JP2014520229A - 内燃機関の排気浄化装置 - Google Patents

Abstract

【課題】パティキュレートフィルタの圧力損失を十分に抑制する。
【解決手段】酸素過剰のもとで燃焼が行われる内燃機関の排気通路内にウォールフロー型パティキュレートフィルタ２４が配置される。パティキュレートフィルタに固体酸が担持される。標準状態における固体酸のハメットの酸度関数が−０．８３よりも小さく−１２よりも大きい。パティキュレートフィルタからアッシュを除去するために、パティキュレートフィルタの状態をパティキュレートフィルタへの流入排気ガス中の酸素濃度が低下されかつパティキュレートフィルタの温度が上昇された状態にするアッシュ微粒化処理が一時的に行われる。
【選択図】図１

Description

本発明は内燃機関の排気浄化装置に関する。

排気ガス中の粒子状物質を捕集するためのパティキュレートフィルタを排気通路内に配置した圧縮着火式内燃機関が公知である。このようにすると、大気中に排出される粒子状物質の量を抑制することができる。

ところが、機関運転時間が長くなるにつれて、パティキュレートフィルタ上の粒子状物質の量が次第に多くなり、パティキュレートフィルタの圧力損失が次第に大きくなる。その結果、機関出力が低下するおそれがある。

そこで、一般的に、捕集された粒子状物質を燃焼させてパティキュレートフィルタから除去するＰＭ除去処理が一時的に行われる。このＰＭ除去処理では、パティキュレートフィルタを酸化雰囲気に維持しつつパティキュレートフィルタの温度がＰＭ除去温度、例えば６００℃まで上昇される。

ＰＭ除去処理を効率的に行うために、種々の改良が提案されている。例えば、ＰＭ除去温度を低下させるために、活性金属を担持した固体超強酸からなる触媒を表面に保持したパティキュレートフィルタが公知である（特許文献１参照）。また、粒子状物質をパティキュレートフィルタから効率的に除去するために、貴金属と固体の超強酸とを有する触媒を表面に保持したパティキュレートフィルタが公知である（特許文献２参照）。更に、粒子状物質を浄化する触媒が担持されたウォールフロー型パティキュレートフィルタの下流に、排気ガス中の未燃炭化水素の炭素数の小さい炭化水素に分解する分解触媒を配置し、分解触媒の担体が、ハメットの酸度関数Ｈ_０が−０．５６以下でかつ−１２よりも大きい固体酸から形成されている、パティキュレートフィルタが公知である（特許文献３参照）。なお、超強酸の酸性度は硫酸の酸性度よりも高く、超強酸のハメットの酸度関数Ｈ_０は−１２以下である。

特開２００６−２８９１７５号公報 特開平１０−０３３９８５号公報 特開平１１−１２３３０６号公報

ところで、排気ガス中にはアッシュと称される不燃性成分が含まれており、このアッシュは粒子状物質と共にパティキュレートフィルタに捕集される。ところが、ＰＭ除去処理が行われても、アッシュは燃焼せず又は気化せず、パティキュレートフィルタ上に残留する。このため、機関運転時間が長くなるにつれて、パティキュレートフィルタ上のアッシュ量が次第に増大し、パティキュレートフィルタの圧力損失が次第に大きくなる。その結果、ＰＭ除去処理が繰り返し行われても、機関出力が低下するおそれがある。

上述の特許文献１，２，３ではこの問題点について何ら考慮されておらず、ましてその解決策も開示されていない。特に、特許文献３ではアッシュはウォールフロー型パティキュレートフィルタに捕集されるので、パティキュレートフィルタ下流に配置された分解触媒はアッシュと接触することがない。

本発明によれば、酸素過剰のもとで燃焼が行われる内燃機関の排気浄化装置であって、排気ガス中の粒子状物質を捕集するためのウォールフロー型パティキュレートフィルタが排気通路内に配置され、アッシュが粒子状物質と共にパティキュレートフィルタに捕集される、排気浄化装置において、パティキュレートフィルタに固体酸が担持され、標準状態（２５℃、１気圧（１０^５Ｐａ））における固体酸のハメットの酸度関数が−０．８３よりも小さく−１２よりも大きく、排気浄化装置が、パティキュレートフィルタからアッシュを除去するために、パティキュレートフィルタの状態をパティキュレートフィルタへの流入排気ガス中の酸素濃度が低下されかつパティキュレートフィルタの温度が上昇された状態にするアッシュ微粒化処理を一時的に行うアッシュ微粒化手段を具備する、ことを特徴とする内燃機関の排気浄化装置が提供される。

好ましくは、固体酸がシリカ・アルミナ、シリカ・チタニア、チタニア・ジルコニア、シリカ・ジルコニア、シリカ・酸化ガリウム、チタニア・アルミナ、シリカ・酸化イットリウム、アルミナ・ジルコニア、シリカ・酸化ランタン、チタニア・酸化カドミウム、チタニア・酸化スズ、チタニア・酸化亜鉛、酸化亜鉛・シリカ、及び酸化亜鉛・酸化カドミウムから選択された１つ又は複数の複合酸化物から形成される。更に好ましくは、固体酸がシリカ・アルミナから形成される。

好ましくは、アッシュ微粒化手段はアッシュ微粒化処理においてパティキュレートフィルタへの流入排気ガスの空燃比をほぼ理論空燃比又はリッチにする。

好ましくは、アッシュ微粒化手段はアッシュ微粒化処理においてパティキュレートフィルタの温度を約６００℃にする。

好ましくは、排気浄化装置が更に、パティキュレートフィルタに捕集された粒子状物質を除去するためにパティキュレートフィルタの状態を酸化雰囲気のもとでパティキュレートフィルタの温度が上昇された状態にするＰＭ除去処理を一時的に行うＰＭ除去手段を具備し、アッシュ微粒化手段は、ＰＭ除去処理に引き続いてアッシュ微粒化処理を行う。更に好ましくは、アッシュ微粒化手段は、アッシュ微粒化処理を行うべきか否かを判別し、アッシュ微粒化処理を行うべきと判別した後に初めて行われたＰＭ除去処理に引き続いてアッシュ微粒化処理を行う。更に好ましくは、アッシュ微粒化手段は、パティキュレートフィルタ上の微粒化されていないアッシュの量に基づいてアッシュ微粒化処理を行うべきか否かを判別する。更に好ましくは、流入排気ガスの空燃比がリーンのときに排気ガス中に含まれるＮＯｘを吸蔵し流入する排気ガスの空燃比が理論空燃比又はリッチになると吸蔵したＮＯｘを放出するＮＯｘ吸蔵還元触媒が排気通路内に配置され、排気浄化装置が、ＮＯｘ吸蔵還元触媒からＳＯｘを放出させるためにＮＯｘ吸蔵還元触媒の状態をＮＯｘ吸蔵還元触媒への流入排気ガスの空燃比がリッチでありかつＮＯｘ吸蔵還元触媒の温度がＳＯｘ放出温度に上昇された状態にするＳＯｘ放出処理を一時的に行うＳＯｘ放出手段を具備し、ＳＯｘ放出手段は、ＰＭ除去処理に引き続いてＳＯｘ放出処理を行う。更に好ましくは、ＳＯｘ放出手段は、アッシュ微粒化処理及びＳＯｘ放出処理を行うべきときには、ＰＭ除去処理に引き続いてＳＯｘ放出処理を行い、アッシュ微粒化手段はアッシュ微粒化処理を省略する。

好ましくは、ＰＭ除去手段はパティキュレートフィルタ上にあらかじめ定められた設定残留量の粒子状物質が残留するようにＰＭ除去処理を終了する。更に好ましくは、アッシュ微粒化手段は、アッシュ微粒化処理を行うべきか否かを判別し、アッシュ微粒化処理を行うべきと判別した後に初めて行われたＰＭ除去処理に引き続いてアッシュ微粒化処理を行う。更に好ましくは、アッシュ微粒化手段は、パティキュレートフィルタ上の微粒化されていないアッシュの量に基づいてアッシュ微粒化処理を行うべきか否かを判別する。更に好ましくは、更に、パティキュレートフィルタに酸素貯蔵能力を有する触媒が担持され、前記設定残存量が、アッシュ微粒化処理開始時に前記触媒に貯蔵されているほぼ全ての酸素を消費するのに必要な量以上に設定される。更に好ましくは、前記設定残存量が、アッシュ除去効率を許容下限効率にするのに必要な量以下に設定される。

好ましくは、アッシュ微粒化手段は、アッシュ微粒化処理をあらかじめ定められた設定インターバルを隔てて繰り返し行い、アッシュ微粒化処理により処理されたアッシュの量を求め、求めたアッシュ処理量に基づいて設定インターバルを更新する。更に好ましくは、アッシュ微粒化手段は、互いに異なる複数のインターバルでもってアッシュ微粒化処理を行うと共にそれぞれのアッシュ微粒化処理によるアッシュ処理量を求め、これらインターバル及び求めたアッシュ処理量に基づいて設定インターバルを更新する。更に好ましくは、排気浄化装置が更に、パティキュレートフィルタに捕集された粒子状物質を除去するために酸素雰囲気のもとでパティキュレートフィルタの温度を上昇するＰＭ除去処理を一時的に行うＰＭ除去手段を具備し、アッシュ微粒化手段はＰＭ除去処理に引き続いてアッシュ微粒化処理を行う。更に好ましくは、アッシュ微粒化手段は、アッシュ微粒化処理を行うべきか否かを判別し、アッシュ微粒化処理を行うべきと判別した後に初めて行われたＰＭ除去処理に引き続いてアッシュ微粒化処理を行う。更に好ましくは、アッシュ微粒化手段は、パティキュレートフィルタ上の微粒化されていないアッシュの量に基づいてアッシュ微粒化処理を行うべきか否かを判別する。

好ましくは、パティキュレートフィルタ上流の排気通路内にＳＯｘ貯蔵剤が配置され、ＳＯｘ貯蔵剤は、ＳＯｘ貯蔵剤の温度が低いとき又はＳＯｘ貯蔵剤への流入排気ガス中の酸素濃度が高いときに流入する排気ガス中のＳＯｘを貯蔵し、ＳＯｘ貯蔵剤の温度が高くなると又はＳＯｘ貯蔵剤への流入排気ガス中の酸素濃度が低くなると貯蔵しているＳＯｘを放出する性質を有し、排気浄化装置が更に、パティキュレートフィルタに捕集された粒子状物質を除去するためにパティキュレートフィルタの状態を酸化雰囲気のもとでパティキュレートフィルタの温度が上昇された状態にするＰＭ除去処理を一時的に行うＰＭ除去手段を具備し、ＰＭ除去処理が行われたときにＳＯｘ貯蔵剤からＳＯｘが放出される。更に好ましくは、排気浄化装置が更に、ＳＯｘ貯蔵剤からＳＯｘを放出させて固体酸へのＳＯｘ供給量を増大するＳＯｘ増量処理を一時的に行うＳＯｘ増量手段を具備し、ＳＯｘ増量手段はＳＯｘ増量処理をＰＭ除去処理に先立って行う。更に好ましくは、ＳＯｘ増量処理が、ＳＯｘ貯蔵剤からＳＯｘを放出させるためにＳＯｘ貯蔵剤の温度を上昇するＳＯｘ増量温度処理である。更に好ましくは、ＳＯｘ増量温度処理においてＳＯｘ貯蔵剤の温度がＳＯｘ放出温度まで上昇され、ＰＭ除去処理においてパティキュレートフィルタの温度がＰＭ除去温度まで上昇され、ＳＯｘ放出温度がＰＭ除去温度よりも低く設定される。更に好ましくは、ＳＯｘ増量温度処理においてＳＯｘ貯蔵剤の温度がＳＯｘ放出温度にされると共にＳＯｘ放出処理がＳＯｘ放出時間だけ行われ、ＳＯｘ増量温度処理が開始されてからＰＭ除去処理が終了されるまでにおけるＳＯｘ貯蔵剤のＳＯｘ放出速度が許容範囲内にほぼ維持されるように、ＳＯｘ放出温度及びＳＯｘ放出時間の一方又は両方が設定される。更に好ましくは、排気浄化装置が更に、ＳＯｘ貯蔵剤からＳＯｘを放出させて固体酸へのＳＯｘ供給量を増大するＳＯｘ増量処理を一時的に行うＳＯｘ増量手段を具備し、ＳＯｘ増量手段は、パティキュレートフィルタへの流入排気ガス量があらかじめ定められた設定量よりも多いか否かを判別し、パティキュレートフィルタへの流入排気ガス量が設定量よりも多いと判別したときにＳＯｘ増量処理を一時的に行う。更に好ましくは、ＳＯｘ増量手段は、機関加速運転が行われたときにパティキュレートフィルタへの流入排気ガス量が設定量よりも多いと判別する。更に好ましくは、ＳＯｘ増量処理が、ＳＯｘ貯蔵剤からＳＯｘを放出させるためにパティキュレートフィルタを酸化雰囲気に維持しつつＳＯｘ貯蔵剤への流入排気ガス中の酸素濃度を低下させるＳＯｘ増量酸素濃度処理である。

好ましくは、アッシュ微粒化手段は、アッシュ微粒化処理が行われた後に固体酸のアッシュ微粒化能力を求め、求めたアッシュ微粒化能力に基づいて次のアッシュ微粒化処理を行うか否かを判別する。更に好ましくは、アッシュ微粒化手段は、固体酸のアッシュ微粒化能力があらかじめ定められた設定能力よりも高いときに次のアッシュ微粒化処理を行う。更に好ましくは、固体酸のアッシュ微粒化能力が固体酸の活性酸点の数によって表される。更に好ましくは、還元雰囲気のもとで固体酸にアンモニアが一時的に供給され、固体酸に保持されたアンモニア量が求められ、求められたアンモニア量に基づいてアッシュ微粒化能力が求められる。更に好ましくは、アンモニア生成触媒がパティキュレートフィルタ上流の排気通路内に配置され、アンモニア生成触媒は、流入排気ガスの空燃比がリッチのときに流入する排気ガス中のＮＯｘからアンモニアを生成し、アンモニアを生成するためにアンモニア生成触媒への流入排気ガスの空燃比が一時的にリッチに切り換えられる。更に好ましくは、パティキュレートフィルタ下流の排気通路内に排気ガス中のＮＯｘ量を検出するためのＮＯｘセンサが取り付けられ、固体酸にアンモニアが供給された後に、酸化雰囲気のもとでパティキュレートフィルタから流出するＮＯｘ量に基づいて前記保持されたアンモニア量が求められる。

好ましくは、パティキュレートフィルタの上流側部分におけるパティキュレートフィルタ単位体積あたりの固体酸の担持量に比べてパティキュレートフィルタの下流側部分におけるパティキュレートフィルタ単位体積あたりの固体酸の担持量が多い。更に好ましくは、パティキュレートフィルタの上流端からパティキュレートフィルタの下流端に向かうにつれてパティキュレートフィルタ単位体積あたりの固体酸の担持量が連続的に増大される。

好ましくは、パティキュレートフィルタに酸化機能を有する触媒が更に担持され、前記触媒はセリア及び銀から形成される。

好ましくは、パティキュレートフィルタは、多孔性の隔壁を介して交互に配置された排気ガス流入通路及び排気ガス流出通路を有する。

パティキュレートフィルタの圧力損失を十分に抑制することができる。

内燃機関の全体図である。 パティキュレートフィルタの正面図である。 パティキュレートフィルタの側面断面図である。 隔壁の部分拡大断面図である。 パティキュレートフィルタの表面を示す、パティキュレートフィルタの部分拡大断面図である。 アッシュ微粒化剤のアッシュ除去作用を説明する図である。 アッシュ微粒化剤のアッシュ除去作用を説明する図である。 アッシュ微粒化剤のアッシュ除去作用を説明する図である。 アッシュ微粒化剤のアッシュ除去作用を説明する図である。 アッシュ微粒化剤のアッシュ除去作用を説明する図である。 アッシュ除去作用のメカニズムを説明する図である。 アッシュ除去作用のメカニズムを説明する図である。 アッシュ除去作用のメカニズムを説明する図である。 アッシュ除去作用のメカニズムを説明する図である。 実験結果を示すタイムチャートである。 実験結果を示す線図である。 実験結果を示す線図である。 酸強度を示す線図である。 本発明による第１実施例の排気浄化制御を説明するタイムチャートである。 ５０％除去温度ＴＰＭ５０を示す線図である。 本発明による第１実施例の排気浄化制御を実行するルーチンを示すフローチャートである。 パティキュレートフィルタの部分拡大図である。 パティキュレートフィルタの部分拡大図である。 本発明による第２実施例による排気浄化制御を説明するタイムチャートである。 本発明による第２実施例の排気浄化制御を実行するルーチンを示すフローチャートである。 本発明による第３実施例による内燃機関の全体図である。 本発明による第３実施例における排気浄化制御を説明するタイムチャートである。 本発明による第３実施例における排気浄化制御を説明する別のタイムチャートである。 本発明による第３実施例の排気浄化制御を実行するルーチンを示すフローチャートである。 本発明による第４実施例を説明するタイムチャートである。 本発明による第４実施例を説明する、パティキュレートフィルタの部分拡大図である。 本発明による第４実施例のＰＭ除去処理を実行するルーチンを示すフローチャートである。 粒子状物質量の増大分を示すマップである。 粒子状物質量の減少分を示すマップである。 粒子状物質残留量とアッシュ除去効率との関係を示す線図である。 本発明による第５実施例を説明するタイムチャートである。 本発明による第５実施例を説明する、パティキュレートフィルタの部分拡大図である。 本発明による第６実施例を説明するタイムチャートである。 パティキュレートフィルタの圧力損失の変化を示す線図である。 本発明による第７実施例を説明するタイムチャートである。 圧力損失及びその変化率を示す線図である。 本発明による第７実施例の設定インターバルの更新制御を実行するルーチンを示すフローチャートである。 本発明による第７実施例の設定インターバルの更新制御を実行するルーチンを示すフローチャートである。 インターバルの更新ルーチンを示すフローチャートである。 本発明による第８実施例を示す内燃機関の全体図である。 ＳＯｘ貯蔵剤のＳＯｘ放出速度を示す線図である。 本発明による第８実施例の排気浄化制御を説明するタイムチャートである。 本発明による第９実施例の排気浄化制御を説明するタイムチャートである。 本発明による第９実施例におけるＳＯｘ貯蔵剤のＳＯｘ放出速度の変化を示すタイムチャートである。 本発明による第９実施例の排気浄化制御を実行するルーチンを実行するフローチャートである。 本発明による第１０実施例の排気浄化制御を説明するタイムチャートである。 本発明による第１０実施例の排気浄化制御を実行するルーチンを実行するフローチャートである。 本発明による第１１実施例の排気浄化制御を説明するタイムチャートである。 本発明による第１１実施例の排気浄化制御を実行するルーチンを実行するフローチャートである。 本発明による第１２実施例の内燃機関の全体図である。 本発明による第１２実施例の排気浄化制御を説明するタイムチャートである。 アッシュ微粒化剤の酸量の求め方を説明するタイムチャートである。 アッシュ微粒化剤の酸量の求め方を説明する図である。 アッシュ微粒化剤の酸量の求め方を説明する図である。 本発明による第１２実施例の排気浄化制御を実行するルーチンを示すフローチャートである。 アッシュ微粒化剤の担持量を示す線図である。 未処理アッシュの分布を示す線図である。 アッシュ微粒化剤の担持量の別の例を示す線図である。 アッシュ微粒化剤の担持量の別の例を示す線図である。 アッシュ微粒化剤の担持量の別の例を示す線図である。

