JP2014527295A - Touch display device and manufacturing method thereof - Google Patents

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Abstract

本発明はタッチディスプレイ装置及びその製造方法を開示しており、そのディスプレイ装置は、下側基板上に設けられたOLEDディスプレイ層と、上側基板と、前記上側基板と前記下側基板との間に形成された気層と、前記OLEDディスプレイ層上に設けられたタッチモジュールと、を備え、前記タッチモジュールは、第1及び第2検知回路層を有し、さらに、前記第1及び前記第2検知回路層は離間し、かつ、それらの間の距離は2um以上である。そのディスプレイ装置は、検知回路層間に形成されたカップリング容量に起因した検知回路の干渉を減らすことができるため、タッチ検出の精度を改善することができる。

【選択図】図2
The present invention discloses a touch display device and a manufacturing method thereof, and the display device includes an OLED display layer provided on a lower substrate, an upper substrate, and between the upper substrate and the lower substrate. And a touch module provided on the OLED display layer. The touch module includes first and second detection circuit layers, and further includes the first and second detection circuits. The circuit layers are separated and the distance between them is 2 um or more. Since the display device can reduce interference of the detection circuit due to the coupling capacitance formed between the detection circuit layers, the accuracy of touch detection can be improved.

[Selection] Figure 2

Description

本開示は、タッチディスプレイ装置及びその製造方法に関し、特に、OLEDタッチディスプレイ装置及びその製造方法に関する。   The present disclosure relates to a touch display device and a manufacturing method thereof, and more particularly, to an OLED touch display device and a manufacturing method thereof.

現在のところ、ヒューマン・マシン・インターフェース技術は急速に成長しており、その中でも、OLEDディスプレイは、自発光パネル、高輝度、高反応速度、及び、低消費電力の利点のおかげで新しいタイプのディスプレイとして多くの人によって好まれるとともに、現時点で将来性を見込まれて広く使用されている。   At present, human-machine interface technology is growing rapidly, among which OLED displays are a new type of display thanks to the advantages of self-luminous panel, high brightness, high response speed and low power consumption. As it is preferred by many people, it is widely used with its future potential at the moment.

加えて、タッチスクリーンは、より軽量で、より薄くて、より人間らしいという利点のおかげで、新しいタイプの入力装置として、徐々にキーボード、マウス、及び、他の従来の入力装置に取って代わっている。タッチスクリーンユーザーは、スクリーンに表示された内容を閲覧しながら入力動作を実行することができ、それは人間とマシンとの交流を非常に便利にかつ正確にする。そのため、タッチスクリーンは、PDA、携帯電話、GPS、及び他の携帯用電子製品に広く使用されている。   In addition, touch screens are gradually replacing keyboards, mice, and other traditional input devices as a new type of input device, thanks to the advantages of being lighter, thinner and more humane . Touch screen users can perform input operations while browsing the content displayed on the screen, which makes the interaction between humans and machines very convenient and accurate. For this reason, touch screens are widely used in PDAs, mobile phones, GPS, and other portable electronic products.

OLED及びタッチ装置の多くの利点を考慮して、統合されたタッチ機能を持つOLEDディスプレイの発達にますます注目が集まっている。図1は、従来のOLEDタッチディスプレイ1を示す。タッチディスプレイ1は、上側基板11と、下側基板12と、それらの間の容量性タッチモジュール13と、OLEDディスプレイモジュール14と、密封用接着層15と、を備える。上側基板11は、タッチに使用される上側表面111と、ディスプレイ内に封入される下側表面112と、を備える。容量性タッチモジュール13は、上側基板11の下側表面112に構成され、第1導電膜131と、第2導電膜133と、それら2つの間の絶縁膜132と、を備える。下側基板12の内部表面121上にはOLEDディスプレイモジュール14が配置され、一方で、外部表面122はディスプレイの外側に露出している。OLEDディスプレイ構造14は、正孔注入層141と、有機発光層142と、電子注入層143と、を備える。タッチモジュール13をOLEDディスプレイ14に組み入れることにより、ディスプレイ1の厚みを効果的に減らすことができる。   Considering the many advantages of OLEDs and touch devices, more and more attention is focused on the development of OLED displays with integrated touch functionality. FIG. 1 shows a conventional OLED touch display 1. The touch display 1 includes an upper substrate 11, a lower substrate 12, a capacitive touch module 13 therebetween, an OLED display module 14, and a sealing adhesive layer 15. The upper substrate 11 includes an upper surface 111 used for touching and a lower surface 112 encapsulated in a display. The capacitive touch module 13 is configured on the lower surface 112 of the upper substrate 11 and includes a first conductive film 131, a second conductive film 133, and an insulating film 132 between the two. The OLED display module 14 is disposed on the inner surface 121 of the lower substrate 12, while the outer surface 122 is exposed outside the display. The OLED display structure 14 includes a hole injection layer 141, an organic light emitting layer 142, and an electron injection layer 143. By incorporating the touch module 13 into the OLED display 14, the thickness of the display 1 can be effectively reduced.

しかしながら、タッチモジュール13の第1導電膜131と第2導電膜133との間には一つの絶縁膜132しかなく、その厚みは一般的に2um未満であるため、第1導電膜131と第2導電膜133との間には、その近い距離のせいで、比較的大きなカップリング容量が生成されてしまう。実際の検出では、指のタッチに加えて、指とパネルとの間に静電容量が存在する。また、その他の付随容量が、2つの電極層間、又は、電極と周辺環境との間に発生する。付随容量が大きくなるほど、信号検出の干渉は大きくなる。第1導電膜131と第2導電膜133との間に生成される大きなカップリング容量は、付随容量の一部を構成するため、そのカップリング容量は、タッチ位置における静電容量の検出精度に影響を与えてしまう。   However, since there is only one insulating film 132 between the first conductive film 131 and the second conductive film 133 of the touch module 13 and the thickness thereof is generally less than 2 μm, the first conductive film 131 and the second conductive film 131 A relatively large coupling capacitance is generated between the conductive film 133 and the conductive film 133 due to the close distance. In actual detection, in addition to the finger touch, there is a capacitance between the finger and the panel. In addition, other incidental capacitance is generated between the two electrode layers or between the electrodes and the surrounding environment. The greater the associated capacitance, the greater the signal detection interference. The large coupling capacitance generated between the first conductive film 131 and the second conductive film 133 constitutes a part of the incidental capacitance, and therefore the coupling capacitance increases the capacitance detection accuracy at the touch position. It will have an effect.

本発明は、より高精度のタッチ検出が可能なタッチディスプレイ装置及びその製造方法を提供する。   The present invention provides a touch display device capable of detecting touch with higher accuracy and a method for manufacturing the same.

本開示によれば、タッチディスプレイは、
下側基板上に設けられたOLEDディスプレイ層と、
上側基板と、
前記上側基板と前記下側基板との間に形成された気層と、
前記OLEDディスプレイ層上に設けられたタッチモジュールと、を備え、
前記タッチモジュールは、
第1検知回路層と、
第2検知回路層と、を有し、
前記第1及び前記第2検知回路層は離間し、かつ、それらの間の距離が2um以上である。
According to the present disclosure, the touch display is
An OLED display layer provided on the lower substrate;
An upper substrate;
An air layer formed between the upper substrate and the lower substrate;
A touch module provided on the OLED display layer,
The touch module is
A first sensing circuit layer;
A second sensing circuit layer,
The first and second detection circuit layers are separated from each other, and a distance between them is 2 μm or more.

