JP2015009217A - Masking sheet for repairing uneven emboss pattern and method of repairing uneven emboss pattern - Google Patents
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Abstract
Description
本発明は、凹凸状シボパターン補修用マスキングシート、及び、凹凸状シボパターン補修方法に関する。 The present invention relates to a masking sheet for repairing uneven texture patterns and a repair method for uneven texture patterns.
車のシートやテレビのキャビネットなどといった様々な物や場所に凹凸状シボパターンが施されて、凹凸状シボパターン地が形成されている。凹凸状シボパターンを有する物や場所における割れや傷や欠けなどによって凹凸状シボパターン地に損傷が生じて、その損傷箇所を補修しようとする場合、一般的に、その損傷部位にパテ等の補修剤を埋め込むことや、サンディング等により損傷箇所を部分的に取り除いてしまうことなどといった方法が適用される。このような場合、凹凸状シボパターン地における損傷箇所には、シボパターンの減殺されたエリア（減殺エリア）が形成される。また、凹凸状シボパターン地においては、摩擦などの影響で徐々に凹凸状シボパターンが削られ磨り減っていき、部分的に凹凸状シボパターンの磨り減った減殺エリアが徐々に形成されてくることがある。 An uneven texture pattern is formed on various objects and places such as car seats and television cabinets to form an uneven texture pattern. When an uneven textured pattern is damaged due to cracks, scratches, or chips in an object or place having an uneven texture pattern, and the damaged area is to be repaired, in general, the putty or the like is repaired to the damaged area. A method such as embedding an agent or partially removing a damaged portion by sanding or the like is applied. In such a case, an area where the wrinkle pattern is reduced (attenuation area) is formed at the damaged portion in the uneven wrinkle pattern area. In addition, in the uneven texture pattern ground, the uneven texture pattern is gradually scraped and worn down due to the influence of friction, etc., and a reduced area in which the uneven texture pattern is partially polished gradually forms. There is.
こうして減殺エリアが形成されてしまった場合、減殺エリアに対して凹凸状シボパターン補修方法を施すことが有効とされている。 When the attenuation area has been formed in this way, it is effective to apply an uneven wrinkle pattern repair method to the attenuation area.
凹凸状シボパターン補修方法としては、次のような微細凹凸パターン補修方法が一般的に採用されている。すなわち、凹凸状シボパターン地における凹凸状シボパターンのような微細凹凸パターンに対して凹凸状態を逆転させたパターンを表面に凹凸形成した補修具を準備しておき、減殺エリアをやや削って陥没部を形成するとともにその陥没部を埋めるように硬化性の補修コンパウンドを塗工して塗工層を形成する。次に、塗工層の表面に対して、補修具をその凹凸形成面側を塗工層に向けつつ押し当て、塗工層の表面に凹凸状シボパターンを形成する。そして、その状態にて塗工層を硬化させることで、塗工層の表面に凹凸状シボパターンを形成した状態を安定させる（例えば、特許文献１）。 As the uneven texture pattern repair method, the following fine uneven pattern repair method is generally employed. In other words, prepare a repair tool that has an uneven surface formed on the surface with a pattern with the uneven state reversed with respect to the fine uneven pattern such as the uneven surface pattern on the uneven surface pattern, and slightly cut off the depleted area The coating layer is formed by applying a curable repair compound so as to fill the depression. Next, the repair tool is pressed against the surface of the coating layer while the concave / convex forming surface is directed toward the coating layer to form a concave / convex pattern on the surface of the coating layer. And the state which formed the uneven | corrugated embossed pattern on the surface of the coating layer is stabilized by hardening a coating layer in the state (for example, patent document 1).
しかしながら、上記したような凹凸状シボパターン補修方法では、補修具を押し当てた際に、塗工層が凹凸状シボパターン地の表面に沿って陥没部のやや外側に広がってしまい、塗工層の外端縁付近で凹凸状シボパターンが良好に形成されず、塗工層の外端縁付近と塗工層の外側とで凹凸状シボパターンに目視上認識可能なほどの大きな相違を生じてしまい、減殺エリアの補修後にあっても補修箇所が目立ってしまうという問題がある。 However, in the concavo-convex pattern repair method as described above, when the repair tool is pressed, the coating layer spreads slightly outside the depression along the surface of the concavo-convex pattern, and the coating layer The uneven texture pattern is not well formed in the vicinity of the outer edge of the coating, and there is a large difference that is visually recognizable in the uneven texture pattern near the outer edge of the coating layer and the outside of the coating layer. Therefore, there is a problem that the repaired part becomes conspicuous even after the repairing of the reduction area.
本発明は、減殺エリアの外端縁でも凹凸状シボパターンを良好に形成して補修箇所をより目立たせないようにすることを可能とする凹凸状シボパターン補修用マスキングシート及び凹凸状シボパターン補修方法を提供する、ことを目的とする。 The present invention provides a masking sheet for repairing a concavo-convex pattern and a concavo-convex pattern repair that makes it possible to satisfactorily form a concavo-convex pattern on the outer edge of the attenuation area and make the repaired area less noticeable. It aims to provide a method.
本発明は、（１）開口部を形成したシート材からなるマスキングシートであって、
開口部は、多数の線状構造で多数の透孔に区画されており、
多数の線状構造は、多数の独立した凸部と個々の凸部の周囲に形成される凹部とを所定のパターンで備えて構成される凹凸状シボパターンにおける凹部の形成パターンに対応するようにパターン形成され、
多数の透孔は、前記凹凸状シボパターンの凸部の形成パターンに対応するようにパターン形成されている、ことを特徴とする凹凸状シボパターン補修用マスキングシート、
（２）補修対象における凹凸状シボパターン地に形成された凹凸状シボパターンの減殺エリアを補修する補修方法であって、
上記（１）に記載のマスキングシートを介して前記減殺エリアに塗料を吹き付けて固化して前記減殺エリアに凹凸状シボパターンを形成する、ことを特徴とする凹凸状シボパターン補修方法、を要旨とする。
The present invention is (1) a masking sheet made of a sheet material in which an opening is formed,
The opening is divided into a large number of through holes with a large number of linear structures,
A large number of linear structures correspond to the formation pattern of the recesses in the concavo-convex embossed pattern formed by providing a number of independent protrusions and recesses formed around the individual protrusions in a predetermined pattern. Pattern formed,
A large number of through holes are patterned so as to correspond to the formation pattern of the convex portions of the concavo-convex concavo-convex pattern, the concavo-convex crease pattern repair masking sheet,
(2) A repair method for repairing the relief area of the concavo-convex crease pattern formed on the concavo-convex crease pattern in the repair target,
A concavo-convex crease pattern repairing method, characterized in that a concavo-convex crease pattern is formed in the depletion area by spraying and solidifying the paint through the masking sheet according to (1) above to solidify To do.
また、本発明は、（３）シート材は、電鋳法で形成されたものである、上記（１）に記載の凹凸状シボパターン補修用マスキングシート、とされていてもよい。 Moreover, this invention may be made into the masking sheet for uneven | corrugated embossing pattern repair as described in said (1) which is (3) sheet material formed by the electroforming method.
