JP2014528905A - 部分フッ素化ケトン並びにその製造方法及びその使用方法 - Google Patents

Abstract

部分フッ素化ケトン化合物であって、部分フッ素化ケトン化合物は、カルボニル基に結合した１〜６個の炭素原子を有する末端アルキル基と、２〜４個の炭素原子を有しかつ少なくとも１つの水素置換基を含有するハイドロフルオロエーテル部分、と、を含む、部分フッ素化ケトン化合物が提供される。ハイドロフルオロエーテル部分は、炭素−炭素結合によってカルボニル基に結合されている。エーテル酸素は、カルボニル基から少なくとも２炭素原子離れた炭素原子に結合されている。更に、１〜１０個の炭素原子を有するフッ素化アルキル基は、ハイドロフルオロエーテル部分のエーテル酸素に結合されている。これらの部分フッ素化ケトンは、種々のエレクトロニクス用途に使用することができる。【選択図】なし

Description

発明の詳細な説明

［分野］
本開示は、部分フッ素化ケトン化合物、並びにその製造方法及びその使用方法に関する。

［背景］
現在、種々の流体が、エレクトロニクス産業において、伝熱、洗浄溶媒、付着溶媒（deposition solvent）、及び他の目的に使用されている。流体の適合性は、適用プロセスに依存する。例えば、一部の電気用途では、不活性であり、高い絶縁耐力を有し、低毒性を有し、良好な環境特性を有し、かつ幅広い温度範囲にわたって良好な伝熱特性を有する流体が必要とされる。他の用途では、精密な温度制御を必要とし、したがって、伝熱流体はプロセス温度範囲全体にわたって単一相であることが必要とされ、かつ伝熱流体特性が予測可能であることが必要とされ、すなわち、組成物が比較的一定したままであって、その結果、粘度、沸点などが予測可能であり、そのため精密な温度が維持され、かつ機器が適切に設計可能であることが必要とされる。

ペルフルオロカーボン、ペルフルオロポリエーテル、及び一部のハイドロフルオロエーテルが、エレクトロニクス産業において、伝熱及び他の目的に使用されてきた。ペルフルオロカーボン（ＰＦＣ）は、高い絶縁耐力及び高い固有抵抗を有し得る。ＰＦＣは、不燃性であることができ、一般に構造体の材料に機械的に適合し、限られた溶解力を呈する。加えて、ＰＦＣは、一般に、低毒性及び操作者にとっての良好な使い易さを呈する。ＰＦＣは、狭い分子量分布を有する生成物を生じるようなやり方で製造することができる。しかしながら、ＰＦＣは、ある重大な不都合を示す場合がある。すなわち、高い地球温暖化寄与力（ＧＷＰ）を生じさせ得る長い大気寿命を有する。

ペルフルオロポリエーテル（ＰＦＰＥ）は、ＰＦＣについて述べられるのと同じ有利な属性の多くを呈する。また、ＰＦＰＥも、同様の大きな不都合、すなわち、高い地球温暖化寄与力（ＧＷＰ）を生じさせ得る長い大気寿命を有する。加えて、これらの材料を製造するために開発された方法は、一定の分子量ではない生成物を生じ得、したがって、性能がばらつく可能性があり得る。

ハイドロフルオロエーテル（ＨＦＥ）の一部類であるハイドロフルオロポリエーテル（ＨＦＰＥ）は、ＰＦＣと同じ有利な属性のいくつかを呈し得るが、２つの領域で大きく異なる。ＨＦＰＥは、顕著に低い環境持続性を示して、数千年ではなくおよそ数十年の大気寿命を生じる場合があり、これは、より低いものの、依然として比較的高い地球温暖化寄与力を生じさせ得る。しかしながら、伝熱流体として示されるＨＦＰＥの一部は、広範に異なる分子量の成分の混合物であり得る。したがって、これらの物理特性は、時間の経過と共に変化し得、これにより、性能を予測することが困難になる。

［概要］
不活性で、高い絶縁耐力、低い電気伝導率、化学的不活性、熱安定性及び効果的な伝熱性を有し、幅広い温度範囲にわたって液体であり、広範囲の温度で良好な伝熱特性を有し、更に比較的短い大気寿命及び比較的低い地球温暖化寄与力（ＧＷＰ）などの受容可能な環境特性を有する、電子流体に対する必要性が存在する。ペルフルオロカーボン、ペルフルオロポリエーテル、ハイドロフルオロエーテルが現在使用されている多くの用途に関する低ＧＷＰの代替物となり得る、電子流体に対する必要性が存在する。提供される部分フッ素化ケトンは、現在使用されている材料の低ＧＷＰの代替物として、エレクトロニクス産業において有用性を見出すことができる、新しく比類のない種類の化合物である。

一態様において、部分フッ素化ケトン化合物であって、部分フッ素化炭化水素部分が結合されたカルボニル基に結合した１〜６個の炭素原子を有する末端アルキル基であって、部分フッ素化炭化水素部分が、２〜４個の炭素原子を有しかつ少なくとも１つの水素置換基を含有する、末端アルキル基と、カルボニル基から少なくとも２つの炭素離れた炭素原子に結合したエーテル酸素と、フッ素化アルキル基であって、フッ素化アルキル基が、１〜１０個の炭素原子を有し、部分フッ素化炭化水素部分のエーテル酸素に結合し、少なくとも１個の鎖状に連結された酸素原子又は窒素原子を含有してもよいフッ素化アルキル基と、を含む、部分フッ素化ケトン化合物が提供される。末端アルキル基は、直鎖、分枝鎖、環式、又はこれらの組合せであってもよい。一部の実施形態において、末端アルキル基は、エチル又はメチルであり得る。更に、末端アルキル基又はフッ素化アルキル基のうちの少なくとも１つは、少なくとも１個の鎖状に連結された窒素原子又は酸素原子を含んでもよい。フッ素化アルキル基はペルフルオロ化されていてもよい。一部の実施形態において、提供される部分フッ素化ケトン化合物は、２つの末端アルキル基と、２つの部分フッ素化炭化水素部分と、フッ素化アルキレン基と、を含んでよく、双方の部分フッ素化炭化水素部分が、フッ素化アルキレン基に直接結合され、各部分フッ素化炭化水素部分が、１つの末端アルキル基に結合されている。

別の態様では、式
Ｒ_ＨＣ（＝Ｏ）ＣＦ_２ＣＦＨＯＲ_ｆ、又は
Ｒ_Ｈ ^１Ｃ（＝Ｏ）ＣＦ_２ＣＦＨＯＲ_ｆＯＣＦＨＣＦ_２Ｃ（＝Ｏ）Ｒ_Ｈ ^２
（式中、各Ｒ_Ｈ、Ｒ_Ｈ ^１及びＲ_Ｈ ^２は独立して、１〜６個の炭素原子有するアルキル基であり、Ｒ_ｆは、少なくとも１個の鎖状に連結された窒素原子又は酸素原子を含んでいてもよい、１〜１０個の炭素原子を有したフッ素化アルキル部分である）を有する、部分フッ素化ケトンが提供される。各Ｒ_Ｈ、Ｒ_Ｈ ^１及びＲ_Ｈ ^２は独立して、直鎖、分枝鎖、環状、又はこれらの組合せであってよい。一部の実施形態において、Ｒ_ｆは、ペルフルオロ化され得る。Ｒ_Ｈ、Ｒ_Ｈ ^１及びＲ_Ｈ ^２は、少なくとも１個の鎖状に連結された窒素原子又は酸素原子を含んでもよい。

別の態様では、物品から汚染物質を除去するためのプロセスであって、物品を、少なくとも１つの提供される部分フッ素化ケトン化合物とを接触させることを含む、プロセスが提供される。

別の態様では、少なくとも１つの発泡性ポリマー又は少なくとも１つの発泡性ポリマーの前駆体の存在下で、発泡剤混合物を蒸発させることを含む、発泡プラスチックの調製するプロセスであって、この発泡剤混合物が、少なくとも１つの提供される部分フッ素化ケトン化合物を含む、プロセスが提供される。

別の態様では、少なくとも１つの提供される部分フッ素化ケトン化合物を含む熱伝達剤の使用を介して、熱源とヒートシンクとの間で熱を伝達することを含む、熱を伝達するプロセスが提供される。

別の態様では、コーティングを基材上に堆積させるプロセスであって、その基材の少なくとも１つの表面の少なくとも一部に、（ａ）少なくとも１つの提供される部分フッ素化ケトン化合物を含む溶媒組成物と、（ｂ）前記溶媒組成物に可溶性又は分散性の少なくとも１つのコーティング材料とを含む組成物を適用することを含む、プロセスが提供される。

別の態様では、少なくとも１つの重合開始剤及び少なくとも１つの提供される部分フッ素化ケトン化合物の存在下で、少なくとも１つの単量体を重合させることを含む、重合プロセスが提供される。

更に別の態様では、部分フッ素化ケトンの調製方法であって、フリーラジカル開始剤を使用して、ペルフルオロ化ビニルエーテルと、２〜６個の炭素原子を有するアルキルアルデヒドとを反応させて、少なくとも１つの部分フッ素化ケトンを生成することを含み、部分フッ素化ケトンが、部分フッ素化炭化水素部分であって、部分フッ素化炭化水素部分が、２〜４個の炭素原子を有し、少なくとも１つの水素置換基を含有し、炭素−炭素結合によってカルボニル基に結合した、部分フッ素化炭化水素部分と、カルボニル基から遠位にあるエーテル酸素と、フッ素化アルキル基であって、フッ素化アルキル基が、１〜６個の炭素原子を有し、部分フッ素化炭化水素部分のエーテル酸素に結合し、少なくとも１個の鎖状に連結された酸素原子又は窒素原子を含有してもよいフッ素化アルキル基と、を含む、調製方法が提供される。