一実施の形態では、前記気層が前記第1及び前記第2検知回路層の間にあって、
前記上側基板は、
前記OLEDディスプレイ層から離れた第1表面と、
前記第1検知回路層が設けられ、前記OLEDディスプレイ層に近い第2表面と、を備え、
さらに、前記第2検知回路層は、前記OLEDディスプレイ層上に設けられている。
In one embodiment, the air layer is between the first and second sensing circuit layers,
The upper substrate is
A first surface remote from the OLED display layer;
The first sensing circuit layer is provided, and a second surface close to the OLED display layer,
Further, the second detection circuit layer is provided on the OLED display layer.

一実施の形態では、前記タッチディスプレイ装置は、保護層をさらに備え、
前記保護層は前記OLEDディスプレイ層を覆い、かつ、前記第2検知回路層は前記保護層上に設けられている。
In one embodiment, the touch display device further includes a protective layer,
The protective layer covers the OLED display layer, and the second detection circuit layer is provided on the protective layer.

一実施の形態では、前記第1及び前記第2検知回路層は互いに対向配置され、かつ、それらの間の前記気層の厚さは5um〜100umの範囲である。   In one embodiment, the first and second sensing circuit layers are disposed opposite to each other, and the thickness of the air layer therebetween is in the range of 5 μm to 100 μm.

一実施の形態では、前記タッチディスプレイは、前記上側基板と前記下側基板との間に形成された密封用接着層をさらに備え、前記OLEDディスプレイ層及び前記タッチモジュールは、前記上記基板、前記下側基板及び前記密封用接着層によって形成されたスペース内に封入されている。   In one embodiment, the touch display further includes a sealing adhesive layer formed between the upper substrate and the lower substrate, and the OLED display layer and the touch module include the substrate, the lower substrate, and the lower substrate. It is enclosed in a space formed by the side substrate and the sealing adhesive layer.

一実施の形態では、前記気層及び前記上側基板は、前記第1及び前記第2検知回路層の間にあって、
前記上側基板は、
前記OLEDディスプレイ層から離れて前記第1検知回路層が設けられた第1表面と、
前記OLEDディスプレイ層に近い第2表面と、を備え、
前記第2検知回路層は、前記OLEDディスプレイ層上に設けられている。
In one embodiment, the gas layer and the upper substrate are between the first and second sensing circuit layers,
The upper substrate is
A first surface provided with the first sensing circuit layer away from the OLED display layer;
A second surface close to the OLED display layer,
The second detection circuit layer is provided on the OLED display layer.

一実施の形態では、前記タッチディスプレイ装置は、
保護層をさらに備え、
前記保護層は前記OLEDディスプレイ層を覆い、かつ、前記第2検知回路層は前記保護層上に設けられている。
In one embodiment, the touch display device includes:
A protective layer,
The protective layer covers the OLED display layer, and the second detection circuit layer is provided on the protective layer.

一実施の形態では、前記タッチディスプレイは、
前記上側基板と前記下側基板との間に形成された密封用接着層をさらに備え、
前記OLEDディスプレイ層及び前記第2検知回路層は、前記上記基板、前記下側基板及び前記密封用接着層により形成されたスペース内に封入されている。
In one embodiment, the touch display is
A sealing adhesive layer formed between the upper substrate and the lower substrate;
The OLED display layer and the second detection circuit layer are sealed in a space formed by the substrate, the lower substrate, and the sealing adhesive layer.

一実施の形態では、前記上側基板は、前記第1及び前記第2検知回路層の間にあって、
前記上記基板は、
第1表面及び第2表面を備え、
さらに、前記第1検知回路層は前記第2表面上に設けられ、かつ、前記第2検知回路層は前記第1表面上に設けられている。
In one embodiment, the upper substrate is between the first and second sensing circuit layers,
The substrate is
Comprising a first surface and a second surface;
Furthermore, the first detection circuit layer is provided on the second surface, and the second detection circuit layer is provided on the first surface.

一実施の形態では、前記第1検知回路層は、第1方向に沿って延びる複数の第1タッチ電極シリアルを備えた第1パターン導電膜であって、
各第1タッチ電極シリアルは、
電気的に接続された複数の第1タッチ電極を備え、
さらに、前記第2検知回路層は、第2方向に沿って延びる複数の第2タッチ電極シリアルを備えた第2パターン導電膜であって、
各第2タッチ電極シリアルは、
電気的に接続された複数の第2タッチ電極を備え、
さらに、前記第1方向及び前記第2方向は異なる。
In one embodiment, the first detection circuit layer is a first pattern conductive film including a plurality of first touch electrode serials extending along a first direction,
Each first touch electrode serial is
Comprising a plurality of electrically connected first touch electrodes;
Further, the second detection circuit layer is a second pattern conductive film including a plurality of second touch electrode serials extending along the second direction,
Each second touch electrode serial is
A plurality of electrically connected second touch electrodes;
Further, the first direction and the second direction are different.

一実施の形態では、前記第1パターン導電膜及び前記第2パターン導電膜は、透明導電膜である。   In one embodiment, the first pattern conductive film and the second pattern conductive film are transparent conductive films.

一実施の形態では、OLEDディスプレイ層は、
前記下側基板上に設けられた能動素子群と、
前記能動素子群上に設けられた有機発光層と、を備え、
前記有機発光層は、対電極、画素電極、及び、それらの間の中間層と、を備える。
In one embodiment, the OLED display layer is
A group of active elements provided on the lower substrate;
An organic light emitting layer provided on the active element group,
The organic light emitting layer includes a counter electrode, a pixel electrode, and an intermediate layer therebetween.

一実施の形態では、前記保護層が絶縁材料から作られている。   In one embodiment, the protective layer is made of an insulating material.

本開示によれば、タッチディスプレイ装置の製造方法は、
上側基板と下側基板との間の気層を介して、前記上側基板に対向配置された前記下側基板上に、OLEDディスプレイ層を配置し、
前記OLEDディスプレイ層上にタッチモジュールを形成し、
前記タッチモジュールは、
第1及び第2検知回路層を備え、
さらに、前記第1及び前記第2検知回路層は離間し、かつ、それらの間の距離が2um以上である。
According to the present disclosure, a method for manufacturing a touch display device includes:
An OLED display layer is disposed on the lower substrate disposed opposite to the upper substrate through an air layer between the upper substrate and the lower substrate;
Forming a touch module on the OLED display layer;
The touch module is
Comprising first and second sensing circuit layers;
Further, the first and second detection circuit layers are separated from each other, and a distance between them is 2 μm or more.

一実施の形態では、前記気層が前記第1及び前記第2検知回路層の間にあって、
前記上側基板は、
前記OLEDディスプレイ層から離れた第1表面と、
前記第1検知回路層が設けられ、前記OLEDディスプレイ層に近い第2表面と、を備え、
さらに、前記第2検知回路層は、前記OLEDディスプレイ層上に設けられている。
In one embodiment, the air layer is between the first and second sensing circuit layers,
The upper substrate is
A first surface remote from the OLED display layer;
The first sensing circuit layer is provided, and a second surface close to the OLED display layer,
Further, the second detection circuit layer is provided on the OLED display layer.

一実施の形態では、前記タッチディスプレイ装置は、
前記OLEDディスプレイ層を覆う保護層をさらに備え、
前記第2検知回路層は前記保護層上に設けられる。
In one embodiment, the touch display device includes:
A protective layer covering the OLED display layer;
The second detection circuit layer is provided on the protective layer.

一実施の形態では、前記第1及び前記第2検知回路層は互いに対向配置され、かつ、それらの間の前記気層の厚さは5um〜100umである。   In one embodiment, the first and second sensing circuit layers are disposed to face each other, and the thickness of the air layer therebetween is 5 μm to 100 μm.

