JP2015026713A - Semiconductor manufacturing apparatus - Google Patents

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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a semiconductor manufacturing apparatus capable of further suppressing deterioration in performance of an insulating sheet made of a resin.SOLUTION: The semiconductor manufacturing apparatus according to the present invention as a mold structure for resin-sealing a semiconductor set 20 includes: a central mold 10 having an opening 11 vertically penetrating the central mold 10; an upper mold 8 which is used by being superposed on the upper side of the central mold 10 and is provided with, on its lower surface, a recess 9 connected to the opening 11 to form a space; and a lower mold 12 which is used by being superposed on the lower side of the central mold 10 and is provided with, on its upper surface, a recess 13 connected to the opening 11 to form a space.

Description

本発明は半導体製造装置に関する。   The present invention relates to a semiconductor manufacturing apparatus.

片面冷却型のモールド式パワーカードが知られている。特許文献1には、金属層の上に絶縁樹脂膜が形成され、絶縁樹脂膜の上にヒートシンクと半導体チップが配設され、樹脂封止された半導体装置が記載されている。   A single-sided cooling type power card is known. Patent Document 1 describes a semiconductor device in which an insulating resin film is formed on a metal layer, a heat sink and a semiconductor chip are disposed on the insulating resin film, and the resin is sealed.

特開2004−165281号公報JP 2004-165281 A

しかしながら、半導体装置の製造工程において、樹脂封止の際に、樹脂性の絶縁シートを金型に配置したままハンダ付けを行うと、樹脂シートが耐熱を超えて変質し、樹脂が炭化するなどして、絶縁性を失ってしまうという問題があった。   However, in the semiconductor device manufacturing process, if the resinous insulation sheet is placed in the mold during soldering and the soldering is performed, the resin sheet will deteriorate beyond heat resistance and the resin will carbonize. As a result, there is a problem that the insulating property is lost.

本発明はこのような問題点を解決するためになされたものであり、より樹脂性の絶縁シートの性能低下を抑制可能な半導体製造装置を提供することを目的とする。   This invention is made | formed in order to solve such a problem, and it aims at providing the semiconductor manufacturing apparatus which can suppress the performance fall of a more resinous insulating sheet.

本発明にかかる半導体製造装置は、半導体装置を樹脂封止するための金型構造であって、上下を貫通する開口部を有する中央金型と、中央金型の上に重ねられて使用され、開口部と接続されて空間を形成する凹部が下面に設けられた上部金型と、中央金型の下に重ねて使用され、開口部と接続されて空間を形成する凹部が上面に設けられた下部金型と、を有するものである。これにより、絶縁シートをヒートシンクに接着せずに半導体装置にはんだ付け処理を行うことができる。   The semiconductor manufacturing apparatus according to the present invention is a mold structure for resin-sealing a semiconductor device, and is used by being overlaid on a central mold having a central mold having an opening penetrating vertically. An upper mold provided with a concave portion connected to the opening to form a space on the lower surface and an upper mold provided under the central mold, and a concave portion connected to the opening to form a space were provided on the upper surface. And a lower mold. Thereby, the soldering process can be performed on the semiconductor device without bonding the insulating sheet to the heat sink.

本発明によれば、より樹脂性の絶縁シートの性能低下を抑制可能な半導体製造装置を提供することができる。   ADVANTAGE OF THE INVENTION According to this invention, the semiconductor manufacturing apparatus which can suppress the performance fall of a more resinous insulation sheet can be provided.