本発明によれば、減殺エリアの外端縁でも凹凸状シボパターンを良好に形成して補修箇所をより目立たせないようにすることを可能とする凹凸状シボパターン補修用マスキングシート及び凹凸状シボパターン補修方法を提供することができるようになる。 According to the present invention, an uneven texture pattern repair masking sheet and an uneven texture pattern that can form an uneven texture pattern on the outer edge of the attenuation area and make the repaired area less noticeable. A pattern repair method can be provided.
本発明の凹凸状シボパターン補修用マスキングシート１（単に、マスキングシートということがある）について、図面を参照しつつ詳細に説明する。 A masking sheet 1 for repairing uneven texture patterns according to the present invention (sometimes simply referred to as a masking sheet) will be described in detail with reference to the drawings.
［マスキングシート１］
本発明のマスキングシート１は、図１Ａ、図１Ｂに示すように、開口部３を形成したシート材２からなる。
[Masking sheet 1]
As shown in FIGS. 1A and 1B, the masking sheet 1 of the present invention comprises a sheet material 2 having an opening 3 formed therein.
（シート材２）
シート材２は特に限定されず、紙製シート、樹脂製シート、金属製シートなどであってよいし、これらを適宜積層したものであってもよい。ただし、後述する補修対象１１の凹凸状シボパターン地１０が湾曲面をなしているような場合にも、その湾曲面に追従するようにシート材２自体を適宜繰り返し湾曲させることが容易である点では、シート材２は、紙製シート、樹脂製シート、金属製シートまたはそれらの積層シートが好ましく、耐久性の点では、金属製シートが好ましい。また、後述する凹凸状シボパターン補修方法の実施後にマスキングシート１を構成するシート材２に付着した塗料（付着塗料２９）をより容易に洗浄できることで再使用可能なマスキングシート１を提供する点でも、シート材２は、金属製シートであることがより好ましい。金属製シートで形成されたマスキングシート１は、例えば、後述するような電鋳法にて具体的に調製できる。また、マスキングシート１が金属製シートで構成されている場合は、角張った部分の形成を抑制する点で、金属製シートは表面にメッキ層を形成されているものであることが好ましい。なお、補修対象１１とは、マスキングシート１を用いて補修しようとする対象を示し、その対象には、自動車や家具などといった物や、家や車庫などの場所などが含まれる。また、補修対象１１は、凹凸状シボパターン６を形成されて凹凸状シボパターン地１０を形成している。
(Sheet material 2)
The sheet material 2 is not particularly limited, and may be a paper sheet, a resin sheet, a metal sheet, or the like, or a laminate of these as appropriate. However, even when the uneven textured pattern ground 10 of the repair object 11 described later has a curved surface, it is easy to repeatedly curve the sheet material 2 itself appropriately so as to follow the curved surface. Then, the sheet material 2 is preferably a paper sheet, a resin sheet, a metal sheet, or a laminated sheet thereof, and in terms of durability, a metal sheet is preferable. In addition, it is possible to provide a reusable masking sheet 1 by more easily washing the paint (adhesive paint 29) adhering to the sheet material 2 constituting the masking sheet 1 after carrying out the uneven wrinkle pattern repairing method described later. The sheet material 2 is more preferably a metal sheet. The masking sheet 1 formed of a metal sheet can be specifically prepared by, for example, an electroforming method as described later. Moreover, when the masking sheet 1 is comprised with the metal sheet | seat, it is preferable that the metal sheet | seat has the plating layer formed in the surface at the point which suppresses formation of an angular part. The repair object 11 indicates an object to be repaired using the masking sheet 1, and the object includes an object such as an automobile or furniture, a place such as a house or a garage, and the like. The repair object 11 is formed with the concavo-convex texture pattern 6 to form the concavo-convex texture pattern 10.
シート材２は、その外輪郭形状を図１の例では矩形状に形成されているが、これに限定されず、３角形状でも、５角形以上の多角形状、円形状など適宜選択可能である。 In the example of FIG. 1, the sheet material 2 is formed in a rectangular shape in the example of FIG. 1, but is not limited thereto, and a triangular shape, a polygonal shape of a pentagon or more, a circular shape, or the like can be appropriately selected. .
（開口部３）
開口部３は、図１Ａ，図１Ｂに示すように、多数の線状構造４で区画されて多数の透孔５を形成して構成されている。
(Opening 3)
As shown in FIG. 1A and FIG. 1B, the opening 3 is configured by being partitioned by a large number of linear structures 4 to form a large number of through holes 5.
（線状構造４）
線状構造４は開口部３にはりめぐらされて多数の透孔５を区画形成している。このとき、開口部３を多数の透孔５に区画する多数の線状構造４は、凹凸状シボパターン６における凹部８の形成パターンに対応するようにパターン形成されている。ここに、凹凸状シボパターン６は、図３を参照しつつ後述する凹凸状シボパターン補修方法における補修対象１１に応じて適宜規定され、多数の独立した凸部７と個々の凸部７の周囲に形成される凹部８とを所定のパターンで備えて構成されるパターンである。凹部８は、平面視上個々の凸部７の周囲を取り囲むように溝状に形成される。
(Linear structure 4)
The linear structure 4 is wound around the opening 3 to define a large number of through holes 5. At this time, a large number of linear structures 4 that divide the opening 3 into a large number of through-holes 5 are formed so as to correspond to the formation pattern of the concave portions 8 in the uneven texture pattern 6. Here, the concavo-convex crease pattern 6 is appropriately defined according to the repair object 11 in the concavo-convex crease pattern repair method described later with reference to FIG. 3, and includes a large number of independent protrusions 7 and the periphery of each protrusion 7. And a recess 8 formed in a predetermined pattern. The concave portion 8 is formed in a groove shape so as to surround the periphery of each convex portion 7 in plan view.
（透孔５）
透孔５は、多数の線状構造４で開口部３を区画して形成される個々の区画部分にてなり、多数形成される。開口部３を構成する多数の透孔５は、凹凸状シボパターン６の凸部７の形成パターンにおおよそ対応するようにパターン形成されている。本発明のマスキングシートによれば、開口部３を構成する多数の透孔５が、このようにパターン形成されていることで、凹凸状シボパターン補修方法を実施して補修対象１１の減殺エリア１２の補修を行った際に、減殺エリア１２に補修された凹凸状シボパターンがその周囲の凹凸状シボパターン６になじんで、補修箇所（補修方法実施直前まで減殺エリアであった箇所）をより目立たせないようにすることが可能となる。以下、減殺エリア１２に補修された凹凸状シボパターンを補修シボパターン６ａと呼ぶことがある。
(Through hole 5)
A large number of through holes 5 are formed by individual partition portions formed by partitioning the openings 3 with a large number of linear structures 4. The large number of through-holes 5 constituting the opening 3 are formed so as to roughly correspond to the formation pattern of the convex portions 7 of the concavo-convex textured pattern 6. According to the masking sheet of the present invention, the large number of through holes 5 constituting the opening 3 are patterned in this way, so that the relief pattern 12 of the repair target 11 is performed by performing the uneven wrinkle pattern repairing method. When the repair is performed, the uneven texture pattern repaired in the attenuation area 12 is familiar with the surrounding uneven texture pattern 6, and the repair area (the area that was in the attenuation area until just before the repair method) is more visible. It is possible to prevent them from standing. Hereinafter, the uneven wrinkle pattern repaired in the attenuation area 12 may be referred to as a repair wrinkle pattern 6a.