一実施の形態では、前記タッチディスプレイ装置は、さらに、前記上側基板と前記下側基板とを接着する密封用接着層を形成し、前記OLEDディスプレイ層及び前記タッチモジュールは、前記上側基板、前記下側基板及び前記密封用接着層によって形成されたスペース内に封入されている。   In one embodiment, the touch display device further includes a sealing adhesive layer that bonds the upper substrate and the lower substrate, and the OLED display layer and the touch module include the upper substrate and the lower substrate. It is enclosed in a space formed by the side substrate and the sealing adhesive layer.

一実施の形態では、前記気層及び前記上側基板が、前記第1及び前記第2検知回路層の間にあって、
前記上側基板は、
前記OLEDディスプレイ層から離れて前記第1検知回路層が設けられた第1表面と、
前記OLEDディスプレイ層に近い第2表面と、を備え、
前記第2検知回路層は、前記OLEDディスプレイ層上に設けられている。
In one embodiment, the gas layer and the upper substrate are between the first and second sensing circuit layers,
The upper substrate is
A first surface provided with the first sensing circuit layer away from the OLED display layer;
A second surface close to the OLED display layer,
The second detection circuit layer is provided on the OLED display layer.

一実施の形態では、前記タッチディスプレイ装置は、
前記OLEDディスプレイ層を覆う保護層をさらに備え、
前記第2検知回路層は、前記保護層上に設けられている。
In one embodiment, the touch display device includes:
A protective layer covering the OLED display layer;
The second detection circuit layer is provided on the protective layer.

一実施の形態では、前記タッチディスプレイ装置は、さらに、前記上側基板と前記下側基板とを接着する密封用接着層を形成し、前記OLEDディスプレイ層及び前記第2検知回路層は、前記上側基板、前記下側基板及び前記密封用接着層によって形成されたスペース内に封入されている。   In one embodiment, the touch display device further includes a sealing adhesive layer that bonds the upper substrate and the lower substrate, and the OLED display layer and the second detection circuit layer include the upper substrate. , And enclosed in a space formed by the lower substrate and the sealing adhesive layer.

一実施の形態では、前記上側基板は、前記第1及び前記第2検知回路層の間にあって、
前記上側基板は、
第1表面及び第2表面を備え、
さらに、前記第1検知回路層は前記第2表面上に設けられ、かつ、前記第2検知回路層は前記第1表面上に設けられている。
In one embodiment, the upper substrate is between the first and second sensing circuit layers,
The upper substrate is
Comprising a first surface and a second surface;
Furthermore, the first detection circuit layer is provided on the second surface, and the second detection circuit layer is provided on the first surface.

一実施の形態では、OLEDディスプレイ層の形成方法は、
能動素子群を前記下側基板上に配置し、
対電極、画素電極、及び、中間層を備えた有機発光層を前記能動素子群上に配置する。
In one embodiment, the method for forming the OLED display layer comprises:
An active element group is disposed on the lower substrate;
An organic light emitting layer having a counter electrode, a pixel electrode, and an intermediate layer is disposed on the active element group.

実施の形態では、前記タッチディスプレイ装置の前記第1及び前記第2検知回路層の間の距離が絶縁層の厚さ以上である。それにより、2つの検知回路層間に生成されるカップリング容量に起因したタッチ検出の干渉が大きく抑制さるため、タッチ検出の精度が改善される。   In an embodiment, a distance between the first and second detection circuit layers of the touch display device is equal to or greater than a thickness of the insulating layer. Thereby, since the interference of the touch detection due to the coupling capacitance generated between the two detection circuit layers is greatly suppressed, the accuracy of the touch detection is improved.

図1は従来のOLEDタッチディスプレイの概略図である。FIG. 1 is a schematic view of a conventional OLED touch display. 図2は本発明の実施の形態1に係るタッチディスプレイ装置の概略図である。FIG. 2 is a schematic diagram of the touch display device according to Embodiment 1 of the present invention. 図3は第1検知回路層パターンの概略図である。FIG. 3 is a schematic diagram of the first detection circuit layer pattern. 図4は第2検知回路層パターンの概略図である。FIG. 4 is a schematic diagram of the second detection circuit layer pattern. 図5は本発明の実施の形態2に係るタッチディスプレイ装置の概略図である。FIG. 5 is a schematic diagram of a touch display device according to Embodiment 2 of the present invention. 図6は本発明の実施の形態3に係るタッチディスプレイ装置の概略図である。FIG. 6 is a schematic diagram of a touch display device according to Embodiment 3 of the present invention. 図7は本発明の実施の形態1に係るタッチディスプレイ装置の製造方法のフローチャートである。FIG. 7 is a flowchart of the manufacturing method of the touch display device according to the first embodiment of the present invention.

特許や引用文献における‘a’や‘the’の通常の意味に従い、例えば、電極又は‘前記’電極は、一つ又はそれ以上の電極を含む。本願では、特に言及されていない限り、単数の使用は複数を含み、逆もまた同様である。例えば、用語‘能動素子群’は、単数形も複数形も含む。ここで使用される項目の見出しは、編成的な目的にすぎず、記載内容の主題を制限するものではない。   According to the usual meaning of 'a' or 'the' in patents and references, for example, an electrode or 'the' electrode includes one or more electrodes. In this application, the use of the singular includes the plural and vice versa unless specifically stated otherwise. For example, the term 'active element group' includes singular and plural forms. The item headings used here are for organizational purposes only and do not limit the subject matter of the description.

本発明の詳細な説明は、以下の実施の形態に記載されている。これらは、本発明のスコープを制限するものではなく、他のアプリケーションに適用されることができる。図面は詳細に記載されるが、開示された構成要素の数量は、これらの構成要素の数量を明示的に制限している場合を除き、開示された数量よりも多くても少なくてもよい。   The detailed description of the present invention is described in the following embodiments. These do not limit the scope of the present invention and can be applied to other applications. Although the drawings are described in detail, the quantity of the disclosed components may be greater or less than the disclosed quantities unless explicitly limiting the quantity of these components.

<実施の形態1>
図2は、本発明の実施の形態1に係るタッチディスプレイ装置の概略図である。図2に示すように、本実施の形態に係るタッチディスプレイ装置2は、下側基板30上に設けられたOLEDディスプレイ層90と、上側基板20と、上側基板20と下側基板30との間に形成された気層603と、第1検知回路層601と第2検知回路層602とによって形成されたタッチモジュール60と、を備え、第1及び第2検知回路層は離間し、かつ、それらの間の距離が2um以上である。
<Embodiment 1>
FIG. 2 is a schematic diagram of the touch display device according to Embodiment 1 of the present invention. As shown in FIG. 2, the touch display device 2 according to the present embodiment includes an OLED display layer 90 provided on the lower substrate 30, an upper substrate 20, and between the upper substrate 20 and the lower substrate 30. And a touch module 60 formed by the first detection circuit layer 601 and the second detection circuit layer 602, wherein the first and second detection circuit layers are separated from each other, and The distance between is 2 um or more.

