JP2015027530A - Magnetic field adjustment device - Google Patents
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Abstract
Description
本発明は、超電導コイルが発生させた磁場の磁場均一度を調整するための磁場調整装置に関する。 The present invention relates to a magnetic field adjustment device for adjusting the magnetic field uniformity of a magnetic field generated by a superconducting coil.
磁気共鳴イメージング(MRI:Magnetic Resonance Imaging)装置では、鮮明な画像を得るために撮像領域(FOV:Field Of View)において高精度の磁場均一度(例えば数ppm以下)を高い磁場強度で達成することが要求される。そのため、MRI装置には、高磁場を発生させることができる超電導コイルが用いられている。そして、MRI装置の稼働前段階において、補正用の磁性体片(以下、シム鉄と記す)を適切な位置に適切な量を設置することにより、FOVの磁場分布を調整して磁場均一度を向上させるシミングと呼ばれる作業が実施されている。このシミングにおいてシム鉄を配置するべき位置及び量を算出する方法、並びにシミングに使用する装置が開示されている(例えば、特許文献1、2参照)。
Magnetic Resonance Imaging: In (MRI M agnetic R esonance I maging ) device, an imaging area in order to obtain a sharp image: higher the precision of magnetic field homogeneity (for example, several ppm or less) in (FOV F ield O f V iew ) Achieving with magnetic field strength is required. Therefore, a superconducting coil that can generate a high magnetic field is used in the MRI apparatus. Then, in the pre-operation stage of the MRI apparatus, the magnetic field uniformity of the FOV is adjusted by adjusting the magnetic field distribution of the FOV by installing an appropriate amount of a magnetic piece for correction (hereinafter referred to as shim iron) at an appropriate position. A work called shimming to improve is being carried out. In this shimming, a method for calculating the position and amount at which shim iron is to be arranged, and a device used for shimming are disclosed (for example, see
MRI装置の設計段階では要求される磁場均一度の仕様を満足すべく超電導コイルのコイル配置を最適化している。しかし、MRI装置の加工、組立て段階における超電導コイルの設置誤差、及びMRI装置周囲に設置された磁性体がつくる磁場により、FOVの磁場均一度は設計段階の設計値より劣化する。 In the design stage of the MRI apparatus, the coil arrangement of the superconducting coil is optimized to satisfy the required magnetic field uniformity specifications. However, the magnetic field uniformity of the FOV is deteriorated from the design value at the design stage due to the installation error of the superconducting coil in the processing of the MRI apparatus, the assembly stage, and the magnetic field created by the magnetic material installed around the MRI apparatus.
鮮明な画像を得るためにMRI装置では高磁場化が進んでいる。1.5T以上の高磁場を備えたMRI装置には、円筒形状のトンネル型MRI装置が開発されている。トンネル型MRI装置では、円筒形状の中心軸方向に離散的に配置されたシムポケットとよばれる磁性体収納部を有する細長いシムトレイが、トンネル内表面の周回方向に離散的に設置されている。前記シムポケット内に薄板形状のシム鉄を、前記円筒形状の半径方向に積層し、その量を調整することによりシミング作業を実施する。 In order to obtain a clear image, an MRI apparatus is increasing in magnetic field. As an MRI apparatus having a high magnetic field of 1.5 T or more, a cylindrical tunnel type MRI apparatus has been developed. In the tunnel-type MRI apparatus, elongated shim trays having magnetic material storage portions called shim pockets arranged discretely in the direction of the central axis of a cylindrical shape are discretely installed in the circumferential direction of the inner surface of the tunnel. A shimming operation is performed by laminating thin shim irons in the shim pocket in the radial direction of the cylindrical shape and adjusting the amount thereof.
標準的なシミング作業の手順を以下に示す。初めにシム鉄がない状態(シムトレイが空の状態)で超電導コイルを励磁し、FOVの磁場分布を測定する。前記測定後、シムトレイをMRI装置本体から引抜き、各シムポケット内のシム鉄量を調整する。調整後のシムトレイをMRI装置本体に挿入し、再度超電導コイルを励磁してFOVの磁場分布を測定する。計算時のシム鉄量と実際に配置したシム鉄量の誤差等が原因で、1回のシム鉄量の調整では、数ppmの磁場均一度を達成することは困難なため、前記のシミング作業の磁場分布測定とシム鉄量の調整からなる手順を所定の磁場均一度となるまで繰り返す。 The standard shimming procedure is shown below. First, the superconducting coil is excited with no shim iron (the shim tray is empty), and the magnetic field distribution of the FOV is measured. After the measurement, the shim tray is pulled out from the main body of the MRI apparatus, and the amount of shim iron in each shim pocket is adjusted. The adjusted shim tray is inserted into the MRI apparatus main body, the superconducting coil is excited again, and the magnetic field distribution of the FOV is measured. Because of the error between the amount of shim iron at the time of calculation and the amount of shim iron actually placed, it is difficult to achieve a magnetic field uniformity of several ppm with a single adjustment of the amount of shim iron. The procedure consisting of measuring the magnetic field distribution and adjusting the amount of shim iron is repeated until a predetermined magnetic field uniformity is obtained.
シミング作業では、磁場分布測定とシム鉄量の調整を繰返すため、シミング作業全体の作業時間を短縮してMRI装置の稼働率を向上させるためには、1回のシム鉄量の調整に要する時間を短縮することが重要な課題となる。また、超電導コイルの励磁・消磁の度に永久電流スイッチのヒータに通電するため、冷媒を大量に消費している。このため、ランニングコスト低減のためには、超電導コイルの励磁・消磁の回数の低減を図ることが重要な課題となる。 In the shimming operation, the magnetic field distribution measurement and the shim iron amount adjustment are repeated. Therefore, in order to shorten the work time of the entire shimming operation and improve the operating rate of the MRI apparatus, the time required for one adjustment of the shim iron amount It is an important issue to shorten the time. Further, since the heater of the permanent current switch is energized every time the superconducting coil is excited or demagnetized, a large amount of refrigerant is consumed. For this reason, in order to reduce running costs, it is important to reduce the number of times of excitation and demagnetization of the superconducting coil.
すなわち、本発明が解決しようとする課題は、シミング作業においてシム鉄量の調整が短時間でできる磁場調整装置を提供することにある。 That is, the problem to be solved by the present invention is to provide a magnetic field adjusting device capable of adjusting the amount of shim iron in a short time in shimming work.
本発明に関する参考例は、
所定空間(FOV)に静磁場を発生させる超電導コイルと、
前記所定空間における前記静磁場の磁場均一度を調整するための磁性体片(シム鉄)を配置するシムトレイとを有する磁場発生装置(MRI装置)の磁場調整方法において、
前記静磁場を前記所定空間に発生させ前記静磁場の計測を行う前に、前記シムトレイに前記磁性体片を配置するものである。
Reference examples relating to the present invention are:
A superconducting coil that generates a static magnetic field in a predetermined space (FOV);
In the magnetic field adjustment method of a magnetic field generator (MRI apparatus) having a shim tray in which a magnetic piece (shim iron) for adjusting the magnetic field uniformity of the static magnetic field in the predetermined space is arranged.
