JP2015039656A - Gas removing method, gas removing system, and air conditioner - Google Patents

Gas removing method, gas removing system, and air conditioner Download PDF

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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a gas removing method, a gas removing system, and an air conditioner which reduce formaldehyde concentration efficiently in a short time.SOLUTION: A gas removing method removes aqueous gas contained in gas in a target space S by using an air conditioner A connected to the target space S. The air conditioner A includes a cooling coil 4 and a humidifier 6. Cooling by the cooling coil 4 and humidification by the humidifier 6 are simultaneously carried out by the air conditioner A, and a water screen is formed on the cooling coil 4 by humidification. The gas in the object space S is brought into contact with the water screen to dissolve the aqueous gas contained in the gas with the water screen. The air conditioner A further includes a heating coil 5. Heating by the heating coil 5 is simultaneously carried out in addition to the cooling by the cooling coil 4 and humidification by the humidifier 6 so that a temperature in the target space S reaches a predetermined temperature or higher.

Description

本発明は、対象空間内の気体に含まれる水溶性ガスを除去するガス除去方法、ガス除去システム、および空調機に関する。   The present invention relates to a gas removal method, a gas removal system, and an air conditioner that remove water-soluble gas contained in a gas in a target space.

医薬品や化粧品の製造、医療施設のバイオロジカルクリーンルームにおいて、浮遊菌などの殺菌にはホルムアルデヒドが用いられている。従来、ホルムアルデヒドにより対象空間内を殺菌した後は、ホルムアルデヒドは対象空間外部に処理されないまま放出されたり、分解除去装置により無害化処理が施されて排出されている。   Formaldehyde is used in the manufacture of pharmaceuticals and cosmetics, and in the biological clean rooms of medical facilities for the sterilization of airborne bacteria. Conventionally, after the inside of the target space is sterilized with formaldehyde, the formaldehyde is discharged without being processed outside the target space, or is detoxified by a decomposition and removal device and discharged.

ホルムアルデヒドの分解除去装置には、ホルムアルデヒドを含む気体と、オゾン含有ガスとを混合して、ホルムアルデヒドを酸化分解する装置が提案されている。他にも、触媒や吸着剤を用いた装置など、種々の装置が提案されている。従来では、対象空間内にこのような装置を設置することにより、対象空間内のホルムアルデヒドの濃度を低減させていた。   As an apparatus for decomposing and removing formaldehyde, an apparatus for oxidizing and decomposing formaldehyde by mixing a gas containing formaldehyde and an ozone-containing gas has been proposed. In addition, various apparatuses such as an apparatus using a catalyst or an adsorbent have been proposed. Conventionally, the concentration of formaldehyde in the target space has been reduced by installing such a device in the target space.

特開2005−204936号公報JP 2005-204936 A 特開2004−163055号公報JP 2004-163055 A

ところで、特定化学物質障害予防規則の改正により、ホルムアルデヒドが規制の対象となった。具体的には、ホルムアルデヒドに係る燻蒸後の対象空間内に、労働者等が立ち入る場合のホルムアルデヒドの濃度基準値を0.1ppm以下とすることが求められている。   By the way, formaldehyde became the object of regulation by the revision of the specific chemical substance disorder prevention regulations. Specifically, the concentration standard value of formaldehyde when workers enter the target space after fumigation related to formaldehyde is required to be 0.1 ppm or less.

燻蒸時において、ホルムアルデヒドは対象空間の壁面やHEPAフィルタなどに、固体化してパラホルムアルデヒドとなって付着する。このパラホルムアルデヒドは、ホルムアルデヒドの屋外への放出や分解除去時において、対象空間内のホルムアルデヒド濃度が低下するにともなって、再昇華して壁面等から放出される。このため、ホルムアルデヒドの濃度を速やかに0.1ppm以下とするためには、屋外への放出、すなわち換気量を多くするか、分解除去能力の大幅アップが必要であるが、経済的に困難であった。   At the time of fumigation, formaldehyde solidifies and adheres as paraformaldehyde to the wall surface of the target space, HEPA filter, or the like. The paraformaldehyde is sublimated and released from the wall surface or the like as the formaldehyde concentration in the target space decreases when formaldehyde is released to the outdoors or decomposed and removed. For this reason, in order to quickly reduce the concentration of formaldehyde to 0.1 ppm or less, it is necessary to release to the outdoors, that is, to increase the ventilation rate or to greatly increase the decomposition and removal capacity, but this is economically difficult. It was.

実際に、ホルムアルデヒドを外部に放出するための従来の換気量や分解除去の能力では、濃度が0.1ppm以下となるまでに数日を要することもあった。これは、医薬品等の製造においては、定期的にホルムアルデヒドによる殺菌を行う必要があるため、製造効率を低減させる要因となっていた。従って、より短時間にホルムアルデヒドの濃度を0.1ppm以下とする技術が求められていた。   Actually, with the conventional ventilation amount and the ability to decompose and remove formaldehyde to the outside, it sometimes took several days for the concentration to become 0.1 ppm or less. This has been a factor of reducing the production efficiency because it is necessary to periodically sterilize with formaldehyde in the production of pharmaceuticals and the like. Therefore, a technique for reducing the formaldehyde concentration to 0.1 ppm or less in a shorter time has been demanded.

本発明は、上記のような問題点を解決するために提案されたものである。本発明の目的は、空調機の冷却コイル上に水膜を設けて、効率的かつ短時間にホルムアルデヒトなどの水溶性ガス濃度を低減させるガス除去方法、ガス除去システム、および空調機を提供することである。   The present invention has been proposed to solve the above problems. An object of the present invention is to provide a gas removal method, a gas removal system, and an air conditioner that provide a water film on a cooling coil of an air conditioner to reduce the concentration of a water-soluble gas such as formaldehyde in a short time. It is.

上記の目的を達成するために、本発明のガス除去方法は、以下のような特徴を有している。
(1)対象空間に接続された空調機を用いて、前記対象空間内の気体に含まれる水溶性ガスを除去するガス除去方法であって、前記空調機は、冷却コイルと加湿器とを有し、前記空調機に、前記冷却コイルによる冷却と、前記加湿器による加湿と、を同時に行わせ、前記加湿により前記冷却コイル上に水膜を形成し、前記水膜に、前記対象空間内の気体を接触させ、当該気体に含まれる水溶性ガスを前記水膜に溶解させることを特徴とする。
In order to achieve the above object, the gas removal method of the present invention has the following characteristics.
(1) A gas removal method for removing a water-soluble gas contained in a gas in the target space using an air conditioner connected to the target space, wherein the air conditioner has a cooling coil and a humidifier. And causing the air conditioner to simultaneously perform cooling by the cooling coil and humidification by the humidifier, forming a water film on the cooling coil by the humidification, and forming the water film on the water film in the target space. A gas is brought into contact, and a water-soluble gas contained in the gas is dissolved in the water film.

(2)前記空調機は、さらに加熱コイルを有し、前記冷却コイルによる冷却と、前記加湿器による加湿に加え、さらに前記加熱コイルによる加熱を同時に行わせ、前記対象空間の温度を所定の温度以上としても良い。
(3)前記冷却コイルに対して、前記冷却コイルの上流側から前記加湿器による加湿を行っても良い。
(2) The air conditioner further includes a heating coil. In addition to cooling by the cooling coil and humidification by the humidifier, heating by the heating coil is simultaneously performed, and the temperature of the target space is set to a predetermined temperature. It is good also as above.
(3) Humidification by the humidifier may be performed on the cooling coil from the upstream side of the cooling coil.

(4)前記対象空間における水溶性ガス濃度を測定し、測定した水溶性ガス濃度に基づいて、前記水膜の量を調整しても良い。
(5)前記対象空間の温度と湿度を測定し、測定した湿度の値に基づいて、前記冷却コイルおよび前記加湿装置を制御し、測定した温度の値に基づいて、前記加熱コイルを制御しても良い。
(4) The water-soluble gas concentration in the target space may be measured, and the amount of the water film may be adjusted based on the measured water-soluble gas concentration.
(5) Measure the temperature and humidity of the target space, control the cooling coil and the humidifier based on the measured humidity value, and control the heating coil based on the measured temperature value Also good.

なお、上記の各形態は、ガス除去システムおよび空調機の発明としても捉えることができる。   In addition, each said form can also be caught as invention of a gas removal system and an air conditioner.

本発明によれば、効率的かつ短期的にホルムアルデヒド濃度を低減させるガス除去方法、ガス除去システム、および空調機を提供することができる。   ADVANTAGE OF THE INVENTION According to this invention, the gas removal method, gas removal system, and air conditioner which reduce formaldehyde density | concentration efficiently and in the short term can be provided.

第1の実施形態にかかるガス除去システムの一例を示す構成図である。It is a lineblock diagram showing an example of the gas removal system concerning a 1st embodiment. 第1の実施形態にかかるガス除去システムの制御装置の一例を示すブロック図である。It is a block diagram which shows an example of the control apparatus of the gas removal system concerning 1st Embodiment. 第1の実施形態にかかる制御の概要を示す模式図である。It is a schematic diagram which shows the outline | summary of the control concerning 1st Embodiment. 第1の実施形態にかかる水溶性ガスの除去フローを示すフローチャートである。It is a flowchart which shows the removal flow of the water-soluble gas concerning 1st Embodiment. 第1の実施形態にかかるガス除去システムによるガス除去時の気体の状態を示す空気線図である。It is an air line figure which shows the state of the gas at the time of the gas removal by the gas removal system concerning 1st Embodiment. 第1の実施形態にかかるガス除去システムと従来の分解装置のガス除去能力を示すグラフである。It is a graph which shows the gas removal capacity of the gas removal system concerning 1st Embodiment, and the conventional decomposition device. 第2の実施形態にかかるガス除去システムの一例を示す構成図である。It is a block diagram which shows an example of the gas removal system concerning 2nd Embodiment. 第2の実施形態にかかるガス除去システムの制御装置の一例を示すブロック図である。It is a block diagram which shows an example of the control apparatus of the gas removal system concerning 2nd Embodiment. 第2の実施形態にかかるガス除去システムによるガス除去時の気体の状態を示す空気線図である。It is an air line figure which shows the state of the gas at the time of the gas removal by the gas removal system concerning 2nd Embodiment. 第2の実施形態にかかるガス除去システムによる製造環境時の気体の状態を示す空気線図である。It is an air line figure which shows the state of the gas at the time of manufacturing environment by the gas removal system concerning 2nd Embodiment. 第3の実施形態にかかるガス除去システムの一例を示す構成図である。It is a block diagram which shows an example of the gas removal system concerning 3rd Embodiment. 第3の実施形態にかかるガス除去システムの制御装置の一例を示すブロック図である。It is a block diagram which shows an example of the control apparatus of the gas removal system concerning 3rd Embodiment.

[第1の実施形態]
[1.全体構成]
以下、本発明に係るガス除去システムの実施形態について図面を参照しつつ説明する。ガス除去システムは、図1に示す空調機Aと、図2に示す制御装置Cを有する。ガス除去システムは、対象空間Sに接続された空調機Aを用いて、対象空間S内の気体に含まれる水溶性ガスを除去するものである。空調機Aは、通常時は対象空間の空調を行い、水溶性ガス除去時には、後述する冷却コイル上に水膜を形成して水溶性ガスを溶解させて除去するものである。除去対象となる水溶性ガスとしては、例えばホルムアルデヒドやアンモニア等が挙げられるが、水溶性であれば他のガスを除去することも可能である。なお、以下では、説明の便宜上、対象空間S内やダクトによる冷却・加熱の負荷はないものとしている。
[First Embodiment]
[1. overall structure]
Hereinafter, embodiments of a gas removal system according to the present invention will be described with reference to the drawings. The gas removal system has an air conditioner A shown in FIG. 1 and a control device C shown in FIG. The gas removal system removes water-soluble gas contained in the gas in the target space S using the air conditioner A connected to the target space S. The air conditioner A normally air-conditions the target space, and at the time of removing the water-soluble gas, a water film is formed on a cooling coil described later to dissolve and remove the water-soluble gas. Examples of the water-soluble gas to be removed include formaldehyde and ammonia, but other gases can be removed as long as they are water-soluble. In the following, for convenience of explanation, it is assumed that there is no cooling / heating load in the target space S or by a duct.

