JP2015038991A - Semiconductor device manufacturing method - Google Patents

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和田 栄司
Eiji Wada
栄司 和田
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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a technology of fixing an optical component to a sensor chip at high accuracy.SOLUTION: A semiconductor device manufacturing method comprises: after mounting a sensor chip 3 provided with a surface 3a having a sensor surface on which a plurality of light receiving elements are formed, face up on a wiring board 2, arranging adhesive materials at a plurality of places on the surface 3a of the sensor chip 3 to form a plurality of adhesive spacers SP1 by curing the adhesive materials; arranging paste adhesive materials 11a on the surface 3a of the sensor chip 3; arranging an optical component 5 held by a bonding tool 23 on the surface 3a of the sensor chip 3 via the spacers SP1 and the adhesive materials 11a; and subsequently, fixing the optical component 5 by removing the bonding tool 23 from the optical component 5 and curing the adhesive materials 11a without applying a load to the optical component 5.

Description

本発明は、半導体装置の製造方法に関し、特に、センサモジュールとしての半導体装置の製造方法に適用して有効な技術に関する。   The present invention relates to a method for manufacturing a semiconductor device, and more particularly to a technique effective when applied to a method for manufacturing a semiconductor device as a sensor module.

センサモジュールには、光信号を電気信号に変換する光電変換装置を利用したセンサモジュールがある。このセンサモジュールは、種々の用途に利用されており、例えば、静脈パターンを読み取る静脈認証用のセンサなどに利用されている。   Among sensor modules, there is a sensor module that uses a photoelectric conversion device that converts an optical signal into an electrical signal. This sensor module is used for various applications, for example, a vein authentication sensor that reads a vein pattern.

特開2007−117397号公報(特許文献1)には、指紋又は静脈パターンを読み取ることができる光学式の生態センサーに関する技術が記載されている。   Japanese Patent Application Laid-Open No. 2007-117397 (Patent Document 1) describes a technique related to an optical ecological sensor capable of reading a fingerprint or a vein pattern.

特開2007−117397号公報JP 2007-117397 A

これまでのセンサモジュール(ここでは、静脈認証センサモジュールを例とする)の構成は、センサチップ(CMOSセンサチップ)上に光学部品(レンズ)をある程度離間して配置していたため、センサモジュールの厚さ(実装高さ)が大きかった。   In the configuration of the conventional sensor module (here, the vein authentication sensor module is taken as an example), the optical component (lens) is arranged on the sensor chip (CMOS sensor chip) with a certain distance therebetween. The height (mounting height) was large.

一方、近年では、センサモジュールの薄型化が要求されているため、特許文献1のように、センサチップ上に直接、光学部品(保護層)を接着する薄型のセンサモジュールが検討されている。   On the other hand, in recent years, since the sensor module has been required to be thin, a thin sensor module in which an optical component (protective layer) is directly bonded onto a sensor chip as described in Patent Document 1 has been studied.

しかしながら、本願発明者がこのような薄型センサモジュールの製造について検討したところ、以下のような問題を発見した。   However, when the inventor of the present application examined the manufacture of such a thin sensor module, the following problems were discovered.

すなわち、光学部品のセンサチップに対する位置ズレである。   That is, the positional deviation of the optical component with respect to the sensor chip.

詳細に説明すると、光学部品をセンサチップ上に固定(配置)する際、ペースト状の接着剤(流動性のある接着剤)を使用しているため、たとえ光学部品をセンサチップに対して正確に配置したとしても、この接着剤が硬化するまでに、センサチップ上に配置された光学部品が動いてしまうことが分かった。   More specifically, when an optical component is fixed (arranged) on the sensor chip, a paste-like adhesive (fluid adhesive) is used. Even if it is arranged, it has been found that the optical component arranged on the sensor chip moves before the adhesive is cured.

そこで、本願発明者は、ペースト状の接着剤を使用したとしても光学部品が動かないように、ボンディングツールで光学部品を保持した状態で接着剤に熱を加え、この接着剤を硬化させる方法を検討した。その結果、光学部品のセンサチップに対する水平方向における位置ズレは抑制できたが、硬化した接着剤の透過率は低下した(干渉縞発生)。   Therefore, the present inventor applied a method of curing the adhesive by applying heat to the adhesive while holding the optical component with a bonding tool so that the optical component does not move even if a paste-like adhesive is used. investigated. As a result, the positional displacement of the optical component in the horizontal direction with respect to the sensor chip could be suppressed, but the transmittance of the cured adhesive was reduced (interference fringe generation).

この原因について検討したところ、接着剤が硬化するまでの間も、ボンディングツールの荷重がこの接着剤に加わっているためであることが分かった。これにより、接着剤の厚さにばらつきが生じ、硬化した接着剤に干渉縞が形成された。   When the cause was examined, it was found that the load of the bonding tool was applied to the adhesive until the adhesive was cured. Thereby, the thickness of the adhesive varied, and interference fringes were formed on the cured adhesive.

このように、光学部品をセンサチップに接着固定する場合は、水平方向における位置ズレ対策だけでなく、垂直方向(厚さ方向)における配置精度についても考慮しなければならない。   As described above, when the optical component is bonded and fixed to the sensor chip, it is necessary to consider not only the measure against positional deviation in the horizontal direction but also the arrangement accuracy in the vertical direction (thickness direction).

なお、前記特許文献1の技術では、スペーサー(14)を介して保護膜(13b)を半導体層(7)上に配置することについて開示されているが、樹脂から成る保護層(13a)が硬化しきる前に、配置された保護膜(13b)の位置がずれる恐れがある(ここで記載した括弧内の符号は前記特許文献1の符号に対応している)。   The technique disclosed in Patent Document 1 discloses disposing the protective film (13b) on the semiconductor layer (7) via the spacer (14), but the protective layer (13a) made of resin is cured. There is a possibility that the position of the arranged protective film (13b) is shifted before it is completely cut (the reference numerals in parentheses described here correspond to the reference numerals of Patent Document 1).

本発明の目的は、高精度に光学部品をセンサチップ上に配置(固定)できる技術を提供することにある。   An object of the present invention is to provide a technique capable of arranging (fixing) an optical component on a sensor chip with high accuracy.

また、本発明の目的は、半導体装置の性能を向上させることができる技術を提供することにある。   Another object of the present invention is to provide a technique capable of improving the performance of a semiconductor device.

本発明の前記ならびにその他の目的と新規な特徴は、本明細書の記述および添付図面から明らかになるであろう。   The above and other objects and novel features of the present invention will be apparent from the description of this specification and the accompanying drawings.

本願において開示される発明のうち、代表的なものの概要を簡単に説明すれば、次のとおりである。   Of the inventions disclosed in the present application, the outline of typical ones will be briefly described as follows.

代表的な実施の形態による半導体装置の製造方法は、複数の画素が形成されたセンサ領域を有する表面を備えたセンサチップを、フェイスアップで配線基板の上面に搭載してから、センサチップの表面における複数箇所に第1接着材を配置し、この第1接着材を硬化することにより、粘着性を有する第1スペーサを、センサチップの表面に複数形成する。それから、センサチップの表面にペースト状の第2接着材を配置してから、複数の光学領域が形成された遮光層を有する第1光学部品を、第1光学部品に荷重を加えながら、複数の第1スペーサおよび第2接着材を介してセンサチップの表面上に配置する。その後、第1光学部品に荷重を加えない状態で第2接着材を硬化させることで第1光学部品を固定する。   A method of manufacturing a semiconductor device according to a representative embodiment includes mounting a sensor chip having a surface having a sensor region in which a plurality of pixels are formed on a top surface of a wiring substrate, and then mounting the surface of the sensor chip. A plurality of first adhesives are disposed on the surface of the sensor chip by disposing the first adhesive at a plurality of locations and curing the first adhesive. Then, after placing the paste-like second adhesive material on the surface of the sensor chip, the first optical component having the light shielding layer in which the plurality of optical regions are formed is applied to the first optical component while applying a load. It arrange | positions on the surface of a sensor chip via a 1st spacer and a 2nd adhesive material. Thereafter, the first optical component is fixed by curing the second adhesive without applying a load to the first optical component.

本願において開示される発明のうち、代表的なものによって得られる効果を簡単に説明すれば以下のとおりである。   Among the inventions disclosed in the present application, effects obtained by typical ones will be briefly described as follows.

代表的な実施の形態によれば、高精度に光学部品をセンサチップ上に配置(固定)させることができる。   According to a typical embodiment, an optical component can be arranged (fixed) on a sensor chip with high accuracy.

また、半導体装置の性能を向上させることができる。   In addition, the performance of the semiconductor device can be improved.

本発明の一実施の形態であるセンサモジュールの平面図である。It is a top view of the sensor module which is one embodiment of the present invention. 本発明の一実施の形態であるセンサモジュールの平面透視図である。It is a plane perspective view of the sensor module which is one embodiment of the present invention. 本発明の一実施の形態であるセンサモジュールの断面図(A1−A1断面図)である。It is sectional drawing (A1-A1 sectional drawing) of the sensor module which is one embodiment of this invention. 本発明の一実施の形態であるセンサモジュールの断面図(B1−B1断面図)である。It is sectional drawing (B1-B1 sectional drawing) of the sensor module which is one embodiment of this invention. 本発明の一実施の形態であるセンサモジュールの断面図(C1−C1断面図)である。It is sectional drawing (C1-C1 sectional drawing) of the sensor module which is one embodiment of this invention. 本発明の一実施の形態であるセンサモジュールの部分拡大断面図である。It is a partial expanded sectional view of the sensor module which is one embodiment of this invention. 本発明の一実施の形態であるセンサモジュールに用いられているセンサチップの平面図である。It is a top view of the sensor chip used for the sensor module which is one embodiment of the present invention. 本発明の一実施の形態であるセンサモジュールに用いられている光学部品の平面図である。It is a top view of the optical component used for the sensor module which is one embodiment of this invention. 本発明の一実施の形態であるセンサモジュールに用いられている光学部品の平面図である。It is a top view of the optical component used for the sensor module which is one embodiment of this invention. 本発明の一実施の形態であるセンサモジュールに用いられているセンサチップおよび光学部品の部分拡大断面図である。It is a partial expanded sectional view of the sensor chip and optical component which are used for the sensor module which is one embodiment of the present invention. センサチップの受光素子と、光学部品の遮光層の開口部と、光学部品のレンズ部との平面的な位置関係を示す説明図である。It is explanatory drawing which shows the planar positional relationship of the light receiving element of a sensor chip, the opening part of the light shielding layer of an optical component, and the lens part of an optical component. 本発明の一実施の形態であるセンサモジュールの製造工程を示す製造プロセスフロー図である。It is a manufacturing process flowchart which shows the manufacturing process of the sensor module which is one embodiment of this invention. 本発明の一実施の形態であるセンサモジュールの製造工程のうち、ステップS5のスペーサ形成工程の詳細を示すプロセスフロー図である。It is a process flow figure which shows the detail of the spacer formation process of step S5 among the manufacturing processes of the sensor module which is one embodiment of this invention. 本発明の一実施の形態であるセンサモジュールの製造工程のうち、ステップS6の光学部品搭載工程の詳細を示すプロセスフロー図である。It is a process flow figure which shows the detail of the optical component mounting process of step S6 among the manufacturing processes of the sensor module which is one embodiment of this invention. 本発明の一実施の形態であるセンサモジュールの製造工程のうち、ステップS7のスペーサ形成工程の詳細を示すプロセスフロー図である。It is a process flow figure which shows the detail of the spacer formation process of step S7 among the manufacturing processes of the sensor module which is one embodiment of this invention. 本発明の一実施の形態であるセンサモジュールの製造工程のうち、ステップS8の光学部品搭載工程の詳細を示すプロセスフロー図である。It is a process flow figure which shows the detail of the optical component mounting process of step S8 among the manufacturing processes of the sensor module which is one embodiment of this invention. 本発明の一実施の形態であるセンサモジュールの製造に用いられる配線基板の上面図である。It is a top view of the wiring board used for manufacture of the sensor module which is one embodiment of the present invention. 本発明の一実施の形態であるセンサモジュールの製造に用いられる配線基板の断面図(A1−A1断面図)である。It is sectional drawing (A1-A1 sectional drawing) of the wiring board used for manufacture of the sensor module which is one embodiment of this invention. 本発明の一実施の形態であるセンサモジュールの製造に用いられる配線基板の断面図(B1−B1断面図)である。It is sectional drawing (B1-B1 sectional drawing) of the wiring board used for manufacture of the sensor module which is one embodiment of this invention. 本発明の一実施の形態であるセンサモジュールの製造に用いられる配線基板の断面図(C1−C1断面図)である。It is sectional drawing (C1-C1 sectional drawing) of the wiring board used for manufacture of the sensor module which is one embodiment of this invention. 本発明の一実施の形態であるセンサモジュールの製造工程中の平面図(上面図)である。It is a top view (top view) in the manufacturing process of the sensor module which is one embodiment of this invention. 図21と同じセンサモジュールの製造工程中の断面図(A1−A1断面図)である。FIG. 22 is a cross-sectional view (A1-A1 cross-sectional view) of the same sensor module as that of FIG. 21 in the manufacturing process. 図21と同じセンサモジュールの製造工程中の断面図(B1−B1断面図)である。FIG. 22 is a cross-sectional view (B1-B1 cross-sectional view) of the same sensor module as that of FIG. 21 in the manufacturing process. 図21と同じセンサモジュールの製造工程中の断面図(C1−C1断面図)である。FIG. 22 is a cross-sectional view (C1-C1 cross-sectional view) of the same sensor module as that of FIG. 21 in the manufacturing process. 図21に続くセンサモジュールの製造工程中の平面図(上面図)である。FIG. 22 is a plan view (top view) of the sensor module during a manufacturing step following that of FIG. 21; 図25と同じセンサモジュールの製造工程中の断面図(A1−A1断面図)である。FIG. 26 is a cross-sectional view (A1-A1 cross-sectional view) of the same sensor module as that of FIG. 25 in the manufacturing process. 図25と同じセンサモジュールの製造工程中の断面図(B1−B1断面図)である。FIG. 26 is a cross-sectional view (B1-B1 cross-sectional view) of the same sensor module as that of FIG. 25 in the manufacturing process. 図25と同じセンサモジュールの製造工程中の断面図(C1−C1断面図)である。FIG. 26 is a cross-sectional view (C1-C1 cross-sectional view) of the same sensor module as that of FIG. 25 in the manufacturing process. 図25に続くセンサモジュールの製造工程中の平面図(上面図)である。FIG. 26 is a plan view (top view) of the sensor module during a manufacturing step following that of FIG. 25; 図29と同じセンサモジュールの製造工程中の断面図(A1−A1断面図)である。FIG. 30 is a cross-sectional view (A1-A1 cross-sectional view) of the same sensor module as that of FIG. 29 in the manufacturing process. 図29と同じセンサモジュールの製造工程中の断面図(B1−B1断面図)である。FIG. 30 is a cross-sectional view (B1-B1 cross-sectional view) of the same sensor module as that of FIG. 29 in the manufacturing process. 図29と同じセンサモジュールの製造工程中の断面図(C1−C1断面図)である。FIG. 30 is a cross-sectional view (C1-C1 cross-sectional view) of the same sensor module as that of FIG. 29 in the manufacturing process. 図29に続くセンサモジュールの製造工程中の平面図(上面図)である。FIG. 30 is a plan view (top view) of the sensor module during a manufacturing step following that of FIG. 29; 図33と同じセンサモジュールの製造工程中の断面図(A1−A1断面図)である。It is sectional drawing (A1-A1 sectional drawing) in the manufacturing process of the same sensor module as FIG. 図33と同じセンサモジュールの製造工程中の断面図(B1−B1断面図)である。FIG. 34 is a cross-sectional view (B1-B1 cross-sectional view) of the same sensor module as that of FIG. 33 in the manufacturing process. 図33と同じセンサモジュールの製造工程中の断面図(C1−C1断面図)である。FIG. 34 is a cross-sectional view (C1-C1 cross-sectional view) of the same sensor module as that of FIG. 33 in the manufacturing process. 図33〜図36と同じ工程段階におけるセンサチップを示した平面図である。FIG. 37 is a plan view showing a sensor chip in the same process step as in FIGS. 33 to 36. 図33に続くセンサモジュールの製造工程中の平面図(上面図)である。FIG. 34 is a plan view (top view) of the sensor module during the manufacturing process following FIG. 33; 図38と同じセンサモジュールの製造工程中の断面図(A1−A1断面図)である。FIG. 39 is a cross-sectional view (A1-A1 cross-sectional view) of the same sensor module as in FIG. 38 in the manufacturing process. 図38と同じセンサモジュールの製造工程中の断面図(B1−B1断面図)である。It is sectional drawing (B1-B1 sectional drawing) in the manufacturing process of the same sensor module as FIG. 図38と同じセンサモジュールの製造工程中の断面図(C1−C1断面図)である。It is sectional drawing (C1-C1 sectional drawing) in the manufacturing process of the same sensor module as FIG. 図38に続くセンサモジュールの製造工程中の平面図(上面図)である。FIG. 39 is a plan view (top view) of the sensor module in manufacturing process following FIG. 38. 図42と同じセンサモジュールの製造工程中の断面図(A1−A1断面図)である。FIG. 43 is a cross-sectional view (A1-A1 cross-sectional view) of the same sensor module as that of FIG. 42 in the manufacturing process. 図42と同じセンサモジュールの製造工程中の断面図(B1−B1断面図)である。FIG. 44 is a cross-sectional view (B1-B1 cross-sectional view) of the same sensor module as that of FIG. 42 in the manufacturing process. 図42と同じセンサモジュールの製造工程中の断面図(C1−C1断面図)である。FIG. 43 is a cross-sectional view (C1-C1 cross-sectional view) of the same sensor module as that of FIG. 42 in the manufacturing process. 図42〜図45と同じ工程段階におけるセンサチップおよびセンサチップ上の光学部品を示した平面図(上面図)である。FIG. 46 is a plan view (top view) showing the sensor chip and the optical components on the sensor chip in the same process step as FIGS. 42 to 45. 図42〜図45と同じ工程段階におけるセンサチップおよびセンサチップ上の光学部品との積層構造の部分拡大断面図である。FIG. 46 is a partial enlarged cross-sectional view of a laminated structure of a sensor chip and an optical component on the sensor chip in the same process step as in FIGS. 42 to 45. ステップS6bの光学部品配置工程およびステップS6cの接着材硬化工程の説明図である。It is explanatory drawing of the optical component arrangement | positioning process of step S6b, and the adhesive material hardening process of step S6c. ステップS6bの光学部品配置工程およびステップS6cの接着材硬化工程の説明図である。It is explanatory drawing of the optical component arrangement | positioning process of step S6b, and the adhesive material hardening process of step S6c. ステップS6bの光学部品配置工程およびステップS6cの接着材硬化工程の説明図である。It is explanatory drawing of the optical component arrangement | positioning process of step S6b, and the adhesive material hardening process of step S6c. ステップS6bの光学部品配置工程およびステップS6cの接着材硬化工程の説明図である。It is explanatory drawing of the optical component arrangement | positioning process of step S6b, and the adhesive material hardening process of step S6c. 図42に続くセンサモジュールの製造工程中の平面図(上面図)である。FIG. 43 is a plan view (top view) of the sensor module during a manufacturing step following that of FIG. 42; 図52と同じセンサモジュールの製造工程中の断面図(A1−A1断面図)である。FIG. 53 is a cross-sectional view (A1-A1 cross-sectional view) of the same sensor module as that of FIG. 52 in the manufacturing process. 図52と同じセンサモジュールの製造工程中の断面図(B1−B1断面図)である。FIG. 53 is a cross-sectional view (B1-B1 cross-sectional view) of the same sensor module as that of FIG. 52 in the manufacturing process. 図52と同じセンサモジュールの製造工程中の断面図(C1−C1断面図)である。FIG. 53 is a cross-sectional view (C1-C1 cross-sectional view) of the same sensor module as that of FIG. 52 in the manufacturing process. 図52〜図55と同じ工程段階におけるセンサチップおよびセンサチップ上の光学部品を示した平面図平面図である。FIG. 56 is a plan view plan view showing a sensor chip and optical components on the sensor chip in the same process step as in FIGS. 52 to 55. 図52に続くセンサモジュールの製造工程中の平面図(上面図)である。FIG. 53 is a plan view (top view) of the sensor module during a manufacturing step following FIG. 52; 図57と同じセンサモジュールの製造工程中の断面図(A1−A1断面図)である。FIG. 58 is a cross-sectional view (A1-A1 cross-sectional view) of the same sensor module as that of FIG. 57 in the manufacturing process. 図57と同じセンサモジュールの製造工程中の断面図(B1−B1断面図)である。FIG. 58 is a cross-sectional view (B1-B1 cross-sectional view) of the same sensor module as that of FIG. 57 in the manufacturing process. 図57と同じセンサモジュールの製造工程中の断面図(C1−C1断面図)である。FIG. 58 is a cross-sectional view (C1-C1 cross-sectional view) of the same sensor module as that of FIG. 57 in the manufacturing process. 図57に続くセンサモジュールの製造工程中の平面図(上面図)である。FIG. 58 is a plan view (top view) of the sensor module in manufacturing process subsequent to FIG. 57; 図61と同じセンサモジュールの製造工程中の断面図(A1−A1断面図)である。FIG. 62 is a cross-sectional view (A1-A1 cross-sectional view) of the same sensor module as that of FIG. 61 in the manufacturing process. 図61と同じセンサモジュールの製造工程中の断面図(B1−B1断面図)である。FIG. 62 is a cross-sectional view (B1-B1 cross-sectional view) of the same sensor module as that of FIG. 61 in the manufacturing process. 図61と同じセンサモジュールの製造工程中の断面図(C1−C1断面図)である。FIG. 62 is a cross-sectional view (C1-C1 cross-sectional view) of the same sensor module as in FIG. 61 in manufacturing process. 図61〜図64と同じ工程段階におけるセンサチップおよびセンサチップ上の光学部品を示した平面図(上面図)である。FIG. 67 is a plan view (top view) showing a sensor chip and optical components on the sensor chip in the same process step as FIGS. 61 to 64; 図61〜図64と同じ工程段階におけるセンサチップおよびセンサチップ上の光学部品との積層構造の部分拡大断面図である。FIG. 65 is a partial enlarged cross-sectional view of a stacked structure of a sensor chip and an optical component on the sensor chip in the same process step as that of FIGS. 61 to 64. ステップS8bの光学部品配置工程およびステップS8cの接着材硬化工程の説明図である。It is explanatory drawing of the optical component arrangement | positioning process of step S8b, and the adhesive material hardening process of step S8c. ステップS8bの光学部品配置工程およびステップS8cの接着材硬化工程の説明図である。It is explanatory drawing of the optical component arrangement | positioning process of step S8b, and the adhesive material hardening process of step S8c. ステップS8bの光学部品配置工程およびステップS8cの接着材硬化工程の説明図である。It is explanatory drawing of the optical component arrangement | positioning process of step S8b, and the adhesive material hardening process of step S8c. ステップS8bの光学部品配置工程およびステップS8cの接着材硬化工程の説明図である。It is explanatory drawing of the optical component arrangement | positioning process of step S8b, and the adhesive material hardening process of step S8c. 本発明の一実施の形態であるセンサモジュールを使用した指静脈認証装置の説明図である。It is explanatory drawing of the finger vein authentication apparatus using the sensor module which is one embodiment of this invention. アライメントマークが形成されているセンサチップの平面図である。It is a top view of the sensor chip in which the alignment mark is formed. アライメントマークが形成されている光学部品の平面図である。It is a top view of the optical component in which the alignment mark is formed. アライメントマークが形成されている光学部品の平面図である。It is a top view of the optical component in which the alignment mark is formed.

以下の実施の形態においては便宜上その必要があるときは、複数のセクションまたは実施の形態に分割して説明するが、特に明示した場合を除き、それらはお互いに無関係なものではなく、一方は他方の一部または全部の変形例、詳細、補足説明等の関係にある。また、以下の実施の形態において、要素の数等(個数、数値、量、範囲等を含む)に言及する場合、特に明示した場合および原理的に明らかに特定の数に限定される場合等を除き、その特定の数に限定されるものではなく、特定の数以上でも以下でも良い。さらに、以下の実施の形態において、その構成要素(要素ステップ等も含む)は、特に明示した場合および原理的に明らかに必須であると考えられる場合等を除き、必ずしも必須のものではないことは言うまでもない。同様に、以下の実施の形態において、構成要素等の形状、位置関係等に言及するときは、特に明示した場合および原理的に明らかにそうでないと考えられる場合等を除き、実質的にその形状等に近似または類似するもの等を含むものとする。このことは、上記数値および範囲についても同様である。   In the following embodiments, when it is necessary for the sake of convenience, the description will be divided into a plurality of sections or embodiments. However, unless otherwise specified, they are not irrelevant to each other. There are some or all of the modifications, details, supplementary explanations, and the like. Further, in the following embodiments, when referring to the number of elements (including the number, numerical value, quantity, range, etc.), especially when clearly indicated and when clearly limited to a specific number in principle, etc. Except, it is not limited to the specific number, and may be more or less than the specific number. Further, in the following embodiments, the constituent elements (including element steps and the like) are not necessarily indispensable unless otherwise specified and apparently essential in principle. Needless to say. Similarly, in the following embodiments, when referring to the shapes, positional relationships, etc. of the components, etc., the shapes are substantially the same unless otherwise specified, or otherwise apparent in principle. And the like are included. The same applies to the above numerical values and ranges.

以下、本発明の実施の形態を図面に基づいて詳細に説明する。なお、実施の形態を説明するための全図において、同一の機能を有する部材には同一の符号を付し、その繰り返しの説明は省略する。また、以下の実施の形態では、特に必要なとき以外は同一または同様な部分の説明を原則として繰り返さない。   Hereinafter, embodiments of the present invention will be described in detail with reference to the drawings. Note that components having the same function are denoted by the same reference symbols throughout the drawings for describing the embodiments, and the repetitive description thereof will be omitted. In the following embodiments, the description of the same or similar parts will not be repeated in principle unless particularly necessary.

また、実施の形態で用いる図面においては、断面図であっても図面を見易くするためにハッチングを省略する場合もある。また、平面図であっても図面を見易くするためにハッチングを付す場合もある。   In the drawings used in the embodiments, hatching may be omitted even in a cross-sectional view so as to make the drawings easy to see. Further, even a plan view may be hatched to make the drawing easy to see.

本実施の形態のセンサモジュール(半導体装置)およびその製造工程を、図面を参照して説明する。本実施の形態のセンサモジュールは、静脈認証用(例えば指静脈認証用)のセンサモジュールなどとして使用されるセンサモジュールである。静脈認証用以外の用途、例えば指紋認識用に用いることもできる。   A sensor module (semiconductor device) of the present embodiment and a manufacturing process thereof will be described with reference to the drawings. The sensor module of the present embodiment is a sensor module used as a sensor module for vein authentication (for example, finger vein authentication). It can also be used for uses other than vein authentication, for example, for fingerprint recognition.