Before generating the static magnetic field in the predetermined space and measuring the static magnetic field, the magnetic piece is arranged on the shim tray.
前記課題を解決するために、本発明は、
複数枚の薄板状の磁性体片と、前記磁性体片が収められる複数のポケットが設けられたシムトレイとを備え、前記磁性体片を積層して前記ポケット内に収め、超電導コイルが所定空間に発生させた静磁場の磁場均一度を調整する磁場調整装置において、
前記磁性体片の積層方向と異なる方向に前記磁性体片を出し入れする開口部を有し、複数枚の前記磁性体片を収納し、前記ポケット内に収められる収納容器を備えることを特徴としている。
In order to solve the above problems, the present invention provides:
A plurality of thin plate-like magnetic pieces and a shim tray provided with a plurality of pockets for storing the magnetic pieces, the magnetic pieces are stacked and placed in the pocket, and the superconducting coil is placed in a predetermined space. In the magnetic field adjustment device for adjusting the magnetic field uniformity of the generated static magnetic field,
It has an opening for taking in and out the magnetic material pieces in a direction different from the stacking direction of the magnetic material pieces, and includes a storage container for storing a plurality of the magnetic material pieces and being stored in the pockets. .
本発明によれば、シム鉄量の調整が短時間でできる磁場調整装置を提供できる。 ADVANTAGE OF THE INVENTION According to this invention, the magnetic field adjustment apparatus which can adjust shim iron amount in a short time can be provided.
次に、本発明の実施形態について、適宜図面を参照しながら詳細に説明する。なお、各図において、共通する部分には同一の符号を付し重複した説明を省略する。 Next, embodiments of the present invention will be described in detail with reference to the drawings as appropriate. In each figure, common portions are denoted by the same reference numerals, and redundant description is omitted.
(第1の実施形態)
図1Aに、本発明の第1の実施形態に係る磁場調整装置4を備えたMRI(磁気共鳴イメージング)装置1(磁場発生装置2)をX軸Y軸に平行な平面で切断した断面図を示し、図1Bに、そのMRI装置1(磁場発生装置2)をY軸Z軸を通る平面で切断した断面図を示す。MRI装置1は、被検体を内部の撮像領域(FOV、所定空間)3に導入可能な円筒形状の磁場発生装置2と、以下、図示は省略したが、導入された被検体の生体組織を構成する原子核に核磁気共鳴を起こさせるために高周波信号を照射する照射コイル(図示省略)と、被検体から発せられる各々の磁気共鳴信号に位置情報を与えるための傾斜磁場発生装置(図示省略)と、被検体から発せられる磁気共鳴信号を受信するための受信コイル(図示省略)と、被検体を積載する寝台(図示省略)等で構成されている。
(First embodiment)
FIG. 1A is a cross-sectional view of an MRI (magnetic resonance imaging) apparatus 1 (magnetic field generation apparatus 2) provided with a magnetic
磁場発生装置2は、被検体の生体組織を構成する原子のスピンを配向させるために、FOV3に均一磁場を生成する。磁場発生装置2は、水平方向に平行なz軸を中心軸とする円筒形状をしている。磁場発生装置2は、超電導コイルである複数のメインコイル2aと、超電導コイルである複数のシールドコイル2bと、メインコイル2aとシールドコイル2bを冷媒と共に収納し冷却する冷媒容器2dと、冷媒容器2dを真空環境下に収納し断熱する真空容器2cと、真空容器2cのFOV3側の表面(内周面)に設けられる磁場調整装置4等を有している。
The
複数のメインコイル2aは、Z軸を互いに共通する中心軸とするリング形状をしている。複数のメインコイル2aは、Z軸方向に複数(図1Bの例では4個)配置されている。複数のメインコイル2aは、FOV3に、均一磁場となる静磁場を生成する。複数のメインコイル2aは、FOV3以外にも、静磁場を生成し、特に、Z軸に対して、メインコイル2aよりも遠くの位置に漏洩磁場を生成させ、磁場調整装置4の配置位置にも静磁場を生成させる。複数のシールドコイル2bは、その漏洩磁場の大きさを小さくすることができ、磁場調整装置4の配置位置にも静磁場を生成させる。複数のシールドコイル2bは、Z軸を互いに共通する中心軸とするリング形状をしている。複数のシールドコイル2bは、Z軸方向に複数(図1Bの例では2個(一対))配置されている。複数のシールドコイル2bは、Z軸方向において複数個配列された内の両端に配置された一対のメインコイル2aの近傍に配置されている。複数のシールドコイル2bは、X軸及びY軸方向に関してZ軸の両端に配置された一対のメインコイル2aよりも遠くに配置されている。メインコイル2aと、シールドコイル2bとは、お互いに逆方向に通電される。メインコイル2aと、シールドコイル2bとは、FOV3における磁場均一度を高め、漏洩磁場を低減するように、それらの断面中心、辺長、及び起磁力(電流×ターン数)が最適化されている。
The plurality of
磁場調整装置4は、真空容器2cのFOV3側の表面(内周面)に、複数個設けられている。複数の磁場調整装置4は、その長手方向が、Z軸方向に平行になるように配置されている。磁場調整装置4は、真空容器2cのFOV3側の内周面上に、Z軸回りの周回方向に、離散的に、そして、等間隔に配置されている。作業者は、磁場調整装置4を用いて、シミング作業を行うことにより、MRI装置1が設置されている場所の環境磁場と、超電導コイルのメインコイル2aとシールドコイル2bの設置誤差による誤差磁場を、FOV3において打ち消し、FOV3における磁場均一度を所定の値(例えば数ppm)以下にする。
A plurality of magnetic
図2Aに、本発明の第1の実施形態に係る磁場調整装置4の平面図を示し、図2Bに、その側面図を示す。図2Cに、図2AのA−A方向の矢視断面図を示し、図2Dに、図2Cの一部を拡大した、磁場調整装置4の収納容器7周辺部分を示す。
FIG. 2A shows a plan view of the magnetic
図2Aに示すように、磁場調整装置4は、シムトレイ6と収納容器7とを有している。シムトレイ6と収納容器7には、非磁性体、例えば、樹脂やアルミニウムを用いることができる。シムトレイ6には、長手方向(L方向)に、離散的に、そして、等間隔で一列に、複数のシムポケット6aが配置されている。また、シムトレイ6は、ねじ孔6bを用いて、真空容器2c(図1A参照)に固定可能になっている。
As illustrated in FIG. 2A, the magnetic
図2Bに示すように、シムポケット6aは、シムトレイ6において、T方向(積層方向)に形成されたくぼみであり、複数のシムポケット6aの中に、それぞれ1つずつ、収納容器7が収められている。収納容器7は、シムポケット6aのT方向からシムポケット6aへ移動させることで、シムポケット6a内に嵌め込むことができる。収納容器7は、シムポケット6aに対して相対的に、L方向やW方向に殆んど移動しないように、シムポケット6a内に嵌め込まれている。