本開示において、
「鎖状に連結されたヘテロ原子」とは、炭素−ヘテロ原子−炭素鎖を形成するように、炭素鎖内で炭素原子に結合されている炭素以外の原子（例えば、酸素又は窒素）をいう。
「カルボニル基から少なくとも２つの炭素離れた炭素原子に結合したエーテル酸素」とは、エーテル酸素とカルボニル基との間で少なくとも２個の炭素原子の炭素鎖を含む、部分フッ素化アルキレン部分を有する構造をいう。
「フルオロ−」（例えば、「フルオロアルキレン」又は「フルオロアルキル」又は「フルオロカーボン」の場合などの基若しくは部分に関して）又は「フッ素化された」とは、炭素に結合した水素原子が少なくとも１つはあるように、部分的にのみフッ素化されていることをいう。
「フルオロケミカル（fluorochemical）」とは、「フッ素化されている」又は「ペルフルオロ化されている」ことをいう。
「ペルフルオロ−」（例えば、「ペルフルオロアルキレン」又は「ペルフルオロアルキル」又は「ペルフルオロカーボン」の場合のような基又は部分に関して）、又は「ペルフルオロ化された」とは、完全にフッ素化されたことをいい、特記しない限り、フッ素と置換できる炭素に結合した水素原子がないことをいう。

提供される部分フッ素化ケトンは、例えば、コーティング付着における溶媒、洗浄用又は乾燥用流体、ドライクリーニング用流体、重合媒質、文書保存媒体、熱伝導剤、泡吹き付けに用いるためのセルサイズレギュレータ、並びに金属類の切断及び形成における金属加工剤としての使用を含む、多くの異なる用途にて使用可能である。部分フッ素化ケトンのうちの少なくとも一部は、１００℃超で沸騰し、更に、驚くほど優れた低温粘性も示す。このため、本発明の少なくとも幾つかの実施形態は、上述した、各種の異なる用途に対する性能条件を満たすことができる部分フッ素化ケトンに対する現在の必要性を（それらの調製のための効率的かつ費用効率が高いプロセスに対する必要性と同様に）満足させる。

上記の概要は、本発明の全ての実施の開示される各実施形態を説明することを目的としたものではない。以下の詳細な説明により、例示的な実施形態をより具体的に示す。

［詳細な説明］
以下の説明では、複数の具体的な実施形態について言及する。本発明の範囲又は趣旨を逸脱せずに、その他の実施形態が考えられ、実施され得ることを理解すべきである。したがって、以下の詳細な説明は、限定的な意味で解釈されるべきではない。

特に断りがない限り、本明細書及び「特許請求の範囲」で使用される構造のサイズ、量、及び物理的特性を表わす数字は全て、いずれの場合においても「約」なる語によって修飾されているものとして理解されるべきである。それ故に、そうでないことが示されない限り、前述の明細書及び添付の「特許請求の範囲」で示される数値パラメーターは、当業者が本明細書で開示される教示内容を用いて、目標対象とする所望の特性に応じて、変化し得る近似値である。終点による数の範囲の使用は、その範囲内（例えば、１〜５は、１、１．５、２、２．７５、３、３．８０、４、及び５を含む）の全ての数及びその範囲内の任意の範囲を含む。

部分フッ素化炭化水素部分が結合されたカルボニル基に結合した１〜６個の炭素原子を有する末端アルキル基であって、部分フッ素化炭化水素部分が、２〜４個の炭素原子を有しかつ少なくとも１つの水素置換基を含有する、末端アルキル基を含む、部分フッ素化ケトンが提供される。また、提供される部分フッ素化ケトンは、カルボニル基から少なくとも２つの炭素離れた炭素原子に結合したエーテル酸素も含む。更に、提供される部分フッ素化ケトンは、１〜１０個の炭素原子を有し、部分フッ素化炭化水素部分のエーテル酸素に結合した、フッ素化アルキル基も含む。フッ素化アルキル基は、少なくとも１個の鎖状に連結された酸素原子又は窒素原子を含有してもよい。

末端アルキル基は、直鎖、分枝鎖、環式、又はこれらの組合せであってもよい。一部の実施形態において、末端アルキル基は、エチル又はメチルであり得る。部分フッ素化炭化水素部分は、カルボニル基に結合された（−ＣＦ_２−）を有する（−ＣＦ_２−ＣＦＨ−）を含んでいてもよい。一部の実施形態において、フッ素化アルキル基は、ペルフルオロ化され得、また、末端基を含み得る。

例示的な部分フッ素化ケトン化合物には、Ｃ_３Ｆ_７ＯＣＦＨＣＦ_２Ｃ（Ｏ）ＣＨ_３、Ｃ_３Ｆ_７ＯＣＦ（ＣＦ_３）ＣＦ_２ＯＣＦＨＣＦ_２Ｃ（Ｏ）ＣＨ_３、ＣＦ_３ＯＣＦＨＣＦ_２Ｃ（Ｏ）ＣＨ_３、Ｃ_４Ｆ_９ＯＣＦＨＣＦ_２Ｃ（Ｏ）ＣＨ_３、ＣＦ_３ＯＣ_３Ｆ_６ＯＣＦＨＣＦ_２Ｃ（Ｏ）ＣＨ_３、Ｃ_２Ｆ_５ＯＣＦＨＣＦ_２Ｃ（Ｏ）ＣＨ_３、（ＣＦ_３）_２ＣＦＣＦ_２ＯＣＦＨＣＦ_２Ｃ（Ｏ）ＣＨ_３、Ｃ_５Ｆ_１１ＯＣＦＨＣＦ_２Ｃ（Ｏ）ＣＨ_３、ＨＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２ＯＣＦＨＣＦ_２Ｃ（Ｏ）ＣＨ_３、ＣＨ_３ＯＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２ＯＣＦＨＣＦ_２Ｃ（Ｏ）ＣＨ_３、

、ＣＨ_３Ｃ（Ｏ）ＣＦ_２ＣＦＨＯＣ_４Ｆ_８ＯＣＦＨＣＦ_２Ｃ（Ｏ）ＣＨ_３、Ｃ_３Ｆ_７ＯＣＦＨＣＦ_２Ｃ（Ｏ）ＣＨ_２ＣＨ_３、Ｃ_３Ｆ_７ＯＣＦＨＣＦ_２Ｃ（Ｏ）ＣＨ_２ＣＨ_２ＣＨ_３、Ｃ_３Ｆ_７ＯＣＦＨＣＦ_２Ｃ（Ｏ）ＣＨ（ＣＨ_３）_２、
Ｃ_４Ｆ_９ＯＣＦＨＣＦ_２Ｃ（Ｏ）ＣＨ_２ＣＨ_３、Ｃ_４Ｆ_９ＯＣＦＨＣＦ_２Ｃ（Ｏ）ＣＨ_２ＣＨ_２ＣＨ_３、Ｃ_４Ｆ_９ＯＣＦＨＣＦ_２Ｃ（Ｏ）ＣＨ（ＣＨ_３）_２、ＣＦ_３ＯＣ_３Ｆ_６ＯＣＦＨＣＦ_２Ｃ（Ｏ）ＣＨ_２ＣＨ_３、ＣＦ_３ＯＣ_３Ｆ_６ＯＣＦＨＣＦ_２Ｃ（Ｏ）ＣＨ_２ＣＨ_２ＣＨ_３、ＣＦ_３ＯＣ_３Ｆ_６ＯＣＦＨＣＦ_２Ｃ（Ｏ）ＣＨ（ＣＨ_３）_２、ＣＦ_３ＯＣＦＨＣＦ_２Ｃ（Ｏ）ＣＨ_２ＣＨ_３、ＣＦ_３ＯＣＦＨＣＦ_２Ｃ（Ｏ）ＣＨ_２ＣＨ_２ＣＨ_３、ＣＦ_３ＯＣＦＨＣＦ_２Ｃ（Ｏ）ＣＨ（ＣＨ_３）_２、
Ｃ_３Ｆ_７ＯＣＦ（ＣＦ_３）ＣＦ_２ＯＣＦＨＣＦ_２Ｃ（Ｏ）ＣＨ_２ＣＨ_３、Ｃ_３Ｆ_７ＯＣＦ（ＣＦ_３）ＣＦ_２ＯＣＦＨＣＦ_２Ｃ（Ｏ）ＣＨ_２ＣＨ_２ＣＨ_３、Ｃ_３Ｆ_７ＯＣＦ（ＣＦ_３）ＣＦ_２ＯＣＦＨＣＦ_２Ｃ（Ｏ）ＣＨ（ＣＨ_３）_２、ＣＨ_３ＣＨ_２（Ｏ）ＣＣＦ２ＣＦＨＯＣ_４Ｆ_８ＯＣＦＨＣＦ_２Ｃ（Ｏ）ＣＨ_２ＣＨ_３、ＣＨ_３ＣＨ_２ＣＨ_２Ｃ（Ｏ）ＣＦ_２ＣＦＨＯＣ_４Ｆ_８ＯＣＦＨＣＦ_２Ｃ（Ｏ）ＣＨ_２ＣＨ_２ＣＨ_３、（ＣＨ_３）_２ＣＨ（Ｏ）ＣＣＦ_２ＣＦＨＯＣ_４Ｆ_８ＯＣＦＨＣＦ_２Ｃ（Ｏ）ＣＨ（ＣＨ_３）_２、