上側基板20及び下側基板30は、固体ガラス基板や、軟質プラスチック基板のような透明材料で作られてもよい。上側基板20は、OLEDディスプレイ層90から離れた第1表面201と、OLEDディスプレイ層90に近い第2表面202と、を備え、上側基板20の第2表面202上には第1検知回路層601が設けられ、一方で、上側基板20の第1表面201は、ユーザーによってタッチするためにのみ使用される。下側基板30及び上側基板20は、互いに対向配置されている。下側基板30は、OLEDディスプレイ層90に近い第1表面301と、OLEDディスプレイ層90と離れた第2表面302と、を備える。下側基板20の第1表面301は、上側基板の第2表面202の方向を向いており、一方で、他の外部表面302は、タッチディスプレイ装置本体の外部表面に属している。OLEDディスプレイ層90は、下側基板30上、詳細には下側基板30の第1表面301上に設けられ、第2検知回路層602は、OLEDディスプレイ層90上に設けられ、かつ、第1検知回路層601に対向して設けられている。   The upper substrate 20 and the lower substrate 30 may be made of a transparent material such as a solid glass substrate or a soft plastic substrate. The upper substrate 20 includes a first surface 201 separated from the OLED display layer 90 and a second surface 202 close to the OLED display layer 90, and the first detection circuit layer 601 is formed on the second surface 202 of the upper substrate 20. While the first surface 201 of the upper substrate 20 is used only for touching by the user. The lower substrate 30 and the upper substrate 20 are disposed to face each other. The lower substrate 30 includes a first surface 301 close to the OLED display layer 90 and a second surface 302 remote from the OLED display layer 90. The first surface 301 of the lower substrate 20 faces the second surface 202 of the upper substrate, while the other external surface 302 belongs to the external surface of the touch display device body. The OLED display layer 90 is provided on the lower substrate 30, specifically, the first surface 301 of the lower substrate 30, the second detection circuit layer 602 is provided on the OLED display layer 90, and the first It is provided to face the detection circuit layer 601.

さらに、タッチディスプレイ装置2は、OLEDディスプレイ層90の表面を覆う保護層70も備えてもよく、第2検知回路層602は、保護層70の表面上にさらに設けられてもよい。   Furthermore, the touch display device 2 may also include a protective layer 70 that covers the surface of the OLED display layer 90, and the second detection circuit layer 602 may be further provided on the surface of the protective layer 70.

図3は、第1検知回路層パターンの概略図である。図3に示すように、第1検知回路層601は、第1方向21に沿って延びる複数の第1タッチ電極シリアル6011を備えた第1パターン導電膜であって、各第1タッチ電極シリアル6011は、電気的に接続された複数の第1タッチ電極6012を備える。第1検知回路層601は、透明導電膜であってもよく、透明導電膜の材料は、酸化インジウム・亜鉛、ガリウムをドープした酸化亜鉛、アルミニウムをドープした酸化亜鉛、酸化フッ素・スズ、アンチモンをドープした酸化スズ、酸化インジウム・スズ、酸化アルミニウム・亜鉛、及び、他の金属酸化物から選択することができる。第1検知回路層のパターンは、図3に示されるパターンモードに限られない。例えば、第1検知回路層は、互いに平行な複数の帯状のパターンで構成されてもよい。   FIG. 3 is a schematic diagram of the first detection circuit layer pattern. As shown in FIG. 3, the first detection circuit layer 601 is a first pattern conductive film including a plurality of first touch electrode serials 6011 extending along the first direction 21, and each first touch electrode serial 6011. Comprises a plurality of electrically connected first touch electrodes 6012. The first detection circuit layer 601 may be a transparent conductive film. The material of the transparent conductive film is made of indium zinc oxide, zinc oxide doped with gallium, zinc oxide doped with aluminum, fluorine oxide tin, antimony. It can be selected from doped tin oxide, indium tin oxide, aluminum oxide zinc, and other metal oxides. The pattern of the first detection circuit layer is not limited to the pattern mode shown in FIG. For example, the first detection circuit layer may be composed of a plurality of strip-like patterns parallel to each other.

図4は、第2検知回路層パターンの概略図である。図4に示すように、第2検知回路層602は、第2方向22に沿って延びる複数の第2タッチ電極シリアル6021を備えた第2パターン導電膜であって、各第2タッチ電極シリアル6021は、電気的に接続された複数の第2タッチ電極6012を備える。第2検知回路層602は、透明導電膜であってもよく、透明導電膜の材料は、酸化インジウム・亜鉛、ガリウムをドープした酸化亜鉛、アルミニウムをドープした酸化亜鉛、酸化フッ素・スズ、アンチモンをドープした酸化スズ、酸化インジウム・スズ、酸化アルミニウム・亜鉛、及び、他の金属酸化物から選択することができる。第2検知回路層のパターンは、図4に示されるパターンモードに限られない。例えば、第2検知回路層は、互いに平行な複数の帯状のパターンで構成されてもよい。第1方向21及び第2方向22は、直交座標系のX軸及びY軸であってもよいし、又は、接線/標準座標のT軸及びN軸であってもよい。   FIG. 4 is a schematic diagram of a second detection circuit layer pattern. As shown in FIG. 4, the second detection circuit layer 602 is a second pattern conductive film including a plurality of second touch electrode serials 6021 extending along the second direction 22, and each second touch electrode serial 6021. Includes a plurality of second touch electrodes 6012 that are electrically connected. The second detection circuit layer 602 may be a transparent conductive film. The material of the transparent conductive film is made of indium zinc oxide, zinc oxide doped with gallium, zinc oxide doped with aluminum, fluorine oxide tin, antimony. It can be selected from doped tin oxide, indium tin oxide, aluminum oxide zinc, and other metal oxides. The pattern of the second detection circuit layer is not limited to the pattern mode shown in FIG. For example, the second detection circuit layer may be composed of a plurality of strip-like patterns parallel to each other. The first direction 21 and the second direction 22 may be an X axis and a Y axis of an orthogonal coordinate system, or may be a T axis and an N axis of tangential / standard coordinates.

図2を再び参照すると、気層603は、第1検知回路層601と第2検知回路層602との間にあって、気層603は、第1検知回路層601と第2検知回路層602とを電気的に絶縁するとともに、絶縁体の機能も持つ。それにより、第1検知回路層601と第2検知回路層602との間に絶縁層を配置する従来の製造工程が省略されるため、製造工程が簡略化され、製造コストが低減される。さらに、第1検知回路層601と第2検知回路層602との間の距離は2um以上であって、それら2つの間の離間距離は通常設けられる絶縁層の厚さ以上であるため、タッチ検出中にそれら2つの間のカップリング容量の影響が低減され、その結果、タッチ検出の精度が改善される。さらに、タッチ検出の感度及び精度を考慮すると、気層603の厚さを5um〜100umの所定距離にすることが好ましい。   Referring back to FIG. 2, the gas layer 603 is between the first detection circuit layer 601 and the second detection circuit layer 602, and the gas layer 603 includes the first detection circuit layer 601 and the second detection circuit layer 602. In addition to being electrically insulated, it also functions as an insulator. Thereby, the conventional manufacturing process of disposing the insulating layer between the first detection circuit layer 601 and the second detection circuit layer 602 is omitted, so that the manufacturing process is simplified and the manufacturing cost is reduced. Furthermore, since the distance between the first detection circuit layer 601 and the second detection circuit layer 602 is 2 μm or more and the distance between the two is more than the thickness of the insulating layer that is usually provided, touch detection During this, the effect of the coupling capacitance between the two is reduced, and as a result, the accuracy of touch detection is improved. Furthermore, considering the sensitivity and accuracy of touch detection, the thickness of the air layer 603 is preferably set to a predetermined distance of 5 μm to 100 μm.