As shown in FIG. 2B, the
また、図2Aに示すように、収納容器7は、容器本体7aと、その容器本体7aの開口部7cに蓋をする蓋7bとを有している。蓋7bは、容器本体7aに対して相対的に、L方向に移動させることで、容器本体7aの開口部7cから蓋7bを外すことができる。収納容器7がシムポケット6a内に嵌め込まれている状態では、蓋7bを容器本体7aに対して相対的にL方向に移動させられないので、蓋7bが外れることはない。
As shown in FIG. 2A, the
図2Cと図2Dに示すように、収納容器7の内部には、複数枚のシム鉄片(磁性体片)5(51、52、53)と、複数枚のスペーサ5a(54、55、56、57)とが、T方向(積層方向)に積層された状態で収納されている。シム鉄片(磁性体片)5には、薄板状の磁性体、例えば、鉄、或いは珪素鋼板を用いることができる。スペーサ5aには、薄板状の非磁性体、例えば、樹脂やセラミックを用いることができる。スペーサ5aは、収納容器7内で、隙間ができて、シム鉄片(磁性体片)5が移動しないように設けられている。収納容器7内に収めるシム鉄片5の量(シム鉄量)を調整することにより、FOV3(図1A参照)における静磁場の磁場強度分布を変更し、磁場均一度を調整することができる。具体的には、収納容器7内に収めるシム鉄片5の枚数や、個々のシム鉄片5の厚さを調整(変更)することにより、FOV3(図1A参照)における静磁場の磁場強度分布を変更する。シム鉄片5の枚数を変更するには、例えば、シム鉄片51を収納容器7から引き抜いて、替わりに同じ厚さのスペーサ5aを差し込んだり、スペーサ5a(57)を収納容器7から引き抜いて、替わりに同じ厚さのシム鉄片5を差し込んだりすればよい。シム鉄片5の厚さを変更するには、例えば、シム鉄片51とスペーサ57を収納容器7から引き抜いて、替わりに、シム鉄片51とスペーサ57を合わせた厚さのシム鉄片5を差し込んだり、シム鉄片53を収納容器7から引き抜いて、合わせた厚さがシム鉄53の厚さと同じのシム鉄片5とスペーサ5aを差し込んだりすればよい。
As shown in FIG. 2C and FIG. 2D, inside the
図3に、シムポケット6a(図2A参照)から取り出され、蓋7bを開けた状態の収納容器7の斜視図を示す。収納容器7内に収めるシム鉄片5のシム鉄量、すなわち、シム鉄片5の枚数や、個々のシム鉄片5の厚さを、変更するには、図3に示すように、収納容器7をシムポケット6a(図2A参照)から取り出し、収納容器7の容器本体7aから蓋7bを外す。これにより、容器本体7aの開口部7cが開き、収納容器7内に収められていた全てのシム鉄片5(51、52、53)の端面と、収納容器7内に収められていた全てのスペーサ5a(54、55、56、57)の端面が露出する。シミング作業の作業者は、開口部7cから一見するだけで、収納容器7内に収められている全てのシム鉄片5(51、52、53)の枚数とそれぞれの厚さと、収納容器7内に収められている全てのスペーサ5a(54、55、56、57)の枚数とそれぞれの厚さを知ることができる。そして、引き抜くべき厚さを備えたシム鉄片5(51、52、53)やスペーサ5a(54、55、56、57)を、他のシム鉄片5やスペーサ5aを引き抜くことなく、引き抜くことができる。そして、替わりのシム鉄片5やスペーサ5aを差し込むことができる。このように、所望のシム鉄片5(51、52、53)とスペーサ5a(54、55、56、57)に限っての引き差し(出し入れ)ができるのは、シム鉄片5(51、52、53)とスペーサ5a(54、55、56、57)の積層方向(T方向)以外のL方向やW方向(図3の例ではL方向)から、シム鉄片5(51、52、53)とスペーサ5a(54、55、56、57)を出し入れしているからである。収納容器7の蓋7bを開ければ、どの位置に除去すべき適切な厚さのシム鉄片5があるか一目でわかる。そして、適切な厚さのシム鉄片5のみを直接取り除くことができ、調整に要する時間を短縮することができる。また、取り出すべきシム鉄片5以外は収納容器7から外に出さないので、シミング作業中のシム鉄片5の飛散、再積層時のスペーサ5aとシム鉄片5の配置ミス、取り出した際のシム鉄の変形等による磁化の変化を防止し、シミングの精度を向上させることができる。シミング精度の向上により、シミング回数の低減を図ることができる。
FIG. 3 shows a perspective view of the
このように、積層方向(T方向)と異なる方向(図3の例ではL方向だが、W方向でもよい)に開口部7cを持つ収納容器7をシムトレイ6に設置することにより、収納容器7からシム鉄片5を外して開口部7cから最適な厚さのシム鉄片5を選んで除去することができ、再度積層し直す手間がなくなるため作業時間を低減することが可能となる。また、除去するシム鉄片5以外の配置を変えることがないため、シム鉄片5の飛散、積層時の配置ミス等を防止することができる。
Thus, by installing the
(第2の実施形態)
図4に、本発明の第2の実施形態に係る磁場調整装置の収納容器7(蓋7bを開けた状態)の斜視図を示す。第2の実施形態の収納容器7が、第1の実施形態の収納容器7と異なっている点は、シム鉄片5とスペーサ5aが収納される収納空間7dを積層方向(T方向)に分割する仕切り板7eを有している点である。仕切り板7eは、容器本体7aに固定されている。
(Second Embodiment)
FIG. 4 is a perspective view of the storage container 7 (with the
詳細は後記するが、本願発明では、シミング作業において、磁場分布測定とシム鉄量の調整を行うが、磁場分布測定に先立って、シム鉄量の調整を行う。磁場分布測定に先立ったシム鉄量の調整で、シム鉄片5とスペーサ5aが収納容器7内に置かれるので、その後の磁場分布測定の後のシム鉄量の調整では、既に収納容器7内に置かれているシム鉄片5を除去することができる。磁場分布測定に先立ったシム鉄量の調整では、仕切り板7eの上側に図4の例に示すようにシム鉄片51を配置し、下側の収納空間7dにシム鉄片52、53を配置している。このように、少なくとも上側の収納空間7dにシム鉄片51を配置しておく。そして、磁場分布測定の後のシム鉄量の調整では、下側の収納空間7dに配置したシム鉄片52、53(5)を増減させる。磁場分布測定の際には、T方向(積層方向)の上方向にFOV3(図1A参照)が位置するので、シム鉄量の調整で増減されないFOV3側のシム鉄片51とFOV3との距離は変わらず一定となる。これによって、シム鉄片5(51、52、53)が、FOV3に作る磁場の再現性を向上させることができる。そして、シミング作業におけるシム鉄量の調整の回数を低減させることができる。
Although details will be described later, in the present invention, in the shimming operation, magnetic field distribution measurement and shim iron amount adjustment are performed. Prior to the magnetic field distribution measurement, shim iron amount adjustment is performed. By adjusting the shim iron amount prior to the magnetic field distribution measurement, the
(第3の実施形態)
図5に、本発明の第3の実施形態に係るMRI装置1(磁場発生装置2、図1A参照)の磁場調整方法(シミング作業)のフローチャートを示す。第3の実施形態では、シミング作業において、磁場分布測定とシム鉄量の調整を行うが、磁場分布測定に先立って、シム鉄量の調整を行う。そして、その磁場分布測定に先立つシム鉄量の調整は、事前に実施するシム鉄分布のシミュレーションの結果に基づいて行われる。このため、超電導コイルによって静磁場をFOV3に発生させその静磁場を計測する磁場分布測定を行う前に、シム鉄量の調整が行われ、シムトレイ6の収納容器7にシム鉄片5が配置されることになる。
(Third embodiment)
FIG. 5 shows a flowchart of a magnetic field adjustment method (shimming operation) of the MRI apparatus 1 (
図5に示すように、まず、ステップS1で、計算機が、事前シム鉄分布のシミュレーションを行う。 As shown in FIG. 5, first, in step S <b> 1, the computer performs simulation of pre-shim iron distribution.
