JP2015017016A - Strengthened glass plate, and manufacturing method of the same - Google Patents

Strengthened glass plate, and manufacturing method of the same Download PDF

Info

Publication number
JP2015017016A
JP2015017016A JP2013145482A JP2013145482A JP2015017016A JP 2015017016 A JP2015017016 A JP 2015017016A JP 2013145482 A JP2013145482 A JP 2013145482A JP 2013145482 A JP2013145482 A JP 2013145482A JP 2015017016 A JP2015017016 A JP 2015017016A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
polishing
boundary
tempered glass
glass plate
end surface
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
JP2013145482A
Other languages
Japanese (ja)
Inventor
慧 板倉
Kei Itakura
慧 板倉
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Avanstrate Inc
Avanstrate Asia Pte Ltd
Original Assignee
Avanstrate Inc
Avanstrate Asia Pte Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Avanstrate Inc, Avanstrate Asia Pte Ltd filed Critical Avanstrate Inc
Priority to JP2013145482A priority Critical patent/JP2015017016A/en
Publication of JP2015017016A publication Critical patent/JP2015017016A/en
Pending legal-status Critical Current

Links

Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a strengthened glass plate having improved quality of an end surface and an improved lasting strength by polishing the end surface of the strengthened glass plate made of strengthened glass, and a manufacturing method of the same.SOLUTION: A manufacturing method of a strengthened glass plate includes a cutting step for cutting a glass sheet having a strengthened layer formed on the surface by ion exchange to manufacture a strengthened glass plate having a main surface and an end surface, and a step for polishing the end surface with loose abrasive particles. In the polishing step, a boundary polished surface is formed at the boundary between the main surface and the end surface and the strengthened layer on the boundary polished surface remains when polished.

Description

本発明は、強化ガラス板ならびにその製造方法に関する。   The present invention relates to a tempered glass sheet and a method for producing the same.

ガラス板は、シートガラスを切断装置において所定の大きさに切断して製造される。シートガラスを切断する際には、シートガラスにスクライブ線を形成し、スクライブ線に引っ張り応力を集中させてシートガラスを割断する。スクライブ線は、一般に、ダイヤモンドカッターを用いて機械的に形成する方法や、レーザを利用した加熱と急冷により初期亀裂を進行させる方法によって形成される。   The glass plate is manufactured by cutting a sheet glass into a predetermined size with a cutting device. When cutting the sheet glass, a scribe line is formed on the sheet glass, and tensile stress is concentrated on the scribe line to cleave the sheet glass. The scribe line is generally formed by a method of mechanically forming using a diamond cutter or a method of causing an initial crack to proceed by heating and rapid cooling using a laser.

スクライブ線が機械的に形成された場合、スクライブ線の周囲に細かなクラックが不可避的に存在する。レーザを利用してスクライブ線が形成された場合、分断されたガラス板の端面と表裏面との間の角部には、非常に鋭いエッジが形成される。これらのエッジは、面取り機において、矩形状のガラス板の短辺の端面について、研削用のダイヤモンドホイールを用いて、端部を研削するC面形状、端面の断面形状が曲率のついた凸形状、円弧状またはR形状に研削される。   When the scribe line is formed mechanically, fine cracks inevitably exist around the scribe line. When a scribe line is formed using a laser, a very sharp edge is formed at the corner between the end surface and the front and back surfaces of the divided glass plate. In the chamfering machine, these edges have a C-side shape for grinding the end portion of the short-side end surface of the rectangular glass plate using a diamond wheel for grinding, and a convex shape with a curved cross-sectional shape of the end surface. Grinded into an arc or R shape.

ガラス板の端面の上記算術平均粗さRaは、例えば0.1μmから0.2μm程度になるように研削される。しかしながら、研削されたガラス板の端面には、マイクロクラックやヘアクラックと呼ばれる微小なクラックを含む層が形成される。この層は、加工変質層あるいは脆弱破壊層と呼ばれ、ガラス板の端面における破壊強度が低下する原因となっている。このような層を除去し、ガラス板の端面を研磨することにより、ガラス板の端面における破壊強度が向上することが知られている。また、強度向上と共に、ガラス板の端面を鏡面加工することで、端面の露出も可能になり、表示装置などのデザインの自由度を高めることができる。   The arithmetic average roughness Ra of the end face of the glass plate is ground to be, for example, about 0.1 μm to 0.2 μm. However, a layer containing microcracks called microcracks or hair cracks is formed on the end face of the ground glass plate. This layer is called a work-affected layer or a fragile fracture layer, and causes a reduction in fracture strength at the end face of the glass plate. It is known that the breaking strength at the end face of the glass plate is improved by removing such a layer and polishing the end face of the glass plate. In addition to improving the strength, the end surface of the glass plate is mirror-finished so that the end surface can be exposed, and the degree of freedom in designing a display device or the like can be increased.

しかしながら、強化ガラス製の強化ガラス板では、端面に研磨加工を行い微小クラックが形成された層を除去して、端面を鏡面にしたとしても、強度が向上しない場合がある。
そこで、本発明では、強化ガラス製の強化ガラス板の端面に研磨加工をして、端面品質を向上すると共に、強度も維持、向上させる強化ガラス板ならびにその製造方法を提供する。
However, in the case of a tempered glass plate made of tempered glass, the strength may not be improved even if the end surface is polished to remove a layer in which micro cracks are formed and the end surface is made a mirror surface.
Therefore, the present invention provides a tempered glass plate that polishes the end face of a tempered glass plate made of tempered glass, improves the end face quality, and maintains and improves the strength, and a method for producing the same.

本発明者は、強化ガラス製の強化ガラス板の面取り加工後の端面に鏡面加工を行った後において強度が向上しない場合に、強化ガラス板の主表面の、端面と接する領域の表面の強化層が失われていることが問題であることを見出した。   The present inventor, when the strength does not improve after performing the mirror finish on the end face after chamfering of the tempered glass plate made of tempered glass, the tempered layer of the surface of the main surface of the tempered glass plate in the region in contact with the end face Found that the problem is lost.