実施の形態にかかる実施の形態にかかる金型と半導体装置とを示す図である。It is a figure which shows the metal mold | die and semiconductor device concerning embodiment concerning embodiment. 実施の形態にかかる実施の形態にかかる半導体装置の中央金型に、樹脂封止前の半導体装置が設置されている状態を示す図である。It is a figure which shows the state by which the semiconductor device before resin sealing is installed in the center metal mold | die of the semiconductor device concerning embodiment concerning embodiment. 実施の形態にかかるボンディング処理の際の断面を示す図である。It is a figure which shows the cross section in the case of the bonding process concerning embodiment. 実施の形態にかかる中央金型とヒートシンクとを示す図である。It is a figure which shows the center metal mold | die and heat sink concerning embodiment. 実施の形態にかかるヒートシンクの固定方法を説明するための図である。It is a figure for demonstrating the fixing method of the heat sink concerning embodiment. 実施の形態にかかるヒートシンクの固定方法を説明するための図である。It is a figure for demonstrating the fixing method of the heat sink concerning embodiment. 実施の形態にかかるヒートシンクの固定方法を説明するための図である。It is a figure for demonstrating the fixing method of the heat sink concerning embodiment. 従来の半導体装置を示す図である。It is a figure which shows the conventional semiconductor device. 実施の形態にかかる半導体装置を示す図である。1 is a diagram illustrating a semiconductor device according to an embodiment.

実施の形態
以下、図面を参照して本発明の実施の形態について説明する。本願発明は、半導体装置の製造装置にかかるものである。本願発明の構造を説明するために、従来の技術の問題点をまず説明する。
Embodiment Hereinafter, an embodiment of the present invention will be described with reference to the drawings. The present invention relates to a semiconductor device manufacturing apparatus. In order to explain the structure of the present invention, problems of the prior art will be described first.

半導体素子が通電した際の熱を放出するため、半導体素子は板状のヒートシンクに固定される。放熱効率を良くするために、半導体素子とヒートシンクとははんだで接着される必要がある。   In order to release heat when the semiconductor element is energized, the semiconductor element is fixed to a plate-shaped heat sink. In order to improve heat dissipation efficiency, the semiconductor element and the heat sink need to be bonded with solder.

ヒートシンクは導電体の部材で形成されるため、半導体素子密着された一方の面と異なる面である他方の面には、絶縁性のシートが接着される。絶縁性のシートは、例えばヒートシンクと接着されない方の面に金属膜を備えた樹脂等で形成される。   Since the heat sink is formed of a conductor member, an insulating sheet is bonded to the other surface, which is a surface different from the one surface in close contact with the semiconductor element. The insulating sheet is formed of, for example, a resin having a metal film on the surface that is not bonded to the heat sink.

1つの方法として、従来、半導体素子の樹脂封止処理が終わった後に絶縁シートを密着する工程を設ける加工方法がある。しかしこの工程がある場合、樹脂シートの熱圧着工程が樹脂封止工程とは別に必要であって、設備費、加工費共にかさんでしまうという問題があった。   As one method, there is conventionally a processing method in which a step of closely attaching an insulating sheet is performed after the resin sealing process of the semiconductor element is finished. However, when this process is present, a resin sheet thermocompression process is required separately from the resin sealing process, and there is a problem that both the equipment cost and the processing cost are increased.

また、半導体素子とヒートシンクとのはんだ付け処理後に絶縁シートをヒートシンクに接着させようとすると、ヒートシンク上の半導体素子やワイヤボンディングが邪魔になり、ヒートシンクを絶縁性のシートと平行な面で均一に加圧できない。そのため、絶縁シートとヒートシンクとを均一に接着することができない。   In addition, if the insulating sheet is bonded to the heat sink after the soldering process between the semiconductor element and the heat sink, the semiconductor element or wire bonding on the heat sink becomes an obstacle, and the heat sink is uniformly applied in a plane parallel to the insulating sheet. I can't press. Therefore, the insulating sheet and the heat sink cannot be bonded uniformly.

一方、樹脂封止の前に金型の中に樹脂シートを配置して、その上に封止処理するための半導体素子や電極基板等を配置して、金型内の部品を一度に樹脂封止する加工方法では、上述したように、はんだ処理等の加工により樹脂シートが炭化し、絶縁性が失われてしまう場合がある。   On the other hand, a resin sheet is placed in a mold before resin sealing, and a semiconductor element, an electrode substrate, etc. for sealing treatment are placed on the resin sheet, and the components in the mold are sealed with resin at once. In the processing method of stopping, as described above, the resin sheet may be carbonized by processing such as soldering, and the insulation may be lost.