次に、ステップS2で、シミング作業の作業者が、事前シム鉄分布のシミュレーション結果に基づいて、シム鉄量の調整を行う。具体的には、シム鉄片5とスペーサ5aを収納容器7内に配置(挿入)し、その収納容器7をシムトレイ6に配置し、そのシムトレイ6を真空容器2cに配置する。
Next, in step S2, the operator of the shimming work adjusts the amount of shim iron based on the simulation result of the pre-shim iron distribution. Specifically, the
ステップS3で、MRI装置1(磁場発生装置2)は、メインコイル2aとシールドコイル2bを励磁させ、FOV3に静磁場を発生させる。シミング作業の作業者は、FOV3における磁場分布B1を計測する。
In step S3, the MRI apparatus 1 (magnetic field generator 2) excites the
ステップS4で、計算機は、FOV3における磁場分布B1の計測結果に基づいて、FOV3における磁場分布B1の磁場均一度を計算する。シミング作業の作業者は、計算結果の磁場均一度が、所定の高精度な磁場均一度(例えば数ppm以下)を達成しているか否か判定する。達成している場合は(ステップS4、Yes)、この磁場調整方法(シミング作業)のフロー(チャート)をストップし、シミング作業を終了させる。達成していない場合は(ステップS4、No)、ステップS5へ進む。
In step S4, the computer calculates the magnetic field uniformity of the magnetic field distribution B1 in the
ステップS5で、シミング作業の作業者が、ステップS3において計測した磁場分布B1に基づいて、シム鉄量の調整を行う。具体的には、消磁してからシムトレイ6を真空容器2cから引き抜く。各シムポケット6aから収納容器7を外し、蓋7bを開けて、シム鉄片5とスペーサ5aを抜き差しし、シム鉄量を調整する。なお、シム鉄片5は、ステップS2において、収納容器7に挿入されているので、ステップS5では、挿入のみならず除去することができる。その収納容器7をシムトレイ6に配置し、そのシムトレイ6を真空容器2cに配置する。そして、ステップS3に戻る。このステップS3、S4、S5のループを、磁場均一度が所定の値に達するまで繰り返す。
In step S5, the shimming operator adjusts the amount of shim iron based on the magnetic field distribution B1 measured in step S3. Specifically, after degaussing, the
図6に、図5のステップS1の事前シム鉄分布のシミュレーション方法(その1)のフローチャートを示す。
まず、ステップS11で、計算機は、超電導コイルのメインコイル2aとシールドコイル2bの起磁力配置を、作業者等からの入力により取得する。取得する起磁力配置としては、メインコイル2aとシールドコイル2bのターン数と、それぞれのターンに流す電流と、それぞれのターンの断面の断面中心と辺長等を挙げることができる。そして、起磁力は、メインコイル2aとシールドコイル2bのコイルに流れる電流とそれらのコイルのターン数の積によって求めることができる。
FIG. 6 shows a flowchart of the simulation method (part 1) of the pre-shim iron distribution in step S1 of FIG.
First, in step S11, the computer acquires the magnetomotive force arrangement of the
ステップS12で、計算機は、取得した起磁力配置に基づいて、超電導コイルのメインコイル2aとシールドコイル2bが、FOV3(所定空間)に作る磁場分布B1(第2磁場分布)を計算する。
In step S12, the computer calculates a magnetic field distribution B1 (second magnetic field distribution) created in the FOV 3 (predetermined space) by the
次に、A部を構成するステップS13〜S16と、B部を構成するステップS22〜S27との少なくともどちらか一方を実施する。まず、A部について説明する。 Next, at least one of steps S13 to S16 constituting the A part and steps S22 to S27 constituting the B part is performed. First, A part is demonstrated.
ステップS13で、計算機は、MRI装置1(磁場発生装置2)の周囲に設置される磁性体の配置場所を、作業者等からの入力により取得する。 In step S <b> 13, the computer obtains an arrangement location of the magnetic body installed around the MRI apparatus 1 (magnetic field generation apparatus 2) by input from an operator or the like.
図7に、MRI装置1(磁場発生装置2)が設置される検査室の平面図を示す。MRI装置1では、超電導コイルのメインコイル2aとシールドコイル2bを冷却する冷媒の消費量を低減するために冷凍機が設置されている。その冷凍機には、メインコイル2aとシールドコイル2bによる強力な磁場から冷凍機のモータを保護するために、磁性体を用いた磁気シールド8aが、磁場発生装置2(真空容器2c(図1A参照))の上の外側の一部に設置されている。このように、磁気シールド8aは、磁場発生装置2に対して、均等ではなく局所的に配置されている。
FIG. 7 shows a plan view of an examination room in which the MRI apparatus 1 (magnetic field generator 2) is installed. In the
また、検査室から漏洩磁場を低減するために、磁性体を用いた磁気シールド8bが、検査室の壁(天井、床を含む)として、又は、壁に沿って設置されている。MRI装置1では、オペレータは操作するためのコンソール11が、磁気シールド8bの外側に置かれている。このため、磁気シールド8bの内のコンソール11に面している磁気シールド面8b1は、他の磁気シールド面8b2とは異なり、窓を有している。また、MRI装置1は、被検体を寝かせるベッド9を有している。被検体はベッド9に寝たまま、磁場発生装置2(FOV3(図1B参照))に対して出し入れされる。このため、図7に示すように、磁場発生装置2から引き出された状態でのベッド9のスペースを検査室内に確保するために、磁場発生装置2は検査室の中央から外れたところに配置され、1つの磁気シールド面8b2が、他の磁気シールド面8b1、8b2より、磁場発生装置2から離れている。また、検査室の上の階や下の階に部屋が無い場合(上下の階が無い場合)は、検査室の天井や床に、壁と同様に、磁気シールド8bを設ける必要はない。これらより、磁気シールド8bは、磁場発生装置2に対して、不均等に配置されている。
In order to reduce the leakage magnetic field from the examination room, a
また、検査室内には、精密機械をメインコイル2aとシールドコイル2bによる強力な磁場から保護するために、精密機械を覆うように磁気シールド(磁性体)8cが設けられている。磁気シールド8cは、精密機械の配置場所に応じて、均等ではなく局所的に配置されている。
In addition, a magnetic shield (magnetic body) 8c is provided in the examination room so as to cover the precision machine in order to protect the precision machine from the strong magnetic field generated by the
これらの磁気シールド(磁性体)8a、8b、8cは、超電導コイルのメインコイル2aとシールドコイル2bとがつくる磁場により磁化され、FOV3に不整磁場を発生させる。
These magnetic shields (magnetic bodies) 8a, 8b, and 8c are magnetized by the magnetic field generated by the
ステップS14で、計算機は、ステップS11で取得した起磁力配置に基づいて、超電導コイルのメインコイル2aとシールドコイル2bが、磁気シールド(磁性体)8a、8b、8cの配置位置に作る磁場分布B2を計算する。
In step S14, the computer calculates the magnetic field distribution B2 created by the
ステップS15で、計算機は、磁場分布B2によって磁化した磁気シールド(磁性体)8a、8b、8cにおける磁化分布M1を計算する。 In step S15, the computer calculates a magnetization distribution M1 in the magnetic shields (magnetic bodies) 8a, 8b, and 8c magnetized by the magnetic field distribution B2.