及びこれらの混合物が挙げられる。

提供される部分フッ素化ケトン化合物は、アルキルアルデヒドのフリーラジカルを、フルオロ−又はペルフルオロビニルエーテルと共に添加することによって調製することができる。アルデヒドは、１〜６個の炭素原子を含有するアルキル基を有し得る。アルデヒドは、構造Ｒ−Ｃ（Ｏ）−Ｈ（式中、Ｒはアルキル基である）を有する。通常、アルキル基は、例えば、メチル、エチル、プロピル、又はイソプロピルなどの直鎖又は分枝鎖アルキル基である。一部の実施形態において、アルキル基は、少なくとも１個の鎖状に連結された酸素原子又は窒素原子を有し得る。

通常、アルキルアルデヒド、及びフルオロ−又はペルフルオロビニルエーテルは、所望の反応に対して適切な反応温度で作用するフリーラジカル開始剤と共に、Ｐａｒｒ反応器などの圧力反応器内に設置される。一般的なフリーラジカル開始剤には、過酸化物及びアゾ化合物が挙げられる。一般的な過酸化物には、ジアシルペルオキシド、ジアルキルペルオキシジカーボネート、ｔ−アルキルペルオキシエステル、ジ（ｔ−アルキル）ペルオキケタール、及びジ−ｔ−アルキルペルオキシドが挙げられる。約６５℃〜１３５℃の開始温度を有する開始剤が特に有用である。これらの開始剤には、商品名ＬＵＰＥＲＯＸ（Ａｒｋｅｍａ，Ｉｎｃ（Ｐｈｉｌａｄｅｌｐｈｉａ，ＰＡ）から入手可能）、又は商品名ＣＵＲＯＡＴ、ＣＵＲＯＸ（Ｕｎｉｔｅｄ Ｉｎｉｔｉａｔｏｒｓ（Ｐｕｌｌａｃｈ Ｇｅｒｍａｎｙ）から入手可能）の過酸化物が挙げられる。例示的な有機過酸化物には、１，１−ジ（ｔ−アミルペルオキシ）シクロヘキサン、１，１−ジ（ｔ−ブチルペルオキシ）３，３，５−トリメチルシクロヘキサン、ｔ−アミルペルオキシ−２−エチルヘキサノエート、ベンゾイルペルオキシド、ｔ−アミルペルオキシベンゾエート、ｔ−ブチルペルオキシアセテート、ｔ−ブチルペルオキシベンゾエートエチル３，３−ジ−（ｔ−アミルペルオキシ）ブチレート、エチル３，３−ジ（ｔ−ブチルペルオキシ）ブチレート、及びジクミルペルオキシドが挙げられる。アゾ開始剤には、商品名ＰＥＲＣＡＲＢＡＭＩＤ（Ｕｎｉｔｅｄ Ｉｎｉｔｉａｔｏｒｓ）で入手可能な化合物が挙げられ、カルバミドペルオキシドなどの物質を含む。付加的なアゾ開始剤には、アゾビスイソブチロニトリル（ＡＩＢＮ）、及び２，２’−アゾジ（２−メチルブチロニトリル）が挙げられる。

提供される部分フッ素化ケトンの調製プロセスを実行するのに有用なフルオロ−及びペルフルオロビニルエーテルには、末端ペルフルオロビニル基を有するものが挙げられる。そのようなフルオロ−及びペルフルオロビニルエーテル（所望により、１つ以上の鎖状に連結されたヘテロ原子を（フルオロ−及びペルフルオロビニルエーテルのエーテル酸素に加えて）更に含有することができる）は、中間体である分枝状酸フルオライド付加化合物を形成するために、フルオロケミカル酸フルオライド又はフルオロケミカルケトンと、ヘキサフルオロプロピレンオキシド（ＨＦＰＯ）との反応により調製することができる。次に、この付加物を塩基と反応させて、中間体であるカルボン酸塩を形成することができ、これは次いで高温にて（所望により、不活性溶媒の存在下で）カルボキシル基を除去することができる。幾つかのペルフルオロビニルエーテル（例えば、Ｃ_３Ｆ_７ＯＣＦ＝ＣＦ_２、Ｃ_３Ｆ_７ＯＣＦ（ＣＦ_３）ＣＦ_２ＯＣＦ＝ＣＦ_２、及びＣＦ_３ＯＣＦ＝ＣＦ_２などのペルフルオロビニルエーテル）も、（例えば、Ｓｙｎｑｕｅｓｔ Ｌａｂｏｒａｔｏｒｉｅｓ（Ａｌａｃｈｕａ，ＦＬ）から、又はＡｐｏｌｌｏ Ｓｃｉｅｎｔｉｆｉｃ，Ｌｔｄ．（Ｃｈｅｒｓｈｉｒｅ，ＵＫ）から）市販されている。

フルオロケミカル酸フルオライド（フルオロ−及びペルフルオロビニルエーテルを調製するために使用される）は、例えば、対応する炭化水素酸フルオライド若しくは酸塩化物（後者は市販されている）、又は特定のラクトン、無水物、若しくはエステルを、無水フッ素化水素中の電解フッ素化又はフッ素元素を使用する直接フッ素化することによって調製できる。好適なフルオロケミカル酸フルオライドとしては、カルボニル部分に隣接した炭素原子に結合した水素原子を有さないようなものが挙げられる。このようなフルオロケミカル酸フルオライド類の代表例としては、
ＣＦ_３Ｃ（Ｏ）Ｆ、ＣＦ_３ＣＦ_２Ｃ（Ｏ）Ｆ、ＣＦ_３ＣＦ_２ＣＦ_２Ｃ（Ｏ）Ｆ、（ＣＦ_３）_２ＣＦＣ（Ｏ）Ｆ、Ｃ_４Ｆ_９Ｃ（Ｏ）Ｆ、ＣＦ_３ＯＣＦ_２ＣＦ_２Ｃ（Ｏ）Ｆ、ＨＣＦ_２ＣＦ_２Ｃ（Ｏ）Ｆ、ＣＨ_３ＯＣＦ_２ＣＦ_２Ｃ（Ｏ）Ｆ、ＦＣ（Ｏ）Ｃ_２Ｆ_４Ｃ（Ｏ）Ｆ、ＦＣ（Ｏ）Ｃ_３Ｆ_６Ｃ（Ｏ）Ｆ、

、及びこれらの混合物が挙げられる。コスト及び入手性の観点から、ペルフルオロ化酸フルオライドが通常使用される。

提供される部分フッ素化ケトン化合物を調製するのに有用なフルオロ−及びペルフルオロビニルエーテルの代表例には、Ｃ_３Ｆ_７ＯＣＦ＝ＣＦ_２、Ｃ_３Ｆ_７ＯＣＦ（ＣＦ_３）ＣＦ_２ＯＣＦ＝ＣＦ_２、ＣＦ_３ＯＣＦ＝ＣＦ_２、Ｃ_４Ｆ_９ＯＣＦ＝ＣＦ_２、ＣＦ_３ＯＣ_３Ｆ_６ＯＣＦ＝ＣＦ_２、
Ｃ_２Ｆ_５ＯＣＦ＝ＣＦ_２、（ＣＦ_３）_２ＣＦＣＦ_２ＯＣＦ＝ＣＦ_２、Ｃ_５Ｆ_１１ＯＣＦ＝ＣＦ_２、
ＨＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２ＯＣＦ＝ＣＦ_２、ＣＨ_３ＯＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２ＯＣＦ＝ＣＦ_２、

、ＣＦ_２＝ＣＦＯＣ_４Ｆ_８ＯＣＦ＝ＣＦ_２、及びこれらの混合物が挙げられる。好ましいビニルエーテルとしては、Ｃ_３Ｆ_７ＯＣＦ＝ＣＦ_２、Ｃ_４Ｆ_９ＯＣＦ＝ＣＦ_２、ＣＦ_３ＯＣ_３Ｆ_６ＯＣＦ＝ＣＦ_２、ＣＦ_３ＯＣＦ＝ＣＦ_２、Ｃ_３Ｆ_７ＯＣＦ（ＣＦ_３）ＣＦ_２ＯＣＦ＝ＣＦ_２、ＣＦ_２＝ＣＦＯＣ_４Ｆ_８ＯＣＦ＝ＣＦ_２、及びこれらの混合物が挙げられる。Ｃ_３Ｆ_７ＯＣＦ＝ＣＦ_２、Ｃ_４Ｆ_９ＯＣＦ＝ＣＦ_２、及びこれらの混合物がより好ましい。（必要であれば、出発化合物の混合物を使用することが可能であるが、精製が必要となり得る生成物の混合物が結果として製造されるために、混合物は一般に、より好ましくない。）

好適な溶媒としては、グリコールエーテル溶媒（例えば、グリム、ジグリム、トリグリム、テトラグリムなど、及びこれらの混合物）などの無水極性非プロトン性溶媒、テトラヒドロフラン、ジメチルホルムアミド、ジメチルスルホキシド、スルホラン、アセトニトリルなど、及びこれらの混合物が挙げられる。典型的な溶媒としては、グリム、ジグリム、トリグリム、テトラグリム、ジメチルホルムアミド、及びこれらの混合物が挙げられ、グリム、ジグリム、ジメチルホルムアミド、及びこれらの混合物が特に好ましい。