従って、本発明の強化ガラス板の製造方法は、表面にイオン交換により強化され形成された強化層を有するガラスシートを切断して、主表面と端面とを有する強化ガラス板を製造する切断工程と、上記主表面と端面とを遊離砥粒を用いて研磨する工程と、を有し、
上記研磨工程では、上記主表面の、上記端面との境界部分に、境界研磨面を形成し、かつ上記境界研磨面の強化層が残存するように研磨することを特徴とする。
境界研磨面は、ガラスシートの主表面に遊離砥粒が接触して研磨された領域であり、ガラスシート表面内の前記端面長手方向に垂直な方向において、500μm以上、好ましくは1000μm、より好ましくは1500μm以上の長さを有することが好ましい。
Therefore, the manufacturing method of the tempered glass plate of the present invention includes a cutting step of manufacturing a tempered glass plate having a main surface and an end face by cutting a glass sheet having a tempered layer formed by ion exchange on the surface. And polishing the main surface and the end surface using free abrasive grains,
In the polishing step, polishing is performed such that a boundary polishing surface is formed at a boundary portion between the main surface and the end surface, and a reinforcing layer of the boundary polishing surface remains.
The boundary polishing surface is a region where free abrasive grains are in contact with the main surface of the glass sheet and polished, and is 500 μm or more, preferably 1000 μm, more preferably in a direction perpendicular to the longitudinal direction of the end surface in the glass sheet surface. It preferably has a length of 1500 μm or more.

上記研磨工程において、上記研磨工程後の上記境界研磨面の強化層の厚みが、上記主表面の強化層の厚みの0.3以上1未満の範囲、より好ましくは0.5以上1未満にあるように研磨することが好ましい。
上記切断工程と上記研磨工程の間に、上記端面を研削する研削工程をさらに有することが好ましい。
また、上記研磨工程は、上記端面の平均粗さRaが0.01μm未満となるよう研磨することが好ましい。
さらに、上記研磨工程の後、上記端面をエッチング処理することが好ましい。
In the polishing step, the thickness of the boundary polishing surface after the polishing step is in the range of 0.3 to less than 1, more preferably 0.5 to less than 1 of the thickness of the main surface reinforcing layer. It is preferable to polish as described above.
It is preferable to further include a grinding step for grinding the end face between the cutting step and the polishing step.
Moreover, it is preferable to grind | polish the said grinding | polishing process so that the average roughness Ra of the said end surface may be less than 0.01 micrometer.
Furthermore, it is preferable to etch the end face after the polishing step.

また、本発明の強化ガラス板は、表面にイオン交換により強化され形成された強化層を有する強化ガラス板であって、主表面の、端面との境界部分に境界研磨面を有し、上記主表面の強化層が、上記境界研磨面の強化層よりも厚い。ここで、境界研磨面は上記と同様である。
上記端面の粗さRa及び上記境界研磨面の粗さRaは0.01μm未満であることが好ましい。
また、上記境界研磨面に残存する上記強化層の厚みは、上記主表面の強化層の厚みの0.3以上1未満、より好ましくは0.5以上1未満の範囲にあることが好ましい。
The tempered glass plate of the present invention is a tempered glass plate having a tempered layer reinforced and formed on the surface by ion exchange, and has a boundary polished surface at the boundary between the main surface and the end surface. The reinforcing layer on the surface is thicker than the reinforcing layer on the boundary polished surface. Here, the boundary polishing surface is the same as described above.
The roughness Ra of the end face and the roughness Ra of the boundary polishing surface are preferably less than 0.01 μm.
Further, the thickness of the reinforcing layer remaining on the boundary polished surface is preferably in the range of 0.3 to less than 1, more preferably 0.5 to less than 1, the thickness of the reinforcing layer on the main surface.

また、本発明の表示装置は、上記記載の何れかの強化ガラス板の端面を露出して組み立てられる。   The display device of the present invention is assembled by exposing the end face of any of the above-described tempered glass plates.

本発明によれば、強化ガラス製の強化ガラス板の端面に研磨加工をして、端面品質を向上すると共に、強度も維持、向上させた強化ガラス板ならびにその製造方法を提供できる。   ADVANTAGE OF THE INVENTION According to this invention, while grind | polishing the end surface of the tempered glass board made from tempered glass, while improving end surface quality, the intensity | strength is also maintained and improved, and its manufacturing method can be provided.

本実施形態に係るガラス板の製造方法のフローチャートである。It is a flowchart of the manufacturing method of the glass plate which concerns on this embodiment. 本実施形態に係るガラス板の製造方法で用いられるガラス板の製造装置1を示す模式図である。It is a schematic diagram which shows the manufacturing apparatus 1 of the glass plate used with the manufacturing method of the glass plate which concerns on this embodiment. 端面の研削後の強化ガラス板PGの断面を模式的に示す図である。It is a figure which shows typically the cross section of the tempered glass board PG after grinding of an end surface. 端面の研磨後の強化ガラス板PGの断面を模式的に示す図である。It is a figure which shows typically the cross section of the tempered glass board PG after grinding | polishing of an end surface. 本実施形態に係る研磨装置10の概略を示す平面図である。It is a top view which shows the outline of the grinding | polishing apparatus 10 which concerns on this embodiment. 図5のVI-VI線に沿う部分断面図である。It is a fragmentary sectional view which follows the VI-VI line of FIG.

以下、図面を参照しながら、本発明の一実施形態の強化ガラス板の製造方法について説明する。   Hereinafter, the manufacturing method of the tempered glass board of one embodiment of the present invention is explained, referring to drawings.

(1)強化ガラス板の製造方法
本実施形態に係る強化ガラス板の製造方法では、ダウンドロー法を用いてガラス板が製造される。まず、図1および図2を参照して、強化ガラス板の製造方法に含まれる複数の工程および複数の工程に用いられる強化ガラス板の製造装置1を説明する。強化ガラス板の製造方法は、図1に示すように、主として、溶融工程S1、清澄工程S2、成形工程S3、冷却工程S4、素板切断工程S5、強化処理工程S6、切断工程S7、研削工程S8、及び研磨工程S9とを含む。
(1) Manufacturing method of tempered glass board In the manufacturing method of the tempered glass board concerning this embodiment, a glass board is manufactured using a down draw method. First, with reference to FIG. 1 and FIG. 2, the manufacturing apparatus 1 of the tempered glass board used for the several process included in the manufacturing method of a tempered glass board and a several process is demonstrated. As shown in FIG. 1, the manufacturing method of a tempered glass plate is mainly a melting step S1, a refining step S2, a forming step S3, a cooling step S4, a base plate cutting step S5, a strengthening treatment step S6, a cutting step S7, and a grinding step. S8 and polishing step S9.