(指又はスタイラスのような)導電性物体が上側基板20の第1表面201にタッチ又は接近すると、第1検知回路層601及び第2検知回路層602はそれぞれ検知信号を生成し、タッチ検出回路は、タッチ前後の検知信号の変化に基づいて、タッチの地平座標及び垂直座標を決定する。   When a conductive object (such as a finger or stylus) touches or approaches the first surface 201 of the upper substrate 20, the first detection circuit layer 601 and the second detection circuit layer 602 each generate a detection signal, and the touch detection circuit Determines the horizontal and vertical coordinates of the touch based on the change in the detection signal before and after the touch.

図2を再び参照すると、OLEDディスプレイ層90は、下側基板30の第1表面301上に設けられている。OLEDディスプレイ層90は、能動素子群80と、有機発光層40と、を備え、有機発光層40は、対電極401と、画素電極403と、対電極401及び画素電極403間の中間層402と、を備える。能動素子群80は、下側基板30の第1表面301上に設けられ、また、能動素子群80は、複数の能動素子(不図示)を有する。各能動素子は、その上に設けられた画素電極403に電気的に接続されている。   Referring back to FIG. 2, the OLED display layer 90 is provided on the first surface 301 of the lower substrate 30. The OLED display layer 90 includes an active element group 80 and an organic light emitting layer 40. The organic light emitting layer 40 includes a counter electrode 401, a pixel electrode 403, and an intermediate layer 402 between the counter electrode 401 and the pixel electrode 403. . The active element group 80 is provided on the first surface 301 of the lower substrate 30, and the active element group 80 includes a plurality of active elements (not shown). Each active element is electrically connected to a pixel electrode 403 provided thereon.

画素電極403及び対電極401は、それぞれOLEDディスプレイ層のカソード電極及びアノード電極としての役割を果たす。画素電極403がアノード電極の場合、対電極401がカソード電極となるが、その順序は変更可能であり、画素電極403がカソード電極の場合、対電極401はアノード電極となる。   The pixel electrode 403 and the counter electrode 401 serve as a cathode electrode and an anode electrode of the OLED display layer, respectively. When the pixel electrode 403 is an anode electrode, the counter electrode 401 is a cathode electrode. However, the order can be changed. When the pixel electrode 403 is a cathode electrode, the counter electrode 401 is an anode electrode.

画素電極403がアノード電極の場合、画素電極403は、透明電極によって形成されてもよい。透明の導電性電極は、IZO,ITO,ZnO,In,Ti,Ti又は他の金属酸化物によって形成されることができる。画素電極403がカソード電極の場合、画素電極403は、金属電極によって形成されてもよい。金属電極はNi,Ti,Zn,Cr,Mg,Al,In又は他の材料によって形成されることができる。 When the pixel electrode 403 is an anode electrode, the pixel electrode 403 may be formed of a transparent electrode. The transparent conductive electrode can be formed of IZO, ITO, ZnO, In 2 O 3 , Ti 2 O 3 , Ti 3 O 5 or other metal oxides. When the pixel electrode 403 is a cathode electrode, the pixel electrode 403 may be formed of a metal electrode. The metal electrode can be formed of Ni, Ti, Zn, Cr, Mg, Al, In or other materials.

同様に、対電極401がアノード電極の場合、対電極401は、透明電極によって形成されてもよい。透明の導電性電極は、IZO,ITO,ZnO,In,Ti,Ti又は他の金属酸化物によって形成されることができる。対電極401がカソード電極の場合、対電極401は、金属電極によって形成されてもよい。金属電極はNi,Ti,Zn,Cr,Mg,Al,In又は他の材料によって形成されることができる。 Similarly, when the counter electrode 401 is an anode electrode, the counter electrode 401 may be formed of a transparent electrode. The transparent conductive electrode can be formed of IZO, ITO, ZnO, In 2 O 3 , Ti 2 O 3 , Ti 3 O 5 or other metal oxides. When the counter electrode 401 is a cathode electrode, the counter electrode 401 may be formed of a metal electrode. The metal electrode can be formed of Ni, Ti, Zn, Cr, Mg, Al, In or other materials.

中間層402は、画素電極403と対電極401との間に形成され、有機材料によって形成されることができる。中間層402は、正孔注入層(HIL)、正孔輸送層(HTL)、電子輸送層(ETL)、電子注入層(EIL)等の積層構造からなることができる。それに加え、異なる物質層と一緒に用いることで、異なる積層構造が形成されてもよい。   The intermediate layer 402 is formed between the pixel electrode 403 and the counter electrode 401 and can be formed of an organic material. The intermediate layer 402 may have a stacked structure such as a hole injection layer (HIL), a hole transport layer (HTL), an electron transport layer (ETL), and an electron injection layer (EIL). In addition, different stacked structures may be formed by using together with different material layers.

保護層70は、対電極401の表面を覆い、また、保護層70は、主に、ポリイミド(PI)、ポリメチル・メタクリレート(PMMA)又はポリシロキサン(POS)の絶縁材料から作られている。保護層70の機能は、第2検知回路層602と対電極401とを電気的に絶縁すること、及び、対電極401の導電体を酸素や水蒸気による腐食から保護すること、である。   The protective layer 70 covers the surface of the counter electrode 401, and the protective layer 70 is mainly made of an insulating material of polyimide (PI), polymethyl methacrylate (PMMA), or polysiloxane (POS). The function of the protective layer 70 is to electrically insulate the second detection circuit layer 602 and the counter electrode 401 and to protect the conductor of the counter electrode 401 from corrosion by oxygen or water vapor.

酸素や水蒸気による腐食からタッチディスプレイ装置2を防ぐため、タッチディスプレイ装置2は、密封用接着層50をさらに備える。密封用接着層50は、上側基板20と下側基板30とを接着する。それにより、OLEDディスプレイ層90及びタッチモジュール60は、上側基板20及び下側基板30の間の空間内に形成される。   In order to prevent the touch display device 2 from corrosion due to oxygen or water vapor, the touch display device 2 further includes a sealing adhesive layer 50. The sealing adhesive layer 50 bonds the upper substrate 20 and the lower substrate 30 together. Accordingly, the OLED display layer 90 and the touch module 60 are formed in the space between the upper substrate 20 and the lower substrate 30.

<実施の形態2>
図5は、本発明の実施の形態2に係るタッチディスプレイ装置の概略図である。タッチディスプレイ装置は、上側基板20と、下側基板30と、保護層70と、OLEDディスプレイ層90と、タッチモジュール60と、を備える。本実施の形態に使用される構成要素、及び、それら構成要素間の相対位置は、実施の形態1と似ており、主な違いは、タッチモジュール60の位置が他の構成要素間にあるという点である。実施の形態1では、気層603が第1検知回路層601と第2検知回路層602との間にあった。より具体的には、タッチモジュール60の第1検知回路層601及び第2検知回路層602は、それぞれ、上側基板20の第2表面202上、及び、OLEDディスプレイ層90上に設けられていた。より詳細には、第2検知回路層602は、OLEDディスプレイ層90を覆う保護層70の表面上に設けられていた。しかしながら、実施の形態2では、上側基板及び気層が、第1検知回路層601及び第2検知回路層602との間にある。より具体的には、第1検知回路層601は、上側基板20の第1表面201上に設けられ、第2検知回路層602は依然として保護層70の表面上に設けられている。本実施の形態の他の構成要素及びこれら構成要素間の位置関係は、実施の形態1に詳細に記載されているので、ここでの説明は省略する。
<Embodiment 2>
FIG. 5 is a schematic diagram of a touch display device according to Embodiment 2 of the present invention. The touch display device includes an upper substrate 20, a lower substrate 30, a protective layer 70, an OLED display layer 90, and a touch module 60. The components used in this embodiment and the relative positions between these components are similar to those in the first embodiment, and the main difference is that the position of the touch module 60 is between other components. Is a point. In the first embodiment, the gas layer 603 is between the first detection circuit layer 601 and the second detection circuit layer 602. More specifically, the first detection circuit layer 601 and the second detection circuit layer 602 of the touch module 60 were provided on the second surface 202 of the upper substrate 20 and the OLED display layer 90, respectively. More specifically, the second detection circuit layer 602 is provided on the surface of the protective layer 70 that covers the OLED display layer 90. However, in the second embodiment, the upper substrate and the gas layer are between the first detection circuit layer 601 and the second detection circuit layer 602. More specifically, the first detection circuit layer 601 is provided on the first surface 201 of the upper substrate 20, and the second detection circuit layer 602 is still provided on the surface of the protective layer 70. Since the other components of the present embodiment and the positional relationship between these components are described in detail in the first embodiment, description thereof is omitted here.