ステップS16で、計算機は、磁化分布M1がFOV3に作る磁場分布B3(第1磁場分布)を計算する。以上により、A部は終了する。次に、A部の後に実施されるステップS17〜S21について説明する。なお、A部が実施されない場合は、ステップS17〜S21は、ステップS12の後に実施される。 In step S16, the computer calculates a magnetic field distribution B3 (first magnetic field distribution) created by the magnetization distribution M1 in the FOV3. Thus, the A part is completed. Next, steps S17 to S21 performed after the A part will be described. In addition, when A part is not implemented, step S17-S21 are implemented after step S12.
ステップS17で、計算機は、共にFOV3における磁場分布B3(第1磁場分布)と磁場分布B1(第2磁場分布)について、磁場分布B3(第1磁場分布)を磁場分布B1(第2磁場分布)に加えて(重ね合わせて)、合成磁場分布B4を計算する(B4=B1+B3)。
In step S17, the computer uses both the magnetic field distribution B3 (first magnetic field distribution) and the magnetic field distribution B1 (second magnetic field distribution) for the magnetic field distribution B3 (first magnetic field distribution) and the magnetic field distribution B1 (second magnetic field distribution) in the
ステップS18で、計算機は、FOV3における磁場均一度を調整する際に目標とする目標磁場分布B0と、合成磁場分布B4との、差分磁場分布ΔB1(第1差分磁場分布)を計算する(ΔB1=B4−B0)。
In step S18, the computer calculates a differential magnetic field distribution ΔB1 (first differential magnetic field distribution) between the target magnetic field distribution B0 targeted when adjusting the magnetic field uniformity in the
ステップS19で、計算機は、FOV3に差分磁場分布ΔB1(第1差分磁場分布)を作るような、シムトレイ6(収納容器7)の配置場所における事前磁化分布ΔM1(第1追加事前磁化分布)を計算する。この計算には、先行技術文献として示した特許文献1と2に記載された特異値分解法あるいは球面調和関数による展開法を用いることができる。
In step S19, the computer calculates a pre-magnetization distribution ΔM1 (first additional pre-magnetization distribution) at the place where the shim tray 6 (storage container 7) is arranged so as to create a differential magnetic field distribution ΔB1 (first differential magnetic field distribution) in the
ステップS20で、計算機は、ステップS11で取得した起磁力配置に基づいて、超電導コイルのメインコイル2aとシールドコイル2bが、シムトレイ6(収納容器7)の配置場所に作る磁場分布B5(第3磁場分布)を計算する。
In step S20, the computer calculates a magnetic field distribution B5 (third magnetic field) created by the
ステップS21で、計算機は、シムトレイ6(収納容器7)の配置場所において、ステップS20で計算した磁場分布B5(第3磁場分布)によって、ステップS19で計算した事前磁化分布ΔM1(第1事前磁化分布)を生じるような、事前シム鉄分布ΔS1(第1シム鉄分布)を計算する。事前シム鉄分布ΔS1(第1シム鉄分布)により、収納容器7毎に挿入(除去)すべきシム鉄量(シム鉄片5の量)が取得可能になり、シム鉄片5の配置が可能になる。事前シム鉄分布ΔS1(第1シム鉄分布)にしたがったシム鉄量を収納容器7に配置することで、MRI装置1の周囲に設置された磁気シールド(磁性体)8a、8b、8cがつくる磁場によるFOV3の磁場均一度の低下を抑制することができる。
In step S21, the computer calculates the pre-magnetization distribution ΔM1 (first pre-magnetization distribution) calculated in step S19 based on the magnetic field distribution B5 (third magnetic field distribution) calculated in step S20 at the place where the shim tray 6 (storage container 7) is arranged. ) To generate a prior shim iron distribution ΔS1 (first shim iron distribution). With the prior shim iron distribution ΔS1 (first shim iron distribution), the amount of shim iron to be inserted (removed) for each storage container 7 (the amount of shim iron pieces 5) can be acquired, and the
次に、ステップS22〜S27で構成されるB部について説明する。B部によれば、MRI装置1の加工、組立て段階における超電導コイルのメインコイル2aとシールドコイル2bの設置誤差によるFOV3の磁場均一度の劣化を抑制することができる。
Next, the B part comprised by step S22-S27 is demonstrated. According to the B part, it is possible to suppress the deterioration of the magnetic field uniformity of the
ステップS22で、計算機は、超電導コイルのメインコイル2aとシールドコイル2bの設置誤差の最大許容値を、作業者等からの入力により取得する。
In step S22, the computer obtains the maximum allowable installation error of the
ステップS23で、計算機は、設置誤差の最大許容値分ずらした超電導コイルのメインコイル2aとシールドコイル2bが、FOV3に作る磁場分布B11(第4磁場分布)を計算する。
In step S23, the computer calculates a magnetic field distribution B11 (fourth magnetic field distribution) created in the
ステップS24で、計算機は、FOV3における磁場均一度を調整する際に目標とする目標磁場分布B0と、磁場分布B11(第4磁場分布)との差分磁場分布ΔB2(第2差分磁場分布)を計算する(ΔB2=B11−B0)。 In step S24, the computer calculates a differential magnetic field distribution ΔB2 (second differential magnetic field distribution) between the target magnetic field distribution B0 and the magnetic field distribution B11 (fourth magnetic field distribution) that are targeted when adjusting the magnetic field uniformity in the FOV3. (ΔB2 = B11−B0).
