JP2015021879A - ガス濃度測定装置及びガス濃度測定方法 - Google Patents

ガス濃度測定装置及びガス濃度測定方法 Download PDF

Info

Publication number
JP2015021879A
JP2015021879A JP2013151269A JP2013151269A JP2015021879A JP 2015021879 A JP2015021879 A JP 2015021879A JP 2013151269 A JP2013151269 A JP 2013151269A JP 2013151269 A JP2013151269 A JP 2013151269A JP 2015021879 A JP2015021879 A JP 2015021879A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
gas
pressure
spectrum
peak
gas concentration
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
JP2013151269A
Other languages
English (en)
Inventor
英二 入佐
Eiji Irisa
英二 入佐
康彦 古山
Yasuhiko Furuyama
康彦 古山
宣之 西居
Noriyuki Nishii
宣之 西居
藤井 淳
Atsushi Fujii
淳 藤井
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Shimadzu Corp
Original Assignee
Shimadzu Corp
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Shimadzu Corp filed Critical Shimadzu Corp
Priority to JP2013151269A priority Critical patent/JP2015021879A/ja
Publication of JP2015021879A publication Critical patent/JP2015021879A/ja
Pending legal-status Critical Current

Links

Images

Landscapes

  • Investigating Or Analysing Materials By Optical Means (AREA)

Abstract

【課題】複数のスペクトルが重なった場合でも精度良くガス濃度を測定できるガス濃度測定装置及びガス濃度測定方法。【解決手段】レーザ光を発生する半導体レーザ1と、半導体レーザ1を駆動させるレーザ駆動部4と、ガスを導入し且つ半導体レーザ1からのレーザ光を入射するサンプルセル2と、サンプルセル2からのレーザ光を受光する受光素子3と、受光素子3の出力から得られたスペクトルに基づきガスの濃度を演算する演算処理部5と、スペクトルの形状に応じてサンプルセル2内のガスの圧力を調整することにより隣接するスペクトル同士を結合又は分離させる圧力調整部8,9,10,11,13とを備える。【選択図】図1

