JP2015072240A5 - - Google Patents

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水素イオン濃度の変化による理論上の電圧変化は、理論的にはネルンストの式と呼ばれる式から求めることができる。例えば、25℃において、電圧変化は、おおよそ59mV/pHである。この変化(変動)が、ISFETのゲート電圧に変化を与え、ISFETの出力電流が変化する。実際には、水素イオン濃度の変動に対する電圧変動は、理論値より低く、pHあたり数10mV程度となる。上記DNAの伸長反応によって発生する水素イオン濃度の変化は、反応を起させるDNA鎖の数と反応を起させる空間の大きさや試薬にもよるが、pHの変化では0.1程度である。そのため、ISFETの出力信号の変化は極めて小さい。
これを解決するために、ISFETの高感度化が検討されている。この例として特許文献2に記載されている技術がある。特許文献2においては、多数のISFETが、アレイ状に配置されており、その図75Fには、水素イオンの濃度変化を検出する単位セルが、75F1として示されている。この単位セル75F1は、高感度化の機能を備えている。図75Fにおいて、ISFETとして示されている部分が、ISFETの回路表現であり、ISFETは、イオン感応膜(部分)75F6と、これがゲートに接続されたMOSFET(トランジスタ)75F2とから構成されている。同図において、75F3はバイアス電流を与えるMOSFETであり、75F4は出力信号線75F7(Column Bus)と接続するためのMOSFETである。また、同図において、Row Selectは、単位セル75F1を選択する信号線である。
更に、MOSFETM1の他方の電極(ドレイン電極またはソース電極)は、MOSFETMSのソース電極(ノードN1)に接続され、MOSFETM1の一方の電極(ソース電極またはドレイン電極)は、回路の接地電圧Vsに接続されている。言い換えるならば、バイアス電圧VBiasと回路の接地電圧Vsとの間で、MOSFETMS(ISFET)とMOSFETM1とは直列に接続されている。MOSFETM1が、ISFET内のMOSFETMSと直列に接続されていることにより、このMOSFETM1をオン状態としたとき、MOSFETMSのソース電極(ノードN1)は、回路の接地電圧Vsとなる。これにより、MOSFETMSは、バイアス電圧VBiasとノードN1との間に電流を流すチャンネルを形成することが可能となる。
以下に述べる動作によれば、セル毎にMOSFETMS(ISFET)のしきい値電圧の変化の大きさを変えることができる。これによって、例えば製造時の電荷蓄積によって、各セルのMOSFETMSが異なるしきい値電圧、つまりオフセットを持ってしまったり、或いは、動作を続けている内に異なってきたりしても、同じしきい値電圧に揃えることが可能となる。これによって、それぞれ、ISFETを含み、増幅機能を備えた複数のセルから、高感度なアレイとしての信号を得ることができる。例を挙げて後で説明するが、ひとつの測定の過程で、例えば試薬の温度が変えられる。この温度を変える前にしきい値電圧を変化させて、温度を変えた後の信号をより高感度に得ることもできる。
先ず、図4に示した動作の制御においては、全てのセルのしきい値電圧を一括に変更するために、選択回路305に対して、全ての読み出し信号線WR1、WR2と全てのオフセットキャンセル信号線WC1、WC2をロウレベルにすることを指示する。また、このとき、制御回路315は、制御電圧VBおよびVRを形成するVR・VB形成回路600に対して、図4に示した電圧VR、VBを形成させ、フローセル200に設けられた参照電極202および半導体基板208へ印加させる。
この実施の形態においては、MOSFETMSのしきい値電圧を変更する際には、そのMOSFETMSを含むセル(例えばC11)に対応する読み出し信号線(例えばWR1)をハイレベルにし、残りの読み出し信号線WR2をロウレベルにする。また、このとき、オフセットキャンセル信号線WC1をハイレベルにし、オフセットキャンセル信号線WC2をロウレベルにする。これにより、例えば1列のセルに対してしきい値電圧の変更を行う。このときには、他の列のセルに対して、バイアス電圧VBiasがMOSFETMSに印加されるのを防ぐことが可能となる。また、セルの信号を読み出す際には、オフセットキャンセル信号線WC1、WC2をロウレベルとし、読み出すセルに対応した読み出し信号線WR(例えば、WR1)をハイレベルにし、残りの読み出し信号線WR2をロウレベルにする。
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