<センサモジュールの構造について>
図1は、本発明の一実施の形態であるセンサモジュール(半導体装置、電子装置)MJ1の平面図であり、図2はセンサモジュールMJ1の平面透視図であり、図3〜図5はセンサモジュールMJ1の断面図(側面断面図)であり、図6はセンサモジュールMJ1の部分拡大断面図(要部断面図)である。図7は、センサモジュールMJ1に用いられているセンサチップ3の平面図(上面図)であり、図8は、センサモジュールMJ1に用いられている光学部品5の平面図(上面図)であり、図9は、センサモジュールMJ1に用いられている光学部品6の平面図(上面図)である。図10は、センサモジュールMJ1に用いられているセンサチップ3、光学部品5および光学部品6の部分拡大断面図(要部断面図)である。図11は、センサチップ3の受光素子PHと、光学部品5の遮光層15の開口部16と、光学部品5のレンズ部13との平面的な位置関係を示す説明図(平面図)である。なお、図2には、光学部品5,6および封止部7を透視した(取り外した)状態のセンサモジュールMJ1の平面図が示されている。また、図3は、図1および図2のA1−A1線の位置での断面図に対応し、図4は、図1および図2のB1−B1線の位置での断面図に対応し、図5は、図1および図2のC1−C1線の位置での断面図に対応する。図6は、図3の部分拡大断面図であり、図3における点線で囲まれた領域RG1の拡大図が示されているが、図6は、図11のD4−D4線の位置での断面図にも対応している。また、図7には、センサチップ3の全体平面図(上面図)が示されているが、そのうちの領域RG2の拡大図も合わせて示されている。また、図8には、光学部品5の全体平面図(上面図)が示されているが、そのうちの領域RG3の拡大図も合わせて示されている。また、図9には、光学部品6の全体平面図(上面図)が示されているが、そのうちの領域RG4の拡大図も合わせて示されている。また、図10の(c)にはセンサチップ3の部分拡大断面図(要部断面図)が示され、(b)には光学部品5の部分拡大断面図(要部断面図)が示され、(a)には光学部品6の部分拡大断面図(要部断面図)が示されている。図10の(c)は、図7のD1−D1線の位置での断面図に対応し、図10の(b)は、図8のD2−D2線の位置での断面図に対応し、図10の(a)は、図9のD3−D3線の位置での断面図に対応している。また、図10の断面図は、図6に相当する断面でもある。また、図8における領域RG3の拡大図の部分は、平面図であるが、理解を簡単にするために、遮光層15が形成されている領域にドットのハッチングを付してある。
<About the structure of the sensor module>
FIG. 1 is a plan view of a sensor module (semiconductor device, electronic device) MJ1 according to an embodiment of the present invention, FIG. 2 is a plan perspective view of the sensor module MJ1, and FIGS. 3 to 5 are sensor modules. FIG. 6 is a sectional view (side sectional view) of MJ1, and FIG. 6 is a partially enlarged sectional view (essential sectional view) of sensor module MJ1. FIG. 7 is a plan view (top view) of the sensor chip 3 used in the sensor module MJ1, and FIG. 8 is a plan view (top view) of the optical component 5 used in the sensor module MJ1. FIG. 9 is a plan view (top view) of the optical component 6 used in the sensor module MJ1. FIG. 10 is a partially enlarged sectional view (main part sectional view) of the sensor chip 3, the optical component 5, and the optical component 6 used in the sensor module MJ1. FIG. 11 is an explanatory diagram (plan view) showing a planar positional relationship among the light receiving element PH of the sensor chip 3, the opening 16 of the light shielding layer 15 of the optical component 5, and the lens portion 13 of the optical component 5. . FIG. 2 shows a plan view of the sensor module MJ1 in a state where the optical components 5 and 6 and the sealing portion 7 are seen through (removed). 3 corresponds to a cross-sectional view taken along the line A1-A1 in FIGS. 1 and 2, and FIG. 4 corresponds to a cross-sectional view taken along the line B1-B1 in FIGS. FIG. 5 corresponds to a cross-sectional view taken along line C1-C1 in FIGS. 6 is a partially enlarged cross-sectional view of FIG. 3, and an enlarged view of a region RG1 surrounded by a dotted line in FIG. 3 is shown. FIG. 6 is a cross-sectional view taken along the line D4-D4 of FIG. It also corresponds to the figure. Further, FIG. 7 shows an overall plan view (top view) of the sensor chip 3, and an enlarged view of the region RG2 is also shown. Further, FIG. 8 shows an overall plan view (top view) of the optical component 5, and an enlarged view of the region RG3 is also shown. FIG. 9 shows an overall plan view (top view) of the optical component 6, and an enlarged view of the region RG4 is also shown. FIG. 10C shows a partial enlarged cross-sectional view (main part cross-sectional view) of the sensor chip 3, and FIG. 10B shows a partial enlarged cross-sectional view (main part cross-sectional view) of the optical component 5. , (A) shows a partially enlarged sectional view (main part sectional view) of the optical component 6. 10C corresponds to the cross-sectional view at the position of the line D1-D1 in FIG. 7, and FIG. 10B corresponds to the cross-sectional view at the position of the line D2-D2 in FIG. FIG. 10A corresponds to a cross-sectional view taken along the line D3-D3 in FIG. 10 is also a cross-section corresponding to FIG. 8 is a plan view, but in order to facilitate understanding, the area where the light shielding layer 15 is formed is hatched with dots.

図1〜図10に示されるように、本実施の形態のセンサモジュールMJ1は、配線基板2と、配線基板2の上面2aに搭載されたセンサチップ3および電子部品4と、センサチップ3上に搭載された光学部品5,6とを有している。更に、本実施の形態のセンサモジュールMJ1は、センサチップ3の複数のパッド電極PDと配線基板2の複数のボンディングリードBLとを電気的に接続する複数のボンディングワイヤBWと、それら複数のボンディングワイヤBWを覆う封止部7と、配線基板2の上面2aに搭載されたコネクタCNTとを有している。   As shown in FIGS. 1 to 10, the sensor module MJ <b> 1 of the present embodiment includes a wiring board 2, a sensor chip 3 and an electronic component 4 mounted on the upper surface 2 a of the wiring board 2, and the sensor chip 3. It has mounted optical parts 5 and 6. Further, the sensor module MJ1 of the present embodiment includes a plurality of bonding wires BW that electrically connect a plurality of pad electrodes PD of the sensor chip 3 and a plurality of bonding leads BL of the wiring board 2, and the plurality of bonding wires. It has the sealing part 7 which covers BW, and the connector CNT mounted on the upper surface 2a of the wiring board 2.

配線基板(基材)2は、互いに反対側に位置する2つの主面である上面(主面、表面、センサチップ搭載面)2aと下面(裏面)2bとを有しており、上面2a側が、センサチップ3および電子部品4搭載側の主面(センサチップ搭載面)となっている。配線基板2は、例えばガラスエポキシ系の樹脂基板であり、樹脂材料層(例えばガラスエポキシ系樹脂材料層)などからなる絶縁層と配線層(導体層、導体パターン層)とを交互に積層した多層配線構造(すなわち多層配線基板)とすることもできる。配線基板2の上面2aには、電極として、複数のボンディングリード(電極、端子)BLおよび複数の端子(電極、導電性ランド、ボンディングリード)TE1,TE2が形成(配置)されている。配線基板2の上面2a上に搭載されたセンサチップ3のパッド電極(ボンディングパッド、電極、端子)PDは、ボンディングワイヤBWを介して、配線基板2の上面2a上に形成されたボンディングリードBLに電気的に接続されている。ボンディングワイヤBWは、例えば金(Au)線などの金属細線からなる。   The wiring board (base material) 2 has an upper surface (main surface, front surface, sensor chip mounting surface) 2a and a lower surface (back surface) 2b which are two main surfaces located on opposite sides, and the upper surface 2a side is The main surface (sensor chip mounting surface) on the sensor chip 3 and electronic component 4 mounting side. The wiring substrate 2 is, for example, a glass epoxy resin substrate, and is a multilayer in which insulating layers made of resin material layers (for example, glass epoxy resin material layers) and wiring layers (conductor layers, conductor pattern layers) are alternately stacked. A wiring structure (that is, a multilayer wiring board) can also be used. On the upper surface 2a of the wiring board 2, a plurality of bonding leads (electrodes, terminals) BL and a plurality of terminals (electrodes, conductive lands, bonding leads) TE1 and TE2 are formed (arranged) as electrodes. The pad electrodes (bonding pads, electrodes, terminals) PD of the sensor chip 3 mounted on the upper surface 2a of the wiring board 2 are connected to the bonding leads BL formed on the upper surface 2a of the wiring board 2 via the bonding wires BW. Electrically connected. The bonding wire BW is made of a thin metal wire such as a gold (Au) wire.

配線基板2の上面2aに単数または複数の電子部品4が搭載(実装)されているが、この電子部品4は、例えば、チップ抵抗やチップコンデンサなどの受動部品(チップ部品)や、あるいは、EEPROM(Electrically Erasable Programmable Read-Only Memory)などのような不揮発性メモリ回路が形成されたメモリチップ(メモリ用の半導体チップ)である。電子部品4のうち、チップ抵抗やチップコンデンサなどの受動部品は、配線基板2の上面2a上に半田実装され、メモリチップは、半田バンプ(バンプ電極)などを介して配線基板2の上面2a上にフリップチップ実装されている。すなわち、電子部品4の各電極が、配線基板2の上面2aの各端子TE1にそれぞれ機械的かつ電気的に接続されている。図1、図2および図4では、電子部品4として、チップ抵抗やチップコンデンサなどの受動部品が半田などの接合材10bを介して配線基板2の上面2aの端子TE1に接続された状態が示されている。配線基板2の上面2aに搭載する電子部品4の種類と数とは、必要に応じて種々変更可能である。配線基板2の上面2aには、電子部品4接続用の端子である複数の端子TE1が形成されており、各端子TE1は、配線基板2の上面2aに形成された上記ボンディングリードBLと同層の導体パターン(配線パターン)によって形成されている。   One or a plurality of electronic components 4 are mounted (mounted) on the upper surface 2a of the wiring board 2. The electronic components 4 are, for example, passive components (chip components) such as chip resistors and chip capacitors, or EEPROMs. A memory chip (semiconductor chip for memory) in which a nonvolatile memory circuit such as (Electrically Erasable Programmable Read-Only Memory) is formed. Among the electronic components 4, passive components such as chip resistors and chip capacitors are solder-mounted on the upper surface 2 a of the wiring substrate 2, and the memory chip is mounted on the upper surface 2 a of the wiring substrate 2 via solder bumps (bump electrodes). Flip chip mounted. That is, each electrode of the electronic component 4 is mechanically and electrically connected to each terminal TE1 of the upper surface 2a of the wiring board 2 respectively. 1, FIG. 2 and FIG. 4 show a state in which a passive component such as a chip resistor or a chip capacitor is connected as an electronic component 4 to a terminal TE1 on the upper surface 2a of the wiring board 2 via a bonding material 10b such as solder. Has been. The type and number of electronic components 4 mounted on the upper surface 2a of the wiring board 2 can be variously changed as necessary. A plurality of terminals TE1 which are terminals for connecting the electronic component 4 are formed on the upper surface 2a of the wiring board 2. Each terminal TE1 is in the same layer as the bonding lead BL formed on the upper surface 2a of the wiring board 2. The conductor pattern (wiring pattern) is used.

センサチップ(撮像素子、固体撮像素子、半導体撮像素子)3は、光センサ用の半導体チップであり、例えばCMOSイメージセンサ回路などのセンサ回路(受光素子回路)が形成されており、センサ回路が形成された側の主面である表面(受光面、受光素子形成面)3aと、表面3aとは反対側の主面である裏面3bとを有している。そして、センサチップ3の裏面3bが配線基板2に対向する(搭載される、接着される)側となるように、配線基板2の上面2a上にセンサチップ3が接合材(ダイボンディング材)10aを介して搭載(配置、実装、フェイスアップボンディング)されている。センサチップ3は半導体チップであるため、センサモジュールMJ1は半導体装置とみなすことができる。   A sensor chip (image sensor, solid-state image sensor, semiconductor image sensor) 3 is a semiconductor chip for an optical sensor, and a sensor circuit (light receiving element circuit) such as a CMOS image sensor circuit is formed, and the sensor circuit is formed. The surface (light receiving surface, light receiving element forming surface) 3a which is the principal surface on the side formed, and the back surface 3b which is the principal surface opposite to the surface 3a. Then, the sensor chip 3 is bonded to the upper surface 2a of the wiring board 2 so that the back surface 3b of the sensor chip 3 faces (mounts or adheres) to the wiring board 2 (a bonding material (die bonding material) 10a). Is mounted (placement, mounting, face-up bonding). Since the sensor chip 3 is a semiconductor chip, the sensor module MJ1 can be regarded as a semiconductor device.

センサチップ3に形成されたCMOSイメージセンサ回路は、半導体装置の製造工程で標準的に使用されるCMOSプロセスにより形成されており、センサアレイ(受光素子領域)を有している。センサチップ3の表面3aには、受光部として、センサアレイが形成された領域(センサ領域)であるセンサ面(センサ領域、受光部、センサアレイ領域)SEが設けられている。センサ面SEは、センサ領域とみなすことができる。センサチップ3の平面形状は四角形(より特定的には長方形)であり、センサ面SEの平面形状も四角形(より特定的には長方形)である。   The CMOS image sensor circuit formed on the sensor chip 3 is formed by a CMOS process that is typically used in the manufacturing process of a semiconductor device, and has a sensor array (light receiving element region). The surface 3a of the sensor chip 3 is provided with a sensor surface (sensor region, light receiving unit, sensor array region) SE, which is a region (sensor region) where a sensor array is formed, as a light receiving unit. The sensor surface SE can be regarded as a sensor region. The planar shape of the sensor chip 3 is a quadrangle (more specifically, a rectangle), and the planar shape of the sensor surface SE is also a quadrangle (more specifically, a rectangle).

センサチップ3のセンサ面SEには、複数の画素として複数の受光素子PHが形成されている。具体的には、センサチップ3のセンサ面SEには、図7および図10(c)からも分かるように、複数の受光素子(画素)PHがセンサチップ3の主面に沿って縦横方向に(すなわちアレイ状に)規則的に並んで配置されている。個々の受光素子PHは、CMOSイメージセンサ回路の画素を形成する部分であり、入射された光信号を電気信号に変換する光電変換機能を有している。このため、受光素子PHを画素とみなすことができる。受光素子PHとしては、例えばフォトダイオードまたはフォトトランジスタを使用することができる。また、センサチップ3は、センサ面SEで得られた電気信号を処理するアナログ回路やDSP(Digital Signal Processor)回路などを更に有することもできる。   A plurality of light receiving elements PH are formed as a plurality of pixels on the sensor surface SE of the sensor chip 3. Specifically, as can be seen from FIG. 7 and FIG. 10C, a plurality of light receiving elements (pixels) PH are arranged in the vertical and horizontal directions along the main surface of the sensor chip 3 on the sensor surface SE of the sensor chip 3. They are regularly arranged (that is, in an array). Each light receiving element PH is a part for forming a pixel of the CMOS image sensor circuit, and has a photoelectric conversion function for converting an incident optical signal into an electric signal. For this reason, the light receiving element PH can be regarded as a pixel. For example, a photodiode or a phototransistor can be used as the light receiving element PH. The sensor chip 3 may further include an analog circuit that processes an electrical signal obtained on the sensor surface SE, a DSP (Digital Signal Processor) circuit, and the like.

センサチップ3のセンサ面SEには、例えば、100行×150列のアレイ(行列)状に15000個の受光素子PHが配列(配置)されている。なお、センサチップ3のセンサ面SEにおける受光素子PHの配列の行数および列数は、必要に応じて変更可能である。   On the sensor surface SE of the sensor chip 3, for example, 15000 light receiving elements PH are arranged (arranged) in an array of 100 rows × 150 columns. The number of rows and the number of columns of the light receiving elements PH on the sensor surface SE of the sensor chip 3 can be changed as necessary.

また、図示はしないけれども、センサチップ3の表面3aには、表面保護膜(保護絶縁膜)がセンサチップ3の最上層の絶縁膜として形成されている。この表面保護膜には、受光素子PH用の開口部とパッド電極PD用の開口部が形成されている。この表面保護膜における受光素子PH用の開口部は、各受光素子PHの上部にその受光素子PHを露出するように形成され、受光素子PH用の開口部を通って受光素子PHへ光が入射できるようになっている。また、表面保護膜におけるパッド電極PD用の開口部は、各パッド電極PDの上部にそのパッド電極PDを露出するように形成され、ボンディングワイヤBWがパッド電極PDに接続できるようになっている。   Although not shown, a surface protective film (protective insulating film) is formed on the surface 3 a of the sensor chip 3 as the uppermost insulating film of the sensor chip 3. In this surface protective film, an opening for the light receiving element PH and an opening for the pad electrode PD are formed. The opening for the light receiving element PH in the surface protective film is formed on the top of each light receiving element PH so as to expose the light receiving element PH, and light enters the light receiving element PH through the opening for the light receiving element PH. It can be done. In addition, the opening for the pad electrode PD in the surface protective film is formed on the top of each pad electrode PD so as to expose the pad electrode PD, and the bonding wire BW can be connected to the pad electrode PD.

センサチップ3の表面3aにおいて、センサ面SE以外の領域に、複数のパッド電極PDが形成(配置)されており、このパッド電極PDは、センサチップ3のCMOSイメージセンサ回路などの引出電極であり、ボンディングワイヤBWを通じて配線基板2のボンディングリードBLと電気的に接続されている。パッド電極PDは、センサチップ3の表面3aの外周部に配置され、図2および図7では、センサチップ3の表面3aの辺SD1に沿って並んで複数のパッド電極PDが配置(配列)されている。   On the surface 3a of the sensor chip 3, a plurality of pad electrodes PD are formed (arranged) in a region other than the sensor surface SE. The pad electrodes PD are lead electrodes for the CMOS image sensor circuit of the sensor chip 3 and the like. The wire is electrically connected to the bonding lead BL of the wiring board 2 through the bonding wire BW. The pad electrodes PD are arranged on the outer peripheral portion of the surface 3a of the sensor chip 3, and in FIG. 2 and FIG. 7, a plurality of pad electrodes PD are arranged (arranged) along the side SD1 of the surface 3a of the sensor chip 3. ing.

配線基板2の上面2aには、センサモジュールMJ1の外部端子(外部接続端子)として機能するコネクタ(コネクタ部)CNTが、接合材10cを介して搭載(実装、配置)されている。コネクタCNTは、センサモジュールMJ1(が内蔵する回路)を外部機器に電気的に接続するための外部端子として機能する。具体的には、配線基板2の上面2aにおける辺SD2に沿った位置に、コネクタCNT接続用の端子である複数の端子TE2が形成されており、コネクタCNTは、これら複数の端子TE2に電気的に接続されている。配線基板2の上面2aの各端子TE2は、配線基板2の上面2aに形成された上記ボンディングリードBLおよび上記端子TE1と同層の導体パターン(配線パターン)によって形成されている。   On the upper surface 2a of the wiring board 2, a connector (connector portion) CNT that functions as an external terminal (external connection terminal) of the sensor module MJ1 is mounted (mounted or disposed) via a bonding material 10c. The connector CNT functions as an external terminal for electrically connecting the sensor module MJ1 (a circuit built therein) to an external device. Specifically, a plurality of terminals TE2 which are terminals for connecting the connector CNT are formed at positions along the side SD2 on the upper surface 2a of the wiring board 2, and the connector CNT is electrically connected to the plurality of terminals TE2. It is connected to the. Each terminal TE2 on the upper surface 2a of the wiring board 2 is formed by the bonding lead BL formed on the upper surface 2a of the wiring board 2 and a conductor pattern (wiring pattern) in the same layer as the terminal TE1.

配線基板2の上面2aの複数のボンディングリードBLと複数の端子TE1と複数の端子TE2とは、配線基板2の配線(ボンディングリードBLおよび端子TE1,TE2と同層の配線パターンや配線基板2の内部配線パターンや配線基板2のビアを含む)を介して、必要に応じて互いに電気的に接続されている。   The plurality of bonding leads BL, the plurality of terminals TE1, and the plurality of terminals TE2 on the upper surface 2a of the wiring board 2 are the wirings of the wiring board 2 (the wiring pattern in the same layer as the bonding leads BL and the terminals TE1 and TE2 and the wiring board 2). (Including internal wiring patterns and vias of the wiring board 2) as necessary.

コネクタCNTは複数の端子TE3を有しており、コネクタCNTの各端子TE3は、配線基板2の各端子TE2に電気的に接続されている。このため、コネクタCNTの各端子TE3は、配線基板2の配線などを通じてセンサモジュールMJ1内の回路(センサチップ3や電子部品4の各電極)と電気的に接続されている。コネクタCNTの各端子TE3は、配線基板2の上面2aの各端子TE2と電気的に接続され、更に配線基板2の配線やボンディングワイヤBWや半田などを介して、センサチップ3のパッド電極PDや電子部品4の電極などと電気的に接続されている。   The connector CNT has a plurality of terminals TE3, and each terminal TE3 of the connector CNT is electrically connected to each terminal TE2 of the wiring board 2. Therefore, each terminal TE3 of the connector CNT is electrically connected to a circuit (each electrode of the sensor chip 3 or the electronic component 4) in the sensor module MJ1 through the wiring of the wiring board 2 or the like. Each terminal TE3 of the connector CNT is electrically connected to each terminal TE2 on the upper surface 2a of the wiring board 2, and further via the wiring of the wiring board 2, the bonding wire BW, solder, etc. It is electrically connected to the electrodes of the electronic component 4.

配線基板2の上面2a上に、複数のボンディングワイヤBWを覆うように、封止部7が形成されている。封止部7は、例えば熱硬化性樹脂材料などの樹脂材料からなり、フィラーなどを含有することもできる。例えばエポキシ樹脂またはシリコーン樹脂などを封止部7用の樹脂材料として用いることができる。センサチップ3のパッド電極PDとボンディングワイヤBWとの接続部、配線基板2のボンディングリードBLとボンディングワイヤBWとの接続部、およびボンディングワイヤBW自身は、封止部7により封止されて保護される。   A sealing portion 7 is formed on the upper surface 2a of the wiring board 2 so as to cover the plurality of bonding wires BW. The sealing part 7 consists of resin materials, such as a thermosetting resin material, for example, and can also contain a filler etc. For example, an epoxy resin or a silicone resin can be used as the resin material for the sealing portion 7. The connecting portion between the pad electrode PD of the sensor chip 3 and the bonding wire BW, the connecting portion between the bonding lead BL and the bonding wire BW of the wiring substrate 2, and the bonding wire BW itself are sealed and protected by the sealing portion 7. The

また、封止部7は、ボンディングワイヤBWを覆うように(すなわちボンディングワイヤBWが露出されないように)形成しているが、センサチップ3のセンサ面SE上には、封止部7用の樹脂材料が配置されないようにすることが好ましく、これにより、センサチップ3のセンサ面SEへの光の入射が、封止部7用の樹脂材料で阻害される(遮られる)のを防止することができる。   The sealing portion 7 is formed so as to cover the bonding wire BW (that is, the bonding wire BW is not exposed). On the sensor surface SE of the sensor chip 3, the resin for the sealing portion 7 is formed. It is preferable that the material is not disposed, thereby preventing the incidence of light on the sensor surface SE of the sensor chip 3 from being hindered (obstructed) by the resin material for the sealing portion 7. it can.

センサチップ3の表面3a上には、光学部品5,6が搭載されている。このうち、光学部品5は、センサチップ3の表面3a上に接着材(接着材層、接着剤、接着剤層)11を介して搭載(配置)されて固定され、この光学部品5上に光学部品6が、接着材(接着材層、接着剤、接着剤層)12を介して搭載(配置)されて固定されている。接着材11および接着材12は、光を透過する透光性の接着材(いわゆる透明接着材)であり、硬化した状態となっている。接着材11,12を透光性の接着材(透明接着材)としているため、センサチップ3のセンサ面SEへの光の入射が、接着材11,12により阻害される(遮られる)のを防止することができる。接着材11,12および後述の接着材11a,12aは、透光性(光の透過性)を有するため、ほぼ透明である。   Optical components 5 and 6 are mounted on the surface 3 a of the sensor chip 3. Among these, the optical component 5 is mounted (arranged) on the surface 3 a of the sensor chip 3 via an adhesive (adhesive layer, adhesive, adhesive layer) 11 and fixed, and the optical component 5 is optically mounted on the optical component 5. The component 6 is mounted (arranged) and fixed via an adhesive (adhesive layer, adhesive, adhesive layer) 12. The adhesive 11 and the adhesive 12 are light-transmitting adhesives (so-called transparent adhesives) that transmit light, and are in a cured state. Since the adhesives 11 and 12 are translucent adhesives (transparent adhesives), the incidence of light on the sensor surface SE of the sensor chip 3 is inhibited (obstructed) by the adhesives 11 and 12. Can be prevented. Adhesives 11 and 12 and adhesives 11a and 12a described later are almost transparent because they have translucency (light transmissivity).

光学部品5,6のうち、上側(センサチップ3の表面3aから遠い側)の光学部品(マイクロレンズ)6は、レンズとして機能する光学部品である。但し、本実施の形態における光学部品6は、全体で1つのレンズとして機能するのではなく、複数のレンズ部13を有している。光学部品6は、複数のレンズ部13が形成された側の主面である表面(レンズ部形成面)6aと、表面6aとは反対側の主面である裏面とを有しており、光学部品6の裏面が、接着材12を介して光学部品5と接着されている。   Of the optical components 5 and 6, the optical component (microlens) 6 on the upper side (the side far from the surface 3a of the sensor chip 3) is an optical component that functions as a lens. However, the optical component 6 in the present embodiment does not function as a single lens as a whole but has a plurality of lens portions 13. The optical component 6 has a front surface (lens portion forming surface) 6a which is a main surface on the side where the plurality of lens portions 13 are formed, and a back surface which is a main surface opposite to the front surface 6a. The back surface of the component 6 is bonded to the optical component 5 via the adhesive 12.

光学部品6は、光を透過する透光性の材料(透明材料)により形成されている。図9および図10(a)からも分かるように、光学部品6の表面6aには、複数のレンズ部13が光学部品6の主面に沿って縦横方向に(すなわちアレイ状に)規則的に並んで形成(配置)されている。光学部品6の表面6aにアレイ状に配置された複数のレンズ部13は、センサチップ3のセンサ面SEにアレイ状に配置された複数の受光素子PHと対応(一対一対応)しており、センサチップ3のセンサ面SEにおける受光素子PHの配列ピッチ(配列間隔)Pと、光学部品6の表面6aにおけるレンズ部13の配列ピッチ(配列間隔)Pとは、同じである(すなわちP=P)。 The optical component 6 is formed of a translucent material (transparent material) that transmits light. As can be seen from FIG. 9 and FIG. 10A, a plurality of lens portions 13 are regularly arranged on the surface 6 a of the optical component 6 in the vertical and horizontal directions (that is, in an array) along the main surface of the optical component 6. They are formed (arranged) side by side. The plurality of lens portions 13 arranged in an array on the surface 6a of the optical component 6 correspond (a one-to-one correspondence) with the plurality of light receiving elements PH arranged in an array on the sensor surface SE of the sensor chip 3. The arrangement pitch (arrangement interval) P 1 of the light receiving elements PH on the sensor surface SE of the sensor chip 3 and the arrangement pitch (arrangement interval) P 3 of the lens portion 13 on the surface 6a of the optical component 6 are the same (that is, P 1 = P 3 ).