図1(a)は、実施の形態にかかる金型と、樹脂封止される前の半導体セット20の分解断面図である。図1(b)は樹脂封止された半導体装置2の断面を示す図である。図1(c)は金型から取り外された半導体装置2の断面を示す図である。   FIG. 1A is an exploded cross-sectional view of the mold according to the embodiment and the semiconductor set 20 before resin sealing. FIG. 1B is a view showing a cross section of the resin-sealed semiconductor device 2. FIG. 1C is a view showing a cross section of the semiconductor device 2 removed from the mold.

本実施の形態にかかる半導体製造装置1は、上部金型8と、中央金型10と、下部金型12と、を有する。なお、樹脂封止される前の半導体素子を含む構造体のことを半導体セット20とし、樹脂封止された後の半導体素子を含む構造体のことを半導体装置2として説明する。   The semiconductor manufacturing apparatus 1 according to the present embodiment includes an upper mold 8, a central mold 10, and a lower mold 12. Note that a structure including a semiconductor element before resin sealing is referred to as a semiconductor set 20, and a structure including a semiconductor element after resin sealing is referred to as a semiconductor device 2.

上部金型8は、樹脂封止のために、中央金型10と対向する面の中央に凹部9を有する。中央金型10は、開口部11を有する。これにより、ヒートシンク21の底面部分が開口している。下部金型12は、中央金型10と対向する面に凹部13を有する。凹部13の中央には絶縁シート28が設置されて、ヒートシンク21の底面に接着される。   The upper mold 8 has a recess 9 in the center of the surface facing the central mold 10 for resin sealing. The central mold 10 has an opening 11. Thereby, the bottom part of the heat sink 21 is opened. The lower mold 12 has a recess 13 on the surface facing the central mold 10. An insulating sheet 28 is installed at the center of the recess 13 and bonded to the bottom surface of the heat sink 21.

上部金型8の凹部9と、中央金型10の開口部11と、下部金型12の凹部13と、が半導体セット20の樹脂封止のための空間を形成する。   The recess 9 of the upper mold 8, the opening 11 of the central mold 10, and the recess 13 of the lower mold 12 form a space for resin sealing of the semiconductor set 20.

図2は、実施の形態にかかる半導体装置の中央金型10に、樹脂封止前の半導体セット20が設置されている状態の上面図とB−B‘線による断面図とを示す図である。   FIG. 2 is a diagram illustrating a top view and a cross-sectional view taken along line BB ′ in a state where the semiconductor set 20 before resin sealing is installed in the central mold 10 of the semiconductor device according to the embodiment. .

中央金型10は、開口部11を有し、ヒートシンク21の底面部分が開口している。半導体セット20は、電極と一体化しているヒートシンク21、制御端子22、半導体素子24及び25、接続パッド26、及びボンディングワイヤ27を有する。半導体素子24及び25は、はんだ接合等の方法でヒートシンク21上に接合されている。   The central mold 10 has an opening 11 and the bottom surface portion of the heat sink 21 is open. The semiconductor set 20 includes a heat sink 21 integrated with electrodes, a control terminal 22, semiconductor elements 24 and 25, connection pads 26, and bonding wires 27. The semiconductor elements 24 and 25 are bonded onto the heat sink 21 by a method such as solder bonding.

本実施の形態にかかる半導体装置の製造装置においては、中央金型10の開口部11に半導体セット20がはめ込まれる構造となっている。従来は、半導体素子24及び25はヒートシンク21にはんだ接合するときに、事前に絶縁シート28を金型内に設置する必要があり、はんだ接合の熱により絶縁シート28の絶縁性能が低下する恐れがあった。   In the semiconductor device manufacturing apparatus according to the present embodiment, the semiconductor set 20 is fitted into the opening 11 of the central mold 10. Conventionally, when the semiconductor elements 24 and 25 are solder-bonded to the heat sink 21, it is necessary to install the insulating sheet 28 in the mold in advance, and there is a risk that the insulating performance of the insulating sheet 28 may be lowered by the heat of soldering. there were.