対象空間Sは、空調機Aと接続される排気口10aおよび給気口10bを有する。排気口10aおよび給気口10bには、それぞれHEPAフィルタなどの集塵フィルタが設けられている。また、対象空間Sには、換気口10cが設けられ、接続されたダクトの他端が外部に連通されている。   The target space S has an exhaust port 10a and an air supply port 10b connected to the air conditioner A. A dust collection filter such as a HEPA filter is provided in each of the exhaust port 10a and the air supply port 10b. The target space S is provided with a ventilation port 10c, and the other end of the connected duct communicates with the outside.

対象空間Sの内部には、温度計Tおよび湿度計Hが設けられている。温度計Tおよび湿度計Hは後述する制御装置Cに接続されている。これらの計器の設置箇所は、対象空間Sに限られず対象空間Sと空調機Aの間のダクトに設けても良い。湿度計Hは、露点温度計としても良い。なお、水溶性ガス除去時においては、水溶性ガス分解装置Fを対象空間S内に配置して、初期段階の高濃度の水溶性ガスを分解除去しても良い。   Inside the object space S, a thermometer T and a hygrometer H are provided. The thermometer T and the hygrometer H are connected to a control device C described later. The installation location of these instruments is not limited to the target space S, and may be provided in a duct between the target space S and the air conditioner A. The hygrometer H may be a dew point thermometer. At the time of removing the water-soluble gas, the water-soluble gas decomposing apparatus F may be disposed in the target space S to decompose and remove the high-concentration water-soluble gas at the initial stage.

[1.1 空調機の構成]
本実施形態に用いられる空調機Aの構成を図1に示す。なお、図1の符号A1〜A5は、後述する図5の空気線図における空気の状態を示す各点に対応している。空調機Aは、気体導入口1a、気体排出口1b、および外気導入口1cが設けられたチャンバ1を有し、例えばクリーンルームなどの対象空間Sに接続されている。
[1.1 Air conditioner configuration]
The structure of the air conditioner A used for this embodiment is shown in FIG. Note that reference signs A1 to A5 in FIG. 1 correspond to points indicating air states in the air diagram of FIG. 5 to be described later. The air conditioner A includes a chamber 1 provided with a gas inlet 1a, a gas outlet 1b, and an outside air inlet 1c, and is connected to a target space S such as a clean room.

気体導入口1aは、対象空間Sから循環される気体の導入口であり、対象空間Sの排気口10aと接続されている。また、気体排出口1bは、空調機Aで調整され、対象空間Sに供給される気体の排出口であり、対象空間Sの給気口10bと接続されている。外気導入口1cは、空調機Aに導入される外気の導入口であり、接続されたダクトの他端が外部に連通されている。   The gas introduction port 1 a is an introduction port for gas circulated from the target space S, and is connected to the exhaust port 10 a of the target space S. The gas discharge port 1b is a gas discharge port that is adjusted by the air conditioner A and is supplied to the target space S, and is connected to the air supply port 10b of the target space S. The outside air inlet 1c is an inlet for outside air introduced into the air conditioner A, and the other end of the connected duct communicates with the outside.

チャンバ1の内部には、気体導入口1a側から、プレフィルタ2、中性能フィルタ3、冷却コイル4、加熱コイル5、加湿器6、および調整された空気を気体排出口1bから吐出するための送風機7が設けられている。なお、以下の説明において、上流側とは、空気の流れの上流側を意味しており、空調機Aの気体導入口1a側を指す。プレフィルタ2および中性能フィルタ3は、塵埃などを補集するためのフィルタである。   Inside the chamber 1, the pre-filter 2, the medium performance filter 3, the cooling coil 4, the heating coil 5, the humidifier 6, and the adjusted air are discharged from the gas outlet 1 b from the gas inlet 1 a side. A blower 7 is provided. In the following description, the upstream side means the upstream side of the air flow and refers to the gas inlet 1a side of the air conditioner A. The pre-filter 2 and the medium performance filter 3 are filters for collecting dust and the like.

冷却コイル4には、例えば、冷凍機等の冷却水供給装置(不図示)に接続されている冷却水供給ライン4aが接続され、冷却水が供給されている。なお、冷却コイル4を循環した冷却水は図示しない配管により再度冷却水供給装置に送られるように構成されている。冷却水供給ライン4aには、バルブ4bが設けられている。バルブ4bは制御装置に接続されており、開度が調整されることにより、冷却コイル4に供給される冷却水の流量が調整される。   For example, a cooling water supply line 4 a connected to a cooling water supply device (not shown) such as a refrigerator is connected to the cooling coil 4 and is supplied with cooling water. The cooling water circulating through the cooling coil 4 is configured to be sent again to the cooling water supply device through a pipe (not shown). The cooling water supply line 4a is provided with a valve 4b. The valve 4b is connected to the control device, and the flow rate of the cooling water supplied to the cooling coil 4 is adjusted by adjusting the opening degree.

加熱コイル5には、例えば、加熱機等の温熱源供給装置(不図示)に接続されている温熱源供給ライン5aが接続され、温水や蒸気が供給されている。なお、加熱コイル5を循環した温水や蒸気の凝縮水は図示しない配管により再度温熱源供給装置に送られるように構成されている。温熱源供給ライン5aには、バルブ5bが設けられている。バルブ5bは制御装置Cに接続されており、開度が調整されることにより、加熱コイル5に供給される温熱源の流量が調整される。   The heating coil 5 is connected to a heating source supply line 5a connected to a heating source supply device (not shown) such as a heater, for example, and is supplied with hot water or steam. Note that the hot water and the condensed water of the steam circulated through the heating coil 5 are configured to be sent again to the heat source supply device through a pipe (not shown). A valve 5b is provided in the heat source supply line 5a. The valve 5b is connected to the control device C, and the flow rate of the heat source supplied to the heating coil 5 is adjusted by adjusting the opening degree.

加湿器6には、加湿蒸気供給装置(不図示)に接続されている加湿蒸気供給ライン6aが接続され、加湿に用いる蒸気が供給されている。加湿蒸気供給ライン6aには、バルブ6bが設けられている。バルブ6bは制御装置Cに接続されており、開度が調整されることにより、加湿器6に供給される加湿蒸気の流量が調整される。なお、本実施形態では蒸気加湿ノズルを設ける構成を図示しているが、加湿器6は蒸気噴霧式に限定されず、気化式水膜や水噴霧式のものを用いても良い。   The humidifier 6 is connected to a humidified steam supply line 6a connected to a humidified steam supply device (not shown), and is supplied with steam used for humidification. A valve 6b is provided in the humidified steam supply line 6a. The valve 6b is connected to the control device C, and the flow rate of the humidified steam supplied to the humidifier 6 is adjusted by adjusting the opening degree. In addition, although the structure which provides a steam humidification nozzle is illustrated in this embodiment, the humidifier 6 is not limited to a vapor | steam spray type, You may use a vaporization type water film or a water spray type.

[1.2 制御装置の構成]
制御装置Cは、図2に示すように、対象空間S内に設けられた湿度計Hと温度計Tに接続されている。制御装置Cは、湿度計Hの値に基づいて、冷却コイル4と加湿器6を制御する。また、制御装置Cは、温度計Tの値に基づいて、加熱コイル5を制御する。このような制御装置Cは、入力部20や出力部30が接続された、CPUやメモリを含み所定のプログラムで動作するコンピューターや専用の電子回路で構成されている。
[1.2 Configuration of control device]
As shown in FIG. 2, the control device C is connected to a hygrometer H and a thermometer T provided in the target space S. The control device C controls the cooling coil 4 and the humidifier 6 based on the value of the hygrometer H. Further, the control device C controls the heating coil 5 based on the value of the thermometer T. Such a control device C is configured by a computer or a dedicated electronic circuit including a CPU and a memory to which an input unit 20 and an output unit 30 are connected and which operates according to a predetermined program.

なお、制御装置Cは、外気導入口1cに設けられているダンパ、空調機Aの送風機7、空調機Aと対象空間S間の配管に設けられているダンパ等を制御する構成も有している。これらの構成は従来と同様のため、その記載は省略する。   In addition, the control apparatus C also has the structure which controls the damper etc. which are provided in the external air inlet 1c, the air blower 7 of the air conditioner A, the pipe provided between the air conditioner A and the target space S, and the like. Yes. Since these structures are the same as those of the prior art, description thereof is omitted.

入力部20には、オペレーターからの情報入力を受け入れる入力装置と、入力された情報を制御装置Cに通知するインターフェースが含まれる。この入力部20は、例えばオペレーターが空調機Aへの操作要求や、設定値の変更を入力する手段である。入力装置としては、例えば、タッチパネル(出力部30の表示装置に設置されているものを含む)、マウス、およびキーボードなどを用いることができる。   The input unit 20 includes an input device that accepts information input from an operator, and an interface that notifies the control device C of the input information. The input unit 20 is a means for an operator to input an operation request to the air conditioner A and a change of a set value, for example. As the input device, for example, a touch panel (including those installed on the display device of the output unit 30), a mouse, a keyboard, and the like can be used.

出力部30には、制御装置Cからの情報を出力するインターフェースと、出力された情報に基づいてオペレーターに操作内容の確認や選択をさせる画面を表示する表示装置が含まれる。この出力部30は、例えば空調機Aの状態を一覧や図で示したり、システムやオペレーターの操作に対する警報を表示する手段である。表示装置としては、例えば、液晶表示パネルなどの表示画面を持つディスプレイを用いることができる。   The output unit 30 includes an interface that outputs information from the control device C, and a display device that displays a screen that allows the operator to confirm and select operation contents based on the output information. The output unit 30 is means for displaying, for example, a list or a diagram of the state of the air conditioner A, or displaying an alarm for a system or operator operation. As the display device, for example, a display having a display screen such as a liquid crystal display panel can be used.

また、制御装置Cは、湿度制御部40および温度制御部50を有する。以下に、制御装置Cの各処理部の詳細を説明する。なお、空調機Aは、対象空間Sの空調を行う通常運転モードと、対象空間S内の水溶性ガスを除去する水溶性ガス除去モードの2つのモードで制御されるものである。ガス除去モードでは、対象空間S内において作業が行われていない場合と、作業が行われている場合とによって、異なる制御が行われる。以下では、水溶性ガス除去モードにおける制御装置Cについて説明し、通常運転時における制御は従来と同様であるため省略する。   Further, the control device C includes a humidity control unit 40 and a temperature control unit 50. Below, the detail of each process part of the control apparatus C is demonstrated. The air conditioner A is controlled in two modes: a normal operation mode in which air conditioning of the target space S is performed, and a water-soluble gas removal mode in which the water-soluble gas in the target space S is removed. In the gas removal mode, different control is performed depending on whether the work is being performed in the target space S or not. Hereinafter, the control device C in the water-soluble gas removal mode will be described, and the control during the normal operation is the same as the conventional one, and will be omitted.