光学部品6の表面6aに形成されている複数のレンズ部13のそれぞれが1つのレンズとして機能する。すなわち、光学部品6の表面6aに形成されている複数のレンズ部13は、それぞれ別々のレンズとして機能する。各レンズ部13は、アクリル樹脂などの透光性の材料(透明材料)が凸レンズ状に加工されたものである。   Each of the plurality of lens portions 13 formed on the surface 6a of the optical component 6 functions as one lens. That is, the plurality of lens portions 13 formed on the surface 6a of the optical component 6 each function as a separate lens. Each lens portion 13 is formed by processing a translucent material (transparent material) such as acrylic resin into a convex lens shape.

光学部品6は、例えば平板状のガラス部材(ガラス基材、ガラス板)をベース層(基材層)14とし、この透光性を有するベース層14の表面および裏面(この表面および裏面は互いに反対側の主面である)のうち、その表面(ベース層14の表面)に、アクリル樹脂などで複数のレンズ部13を形成したものとすることができる。この場合、例えば、ベース層14の厚みは0.25mm程度、レンズ部13の厚み(レンズ部13の中央部の厚み)は40μm程度とすることができる。また、他の形態として、ベース層14をアクリル樹脂に置き換え、ベース層14とレンズ部13とを合わせた光学部品6全体をアクリル樹脂により形成することもできる。レンズ部13をアクリル樹脂とすることで、レンズ部13の加工が容易となる。アクリル樹脂は、レンズ部13の材料として好適であるが、耐熱温度が比較的低く、90℃程度である。   The optical component 6 includes, for example, a flat glass member (glass base material, glass plate) as a base layer (base material layer) 14, and the surface and the back surface of the base layer 14 having translucency (the front surface and the back surface are mutually connected). The plurality of lens portions 13 may be formed of an acrylic resin or the like on the surface (the surface of the base layer 14) of the main surface on the opposite side. In this case, for example, the thickness of the base layer 14 can be about 0.25 mm, and the thickness of the lens portion 13 (the thickness of the central portion of the lens portion 13) can be about 40 μm. As another form, the base layer 14 may be replaced with an acrylic resin, and the entire optical component 6 including the base layer 14 and the lens portion 13 may be formed of the acrylic resin. By making the lens part 13 into an acrylic resin, the processing of the lens part 13 becomes easy. Acrylic resin is suitable as a material for the lens portion 13, but has a relatively low heat-resistant temperature and is about 90 ° C.

光学部品5,6のうち、下側(センサチップ3の表面3aに近い側)の光学部品(遮光材)5は、センサチップ3のセンサ面SEに形成されている複数の受光素子PHに不要な光が入射するのを防止(遮蔽)する遮光材として機能する光学部品である。光学部品5は、遮光層(遮光膜)15が形成された側の主面である表面(遮光膜形成面)5aと、表面5aとは反対側の主面である裏面とを有しており、光学部品5の裏面が、接着材11を介してセンサチップ3の表面3aと接着され、光学部品5の表面5aが、接着材12を介して光学部品6の裏面と接着されている。   Of the optical components 5 and 6, the lower optical component (light shielding material) 5 (side closer to the surface 3 a of the sensor chip 3) is not necessary for the plurality of light receiving elements PH formed on the sensor surface SE of the sensor chip 3. It is an optical component that functions as a light shielding material that prevents (shields) incident light. The optical component 5 has a surface (light-shielding film forming surface) 5a which is a main surface on the side where the light-shielding layer (light-shielding film) 15 is formed, and a back surface which is a main surface opposite to the surface 5a. The back surface of the optical component 5 is bonded to the front surface 3a of the sensor chip 3 through the adhesive material 11, and the front surface 5a of the optical component 5 is bonded to the back surface of the optical component 6 through the adhesive material 12.

光学部品5の表面5aには、遮光層15が形成されているが、この遮光層15は、光学部品5の表面5a全体に形成されているが、遮光層15には、光学領域となる複数の開口部(光学領域)16が設けられている。光学部品5は、遮光層15以外の部分(すなわちベース層17)は、光を透過する透光性の材料(透明材料)により形成されており、一方、遮光層15は、光を透過しない(すなわち光の透過を防ぐまたは光を反射する)遮光性の材料により形成されている。このため、各開口部16は、光学領域として機能し、光を透過する領域として機能することができる。光学領域として複数の開口部16を有する遮光層15を備えた光学部品5は、斜め方向からの光が受光素子PHに入射するのを防止するように機能することができる。   A light shielding layer 15 is formed on the surface 5a of the optical component 5. The light shielding layer 15 is formed on the entire surface 5a of the optical component 5, and the light shielding layer 15 includes a plurality of optical regions. The opening (optical region) 16 is provided. In the optical component 5, the portion other than the light shielding layer 15 (that is, the base layer 17) is formed of a light transmissive material (transparent material) that transmits light, while the light shielding layer 15 does not transmit light ( That is, it is made of a light-shielding material that prevents transmission of light or reflects light. For this reason, each opening part 16 functions as an optical area | region, and can function as an area | region which permeate | transmits light. The optical component 5 including the light shielding layer 15 having a plurality of openings 16 as an optical region can function to prevent light from an oblique direction from entering the light receiving element PH.

具体的には、光学部品5は、例えば平板状のガラス部材(ガラス基材、ガラス板)をベース層(基材層)17とし、この透光性を有するベース層17の表面および裏面(この表面および裏面は互いに反対側の主面である)のうち、その表面(ベース層17の表面)に、クロム(Cr)膜などの金属膜により遮光層15を形成したものとすることができる。この場合、例えば、ベース層17の厚みは150μm程度、遮光層15の厚みは数μm程度とすることができる。   Specifically, the optical component 5 includes, for example, a flat glass member (glass base material, glass plate) as a base layer (base material layer) 17, and the front and back surfaces of the base layer 17 having translucency (this The light shielding layer 15 may be formed of a metal film such as a chromium (Cr) film on the front surface (the surface of the base layer 17) of the front surface and the back surface. In this case, for example, the thickness of the base layer 17 can be about 150 μm, and the thickness of the light shielding layer 15 can be about several μm.

光学部品5,6は、それぞれセンサ面SEよりも若干大きな平面形状および平面寸法を有しており、センサチップ3上に光学部品5,6が下から順に搭載された状態において、各光学部品5,6は、平面視でセンサ面SEを内包し、かつパッド電極PDを露出している。すなわち、平面視でセンサ面SE全体が光学部品5で覆われ、かつ、平面視でセンサ面SE全体が光学部品6で覆われ、一方、パッド電極PDは平面視で光学部品5,6と重ならない(光学部品5,6で覆われない)状態となっている。   Each of the optical components 5 and 6 has a slightly larger planar shape and planar dimensions than the sensor surface SE, and the optical components 5 and 6 are mounted on the sensor chip 3 in order from the bottom. , 6 enclose the sensor surface SE in plan view and expose the pad electrode PD. That is, the entire sensor surface SE is covered with the optical component 5 in plan view, and the entire sensor surface SE is covered with the optical component 6 in plan view, while the pad electrode PD overlaps with the optical components 5 and 6 in plan view. (Not covered by the optical components 5 and 6).

光学部品5と光学部品6とは、ほぼ同じ平面形状および平面寸法とすることができる。また、センサチップ3およびセンサ面SEのそれぞれの平面形状は例えば四角形(より特定的には長方形)であり、この場合、光学部品5,6は、センサ面SEよりも若干大きな四角形(より特定的には長方形)とすることができる。また、各光学部品5,6は、その光学部品の3つの辺(パッド電極PD側の辺以外の3つの辺)が、センサチップ3の3つの辺(パッド電極PD側の辺以外の3つの辺)とほぼ整合するような平面形状および平面寸法とすることができ、これにより、スペーサSP1,SP2の配置領域を確保しつつ、センサモジュールの小面積化にも有利になる。   The optical component 5 and the optical component 6 can have substantially the same planar shape and planar dimensions. In addition, the planar shape of each of the sensor chip 3 and the sensor surface SE is, for example, a quadrangle (more specifically, a rectangle), and in this case, the optical components 5 and 6 are slightly larger than the sensor surface SE (more specific). Can be rectangular). Each of the optical components 5 and 6 has three sides (three sides other than the side on the pad electrode PD side) of the optical component, and three sides (three sides other than the side on the pad electrode PD side) of the sensor chip 3. It is possible to obtain a planar shape and a planar dimension that substantially match the side), which is advantageous in reducing the area of the sensor module while securing the arrangement area of the spacers SP1 and SP2.

センサモジュールMJ1では、センサチップ3の表面3a上に接着材11を介して光学部品5が搭載され、その光学部品5上に接着材12を介して光学部品6が搭載されているが、図6および図11からも分かるように、センサチップ3のセンサ面SEの各受光素子PHと、光学部品5の遮光層15の各開口部16と、光学部品6の各レンズ部13とが、平面的に見て(すなわち平面視で)重なるように、光学部品5,6が搭載されている。このため、光学部品6の各レンズ部13により集光された光が、光学部品5の遮光層15の各開口部16を経由(通過)して、センサチップ3の表面3aのセンサ面SEの各受光素子PHに入射されるようになっている。   In the sensor module MJ1, the optical component 5 is mounted on the surface 3a of the sensor chip 3 via the adhesive 11, and the optical component 6 is mounted on the optical component 5 via the adhesive 12. As can be seen from FIG. 11, each light receiving element PH of the sensor surface SE of the sensor chip 3, each opening 16 of the light shielding layer 15 of the optical component 5, and each lens portion 13 of the optical component 6 are planar. The optical components 5 and 6 are mounted so as to overlap each other (that is, in plan view). For this reason, the light condensed by each lens portion 13 of the optical component 6 passes (passes) through each opening portion 16 of the light shielding layer 15 of the optical component 5 and passes through (opens) the sensor surface SE of the surface 3 a of the sensor chip 3. The light is incident on each light receiving element PH.

光学部品5の遮光層15の各開口部16は、光学部品6の各レンズ部13により集光された光を通過させて、センサチップ3の表面3aのセンサ面SEの各受光素子PHに入射させるように機能することができる。一方、光学部品5の遮光層15自身は、半導体チップ3の表面3aのセンサ面SEの各受光素子PHに対して斜め方向(センサチップ3の表面3aに垂直な方向から所定の角度以上傾斜した方向)に光が入射するのを防止するよう機能することができる。このため、光学部品6の任意のレンズ部13を通過した光は、そのレンズ部13の直下に位置する開口部16を通過してそのレンズ部13の直下に位置する受光素子PHに入射することはできるが、そのレンズ部13の直下に位置しない受光素子PHには入射することはできなくなる。これにより、1つの受光素子PHに入射するのは、1つのレンズ部13によって集光された光だけとすることができる。   The openings 16 of the light shielding layer 15 of the optical component 5 allow the light collected by the lens portions 13 of the optical component 6 to pass through and enter the light receiving elements PH on the sensor surface SE of the surface 3 a of the sensor chip 3. Can function. On the other hand, the light shielding layer 15 itself of the optical component 5 is inclined with respect to each light receiving element PH on the sensor surface SE of the surface 3a of the semiconductor chip 3 (inclined by a predetermined angle or more from the direction perpendicular to the surface 3a of the sensor chip 3). It can function to prevent light from entering in the direction). For this reason, the light that has passed through the arbitrary lens portion 13 of the optical component 6 passes through the opening portion 16 located immediately below the lens portion 13 and enters the light receiving element PH located directly below the lens portion 13. However, it cannot enter the light receiving element PH that is not directly below the lens unit 13. Thereby, only the light condensed by one lens part 13 can be incident on one light receiving element PH.

センサチップ3のセンサ面SEにおける受光素子PHの配列(配列の仕方)と、光学部品5の表面5aにおける遮光層15の開口部16の配列(配列の仕方)と、光学部品6の表面6aにおけるレンズ部13の配列(配列の仕方)とは、基本的には同じである。すなわち、センサチップ3のセンサ面SEにおける受光素子PHの配列ピッチ(配列間隔)Pと、光学部品5の表面5aにおける遮光層15の開口部16の配列ピッチ(配列間隔)Pと、光学部品6の表面6aにおけるレンズ部13の配列ピッチ(配列間隔)Pとは、同じである(すなわちP=P=P)。これら配列ピッチP,P,Pは、例えば100μm程度(この場合P=P=P=100μmとなる)とすることができる。また、センサチップ3のセンサ面SEに100行×150列の合計15000個の受光素子PHが配列(配置)している場合は、これに対応して、光学部品5の表面5aの遮光層15には、100行×150列の合計15000個の開口部16が設けられ、光学部品6の表面6aには、100行×150列の合計15000個のレンズ部13が設けられている。 The arrangement (how to arrange) the light receiving elements PH on the sensor surface SE of the sensor chip 3, the arrangement (how to arrange) the openings 16 of the light shielding layer 15 on the surface 5 a of the optical component 5, and the surface 6 a of the optical component 6. The arrangement (how to arrange) of the lens portions 13 is basically the same. That is, the arrangement pitch (the arrangement interval) P 1 of the light receiving element PH in the sensor plane SE of the sensor chip 3, the arrangement pitch (the arrangement interval) P 2 of the openings 16 of the light shielding layer 15 on the surface 5a of the optical component 5, optical the arrangement pitch (the arrangement interval) P 3 of the lens unit 13 in the surface 6a of the part 6, is the same (i.e. P 1 = P 2 = P 3 ). These arrangement pitches P 1 , P 2 , and P 3 can be, for example, about 100 μm (in this case, P 1 = P 2 = P 3 = 100 μm). When a total of 15000 light receiving elements PH of 100 rows × 150 columns are arranged (arranged) on the sensor surface SE of the sensor chip 3, the light shielding layer 15 on the surface 5a of the optical component 5 is correspondingly arranged. Are provided with a total of 15000 openings 16 of 100 rows × 150 columns, and the surface 6 a of the optical component 6 is provided with a total of 15000 lens portions 13 of 100 rows × 150 columns.

このため、配線基板2上にセンサチップ3を搭載し、そのセンサチップ3上に光学部品5を搭載し、その光学部品5上に光学部品6を搭載したセンサモジュールMJ1においては、センサチップ3のセンサ面SEの各受光素子PHと、光学部品5の遮光層15の各開口部16と、光学部品6のレンズ部13とは、上下方向(センサチップ3の表面3aに垂直な方向)に並んでいる。センサチップ3のセンサ面SEの各受光素子PHの中心線と、光学部品5の遮光層15の各開口部16の中心線と、光学部品6のレンズ部13の中心線とは、好ましくは、ほぼ一致している。そうすることで、光学部品6の各レンズ部13により集光された光が、光学部品5の遮光層15の各開口部16を経由して、センサチップ3の表面3aのセンサ面SEの各受光素子PHに的確に入射されるようになる。   Therefore, in the sensor module MJ1 in which the sensor chip 3 is mounted on the wiring board 2, the optical component 5 is mounted on the sensor chip 3, and the optical component 6 is mounted on the optical component 5, the sensor chip 3 Each light receiving element PH on the sensor surface SE, each opening 16 of the light shielding layer 15 of the optical component 5, and the lens portion 13 of the optical component 6 are aligned in the vertical direction (direction perpendicular to the surface 3a of the sensor chip 3). It is out. The center line of each light receiving element PH on the sensor surface SE of the sensor chip 3, the center line of each opening 16 of the light shielding layer 15 of the optical component 5, and the center line of the lens portion 13 of the optical component 6 are preferably It almost matches. By doing so, the light collected by each lens portion 13 of the optical component 6 passes through each opening 16 of the light shielding layer 15 of the optical component 5, and each sensor surface SE of the surface 3 a of the sensor chip 3. The light enters the light receiving element PH accurately.

また、センサチップ3上に光学部品5が搭載されたセンサモジュールMJ1において、図6および図11にも示されるように、センサチップ3のセンサ面SEの各受光素子PHが、光学部品5の遮光層15の各開口部16に、平面的に見て(すなわち平面視で)内包されることが好ましい。これは、各受光素子PHに入射すべき光が遮光層15で遮られてしまうのを防止するためである。このため、光学部品5の表面5aにおける遮光層15の各開口部16の寸法は、センサチップ3の表面3aの表面保護膜における受光素子PH用の各開口部(センサチップ3の表面保護膜に形成された開口部であって受光素子PHの上部に形成されて受光素子PHへの光の入射を可能とする開口部)の寸法よりも大きいことが好ましい。ここで、開口部の寸法は、開口部が正方形の場合は一辺の長さに対応し、開口部が円形の場合は直径に対応する。例えば、光学部品5の表面5aにおける遮光層15の各開口部16を、直径または一辺が27μm程度の円形または矩形とし、センサチップ3の表面保護膜における受光素子PH用の各開口部を、直径または一辺が10μm程度の円形または矩形とすることができる。   Further, in the sensor module MJ1 in which the optical component 5 is mounted on the sensor chip 3, each light receiving element PH on the sensor surface SE of the sensor chip 3 is shielded from the optical component 5 as shown in FIGS. Each opening 16 of the layer 15 is preferably included in a plan view (that is, in a plan view). This is to prevent the light to be incident on each light receiving element PH from being blocked by the light shielding layer 15. For this reason, the dimension of each opening 16 of the light shielding layer 15 on the surface 5a of the optical component 5 is such that each opening for the light receiving element PH in the surface protective film on the surface 3a of the sensor chip 3 (on the surface protective film of the sensor chip 3). It is preferable that the size of the formed opening is larger than the dimension of the opening formed above the light receiving element PH and allowing light to enter the light receiving element PH. Here, the dimension of the opening corresponds to the length of one side when the opening is square, and corresponds to the diameter when the opening is circular. For example, each opening 16 of the light shielding layer 15 on the surface 5a of the optical component 5 is formed into a circle or a rectangle having a diameter or a side of about 27 μm, and each opening for the light receiving element PH in the surface protective film of the sensor chip 3 is formed with a diameter. Alternatively, it may be a circle or a rectangle having a side of about 10 μm.

また、センサチップ3上に光学部品5,6が搭載されたセンサモジュールMJ1において、図6および図11にも示されるように、センサチップ3のセンサ面SEの各受光素子PHおよび光学部品5の遮光層15の各開口部16が、光学部品6の各レンズ部13に、平面的に見て(すなわち平面視で)内包されることが好ましい。   Further, in the sensor module MJ1 in which the optical components 5 and 6 are mounted on the sensor chip 3, as shown in FIGS. 6 and 11, the light receiving elements PH on the sensor surface SE of the sensor chip 3 and the optical components 5 Each opening 16 of the light shielding layer 15 is preferably included in each lens portion 13 of the optical component 6 in plan view (that is, in plan view).

また、本実施の形態のセンサモジュールMJ1においては、センサチップ3の表面3aに接着材11を介して光学部品5が接着されているが、センサチップ3の表面3aと光学部品5の裏面との間には、接着材11だけでなく、複数のスペーサSP1も介在している。また、光学部品5の表面5aに接着材12を介して光学部品6が接着されているが、光学部品5の表面5aと光学部品6の裏面との間には、接着材12だけでなく、複数のスペーサSP2も介在している。   Further, in the sensor module MJ1 of the present embodiment, the optical component 5 is bonded to the surface 3a of the sensor chip 3 via the adhesive material 11, but the surface 3a of the sensor chip 3 and the back surface of the optical component 5 are Between them, not only the adhesive 11 but also a plurality of spacers SP1 are interposed. In addition, the optical component 6 is bonded to the surface 5a of the optical component 5 via the adhesive 12, but not only the adhesive 12 between the surface 5a of the optical component 5 and the back surface of the optical component 6, A plurality of spacers SP2 are also interposed.

後述するように、スペーサSP1は、センサチップ3の表面3aと光学部品5の裏面との間の間隔を規定するためと、製造時に光学部品5を仮固定するために設けられたものであり、硬化した接着材からなるが、接着材11とは別工程で形成されている。また、スペーサSP2は、光学部品5の表面5aと光学部品6の裏面との間の間隔を規定するためと、製造時に光学部品6を仮固定するために設けられたものであり、硬化した接着材からなるが、接着材12とは別工程で形成されている。   As will be described later, the spacer SP1 is provided to define the distance between the front surface 3a of the sensor chip 3 and the back surface of the optical component 5 and to temporarily fix the optical component 5 during manufacturing. Although it consists of a hardened adhesive, it is formed in a separate process from the adhesive 11. The spacer SP2 is provided to define the distance between the front surface 5a of the optical component 5 and the back surface of the optical component 6 and to temporarily fix the optical component 6 during manufacturing. Although made of a material, it is formed in a separate process from the adhesive 12.

<センサモジュールの製造工程について>
次に、本実施の形態のセンサモジュールMJ1の製造工程について説明する。
<About sensor module manufacturing process>
Next, the manufacturing process of the sensor module MJ1 of the present embodiment will be described.

図12は、本実施の形態のセンサモジュールMJ1の製造工程を示す製造プロセスフロー図である。図13は、センサモジュールMJ1の製造工程のうち、ステップS5のスペーサSP1形成工程の詳細を示すプロセスフロー図である。図14は、センサモジュールMJ1の製造工程のうち、ステップS6の光学部品搭載工程の詳細を示すプロセスフロー図である。図15は、センサモジュールMJ1の製造工程のうち、ステップS7のスペーサSP2形成工程の詳細を示すプロセスフロー図である。図16は、センサモジュールMJ1の製造工程のうち、ステップS8の光学部品搭載工程の詳細を示すプロセスフロー図である。図17は、センサモジュールMJ1の製造に用いる配線基板2の上面図であり、図18〜図20は、その断面図である。図17のA1−A1線の断面が図18(A1−A1断面図)にほぼ対応し、図17のB1−B1線の断面が図19(B1−B1断面図)にほぼ対応し、図17のC1−C1線の断面が図20(C1−C1断面図)にほぼ対応している。なお、図17におけるA1−A1線、B1−B1線およびC1−C1線の位置は、上記図1におけるA1−A1線、B1−B1線およびC1−C1線の位置にそれぞれ対応している。また、図21〜図70は、本実施の形態のセンサモジュールMJ1の製造工程中の平面図または断面図あるいは説明図である。   FIG. 12 is a manufacturing process flowchart showing the manufacturing process of the sensor module MJ1 of the present embodiment. FIG. 13 is a process flow diagram showing details of the spacer SP1 formation process in step S5 in the manufacturing process of the sensor module MJ1. FIG. 14 is a process flow diagram showing details of the optical component mounting step of step S6 in the manufacturing process of the sensor module MJ1. FIG. 15 is a process flow diagram showing details of the spacer SP2 formation step of Step S7 in the manufacturing process of the sensor module MJ1. FIG. 16 is a process flow diagram showing details of the optical component mounting step of Step S8 in the manufacturing process of the sensor module MJ1. FIG. 17 is a top view of the wiring board 2 used for manufacturing the sensor module MJ1, and FIGS. 18 to 20 are cross-sectional views thereof. 17 corresponds substantially to FIG. 18 (A1-A1 cross-sectional view), and the cross-section taken along line B1-B1 of FIG. 17 corresponds to FIG. 19 (B1-B1 cross-sectional view). The section taken along line C1-C1 substantially corresponds to FIG. 20 (C1-C1 sectional view). Note that the positions of the A1-A1, B1-B1 and C1-C1 lines in FIG. 17 correspond to the positions of the A1-A1, B1-B1 and C1-C1 lines in FIG. 21 to 70 are plan views, cross-sectional views, or explanatory views during the manufacturing process of the sensor module MJ1 of the present embodiment.

センサモジュールMJ1を製造するには、まず、図17〜図20に示されるような配線基板2を用意する(図12のステップS1)。配線基板2の基本的な構成は上述したので、ここではその詳細な説明は省略する。   In order to manufacture the sensor module MJ1, first, the wiring board 2 as shown in FIGS. 17 to 20 is prepared (step S1 in FIG. 12). Since the basic configuration of the wiring board 2 has been described above, a detailed description thereof is omitted here.

簡単に説明すれば、図17〜図20に示されるように、配線基板2は、上面2aおよび上面2aとは反対側の下面2bを有しており、配線基板2の上面2aには、電極として、ワイヤボンディング用の複数のボンディングリードBLと、電子部品4接続用の複数の端子TE1と、コネクタCNT接続用の複数の端子TE2とが形成されている。   Briefly described, as shown in FIGS. 17 to 20, the wiring board 2 has an upper surface 2a and a lower surface 2b opposite to the upper surface 2a. As shown, a plurality of bonding leads BL for wire bonding, a plurality of terminals TE1 for connecting the electronic component 4, and a plurality of terminals TE2 for connecting the connector CNT are formed.

図17〜図20に示されるような配線基板2を用意(準備)した後、図21〜図24に示されるように、配線基板2の上面2aに、センサチップ3、電子部品4およびコネクタCNTを実装(搭載)する(図12のステップS2)。なお、センサチップ3の具体的な構成については、既に上述しているので、ここではその繰り返しの説明は省略する。   After preparing (preparing) the wiring board 2 as shown in FIGS. 17 to 20, the sensor chip 3, the electronic component 4 and the connector CNT are formed on the upper surface 2a of the wiring board 2 as shown in FIGS. Is mounted (mounted) (step S2 in FIG. 12). Since the specific configuration of the sensor chip 3 has already been described above, the repeated description thereof will be omitted here.

ここで、図21(上面図)、図22(A1−A1断面図)、図23(B1−B1断面図)および図24(C1−C1断面図)は、上記図17、図18、図19および図20にそれぞれ対応する上面図、断面図、断面図および断面図であり、ステップS2(実装工程)が行われた段階(状態)が示されている。   Here, FIG. 21 (top view), FIG. 22 (A1-A1 cross-sectional view), FIG. 23 (B1-B1 cross-sectional view) and FIG. 24 (C1-C1 cross-sectional view) are the same as FIGS. FIG. 21 is a top view, a cross-sectional view, a cross-sectional view, and a cross-sectional view corresponding to FIGS. 20A and 20B, respectively, showing a stage (state) where step S2 (mounting process) is performed.

ステップS2における各種部品(センサチップ3、電子部品4およびコネクタCNT)の実装工程の一例を具体的に説明すると、次のように行うことができる。   A specific example of the mounting process of various components (sensor chip 3, electronic component 4 and connector CNT) in step S2 can be described as follows.

まず、配線基板2の上面2aにおけるセンサチップ3、電子部品4およびコネクタCNTを搭載予定の領域(より特定的には、センサチップ3搭載時にセンサチップ3の裏面3bに対向する領域と、端子TE1,TE2上の領域)に接合材(半田など)を塗布または印刷する。それから、配線基板2の上面2aに、センサチップ3、電子部品4およびコネクタCNTを搭載する。この際、センサチップ3は、裏面3b側が下方(配線基板2側)を向き、表面3a側が上方を向くように、配線基板2の上面2aに搭載される(フェイスアップボンディング)。すなわち、ステップS2において、センサチップ3は、センサチップ3の裏面3bが配線基板2の上面2aと対向するように、配線基板2の上面2aに搭載される。また、電子部品4がメモリチップのような半導体チップを含んでいる場合は、その半導体チップは、その半導体チップの半田バンプ(バンプ電極)が端子TE1に対向するように配線基板2の上面2a上に配置する。それから、半田リフロー処理などを行って、センサチップ3、電子部品4およびコネクタCNTを配線基板2に半田などの接合材を介して固着(固定)する。このようにして、配線基板2の上面2aに、センサチップ3、電子部品4およびコネクタCNTを実装(搭載)することができる。   First, a region on which the sensor chip 3, the electronic component 4, and the connector CNT are to be mounted on the upper surface 2a of the wiring board 2 (more specifically, a region facing the back surface 3b of the sensor chip 3 when the sensor chip 3 is mounted, and a terminal TE1. , The region on TE2) is applied or printed with a bonding material (solder or the like). Then, the sensor chip 3, the electronic component 4, and the connector CNT are mounted on the upper surface 2a of the wiring board 2. At this time, the sensor chip 3 is mounted on the upper surface 2a of the wiring substrate 2 (face-up bonding) so that the back surface 3b side faces downward (wiring substrate 2 side) and the front surface 3a side faces upward. That is, in step S2, the sensor chip 3 is mounted on the upper surface 2a of the wiring board 2 so that the back surface 3b of the sensor chip 3 faces the upper surface 2a of the wiring board 2. When the electronic component 4 includes a semiconductor chip such as a memory chip, the semiconductor chip is placed on the upper surface 2a of the wiring board 2 so that the solder bump (bump electrode) of the semiconductor chip faces the terminal TE1. To place. Then, a solder reflow process or the like is performed, and the sensor chip 3, the electronic component 4, and the connector CNT are fixed (fixed) to the wiring board 2 via a bonding material such as solder. In this way, the sensor chip 3, the electronic component 4, and the connector CNT can be mounted (mounted) on the upper surface 2a of the wiring board 2.