本実施の形態においては、中央金型10と下部金型12とが分割されているため、はんだ接合の後に絶縁シート28をヒートシンク21に接着することができる。よって絶縁シート28の絶縁性能の低下を抑制することが可能である。   In the present embodiment, since the central mold 10 and the lower mold 12 are divided, the insulating sheet 28 can be bonded to the heat sink 21 after soldering. Therefore, it is possible to suppress a decrease in the insulating performance of the insulating sheet 28.

次に、中央金型10に半導体セット20が配置された際のヒートシンク21と、制御端子22との固定の仕方を説明する。図3は、ボンディング処理の際の断面を示す図である。中央金型10とヒートシンク21は、支持台30の上に配置されている。支持台30は、制御端子22のヒートシンク側の端部であって、中央金型10から突出した部分を支持するための端子支持部31を有する。これにより、ボンディング時のツール32からの超音波振動が安定して制御端子22に伝播し、よりボンディング処理の接合品質を高めることができる。   Next, how to fix the heat sink 21 and the control terminal 22 when the semiconductor set 20 is arranged in the central mold 10 will be described. FIG. 3 is a diagram showing a cross section during the bonding process. The central mold 10 and the heat sink 21 are disposed on the support base 30. The support base 30 has an end portion on the heat sink side of the control terminal 22, and has a terminal support portion 31 for supporting a portion protruding from the central mold 10. Thereby, the ultrasonic vibration from the tool 32 at the time of bonding is stably propagated to the control terminal 22, and the bonding quality of the bonding process can be further improved.

また、下部金型12と中央金型10とが分割されているために、下部金型12と中央金型10とが一体化している構造より、金型の熱量が小さくなる。これにより、半導体素子24及び25等をはんだ付けする工程において、少なく加熱エネルギーではんだ付け温度まで加熱することが可能である。   Further, since the lower mold 12 and the central mold 10 are divided, the amount of heat of the mold is smaller than the structure in which the lower mold 12 and the central mold 10 are integrated. Thereby, in the process of soldering the semiconductor elements 24 and 25, etc., it is possible to heat to the soldering temperature with a little heating energy.

また、赤外線やレーザー光、ヒータなどで直接ヒートシンク21を加熱することができるため、急激に温度を上昇させることができ、よりはんだ付けの処理時間を短くすることができる。   Moreover, since the heat sink 21 can be directly heated by infrared rays, laser light, a heater, etc., temperature can be raised rapidly and the soldering processing time can be shortened more.

また、半導体素子24及び25と、ヒートシンク21と、を接合するはんだの検査を行う際、下部金型12がないために、より弱いX線で検査することが可能である。   Further, when inspecting the solder for joining the semiconductor elements 24 and 25 and the heat sink 21, since there is no lower mold 12, it is possible to inspect with weaker X-rays.

次に、中央金型10に対するヒートシンク21の固定構造について説明する。図4は、実施の形態にかかる中央金型10とヒートシンク21との上面図と直線D−D′に沿った断面を示す図である。図に示すように、中央金型10にヒートシンク21をそのまま配置すると、ヒートシンク21が回転してしまう場合がある。   Next, a structure for fixing the heat sink 21 to the central mold 10 will be described. FIG. 4 is a diagram illustrating a top view of the central mold 10 and the heat sink 21 according to the embodiment and a cross section along the line DD ′. As shown in the drawing, if the heat sink 21 is arranged as it is in the central mold 10, the heat sink 21 may rotate.

図5〜図7は、ヒートシンク21の固定方法を説明するための図である。図5〜図7は、それぞれ中央金型10とヒートシンク21との上面と断面とを示す。なお、以下に記載の方法はあくまで一例であって、実施においてはこれらの方法に限定されるものではない。   5-7 is a figure for demonstrating the fixing method of the heat sink 21. As shown in FIG. 5 to 7 show a top surface and a cross section of the central mold 10 and the heat sink 21, respectively. Note that the methods described below are merely examples, and the implementation is not limited to these methods.

図5に示す方法においては、ヒートシンク21が中央金型10と重なっている部分の上に、さらに固定部材34を重ね、ヒートシンク21を固定している。固定部材34の形状は直方体に限らない。   In the method shown in FIG. 5, the fixing member 34 is further stacked on the portion where the heat sink 21 overlaps the central mold 10 to fix the heat sink 21. The shape of the fixing member 34 is not limited to a rectangular parallelepiped.