Description

本発明は、半導体レーザを用いてサンプルセル内のガスの濃度を測定するガス濃度測定装置及びガス濃度測定方法に関する。
波長可変型ダイオードレーザ分光吸収法(TDLAS)は、レーザ光の周波数を変調することにより測定ガスの微小な吸収を高感度で検出し、測定ガスの濃度を測定できる方法である。
測定ガスの濃度を測定する装置として、特許文献1に記載された技術が知られている。図10は、特許文献1に記載された従来のガス濃度測定装置の構成図である。図10に示すガス濃度測定装置は、半導体レーザ1、サンプルセル2、受光素子3、レーザ駆動部4、演算処理部5を有している。
レーザ駆動部4は、半導体レーザ1を駆動するもので、半導体レーザ1の発振波長を一定周期で変調し、測定ガス成分の吸収線スペクトル付近で走査させる。半導体レーザ1は、発振波長が一定周期で変調されたレーザ光を発生し、発生したレーザ光をサンプルセル2に導く。サンプルセル2は、測定ガスを封入し、半導体レーザ1からのレーザ光を測定ガスを介して受光素子3に導く。
測定ガスが封入されたサンプルセル2を通過したレーザ光は、ガス濃度に応じて測定ガスにより吸収されて減少される。受光素子3は、サンプルセル2内の測定ガスにより吸収されて減少された透過光量を検出する。演算処理部5は、例えばロックインアンプなどであり、受光素子3で検出された透過光量内の変調信号を2倍周波数(2fスペクトル)を同期検波することによりサンプルセル2内の測定ガスの濃度を測定する。
図11は、同期検波によって得られた2fスペクトルの概念図である。図11に示すように、ピーク値は強度の0の値からピーク値の差である。ピークとバレーとの差は、バレーの一方をバレー1、他方をバレー2とすると、ピークとバレーとの差は
ピークとバレーの差=ピーク値−(バレー値1+バレー値2)/2
で表される。これらのピーク値及びピーク値とバレーとの差がガス濃度と比例していることから、前記差を用いてガス濃度を測定することができる。
また、従来の技術として、ガスの分光分析装置が知られている(特許文献2)。このガスの分光分析装置は、半導体レーザの特性に応じてレーザ光の変調振幅を制御するための変調振幅演算手段と、測定により得られた2次微分スペクトルにおけるピークの左右の極小値の波長間隔およびピークの吸収強度を演算するスペクトル演算手段と、スペクトル演算手段で得られた吸収強度の値が最大となるように測定用ガスセル内の圧力を制御するための圧力調整手段を備えている。これにより、被測定ガス中の微量不純物を解析する方法における、測定条件の最適化を容易にすることができる。
特開2012−233900号公報 特開平11−258156号公報
しかしながら、特許文献1にあっては、同じ測定ガスに対する図11に示す2fスペクトルにおいて、隣接するピークが複数存在する場合には、それぞれのピークの谷が潰れてしまい、ベースラインがわからなくなる。このため、ベースラインを補正することによって測定誤差が生じてしまう。その結果、スペクトルのピーク値を正確に把握することができず、精度良くガス濃度を測定できない。
また、特許文献2にあっては、圧力調整手段が吸収強度の値を最大となるように測定用ガスセル内の圧力を制御している点が開示されている。しかしながら、特許文献2には、複数のスペクトルが重なった場合に、精度良くガス濃度を測定することができる点については開示されていない。
本発明の課題は、複数のスペクトルが重なった場合でも、精度良くガス濃度を測定することができるガス濃度測定装置及びガス濃度測定方法を提供することにある。
本発明に係るガス濃度測定装置は、上記課題を解決するために、レーザ光を発生する半導体レーザと、前記半導体レーザを駆動させるレーザ駆動部と、ガスを導入し且つ前記半導体レーザからのレーザ光を入射するガス導入部と、前記ガス導入部からのレーザ光を受光する受光素子と、前記受光素子の出力から得られたスペクトルに基づき前記ガスの濃度を演算する演算処理部と、前記スペクトルの形状に応じて前記ガス導入部内の前記ガスの圧力を調整することにより隣接する前記スペクトル同士を結合又は分離させる圧力調整部とを備えることを特徴とする。
本発明に係るガス濃度測定方法は、上記課題を解決するために、ガスが導入されたガス導入部に半導体レーザからのレーザ光を入射するステップと、前記ガス導入部からのレーザ光を受光素子で受光するステップと、前記受光素子の出力から得られたスペクトルに基づき前記ガスの濃度を演算処理部で演算するステップと、前記スペクトルの形状に応じて前記ガス導入部内の前記ガスの圧力を圧力調整部で調整することにより隣接する前記スペクトル同士を結合又は分離させるステップとを含むことを特徴とする。
本発明によれば、スペクトルの形状に応じてガス導入部内のガスの圧力を圧力調整部で調整することにより隣接するスペクトル同士を結合又は分離させる。即ち、測定対象の近接するピークの重なりを大きくして1つのスペクトルに結合したり、或いは、ピークの重なりを分離して個々のスペクトルとして扱うことができる。これにより、ベースラインを明確に取得でき、測定誤差が生じにくくなる。さらに、圧力を増加させることにより、2fスペクトルの信号強度が増加し、S/Nが良くなる。従って、複数のスペクトルが重なった場合でも、精度良くガス濃度を測定することができる。