ステップS25で、計算機は、差分磁場分布ΔB2(第2差分磁場分布)の磁場強度を略半分(1/2)にした差分磁場分布ΔB3(第3差分磁場分布)を計算する(ΔB3=ΔB2/2)。磁場強度を略半分(1/2)にしているのは、設置誤差による磁場変化量にはプラス成分とマイナス成分があり、マイナス成分に相当するシム鉄片5を、図5のステップS2で予めシムトレイ6(収納容器7)に分布させておくためである。
In step S25, the computer calculates a differential magnetic field distribution ΔB3 (third differential magnetic field distribution) in which the magnetic field strength of the differential magnetic field distribution ΔB2 (second differential magnetic field distribution) is approximately halved (1/2) (ΔB3 = ΔB2 /). 2). The reason why the magnetic field intensity is substantially halved (1/2) is that there are a plus component and a minus component in the amount of change in the magnetic field due to the installation error, and the
ステップS26で、計算機は、FOV3に差分磁場分布ΔB3(第3差分磁場分布)を作るような、シムトレイ6(収納容器7)の配置場所における事前磁化分布ΔM2(第2事前磁化分布)を計算する。この計算には、先行技術文献として示した特許文献1と2に記載された特異値分解法あるいは球面調和関数による展開法を用いることができる。
In step S <b> 26, the computer calculates a pre-magnetization distribution ΔM <b> 2 (second pre-magnetization distribution) at the place where the shim tray 6 (storage container 7) is arranged so as to create a differential magnetic field distribution ΔB <b> 3 (third differential magnetic field distribution) in the
ステップS27で、計算機は、シムトレイ6(収納容器7)の配置場所において、ステップS20で計算した磁場分布B5(第3磁場分布)によって、ステップS26で計算した事前磁化分布ΔM2(第2事前磁化分布)を生じるような、事前シム鉄分布ΔS2(第2シム鉄分布)を計算する。事前シム鉄分布ΔS2(第2シム鉄分布)により、収納容器7毎に挿入(除去)すべきシム鉄量(シム鉄片5の量)が取得可能になり、シム鉄片5の配置が可能になる。事前シム鉄分布ΔS2(第2シム鉄分布)にしたがったシム鉄量を収納容器7に配置することで、MRI装置1の加工、組立て段階における超電導コイルのメインコイル2aとシールドコイル2bの設置誤差によるFOV3の磁場均一度の劣化を抑制することができる。以上で、B部が終了する。
In step S27, the computer calculates the pre-magnetization distribution ΔM2 (second pre-magnetization distribution) calculated in step S26 by the magnetic field distribution B5 (third magnetic field distribution) calculated in step S20 at the place where the shim tray 6 (storage container 7) is arranged. ) To generate a prior shim iron distribution ΔS2 (second shim iron distribution). The pre-shim iron distribution ΔS2 (second shim iron distribution) makes it possible to obtain the amount of shim iron to be inserted (removed) for each storage container 7 (the amount of shim iron pieces 5), and the
最後に、ステップS28で、計算機は、シムトレイ6(収納容器7)の配置場所において、事前シム鉄分布ΔS1(第1シム鉄分布)と、事前シム鉄分布ΔS2(第2シム鉄分布)を重ねて足し合わせ、合成シム鉄分布ΔS3を計算する(ΔS3=ΔS1+ΔS2)。合成シム鉄分布ΔS3により、シム鉄量を収納容器7に配置することで、MRI装置1の周囲に設置された磁気シールド(磁性体)8a、8b、8cがつくる磁場によるFOV3の磁場均一度の低下を抑制することができ、かつ、MRI装置1の加工、組立て段階における超電導コイルのメインコイル2aとシールドコイル2bの設置誤差によるFOV3の磁場均一度の劣化を抑制することができる。以上で、事前シム鉄分布のシミュレーション方法(その1)のフロー(チャート)が終了する。
Finally, in step S28, the computer superimposes the prior shim iron distribution ΔS1 (first shim iron distribution) and the prior shim iron distribution ΔS2 (second shim iron distribution) at the place where the shim tray 6 (storage container 7) is arranged. The combined shim iron distribution ΔS3 is calculated (ΔS3 = ΔS1 + ΔS2). By arranging the amount of shim iron in the
これらによれば、FOVの磁場分布を測定する前に、シム鉄量の調整ができるので、超電導コイルのメインコイル2aとシールドコイル2bの励磁・消磁の回数を低減することができる。
According to these, since the amount of shim iron can be adjusted before measuring the magnetic field distribution of the FOV, the number of times of excitation / demagnetization of the
(第4の実施形態)
第4の実施形態では、第3の実施形態で説明した図5のステップS1の事前シム鉄分布のシミュレーション方法を、データベースを作成するその2−1と、そのデータベースを利用するその2−2とに変更している。
(Fourth embodiment)
In the fourth embodiment, the simulation method for the pre-sim iron distribution in step S1 of FIG. 5 described in the third embodiment is described as 2-1 for creating a database and 2-2 for using the database. Has been changed.
図8Aに、第4の実施形態で用いる事前シム鉄分布のシミュレーション方法(その2−1)のフローチャートを示し、図8Bに、第4の実施形態で用いる事前シム鉄分布のシミュレーション方法(その2−2)のフローチャートを示す。 FIG. 8A shows a flowchart of a pre-sim iron distribution simulation method (2-1) used in the fourth embodiment, and FIG. 8B shows a pre-sim iron distribution simulation method (part 2) used in the fourth embodiment. -2) is shown.
まず、図8AのステップS31で、計算機は、ステップS11と同様に超電導コイルのメインコイル2aとシールドコイル2bの起磁力配置を取得し、ステップS13と同様に磁性体の配置場所を取得する。
First, in step S31 of FIG. 8A, the computer acquires the magnetomotive force arrangement of the
ステップS32で、ステップS14と同様に、計算機は、ステップS31で取得した起磁力配置に基づいて、超電導コイルのメインコイル2aとシールドコイル2bが、磁気シールド(磁性体)8a、8b、8cの配置位置に作る磁場分布B2を計算する。
In step S32, similarly to step S14, the computer, based on the magnetomotive force arrangement acquired in step S31, arranges the
ステップS33で、ステップS15と同様に、計算機は、磁場分布B2によって磁化した磁気シールド(磁性体)8a、8b、8cにおける磁化分布M1を計算する。 In step S33, similarly to step S15, the computer calculates the magnetization distribution M1 in the magnetic shields (magnetic bodies) 8a, 8b, and 8c magnetized by the magnetic field distribution B2.