また、センサチップ3の実装工程(ダイボンディング工程)と電子部品4の実装工程とを別工程とすることもでき、この場合、センサチップ3を実装するための接合材(ダイボンディング材)と電子部品4やコネクタCNTを実装するための接合材とに、異なる種類の接合材を用いることもできる。例えば、センサチップ3用のダイボンディング材として、導電性ペースト型接着材(例えば銀ペースト)または絶縁性ペースト型接着材などの熱硬化型のペースト材を用い、電子部品4およびコネクタCNT用の接合材として半田を用いることができる。   Also, the mounting process of the sensor chip 3 (die bonding process) and the mounting process of the electronic component 4 can be made separate processes. In this case, the bonding material (die bonding material) for mounting the sensor chip 3 and the electronic Different types of bonding materials can be used as the bonding material for mounting the component 4 and the connector CNT. For example, as a die bonding material for the sensor chip 3, a thermosetting paste material such as a conductive paste adhesive (for example, silver paste) or an insulating paste adhesive is used to bond the electronic component 4 and the connector CNT. Solder can be used as the material.

ステップS2の実装工程により、センサチップ3は、配線基板2(の上面2a)に接合材(ダイボンディング材)10aにより固定(固着)される。また、電子部品4のうちの受動部品(チップ部品)は、その受動部品(チップ部品)の電極が、接合材10b(例えば半田)を介して、配線基板2の端子TE1に電気的に接続されるとともに機械的に接続(固定)される。また、電子部品4としてメモリチップのような半導体チップがもしあれば、その半導体チップの半田バンプが配線基板2の端子TE1に電気的に接続されるとともに機械的に接続(固定)される。また、コネクタCNTは、接合材10c(例えば半田)を介して配線基板2の端子TE2に電気的に接続されるとともに機械的に接続(固定)される。   Through the mounting process in step S2, the sensor chip 3 is fixed (fixed) to the wiring board 2 (the upper surface 2a thereof) with a bonding material (die bonding material) 10a. In addition, the passive component (chip component) of the electronic component 4 has the electrode of the passive component (chip component) electrically connected to the terminal TE1 of the wiring board 2 via the bonding material 10b (for example, solder). And mechanically connected (fixed). Further, if there is a semiconductor chip such as a memory chip as the electronic component 4, the solder bump of the semiconductor chip is electrically connected to the terminal TE1 of the wiring board 2 and mechanically connected (fixed). Further, the connector CNT is electrically connected to the terminal TE2 of the wiring board 2 via a bonding material 10c (for example, solder) and mechanically connected (fixed).

このようにして、配線基板2の上面2aにセンサチップ3、電子部品4およびコネクタCNTが実装されて固定されるとともに、各電子部品4の各電極が、それに接続すべき配線基板2の上面2aの各端子TE1に電気的に接続され、また、コネクタCNTの各端子TE3が、配線基板2の各端子TE2に電気的に接続される。   In this way, the sensor chip 3, the electronic component 4 and the connector CNT are mounted and fixed on the upper surface 2a of the wiring board 2, and each electrode of each electronic component 4 is connected to the upper surface 2a of the wiring board 2 to be connected thereto. The terminals TE3 of the connector CNT are electrically connected to the terminals TE2 of the wiring board 2, respectively.

ステップS2の各種部品(センサチップ3、電子部品4およびコネクタCNT)の実装工程の後、図25〜図28に示されるように、ワイヤボンディング工程を行って、センサチップ3の表面3aの複数のパッド電極PDと配線基板2の上面2aの複数のボンディングリードBLとを複数のボンディングワイヤBWを介してそれぞれ電気的に接続する(図12のステップS3)。この際、各ボンディングワイヤBWは、一方の端部がセンサチップ3のパッド電極PDに接続され、他方の端部が配線基板2のボンディングリードBLに接続される。   After the mounting process of various components (sensor chip 3, electronic component 4 and connector CNT) in step S2, a wire bonding process is performed as shown in FIGS. The pad electrode PD and the plurality of bonding leads BL on the upper surface 2a of the wiring board 2 are electrically connected to each other through the plurality of bonding wires BW (step S3 in FIG. 12). At this time, each bonding wire BW has one end connected to the pad electrode PD of the sensor chip 3 and the other end connected to the bonding lead BL of the wiring board 2.

ここで、図25(上面図)、図26(A1−A1断面図)、図27(B1−B1断面図)および図28(C1−C1断面図)は、上記図17、図18、図19および図20にそれぞれ対応する上面図、断面図、断面図および断面図であり、ステップS3(ワイヤボンディング工程)が行われた段階(状態)が示されている。   Here, FIG. 25 (top view), FIG. 26 (A1-A1 cross-sectional view), FIG. 27 (B1-B1 cross-sectional view) and FIG. 28 (C1-C1 cross-sectional view) are shown in FIGS. FIG. 21 is a top view, a cross-sectional view, a cross-sectional view, and a cross-sectional view corresponding to FIGS. 20A and 20B, respectively, showing a stage (state) in which step S3 (wire bonding step) is performed.

ステップS3のワイヤボンディング工程の後、図29〜図32に示されるように、配線基板2の上面2a上に封止部7を形成する(図12のステップS4)。   After the wire bonding process in step S3, as shown in FIGS. 29 to 32, the sealing portion 7 is formed on the upper surface 2a of the wiring board 2 (step S4 in FIG. 12).

ここで、図29(上面図)、図30(A1−A1断面図)、図31(B1−B1断面図)および図32(C1−C1断面図)は、上記図17、図18、図19および図20にそれぞれ対応する上面図、断面図、断面図および断面図であり、ステップS4(封止部7形成工程)が行われた段階(状態)が示されている。   Here, FIG. 29 (top view), FIG. 30 (A1-A1 cross-sectional view), FIG. 31 (B1-B1 cross-sectional view) and FIG. 32 (C1-C1 cross-sectional view) are the same as FIGS. FIG. 21 is a top view, a cross-sectional view, a cross-sectional view, and a cross-sectional view corresponding to FIGS.

ステップS4の封止部7形成工程は、例えば次のようにして行うことができる。まず、配線基板2の上面2a上に、複数のボンディングワイヤBWを覆うように、封止部7形成用の材料(樹脂材料)を供給(配置)する。この封止部7形成用の材料(樹脂材料)は、例えば熱硬化性樹脂材料などの樹脂材料からなり、フィラーなどを含有することもできる。例えばエポキシ樹脂またはシリコーン樹脂などを封止部7形成用の材料(樹脂材料)として用いることができる。それから、封止部7形成用の材料(樹脂材料)を硬化させる。封止部7形成用の材料(樹脂材料)が熱硬化性の樹脂の場合、熱処理(加熱処理)を行うことにより、封止部7形成用の材料(樹脂材料)を硬化させることができる。これにより、硬化した樹脂材料(封止部7形成用の樹脂材料)からなる封止部7が形成される。   The sealing part 7 formation process of step S4 can be performed as follows, for example. First, a material (resin material) for forming the sealing portion 7 is supplied (arranged) on the upper surface 2a of the wiring board 2 so as to cover the plurality of bonding wires BW. The material (resin material) for forming the sealing portion 7 is made of a resin material such as a thermosetting resin material, and can contain a filler or the like. For example, an epoxy resin or a silicone resin can be used as a material (resin material) for forming the sealing portion 7. Then, the material (resin material) for forming the sealing portion 7 is cured. When the material (resin material) for forming the sealing portion 7 is a thermosetting resin, the material (resin material) for forming the sealing portion 7 can be cured by performing heat treatment (heat treatment). Thereby, the sealing part 7 made of a cured resin material (resin material for forming the sealing part 7) is formed.

ステップS4において、封止部7はボンディングワイヤBWを覆うように(すなわちボンディングワイヤBWが露出されないように)形成される。これにより、センサチップ3のパッド電極PDとボンディングワイヤBWとの接続部、配線基板2のボンディングリードBLとボンディングワイヤBWとの接続部、およびボンディングワイヤBW自身は、封止部7により封止されて保護される。   In step S4, the sealing portion 7 is formed so as to cover the bonding wire BW (that is, the bonding wire BW is not exposed). Thereby, the connection portion between the pad electrode PD of the sensor chip 3 and the bonding wire BW, the connection portion between the bonding lead BL and the bonding wire BW of the wiring substrate 2, and the bonding wire BW itself are sealed by the sealing portion 7. Protected.

また、封止部7は、ボンディングワイヤBWを覆うように(すなわちボンディングワイヤBWが露出されないように)形成しているが、センサチップ3のセンサ面SE上には、封止部7用の樹脂材料が配置されないようにすることが好ましく、これにより、センサチップ3のセンサ面SEへの光の入射が、封止部7用の樹脂材料で阻害される(遮られる)のを防止することができる。   The sealing portion 7 is formed so as to cover the bonding wire BW (that is, the bonding wire BW is not exposed). On the sensor surface SE of the sensor chip 3, the resin for the sealing portion 7 is formed. It is preferable that the material is not disposed, thereby preventing the incidence of light on the sensor surface SE of the sensor chip 3 from being hindered (obstructed) by the resin material for the sealing portion 7. it can.

ステップS4の封止部7形成工程の後、図33〜図37に示されるように、センサチップ3の表面3aにスペーサSP1を形成する(図12のステップS5)。   After the sealing part 7 formation step in step S4, as shown in FIGS. 33 to 37, a spacer SP1 is formed on the surface 3a of the sensor chip 3 (step S5 in FIG. 12).

ここで、図33(上面図)、図34(A1−A1断面図)、図35(B1−B1断面図)および図36(C1−C1断面図)は、上記図17、図18、図19および図20にそれぞれ対応する上面図、断面図、断面図および断面図であり、ステップS5(スペーサSP1形成工程)が行われた段階(状態)が示されている。また、図37は、図33〜図36と同じ工程段階におけるセンサチップ3を示した平面図(上面図)であり、上記図7に対応している。なお、図37では上記封止部7および上記ボンディングワイヤBWは透視してある。   Here, FIG. 33 (top view), FIG. 34 (A1-A1 cross-sectional view), FIG. 35 (B1-B1 cross-sectional view) and FIG. 36 (C1-C1 cross-sectional view) are the same as FIGS. FIG. 21 is a top view, a cross-sectional view, a cross-sectional view, and a cross-sectional view corresponding to FIG. 20 and shows a stage (state) in which step S5 (spacer SP1 forming step) is performed. FIG. 37 is a plan view (top view) showing the sensor chip 3 in the same process step as FIGS. 33 to 36, and corresponds to FIG. In FIG. 37, the sealing portion 7 and the bonding wire BW are seen through.

ステップS5のスペーサSP1形成工程は、次のようにして行うことができる。まず、センサチップ3の表面3aにおける複数個所に、スペーサSP1形成用の接着材(接着剤)21を配置(供給、塗布)する(図13のステップS5a)。それから、この接着材21を硬化することにより、センサチップ3の表面3aに複数のスペーサSP1を形成する(図13のステップS5b)。スペーサSP1は、接着材21が硬化したものである。スペーサSP1は、センサチップ3の表面3aにおける光学部品5搭載予定領域において、複数個所に形成される。   The step of forming the spacer SP1 in step S5 can be performed as follows. First, the adhesive (adhesive) 21 for forming the spacer SP1 is arranged (supplied and applied) at a plurality of locations on the surface 3a of the sensor chip 3 (step S5a in FIG. 13). Then, the adhesive 21 is cured to form a plurality of spacers SP1 on the surface 3a of the sensor chip 3 (step S5b in FIG. 13). The spacer SP1 is obtained by curing the adhesive material 21. The spacers SP1 are formed at a plurality of locations in the region where the optical component 5 is to be mounted on the surface 3a of the sensor chip 3.

スペーサSP1は、後でセンサチップ3上に搭載する光学部品5の裏面とセンサチップ3の表面3aとの間の間隔を規定するためと、後述の接着材11aを硬化するまで光学部品5を仮固定するために設けられている。このため、スペーサSP1は、光学部品5の仮固定のための粘着性(粘性、タック性)を有している必要がある。   The spacer SP1 temporarily defines the distance between the back surface of the optical component 5 to be mounted on the sensor chip 3 and the front surface 3a of the sensor chip 3 and temporarily holds the optical component 5 until the adhesive 11a described later is cured. It is provided for fixing. For this reason, the spacer SP1 needs to have adhesiveness (viscosity, tackiness) for temporarily fixing the optical component 5.

接着材21は、ステップS5bの硬化工程により、粘度が高くなる。このため、ステップS5bの接着材21硬化工程は、接着材21の粘度を高くする処理とみなすこともできる。すなわち、ステップS5aでセンサチップ3の表面3aの複数箇所に接着材21が配置される際の、その接着材21の粘度を粘度(第1粘度)Vとし、ステップS5bで硬化した後の接着材21の粘度、すなわちスペーサSP1の粘度を、粘度(第2粘度)Vとしたときに、粘度(第2粘度)Vは粘度(第1粘度)Vよりも高くなる(すなわちV>V)。このため、ステップS5bで形成されたスペーサSP1(すなわちステップS5bにより硬化した接着材21)は、ステップS5aでセンサチップ3の表面3aに配置された段階の接着材21の粘度Vよりも高い粘度Vからなり、かつ粘着性(粘性、タック性)を有したものである。 The adhesive 21 has a higher viscosity due to the curing process in step S5b. For this reason, the adhesive 21 curing step in step S5b can be regarded as a process for increasing the viscosity of the adhesive 21. That is, when the adhesive 21 is placed in the step S5a in the plurality of locations of the surface 3a of the sensor chip 3, and the viscosity of the adhesive 21 to the viscosity (first viscosity) V 1, adhesion after curing in step S5b the viscosity of the wood 21, i.e. the viscosity of the spacer SP1, when a viscosity (second viscosity) V 2, viscosity (second viscosity) V 2 is higher than the viscosity (the first viscosity) V 1 (i.e. V 2 > V 1 ). Therefore, the spacer SP1 formed (i.e. adhesive 21 was cured by step S5b) step S5b, higher viscosity than the viscosity V 1 of the adhesive material 21 of the stage disposed on the surface 3a of the sensor chip 3 in step S5a It consists V 2, and those having an adhesiveness (viscosity, tackiness).

ステップS5aでセンサチップ3の表面3aに配置する接着材21としては、紫外線硬化型の接着材が好ましく、この場合、ステップS5bでは、センサチップ3の表面3aの接着材21に紫外線を照射することにより、接着材21を硬化してスペーサSP1を形成する。   The adhesive 21 to be disposed on the surface 3a of the sensor chip 3 in step S5a is preferably an ultraviolet curable adhesive. In this case, in step S5b, the adhesive 21 on the surface 3a of the sensor chip 3 is irradiated with ultraviolet rays. Thus, the adhesive 21 is cured to form the spacer SP1.

また、紫外線硬化型の接着材は、空気にさらされている(触れている)面は、紫外線を照射しても完全には固まらず、粘着性(粘性、タック性)を有した状態になりやすい。このため、スペーサSP1形成用の接着材21として紫外線硬化型の接着材を用い、上記ステップS5bでは、センサチップ3の表面3a上に配置された接着材21の表面が空気に触れた(空気にさらされた)状態で接着材21に紫外線を照射することにより、接着材21を硬化し、スペーサSP1を形成することが好ましい。これにより、光学部品5の仮固定のために必要な粘着性(粘性、タック性)を有するスペーサSP1を容易かつ的確に形成することができる。   In addition, UV-curing adhesives do not harden completely when exposed to air (touched), and they become sticky (viscous, tacky). Cheap. Therefore, an ultraviolet curable adhesive is used as the adhesive 21 for forming the spacer SP1, and in step S5b, the surface of the adhesive 21 disposed on the surface 3a of the sensor chip 3 has come into contact with the air (the air It is preferable that the adhesive material 21 is cured by irradiating the adhesive material 21 with ultraviolet rays in the exposed state to form the spacer SP1. Thereby, spacer SP1 which has adhesiveness (viscosity, tackiness) required for temporary fixation of the optical component 5 can be formed easily and exactly.

また、ステップS5aでセンサチップ3の表面3aに配置する接着材21は、ある程度高粘性(後述の接着材11a,12aよりも高粘性)の接着材を用いることが好ましく、これにより、センサチップ3の表面3aに配置した接着材21が、配置後に横方向(平面方向、センサチップ3の表面3aに平行な方向)に拡がりにくくすることができ、所定の形状(高さ)のスペーサSP1を形成しやすくなる。   In addition, it is preferable that the adhesive 21 to be disposed on the surface 3a of the sensor chip 3 in step S5a is an adhesive having a certain degree of high viscosity (higher viscosity than the adhesives 11a and 12a described later). The adhesive 21 arranged on the surface 3a of the substrate can be prevented from spreading in the lateral direction (planar direction, direction parallel to the surface 3a of the sensor chip 3) after the arrangement, and the spacer SP1 having a predetermined shape (height) is formed. It becomes easy to do.

また、スペーサSP1は、センサチップ3の表面3aにおいて、センサ面(センサ領域)SEを避けた位置(センサ面SEの外側)に形成することが好ましい。これは、ステップS5aにおいて、接着材21の配置位置を、センサチップ3の表面3aにおいてセンサ面SEを避けた位置(センサ面SEの外側)とすることで実現できる。このようにすることで、センサ面SEの受光素子PHへの光の入射にスペーサSP1が影響しなくなるため、スペーサSP1については、透光性などを気にせずに、スペーサSP1を的確に形成しやすい接着材を接着材21に用いることが可能になる。   The spacer SP1 is preferably formed on the surface 3a of the sensor chip 3 at a position avoiding the sensor surface (sensor region) SE (outside the sensor surface SE). In step S5a, this can be realized by setting the position of the adhesive 21 to a position where the sensor surface SE is avoided on the surface 3a of the sensor chip 3 (outside the sensor surface SE). By doing so, the spacer SP1 does not affect the incidence of light on the light receiving element PH on the sensor surface SE. Therefore, the spacer SP1 is accurately formed without worrying about translucency. An easy-to-use adhesive can be used for the adhesive 21.

また、スペーサSP1は、平面視において、センサチップ3の表面3aにおいてセンサ面SEの周囲に(より好ましくはセンサ面SEの各辺(四辺のそれぞれ)に沿って)形成することがより好ましい。これにより、センサチップ3の表面3a上に後で光学部品5を配置したときに、センサチップ3の表面3aと光学部品5の裏面との間の間隔をスペーサSP1で的確に規定できるようになり、接着材11の層の厚みをスペーサSP1の高さで的確に規定できるようになる。   The spacer SP1 is more preferably formed around the sensor surface SE (more preferably along each side (four sides)) of the sensor chip 3 on the surface 3a of the sensor chip 3 in plan view. Thereby, when the optical component 5 is disposed later on the surface 3a of the sensor chip 3, the distance between the surface 3a of the sensor chip 3 and the back surface of the optical component 5 can be accurately defined by the spacer SP1. The thickness of the layer of the adhesive 11 can be accurately defined by the height of the spacer SP1.

また、センサチップ3の表面3aにおいて、複数のスペーサSP1同士を平面的に繋げて(一体化して)、センサ面SEを完全に囲むような一体物として形成してしまうと、後述のステップS6bで光学部品5を配置した際に巻き込まれる空気を、センサチップ3と光学部品5との間から外部に排出する流路(経路)を確保できなくなる虞がある。このため、センサチップ3の表面3aにおいて、スペーサSP1は複数形成されるが、好ましくは、平面形状が四角形からなるセンサ面SEの各辺(四辺のそれぞれ)において複数ずつ形成する。この際、個々のスペーサSP1は局所的に形成されることが好ましい。これにより、センサ面SEの角部だけでなく、各辺においても、センサチップ3と光学部品5との間から外部に空気などを排出する流路(経路)を確保することができ、センサチップ3と光学部品5との間にボイドが発生するのを抑制または防止することができる。   In addition, when a plurality of spacers SP1 are connected (integrated) in a planar manner on the surface 3a of the sensor chip 3 and formed as an integrated body that completely surrounds the sensor surface SE, in step S6b described later, There is a possibility that it becomes impossible to secure a flow path (path) for discharging the air entrained when the optical component 5 is disposed from between the sensor chip 3 and the optical component 5 to the outside. For this reason, a plurality of spacers SP1 are formed on the surface 3a of the sensor chip 3. Preferably, a plurality of spacers SP1 are formed on each side (each of the four sides) of the sensor surface SE having a square planar shape. At this time, the individual spacers SP1 are preferably formed locally. As a result, not only the corners of the sensor surface SE but also each side can secure a flow path (path) for discharging air or the like from between the sensor chip 3 and the optical component 5 to the outside. It is possible to suppress or prevent the generation of a void between 3 and the optical component 5.

ステップS5のスペーサSP1形成工程の後、センサチップ3の表面3aに光学部品5を搭載する(図12のステップS6)。光学部品5の具体的な構成は、既に上述しているので、ここではその繰り返しの説明は省略する。   After the spacer SP1 formation step in step S5, the optical component 5 is mounted on the surface 3a of the sensor chip 3 (step S6 in FIG. 12). Since the specific configuration of the optical component 5 has already been described above, repeated description thereof is omitted here.

ここで、図38(上面図)、図39(A1−A1断面図)、図40(B1−B1断面図)および図41(C1−C1断面図)は、上記図17、図18、図19および図20にそれぞれ対応する上面図、断面図、断面図および断面図であり、ステップS6a(接着材11a配置工程)が行われた段階(状態)が示されている。また、図42(上面図)、図43(A1−A1断面図)、図44(B1−B1断面図)および図45(C1−C1断面図)は、上記図17、図18、図19および図20にそれぞれ対応する上面図、断面図、断面図および断面図であり、ステップS6b(光学部品5配置工程)が行われた段階(状態)が示されている。また、図46は、図42〜図45と同じ工程段階におけるセンサチップ3およびセンサチップ3上の光学部品5を示した平面図(上面図)であり、上記図37に対応している。なお、図46では上記封止部7および上記ボンディングワイヤBWは透視してある。また、図47は、図42〜図45と同じ工程段階におけるセンサチップ3およびセンサチップ3上の光学部品5との積層構造の部分拡大断面図(要部断面図)であり、図46の領域RG3におけるD2−D2線の位置での断面図に対応している。   Here, FIG. 38 (top view), FIG. 39 (A1-A1 cross-sectional view), FIG. 40 (B1-B1 cross-sectional view) and FIG. 41 (C1-C1 cross-sectional view) are the same as FIGS. FIG. 21 is a top view, a cross-sectional view, a cross-sectional view, and a cross-sectional view corresponding to FIG. 20 and shows a stage (state) where step S6a (adhesive 11a placement step) is performed. 42 (top view), FIG. 43 (A1-A1 cross-sectional view), FIG. 44 (B1-B1 cross-sectional view), and FIG. 45 (C1-C1 cross-sectional view) are the same as FIG. 17, FIG. 18, FIG. FIG. 21 is a top view, a cross-sectional view, a cross-sectional view, and a cross-sectional view corresponding to FIG. 20, respectively, showing a stage (state) where step S <b> 6 b (optical component 5 arranging step) is performed. 46 is a plan view (top view) showing the sensor chip 3 and the optical component 5 on the sensor chip 3 in the same process steps as those in FIGS. 42 to 45, and corresponds to FIG. In FIG. 46, the sealing portion 7 and the bonding wire BW are seen through. 47 is a partial enlarged cross-sectional view (main cross-sectional view) of the laminated structure of the sensor chip 3 and the optical component 5 on the sensor chip 3 in the same process steps as those in FIGS. 42 to 45. FIG. This corresponds to a cross-sectional view taken along the line D2-D2 in RG3.

ステップS6の光学部品5搭載工程は、次のようにして行うことができる。まず、図38〜図41に示されるように、センサチップ3の表面3aにおける光学部品5搭載予定領域に、光学部品5接着用の接着材(接着剤)11aを配置(供給、塗布)する(図14のステップS6a)。このとき、センサチップ3の表面3aに異物が堆積、または付着していると、配置される接着材11aの濡れ性が低下する(センサ面SEのほぼ全域に濡れ広がらない)恐れがあるため、接着材11aを配置する前に、このセンサ面SEにプラズマを照射し、センサ面SEを清浄化しておくことが好ましい。但し、プラズマを必要以上に照射した場合には、センサ面SEが損傷するおそれもあるため、異物が堆積、または付着していないようであれば、このプラズマクリーニング工程は不要であることは言うまでもない。なお、この接着材11aは、ペースト状の(流動性のある)接着材である。それから、図42〜図47に示されるように、センサチップ3の表面3a上に、スペーサSP1および接着材11aを介して、光学部品5を配置(搭載)する(図14のステップS6b)。ステップS6bでは、光学部品5は、光学部品5の裏面がセンサチップ3の表面3aに対向するように、センサチップ3の表面3a上にスペーサSP1および接着材11aを介して配置(搭載)される。それから、この接着材11aを硬化することにより、センサチップ3に光学部品5を固定(固着)する(図14のステップS6c)。接着材11aが硬化したものが、上記接着材11である。   The optical component 5 mounting step in step S6 can be performed as follows. First, as shown in FIGS. 38 to 41, an adhesive (adhesive) 11a for bonding the optical component 5 is disposed (supplied and applied) in the region where the optical component 5 is to be mounted on the surface 3a of the sensor chip 3 ( Step S6a) in FIG. At this time, if foreign matter has accumulated or adhered to the surface 3a of the sensor chip 3, the wettability of the adhesive 11a to be arranged may be reduced (the sensor surface SE does not spread over almost the entire area). Before placing the adhesive 11a, it is preferable that the sensor surface SE be irradiated with plasma to clean the sensor surface SE. However, if the plasma is irradiated more than necessary, the sensor surface SE may be damaged, and it is needless to say that this plasma cleaning step is unnecessary if foreign matter does not accumulate or adhere. . The adhesive 11a is a paste-like (fluid) adhesive. Then, as shown in FIGS. 42 to 47, the optical component 5 is arranged (mounted) on the surface 3a of the sensor chip 3 via the spacer SP1 and the adhesive 11a (step S6b in FIG. 14). In step S6b, the optical component 5 is disposed (mounted) on the front surface 3a of the sensor chip 3 via the spacer SP1 and the adhesive 11a so that the back surface of the optical component 5 faces the front surface 3a of the sensor chip 3. . Then, the optical component 5 is fixed (fixed) to the sensor chip 3 by curing the adhesive 11a (step S6c in FIG. 14). The adhesive 11 is cured by the adhesive 11a.