<実施の形態3>
図6は、本発明の実施の形態3に係るタッチディスプレイ装置の概略図である。本実施の形態に使用される構成要素、及び、それら構成要素間の相対位置は、実施の形態1と似ており、主な違いは、タッチモジュール60の位置が他の構成要素間にあるという点である。即ち、実施の形態1では、気層603が第1検知回路層601と第2検知回路層602との間にあった。より具体的には、タッチモジュール60の第1検知回路層601及び第2検知回路層602は、それぞれ、上側基板20の第2表面202上、及び、保護層70の表面上に設けられていた。しかしながら、本実施の形態では、上側基板20は第1検知回路層601と第2検知回路層602との間にある。より具体的には、第2検知回路層602は、上側基板20の第1表面201上に設けられ、第1検知回路層601は、上側基板20の第2表面202上に設けられている。本実施の形態の他の構成要素及びこれら構成要素間の位置関係は、実施の形態1に詳細に記載されているので、ここでの説明は省略する。
<Embodiment 3>
FIG. 6 is a schematic diagram of a touch display device according to Embodiment 3 of the present invention. The components used in this embodiment and the relative positions between these components are similar to those in the first embodiment, and the main difference is that the position of the touch module 60 is between other components. Is a point. That is, in the first embodiment, the gas layer 603 is between the first detection circuit layer 601 and the second detection circuit layer 602. More specifically, the first detection circuit layer 601 and the second detection circuit layer 602 of the touch module 60 were provided on the second surface 202 of the upper substrate 20 and the surface of the protective layer 70, respectively. . However, in the present embodiment, the upper substrate 20 is between the first detection circuit layer 601 and the second detection circuit layer 602. More specifically, the second detection circuit layer 602 is provided on the first surface 201 of the upper substrate 20, and the first detection circuit layer 601 is provided on the second surface 202 of the upper substrate 20. Since other components of the present embodiment and the positional relationship between these components are described in detail in the first embodiment, description thereof is omitted here.

図7は、本発明の実施の形態1に係るタッチディスプレイ装置の製造方法を示すフローチャートである。図2を同時に参照すると、その製造方法は、下側基板30上にOLEDディスプレイ層90を配置し、タッチモジュール60を形成する。ここで、タッチモジュール60を形成する方法は、上側基板20上に第1検知回路層601を配置し、上側基板20及び下側基板30は互いに対向配置され、OLEDディスプレイ層90上、即ち、保護層70の表面上に、第2検知回路層602を配置する。OLEDディスプレイ層90は、能動素子群80及び有機発光層40を備え、有機発光層40は、対電極401、画素電極403、及び、対電極401及び画素電極403の間に中間層402、を備える。その製造方法の詳細なステップは、次のようになる。   FIG. 7 is a flowchart showing a method for manufacturing the touch display device according to Embodiment 1 of the present invention. Referring to FIG. 2 at the same time, the manufacturing method arranges the OLED display layer 90 on the lower substrate 30 to form the touch module 60. Here, in the method of forming the touch module 60, the first detection circuit layer 601 is disposed on the upper substrate 20, the upper substrate 20 and the lower substrate 30 are disposed to face each other, and the OLED display layer 90 is protected. A second sensing circuit layer 602 is disposed on the surface of the layer 70. The OLED display layer 90 includes an active element group 80 and an organic light emitting layer 40, and the organic light emitting layer 40 includes a counter electrode 401, a pixel electrode 403, and an intermediate layer 402 between the counter electrode 401 and the pixel electrode 403. . The detailed steps of the manufacturing method are as follows.

ステップS1:下側基板30の配置領域に能動素子群80を配置する。   Step S <b> 1: The active element group 80 is arranged in the arrangement region of the lower substrate 30.

ステップS2:能動素子群80上に有機発光層40を配置する。有機発光層40の形成方法は、能動素子群80を覆い、かつ、能動素子群80と電気的に接続される、画素電極403を形成し、その後、画素電極403上に中間層402を形成し、最後に、中間層402上に対電極401を形成する。   Step S2: The organic light emitting layer 40 is disposed on the active element group 80. The organic light emitting layer 40 is formed by forming a pixel electrode 403 that covers the active element group 80 and is electrically connected to the active element group 80, and then forms an intermediate layer 402 on the pixel electrode 403. Finally, the counter electrode 401 is formed on the intermediate layer 402.

ステップS3:有機発光層40上に保護層70を配置し、有機発光層40の対電極401を覆う。   Step S3: The protective layer 70 is disposed on the organic light emitting layer 40, and the counter electrode 401 of the organic light emitting layer 40 is covered.

ステップS4:保護層70上に第2検知回路層602を配置する。ここで、第2検知回路層602は、酸化インジウム・亜鉛、ガリウムをドープした酸化亜鉛、アルミニウムをドープした酸化亜鉛、酸化フッ素・スズ、アンチモンをドープした酸化スズ、酸化インジウム・スズ、又は、酸化アルミニウム・亜鉛のような透明導電膜で作られ、かつ、スクリーン印刷又はスパッタリングのような製造工程により形成される。   Step S4: The second detection circuit layer 602 is disposed on the protective layer 70. Here, the second detection circuit layer 602 is composed of indium zinc oxide, zinc oxide doped with gallium, zinc oxide doped with aluminum, fluorine oxide / tin, tin oxide doped with antimony, indium tin oxide, or oxide. It is made of a transparent conductive film such as aluminum and zinc, and is formed by a manufacturing process such as screen printing or sputtering.

ステップS5:上側基板20の第2表面202上に第1検知回路層601を配置する。ここで、第1検知回路層601は、酸化インジウム・亜鉛、ガリウムをドープした酸化亜鉛、アルミニウムをドープした酸化亜鉛、酸化フッ素・スズ、アンチモンをドープした酸化スズ、酸化インジウム・スズ、又は、酸化アルミニウム・亜鉛のような透明導電膜で作られ、かつ、スクリーン印刷又はスパッタリングのような製造工程により形成される。   Step S <b> 5: The first detection circuit layer 601 is disposed on the second surface 202 of the upper substrate 20. Here, the first detection circuit layer 601 is made of indium zinc oxide, zinc oxide doped with gallium, zinc oxide doped with aluminum, fluorine oxide / tin, tin oxide doped with antimony, indium tin oxide, or oxide. It is made of a transparent conductive film such as aluminum and zinc, and is formed by a manufacturing process such as screen printing or sputtering.

ステップS6:タッチモジュール60及びOLEDディスプレイ層90が2つの基板の間に形成されたスペース内に封入されるように、上側基板20と下側基板30とを接着するための密封用接着層を形成する。   Step S6: A sealing adhesive layer for bonding the upper substrate 20 and the lower substrate 30 is formed so that the touch module 60 and the OLED display layer 90 are enclosed in a space formed between the two substrates. To do.