実施例のガス濃度測定装置の構成図である。 実施例のガス濃度測定装置においてピーク波長2312.6nmのNH3の吸収スペクトルを示す図である。 実施例のガス濃度測定装置においてピーク波長2312.6nmのNH3の2fスペクトルを示す図である。 従来技術と実施例のピーク波長2312.6nmのガス濃度と信号強度との関係を示す図である。 実施例のガス濃度測定装置においてピーク波長2297.6nmおよび2298.6nmのNH3の吸収スペクトルを示す図である。 実施例のガス濃度測定装置においてピーク波長2297.6nmおよび2298.6nmのNH3の2fスペクトルを示す図である。 従来技術と実施例のピーク波長2298.4nmのガス濃度と信号強度との関係を示す図である。 実施例のガス濃度測定装置において圧力を変えたときのピーク波長2312.6nmのNH3の吸収スペクトルを示す図である。 実施例のガス濃度測定装置においてスペクトルを1つにするときおよびスペクトルを分離するときのピーク位置の差と圧力との関係を示す図である。 従来のガス濃度測定装置の構成図である。 同期検波によって得られた2fスペクトルの概念図である。
以下、本発明のガス濃度測定装置の実施の形態を図面に基づいて詳細に説明する。
図1は、実施例のガス濃度測定装置の構成図である。図1に示す実施例のガス濃度測定装置は、半導体レーザ1、サンプルセル2、受光素子3、レーザ駆動部4、演算処理部5、圧力計8、圧力調整バルブ9、排気ポンプ10、コンプレッサ11、バルブ13、煙道14を備えている。
レーザ駆動部4は、半導体レーザ1を駆動するもので、半導体レーザ1の発振波長を一定周期で変調し、測定ガス成分の吸収線スペクトル付近で走査させる。半導体レーザ1は、発振波長が一定周期で変調されたレーザ光を発生し、発生したレーザ光をサンプルセル2に導く。サンプルセル2は、本発明のガス導入部に対応し、測定ガスを導入及び封入し、半導体レーザ1からのレーザ光を測定ガスを介して受光素子3に導く。
受光素子3は、サンプルセル2内の測定ガスにより吸収されて減少された透過光量を検出する。演算処理部5は、例えばロックインアンプなどであり、受光素子3で検出された透過光量内の変調信号を2倍周波数(2fスペクトル)を同期検波することによりサンプルセル2内の測定ガスの濃度を測定する。2fスペクトルのピーク値あるいはピークとバレー(谷部分)との差がガス濃度と比例していることから前記ピーク値あるいは前記差を用いてガス濃度を測定することができる。
また、圧力計8は、サンプルセル2内のガス圧力を測定する。サンプルセル2には、サンプルセル2内の圧力を調整する圧力調整バルブ9と排気ポンプ10とが取り付けられている。サンプルセル2内の圧力を大気圧から増加させる場合には、圧力調整バルブ9を閉じ、バルブ13を開けて、コンプレッサ11を作動させて、煙道14からの測定ガスをコンプレッサ11で圧縮し、圧縮された測定ガスをサンプルセル2に流す。サンプルセル2に接続されている圧力計8により第1の所定の圧力値が計測された場合には、サンプルセル2へのガス流入を停止する。
一方、サンプルセル2内の圧力を大気圧から減少させる場合には、圧力調整バルブ9を開け、排気ポンプ10によりサンプルセル2内のガス圧力を減少させる。圧力計8により第2の所定の圧力値が計測された場合には、圧力調整バルブ9を閉じる。このようにして、サンプルセル2内のガス圧力を調整することができる。
圧力計8、圧力調整バルブ9、排気ポンプ10、コンプレッサ11は、本発明の圧力調整部を構成し、この圧力調整部は、上述した演算処理部5で得られた2fスペクトルの形状に応じてサンプルセル2内のガスの圧力を調整する。圧力調整部は、測定したいピークの位置関係によって、測定ガスの圧力を増加させることにより隣接するスペクトル同士を結合させ、測定ガスの圧力を減少させることにより隣接するスペクトル同士を分離させる。
スペクトルの広がりはローレンツ広がりであり、測定ガス同士の衝突や測定ガスと大気との衝突による広がりである。スペクトルのローレンツ半値半幅νは圧力P、温度Tを用いて(1)式で表される。
ν=νo(P/Po)(To/T)‥(1)
Poは標準圧力(101.325kPa)、Toは標準温度(296K)、νoは標準状態(圧力Po、温度To)での半値半幅、nは温度係数である。標準状態での半値半幅νo、温度係数nはHITRAN等のデータベースから取得できる。(1)式から圧力Pの値が大きくなると、ローレンツ半値半幅νが大きくなる。非常に近接したスペクトルは、圧力を増加すると、スペクトルの半値半幅が大きくなり、スペクトルを1つとして見ることができる。圧力を減少させると、スペクトルの半値半幅が小さくなり、スペクトルを分離することができる。
図2は、実施例のガス濃度測定装置においてピーク波長2312.6nmのNH3の吸収スペクトルを示す図である。NH3濃度は50ppm、NH3温度は296K、光路長は20cmである。図2には圧力が大気圧(101.3kPa)および200Pkaの吸収スペクトルが表示されている。図2に示すスペクトルにおいて、大気圧下ではピークA、ピークBの2つのスペクトルの重なりが大きい。圧力を200kPaに増加させると、スペクトルを1つとして扱うことができる。
図3は、実施例のガス濃度測定装置においてピーク波長2312.6nmのNH3の2fスペクトルを示す図である。図3に示すように、圧力を大気圧から200kPaに増加させると、スペクトルが1つとなる。
図4は、従来技術と実施例のピーク波長2312.6nmのガス濃度と信号強度との関係を示す図である。ピークの誤差およびピークとバレーとの差の誤差は以下の式から算出した。
ピークの誤差=(50ppmのピーク×10−500ppmのピーク)/500ppmのピーク
ピークとバレーとの差の誤差=(50ppmのピークとバレーとの差×10−500ppmのピークとバレーとの差)/500ppmのピークとバレーの差