提供される部分フッ素化ケトン化合物の調製において、アルキルアルデヒド、ペルフルオロ化ビニルエーテル、及び場合により溶媒は、任意の適切な反応器（例えば、金属反応器、通常はＰａｒｒ反応器などの圧力反応器）内で、任意の順で合わせることができる。次に、反応器を密封し、所望の反応温度（例えば、約７０℃〜８０℃、又は更には１００〜１５０℃）まで、自己圧力下にて、所望のレベルの転化率に達するのに十分な時間（例えば、約１６〜７２時間）、一般に反応器の内容物をかき混ぜる又は撹拌しながら、好ましくは温度制御しながら、加熱することができる。

反応完了後、反応器を冷却し、通気させ、内容物を任意の好適な分離方法にて精製することができる。例えば、得られた反応混合物を、濾過し、相分離し（例えば、溶媒及び触媒を除去するために）、洗浄溶媒で洗浄し（例えば、残留溶媒及び残留触媒を除去するためにアセトンで洗浄し）、相分離し（例えば、洗浄溶媒を除去するために）、回転蒸発及び／又は蒸留を行う（例えば、任意の残留揮発性物質を除去するため及び得られた部分フッ素化ケトン生成物を精製するために）ことができる。一部の実施形態において、生成物は、反応混合物から部分的に直接分別蒸留することができる。

提供される部分フッ素化ケトン化合物（又は通常は、それを含む、それからなる、若しくは基本的にそれからなる液体組成物である）は、様々な用途で使用することが可能である。例えば、この化合物は、ディスク又は回路基板のような電子物品の精密洗浄又は金属洗浄のための溶媒として、熱伝導剤（例えば、ハイブリッド車両の冷却用、及び半導体産業における集積回路装置の冷却又は加熱用であって、その装置には、ドライエッチャー、集積回路テスター、フォトリソグラフィ露光装置（ステッパー）、アッシャー、化学蒸着装置、自動テスト装置（プローバー）、及び物理蒸着装置（スパッター）が含まれる）として、発泡断熱材（例えば、ポリウレタン、フェノール樹脂、及び熱可塑性樹脂の発砲体）の製造におけるセルサイズ調節剤として、文書保存材料及び潤滑剤用のキャリア流体又は溶媒として、ヒートポンプ用などの動力循環加工流体として、ランキンサイクルエンジンの熱回収流体として、重合反応のための不活性媒体として、金属のような研磨表面からバフ研磨化合物を除去するためのバフ研磨剤として、宝石類又は金属部品からなどの水を除去するための置換乾燥剤として、塩素系現像剤を含む従来の回路製造技術におけるレジスト現像剤として、並びに、例えば、１，１，１−トリクロロエタン又はトリクロロエチレンなどの塩化炭化水素と併用する場合のフォトレジスト剥離剤として、使用できる。

提供される部分フッ素化ケトン化合物は、高い誘電強度（例えば、約１０^８オーム−ｃｍより大きい）を示すことができ、このことがこれらの化合物を半導体産業における用途に良く適したものにしている。部分フッ素化ケトン化合物は、予想外に高い熱安定性を示すことができ、半導体産業及びフラットスクリーンパネル製造での熱伝達用途などの高温での用途において特に有用であり得、１００℃超の沸点と共に良好な低温粘性を有する部分フッ素化ケトン化合物は、高温ヒートシンクと低温ヒートシンクとの間での循環が必要な用途で特に有用である。

提供される部分フッ素化ケトン化合物は、単独で、又は相互に若しくは他の一般的に使用される溶媒（例えば、アルコール、エーテル、アルカン、アルケン、ペルフルオロカーボン、ペルフルオロ化三級アミン、ペルフルオロエーテル、シクロアルカン、エステル、ケトン、芳香族化合物、シロキサン、ハイドロクロロカーボン、塩素化アルケン、ハイドロクロロフルオロカーボン、ハイドロフルオロカーボン、及びこれらの混合物）と混合して、使用することができる。かかる共溶媒は、特定の用途のために組成物の特性を修正する又は増強するように選択でき、また得られる組成物が好ましくは引火点を持たないような（共溶媒（複数可）と部分フッ素化ケトン（複数可）との）比率で用いることができる。所望により、部分フッ素化ケトン化合物は、単独で、又は提供される他の部分フッ素化ケトン化合物と組合せて使用することができる。

少量の任意構成成分を化合物に加えて、特定用途のための特定の所望の特性を付与することができる。有用な組成物は、例えば、界面活性剤、染色剤、安定剤、酸化防止剤、難燃剤など、及びこれらの混合物といった従来型添加剤を含むことができる。

部分フッ素化ケトン化合物は、例えば米国特許第５，１２５，０８９号（Ｆｌｙｎｎら）、同第３，９０３，０１２号（Ｂｒａｎｄｒｅｔｈ）、同第４，１６９，８０７号（Ｚｕｂｅｒ）、及び同第５，９２５，６１１号（Ｆｌｙｎｎら）に記載されているものなどの、洗浄及び乾燥用途の溶媒として有用である。有機基材及び無機基材は共に、それらを少なくとも１つの本発明の部分フッ素化ケトンを含む組成物と接触させることで洗浄できる。炭化水素汚染物質、フルオロカーボン汚染物質、微粒子、及び水を含む大部分の汚染物質を除去することができる。

（回路基板などの）物品表面から水を乾燥させる又は水を置換するための部分フッ素化ケトン化合物を使用する際には、例えば米国特許第５，１２５，９７８号（Ｆｌｙｎｎら）に記載されている乾燥プロセス又は水置換プロセスを用いることができる。概括的に、このようなプロセスは、少なくとも１つの本発明の部分フッ素化ケトン化合物を、一般的に非イオン性フルオロ脂肪族界面活性剤との混合体で含む液体組成物に物品表面を接触させることを含む。湿った物品を液体組成物に浸漬し、その中で撹拌すると、置換された水が液体組成物から分離され、結果として得られた水のない物品を液体組成物から取り出す。このプロセスの更なる説明及び処理可能な物品は、前述の米国特許第５，１２５，９７８号に見出すことができる。

提供される部分フッ素化ケトンを、（発泡ポリウレタンなどの）発泡プラスチックの製造においてセルサイズ調節剤として使用する場合は、例えば米国特許第５，２１０，１０６号（Ｄａｍｓら）及び同第５，５３９，００８号（Ｄａｍｓら）に記載されているプロセス反応物質及び反応条件を使用することができる。このような一プロセスは、少なくとも１つの発泡性ポリマー又は少なくとも１つの発泡性ポリマーの前駆体の存在下で、発泡剤混合物を蒸発させることを含み、発泡剤混合物は、少なくとも１つの提供される部分フッ素化ケトンを含む。

提供される部分フッ素化ケトンを熱伝導剤として使用する場合は、例えば米国再発行特許第３７，１１９ Ｅ（Ｓｈｅｒｗｏｏｄ）及び同第６，３７４，９０７号（Ｔｏｕｓｉｇｎａｎｔら）に記載されているプロセスを使用することができる。かかるプロセスの遂行において、熱は、熱源（例えば、シリコンウエハ又はフラットパネルディスプレイの構成要素）とヒートシンクとの間で、少なくとも１つの部分フッ素化ケトン化合物を含む熱伝導剤の使用を介して伝達される。提供される部分フッ素化ケトンは、広範にわたり多様な分子量の成分の混合物ではない。むしろ、部分フッ素化ケトンは、一般に単分散である（すなわち、単一分子量である）。このことは、それらの物理的特性が、ある期間にわたって比較的一定に保持され、それにより熱伝達性能の顕著な劣化が回避されることを意味する。加えて、提供される部分フッ素化ケトンは、一般に、広い液体領域、その領域全体における有用な粘度、最終用途温度での比較的高い熱安定性を示し、それらを伝熱流体としての使用に非常に適したものとする。

提供される部分フッ素化ケトン化合物をコーティング用途又は書類保存用途における付着溶媒として使用する場合は、例えば米国特許第５，９２５，６１１号（Ｆｌｙｎｎら）、及び同第６，０８０，４４８号（Ｌｅｉｎｅｒら）に記載されているプロセスが使用できる。基材（例えば、磁気記録媒体又はセルロース系物質）上にコーティングを堆積させるためのかかるプロセスは、基材の少なくとも１つの表面の少なくとも一部分に、（ａ）少なくとも１つの提供される部分フッ素化ケトン化合物を含む溶媒組成物と、（ｂ）溶媒組成物に可溶性又は分散性の少なくとも１つのコーティング材料とを含む組成物を適用することを含む。このプロセスによって付着し得るコーティング材料としては、顔料、潤滑剤、安定剤、接着剤、酸化防止剤、染料、ポリマー、医薬品、離型剤、無機酸化物、文書保存材料（例えば、紙の脱酸に使用されるアルカリ性材料）等、及びこれらの組合せが挙げられる。通常、材料としては、ペルフルオロポリエーテル、炭化水素、及びシリコーン潤滑剤、テトラフルオロエチレンの非晶質コポリマー、ポリテトラフルオロエチレン、文書保存材料、及びこれらの組合せが挙げられる。他の一部の有用な実施形態において、材料は、ペルフルオロポリエーテル潤滑剤、又は文書保存材料である。