（開口部３の輪郭９の形状）
開口部３の輪郭９の形状は、特に限定されるものではないが、ギザギザ形状となっていることが好ましい。開口部３の輪郭９の形状がギザギザ形状である場合、輪郭９の形状は、凹凸状シボパターン６の凹部８の形成パターンにおおよそ対応した形状となっていることがより好ましい。
(Shape of outline 9 of opening 3)
The shape of the contour 9 of the opening 3 is not particularly limited, but is preferably a jagged shape. When the shape of the contour 9 of the opening 3 is a jagged shape, the shape of the contour 9 is more preferably a shape that roughly corresponds to the formation pattern of the concave portions 8 of the concavo-convex embossed pattern 6.
輪郭９の形状が、凹凸状シボパターン６の凹部８の形成パターンにおおよそ対応したギザギザ形状であると、減殺エリア１２に比べて小さい寸法のマスキングシート１を用いて後述する凹凸状シボパターン補修方法が実施された際に、開口部３の輪郭９の位置まで塗料３０を吹き付けて減殺エリア１２に補修シボパターン６ａが形成されても、補修箇所をより目立たせないように補修シボパターン６ａを形成することができる。 When the shape of the contour 9 is a jagged shape that roughly corresponds to the formation pattern of the concave portions 8 of the uneven texture pattern 6, the uneven texture pattern repair method to be described later using the masking sheet 1 having a smaller size than the attenuation area 12. When the repair is applied to the position of the contour 9 of the opening 3 and the repair wrinkle pattern 6a is formed in the reduction area 12, the repair wrinkle pattern 6a is formed so as to make the repair spot less noticeable. can do.
すなわち例えば、マスキングシート１として減殺エリア１２よりも小さなものを用いて後述する凹凸状シボパターン補修方法が実施された場合には、減殺エリア１２全域に効率よく補修シボパターン６ａを形成するには、できるだけマスキングシート１の開口部３全体を補修シボパターン６ａの形成に使用することが好適である。そのためには、開口部３の中央付近の領域のみならず輪郭９の位置付近の領域まで塗料３０を吹き付けて補修シボパターン６ａを形成することが望ましい。このとき、輪郭９の形状が、凹凸状シボパターン６の凹部８の形成パターンに対応したギザギザ形状であると、補修シボパターン６ａを構成する部７ａと凸部８ｂのパターンのうち、輪郭９の位置付近への塗料３０の吹き付けにて形成された凹部７ａと凸部８ｂのパターンについても、その周囲の凹凸状シボパターン６になじみやすくなって、補修箇所をより目立たせないように補修シボパターン６ａを形成することができる。したがって、補修箇所をより目立たせないように補修シボパターン６ａを形成する効果を維持しつつマスキングシート１を小型化することを実現することができる。 That is, for example, when the uneven texture pattern repair method described later is performed using a masking sheet 1 smaller than the attenuation area 12, to efficiently form the repair texture pattern 6a over the entire attenuation area 12, It is preferable to use the entire opening 3 of the masking sheet 1 as much as possible to form the repaired texture pattern 6a. For this purpose, it is desirable to spray the paint 30 not only on the region near the center of the opening 3 but also on the region near the position of the contour 9 to form the repaired wrinkle pattern 6a. At this time, if the shape of the contour 9 is a jagged shape corresponding to the formation pattern of the concave portion 8 of the concavo-convex texture pattern 6, among the patterns of the portion 7 a and the convex portion 8 b constituting the repaired texture pattern 6 a, The pattern of the concave portion 7a and the convex portion 8b formed by spraying the coating material 30 near the position also becomes easy to become familiar with the surrounding concave-convex pattern 6 and the repaired wrinkle pattern so as to make the repaired portion less noticeable. 6a can be formed. Therefore, it is possible to reduce the size of the masking sheet 1 while maintaining the effect of forming the repairing texture pattern 6a so that the repaired portion is less conspicuous.
本発明のマスキングシート１は、例えば次のように具体的に調製することができる。 The masking sheet 1 of the present invention can be specifically prepared as follows, for example.
［マスキングシート１の製造方法］
マスキングシート１が、金属製シートをシート材２として用いて構成されている場合であって、電鋳法にて形成された場合を例として説明する。
[Manufacturing method of masking sheet 1]
The case where the masking sheet 1 is configured using a metal sheet as the sheet material 2 and formed by electroforming will be described as an example.
マスキングシート１の製造方法は、次に示す（Ａ）から（Ｆ）の工程を備えて構成される。 The manufacturing method of the masking sheet 1 includes the following steps (A) to (F).
（Ａ）：電鋳用基材の表面にレジスト層を設ける工程（レジスト形成工程）。
（Ｂ）：レジスト層に露光を施す工程（露光工程）。
（Ｃ）：レジスト層を現像してマスキングシートの構造に応じた電鋳用型を形成する工程（現像工程）。
（Ｄ）：電鋳用型に離型膜形成処理を行う工程（離型膜形成工程）。
（Ｅ）：電鋳を行い電鋳用型の内部に金属を析出させる工程（電鋳工程）。
（Ｆ）：析出させた金属を型から剥離する工程（剥離工程）。
(A): A step of providing a resist layer on the surface of the base material for electroforming (resist forming step).
(B): A step of exposing the resist layer (exposure step).
(C): A step of developing the resist layer to form an electroforming mold corresponding to the structure of the masking sheet (development step).
(D): A step of performing a release film forming process on the electroforming mold (release film forming step).
(E): A step of performing electroforming to deposit a metal in the electroforming mold (electroforming step).
(F): A step of peeling the deposited metal from the mold (peeling step).
上記（Ａ）から（Ｆ）のそれぞれの工程について説明する。 The respective steps (A) to (F) will be described.
（Ａ：レジスト形成工程）
図２Ａに示すように、電導性を有し表面が平滑な電鋳用基材２１を準備して表面にレジスト層２２を形成してレジスト積層体２０を得る。レジスト層２２を形成するレジスト材料は塗布型レジスト、ドライフィルムレジスト等各種のレジスト材料を用いることができる。なかでもレジスト材料としては、３０μｍ〜５０μｍ程度の厚みを形成するのが容易であるドライフィルムレジスト及び３０μｍ〜５０μｍ程度の厚みを形成することが出来る塗布型レジストを使用することが好ましい。レジスト層２２の厚みは形成しようとするマスキングシート１の厚みと同じ厚みにするのが好ましいが、マスキングシート１の厚みよりレジスト層２２の厚みが薄くても良い。また、レジスト材料はポジ型、ネガ型のいずれでもよい。
(A: Resist formation process)
As shown in FIG. 2A, an electroforming substrate 21 having conductivity and a smooth surface is prepared, and a resist layer 22 is formed on the surface to obtain a resist laminate 20. As a resist material for forming the resist layer 22, various resist materials such as a coating type resist and a dry film resist can be used. Among them, as the resist material, it is preferable to use a dry film resist that can easily form a thickness of about 30 μm to 50 μm and a coating resist that can form a thickness of about 30 μm to 50 μm. The thickness of the resist layer 22 is preferably the same as the thickness of the masking sheet 1 to be formed, but the thickness of the resist layer 22 may be smaller than the thickness of the masking sheet 1. Further, the resist material may be either a positive type or a negative type.