図4からピーク値およびピークとバレーとの差の両方とも、従来の装置よりも本発明のガス濃度測定装置の方が若干小さくなる。さらに、本発明のピーク値およびピークとバレーの差は、従来技術のそれらよりも約1.3倍大きくなる。従って、精度良くガス濃度を測定することができる。
図5は、実施例のガス濃度測定装置においてピーク波長2297.6nmおよび2298.6nmのNH3の吸収スペクトルを示す図である。NH3濃度は50ppm、NH3温度は296K、光路長は20cmである。図5には圧力が大気圧(101.3kPa)、200kPa、10kPaの吸収スペクトルが表示されている。測定するスペクトルをピークC、ピークDとした場合、図5から大気圧下では、スペクトルはピークC、ピークDの2つのスペクトルが重なっている。
このようなスペクトルの場合、図5に示すように、200kPaのときスペクトルを1つにすることができるが、ピークE、ピークFの影響を受ける。このため、ベースラインを明確にすることができない。また、図5に示すように、圧力を10kPaに調整しても、近接するスペクトルの影響を受けるため、ベースラインを明確にすることができない。
次にピークを測定するスペクトルをピークE、ピークFとした場合、大気圧下ではピークE、ピークFの2つのスペクトルが重なっている。そこで、図5に示すように、圧力を大気圧から200kPaに増加させてもスペクトルを1つにすることができない。即ち、ピークE、ピークFの2つのスペクトルが離れすぎているからである。また、ベースラインが図5に示すように、ピークC、ピークDの影響を受けるため、ベースラインを明確にすることができない。このような場合には、圧力を10kPaに低下させると、2つのスペクトルの波形が分離し、それぞれのピークにベースラインが明確になる。
図6は、実施例のガス濃度測定装置においてピーク波長2297.6nmおよび2298.6nmのNH3の2fスペクトルを示す図である。図6に示すように、波長が2298.6nmの場合には、圧力を10kPaにすると、スペクトルが分離し、ベースラインを明確に取得できる。即ち、図11に示すような1つのピークに対して2つのバレーが存在する。
図7は、従来技術と実施例のピーク波長2298.4nmのガス濃度と信号強度との関係を示す図である。ピークの誤差およびピークとバレーとの差の誤差は以下の式から算出した。
ピークの誤差=(50ppmのピーク×10−500ppmのピーク)/500ppmのピーク
ピークとバレーとの差の誤差=(50ppmのピークとバレーとの差×10−500ppmのピークとバレーとの差)/500ppmのピークとバレーの差
図7において、ピーク値は本発明では従来技術の約1/2になるが、本発明の誤差は従来技術の誤差よりも約5倍良くなる。また、ピークとバレーとの差は本発明では従来技術の約2/3になるが、本発明の誤差は従来技術の誤差の約2.5倍良くなる。従って、精度良くガス濃度を測定することができる。
図8は、実施例のガス濃度測定装置において圧力を変えたときのピーク波長2312.6nmのNH3の吸収スペクトルを示す図である。NH3濃度は50ppm、NH3温度は296K、光路長は20cmである。スペクトルを1つにするための条件は以下の通りである。
図8から圧力が200kPaのときには、スペクトルは1つになるが、圧力が150kPaより低くなると、スペクトルのピークは分離する。式(1)から温度Tが一定のときには圧力Pとローレンツ半値半幅νは比例する。圧力を増加すると、ローレンツ半値半幅νが大きくなり、スペクトルを1つにするためのピーク位置の差も大きくなる。
従って、スペクトルを1つにするための圧力とピーク位置の差の関係は図9に示すように表される。図9から、例えば、ピーク位置の差が0.15cm−1の場合には、圧力を130.4kPaとすれば良い。
次に、スペクトルを分離する条件を以下の通りである。図8から圧力が10kPaのときには、各々のスペクトルはベースラインを取得できるまで分離される。圧力が25kPaより大きくなると各々のスペクトルはベースラインが取得できるまで分離できない。式(1)から温度Tが一定のときには、圧力Pとローレンツ半値半幅νは比例する。
圧力を減少すると、ローレンツ半値半幅が小さくなり、スペクトルを1つにするためのピーク位置の差も小さくなる。従って、スペクトルを1つにするための圧力とピーク位置の差の関係は図9に示すように表される。図9から例えばピーク位置の差が1cm−1の場合には、圧力を43.478kPaにすれば良い。
圧力を増加させてスペクトルを1つにした場合と、圧力を減少させてスペクトルを分離する場合との境界を、例えば0.23cm−1とすることができる。
このように、実施例に係るガス濃度測定装置によれば、スペクトルの形状に応じてサンプルセル2内のガスの圧力を圧力調整部8,9,10,11,13で調整することにより隣接するスペクトル同士を結合又は分離させる。即ち、測定対象の近接するピークの重なりを大きくして1つのスペクトルに結合したり、或いは、ピークの重なりを分離して個々のスペクトルとして扱うことができる。
これにより、ベースラインを明確に取得でき、測定誤差が生じにくくなる。さらに、圧力を増加させることにより、2fスペクトルの信号強度が増加し、S/Nが良くなる。従って、複数のスペクトルが重なった場合でも、精度良くガス濃度を測定することができる。
本発明に係るガス濃度測定装置は、燃焼排気ガスの測定(発電所、廃棄物焼却施設)、自動車産業(排ガス測定)、大気計測等に利用可能である。
1 半導体レーザ
2 サンプルセル
3 受光素子
4 レーザ駆動部
5 演算処理部
6 吸収スペクトル
7 2fスペクトル
8 圧力計
9 圧力調整バルブ
10 排気ポンプ
11 コンプレッサ
12 レーザ光
13 バルブ
14 煙道