図46および図47からも分かるように、ステップS6bでは、光学部品5の遮光層15の複数の開口部16が、センサチップ3の表面3a(センサ面SE)の複数の受光素子PHとそれぞれ重なる(平面視で重なる)ように、光学部品5を、複数のスペーサSP1および接着材11aを介してセンサチップ3の表面3a上に配置する。   As can be seen from FIGS. 46 and 47, in step S6b, the plurality of openings 16 of the light shielding layer 15 of the optical component 5 respectively overlap the plurality of light receiving elements PH on the surface 3a (sensor surface SE) of the sensor chip 3. The optical component 5 is arranged on the surface 3a of the sensor chip 3 via the plurality of spacers SP1 and the adhesive material 11a so as to overlap (in plan view).

ステップS6bの光学部品5配置工程と、ステップS6cの接着材11a硬化工程とについて、図48〜図51を参照しながら、より具体的に説明する。ここで、図48〜図51は、ステップS6bの光学部品5配置工程およびステップS6cの接着材11a硬化工程の説明図であり、上記図39や図43(すなわちA1−A1断面図)に相当する断面が示されている。   The optical component 5 placement step in step S6b and the adhesive 11a curing step in step S6c will be described more specifically with reference to FIGS. 48 to 51 are explanatory diagrams of the optical component 5 arrangement step in step S6b and the adhesive material 11a curing step in step S6c, and correspond to FIG. 39 and FIG. 43 (that is, A1-A1 cross-sectional view). A cross section is shown.

図48に示されるように、ステップS6aの接着材11a配置工程までが行われた配線基板2は、ステップS6bを行う段階では、ステージ(載置台)22上に載置(配置)されている。ステージ22上に配線基板2を載置(配置)した状態でステップS6aの接着材11a配置工程を行っても、あるいは、ステップS6aの接着材11a配置工程を行った後にステージ22上に配線基板2を載置(配置)してもよい。配線基板2の下面2bがステージ22の上面22aに対向するように、配線基板2の上面2a側を上方に向けて、配線基板2がステージ22の上面22a上に載置(配置)されている。   As shown in FIG. 48, the wiring board 2 that has been subjected to the adhesive material 11a placement process of step S6a is placed (placed) on the stage (mounting table) 22 in the stage of performing step S6b. Even if the adhesive material 11a placement process of step S6a is performed in a state where the wiring board 2 is placed (arranged) on the stage 22, or after the adhesive material 11a placement process of step S6a is performed, the wiring board 2 is placed on the stage 22. May be placed (arranged). The wiring substrate 2 is placed (arranged) on the upper surface 22a of the stage 22 with the upper surface 2a side of the wiring substrate 2 facing upward so that the lower surface 2b of the wiring substrate 2 faces the upper surface 22a of the stage 22. .

ステップS6bを行うには、図48に示されるように、ボンディングツール23で光学部品5を保持(例えば吸着により保持)し、ボンディングツール23で保持された光学部品5をセンサチップ3(このセンサチップ3は接合材10aによって配線基板2に固定されている)の上方からセンサチップ3の表面3aに向かって下降させる。そして、図49に示されるように、センサチップ3の表面3a上に、ボンディングツール23で保持された光学部品5を配置する。これにより、センサ面SE上に配置された接着材11aが、センサ面SEのほぼ全域に濡れ広がる。それから、ボンディングツール23による光学部品5の保持(例えば吸着による保持)を停止(中止)し、図50に示されるようにボンディングツール23だけを上昇させ(すなわち光学部品5はボンディングツール23と一緒に上昇させない)、光学部品5はセンサチップ3上に配置されたまま残す。その後、図51に示されるように、ステップS6cの接着材11aの硬化工程を行って、接着材11aを、硬化した接着材11とする。   In order to perform step S6b, as shown in FIG. 48, the optical component 5 is held by the bonding tool 23 (for example, held by suction), and the optical component 5 held by the bonding tool 23 is attached to the sensor chip 3 (this sensor chip). 3 is fixed to the wiring board 2 by the bonding material 10a) and is lowered toward the surface 3a of the sensor chip 3. Then, as shown in FIG. 49, the optical component 5 held by the bonding tool 23 is disposed on the surface 3 a of the sensor chip 3. As a result, the adhesive 11a disposed on the sensor surface SE spreads over almost the entire area of the sensor surface SE. Then, the holding (for example, holding by suction) of the optical component 5 by the bonding tool 23 is stopped (stopped), and only the bonding tool 23 is raised as shown in FIG. 50 (that is, the optical component 5 is moved together with the bonding tool 23). The optical component 5 remains disposed on the sensor chip 3. After that, as shown in FIG. 51, the curing process of the adhesive 11a in step S6c is performed, so that the adhesive 11a is a cured adhesive 11.

本実施の形態では、上記ステップS6bでは、光学部品5に荷重を加えながら、光学部品5をセンサチップ3の表面3a上に配置し、一方、上記ステップS6cでは、光学部品5に荷重を加えない状態で接着材11aを硬化させる。具体的には、上記ステップS6bでは、ボンディングツール23で保持した光学部品5を、複数のスペーサSP1および接着材11aを介してセンサチップ3の表面3a上に配置するため、上記ステップS6bでは、ボンディングツール23による荷重を光学部品5に加えながら、光学部品5をセンサチップ3の表面3a上に配置することになる。一方、上記ステップS6cでは、ボンディングツール23が光学部品5から離れた状態で接着材11aを硬化させるため、上記ステップS6cでは、光学部品5に荷重を加えない状態で接着材11aを硬化させることになる。   In the present embodiment, in step S6b, the optical component 5 is placed on the surface 3a of the sensor chip 3 while applying a load to the optical component 5. On the other hand, in step S6c, no load is applied to the optical component 5. The adhesive 11a is cured in the state. Specifically, in step S6b, the optical component 5 held by the bonding tool 23 is disposed on the surface 3a of the sensor chip 3 via the plurality of spacers SP1 and the adhesive 11a. Therefore, in step S6b, bonding is performed. The optical component 5 is placed on the surface 3 a of the sensor chip 3 while applying a load by the tool 23 to the optical component 5. On the other hand, in step S6c, the bonding material 11a is cured in a state where the bonding tool 23 is separated from the optical component 5. Therefore, in step S6c, the adhesive material 11a is cured without applying a load to the optical component 5. Become.

ステップS5で形成されたスペーサSP1は粘着性を有しているため、ステップS6bでセンサチップ3の表面3a上に配置された光学部品5はスペーサSP1(スペーサSP1の粘着性)によって仮固定され、この仮固定された状態で、ステップS6cの接着材11aの硬化工程が行われる。このため、ステップS6cの接着材11aの硬化工程で光学部品5をボンディングツール23などで押さえなくとも(保持しなくとも)、光学部品5が水平方向に動くのを防止できる。そして、ステップS6cで、光学部品5をボンディングツール23などで押さえる(保持する)ことなく、光学部品5に荷重を加えない状態で接着材11aを硬化させることにより、硬化した接着材11に干渉縞が発生するのを抑制または防止でき、接着材11の透過率が低下するのを抑制または防止することができる。   Since the spacer SP1 formed in step S5 has adhesiveness, the optical component 5 arranged on the surface 3a of the sensor chip 3 in step S6b is temporarily fixed by the spacer SP1 (adhesiveness of the spacer SP1). In this temporarily fixed state, the curing step of the adhesive 11a in step S6c is performed. For this reason, it is possible to prevent the optical component 5 from moving in the horizontal direction without pressing (holding) the optical component 5 with the bonding tool 23 or the like in the step of curing the adhesive material 11a in step S6c. In step S6c, the adhesive 11a is cured without pressing (holding) the optical component 5 with the bonding tool 23 or the like without applying a load to the optical component 5, thereby causing interference fringes on the cured adhesive 11. Generation | occurrence | production can be suppressed or prevented, and it can suppress or prevent that the transmittance | permeability of the adhesive material 11 falls.

上述のように、接着材11は、透光性(光の透過性、光を透過する性質)を有することが必要であり、そうすることで、センサチップ3の上記受光素子PHへの光の入射が、接着材11により阻害される(遮られる)のを防止することができる。このため、ステップS6aでセンサチップ3の表面3aに配置(供給)する接着材11aとして、透光性を有する接着材を使用する必要がある。紫外線硬化型の接着材は透光性を有しているため、ステップS6aでセンサチップ3の表面3aに配置する接着材11aとして、紫外線硬化型の接着材を好適に用いることができるが、透光性を確保できるのであれば、熱硬化型の接着材を用いてもよい。   As described above, the adhesive material 11 needs to have translucency (light transmission property, light transmission property), and by doing so, the light to the light receiving element PH of the sensor chip 3 is transmitted. Incidence can be prevented from being blocked (obstructed) by the adhesive 11. For this reason, it is necessary to use a translucent adhesive as the adhesive 11a to be disposed (supplied) on the surface 3a of the sensor chip 3 in step S6a. Since the ultraviolet curable adhesive has translucency, an ultraviolet curable adhesive can be suitably used as the adhesive 11a placed on the surface 3a of the sensor chip 3 in step S6a. A thermosetting adhesive may be used as long as the light property can be secured.

ステップS6cで接着材11aを硬化させる処理としては、熱処理(接着材11aが熱硬化性を有している場合)または紫外線照射処理(接着材11aが紫外線硬化性を有している場合)を行うことができる。また、接着材11aとして、紫外線硬化性と熱硬化性との両方の性質を兼ね備えた接着材を用いることもでき、この場合、ステップS6cで接着材11aを硬化させる処理としては、熱処理または紫外線照射処理のいずれを行ってもよい。   As a process for curing the adhesive 11a in step S6c, a heat treatment (when the adhesive 11a has thermosetting properties) or an ultraviolet irradiation process (when the adhesive 11a has ultraviolet curing properties) is performed. be able to. Further, as the adhesive 11a, an adhesive having both ultraviolet curable properties and thermosetting properties can also be used. In this case, the treatment for curing the adhesive 11a in step S6c includes heat treatment or ultraviolet irradiation. Any of the processing may be performed.

一例として、ステップS6cにおいて、120℃程度の温度で30分程度加熱することにより、接着材11aを硬化させることができる。これは、ステップS6bまで行われた配線基板2を加熱炉(ベーク炉)に配置して加熱することにより、行うことができる。   As an example, in Step S6c, the adhesive 11a can be cured by heating at a temperature of about 120 ° C. for about 30 minutes. This can be performed by placing and heating the wiring board 2 that has been performed up to step S6b in a heating furnace (baking furnace).

また、ステップS6aでは、接着材11aは、側面視において、スペーサSP1よりも突出するようにセンサチップ3の表面3a上に配置されることが好ましい。すなわち、ステップS6aでセンサチップ3の表面3aに配置された接着材11aの高さHが、スペーサSP1の高さHよりも高くなるようにすることが好ましい(すなわちH>H)。ここで、スペーサSP1の高さHおよび接着材11aの高さHは図39にも示されており、センサチップ3の表面3aに垂直な方向の高さに対応している。こうすることで、ステップS6b(光学部品5配置工程)では、光学部品5の裏面により接着材11aが押し広げられ、センサチップ3の表面3aと光学部品5の裏面との間に接着材11aをまんべんなく行渡らせることができる。スペーサSP1の高さHは、例えば20〜40μm程度とすることができる。また、接着材11aの高さHとスペーサSP1の高さHとの差(すなわち「H−H」)は、例えば100〜200μm程度とすることができる。 In step S6a, the adhesive 11a is preferably disposed on the surface 3a of the sensor chip 3 so as to protrude from the spacer SP1 in a side view. That is, the high H 2 of adhesive material 11a disposed on the surface 3a of the sensor chip 3 in step S6a, it is preferable to be higher than the height H 1 of the spacer SP1 (i.e. H 2> H 1) . Here, the height H 2 of the height H 1 and the adhesive material 11a of the spacer SP1 is also shown in Figure 39, it corresponds to the height of the direction perpendicular to the surface 3a of the sensor chip 3. By doing so, in step S6b (optical component 5 placement step), the adhesive material 11a is spread by the back surface of the optical component 5, and the adhesive material 11a is placed between the front surface 3a of the sensor chip 3 and the back surface of the optical component 5. It can be evenly distributed. The height H 1 of the spacer SP1 may be, for example 20~40μm about. The difference between the height H 1 of the adhesive 11a of the height H 2 and a spacer SP1 (i.e., "H 2 -H 1") may be, for example 100~200μm about.

また、ステップS6aでは、接着材11aは、センサチップ3の表面3aのセンサ面SEの中央部に配置され、ステップS6b(光学部品5配置工程)では、光学部品5の裏面により接着材11aが押し広げられるようにすることが、より好ましい。この際、接着材11aは、センサ面SEの全面ではなく、センサ面SEの面積よりも小さな面積(領域)に配置され、接着材11aの配置領域は、センサ面SEに内包された状態(但し、接着材11aの配置領域はセンサ面SEよりも小さい)となる。そうすれば、ステップS6aでの接着材11aの配置領域を中央部に限定したことにより、ステップS6a(接着材11a配置工程)に要する時間を短縮でき、また接着材11aの供給量を制御しやすくなるとともに、ステップS6bで光学部品5を配置する際に接着材11aが押し広げられることにより、センサチップ3の表面3aと光学部品5の裏面との間に接着材11aをまんべんなく行渡らせることができる。   In step S6a, the adhesive 11a is disposed at the center of the sensor surface SE of the surface 3a of the sensor chip 3, and in step S6b (optical component 5 placement step), the adhesive 11a is pressed by the back surface of the optical component 5. It is more preferable that it is spread. At this time, the adhesive material 11a is arranged not in the entire surface of the sensor surface SE but in an area (region) smaller than the area of the sensor surface SE, and the arrangement region of the adhesive material 11a is included in the sensor surface SE (however, The arrangement area of the adhesive material 11a is smaller than the sensor surface SE). Then, by limiting the arrangement area of the adhesive material 11a in step S6a to the central portion, the time required for step S6a (adhesive material 11a arrangement process) can be shortened, and the supply amount of the adhesive material 11a can be easily controlled. In addition, when the optical component 5 is arranged in step S6b, the adhesive material 11a is spread, so that the adhesive material 11a can be evenly distributed between the front surface 3a of the sensor chip 3 and the back surface of the optical component 5. it can.

また、ステップS6b(光学部品5配置工程)で光学部品5の裏面により接着材11aを押し広げてセンサチップ3の表面3aと光学部品5の裏面との間に接着材11aをまんべんなく行渡らせやすくするために、接着材11aには、比較的低粘度の接着材を使用することが好ましい。一方、スペーサSP1形成用の接着材21は、上述のように、ステップS5bの硬化処理を行うまで流動しにくいように、比較的高粘度の接着材を使用することが好ましい。このため、ステップS6aでセンサチップ3の表面3aに配置する接着材11aの粘度は、ステップS5aでセンサチップ3の表面3aに配置する接着材21の粘度よりも低いことが好ましい。これにより、ステップS6bにおける接着材11aの流動しやすさと、ステップS5a後でかつステップS5bの硬化処理までの間の接着材21の流動しにくさとを、両立することができる。   Further, in step S6b (optical component 5 placement step), the adhesive material 11a is spread out by the back surface of the optical component 5 so that the adhesive material 11a can be distributed evenly between the front surface 3a of the sensor chip 3 and the back surface of the optical component 5. Therefore, it is preferable to use an adhesive having a relatively low viscosity as the adhesive 11a. On the other hand, as described above, it is preferable to use a relatively high-viscosity adhesive for the spacer SP1 forming adhesive 21 so that it does not easily flow until the curing process in step S5b is performed. For this reason, it is preferable that the viscosity of the adhesive 11a disposed on the surface 3a of the sensor chip 3 in step S6a is lower than the viscosity of the adhesive 21 disposed on the surface 3a of the sensor chip 3 in step S5a. Thereby, it is possible to achieve both the ease of flow of the adhesive 11a in step S6b and the difficulty of flow of the adhesive 21 after step S5a and before the curing process of step S5b.

ステップS6aでセンサチップ3の表面3aに配置する接着材11aの粘度は、例えば3000ミリパスカル/秒(mPa/秒)程度とすることができ、一方、ステップS5aでセンサチップ3の表面3aに配置する接着材21の粘度は、例えば30000ミリパスカル/秒(mPa/秒)程度とすることができる。この粘度の値は、回転粘度計で測定されたものである。   The viscosity of the adhesive 11a disposed on the surface 3a of the sensor chip 3 in step S6a can be set to, for example, about 3000 millipascal / second (mPa / second), while being disposed on the surface 3a of the sensor chip 3 in step S5a. The viscosity of the adhesive 21 to be performed can be, for example, about 30000 millipascal / second (mPa / second). This viscosity value is measured with a rotational viscometer.

また、ステップS6bにおいて、ボンディングツール23で保持した光学部品5をセンサチップ3の表面3a上に配置したときに、平面視でボンディングツール23の先端部(ボンディングツール23において光学部品5と接している部分、ボンディングツール23において光学部品5を保持している部分)23aと重ならない位置に、スペーサSP1を形成しておくことが好ましい。なお、図46において、光学部品5を保持するボンディングツール23の先端部23aの位置を一点鎖線で示してある。これにより、ボンディングツール23による荷重がスペーサSP1に伝わりにくくなるため、ステップS6b(光学部品5配置工程)でスペーサSP1が変形するのを、より的確に防止できるようになる。このため、ステップS6cで接着材11aを硬化させる際のセンサチップ3の表面3aと光学部品5の裏面との間の間隔をスペーサSP1によって的確に規定でき、所望の厚さの接着材11の層をより的確に形成できるようになる。   In step S6b, when the optical component 5 held by the bonding tool 23 is placed on the surface 3a of the sensor chip 3, the tip of the bonding tool 23 (in contact with the optical component 5 in the bonding tool 23) is seen in plan view. It is preferable to form the spacer SP1 at a position that does not overlap the portion (the portion holding the optical component 5 in the bonding tool 23) 23a. In FIG. 46, the position of the tip 23a of the bonding tool 23 that holds the optical component 5 is indicated by a one-dot chain line. As a result, the load due to the bonding tool 23 is not easily transmitted to the spacer SP1, so that the deformation of the spacer SP1 in step S6b (optical component 5 placement step) can be prevented more accurately. For this reason, the space between the front surface 3a of the sensor chip 3 and the back surface of the optical component 5 when the adhesive material 11a is cured in step S6c can be accurately defined by the spacer SP1, and the layer of the adhesive material 11 having a desired thickness. Can be formed more accurately.

ステップS6の光学部品5搭載工程の後、図52〜図56に示されるように、光学部品5の表面5aにスペーサSP2を形成する(図12のステップS7)。ステップS7のスペーサSP2形成工程は、スペーサSP2を形成するのが光学部品5の表面5aとなること以外は、上記ステップS5のスペーサSP1形成工程と基本的には同じである。   After the optical component 5 mounting step in step S6, as shown in FIGS. 52 to 56, a spacer SP2 is formed on the surface 5a of the optical component 5 (step S7 in FIG. 12). The spacer SP2 formation process in step S7 is basically the same as the spacer SP1 formation process in step S5 except that the spacer SP2 is formed on the surface 5a of the optical component 5.

ここで、図52(上面図)、図53(A1−A1断面図)、図54(B1−B1断面図)および図55(C1−C1断面図)は、上記図17、図18、図19および図20にそれぞれ対応する上面図、断面図、断面図および断面図であり、ステップS7(スペーサSP2形成工程)が行われた段階(状態)が示されている。また、図56は、図52〜図55と同じ工程段階におけるセンサチップ3およびセンサチップ3上の光学部品5を示した平面図(上面図)であり、上記図37や図46に対応している。なお、図56では上記封止部7および上記ボンディングワイヤBWは透視してある。   52 (top view), FIG. 53 (A1-A1 cross-sectional view), FIG. 54 (B1-B1 cross-sectional view) and FIG. 55 (C1-C1 cross-sectional view) are the same as FIGS. FIG. 21 is a top view, a cross-sectional view, a cross-sectional view, and a cross-sectional view corresponding to FIG. 20 and shows a stage (state) in which step S7 (spacer SP2 forming step) is performed. 56 is a plan view (top view) showing the sensor chip 3 and the optical component 5 on the sensor chip 3 in the same process steps as those in FIGS. 52 to 55, and corresponds to FIGS. 37 and 46 described above. Yes. In FIG. 56, the sealing portion 7 and the bonding wire BW are seen through.

ステップS7のスペーサSP2形成工程は、次のようにして行うことができる。まず、光学部品5の表面5aにおける複数個所に、スペーサSP2形成用の接着材(接着剤)24を配置(供給、塗布)する(図15のステップS7a)。それから、この接着材24を硬化することにより、光学部品5の表面5aに複数のスペーサSP2を形成する(図15のステップS7b)。スペーサSP2は、接着材24が硬化したものである。スペーサSP2は、光学部品5の表面5aにおける光学部品6搭載予定領域において、複数個所に形成される。   The step of forming the spacer SP2 in step S7 can be performed as follows. First, an adhesive (adhesive) 24 for forming the spacer SP2 is disposed (supplied and applied) at a plurality of locations on the surface 5a of the optical component 5 (step S7a in FIG. 15). Then, by curing the adhesive 24, a plurality of spacers SP2 are formed on the surface 5a of the optical component 5 (step S7b in FIG. 15). The spacer SP2 is obtained by curing the adhesive 24. The spacers SP2 are formed at a plurality of locations in the region where the optical component 6 is to be mounted on the surface 5a of the optical component 5.

スペーサSP2は、後で光学部品5上に搭載する光学部品6の裏面と光学部品5の表面5aとの間の間隔を規定するためと、後述の接着材12aを硬化するまで光学部品6を仮固定するために設けられている。このため、スペーサSP2は、光学部品6の仮固定のための粘着性(粘性、タック性)を有している必要がある。   The spacer SP2 temporarily defines the distance between the back surface of the optical component 6 to be mounted on the optical component 5 and the front surface 5a of the optical component 5, and temporarily holds the optical component 6 until the adhesive 12a described later is cured. It is provided for fixing. For this reason, the spacer SP2 needs to have adhesiveness (viscosity, tackiness) for temporarily fixing the optical component 6.

接着材24は、ステップS7bの硬化工程により、粘度が高くなる。このため、ステップS7bの接着材24硬化工程は、接着材24の粘度を高くする処理とみなすこともできる。すなわち、ステップS7aで光学部品5の表面5aの複数箇所に接着材24が配置される際の、その接着材24の粘度を粘度(第3粘度)Vとし、ステップS7bで硬化した後の接着材24の粘度、すなわちスペーサSP2の粘度を、粘度(第4粘度)Vとしたときに、粘度(第4粘度)Vは粘度(第3粘度)Vよりも高くなる(すなわちV>V)。このため、ステップS7bで形成されたスペーサSP2(すなわちステップS7bにより硬化した接着材24)は、ステップS7aで光学部品5の表面5aに配置された段階の接着材24の粘度Vよりも高い粘度Vからなり、かつ粘着性(粘性、タック性)を有したものである。 The viscosity of the adhesive 24 is increased by the curing process in step S7b. For this reason, the adhesive 24 curing step in step S7b can be regarded as a process for increasing the viscosity of the adhesive 24. That is, when the adhesive 24 is arranged at a plurality of locations of the surface 5a of the optical component 5 in step S7a, the viscosity of the adhesive 24 and the viscosity (Third viscosity) V 3, adhesion after curing in step S7b the viscosity of the wood 24, i.e. the viscosity of the spacer SP2, when the viscosity (4th viscosity) V 4, becomes higher than the viscosity (4th viscosity) V 4 viscosity (No. 3 viscosity) V 3 (i.e. V 4 > V 3 ). Therefore, spacer SP2 formed of (i.e. adhesive 24 was cured by step S7b) step S7b, higher viscosity than the viscosity V 3 of the adhesive 24 of the stage disposed on the surface 5a of the optical component 5 in step S7a It consists V 4, and those having an adhesiveness (viscosity, tackiness).

ステップS7aで光学部品5の表面5aに配置する接着材24としては、上記接着材21と同様、紫外線硬化型の接着材が好ましく、この場合、ステップS7bでは、光学部品5の表面5aの接着材24に紫外線を照射することにより、接着材24を硬化してスペーサSP2を形成する。   As the adhesive 24 to be disposed on the surface 5a of the optical component 5 in step S7a, an ultraviolet curable adhesive is preferable like the adhesive 21. In this case, in step S7b, the adhesive on the surface 5a of the optical component 5 is used. By irradiating 24 with ultraviolet rays, the adhesive 24 is cured to form the spacer SP2.

また、紫外線硬化型の接着材は、空気にさらされている(触れている)面は、紫外線を照射しても完全には固まらず、粘着性(粘性、タック性)を有した状態になる。このため、スペーサSP2形成用の接着材24として紫外線硬化型の接着材を用い、上記ステップS7bでは、光学部品5の表面5a上に配置された接着材24の表面が空気に触れた(空気にさらされた)状態で接着材24に紫外線を照射することにより、接着材24を硬化し、スペーサSP2を形成することが好ましい。これにより、光学部品6の仮固定のために必要な粘着性(粘性、タック性)を有するスペーサSP2を容易かつ的確に形成することができる。   In addition, the UV curable adhesive is exposed to air (touched) and does not completely harden even when irradiated with UV light, and has a sticky (viscous, tacky) state. . For this reason, an ultraviolet curable adhesive is used as the spacer 24 for forming the spacer SP2, and in step S7b, the surface of the adhesive 24 arranged on the surface 5a of the optical component 5 has come into contact with the air. It is preferable to cure the adhesive 24 by irradiating the adhesive 24 with ultraviolet rays in the exposed state to form the spacer SP2. Thereby, spacer SP2 which has adhesiveness (viscosity, tackiness) required for temporary fixation of the optical component 6 can be formed easily and exactly.

また、ステップS7aで光学部品5の表面5aに配置する接着材24は、上記接着材21と同様、ある程度の高粘性(接着材11a,12aよりも高い粘度)の接着材を用いることが好ましく、これにより、光学部品5の表面5aに配置した接着材24が、配置後に横方向(平面方向、光学部品5の表面5aに平行な方向)に拡がりにくくすることができ、所定の形状(高さ)のスペーサSP2を形成しやすくなる。   Further, as the adhesive 24 to be arranged on the surface 5a of the optical component 5 in step S7a, it is preferable to use an adhesive having a certain degree of high viscosity (viscosity higher than that of the adhesives 11a and 12a), similar to the adhesive 21. Thereby, the adhesive 24 arranged on the surface 5a of the optical component 5 can be prevented from spreading in the lateral direction (planar direction, direction parallel to the surface 5a of the optical component 5) after the arrangement, and a predetermined shape (height) ) Spacer SP2 is easy to form.

また、スペーサSP2は、光学部品5の表面5aに形成されるが、平面視において、センサ面(センサ領域)SEと重ならない位置に形成する(すなわちスペーサSP2がセンサ面SEと平面的に重ならないようにする)ことが好ましい。これは、ステップS7aにおいて、接着材24の配置位置を、平面視において、センサ面(センサ領域)SEと重ならない位置とすることで実現できる。このようにすることで、センサ面SEの受光素子PHへの光の入射にスペーサSP2が影響しなくなるため、スペーサSP2については、透光性などを気にせずに、スペーサSP2を的確に形成しやすい接着材を接着材24に用いることが可能になる。なお、図56には、光学部品5の下に存在するセンサチップ3のセンサ面SEの位置を二点鎖線で示してある。   The spacer SP2 is formed on the surface 5a of the optical component 5, but is formed at a position that does not overlap with the sensor surface (sensor region) SE in plan view (that is, the spacer SP2 does not overlap with the sensor surface SE in a plane). Is preferable). This can be realized by setting the position of the adhesive 24 in step S7a so that it does not overlap the sensor surface (sensor region) SE in plan view. By doing so, the spacer SP2 does not affect the incidence of light on the light receiving element PH on the sensor surface SE. Therefore, the spacer SP2 is accurately formed without worrying about translucency. An easy-to-use adhesive can be used for the adhesive 24. In FIG. 56, the position of the sensor surface SE of the sensor chip 3 existing under the optical component 5 is indicated by a two-dot chain line.