図１は本発明による第１実施例を示している。図１を参照すると、１は圧縮着火式内燃機関の本体、２は各気筒の燃焼室、３は各燃焼室２内にそれぞれ燃料を噴射するための電子制御式燃料噴射弁、４は吸気マニホルド、５は排気マニホルドをそれぞれ示す。吸気マニホルド４は吸気ダクト６を介して排気ターボチャージャ７のコンプレッサ７ｃの出口に連結され、コンプレッサ７ｃの入口はエアフローメータ８を介してエアクリーナ９に連結される。吸気ダクト６内には電気制御式スロットル弁１０が配置され、更に吸気ダクト６周りには吸気ダクト６内を流れる吸入空気を冷却するための冷却装置１１が配置される。一方、排気マニホルド５は排気ターボチャージャ７の排気タービン７ｔの入口に連結され、排気タービン７ｔの出口は排気後処理装置２０に連結される。

排気マニホルド５と吸気マニホルド４とは排気ガス再循環（以下、ＥＧＲと称す）通路１２を介して互いに連結され、ＥＧＲ通路１２内には電気制御式ＥＧＲ制御弁１３が配置される。また、ＥＧＲ通路１２周りにはＥＧＲ通路１２内を流れるＥＧＲガスを冷却するための冷却装置１４が配置される。一方、各燃料噴射弁３は燃料供給管１５を介してコモンレール１６に連結される。このコモンレール１６内へは電子制御式の吐出量可変な燃料ポンプ１７から燃料が供給され、コモンレール１６内に供給された燃料は各燃料供給管１５を介して燃料噴射弁３に供給される。本発明による第１実施例ではこの燃料は軽油からなる。別の実施例では、内燃機関は火花点火式内燃機関から構成される。この場合には燃料はガソリンからなる。

排気後処理装置２０は排気タービン７ｔの出口に連結された排気管２１と、排気管２１に連結された触媒コンバータ２２と、触媒コンバータ２２に連結された排気管２３とを具備する。触媒コンバータ２２内にはウォールフロー型のパティキュレートフィルタ２４が配置される。

触媒コンバータ２２には、パティキュレートフィルタ２４の温度を検出するための温度センサ２５が設けられる。別の実施例では、パティキュレートフィルタ２４に流入する排気ガスの温度を検出するための温度センサが排気管２１に配置される。更に別の実施例では、パティキュレートフィルタ２４から流出する排気ガスの温度を検出するための温度センサが排気管２３に配置される。これら排気ガスの温度はパティキュレートフィルタ２４の温度を表している。

触媒コンバータ２２には更に、パティキュレートフィルタ２４の圧力損失を検出するための圧力損失センサ２６が設けられる。本発明による第１実施例では、圧力損失センサ２６はパティキュレートフィルタ２４の上流及び下流の圧力差を検出するための圧力差センサから構成される。別の実施例では、圧力損失センサ２６は排気管２１に取り付けられて機関背圧を検出するセンサから構成される。

一方、排気マニホルド５には燃料添加弁２７が取り付けられる。この燃料添加弁２７にはコモンレール１６から燃料が添加され、燃料添加弁２７から排気マニホルド５内に燃料が添加される。別の実施例では、燃料添加弁２７が排気管２１に配置される。

電子制御ユニット３０はデジタルコンピュータからなり、双方向性バス３１によって互いに接続されたＲＯＭ（リードオンリメモリ）３２、ＲＡＭ（ランダムアクセスメモリ）３３、ＣＰＵ（マイクロプロセッサ）３４、入力ポート３５及び出力ポート３６を具備する。エアフローメータ８、温度センサ２５、及び圧力差センサ２６の出力信号はそれぞれ対応するＡＤ変換器３７を介して入力ポート３５に入力される。また、アクセルペダル３９にはアクセルペダル３９の踏み込み量Ｌに比例した出力電圧を発生する負荷センサ４０が接続され、負荷センサ４０の出力電圧は対応するＡＤ変換器３７を介して入力ポート３５に入力される。更に入力ポート３５にはクランクシャフトが例えば１５°回転する毎に出力パルスを発生するクランク角センサ４１が接続される。ＣＰＵ３４ではクランク角センサ４１からの出力パルスに基づいて機関回転数Ｎｅが算出される。一方、出力ポート３６は対応する駆動回路３８を介して燃料噴射弁３、スロットル弁１０駆動装置、ＥＧＲ制御弁１３、燃料ポンプ１７、及び燃料添加弁２７に接続される。

図２Ａ及び図２Ｂはウォールフロー型パティキュレートフィルタ２４の構造を示している。なお、図２Ａはパティキュレートフィルタ２４の正面図を示しており、図２Ｂはパティキュレートフィルタ２４の側面断面図を示している。図２Ａ及び図２Ｂに示されるようにパティキュレートフィルタ２４はハニカム構造をなしており、互いに平行をなして延びる複数個の排気流通路７０，７１を具備する。これら排気流通路７０，７１は、上流端が開放されかつ下流端が栓７２により閉塞された排気ガス流入通路７０と、上流端が栓７３により閉塞されかつ下流端が開放された排気ガス流出通路７１とにより構成される。なお、図２Ａにおいてハッチングを付した部分は栓７３を示している。したがって排気ガス流入通路７０及び排気ガス流出通路７１は薄肉の隔壁７４を介して交互に配置される。云い換えると排気ガス流入通路７０及び排気ガス流出通路７１は各排気ガス流入通路７０が４つの排気ガス流出通路７１によって包囲され、各排気ガス流出通路７１が４つの排気ガス流入通路７０によって包囲されるように配置される。別の実施例では、排気流通路は、上流端及び下流端が開放された排気ガス流入通路と、上流端が栓により閉塞されかつ下流端が開放された排気ガス流出通路とにより構成される。

パティキュレートフィルタ２４は例えばコージェライトのような多孔質材料から形成されており、したがって排気ガス流入通路７０内に流入した排気ガスは図２Ｂにおいて矢印で示されるように周囲の隔壁７４内を通って隣接する排気ガス流出通路７１内に流出する。

図３Ａは隔壁７４の拡大断面図を示している。図３Ａに示されるように、隔壁７４は排気ガス流入通路７０から排気ガス流出通路７１に到る複数の細孔７５を有する。本発明による第１実施例では、パティキュレートフィルタ２４の平均細孔径は１０μｍから２５μｍである。

更に図３Ａに示されるように、パティキュレートフィルタ２４の表面上、すなわち隔壁７４の両側表面上及び細孔７５の内壁面上には、酸化機能を有する触媒７７及びアッシュ微粒化剤７８が担持されている。すなわち、図３Ｂに示されるように、隔壁７４を構成する基材７６上に、触媒７７及びアッシュ微粒化剤７８のコーティングが形成される。

酸化機能を有する触媒７７は、例えばアルミナＡｌ_２Ｏ_３、セリアＣｅＯ_２、酸化プラセオジムＰｒ_６Ｏ_１１、酸化ネオジムＮｄ_２Ｏ_３、酸化ランタンＬａ_２Ｏ_３のような卑金属酸化物から形成された担体と、この担体に担持された白金Ｐｔ、パラジウムＰｄ、銀Ａｇのような貴金属とから形成される。一実施例では触媒７７はセリアＣｅＯ_２から形成された担体と、担体に担持された銀Ａｇとから形成される。別の実施例では触媒７７はアルミナＡｌ_２Ｏ_３から形成された担体と、担体に担持された白金Ｐｔとから形成される。

一方、アッシュ微粒化剤７８は、亜硫酸Ｈ_２ＳＯ_３の酸強度よりも高くかつ硫酸Ｈ_２ＳＯ_４の酸強度よりも低い酸強度を有する固体酸から形成される。一実施例では、アッシュ微粒化剤７８は無定形のシリカ（ＳｉＯ_２）・アルミナ（Ａｌ_２Ｏ_３）から形成される。

図３Ｂに示されるように、アッシュ微粒化剤７８ないし固体酸は複数の酸点７９を有しており、これら酸点７９は互いに分散されている。

燃焼室２では酸素過剰のもとで燃焼が行われている。したがって、燃料噴射弁３及び燃料添加弁２７から燃料が２次的に供給されない限り、パティキュレートフィルタ２４は酸化雰囲気にある。言い換えると、機関吸気通路、燃焼室２及び触媒コンバータ２２上流の排気通路内に供給された空気及び燃料（炭化水素）の比である触媒コンバータ２２への流入排気ガスの空燃比は、通常はリーンに維持されている。

排気ガス中には主として固体炭素から形成される粒子状物質が含まれている。この粒子状物質はパティキュレートフィルタ２４上に捕集される。また、パティキュレートフィルタ２４は酸化雰囲気にあり、パティキュレートフィルタ２４は酸化機能を有する触媒７７を備えているので、パティキュレートフィルタ２４に捕集された粒子状物質は順次酸化される。しかしながら、捕集される粒子状物質の量が酸化される粒子状物質の量よりも多くなると粒子状物質がパティキュレートフィルタ２４上に次第に堆積し、粒子状物質の堆積量が増大すると機関出力の低下を招いてしまう。したがって粒子状物質の堆積量が増大したときには堆積した粒子状物質を除去しなければならない。この場合、酸化雰囲気のもとでパティキュレートフィルタ２４の温度を上昇させると堆積した粒子状物質が酸化され、除去される。

そこで本発明による第１実施例では、パティキュレートフィルタ２４上に堆積した粒子状物質の量が許容上限量を越えたときに、パティキュレートフィルタ２４上の粒子状物質を酸化除去するために、パティキュレートフィルタ２４の状態を、酸化雰囲気のもとでパティキュレートフィルタ２４の温度がＰＭ除去温度まで上昇された状態にするＰＭ除去処理が一時的に行われる。その結果、パティキュレートフィルタ２４上の粒子状物質が除去され、パティキュレートフィルタ２４の圧力損失が低減される。

ところが、排気ガス中にはアッシュも含まれており、このアッシュも粒子状物質と共にパティキュレートフィルタ２４に捕集される。この場合、アッシュの粒径は０．１μｍから０．５μｍ程度であり、パティキュレートフィルタ２４の平均細孔径（１０μｍから２５μｍ）よりもかなり小さい。しかしながら、アッシュは、パティキュレートフィルタ２４の隔壁の表面もしくは細孔内壁面、又はパティキュレートフィルタ２４に捕集されている粒子状物質又はアッシュに衝突し、それによって捕集される。このアッシュは主として硫酸カルシウムＣａＳＯ_４、リン酸亜鉛カルシウムＣａ_１９Ｚｎ_２（ＰＯ_４）_１４のようなカルシウム塩から形成されることが本願発明者により確認されている。カルシウムＣａ，亜鉛Ｚｎ，リンＰ等は機関潤滑油に由来し、イオウＳは燃料に由来する。すなわち、硫酸カルシウムＣａＳＯ_４を例にとって説明すると、機関潤滑油が燃焼室２内に流入して燃焼し、潤滑油中のカルシウムＣａが燃料中のイオウＳと結合することにより硫酸カルシウムＣａＳＯ_４が生成される。

ＰＭ除去処理が行われても、アッシュは燃焼せず又は気化しない。また、ＰＭ除去処理が行われる毎に、アッシュ粒子同士の間に存在していた粒子状物質が除去され、しかもアッシュ粒子が高温に晒されるので、アッシュ粒子同士が凝集しやすくなる。したがって、パティキュレートフィルタ２４上のアッシュの粒径が大きくなるので、アッシュがパティキュレートフィルタ２４の細孔を通過するのが困難になる。このようにしてアッシュがパティキュレートフィルタ２４上に残留する。その結果、機関運転時間が長くなるにつれて、パティキュレートフィルタ２４上のアッシュ量が次第に増大し、パティキュレートフィルタ２４の圧力損失が次第に大きくなる。このため、ＰＭ除去処理が繰り返し行われても、機関出力が低下するおそれがある。

そこで本発明による第１実施例では、パティキュレートフィルタ２４にアッシュ微粒化剤７８が担持される。このアッシュ微粒化剤７８は、パティキュレートフィルタ２４への流入排気ガス中の酸素濃度が低下されかつパティキュレートフィルタ２４の温度が上昇された状態においてパティキュレートフィルタ２４上のアッシュを微粒化すると共に保持し、酸化雰囲気のもとでパティキュレートフィルタ２４への流入排気ガス中にＳＯｘが含まれている状態において保持している微粒化されたアッシュを放出する性質を有する。

その上で、パティキュレートフィルタ２４からアッシュを除去するために、パティキュレートフィルタ２４の状態をパティキュレートフィルタ２４への流入排気ガス中の酸素濃度が低下されかつパティキュレートフィルタ２４の温度が上昇された状態にするアッシュ微粒化処理が一時的に行われる。

その結果、パティキュレートフィルタ２４上のアッシュがパティキュレートフィルタ２４から除去される。したがって、アッシュによるパティキュレートフィルタ２４の圧力損失の増大が抑制される。このことを図４Ａから図５Ｂを参照して更に説明する。

図４Ａはパティキュレートフィルタ２４にアッシュ８０が捕集されている状態を示している。

次いで、アッシュ微粒化処理が行われると、図４Ｂに示されるように、アッシュが微粒化され、微粒化されたアッシュ８１がアッシュ微粒化剤７８に分散状に保持される。より詳細には、図５Ａに示されるように、大粒径のアッシュ８０から微粒化されたアッシュ８１が形成され、微粒化されたアッシュ８１はアッシュ微粒化剤７８の酸点７９に保持される。

次いで、アッシュ微粒化処理が完了され、通常運転に戻される。すなわち、パティキュレートフィルタ２４への流入排気ガスの空燃比がリーンに戻される。また、このとき排気ガス中にはＳＯｘが含まれている。したがって、パティキュレートフィルタ２４の状態が、酸化雰囲気のもとでパティキュレートフィルタ２４への流入排気ガス中にＳＯｘが含まれている状態にされる。その結果、微粒化されたアッシュ８１がアッシュ微粒化剤７８から放出される。より詳細には、図５Ｂに示されるように、微粒化されたアッシュ８１がアッシュ微粒化剤７８の酸点７９から放出される。アッシュ微粒化剤７８から放出された微粒化されたアッシュ８１は、図４Ｃに示されるように、排気ガス流れＥＧＦによりパティキュレートフィルタ２４の細孔を通過して排気ガス流出通路７１へ流出する。

したがって、パティキュレートフィルタ２４にアッシュ微粒化剤７８を担持し、アッシュ微粒化処理を一時的に行うと、パティキュレートフィルタ２４からアッシュを除去できるのである。このようにアッシュを微粒化してパティキュレートフィルタから除去するという考え方はこれまで存在していない。

アッシュ微粒化剤７８によるアッシュ除去作用は次のようなメカニズムによると考えられている。以下では、アッシュが硫酸カルシウムＣａＳＯ_４から形成されている場合を例にとって説明する。しかしながら、アッシュが他の物質から形成されている場合も同様である。

アッシュ微粒化処理が行われると、すなわちパティキュレートフィルタ２４の状態がパティキュレートフィルタ２４への流入排気ガス中の酸素濃度が低下されかつパティキュレートフィルタ２４の温度が上昇された状態にされると、図６Ａに示されるように、アッシュを形成する硫酸カルシウムＣａＳＯ_４と例えば亜硫酸カルシウムＣａＳＯ_３との間の平衡が亜硫酸カルシウムＣａＳＯ_３が生成される方向に傾く（ＣａＳＯ_４→ＣａＳＯ_３）。言い換えると、硫酸カルシウムＣａＳＯ_４が不安定化される。なお、このときアッシュ微粒化剤７８の酸点７９には水素イオンＨ^＋が保持されている。

上述したように、アッシュ微粒化剤７８の酸強度は亜硫酸Ｈ_２ＳＯ_３の酸強度よりも高い。酸強度が高いということは水素イオンＨ^＋を放出しやすいということを意味している。このため、図６Ｂに示されるように、アッシュ微粒化剤７８は酸点７９において、水素イオンＨ^＋を放出し、亜硫酸カルシウムＣａＳＯ_３からカルシウムイオンＣａ^２＋を受け取る。このようにしてアッシュがカルシウムイオンＣａ^２＋の形に微粒化され、アッシュ微粒化剤７８に保持される。一方、亜硫酸カルシウムＣａＳＯ_３はアッシュ微粒化剤７８から水素イオンＨ^＋を受け取り、カルシウムイオンＣａ^２＋を放出し、したがって亜硫酸Ｈ_２ＳＯ_３が形成される。この亜硫酸Ｈ_２ＳＯ_３は次いで水Ｈ_２Ｏ及び二酸化硫黄ＳＯ_２に分解され、パティキュレートフィルタ２４から流出する。

次いで、アッシュ微粒化処理が完了されると、すなわちパティキュレートフィルタ２４の状態が、酸化雰囲気のもとでパティキュレートフィルタ２４への流入排気ガスにＳＯｘが含まれている状態に戻されると、図６Ｃに示されるように、排気ガス中に含まれるＳＯｘ及び水Ｈ_２Ｏから硫酸Ｈ_２ＳＯ_４が生成される（ＳＯｘ＋Ｈ_２Ｏ→Ｈ_２ＳＯ_４）。上述したように、アッシュ微粒化剤７８の酸強度は硫酸Ｈ_２ＳＯ_４の酸強度よりも低い。このため、図６Ｄに示されるように、硫酸Ｈ_２ＳＯ_４は水素イオンＨ^＋を放出し、アッシュ微粒化剤７８からカルシウムイオンＣａ^２＋を受け取り、したがって硫酸カルシウムＣａＳＯ_４が形成される（Ｃａ^２＋＋ＳＯ_４ ^２−→ＣａＳＯ_４）。一方、アッシュ微粒化剤７８は酸点７９において、水素イオンＨ^＋を受け取り、カルシウムイオンＣａ^２＋を放出する。このようにしてアッシュが酸点７９から離脱し、アッシュ微粒化剤７８から放出される。言い換えると、酸点７９が再生ないし再活性化される。

ここで注目すべきは、１つの酸点７９に１つのカルシウムイオンＣａ^２＋が保持され、１つのカルシウムイオンＣａ^２＋から１分子の硫酸カルシウムＣａＳＯ_４が生成されるということである。このことは、アッシュが１分子の大きさまで微粒化されることを意味している。このように微粒化されたアッシュ８１の粒径は１ｎｍ以下であり、したがってパティキュレートフィルタ２４の細孔を容易に通過することができる。また、微粒化されたアッシュ８１がアッシュ微粒化剤７８に保持されている状態でも、パティキュレートフィルタ２４の圧力損失を十分に低減することができる。