電鋳用基材２１としては、例えば、ＳＵＳ３０４等のステンレス鋼、黄銅、リン青銅、ベリリウム−銅等の板が用いられる。 As the base material 21 for electroforming, for example, a plate made of stainless steel such as SUS304, brass, phosphor bronze, beryllium-copper, or the like is used.
（Ｂ：露光工程）
図２Ｂに示すようにマスキングシート１に対応して定められる所望のパターンにてマスクパターンを形成したフォトマスク３３をレジスト積層体２０のレジスト層２２の上にセットし紫外線を照射して露光を行う。露光は一般の超高圧水銀灯等の紫外線ランプを用いることができる。なお、図２Ｂ中、矢印Ｌは、露光工程における紫外線の照射方向を示す。
(B: exposure process)
As shown in FIG. 2B, a photomask 33 in which a mask pattern is formed in a desired pattern corresponding to the masking sheet 1 is set on the resist layer 22 of the resist laminate 20, and exposure is performed by irradiating ultraviolet rays. . For the exposure, a general ultraviolet lamp such as an ultra-high pressure mercury lamp can be used. In FIG. 2B, an arrow L indicates the ultraviolet irradiation direction in the exposure process.
（Ｃ：現像工程）
上記露光工程の後、現像処理を行い、図２Ｃに示すようにレジスト層２２のうち未感光部のレジスト材料を除去してレジスト積層体２０に凹部２３を形成して電鋳用の型パターン形成体２５とする。
(C: Development process)
After the exposure process, development is performed, and as shown in FIG. 2C, the resist material in the unexposed portion of the resist layer 22 is removed to form a recess 23 in the resist laminate 20 to form a mold pattern for electroforming. The body 25 is assumed.
なお、上記Ｂ，Ｃの各工程の説明では、レジスト層２２がネガ型（光硬化型）のレジスト材料で構成された場合を例とした。これに対して、レジスト層２２がポジ型（光分解型）のレジスト材料で構成された場合には、マスキングシート１に対応する所望のパターンの透過と遮蔽を図２Ｂに示すのとは逆パターンに形成したフォトマスク３３を用い、これを図２Ｂに示すのと同様にレジスト層２２の上にセットして紫外線照射して露光工程を実施する。その後、さらに現像工程を実施することで、レジスト層２２のうち感光部のレジスト材料を除去して電鋳用の型パターン形成体２５が形成される。 In the description of the steps B and C, the case where the resist layer 22 is made of a negative (photo-curing) resist material is taken as an example. On the other hand, when the resist layer 22 is made of a positive type (photodecomposition type) resist material, transmission and shielding of a desired pattern corresponding to the masking sheet 1 is opposite to that shown in FIG. 2B. In the same manner as shown in FIG. 2B, the photomask 33 formed in step 1 is set on the resist layer 22 and irradiated with ultraviolet rays to carry out an exposure process. Thereafter, a developing process is further performed to remove the resist material of the photosensitive portion of the resist layer 22 and form a mold pattern forming body 25 for electroforming.
（Ｄ：離型膜形成工程）
離型膜形成工程は、後述する電鋳工程の実施の際に析出した金属で構成される析出金属体２６の剥離（剥離工程）を容易にする準備工程である。この工程では、図２Ｄに示すように、電鋳用の型パターン形成体２５において電鋳用基材２１の表面が露出した凹部２３の部分に、はくり皮膜２４が形成される。
(D: Release film forming step)
The release film forming step is a preparatory step for facilitating peeling (peeling step) of the deposited metal body 26 composed of the metal deposited during the electroforming step described later. In this step, as shown in FIG. 2D, a peeling film 24 is formed on the portion of the recess 23 where the surface of the electroforming substrate 21 is exposed in the electroforming mold pattern forming body 25.
はくり皮膜２４の形成方法は、電鋳用基材２１の材質に応じて適宜選択されてよい。例えば、例えば、電鋳用基材２１がステンレス鋼である場合、はくり皮膜２４は、電鋳用の型パターン形成体２５をクロム酸溶液に浸漬することで形成できる。また、電鋳用基材２１の材質が黄銅、リン青銅、又はベリリウム−銅である場合、はくり皮膜２４は、電鋳用の型パターン形成体２５を５％亜セレン酸溶液等に浸漬することで形成できる。なお、電鋳用基材２１の材質が黄銅、リン青銅、又はベリリウム−銅である場合に、はくり皮膜２４は、電鋳用の型パターン形成体２５にニッケルメッキを施した後、さらにクロム酸溶液に浸漬することで形成されてもよい。こうした浸漬を実施することで、凹部２３において電鋳用基材２１の表面が露出した部分に、はくり皮膜２４が形成される。これにより電鋳用の型パターン形成体２５から電鋳型２７が形成される。 The method for forming the peeling film 24 may be appropriately selected according to the material of the base material 21 for electroforming. For example, when the electroforming substrate 21 is stainless steel, the peeling film 24 can be formed by immersing the electroforming mold pattern forming body 25 in a chromic acid solution. Further, when the material of the electroforming base material 21 is brass, phosphor bronze, or beryllium-copper, the peeling film 24 immerses the electroforming mold pattern forming body 25 in a 5% selenious acid solution or the like. Can be formed. In addition, when the material of the base material 21 for electroforming is brass, phosphor bronze, or beryllium-copper, the peeling film 24 is further plated with chromium after electroplating the mold pattern forming body 25 for electroforming. It may be formed by dipping in an acid solution. By performing such dipping, a peeled film 24 is formed in a portion where the surface of the electroforming substrate 21 is exposed in the recess 23. As a result, an electroforming mold 27 is formed from the mold pattern forming body 25 for electroforming.
（Ｅ：電鋳工程）
図２Ｅに示すように、前記した離型工程を行って調製された電鋳型２７を用いて電鋳法を行い、電鋳型２７において、凹部２３に金属を析出させて析出金属体２６を得る。このとき析出金属体２６は、露出面側をやや丸みを帯びた形状とするように形成されうる。電鋳用金属としてはニッケル、ニッケル−コバルト合金、銅等を用いることができる。電鋳用金属は、特に強度の点からニッケル、ニッケル−コバルト合金が好ましい。
(E: Electroforming process)
As shown in FIG. 2E, electroforming is performed using the electroforming mold 27 prepared by performing the above-described mold release step, and in the electroforming mold 27, a metal is deposited in the recess 23 to obtain a deposited metal body 26. At this time, the deposited metal body 26 can be formed so that the exposed surface side has a slightly rounded shape. As the metal for electroforming, nickel, nickel-cobalt alloy, copper or the like can be used. The electroforming metal is particularly preferably nickel or a nickel-cobalt alloy from the viewpoint of strength.
電鋳法で使用される電鋳液の組成としては次のような組成が挙げられる。 The composition of the electroforming solution used in the electroforming method includes the following composition.