ステップS34で、ステップS16と同様に、計算機は、磁気シールド(磁性体)8a、8b、8c毎に、磁化分布M1がFOV3に作る磁場分布B3(第1磁場分布)を計算する。
In step S34, similarly to step S16, the computer calculates the magnetic field distribution B3 (first magnetic field distribution) created by the magnetization distribution M1 in the
ステップS35で、計算機は、磁気シールド(磁性体)8a、8b、8c毎に、磁場分布B3(第1磁場分布)を記憶したデータベースを作成する。このデータベースは、超電導コイルの起磁力配置と、磁気シールド(磁性体)8a、8b、8c毎の配置場所とに基づいて、対応する磁気シールド(磁性体)8a、8b、8cが生成する磁場分布B3を読出すことができる。例えば、冷凍機のモータを保護するための磁気シールド8a(図7参照)では、冷凍機の機種毎に磁気シールド8aの形状が異なるのであれば、その冷凍機の機種毎(磁気シールド8aの形状毎)に、磁場分布B3(第1磁場分布)を計算し、データベースに記憶させておく。また、検査室からの漏洩磁場を低減するための磁気シールド8b(図7参照)では、磁気シールド8bを、検査室の天井と床に設けるか否かの場合分けによって、その場合分け毎に、磁場分布B3(第1磁場分布)を計算し、データベースに記憶させておく。また、精密機械を覆うための磁気シールド8c(図7参照)では、その精密機械の種類毎(磁気シールド8cの形状毎)に、磁場分布B3(第1磁場分布)を計算し、データベースに記憶させておく。以下では、以上で作成されたデータベースを利用して、合成シム鉄分布ΔS3を決定(計算)する。
In step S35, the computer creates a database that stores the magnetic field distribution B3 (first magnetic field distribution) for each of the magnetic shields (magnetic bodies) 8a, 8b, and 8c. This database is based on the magnetomotive force arrangement of the superconducting coils and the location of each magnetic shield (magnetic body) 8a, 8b, 8c, and the magnetic field distribution generated by the corresponding magnetic shield (magnetic body) 8a, 8b, 8c. B3 can be read. For example, in the
まず、図8BのステップS11で、計算機は、図6のステップS11と同様に超電導コイルのメインコイル2aとシールドコイル2bの起磁力配置を取得する。
First, in step S11 of FIG. 8B, the computer acquires magnetomotive force arrangements of the
図8BのステップS12で、計算機は、図6のステップS12と同様に、超電導コイルのメインコイル2aとシールドコイル2bが、FOV3(所定空間)に作る磁場分布B1(第2磁場分布)を計算する。
In step S12 of FIG. 8B, the computer calculates the magnetic field distribution B1 (second magnetic field distribution) created in the FOV 3 (predetermined space) by the
図8BのステップS36とS37からなるA2部は、図6のA部に置き換わるものである。したがって、第3の実施形態と同様に、A2部(ステップS36とS37)を実施せずに、ステップS22へ進んでもよい。 The A2 portion composed of steps S36 and S37 in FIG. 8B is replaced with the A portion in FIG. Therefore, similarly to the third embodiment, the process may proceed to step S22 without performing the A2 part (steps S36 and S37).
ステップS36で、作業者は、MRI装置1の設置環境にあるような磁性体(磁気シールド)を、データベース内から選択し、選択結果を計算機に入力する。
In step S36, the worker selects a magnetic material (magnetic shield) that is in the installation environment of the
ステップS37で、計算機は、選択された磁気シールドに対応する磁場分布B3(第1磁場分布)を、データベースから読み出す。そして、図6のステップS17へ進む。 In step S37, the computer reads the magnetic field distribution B3 (first magnetic field distribution) corresponding to the selected magnetic shield from the database. Then, the process proceeds to step S17 in FIG.
これによれば、以前に計算した磁性体配置であれば、計算を省略して、磁場分布B3(第1磁場分布)を取得できるので、計算の高速化、低コスト化を図ることが可能となる。 According to this, since it is possible to obtain the magnetic field distribution B3 (first magnetic field distribution) by omitting the calculation if the magnetic body arrangement has been calculated before, it is possible to increase the calculation speed and reduce the cost. Become.
(第5の実施形態)
第5の実施形態では、第4の実施形態で作成したデータベースを利用する方法に関する。なお、第4の実施形態で利用するデータベースは、様々な磁気シールドに関して磁場分布B3(第1磁場分布)を記憶させたが、なお、第5の実施形態で利用するデータベースでは、様々な磁気シールドと様々な超電導コイルの起磁力配置の組、すなわち、磁気シールドと超電導コイルの様々な組(組合せ)に対して、磁場分布B3(第1磁場分布)を記憶させておく。様々な超電導コイルとしては、メインコイル2a及びシールドコイル2bの断面の中心と辺長、ターン数とそれぞれのターンに流す電流等が変えられている。
(Fifth embodiment)
The fifth embodiment relates to a method of using the database created in the fourth embodiment. In the database used in the fourth embodiment, the magnetic field distribution B3 (first magnetic field distribution) is stored for various magnetic shields. However, in the database used in the fifth embodiment, various magnetic shields are used. The magnetic field distribution B3 (first magnetic field distribution) is stored for various sets of magnetomotive force arrangements of the superconducting coils, that is, various sets (combinations) of the magnetic shield and the superconducting coil. As various superconducting coils, the center and side length of the cross section of the
図9に、第5の実施形態で用いる事前シム鉄分布のシミュレーション方法(その3、データベースの利用方法)のフローチャートを示す。
FIG. 9 shows a flowchart of a simulation method of the pre-sim iron distribution used in the fifth embodiment (
まず、図9のステップS41で、計算機は、データベースから、超電導コイル(の起磁力配置)と、磁気シールド(磁性体)(の配置場所)の組を、順に読み出す。 First, in step S41 of FIG. 9, the computer sequentially reads a set of a superconducting coil (magnetomotive force arrangement) and a magnetic shield (magnetic body) (placement position) from the database.
ステップS42で、計算機は、ステップS12と同様に、その組における超電導コイルの起磁力配置に基づいて、超電導コイルのメインコイル2aとシールドコイル2bが、FOV3(所定空間)に作る磁場分布B1(第2磁場分布)を計算する。
In step S42, similarly to step S12, the computer, based on the magnetomotive force arrangement of the superconducting coils in the set, generates a magnetic field distribution B1 (first space) created by the
ステップS43で、計算機は、その組に対応する磁場分布B3(第1磁場分布)を、データベースから読み出す。さらに、磁場分布B3(第1磁場分布)を磁場分布B1(第2磁場分布)に加えて(重ね合わせて)、合成磁場分布B4を計算する(B4=B1+B3)。 In step S43, the computer reads a magnetic field distribution B3 (first magnetic field distribution) corresponding to the set from the database. Further, the magnetic field distribution B3 (first magnetic field distribution) is added (superposed) to the magnetic field distribution B1 (second magnetic field distribution) to calculate a combined magnetic field distribution B4 (B4 = B1 + B3).
ステップS44で、計算機は、組毎に、ステップS43で計算した合成磁場分布B4における最大値と最小値を取得する。 In step S44, the computer acquires the maximum value and the minimum value in the combined magnetic field distribution B4 calculated in step S43 for each set.
ステップS45で、計算機は、組毎に、最大値と最小値の差である差分値Bpを計算する。 In step S45, the computer calculates a difference value Bp that is a difference between the maximum value and the minimum value for each set.
ステップS46で、計算機は、差分値Bpが最小となる組を抽出する。この差分値Bpが最小となる組では、磁場分布B3(第1磁場分布)と、磁場分布B1(第2磁場分布)とが、互いに打ち消し合っていると考えられ、超電導コイルと磁気シールドとが最良の組合せになっている。そこで、ステップS47で、作業者は、この組で、MRI装置1を設置し、計算機は、このMRI装置1に対して、図6や図8Bに記載の事前シム鉄分布のシミュレーション方法を実施する。これによれば、MRI装置1全体でのシム鉄量を低減することができる。
In step S46, the computer extracts a set having the minimum difference value Bp. In the group having the smallest difference value Bp, it is considered that the magnetic field distribution B3 (first magnetic field distribution) and the magnetic field distribution B1 (second magnetic field distribution) cancel each other, and the superconducting coil and the magnetic shield are The best combination. Therefore, in step S47, the operator installs the
(第6の実施形態)
第6の実施形態では、MRI装置1の周辺に配置される代表的な磁気シールドによる磁場分布B3(第1磁場分布)を打ち消すような磁場分布B1(第2磁場分布)を生成するような起磁力配置を持つ超電導コイルを設計することにより、シム鉄量を低減する。
(Sixth embodiment)
In the sixth embodiment, a magnetic field distribution B1 (second magnetic field distribution) that cancels the magnetic field distribution B3 (first magnetic field distribution) by a typical magnetic shield arranged around the
図10に、第6の実施形態で用いる事前シム鉄分布のシミュレーション方法(その4)のフローチャートを示す。 FIG. 10 shows a flowchart of a pre-sim iron distribution simulation method (part 4) used in the sixth embodiment.