なお、微粒化されたアッシュがパティキュレートフィルタ２４の細孔内で再凝集するおそれがある。しかしながら、微粒化されたアッシュは極めて小さいので、再凝集したとしても、パティキュレートフィルタ２４を容易に通過できる。

上述のメカニズムは次の実験結果によっても支持されている。

硫酸カルシウム粒子と、固体酸粒子とを混合し、第１のサンプルを用意した。固体酸粒子として、シリカ・アルミナ（日揮触媒化成株式会社製のＮ６３３ＨＮ（アルミナ含有率：２５ｗｔ％、Ｓｉ／Ａｌ比：２．３、比表面積：３８０ｍ^２／ｇ））を用いた。第１のサンプルを反応管内に配置し、反応管に窒素ガスを供給しつつ、反応管の温度ＴＲが約６００℃まで上昇され保持されるように反応管を加熱した。このとき反応管から流出するガス中のＳＯｘ量ＱＳＯｘを測定した。また、硫酸カルシウム粒子及び固体酸粒子を分離した比較サンプルを反応管内に配置し、同様の処理を行い、ＳＯｘ流出量ＱＳＯｘを測定した。

測定結果を図７Ａに示す。図７ＡにおいてＴＲは反応管温度を示している。図７Ａからわかるように、無酸素雰囲気のもとで約６００℃まで加熱されると、実線Ｓで示されるように第１のサンプルからＳＯｘが放出された。このことから、硫酸カルシウムＣａＳＯ_４がカルシウムとＳＯｘに分解されたことがわかる。これに対し、破線Ｒで示されるように比較サンプルからはＳＯｘが放出されなかった。

また、上記処理前後における第１のサンプルの酸量ＱＡＣＤ、すなわちカルシウムを保持していない酸点である活性酸点の数を測定した。

測定結果を図７Ｂに示す。図７Ｂからわかるように、Ｓ１Ｂで示される処理前の酸量ＱＡＣＤに比べて、Ｓ１Ａで示される処理後の酸量ＱＡＣＤが減少した。このことから、固体酸の酸点にカルシウムが保持されたことがわかる。

更に、カルシウムを保持した固体酸から形成される第２のサンプルを用意した。固体酸粒子は第１のサンプルと同様であった。第２のサンプルを反応管内に配置し、酸素過剰でかつＳＯｘを含むガスを反応管に供給しつつ、反応管の温度を約３５０℃に加熱し一定時間保持した。当該処理前後における第２のサンプルの酸量を測定した。

測定結果を図７Ｃに示す。図７Ｃからわかるように、Ｓ２Ａで示される処理前の酸量ＱＡＣＤに比べて、Ｓ２Ｂで示される処理後の酸量ＱＡＣＤが増加した。このことから、固体酸の酸点からカルシウムが放出されたことがわかる。

このように、パティキュレートフィルタ２４にアッシュ微粒化剤７８を担持し、アッシュ微粒化処理を一時的に行うと、パティキュレートフィルタ２４からアッシュを除去することができる。このため、パティキュレートフィルタ２４の圧力損失が増大するのが抑制され、機関出力が低下するのが抑制される。また、燃料消費率が増大するのが抑制される。

次に、アッシュ微粒化剤７８について更に説明する。上述したように、アッシュ微粒化剤７８は、亜硫酸Ｈ_２ＳＯ_３の酸強度よりも高くかつ硫酸Ｈ_２ＳＯ_４の酸強度よりも低い酸強度を有する固体酸から形成される。

酸強度は、例えばハメットの酸度関数、水素イオン指数、酸解離定数、アンモニアを用いた昇温離脱法（ＮＨ_３−ＴＰＤ法）による測定値から選ばれた１つ又は複数により表される。

酸強度がハメットの酸度関数Ｈ_０で表される場合、ハメットの酸度関数Ｈ_０が小さくなるほど酸強度が高くなる。標準状態（２５℃、１気圧（１０^５Ｐａ））において、１００％亜硫酸Ｈ_２ＳＯ_３のハメットの酸度関数Ｈ_０は−０．８３であり、１００％硫酸Ｈ_２ＳＯ_４のハメットの酸度関数Ｈ_０は−１２である。

そうすると、標準状態におけるアッシュ微粒化剤７８のハメットの酸度関数Ｈ_０が−０．８３よりも小さく−１２よりも大きいという見方もできる。

具体的には、アッシュ微粒化剤７８は、シリカ（ＳｉＯ_２）・アルミナ（Ａｌ_２Ｏ_３）（Ｈ_０＝−８．２）、シリカ（ＳｉＯ_２）・チタニア（ＴｉＯ_２）（Ｈ_０＝−８．２）、チタニア（ＴｉＯ_２）・ジルコニア（ＺｒＯ_２）（Ｈ_０＝−８．２）、シリカ（ＳｉＯ_２）・ジルコニア（ＺｒＯ_２）（Ｈ_０＝−８．２）、シリカ（ＳｉＯ_２）・酸化ガリウム（Ｇａ_２Ｏ_３）（Ｈ_０＝−７．９）、チタニア（ＴｉＯ_２）・アルミナ（Ａｌ_２Ｏ_３）（Ｈ_０＝−５．８）、シリカ（ＳｉＯ_２）・酸化イットリウム（Ｙ_２Ｏ_３）（Ｈ_０＝−５．８）、アルミナ（Ａｌ_２Ｏ_３）・ジルコニア（ＺｒＯ_２）（Ｈ_０＝−５．８）、シリカ（ＳｉＯ_２）・酸化ランタン（Ｌａ_２Ｏ_３）（Ｈ_０＝−４．６）、チタニア（ＴｉＯ_２）・酸化カドミウム（ＣｄＯ）（Ｈ_０＝−３．０）、チタニア（ＴｉＯ_２）・酸化スズ（ＳｎＯ_２）（Ｈ_０＝−３．０）、チタニア（ＴｉＯ_２）・酸化亜鉛（ＺｎＯ）（Ｈ_０＝−３．０）、酸化亜鉛（ＺｎＯ）・シリカ（ＳｉＯ_２）（Ｈ_０＝−３．０）、及び酸化亜鉛（ＺｎＯ）・酸化カドミウム（ＣｄＯ）（Ｈ_０＝−３．０）から選択された１つ又は複数の複合酸化物から形成される。なお、複合材料名の後のハメットの酸度関数（Ｈ_０）は、金属のモル比が１：１の場合のハメットの酸度関数（Ｈ_０）を示している。

このようなアッシュ微粒化剤は、例えば下記の参考文献１に記載のように、一般的に知られている電気陰性度を参照して選択することができる。参考文献１のＦｉｇ．４を図８として本件明細書に添付する：Ｋａｔｓｕｅ Ｓｈｉｂａｔａ， Ｔａｄａｍｉｔｓｕ Ｋｉｙｏｕｒａ， Ｊｕｎ Ｋｉｔａｇａｗａ， Ｔａｋａｓｈｉ Ｓｕｍｉｙｏｓｈｉ， Ｋｏｚｏ Ｔａｎａｂｅ， ”Ａｃｉｄｉｃ ｐｒｏｐｅｒｔｉｅｓ ｏｆ Ｂｉｎａｒｙ Ｍｅｔａｌ Ｏｘｉｄｅｓ”， Ｂｕｌｌｅｔｉｎ ｏｆ ｔｈｅ Ｃｈｅｍｉｃａｌ Ｓｏｃｉｅｔｙ ｏｆ Ｊａｐａｎ， Ｖｏｌ． ４６ （１９７３） Ｎｏ． １０ Ｐ ２９８５−２９８８。

別の観点によれば、亜硫酸Ｈ_２ＳＯ_３の酸強度よりも高くかつ硫酸Ｈ_２ＳＯ_４の酸強度よりも低い酸強度を有する固体酸をパティキュレートフィルタ２４に担持しているということになる。

更に別の観点によれば、標準状態におけるハメットの酸度関数Ｈ_０が−０．８３よりも小さく−１２よりも大きい固体酸をパティキュレートフィルタ２４に担持しているということになる。この酸度関数Ｈ_０の上限は例えば、−１、−２、−３、−４、−５、−６、又は−７である。また、この酸度関数Ｈ_０の下限は例えば、−１２、−１１、−１０、又は−９である。別の実施例では、標準状態におけるハメットの酸度関数Ｈ_０が例えば−２＜Ｈ_０＜−１１又は−４＜Ｈ_０＜−１０又は−６＜Ｈ_０＜−９の条件を満たす固体酸がパティキュレートフィルタ２４に担持される。

なお、１００％亜硫酸Ｈ_２ＳＯ_３のハメットの酸度関数Ｈ_０は次のように定義される。すなわち、１００％亜硫酸Ｈ_２ＳＯ_３の電離度は０．１ｍｏｌ／Ｌにおける亜硫酸Ｈ_２ＳＯ_３の電離度と同等であり、１００％亜硫酸Ｈ_２ＳＯ_３の密度は１００％硫酸Ｈ_２ＳＯ_４の密度と同等である、と仮定する。標準状態における０．１ｍｏｌ／Ｌの亜硫酸Ｈ_２ＳＯ_３水溶液中の水素イオン濃度は３．１ｘ１０^−２ｍｏｌ／Ｌであり、標準状態における１００％硫酸Ｈ_２ＳＯ_４の密度は１８４０（ｇ／Ｌ）である。そうすると、亜硫酸Ｈ_２ＳＯ_３の分子量が８２であるから、１００％亜硫酸Ｈ_２ＳＯ_３の濃度は２２ｍｏｌ／Ｌ（＝１８４０／８２）と考えることができる。したがって、標準状態における１００％亜硫酸Ｈ_２ＳＯ_３のハメットの酸度関数Ｈ_０は次式で表される。

Ｈ_０＝−ｌｏｇ（０．０３１／０．１・２２）＝−０．８３

図９は本発明による第１実施例の排気浄化制御を示している。図９を参照すると、時間ｔａ１において、パティキュレートフィルタ２４に捕集された粒子状物質の量ＱＰＭが許容上限量ＵＰＭを越えると、ＰＭ除去処理が開始される。すなわち、パティキュレートフィルタ２４への流入排気ガスの空燃比ＡＦＥがリーンに維持されつつ、パティキュレートフィルタ２４の温度ＴＦがＰＭ除去温度ＴＰＭまで上昇される。その結果、粒子状物質量ＱＰＭが次第に減少する。次いで、時間ｔａ２において粒子状物質量ＱＰＭが許容下限量まで減少されると、ＰＭ除去処理が終了される。図９に示される例では、許容下限量ＬＰＭはほぼゼロに設定されている。

次いで、時間ｔａ３において、パティキュレートフィルタ２４に捕集された微粒化されていないアッシュの量、すなわち未処理アッシュ量ＱＵＡが許容上限量ＵＵＡを越えると、アッシュ微粒化処理が開始される。すなわち、パティキュレートフィルタ２４への流入排気ガスの空燃比が例えば理論空燃比ＡＦＳまで低下され、パティキュレートフィルタ２４の温度ＴＦがアッシュ微粒化温度ＴＡＡまで上昇される。その結果、パティキュレートフィルタ２４上のアッシュが微粒化され、未処理アッシュ量ＱＵＡが次第に減少する。また、微粒化されてパティキュレートフィルタ２４に保持されているアッシュの量ＱＡＡが次第に増加する。次いで、時間ｔａ４において、アッシュ微粒化処理があらかじめ定められた設定時間行われると、アッシュ微粒化処理が終了される。図９に示される例では、アッシュ微粒化処理により未処理アッシュ量ＱＵＡが許容下限量ＬＵＡまで減少されるように設定時間が設定されており、許容下限量ＬＵＡはほぼゼロに設定されている。

アッシュ微粒化処理が終了されると、パティキュレートフィルタ２４の状態が酸化雰囲気のもとでパティキュレートフィルタ２４への流入排気ガス中にＳＯｘが含まれている状態にされる。その結果、微粒化されたアッシュがパティキュレートフィルタ２４から放出されるので、微粒化されたアッシュの量ＱＡＡが次第に減少する。

次いで、時間ｔａ５において粒子状物質量ＱＰＭが許容上限値ＵＰＭを越えると、再びＰＭ除去処理が行われる。

なお、ＰＭ除去処理及びアッシュ微粒化処理が行われていない通常運転時においてパティキュレートフィルタ２４の温度ＴＦは１５０℃から３５０℃程度である。ＰＭ除去温度ＴＰＭ及びアッシュ微粒化温度ＴＡＡは通常運転時におけるパティキュレートフィルタ２４の温度ＴＦよりも高く設定される。

パティキュレートフィルタ２４への流入排気ガス中の酸素濃度を低下させるために、一実施例では、燃料添加弁２７から排気マニホルド５に燃料が添加される。別の実施例では、燃焼室２で燃焼される混合気の空燃比が低下される。更に別の実施例では、膨張行程又は排気行程に燃料噴射弁３から燃料が２次的に噴射される。

一方、パティキュレートフィルタ２４の温度を上昇させるために、一実施例では、燃料添加弁２７から添加された燃料が排気通路又はパティキュレートフィルタ２４で燃焼される。別の実施例では、燃料噴射弁３から２次的に噴射された燃料が燃焼室２、排気通路、又はパティキュレートフィルタ２４で燃焼される。

本発明による第１実施例では、粒子状物質量ＱＰＭに基づいてＰＭ除去処理を行うべきか否かが判別される。粒子状物質量ＱＰＭは、一実施例では、単位時間当たりに増大する粒子状物質量ｄＱＰＭｉと単位時間当たりに減少する粒子状物質量ｄＱＰＭｄとを機関運転状態に基づきそれぞれ求め、増大分ｄＱＰＭｉ及び減少分ｄＱＰＭｄの合計を積算して得られるカウンタ値により表される。別の実施例では、圧力損失センサ２６（図１）により検出されるパティキュレートフィルタ２４の圧力損失によって粒子状物質量ＱＰＭが表される。更に別の実施例では、ＰＭ除去処理が行われたときに粒子状物質量ＱＰＭがゼロにリセットされる。

また、本発明による第１実施例では、未処理アッシュ量ＱＵＡに基づいてアッシュ微粒化処理を行うべきか否かが判別される。未処理アッシュ量ＱＵＡは、一実施例では、単位時間当たりに増大する未処理アッシュ量ｄＱＵＡｉと単位時間当たりに減少する未処理アッシュ量ｄＱＵＡｄとを機関運転状態に基づきそれぞれ求め、増大分ｄＱＵＡｉ及び減少分ｄＱＵＡｄの合計を積算して得られるカウンタ値により表される。別の実施例では、ＰＭ除去処理が完了した時点でのパティキュレートフィルタ２４の圧力損失によって未処理アッシュ量ＱＵＡが表される。このようにすると、粒子状物質の影響を受けない。更に別の実施例では、車両走行距離によって未処理アッシュ量ＱＵＡが表される。更に別の実施例では、アッシュ微粒化処理が行われたときに未処理アッシュ量ＱＵＡがゼロにリセットされる。

アッシュ微粒化温度ＴＡＡはアッシュ微粒化剤７８の種類に応じて定まる。アッシュ微粒化処理剤７８がシリカ・アルミナから形成される場合には、アッシュ微粒化温度ＴＡＡは約６００℃である。

ＰＭ除去温度ＴＰＭは酸化機能を有する触媒７７の種類に応じて定まる。触媒７７がセリアＣｅＯ_２及び銀Ａｇから形成される場合には、ＰＭ除去温度は３００から５００℃程度である。触媒７７がアルミナＡｌ_２Ｏ_３及び白金Ｐｔから形成される場合には、ＰＭ除去温度は６００℃程度である。

ここで、パティキュレートフィルタ２４上に捕集された粒子状物質の５０％を除去するのに必要なパティキュレートフィルタ２４の温度を５０％除去温度ＴＰＭ５０と称すると、図１０は、ＰＭ除去処理が行われるときの未処理アッシュ量ＱＵＡと５０％除去温度ＴＰＭ５０との関係の実験結果を示している。図１０からわかるように、未処理アッシュ量ＱＵＡが少なくなるにつれて、５０％除去温度ＴＰＭ５０が低くなる。

これまでの説明からわかるように、パティキュレートフィルタにアッシュ微粒化剤を担持しアッシュ微粒化処理を繰り返し行えば、パティキュレートフィルタ上の未処理アッシュ量を少なく維持することができる。したがって、本発明による第１実施例では、ＰＭ除去温度ＴＰＭを低い温度に設定することができる。言い換えると、低いＰＭ除去温度でもってＰＭ除去処理を行うことができる。その結果、ＰＭ除去処理に必要なエネルギを低減できる。特に、触媒７７がセリアＣｅＯ_２及び銀Ａｇから形成された場合には、ＰＭ除去温度ＴＰＭを３００℃から５００℃程度に設定できることが確認されている。この場合のＰＭ除去温度ＴＰＭはアッシュ微粒化温度ＴＡＡよりも低くなっている。

図１１は本発明による第１実施例の排気浄化制御を実行するルーチンを示している。図１１を参照すると、ステップ１０１ではＰＭ除去処理を行うべきか否かが判別される。本発明による第１実施例では、粒子状物質量ＱＰＭが許容上限量ＵＰＭを越えたときにＰＭ除去処理を行うべきと判別され、それ以外はＰＭ除去処理を行うべきと判別されない。ＰＭ除去処理を行うべきと判別されたときには次いでステップ１０２に進み、ＰＭ除去処理が一時的に行われる。次いでステップ１０３に進む。ステップ１０１においてＰＭ除去処理を行うべきと判別されないときにはステップ１０３にジャンプする。ステップ１０３ではアッシュ微粒化処理を行うべきか否かが判別される。本発明による第１実施例では、未処理アッシュ量ＱＵＡが許容上限量ＵＵＡを越えたときにアッシュ微粒化処理を行うべきと判別され、それ以外はアッシュ微粒化処理を行うべきと判別されない。アッシュ微粒化処理を行うべきと判別されたときには次いでステップ１０４に進み、アッシュ微粒化処理が一時的に行われる。次いで処理サイクルを終了する。ステップ１０３においてアッシュ微粒化処理を行うべきと判別されないときにも処理サイクルを終了する。なお、電子制御ユニット３０（図１）はＰＭ除去処理を行うようにプログラムされている。また、電子制御ユニット３０はアッシュ除去処理を行うようにプログラムされている。

別の観点によれば、内燃機関の排気系にパティキュレートフィルタを配置した、内燃機関の排気浄化装置であって、パティキュレートフィルタが、表面上に固体酸をコーティングしたパティキュレートフィルタであり、固体酸の酸強度が、亜硫酸Ｈ_２ＳＯ₃の酸強度よりも大きく硫酸Ｈ_２ＳＯ₄の酸強度よりも小さい内燃機関の排気浄化装置が提供される。また、この排気浄化装置は、パティキュレートフィルタ内に堆積したアッシュを除去するアッシュ除去運転の制御を備え、アッシュ除去運転の制御が、パティキュレートフィルタの温度を上昇させる制御と、パティキュレートフィルタ内の雰囲気の空燃比の制御と、を備え、パティキュレートフィルタ内の雰囲気の空燃比の制御が、パティキュレートフィルタの温度を上昇させる制御の間に、先に理論空燃比又は空燃比リッチ雰囲気とし、次に空燃比リーン雰囲気に変化させる制御である。