Claims (3)

  1. レーザ光を発生する半導体レーザと、
    前記半導体レーザを駆動させるレーザ駆動部と、
    ガスを導入し且つ前記半導体レーザからのレーザ光を入射するガス導入部と、
    前記ガス導入部からのレーザ光を受光する受光素子と、
    前記受光素子の出力から得られたスペクトルに基づき前記ガスの濃度を演算する演算処理部と、
    前記スペクトルの形状に応じて前記ガス導入部内の前記ガスの圧力を調整することにより隣接する前記スペクトル同士を結合又は分離させる圧力調整部と、
    を備えることを特徴とするガス濃度測定装置。
  2. 前記圧力調整部は、前記圧力を増加させることにより隣接するスペクトル同士を結合させ、前記圧力を減少させることにより隣接するスペクトル同士を分離させることを特徴とする請求項1記載のガス濃度測定装置。
  3. ガスが導入されたガス導入部に半導体レーザからのレーザ光を入射するステップと、
    前記ガス導入部からのレーザ光を受光素子で受光するステップと、
    前記受光素子の出力から得られたスペクトルに基づき前記ガスの濃度を演算処理部で演算するステップと、
    前記スペクトルの形状に応じて前記ガス導入部内の前記ガスの圧力を圧力調整部で調整することにより隣接する前記スペクトル同士を結合又は分離させるステップと、
    を含むことを特徴とするガス濃度測定方法。
JP2013151269A 2013-07-22 2013-07-22 ガス濃度測定装置及びガス濃度測定方法 Pending JP2015021879A (ja)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2013151269A JP2015021879A (ja) 2013-07-22 2013-07-22 ガス濃度測定装置及びガス濃度測定方法