図6は、支持ピン35により、ヒートシンク21を中央金型10の横方向に押圧して固定する方法を示している。図7は、ヒートシンク21に支持部211を設け、中央金型10にヒートシンク21が配置されるようにするものである。   FIG. 6 shows a method of fixing the heat sink 21 by pressing it in the lateral direction of the central mold 10 with the support pins 35. In FIG. 7, a support portion 211 is provided on the heat sink 21 so that the heat sink 21 is disposed on the central mold 10.

実施の形態においては、半導体素子24、25と、ヒートシンク21と、がはんだで接合された後に、ヒートシンク21と絶縁シート28とが封止樹脂40により一度に封止される。そのため、例えば半導体素子24及び25と樹脂封止されたヒートシンク21を、さらに熱圧着して絶縁シート28を接着する工程が不要であり、より加工工程を簡易にすることができる。また、ヒートシンク21と絶縁シート28とを一度に樹脂封止するため、絶縁シート28がヒートシンク21の底面により均一に接着される。   In the embodiment, after the semiconductor elements 24 and 25 and the heat sink 21 are joined with solder, the heat sink 21 and the insulating sheet 28 are sealed at once with the sealing resin 40. Therefore, for example, there is no need to further heat-press the semiconductor elements 24 and 25 and the resin-sealed heat sink 21 to bond the insulating sheet 28, and the processing process can be further simplified. Further, since the heat sink 21 and the insulating sheet 28 are resin-sealed at once, the insulating sheet 28 is uniformly bonded to the bottom surface of the heat sink 21.

次に、実施の形態にかかる半導体装置の効果についてさらに説明する。半導体装置2は、冷却器41の上面に配設されて使用される。冷却器41は、内部に冷媒411を有し、半導体装置2を冷却する。   Next, effects of the semiconductor device according to the embodiment will be further described. The semiconductor device 2 is disposed and used on the upper surface of the cooler 41. The cooler 41 has a refrigerant 411 inside, and cools the semiconductor device 2.

まず、従来の半導体装置100について説明する。図8(a)は、リードフレーム43ダイバーカットされる前の半導体装置100を示す図である。半導体装置100は、リードフレーム43の一部である制御端子122と接続パッド26とを接続した後、樹脂封止する。そして、リードフレーム43の不要部分、つまり封止樹脂40の外部の固定部分等をダイバーカットする。   First, the conventional semiconductor device 100 will be described. FIG. 8A shows the semiconductor device 100 before the lead frame 43 is diver cut. The semiconductor device 100 is resin-sealed after connecting the control terminal 122 which is a part of the lead frame 43 and the connection pad 26. Then, an unnecessary portion of the lead frame 43, that is, a fixed portion outside the sealing resin 40, and the like are cut with a diver.

図8(b)は、ダイバーカットされた後の半導体装置100の上面図を示す。図8(c)は、図8(b)のI−I′線に沿った断面図を示す。図8(d)は、半導体装置100の断面の一部拡大図を示す図である。半導体装置100では、封止樹脂40の外周部分から突出して、リードフレーム43の切断痕となる端部431が残る構造となる。   FIG. 8B shows a top view of the semiconductor device 100 after the diver cut. FIG. 8C shows a cross-sectional view taken along the line II ′ of FIG. FIG. 8D is a diagram showing a partially enlarged view of the cross section of the semiconductor device 100. The semiconductor device 100 has a structure in which an end portion 431 that protrudes from the outer peripheral portion of the sealing resin 40 and remains as a cut mark of the lead frame 43 remains.

ヒートシンク21は高電圧となるため、冷却器41等の外部構造物とを絶縁する必要がある。絶縁のために図8(d)の矢印で示す、冷却器41とリードフレーム43の端部431との距離を大きくしなくてはならならず、よって、ヒートシンク21の厚みを大きくする等の処理が必要であった。従って、半導体装置100においては、絶縁距離の確保のために、半導体装置100を小型化することが難しくなっていた。   Since the heat sink 21 has a high voltage, it is necessary to insulate it from external structures such as the cooler 41. For insulation, the distance between the cooler 41 and the end portion 431 of the lead frame 43 shown by the arrow in FIG. 8D must be increased, and therefore the heat sink 21 thickness is increased. Was necessary. Therefore, in the semiconductor device 100, it has been difficult to reduce the size of the semiconductor device 100 in order to secure an insulation distance.