[1.2.1 湿度制御部の構成]
湿度制御部40は、湿度計Hの測定値に基づいて、空調機Aの冷却コイル4および加湿器6を制御する処理部である。すなわち、湿度制御部40は、空調機Aに冷却コイル4による冷却と、加湿器6による加湿とを同時に行わせる制御を行う処理部である。このような湿度制御部40の制御により、空調機Aの冷却コイル4上に加湿による水分を結露させて水膜を形成する。ガス除去システムは、この水膜に対象空間内の気体を接触させ、当該気体に含まれる水溶性ガスを水膜に溶解させて水溶性ガスを除去している。
[1.2.1 Configuration of humidity control unit]
The humidity control unit 40 is a processing unit that controls the cooling coil 4 and the humidifier 6 of the air conditioner A based on the measurement value of the hygrometer H. That is, the humidity control unit 40 is a processing unit that performs control for causing the air conditioner A to simultaneously perform cooling by the cooling coil 4 and humidification by the humidifier 6. By such control of the humidity control unit 40, moisture due to humidification is condensed on the cooling coil 4 of the air conditioner A to form a water film. In the gas removal system, the gas in the target space is brought into contact with the water film, and the water-soluble gas contained in the gas is dissolved in the water film to remove the water-soluble gas.

湿度制御部40は、湿度記憶部41、湿度比較部42、冷却条件決定部43a、加湿条件決定部43b、冷却コイル制御手段44a、および加湿器制御手段44bを有する。湿度記憶部41は、冷却湿度記憶部41aと加湿湿度記憶部41bを有する。冷却湿度記憶部41aは、冷却コイル4を制御する基準となる湿度を記憶する手段である。加湿湿度記憶部41bは、加湿器6を制御する基準となる湿度を記憶する手段である。それぞれ記憶される湿度は、相対湿度としても良いし、露点温度としても良い。以下では説明の便宜上、露点温度が湿度として記憶されているものとして説明する。   The humidity control unit 40 includes a humidity storage unit 41, a humidity comparison unit 42, a cooling condition determination unit 43a, a humidification condition determination unit 43b, a cooling coil control unit 44a, and a humidifier control unit 44b. The humidity storage unit 41 includes a cooling humidity storage unit 41a and a humidification humidity storage unit 41b. The cooling humidity storage unit 41 a is a unit that stores humidity serving as a reference for controlling the cooling coil 4. The humidifying / humidifying storage unit 41b is a unit that stores humidity serving as a reference for controlling the humidifier 6. Each stored humidity may be a relative humidity or a dew point temperature. Hereinafter, for convenience of explanation, it is assumed that the dew point temperature is stored as humidity.

例えば、水溶性ガス分解装置Fにより高濃度の水溶性ガスを分解した後に、ガス除去システムを用いる場合、5ppm程度の水溶性ガスを除去することを想定した露点温度を記憶しておけば良い。5ppmのホルムアルデヒドを除去する場合には、冷却湿度記憶部41aが記憶する露点温度を12℃とし、加湿湿度記憶部41bが記憶する露点温度を21.5℃とすることが好ましい。   For example, when the gas removal system is used after decomposing a high-concentration water-soluble gas by the water-soluble gas decomposing apparatus F, the dew point temperature assuming that about 5 ppm of the water-soluble gas is removed may be stored. When removing 5 ppm formaldehyde, the dew point temperature stored in the cooling humidity storage unit 41a is preferably 12 ° C., and the dew point temperature stored in the humidification humidity storage unit 41b is preferably 21.5 ° C.

また、高濃度の水溶性ガスを除去する場合には、冷却コイル4上の水膜量を多くする必要がある。例えば、1000ppmのホルムアルデヒドを除去する場合には、冷却湿度記憶部41aが記憶する露点温度を12℃とし、加湿湿度記憶部41bが記憶する露点温度を25℃以上とすることが好ましい。   Moreover, when removing high concentration water-soluble gas, it is necessary to increase the amount of water films on the cooling coil 4. For example, when removing 1000 ppm of formaldehyde, the dew point temperature stored in the cooling humidity storage unit 41a is preferably 12 ° C., and the dew point temperature stored in the humidification humidity storage unit 41b is preferably 25 ° C. or higher.

湿度比較部42は、例えば複数の数値を比較して、数値の大小の判定や数値の差を判定する処理部であり、冷却湿度比較部42aと加湿湿度比較部42bを有する。冷却湿度比較部42aは、図示しないA/D変換部によりデジタル信号化された湿度計Hの測定値と冷却湿度記憶部41aに記憶されている露点温度値とを比較し、比較結果を冷却条件決定部43aに出力する。同様に、加湿湿度比較部42bは、湿度計Hの測定値と加湿湿度記憶部41bに記憶されている露点温度値とを比較し、比較結果を加湿条件決定部43bに出力する。なお、湿度比較部42で相対湿度を比較する場合には、湿度計Hに代えて相対湿度計を用いるか、湿度計Hと温度計Tの値から相対温度を算出する処理部を設けて、湿度比較部42に出力すれば良い。   The humidity comparison unit 42 is, for example, a processing unit that compares a plurality of numerical values to determine the magnitude of the numerical values and determines a difference between the numerical values, and includes a cooling humidity comparison unit 42a and a humidification humidity comparison unit 42b. The cooling humidity comparison unit 42a compares the measured value of the hygrometer H digitalized by an A / D conversion unit (not shown) with the dew point temperature value stored in the cooling humidity storage unit 41a, and compares the comparison result with the cooling condition. It outputs to the determination part 43a. Similarly, the humidification humidity comparison part 42b compares the measured value of the hygrometer H with the dew point temperature value memorize | stored in the humidification humidity memory | storage part 41b, and outputs a comparison result to the humidification condition determination part 43b. When the relative humidity is compared by the humidity comparison unit 42, a relative hygrometer is used instead of the hygrometer H or a processing unit for calculating the relative temperature from the values of the hygrometer H and the thermometer T is provided. What is necessary is just to output to the humidity comparison part 42.

冷却条件決定部43aは、冷却湿度比較部42aから出力された比較結果を受け取り、比較結果に基づいて冷却コイル4の冷却量を求める処理部である。冷却条件決定部43は、対象空間S内の露点温度が設定された露点温度となるように冷却コイル4を制御する条件を冷却コイル制御手段44aに出力する。例えば、冷却湿度記憶部41aにて記憶されている露点温度が12℃であり、湿度計Hの値が14℃の場合には、対象空間S内の湿度が14℃から12℃となるように、バルブ4bの開度を大きくし、冷却コイル4を冷却するよう出力する。   The cooling condition determination unit 43a is a processing unit that receives the comparison result output from the cooling humidity comparison unit 42a and obtains the cooling amount of the cooling coil 4 based on the comparison result. The cooling condition determination unit 43 outputs a condition for controlling the cooling coil 4 so that the dew point temperature in the target space S becomes the set dew point temperature to the cooling coil control unit 44a. For example, when the dew point temperature stored in the cooling humidity storage unit 41a is 12 ° C. and the value of the hygrometer H is 14 ° C., the humidity in the target space S is changed from 14 ° C. to 12 ° C. The opening of the valve 4b is increased, and the cooling coil 4 is output to be cooled.

加湿条件決定部43bは、加湿湿度比較部42bから出力された比較結果を受け取り、比較結果に基づいて加湿器4の加湿量を求める処理部である。加湿条件決定部43は、対象空間S内の露点温度が設定された露点温度となるように加湿器6を制御する条件を加湿器制御手段44bに出力する。例えば、加湿湿度記憶部41aにて記憶されている露点温度が21.5℃であり、湿度計Hの値が17℃の場合には、対象空間S内の湿度が17℃から21.5℃となるように、バルブ6bの開度を大きくして、加湿器6による加湿を行うよう出力する。   The humidification condition determination unit 43b is a processing unit that receives the comparison result output from the humidification humidity comparison unit 42b and obtains the humidification amount of the humidifier 4 based on the comparison result. The humidification condition determination unit 43 outputs a condition for controlling the humidifier 6 to the humidifier controller 44b so that the dew point temperature in the target space S becomes the set dew point temperature. For example, when the dew point temperature stored in the humidification humidity storage unit 41a is 21.5 ° C. and the value of the hygrometer H is 17 ° C., the humidity in the target space S is 17 ° C. to 21.5 ° C. Then, the opening degree of the valve 6b is increased so that humidification by the humidifier 6 is performed.

冷却コイル制御手段44aは、冷却条件決定部43aが決定した冷却条件に従って冷却コイル4のバルブ4bの開度を制御する処理部である。また、加湿器制御手段44bは、加湿条件決定部43bが決定した加湿条件に従って加湿器6のバルブ6bの開度を調整する手段である。   The cooling coil control unit 44a is a processing unit that controls the opening degree of the valve 4b of the cooling coil 4 according to the cooling condition determined by the cooling condition determination unit 43a. Moreover, the humidifier control means 44b is a means for adjusting the opening degree of the valve 6b of the humidifier 6 according to the humidification condition determined by the humidification condition determination unit 43b.

[1.2.2 温度制御部の構成]
温度制御部50は、温度計Tの測定値に基づいて、空調機Aの加熱コイル5を制御する処理部である。ガス除去システムは、湿度制御部40が冷却コイル4による冷却と、加湿器6による加湿を同時に行うことに加え、温度制御部50により加熱コイル5を制御することができる。
[1.2.2 Configuration of temperature controller]
The temperature control unit 50 is a processing unit that controls the heating coil 5 of the air conditioner A based on the measurement value of the thermometer T. In the gas removal system, the humidity control unit 40 can control the heating coil 5 by the temperature control unit 50 in addition to the cooling by the cooling coil 4 and the humidification by the humidifier 6 at the same time.

温度制御部50は、温度記憶部51、温度比較部52、および加熱条件決定部53を有する。温度記憶部51は、加熱コイル5を制御する基準となる温度を記憶する手段である。水溶性ガス除去時においては、対象空間S内の温度を所定の温度以上とすることで、対象空間Sの壁面等に付着した水溶性ガスの再昇華が促される。従って、記憶されている温度は、通常の製造環境時の温度である23℃程度よりも高温であることが好ましい。具体的には、対象空間Sにおいて、製造装置や壁等の構造体に問題を起こさない範囲でできるだけ高温にするのが良く、好ましくは30〜40℃の温度を記憶しておく。   The temperature control unit 50 includes a temperature storage unit 51, a temperature comparison unit 52, and a heating condition determination unit 53. The temperature storage unit 51 is a means for storing a temperature serving as a reference for controlling the heating coil 5. At the time of removing the water-soluble gas, the sublimation of the water-soluble gas attached to the wall surface or the like of the target space S is promoted by setting the temperature in the target space S to a predetermined temperature or higher. Accordingly, the stored temperature is preferably higher than about 23 ° C. which is a temperature in a normal manufacturing environment. Specifically, in the target space S, the temperature should be as high as possible within a range that does not cause a problem with the structure such as the manufacturing apparatus or the wall. Preferably, a temperature of 30 to 40 ° C. is stored.

温度比較部52は、例えば複数の数値を比較して、数値の大小の判定や数値の差を判定する処理部である。温度比較部52は、図示しないA/D変換部によりデジタル信号化された温度計Hの測定値と温度記憶部51に記憶されている温度とを比較し、比較結果を加熱条件決定部53に出力する。   The temperature comparison unit 52 is a processing unit that compares a plurality of numerical values, for example, and determines a numerical value size difference or a numerical value difference. The temperature comparison unit 52 compares the measured value of the thermometer H converted into a digital signal by an A / D conversion unit (not shown) and the temperature stored in the temperature storage unit 51, and compares the comparison result with the heating condition determination unit 53. Output.

加熱条件決定部53は、温度比較部52から出力された比較結果を受け取り、比較結果に基づいて加熱コイル5の加熱量を求める処理部である。加熱条件決定部53は、対象空間S内の温度が設定された温度となるように加熱コイル5を制御する条件を加熱コイル制御手段54に出力する。例えば、温度記憶部51にて記憶されている温度が35度であり、温度計Tの値が25度の場合には、対象空間S内の温度が25度から35度となるように、バルブ5bの開度を大きくし、加熱コイル4を加熱するよう出力する。加熱コイル制御手段54は、加熱条件決定部53が決定した加熱条件に従って加熱コイル5のバルブ5bの開度を制御する処理部である。   The heating condition determination unit 53 is a processing unit that receives the comparison result output from the temperature comparison unit 52 and calculates the heating amount of the heating coil 5 based on the comparison result. The heating condition determination unit 53 outputs a condition for controlling the heating coil 5 to the heating coil controller 54 so that the temperature in the target space S becomes the set temperature. For example, when the temperature stored in the temperature storage unit 51 is 35 degrees and the value of the thermometer T is 25 degrees, the valve is set so that the temperature in the target space S is 25 degrees to 35 degrees. The opening of 5b is increased, and the heating coil 4 is output to be heated. The heating coil control means 54 is a processing unit that controls the opening degree of the valve 5b of the heating coil 5 in accordance with the heating condition determined by the heating condition determination unit 53.