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2013151269A JP2015021879A (ja) 2013-07-22 2013-07-22 ガス濃度測定装置及びガス濃度測定方法

Publications (1)

Publication Number Publication Date
JP2015021879A true JP2015021879A (ja) 2015-02-02

Family

ID=52486445

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2013151269A Pending JP2015021879A (ja) 2013-07-22 2013-07-22 ガス濃度測定装置及びガス濃度測定方法

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JP2015021879A (ja)

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JP5528497B2 (ja) 圧力依存性を低下させてガス濃度を検出するための方法および装置
US9671333B2 (en) Laser gas analyzer
EP2942616B1 (en) Gas absorption spectroscopy system and gas absorption spectroscopy method
WO2014109126A1 (ja) レーザ式ガス分析計
US10788415B2 (en) Analysis device
JPH11258156A (ja) ガスの分光分析装置および分光分析方法
EP3336522B1 (en) Analysis apparatus, non-transitory computer readable medium for analysis apparatus, and analysis method
CN103323115A (zh) 基于波长调制的气体吸收谱线线宽和线型系数的测量方法
KR20060124111A (ko) 파장 변조 방법을 이용한 유해 가스 측정 장치
CN110160989B (zh) 一种痕量气体的探测方法及探测装置
US5886247A (en) High sensitivity gas detection
KR102056794B1 (ko) 미세 광경로를 이용한 다종가스 동시 측정 tdlas 정렬 시스템
CN110879203A (zh) 一种高浓度甲烷背景中的微量乙烯气体测量系统及方法
CN114397271A (zh) 一种光谱分析温室气体的检测装置及方法
WO2015141767A1 (ja) 濃度計および、濃度測定方法
JP2015021879A (ja) ガス濃度測定装置及びガス濃度測定方法
JP2014142299A (ja) ガス濃度測定装置
KR101619154B1 (ko) 가변형 레이저 다이오드를 이용한 인시츄 가스측정장치
US20220244176A1 (en) Sample analyzing apparatus
JP7473546B2 (ja) 分析装置
Wöllenstein et al. Miniaturized multi channel infrared optical gas sensor system
US20230204498A1 (en) Analysis device, program for analysis device, and analysis method
Dong et al. Mid-infrared detection of atmospheric CH 4, N 2 O and H 2 O based on a single continuous wave quantum cascade laser
KR102029875B1 (ko) 다종가스 동시 측정 tdlas 정렬 시스템
KR100508912B1 (ko) 전자식 광단속광원 및 반도체 광검출기 기반으로 구성된가스농도 고속 측정장치