溶融工程S1は、ガラスの原料が溶融される工程である。ガラスの原料は、所望の組成になるように調合された後、図2に示すように、上流に配置された溶融装置2に投入される。ガラス原料は、例えば、SiO2,Al23,Na2O、K2O、LiO2、MgO、B23,CaO,SrO,BaO等の組成からなる。具体的には、歪点が500℃以上、失透温度−Tg(ガラス転移点)が400℃以下、となるガラス原料を用いる。ガラスの原料は、溶融装置2で溶融されて、溶融ガラスになる。溶融温度は、ガラスの種類に応じて調整される。本実施形態では、ガラス原料が1600℃以下で溶融される。溶融ガラスは、上流パイプ3を通って清澄装置4に送られる。 The melting step S1 is a step in which the glass raw material is melted. After the glass raw material is prepared so as to have a desired composition, as shown in FIG. 2, the glass raw material is put into a melting apparatus 2 arranged upstream. Glass raw materials, for example, made of SiO 2, Al 2 O 3, Na 2 O, K 2 O, LiO 2, MgO, B 2 O 3, CaO, SrO, the composition of BaO or the like. Specifically, a glass material having a strain point of 500 ° C. or higher and a devitrification temperature −Tg (glass transition point) of 400 ° C. or lower is used. The glass raw material is melted by the melting device 2 to become molten glass. The melting temperature is adjusted according to the type of glass. In this embodiment, the glass material is melted at 1600 ° C. or lower. The molten glass is sent to the refining device 4 through the upstream pipe 3.

清澄工程S2は、溶融ガラス中の気泡の除去を行う工程である。清澄装置4内で気泡が除去された溶融ガラスは、その後、下流パイプ5を通って、成形装置6へと送られる。   The clarification step S2 is a step of removing bubbles in the molten glass. The molten glass from which bubbles have been removed in the refining device 4 is then sent to the forming device 6 through the downstream pipe 5.

成形工程S3は、溶融ガラスをシート状のガラス(シートガラス)に成形する工程である。本実施形態では、オーバーフローダウンドロー法を用いる。   The forming step S3 is a step of forming the molten glass into a sheet-like glass (sheet glass). In this embodiment, an overflow downdraw method is used.

冷却工程S4は、シートガラスを冷却(徐冷)する工程である。シートガラスは、冷却工程S4を経て室温に近い温度へと冷却される。なお、冷却工程S4における、冷却の状態に応じて、ガラス板の厚み(板厚)、ガラス板の反り量、およびガラス板の歪量が決まる。   The cooling step S4 is a step of cooling (slow cooling) the sheet glass. The sheet glass is cooled to a temperature close to room temperature through the cooling step S4. In addition, according to the cooling state in cooling process S4, the thickness (plate thickness) of a glass plate, the curvature amount of a glass plate, and the distortion amount of a glass plate are determined.

素板切断工程S5は、上記シートガラスを、切断装置8において所定の大きさに切断して、ガラスシートを製造する工程である。シートガラスを切断する際には、シートガラスにスクライブ線を形成し、スクライブ線に引っ張り応力を集中させてシートガラスを割断する。スクライブ線は、一般に、ダイヤモンドカッターを用いて機械的に形成する方法や、レーザを利用した加熱と急冷により初期亀裂を進行させる方法によって形成される。   The base plate cutting step S5 is a step of manufacturing the glass sheet by cutting the sheet glass into a predetermined size by the cutting device 8. When cutting the sheet glass, a scribe line is formed on the sheet glass, and tensile stress is concentrated on the scribe line to cleave the sheet glass. The scribe line is generally formed by a method of mechanically forming using a diamond cutter or a method of causing an initial crack to proceed by heating and rapid cooling using a laser.

強化処理工程S6は、上記で形成されたガラスシートの表面にイオン交換処理を行う工程である。強化処理工程S6では、表面にイオン交換により強化され形成された強化層(イオン交換領域)を有するガラスシートが形成される。化学的な強化処理では、ガラスシートを例えば350〜550℃程度に保ったKNO3100%の処理浴中に約1〜25時間浸漬する。このとき、ガラスシート表層のNa+イオンあるいはLi+イオンが処理浴中のK+イオンあるいはLi+イオンとイオン交換することで、ガラスシートは化学強化される。なお、イオン交換処理時の温度、時間、イオン交換溶液などは適宜変更可能である。例えば、イオン交換溶液は2種類以上の混合溶液であってもよい。強化処理工程S6において、ガラスシートの表面に一定の厚みAを有する強化層が形成される。上記一定の厚みには、幅があってもよい。一定の厚みに幅がある場合、Aは平均値とする。 The strengthening treatment step S6 is a step of performing ion exchange treatment on the surface of the glass sheet formed as described above. In the tempering step S6, a glass sheet having a reinforced layer (ion exchange region) that is reinforced and formed on the surface by ion exchange is formed. In the chemical strengthening treatment, the glass sheet is immersed in a treatment bath of 100% KNO 3 maintained at, for example, about 350 to 550 ° C. for about 1 to 25 hours. At this time, the glass sheet is chemically strengthened by ion exchange of Na + ions or Li + ions on the surface of the glass sheet with K + ions or Li + ions in the treatment bath. Note that the temperature, time, ion exchange solution, and the like during the ion exchange treatment can be changed as appropriate. For example, the ion exchange solution may be a mixed solution of two or more types. In the reinforcing treatment step S6, a reinforcing layer having a certain thickness A is formed on the surface of the glass sheet. The constant thickness may have a width. When a certain thickness has a width, A is an average value.

切断工程S7は、上記強化層を有するガラスシートを、不図示の切断装置において所定の大きさに切断して、主表面と端面とを有する強化ガラス板PGを製造する工程である。ここで主表面とは、一定の厚みAを有する強化層が存在する部分のシートガラスの表面を指し、端面とは、[上記厚みA×0.3]未満の厚みAを有する強化層が存在する部分のシートガラスの表面を指す。端面の強化層の厚みは0(ゼロ)である場合もある。   The cutting step S7 is a step of manufacturing a tempered glass plate PG having a main surface and an end face by cutting the glass sheet having the tempered layer into a predetermined size with a not-shown cutting device. Here, the main surface refers to the surface of the sheet glass where the reinforced layer having a certain thickness A exists, and the end surface refers to the reinforced layer having a thickness A less than [the above thickness A × 0.3]. The surface of the sheet glass of the part to do. The thickness of the end face reinforcing layer may be 0 (zero).

切断工程S7では、強化層を有するガラスシートにスクライブ線を形成し、スクライブ線に引っ張り応力を集中させて割断する。スクライブ線は、一般に、ダイヤモンドカッターを用いて機械的に形成する方法や、レーザを利用した加熱と急冷により初期亀裂を進行させる方法によって形成する。割断された強化ガラス板PGの端面付近にはエッジが形成される。   In the cutting step S7, a scribe line is formed on the glass sheet having the reinforcing layer, and the tensile stress is concentrated on the scribe line to cleave. The scribe line is generally formed by a method of mechanically forming using a diamond cutter or a method of causing an initial crack to progress by heating and rapid cooling using a laser. An edge is formed in the vicinity of the end face of the cleaved tempered glass plate PG.