[2.水溶性ガス除去のフロー]
(制御の概要)
制御装置Cの制御の概要を、図3を参照して以下に説明する。まず、制御装置Cは、通常の空調時においては、図中(1)に示す制御を行う。ここでは、対象空間Sの条件を、温度23℃、露点温度12℃に調整するものとして説明する。まず、湿度制御において、対象空間S内の露点温度が12℃未満の場合、制御装置Cは、露点温度が12℃になるように加湿器6のバルブ6bの開度を調整して加湿を行う。
[2. Water-soluble gas removal flow]
(Outline of control)
An outline of the control of the control device C will be described below with reference to FIG. First, the control device C performs the control indicated by (1) in the figure during normal air conditioning. Here, the description will be made assuming that the condition of the target space S is adjusted to a temperature of 23 ° C. and a dew point temperature of 12 ° C. First, in the humidity control, when the dew point temperature in the target space S is less than 12 ° C., the control device C performs humidification by adjusting the opening of the valve 6b of the humidifier 6 so that the dew point temperature becomes 12 ° C. .

一方、露点温度が12℃を超える場合には、制御装置Cは、露点温度が12℃になるように冷却コイル4のバルブ4bの開度を調整して冷却を行い、除湿する。このように、空調機Aは、通常の空調時においては、対象空間S内の湿度が設定湿度以上か否かに基づいて、冷却コイル4による除湿及び加湿器6による加湿の一方が行われる。すなわち、通常の空調時において、冷却コイル4と加湿器6が同時に稼働されることはない。   On the other hand, when the dew point temperature exceeds 12 ° C., the control device C performs cooling by adjusting the opening of the valve 4b of the cooling coil 4 so that the dew point temperature becomes 12 ° C., and dehumidifies. As described above, during normal air conditioning, the air conditioner A performs either dehumidification by the cooling coil 4 or humidification by the humidifier 6 based on whether or not the humidity in the target space S is equal to or higher than the set humidity. That is, during normal air conditioning, the cooling coil 4 and the humidifier 6 are not operated simultaneously.

同様に、温度制御において、対象空間S内の温度が23℃未満の場合、制御装置Cは、温度が23℃になるように加熱コイル5のバルブ5bの開度を調整して加熱を行う。一方、温度が23℃を超える場合には、制御装置Cは、温度が23℃になるように冷却コイル4のバルブ4bの開度を調整して冷却を行う。   Similarly, in the temperature control, when the temperature in the target space S is less than 23 ° C., the control device C performs heating by adjusting the opening of the valve 5b of the heating coil 5 so that the temperature becomes 23 ° C. On the other hand, when the temperature exceeds 23 ° C., the control device C performs cooling by adjusting the opening of the valve 4 b of the cooling coil 4 so that the temperature becomes 23 ° C.

次に、制御装置Cは、水溶性ガス除去時においては、図中(2)に示す制御を行う。ここでは、対象空間Sの条件を、温度35℃、露点温度21.5℃に調整するものとして説明する。また、冷却湿度記憶部41aには露点温度12℃が、加湿湿度記憶部には露点温度21.5℃が記憶されているものとして説明する。   Next, the controller C performs the control shown in (2) in the figure when removing the water-soluble gas. Here, the description will be made assuming that the condition of the target space S is adjusted to a temperature of 35 ° C. and a dew point temperature of 21.5 ° C. In the following description, it is assumed that the dew point temperature 12 ° C. is stored in the cooling humidity storage unit 41a and the dew point temperature 21.5 ° C. is stored in the humidification humidity storage unit.

湿度制御部40は、冷却コイル4と加湿器6を同時に稼働させる。すなわち、湿度制御部40は、対象空間S内の露点温度が12℃を超える場合、露点温度が12℃になるように冷却コイル4のバルブ4bの開度を調整して冷却を行う。同時に、湿度制御部40は、対象空間S内の露点温度が21.5℃未満の場合、露点温度が21.5℃になるように加湿器6のバルブ6bの開度を調整して加湿を行う。このように、常に加湿を行うと同時に、冷却コイル4を冷却し続けることで、冷却コイル4上に結露水が生じ、水膜が形成される。   The humidity control unit 40 operates the cooling coil 4 and the humidifier 6 at the same time. That is, when the dew point temperature in the target space S exceeds 12 ° C., the humidity control unit 40 performs cooling by adjusting the opening of the valve 4 b of the cooling coil 4 so that the dew point temperature becomes 12 ° C. At the same time, when the dew point temperature in the target space S is less than 21.5 ° C., the humidity controller 40 adjusts the opening of the valve 6b of the humidifier 6 so that the dew point temperature is 21.5 ° C. Do. Thus, by always humidifying and simultaneously cooling the cooling coil 4, dew condensation water is generated on the cooling coil 4 and a water film is formed.

冷却コイル4にて冷却を常に行うことから、冷却コイル4の下流側の気体は低温になる。そこで、温度制御において、対象空間S内の温度が35℃未満の場合、温度制御部50は、温度が35℃になるように加熱コイル5のバルブ5bの開度を調整して加熱を行う。このように、一度冷却された気体を加熱コイル5で再加熱することにより、対象空間S内の温度は所定の温度条件である35℃に保たれる。   Since cooling is always performed by the cooling coil 4, the gas on the downstream side of the cooling coil 4 has a low temperature. Therefore, in the temperature control, when the temperature in the target space S is less than 35 ° C., the temperature control unit 50 performs heating by adjusting the opening of the valve 5b of the heating coil 5 so that the temperature becomes 35 ° C. Thus, by reheating the gas once cooled by the heating coil 5, the temperature in the target space S is maintained at 35 ° C. which is a predetermined temperature condition.

(水溶性ガス除去フロー)
次に、空調機Aによる水溶性ガス除去のフローを、図4を参照しつつ説明する。上記と同様に、対象空間Sの条件を、温度35℃、露点温度21.5℃に調整するものとして説明する。また、冷却湿度記憶部41aには露点温度12℃が、加湿湿度記憶部42bには露点温度21.5℃が記憶されているものとして説明する。
(Water-soluble gas removal flow)
Next, the flow of water-soluble gas removal by the air conditioner A will be described with reference to FIG. In the same manner as described above, the condition of the target space S will be described as adjusting the temperature to 35 ° C. and the dew point temperature to 21.5 ° C. In the following description, it is assumed that the dew point temperature 12 ° C. is stored in the cooling humidity storage unit 41a and the dew point temperature 21.5 ° C. is stored in the humidification humidity storage unit 42b.

また、各動作フローに対応して、対象空間S内の気体の状態を図5の空気線図に示す。なお、図5において、A1〜A5で示す各点は、以下に説明する各気体の状態に対応している。同様に、図1においても図5に対応する点をアルファベットで示す。以下に示す気体の温度及び湿度等の具体的な値は例示にすぎず、本発明はこれらの数値に限定されるものではない。   Moreover, the state of the gas in the target space S is shown in the air diagram of FIG. 5 corresponding to each operation flow. In addition, in FIG. 5, each point shown by A1-A5 respond | corresponds to the state of each gas demonstrated below. Similarly, also in FIG. 1, the points corresponding to FIG. Specific values such as gas temperature and humidity shown below are merely examples, and the present invention is not limited to these numerical values.

前提として、空調機Aの運転時において、制御装置Cは、対象空間S内を陽圧とすべくごく少量の外気を導入するよう、外気導入口1cに設けられているダンパの開度を調整している。図5のA1は、導入される外気の状態を示す。導入された外気は、空調機A内において対象空間S内から循環された気体と混合され、図5のA2に示す条件の気体となる。以下では、条件A2以降の気体について動作フローを対応させて説明することとする。   As a premise, during the operation of the air conditioner A, the control device C adjusts the opening degree of the damper provided in the outside air introduction port 1c so as to introduce a very small amount of outside air so that the inside of the target space S becomes a positive pressure. doing. A1 in FIG. 5 indicates the state of the outside air to be introduced. The introduced outside air is mixed with the gas circulated from the inside of the target space S in the air conditioner A, and becomes a gas having a condition indicated by A2 in FIG. Hereinafter, the operation flow will be described for the gas after the condition A2.

空調機Aの運転が開始されると、制御装置Cの湿度制御部40に、検出された湿度計Hの値が出力される(ステップS01A)。冷却湿度比較部42aは、冷却湿度記憶部41aに記憶されている露点温度を読み出し、湿度計Hの値と比較して、比較結果を冷却条件決定部43aに出力する。冷却条件決定部43aは、この比較結果に基づいて、露点温度が12℃となるように冷却コイル4を制御するための冷却条件を決定する。冷却条件決定部43aは、決定した冷却条件を冷却コイル制御手段44aに出力して冷却コイル4を制御する。   When the operation of the air conditioner A is started, the detected value of the hygrometer H is output to the humidity control unit 40 of the control device C (step S01A). The cooling humidity comparison unit 42a reads the dew point temperature stored in the cooling humidity storage unit 41a, compares it with the value of the hygrometer H, and outputs the comparison result to the cooling condition determination unit 43a. Based on the comparison result, the cooling condition determination unit 43a determines a cooling condition for controlling the cooling coil 4 so that the dew point temperature becomes 12 ° C. The cooling condition determination unit 43a controls the cooling coil 4 by outputting the determined cooling condition to the cooling coil control unit 44a.

同時に、加湿湿度比較部42bは、加湿湿度記憶部41bに記憶されている露点温度を読み出し、湿度計Hの値と比較して、比較結果を加湿条件決定部44に出力する。加湿条件決定部43bは、この比較結果に基づいて、露点温度が21.5℃となるように加湿器6を制御するための加湿条件を決定する。加湿条件決定部43bは、決定した加湿条件を加湿器制御手段44bに出力して加湿器6を制御する(ステップS02A)。以上の通り、加湿を行うと同時に、冷却コイル4を冷却し続けることで、冷却コイル4上に結露水が生じ、水膜が形成される。   At the same time, the humidification humidity comparison unit 42 b reads the dew point temperature stored in the humidification humidity storage unit 41 b, compares it with the value of the hygrometer H, and outputs the comparison result to the humidification condition determination unit 44. Based on the comparison result, the humidification condition determination unit 43b determines the humidification condition for controlling the humidifier 6 so that the dew point temperature is 21.5 ° C. The humidification condition determination unit 43b outputs the determined humidification condition to the humidifier control means 44b to control the humidifier 6 (step S02A). As described above, when the humidification is performed and the cooling coil 4 is continuously cooled, condensed water is generated on the cooling coil 4 and a water film is formed.

再度対象空間Sの湿度を検出し、所定の湿度に到達していない場合には(ステップS03AのNO)、ステップS01A〜S03Aを繰り返す。すなわち、冷却コイル4の冷却(除湿)と、加湿器6の加湿を同時に行った時に、対象空間S内の露点温度が21.5℃になるまで、ステップS01A〜S03Aを繰り返す。   The humidity of the target space S is detected again, and if the predetermined humidity has not been reached (NO in step S03A), steps S01A to S03A are repeated. That is, when the cooling coil 4 is cooled (dehumidified) and the humidifier 6 is simultaneously humidified, steps S01A to S03A are repeated until the dew point temperature in the target space S reaches 21.5 ° C.