まず、図10のステップS51で、計算機は、ステップS11と同様に、ベースとする超電導コイルのメインコイル2aとシールドコイル2bの起磁力配置eを取得する。
First, in step S51 of FIG. 10, the computer acquires magnetomotive force arrangement e of the
ステップS52で、計算機は、ステップS12と同様に、取得した起磁力配置eに基づいて、超電導コイルのメインコイル2aとシールドコイル2bが、FOV3(所定空間)に作る磁場分布B1(第2磁場分布)を計算する。
In step S52, the computer calculates the magnetic field distribution B1 (second magnetic field distribution) created by the
ステップS53で、計算機は、ステップS13と同様に、代表的な(特定の)磁気シールド(磁性体)の配置場所を取得する。 In step S <b> 53, the computer obtains a representative (specific) magnetic shield (magnetic body) placement location in the same manner as in step S <b> 13.
ステップS54で、計算機は、ステップS14と同様に、起磁力配置eに基づいて、超電導コイルのメインコイル2aとシールドコイル2bが、代表的な(特定の)磁気シールドの配置位置に作る磁場分布B2を計算する。
In step S54, the computer calculates the magnetic field distribution B2 formed by the
ステップS55で、計算機は、ステップS15と同様に、磁場分布B2によって磁化した代表的な(特定の)磁気シールドにおける磁化分布M1を計算する。 In step S55, the computer calculates the magnetization distribution M1 in the representative (specific) magnetic shield magnetized by the magnetic field distribution B2, as in step S15.
ステップS56で、計算機は、ステップS16と同様に、磁化分布M1がFOV3に作る磁場分布B3(第1磁場分布)を計算する。
In step S56, the computer calculates a magnetic field distribution B3 (first magnetic field distribution) created by the magnetization distribution M1 in the
ステップS57で、計算機は、ステップS17と同様に、磁場分布B3(第1磁場分布)を磁場分布B1(第2磁場分布)に加えて(重ね合わせて)、合成磁場分布B4を計算する(B4=B1+B3)。 In step S57, similarly to step S17, the computer adds (superimposes) the magnetic field distribution B3 (first magnetic field distribution) to the magnetic field distribution B1 (second magnetic field distribution) to calculate the combined magnetic field distribution B4 (B4). = B1 + B3).
ステップS58で、計算機は、ステップS18と同様に、目標磁場分布B0と、合成磁場分布B4との、差分磁場分布ΔB1(第1差分磁場分布)を計算する(ΔB1=B4−B0)。 In step S58, the computer calculates a differential magnetic field distribution ΔB1 (first differential magnetic field distribution) between the target magnetic field distribution B0 and the combined magnetic field distribution B4 (ΔB1 = B4-B0), as in step S18.
ステップS59で、計算機は、FOV3に差分磁場分布ΔB1(第1差分磁場分布)を作るような、超電導コイルのメインコイル2aとシールドコイル2bの配置場所における差分起磁力配置Δeを計算する。この計算には、先行技術文献として示した特許文献1と2に記載された特異値分解法あるいは球面調和関数による展開法を用いることができる。
In step S59, the computer calculates the differential magnetomotive force arrangement Δe at the location where the
ステップS60で、計算機は、起磁力配置eに差分起磁力配置Δeを加え、正味の起磁力配置e1を計算する。作業者は、正味の起磁力配置e1に基づいて、超電導コイルのメインコイル2aとシールドコイル2bを作製し、これらを備えたMRI装置1を作製する。そして、このMRI装置1を、代表的な(特定の)磁気シールド(磁性体)が配置された場所に設置する。
In step S60, the calculator adds the differential magnetomotive force arrangement Δe to the magnetomotive force arrangement e to calculate the net magnetomotive force arrangement e1. An operator produces the
ステップS61で、計算機は、この代表的な(特定の)磁気シールド(磁性体)の配置場所と、ステップS60で計算した正味の起磁力配置e1とに基づいて、図6や図8Bに記載の事前シム鉄分布のシミュレーション方法を実施する。これによれば、MRI装置1全体でのシム鉄量を低減することができる。そして、シミング作業に要する時間を短縮し、シミング作業において超電導コイルの励磁・消磁の回数を低減できる。
In step S61, the calculator describes the location of the representative (specific) magnetic shield (magnetic material) and the net magnetomotive force arrangement e1 calculated in step S60, as described in FIG. 6 and FIG. 8B. Implement the simulation method of pre-sim iron distribution. According to this, the amount of shim iron in the
1 MRI(磁気共鳴イメージング)装置
2 磁場発生装置
2a 超電導コイル(メインコイル)
2b 超電導コイル(シールドコイル)
2c 真空容器
2d 冷媒容器
3 撮像領域(FOV: Field Of View、所定空間)
4 磁場調整装置
5 シム鉄片(磁性体片)
5a スペーサ
6 シムトレイ
6a シムポケット
7 収納容器
7a 容器本体
7b 容器の蓋
7c 開口部
7d 収納空間
7e 仕切り板
8a 冷凍機モータを保護するための磁気シールド(磁性体)
8b 漏洩磁場を低減するための磁気シールド(磁性体)
8c 精密機械を保護するための磁気シールド(磁性体)
9 ベッド
DESCRIPTION OF
2b Superconducting coil (shielded coil)
4 Magnetic
8b Magnetic shield (magnetic material) to reduce the leakage magnetic field
8c Magnetic shield (magnetic material) to protect precision machinery
9 beds
Claims (2)
前記磁性体片の積層方向と異なる方向に前記磁性体片を出し入れする開口部を有し、複数枚の前記磁性体片を収納し、前記ポケット内に収められる収納容器を備えることを特徴とする磁場調整装置。 A plurality of thin plate-like magnetic pieces and a shim tray provided with a plurality of pockets for storing the magnetic pieces, the magnetic pieces are stacked and placed in the pocket, and the superconducting coil is placed in a predetermined space. In the magnetic field adjustment device for adjusting the magnetic field uniformity of the generated static magnetic field,
It has an opening for taking in and out the magnetic pieces in a direction different from the laminating direction of the magnetic pieces, and comprises a storage container for storing a plurality of the magnetic pieces and being stored in the pockets. Magnetic field adjustment device.
前記磁性体片が収納される収納空間を前記積層方向に分割する仕切り板を有することを特徴とする請求項1に記載の磁場調整装置。 The storage container is
The magnetic field adjustment device according to claim 1, further comprising a partition plate that divides a storage space in which the magnetic piece is stored in the stacking direction.
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