研削工程S8は、強化ガラス板PGの端面付近のエッジを研削する工程である。切断工程S7においてスクライブ線が機械的に形成された場合、スクライブ線の周囲に細かなクラックが不可避的に存在する。また、レーザを利用してスクライブ線が形成された場合、分断された強化ガラス板PGの端面と表裏面(主表面)との間の角部(境界部分)には、非常に鋭いエッジが形成される。   The grinding step S8 is a step of grinding an edge near the end face of the tempered glass plate PG. When the scribe line is mechanically formed in the cutting step S7, fine cracks inevitably exist around the scribe line. In addition, when a scribe line is formed using a laser, a very sharp edge is formed at the corner (boundary portion) between the end surface of the divided tempered glass plate PG and the front and back surfaces (main surface). Is done.

これらのエッジは、不図示の面取り機において、矩形状のガラス板PGの短辺の端面について、研削用のダイヤモンド砥粒を有するメタルボンドホイールを用いて、端面の断面形状が曲率のついた凸形状、円弧状またはR形状に研削される(第1研削工程)。研削後の強化ガラス板PGは、例えば、図3に示すように、主表面32、端面34、強化層40を有する。   For these edges, a chamfering machine (not shown) uses a metal bond wheel having diamond abrasive grains for grinding on the short side end surface of the rectangular glass plate PG, and the end surface has a curved sectional shape. Grinding into a shape, arc shape or R shape (first grinding step). The tempered glass sheet PG after grinding has, for example, a main surface 32, an end face 34, and a reinforced layer 40 as shown in FIG.

強化ガラス板PGの端面34の算術平均粗さRaは、例えば0.1μmから0.2μm程度になるように研削する。しかしながら、研削されたガラス板PGの端面34には、マイクロクラックやヘアクラックと呼ばれる微小なクラックを含む層が形成される。この層は、加工変質層あるいは脆弱破壊層と呼ばれ、例えば10μmから30μm程度の厚さで存在する。   The arithmetic average roughness Ra of the end surface 34 of the tempered glass plate PG is ground so as to be about 0.1 μm to 0.2 μm, for example. However, a layer containing micro cracks called micro cracks or hair cracks is formed on the end face 34 of the ground glass plate PG. This layer is called a work-affected layer or a fragile fracture layer, and exists in a thickness of about 10 μm to 30 μm, for example.

続いて、メタルボンドホイールの結合剤よりも硬度及び剛性の低い結合剤が用いられた研削ホイールにより、メタルボンドホイールにより生じた加工変質層を除去する(第2研削工程)ことが好ましい。具体的には、樹脂結合剤を用い、ダイヤモンド砥粒が分散されたレジンボンドホイールにより、2次研削を行う。2次研削されたガラス板PGの端面34には、メタルボンドホイールにより形成される加工変質層あるいは脆弱破壊層よりも、薄い加工変質層あるいは脆弱破壊層が残存する。このような層が存在することで、強化ガラス板PGの端面34における破壊強度が低下する。このような層を除去し、強化ガラス板PGの端面34における破壊強度を向上させるために、研磨工程S9が行われる。   Subsequently, it is preferable to remove the work-affected layer generated by the metal bond wheel (second grinding step) with a grinding wheel using a binder having lower hardness and rigidity than the binder of the metal bond wheel. Specifically, secondary grinding is performed using a resin bond wheel and a resin bond wheel in which diamond abrasive grains are dispersed. On the end surface 34 of the glass plate PG subjected to the secondary grinding, a work-affected layer or a fragile fracture layer that is thinner than a work-affected layer or a fragile fracture layer formed by a metal bond wheel remains. The presence of such a layer reduces the breaking strength at the end face 34 of the tempered glass sheet PG. In order to remove such a layer and improve the breaking strength at the end face 34 of the tempered glass plate PG, a polishing step S9 is performed.

第2研削工程後に残存する加工変質層は、10μm未満になるよう行われる。
第2研削工程後に残存する加工変質層は、好ましくは5μm未満、より好ましくは1〜3μmとなるよう研削される。
第2研削工程は、レジンボンドホイールに限定されない。第1研削工程よりも細かいダイヤモンド砥粒を有するメタルボンドホイールによる研削であってもよい。
The work-affected layer remaining after the second grinding step is performed to be less than 10 μm.
The work-affected layer remaining after the second grinding step is preferably ground to be less than 5 μm, more preferably 1 to 3 μm.
The second grinding process is not limited to the resin bond wheel. Grinding with a metal bond wheel having finer diamond abrasive grains than in the first grinding step may be used.

(1−1)研磨
研磨工程S9は、上記研削された強化ガラス板PGの端面34ならびに端面付近の主表面32からなる端部を、遊離砥粒を用いた研磨装置において研磨加工する工程である。従来の固定砥粒を用いた研削・研磨では、主表面と端面との境界領域(境界部分)に生じる微小クラックを低減、除去することが困難であった。一方、本発明によれば、遊離砥粒により主表面から端面にかけて、ガラスにかかる負荷を小さくした状態で研磨することができるので、境界領域における微小クラックを低減、除去することができる。これにより、微小クラック起因の曲げ強度の低下を抑制することができる。
(1-1) Polishing The polishing step S9 is a step of polishing an end portion composed of the end surface 34 of the ground tempered glass plate PG and the main surface 32 near the end surface in a polishing apparatus using loose abrasive grains. . In conventional grinding / polishing using fixed abrasive grains, it is difficult to reduce and remove microcracks generated in the boundary region (boundary portion) between the main surface and the end surface. On the other hand, according to the present invention, it is possible to polish the loose abrasive grains from the main surface to the end face with a reduced load on the glass, so that microcracks in the boundary region can be reduced and removed. Thereby, the fall of the bending strength resulting from a microcrack can be suppressed.

図4に、端面34の研磨後の強化ガラス板PGの断面を模式的に示す。研磨工程S9では、主表面32の、端面34との境界部分に、強化ガラス板PG(ガラスシート)表面内の前記端面長手方向に垂直な方向に500μm以上、好ましくは1000μm以上、より好ましくは1500μm以上の長さを有する境界研磨面36を形成し、かつ境界研磨面36の強化層40が残存するように研磨する。研磨工程S9では、研磨後の境界研磨面36における強化層40の厚みが、好ましくは、主表面32における強化層40の厚みAの0.3以上1未満、より好ましくは0.5以上1未満の範囲にあるように研磨する。   In FIG. 4, the cross section of the tempered glass board PG after grinding | polishing of the end surface 34 is shown typically. In the polishing step S9, the boundary portion between the main surface 32 and the end surface 34 is 500 μm or more, preferably 1000 μm or more, more preferably 1500 μm in the direction perpendicular to the longitudinal direction of the end surface in the surface of the tempered glass plate PG (glass sheet). The boundary polishing surface 36 having the above length is formed, and polishing is performed so that the reinforcing layer 40 of the boundary polishing surface 36 remains. In the polishing step S9, the thickness of the reinforcing layer 40 on the boundary polishing surface 36 after polishing is preferably 0.3 or more and less than 1 of the thickness A of the reinforcing layer 40 on the main surface 32, more preferably 0.5 or more and less than 1. Polish to be in the range.