また、空調機Aの運転が開始されると、制御装置Cの温度制御部50に、検出された温度計Tの値が出力される(ステップS01B)。温度比較部52は、温度記憶部51に記憶されている温度を読み出し、温度計Tの値と比較して、比較結果を加熱条件決定部53に出力する。加熱条件決定部53は、この比較結果に基づいて、温度が35℃となるように加熱コイル5を制御するための加熱条件を決定する。加熱条件決定部53は、決定した加熱条件を加熱コイル制御手段54に出力して加熱コイル5を制御する(ステップS02B)。   When the operation of the air conditioner A is started, the detected value of the thermometer T is output to the temperature controller 50 of the control device C (step S01B). The temperature comparison unit 52 reads the temperature stored in the temperature storage unit 51, compares it with the value of the thermometer T, and outputs the comparison result to the heating condition determination unit 53. The heating condition determination unit 53 determines a heating condition for controlling the heating coil 5 so that the temperature becomes 35 ° C. based on the comparison result. The heating condition determination unit 53 controls the heating coil 5 by outputting the determined heating condition to the heating coil controller 54 (step S02B).

再度対象空間Sの温度を検出し、所定の温度に到達していない場合には(ステップS03BのNO)、ステップS01B〜S03Bを繰り返す。すなわち、冷却コイル4の冷却が行われていても、対象空間S内の温度が35℃になるまで、ステップS01B〜S03Bを繰り返す。   The temperature of the target space S is detected again, and if the predetermined temperature has not been reached (NO in step S03B), steps S01B to S03B are repeated. That is, even if the cooling coil 4 is being cooled, steps S01B to S03B are repeated until the temperature in the target space S reaches 35 ° C.

空調機A内に導入されたA2の気体は、まず冷却コイル4と接触する(ステップS04)。冷却コイル4に接触したA2の気体は、図5のA3に示す条件の気体となる。すなわち、絶対湿度15.5g/kg’であったA2の気体は、冷却コイル4と接触することで水分が凝縮され、絶対湿度8.5g/kg’のA3の気体となる。このとき、気体に含まれる水溶性ガスは、冷却コイル4上に形成された水膜に溶解する。   The gas A2 introduced into the air conditioner A first comes into contact with the cooling coil 4 (step S04). The gas A2 in contact with the cooling coil 4 is a gas having the condition indicated by A3 in FIG. That is, the A2 gas having an absolute humidity of 15.5 g / kg ′ is condensed with moisture by contacting the cooling coil 4 to become an A3 gas having an absolute humidity of 8.5 g / kg ′. At this time, the water-soluble gas contained in the gas dissolves in the water film formed on the cooling coil 4.

A3の気体は、冷却コイル4により冷却され温度が12℃まで下がっている。このA3の気体は、加熱コイル5と接触する(ステップS05)。加熱コイル5と接触したA3の気体は、図5のA4に示す条件の気体となる。すなわち、温度12℃であったA3の気体は、加熱コイル5と接触することで、温度35℃のA4の気体となる。   The gas of A3 is cooled by the cooling coil 4 and the temperature is lowered to 12 ° C. The A3 gas contacts the heating coil 5 (step S05). The gas of A3 that has come into contact with the heating coil 5 is a gas having a condition indicated by A4 in FIG. That is, A3 gas having a temperature of 12 ° C. becomes A4 gas having a temperature of 35 ° C. by contacting the heating coil 5.

このA4の気体は、加湿器6と接触する(ステップS06)。加湿器6と接触したA4の気体は、図6のA5に示す条件の気体となる。すなわち、絶対湿度8.5g/kg’であったA4の気体は、加湿器6と接触することで加湿され、絶対湿度16g/kg’のA5の気体となる。   This A4 gas contacts the humidifier 6 (step S06). The gas of A4 that has come into contact with the humidifier 6 is a gas having a condition indicated by A5 in FIG. That is, the A4 gas having an absolute humidity of 8.5 g / kg ′ is humidified by contacting the humidifier 6 and becomes an A5 gas having an absolute humidity of 16 g / kg ′.

このA5の気体、すなわち、温度35℃、露点温度21.5℃の気体は送風機7により対象空間S側に流され、対象空間Sに供給される。対象空間Sにおいては、温度35℃のA5の気体により、対象空間Sの壁面に付着した固体状の水溶性ガスが再昇華して放出される。対象空間S内の水溶性ガスは、A5の気体の気流とともに循環して、空調機Aに導入される。すなわち、上記ステップS01〜S03の空調機Aの制御と、ステップS04〜S06の気体の流れが、水溶性ガス濃度が一定値以下になるまで連続的に行われる。   This A5 gas, that is, a gas having a temperature of 35 ° C. and a dew point temperature of 21.5 ° C. is caused to flow toward the target space S by the blower 7 and is supplied to the target space S. In the target space S, the solid water-soluble gas adhering to the wall surface of the target space S is sublimated again and released by the A5 gas having a temperature of 35 ° C. The water-soluble gas in the target space S circulates with the gas flow of A5 and is introduced into the air conditioner A. That is, the control of the air conditioner A in steps S01 to S03 and the gas flow in steps S04 to S06 are continuously performed until the water-soluble gas concentration becomes a certain value or less.

[3.水溶性ガス除去能力]
以上のように動作するガス除去システムについて、処理風量と水溶性ガス濃度の関係について、従来の触媒を用いた水溶性ガス分解装置と比較して説明する。図6は、従来の水溶性ガス分解装置と本実施形態のガス除去システムを用いて、対象空間内のホルムアルデヒドを除去した場合における、経過時間とガス濃度の関係を示すグラフである。水溶性ガス除去時における対象空間内のホルムアルデヒド濃度を2000ppm、対象空間の気積を33m、対象空間内からのホルムアルデヒドガス発生量を0.05g/h一定と仮定して計算した。
[3. Water-soluble gas removal ability]
Regarding the gas removal system operating as described above, the relationship between the treatment air volume and the water-soluble gas concentration will be described in comparison with a water-soluble gas decomposition apparatus using a conventional catalyst. FIG. 6 is a graph showing the relationship between elapsed time and gas concentration when formaldehyde in the target space is removed using a conventional water-soluble gas decomposition apparatus and the gas removal system of the present embodiment. The calculation was performed assuming that the concentration of formaldehyde in the target space at the time of removing the water-soluble gas was 2000 ppm, the volume of the target space was 33 m 3 , and the amount of formaldehyde gas generated from the target space was constant at 0.05 g / h.

従来の水溶性ガス分解装置は、循環回数が3回/h程度となるように設定するのが経済的かつ標準的な使用方法である。従って、気積33mの対象空間を処理する場合、処理風量は約100m/hとなる。水溶性ガス分解装置の入口・出口の除去効率は、約100%である。 In the conventional water-soluble gas decomposition apparatus, it is an economical and standard usage method to set the number of circulations to be about 3 times / h. Therefore, when processing the target space having an air volume of 33 m 3 , the processing air volume is about 100 m 3 / h. The removal efficiency at the inlet / outlet of the water-soluble gas decomposition apparatus is about 100%.

一方、本ガス除去システムでは、例えば医療品製造施設における空調機の循環回数は一般的には30回/h程度であるため、同様の風量を処理することが考えられる。従って、気積33mの対象空間を処理する場合、処理風量は約1000m/hとなる。本ガス除去システムの入口・出口の除去効率は、冷却コイル4の水膜の面積や水量により変化するが、約40〜70%程度である。仮に、除去効率を50%とした場合、除去効率100%に換算した処理風量は、500m/hとして計算できる。 On the other hand, in the present gas removal system, for example, the number of circulations of the air conditioner in the medical product manufacturing facility is generally about 30 times / h. Therefore, when processing the target space having an air volume of 33 m 3 , the processing air volume is about 1000 m 3 / h. The removal efficiency at the inlet / outlet of the present gas removal system varies with the area of the water film of the cooling coil 4 and the amount of water, but is about 40 to 70%. If the removal efficiency is 50%, the processing air volume converted to 100% removal efficiency can be calculated as 500 m 3 / h.

図6のグラフからも明らかな通り、従来の水溶性ガス分解装置と本ガス除去システムにおいては、水溶性ガスの低下速度とガス濃度の低下が止まる濃度について大きな差がある。すなわち、従来の分解装置では、除去開始後3.5時間までガス濃度が低下し続け、ガス濃度の低下が止まる。ガス濃度の低下が停止した時点の濃度は、0.1ppm以下になっておらず、現行法上、人が対象空間内に立ち入ることができない濃度である。   As is apparent from the graph of FIG. 6, the conventional water-soluble gas decomposition apparatus and the present gas removal system have a large difference in the water-soluble gas decreasing rate and the concentration at which the gas concentration stops decreasing. That is, in the conventional decomposition apparatus, the gas concentration continues to decrease until 3.5 hours after the start of removal, and the decrease in gas concentration stops. The concentration at the time when the decrease in gas concentration is stopped is not 0.1 ppm or less, and is a concentration at which a person cannot enter the target space under the current law.

一方、本ガス除去システムでは、除去開始後1時間のうちに速やかにガス濃度が低下して、ガス濃度の低下が止まる。ガス濃度の低下が停止した時点の濃度は、0.1ppm以下であり、対象空間内に人が立ち入っても問題のない濃度となっている。   On the other hand, in the present gas removal system, the gas concentration quickly decreases within one hour after the start of the removal, and the decrease in gas concentration stops. The concentration at the time when the decrease in the gas concentration stops is 0.1 ppm or less, and is a concentration that does not cause a problem even if a person enters the target space.

本仮定では、対象空間からのホルムアルデヒト発生量を0.05g/h一定とした。実際には、壁面等に付着したパラホルムアルデヒドは減少していくので、ホルムアルデヒト発生量も減少していく。すなわち、対象空間のホルムアルデヒドを短時間に低濃度とすることにより、壁面等から発生するホルムアルデヒド量を増加させることができるため、より短時間にホルムアルデヒト濃度を低濃度とすることができる。   In this assumption, the amount of formaldehyde produced from the target space was set at a constant 0.05 g / h. In practice, the amount of formaldehyde adhering to the wall and the like decreases, so the amount of formaldehyde is also decreasing. That is, by reducing the concentration of formaldehyde in the target space in a short time, the amount of formaldehyde generated from the wall surface or the like can be increased, so that the formaldehyde concentration can be decreased in a shorter time.

[4.効果]
以上のような本実施形態の効果は、以下のとおりである。
(1)空調機Aに、冷却コイル4による冷却と、加湿器6による加湿と、を同時に行わせ、加湿により冷却コイル4上に水膜を形成し、水膜に、対象空間S内の気体を接触させ、当該気体に含まれる水溶性ガスを溶解させることができるため、上述の通り、効率的かつ短時間に水溶性ガス濃度を低減することができる。
[4. effect]
The effects of the present embodiment as described above are as follows.
(1) Let the air conditioner A simultaneously perform cooling by the cooling coil 4 and humidification by the humidifier 6 to form a water film on the cooling coil 4 by humidification, and the gas in the target space S is formed on the water film. Since the water-soluble gas contained in the gas can be dissolved, the concentration of the water-soluble gas can be reduced efficiently and in a short time as described above.

(2)加熱コイル5による加熱を同時に行わせ、対象空間Sの温度を所定の温度以上にすることで、対象空間Sの壁面等に付着した固体状水溶性ガスの放出を促進させることができる。従って、さらに効率的かつ短時間に水溶性ガス濃度を低減することができる。 (2) The heating by the heating coil 5 is performed at the same time, and the temperature of the target space S is set to a predetermined temperature or higher, so that the release of the solid water-soluble gas attached to the wall surface of the target space S can be promoted. . Therefore, the water-soluble gas concentration can be reduced more efficiently and in a short time.