更に別の観点によれば、酸素過剰のもとで燃焼が行われる内燃機関の排気通路内に配置されるのに適した、排気ガス中の粒子状物質を捕集するためのウォールフロー型パティキュレートフィルタであって、アッシュを粒子状物質と共に捕集するパティキュレートフィルタにおいて、パティキュレートフィルタに固体酸が担持され、固体酸の酸強度は亜硫酸の酸強度よりも高くかつ硫酸の酸強度よりも低い、ことを特徴とするパティキュレートフィルタが提供される。

更に別の観点によれば、酸素過剰のもとで燃焼が行われる内燃機関の排気通路内に配置された、排気ガス中の粒子状物質を捕集するためのウォールフロー型パティキュレートフィルタから、パティキュレートフィルタに担持された固体酸を用いて、アッシュを除去する方法において、パティキュレートフィルタの状態を、パティキュレートフィルタへの流入排気ガス中の酸素濃度が低下されかつパティキュレートフィルタの温度が上昇された状態にし、それによりアッシュを微粒化し、微粒化されたアッシュを固体酸に分散状に保持し、次いで、パティキュレートフィルタの状態を、酸化雰囲気のもとでパティキュレートフィルタへの流入排気ガス中にＳＯｘが含まれている状態にし、それにより固体酸に保持されている微粒化されたアッシュを固体酸から放出し、パティキュレートフィルタから放出させる、方法が提供される。

ところで、従来では、パティキュレートフィルタ上にアッシュが堆積してもパティキュレートフィルタの圧力損失が大幅に増大しないように、パティキュレートフィルタの容量が大きく設定されていた。しかしながら、本発明による第１実施例では、パティキュレートフィルタからアッシュが除去されるので、パティキュレートフィルタの容量を小さく設定することができる。その結果、パティキュレートフィルタの製造コストを低減でき、ＰＭ除去処理に必要なエネルギを低減できる。また、パティキュレートフィルタを搭載するために必要な空間を小さくでき、車両重量も低減できる。

次に、本発明による第２実施例を説明する。以下では、主として、第２実施例と第１実施例との相違点を説明する。

本発明による第１実施例では、アッシュ微粒化処理はＰＭ除去処理から独立して、或いはパティキュレートフィルタ２４上の粒子状物質量ＱＰＭと無関係に、実行される。このため、アッシュ微粒化処理が行われるときにパティキュレートフィルタ２４上に粒子状物質が存在している場合がある。ところが、この場合、図１２Ａに示されるように、アッシュ微粒化剤７８の酸点７９又はアッシュ８０が粒子状物質８２により覆われているおそれがある。その結果、アッシュ８０が酸点７９に到達できず、アッシュ微粒化処理が行われてもアッシュ８０が微粒化されないおそれがある。

そこで、本発明による第２実施例では、ＰＭ除去処理に引き続いてアッシュ微粒化処理を行うようにしている。その結果、図１２Ｂに示されるように、アッシュ微粒化処理を開始すべきときに酸点７９とアッシュ８０との間に粒子状物質が介在しなくなる。したがって、アッシュ８０を確実に微粒化することができる。

また、アッシュ微粒化処理を開始すべきときに、パティキュレートフィルタ２４の温度ＴＦがＰＭ除去温度ＴＰＭまで上昇されている。したがって、パティキュレートフィルタ２４の温度ＴＦをＰＭ除去温度ＴＰＭからアッシュ微粒化温度ＴＡＡまで上昇させるだけでよい。あるいは、アッシュ微粒化温度ＴＡＡがＰＭ除去温度ＴＰＭとほぼ同じ場合には、パティキュレートフィルタ２４の温度ＴＦがほぼ維持される。その結果、アッシュ微粒化処理を行うのに必要なエネルギを低減することができる。言い換えると、アッシュ微粒化処理を効率的に行うことができる。

すなわち、図１３の時間ｔｂ１において、未処理アッシュ量ＱＵＡが許容上限量ＵＵＡを越えてもアッシュ微粒化処理は開始されない。次いで、時間ｔｂ２において粒子状物質量ＱＰＭが許容上限量ＵＰＭを越えると、ＰＭ除去処理が開始される。次いで、時間ｔｂ３において粒子状物質量ＱＰＭが許容下限量まで減少されると、ＰＭ除去処理が終了され、ＰＭ除去処理に引き続いてアッシュ微粒化処理が開始される。すなわち、アッシュ微粒化処理を行うべきと判別された後に初めて行われたＰＭ除去処理に引き続いてアッシュ微粒化処理が行われる。次いで、時間ｔｂ４において、アッシュ微粒化処理があらかじめ定められた設定時間行われると、アッシュ微粒化処理が終了される。

なお、ＰＭ除去処理が行われる頻度はアッシュ微粒化処理が行われる頻度よりも高いと考えられる。したがって、アッシュ微粒化処理を行うべきと判別されたときに直ちにアッシュ微粒化処理を行わなくても、パティキュレートフィルタ２４上の未処理アッシュ量ＱＵＡが過度に多くなることはない。

図１３は酸化機能を有する触媒７７がセリアＣｅＯ_２及び銀Ａｇから形成されている場合を示している。この場合には、上述したように、ＰＭ除去温度ＴＰＭは４５０℃から５００℃程度であり、アッシュ微粒化温度ＴＡＡは６００℃程度である。酸化機能を有する触媒７７がアルミナＡｌ_２Ｏ_３及び白金Ｐｔ形成されている場合には、ＰＭ除去温度ＴＰＭ及びアッシュ微粒化温度ＴＡＡは共に６００℃程度である。したがって、この場合にはＰＭ除去処理が開始されてからアッシュ微粒化処理が終了されるまでパティキュレートフィルタ２４の温度が６００℃程度に維持される。

図１４は本発明による第２実施例の排気浄化制御を実行するルーチンを示している。図１４を参照すると、ステップ１１１ではＰＭ除去処理を行うべきか否かが判別される。ＰＭ除去処理を行うべきと判別されたときには次いでステップ１１２に進み、ＰＭ除去処理が行われる。続くステップ１１３では、アッシュ微粒化処理を行うべきか否かが判別される。アッシュ微粒化処理を行うべきと判別されたときには次いでステップ１１４に進み、アッシュ微粒化処理が行われる。次いで処理サイクルを終了する。ステップ１１１においてＰＭ除去処理を行うべきと判別されないとき、及びステップ１１３においてアッシュ微粒化処理を行うべきと判別されないときには処理サイクルを終了する。

次に、本発明による第３実施例を説明する。以下では、主として、第３実施例と第２実施例との相違点を説明する。

図１５を参照すると、触媒コンバータ２２内にはパティキュレートフィルタ２４の上流においてＮＯｘ吸蔵還元触媒２８が収容される。別の実施例では、パティキュレートフィルタ２４の下流にＮＯｘ吸蔵還元触媒２８が設けられる。

ＮＯｘ吸蔵還元触媒２８はハニカム構造をなしており、薄肉の隔壁により互いに分離された複数個の排気流通路を具備する。これら排気流通路は上流端及び下流端が互いに開放されている。各隔壁の両側表面上には例えばアルミナＡｌ_２Ｏ_３からなる触媒担体が担持されており、触媒担体の表面上には貴金属触媒及びＮＯｘ吸収剤が形成されている。本発明による第３実施例では貴金属触媒として白金Ｐｔが用いられており、ＮＯｘ吸収剤を構成する成分としては例えばカリウムＫ、ナトリウムＮａ、セシウムＣｓのようなアルカリ金属、バリウムＢａ、カルシウムＣａのようなアルカリ土類、ランタンＬａ、イットリウムＹのような希土類から選ばれた少なくとも一つが用いられている。

ＮＯｘ吸収剤はＮＯｘ吸蔵還元触媒２８への流入排気ガスの空燃比がリーンのときにはＮＯｘを吸収し、流入排気ガス中の酸素濃度が低下すると吸収したＮＯｘを放出するＮＯｘの吸放出作用を行う。

すなわち、ＮＯｘ吸収剤を構成する成分としてバリウムＢａを用いた場合を例にとって説明すると、流入排気ガスの空燃比がリーンのとき、すなわち排気ガス中の酸素濃度が高いときには排気ガス中に含まれるＮＯは白金Ｐｔ上において酸化されてＮＯ_２となり、次いでＮＯｘ吸収剤内に吸収されて酸化バリウムＢａＯと結合しながら硝酸イオンＮＯ_３ ⁻の形でＮＯｘ吸収剤内に拡散する。このようにしてＮＯｘがＮＯｘ吸収剤内に吸収される。流入排気ガス中の酸素濃度が高い限り白金Ｐｔの表面でＮＯ_２が生成され、ＮＯｘ吸収剤のＮＯｘ吸収能力が飽和しない限りＮＯ_２がＮＯｘ吸収剤内に吸収されて硝酸イオンＮＯ_３ ⁻が生成される。

これに対し、流入排気ガスの空燃比がリッチ又は理論空燃比にされると排気ガス中の酸化濃度が低下するために反応が逆方向（ＮＯ_３ ⁻→ＮＯ_２）に進み、ＮＯｘ吸収剤内の硝酸イオンＮＯ_３ ⁻がＮＯ_２の形でＮＯｘ吸収剤から放出される。次いで放出されたＮＯｘは流入排気ガス中に含まれるＨＣ，ＣＯによって還元される。

本発明による第３実施例でも、本発明による第１実施例及び第２実施例と同様に、内燃機関において酸素過剰のもとで燃焼が行われている。したがって、燃料噴射弁３及び燃料添加弁２７から燃料が２次的に供給されない限り、ＮＯｘ吸蔵還元触媒２８への流入排気ガスの空燃比はリーンに維持され、このとき流入排気ガス中のＮＯｘはＮＯｘ吸蔵還元触媒２８内に吸蔵される。しかしながら、機関運転時間が長くなると、ＮＯｘ吸蔵還元触媒２８内に吸蔵されているＮＯｘ量が多くなり、ついにはＮＯｘ吸蔵還元触媒２８がＮＯｘを吸蔵できなくなってしまう。

そこで本発明による第３実施例では、ＮＯｘ吸蔵還元触媒２８からＮＯｘを放出させて還元するために、流入排気ガスの空燃比をリッチ又は理論空燃比にするＮＯｘ放出還元処理を一時的に行うようにしている。その結果、ＮＯｘ吸蔵還元触媒２８内に蓄えられているＮＯｘ量が減少する。

ところが、排気ガス中にはイオウ分がＳＯｘの形で含まれており、ＮＯｘ吸蔵還元触媒２８内にはＮＯｘばかりでなくＳＯｘも吸収される。このＳＯｘのＮＯｘ吸蔵還元触媒２８内への吸収メカニズムはＮＯｘの吸収メカニズムと同じであると考えられる。すなわち、ＮＯｘ吸収剤を構成する成分としてバリウムＢａを用いた場合を例にとって簡単に説明すると、流入排気ガスの空燃比がリーンのときには上述したように酸素Ｏ_２がＯ_２ ⁻又はＯ^２−の形で白金Ｐｔの表面に付着しており、排気ガス中のＳＯ_２は白金Ｐｔの表面に付着し白金Ｐｔの表面上でＯ_２ ⁻又はＯ^２−と反応し、ＳＯ_３となる。次いで生成されたＳＯ_３は白金Ｐｔ上でさらに酸化されつつＮＯｘ吸蔵還元触媒２８に吸収されて酸化バリウムＢａＯと結合しながら、硫酸イオンＳＯ_４ ^２−の形でＮＯｘ吸蔵還元触媒２８内に拡散する。この硫酸イオンＳＯ_４ ^２−は次いでバリウムイオンＢａ^２＋と結合して硫酸塩ＢａＳＯ_４を生成する。ところが、この硫酸塩ＢａＳＯ_４は分解しにくく、排気ガスの空燃比をただ単にリッチにしてもＮＯｘ吸蔵還元触媒２８内の硫酸塩ＢａＳＯ_４の量は減少しない。このため、時間が経過するにつれてＮＯｘ吸収剤内の硫酸塩ＢａＳＯ_４の量が増大し、その結果ＮＯｘ吸蔵還元触媒２８が吸収しうるＮＯｘの量が減少することになる。

一方、ＮＯｘ吸蔵還元触媒２８の温度をＳＯｘ放出温度（例えば６００℃）以上に維持しつつ排気ガスの平均空燃比を理論空燃比又はリッチにすると、ＮＯｘ吸蔵還元触媒２８内の硫酸塩ＢａＳＯ_４が分解してＳＯ_３の形でＮＯｘ吸蔵還元触媒２８から放出される。この放出されたＳＯ_３は排気ガス中のＨＣ，ＣＯと反応してＳＯ_２に還元せしめられる。このようにしてＮＯｘ吸蔵還元触媒２８内に硫酸塩ＢａＳＯ_４の形で吸収されているＳＯｘの量が次第に減少する。

そこで本発明による第３実施例では、ＮＯｘ吸蔵還元触媒２８からＳＯｘを放出させるために、ＮＯｘ吸蔵還元触媒２８の状態を、ＮＯｘ吸蔵還元触媒２８への流入排気ガスの空燃比がリッチでありかつＮＯｘ吸蔵還元触媒２８の温度がＳＯｘ放出温度に上昇された状態にするＳＯｘ放出処理を一時的に行うようにしている。その結果、ＮＯｘ吸蔵還元触媒２８内に蓄えられているＳＯｘ量が減少する。

図１６は本発明による第３実施例の排気浄化制御の一例を示している。図１６を参照すると、時間ｔｃ１において、パティキュレートフィルタ２４上の未処理アッシュ量ＱＵＡが許容上限量ＵＵＡを越えてもアッシュ微粒化処理は開始されない。次いで、時間ｔｃ２において粒子状物質量ＱＰＭが許容上限量ＵＰＭを越えると、ＰＭ除去処理が開始される。次いで、時間ｔｃ３において粒子状物質量ＱＰＭが許容下限量まで減少されると、ＰＭ除去処理が終了され、ＰＭ除去処理に引き続いてアッシュ微粒化処理が開始される。その結果、未処理アッシュ量ＱＵＡが減少する。

ＮＯｘ吸蔵還元触媒２８の温度はパティキュレートフィルタ２４の温度とほぼ等しく、ＮＯｘ吸蔵還元触媒２８への流入排気ガスの空燃比はパティキュレートフィルタ２４への流入排気ガスの空燃比ＡＦＥに等しいと考えることができる。したがって、アッシュ微粒化処理が行われると、ＮＯｘ吸蔵還元触媒２８内に吸蔵されているＳＯｘの量ＱＮＳＳが減少する。次いで、時間ｔｃ４において、アッシュ微粒化処理があらかじめ定められた設定時間行われると、アッシュ微粒化処理が終了される。

次いで、時間ｔｃ５において、ＮＯｘ吸蔵還元触媒２８のＳＯｘ吸蔵量ＱＮＳＳが許容上限量ＵＮＳＳを越えてもＳＯｘ放出処理は開始されない。次いで、時間ｔｃ６において粒子状物質量ＱＰＭが許容上限量ＵＰＭを越えると、ＰＭ除去処理が開始される。次いで、時間ｔｃ７においてＰＭ除去処理が終了され、ＰＭ除去処理に引き続いてＳＯｘ放出処理が開始される。すなわち、ＮＯｘ吸蔵還元触媒２８への流入排気ガスの空燃比がリッチＡＦＲにされると共にＮＯｘ吸蔵還元触媒２８の温度がＳＯｘ放出温度ＴＮＳＳに上昇される。その結果、ＳＯｘ吸蔵量ＱＮＳＳが減少する。また、このときパティキュレートフィルタ２４の未処理アッシュ量ＱＵＡが減少する。次いで、時間ｔｃ８において、ＳＯｘ放出処理があらかじめ定められた設定時間行われると、ＳＯｘ放出処理が終了される。図１６に示される例では、ＳＯｘ放出処理によりＳＯｘ吸蔵量ＱＮＳＳが許容下限量ＬＮＳＳまで減少されるように設定時間が設定されており、許容下限量ＬＮＳＳはほぼゼロに設定されている。

このように、ＰＭ除去処理に引き続いてＳＯｘ放出処理及びアッシュ微粒化処理がそれぞれ行われる。その結果、ＳＯｘ放出処理及びアッシュ微粒化処理を行うのに必要なエネルギを低減できる。

図１７は本発明による第３実施例の排気浄化制御の別の例を示している。図１７を参照すると、時間ｔｄ１において、未処理アッシュ量ＱＵＡが許容上限量ＵＵＡを越えてもアッシュ微粒化処理は開始されない。次いで、時間ｔｄ２において、ＳＯｘ吸蔵量ＱＮＳＳが許容上限量ＵＮＳＳを越えてもＳＯｘ放出処理は開始されない。次いで、時間ｔｄ３において、粒子状物質量ＱＰＭが許容上限量ＵＰＭを越えると、ＰＭ除去処理が開始される。次いで、時間ｔｄ４において粒子状物質量ＱＰＭが許容下限量まで減少されると、ＰＭ除去処理が終了され、ＰＭ除去処理に引き続いてＳＯｘ放出処理が開始される。すなわち、ＳＯｘ放出処理及びアッシュ微粒化処理を行うべきと判別された後に初めて行われたＰＭ除去処理に引き続いてＳＯｘ放出処理が行われ、アッシュ微粒化処理は行われない。ＳＯｘ放出処理が行われると、ＳＯｘ吸蔵量ＱＮＳＳが減少する。

また、本発明による第３実施例では、ＳＯｘ放出温度ＴＮＳＳはアッシュ微粒化温度ＴＡＡとほぼ同じである。したがって、ＳＯｘ放出処理が行われると、パティキュレートフィルタ２４の状態が、パティキュレートフィルタ２４への流入排気ガスの空燃比が理論空燃比又はリッチでありかつパティキュレートフィルタ２４の温度がアッシュ微粒化温度ＴＡＡである状態にされる。その結果、未処理アッシュ量ＱＵＡも減少する。次いで、時間ｔｄ５において、アッシュ微粒化処理があらかじめ定められた設定時間行われると、ＳＯｘ放出処理が終了される。図１７に示される例では、ＳＯｘ吸蔵量ＱＮＳＳが許容下限量ＬＮＳＳまで減少され、未処理アッシュ量ＱＵＡが許容下限量ＬＵＡまで減少される。

このように、ＳＯｘ放出処理及びアッシュ微粒化処理を同時に行うべきときに、ＳＯｘ放出処理が行われ、アッシュ微粒化処理が省略される。その結果、アッシュ除去作用を行うのに必要なエネルギを低減できる。