強化層が残存するとはイオン交換領域が残存していることである。イオン交換領域が残存するとは、EPMA(電子線マイクロアナライザ法)又はEDS分析(エネルギー分散型X線分光法)により、置換されて入ったカリウム等の置換イオンが検出されることである。
本発明では、イオン交換領域が残存するとは、EDS分析装置(キーエンス社製 VE−7800)により、表面32(=主表面)における置換イオン濃度に対して、境界研磨面36における置換イオン濃度が30wt%以上が検出されることをいう。
The fact that the reinforcing layer remains means that the ion exchange region remains. The fact that the ion exchange region remains means that a substituted ion such as potassium that has been substituted is detected by EPMA (electron beam microanalyzer method) or EDS analysis (energy dispersive X-ray spectroscopy).
In the present invention, the ion exchange region remains by means of an EDS analyzer (VE-7800 manufactured by Keyence Corporation) with a substitution ion concentration of 30 wt% on the boundary polishing surface 36 with respect to a substitution ion concentration on the surface 32 (= main surface). % Or more is detected.

また、主表面32においてイオン交換された領域である第1イオン交換領域30は、境界研磨面36においてイオン交換された領域である第2イオン交換領域38よりも厚い。本発明では、第1イオン交換領域30の厚み(表面からの深さ)は、主表面32における強化層40の厚みと考える。また、第2イオン交換領域38の厚み(表面からの深さ)は、境界研磨面36における強化層40の厚みと考える。境界研磨面36に残存する強化層40の厚みは、主表面32の強化層40の厚みの0.3以上1未満、より好ましくは0.5以上1未満の範囲にあることが好ましい。   Further, the first ion exchange region 30 that is an ion exchanged region on the main surface 32 is thicker than the second ion exchange region 38 that is an ion exchanged region on the boundary polishing surface 36. In the present invention, the thickness (depth from the surface) of the first ion exchange region 30 is considered as the thickness of the reinforcing layer 40 on the main surface 32. Further, the thickness (depth from the surface) of the second ion exchange region 38 is considered as the thickness of the reinforcing layer 40 on the boundary polishing surface 36. The thickness of the reinforcing layer 40 remaining on the boundary polishing surface 36 is preferably in the range of 0.3 to less than 1, more preferably 0.5 to less than 1, the thickness of the reinforcing layer 40 on the main surface 32.

研磨工程S9では、強化ガラス板PGの端面34の加工変質層あるいは脆弱破壊層を除去し、強化ガラス板PGの端面34の算術平均粗さRaが、例えば0.01μm未満になるように、強化ガラス板PGの端面を研磨する。境界研磨面36の算術平均粗さRaも同様になるように研磨することが好ましい。本発明では、主表面の端面側の領域(境界研磨面)に、イオン交換された強化層が残存していること、端面及び境界研磨面がRa0.01μm未満に仕上げられていることで、ガラス板の曲げ強度を維持、向上できる。   In the polishing step S9, the work-affected layer or the brittle fracture layer of the end surface 34 of the tempered glass plate PG is removed, and the arithmetic average roughness Ra of the end surface 34 of the tempered glass plate PG is strengthened so as to be less than 0.01 μm, for example. The end surface of the glass plate PG is polished. It is preferable to polish so that the arithmetic average roughness Ra of the boundary polishing surface 36 is the same. In the present invention, the ion-exchanged reinforcing layer remains in the region (boundary polished surface) on the end surface side of the main surface, and the end surface and the boundary polished surface are finished to Ra less than 0.01 μm. The bending strength of the plate can be maintained and improved.

図5は、本実施形態の研磨装置10を用いた研磨加工の概略を示す平面図である。図6は、図5のVI-VI線に沿う部分断面図である。研磨装置10は、研磨ホイールとして、一対の磁場形成部12と、その間に形成される空間に保持された遊離砥粒20を備えている。磁場形成部12は、例えば永久磁石や電磁石などの磁石により構成され、一対の磁場形成部間に所望の強さの磁場を形成するように設けられている。   FIG. 5 is a plan view showing an outline of the polishing process using the polishing apparatus 10 of the present embodiment. 6 is a partial cross-sectional view taken along line VI-VI in FIG. The polishing apparatus 10 includes a pair of magnetic field forming units 12 and free abrasive grains 20 held in a space formed therebetween as a polishing wheel. The magnetic field forming unit 12 is composed of, for example, a magnet such as a permanent magnet or an electromagnet, and is provided so as to form a magnetic field having a desired strength between the pair of magnetic field forming units.

回転軸18は不図示の回転駆動部に接続され、軸周りに所望の回転速度で回転するように設けられている。また、回転軸18は、不図示の移動機構により強化ガラス板PGに対して近接及び離反するように設けられている。磁場形成部12は回転軸18に固定され、回転軸18と共に回転する。これにより、上記遊離砥粒20が上記回転軸18周りに連続して回転する。このとき、図6に示すように、強化ガラス板PGの端部が遊離砥粒20に食い込んで、強化ガラス板PGの端部が遊離砥粒20と接触した状態で回転することで、遊離砥粒20と強化ガラス板PGの端部とが相対的に移動する。これにより、強化ガラス板PGの端部が、磁場形成部12の形成する磁場により拘束された遊離砥粒20によって研磨される。   The rotation shaft 18 is connected to a rotation drive unit (not shown) and is provided to rotate around a shaft at a desired rotation speed. Moreover, the rotating shaft 18 is provided so that it may approach and leave | separate with respect to the tempered glass board PG with the moving mechanism not shown. The magnetic field forming unit 12 is fixed to the rotating shaft 18 and rotates together with the rotating shaft 18. As a result, the loose abrasive grains 20 are continuously rotated around the rotation shaft 18. At this time, as shown in FIG. 6, the end portion of the tempered glass plate PG bites into the loose abrasive grains 20, and the end portion of the tempered glass plate PG rotates while being in contact with the loose abrasive grains 20. Grain 20 and the edge part of tempered glass board PG move relatively. Thereby, the edge part of the tempered glass board PG is grind | polished by the loose abrasive 20 restrained by the magnetic field which the magnetic field formation part 12 forms.