(3)冷却コイル4、加熱コイル5、加湿器6を有する従来の空調機Aを用いて、水溶性ガスを除去することができる。 (3) Water-soluble gas can be removed using the conventional air conditioner A having the cooling coil 4, the heating coil 5, and the humidifier 6.

[第2の実施形態]
[1.構成]
第2の実施形態のガス除去システムの実施形態について図7を参照しつつ説明する。なお、図7の符号B1〜B5およびC1〜C5は、後述する図9および図10の空気線図における空気の状態を示す各点に対応している。第2の実施形態は、冷却コイル4の上流側に加湿装置8が設けられている。
[Second Embodiment]
[1. Constitution]
An embodiment of the gas removal system of the second embodiment will be described with reference to FIG. In addition, the codes B1 to B5 and C1 to C5 in FIG. 7 correspond to points indicating air states in the air diagrams of FIGS. 9 and 10 to be described later. In the second embodiment, a humidifier 8 is provided on the upstream side of the cooling coil 4.

加湿装置8aは、冷却コイル4の上流側に設けられていればよく、例えば空調機Aの気体導入口1aと対象空間Sの排気口10aを接続するダクトに設けても良い。加湿装置8としては、水噴霧式、気化式、蒸気式のものを用いることができるが、特に、水加湿装置である水噴霧式・気化式の加湿装置を用いることが好ましい。   The humidifier 8a should just be provided in the upstream of the cooling coil 4, for example, may be provided in the duct which connects the gas inlet 1a of the air conditioner A, and the exhaust port 10a of the object space S. As the humidifier 8, a water spray type, a vaporization type, or a steam type can be used, but it is particularly preferable to use a water spray type / vaporization type humidifier which is a water humidifier.

加湿装置8には、加湿水供給装置(不図示)に接続されている加湿水供給ライン8aが接続され、加湿に用いる水が供給されている。加湿水供給ライン8aには、バルブ8bが設けられている。バルブ8bは制御装置Cに接続されており、開度が調整されることにより、加湿装置8に供給される加湿水の流量が調整される。すなわち、図8に示す通り、制御装置Cは、湿度制御部40からの制御信号に従って加湿装置8のバルブ8aの開度を制御する加湿装置制御手段44cをさらに有する。   A humidifying water supply line 8a connected to a humidifying water supply device (not shown) is connected to the humidifying device 8, and water used for humidification is supplied. A valve 8b is provided in the humidified water supply line 8a. The valve 8b is connected to the control device C, and the flow rate of the humidified water supplied to the humidifying device 8 is adjusted by adjusting the opening degree. That is, as shown in FIG. 8, the control device C further includes a humidifying device control means 44 c that controls the opening degree of the valve 8 a of the humidifying device 8 in accordance with a control signal from the humidity control unit 40.

[2.水溶性ガス除去のフロー]
以上のような構成を有するガス除去システムの制御の一つでは、気化式である加湿装置8により加湿を行い、さらに加湿器6により加湿された水分を冷却コイル4に結露させて水膜を形成し、より多くの水膜水分量で水溶性ガスを除去する。上記実施形態に加えてさらに効率的かつ短時間に水溶性ガスを除去できるが、基本的な動作は上記実施形態と同様のため、詳しい説明は省略する。
[2. Water-soluble gas removal flow]
In one of the controls of the gas removal system having the above-described configuration, humidification is performed by the vaporizing humidifier 8 and the water humidified by the humidifier 6 is condensed on the cooling coil 4 to form a water film. Then, the water-soluble gas is removed with a larger water film moisture content. Although the water-soluble gas can be removed more efficiently and in a short time in addition to the above-described embodiment, the basic operation is the same as that of the above-described embodiment, and detailed description thereof is omitted.

(湿度一定・温度上昇)
ガス除去システムの他の制御には、対象空間Sの露点温度を上昇させずに、温度のみを上げて水溶性ガスを除去する方法がある。ここでは、対象空間Sの条件を、温度35℃、露点温度12℃に調整するものとして説明する。また、冷却湿度記憶部41aには露点温度12℃が、加湿湿度記憶部42bには露点温度18℃が記憶されているものとして説明する。
(Constant humidity, temperature rise)
As another control of the gas removal system, there is a method of removing the water-soluble gas by raising only the temperature without raising the dew point temperature of the target space S. Here, the description will be made assuming that the condition of the target space S is adjusted to a temperature of 35 ° C. and a dew point temperature of 12 ° C. In the following description, it is assumed that the dew point temperature 12 ° C. is stored in the cooling humidity storage unit 41a and the dew point temperature 18 ° C. is stored in the humidification humidity storage unit 42b.

この制御に対応した空気の状態を示す空気線図を図9に示す。図7においても図9に対応する点をB1〜B5で示す。第1の実施形態と同様に、図9のB1は、導入される外気の状態を示す。導入された外気は、空調機A内において対象空間S内から循環された気体と混合され、図9のB2に示す条件の気体となる。   An air diagram showing the state of air corresponding to this control is shown in FIG. Also in FIG. 7, points corresponding to FIG. 9 are indicated by B1 to B5. As in the first embodiment, B1 in FIG. 9 shows the state of the outside air to be introduced. The introduced outside air is mixed with the gas circulated from the inside of the target space S in the air conditioner A, and becomes a gas having the condition shown in B2 of FIG.

空調機Aの運転が開始されると、上記実施形態と同様に冷却コイル4および加熱コイル5の制御に加えて、本実施形態では加湿装置8が制御される。すなわち、加湿条件決定部43bは、加湿湿度比較部42bから入力された比較結果に基づいて、露点温度が18℃となるように加湿装置8を制御するための加湿条件を決定する。加湿条件決定部43bは、決定した加湿条件を加湿装置制御手段44cに出力して加湿装置8を制御する。   When the operation of the air conditioner A is started, in addition to the control of the cooling coil 4 and the heating coil 5 as in the above embodiment, the humidifier 8 is controlled in this embodiment. That is, the humidification condition determination unit 43b determines the humidification condition for controlling the humidifier 8 so that the dew point temperature becomes 18 ° C. based on the comparison result input from the humidification humidity comparison unit 42b. The humidifying condition determining unit 43b controls the humidifying device 8 by outputting the determined humidifying condition to the humidifying device control means 44c.

空調機A内に導入されたB2の気体は、まず加湿装置8と接触する。加湿装置8と接触したB2の気体は、図9のB3に示す条件の気体となる。すなわち、絶対湿度8.5g/kg’であったB2の気体は、加湿装置8と接触することで加湿され、絶対湿度13g/kg’のB3の気体となる。   The gas B2 introduced into the air conditioner A first contacts the humidifier 8. The gas of B2 that has come into contact with the humidifier 8 is a gas having the condition shown in B3 of FIG. That is, the B2 gas having an absolute humidity of 8.5 g / kg ′ is humidified by contacting the humidifying device 8 and becomes a B3 gas having an absolute humidity of 13 g / kg ′.

このB3の気体は、冷却コイル4と接触する。冷却コイル4に接触したB3の気体は、図9のB4に示す条件の気体となる。すなわち、絶対湿度13g/kg’であったB3の気体は、冷却コイル4と接触されることで水分が凝縮され、絶対湿度8.7g/kg’のB4の気体となる。このとき、気体に含まれる水溶性ガスは、冷却コイル4上に形成された水膜に溶解する。   This B3 gas is in contact with the cooling coil 4. The gas B3 in contact with the cooling coil 4 is a gas having the conditions shown in B4 of FIG. That is, the B3 gas having an absolute humidity of 13 g / kg ′ is condensed with moisture by contacting the cooling coil 4 to become a B4 gas having an absolute humidity of 8.7 g / kg ′. At this time, the water-soluble gas contained in the gas dissolves in the water film formed on the cooling coil 4.

B4の気体は、冷却コイル4により冷却され温度が12.5℃まで下がっている。このB4の気体は、加熱コイル5と接触する。加熱コイル5と接触したB4の気体は、図9のB5に示す条件の気体となる。すなわち、温度12.5℃であったB4の気体は、加熱コイル5と接触することで、温度35℃のB5の気体となる。このB5の気体、すなわち、温度35℃、露点温度12℃の気体は送風機7により対象空間S側に流され、対象空間Sに供給される。対象空間Sにおいては、温度35℃のB5の気体により、対象空間Sの壁面に付着した固体状の水溶性ガスが再昇華して放出される。   The gas of B4 is cooled by the cooling coil 4 and the temperature is lowered to 12.5 ° C. This B4 gas comes into contact with the heating coil 5. The gas of B4 that has come into contact with the heating coil 5 is a gas having the condition shown by B5 in FIG. That is, the B4 gas having a temperature of 12.5 ° C. is brought into contact with the heating coil 5 to become a B5 gas having a temperature of 35 ° C. This B5 gas, that is, a gas having a temperature of 35 ° C. and a dew point temperature of 12 ° C. is caused to flow toward the target space S by the blower 7 and is supplied to the target space S. In the target space S, the solid water-soluble gas adhering to the wall surface of the target space S is sublimated again and released by the gas of B5 having a temperature of 35 ° C.

(温度一定・湿度一定)
他にも、ガス除去システムの制御には、対象空間Sの温度および湿度を、対象空間S内における通常の製造運転時の温湿度条件を維持しながら、水溶性ガスを除去する方法がある。ここでは、対象空間Sの条件を、温度23℃、露点温度12℃に調整するものとして説明する。また、冷却湿度記憶部41aには露点温度12℃が、加湿湿度記憶部42bには、加湿器制御用の露点温度12℃と、加湿装置制御用の露点温度21℃が記憶されているものとして説明する。
(Constant temperature / constant humidity)
In addition, the control of the gas removal system includes a method of removing water-soluble gas while maintaining the temperature and humidity of the target space S while maintaining the temperature and humidity conditions during normal manufacturing operation in the target space S. Here, the description will be made assuming that the condition of the target space S is adjusted to a temperature of 23 ° C. and a dew point temperature of 12 ° C. The cooling humidity storage unit 41a stores a dew point temperature of 12 ° C, and the humidification humidity storage unit 42b stores a dew point temperature of 12 ° C for humidifier control and a dew point temperature of 21 ° C for humidifier control. explain.

この制御に対応した空気の状態を示す空気線図を図10に示す。図7においても図10に対応する点をC1〜C5で示す。第1の実施形態と同様に、図10のC1は、導入される外気の状態を示す。導入された外気は、空調機A内において対象空間S内から循環された気体と混合され、図10のC2に示す条件の気体となる。   FIG. 10 shows an air diagram showing the state of air corresponding to this control. Also in FIG. 7, points corresponding to FIG. 10 are indicated by C1 to C5. As in the first embodiment, C1 in FIG. 10 shows the state of the outside air to be introduced. The introduced outside air is mixed with the gas circulated from the target space S in the air conditioner A, and becomes a gas having a condition shown by C2 in FIG.

空調機A内に導入されたC2の気体は、まず加湿装置8と接触する。加湿装置8と接触したC2の気体は、図10のC3に示す条件の気体となる。すなわち、絶対湿度8.0g/kg’であったB2の気体は、加湿装置8と接触することで加湿され、絶対湿度10.0g/kg’のC3の気体となる。なお、本例では加湿装置8を水加湿としているため、記憶されている露点温度が21℃まで上昇せず14℃となっている。   The C2 gas introduced into the air conditioner A first contacts the humidifier 8. The gas C2 that has come into contact with the humidifier 8 is a gas having a condition indicated by C3 in FIG. That is, the B2 gas having an absolute humidity of 8.0 g / kg ′ is humidified by being brought into contact with the humidifier 8 to become a C3 gas having an absolute humidity of 10.0 g / kg ′. In this example, the humidifier 8 is water-humidified, so the stored dew point temperature does not rise to 21 ° C. and is 14 ° C.