（電鋳液の組成例）
硫酸ニッケル ： ２００ｇ／Ｌ〜４００ｇ／Ｌ
塩化ニッケル ： ２０ｇ／Ｌ〜５０ｇ／Ｌ
ほう酸 ： ２９ｇ／Ｌ〜４０ｇ／Ｌ
ナフタレンジスルホン酸ナトリウム ： ０．５０ｇ／Ｌ〜２．５ｇ／Ｌ
１，４ブチンジオール ： ０．０１ｇ／Ｌ〜０．１ｇ／Ｌ
(Composition example of electroforming liquid)
Nickel sulfate: 200 g / L to 400 g / L
Nickel chloride: 20 g / L to 50 g / L
Boric acid: 29 g / L to 40 g / L
Sodium naphthalene disulfonate: 0.50 g / L to 2.5 g / L
1,4 butynediol: 0.01 g / L to 0.1 g / L
なお、電鋳法に使用される電鋳液の組成は、一例でありこれに限定されない。電鋳液として、上記電鋳液の組成例に示す硫酸ニッケルをスルファミンニッケルに替えたものや、上記電鋳液の組成例に示すナフタレンジスルホン酸ナトリウムを１，３，６−ナフタレントリスルホン酸ナトリウムに替えたものが用いられてよい。また、電鋳液には、界面活性剤などの添加剤が適宜添加されてよい。ただし、電鋳液については、１，４ブチンジオールが適量配合されて、ストレスの少ない電鋳液とすることが重要である。 In addition, the composition of the electroforming liquid used for the electroforming method is an example, and is not limited thereto. As electroforming liquid, nickel sulfate shown in the above-mentioned electroforming liquid composition example is replaced with sulfamine nickel, or sodium naphthalene disulfonate shown in the above electroforming liquid composition example is sodium 1,3,6-naphthalene trisulfonate The thing replaced with may be used. Further, an additive such as a surfactant may be appropriately added to the electroforming liquid. However, regarding the electroforming liquid, it is important that an appropriate amount of 1,4 butynediol is blended to form an electroforming liquid with less stress.
電鋳法において、電鋳液を使用した電鋳の実施条件は、電鋳液の内容等の諸条件に応じて適宜選択可能であるが、上記の電鋳液の組成例に例示されるような電鋳液で電鋳法を実施する場合を例とすると、通常、液温が３５℃〜５５℃、陰極電流密度が０．１〜５Ａ／ｄｍ２程度である。 In the electroforming method, the electroforming conditions using the electroforming liquid can be appropriately selected according to various conditions such as the contents of the electroforming liquid, but as exemplified in the above-described composition examples of the electroforming liquid. For example, when the electroforming method is performed with a simple electroforming liquid, the liquid temperature is generally 35 ° C. to 55 ° C. and the cathode current density is about 0.1 to 5 A / dm 2 .
（Ｆ：剥離工程）
所望の厚みになるように電鋳を行って析出金属体２６を得たならば、析出形成された析出金属体２６を電鋳型２７から剥離して本発明のマスキングシート１が得られる。マスキングシート１は、電鋳用基材２１上に、その電鋳用基材２１の面方向に沿った方向に概ね平滑に形成される。電鋳用基材２１と析出金属体２６とのはくりは、温水中に入れて温水との温度差により部分的に剥離した部分をナイフ等の刃物の刃先を使用してめくりあげることで、図２Ｆに示すように、容易に実現することができる。
(F: peeling process)
When the deposited metal body 26 is obtained by performing electroforming so as to have a desired thickness, the deposited metal body 26 formed by deposition is peeled off from the electroforming mold 27 to obtain the masking sheet 1 of the present invention. The masking sheet 1 is formed on the electroforming substrate 21 in a generally smooth manner in a direction along the surface direction of the electroforming substrate 21. The electroforming base material 21 and the deposited metal body 26 are peeled off by using a cutting edge of a blade such as a knife, by turning up a part that is partly peeled off due to a temperature difference with warm water. As shown in FIG. 2F, it can be easily realized.
こうして、図２Ｇに示すようにマスキングシート１が製造できる。 Thus, the masking sheet 1 can be manufactured as shown in FIG. 2G.
ところで、マスキングシート１が電鋳法で形成される場合、上記したように析出金属体２６の表面には、メッキ層２８が形成されていることが好ましい。この場合、メッキ層２８は、上記（Ｆ：剥離工程）を実施した後、次のようにメッキ工程（工程（Ｇ）とする）を実施することで具体的に形成可能である。また、この場合、図２Ｈに示すように、マスキングシート１は、析出金属体２６の表面にメッキ層２８を形成した構造を備えることとなる。 By the way, when the masking sheet 1 is formed by electroforming, it is preferable that the plating layer 28 is formed on the surface of the deposited metal body 26 as described above. In this case, the plated layer 28 can be specifically formed by performing the plating step (referred to as step (G)) after the above (F: peeling step) is performed. In this case, as shown in FIG. 2H, the masking sheet 1 has a structure in which a plating layer 28 is formed on the surface of the deposited metal body 26.
（Ｇ：メッキ工程）
メッキ工程では、析出金属体２６の上に更にメッキを施してメッキ層２８が設けられる。このようにメッキ層２８を設ける工程が実施されることで、強度が向上するとともに、析出金属体２６に角があってもそうした角のエッジが効果的に被覆されて角部にやや丸みを帯びたマスキングシート１を得ることができるようになり、マスキングシート１を補修対象に配置した際に、補修対象に傷がつきにくく、また、塗料を吹き付けられた部分の輪郭をぼかすことができ、なめらかな凹凸状シボパターンを形成することが容易となるという効果が得られる。
(G: plating process)
In the plating step, the plated metal body 26 is further plated to provide a plating layer 28. By performing the step of providing the plating layer 28 in this way, the strength is improved, and even if the deposited metal body 26 has corners, the corner edges are effectively covered and the corners are slightly rounded. The masking sheet 1 can be obtained, and when the masking sheet 1 is placed on the repair target, the repair target is less likely to be scratched, and the contour of the part sprayed with the paint can be blurred. The effect that it becomes easy to form a rough concavo-convex pattern is obtained.
メッキ層２８を形成する手段やメッキの種類等は特に限定されないが、ニッケルやニッケルを主成分とする電解メッキ（例えば、ニッケル−コバルト合金など）によりメッキ層２８を設けるのが好ましい。メッキ層２８の厚みは、適宜選択可能であるが、強度を向上させる点、マスキングシート１の角部に丸みを効果的に持たせる点を考慮して、５μｍ〜５０μｍであることが好ましい。 The means for forming the plating layer 28, the type of plating, and the like are not particularly limited, but it is preferable to provide the plating layer 28 by electrolytic plating (for example, nickel-cobalt alloy) mainly containing nickel or nickel. Although the thickness of the plating layer 28 can be selected as appropriate, it is preferably 5 μm to 50 μm in view of improving the strength and effectively imparting roundness to the corners of the masking sheet 1.
メッキ層２８を形成するにあたり使用されるメッキ液について、電鋳液をそのままメッキ液として用いてもよいし、次のメッキ液の組成例に示すような組成を有する液体がメッキ液として用いられてもよい。 As for the plating solution used for forming the plating layer 28, the electroforming solution may be used as it is, or a liquid having the composition shown in the following composition example of the plating solution is used as the plating solution. Also good.