研磨後の境界研磨面36の長さ、及び境界研磨面36における強化層40の厚み並びに境界研磨面の長さは、強化ガラス板PGの端部の遊離砥粒20への食い込み深さや、研磨時間等を調節することにより調整できる。なお、上記食い込み深さが足らず、端面と表面の境界部分が研磨されないということを防止するため、境界部分を越えて、一定の食い込み深さが必要である。   The length of the boundary polishing surface 36 after polishing, the thickness of the reinforced layer 40 on the boundary polishing surface 36, and the length of the boundary polishing surface are determined by the depth of biting into the free abrasive grains 20 at the end of the tempered glass plate PG, and polishing. It can be adjusted by adjusting time etc. In addition, in order to prevent that the said penetration depth is not enough and the boundary part of an end surface and a surface is not grind | polished, a fixed penetration depth is required exceeding a boundary part.

遊離砥粒20としては、磁性粉体を含む磁性体研磨スラリーが使用される。磁性体研磨スラリーは、磁性粉体と液体とにより構成されている。磁性粉体は、研磨砥粒として機能し、例えば酸化鉄やフェライトなどの磁性体の粒子により構成されている。磁性粉体と混合される液体として、例えば、水、炭化水素、エステル類、エーテル類、フッ化水素、または、水を主成分とし、炭化水素、エステル類、エーテル類、フッ化水素などを添加した液体などを用いることができる。さらに、脂肪酸エステル等の界面活性剤を0.5wt%以下で添加しても良い。また、組成変化を緩和するために、水よりも沸点の高いプロピレングリコールを3%未満で添加しても良い。研磨中の磁性体研磨スラリーの温度上昇を抑えることができる観点から、液体としては水が好ましい。   As the loose abrasive 20, a magnetic material polishing slurry containing magnetic powder is used. The magnetic material polishing slurry is composed of a magnetic powder and a liquid. The magnetic powder functions as abrasive grains and is composed of magnetic particles such as iron oxide and ferrite. As liquid mixed with magnetic powder, for example, water, hydrocarbons, esters, ethers, hydrogen fluoride, or water as the main component, adding hydrocarbons, esters, ethers, hydrogen fluoride, etc. Liquid or the like can be used. Further, a surfactant such as a fatty acid ester may be added at 0.5 wt% or less. Moreover, in order to relieve the composition change, propylene glycol having a boiling point higher than that of water may be added at less than 3%. From the viewpoint of suppressing an increase in the temperature of the magnetic polishing slurry during polishing, water is preferable as the liquid.

本実施形態では、磁性体研磨スラリー中の磁性粉体の濃度が好ましくは70wt%以上になるように、磁性粉体と水とを混合している。磁性粉体の濃度は、ガラスの除去能力の観点から、80wt%以上であることが好ましく、85wt%以上であることがより好ましい。   In the present embodiment, the magnetic powder and water are mixed so that the concentration of the magnetic powder in the magnetic material polishing slurry is preferably 70 wt% or more. The concentration of the magnetic powder is preferably 80 wt% or more, and more preferably 85 wt% or more, from the viewpoint of glass removal ability.

なお、本実施形態では研磨装置10を強化ガラス板PGの搬送方向へ移動させずに端面34の研磨を行うが、強化ガラス板PGを静止させ、あるいは強化ガラス板PGを搬送しながら、研磨装置10を移動させて強化ガラス板PGの端面34を研磨してもよい。   In the present embodiment, the end face 34 is polished without moving the polishing apparatus 10 in the conveying direction of the tempered glass plate PG. However, the polishing apparatus is stopped while the tempered glass plate PG is stopped or the tempered glass plate PG is conveyed. 10 may be moved to polish the end face 34 of the tempered glass plate PG.

研磨工程S9後、研磨後の端面34をさらにフッ素酸(HF)等でエッチング処理してもよい。強化の弱い、強化されていない端面において残存するキズをフッ素酸などによりなめらかにすることで、平均強度の向上を実現することができる。フッ素酸の濃度は、100ppm以上が好ましく、1000ppm〜3000ppmがより好ましい   After the polishing step S9, the polished end face 34 may be further etched with fluoric acid (HF) or the like. The average strength can be improved by smoothing the scratches remaining on the weakly strengthened and non-strengthened end faces with fluoric acid or the like. The concentration of fluoric acid is preferably 100 ppm or more, more preferably 1000 ppm to 3000 ppm.

(2)表示装置
本発明の表示装置は、上記の強化ガラス板の端面を露出して組み立てられる。このため、強化ガラス製の強化ガラス板の端面に研磨加工をして、端面品質を向上すると共に、強度も維持、向上させることができる。
(2) Display device The display device of the present invention is assembled by exposing the end face of the tempered glass plate. For this reason, it is possible to polish the end face of the tempered glass plate made of tempered glass to improve the end face quality and to maintain and improve the strength.

以下、実施例により本発明をさらに詳しく説明するが、本発明はこれらの例によりなんら限定されるものではない。   EXAMPLES Hereinafter, although an Example demonstrates this invention further in detail, this invention is not limited at all by these examples.

実施例1
CS(圧縮応力値)600MPa以上、DOL(イオン交換層深さ)20μm以上の強化ガラス板に対して、ダイヤモンド砥粒を有するメタルボンドホイールを用いた研削を行い、さらに磁性体砥粒研磨により、端面、境界研磨面のRaを0.01μm未満まで研磨した。そのとき境界研磨面にイオン交換層が残存するよう研磨した。境界研磨面におけるK濃度が30%以上となるよう研削、研磨した。
20枚テストした場合の4点曲げ試験における平均強度は450MPa以上の454MPaであった。
Example 1
For a tempered glass plate having a CS (compressive stress value) of 600 MPa or more and a DOL (ion exchange layer depth) of 20 μm or more, grinding is performed using a metal bond wheel having diamond abrasive grains. The Ra of the end face and the boundary polishing face was polished to less than 0.01 μm. At that time, polishing was performed so that the ion-exchange layer remained on the boundary polished surface. The boundary polished surface was ground and polished so that the K concentration was 30% or more.
The average strength in the four-point bending test when 20 sheets were tested was 454 MPa of 450 MPa or more.