このC3の気体は、冷却コイル4と接触する。冷却コイル4に接触したC3の気体は、図10のC4に示す条件の気体となる。すなわち、絶対湿度10.0g/kg’であったC3の気体は、冷却コイル4と接触することで水分が凝縮され、絶対湿度8.7g/kg’のC4の気体となる。このとき、気体に含まれる水溶性ガスは、加湿装置8による水分が冷却されることにより冷却コイル4上に形成された水膜に溶解される。   This C3 gas is in contact with the cooling coil 4. The gas of C3 that has come into contact with the cooling coil 4 is a gas having a condition indicated by C4 in FIG. That is, the C3 gas having an absolute humidity of 10.0 g / kg ′ is condensed with water by contacting the cooling coil 4 to become a C4 gas having an absolute humidity of 8.7 g / kg ′. At this time, the water-soluble gas contained in the gas is dissolved in the water film formed on the cooling coil 4 when the moisture by the humidifier 8 is cooled.

C4の気体は、冷却コイル4により冷却され温度が12.5℃まで下がっている。このC4の気体は、加熱コイル5と接触される。加熱コイル5と接触したC4の気体は、図10のC5に示す条件の気体となる。すなわち、温度12.5℃であったC4の気体は、加熱コイル5と接触することで、通常運転時の温度である温度23℃のC5の気体となる。このC5の気体、すなわち、温度23℃、露点温度12℃の気体は送風機7により対象空間S側に流され、対象空間Sに供給される。対象空間Sにおいては、C5の気体により、対象空間S内の水溶性ガスがC5の気流とともに循環され、再度空調機Aに導入される。   The gas of C4 is cooled by the cooling coil 4 and the temperature is lowered to 12.5 ° C. This C4 gas is brought into contact with the heating coil 5. The gas of C4 that has come into contact with the heating coil 5 is a gas having a condition indicated by C5 in FIG. That is, the C4 gas having a temperature of 12.5 ° C. is brought into contact with the heating coil 5 to become a C5 gas having a temperature of 23 ° C., which is a temperature during normal operation. This C5 gas, that is, a gas having a temperature of 23 ° C. and a dew point temperature of 12 ° C. is caused to flow toward the target space S by the blower 7 and is supplied to the target space S. In the target space S, the water-soluble gas in the target space S is circulated together with the air flow of C5 by the gas of C5 and is introduced into the air conditioner A again.

[3.効果]
以上のような本実施形態特有の効果は、以下のとおりである。
(1)冷却コイル4の上流側に加湿装置8を設けることにより、冷却コイル4に効率良く水膜を形成することができる。従って、さらに効率的かつ短時間に水溶性ガス濃度を低減することができる。
[3. effect]
The effects specific to the present embodiment as described above are as follows.
(1) By providing the humidifier 8 on the upstream side of the cooling coil 4, a water film can be efficiently formed on the cooling coil 4. Therefore, the water-soluble gas concentration can be reduced more efficiently and in a short time.

(2)加湿装置8は、冷却コイル4の上流側かつ、ダクトなどの空調機Aの外部構成に設置することができる。従って、従来の空調機を用いた場合であっても、さらに効率的かつ短時間に水溶性ガス濃度を低減することができる。 (2) The humidifier 8 can be installed on the upstream side of the cooling coil 4 and in the external configuration of the air conditioner A such as a duct. Therefore, even when a conventional air conditioner is used, the water-soluble gas concentration can be reduced more efficiently and in a short time.

(3)対象空間Sの湿度を上昇させずに、冷却コイル4の上流側の湿度のみを水噴霧あるいは気化式加湿の水加湿装置を用いて上昇させ、対象空間Sの温度のみを上げて水溶性ガスを除去する場合、上記第1の実施形態に比べ、加熱および冷却に用いるエネルギーが少なくなる。従って、省エネ性を高めた上で、効率的かつ短時間に水溶性ガス濃度を低減することができる。 (3) Without increasing the humidity of the target space S, only the humidity on the upstream side of the cooling coil 4 is increased by using a water humidifying device of water spray or vaporization type humidification, and only the temperature of the target space S is increased to make the water soluble. When removing the characteristic gas, energy used for heating and cooling is reduced as compared with the first embodiment. Therefore, the water-soluble gas concentration can be reduced efficiently and in a short time while improving the energy saving performance.

(4)対象空間Sの温度および湿度を上昇させずに、水溶性ガスを除去する場合では通常製造運転時において継続的に発生する水溶性ガスの濃度を効率的に低減させることができる。 (4) In the case of removing the water-soluble gas without increasing the temperature and humidity of the target space S, the concentration of the water-soluble gas that is continuously generated during the normal production operation can be efficiently reduced.

[第3の実施形態]
第3の実施形態のガス除去システムの実施形態について図11を参照しつつ説明する。第3の実施形態は、さらに対象空間S内部に水溶性ガスの濃度を測定する濃度計Gが設けられている。濃度計Gの設置箇所は、対象空間Sに限られず対象空間Sと空調機Aの間のダクトや空調機Aの内部に設けても良い。また、濃度計Gは空調機Aのドレン水に溶解する水溶性ガス濃度を測定するようにしても良い。
[Third Embodiment]
An embodiment of the gas removal system of the third embodiment will be described with reference to FIG. In the third embodiment, a concentration meter G for measuring the concentration of the water-soluble gas is further provided in the target space S. The installation location of the densitometer G is not limited to the target space S, and may be provided in the duct between the target space S and the air conditioner A or inside the air conditioner A. The densitometer G may measure the concentration of water-soluble gas dissolved in the drain water of the air conditioner A.

また、図12に示すように、制御装置Cの湿度記憶部41の冷却湿度記憶部41aと加湿湿度記憶部41bには、異なる水溶性ガス濃度に対応する露点温度がそれぞれ複数記憶されている。例えば、5ppmに対応する湿度と、0.5ppmに対応する湿度等を保存すれば良い。濃度に対応する湿度とは、その濃度の水溶性ガスを除去するのに充分な水膜を形成するため湿度を意味する。   As shown in FIG. 12, the cooling humidity storage unit 41a and the humidification humidity storage unit 41b of the humidity storage unit 41 of the control apparatus C each store a plurality of dew point temperatures corresponding to different water-soluble gas concentrations. For example, the humidity corresponding to 5 ppm and the humidity corresponding to 0.5 ppm may be stored. Humidity corresponding to the concentration means humidity in order to form a water film sufficient to remove the water-soluble gas at that concentration.

制御装置Cには、対象空間S内に設けられた濃度計Gが接続されている。制御装置Cは、濃度計Gの測定値に基づいて、冷却コイル4と加湿器6を制御する基準となる湿度を選択する湿度選択部45を有する。湿度選択部45は、冷却湿度選択部45aと加湿湿度選択部45bとを有する。   A densitometer G provided in the target space S is connected to the control device C. The control device C includes a humidity selection unit 45 that selects a reference humidity for controlling the cooling coil 4 and the humidifier 6 based on the measurement value of the densitometer G. The humidity selection unit 45 includes a cooling humidity selection unit 45a and a humidification humidity selection unit 45b.

冷却湿度選択部45aは、濃度計Gの値に基づいて、冷却湿度記憶部41aに記憶されている複数の湿度から湿度を選択する処理部である。すなわち、濃度計Gの値が5ppmのときは、冷却湿度記憶部41aにおいて5ppmに紐付けられて記憶されている湿度を選択し、冷却湿度比較部42aに出力する。   The cooling humidity selection unit 45a is a processing unit that selects humidity from a plurality of humidity stored in the cooling humidity storage unit 41a based on the value of the densitometer G. That is, when the value of the densitometer G is 5 ppm, the humidity stored in association with 5 ppm in the cooling humidity storage unit 41a is selected and output to the cooling humidity comparison unit 42a.

加湿湿度選択部45bは、濃度計Gの値に基づいて、加湿湿度記憶部41bに記憶されている複数の湿度から湿度を選択する処理部である。すなわち、濃度計Gの値が5ppmのときは、加湿湿度記憶部41bにおいて5ppmに紐付けられて記憶されている湿度を選択し、加湿湿度比較部42aに出力する。   The humidification humidity selection unit 45b is a processing unit that selects humidity from a plurality of humidity stored in the humidification humidity storage unit 41b based on the value of the densitometer G. That is, when the value of the densitometer G is 5 ppm, the humidity stored in association with 5 ppm in the humidification humidity storage unit 41 b is selected and output to the humidification humidity comparison unit 42 a.

以上のような構成を有する本実施形態では、現在の対象空間S内の水溶性ガスの濃度に基づいて、冷却湿度選択部45aが冷却湿度記憶部41aから、加湿湿度選択部45bが加湿湿度記憶部41bから、それぞれその濃度に対応する湿度を選択する。すなわち、対象空間S内の水溶性ガス濃度に基づいて、冷却コイル4の冷却量と加湿器6の加湿量を調整することで、冷却コイル4上に形成される水膜の量を調整する。従って、冷却コイル4上に形成される水膜量は、対象空間S内の濃度の水溶性ガスを充分に除去できる量となる。   In the present embodiment having the above-described configuration, based on the current concentration of the water-soluble gas in the target space S, the cooling humidity selection unit 45a is stored from the cooling humidity storage unit 41a, and the humidification humidity selection unit 45b is stored from the humidification humidity. The humidity corresponding to the concentration is selected from the unit 41b. That is, the amount of water film formed on the cooling coil 4 is adjusted by adjusting the cooling amount of the cooling coil 4 and the humidifying amount of the humidifier 6 based on the water-soluble gas concentration in the target space S. Therefore, the amount of water film formed on the cooling coil 4 is an amount that can sufficiently remove the water-soluble gas having a concentration in the target space S.

このような本実施形態では、対象空間S内の水溶性ガス濃度に対応して水膜量を決定することができるため、例えば水溶性ガスの除去が進んで低濃度となった場合に、それまで形成していた水膜量を低減させることができる。従って、省エネ性を向上しつつも、効率的かつ短時間に水溶性ガスを除去することができる。   In this embodiment, since the amount of water film can be determined in accordance with the water-soluble gas concentration in the target space S, for example, when removal of the water-soluble gas progresses to a low concentration, The amount of water film that has been formed can be reduced. Therefore, it is possible to remove the water-soluble gas efficiently and in a short time while improving the energy saving performance.

[その他の実施の形態]
(1)上記第1の実施形態では、ガス除去効率の高い湿度および温度の両方を調整する形態を説明した。しかし、第2の実施形態でも記載した通り、温度は必ずしも30℃以上にする必要はなく、例えばクリーンルームの作業温度とすることもできる。例えば、作業温度23℃、露点温度12℃とした場合には、冷却湿度記憶部41aの露点温度を12℃未満、加湿湿度記憶部41bの露点温度を12℃、温度記憶部51の温度を23℃とすることができる。これにより。第1の実施形態においても、クリーンルームでの作業を行いつつ、水溶性ガスを除去することが可能である。
[Other embodiments]
(1) In the first embodiment, the mode of adjusting both humidity and temperature with high gas removal efficiency has been described. However, as described in the second embodiment, the temperature does not necessarily have to be 30 ° C. or higher, and can be, for example, a clean room working temperature. For example, when the working temperature is 23 ° C. and the dew point temperature is 12 ° C., the dew point temperature of the cooling humidity storage unit 41a is less than 12 ° C., the dew point temperature of the humidification humidity storage unit 41b is 12 ° C., and the temperature of the temperature storage unit 51 is 23. It can be set to ° C. By this. Also in the first embodiment, it is possible to remove the water-soluble gas while performing the work in the clean room.

(2)同様に、第1の実施形態においても、露点温度は必ずしも21.5℃とする必要はなく、対象空間S内の湿度を上昇させなくとも良い。すなわち、対象空間S内の湿度をほぼ一定に保てるように、加湿器6で加湿し冷却コイル4で冷却(除湿)することができる。その際に、加熱コイル5で対象空間S内の温度を上昇させ、対象空間S内に付着した固体状の水溶性ガスが再放出されるようにしても良い。   (2) Similarly, also in the first embodiment, the dew point temperature is not necessarily 21.5 ° C., and the humidity in the target space S may not be increased. That is, it can be humidified by the humidifier 6 and cooled (dehumidified) by the cooling coil 4 so that the humidity in the target space S can be kept substantially constant. At that time, the temperature in the target space S may be increased by the heating coil 5 so that the solid water-soluble gas attached in the target space S is re-released.