本発明による第３実施例では、ＳＯｘ吸蔵量ＱＮＳＳに基づいてＳＯｘ放出処理を行うべきか否かが判別される。ＳＯｘ吸蔵量ＱＮＳＳは、一実施例では、単位時間当たりに増大するＳＯｘ吸蔵量ｄＱＮＳＳｉと単位時間当たりに減少するＳＯｘ吸蔵量ｄＱＮＳＳｄとを機関運転状態に基づきそれぞれ求め、増大分ｄＱＮＳＳｉ及び減少分ｄＱＮＳＳｄの合計を積算して得られるカウンタ値により表される。別の実施例では、車両走行距離によってＳＯｘ吸蔵量ＱＮＳＳが表される。更に別の実施例では、ＳＯｘ放出処理が行われたときにＳＯｘ吸蔵量ＱＮＳＳ及び未処理アッシュ量ＱＵＡがそれぞれゼロにリセットされる。

なお、ＮＯｘ放出還元処理が行われると排気ガスの空燃比ＡＦＥが一時的にリッチにされる。図１６及び図１７ではこのようなＮＯｘ放出還元処理による排気ガスの空燃比ＡＦＥの変化の図示が省略されている。

図１８は本発明による第３実施例の排気浄化制御を実行するルーチンを示している。図１８を参照すると、ステップ１２１ではＰＭ除去処理を行うべきか否かが判別される。ＰＭ除去処理を行うべきと判別されたときには次いでステップ１２２に進み、ＰＭ除去処理が行われる。次いでステップ１２３に進む。ステップ１２１においてＰＭ除去処理を行うべきと判別されないときには処理サイクルを終了する。ステップ１２３ではＳＯｘ放出処理を行うべきか否かが判別される。本発明による第３実施例では、ＳＯｘ吸蔵量ＱＮＳＳが許容上限量ＵＮＳＳを越えたときにＳＯｘ放出処理を行うべきと判別され、それ以外はＳＯｘ放出処理を行うべきと判別されない。ＳＯｘ放出処理を行うべきと判別されたときには次いでステップ１２４に進み、ＳＯｘ放出処理が行われる。ステップ１２３においてＳＯｘ放出処理を行うべきと判別されないときにはステップ１２５に進み、アッシュ微粒化処理を行うべきか否かが判別される。本発明による第３実施例では、未処理アッシュ量ＱＵＡが許容上限量ＵＵＡを越えたときにアッシュ微粒化処理を行うべきと判別され、それ以外はアッシュ微粒化処理を行うべきと判別されない。アッシュ微粒化処理を行うべきと判別されたときには次いでステップ１２６に進み、アッシュ微粒化処理が行われる。次いで処理サイクルを終了する。ステップ１２５においてアッシュ微粒化処理を行うべきと判別されないときにも処理サイクルを終了する。なお、電子制御ユニット３０はＮＯｘ放出還元処理を行うようにプログラムされている。また、電子制御ユニット３０はＳＯｘ放出処理を行うようにプログラムされている。

次に、本発明による第４実施例を説明する。以下では、主として、第４実施例と第２実施例との相違点を説明する。

本発明による第４実施例では、酸化機能を有する触媒７７がセリアＣｅＯ_２及び銀Ａｇから形成される。セリアＣｅＯ_２は、酸化雰囲気のもとで酸素Ｏ_２を貯蔵し、流入排気ガス中の酸素濃度が低下すると貯蔵している酸素Ｏ_２を放出する酸素貯蔵能力を有している。したがって、本発明による第４実施例では、パティキュレートフィルタ２４に酸素貯蔵能力を有する触媒、あるいは酸化機能及び酸素貯蔵能力を有する触媒７７が担持されているということになる。

この場合、アッシュ微粒化処理が開始されてパティキュレートフィルタ２４への流入排気ガス中の酸素濃度が低下されると、酸素貯蔵能力を有する触媒７７から酸素Ｏ_２が放出される。その結果、パティキュレートフィルタ２４の表面では局所的に酸素濃度が高く維持される。このため、アッシュ微粒化処理が開始されても、未処理アッシュの微粒化作用が開始されないおそれがある。したがって、アッシュ微粒化処理が一定時間だけ行われる場合には、十分な量のアッシュを微粒化できず、パティキュレートフィルタ２４から十分な量のアッシュを除去するのが困難になる。このため、パティキュレートフィルタ２４の圧力損失が十分に低減されないおそれがある。

一方、アッシュ微粒化処理の開始時にパティキュレートフィルタ２４に粒子状物質が存在していると、酸素貯蔵能力を有する触媒７７から放出された酸素Ｏ_２によって粒子状物質が酸化される。すなわち、触媒７７から放出された酸素Ｏ_２が粒子状物質により消費される。

一方、本発明による第４実施例でも、本発明による第２実施例と同様に、粒子状物質量ＱＰＭが許容下限量ＬＰＭになるとＰＭ除去処理が終了され、ＰＭ除去処理に引き続いてアッシュ微粒化処理が行われる。この許容下限量ＬＰＭはＰＭ除去処理が終了されたときにパティキュレートフィルタ２４に残留している粒子状物質の量を表している。

そこで、本発明による第４実施例では、許容下限量ＬＰＭを、アッシュ微粒化処理開始時に触媒７７に貯蔵されているほぼ全ての酸素Ｏ_２を消費するのに必要な量ＱＰＭＯＸ（＞０）以上に設定している。その結果、アッシュ微粒化処理が開始され触媒７７から酸素Ｏ_２が放出されると、この酸素Ｏ_２のほぼ全てがパティキュレートフィルタ２４に残留している粒子状物質により消費される。このため、パティキュレートフィルタ２４の表面での酸素濃度が速やかに低下され、アッシュ微粒化作用が速やかに開始される。また、許容下限量ＬＰＭがほぼゼロに設定される場合に比べて、ＰＭ除去処理に必要な時間が短くなる。したがって、ＰＭ除去処理に必要なエネルギを低減することができる。

すなわち、図１９に示されるように、時間ｔｅ１において、パティキュレートフィルタ２４上の粒子状物質量ＱＰＭが許容上限量ＵＰＭを越えると、ＰＭ除去処理が開始される。その結果、粒子状物質量ＱＰＭが次第に減少する。次いで、時間ｔｅ２において、粒子状物質量ＱＰＭが許容下限量ＬＰＭまで減少されると、ＰＭ除去処理が終了され、ＰＭ除去処理に引き続いてアッシュ微粒化処理が開始される。図１９に示される例では、許容下限量ＬＰＭが上述の量ＱＰＭＯＸに設定されている。したがって、アッシュ微粒化処理の開始時にパティキュレートフィルタ２４に量ＱＰＭＯＸの粒子状物質が残留している。

アッシュ微粒化処理が開始されると、パティキュレートフィルタ２４への流入排気ガスの空燃比が例えば理論空燃比まで低下される。その結果、酸素貯蔵能力を有する触媒７７から酸素Ｏ_２が放出されるので、触媒７７に貯蔵されている酸素の量ＱＯＸは減少する。一方、パティキュレートフィルタ２４に残留している粒子状物質がこの酸素Ｏ_２により酸化されるので、粒子状物質量ＱＰＭも減少する。

次いで、時間ｔｅ３になると、酸素貯蔵量ＱＯＸがほぼゼロになる。その結果、パティキュレートフィルタ２４の表面における酸素濃度が十分に低下される。また、図１９に示される例では、このとき粒子状物質量ＱＰＭがほぼゼロになる。

アッシュ微粒化処理が行われている間は、パティキュレートフィルタ２４への流入排気ガスの空燃比がほぼ理論空燃比であるので、酸素貯蔵量ＱＯＸはほぼゼロに維持される。一方、このときパティキュレートフィルタ２４に流入する排気ガス中には粒子状物質が含まれているので、粒子状物質量ＱＰＭは次第に増加する。次いで、時間ｔｅ４において、アッシュ微粒化処理が終了される。その結果、パティキュレートフィルタ２４への流入排気ガスの空燃比がリーンに戻されるので、酸素貯蔵量ＱＯＸが次第に増加する。

図２０はＰＭ除去処理終了時におけるパティキュレートフィルタ２４の表面を示している。図２０に示されるように、パティキュレートフィルタ２４上の未処理アッシュ８０が粒子状物質８２によって覆われている。その結果、未処理アッシュ同士が凝集するのが抑制される。

図２１は本発明による第４実施例のＰＭ除去処理を実行するルーチンを示している。このルーチンは例えば図１４のステップ１１２で実行される。図２１を参照すると、ステップ１３１では目標フィルタ温度ＴＴＦがＰＭ除去温度ＴＰＭに設定される。続くステップ１３２では、パティキュレートフィルタ２４の温度を目標フィルタ温度ＴＴＦまで上昇させる昇温制御が行われる。続くステップ１３３では粒子状物質量ＱＰＭが更新される。続くステップ１３４では粒子状物質量ＱＰＭが許容下限量ＬＰＭ以下であるか否かが判別される。ＱＰＭ＞ＬＰＭのときにはステップ１３１に戻る。ＱＰＭ≦ＬＰＭのときには次いでステップ１３５に進み、昇温制御が終了される。すなわち、ＰＭ除去処理が終了される。

上述したように、粒子状物質量ＱＰＭは、一実施例では、増大分ｄＱＰＭｉ及び減少分ｄＱＰＭｄの合計を積算して得られるカウンタ値により表される。増大分ｄＱＰＭｉは例えば燃料噴射量ＱＦ及び機関回転数Ｎｅの関数としてあらかじめ実験により求められており、図２２Ａに示されるマップの形でＲＯＭ３２（図１）に記憶されている。また、減少分ｄＱＰＭｄは例えば吸入空気量Ｇａ及びパティキュレートフィルタ２４の温度ＴＦの関数としてあらかじめ実験により求められており、図２２Ｂに示されるマップの形でＲＯＭ３２に記憶されている。ここで、燃料噴射量ＱＦは機関負荷を表しており、吸入空気量Ｇａはパティキュレートフィルタ２４への流入排気ガス量を表している。

次に、本発明による第５実施例を説明する。以下では、主として、第５実施例と第４実施例との相違点を説明する。

本発明による第２実施例では、許容下限ＬＰＭがほぼゼロに設定され、したがってＰＭ除去処理終了時にパティキュレートフィルタ２４上に粒子状物質がほとんど存在していない（図１２Ｂ参照）。

しかしながら、アッシュの除去の観点から見ると、未処理アッシュがアッシュ微粒化剤７８の酸点７９に到達できれば十分であり、パティキュレートフィルタ２４上のほぼ全ての粒子状物質を除去する必要はない。

図２３は、ＰＭ除去処理終了時、すなわちアッシュ微粒化処理の開始時にパティキュレートフィルタ２４に残留している粒子状物質の量ＱＰＭＲと、アッシュ除去効率ＥＦＦＲとの関係を示している。アッシュ除去効率ＥＦＦＲはパティキュレートフィルタ２４に流入したアッシュ量に対するパティキュレートフィルタ２４から除去されたアッシュの量の比で表される。図２３からわかるように、粒子状物質残留量ＱＰＭＲが多いときには未処理アッシュがアッシュ微粒化剤７８の酸点に到達しにくいので、アッシュ除去効率ＥＦＦＲは低くなる。粒子状物質残留量ＱＰＭＲが少なくなると、未処理アッシュと酸点との間に介在する粒子状物質量が少なくなり、したがってアッシュ除去効率ＥＦＦＲが高くなる。図２３に示される例では、粒子状物質残留量ＱＰＭＲがＱＰＭＥＬのときにアッシュ除去効率ＥＦＦＲが許容下限効率ＬＥＦＦＲになり、粒子状物質残留量ＱＰＭＲがＱＰＭＥＬよりも少ないとアッシュ除去効率ＥＦＦＲが許容下限効率ＬＥＦＦＲよりも高くなる。

そこで、本発明による第５実施例では、許容下限量ＬＰＭを、アッシュ除去効率ＥＦＦＲを許容下限効率ＬＥＦＦＲにするのに必要な量ＱＰＭＥＬ以下に設定される。その結果、アッシュ除去効率ＥＦＦＲが許容下限効率ＬＥＦＦＲ以上に維持される。

すなわち、図２４に示されるように、時間ｔｆ１においてＰＭ除去処理が開始されると、粒子状物質量ＱＰＭが次第に減少する。次いで、時間ｔｆ２において、粒子状物質量ＱＰＭが許容下限量ＬＰＭまで減少されると、ＰＭ除去処理が終了され、ＰＭ除去処理に引き続いてアッシュ微粒化処理が開始される。図２４に示される例では、許容下限量ＬＰＭが上述の量ＱＰＭＥＬに設定されている。言い換えると、アッシュ微粒化処理の開始時にパティキュレートフィルタ２４に量ＱＰＭＥＬの粒子状物質が残留している。

この場合、図２５に示されるように、パティキュレートフィルタ２４上に粒子状物質８２が残留しているけれども、未処理アッシュ８０とアッシュ微粒化剤７８の酸点７９との間には粒子状物質８２はほとんど介在していない。言い換えると、未処理アッシュ８０及び酸点７９が粒子状物質８２により覆われていない。したがって、未処理アッシュ８０を確実に微粒化することができる。

再び図２４を参照すると、アッシュ微粒化処理中においてもパティキュレートフィルタ２４への流入排気ガス中には粒子状物質が含まれているので、粒子状物質量ＱＰＭは次第に増加する。次いで、時間ｔｆ３において、アッシュ微粒化処理が終了される。なお、図２４に示される例では、触媒７７は酸素貯蔵能力を有していない。

次に、本発明による第６実施例を説明する。以下では、主として、第６実施例と第４実施例との相違点を説明する。

本発明による第６実施例では、パティキュレートフィルタ２４に酸素貯蔵能力を有する触媒７７が担持される。また、許容下限量ＬＰＭが上述した量ＱＰＭＯＸ及び量ＱＰＭＥＬの合計に設定される（ＬＰＭ＝ＱＰＭＭＯＸ＋ＱＰＭＥＬ）。

図２６に示されるように、時間ｔｇ１においてＰＭ除去処理が開始されると、粒子状物質量ＱＰＭが次第に減少する。次いで、時間ｔｇ２において、粒子状物質量ＱＰＭが許容下限量ＬＰＭまで減少されると、ＰＭ除去処理が終了され、ＰＭ除去処理に引き続いてアッシュ微粒化処理が開始される。アッシュ微粒化処理の開始時にパティキュレートフィルタ２４に量ＱＰＭＥＬ＋ＱＰＭＥＬの粒子状物質が残留している。アッシュ微粒化処理が開始されると、酸素貯蔵能力を有する触媒７７から酸素Ｏ_２が放出され、パティキュレートフィルタ２４に残留している粒子状物質がこの酸素Ｏ_２により酸化されるので、粒子状物質量ＱＰＭが減少する。

次いで、時間ｔｇ３になると、酸素貯蔵量ＱＯＸがほぼゼロになり、粒子状物質量ＱＰＭが量ＱＰＭＥＬまで減少される。すなわち、粒子状物質量ＱＰＭがＱＰＭＯＸだけ減少される。この時点で、パティキュレートフィルタ２４に量ＱＰＭＥＬの粒子状物質が残留している。この場合、未処理アッシュ８０とアッシュ微粒化剤７８の酸点７９との間には粒子状物質８２はほとんど介在していない。したがって、未処理アッシュ８０を確実に微粒化することができる。

アッシュ微粒化処理中においてもパティキュレートフィルタ２４への流入排気ガス中には粒子状物質が含まれているので、粒子状物質量ＱＰＭは次第に増加する。次いで、時間ｔｇ４において、アッシュ微粒化処理が終了される。

なお、ＰＭ除去処理が終了した時点で、パティキュレートフィルタ２４上に粒子状物質がわずかに残留している場合がある。このような残留分はＰＭ除去処理の期間を延長し又はＰＭ除去温度ＴＰＭを高めたとしても、燃焼せず、パティキュレートフィルタ２４から除去することができない。したがって、粒子状物質の不燃分と考えることができる。一方、上述のようにパティキュレートフィルタ２４に意図的に残留された粒子状物質はＰＭ除去処理が行われればパティキュレートフィルタ２４から除去される。したがって、パティキュレートフィルタ２４に残留された粒子状物質は粒子状物質の不燃分とは性質を異にするものである。

本発明による第４実施例から第６実施例をまとめると、パティキュレートフィルタ２４に捕集された粒子状物質を除去するためにパティキュレートフィルタ２４の状態を酸化雰囲気のもとでパティキュレートフィルタ２４の温度が上昇された状態にするＰＭ除去処理が一時的に行われ、ＰＭ除去処理はパティキュレートフィルタ２４上にあらかじめ定められた設定残留量の粒子状物質が残留するように終了され、ＰＭ除去処理に引き続いてアッシュ微粒化処理が行われる、ということになる。

その上で、本発明による第４実施例及び第６実施例では、設定残留量が、アッシュ微粒化処理開始時に触媒７７に貯蔵されているほぼ全ての酸素を消費するのに必要な量ＱＰＭＯＸ以上に設定される。また、本発明による第５実施例及び第６実施例では、設定残留量が、アッシュ除去効率を許容下限効率にするのに必要な量ＱＰＭＥＬ以下に設定される。量ＱＰＭＯＸ，ＱＰＭＥＬはそれぞれ、例えば実験によりあらかじめ求められる。

次に、本発明による第７実施例を説明する。以下では、主として、第７実施例と第２実施例との相違点を説明する。

図２７は、本発明による第２実施例のようにＰＭ除去処理に引き続いてアッシュ微粒化処理を行った場合の、パティキュレートフィルタ２４の圧力損失ＰＬの変化を示している。上述したように、パティキュレートフィルタ２４の圧力損失ＰＬは例えばパティキュレートフィルタ２４の上流及び下流の圧力差によって表される。なお、図２７においてＶＤは車両走行距離を表している。

図２７を参照すると、機関運転が開始され車両走行距離ＶＤが長くなるにつれて、パティキュレートフィルタ２４上の粒子状物質量が増大するので、Ｘで示されるように圧力損失ＰＬが増大する。次いで、ＰＭ除去処理が行われると、Ｙで示されるように圧力損失ＰＬが減少する。次いで、通常運転に戻されると圧力損失ＰＬが再び増大する。次いで、ＰＭ除去処理が再び行われると、圧力損失ＰＬが再び減少する。このように圧力損失ＰＬの増大及び減少が繰り返される。

上述したように、ＰＭ除去処理が行われた後のパティキュレートフィルタ２４には、粒子状物質の不燃分及びアッシュが残留している。このため、図２７に示されるように、粒子状物質不燃分による圧力損失部分ＰＬＰＭＸ及びアッシュによる圧力損失部分ＰＬＵＡが存在している。すなわち、圧力損失ＰＬはゼロまで戻らない。アッシュによる圧力損失部分ＰＬＵＡは車両走行距離ＶＤが長くなるにつれて増大する。一方、粒子状物質不燃分による圧力損失部分ＰＬＰＭＸは車両走行距離ＶＤが短いときには車両走行距離ＶＤが長くなるにつれて大きくなり、車両走行距離ＶＤがある程度長くなるとほぼ一定値に収束する。

次いで、ＰＭ除去処理に引き続いてアッシュ微粒化処理が行われると、図２７にＺで示されるようにアッシュによる圧力損失部分ＰＬＵＡがほぼゼロになる。したがって、圧力損失ＰＬが更に減少する。