上記方法により作られたタッチディスプレイ装置は、電極層間の干渉を効果的に抑制することができるとともに、タッチ位置の検出の精度を改善することができる。   The touch display device made by the above method can effectively suppress the interference between the electrode layers, and can improve the accuracy of detection of the touch position.

加えて、実施の形態2のタッチディスプレイ装置の製造方法は、実施の形態1の製造方法と似ており、その違いは、実施の形態2では、第1検知回路層601が上側基板20の第1表面201上に形成されるという点である。   In addition, the manufacturing method of the touch display device of the second embodiment is similar to the manufacturing method of the first embodiment, and the difference is that in the second embodiment, the first detection circuit layer 601 is the first detection circuit layer 601 of the upper substrate 20. One surface 201 is formed.

同様に、実施の形態3のタッチディスプレイ装置の製造方法は、実施の形態1の製造方法と似ており、その違いは、実施の形態3では、第2検知回路層602が上側基板20の第1表面201上に形成されるという点である。そのため、これ以上の説明は省略する。   Similarly, the manufacturing method of the touch display device of the third embodiment is similar to the manufacturing method of the first embodiment, and the difference is that in the third embodiment, the second detection circuit layer 602 is the second detection circuit layer 602. One surface 201 is formed. Therefore, further explanation is omitted.

要するに、本発明のタッチディスプレイ装置は、第1検知回路層と第2検知回路層との間に生成されるカップリング容量に起因したタッチ検出信号の干渉を抑制するため、これらの間の離間距離を大きくしたデザインを採用しており、それにより、タッチ位置の検出の精度を改善している。   In short, the touch display device of the present invention suppresses the interference of the touch detection signal due to the coupling capacitance generated between the first detection circuit layer and the second detection circuit layer. The design with a larger is adopted, thereby improving the accuracy of touch position detection.

本発明は、ベストモードの実施の形態を参照して説明されているが、当業者は、添付した特許請求の範囲によって定められ意図される本発明の範囲を離れることなくして、これに対する種々の変更および取り換えを行ってもよい。 Although the present invention has been described with reference to best mode embodiments, those skilled in the art will recognize that various modifications may be made thereto without departing from the scope of the invention as defined and intended by the appended claims. Changes and replacements may be made.

Claims (23)