実施例2
実施例1と同様の強化ガラス板に対して、ダイヤモンド砥粒を有するメタルボンドホイールを用いた第1研削とレジンボンドホイールを用いた第2研削を行い、さらに磁性体砥粒研磨により、端面、境界研磨面のRaを0.01μm未満まで研磨した。そのとき境界研磨面にイオン交換層が残存するよう研磨した。境界研磨面におけるK濃度が30%以上となるよう研削、研磨した。
研磨後の強化ガラス板を、室温下において、HF4.6wt%濃度、30secの条件でエッチング処理した。
20枚テストした場合の4点曲げ試験における平均強度は750MPa以上の798MPaであった。
Example 2
For the tempered glass plate similar to that of Example 1, the first grinding using a metal bond wheel having diamond abrasive grains and the second grinding using a resin bond wheel are performed, and further by polishing the magnetic abrasive grains, The Ra of the boundary polished surface was polished to less than 0.01 μm. At that time, polishing was performed so that the ion-exchange layer remained on the boundary polished surface. The boundary polished surface was ground and polished so that the K concentration was 30% or more.
The polished tempered glass plate was etched at room temperature under the conditions of HF 4.6 wt% concentration and 30 sec.
The average strength in a 4-point bending test when 20 sheets were tested was 798 MPa, which is 750 MPa or more.

実施例3
実施例1、2と同様の強化ガラス板に対して、ダイヤモンド砥粒を有するメタルボンドホイールを用いた第1研削、レジンボンドホイールを用いた第2研削を行い、さらに磁性体砥粒研磨により、端面、境界研磨面のRaを0.01μm未満まで研磨した。そのとき境界研磨面にイオン交換層が残存するよう研磨した。境界研磨面におけるK濃度が30%以上となるよう研削、研磨した。
研磨後の強化ガラス板を、室温下において、HF4.6wt%濃度、30secの条件でエッチング処理した。
20枚テストした場合の4点曲げ試験における平均強度は800MPa以上の814MPaであった。
Example 3
For the same tempered glass plate as in Examples 1 and 2, the first grinding using a metal bond wheel having diamond abrasive grains, the second grinding using a resin bond wheel, and further by magnetic abrasive grain polishing, The Ra of the end face and the boundary polishing face was polished to less than 0.01 μm. At that time, polishing was performed so that the ion-exchange layer remained on the boundary polished surface. The boundary polished surface was ground and polished so that the K concentration was 30% or more.
The polished tempered glass plate was etched at room temperature under the conditions of HF 4.6 wt% concentration and 30 sec.
The average strength in the four-point bending test when 20 sheets were tested was 814 MPa of 800 MPa or more.

比較例
実施例1と同様の強化ガラス板を、メカニカルスクライブ+折割による切断端面を持つガラスとした。ダイヤモンド砥粒を有するメタルボンドホイールを用いた第1研削、レジンボンドホイールを用いた第2研削を行い、さらに研磨工程として、柔軟性及び弾性を有するポリウレタン結合剤を用いた研磨ホイールを用いて研磨を行った。
20枚テストした場合の4点曲げ試験では、平均強度350MPaであった。
Comparative Example A tempered glass plate similar to that of Example 1 was used as glass having a cut end surface by mechanical scribe + folding. First grinding using a metal bond wheel having diamond abrasive grains, second grinding using a resin bond wheel, and further polishing using a polishing wheel using a polyurethane binder having flexibility and elasticity as a polishing step Went.
In the four-point bending test when 20 sheets were tested, the average strength was 350 MPa.

(3)変形例
(3−1)変形例1
CS:400MPa、DOL:8〜12μmの強化ガラス板を使用し、実施例3と同様に研削・研磨ならびにHFエッチングによる端面処理を行い、処理前後の曲げ強度の変化を評価した。第2研削工程後の加工変質層の厚さを3μm未満にすることで、端面の粗さRaが0.01μm未満になるまでの磁性体砥粒研磨に必要な時間を短縮した。これにより実施例よりも強化層の薄い強化ガラス板であっても、実施例と同様に、平均強度を向上させることができた。
(3) Modification (3-1) Modification 1
Using a tempered glass plate of CS: 400 MPa and DOL: 8-12 μm, end face treatment by grinding / polishing and HF etching was performed in the same manner as in Example 3 to evaluate the change in bending strength before and after the treatment. By reducing the thickness of the work-affected layer after the second grinding step to less than 3 μm, the time required for polishing the magnetic abrasive grains until the roughness Ra of the end surface was less than 0.01 μm was shortened. Thereby, even if it was a tempered glass board with a thinner tempering layer than an Example, the average intensity | strength was able to be improved like an Example.

上記実施例では、第2研削工程としてレジンボンドホイールを用いたが、メタルボンドホイールを用いてもよい。例えば、第1研削工程において生じた加工変質層を、第1研削工程よりも砥粒の細かいホイールを用いて低減、除去してもよい。さらに、より砥粒の細かい第3研削工程を実施してもよい。   In the said Example, although the resin bond wheel was used as a 2nd grinding process, you may use a metal bond wheel. For example, the work-affected layer generated in the first grinding step may be reduced or removed using a wheel having finer abrasive grains than in the first grinding step. Furthermore, a third grinding step with finer abrasive grains may be performed.

(3−2)変形例2
実施例1と同様の強化ガラス板に対して、ダイヤモンド砥粒を有するメタルボンドホイールを用いた第1研削を行い、次に、第1研削工程に使用した砥粒よりも細かい砥粒を有するメタルボンドホイールを用いて第2研削工程を行い、さらに磁性体砥粒研磨により、端面、境界研磨面のRaを0.01μm未満まで研磨した。実施例と同様に平均強度を向上させることができた。
(3-2) Modification 2
The first ground using a metal bond wheel having diamond abrasive grains is performed on the same tempered glass plate as in Example 1, and then a metal having abrasive grains smaller than the abrasive grains used in the first grinding step. The second grinding process was performed using a bond wheel, and the Ra of the end face and the boundary polishing surface was polished to less than 0.01 μm by magnetic abrasive polishing. Similar to the examples, the average strength could be improved.

本発明によれば、遊離砥粒により主表面から端面にかけて、ガラスにかかる負荷を小さくした状態で研磨することができるので、境界領域における微小クラックを低減、除去することができる。これにより、微小クラック起因の曲げ強度の低下を抑制することができる。   According to the present invention, polishing can be performed in a state where the load applied to the glass is reduced from the main surface to the end surface by the free abrasive grains, so that microcracks in the boundary region can be reduced and removed. Thereby, the fall of the bending strength resulting from a microcrack can be suppressed.