切削又は研磨加工作業において提供される部分フッ素化ケトン化合物を使用する際には、例えば、米国特許第６，７５９，３７４号（Ｍｉｌｂｒａｔｈら）に記載されているプロセスを用いることができる。金属、サーメット、又は複合物加工は、金属、サーメット、又は複合部品及び工具に作動流体を適用することを含み、当該作動流体は、少なくとも１つの提供される部分フッ素化ケトン化合物と、少なくとも１つの潤滑添加剤とを含む。作動流体は、１つ以上の従来の添加剤（例えば、腐食防止剤、酸化防止剤、消泡剤、染料、殺菌剤、凝固点降下剤、金属不活性化剤、共溶媒、及び同様のもの、並びにこれらの混合物）を更に含むことができる。

提供される部分フッ素化ケトン化合物を重合媒体として使用する際には、例えば、Ｒｅｓｅａｒｃｈ Ｄｉｓｃｌｏｓｕｒｅｓ、第４０５７６号、第８１頁（１９９８年１月）、並びに、米国特許第５，１８２，３４２号（Ｆｅｉｒｉｎｇら）及び米国特許第６，３９９，７２９号（Ｆａｒｎｈａｍら）に記載されているプロセスを用いることができる。かかるプロセスは、少なくとも１つの単量体（好ましくは、少なくとも１つの含フッ素単量体）を、少なくとも１つの重合開始剤及び少なくとも１つの提供される部分フッ素化ケトン化合物の存在下で重合させることを含む。

本発明の目的及び利点は、以下の実施例によって更に例示されるが、これらの実施例において列挙される特定の材料及びその量は、他の諸条件及び詳細と同様に本発明を過度に制限するものと解釈されるべきではない。

（実施例１）
３，３，４−トリフルオロ−４−（１，１，２，２，３，３，４，４，４−ノナフルオロブトキシ）ブタン−２−オンの調製ＣＨ_３Ｃ（Ｏ）ＣＦ_２ＣＦＨＯＣ_４Ｆ_９
米国特許出願公開第２００８／０１３９６８３号（Ｆｌｙｎｎら）に記載されている方法によって調製することができる１，１，１，２，２，３，３，４，４−ノナフルオロ−４−（１，２，２−トリフルオロビニルオキシ）ブタン（１８０ｇ、０．５７モル）を、６００ｍＬのＰａｒｒ圧力反応器内で、アセトアルデヒド（５０．１７ｇ、１．１４モル、Ｓｉｇｍａ−Ａｌｄｒｉｃｈ（Ｓｔ．Ｌｏｕｉｓ，ＭＯ））、及びｔ−アミルペルオキシ−２−エチルヘキサノエート（４ｇ、０．０１７モル、Ｕｎｉｔｅｄ Ｉｎｉｔｉａｔｏｒｓ（Ｐｕｌｌａｃｈ，Ｇｅｒｍａｎｙ））と合わせた。この混合物を１８時間かけて７５℃に加熱した。その後、反応混合物をＧＣ−ＦＩＤによって分析し、これは、生成物に対して少なくとも６４％の反応転化を示した。粗生成物のＧＣ／ＭＳの分析では、所望の生成物の質量が主成分として存在することを確認した。生成物を分別蒸留によって精製して、９９．４％の純度とした。生成物の沸点は、大気圧で１３０℃であった。

（実施例２）
３，３，４−トリフルオロ−４−［１，１，２，２，３，３−ヘキサフルオロ−３−（２，２，３，３，５，５，６，６−オクタフルオロモルホリン−４−イル）プロポキシ］ブタン−２−オンの調製。

アクリル酸メチルとモルホリンとのマイケル付加反応を行って、３−モルホリノプロパン酸メチルを生成した。この有機エステルを、米国特許第２，７１３，５９３号（Ｂｒｉｃｅら）、及びＲ．Ｅ．Ｂａｎｋｓ，Ｐｒｅｐａｒａｔｉｏｎ，Ｐｒｏｐｅｒｔｉｅｓ ａｎｄ Ｉｎｄｕｓｔｒｉａｌ Ａｐｐｌｉｃａｔｉｏｎｓ ｏｆ Ｏｒｇａｎｏｌｕｏｒｉｎｅ Ｃｏｍｐｏｕｎｄｓ，第１９〜４３頁，Ｈａｌｓｔｅｄ Ｐｒｅｓｓ（Ｎｅｗ Ｙｏｒｋ）（１９８２）に本質的に記載されている種類のＳｉｍｏｎｓ ＥＣＦセルにおける電解フッ素化（ＥＣＦ）によって、ペルフルオロ化アシルフルオライドに変換して、２，２，３，３−テトラフルオロ−３−（２，２，３，３，５，５，６，６−オクタフルオロモルホリン−４−イル）プロパノイルフルオライドを生成した。

ヘキサフルオロプロペンオキシド（ＨＦＰＯ）（８９．６ｇ、０．５４モル、３Ｍ Ｃｏｍｐａｎｙ）を、６００ｍＬのＰａｒｒ圧力反応器内で、ジグリム溶媒（５６ｇ）及びフッ化カリウム（４ｇ、０．０６９モル、Ａｌｄｒｉｃｈ）の溶液中でアシルフルオライド（２０５ｇ、０．５４モル）に加えた。反応器の温度を１６℃よりも低い温度に維持し、添加中、ＨＦＰＯの圧力を６９ｋＰａ以下に維持した。ＨＦＰＯ添加が完了した際に、反応器の内容物を空にした。ＧＣ−ＦＩＤによる分析は、この回収量の７６％がモノ付加生成物であり、８．８％がジ付加物であることを示した。その後、モノ付加物を、分別蒸留によってジ付加物から分離した。２，３，３，３−テトラフルオロ−２−［１，１，２，２，３，３−ヘキサフルオロ−３−（２，２，３，３，５，５，６，６−オクタフルオロモルホリン−４−イル）プロポキシ］プロパノイルフルオライド（２７０ｇ、０．４９モル）を、オーバーヘッド撹拌、加熱マントル、熱電対、及び冷水コンデンサーを備えた２Ｌ丸底フラスコ中において７５℃にて添加漏斗を介して、オーブンで乾燥させた炭酸ナトリウム（１０３ｇ、０．９８モル、Ａｌｄｒｉｃｈ）及び無水ジグリム（４００ｇ、Ａｌｄｒｉｃｈ）と合わせた。この混合物は、窒素バブラーによって乾燥状態を維持させた。この混合物を７５℃で１８時間撹拌した。ワンプレート蒸留カラム（one-plate distillation column）を、還流ラインに代えて置き、生成物を、１５０℃まで徐々に加熱することによって、混合物から蒸留した。およそ１２３ｇの２，２，３，３，５，５，６，６−オクタフルオロ−４−［１，１，２，２，３，３−ヘキサフルオロ−３−（１，２，２−トリフルオロビニルオキシ）プロピル］モルホリンビニルエーテルを、この蒸留から回収した。

２，２，３，３，５，５，６，６−オクタフルオロ−４−［１，１，２，２，３，３−ヘキサフルオロ−３−（１，２，２−トリフルオロビニルオキシ）プロピル］モルホリン（１２３ｇ、０．２６モル）を、６００ｍＬのＰａｒｒ圧力反応器内で、アセトアルデヒド（２３ｇ、０．５２モル、Ａｌｄｒｉｃｈ）及びｔ−アミルペルオキシ−２−エチルヘキサノエート（５ｇ、Ｕｎｉｔｅｄ Ｉｎｉｔｉａｔｏｒｓ）と合わせた。反応器を密封し、１８時間かけて７５℃に加熱した。その後、反応混合物を空にし、ＧＣ／ＭＳによって分析し、主成分が、３，３，４−トリフルオロ−４−［１，１，２，２，３，３−ヘキサフルオロ−３−（２，２，３，３，５，５，６，６−オクタフルオロモルホリン−４−イル）プロポキシ］ブタン−２−オンであることを確認した。

（実施例３）
３，３，４−トリフルオロ−４−［１，１，２，２，３，３，４，４−オクタフルオロ−４−（１，２，２−トリフルオロ−３−オキソ−ブトキシ）ブトキシ］ブタン−２−オンの調製

１，１，２，２，３，３，４，４−オクタフルオロ−１，４−ビス（１，２，２−トリフルオロビニルオキシ）ブタンの調製
別途記載のない限り、全ての溶媒及び試薬は、Ａｌｄｒｉｃｈ Ｃｈｅｍｉｃａｌ Ｃｏ．（Ｍｉｌｗａｕｋｅｅ，ＷＩ）から入手した。

テトラフルオロスクシニルフルオライドの調製
米国特許第２，７１３，５９３号（Ｂｒｉｃｅら）、及び、Ｒ．Ｅ．Ｂａｎｋｓ，Ｐｒｅｐａｒａｔｉｏｎ ａｎｄ Ｉｎｄｕｓｔｒｉａｌ Ａｐｐｌｉｃａｔｉｏｎｓ ｏｆ Ｏｒｇａｎｏｆｌｕｏｒｉｎｅ Ｃｏｍｐｏｕｎｄｓ，第１９〜４３頁（１９８２）に記載されている種類のＳｉｍｏｎｓ ＥＣＦセル内におけるブチロラクトンの電解フッ素化によって、テトラフルオロスクシニルフルオライドを調製した。セルからのガス状生成物を分別蒸留により更に精製して、８３％のテトラフルオロスクシニルフルオライド、２％のテトラフルオロメチルマロニルフルオライド、７％の３−トリフルオロメトキシテトラフルオロプロピオニルフルオライドを得、残部は、ペルフルオロ化不活性物質であった。この混合物は、更なる精製をせずに後続の反応に使用することができた。本明細書で使用するとき、「ペルフルオロスクシニルフルオライド」という用語は、先に説明したばかりのテトラフルオロスクシニルフルオライド、テトラフルオロメチルマロニルフルオライド、及び３−トリフルオロメトキシテトラフルオロプロピオニルフルオライドの混合物を指す。