（メッキ液の組成例）
硫酸ニッケル：２００ｇ／Ｌ〜４００ｇ／Ｌ
塩化ニッケル：２０ｇ／Ｌ〜５０ｇ／Ｌ
ほう酸 ：２９ｇ／Ｌ〜４０ｇ／Ｌ
サッカリン ：０．５０ｇ／Ｌ〜２．５ｇ／Ｌ
(Example of composition of plating solution)
Nickel sulfate: 200 g / L to 400 g / L
Nickel chloride: 20g / L-50g / L
Boric acid: 29 g / L to 40 g / L
Saccharin: 0.50 g / L to 2.5 g / L
メッキ液を使用した電解メッキの条件は、適宜選択可能であるが、上記のメッキ液の組成例に例示した組成を有するメッキ液が使用される場合、電解メッキの条件は、通常、液温が３５℃〜５５℃、陰極電流密度が０．１〜５Ａ／ｄｍ２程度である。 The conditions of electrolytic plating using a plating solution can be selected as appropriate. However, when a plating solution having the composition exemplified in the above-described plating solution composition example is used, the electrolytic plating condition is usually set at a liquid temperature. The cathode current density is about 0.1 to 5 A / dm 2 at 35 ° C. to 55 ° C.
なお、上記のメッキ液の組成例は、一例であり、これに限定されない。メッキ液としては、例えば、メッキ液の組成例においてサッカリンの代わりにナフタレンジスルホン酸ナトリウムや、１−３−５ナフタレントリスルホン酸ナトリウム等を使用したものなどが用いられもよいし、上記のほかに界面活性剤などの添加剤が適宜添加されていてもよい。また、メッキ液を使用した電解メッキの条件についても、メッキ液の内容等の諸条件に応じて適宜選択可能である。 In addition, the composition example of said plating liquid is an example, and is not limited to this. As the plating solution, for example, in the composition example of the plating solution, a solution using sodium naphthalenedisulfonate or sodium 1-3-5 naphthalenetrisulfonate instead of saccharin may be used. Additives such as surfactants may be added as appropriate. Also, the conditions for electrolytic plating using a plating solution can be appropriately selected according to various conditions such as the content of the plating solution.
マスキングシート１が上記したような電鋳法にて形成されたものである場合、抗張力と硬さに優れたマスキングシート１を得ることができる。すなわち、マスキングシート１に曲げ応力が負荷された場合に、その応力によってもマスキングシート１に折れを生じにくく、またマスキングシート１に引張り応力が負荷された場合に、その応力によってもマスキングシート１の線状構造４に破断を生じくい。 When the masking sheet 1 is formed by the electroforming method as described above, the masking sheet 1 having excellent tensile strength and hardness can be obtained. That is, when a bending stress is applied to the masking sheet 1, the masking sheet 1 is not easily bent by the stress, and when a tensile stress is applied to the masking sheet 1, the stress of the masking sheet 1 is also increased. It is difficult to break the linear structure 4.
具体的に、マスキングシート１が上記したような電鋳法にて形成されたものである場合、マスキングシート１として、その抗張力が、１００ｋｇ／ｍｍ２〜１２０ｋｇ／ｍｍ２程度であり、マスキングシート１の硬さが、ビッカース硬さ（Ｈｖ）で、Ｈｖ４８０〜６２０程度のものを得ることができる。 Specifically, if the masking sheet 1 are those which are formed by electroforming as described above, as masking sheet 1, its tensile strength is 100kg / mm 2 ~120kg / mm 2 approximately, masking sheet 1 Can have a Vickers hardness (Hv) of about Hv 480 to 620.
［マスキングシート１の他の製造方法］
なお、マスキングシート１の製造方法は、上記に限定されない。例えば、マスキングシート１が、紙製シートで構成されているものである場合には、原紙を準備するとともに、その原紙を、開口部３を構成する透孔５の形成部分に対応した部分を切り抜くことで、マスキングシート１を製造することができる。
[Other manufacturing method of masking sheet 1]
In addition, the manufacturing method of the masking sheet 1 is not limited to the above. For example, when the masking sheet 1 is a paper sheet, a base paper is prepared, and the base paper is cut out at a portion corresponding to a portion where the through holes 5 forming the opening 3 are formed. Thus, the masking sheet 1 can be manufactured.
本発明のマスキングシート１は、例えば、次のように凹凸状シボパターン補修方法に具体的に使用されることができる。 For example, the masking sheet 1 of the present invention can be specifically used in a method for repairing an uneven texture pattern as follows.
［凹凸状シボパターン補修方法］
（マスキングシート１の配置位置決め）
本発明のマスキングシート１を、補修対象１１の所定位置に配置する。このとき、マスキングシート１の開口部３の少なくとも一部が、補修対象１１の凹凸状シボパターン地１０に形成された凹凸状シボパターン６の減殺エリア１２上に重なるように位置決めされて配置される。また、このとき、マスキングシート１は、補修対象１１にテープなどで一時的に固定されてもよい。こうすることでマスキングシート１が補修作業中に、所定位置から位置ずれしてしまう虞を抑制できる。
[How to repair uneven texture pattern]
(Positioning and positioning of masking sheet 1)
The masking sheet 1 of the present invention is disposed at a predetermined position of the repair object 11. At this time, at least a part of the opening 3 of the masking sheet 1 is positioned and arranged so as to overlap with the reduction area 12 of the uneven texture pattern 6 formed on the uneven texture pattern ground 10 of the repair object 11. . At this time, the masking sheet 1 may be temporarily fixed to the repair object 11 with a tape or the like. By doing so, it is possible to suppress the possibility that the masking sheet 1 is displaced from the predetermined position during the repair work.
（塗料３０の吹き付け）
補修対象１１に対して所定の位置にマスキングシート１が配置された後、その状態を維持しつつ、マスキングシート１を介して減殺エリア１２に向けて塗料３０が吹き付けられる。このとき、透孔５に向かう塗料３０は、透孔５を通って補修対象１１の減殺エリア１２上に付着して凸状構造部７０を形成し、線状構造４に向かう塗料３０は、線状構造４上に付着して付着塗料２９をなす。なお、塗料３０の拭き付けの実施方法は特に限定されず、スプレーガンなどの吹き付け手段３１を用いて吹き付ける方法等を適宜採用されてよい。また、補修対象１１に対して所定の位置にマスキングシート１が配置された後、マスキングシート１は補修対象１１に適宜押し当てられてもよい。この場合、補修対象１１の減殺エリア１２が湾曲面を形成しているような場合、その湾曲面に追従するようにマスキングシート１を湾曲させることができ、補修箇所をより目立たせないように補修シボパターン６ａを形成することができる。
(Paint 30 spraying)
After the masking sheet 1 is arranged at a predetermined position with respect to the repair object 11, the paint 30 is sprayed toward the attenuation area 12 through the masking sheet 1 while maintaining the state. At this time, the paint 30 toward the through hole 5 adheres on the attenuation area 12 of the repair object 11 through the through hole 5 to form the convex structure portion 70, and the paint 30 toward the linear structure 4 Adhesive paint 29 is formed on the structure 4. In addition, the implementation method of wiping the coating material 30 is not specifically limited, The method of spraying using the spraying means 31, such as a spray gun, may be employ | adopted suitably. Further, after the masking sheet 1 is disposed at a predetermined position with respect to the repair object 11, the masking sheet 1 may be appropriately pressed against the repair object 11. In this case, when the attenuation area 12 of the repair object 11 forms a curved surface, the masking sheet 1 can be curved so as to follow the curved surface, and the repaired portion is repaired so as not to stand out more. The embossed pattern 6a can be formed.