(3)第2の実施形態において、冷却コイル4での凝縮水量を増加させるために、加湿装置8の上流側にさらに加熱コイルを設けてもよい。また、加湿装置8を蒸気式にすることでも、凝縮水量を増加させることができる。また、図7に示す通り、冷却コイル4の上流側に第2の湿度計H2を設けて、上流側の加湿装置8を制御しても良い。なお、加湿装置8を水加湿とし、充分な加湿量が得られない場合、冷却コイル4の水膜の量を増やし、水溶性ガスの排水を促進させるために、加湿以上の水量を滴下、噴霧するようにしても良い。   (3) In the second embodiment, in order to increase the amount of condensed water in the cooling coil 4, a heating coil may be further provided on the upstream side of the humidifier 8. Moreover, the amount of condensed water can be increased also by making the humidification apparatus 8 into a steam type. Further, as shown in FIG. 7, a second hygrometer H2 may be provided on the upstream side of the cooling coil 4 to control the humidifier 8 on the upstream side. If the humidifier 8 is water-humidified and a sufficient amount of humidification cannot be obtained, in order to increase the amount of the water film of the cooling coil 4 and promote the drainage of the water-soluble gas, a water amount greater than humidification is dropped and sprayed. You may make it do.

(4)上記1〜3の実施形態は、適宜組み合わせることができる。すなわち、第2の実施形態において濃度計Gの値に基づいて湿度の選択を行う構成としても良い。   (4) The above-described embodiments 1 to 3 can be appropriately combined. That is, it is good also as a structure which selects humidity based on the value of the densitometer G in 2nd Embodiment.

(5)上記実施形態は、特に、低濃度(5ppm以下)の水溶性ガス濃度をさらに低減させる場合に有効である。しかし、5ppm以上の濃度の水溶性ガスを除去することも可能である。実用的には、1000ppmなどの高濃度の水溶性ガスを除去する場合、水溶性ガスが空調機Aの内部構成に付着することが考えられる。それに対応するために、各構成の上流側に洗浄ノズルを設けて付着した水溶性ガスを洗浄する構成としても良い。   (5) The above embodiment is particularly effective when the concentration of a water-soluble gas having a low concentration (5 ppm or less) is further reduced. However, it is possible to remove water-soluble gas having a concentration of 5 ppm or more. Practically, when removing high concentration water-soluble gas, such as 1000 ppm, it is possible that water-soluble gas adheres to the internal structure of the air conditioner A. In order to cope with this, a configuration may be adopted in which a water-soluble gas is cleaned by providing a cleaning nozzle upstream of each component.

A 空調機
C 制御装置
S 対象空間
T 温度計
H 湿度計
G 濃度計
1 チャンバ
1a 気体導入口
1b 気体排出口
1c 外気導入口
2 プレフィルタ
3 中性能フィルタ
4 冷却コイル
4a 冷却水供給ライン
4b バルブ
5 加熱コイル
5a 温熱源供給ライン
5b バルブ
6 加湿器
6a 加湿蒸気供給ライン
6b バルブ
7 送風機
8 加湿装置
10a 排気口
10b 給気口
10c 換気口
20 入力部
30 出力部
40 湿度制御装置
41 湿度記憶部
41a 冷却湿度記憶部
41b 加湿湿度記憶部
42 湿度比較部
42a 冷却湿度比較部
42b 加湿湿度比較部
43a 冷却条件決定部
43b 加湿条件決定部
44a 冷却コイル制御手段
44b 加湿器制御手段
44c 加湿装置制御手段
45 湿度選択部
45a 冷却湿度選択部
45b 加湿湿度選択部
50 温度制御部
51 温度記憶部
52 温度比較部
53 加熱条件決定部
54 加熱コイル制御手段
A Air Conditioner C Control Device S Target Space T Thermometer H Hygrometer G Densitometer 1 Chamber 1a Gas Inlet 1b Gas Outlet 1c Outside Air Inlet 2 Prefilter 3 Medium Performance Filter 4 Cooling Coil 4a Cooling Water Supply Line 4b Valve 5 Heating coil 5a Heat source supply line 5b Valve 6 Humidifier 6a Humidified steam supply line 6b Valve 7 Blower 8 Humidifier 10a Exhaust port 10b Air supply port 10c Ventilation port 20 Input unit 30 Output unit 40 Humidity control unit 41 Humidity storage unit 41a Cooling Humidity storage section 41b Humidification humidity storage section 42 Humidity comparison section 42a Cooling humidity comparison section 42b Humidification humidity comparison section 43a Cooling condition determination section 43b Humidification condition determination section 44a Cooling coil control means 44b Humidifier control means 44c Humidifier control means 45 Humidity selection 45a Cooling humidity selection unit 45b Humidification humidity selection unit 50 Temperature control unit 51 Temperature Storage unit 52 temperature comparing unit 53 heating condition determining unit 54 heating coil control unit

Claims (12)

対象空間に接続された空調機を用いて、前記対象空間内の気体に含まれる水溶性ガスを除去するガス除去方法であって、
前記空調機は、冷却コイルと加湿器とを有し、
前記空調機に、前記冷却コイルによる冷却と、前記加湿器による加湿と、を同時に行わせ、前記加湿により前記冷却コイル上に水膜を形成し、
前記水膜に、前記対象空間内の気体を接触させ、当該気体に含まれる水溶性ガスを前記水膜に溶解させることを特徴とするガス除去方法。
A gas removal method for removing water-soluble gas contained in the gas in the target space using an air conditioner connected to the target space,
The air conditioner has a cooling coil and a humidifier,
Let the air conditioner simultaneously perform cooling by the cooling coil and humidification by the humidifier, and form a water film on the cooling coil by the humidification,
A gas removal method, wherein a gas in the target space is brought into contact with the water film, and a water-soluble gas contained in the gas is dissolved in the water film.
前記空調機は、さらに加熱コイルを有し、
前記冷却コイルによる冷却と、前記加湿器による加湿に加え、
さらに前記加熱コイルによる加熱を同時に行わせ、前記対象空間の温度を所定の温度以上とすることを特徴とする請求項1記載のガス除去方法。
The air conditioner further includes a heating coil,
In addition to cooling by the cooling coil and humidification by the humidifier,
2. The gas removal method according to claim 1, wherein heating by the heating coil is performed simultaneously, and the temperature of the target space is set to a predetermined temperature or higher.
前記冷却コイルに対して、前記冷却コイルの上流側から前記加湿器による加湿を行うことを特徴とする請求項1又は2記載のガス除去方法。   3. The gas removal method according to claim 1, wherein humidification is performed on the cooling coil by the humidifier from an upstream side of the cooling coil. 前記対象空間における水溶性ガス濃度を測定し、
測定した水溶性ガス濃度に基づいて、前記水膜の量を調整することを特徴とする請求項1〜3いずれか一項記載のガス除去方法。
Measure the water-soluble gas concentration in the target space,
The gas removal method according to any one of claims 1 to 3, wherein the amount of the water film is adjusted based on the measured water-soluble gas concentration.
前記対象空間の温度と湿度を測定し、
測定した湿度の値に基づいて、前記冷却コイルおよび前記加湿装置を制御し、
測定した温度の値に基づいて、前記加熱コイルを制御することを、を特徴とする請求項2〜4いずれか一項記載のガス除去方法。
Measuring the temperature and humidity of the target space,
Based on the measured humidity value, control the cooling coil and the humidifier,
The gas removal method according to any one of claims 2 to 4, wherein the heating coil is controlled based on a measured temperature value.
対象空間に接続された空調機と、前記空調機に接続された制御装置と、を有し、前記対象空間内の気体に含まれる水溶性ガスを除去するガス除去システムであって、
前記空調機は、冷却コイルと加湿器とを有し、
前記制御装置は、
前記空調機に、前記冷却コイルによる冷却と、前記加湿器による加湿と、を同時に行わせ、前記加湿により前記冷却コイル上に水膜を形成し、
前記水膜に、前記対象空間内の気体を接触させ、当該気体に含まれる水溶性ガスを前記水膜に溶解させることを特徴とするガス除去システム。
An air conditioner connected to the target space; and a control device connected to the air conditioner, wherein the gas removal system removes water-soluble gas contained in the gas in the target space,
The air conditioner has a cooling coil and a humidifier,
The controller is
Let the air conditioner simultaneously perform cooling by the cooling coil and humidification by the humidifier, and form a water film on the cooling coil by the humidification,
A gas removal system, wherein a gas in the target space is brought into contact with the water film, and a water-soluble gas contained in the gas is dissolved in the water film.
前記空調機は、さらに加熱コイルを有し、
前記制御装置は、
前記冷却コイルによる冷却と、前記加湿器による加湿に加え、
さらに前記加熱コイルによる加熱を同時に行わせ、前記対象空間の温度を所定の温度以上とすることを特徴とする請求項6記載のガス除去システム。
The air conditioner further includes a heating coil,
The controller is
In addition to cooling by the cooling coil and humidification by the humidifier,
The gas removal system according to claim 6, wherein the heating coil is further heated at the same time so that the temperature of the target space is equal to or higher than a predetermined temperature.
前記加湿器が、前記冷却コイルの上流側に配置された加湿装置であることを特徴とする請求項6又は7記載のガス除去システム。   The gas removal system according to claim 6 or 7, wherein the humidifier is a humidifier disposed on the upstream side of the cooling coil. 前記制御装置には、前記対象空間に設けられた水溶性ガスの濃度計が接続され、
前記制御装置は、
前記濃度計の値に基づいて、前記水膜の量を調整することを特徴とする請求項6〜8いずれか一項記載のガス除去システム。
A water-soluble gas concentration meter provided in the target space is connected to the control device,
The controller is
The gas removal system according to any one of claims 6 to 8, wherein an amount of the water film is adjusted based on a value of the densitometer.
前記制御装置には、前記対象空間に設けられた温度計と湿度計が接続され、
前記制御装置は、
前記温度計および前記湿度計の値の一方に基づいて、前記冷却コイルを制御し、
前記冷却コイルを制御した後の前記対象空間における前記温度計および前記湿度計の値に基づいて、前記加熱コイルおよび前記加湿器を制御することを特徴とする請求項7〜9いずれか一項記載のガス除去システム。
A thermometer and a hygrometer provided in the target space are connected to the control device,
The controller is
Controlling the cooling coil based on one of the values of the thermometer and the hygrometer;
10. The heating coil and the humidifier are controlled based on values of the thermometer and the hygrometer in the target space after the cooling coil is controlled. 10. Gas removal system.
対象空間に接続され、冷却コイルと加湿器とを有する空調機であって、
前記冷却コイルによる冷却と、前記加湿器による加湿と、を同時に行い、前記冷却コイル上に、前記加湿により水膜を形成し、
前記水膜に、前記対象空間内の気体を接触させ、当該気体に含まれる水溶性ガスを前記水膜に溶解させることを特徴とする空調機。
An air conditioner connected to a target space and having a cooling coil and a humidifier,
Cooling by the cooling coil and humidification by the humidifier are simultaneously performed, and a water film is formed on the cooling coil by the humidification.
An air conditioner characterized in that a gas in the target space is brought into contact with the water film, and a water-soluble gas contained in the gas is dissolved in the water film.
前記加湿器が、前記冷却コイルの上流側に配置された水加湿装置であることを特徴とする請求項11記載の空調機。
The air conditioner according to claim 11, wherein the humidifier is a water humidifier arranged on the upstream side of the cooling coil.
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