ペルフルオロスクシニルフルオライド、
ＦＯＣ（ＣＦ３）ＣＦ［ＯＣＦ２（ＣＦ３）ＣＦ］ｍＯＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２Ｏ［ＣＦ（ＣＦ３）ＣＦ２Ｏ］ｎＣＦ（ＣＦ３）ＣＯＦのＨＦＰＯ付加物の調製
６００ｍＬのステンレス鋼被覆Ｐａｒｒ圧力反応器に、噴霧乾燥フッ化カリウム（１．６グラム、０．０２７モル）、及び無水ジグリム（２７．０グラム）を充填した。容器を密封し、−２５℃まで冷却し、ペルフルオロスクシニルフルオライド（２００グラム、０．９３４モル）を充填し、加温して１３℃に制御した。ヘキサフルオロプロペンオキシド（５７０グラム、３．４３モル）を、ほぼ一定の添加速度で２７時間かけて加えた。この混合物を更に１時間反応させ、７９０グラムの少ない生成物相を、次に示す組成で回収した。

ジビニルエーテル、ＣＦ_２＝ＣＦ［ＯＣＦ_２（ＣＦ_３）ＣＦ］_ｍＯＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２Ｏ［ＣＦ（ＣＦ_３）ＣＦ_２Ｏ］_ｎＣＦ＝ＣＦ_２ｍ＋ｎ＝０〜２の調製
撹拌、加熱マントル、熱電対温度調節、１００ｍＬの弾丸トラップ、及び窒素バブラーに接続したコンデンサーを備えた、１Ｌ丸底フラスコに、無水炭酸ナトリウム（８５グラム、０．８０モル）、及び無水ジグリム（２３６グラム）を充填した。容器を加熱して、９５グラムの湿ったジグリムを蒸留した。反応器を７５℃まで冷却し、２３０グラムのＨＦＰＯ付加物を１５分間かけて充填した。１１０℃で１時間保持した後、バッチを１５８℃まで加熱して、蒸留液を回収した。水洗浄によって、次に示す成分を含有する１０５グラムの生成物を得た。
ＣＦ_２＝ＣＦ［ＯＣＦ_２（ＣＦ_３）ＣＦ］_ｍＯＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２Ｏ［ＣＦ（ＣＦ_３）ＣＦ_２Ｏ］_ｎＣＦ＝ＣＦ_２ｍ＋ｎ＝０〜２

６００ｍＬのＰａｒｒ圧力反応器内で、１，１，２，２，３，３，４，４−オクタフルオロ−１，４−ビス（１，２，２−トリフルオロビニルオキシ）ブタン（１８ｇ、ｍ＋ｎ＝０）を、１１９ｇのアセトアルデヒド、及び６ｇのアミルペルオキシ−２−エチルヘキサノエートと合わせた。この混合物を１８時間かけて７５℃に加熱した後、反応器の内容物を空にし、ＧＣ／ＭＳによって分析した。この分析により、主成分が、所望の３，３，４−トリフルオロ−４−［１，１，２，２，３，３，４，４−オクタフルオロ−４−（１，２，２−トリフルオロ−３−オキソ−ブトキシ）ブトキシ］ブタン−２−オンであることを確認した。

（実施例４）
３，３，４−トリフルオロ−４−（１，１，２，３，３，３−ヘキサフルオロ−２−ヘプタフルオロプロピルオキシ−プロポキシ）−ブタン−２−オンの調製

１，１，１，２，２，３，３−ヘプタフルオロ−３−（１，２，２−トリフルオロ−１−トリフルオロメチル−２−トリフルオロビニルオキシ−エトキシ）−プロパン（２０８グラム、０．４８１モル）、アセトアルデヒド（４３．６グラム、０．９９１モル）、ベンゾイルペルオキシド（１．０ｇ、０．００４モル）を、６００ｍＬのＰａｒｒ反応器に充填した。反応器をドライアイスで冷却し、水流吸引器を使用して真空にした。反応器を８０℃まで加熱し、１６時間撹拌した。圧力は最大８０ｐｓｉｇまで上昇し、１６時間後に１７２ｋＰａまで低下した。反応器を室温まで冷却し、過剰圧力を放出させた。１０プレートＯｌｄｅｒｓｈａｗカラムを使用して、反応器の内容物を分別蒸留して、９９．４％の純度を有する、１４３．６グラムの３，３，４−トリフルオロ−４−（１，１，２，３，３，３−ヘキサフルオロ−２−ヘプタフルオロプロピルオキシ−プロポキシ）−ブタン−２−オンを得た。構造をｇ．ｃ．／ｍ．ｓ．によって確認した。沸点は１５６℃である。

本発明の態様による部分フッ素化ケトン、並びにその製造方法及び使用方法の例示的な実施形態を以下に示す。

実施形態１は、部分フッ素化ケトン化合物であって、部分フッ素化炭化水素部分が結合されたカルボニル基に結合した１〜６個の炭素原子を有する末端アルキル基であって、部分フッ素化炭化水素部分が、２〜４個の炭素原子を有しかつ少なくとも１つの水素置換基を含有する、末端アルキル基と、カルボニル基から少なくとも２炭素原子離れた炭素原子に結合したエーテル酸素と、フッ素化アルキル基であって、フッ素化アルキル基が、１〜１０個の炭素原子を有し、部分フッ素化炭化水素部分のエーテル酸素に結合し、
少なくとも１個の鎖状に連結された酸素原子又は窒素原子を含有してもよいフッ素化アルキル基と、を含む、部分フッ素化ケトン化合物である。

実施形態２は、末端アルキル基が、直鎖、分枝鎖、環式、又はこれらの組合せである、実施形態１による部分フッ素化ケトン化合物である。

実施形態３は、末端アルキル基が直鎖である、実施形態２による部分フッ素化ケトン化合物である。

実施形態４は、末端アルキル基がエチル又はメチルである、実施形態３による部分フッ素化ケトン化合物である。

実施形態５は、部分フッ素化炭化水素部分が、カルボニル基に結合された（−ＣＦ_２−）を有する（−ＣＦ_２ＣＦＨ−）を含む、実施形態１による部分フッ素化ケトン化合物である。

実施形態６は、フッ素化アルキル基がペルフルオロ化されている、実施形態１による部分フッ素化ケトン化合物である。

実施形態７は、２つの末端アルキル基と、２つの部分フッ素化炭化水素部分と、フッ素化アルキレン基と、を含み、双方の部分フッ素化炭化水素部分が、フッ素化アルキル基に直接結合され、かつ、部分フッ素化炭化水素部分がそれぞれ、１つの末端アルキル基に結合されている、実施形態１による部分フッ素化ケトン化合物である。

実施形態８は、部分フッ素化ケトン化合物が、Ｃ_３Ｆ_７ＯＣＦＨＣＦ_２Ｃ（Ｏ）ＣＨ_３、Ｃ_３Ｆ_７ＯＣＦ（ＣＦ_３）ＣＦ_２ＯＣＦＨＣＦ_２Ｃ（Ｏ）ＣＨ_３、ＣＦ_３ＯＣＦＨＣＦ_２Ｃ（Ｏ）ＣＨ_３、Ｃ_４Ｆ_９ＯＣＦＨＣＦ_２Ｃ（Ｏ）ＣＨ_３、ＣＦ_３ＯＣ_３Ｆ_６ＯＣＦＨＣＦ_２Ｃ（Ｏ）ＣＨ_３、Ｃ_２Ｆ_５ＯＣＦＨＣＦ_２Ｃ（Ｏ）ＣＨ_３、（ＣＦ_３）_２ＣＦＣＦ_２ＯＣＦＨＣＦ_２Ｃ（Ｏ）ＣＨ_３、Ｃ_５Ｆ_１１ＯＣＦＨＣＦ_２Ｃ（Ｏ）ＣＨ_３、ＨＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２ＯＣＦＨＣＦ_２Ｃ（Ｏ）ＣＨ_３、ＣＨ_３ＯＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２ＯＣＦＨＣＦ_２Ｃ（Ｏ）ＣＨ_３、