（塗料３０の固化）
減殺エリア１２に向けて塗料３０が吹き付けられた後、マスキングシート１を補修対象１１の所定位置に配置した状態を解除して、塗料３０で構成される凸状構造部７０を固化する。このとき減殺エリア１２上に付着した凸状構造部７０の固化構造が、補修シボパターン６ａの凸部７ａをなす。そして、個々の凸部７ａの周囲には凹部８ａが形成される。こうして減殺エリア１２に凹凸状シボパターンとして補修シボパターン６ａが形成される。なお、塗料３０の固化は、塗料３０の吹き付けを実施した後、例えば、所定時間放置すること等により実現可能である。
(Solidification of paint 30)
After the paint 30 is sprayed toward the killing area 12, the state in which the masking sheet 1 is disposed at a predetermined position of the repair target 11 is released, and the convex structure portion 70 made of the paint 30 is solidified. At this time, the solidified structure of the convex structure portion 70 attached on the attenuation area 12 forms the convex portion 7a of the repaired wrinkle pattern 6a. And the recessed part 8a is formed in the circumference | surroundings of each convex part 7a. In this way, the repairing wrinkle pattern 6a is formed in the attenuation area 12 as the uneven wrinkle pattern. The solidification of the paint 30 can be realized by, for example, leaving it for a predetermined time after spraying the paint 30.
こうして凹凸状シボパターン補修方法にて、減殺エリア１２に補修シボパターン６ａが形成され、補修対象１１における凹凸状シボパターン地１０に形成された凹凸状シボパターン６の減殺エリア１２が補修されることとなる。このとき、マスキングシート１を用いた凹凸状シボパターン補修方法にて形成された補修シボパターン６ａは、凹凸状シボパターン６になじむように形成されうるものであり、補修箇所をより目立たせないように補修シボパターン６ａが形成されるのである。 Thus, the repaired texture pattern 6a is formed in the reduced area 12 by the uneven texture pattern repair method, and the reduced area 12 of the textured pattern 6 formed on the textured pattern 10 in the repair target 11 is repaired. It becomes. At this time, the repaired texture pattern 6a formed by the uneven texture pattern repairing method using the masking sheet 1 can be formed so as to be familiar with the textured texture pattern 6, so that the repaired place is not more noticeable. Thus, the repaired wrinkle pattern 6a is formed.
（塗料３０の吹き付けと塗料３０の固化の実施回数）
なお、上記では、塗料３０の吹き付けと塗料３０の固化が一回実施されているが、この回数は、特に限定されず、必要に応じて複数回繰り返し実施されてよい。例えば、塗料３０の吹き付けが一回実施された場合に、塗料３０の吹き付け量の不足などにより、補修シボパターン６ａをなす凸部７ａが十分には形成されなかったような場合、上記した塗料３０の吹き付けと塗料３０で構成される凸状構造部７０の固化は、複数回繰り返し実施されてよい。
(Number of times the paint 30 is sprayed and the paint 30 is solidified)
In the above description, the spraying of the coating material 30 and the solidification of the coating material 30 are performed once. However, the number of times is not particularly limited, and may be repeatedly performed as necessary. For example, when the spraying of the coating material 30 is performed once, and the convex portion 7a forming the repaired texture pattern 6a is not sufficiently formed due to insufficient spraying amount of the coating material 30, the coating material 30 described above is used. The solidification of the convex structure portion 70 constituted by the spraying and the coating material 30 may be repeated a plurality of times.
［マスキングシート１の洗浄］
凹凸状シボパターン補修方法が実施されると、マスキングシート１の線状構造４の部分に付着塗料２９が存在する。付着塗料２９を有するマスキングシート１は、そのまま使い捨てにしてもよいが、マスキングシート１が金属製シートから構成されている場合、マスキングシート１に付着した塗料３０は、塗料剥離剤（例えば、ナトコ株式会社製 スケルトン（登録商標）Ｍ−２０１など）で適宜洗浄されることができることから、マスキングシート１は、繰り返し利用可能なものとなる。
[Cleaning of masking sheet 1]
When the uneven wrinkle pattern repairing method is carried out, the adhering paint 29 exists on the portion of the linear structure 4 of the masking sheet 1. The masking sheet 1 having the adhering paint 29 may be disposable as it is. However, when the masking sheet 1 is made of a metal sheet, the paint 30 adhering to the masking sheet 1 is used as a paint stripper (for example, NATCO shares). The masking sheet 1 can be used repeatedly because it can be appropriately washed with a company-made skeleton (registered trademark) M-201 or the like.
［凹凸状シボパターン補修方法の他の例］
なお、本発明のマスキングシート１を用いた凹凸状シボパターン補修方法は、上記方法に限定されない。例えば、補修対象１１の凹凸状シボパターン地１０に形成された凹凸状シボパターン６の減殺エリア１２をやや削って陥没部を形成するとともにその陥没部を埋めるように硬化性の補修コンパウンドを塗工して塗工層を形成する。マスキングシート１の開口部３が、塗工層上に重なるように位置決めされるとともに、マスキングシート１を塗工層に押し付ける。このとき、塗工層は、多数の透孔５に対応する部分が凸状となり、線状構造４に対応する部分が凹状となって、塗工層の表面にマスキングシート１の透孔５と線状構造４の形成パターンに応じた多数の凹凸パターンが賦形される。そしてその状態で塗工層を固化する。こうして補修対象１１における凹凸状シボパターン地１０に形成された凹凸状シボパターン６の減殺エリア１２が補修される。
[Other examples of uneven wrinkle pattern repair method]
In addition, the uneven | corrugated embossed pattern repair method using the masking sheet 1 of this invention is not limited to the said method. For example, the reduction area 12 of the uneven texture pattern 6 formed on the uneven texture pattern 10 of the repair object 11 is slightly cut to form a recess, and a curable repair compound is applied so as to fill the recess. To form a coating layer. The opening 3 of the masking sheet 1 is positioned so as to overlap the coating layer, and the masking sheet 1 is pressed against the coating layer. At this time, the coating layer has convex portions corresponding to the numerous through holes 5 and concave portions corresponding to the linear structures 4, and the through holes 5 of the masking sheet 1 are formed on the surface of the coating layer. A number of uneven patterns corresponding to the formation pattern of the linear structure 4 are formed. In this state, the coating layer is solidified. In this way, the reduction area 12 of the uneven texture pattern 6 formed on the uneven texture pattern ground 10 in the repair object 11 is repaired.
次に、マスキングシート１が電鋳法で調製されたものである場合の実施例を用いて、本発明のマスキングシート１をより詳細に説明する。 Next, the masking sheet 1 of this invention is demonstrated in detail using the Example in case the masking sheet 1 is what was prepared by the electroforming method.