これまで述べてきた本発明による各実施例では、おおまかに言うと、未処理アッシュ量ＱＵＡが許容上限量ＵＵＡになる毎に、アッシュ微粒化処理が行われる。したがって、アッシュ微粒化処理が、許容上限量ＵＵＡに応じて定まる設定インターバルＩＮＴＳを隔てて繰り返し行われるという見方もできる。これまで述べてきた本発明による各実施例では許容上限量ＵＵＡないし設定インターバルＩＮＴＳは例えば一定値に設定されている。

上述したように、アッシュ微粒化処理が終了すると、すなわちパティキュレートフィルタ２４の状態が、酸化雰囲気のもとでパティキュレートフィルタ２４への流入排気ガス中にＳＯｘが含まれている状態にされると、アッシュ微粒化剤７８に保持されている微粒化されたアッシュが次第にアッシュ微粒化剤７８から放出される。その結果、アッシュ微粒化剤７８の酸点７９が再生される。再生された酸点７９、すなわち活性酸点７９は次のアッシュ微粒化処理の際に未処理アッシュを微粒化するのに用いることができる。言い換えると、酸点７９が十分に再生されていなければ、アッシュ微粒化処理を行なっても未処理アッシュを十分に微粒化することができない。

パティキュレートフィルタ２４の未処理アッシュによる圧力損失を小さく維持することを考えると、許容上限量ＵＵＡを少なく設定し、すなわち設定インターバルＩＮＴＳを短く設定するのが好ましい。

しかしながら、許容上限量ＵＵＡを少なく設定しすなわち設定インターバルＩＮＴＳを短く設定すると、後続のアッシュ微粒化処理を開始すべき時点でアッシュ微粒化剤７８に多量の微粒化されたアッシュが保持されており、アッシュ微粒化剤７８の酸点７９が十分に再生されていない場合がある。この場合、アッシュ微粒化処理を行なっても、十分な量の未処理アッシュを微粒化するのは困難である。また、設定インターバルＩＮＴＳを短く設定すると、アッシュ微粒化処理が頻繁に行われるので、アッシュ微粒化処理に必要なエネルギが増大する。

したがって、許容上限量ＵＵＡないし設定インターバルＩＮＴＳを、パティキュレートフィルタ２４の圧力損失を小さく維持しつつ未処理アッシュを十分に微粒化するのに最適な値に設定する必要がある。

一方、微粒化されたアッシュの放出速度は流入排気ガス中のＳＯｘ量に応じて変動し、流入排気ガス中のＳＯｘ量は機関運転状態や燃料中のイオウ濃度などに応じて変動する。すなわち、流入排気ガス中のＳＯｘ量が多いときには、微粒化されたアッシュが短時間のうちに放出され、流入排気ガス中のＳＯｘ量が少ないときには、微粒化されたアッシュが放出されるのに長時間を要する。このため、許容上限量ＵＵＡないし設定インターバルＩＮＴＳの最適値をあらかじめ実験などで求めて設定したとしても、機関運転時間が長くなると、設定された許容上限量ＵＵＡないし設定インターバルＩＮＴＳが最適でなくなっているおそれがある。

そこで、本発明による第７実施例では、アッシュ微粒化処理により処理された未処理アッシュの量を求め、求められたアッシュの量に基づいて、許容上限量ＵＵＡないし設定インターバルＩＮＴＳを更新するようにしている。

次に、本発明による第２実施例のようにＰＭ除去処理に引き続いてアッシュ微粒化処理が行われる場合における許容上限量ＵＵＡないし設定インターバルＩＮＴＳの更新作用を、図２８を参照しながら説明する。本発明による第１実施例のようにアッシュ微粒化処理がＰＭ除去処理から独立して行われる場合における許容上限量ＵＵＡないし設定インターバルＩＮＴＳの更新作用も同様である。

図２８を参照すると、先のアッシュ微粒化処理から次のアッシュ微粒化処理までのインターバルＩＮＴが互いに異なる複数のインターバルＩ１，Ｉ２（＞Ｉ１），Ｉ３（＞Ｉ２），Ｉ４（＞Ｉ３），Ｉ５（＞Ｉ４）に設定され、アッシュ微粒化処理が繰り返し行われる。図２８に示される例では、インターバルＩ１，Ｉ２，Ｉ３，Ｉ４，Ｉ５はそれぞれ、ＰＭ除去処理のインターバル１つ分、２つ分、３つ分、４つ分、及び５つ分に相当する。

その上で、それぞれのアッシュ微粒化処理により処理された未処理アッシュの量が求められる。このアッシュ処理量は、アッシュ微粒化処理により減少されたパティキュレートフィルタ２４の圧力損失によって表され（図２７のＺ）、この減少された圧力損失ＤＰＬはアッシュ微粒化処理開始時における圧力損失ＰＬＳとアッシュ微粒化処理終了時における圧力損失ＰＬＥの差（ＰＬＳ−ＰＬＥ）によって求められる。図２８に示されるＤＰＬ１，ＤＰＬ２，ＤＰＬ３，ＤＰ４，ＤＰＬ５はそれぞれ、インターバルＩＮＴがＩ１，Ｉ２，Ｉ３，Ｉ４，Ｉ５に設定された場合に求められた圧力損失差ＤＰＬを表している。

圧力損失差ＤＰＬをインターバルＩＮＴの関数として表すと図２９のようになる。図２９には更に、圧力損失差ＤＰＬの変化率Ｒも示される。変化率ＲはインターバルＩＮＴの変化量ＤＩＮＴに対する圧力損失差ＤＰＬの変化量ＤＤＰＬの比で表される（Ｒ＝ＤＤＰＬ／ＤＩＮＴ）。すなわち、変化率Ｒ１はインターバルＩＮＴの変化量（Ｉ２−Ｉ１）に対する圧力損失差ＤＰＬの変化量（ＤＰＬ２−ＤＰＬ１）の比（＝（ＤＰＬ２−ＤＰＬ１）／（Ｉ２−Ｉ１））である。同様に、Ｒ２＝（ＤＰＬ３−ＤＰＬ２）／（Ｉ３−Ｉ２）、Ｒ３＝（ＤＰＬ４−ＤＰＬ３）／（Ｉ４−Ｉ３）、Ｒ４＝（ＤＰＬ５−ＤＰＬ４）／（Ｉ５−Ｉ４）である。

図２９からわかるように、インターバルＩＮＴがＩ４よりも短いときにはインターバルＩＮＴが長くなるにつれて圧力損失差ＤＰＬが大きくなり、インターバルＩＮＴがＩ４よりも長くなると圧力損失差ＤＰＬは一定値に収束する。言い換えると、インターバルＩＮＴがＩ４よりも短いときには、圧力損失差ＤＰＬの変化率Ｒが比較的大きな正値であり、インターバルＩＮＴがＩ４よりも長くなると変化率Ｒはほぼゼロになる。したがって、インターバルＩＮＴをＩ４よりも短く設定すると、酸点７９が十分に再生されていない状態でアッシュ微粒化処理が行われることになる。その結果、未処理アッシュを十分に微粒化することができない。一方、インターバルＩＮＴをＩ４よりも長く設定しても、圧力損失差ＤＰＬは増大せず、すなわちアッシュ微粒化処理により微粒化されるアッシュの量は増大しない。むしろ、パティキュレートフィルタ２４上の未処理アッシュ量が増大してしまう。

そこで、本発明による第７実施例では、新たな設定インターバルＩＮＴＳがインターバルＩ４に設定される。すなわち、インターバルＩＮＴをＩ１から増大させた場合には、変化率Ｒが上限値ＵＲよりも小さくなったときのインターバルＩ５の、一つ前のインターバルＩ４に設定される。このようにして、設定インターバルＩＮＴＳが更新される。その結果、許容上限量ＵＵＡないし設定インターバルＩＮＴＳを最適に維持することができる。言い換えると、アッシュの十分でかつ効率的な除去を継続して行うことができる。

図３０及び図３１は設定インターバルＩＮＴＳの更新制御を実行するルーチンを示している。図３０及び図３１を参照すると、ステップ１４１では設定インターバルＩＮＴＳの更新条件が成立しているか否かが判別される。例えば、設定インターバルＩＮＴＳが更新されてから車両走行距離ＶＤがあらかじめ定められた一定値だけ増大したときに更新条件が成立したと判別され、それ以外は更新条件が成立しないと判別される。更新条件が成立しないと判別されたときには処理サイクルを終了する。更新条件が成立したと判別されるとステップ１４２に進み、前回の処理サイクルにおける圧力損失差ＤＰＬ０及びインターバルＩＮＴ０がそれぞれゼロに設定される。続くステップ１４３では、インターバルＩＮＴの目標値ＩＮＴＴが初期値ＩＮＴＴ０に設定される。図２８及び図２９に示される例ではＩＮＴＴ０はＩ１に等しい。

続くステップ１４４では、ＰＭ除去処理を行うべきか否かが判別される。ＰＭ除去処理を行うべきと判別されないときにはステップ１４４に戻る。ＰＭ除去処理を行うべきと判別されたときには次いでステップ１４５に進み、ＰＭ除去処理が行われる。続くステップ１４６では、先のアッシュ微粒化処理からのインターバルＩＮＴが目標インターバルＩＮＴＴ以上であるか否かが判別される。インターバルＩＮＴは図３２に示されるルーチンで更新される。ＩＮＴ＜ＩＮＴＴのときにはステップ１４４に戻る。ＩＮＴ≧ＩＮＴＴのときには次いでステップ１４７に進み、この時点、すなわちアッシュ微粒化処理の開始時におけるインターバルＩＮＴがＩＮＴＡとして記憶される。続くステップ１４８ではインターバルＩＮＴがゼロにリセットされる。

続くステップ１４９では、この時点、すなわちアッシュ微粒化処理の開始時におけるパティキュレートフィルタ２４の圧力損失ＤＬがＰＬＳとして記憶される。続くステップ１５０ではアッシュ微粒化処理が行われる。続くステップ１５１では、この時点、すなわちアッシュ微粒化処理の終了時における圧力損失ＤＬがＰＬＥとして記憶される。続くステップ１５２では、圧力損失差ＤＰＬが算出される（ＤＰＬ＝ＰＬＳ−ＰＬＥ）。続くステップ１５３では、圧力損失差ＤＰＬの変化量ＤＤＰＬが算出される（ＤＤＰＬ＝ＤＰＬ−ＤＰＬ０）。続くステップ１５４では、今回の処理サイクルにおける圧力損失差ＤＰＬが前回の処理サイクルにおける圧力損失差ＤＰＬ０として記憶される。続くステップ１５５では、インターバルＩＮＴの変化量ＤＩＮＴが算出される（ＤＩＮＴ＝ＩＮＴＡ−ＩＮＴ０）。続くステップ１５６では、今回の処理サイクルにおけるインターバルＩＮＴＡが前回の処理サイクルにおけるインターバルＩＮＴ０として記憶される。続くステップ１５７では、圧力損失差ＤＰＬの変化率Ｒが算出される（Ｒ＝ＤＤＰＬ／ＤＩＮＴ）。

続くステップ１５８では、変化率Ｒが上限値ＵＲよりも小さいか否かが判別される。Ｒ≧ＵＲのときには、次いでステップ１５９に進み、目標インターバルＩＮＴＴが変更される。図２８及び図２９に示される例では、目標インターバルＩＮＴＴが例えばＩ１からＩ２に延長される。次いでステップ１４４に戻る。Ｒ＜ＵＲのときにはステップ１６０に進み、前回の処理サイクルにおけるインターバルＩＮＴ０が設定インターバルＩＮＴＳに設定される。このようにして、設定インターバルＩＮＴＳが更新される。

図３２はインターバルＩＮＴの更新ルーチンを示している。図３２を参照すると、ステップ１７１では前回の処理サイクルから今回の処理サイクルまでの車両走行距離ｄＶＤが算出される。続くステップ１７２ではインターバルＩＮＴに車両走行距離ｄＶＤが加算される。すなわち、図３２に示される例では車両走行距離によってインターバルＩＮＴが表される。

次に、本発明による第８実施例を説明する。以下では、主として、第８実施例と第１実施例との相違点を説明する。

図３３を参照すると、触媒コンバータ２２内にはパティキュレートフィルタ２４の上流においてＳＯｘ貯蔵剤２９が収容される。なお、ＳＯｘ貯蔵剤２９の温度はパティキュレートフィルタ２４の温度とほぼ等しく、ＳＯｘ貯蔵剤２９への流入排気ガスの空燃比はパティキュレートフィルタ２４への流入排気ガスの空燃比ＡＦＥに等しいと考えることができる。

ＳＯｘ貯蔵剤２９はハニカム構造をなしており、薄肉の隔壁により互いに分離された複数個の排気流通路を具備する。これら排気流通路は上流端及び下流端が互いに開放されている。各隔壁の両側表面上に担持された、例えばアルミナＡｌ_２Ｏ_３、セリアＣｅＯ_２、酸化プラセオジムＰｒ_６Ｏ_１１、酸化ネオジムＮｄ_２Ｏ_３、酸化ランタンＬａ_２Ｏ_３のような卑金属酸化物から形成された担体と、この担体に担持された白金Ｐｔ、パラジウムＰｄ、銀Ａｇのような貴金属とを備える。

ＳＯｘ貯蔵剤２９は、ＳＯｘ貯蔵剤２９の温度が低いとき又はＳＯｘ貯蔵剤２９への流入排気ガス中の酸素濃度が高いときに流入する排気ガス中のＳＯｘ例えばＳＯ_２を貯蔵し、ＳＯｘ貯蔵剤２９の温度が高くなると又はＳＯｘ貯蔵剤２９への流入排気ガス中の酸素濃度が低くなると貯蔵しているＳＯｘを放出する性質を有する。本発明による第８実施例では、ＳＯｘ貯蔵剤２９ないしパティキュレートフィルタ２４の温度が２００℃から２５０℃程度ではＳＯｘがＳＯｘ貯蔵剤２９に貯蔵される。一方、ＳＯｘ貯蔵剤２９ないしパティキュレートフィルタ２４の温度が例えば３００℃以上になるとＳＯｘ貯蔵剤２９から貯蔵されているＳＯｘが放出される。ＳＯｘ貯蔵剤２９でのＳＯｘ貯蔵作用はＳＯｘが担体又は貴金属粒子に吸着されることによるものと考えられる。

図３４は、ＳＯｘ貯蔵剤２９から単位時間当たり放出されるＳＯｘ量、すなわちＳＯｘ放出速度ｑＳＲを示している。図３４からわかるように、ＳＯｘ放出速度ｑＳＲはパティキュレートフィルタ２４の温度ＴＦが高くなるにつれて多くなり、流入排気ガスの空燃比ＡＦＥが小さくなるにつれて、すなわちリーン度合いが小さくなるにつれて多くなる。

上述した第１実施例では、アッシュ微粒化処理が終了し通常運転に戻されると、酸化雰囲気のもとでパティキュレートフィルタ２４にＳＯｘが供給される。その結果、保持されている微粒化されたアッシュがアッシュ微粒化剤７８から放出され、パティキュレートフィルタ２４から除去される。この場合、微粒化されたアッシュの放出速度はパティキュレートフィルタ２４への流入排気ガス中のＳＯｘ濃度に応じて定まる。すなわち、パティキュレートフィルタ２４への流入排気ガス中のＳＯｘ濃度が高いときには微粒化されたアッシュの放出速度は高くなり、ＳＯｘ濃度が低いときには微粒化されたアッシュの放出速度は低くなる。

ところが、通常運転では、機関から排出される排気ガス中のＳＯｘ濃度は必ずしも高くない。その結果、アッシュ微粒化処理が終了した後の通常運転において、微粒化されたアッシュがアッシュ微粒化剤７８から速やかに放出されないおそれがある。言い換えると、アッシュ微粒化剤７８の酸点が十分に再生されるまでに長時間を要するおそれがある。アッシュ微粒化剤７８の酸点が十分に再生されていなければ、アッシュ微粒化処理を行ったとしても、未処理アッシュを十分に微粒化することはできない。その結果、パティキュレートフィルタ２４上の未処理アッシュ量が増大してパティキュレートフィルタ２４の圧力損失が増大するおそれがある。

そこで、本発明による第８実施例では、パティキュレートフィルタ２４上流にＳＯｘ貯蔵剤２９を配置し、パティキュレートフィルタ２４への流入排気ガス中のＳＯｘ濃度を一時的に高めるようにしている。このことを図３５を参照して説明する。

図３５において、時間ｔｈ１はアッシュ微粒化処理が終了した時点を示している。ＰＭ除去処理及びアッシュ微粒化処理が行われていない通常運転時には、ＳＯｘ貯蔵剤２９の温度は比較的低く、ＳＯｘ貯蔵剤２９への流入排気ガス中の酸素濃度は比較的高い。その結果、このときＳＯｘ貯蔵剤２９への流入排気ガス中のＳＯｘはＳＯｘ貯蔵剤２９に貯蔵される。

次いで、時間ｔｈ２において、ＰＭ除去処理が行われると、酸化雰囲気のもとでパティキュレートフィルタ２４ないしＳＯｘ貯蔵剤２９の温度ＴＦがＰＭ除去温度ＴＰＭまで上昇される。ＰＭ除去温度ＴＰＭは上述したように、触媒７７がセリアＣｅＯ_２及び銀Ａｇから形成される場合には３００から５００℃程度であり、触媒７７がアルミナＡｌ_２Ｏ_３及び白金Ｐｔから形成される場合には６００℃程度である。その結果、ＳＯｘ貯蔵剤２９のＳＯｘ放出速度ｑＳＲが大幅に上昇する。すなわち、パティキュレートフィルタ２４への流入排気ガス中のＳＯｘ濃度が高められ、アッシュ微粒化剤７８に供給されるＳＯｘ量が増大される。その結果、アッシュ微粒化剤７８上の微粒化されたアッシュの量ＱＡＡが減少する。すなわち、アッシュ微粒化剤７８から微粒化されたアッシュが放出される。次いで、時間ｔｈ３においてＰＭ除去処理が終了される。その結果、ＳＯｘ貯蔵剤２９からＳＯｘがほとんど放出されなくなる。

次いで、時間ｔｈ４において、ＰＭ除去処理が再び行われると、ＳＯｘ貯蔵剤２９からＳＯｘが再び放出され、アッシュ微粒化剤７８上の微粒化されたアッシュの量ＱＡＡが更に減少する。図３５に示される例では、微粒化されたアッシュの量ＱＡＡがほぼゼロまで減少される。

その結果、微粒化されたアッシュをパティキュレートフィルタ２４から速やかに放出させることができる。言い換えると、微粒化されたアッシュのパティキュレートフィルタ２４からの除去が促進される。したがって、先のアッシュ微粒化処理が行われてから次のアッシュ微粒化処理が行われるまでのインターバルを短く設定することができる。このことは、パティキュレートフィルタ２４上の未処理アッシュの量を少なく維持できることを意味している。