、ＣＨ_３Ｃ（Ｏ）ＣＦ_２ＣＦＨＯＣ_４Ｆ_８ＯＣＦＨＣＦ_２Ｃ（Ｏ）ＣＨ_３、Ｃ_３Ｆ_７ＯＣＦＨＣＦ_２Ｃ（Ｏ）ＣＨ_２ＣＨ_３、Ｃ_３Ｆ_７ＯＣＦＨＣＦ_２Ｃ（Ｏ）ＣＨ_２ＣＨ_２ＣＨ_３、Ｃ_３Ｆ_７ＯＣＦＨＣＦ_２Ｃ（Ｏ）ＣＨ（ＣＨ_３）_２、
Ｃ_４Ｆ_９ＯＣＦＨＣＦ_２Ｃ（Ｏ）ＣＨ_２ＣＨ_３、Ｃ_４Ｆ_９ＯＣＦＨＣＦ_２Ｃ（Ｏ）ＣＨ_２ＣＨ_２ＣＨ_３、Ｃ_４Ｆ_９ＯＣＦＨＣＦ_２Ｃ（Ｏ）ＣＨ（ＣＨ_３）_２、ＣＦ_３ＯＣ_３Ｆ_６ＯＣＦＨＣＦ_２Ｃ（Ｏ）ＣＨ_２ＣＨ_３、ＣＦ_３ＯＣ_３Ｆ_６ＯＣＦＨＣＦ_２Ｃ（Ｏ）ＣＨ_２ＣＨ_２ＣＨ_３、ＣＦ_３ＯＣ_３Ｆ_６ＯＣＦＨＣＦ_２Ｃ（Ｏ）ＣＨ（ＣＨ_３）_２、ＣＦ_３ＯＣＦＨＣＦ_２Ｃ（Ｏ）ＣＨ_２ＣＨ_３、ＣＦ_３ＯＣＦＨＣＦ_２Ｃ（Ｏ）ＣＨ_２ＣＨ_２ＣＨ_３、ＣＦ_３ＯＣＦＨＣＦ_２Ｃ（Ｏ）ＣＨ（ＣＨ_３）_２、Ｃ_３Ｆ_７ＯＣＦ（ＣＦ_３）ＣＦ_２ＯＣＦＨＣＦ_２Ｃ（Ｏ）ＣＨ_２ＣＨ_３、Ｃ_３Ｆ_７ＯＣＦ（ＣＦ_３）ＣＦ_２ＯＣＦＨＣＦ_２Ｃ（Ｏ）ＣＨ_２ＣＨ_２ＣＨ_３、Ｃ_３Ｆ_７ＯＣＦ（ＣＦ_３）ＣＦ_２ＯＣＦＨＣＦ_２Ｃ（Ｏ）ＣＨ（ＣＨ_３）_２、ＣＨ_３ＣＨ_２（Ｏ）ＣＣＦ２ＣＦＨＯＣ_４Ｆ_８ＯＣＦＨＣＦ_２Ｃ（Ｏ）ＣＨ_２ＣＨ_３、ＣＨ_３ＣＨ_２ＣＨ_２Ｃ（Ｏ）ＣＦ_２ＣＦＨＯＣ_４Ｆ_８ＯＣＦＨＣＦ_２Ｃ（Ｏ）ＣＨ_２ＣＨ_２ＣＨ_３、（ＣＨ_３）_２ＣＨ（Ｏ）ＣＣＦ_２ＣＦＨＯＣ_４Ｆ_８ＯＣＦＨＣＦ_２Ｃ（Ｏ）ＣＨ（ＣＨ_３）_２、

及びこれらの混合物からなる群より選択される、実施形態１による部分フッ素化ケトン化合物である。

実施形態９は、式
Ｒ_ＨＣ（＝Ｏ）ＣＦ_２ＣＦＨＯＲ_ｆ、又は
Ｒ_Ｈ ^１Ｃ（＝Ｏ）ＣＦ_２ＣＦＨＯＲ_ｆＯＣＦＨＣＦ_２Ｃ（＝Ｏ）Ｒ_Ｈ ^２
（式中、各Ｒ_Ｈ、Ｒ_Ｈ ^１及びＲ_Ｈ ^２は独立して、１〜４個の炭素原子を有するアルキル基であり、Ｒ_ｆは、１〜６個の炭素原子を有するフッ素化アルキル部分である）を有する、部分フッ素化ケトンである。

実施形態１０は、各Ｒ_Ｈ、Ｒ_Ｈ ^１及びＲ_Ｈ ^２が独立して、直鎖、分枝鎖、環式、又はこれらの組合せである、実施形態９による部分フッ素化ケトンである。

実施形態１１は、各Ｒ_Ｈ、Ｒ_Ｈ ^１及びＲ_Ｈ ^２が独立して直鎖である、実施形態１０による部分フッ素化ケトンである。

実施形態１２は、各Ｒ_Ｈ、Ｒ_Ｈ ^１及びＲ_Ｈ ^２が独立してエチル又はメチルである、実施形態１１による部分フッ素化ケトンである。

実施形態１３は、Ｒ_ｆがペルフルオロ化されている、実施形態１１による部分フッ素化ケトンである。

実施形態１４は、Ｒ_Ｈ、Ｒ_Ｈ ^１、Ｒ_Ｈ ^２及びＲ_ｆのうちの少なくとも１つが、少なくとも１個の鎖状に連結された窒素原子又は酸素原子を含む、実施形態１１による部分フッ素化ケトンである。

実施形態１５は、Ｒ_Ｈがメチルであり、Ｒ_ｆが

から選択される、実施形態１１による部分フッ素化ケトンである。

実施形態１６は、Ｒ_Ｈ ^１及びＲ_Ｈ ^２がそれぞれメチルであり、Ｒ_ｆが、−ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２−である、実施形態１１による部分フッ素化ケトンである。

実施形態１７は、物品から汚染物を除去するプロセスであって、前記物品と、少なくとも１つの実施形態１の部分フッ素化ケトン化合物を含む組成物とを接触させることを含む、プロセスである。

実施形態１８は、少なくとも１つの発泡性ポリマー又は少なくとも１つの発泡性ポリマーの前駆体の存在下で、発泡剤混合物を蒸発させることを含む、発泡プラスチックを調製するプロセスであって、発泡剤混合物が、少なくとも１つの実施形態１の部分フッ素化ケトン化合物を含む、プロセスである。

実施形態１９は、少なくとも１つの実施形態１の部分フッ素化ケトン化合物を含む熱伝達剤の使用を介して、熱源とヒートシンクとの間で熱を伝達することを含む、熱を伝達するプロセスである。

実施形態２０は、コーティングを基材上に堆積させるプロセスであって、基材の少なくとも１つの表面の少なくとも一部分に、（ａ）少なくとも実施形態１の部分フッ素化ケトン化合物を含む溶媒組成物と、（ｂ）前記溶媒組成物中に可溶性又は分散性の少なくとも１つのコーティング材料とを含む組成物を適用することを含む、プロセスである。

実施形態２１は、少なくとも１つの重合開始剤及び少なくとも１つの実施形態１の部分フッ素化ケトン化合物の存在下で、少なくとも１つの単量体を重合させることを含む、重合プロセスである。

実施形態２２は、部分フッ素化ケトンの調製方法であって、フリーラジカル開始剤を使用して、ペルフルオロ化ビニルエーテルと、２〜６個の炭素原子を含むアルキル基を有するアルキルアルデヒドとを反応させて、少なくとも１つの部分フッ素化ケトンを生成することを含み、ペルフルオロ化ビニルエーテルが、部分フッ素化炭化水素部分であって、部分フッ素化炭化水素部分が、２〜４個の炭素原子を有し、少なくとも１つの水素置換基を含有し、炭素−炭素結合によってカルボニル基に結合した、部分フッ素化炭化水素部分と、カルボニル基から少なくとも２炭素原子離れた炭素原子に結合したエーテル酸素と、フッ素化アルキル基であって、フッ素化アルキル基が、１〜１０個の炭素原子を有し、部分フッ素化炭化水素部分のエーテル酸素に結合し、少なくとも１個の鎖状に連結された酸素原子又は窒素原子を含有してもよいフッ素化アルキル基と、を含む、調製方法である。

本発明の範囲及び趣旨から逸脱することなく、本発明の様々な改変及び変更が当業者には明らかとなるであろう。本発明は、本明細書に記載される例示的な実施形態及び実施例によって不当に限定されるものではない点、また、こうした実施例及び実施形態はあくまで例示を目的として示されるにすぎないのであって、本発明の範囲は本明細書において以下に記載する「特許請求の範囲」によってのみ限定されるものである点を理解すべきである。本開示に引用される参照文献は全て、その全体が本明細書に組み込まれる。

Claims (22)

1. 部分フッ素化ケトン化合物であって、
   部分フッ素化炭化水素部分が結合されたカルボニル基に結合した１〜６個の炭素原子を有する末端アルキル基であって、
   前記部分フッ素化炭化水素部分が、２〜４個の炭素原子を有しかつ少なくとも１つの水素置換基を含有する、末端アルキル基と、
   前記カルボニル基から少なくとも２炭素原子離れた炭素原子に結合したエーテル酸素と、
   フッ素化アルキル基であって、前記フッ素化アルキル基が、１〜１０個の炭素原子を有し、前記部分フッ素化炭化水素部分のエーテル酸素に結合し、
   少なくとも１個の鎖状に連結された酸素原子又は窒素原子を含有してもよいフッ素化アルキル基と、を含む、部分フッ素化ケトン化合物。
2. 前記末端アルキル基が、直鎖、分枝鎖、環式、又はこれらの組合せである、請求項１に記載の部分フッ素化ケトン化合物。
3. 前記末端アルキル基が直鎖である、請求項２に記載の部分フッ素化ケトン化合物。
4. 前記末端アルキル基がエチル又はメチルである、請求項３に記載の部分フッ素化ケトン化合物。
5. 前記部分フッ素化炭化水素部分が、前記カルボニル基に結合された（−ＣＦ_２−）を有する（−ＣＦ_２ＣＦＨ−）を含む、請求項１に記載の部分フッ素化ケトン化合物。
6. 前記フッ素化アルキル基がペルフルオロ化されている、請求項１に記載の部分フッ素化ケトン化合物。
7. ２つの末端アルキル基と、２つの部分フッ素化炭化水素部分と、フッ素化アルキレン基と、を含み、双方の部分フッ素化炭化水素部分が、前記フッ素化アルキレン基に直接結合され、
   各部分フッ素化炭化水素部分が、１つの末端アルキル基に結合されている、請求項１に記載の部分フッ素化ケトン化合物。
8. 前記部分フッ素化ケトン化合物が、Ｃ_３Ｆ_７ＯＣＦＨＣＦ_２Ｃ（Ｏ）ＣＨ_３、Ｃ_３Ｆ_７ＯＣＦ（ＣＦ_３）ＣＦ_２ＯＣＦＨＣＦ_２Ｃ（Ｏ）ＣＨ_３、ＣＦ_３ＯＣＦＨＣＦ_２Ｃ（Ｏ）ＣＨ_３、Ｃ_４Ｆ_９ＯＣＦＨＣＦ_２Ｃ（Ｏ）ＣＨ_３、ＣＦ_３ＯＣ_３Ｆ_６ＯＣＦＨＣＦ_２Ｃ（Ｏ）ＣＨ_３、Ｃ_２Ｆ_５ＯＣＦＨＣＦ_２Ｃ（Ｏ）ＣＨ_３、（ＣＦ_３）_２ＣＦＣＦ_２ＯＣＦＨＣＦ_２Ｃ（Ｏ）ＣＨ_３、Ｃ_５Ｆ_１１ＯＣＦＨＣＦ_２Ｃ（Ｏ）ＣＨ_３、ＨＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２ＯＣＦＨＣＦ_２Ｃ（Ｏ）ＣＨ_３、ＣＨ_３ＯＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２ＯＣＦＨＣＦ_２Ｃ（Ｏ）ＣＨ_３、
   