スペーサSP2は、平面視において、光学部品5の表面5aの外周に沿って(より好ましくは光学部品5の表面5aの各辺(四辺のそれぞれ)に沿って)形成することが好ましく、これにより、スペーサSP2がセンサ面SEと平面的に重ならないようにすることができ、それによる上記効果を的確に享受できるようになる。また、光学部品5の表面5a上に後で光学部品6を配置したときに、光学部品5の表面5aと光学部品6の裏面との間の間隔をスペーサSP2で的確に規定できるようになり、接着材12の層の厚みをスペーサSP2の高さで的確に規定できるようになる。   The spacer SP2 is preferably formed along the outer periphery of the surface 5a of the optical component 5 (more preferably along each side (each of four sides) of the surface 5a of the optical component 5) in plan view. The spacer SP2 can be prevented from overlapping with the sensor surface SE in a planar manner, and the above effect can be enjoyed accurately. In addition, when the optical component 6 is disposed later on the surface 5a of the optical component 5, the distance between the surface 5a of the optical component 5 and the back surface of the optical component 6 can be accurately defined by the spacer SP2. The thickness of the layer of the adhesive material 12 can be accurately defined by the height of the spacer SP2.

また、光学部品5の表面5aにおいて、複数のスペーサSP2同士を平面的に繋げて(一体化して)、光学部品5の表面5aの外周を完全に囲むような一体物として形成してしまうと、後述のステップS8bで光学部品6を配置した際に巻き込まれる空気を、光学部品5と光学部品6との間から外部に排出する流路(経路)を確保できなくなる虞がある。このため、光学部品5の表面5aにおいて、スペーサSP2は複数形成されるが、好ましくは、平面形状が四角形からなる光学部品5の各辺(四辺のそれぞれ)において複数ずつ形成する。この際、個々のスペーサSP2は局所的に形成されることが好ましい。これにより、光学部品5の角部だけでなく、各辺においても、光学部品5と光学部品6との間から外部に空気などを排出する流路(経路)を確保することができ、光学部品5と光学部品6との間にボイドが発生するのを抑制または防止することができる。   Further, on the surface 5a of the optical component 5, when a plurality of spacers SP2 are connected in a plane (integrated) and formed as an integrated object that completely surrounds the outer periphery of the surface 5a of the optical component 5, There is a possibility that a flow path (path) for discharging the air entrained when the optical component 6 is arranged in step S8b described later from the space between the optical component 5 and the optical component 6 to the outside cannot be secured. For this reason, a plurality of spacers SP2 are formed on the surface 5a of the optical component 5, but preferably a plurality of spacers SP2 are formed on each side (each of the four sides) of the optical component 5 having a square planar shape. At this time, the individual spacers SP2 are preferably formed locally. Thereby, not only the corners of the optical component 5 but also each side can secure a flow path (path) for discharging air or the like from between the optical component 5 and the optical component 6 to the outside. It is possible to suppress or prevent the generation of a void between 5 and the optical component 6.

ステップS7のスペーサSP2形成工程の後、光学部品5の表面5aに光学部品6を搭載する(図12のステップS8)。光学部品6の具体的な構成は、既に上述しているので、ここではその繰り返しの説明は省略する。   After the spacer SP2 formation step in step S7, the optical component 6 is mounted on the surface 5a of the optical component 5 (step S8 in FIG. 12). Since the specific configuration of the optical component 6 has already been described above, repeated description thereof is omitted here.

ここで、図57(上面図)、図58(A1−A1断面図)、図59(B1−B1断面図)および図60(C1−C1断面図)は、上記図17、図18、図19および図20にそれぞれ対応する上面図、断面図、断面図および断面図であり、ステップS8a(接着材12a配置工程)が行われた段階(状態)が示されている。また、図61(上面図)、図62(A1−A1断面図)、図63(B1−B1断面図)および図64(C1−C1断面図)は、上記図17、図18、図19および図20にそれぞれ対応する上面図、断面図、断面図および断面図であり、ステップS8b(光学部品6配置工程)が行われた段階(状態)が示されている。また、図65は、図61〜図64と同じ工程段階におけるセンサチップ3およびセンサチップ3上の光学部品5,6を示した平面図(上面図)であり、上記図37、図46および図56に対応している。なお、図65では上記封止部7および上記ボンディングワイヤBWは透視してある。また、図66は、図61〜図64と同じ工程段階におけるセンサチップ3とセンサチップ3上の光学部品5と光学部品5上の光学部品6との積層構造の部分拡大断面図(要部断面図)であり、図65の領域RG4におけるD3−D3線の位置での断面図に対応している。   57 (top view), FIG. 58 (A1-A1 cross-sectional view), FIG. 59 (B1-B1 cross-sectional view) and FIG. 60 (C1-C1 cross-sectional view) are the same as FIGS. FIG. 21 is a top view, a cross-sectional view, a cross-sectional view, and a cross-sectional view corresponding to FIG. 20 and shows a stage (state) in which step S8a (adhesive 12a placement step) is performed. 61 (top view), FIG. 62 (A1-A1 cross-sectional view), FIG. 63 (B1-B1 cross-sectional view), and FIG. 64 (C1-C1 cross-sectional view) are the same as FIG. 17, FIG. 18, FIG. FIG. 21 is a top view, a cross-sectional view, a cross-sectional view, and a cross-sectional view corresponding to FIG. 20, respectively, showing a stage (state) where step S <b> 8 b (optical component 6 placement step) is performed. FIG. 65 is a plan view (top view) showing the sensor chip 3 and the optical components 5 and 6 on the sensor chip 3 in the same process steps as those in FIGS. 61 to 64. FIGS. 37, 46 and FIG. 56. In FIG. 65, the sealing portion 7 and the bonding wire BW are seen through. 66 is a partially enlarged cross-sectional view of the laminated structure of the sensor chip 3, the optical component 5 on the sensor chip 3, and the optical component 6 on the optical component 5 in the same process steps as in FIGS. And corresponds to a cross-sectional view taken along line D3-D3 in region RG4 of FIG.

ステップS8の光学部品6搭載工程は、次のようにして行うことができる。まず、図57〜図60に示されるように、光学部品5の表面5aにおける光学部品6搭載予定領域に、光学部品6接着用の接着材(接着剤)12aを配置(供給、塗布)する(図16のステップS8a)。このとき、光学部品5の表面5aに異物が堆積、または付着していると、配置される接着材12aの濡れ性が低下する(光学部品5の表面5aのほぼ全域に濡れ広がらない)恐れがあるため、接着材12aを配置する前に、この光学部品5の表面5aにプラズマを照射し、光学部品5の表面5aを清浄化しておくことが好ましい。但し、プラズマを必要以上に照射した場合には、光学部品5の表面5aが損傷するおそれもあるため、異物が堆積、または付着していないようであれば、このプラズマクリーニング工程は不要であることは言うまでもない。なお、この接着材12aは、ペースト状の(流動性のある)接着材である。それから、図61〜図66に示されるように、光学部品5の表面5a上に、スペーサSP2および接着材12aを介して、光学部品6を配置(搭載)する(図16のステップS8b)。ステップS8bでは、光学部品6は、光学部品6の裏面が光学部品5の表面5aに対向するように、光学部品5の表面5a上にスペーサSP2および接着材12aを介して配置(搭載)される。それから、この接着材12aを硬化することにより、光学部品5に光学部品6を固定(固着)する(図16のステップS8c)。接着材12aが硬化したものが、上記接着材12である。   The optical component 6 mounting step in step S8 can be performed as follows. First, as shown in FIGS. 57 to 60, an adhesive (adhesive) 12a for bonding the optical component 6 is disposed (supplied and applied) in a region where the optical component 6 is to be mounted on the surface 5a of the optical component 5 (see FIG. 57). Step S8a in FIG. At this time, if foreign matter is deposited or adhered to the surface 5a of the optical component 5, the wettability of the adhesive 12a to be disposed may be reduced (the surface 5a of the optical component 5 does not spread over almost the entire area). For this reason, it is preferable to clean the surface 5a of the optical component 5 by irradiating the surface 5a of the optical component 5 with plasma before placing the adhesive 12a. However, if the plasma is irradiated more than necessary, the surface 5a of the optical component 5 may be damaged, so that this plasma cleaning step is not necessary if foreign matter does not accumulate or adhere. Needless to say. The adhesive material 12a is a paste-like (fluid) adhesive material. Then, as shown in FIGS. 61 to 66, the optical component 6 is arranged (mounted) on the surface 5a of the optical component 5 via the spacer SP2 and the adhesive 12a (step S8b in FIG. 16). In step S8b, the optical component 6 is disposed (mounted) on the surface 5a of the optical component 5 via the spacer SP2 and the adhesive 12a so that the back surface of the optical component 6 faces the surface 5a of the optical component 5. . Then, the adhesive 12a is cured to fix (fix) the optical component 6 to the optical component 5 (step S8c in FIG. 16). The adhesive 12 is cured from the adhesive 12a.

図65および図66からも分かるように、ステップS8bでは、光学部品6の複数のレンズ部13が、光学部品5の遮光層15複数の開口部16とそれぞれ重なる(平面視で重なる)ように、光学部品6を、複数のスペーサSP2および接着材12aを介して光学部品5の表面5a上に配置する。なお、光学部品5の遮光層15複数の開口部16は、センサチップ3の表面3a(センサ面SE)の複数の受光素子PHとそれぞれ重なっている(平面視で重なっている)ので、光学部品6の複数のレンズ部13は、センサチップ3の表面3a(センサ面SE)の複数の受光素子PHとそれぞれ重なっている(平面視で重なっている)ことになる。   As can be seen from FIGS. 65 and 66, in step S8b, the plurality of lens portions 13 of the optical component 6 overlap with the plurality of openings 16 of the light shielding layer 15 of the optical component 5, respectively (overlapping in plan view). The optical component 6 is arrange | positioned on the surface 5a of the optical component 5 through several spacer SP2 and the adhesive material 12a. Since the plurality of openings 16 of the light shielding layer 15 of the optical component 5 overlap with the plurality of light receiving elements PH on the surface 3a (sensor surface SE) of the sensor chip 3 (overlap in plan view), the optical component The plurality of lens units 13 of the 6 overlaps with the plurality of light receiving elements PH on the surface 3a (sensor surface SE) of the sensor chip 3 (overlap in plan view).

ステップS8bの光学部品6配置工程と、ステップS8cの接着材12a硬化工程とについて、図67〜図70を参照しながら、より具体的に説明する。ここで、図67〜図70は、ステップS6bの光学部品6配置工程およびステップS6cの接着材12a硬化工程の説明図であり、上記図58や図62(すなわちA1−A1断面図)に相当する断面が示されている。   The optical component 6 placement step in step S8b and the adhesive 12a curing step in step S8c will be described more specifically with reference to FIGS. Here, FIGS. 67 to 70 are explanatory diagrams of the optical component 6 placement step in step S6b and the adhesive 12a curing step in step S6c, and correspond to FIG. 58 and FIG. 62 (that is, the A1-A1 cross-sectional view). A cross section is shown.

図67に示されるように、ステップS8aの接着材12a配置工程までが行われた配線基板2は、ステップS8bを行う段階では、ステージ(載置台)22上に載置(配置)されている。ステップS8で使用するステージ22は、上記ステップS6で使用するステージ22と同じものであっても、異なるものであってもよい。また、ステージ22上に配線基板2を載置(配置)した状態でステップS8aの接着材12a配置工程を行っても、あるいは、ステップS8aの接着材12a配置工程を行った後にステージ22上に配線基板2を載置(配置)してもよい。配線基板2の下面2bがステージ22の上面22aに対向するように、配線基板2の上面2a側を上方に向けて、配線基板2がステージ22の上面22a上に載置(配置)されている。   As shown in FIG. 67, the wiring board 2 that has been subjected to the adhesive material 12a placement process of step S8a is placed (placed) on the stage (mounting table) 22 in the stage of performing step S8b. The stage 22 used in step S8 may be the same as or different from the stage 22 used in step S6. Further, the wiring material 2 is placed (arranged) on the stage 22 and the adhesive 12a placement process in step S8a is performed, or the wiring material 2 is placed on the stage 22 after the adhesive 12a placement process in step S8a. The substrate 2 may be placed (arranged). The wiring substrate 2 is placed (arranged) on the upper surface 22a of the stage 22 with the upper surface 2a side of the wiring substrate 2 facing upward so that the lower surface 2b of the wiring substrate 2 faces the upper surface 22a of the stage 22. .

ステップS8bを行うには、図67に示されるように、ボンディングツール23で光学部品6を保持(例えば吸着により保持)し、ボンディングツール23で保持された光学部品6を光学部品5(この光学部品5は接着材11によってセンサチップ3に固定されている)の上方から光学部品5の表面5aに向かって下降させる。そして、図68に示されるように、光学部品5の表面5a上に、ボンディングツール23で保持された光学部品6を配置する。これにより、光学部品5の表面5a上に配置された接着材12aが、光学部品5の表面5aのほぼ全域に濡れ広がる。それから、ボンディングツール23による光学部品6の保持(例えば吸着による保持)を停止(中止)し、図69に示されるようにボンディングツール23だけを上昇させ(すなわち光学部品6はボンディングツール23と一緒に上昇させない)、光学部品6は光学部品5上に配置されたまま残す。その後、図70に示されるように、ステップS8cの接着材12aの硬化工程を行って、接着材12aを、硬化した接着材12とする。   In order to perform step S8b, as shown in FIG. 67, the optical component 6 is held (for example, held by suction) by the bonding tool 23, and the optical component 6 held by the bonding tool 23 is optical component 5 (this optical component). 5 is fixed to the sensor chip 3 by the adhesive 11) and is lowered toward the surface 5 a of the optical component 5. Then, as shown in FIG. 68, the optical component 6 held by the bonding tool 23 is disposed on the surface 5 a of the optical component 5. Thereby, the adhesive 12a arranged on the surface 5a of the optical component 5 spreads over almost the entire surface 5a of the optical component 5. Then, the holding (for example, holding by suction) of the optical component 6 by the bonding tool 23 is stopped (stopped), and only the bonding tool 23 is raised as shown in FIG. 69 (that is, the optical component 6 is moved together with the bonding tool 23). The optical component 6 remains disposed on the optical component 5. Thereafter, as shown in FIG. 70, the curing step of the adhesive 12a in step S8c is performed, so that the adhesive 12a is a cured adhesive 12.

本実施の形態では、上記ステップS8bでは、光学部品6に荷重を加えながら、光学部品6を光学部品5の表面5a上に配置し、一方、上記ステップS8cでは、光学部品6に荷重を加えない状態で接着材12aを硬化させる。具体的には、上記ステップS8bでは、ボンディングツール23で保持した光学部品6を、複数のスペーサSP2および接着材12aを介して光学部品5の表面5a上に配置するため、上記ステップS8bでは、ボンディングツール23による荷重を光学部品6に加えながら、光学部品6を光学部品5の表面5a上に配置することになる。一方、上記ステップS8cでは、ボンディングツール23が光学部品6から離れた状態で接着材12aを硬化させるため、上記ステップS8cでは、光学部品6に荷重を加えない状態で接着材12aを硬化させることになる。   In the present embodiment, in step S8b, the optical component 6 is placed on the surface 5a of the optical component 5 while applying a load to the optical component 6. On the other hand, in step S8c, no load is applied to the optical component 6. The adhesive 12a is cured in the state. Specifically, in step S8b, the optical component 6 held by the bonding tool 23 is disposed on the surface 5a of the optical component 5 via the plurality of spacers SP2 and the adhesive 12a. Therefore, in step S8b, bonding is performed. The optical component 6 is placed on the surface 5 a of the optical component 5 while applying a load by the tool 23 to the optical component 6. On the other hand, in step S8c, the bonding material 12a is cured with the bonding tool 23 away from the optical component 6. Therefore, in step S8c, the adhesive 12a is cured without applying a load to the optical component 6. Become.

ステップS7で形成されたスペーサSP2は粘着性を有しているため、ステップS8bで光学部品5の表面5a上に配置された光学部品6はスペーサSP2(スペーサSP2の粘着性)によって仮固定され、この仮固定された状態で、ステップS8cの接着材12aの硬化工程が行われる。このため、ステップS8cの接着材12aの硬化工程で光学部品6をボンディングツール23などで押さえなくとも(保持しなくとも)、光学部品6が水平方向に動くのを防止できる。そして、ステップS8cで、光学部品6をボンディングツール23などで押さえる(保持する)ことなく、光学部品6に荷重を加えない状態で接着材12aを硬化させることにより、硬化した接着材12に干渉縞が発生するのを抑制または防止でき、接着材12の透過率が低下するのを抑制または防止することができる。   Since the spacer SP2 formed in step S7 has adhesiveness, the optical component 6 disposed on the surface 5a of the optical component 5 in step S8b is temporarily fixed by the spacer SP2 (adhesiveness of the spacer SP2). In this temporarily fixed state, the curing step of the adhesive material 12a in step S8c is performed. For this reason, it is possible to prevent the optical component 6 from moving in the horizontal direction without pressing (holding) the optical component 6 with the bonding tool 23 or the like in the step of curing the adhesive material 12a in step S8c. In step S8c, the adhesive 12a is cured without pressing (holding) the optical component 6 with the bonding tool 23 or the like without applying a load to the optical component 6, thereby causing interference fringes on the cured adhesive 12. Generation | occurrence | production can be suppressed or prevented, and it can suppress or prevent that the transmittance | permeability of the adhesive material 12 falls.

上述のように、接着材12は、透光性(光の透過性、光を透過する性質)を有することが必要であり、そうすることで、センサチップ3の上記受光素子PHへの光の入射が、接着材12により阻害される(遮られる)のを防止することができる。このため、ステップS8aで光学部品5の表面5aに配置(供給)する接着材12aとして、透光性を有する接着材を使用する必要がある。紫外線硬化型の接着材は透光性を有しているため、ステップS8aで光学部品5の表面5aに配置する接着材12aとして、紫外線硬化型の接着材を好適に用いることができるが、透光性を確保できるのであれば、熱硬化型の接着材を用いてもよい。   As described above, the adhesive material 12 is required to have a light transmitting property (light transmitting property, light transmitting property), and by doing so, the light to the light receiving element PH of the sensor chip 3 is transmitted. Incidence can be prevented from being blocked (obstructed) by the adhesive 12. For this reason, it is necessary to use a translucent adhesive as the adhesive 12a disposed (supplied) on the surface 5a of the optical component 5 in step S8a. Since the ultraviolet curable adhesive has translucency, an ultraviolet curable adhesive can be suitably used as the adhesive 12a placed on the surface 5a of the optical component 5 in step S8a. A thermosetting adhesive may be used as long as the light property can be secured.

ステップS8cで接着材12aを硬化させる処理としては、熱処理(接着材12aが熱硬化性を有している場合)または紫外線照射処理(接着材12aが紫外線硬化性を有している場合)を行うことができる。但し、光学部品6の少なくとも一部(例えばレンズ部13)がアクリル樹脂などの樹脂材料(透明樹脂)により形成されている場合、光学部品6に加熱の影響が生じるのを避ける観点から、ステップS8cで接着材12aを硬化させる処理として、熱処理ではなく紫外線照射処理を行うことが、より好ましい。これは、光学部品6の耐熱温度(レンズ部13などにアクリル樹脂を使用した場合は90℃程度)よりも低温の熱処理では、接着材12aを十分に硬化させにくいため、紫外線照射処理によって接着材12aを硬化させた方がよいからである。このため、ステップS8aで光学部品5の表面5aに配置する接着材12aとして、紫外線硬化型の接着材を用い、ステップS8cで接着材12aを硬化させる処理として、紫外線照射処理を行うことが、より好ましい。   As a process for curing the adhesive 12a in step S8c, a heat treatment (when the adhesive 12a has thermosetting properties) or an ultraviolet irradiation process (when the adhesive 12a has ultraviolet curing properties) is performed. be able to. However, when at least a part of the optical component 6 (for example, the lens portion 13) is formed of a resin material (transparent resin) such as acrylic resin, from the viewpoint of avoiding the heating effect on the optical component 6, step S8c. As the process for curing the adhesive 12a, it is more preferable to perform an ultraviolet irradiation process instead of a heat treatment. This is because the adhesive 12a is not sufficiently cured by heat treatment at a temperature lower than the heat-resistant temperature of the optical component 6 (about 90 ° C. when an acrylic resin is used for the lens portion 13 or the like). This is because it is better to cure 12a. For this reason, it is more possible to use an ultraviolet curable adhesive as the adhesive 12a placed on the surface 5a of the optical component 5 in step S8a, and to perform an ultraviolet irradiation process as a process of curing the adhesive 12a in step S8c. preferable.

一方、光学部品6の少なくとも一部(例えばレンズ部13)がアクリル樹脂などの樹脂材料(透明樹脂)により形成されている場合であっても、ステップS6cの段階ではまだ光学部品6を搭載していないため、ステップS6cにおいては、光学部品6の耐熱温度よりも高温の熱処理により接着材11aを硬化させることができる。また、ステップS6cにおいて、熱処理によって接着材11aを硬化させた場合には、接着材11aにおいて紫外線が照射されない(当たらない)部分が存在しない、言い換えると、安定した硬化処理が可能という利点も得られる。   On the other hand, even when at least a part of the optical component 6 (for example, the lens portion 13) is formed of a resin material (transparent resin) such as acrylic resin, the optical component 6 is still mounted at the step S6c. Therefore, in step S6c, the adhesive 11a can be cured by heat treatment higher than the heat resistant temperature of the optical component 6. In addition, when the adhesive 11a is cured by heat treatment in step S6c, there is an advantage that there is no portion where the ultraviolet light is not irradiated (does not hit) in the adhesive 11a, in other words, a stable curing process is possible. .

このため、ステップS6cにおいて熱処理により接着材11aを硬化させ、一方、ステップS8cでは、光学部品6の耐熱温度を考慮して、紫外線照射処理により接着材12aを硬化させることが、より好ましい。この場合、光学部品6の耐熱温度が、ステップS6cにおける熱処理の温度(接着材11aを硬化させる加熱温度)よりも低くてもよい。これにより、光学部品6の低い耐熱温度に影響されることなく、ステップS6c(接着材11a硬化工程)およびステップS8c(接着材12a硬化工程)を行うことができる。   For this reason, it is more preferable that the adhesive 11a is cured by heat treatment in step S6c, while the adhesive 12a is cured by ultraviolet irradiation processing in step S8c in consideration of the heat resistant temperature of the optical component 6. In this case, the heat resistant temperature of the optical component 6 may be lower than the temperature of the heat treatment in Step S6c (heating temperature for curing the adhesive 11a). Thereby, step S6c (adhesive material 11a hardening process) and step S8c (adhesive material 12a hardening process) can be performed without being influenced by the low heat-resistant temperature of the optical component 6.

また、上記ステップS6aで用いる接着材11aとステップS8aで用いる接着材12aに、同じ(同種の)接着材を用いれば、共通の接着材を接着材11aと接着材12aとに用いることができるため、製造(組立)の手間を低減できる。また、同じ製造装置(接着材塗布装置)を用いてステップS6aの接着材11a配置工程とステップS8aの接着材12a配置工程とを行うことができるため、製造工程(製造ライン)を簡略化することができ、製造コストも低減できる。また、紫外線硬化性と熱硬化性との両方の性質を兼ね備えた共通の接着材を、接着材11aと接着材12aとに使用すれば、ステップS6cで接着材11aを硬化させる処理として熱処理を行い、ステップS8cで接着材12aを硬化させる処理として紫外線照射処理を行うことができる。   Further, if the same (same kind) adhesive is used for the adhesive 11a used in step S6a and the adhesive 12a used in step S8a, a common adhesive can be used for the adhesive 11a and the adhesive 12a. , Manufacturing (assembly) labor can be reduced. Moreover, since the adhesive 11a arrangement | positioning process of step S6a and the adhesive 12a arrangement | positioning process of step S8a can be performed using the same manufacturing apparatus (adhesive material coating apparatus), a manufacturing process (manufacturing line) is simplified. And manufacturing costs can be reduced. Further, if a common adhesive material having both ultraviolet curable properties and thermosetting properties is used for the adhesive material 11a and the adhesive material 12a, heat treatment is performed as a process for curing the adhesive material 11a in step S6c. In step S8c, an ultraviolet irradiation process can be performed as a process for curing the adhesive 12a.

また、ステップS8aでは、接着材12aは、側面視において、スペーサSP2よりも突出するように光学部品5の表面5a上に配置されることが好ましい。すなわち、ステップS8aで光学部品5の表面5aに配置された接着材12aの高さHが、スペーサSP2の高さHよりも高くなるようにすることが好ましい(すなわちH>H)。ここで、スペーサSP2の高さHおよび接着材12aの高さHは図58にも示されており、光学部品5の表面5aに垂直な方向の高さに対応している。こうすることで、ステップS8b(光学部品6配置工程)では、光学部品6の裏面により接着材12aが押し広げられ、光学部品5の表面5aと光学部品6の裏面との間に接着材12aをまんべんなく行渡らせることができる。スペーサSP2の高さHは、例えば20〜40μm程度とすることができる。また、接着材12aの高さHとスペーサSP2の高さHとの差(すなわち「H−H」)は、例えば100〜200μm程度とすることができる。 In step S8a, the adhesive 12a is preferably disposed on the surface 5a of the optical component 5 so as to protrude from the spacer SP2 in a side view. That is, the adhesive 12a of the height H 4, which is disposed on the surface 5a of the optical component 5 in step S8a, it is preferable to be higher than the height H 3 of the spacer SP2 (i.e. H 4> H 3) . Here, the height H 3 of the spacer SP 2 and the height H 4 of the adhesive 12 a are also shown in FIG. 58, and correspond to the height in the direction perpendicular to the surface 5 a of the optical component 5. By doing so, in step S8b (optical component 6 placement step), the adhesive 12a is spread by the back surface of the optical component 6, and the adhesive material 12a is placed between the front surface 5a of the optical component 5 and the back surface of the optical component 6. It can be evenly distributed. The height H 3 of the spacer SP2 may be, for example 20~40μm about. The difference between the height H 3 of the height H 4 and the spacer SP2 adhesive 12a (i.e., "H 4 -H 3") may be, for example 100~200μm about.