次に、本発明による第９実施例を説明する。以下では、主として、第９実施例と第８実施例との相違点を説明する。

図３５を参照して説明したように、ＰＭ除去処理が行われるとＳＯｘ貯蔵剤２９からＳＯｘが放出される。ところが、この場合、ＳＯｘ貯蔵剤２９ないしパティキュレートフィルタ２４の温度ＴＦがＰＭ除去温度ＴＰＭまで大幅に上昇される。その結果、図３４からわかるように、短時間のうちにＳＯｘ貯蔵剤２９から多量のＳＯｘが放出される場合がある。この場合、パティキュレートフィルタ２４から放出されるべき微粒化されたアッシュの量に対してＳＯｘが過剰になり、過剰のＳＯｘがパティキュレートフィルタ２４から流出するおそれがある。

そこで、本発明による第９実施例では、ＳＯｘ貯蔵剤２９からＳＯｘを放出させてアッシュ微粒化剤７８へのＳＯｘ供給量を増大するＳＯｘ増量処理をＰＭ除去処理に先立って一時的に行うようにしている。特に、本発明による第９実施例では、ＳＯｘ貯蔵剤２９からＳＯｘを放出させるためにＳＯｘ貯蔵剤２９の温度ＴＦを上昇するＳＯｘ増量温度処理がＰＭ除去処理に先立って一時的に行われる。言い換えると、ＰＭ除去処理を行うべきときにはまずＳＯｘ増量温度処理が行われ、ＳＯｘ増量温度処理に引き続いてＰＭ除去処理が行われる。このことを図３６を参照して説明する。

図３６において、時間ｔｉ１はアッシュ微粒化処理が終了した時点を示している。次いで、時間ｔｉ２において、ＳＯｘ増量温度処理が開始される。具体的には、酸化雰囲気のもとでＳＯｘ貯蔵剤２９ないしパティキュレートフィルタ２４の温度ＴＦがＳＯｘ放出温度ＴＳＲまで上昇される。その結果、ＳＯｘ貯蔵剤２９からＳＯｘが放出され、パティキュレートフィルタ２４へのＳＯｘ供給量が増大される。したがって、パティキュレートフィルタ２４からの微粒化されたアッシュの放出が促進される。ＳＯｘ放出温度ＴＳＲはＰＭ除去温度ＴＰＭよりも低い温度、例えば３００℃から４５０℃に設定される。別の実施例では、ＳＯｘ放出温度ＴＳＲはＰＭ除去温度ＴＰＭとほぼ同じかそれよりも高く設定される。

次いで、時間ｔｉ３になると、すなわちＳＯｘ増量温度処理が時間ｔＳＲだけ行われると、ＳＯｘ増量温度処理が終了され、引き続いてＰＭ除去処理が開始される。すなわち、酸化雰囲気のもとでＳＯｘ貯蔵剤２９ないしパティキュレートフィルタ２４の温度ＴＦがＰＭ除去温度ＴＰＭまで上昇される。その結果、ＳＯｘ貯蔵剤２９からのＳＯｘの放出が継続される。

次いで、時間ｔｉ４において、ＰＭ除去処理が終了される。その結果、ＳＯｘ貯蔵剤２９ないしパティキュレートフィルタ２４の温度ＴＦの上昇制御が終了され、ＳＯｘ貯蔵剤２９からのＳＯｘの放出が終了される。図３６に示される例では、このときパティキュレートフィルタ２４上に保持されている微粒化されたアッシュの量ＱＡＡはほぼゼロになっている。

次いで、時間ｔｉ５においてＳＯｘ増量温度処理が再び開始され、時間ｔｉ６においてＰＭ除去処理が再び開始される。このように、本発明による第９実施例は、パティキュレートフィルタ２４上の微粒化されたアッシュの量ＱＡＡがほぼゼロであっても、ＳＯｘ増量温度処理が行われる。別の実施例では、微粒化されたアッシュの量ＱＡＡがほぼゼロになると、ＳＯｘ増量温度処理が行われない。

図３７は、本発明による第９実施例におけるＳＯｘ貯蔵剤２９のＳＯｘ放出速度ｑＳＲの変化を詳しく示している。図３７を参照すると、時間ｔｊ１において、ＳＯｘ増量温度処理が開始されると、ＳＯｘ貯蔵剤２９ないしパティキュレートフィルタ２４の温度ＴＦがＳＯｘ放出温度ＴＳＲまで上昇される。その結果、ＳＯｘ貯蔵剤２９のＳＯｘ放出速度ｑＳＲは急激に上昇する。次いで、ＳＯｘ貯蔵剤２９ないしパティキュレートフィルタ２４の温度ＴＦがＳＯｘ放出温度ＴＳＲに維持されると、ＳＯｘ放出速度ｑＳＲは時間の経過と共に減少する。

次いで、時間ｔｊ２において、ＳＯｘ増量温度処理がＳＯｘ放出時間ｔＳＲだけ行われると、ＳＯｘ増量温度処理が終了され、ＰＭ除去処理が開始される。すなわち、ＳＯｘ貯蔵剤２９ないしパティキュレートフィルタ２４の温度ＴＦがＰＭ除去温度ＴＰＭまで上昇される。その結果、ＳＯｘ放出速度ｑＳＲが再び上昇する。次いで、ＳＯｘ貯蔵剤２９ないしパティキュレートフィルタ２４の温度ＴＦがＰＭ除去温度ＴＰＭに維持されると、ＳＯｘ放出速度ｑＳＲは時間の経過と共に減少する。次いで、時間ｔｄ３においてＰＭ除去処理が終了される。

ＳＯｘ放出速度ｑＳＲの挙動はＳＯｘ放出温度ＴＳＲ及びＳＯｘ放出時間ｔＳＲによって定まる。本発明による第９実施例では、ＳＯｘ増量温度処理が開始されてからＰＭ除去処理が終了されるまでにおけるＳＯｘ貯蔵剤２９のＳＯｘ放出速度ｑＳＲが、許容下限値ＬＳＲ及び許容上限値ＵＳＲにより画定される許容範囲内にほぼ維持されるように、ＳＯｘ放出温度ＴＳＲ及びＳＯｘ放出時間ｔＳＲの一方又は両方が設定される。

ＳＯｘ放出速度ｑＳＲが許容上限値ＵＳＲよりも高いと、パティキュレートフィルタ２４上の微粒化されたアッシュに対してＳＯｘが過剰となる。ＳＯｘ放出速度ｑＳＲが許容下限値ＬＳＲよりも低いと、微粒化されたアッシュをパティキュレートフィルタ２４から速やかに放出させることができない。その結果、図３７に示されるように、パティキュレートフィルタ２４から放出される微粒化されたアッシュの量ＱＡＲを高いレベルでほぼ一定に維持しつつ、パティキュレートフィルタ２４から流出するＳＯｘの量ＱＳＲをほぼゼロに維持することができる。また、ＳＯｘ増量温度処理に引き続いてＰＭ除去処理が行われるので、ＰＭ除去処理に必要なエネルギを低減することもできる。

図３８は本発明による第９実施例の排気浄化制御を実行するルーチンを示している。図３８を参照すると、ステップ１０１ではＰＭ除去処理を行うべきか否かが判別される。ＰＭ除去処理を行うべきと判別されたときには次いでステップ１０１ａに進み、ＳＯｘ増量処理、例えばＳＯｘ増量温度処理が行われる。次いでステップ１０２に進み、ＰＭ除去処理が行われる。次いでステップ１０３に進む。ステップ１０１においてＰＭ除去処理を行うべきと判別されないときにはステップ１０３にジャンプする。ステップ１０３ではアッシュ微粒化処理を行うべきか否かが判別される。アッシュ微粒化処理を行うべきと判別されたときには次いでステップ１０４に進み、アッシュ微粒化処理が行われる。次いで処理サイクルを終了する。ステップ１０３においてアッシュ微粒化処理を行うべきと判別されないときにも処理サイクルを終了する。なお、電子制御ユニット３０はＳＯｘ増量処理ないしＳＯｘ増量温度処理を行うようにプログラムされている。

次に、本発明による第１０実施例を説明する。以下では、主として、第１０実施例と第９実施例との相違点を説明する。

微粒化されたアッシュがアッシュ微粒化剤７８から放出されたとしても、パティキュレートフィルタ２４上に留まっている場合がある。このようにパティキュレートフィルタ２４上に残留している微粒化されたアッシュが再凝集すると、パティキュレートフィルタ２４から除去できなくなるおそれがある。

一方、パティキュレートフィルタ２４への流入排気ガス量が多いときには、微粒化されたアッシュが排気ガス流れによってパティキュレートフィルタ２４の細孔内を容易に進行し、すなわちパティキュレートフィルタ２４から容易に除去される。

そこで、本発明による第１０実施例では、パティキュレートフィルタ２４への流入排気ガス量ＱＥＸがあらかじめ定められた設定量ＱＥＸＳよりも多いか否かを判別し、流入排気ガス量ＱＥＸが設定量ＱＥＸＳよりも多いと判別されたときに、ＳＯｘ増量処理を行うようにしている。特に、本発明による第１０実施例では、流入排気ガス量ＱＥＸが設定量ＱＥＸＳよりも多いと判別されたときに、ＳＯｘ貯蔵剤２９からＳＯｘを放出させるためにパティキュレートフィルタ２４を酸化雰囲気に維持しつつＳＯｘ貯蔵剤２９への流入排気ガス中の酸素濃度を低下させるＳＯｘ増量酸素濃度処理が行われる。その結果、ＳＯｘ貯蔵剤２９からアッシュ微粒化剤７８へのＳＯｘ供給量が増大されるので、微粒化されたアッシュがアッシュ微粒化剤７８から容易に放出される。このときパティキュレートフィルタ２４への流入排気ガス量ＱＥＸが多いので、アッシュ微粒化剤７８から放出された微粒化されたアッシュが速やかにパティキュレートフィルタ２４から除去される。

すなわち、図３９における時間ｔｋ１において、パティキュレートフィルタ２４への流入排気ガス量ＱＥＸが設定量ＱＥＸＳを越えると、ＳＯｘ貯蔵剤２９ないしパティキュレートフィルタ２４への流入排気ガスの空燃比ＡＦＥがわずかばかりのリーン空燃比ＡＦＬＳまで減少され、保持される。その結果、ＳＯｘ貯蔵剤２９のＳＯｘ放出速度ｑＳＲが増大し、すなわちＳＯｘ貯蔵剤２９からＳＯｘが放出される。次いで、時間ｔｋ２において、流入排気ガス量ＱＥＸが設定量ＱＥＸＳよりも少なくなると、流入排気ガスの空燃比ＡＦＥが元に戻される。

なお、アッシュ微粒化処理では、流入排気ガスの空燃比ＡＦＥを理論空燃比ＡＦＳ又はリッチに維持する必要がある。したがって、アッシュ微粒化処理中は上述のＳＯｘ増量処理が禁止される。

流入排気ガス量ＱＥＸは機関加速度合いによって表される。本発明による第１０実施例では、機関加速運転が行われたときに流入排気ガス量ＱＥＸが設定量ＱＥＸＳよりも多いと判別される。この場合、アクセルペダル３９の踏み込み量が対応するしきい値を越えたときに機関加速運転が行われたと判別される。別の実施例では、燃料噴射量が対応するしきい値を越えたときに機関加速運転が行われたと判別される。更に別の実施例では、吸入空気量が対応するしきい値を越えたときに機関加速運転が行われたと判別される。

図４０は本発明による第１０実施例の排気浄化制御を実行するルーチンを示している。図４０を参照すると、ステップ１８１ではアッシュ微粒化処理が行われていないか否かが判別される。アッシュ微粒化処理が行われていないときには次いでステップ１８２に進み、流入排気ガス量ＱＥＸが設定量ＱＥＸＳよりも多いか否かが判別される。ＱＥＸ＞ＱＥＸＳのときには次いでステップ１８３に進み、ＳＯｘ増量処理、例えばＳＯｘ増量酸素濃度処理が行われる。すなわち、流入排気ガスの空燃比ＡＦＥがわずかばかりのリーン空燃比ＡＦＬＳに切り換えられる。ＱＥＸ≦ＱＥＸＳのときには処理サイクルを終了する。ステップ１２１においてアッシュ微粒化処理が行われているときには処理サイクルを終了する。すなわち、アッシュ微粒化処理中はＳＯｘ増量処理が行われない。なお、電子制御ユニット３０はＳＯｘ増量処理ないしＳＯｘ増量酸素濃度処理を行うようにプログラムされている。

なお、別の実施例では、本発明による第９実施例のＳＯｘ増量温度処理に換えて、ＳＯｘ増量酸素濃度処理が行われる。

更に別の実施例では、本発明による第１０実施例のＳＯｘ増量酸素濃度処理に換えて、ＳＯｘ増量温度処理が行われる。しかしながら、ＳＯｘが放出される温度までＳＯｘ貯蔵剤２９の温度を上昇させるには一定の時間を要する。これに対し、流入排気ガスの空燃比ＡＦＥは速やかに切り換えることができる。したがって、ＳＯｘ増量酸素濃度処理を行うと、速やかにＳＯｘ貯蔵剤２９からＳＯｘを放出させることができる。その結果、微粒化されたアッシュをパティキュレートフィルタ２４から速やかにかつ確実に除去することができる。

次に、本発明による第１１実施例を説明する。以下では、主として、第１１実施例と第１０実施例との相違点を説明する。

本発明による第１１実施例では、ＰＭ除去処理が行われているときに流入排気ガス量ＱＥＸが設定量ＱＥＸＳよりも多いか否かが判別され、ＰＭ除去処理が行われているときに流入排気ガス量ＱＥＸが設定量ＱＥＸＳよりも多いと判別されたときにＳＯｘ増量処理、例えばＳＯｘ増量酸素濃度処理が行われる。

すなわち、図４１に示されるように、時間ｔｍ１において、ＰＭ除去処理が開始されると、パティキュレートフィルタ２４ないしＳＯｘ貯蔵剤２９の温度ＴＦが上昇される。その結果、ＳＯｘ貯蔵剤２９のＳＯｘ放出速度ｑＳＲが増大する。すなわち、ＳＯｘ貯蔵剤２９からＳＯｘが放出される。このＳＯｘは次いでアッシュ微粒化剤７８に供給され、したがってアッシュ微粒化剤７８から微粒化されたアッシュが放出される。

次いで、時間ｔｍ２において、流入排気ガス量ＱＥＸが設定量ＱＥＸＳを越えると、ＳＯｘ増量酸素濃度処理が行われる。すなわち、ＳＯｘ貯蔵剤２９ないしパティキュレートフィルタ２４への流入排気ガスの空燃比ＡＦＥがわずかばかりのリーン空燃比ＡＦＬＳまで減少される。その結果、ＳＯｘ貯蔵剤２９のＳＯｘ放出速度ｑＳＲが再び増大する。すなわち、ＰＭ除去処理が開始されてからの経過時間が長くなるにつれて減少したＳＯｘ放出速度ｑＳＲが再び増大する。その結果、アッシュ微粒化剤７８から微粒化されたアッシュが更に放出され、パティキュレートフィルタ２４から更に除去される。

次いで、時間ｔｍ３において、流入排気ガス量ＱＥＸが設定量ＱＥＸＳよりも少なくなると、流入排気ガスの空燃比ＡＦＥが元に戻される。次いで、時間ｔｍ４において、ＰＭ除去処理が終了される。

図４２は本発明による第１１実施例の排気浄化制御を実行するルーチンを示している。図４２を参照すると、ステップ１９１ではＰＭ除去処理が行われているか否かが判別される。ＰＭ除去処理が行われているときには次いでステップ１９２に進み、流入排気ガス量ＱＥＸが設定量ＱＥＸＳよりも多いか否かが判別される。ＱＥＸ＞ＱＥＸＳのときには次いでステップ１９３に進み、ＳＯｘ増量処理、例えばＳＯｘ増量酸素濃度処理が行われる。ＱＥＸ≦ＱＥＸＳのときには処理サイクルを終了する。ステップ１９１においてＰＭ除去処理が行われていないときには処理サイクルを終了する。

別の実施例では、ＰＭ除去処理が行われているときに流入排気ガス量ＱＥＸが設定量ＱＥＸＳよりも多いと判別されたときにＳＯｘ増量温度処理が行われる。この場合、ＳＯｘ貯蔵剤２９ないしパティキュレートフィルタ２４の温度ＴＦはＰＭ除去温度ＴＰＭよりも上昇される。

次に、本発明による第１２実施例を説明する。以下では、主として、第１２実施例と第１実施例との相違点を説明する。

図４３を参照すると、触媒コンバータ２２内にはパティキュレートフィルタ２４の上流においてアンモニア生成触媒５０が収容される。なお、アンモニア生成触媒５０の温度はパティキュレートフィルタ２４の温度とほぼ等しく、アンモニア生成触媒５０への流入排気ガスの空燃比はパティキュレートフィルタ２４への流入排気ガスの空燃比ＡＦＥに等しいと考えることができる。更に、パティキュレートフィルタ２４下流の排気管２３には、パティキュレートフィルタ２４からの流出排気ガス中のＮＯｘ量を検出するためのＮＯｘセンサ５１が取り付けられる。

アンモニア生成触媒５０はハニカム構造をなしており、薄肉の隔壁により互いに分離された複数個の排気流通路を具備する。これら排気流通路は上流端及び下流端が互いに開放されている。また、アンモニア生成触媒５０は各隔壁の両側表面上に担持された、例えばアルミナＡｌ_２Ｏ_３のような卑金属酸化物から形成された担体と、この担体に担持された白金Ｐｔ、パラジウムＰｄのような貴金属とを備える。

アンモニア生成触媒５０は、流入排気ガスの空燃比ＡＦＥがリッチのときに流入する排気ガス中のＮＯｘからアンモニアＮＨ_３を生成する。すなわち、流入排気ガス中の空燃比ＡＦＥがリッチのときにはこのとき流入排気ガス中に含まれる一酸化炭素ＣＯから水素Ｈ_２が生成される（ＣＯ＋Ｈ_２Ｏ→ＣＯ_２＋Ｈ_２）。次いで、水素Ｈ_２が流入排気ガス中のＮＯｘと反応してアンモニアＮＨ_３が生成される（２ＮＯ＋５Ｈ_２→２ＮＨ_３＋２Ｈ_２Ｏ）。一方、流入排気ガスの空燃比ＡＦＥがリーン又は理論空燃比であると、アンモニア生成触媒５０はＮＯｘからアンモニアＮＨ_３を生成しない。

上述したように、アッシュ微粒化処理が行われると、アッシュ微粒化剤７８の酸点に微粒化されたアッシュが保持される。次いで、アッシュ微粒化処理が終了され通常運転に戻されると、微粒化されたアッシュがアッシュ微粒化剤７８の酸点から徐々に放出される。したがって、酸点７８が徐々に再生される。この点、微粒化されたアッシュを保持していない酸点である活性酸点の数、すなわちアッシュ微粒化剤７８の酸量ＱＡＣＤに着目すると、アッシュ微粒化処理が行われることにより酸量ＱＡＣＤが減少する。次いで、通常運転に戻されると、酸量ＱＡＣＤが徐々に増大する。

一方、アッシュの微粒化作用は、未処理アッシュがアッシュ微粒化剤７８の活性酸点に到達することによって行われる。したがって、アッシュ微粒化処理が行われた後、アッシュ微粒化剤７８の活性酸点の数、すなわち酸量ＱＡＣＤが少ないときに次のアッシュ微粒化処理を行なっても、未処理アッシュを十分に微粒化できないおそれがある。