これに対し、本実施の形態にかかる半導体装置2は、ヒートシンク21と絶縁シート28とが接着されているため、ヒートシンク21から絶縁シート28を介して冷却器41に達する放電経路は、絶縁シート28により絶縁されている。従って、ヒートシンク21と冷却器41との絶縁距離にかかわらず、半導体装置2をより小さくすることができる。   On the other hand, since the heat sink 21 and the insulating sheet 28 are bonded to each other in the semiconductor device 2 according to the present embodiment, the discharge path reaching the cooler 41 from the heat sink 21 via the insulating sheet 28 is the insulating sheet 28. It is insulated by. Therefore, the semiconductor device 2 can be made smaller regardless of the insulation distance between the heat sink 21 and the cooler 41.

図9(a)は、半導体装置2の上面図を示す。図8(b)は、図9(a)のJ−J′線に沿った断面図を示す。図9(c)は、半導体装置2の断面の一部拡大図を示す図である。図9に示すように、半導体装置2は、封止樹脂40から突出する部分が制御端子22以外にないので、絶縁距離を確保する必要がなく、半導体装置2の厚みをより小さくすることが可能である。   FIG. 9A shows a top view of the semiconductor device 2. FIG. 8B is a sectional view taken along line JJ ′ of FIG. FIG. 9C is a diagram showing a partially enlarged view of the cross section of the semiconductor device 2. As shown in FIG. 9, the semiconductor device 2 has no portion protruding from the sealing resin 40 other than the control terminal 22, so it is not necessary to secure an insulation distance, and the thickness of the semiconductor device 2 can be further reduced. It is.

なお、本発明は上記実施の形態に限られたものではなく、趣旨を逸脱しない範囲で適宜変更することが可能である。   Note that the present invention is not limited to the above-described embodiment, and can be changed as appropriate without departing from the spirit of the present invention.

1 半導体装置
8 上部金型
9 凹部
10 中央金型
11 開口部
12 下部金型
13 凹部
20 半導体セット
21 ヒートシンク
22 制御端子
24、25 半導体素子
26 接続パッド
27 ボンディングワイヤ
28 絶縁シート
30 支持台
31 端子支持部
32 ツール
34 固定部材
35 支持ピン
40 封止樹脂
41 冷却器
411 冷媒
43 リードフレーム
211 支持部
100 半導体装置
122 制御端子
431 端部
DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 Semiconductor device 8 Upper die 9 Recess 10 Central die 11 Opening 12 Lower die 13 Recess 20 Semiconductor set 21 Heat sink 22 Control terminal 24, 25 Semiconductor element 26 Connection pad 27 Bonding wire 28 Insulating sheet 30 Support base 31 Terminal support Part 32 Tool 34 Fixing member 35 Support pin 40 Sealing resin 41 Cooler 411 Refrigerant 43 Lead frame 211 Support part 100 Semiconductor device 122 Control terminal 431 End

Claims (1)

半導体装置を樹脂封止するための金型構造であって、
上下を貫通する開口部を有する中央金型と、
前記中央金型の上に重ねられて使用され、前記開口部と接続されて空間を形成する凹部が下面に設けられた上部金型と、
前記中央金型の下に重ねて使用され、前記開口部と接続されて空間を形成する凹部が上面に設けられた下部金型と、を有する、半導体製造装置。
A mold structure for resin-sealing a semiconductor device,
A central mold having an opening penetrating the top and bottom;
An upper mold provided on the lower surface with a recess that is used by being superimposed on the central mold and connected to the opening to form a space;
A semiconductor manufacturing apparatus, comprising: a lower mold that is used by being overlapped under the central mold and is provided with a concave portion connected to the opening to form a space on an upper surface.
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