1 ガラス板の製造装置
2 溶融装置
4 清澄装置
6 成形装置
8 切断装置
10 研磨装置
12 磁場形成部
18 回転軸
20 遊離砥粒
PG 強化ガラス板
DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 Glass plate manufacturing apparatus 2 Melting apparatus 4 Refining apparatus 6 Molding apparatus 8 Cutting apparatus 10 Polishing apparatus 12 Magnetic field forming part 18 Rotating shaft 20 Free abrasive grain PG Tempered glass sheet

国際公開第2012/067587号International Publication No. 2012/066757 特開2001−259978号公報JP 2001-259978 A

Claims (9)

表面にイオン交換により強化され形成された強化層を有するガラスシートを切断して、主表面と端面とを有する強化ガラス板を製造する切断工程と、
前記主表面と端面とを遊離砥粒を用いて研磨する工程と、
を有し、
前記研磨工程では、前記主表面の、前記端面との境界部分に、境界研磨面を形成し、かつ前記境界研磨面の強化層が残存するように研磨する、
ことを特徴とする強化ガラス板の製造方法。
Cutting a glass sheet having a reinforced layer formed by ion exchange on the surface, and manufacturing a tempered glass plate having a main surface and an end surface; and
Polishing the main surface and the end surface using loose abrasive grains;
Have
In the polishing step, polishing is performed so that a boundary polishing surface is formed at a boundary portion between the main surface and the end surface, and a reinforcing layer of the boundary polishing surface remains.
The manufacturing method of the tempered glass board characterized by the above-mentioned.
前記境界研磨面は、ガラスシート表面内の前記端面長手方向に垂直な方向において、少なくとも500μm以上の長さを有する、
請求項1に記載の強化ガラス板の製造方法。
The boundary polishing surface has a length of at least 500 μm or more in a direction perpendicular to the longitudinal direction of the end surface in the glass sheet surface.
The manufacturing method of the tempered glass board of Claim 1.
前記切断工程と前記研磨工程との間に、前記端面を研削する研削工程をさらに有する、
請求項1又は2に記載の強化ガラス板の製造方法。
A grinding step of grinding the end face between the cutting step and the polishing step;
The manufacturing method of the tempered glass board of Claim 1 or 2.
前記研磨工程は、前記端面の平均粗さRaが0.01μm未満となるよう研磨する、
請求項1から3のいずれか1項に記載の強化ガラス板の製造方法。
The polishing step is performed so that the average roughness Ra of the end surface is less than 0.01 μm.
The manufacturing method of the tempered glass board of any one of Claim 1 to 3.
前記研磨工程の後、前記端面をエッチング処理する、
請求項1から4のいずれか1項に記載の強化ガラス板の製造方法。
After the polishing step, the end surface is etched.
The manufacturing method of the tempered glass board of any one of Claim 1 to 4.
表面にイオン交換により強化され形成された強化層を有する強化ガラス板であって、
主表面の、端面との境界部分に境界研磨面を有し、
前記主表面の強化層が、前記境界研磨面の強化層よりも厚い、強化ガラス板。
A tempered glass plate having a reinforced layer formed by ion exchange on the surface,
The main surface has a boundary polished surface at the boundary with the end surface,
A tempered glass sheet, wherein the reinforced layer on the main surface is thicker than the reinforced layer on the boundary polished surface.
前記境界研磨面は、ガラスシート表面内の前記端面長手方向に垂直な方向に、少なくとも500μm以上の長さを有する、
請求項6に記載の強化ガラス板。
The boundary polishing surface has a length of at least 500 μm or more in a direction perpendicular to the longitudinal direction of the end surface in the glass sheet surface.
The tempered glass sheet according to claim 6.
前記端面の粗さRa及び前記境界研磨面の粗さRaが0.01μm未満である
請求項6又は7に記載の強化ガラス板。
The tempered glass sheet according to claim 6 or 7, wherein the roughness Ra of the end face and the roughness Ra of the boundary polished surface are less than 0.01 µm.
請求項6から8のいずれか1項に記載の強化ガラス板の端面を露出して組み立てられる表示装置。   The display apparatus assembled by exposing the end surface of the tempered glass board of any one of Claim 6 to 8.
JP2013145482A 2013-07-11 2013-07-11 Strengthened glass plate, and manufacturing method of the same Pending JP2015017016A (en)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2013145482A JP2015017016A (en) 2013-07-11 2013-07-11 Strengthened glass plate, and manufacturing method of the same

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2013145482A JP2015017016A (en) 2013-07-11 2013-07-11 Strengthened glass plate, and manufacturing method of the same

Publications (1)

Publication Number Publication Date
JP2015017016A true JP2015017016A (en) 2015-01-29

Family

ID=52438393

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2013145482A Pending JP2015017016A (en) 2013-07-11 2013-07-11 Strengthened glass plate, and manufacturing method of the same

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JP2015017016A (en)

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2019055534A (en) * 2017-09-21 2019-04-11 日東電工株式会社 Thin glass laminate

Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2019055534A (en) * 2017-09-21 2019-04-11 日東電工株式会社 Thin glass laminate
JP7029912B2 (en) 2017-09-21 2022-03-04 日東電工株式会社 Thin glass laminate

Similar Documents

Publication Publication Date Title
US20100279067A1 (en) Glass sheet having enhanced edge strength
JP6452743B2 (en) Cover glass for portable devices, glass substrate for portable devices
JP5376032B1 (en) Chemically tempered glass plate, cover glass and display device
JP5668828B1 (en) Chemically strengthened glass plate
US20140065401A1 (en) Glass articles with high flexural strength and method of making
CN110642514B (en) Aluminosilicate glass, tempered glass, preparation methods of aluminosilicate glass and tempered glass, cover plate, back plate and device
KR20150013200A (en) Strengthened glass article having shaped edge and method of making
JP2012111661A (en) Glass substrate and method for production thereof
CN102958644A (en) Method of preparing an edge-strengthened article
WO2014045809A1 (en) Method for producing chemically strengthened glass
KR101513825B1 (en) Production method for glass plate, production method for glass substrate for display, and glass plate
US11389919B2 (en) Methods for strengthening edges of laminated glass articles and laminated glass articles formed therefrom
CN109803938B (en) Method for producing chemically strengthened glass
WO2014034445A1 (en) Chemically tempered glass plate and impact testing method therefor
JP2015017016A (en) Strengthened glass plate, and manufacturing method of the same
WO2013137332A1 (en) Electronic device cover glass glass-substrate fabrication method
KR101925646B1 (en) Method for manufacturing glass substrate and magnetic fluid for polishing glass substrate
JP5775049B2 (en) Manufacturing method of glass substrate
JP5370913B2 (en) Glass substrate end surface polishing apparatus and end surface polishing method thereof
TW201529498A (en) Method of cutting and chamfering strengthened glass
JP2015157733A (en) Method for producing chemically strengthened glass plate
JP2016069214A (en) Method and apparatus for manufacturing glass substrate
WO2015102108A1 (en) Toughened glass plate and manufacturing method for same
JP2013077348A (en) Glass substrate for hdd and method of manufacturing the glass substrate for hdd