そこで、本発明による第１２実施例では、アッシュ微粒化処理が行われた後にアッシュ微粒化剤７８の酸量ＱＡＣＤを求め、酸量ＱＡＣＤがあらかじめ定められた設定量ＱＡＣＤＳよりも多いときに次のアッシュ微粒化処理を行うようにしている。

すなわち、図４４に示されるように、時間ｔｎ１において、アッシュ微粒化処理が開始されると、アッシュ微粒化剤７８の酸量ＱＡＣＤが減少する。次いで、時間ｔｎ２においてアッシュ微粒化処理が終了され通常運転に戻されると、酸量ＱＡＣＤが徐々に増大する。次いで、時間ｔｎ３において、酸量ＱＡＣＤが設定量ＱＡＣＤＳを越えると、アッシュ微粒化処理が再び実行される。

その結果、次のアッシュ微粒化処理を最適な時期に行うことができる。したがって、アッシュ微粒化処理により未処理アッシュを十分にかつ効率的に処理することができる。

アッシュ微粒化剤７８の酸量ＱＡＣＤはアッシュ微粒化剤７８のアッシュ微粒化能力を表している。したがって、アッシュ微粒化処理が行われた後にアッシュ微粒化剤７８のアッシュ微粒化能力が求められ、求められたアッシュ微粒化能力に基づいて次のアッシュ微粒化処理を行うか否かが判別されるということになる。具体的には、アッシュ微粒化剤７８のアッシュ微粒化能力があらかじめ定められた設定能力よりも高いときに次のアッシュ微粒化処理が行われる。

アッシュ微粒化剤７８のアッシュ微粒化能力すなわち酸量ＱＡＣＤの求め方を図４５を参照して説明する。図４５を参照すると、時間ｔｐ１において、アンモニア生成触媒５０ないしパティキュレートフィルタ２４への流入排気ガスの空燃比ＡＦＥがリッチに切り換えられる。その結果、アンモニア生成触媒５０において、流入排気ガス中のＮＯｘからアンモニアＮＨ_３ガスが生成され、アッシュ微粒化剤７８に供給される。このため、パティキュレートフィルタ２４からの流出排気ガス中のＮＯｘ量ＱＮは、アンモニアＮＨ_３の供給前ＮＯｘ流出量すなわち初期量ＱＮ０よりも大幅に減少する。

このときアッシュ微粒化剤７８は還元雰囲気にある。その結果、図４６Ａに示されるように、アッシュ微粒化剤７８の活性酸点７９にアンモニアＮＨ_３が例えば吸着により保持される。カルシウムイオンＣａ^２＋を保持している酸点７９にはアンモニアＮＨ_３は保持されない。

次いで、時間ｔｐ２になると、すなわちアンモニアＮＨ_３の生成及び供給があらかじめ定められた設定時間ｔＡＭだけ行われると、アンモニアＮＨ_３の生成及び供給が終了される。すなわち、流入排気ガスの空燃比ＡＦＥがリーンに戻される。設定時間ｔＡＭはアッシュ微粒化剤７８のほぼすべての酸点７９にアンモニアＮＨ_３を保持させるのに必要な時間であり、例えば実験によりあらかじめ求められている。

流入排気ガスの空燃比ＡＦＥがリーンに戻されると、アッシュ微粒化剤７８は酸化雰囲気にあり、流入排気ガス中にはＮＯｘが含まれている。その結果、図４６Ｂに示されるように、アッシュ微粒化剤７８に保持されているアンモニアＮＨ_３がＮＯｘと反応する（４ＮＨ_３＋４ＮＯ＋Ｏ_２→４Ｎ_２＋６Ｈ_２Ｏ）。言い換えると、アッシュ微粒化剤７８に保持されたアンモニアＮＨ_３が流入排気ガス中のＮＯｘにより除去される。このため、図４５に示されるように、流入排気ガスの空燃比ＡＦＥがリーンに戻された直後は、流出ＮＯｘ量ＱＮが少なくなる。しかしながら、時間の経過と共に、アッシュ微粒化剤７８に保持されているアンモニア量が次第に減少し、したがって流出ＮＯｘ量ＱＮが次第に増大する。

次いで、時間ｔｐ３になると、流出ＮＯｘ量ＱＮが初期量ＱＮ０にほぼ等しくなる。このことは、アッシュ微粒化剤７８に保持されたほぼすべてのアンモニアＮＨ_３がＮＯｘにより除去されたことを意味している。

流出ＮＯｘ量ＱＮと初期量ＱＮ０との差ｄＱＮ（＝ＱＮ０−ＱＮ）はアンモニアＮＨ_３と反応したＮＯｘの量を表しており、したがってアッシュ微粒化剤７８の活性酸点に保持されたアンモニア量を表している。したがって、時間ｔｐ２から時間ｔｐ３までの差ｄＱＮの積算値はアッシュ微粒化剤７８の活性酸点の数、すなわち酸量を正確に表している。なお、差ｄＱＮの積算値は図４５においてハッチングが付された領域Ｗに相当する。

したがって、還元雰囲気のもとでアッシュ微粒化剤７８にアンモニアが一時的に供給され、アッシュ微粒化剤７８に保持されたアンモニア量が求められ、求められたアンモニア量に基づいてアッシュ微粒化能力が求められるということになる。更に、アッシュ微粒化剤にアンモニアが供給された後に、酸化雰囲気のもとでパティキュレートフィルタ２４から流出するＮＯｘ量に基づいて、アッシュ微粒化剤７８に保持されたアンモニア量が求められるということになる。

図４７は本発明による第１２実施例の排気浄化制御を実行するルーチンを示している。図４７のルーチンはアッシュ微粒化処理が行われた後に実行される。図４７を参照すると、ステップ２０１では、アッシュ微粒化剤７８の酸量ＱＡＣＤがゼロにリセットされる。続くステップ２０２では、アンモニアＮＨ_３の供給前の流出排気ガス中のＮＯｘ量ＱＮ０が読み込まれる。続くステップ２０３では、アッシュ微粒化剤７８にアンモニアＮＨ_３が一時的に供給される。続くステップ２０４では、アンモニアＮＨ_３の供給後の流出排気ガス中のＮＯｘ量ＱＮが読み込まれる。

続くステップ２０５では、酸量ＱＡＣＤが更新される（ＱＡＣＤ＝ＱＡＣＤ＋（ＱＮ０−ＱＮ））。続くステップ２０６では、流出排気ガス中のＮＯｘ量ＱＮがアンモニアＮＨ_３供給前のＮＯｘ量ＱＮ０にほぼ等しいか否かが判別される。ＱＮ≒ＱＮ０になるまではステップ２０４及び２０５が繰り返される。ＱＮ≒ＱＮ０になると次いでステップ２０７に進む。このとき酸量ＱＡＣＤはアッシュ微粒化剤７８の酸量を正確に表している。ステップ２０７では、酸量ＱＡＣＤが設定量ＱＡＣＤＳよりも多いか否かが判別される。ＱＡＣＤ＞ＱＡＣＤＳのときには次いでステップ２０８に進み、アッシュ微粒化処理が行われる。これに対し、ＱＡＣＤ≦ＱＡＣＤＳのときには処理サイクルを終了する。すなわち、この場合にはアッシュ微粒化処理が行われない。

本発明による第１２実施例では、アンモニア生成触媒５０においてアンモニアＮＨ_３が生成され、アッシュ微粒化剤７８に供給される。別の実施例では、尿素又は固体アンモニアからアンモニアガスが生成され、アッシュ微粒化剤７８に供給される。

図４８は、本発明による各実施例における、パティキュレートフィルタ単位体積当たりのアッシュ微粒化剤７８の担持量ｑＡＡＡの一例を示している。すなわち、図４８に示される例では、パティキュレートフィルタ２４の流入端２４ｉから流出端２４ｏまでの長手方向位置ＬＰＦ全体にわたり、アッシュ微粒化剤７８の担持量ｑＡＡＡがほぼ一定に設定される。

ところが、パティキュレートフィルタ２４上における未処理アッシュの分布はパティキュレートフィルタ２４の長手方向にわたり一様ではない。すなわち、パティキュレートフィルタ単位体積あたりの未処理アッシュ量ｑＡＵを示す図４９からわかるように、パティキュレートフィルタ２４の上流側部分における未処理アッシュ量ｑＵＡに比べてパティキュレートフィルタ２４の下流側部分における未処理アッシュ量ｑＵＡが多い。言い換えると、未処理アッシュ量ｑＵＡはパティキュレートフィルタ２４の流入端２４ｉ周りでは少なく、排気ガス流れ下流に向かうにつれて多くなり、パティキュレートフィルタ２４の流出端２４ｏ周りで最も多くなる。

このため、パティキュレートフィルタ２４の下流端２４ｏ周りでは、未処理アッシュが十分にアッシュ微粒化処理されず、パティキュレートフィルタ２４に残留するおそれがある。したがって、アッシュ微粒化剤７８の担持量ｑＡＡＡを未処理アッシュ量ｑＵＡに応じて設定する必要がある。

そこで、図５０Ａ，図５０Ｂ，図５０Ｃに示される例では、パティキュレートフィルタ２４の上流側部分におけるアッシュ微粒化剤７８の担持量ｑＡＡＡに比べてパティキュレートフィルタ２４の下流側部分におけるアッシュ微粒化剤７８の担持量ｑＡＡＡが多くなるように、アッシュ微粒化剤７８の担持量ｑＡＡＡを設定している。その結果、未処理アッシュをパティキュレートフィルタ２４から確実にかつ効率的に除去することができる。

更に説明すると、図５０Ａに示される例では、パティキュレートフィルタ２４の上流端２４ｉからパティキュレートフィルタ２４の下流端２４ｏに向かうにつれてアッシュ微粒化剤７８の担持量ｑＡＡＡが連続的に増大される。

図５０Ｂに示される例では、流入端２４ｉから中間位置２４ｘまでにおけるアッシュ微粒化剤７８の担持量ｑＡＡＡに比べて、中間位置２４ｘから流出端２４ｏまでにおけるアッシュ微粒化剤７８の担持量ｑＡＡＡが多く設定される。

図５０Ｃに示される例では、流入端２４ｉから中間位置２４ｘまでにおけるアッシュ微粒化剤７８の担持量ｑＡＡＡに比べて、中間位置２４ｘから流出端２４ｏまでにおけるアッシュ微粒化剤７８の担持量ｑＡＡＡが多く設定される。更に、流入端２４ｉから中間位置２４ｘまでにおけるアッシュ微粒化剤７８の担持量ｑＡＡＡがほぼゼロに設定される。

図５０Ａ，図５０Ｂ，図５０Ｃに示される例に関し、パティキュレートフィルタ２４の上流側部分においてアッシュ微粒化剤７８の担持量ｑＡＡＡが少なくされていると考えることもできる。この見方によれば、パティキュレートフィルタ２４の上流側部分においてパティキュレートフィルタ２４の圧力損失が小さくされる。

また、図４８，図５０Ａ，図５０Ｂ，図５０Ｃに示される例に関し、パティキュレートフィルタ２４の下流側部分におけるアッシュ微粒化剤７８の担持量ｑＡＡＡがパティキュレートフィルタ２４の上流側部分におけるアッシュ微粒化剤７８の担持量ｑＡＡＡとほぼ同じかそれ以上になるように、アッシュ微粒化剤７８の担持量ｑＡＡＡが設定されると考えることもできる。

別の実施例では、これまで述べてきた本発明による実施例同士が適宜互いに組み合わされる。例えば、パティキュレートフィルタ２４上流にＳＯｘ貯蔵剤が配置され、ＳＯｘ増量処理に引き続いてＰＭ除去処理が行われ、ＰＭ除去処理に引き続いてアッシュ微粒化処理が行われる。

本願は国際出願第ＰＣＴ／ＪＰ２０１１／０６５６３２号、第ＰＣＴ／ＪＰ２０１１／０６５６３３号、第ＰＣＴ／ＪＰ２０１１／０６５６３５号、第ＰＣＴ／ＪＰ２０１１／０６５６３６号、第ＰＣＴ／ＪＰ２０１１／０６５６３７号、第ＰＣＴ／ＪＰ２０１１／０６５６３８号、第ＰＣＴ／ＪＰ２０１１／０６５６３９号、第ＰＣＴ／ＪＰ２０１１／０６５６４２号、及び第ＰＣＴ／ＪＰ２０１１／０６５６４８号の利益を主張し、その開示全体はここに援用される。

１ 機関本体
２１ 排気管
２２ 触媒コンバータ
２４ パティキュレートフィルタ
７４ 隔壁
７８ アッシュ微粒化剤
７９ 酸点
８０ アッシュ

Claims (15)

1. 酸素過剰のもとで燃焼が行われる内燃機関の排気浄化装置であって、排気ガス中の粒子状物質を捕集するためのウォールフロー型パティキュレートフィルタが排気通路内に配置され、アッシュが粒子状物質と共にパティキュレートフィルタに捕集される、排気浄化装置において、
   パティキュレートフィルタに固体酸が担持され、標準状態（２５℃、１気圧（１０^５Ｐａ））における固体酸のハメットの酸度関数が−０．８３よりも小さく−１２よりも大きく、
   排気浄化装置が、パティキュレートフィルタからアッシュを除去するために、パティキュレートフィルタの状態をパティキュレートフィルタへの流入排気ガス中の酸素濃度が低下されかつパティキュレートフィルタの温度が上昇された状態にするアッシュ微粒化処理を一時的に行うアッシュ微粒化手段を具備する、
   ことを特徴とする内燃機関の排気浄化装置。
2. 固体酸がシリカ・アルミナ、シリカ・チタニア、チタニア・ジルコニア、シリカ・ジルコニア、シリカ・酸化ガリウム、チタニア・アルミナ、シリカ・酸化イットリウム、アルミナ・ジルコニア、シリカ・酸化ランタン、チタニア・酸化カドミウム、チタニア・酸化スズ、チタニア・酸化亜鉛、酸化亜鉛・シリカ、及び酸化亜鉛・酸化カドミウムから選択された１つ又は複数の複合酸化物から形成される、ことを特徴とする請求項１に記載の内燃機関の排気浄化装置。
3. 固体酸がシリカ・アルミナから形成される、ことを特徴とする請求項２に記載の内燃機関の排気浄化装置。
4. アッシュ微粒化手段はアッシュ微粒化処理においてパティキュレートフィルタへの流入排気ガスの空燃比をほぼ理論空燃比又はリッチにする、ことを特徴とする請求項１から３までのいずれか一項に記載の内燃機関の排気浄化装置。
5. アッシュ微粒化手段は、アッシュ微粒化処理においてパティキュレートフィルタの温度を約６００℃にする、ことを特徴とする請求項１から４までのいずれか一項に記載の内燃機関の排気浄化装置。
6. 排気浄化装置が更に、パティキュレートフィルタに捕集された粒子状物質を除去するためにパティキュレートフィルタの状態を酸化雰囲気のもとでパティキュレートフィルタの温度が上昇された状態にするＰＭ除去処理を一時的に行うＰＭ除去手段を具備し、アッシュ微粒化手段はＰＭ除去処理に引き続いてアッシュ微粒化処理を行う、ことを特徴とする請求項１から５までのいずれか一項に記載の内燃機関の排気浄化装置。
7. ＰＭ除去手段はパティキュレートフィルタ上にあらかじめ定められた設定残留量の粒子状物質が残留するようにＰＭ除去手段を終了する、ことを特徴とする請求項６に記載の内燃機関の排気浄化装置。
8. アッシュ微粒化手段は、アッシュ微粒化処理をあらかじめ定められた設定インターバルを隔てて繰り返し行い、アッシュ微粒化処理により処理されたアッシュの量を求め、該求めたアッシュ処理量に基づいて設定インターバルを更新する、ことを特徴とする請求項１から７までのいずれか一項に記載の内燃機関の排気浄化装置。
9. パティキュレートフィルタ上流の排気通路内にＳＯｘ貯蔵剤が配置され、ＳＯｘ貯蔵剤は、ＳＯｘ貯蔵剤の温度が低いとき又はＳＯｘ貯蔵剤への流入排気ガス中の酸素濃度が高いときに流入する排気ガス中のＳＯｘを貯蔵し、ＳＯｘ貯蔵剤の温度が高くなると又はＳＯｘ貯蔵剤への流入排気ガス中の酸素濃度が低くなると貯蔵しているＳＯｘを放出する性質を有し、排気浄化装置が更に、パティキュレートフィルタに捕集された粒子状物質を除去するためにパティキュレートフィルタの状態を酸化雰囲気のもとでパティキュレートフィルタの温度が上昇された状態にするＰＭ除去処理を一時的に行うＰＭ除去手段を具備し、ＰＭ除去処理が行われたときにＳＯｘ貯蔵剤からＳＯｘが放出される、ことを特徴とする請求項１から８までのいずれか一項に記載の内燃機関の排気浄化装置。
10. 排気浄化装置が更に、ＳＯｘ貯蔵剤からＳＯｘを放出させて固体酸へのＳＯｘ供給量を増大するＳＯｘ増量処理を一時的に行うＳＯｘ増量手段を具備し、ＳＯｘ増量手段はＳＯｘ増量処理をＰＭ除去処理に先立って行う、ことを特徴とする請求項９に記載の内燃機関の排気浄化装置。
11. 排気浄化装置が更に、ＳＯｘ貯蔵剤からＳＯｘを放出させて固体酸へのＳＯｘ供給量を増大するＳＯｘ増量処理を一時的に行うＳＯｘ増量手段を具備し、ＳＯｘ増量手段は、パティキュレートフィルタへの流入排気ガス量があらかじめ定められた設定量よりも多いか否かを判別し、パティキュレートフィルタへの流入排気ガス量が設定量よりも多いと判別したときにＳＯｘ増量処理を行う、ことを特徴とする請求項９又は１０に記載の内燃機関の排気浄化装置。
12. アッシュ微粒化手段は、アッシュ微粒化処理が行われた後に固体酸のアッシュ微粒化能力を求め、該求めたアッシュ微粒化能力に基づいて次のアッシュ微粒化処理を行うか否かを判別する、ことを特徴とする請求項１から１１までのいずれか一項に記載の内燃機関の排気浄化装置。
13. パティキュレートフィルタの上流側部分におけるパティキュレートフィルタ単位体積あたりの固体酸の担持量に比べてパティキュレートフィルタの下流側部分におけるパティキュレートフィルタ単位体積あたりの固体酸の担持量が多い、ことを特徴とする請求項１から１２までのいずれか一項に記載の内燃機関の排気浄化装置。
14. パティキュレートフィルタに酸化機能を有する触媒が更に担持され、前記触媒はセリア及び銀から形成される、ことを特徴とする請求項１から１３までのいずれか一項に記載の内燃機関の排気浄化装置。
15. パティキュレートフィルタは、多孔性の隔壁を介して交互に配置された排気ガス流入通路及び排気ガス流出通路を有する、ことを特徴とする請求項１から１４までのいずれか一項に記載の内燃機関の排気浄化装置。

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