下側基板上に設けられたOLEDディスプレイ層と、
上側基板と、
前記上側基板と前記下側基板との間に形成された気層と、
前記OLEDディスプレイ層上に設けられたタッチモジュールと、を備え、
前記タッチモジュールは、
第1検知回路層と、
第2検知回路層と、を有し、
さらに、前記第1及び前記第2検知回路層は離間し、かつ、それらの間の距離は2um以上である、タッチディスプレイ装置。
An OLED display layer provided on the lower substrate;
An upper substrate;
An air layer formed between the upper substrate and the lower substrate;
A touch module provided on the OLED display layer,
The touch module is
A first sensing circuit layer;
A second sensing circuit layer,
Furthermore, the first display circuit layer and the second detection circuit layer are separated from each other, and a distance between them is 2 μm or more.
前記気層は、前記第1及び前記第2検知回路層の間にあって、
前記上側基板は、
前記OLEDディスプレイ層から離れた第1表面と、
前記第1検知回路層が設けられ、前記OLEDディスプレイ層に近い第2表面と、を備え、
さらに、前記第2検知回路層は、前記OLEDディスプレイ層上に設けられている、請求項1に記載のタッチディスプレイ装置。
The air layer is between the first and second sensing circuit layers;
The upper substrate is
A first surface remote from the OLED display layer;
The first sensing circuit layer is provided, and a second surface close to the OLED display layer,
The touch display device according to claim 1, wherein the second detection circuit layer is provided on the OLED display layer.
前記タッチディスプレイ装置は、
保護層をさらに備え、
前記保護層は前記OLEDディスプレイ層を覆い、かつ、前記第2検知回路層は前記保護層上に設けられている、請求項2に記載のタッチディスプレイ装置。
The touch display device includes:
A protective layer,
The touch display device according to claim 2, wherein the protective layer covers the OLED display layer, and the second detection circuit layer is provided on the protective layer.
前記第1及び前記第2検知回路層は互いに対向配置され、かつ、それらの間の前記気層の厚さは5um〜100umの範囲である、請求項2に記載のタッチディスプレイ装置。   The touch display device according to claim 2, wherein the first and second detection circuit layers are disposed to face each other, and a thickness of the air layer therebetween is in a range of 5 μm to 100 μm. 前記タッチディスプレイ装置は、
前記上側基板と前記下側基板との間に形成された密封用接着層をさらに備え、
前記OLEDディスプレイ層及び前記タッチモジュールは、前記上側基板、前記下側基板及び前記密封用接着層によって形成されたスペース内に封入されている、請求項1に記載のタッチディスプレイ装置。
The touch display device includes:
A sealing adhesive layer formed between the upper substrate and the lower substrate;
The touch display device according to claim 1, wherein the OLED display layer and the touch module are enclosed in a space formed by the upper substrate, the lower substrate, and the sealing adhesive layer.
前記気層及び前記上側基板は、前記第1及び前記第2検知回路層の間にあって、
前記上側基板は、
前記OLEDディスプレイ層から離れて前記第1検知回路層が設けられた第1表面と、
前記OLEDディスプレイ層に近い第2表面と、を備え、
前記第2検知回路層は、前記OLEDディスプレイ層上に設けられている、請求項1に記載のタッチディスプレイ装置。
The gas layer and the upper substrate are between the first and second detection circuit layers,
The upper substrate is
A first surface provided with the first sensing circuit layer away from the OLED display layer;
A second surface close to the OLED display layer,
The touch display device according to claim 1, wherein the second detection circuit layer is provided on the OLED display layer.
前記タッチディスプレイ装置は、
保護層をさらに備え、
前記保護層は前記OLEDディスプレイ層を覆い、かつ、前記第2検知回路層は前記保護層上に設けられている、請求項6に記載のタッチディスプレイ装置。
The touch display device includes:
A protective layer,
The touch display device according to claim 6, wherein the protective layer covers the OLED display layer, and the second detection circuit layer is provided on the protective layer.
前記タッチディスプレイ装置は、
前記上側基板と前記下側基板との間に形成された密封用接着層をさらに備え、
前記OLEDディスプレイ層及び前記第2検知回路層は、前記上側基板、前記下側基板及び前記密封用接着層によって形成されたスペース内に封入されている、請求項6に記載のタッチディスプレイ装置。
The touch display device includes:
A sealing adhesive layer formed between the upper substrate and the lower substrate;
The touch display device according to claim 6, wherein the OLED display layer and the second detection circuit layer are sealed in a space formed by the upper substrate, the lower substrate, and the sealing adhesive layer.
前記上側基板は、前記第1及び前記第2検知回路層の間にあって、
前記上側基板は、
第1表面と、
第2表面と、を備え、
さらに、前記第1検知回路層は前記第2表面上に設けられ、かつ、前記第2検知回路層は前記第1表面上に設けられている、請求項1に記載のタッチディスプレイ装置。
The upper substrate is between the first and second sensing circuit layers;
The upper substrate is
A first surface;
A second surface,
The touch display device according to claim 1, wherein the first detection circuit layer is provided on the second surface, and the second detection circuit layer is provided on the first surface.
前記第1検知回路層は、第1方向に沿って延びる複数の第1タッチ電極シリアルを備えた第1パターン導電膜であって、
各第1タッチ電極シリアルは、
電気的に接続された複数の第1タッチ電極を備え、
さらに、前記第2検知回路層は、第2方向に沿って延びる複数の第2タッチ電極シリアルを備えた第2パターン導電膜であって、
各第2タッチ電極シリアルは、
電気的に接続された複数の第2タッチ電極を備え、
さらに、前記第1方向及び前記第2方向は異なる、請求項1に記載のタッチディスプレイ装置。
The first sensing circuit layer is a first pattern conductive film including a plurality of first touch electrode serials extending along a first direction,
Each first touch electrode serial is
Comprising a plurality of electrically connected first touch electrodes;
Further, the second detection circuit layer is a second pattern conductive film including a plurality of second touch electrode serials extending along the second direction,
Each second touch electrode serial is
A plurality of electrically connected second touch electrodes;
The touch display device according to claim 1, wherein the first direction and the second direction are different.
前記第1パターン導電膜及び前記第2パターン導電膜は、透明導電膜である、請求項10に記載のタッチディスプレイ装置。   The touch display device according to claim 10, wherein the first pattern conductive film and the second pattern conductive film are transparent conductive films. 前記OLEDディスプレイ層は、
前記下側基板上に設けられた能動素子群と、
前記能動素子群上に設けられた有機発光層と、を備え、
前記有機発光層は、
対電極と、
画素電極と、
中間層と、を備えた、請求項1に記載のタッチディスプレイ装置。
The OLED display layer is
A group of active elements provided on the lower substrate;
An organic light emitting layer provided on the active element group,
The organic light emitting layer is
A counter electrode;
A pixel electrode;
The touch display device according to claim 1, further comprising an intermediate layer.
前記保護層は、絶縁材料から作られている、請求項2に記載のタッチディスプレイ装置。   The touch display device according to claim 2, wherein the protective layer is made of an insulating material. 上側基板と下側基板との間の気層を介して、前記上側基板に対向配置された前記下側基板上に、OLEDディスプレイ層を配置し、
前記OLEDディスプレイ層上にタッチモジュールを形成し、
前記タッチモジュールは、
第1検知回路層と、
第2検知回路層と、を備え、
さらに、前記第1及び前記第2検知回路層は離間し、かつ、それらの間の距離が2um以上である、タッチディスプレイ装置の製造方法。
An OLED display layer is disposed on the lower substrate disposed opposite to the upper substrate through an air layer between the upper substrate and the lower substrate;
Forming a touch module on the OLED display layer;
The touch module is
A first sensing circuit layer;
A second detection circuit layer,
Furthermore, the first and second detection circuit layers are separated from each other, and the distance between them is 2 μm or more.
前記気層は、前記第1及び前記第2検知回路層の間にあって、
前記上側基板は、
前記OLEDディスプレイ層から離れた第1表面と、
前記第1検知回路層が設けられ、前記OLEDディスプレイ層に近い第2表面と、を備え、
さらに、前記第2検知回路層は、前記OLEDディスプレイ層上に設けられている、請求項14に記載のタッチディスプレイ装置の製造方法。
The air layer is between the first and second sensing circuit layers;
The upper substrate is
A first surface remote from the OLED display layer;
The first sensing circuit layer is provided, and a second surface close to the OLED display layer,
The method for manufacturing a touch display device according to claim 14, wherein the second detection circuit layer is provided on the OLED display layer.
前記タッチディスプレイ装置は、
前記OLEDディスプレイ装置を覆う保護層をさらに備え、
前記第2検知回路層は、前記保護層上に設けられる、請求項15に記載のタッチディスプレイ装置の製造方法。
The touch display device includes:
A protective layer covering the OLED display device;
The touch display device manufacturing method according to claim 15, wherein the second detection circuit layer is provided on the protective layer.
前記第1及び前記第2検知回路層は互いに対向配置され、かつ、それらの間の前記気層の厚さは5um〜100umの範囲である、請求項15に記載のタッチディスプレイ装置の製造方法。   The method of manufacturing a touch display device according to claim 15, wherein the first and second detection circuit layers are disposed to face each other, and the thickness of the air layer between them is in a range of 5 um to 100 um. 前記タッチディスプレイ装置は、
さらに、前記上側基板と前記下側基板とを接着する密封用接着層を形成し、
前記OLEDディスプレイ層及び前記タッチモジュールは、前記上側基板、前記下側基板及び前記密封用接着層によって形成されたスペース内に封入される、請求項15に記載のタッチディスプレイ装置の製造方法。
The touch display device includes:
Furthermore, an adhesive layer for sealing that bonds the upper substrate and the lower substrate is formed,
The method according to claim 15, wherein the OLED display layer and the touch module are enclosed in a space formed by the upper substrate, the lower substrate, and the sealing adhesive layer.
前記気層及び前記上側基板は、前記第1及び前記第2検知回路層の間にあって、
前記上側基板は、
前記OLEDディスプレイ層から離れて前記第1検知回路層が設けられた第1表面と、
前記OLEDディスプレイ層に近い第2表面と、を備え、
前記第2検知回路層は、前記OLEDディスプレイ層上に設けられる、請求項14に記載のタッチディスプレイ装置の製造方法。
The gas layer and the upper substrate are between the first and second detection circuit layers,
The upper substrate is
A first surface provided with the first sensing circuit layer away from the OLED display layer;
A second surface close to the OLED display layer,
The method of claim 14, wherein the second detection circuit layer is provided on the OLED display layer.
前記タッチディスプレイ装置は、
前記OLEDディスプレイ層を覆う保護層をさらに備え、
前記第2検知回路層は、前記保護層上に設けられる、請求項19に記載のタッチディスプレイ装置の製造方法。
The touch display device includes:
A protective layer covering the OLED display layer;
The method for manufacturing a touch display device according to claim 19, wherein the second detection circuit layer is provided on the protective layer.
前記タッチディスプレイ装置は、
さらに、前記上側基板と前記下側基板とを接着する密封用接着層を形成し、
前記OLEDディスプレイ層及び前記第2検知回路層は、前記上側基板、前記下側基板及び前記密封用接着層によって形成されたスペース内に封入される、請求項19に記載のタッチディスプレイ装置の製造方法。
The touch display device includes:
Furthermore, an adhesive layer for sealing that bonds the upper substrate and the lower substrate is formed,
The method of claim 19, wherein the OLED display layer and the second detection circuit layer are enclosed in a space formed by the upper substrate, the lower substrate, and the sealing adhesive layer. .
前記上側基板は、前記第1及び前記第2検知回路層の間にあって、
前記上側基板は、
第1表面と、
第2表面と、を備え、
さらに、前記第1検知回路層は前記第2表面上に設けられ、かつ、前記第2検知回路層は前記第1表面上に設けられる、請求項14に記載のタッチディスプレイ装置の製造方法。
The upper substrate is between the first and second sensing circuit layers;
The upper substrate is
A first surface;
A second surface,
The method for manufacturing a touch display device according to claim 14, wherein the first detection circuit layer is provided on the second surface, and the second detection circuit layer is provided on the first surface.
前記OLEDディスプレイ層を形成する方法は、
能動素子群を前記下側基板上に配置し、
対電極、画素電極、及び、中間層を備えた有機発光層を前記能動素子群上に配置する、請求項14に記載のタッチディスプレイ装置の製造方法。
The method of forming the OLED display layer includes:
An active element group is disposed on the lower substrate;
The method of manufacturing a touch display device according to claim 14, wherein an organic light emitting layer including a counter electrode, a pixel electrode, and an intermediate layer is disposed on the active element group.
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