   

   
   、ＣＨ_３Ｃ（Ｏ）ＣＦ_２ＣＦＨＯＣ_４Ｆ_８ＯＣＦＨＣＦ_２Ｃ（Ｏ）ＣＨ_３、Ｃ_３Ｆ_７ＯＣＦＨＣＦ_２Ｃ（Ｏ）ＣＨ_２ＣＨ_３、Ｃ_３Ｆ_７ＯＣＦＨＣＦ_２Ｃ（Ｏ）ＣＨ_２ＣＨ_２ＣＨ_３、Ｃ_３Ｆ_７ＯＣＦＨＣＦ_２Ｃ（Ｏ）ＣＨ（ＣＨ_３）_２、
   Ｃ_４Ｆ_９ＯＣＦＨＣＦ_２Ｃ（Ｏ）ＣＨ_２ＣＨ_３、Ｃ_４Ｆ_９ＯＣＦＨＣＦ_２Ｃ（Ｏ）ＣＨ_２ＣＨ_２ＣＨ_３、Ｃ_４Ｆ_９ＯＣＦＨＣＦ_２Ｃ（Ｏ）ＣＨ（ＣＨ_３）_２、ＣＦ_３ＯＣ_３Ｆ_６ＯＣＦＨＣＦ_２Ｃ（Ｏ）ＣＨ_２ＣＨ_３、ＣＦ_３ＯＣ_３Ｆ_６ＯＣＦＨＣＦ_２Ｃ（Ｏ）ＣＨ_２ＣＨ_２ＣＨ_３、ＣＦ_３ＯＣ_３Ｆ_６ＯＣＦＨＣＦ_２Ｃ（Ｏ）ＣＨ（ＣＨ_３）_２、ＣＦ_３ＯＣＦＨＣＦ_２Ｃ（Ｏ）ＣＨ_２ＣＨ_３、ＣＦ_３ＯＣＦＨＣＦ_２Ｃ（Ｏ）ＣＨ_２ＣＨ_２ＣＨ_３、ＣＦ_３ＯＣＦＨＣＦ_２Ｃ（Ｏ）ＣＨ（ＣＨ_３）_２、Ｃ_３Ｆ_７ＯＣＦ（ＣＦ_３）ＣＦ_２ＯＣＦＨＣＦ_２Ｃ（Ｏ）ＣＨ_２ＣＨ_３、Ｃ_３Ｆ_７ＯＣＦ（ＣＦ_３）ＣＦ_２ＯＣＦＨＣＦ_２Ｃ（Ｏ）ＣＨ_２ＣＨ_２ＣＨ_３、Ｃ_３Ｆ_７ＯＣＦ（ＣＦ_３）ＣＦ_２ＯＣＦＨＣＦ_２Ｃ（Ｏ）ＣＨ（ＣＨ_３）_２、ＣＨ_３ＣＨ_２（Ｏ）ＣＣＦ２ＣＦＨＯＣ_４Ｆ_８ＯＣＦＨＣＦ_２Ｃ（Ｏ）ＣＨ_２ＣＨ_３、ＣＨ_３ＣＨ_２ＣＨ_２Ｃ（Ｏ）ＣＦ_２ＣＦＨＯＣ_４Ｆ_８ＯＣＦＨＣＦ_２Ｃ（Ｏ）ＣＨ_２ＣＨ_２ＣＨ_３、（ＣＨ_３）_２ＣＨ（Ｏ）ＣＣＦ_２ＣＦＨＯＣ_４Ｆ_８ＯＣＦＨＣＦ_２Ｃ（Ｏ）ＣＨ（ＣＨ_３）_２、
   

   

   
   及びこれらの混合物からなる群より選択される、請求項１に記載の部分フッ素化ケトン化合物。
9. 式
   Ｒ_ＨＣ（＝Ｏ）ＣＦ_２ＣＦＨＯＲ_ｆ、又は
   Ｒ_Ｈ ^１Ｃ（＝Ｏ）ＣＦ_２ＣＦＨＯＲ_ｆＯＣＦＨＣＦ_２Ｃ（＝Ｏ）Ｒ_Ｈ ^２
   （式中、各Ｒ_Ｈ、Ｒ_Ｈ ^１及びＲ_Ｈ ^２は独立して、１〜４個の炭素原子を有するアルキル基であり、
   Ｒ_ｆは、１〜６個の炭素原子を有するフッ素化アルキル部分である）を有する、部分フッ素化ケトン。
10. 各Ｒ_Ｈ、Ｒ_Ｈ ^１及びＲ_Ｈ ^２が独立して、直鎖、分枝鎖、環式、又はこれらの組合せである、請求項９に記載の部分フッ素化ケトン。
11. 各Ｒ_Ｈ、Ｒ_Ｈ ^１及びＲ_Ｈ ^２が独立して直鎖である、請求項１０に記載の部分フッ素化ケトン。
12. 各Ｒ_Ｈ、Ｒ_Ｈ ^１及びＲ_Ｈ ^２が独立してエチル又はメチルである、請求項１１に記載の部分フッ素化ケトン。
13. Ｒ_ｆがペルフルオロ化されている、請求項１１に記載の部分フッ素化ケトン。
14. Ｒ_Ｈ、Ｒ_Ｈ ^１、Ｒ_Ｈ ^２及びＲ_ｆのうちの少なくとも１つが、少なくとも１個の鎖状に連結された窒素原子又は酸素原子を含む、請求項１１に記載の部分フッ素化ケトン。
15. Ｒ_Ｈがメチルであり、Ｒ_ｆが
    

    

    
    から選択される、請求項１１に記載の部分フッ素化ケトン。
16. Ｒ_Ｈ ^１及びＲ_Ｈ ^２がそれぞれメチルであり、Ｒ_ｆが、−ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２−
    である、請求項１１に記載の部分フッ素化ケトン。
17. 物品から汚染物を除去するプロセスであって、前記物品と、少なくとも１つの請求項１に記載の部分フッ素化ケトンを含む組成物とを接触させることを含む、プロセス。
18. 少なくとも１つの発泡性ポリマー又は少なくとも１つの発泡性ポリマーの前駆体の存在下で、発泡剤混合物を蒸発させることを含む、発泡プラスチックを調製するプロセスであって、前記発泡剤混合物が、少なくとも１つの請求項１に記載の部分フッ素化ケトン化合物を含む、プロセス。
19. 少なくとも１つの請求項１に記載の部分フッ素化ケトン化合物を含む熱伝達剤の使用を介して、熱源とヒートシンクとの間で熱を伝達することを含む、熱を伝達するプロセス。
20. コーティングを基材上に堆積させるプロセスであって、
    前記基材の少なくとも１つの表面の少なくとも一部分に、（ａ）少なくとも、請求項１に記載の部分フッ素化ケトン化合物を含む溶媒組成物と、（ｂ）前記溶媒組成物に可溶性又は分散性の少なくとも１つのコーティング材料とを含む組成物を適用することを含む、プロセス。
21. 少なくとも１つの重合開始剤及び少なくとも１つの請求項１に記載の部分フッ素化ケトン化合物の存在下で、少なくとも１つのモノマーを重合させることを含む、重合プロセス。
22. 部分フッ素化ケトンの調製方法であって、
    フリーラジカル開始剤を使用して、ペルフルオロ化ビニルエーテルと、２〜６個の炭素原子を含むアルキル基を有するアルキルアルデヒドとを反応させて、少なくとも１つの部分フッ素化ケトンを生成することを含み、
    前記ペルフルオロ化ビニルエーテルが、部分フッ素化炭化水素部分であって、前記部分フッ素化炭化水素部分が、２〜４個の炭素原子を有し、少なくとも１つの水素置換基を含有し、炭素−炭素結合によってカルボニル基に結合した、部分フッ素化炭化水素部分と、前記カルボニル基から少なくとも２炭素原子離れた炭素原子に結合したエーテル酸素と、
    フッ素化アルキル基であって、前記フッ素化アルキル基が、１〜１０個の炭素原子を有し、前記部分フッ素化炭化水素部分のエーテル酸素に結合し、
    少なくとも１個の鎖状に連結された酸素原子又は窒素原子を含有してもよいフッ素化アルキル基と、を含む、調製方法。