実施例１．
電鋳用基材をなす黄銅板の表面にドライフィルムレジスト（レジスト膜厚３０μｍ、光硬化型）を積層してレジスト積層体を調製し（レジスト形成工程）、図１に示すマスキングシートのパターンに形成したマスクを用い、そのマスクをレジスト積層体のドライフィルムレジスト形成面上に配置して、超高圧水銀燈で露光して現像処理を行い、マスキングシートのパターンに対応した凹部を形成した（露光工程、現像工程）。次に、メッキ液にてニッケルメッキをした後、５％クロム酸に浸積して凹部内の黄銅板露出部分に、はくり皮膜を形成して電鋳型が得られた（離型膜形成工程）。離型膜形成工程の後、電鋳工程を実施し、電鋳型の凹部に厚さが５０μｍになるように金属を析出させて析出金属体となし、電鋳型と析出金属体の複合体を得た。電鋳工程の実施条件、電鋳工程で使用された電鋳液の組成は下記のとおりである。
Example 1.
A dry film resist (resist film thickness 30 μm, photocuring type) is laminated on the surface of the brass plate forming the electroforming substrate to prepare a resist laminate (resist formation step), and the masking sheet pattern shown in FIG. Using the formed mask, the mask was placed on the dry film resist formation surface of the resist laminate, exposed to ultra-high pressure mercury vapor, and developed to form a recess corresponding to the masking sheet pattern (exposure process) Development process). Next, after nickel plating with a plating solution, an electroforming mold was obtained by dipping in 5% chromic acid to form a peeling film on the exposed brass plate in the recess (mold release film forming step). ). After the mold release film forming step, an electroforming step is performed, and a metal is deposited in the concave portion of the electroforming mold so as to have a thickness of 50 μm to form a deposited metal body, thereby obtaining a composite of the electroforming mold and the deposited metal body. It was. The conditions for the electroforming process and the composition of the electroforming solution used in the electroforming process are as follows.
（電鋳工程の実施条件）
電鋳液の液温：４０〜５０℃
電流密度：０．３〜２Ａ／ｄｍ２
(Conditions for electroforming process)
Electroforming liquid temperature: 40-50 ° C
Current density: 0.3-2 A / dm 2
（電鋳液の組成）
硫酸ニッケル・６水和物：３００ｇ／Ｌ
塩化ニッケル・６水和物：３０ｇ／Ｌ
ほう酸 ：３０ｇ／Ｌ
１−３−５ナフタリントリスルホン酸ナトリウム：２．５ｇ／Ｌ
ブチンジオール：１０〜６０ｍｇ／Ｌ
界面活性剤（ステアリン酸スルフォン酸ナトリウム）：０．５〜２．０ｇ／Ｌ
(Composition of electroforming liquid)
Nickel sulfate hexahydrate: 300 g / L
Nickel chloride hexahydrate: 30 g / L
Boric acid: 30 g / L
1-3-5 sodium naphthalene trisulfonate: 2.5 g / L
Butynediol: 10-60 mg / L
Surfactant (sodium stearate sulfonate): 0.5 to 2.0 g / L
電鋳工程にて凹部に金属を析出させた後、電鋳型と析出金属体の複合体を温水に浸漬した後、析出金属体を複合体から剥離して剥離物を得た（剥離工程）。剥離工程で得られた剥離物である析出金属体をマスキングシート形成芯材として用い、メッキ工程を実施した。メッキ工程は、さらにこのマスキングシート形成芯材の表面に厚さ２０μｍのニッケルメッキ層を形成することで実施された。こうして、マスキングシートが得られた。なお、メッキ工程におけるニッケルメッキは電鋳工程の電鋳液と同じ組成のものを用いて実施され、メッキの実施条件についても電鋳工程の実施条件と同じ条件が採用された。実施例１で得られたマスキングシートは、その抗張力と硬さともに、電鋳法にて形成されたマスキングシートに関して上記したような範囲を満たすものであった。 After the metal was deposited in the recesses in the electroforming process, the composite of the electroforming mold and the deposited metal body was immersed in warm water, and then the deposited metal body was peeled from the composite to obtain a peeled material (peeling process). The plating process was implemented using the deposit metal body which is the peeling thing obtained by the peeling process as a masking sheet formation core material. The plating process was further performed by forming a nickel plating layer having a thickness of 20 μm on the surface of the masking sheet-forming core material. Thus, a masking sheet was obtained. The nickel plating in the plating process was carried out using the same composition as the electroforming liquid in the electroforming process, and the same conditions as the electroforming process were adopted for the plating conditions. The masking sheet obtained in Example 1 satisfied both the tensile strength and hardness of the masking sheet formed by the electroforming method as described above.
１ マスキングシート
２ シート材
３ 開口部
４ 線状構造
５ 透孔
６ 凹凸状シボパターン
６ａ 補修シボパターン
７、７ａ 凸部
８、８ａ 凹部
９ 開口部の輪郭
１０ 凹凸状シボパターン地
１１ 補修対象
１２ 減殺エリア
２０ レジスト積層体
２１ 電鋳用基材
２２ レジスト層
２３ レジスト積層体の凹部
２４ はくり皮膜
２５ 電鋳用の型パターン形成体
２６ 析出金属体
２７ 電鋳型
２８ メッキ層
２９ 付着塗料
３０ 塗料
３１ 吹き付け手段
７０ 凸状構造部
DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 Masking sheet 2 Sheet | seat material 3 Opening part 4 Linear structure 5 Through-hole 6 Irregular-shaped wrinkle pattern 6a Repair wrinkle pattern 7, 7a Convex part 8, 8a Recessed part 9 Contour of opening part 10 Concave-wrinkle wrinkle pattern ground 11 Repair object 12 Reduction Area 20 Resist laminate 21 Electroforming base material 22 Resist layer 23 Recessed portion of resist laminate 24 Peeling film 25 Mold pattern forming body for electroforming 26 Deposited metal body 27 Electroforming mold 28 Plating layer 29 Adhesive paint 30 Paint 31 Spraying Means 70 Convex structure
Claims (2)
開口部は、多数の線状構造で多数の透孔に区画されており、
多数の線状構造は、多数の独立した凸部と個々の凸部の周囲に形成される凹部とを所定のパターンで備えて構成される凹凸状シボパターンにおける凹部の形成パターンに対応するようにパターン形成され、
多数の透孔は、前記凹凸状シボパターンの凸部の形成パターンに対応するようにパターン形成されている、ことを特徴とする凹凸状シボパターン補修用マスキングシート。 A masking sheet made of a sheet material having an opening,
The opening is divided into a large number of through holes with a large number of linear structures,
A large number of linear structures correspond to the formation pattern of the recesses in the concavo-convex embossed pattern formed by providing a number of independent protrusions and recesses formed around the individual protrusions in a predetermined pattern. Pattern formed,
A masking sheet for repairing a concavo-convex texture pattern, wherein a large number of through holes are patterned so as to correspond to the formation pattern of the convex portions of the concavo-convex texture pattern.
請求項１に記載のマスキングシートを介して前記減殺エリアに塗料を吹き付けて固化して前記減殺エリアに凹凸状シボパターンを形成する、ことを特徴とする凹凸状シボパターン補修方法。 A repair method for repairing the relief area of the uneven texture pattern formed on the uneven texture pattern ground to be repaired,
A concavo-convex crease pattern repairing method, comprising: forming a concavo-convex crease pattern in the reduction area by spraying and solidifying a paint on the annihilation area via the masking sheet according to claim 1.
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