また、ステップS8aでは、接着材12aは、光学部品5の表面5aの中央部に配置され、ステップS8b(光学部品6配置工程)では、光学部品6の裏面により接着材12aが押し広げられるようにすることが、より好ましい。この際、接着材12aは、光学部品5の表面5aの全面ではなく、光学部品5の表面5aの面積よりも小さな面積(領域)に配置された状態となる。そうすれば、ステップS8aでの接着材12aの配置領域を中央部に限定したことにより、ステップS8a(接着材12a配置工程)に要する時間を短縮でき、また接着材12aの供給量を制御しやすくなるとともに、ステップS8bで光学部品6を配置する際に接着材12aが押し広げられることにより、光学部品5の表面5aと光学部品6の裏面との間に接着材12aをまんべんなく行渡らせることができる。   In step S8a, the adhesive material 12a is disposed at the center of the surface 5a of the optical component 5, and in step S8b (optical component 6 placement step), the adhesive material 12a is pushed and spread by the back surface of the optical component 6. It is more preferable to do. At this time, the adhesive material 12a is not disposed on the entire surface 5a of the optical component 5, but in an area (region) smaller than the area of the surface 5a of the optical component 5. Then, by limiting the arrangement region of the adhesive material 12a in step S8a to the central portion, the time required for step S8a (adhesive material 12a arrangement process) can be shortened, and the supply amount of the adhesive material 12a can be easily controlled. At the same time, when the optical component 6 is arranged in step S8b, the adhesive 12a is pushed and spread, so that the adhesive 12a can be evenly distributed between the front surface 5a of the optical component 5 and the back surface of the optical component 6. it can.

また、ステップS8b(光学部品6配置工程)で光学部品6の裏面により接着材12aを押し広げて光学部品5の表面5aと光学部品6の裏面との間に接着材12aをまんべんなく行渡らせやすくするために、接着材12aには、比較的低粘度の接着材を使用することが好ましい。一方、スペーサSP2形成用の接着材24は、上述のように、ステップS7bの硬化処理を行うまで流動しにくいように、比較的高粘度の接着材を使用することが好ましい。このため、ステップS8aで光学部品5の表面5aに配置する接着材12aの粘度は、ステップS7aで光学部品5の表面5aに配置する接着材24の粘度よりも低いことが好ましい。これにより、ステップS8bにおける接着材12aの流動しやすさと、ステップS7a後でかつステップS7bの硬化処理までの間の接着材24の流動しにくさとを、両立することができる。   Also, in step S8b (optical component 6 placement step), the adhesive 12a is spread out by the back surface of the optical component 6 so that the adhesive material 12a can be distributed evenly between the front surface 5a of the optical component 5 and the back surface of the optical component 6. Therefore, it is preferable to use a relatively low viscosity adhesive for the adhesive 12a. On the other hand, as described above, it is preferable to use a relatively high-viscosity adhesive for the spacer SP2 forming adhesive 24 so that it does not easily flow until the curing process in step S7b is performed. For this reason, it is preferable that the viscosity of the adhesive 12a disposed on the surface 5a of the optical component 5 in step S8a is lower than the viscosity of the adhesive 24 disposed on the surface 5a of the optical component 5 in step S7a. Thereby, it is possible to achieve both the ease of flow of the adhesive 12a in step S8b and the difficulty of flow of the adhesive 24 after step S7a and before the curing process of step S7b.

ステップS8aで光学部品5の表面5aに配置する接着材21aの粘度は、例えば3000ミリパスカル/秒(mPa/秒)程度とすることができ、一方、ステップS7aで光学部品5の表面5aに配置する接着材24の粘度は、例えば30000ミリパスカル/秒(mPa/秒)程度とすることができる。この粘度の値は、回転粘度計で測定されたものである。   The viscosity of the adhesive 21a disposed on the surface 5a of the optical component 5 in step S8a can be set to, for example, about 3000 millipascal / second (mPa / second), while being disposed on the surface 5a of the optical component 5 in step S7a. The viscosity of the adhesive 24 to be applied can be, for example, about 30000 millipascal / second (mPa / second). This viscosity value is measured with a rotational viscometer.

また、ステップS8bにおいて、ボンディングツール23で保持した光学部品6を光学部品5の表面5a上に配置したときに、平面視でボンディングツール23の先端部(ボンディングツール23において光学部品6と接している部分)23aと重ならない位置に、スペーサSP2を形成しておくことが好ましい。なお、図65において、光学部品6を保持するボンディングツール23の先端部23aの位置を一点鎖線で示してある。これにより、ボンディングツール23による荷重がスペーサSP2に伝わりにくくなるため、ステップS8b(光学部品6配置工程)でスペーサSP2が変形するのを、より的確に防止できるようになる。このため、ステップS8cで接着材12aを硬化させる際の光学部品5の表面5aと光学部品6の裏面との間の間隔をスペーサSP2によって的確に規定でき、所望の厚さの接着材12の層をより的確に形成できるようになる。   In step S8b, when the optical component 6 held by the bonding tool 23 is placed on the surface 5a of the optical component 5, the tip of the bonding tool 23 (in contact with the optical component 6 in the bonding tool 23) in plan view. It is preferable to form the spacer SP2 at a position that does not overlap the portion 23a. In FIG. 65, the position of the tip 23a of the bonding tool 23 that holds the optical component 6 is indicated by a one-dot chain line. Thereby, since the load by the bonding tool 23 is not easily transmitted to the spacer SP2, it is possible to more accurately prevent the spacer SP2 from being deformed in step S8b (optical component 6 placement step). For this reason, the distance between the front surface 5a of the optical component 5 and the back surface of the optical component 6 when the adhesive material 12a is cured in step S8c can be accurately defined by the spacer SP2, and the layer of the adhesive material 12 having a desired thickness can be obtained. Can be formed more accurately.

このようにして、上記図1〜図11を参照して説明したような本実施の形態のセンサモジュールMJ1が製造される(組み立てられる)。   In this way, the sensor module MJ1 of the present embodiment as described with reference to FIGS. 1 to 11 is manufactured (assembled).

<センサモジュールの使用例について>
図71は、センサモジュールMJ1を使用した指静脈認証装置(静脈認証用センサ)31の説明図である。
<Examples of sensor module usage>
FIG. 71 is an explanatory diagram of a finger vein authentication device (vein authentication sensor) 31 using the sensor module MJ1.

図71に示される指静脈認証装置31は、上述したセンサモジュールMJ1と、センサモジュールMJ1を収容する容器32と、センサモジュールMJ1上に位置するように容器32に取り付けられた赤外フィルタ33と、容器32に取り付けられた光源34とを有している。   The finger vein authentication device 31 shown in FIG. 71 includes the sensor module MJ1, the container 32 that houses the sensor module MJ1, and the infrared filter 33 that is attached to the container 32 so as to be positioned on the sensor module MJ1. And a light source 34 attached to the container 32.

指静脈認証装置31の使用原理を簡単に説明すると、指静脈認証装置31上に指36を置き(載せ)、光源34から赤外線を指36に照射し、その散乱した光の反射をセンサモジュールMJ1の光学部品6の上記複数のレンズ部13で受光し、各レンズ部13で集光した光をセンサチップ3の上記各受光素子PHで検知するというものである。これにより、指36の静脈37のパターンを読み取ることができる。   The usage principle of the finger vein authentication device 31 will be briefly described. A finger 36 is placed on (placed on) the finger vein authentication device 31, and the finger 36 is irradiated with infrared light from the light source 34, and the reflected light is reflected on the sensor module MJ1. The light received by the plurality of lens portions 13 of the optical component 6 and collected by the lens portions 13 is detected by the light receiving elements PH of the sensor chip 3. Thereby, the pattern of the vein 37 of the finger 36 can be read.

<センサモジュールの主要な特徴と効果について>
本実施の形態とは異なり、センサチップ上に光学部品5,6を設ける代わりに、センサチップの上方にセンサチップからある程度離間して1つだけレンズを配置し、この1つのレンズにより集光した光をセンサチップで受光するセンサモジュール構成とした場合には、レンズの厚みが厚い分と、レンズの焦点距離が長い分、センサモジュールの厚みが厚くなってしまう。無理に薄型化を図ろうとすると、画像の歪みなどを生じる可能性がある。
<Main features and effects of sensor module>
Unlike this embodiment, instead of providing the optical components 5 and 6 on the sensor chip, only one lens is arranged above the sensor chip at a certain distance from the sensor chip, and the light is collected by this one lens. In the case of a sensor module configuration in which light is received by the sensor chip, the thickness of the sensor module increases due to the thicker lens and the longer focal length of the lens. If you try to make it thinner, it may cause image distortion.

それに対して、本実施の形態のセンサモジュールMJ1は、1つのレンズにより集光した光をセンサチップ3で受光するのではなく、光学部品6の複数のレンズ部13でそれぞれ集光された光をセンサチップ3(の受光素子PH)で受光する。このため、1つのレンズにより集光した光をセンサチップ3で受光する場合に比べて、本実施の形態では、レンズ(本実施の形態ではレンズ部13に対応)の厚みや焦点距離を小さくすることができ、レンズ(本実施の形態ではレンズ部13に対応)の表面からセンサチップ3までの距離を短くすることができる。このため、本実施の形態のセンサモジュールMJ1は、センサチップ3上に光学部品5を接着した(更に光学部品5上に光学部品6を接着した)構成とされ、センサモジュールMJ1の厚みを薄くすることができ、センサモジュールMJ1の薄型化を図ることができる。   On the other hand, the sensor module MJ1 of the present embodiment does not receive the light collected by one lens by the sensor chip 3, but the light collected by the plurality of lens portions 13 of the optical component 6 respectively. The sensor chip 3 (light receiving element PH) receives the light. For this reason, compared with the case where the light collected by one lens is received by the sensor chip 3, in this embodiment, the thickness and focal length of the lens (corresponding to the lens portion 13 in this embodiment) are reduced. The distance from the surface of the lens (corresponding to the lens portion 13 in the present embodiment) to the sensor chip 3 can be shortened. For this reason, the sensor module MJ1 of the present embodiment has a configuration in which the optical component 5 is bonded to the sensor chip 3 (and the optical component 6 is bonded to the optical component 5), and the thickness of the sensor module MJ1 is reduced. Therefore, the sensor module MJ1 can be thinned.

また、本実施の形態のセンサモジュールMJ1は、センサチップ3上に光学部品5を配置し、この光学部品5に、センサチップ3の複数の受光素子PHに対応する複数の開口部16を有する遮光層15を備えさせたことで、センサチップ3の複数の受光素子PHのそれぞれにおいて、直上方向からの局所光だけを受光させることができる。これにより、不要な光がセンサチップ3の受光素子PHに入射するのを防止することができ、感度を高めることができる。   In the sensor module MJ1 of the present embodiment, the optical component 5 is disposed on the sensor chip 3, and the optical component 5 includes a plurality of openings 16 corresponding to the plurality of light receiving elements PH of the sensor chip 3. Since the layer 15 is provided, each of the plurality of light receiving elements PH of the sensor chip 3 can receive only local light from directly above. Thereby, unnecessary light can be prevented from entering the light receiving element PH of the sensor chip 3, and the sensitivity can be increased.

また、本実施の形態のセンサモジュールMJ1は、上記指静脈認証装置31のような静脈認証用(静脈認識用)のセンサに好適に使用できるが、それ以外の種々のセンサ、例えば指紋認識用のセンサに用いることもできる。   The sensor module MJ1 of the present embodiment can be suitably used for a vein authentication (vein recognition) sensor such as the finger vein authentication device 31, but various other sensors, for example, for fingerprint recognition. It can also be used for sensors.

<センサモジュールの製造工程の主要な特徴と効果について>
センサチップ上に光学部品を接着材で接着した構成のセンサモジュールでは、センサモジュール全体の厚みを薄くできるが、センサチップの画素毎に遮光層の光学領域(上記開口部16に対応)やレンズ部(上記レンズ部13に対応)を設ける必要がある。このため、本実施の形態のセンサモジュールMJ1においても、センサチップ3の各画素(各受光素子PH)に整合して、光学部品5の遮光層15の各開口部16と光学部品6の各レンズ部13とを配置する必要があるので、センサチップ3に対する光学部品5,6の位置ズレの許容度が小さくなる。従って、センサモジュールMJ1を製造する上で、センサチップ3上に光学部品5,6を精度良く搭載することが望まれる。
<Main features and effects of sensor module manufacturing process>
In the sensor module having a configuration in which an optical component is bonded to the sensor chip with an adhesive, the thickness of the entire sensor module can be reduced. However, the optical region of the light shielding layer (corresponding to the opening 16) or the lens unit for each pixel of the sensor chip. (Corresponding to the lens unit 13) must be provided. Therefore, also in the sensor module MJ1 of the present embodiment, each opening 16 of the light shielding layer 15 of the optical component 5 and each lens of the optical component 6 are aligned with each pixel (each light receiving element PH) of the sensor chip 3. Since it is necessary to arrange the part 13, the tolerance of the positional deviation of the optical components 5 and 6 with respect to the sensor chip 3 is reduced. Therefore, when manufacturing the sensor module MJ1, it is desirable to mount the optical components 5 and 6 on the sensor chip 3 with high accuracy.

そこで、本実施の形態では、ステップS5でセンサチップ3の表面3aに粘着性を有するスペーサSP1を複数形成してから、ステップS6aでセンサチップ3の表面3aにペースト状の接着材11aを配置し、ステップS6bで、光学部品5を、複数のスペーサSP1および接着材11aを介してセンサチップ3の表面3a上に配置し、ステップS6cで接着材11aを硬化させている。   Therefore, in this embodiment, after a plurality of adhesive spacers SP1 are formed on the surface 3a of the sensor chip 3 in step S5, the paste-like adhesive 11a is disposed on the surface 3a of the sensor chip 3 in step S6a. In step S6b, the optical component 5 is disposed on the surface 3a of the sensor chip 3 via the plurality of spacers SP1 and the adhesive material 11a, and the adhesive material 11a is cured in step S6c.

ステップS5で形成されたスペーサSP1は粘着性を有しており、ステップS6bでは光学部品5を、複数のスペーサSP1および接着材11aを介してセンサチップ3の表面3a上に配置しているため、センサチップ3の表面3a上に配置された光学部品5はスペーサSP1(スペーサSP1の粘着性)によって仮固定され、この仮固定された状態で、ステップS6cの接着材11aの硬化工程が行われる。このため、ステップS6cで接着材11aが硬化してしまうまでは、スペーサSP1によって光学部品5を仮固定することができるので、ステップS6bで光学部品5をセンサチップ3上に配置してからステップS6cで接着材11aの硬化が終了するまでの間に、センサチップ3に対して光学部品5が動いてしまう(水平方向に動いてしまう)のを、抑制または防止することができる。   The spacer SP1 formed in step S5 has adhesiveness, and in step S6b, the optical component 5 is disposed on the surface 3a of the sensor chip 3 via the plurality of spacers SP1 and the adhesive 11a. The optical component 5 arranged on the surface 3a of the sensor chip 3 is temporarily fixed by the spacer SP1 (adhesiveness of the spacer SP1), and in this temporarily fixed state, the curing step of the adhesive 11a in step S6c is performed. For this reason, since the optical component 5 can be temporarily fixed by the spacer SP1 until the adhesive 11a is cured in step S6c, the optical component 5 is placed on the sensor chip 3 in step S6b and then step S6c. Thus, it is possible to suppress or prevent the optical component 5 from moving with respect to the sensor chip 3 (moving in the horizontal direction) until the curing of the adhesive 11a is completed.

そして、本実施の形態では、ステップS6bでは、光学部品5に荷重を加えながら、光学部品5をセンサチップ3の表面3a上に配置するが、ステップS6cでは、光学部品5に荷重を加えない状態で接着材11aを硬化させる。   In this embodiment, in step S6b, the optical component 5 is placed on the surface 3a of the sensor chip 3 while applying a load to the optical component 5, but in step S6c, no load is applied to the optical component 5. To cure the adhesive 11a.

本実施の形態とは異なり、ステップS5のスペーサSP1形成工程を省略した場合、ステップS6bで光学部品5をセンサチップ3の表面3a上に配置した後、光学部品5を仮固定するスペーサSP1が無いことから、ステップS6cの接着材11aの硬化工程の終了までの間に光学部品5が動いてしまう虞がある。上述のように、センサチップ3に対する光学部品5の位置ズレの許容度が小さいため、ステップS6bの光学部品5の配置工程の後、ステップS6cの接着材11aの硬化工程の終了までの間に光学部品5が動いてしまう現象を防止する必要がある。このため、本実施の形態とは異なり、ステップS5のスペーサSP1形成工程を省略した場合に、ステップS6bで光学部品5をセンサチップ3の表面3a上に配置した後、ステップS6cの接着材11aの硬化工程の終了まで光学部品5をボンディングツール23などで押さえることで、光学部品5が動くのを防止することが考えられる。しかしながら、ステップS6bで光学部品5をセンサチップ3の表面3a上に配置した後、ステップS6cの接着材11aの硬化工程の終了まで光学部品5をボンディングツール23などで押さえた場合には、光学部品5への荷重に起因して光学部品5とセンサチップ3との間の接着材11の厚みにばらつきが生じ、硬化した接着材11に干渉縞が発生し、接着材11の透過率が低下する現象が生じてしまう。   Unlike this embodiment, when the step of forming the spacer SP1 in step S5 is omitted, there is no spacer SP1 for temporarily fixing the optical component 5 after the optical component 5 is arranged on the surface 3a of the sensor chip 3 in step S6b. For this reason, there is a possibility that the optical component 5 may move before the end of the curing process of the adhesive material 11a in step S6c. As described above, since the tolerance of the positional deviation of the optical component 5 with respect to the sensor chip 3 is small, the optical component 5 after the placement step of the optical component 5 in step S6b and before the end of the curing step of the adhesive 11a in step S6c. It is necessary to prevent the phenomenon that the component 5 moves. For this reason, unlike this embodiment, when the spacer SP1 formation step in step S5 is omitted, after the optical component 5 is arranged on the surface 3a of the sensor chip 3 in step S6b, the adhesive 11a in step S6c It is conceivable to prevent the optical component 5 from moving by pressing the optical component 5 with the bonding tool 23 or the like until the end of the curing process. However, when the optical component 5 is placed on the surface 3a of the sensor chip 3 in step S6b and then the optical component 5 is pressed by the bonding tool 23 or the like until the curing process of the adhesive 11a in step S6c is completed, the optical component The thickness of the adhesive 11 between the optical component 5 and the sensor chip 3 varies due to the load on the optical component 5, interference fringes occur in the cured adhesive 11, and the transmittance of the adhesive 11 decreases. The phenomenon will occur.

それに対して、本実施の形態では、ステップS6cでは、光学部品5をボンディングツール23などで押さえる(保持する)ことなく、光学部品5に荷重を加えない状態で接着材11aを硬化させる。ステップS6bで光学部品5をセンサチップ3の表面3a上に配置した後は、スペーサSP1によって光学部品5を仮固定できるため、ステップS6cの接着材11aの硬化工程で光学部品5をボンディングツール23などで押さえなくとも(保持しなくとも)、光学部品5が水平方向に動くのを防止できる。そして、ステップS6cで、光学部品5をボンディングツール23などで押さえる(保持する)ことなく、光学部品5に荷重を加えない状態で接着材11aを硬化させることにより、硬化した接着材11に干渉縞が発生するのを抑制または防止でき、接着材11の透過率が低下するのを抑制または防止することができる。   In contrast, in this embodiment, in step S6c, the adhesive 11a is cured without applying a load to the optical component 5 without pressing (holding) the optical component 5 with the bonding tool 23 or the like. After the optical component 5 is arranged on the surface 3a of the sensor chip 3 in step S6b, the optical component 5 can be temporarily fixed by the spacer SP1, so that the optical component 5 is bonded to the bonding tool 23 or the like in the curing process of the adhesive 11a in step S6c. Even without pressing (without holding), it is possible to prevent the optical component 5 from moving in the horizontal direction. In step S6c, the adhesive 11a is cured without pressing (holding) the optical component 5 with the bonding tool 23 or the like without applying a load to the optical component 5, thereby causing interference fringes on the cured adhesive 11. Generation | occurrence | production can be suppressed or prevented, and it can suppress or prevent that the transmittance | permeability of the adhesive material 11 falls.

接着材11に干渉縞が発生するのを防止し、接着材11の透過率が低下するのを防止できる理由について、より詳細に説明する。ステップS6aで光学部品5をセンサチップ3a上に配置する際に、ボンディングツール23の荷重が光学部品5に加わり、光学部品5を介して接着材11aにも伝わるが、この段階では接着材11aの硬化は始まっておらず、ボンディングツール23を光学部品5から離すことで、光学部品5に加わる荷重が無くなり、光学部品5を介して接着材11aに伝わるも荷重が無くなるため、接着材11aに発生していたムラ(干渉縞)が無くなる。そして、ステップS6cで接着材11aを硬化させる処理(紫外線照射処理または熱処理など)を接着材11aに加える段階では、既にボンディングツール23で光学部品5を保持しておらず、光学部品5に荷重は印加されておらず、光学部品5を介して接着材11aに伝わる荷重も無いため、接着材11aにムラ(干渉縞)が無い状態で接着材11aが硬化される。これにより、硬化した接着材11にムラ(干渉縞)が生じるのを抑制または防止でき、接着材11の光の透過率の低下を抑制または防止できる。   The reason why it is possible to prevent interference fringes from being generated in the adhesive 11 and prevent the transmittance of the adhesive 11 from decreasing will be described in more detail. When the optical component 5 is arranged on the sensor chip 3a in step S6a, the load of the bonding tool 23 is applied to the optical component 5 and is transmitted to the adhesive 11a via the optical component 5, but at this stage, the adhesive 11a Curing has not started, and the load applied to the optical component 5 is eliminated by separating the bonding tool 23 from the optical component 5, and the load transmitted to the adhesive 11 a through the optical component 5 is eliminated. The unevenness (interference fringes) that had been made disappears. In step S6c, the optical component 5 is not already held by the bonding tool 23 at the stage of applying the treatment for curing the adhesive 11a (ultraviolet irradiation treatment or heat treatment) to the adhesive 11a. Since no load is applied and no load is transmitted to the adhesive 11a via the optical component 5, the adhesive 11a is cured in a state where there is no unevenness (interference fringes) in the adhesive 11a. Thereby, it is possible to suppress or prevent unevenness (interference fringes) from occurring in the cured adhesive material 11 and to suppress or prevent a decrease in light transmittance of the adhesive material 11.

また、ステップS6bで光学部品5をセンサチップ3の表面3a上に配置すると、センサチップ3の表面3aと光学部品5の裏面との間の距離は、スペーサSP1の高さによって規定される。そして、ステップS6cでは、光学部品5をボンディングツール23などで押さえる(保持する)ことなく、光学部品5に荷重を加えない状態で接着材11aを硬化させる。このため、ステップS6cでは、光学部品5が撓んでいない状態で接着材11aが硬化するため、硬化した接着材11の厚みは、スペーサSP1の高さとほぼ同じになる。スペーサSP1の高さは、ステップS5aでセンサチップ3の表面3aにおける各スペーサSP1の形成予定位置に配置する接着材21の量や粘度を調整することにより、制御することができる。すなわち、各スペーサSP1の形成予定位置に同じ粘度の接着材を同じ量だけ配置することで、ほぼ同じ高さのスペーサSP1を形成することができる。これにより、センサモジュールMJ1毎の接着材11の厚みを、より均一にすることもできる。   Further, when the optical component 5 is arranged on the front surface 3a of the sensor chip 3 in step S6b, the distance between the front surface 3a of the sensor chip 3 and the back surface of the optical component 5 is defined by the height of the spacer SP1. In step S6c, the adhesive 11a is cured without applying a load to the optical component 5 without pressing (holding) the optical component 5 with the bonding tool 23 or the like. For this reason, in Step S6c, since the adhesive 11a is cured in a state where the optical component 5 is not bent, the thickness of the cured adhesive 11 is substantially the same as the height of the spacer SP1. The height of the spacer SP1 can be controlled by adjusting the amount and viscosity of the adhesive material 21 disposed at the position where each spacer SP1 is to be formed on the surface 3a of the sensor chip 3 in step S5a. That is, spacers SP1 having substantially the same height can be formed by disposing the same amount of adhesive having the same viscosity at the position where each spacer SP1 is to be formed. Thereby, the thickness of the adhesive material 11 for every sensor module MJ1 can also be made more uniform.

また、本実施の形態とは異なり、ステップS5bの硬化工程を行うことなくスペーサSP1を形成した場合(センサチップ3の表面3aに接着材21を配置し、これを硬化することなくスペーサSP1とした場合に対応)には、スペーサSP1の粘度が低く、センサチップ3の表面3aと光学部品5の裏面との間の間隔をスペーサSP1で確保することが難しくなる虞がある。   Further, unlike the present embodiment, when the spacer SP1 is formed without performing the curing step of step S5b (the adhesive 21 is disposed on the surface 3a of the sensor chip 3, and this is used as the spacer SP1 without curing) In this case, the spacer SP1 has a low viscosity, and it may be difficult to secure the space between the front surface 3a of the sensor chip 3 and the back surface of the optical component 5 with the spacer SP1.

それに対して、本実施の形態では、スペーサSP1は、ステップS5a(接着材21配置工程)およびステップS5b(接着材21硬化工程)により形成している。ステップS5aでセンサチップ3の表面3aに配置した接着材21の粘度を、ステップS5b(接着材21硬化工程)によって高めることで、供給時(ステップS5aでセンサチップ3の表面3aに供給する際)の接着材21の粘度よりも高粘度のスペーサSP1を形成することができる。このため、センサチップ3の表面3aと光学部品5の裏面との間の間隔をスペーサSP1で的確に確保することができるようになり、スペーサSP1と同程度の厚みの接着材11の層を的確に形成することができるようになる。また、スペーサSP1の粘度Vよりも低い粘度Vの接着材21をステップS5aでセンサチップ3の表面3aに供給(配置)すればよいので、ステップS5aの接着材21の供給(配置)が行いやすくなる。 On the other hand, in the present embodiment, the spacer SP1 is formed by step S5a (adhesive 21 arranging step) and step S5b (adhesive 21 curing step). At the time of supply (when supplying to the surface 3a of the sensor chip 3 in step S5a), the viscosity of the adhesive 21 arranged on the surface 3a of the sensor chip 3 in step S5a is increased by step S5b (adhesive 21 curing step). The spacer SP1 having a viscosity higher than that of the adhesive 21 can be formed. For this reason, the space between the front surface 3a of the sensor chip 3 and the back surface of the optical component 5 can be accurately secured by the spacer SP1, and the layer of the adhesive 11 having the same thickness as the spacer SP1 can be accurately obtained. Can be formed. Moreover, it is only necessary to supply to the surface 3a of the sensor chip 3 an adhesive 21 of low viscosity V 1 than the viscosity V 2 of the spacer SP1 in step S5a (arrangement), the supply of the adhesive material 21 in step S5a (arrangement) is It becomes easier to do.

このように、本実施の形態によれば、高精度に光学部品5をセンサチップ3上に配置(固定)させることができる。従って、製造されたセンサモジュールMJ1(半導体装置)の性能を向上させることができる。   Thus, according to the present embodiment, the optical component 5 can be arranged (fixed) on the sensor chip 3 with high accuracy. Therefore, the performance of the manufactured sensor module MJ1 (semiconductor device) can be improved.

なお、ここではステップS5(スペーサSP1形成工程)およびステップS6(光学部品5搭載工程)の特徴とその効果について説明したが、ステップS7(スペーサSP2形成工程)およびステップS8(光学部品6搭載工程)についても基本的には同じである。   Here, the characteristics and effects of step S5 (spacer SP1 forming step) and step S6 (optical component 5 mounting step) have been described, but step S7 (spacer SP2 forming step) and step S8 (optical component 6 mounting step) are described. Is basically the same.

