記密閉容器内で高エネルギ物質が熱分解する際の当該密閉容器内の雰囲気が還元雰囲気となるように設定されることを特徴とする無機化合物の製造方法。 In the manufacturing method of the inorganic compound of Claim 1,
The mixing ratio of the high energy substance hydrazine nitrate and saturated hydrazine is set so that the atmosphere in the sealed container when the high energy substance is thermally decomposed in the sealed container is a reducing atmosphere. A method for producing an inorganic compound.
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