簡単に説明すれば、ステップS7で光学部品5の表面5aに粘着性を有するスペーサSP2を複数形成してから、ステップS8aで光学部品5の表面5aにペースト状の接着材12aを配置し、ステップS8bで、光学部品6を、複数のスペーサSP2および接着材12aを介して光学部品5の表面5a上に配置し、ステップS8cで接着材12aを硬化させている。そして、ステップS8bでは、光学部品6に荷重を加えながら、光学部品6を光学部品5の表面5a上に配置するが、ステップS8cでは、光学部品6に荷重を加えない状態で接着材12aを硬化させる。このため、ステップS6における光学部品5と同様、光学部品6は、スペーサSP2によって仮固定できるため、ステップS8cの接着材12aの硬化工程で光学部品6をボンディングツール23などで押さえなくとも(保持しなくとも)、光学部品6が水平方向に動くのを防止できる。そして、ステップS8cで、光学部品6をボンディングツール23などで押さえる(保持する)ことなく、光学部品6に荷重を加えない状態で接着材12aを硬化させることにより、硬化した接着材12に干渉縞が発生するのを抑制または防止でき、接着材12の透過率が低下するのを抑制または防止することができる。接着材12に干渉縞が発生しない理由は、接着材11に干渉縞が発生しない理由と基本的には同じである。また、スペーサSP2は、ステップS7a(接着材24配置工程)およびステップS7b(接着材24硬化工程)により形成しているため、スペーサSP1の場合と同様に、光学部品5の表面5aと光学部品6の裏面との間の間隔をスペーサSP2で的確に確保できるようになり、スペーサSP2と同程度の厚みの接着材12の層を的確に形成することができるようになり、また、ステップS7aの接着材24の供給が行いやすくなる。   Briefly, after a plurality of adhesive spacers SP2 are formed on the surface 5a of the optical component 5 in step S7, a paste-like adhesive 12a is disposed on the surface 5a of the optical component 5 in step S8a. In S8b, the optical component 6 is disposed on the surface 5a of the optical component 5 via the plurality of spacers SP2 and the adhesive material 12a, and the adhesive material 12a is cured in Step S8c. In step S8b, the optical component 6 is placed on the surface 5a of the optical component 5 while applying a load to the optical component 6. In step S8c, the adhesive 12a is cured without applying a load to the optical component 6. Let Therefore, similarly to the optical component 5 in step S6, the optical component 6 can be temporarily fixed by the spacer SP2. Therefore, the optical component 6 is not held (held) by the bonding tool 23 or the like in the curing process of the adhesive 12a in step S8c. If not, the optical component 6 can be prevented from moving in the horizontal direction. In step S8c, the adhesive 12a is cured without pressing (holding) the optical component 6 with the bonding tool 23 or the like without applying a load to the optical component 6, thereby causing interference fringes on the cured adhesive 12. Generation | occurrence | production can be suppressed or prevented, and it can suppress or prevent that the transmittance | permeability of the adhesive material 12 falls. The reason why no interference fringes are generated in the adhesive 12 is basically the same as the reason that no interference fringes are generated in the adhesive 11. Further, since the spacer SP2 is formed by step S7a (adhesive 24 arranging step) and step S7b (adhesive 24 curing step), the surface 5a of the optical component 5 and the optical component 6 are formed similarly to the case of the spacer SP1. The space SP2 can be accurately secured by the spacer SP2, and a layer of the adhesive material 12 having the same thickness as the spacer SP2 can be accurately formed, and the bonding in step S7a can be performed. The material 24 can be easily supplied.

このように、本実施の形態によれば、高精度に光学部品6を光学部品5上に配置(固定)させることができる。従って、製造されたセンサモジュールMJ1(半導体装置)の性能を向上させることができる。   Thus, according to the present embodiment, the optical component 6 can be arranged (fixed) on the optical component 5 with high accuracy. Therefore, the performance of the manufactured sensor module MJ1 (semiconductor device) can be improved.

<変形例について>
上記実施の形態では、スペーサSP1を、センサチップ3の表面3aにおいてセンサ面(センサ領域)SEの外側に形成する場合について説明したが、他の形態(変形例)として、スペーサSP1を、センサチップ3の表面3aにおいて、センサ面SE上に形成することもでき、また、スペーサSP2を、光学部品5の表面5aにおいて、センサ面SEと平面的に重なる(平面視で重なる)位置に形成することもできる。但し、スペーサSP1をセンサ面SE上に形成した場合、形成するスペーサSP1に透光性がなければ、画素の一部に光が照射されないため、センサの性能が低下し、また、スペーサSP2をセンサ面SEと平面的に重なる位置に形成した場合、形成するスペーサSP2に透光性がなければ、画素の一部に光が照射されないため、センサの性能が低下する。そのため、センサの性能低下を抑制したい場合は、スペーサSP1は、センサチップ3の表面3aにおいて、センサ面SEを避けた位置(センサ面SEの外側)に形成しておくことが好ましく、また、スペーサSP2は、光学部品5の表面5aにおいて、センサ面SEと平面的に重ならない(平面視で重ならない)位置に形成しておくことが好ましい。
<About modification>
In the above embodiment, the case where the spacer SP1 is formed outside the sensor surface (sensor region) SE on the surface 3a of the sensor chip 3 has been described. However, as another form (modified example), the spacer SP1 is replaced with the sensor chip. 3 can be formed on the sensor surface SE, and the spacer SP2 can be formed on the surface 5a of the optical component 5 at a position overlapping the sensor surface SE in a plane (overlapping in plan view). You can also. However, when the spacer SP1 is formed on the sensor surface SE, if the spacer SP1 to be formed is not translucent, a part of the pixel is not irradiated with light, so that the performance of the sensor is deteriorated. When formed in a position overlapping with the surface SE in a planar manner, if the spacer SP2 to be formed does not have translucency, light is not irradiated to a part of the pixel, so that the performance of the sensor is deteriorated. For this reason, when it is desired to suppress degradation of the sensor performance, the spacer SP1 is preferably formed on the surface 3a of the sensor chip 3 at a position avoiding the sensor surface SE (outside the sensor surface SE). The SP 2 is preferably formed at a position on the surface 5a of the optical component 5 that does not overlap the sensor surface SE in a plane (does not overlap in a plan view).

また、他の形態(変形例)として、ステップS6a,S8aで使用する接着材11a,12aの粘度は、ステップS5a,S7aで使用するスペーサ形成用の接着材21,24の粘度と同じ(同程度)とすることもできる。但し、この場合は、接着材11a,12aの濡れ広がり性が低下するため、例えば接着材11aはセンサ面SEのほぼ全面に対してステップS6aで配置(塗布)しておく必要があるため、接着材11aを配置するための時間が長くなり、また接着材11aの塗布量の制御が難しくなり(はみ出しやすくなり)、接着材12aについても同様である。このため、ステップS6a,S8aで使用する接着材11a,12aについては、上記実施の形態で述べたように、粘度の低いものを使用することが好ましく、従って、ステップS6a,S8aで使用する接着材11a,12aの粘度は、ステップS5a,S7aで使用するスペーサ形成用の接着材21,24の粘度よりも低い方が、より好ましい。   As another form (modification), the viscosity of the adhesives 11a and 12a used in steps S6a and S8a is the same as that of the spacer forming adhesives 21 and 24 used in steps S5a and S7a. ). However, in this case, since the wettability of the adhesives 11a and 12a is reduced, for example, the adhesive 11a needs to be disposed (applied) in step S6a on almost the entire sensor surface SE. The time for arranging the material 11a becomes long, and it becomes difficult to control the amount of the adhesive 11a applied (protrusions easily), and the same applies to the adhesive 12a. For this reason, as described in the above embodiment, the adhesives 11a and 12a used in steps S6a and S8a are preferably those having a low viscosity. Therefore, the adhesives used in steps S6a and S8a are used. The viscosity of 11a, 12a is more preferably lower than the viscosity of the spacer forming adhesives 21, 24 used in steps S5a, S7a.

また、ステップS6b,S8bでは、アライメントマークを用いた搭載を行うこともできる。すなわち、ステップS6bでは、センサチップ3および光学部品5のそれぞれに形成されたアライメントマークに基づいて、光学部品5のセンサチップ3に対する位置合わせを行ってから、光学部品5をセンサチップ3の表面3a上に配置することが好ましい。また、ステップS8bでは、センサチップ5および光学部品6のそれぞれに形成されたアライメントマークに基づいて、光学部品6の光学部品5に対する位置合わせを行ってから、光学部品6を光学部品5の表面5a上に配置することが好ましい。以下、具体的に説明する。   In steps S6b and S8b, mounting using alignment marks can also be performed. That is, in step S6b, the optical component 5 is aligned with the sensor chip 3 based on the alignment marks formed on the sensor chip 3 and the optical component 5, respectively, and then the optical component 5 is attached to the surface 3a of the sensor chip 3. It is preferable to arrange on top. In step S8b, the optical component 6 is aligned with the optical component 5 based on the alignment marks formed on the sensor chip 5 and the optical component 6, and then the optical component 6 is placed on the surface 5a of the optical component 5. It is preferable to arrange on top. This will be specifically described below.

図72は、センサチップ3の平面図(上面図)、図73は光学部品5の平面図(上面図)、図74は光学部品6の平面図(上面図)であり、上記図7、図8および図9にそれぞれ相当している(上記図7〜図9に記載されている拡大図の部分は図72〜図74では図示を省略している)。図72のセンサチップ3は、その表面3aにアライメントマークAL1が形成され、図73の光学部品5は、その表面5aにアライメントマークAL2が形成され、図74の光学部品6は、その表面6aにアライメントマークAL3が形成されている。   72 is a plan view (top view) of the sensor chip 3, FIG. 73 is a plan view (top view) of the optical component 5, and FIG. 74 is a plan view (top view) of the optical component 6. FIGS. 8 and FIG. 9 (corresponding to the enlarged views shown in FIGS. 7 to 9 are omitted in FIGS. 72 to 74). The sensor chip 3 in FIG. 72 has an alignment mark AL1 formed on the surface 3a thereof, the optical component 5 in FIG. 73 has an alignment mark AL2 formed on the surface 5a, and the optical component 6 in FIG. An alignment mark AL3 is formed.

ステップS6bにおいて、センサチップ3に形成されたアライメントマークAL1と光学部品5に形成されたアライメントマークAL2とに基づいて、光学部品5のセンサチップ3に対する位置合わせを行ってから、光学部品5をセンサチップ3の表面3a上に配置することにより、センサチップ3に対する光学部品5の水平方向の位置精度を向上することができる。アライメントマークAL1,AL2に基づいて光学部品5をセンサチップ3上に配置した後は、上述のようにスペーサSP1によって光学部品5が仮固定され、その状態でステップS6cにおいて接着材11aが硬化されるため、ステップS6bにおけるアライメントマークAL1,AL2に基づいた高い位置精度(センサチップ3に対する光学部品5の位置の精度)をそのまま反映させたセンサモジュールMJ1を製造することができる。また、センサチップ3の表面3aにおいて、スペーサSP1は、アライメントマークAL1と平面的に重ならない位置に形成すれば、より好ましく、これにより、アライメントマークAL1の認識に対するスペーサSP1の影響を排除することができる。   In step S6b, the optical component 5 is aligned with the sensor chip 3 based on the alignment mark AL1 formed on the sensor chip 3 and the alignment mark AL2 formed on the optical component 5, and then the optical component 5 is detected by the sensor. By disposing on the surface 3 a of the chip 3, the horizontal positional accuracy of the optical component 5 with respect to the sensor chip 3 can be improved. After the optical component 5 is arranged on the sensor chip 3 based on the alignment marks AL1 and AL2, the optical component 5 is temporarily fixed by the spacer SP1 as described above, and in this state, the adhesive 11a is cured in step S6c. Therefore, it is possible to manufacture the sensor module MJ1 that directly reflects the high positional accuracy (the accuracy of the position of the optical component 5 with respect to the sensor chip 3) based on the alignment marks AL1 and AL2 in step S6b. Further, it is more preferable that the spacer SP1 is formed on the surface 3a of the sensor chip 3 at a position that does not overlap with the alignment mark AL1 in a plan view, thereby eliminating the influence of the spacer SP1 on the recognition of the alignment mark AL1. it can.

同様に、ステップS8bにおいて、光学部品5に形成されたアライメントマークAL2と光学部品6に形成されたアライメントマークAL3とに基づいて、光学部品6の光学部品5に対する位置合わせを行ってから、光学部品6を光学部品5の表面5a上に配置することにより、光学部品5に対する光学部品6の水平方向の位置精度を向上することができる。アライメントマークAL2,AL3に基づいて光学部品6を光学部品5上に配置した後は、上述のようにスペーサSP2によって光学部品6が仮固定され、その状態でステップS8cにおいて接着材12aが硬化されるため、ステップS8bにおけるアライメントマークAL2,AL3に基づいた高い位置精度(光学部品5に対する光学部品6の位置の精度)をそのまま反映させたセンサモジュールMJ1を製造することができる。また、光学部品5の表面5aにおいて、スペーサSP2は、アライメントマークAL2と平面的に重ならない位置に形成すれば、より好ましく、これにより、アライメントマークAL2の認識に対するスペーサSP2の影響を排除することができる。   Similarly, after the alignment of the optical component 6 with respect to the optical component 5 is performed based on the alignment mark AL2 formed on the optical component 5 and the alignment mark AL3 formed on the optical component 6 in step S8b, the optical component By disposing 6 on the surface 5 a of the optical component 5, the horizontal position accuracy of the optical component 6 with respect to the optical component 5 can be improved. After arranging the optical component 6 on the optical component 5 based on the alignment marks AL2 and AL3, the optical component 6 is temporarily fixed by the spacer SP2 as described above, and in this state, the adhesive 12a is cured in step S8c. Therefore, it is possible to manufacture the sensor module MJ1 that directly reflects the high positional accuracy (the positional accuracy of the optical component 6 with respect to the optical component 5) based on the alignment marks AL2 and AL3 in step S8b. Further, it is more preferable that the spacer SP2 is formed on the surface 5a of the optical component 5 at a position that does not overlap with the alignment mark AL2, so that the influence of the spacer SP2 on the recognition of the alignment mark AL2 can be eliminated. it can.

以上、本発明者によってなされた発明をその実施の形態に基づき具体的に説明したが、本発明は前記実施の形態に限定されるものではなく、その要旨を逸脱しない範囲で種々変更可能であることは言うまでもない。   As mentioned above, the invention made by the present inventor has been specifically described based on the embodiment. However, the invention is not limited to the embodiment, and various modifications can be made without departing from the scope of the invention. Needless to say.

本発明は、半導体装置の製造技術に適用して有効である。   The present invention is effective when applied to semiconductor device manufacturing technology.

2 配線基板
2a 上面
2b 下面
3 センサチップ
3a 表面
3b 裏面
4 電子部品
5 光学部品
5a 表面
6 光学部品
6a 表面
7 封止部
10a,10b,10c 接合材
11,11a,12,12a 接着材
13 レンズ部
14 ベース層
15 遮光層
16 開口部
17 ベース層
21 接着材
22 ステージ
22a 上面
23 ボンディングツール
23a 先端部
24 接着材
31 指静脈認証装置
32 容器
33 赤外フィルタ
34 光源
36 指
37 静脈
AL1,AL2,AL3 アライメントマーク
BL ボンディングリード
BW ボンディングワイヤ
CNT コネクタ
MJ1 センサモジュール
,P,P ピッチ
PD パッド電極
PH 受光素子
RG1,RG2,RG3,RG4 領域
SD1,SD2 辺
SE センサ面
SP1,SP2 スペーサ
TE1,TE2,TE3 端子
DESCRIPTION OF SYMBOLS 2 Wiring board 2a Upper surface 2b Lower surface 3 Sensor chip 3a Front surface 3b Back surface 4 Electronic component 5 Optical component 5a Surface 6 Optical component 6a Surface 7 Sealing part 10a, 10b, 10c Bonding material 11, 11a, 12, 12a Adhesive material 13 Lens part 14 Base layer 15 Light-shielding layer 16 Opening 17 Base layer 21 Adhesive material 22 Stage 22a Upper surface 23 Bonding tool 23a Tip part 24 Adhesive material 31 Finger vein authentication device 32 Container 33 Infrared filter 34 Light source 36 Finger 37 Veins AL1, AL2, AL3 Alignment mark BL Bonding lead BW Bonding wire CNT Connector MJ1 Sensor module P 1 , P 2 , P 3 pitch PD Pad electrode PH Light receiving element RG1, RG2, RG3, RG4 Area SD1, SD2 Side SE Sensor surface SP1, SP2 Spacer TE1, T E2, TE3 terminal

Claims (15)

以下の工程を含むことを特徴とする半導体装置の製造方法:
(a)上面および前記上面とは反対側の下面を有する配線基板を準備する工程;
(b)第1主面、前記第1主面に形成されたセンサ領域、前記センサ領域に形成された複数の画素、および前記第1主面とは反対側の第1裏面を有するセンサチップを、前記第1裏面が前記配線基板の前記上面と対向するように、前記配線基板の前記上面に搭載する工程;
(c)前記センサチップの前記第1主面における複数箇所に、第1接着材を配置する工程;
(d)前記(c)工程の後、前記第1接着材を硬化することにより、第1スペーサを、前記センサチップの前記第1主面に複数形成する工程;
(e)前記(d)工程の後、前記センサチップの前記第1主面にペースト状の第2接着材を配置する工程;
(f)前記(e)工程の後、複数の光学領域が形成された遮光層を有する第1光学部品を、前記複数の第1スペーサおよび前記第2接着材を介して前記センサチップの前記第1主面上に配置する工程;
(g)前記(f)工程の後、前記第2接着材を硬化させる工程;
ここで、
前記(e)工程では、側面視において、前記第1主面からの前記第2接着材のそれぞれの高さを前記第1主面からの前記第1スペーサのそれぞれの高さよりも高く形成しており、
前記(f)工程では、前記第1光学部品に荷重を加えながら、前記第1光学部品を前記センサチップの前記第1主面上に配置しており、
前記(g)工程では、前記第1光学部品に荷重を加えない状態で、前記第2接着材を硬化させている。
A method for manufacturing a semiconductor device comprising the following steps:
(A) preparing a wiring board having an upper surface and a lower surface opposite to the upper surface;
(B) A sensor chip having a first main surface, a sensor region formed on the first main surface, a plurality of pixels formed on the sensor region, and a first back surface opposite to the first main surface. Mounting on the upper surface of the wiring board such that the first back surface faces the upper surface of the wiring board;
(C) The process of arrange | positioning a 1st adhesive material in the multiple places in the said 1st main surface of the said sensor chip;
(D) A step of forming a plurality of first spacers on the first main surface of the sensor chip by curing the first adhesive after the step (c);
(E) after the step (d), placing a paste-like second adhesive on the first main surface of the sensor chip;
(F) After the step (e), the first optical component having a light-shielding layer in which a plurality of optical regions are formed is attached to the first of the sensor chip via the plurality of first spacers and the second adhesive. Placing on one principal surface;
(G) A step of curing the second adhesive after the step (f);
here,
In the step (e), the height of the second adhesive material from the first main surface is higher than the height of the first spacer from the first main surface in a side view. And
In the step (f), the first optical component is disposed on the first main surface of the sensor chip while applying a load to the first optical component,
In the step (g), the second adhesive is cured without applying a load to the first optical component.
請求項1記載の半導体装置の製造方法において、
前記(f)工程では、前記複数の光学領域が前記複数の画素とそれぞれ重なるように、前記第1光学部品を、前記複数の第1スペーサおよび前記第2接着材を介して前記センサチップの前記第1主面上に配置することを特徴とする半導体装置の製造方法。
In the manufacturing method of the semiconductor device according to claim 1,
In the step (f), the first optical component is placed on the sensor chip via the plurality of first spacers and the second adhesive so that the plurality of optical regions respectively overlap the plurality of pixels. A method for manufacturing a semiconductor device, comprising: disposing on a first main surface.
請求項2記載の半導体装置の製造方法において、
前記光学領域は、前記遮光層において開口部が形成されている領域であることを特徴とする半導体装置の製造方法。
The method of manufacturing a semiconductor device according to claim 2.
The method of manufacturing a semiconductor device, wherein the optical region is a region where an opening is formed in the light shielding layer.
請求項3記載の半導体装置の製造方法において、
前記第1接着材は、紫外線硬化型の接着材であり、
前記(d)工程では、前記第1接着材に紫外線を照射することにより前記第1接着材を硬化して、前記第1スペーサを形成することを特徴とする半導体装置の製造方法。
In the manufacturing method of the semiconductor device according to claim 3,
The first adhesive is an ultraviolet curable adhesive,
In the step (d), the first spacer is formed by irradiating the first adhesive with ultraviolet rays to form the first spacer.
請求項3記載の半導体装置の製造方法において、
前記(d)工程では、前記センサチップの前記第1主面上に配置された前記第1接着材の表面が空気に触れた状態で、前記第1接着材に紫外線を照射することにより前記第1接着材を硬化して、前記第1スペーサを形成することを特徴とする半導体装置の製造方法。
In the manufacturing method of the semiconductor device according to claim 3,
In the step (d), the first adhesive material is irradiated with ultraviolet rays while the surface of the first adhesive material disposed on the first main surface of the sensor chip is in contact with air. A method of manufacturing a semiconductor device, comprising: curing one adhesive to form the first spacer.
請求項5記載の半導体装置の製造方法において、
前記第1光学部品は、第2主面および前記第2主面とは反対側の第2裏面を有し、
前記(f)工程では、前記第1光学部品の前記第2裏面が前記センサチップの前記第1主面と対向するように、前記第1光学部品を、前記複数の第1スペーサおよび前記第2接着材を介して前記センサチップの前記第1主面上に配置し、
前記(g)工程の後、更に、
(h)前記第1光学部品の前記第2主面における複数箇所に、第3接着材を配置する工程;
(i)前記(h)工程の後、前記第3接着材を硬化することにより、第2スペーサを、前記第1光学部品の前記第2主面に複数形成する工程;
(j)前記(i)工程の後、前記第1光学部品の前記第2主面にペースト状の第4接着材を配置する工程;
(k)前記(j)工程の後、複数のレンズ部を有する第2光学部品を、前記複数の第2スペーサおよび前記第4接着材を介して前記第1光学部品の前記第2主面上に配置する工程;
(l)前記(k)工程の後、前記第4接着材を硬化させる工程;
を有し、
前記(j)工程では、側面視において、前記第2主面からの前記第4接着材のそれぞれの高さを前記第2主面からの前記第2スペーサのそれぞれの高さよりも高く形成していることを特徴とする半導体装置の製造方法。
In the manufacturing method of the semiconductor device according to claim 5,
The first optical component has a second main surface and a second back surface opposite to the second main surface,
In the step (f), the first optical component is placed in the plurality of first spacers and the second so that the second back surface of the first optical component faces the first main surface of the sensor chip. Arranged on the first main surface of the sensor chip via an adhesive,
After the step (g),
(H) a step of disposing a third adhesive at a plurality of locations on the second main surface of the first optical component;
(I) A step of forming a plurality of second spacers on the second main surface of the first optical component by curing the third adhesive after the step (h);
(J) After the step (i), placing a paste-like fourth adhesive on the second main surface of the first optical component;
(K) After the step (j), the second optical component having a plurality of lens portions is placed on the second main surface of the first optical component via the plurality of second spacers and the fourth adhesive. Placing on;
(L) A step of curing the fourth adhesive after the step (k);
Have
In the step (j), in a side view, each height of the fourth adhesive from the second main surface is higher than each height of the second spacer from the second main surface. A method for manufacturing a semiconductor device, comprising:
請求項6記載の半導体装置の製造方法において、
前記(k)工程では、前記第2光学部品に荷重を加えながら、前記第2光学部品を前記第1光学部品の前記第2主面上に配置しており、
前記(l)工程では、前記第2光学部品に荷重を加えない状態で、前記第4接着材を硬化させていることを特徴とする半導体装置の製造方法。
The method of manufacturing a semiconductor device according to claim 6.
In the step (k), the second optical component is disposed on the second main surface of the first optical component while applying a load to the second optical component,
In the step (l), the fourth adhesive is cured in a state in which no load is applied to the second optical component.
請求項7記載の半導体装置の製造方法において、
前記第3接着材は、紫外線硬化型の接着材であり、
前記(i)工程では、前記第3接着材に紫外線を照射することにより前記第3接着材を硬化して、前記第2スペーサを形成することを特徴とする半導体装置の製造方法。
The method of manufacturing a semiconductor device according to claim 7.
The third adhesive is an ultraviolet curable adhesive,
In the step (i), the third spacer is formed by irradiating the third adhesive with ultraviolet rays to form the second spacer.
請求項8記載の半導体装置の製造方法において、
前記(i)工程では、前記第1光学部品の前記第2主面上に配置された前記第3接着材の表面が空気に触れた状態で、前記第3接着材に紫外線を照射することにより前記第3接着材を硬化して、前記第2スペーサを形成することを特徴とする半導体装置の製造方法。
The method of manufacturing a semiconductor device according to claim 8.
In the step (i), by irradiating the third adhesive with ultraviolet rays in a state where the surface of the third adhesive disposed on the second main surface of the first optical component is in contact with air. A method of manufacturing a semiconductor device, comprising: curing the third adhesive material to form the second spacer.
請求項9記載の半導体装置の製造方法において、
前記(g)工程では、加熱により前記第2接着材を硬化させ、
前記(l)工程では、紫外線により前記第4接着材を硬化させることを特徴とする半導体装置の製造方法。
In the manufacturing method of the semiconductor device according to claim 9,
In the step (g), the second adhesive is cured by heating,
In the step (l), the fourth adhesive material is cured by ultraviolet rays.
請求項10記載の半導体装置の製造方法において、
前記第2接着材と前記第4接着材とに、同じ接着材が用いられることを特徴とする半導体装置の製造方法。
The method of manufacturing a semiconductor device according to claim 10.
A method for manufacturing a semiconductor device, wherein the same adhesive is used for the second adhesive and the fourth adhesive.
請求項11記載の半導体装置の製造方法において、
前記第2光学部品の耐熱温度は、前記(g)工程で前記第2接着材を硬化させる加熱温度よりも低いことを特徴とする半導体装置の製造方法。
The method of manufacturing a semiconductor device according to claim 11.
The method for manufacturing a semiconductor device, wherein a heat-resistant temperature of the second optical component is lower than a heating temperature for curing the second adhesive in the step (g).
請求項12記載の半導体装置の製造方法において、
前記(d)工程では、前記複数の第1スペーサは、前記センサチップの前記第1主面において、前記センサ領域を避けた位置に形成されることを特徴とする半導体装置の製造方法。
In the manufacturing method of the semiconductor device according to claim 12,
In the step (d), the plurality of first spacers are formed at positions avoiding the sensor region on the first main surface of the sensor chip.
請求項13記載の半導体装置の製造方法において、
前記(d)工程では、前記複数の第1スペーサは、平面視において、前記センサチップの前記第1主面における前記センサ領域の周囲に形成されることを特徴とする半導体装置の製造方法。
14. The method of manufacturing a semiconductor device according to claim 13,
In the step (d), the plurality of first spacers are formed around the sensor region on the first main surface of the sensor chip in plan view.
請求項14記載の半導体装置の製造方法において、
前記(i)工程では、前記複数の第2スペーサは、平面視において、前記センサ領域と重ならない位置に形成されることを特徴とする半導体装置の製造方法。
15. The method of manufacturing a semiconductor device according to claim 14,
In the step (i), the plurality of second spacers are formed at positions that do not overlap the sensor region in plan view.
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